JP2024049205A - 高分子分散型液晶フィルム - Google Patents

Abstract

【課題】所定の領域のみにおいて透明状態と散乱状態とを切り替え可能な高分子分散型液晶フィルム、および、耐光性が向上された高分子分散型液晶フィルムを提供すること。【解決手段】第１導電性基材と、高分子マトリクスと高分子マトリクス中に分散した液晶液滴および光重合開始剤とを含む高分子分散型液晶層と、第２導電性基材と、をこの順に含み、高分子分散型液晶層が、平面視において、電圧の印加によるヘイズの変化量が異なる第１領域と第２領域とを有し、第１領域における電圧の印加によるヘイズの変化量が、第２領域における電圧の印加によるヘイズの変化量よりも小さく、第２領域における液晶液滴が、重合性液晶化合物と非重合性液晶化合物とを含み、第１領域における液晶液滴が、重合性液晶化合物の重合体である液晶ポリマーと非重合性液晶化合物とを含み、第１導電性基材が、紫外線カット層を含む、高分子分散型液晶フィルム。【選択図】図１

Description

本発明は、高分子分散型液晶フィルムに関する。

近年、電圧の印加状態に応じて異なる外観を呈する調光フィルムが、広告、案内板等の表示体、スマートウインドウ等の種々の用途に適用されている。

一対の透明電極層の間に高分子分散型液晶（Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｄｉｓｐｅｒｓｅｄ Ｌｉｑｕｉｄ Ｃｒｙｓｔａｌ；以下、「ＰＤＬＣ」と称する場合がある）層を有するＰＤＬＣフィルムは、調光フィルムの一種であり、電圧印加状態と無印加状態とを切り替えることにより、光を散乱させる状態（散乱状態）と光を透過させる状態（非散乱状態または透明状態）とを切り替えることができる。具体的には、ＰＤＬＣ層は、高分子マトリクスと該高分子マトリクス中に分散した液晶化合物の液滴（液晶液滴）とを含み、液晶液滴中の液晶化合物と高分子マトリクスとの屈折率差等に起因して液晶液滴が散乱粒子となって光散乱を生じさせ得る。

上記ＰＤＬＣフィルムは、一般に、散乱状態において白濁した外観を呈することから、白濁（散乱状態）と透明（非散乱状態）との２つの外観を呈し得るが、意匠性を考慮すると、他の外観を呈することができる調光フィルムへの要望が存在する。

上記要望に関連して、特許文献１には、全体入射光量の調節が可能な調光フィルムとして、液晶化合物ではなく、二色性物質を用いることにより、非散乱状態において透明な外観を呈し、散乱状態において着色した外観を呈する調光フィルムが提案されている。

特開２００２－１８９１２３号公報

従来の調光フィルムにおいては、透明状態と散乱状態との切り替えは、フィルム全面に関して行われ、所定の領域のみにおいて当該切り替えを行うことはできなかった。

本発明は、上記従来の課題を解決するためになされたものであり、その主たる目的は、所定の領域のみにおいて透明状態と散乱状態とを切り替え可能な高分子分散型液晶フィルムを提供することにあり、このような高分子分散型液晶フィルムにおいて耐光性を向上させることをさらなる目的とする。

［１］本発明の実施形態による高分子分散型液晶フィルムは、第１導電性基材と、高分子マトリクスと上記高分子マトリクス中に分散した液晶液滴および光重合開始剤とを含む高分子分散型液晶層と、第２導電性基材と、をこの順に含み、上記高分子分散型液晶層が、平面視において、電圧の印加によるヘイズの変化量が異なる第１領域と第２領域とを有し、上記第１領域における電圧の印加によるヘイズの変化量が、上記第２領域における電圧の印加によるヘイズの変化量よりも小さく、上記第２領域における上記液晶液滴が、重合性液晶化合物と非重合性液晶化合物とを含み、上記第１領域における上記液晶液滴が、上記重合性液晶化合物の重合体である液晶ポリマーと上記非重合性液晶化合物とを含み、上記第１導電性基材が、紫外線カット層を含む。
［２］上記［１］に記載の高分子分散型液晶フィルムにおいて、上記紫外線カット層の波長３５０ｎｍにおける吸光度が、２以上であってよい。
［３］上記［１］または［２］に記載の高分子分散型液晶フィルムにおいて、上記光重合開始剤の最も長波長側の極大吸収波長をＡｎｍとした場合に、上記紫外線カット層のＡ－３０ｎｍ～Ａ＋５０ｎｍの波長範囲における吸光度が、５以上であってよい。
［４］上記［１］から［３］のいずれかに記載の高分子分散型液晶フィルムにおいて、上記光重合開始剤の最も長波長側の極大吸収波長をＡｎｍとした場合に、上記紫外線カット層のＡ＋７０ｎｍの波長における吸光度が、１．８以上であってよい。
［５］上記［１］から［４］のいずれかに記載の高分子分散型液晶フィルムにおいて、上記光重合開始剤が、３００ｎｍ～３４０ｎｍの範囲に極大吸収波長を有してよい。
［６］上記［１］から［５］のいずれかに記載の高分子分散型液晶フィルムにおいて、上記第２導電性基材が、紫外線カット層または反射層を含んでよい。
［７］上記［１］から［６］のいずれかに記載の高分子分散型液晶フィルムにおいて、上記第２領域における上記非重合性液晶化合物と上記重合性液晶化合物との含有重量比（非重合性液晶化合物：重合性液晶化合物）が、９９：１～７０：３０であってよい。
［８］上記［１］から［７］のいずれかに記載の高分子分散型液晶フィルムにおいて、上記第１領域のヘイズと上記第２領域のヘイズとの差が、電圧の印加によって増大してもよい。
［９］上記［１］から［７］のいずれかに記載の高分子分散型液晶フィルムにおいて、上記第１領域のヘイズと上記第２領域のヘイズとの差が、電圧の印加によって減少してもよい。

本発明の実施形態によれば、第１領域の液晶液滴内では液晶ポリマーによって液晶化合物が配向規制を受ける結果、電圧の印加状態の変化に起因するヘイズの変化が抑制される。一方、第２領域の液晶液滴内では、液晶化合物の配向状態が電圧の印加状態に応じて変化し、ヘイズを大きく変化させることができる。よって、第１領域および第２領域を所望のパターンで形成することにより、電圧印加時と無印加時とのいずれか一方の場合において所定のパターンを有する外観を呈し、他方の場合には均一性の高い外観を呈する調光フィルムが提供され得る。さらに、ＰＤＬＣ層を挟持する一対の導電性基材の少なくとも一方が紫外線カット層を含むことにより、太陽光の曝露等によって第２領域の液晶液滴内に液晶ポリマーが生成して、第２領域のヘイズの変化量が小さくなるという問題を防止し、耐光性を向上することができる。

（ａ）は、本発明の第１の実施形態のＰＤＬＣフィルムの一例の概略平面図であり、（ｂ）は、（ａ）で示すＰＤＬＣフィルムの電圧無印加時の状態を説明する概略断面図であり、（ｃ）は、（ａ）で示すＰＤＬＣフィルムの電圧印加時の状態を説明する概略断面図である。 本発明の実施形態によるＰＤＬＣフィルムで用いられ得る第１導電性基材の一例の概略断面図である。 （ａ）は、本発明の第２の実施形態のＰＤＬＣフィルムの一例の概略平面図であり、（ｂ）は、（ａ）で示すＰＤＬＣフィルムの電圧無印加時の状態を説明する概略断面図であり、（ｃ）は、（ａ）で示すＰＤＬＣフィルムの電圧印加時の状態を説明する概略断面図である。 本発明のＰＤＬＣフィルムの製造方法の一例を説明する概略図である。 本発明のＰＤＬＣフィルムの製造方法の一例を説明する概略図である。 本発明の実施形態によるＰＤＬＣフィルムの変形例の概略断面図である。 本発明の実施形態によるＰＤＬＣフィルムの変形例の概略断面図である。 本発明の実施形態によるＰＤＬＣフィルムで用いられ得る反射層の一例の概略断面図である。 比較例１のＰＤＬＣフィルムの耐光性評価結果を表すグラフである。 実施例１～３のＰＤＬＣフィルムの耐光性評価結果および当該ＰＤＬＣフィルムに用いた紫外線カット層の吸収スペクトルを表すグラフである。

以下、本発明の好ましい実施形態について説明するが、本発明はこれらの実施形態には限定されない。図面は説明をより明確にするため、実施の形態に比べ、各部の幅、厚さ、形状等について模式的に表される場合があるが、あくまで一例であって、本発明の解釈を限定するものではない。各実施形態は、文脈からそのような理解が明らかに不適切である場合を除いて適宜組み合わせることができる。また、本明細書中で、数値範囲を表す「～」は、その上限および下限の数値を含む。

Ａ．高分子分散型液晶フィルム
本発明の実施形態による高分子分散型液晶（ＰＤＬＣ）フィルムは、第１導電性基材と、高分子マトリクスと上記高分子マトリクス中に分散した液晶液滴および光重合開始剤とを含む高分子分散型液晶層と、第２導電性基材と、をこの順に含む。上記第１導電性基材は、紫外線カット層を含む。上記高分子分散型液晶層は、平面視において、電圧の印加によるヘイズの変化量が異なる第１領域と第２領域とを有し、上記第１領域における電圧の印加によるヘイズの変化量は、上記第２領域における電圧の印加によるヘイズの変化量よりも小さい。上記第２領域における上記液晶液滴は、重合性液晶化合物と非重合性液晶化合物とを含む。上記第１領域における上記液晶液滴は、上記重合性液晶化合物の重合体である液晶ポリマーと上記非重合性液晶化合物とを含む。

Ａ－１．第１の実施形態のＰＤＬＣフィルム
図１（ａ）は、本発明の第１の実施形態のＰＤＬＣフィルムの一例の概略平面図であり、（ｂ）は、（ａ）で示すＰＤＬＣフィルムの電圧無印加時の状態を説明する概略断面図であり、（ｃ）は、（ａ）で示すＰＤＬＣフィルムの電圧印加時の状態を説明する概略断面図である。ＰＤＬＣフィルム１００ａは、紫外線カット層１６を含む第１導電性基材１０と、高分子マトリクス２２と高分子マトリクス２２中に分散した液晶液滴２４および光重合開始剤２６とを含むＰＤＬＣ層２０と、第２導電性基材３０と、をこの順に含む。ＰＤＬＣ層２０は、平面視において、電圧の印加によるヘイズの変化量が異なる第１領域Ａと第２領域Ｂとを有する。第２領域Ｂにおける液晶液滴２４は、重合性液晶化合物２４ａと非重合性液晶化合物２４ｂとを含む。第１領域Ａにおける液晶液滴２４は、液晶ポリマー２４ｃと非重合性液晶化合物２４ｂとを含む。代表的には、液晶ポリマー２４ｃは非配向状態で存在する。光重合開始剤２６は、高分子マトリクス２２中に分散しており、その少なくとも一部は液晶液滴２４にも含まれている。なお、本明細書において、ある化合物が「非配向状態にある」とは、当該化合物が、一定の規則性をもって配列していない状態であることを意味する。

図１（ｂ）に示すように、電圧無印加時のＰＤＬＣフィルム１００ａにおいては、第１領域Ａにおける液晶液滴２４中の非重合性液晶化合物２４ｂおよび液晶ポリマー２４ｃが共に非配向状態であり、第２領域Ｂにおける液晶液滴２４中の重合性液晶化合物２４ａおよび非重合性液晶化合物２４ｂが共に非配向状態であることから、いずれの領域においても透過光の散乱が生じる。よって、第１領域Ａおよび第２領域Ｂは共に散乱状態であり得、結果として、ＰＤＬＣフィルム１００ａは、主面全体が散乱状態であり得る。

一方、図１（ｃ）に示すように、電圧印加時のＰＤＬＣフィルム１００ａにおいては、第２領域Ｂにおける液晶液滴２４中の重合性液晶化合物２４ａおよび非重合性液晶化合物２４ｂは共に第１導電性基材１０および第２導電性基材３０の主面に対して垂直方向に配向しており、透過光の散乱が抑制されることから、当該領域のヘイズは低下する。一方、第１領域Ａにおいては、非配向状態の液晶ポリマー２４ｃの存在によって非重合性液晶化合物２４ｂの配向が妨げられて非配向状態が維持されることから、依然として透過光の散乱が生じる。よって、第１領域における電圧の印加によるヘイズの変化量は、第２領域における該変化量よりも小さく、また、第１領域のヘイズと第２領域のヘイズとの差は、電圧の印加によって増大する。

以上のように、ＰＤＬＣフィルム１００ａは、電圧無印加時には主面全体が散乱状態であり、白濁した外観を呈する一方で、電圧の印加により第２領域のヘイズのみが大きく低下して、第１領域が白濁、第２領域が透明な外観を呈し得る。よって、ＰＤＬＣフィルム１００ａは、電圧の印加と無印加との切り替えによって、異なる外観を呈することができる。

電圧印加時にＰＤＬＣフィルムに印加される電圧は、ＰＤＬＣフィルムを動作させ得る電圧（動作電圧）であり、例えば５Ｖ～２００Ｖ、好ましくは１０Ｖ～１００Ｖであり得る。本明細書において、「電圧印加時におけるヘイズ」とは、ＰＤＬＣフィルムに動作電圧が印加されたときのヘイズを意味し、例えば５Ｖ以上、１０Ｖ以上または２０Ｖ以上の電圧が印加されたときのヘイズであり得る。

電圧無印加時におけるＰＤＬＣフィルムの上記第１領域に対応する領域のヘイズ（以下、単に「第１領域のヘイズ」と称する場合がある）は、例えば５０％～１００％、好ましくは７０％～１００％である。電圧印加時における第１領域のヘイズは、例えば４０％～１００％、好ましくは６０％～１００％である。電圧の印加による第１領域のヘイズの変化量（｜電圧無印加時のヘイズ－電圧印加時のヘイズ｜）は、例えば０％～４０％、好ましくは０％～３０％である。

電圧無印加時におけるＰＤＬＣフィルムの上記第２領域に対応する領域のヘイズ（以下、単に「第２領域のヘイズ」と称する場合がある）は、例えば５０％～１００％、好ましくは７０％～１００％である。電圧印加時における第２領域のヘイズは、例えば１％～２０％、好ましくは１％～１０％である。電圧の印加による第２領域のヘイズの変化量（｜電圧無印加時のヘイズ－電圧印加時のヘイズ｜）は、例えば３０％～９９％、好ましくは６０％～９９％である。

電圧の印加による第１領域のヘイズの変化量は、電圧の印加による第２領域のヘイズの変化量よりも小さく、その差は、例えば１０％～９９％、好ましくは３０％～９９％である。

電圧無印加時におけるＰＤＬＣフィルムの上記第１領域に対応する領域の全光線透過率（以下、単に「第１領域の全光線透過率」と称する場合がある）は、例えば５０％～９５％、好ましくは６０％～９０％である。電圧印加時における第１領域の全光線透過率は、例えば５０％～９５％、好ましくは６０％～９０％である。全光線透過率は、ＪＩＳ Ｋ ７３６１に従って測定され得る。

電圧無印加時におけるＰＤＬＣフィルムの上記第２領域に対応する領域の全光線透過率（以下、単に「第２領域の全光線透過率」と称する場合がある）は、例えば５０％～９５％、好ましくは６０％～９０％である。電圧印加時における第２領域の全光線透過率は、例えば７０％～９５％、好ましくは８０％～９０％である。

３０℃５５％ＲＨの条件下、キセノン光を１２０Ｗ／ｍ^２（３００ｎｍ－４００ｎｍ）で１２５時間照射後の第２領域における電圧印加（例えば５０Ｖ）によるヘイズの変化量Ｖａ（｜電圧印加時のヘイズ－電圧無印加時のヘイズ｜）および照射前の第２領域における電圧印加（例えば５０Ｖ）によるヘイズの変化量Ｖｂは、例えば例えば（Ｖｂ－Ｖａ）／Ｖｂ×１００≦５の関係を満たし、好ましくは（Ｖｂ－Ｖａ）／Ｖｂ×１００≦３の関係を満たす。

ＰＤＬＣフィルムの厚みは、例えば３０μｍ～２５０μｍ、好ましくは５０μｍ～１５０μｍである。

Ａ－１－１．第１導電性基材
第１導電性基材１０は、第１透明基材１２とその一方の側に設けられた第１透明電極層１４と他方の側に設けられた紫外線カット層１６とを含む。第１導電性基材１０は、必要に応じて、任意の適切な機能層をさらに有していてもよい。例えば、第１導電性基材１０は、紫外線カット層１６の片側または両側にハードコート層を有していてもよく、また、第１透明基材１２と第１透明電極層１４との間に屈折率調整層を有していてもよい。第１導電性基材は、ＰＤＬＣフィルムの紫外線を含む光（例えば、太陽光、種々の光源からの出射光）に曝露される側に配置される。

第１導電性基材の第１透明電極層側表面の表面抵抗値は、好ましくは１Ω／□～１０００Ω／□であり、より好ましくは５Ω／□～３００Ω／□であり、さらに好ましくは１０Ω／□～２００Ω／□である。

第１導電性基材のヘイズ値は、好ましくは２０％以下であり、より好ましくは１０％以下であり、さらに好ましくは０．１％～１０％である。

第１導電性基材の全光線透過率は、好ましくは３０％以上であり、より好ましくは６０％以上であり、さらに好ましくは８０％以上である。

第１透明基材１２は、任意の適切な材料を用いて形成され得る。具体的には、例えば、フィルムやプラスチック基材等の高分子基材が好ましく用いられる。平滑性および透明電極層形成用組成物に対する濡れ性に優れ、また、ロールによる連続生産により生産性を大幅に向上させ得るからである。

第１透明基材を構成する材料は、代表的には熱可塑性樹脂を主成分とする高分子フィルムである。熱可塑性樹脂としては、例えば、ポリエステル系樹脂；ポリノルボルネン等のシクロオレフィン系樹脂；アクリル系樹脂；ポリカーボネート樹脂；セルロース系樹脂等が挙げられる。なかでも好ましくは、ポリエステル系樹脂、シクロオレフィン系樹脂またはアクリル系樹脂である。これらの樹脂は、透明性、機械的強度、熱安定性、水分遮蔽性等に優れる。上記熱可塑性樹脂は、単独で、または２種以上組み合わせて用いてもよい。また、偏光板に用いられるような光学フィルム、例えば、低位相差基材、高位相差基材、位相差板、吸収型偏光フィルム、偏光選択反射フィルム等を第１透明基材として用いることも可能である。

第１透明基材の厚みは、好ましくは２００μｍ以下であり、より好ましくは３μｍ～１００μｍであり、さらに好ましくは５μｍ～７０μｍである。第１透明基材の厚みを２００μｍ以下とすることにより、ＰＤＬＣ層の機能を十分に発揮させることができる。

第１透明基材の全光線透過率は、好ましくは３０％以上であり、より好ましくは６０％以上であり、さらに好ましくは８０％以上である。

第１透明電極層１４は、例えば、インジウム錫酸化物（ＩＴＯ）、酸化亜鉛（ＺｎＯ）、酸化錫（ＳｎＯ_２）等の金属酸化物を用いて形成され得る。好ましくはＩＴＯを含む透明電極層が形成される。ＩＴＯを含む透明電極層は透明性に優れる。第１透明電極層は、目的に応じて、所望の形状にパターニングされ得る。

第１透明電極層の光透過率は、好ましくは８５％以上であり、より好ましくは８７％以上であり、さらに好ましくは９０％以上である。このような範囲の光透過率を有する透明電極層を用いることにより、透明状態において高い光透過率を有する。当該光透過率は高いほど好ましいが、その上限は、例えば、９９％である。

好ましくは、第１透明電極層は、結晶粒を含有する。結晶粒を含有することで光透過率を向上することができる。結晶粒の形成方法に限定はないが、例えば、大気下で加熱することで好適に結晶粒を形成することができる。透明電極層における結晶粒の面積占有率は、例えば３０％以上、好ましくは５０％以上、より好ましくは８０％以上である。当該面積占有率の上限は、例えば１００％である。結晶粒の面積占有率が上記範囲であれば、光透過率を向上することができる。なお、結晶粒の面積占有率は透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）で透明電極層の表面を観察し、結晶粒領域と非結晶領域の面積比から算出することができる。

第１透明電極層の表面粗さＲａは、例えば、０．１ｎｍ以上である。第１透明電極層の表面粗さＲａが０．１ｎｍ未満の場合、基材との密着性が悪化するおそれがある。第１透明電極層の表面粗さＲａの上限は、好ましくは１．２ｎｍ未満であり、より好ましくは１．０ｎｍ以下であり、さらに好ましくは１．０ｎｍ未満であり、特に好ましくは０．８ｎｍ以下である。第１透明電極層の表面粗さＲａが大きすぎる場合、好適に結晶粒を形成することが難しくなるおそれがある。なお、本明細書における表面粗さＲａとは、ＡＦＭ（Ａｔｏｍｉｃ Ｆｏｒｃｅ Ｍｉｃｒｏｓｃｏｐｅ：原子間力顕微鏡）により測定される、算術平均粗さＲａを意味する。

第１透明電極層の厚みは、例えば、１０ｎｍ以上であり、好ましくは１５ｎｍ以上である。第１透明電極層の厚みが１０ｎｍ未満の場合、結晶粒の面積占有率が低下するおそれがある。第１透明電極層の厚みの上限は、例えば、５０ｎｍ以下であり、好ましくは３５ｎｍ以下であり、より好ましくは３０ｎｍ未満であり、さらに好ましくは２７ｎｍ以下である。第１透明電極層の厚みが５０ｎｍを超える場合、透過率が悪化するおそれがあり、また、第１透明電極層の表面粗さが大きくなるおそれがある。

第１透明電極層は、例えば、スパッタリングによって、第１透明基材の一方の面に設けられる。スパッタリングによって金属酸化物層を形成後、アニーリングすることにより結晶化することができる。アニーリングは、例えば１２０℃～３００℃、１０分～１２０分熱処理することにより行われる。

紫外線カット層１６は、紫外線の少なくとも一部、例えば、波長３００ｎｍ～３８０ｎｍの光の少なくとも一部を遮光する。紫外線カット層の波長３５０ｎｍにおける吸光度は、例えば２以上であり、好ましくは３以上であり、より好ましくは４以上であり、さらに好ましくは５以上であり、例えば８以下である。

１つの実施形態において、ＰＤＬＣ層に含まれる光重合開始剤の最も長波長側の極大吸収波長をＡｎｍとした場合に、Ａ－３０ｎｍ～Ａ＋５０ｎｍの波長範囲全体にわたって、紫外線カット層の吸光度は、例えば４．５以上であり、好ましくは５以上であり、より好ましくは５．５以上であり、さらに好ましくは６以上であり、例えば８以下である。紫外線カット層が光重合開始剤の最も長波長側の極大吸収波長を含む所定の範囲にわたって高い吸光度を有することにより、ＰＤＬＣフィルムの耐光性を好適に向上することができる。

１つの実施形態において、ＰＤＬＣ層に含まれる光重合開始剤の最も長波長側の極大吸収波長をＡｎｍとした場合に、波長Ａ＋７０ｎｍにおける紫外線カット層の吸光度は、例えば１．８以上であり、好ましくは２以上であり、例えば５以下である。紫外線カット層が光重合開始剤の最も長波長側の極大吸収波長よりも７０ｎｍ大きい波長において所定以上の吸光度を有することにより、ＰＤＬＣフィルムの耐光性を好適に向上することができる。

紫外線カット層は、可視光線を透過させる。紫外線カット層の波長４５０ｎｍ～６００ｎｍの範囲における透過率の最小値は、好ましくは８０％以上であり、より好ましくは８５％以上であり、さらに好ましくは９０％以上である。

紫外線カット層は、任意の適切な構成を有する。紫外線カット層は、例えば、紫外線カット能を有する塗工層、紫外線カット能を有する樹脂フィルム、紫外線カット能を有する粘着剤層等を含み、これらから選択される１つを単独で含むものであってもよく、全体として所望の光学特性を有するようにこれらから選択される２つ以上を含むものであってもよい。

紫外線カット能を有する塗工層（紫外線カット塗工層）は、例えば、紫外線吸収剤および／または紫外線反射剤を含む紫外線カット層形成用塗工液を第１透明基材に塗工することにより、第１透明基材表面に直接形成され得る。また例えば、紫外線カット塗工層は、別の基材表面に紫外線カット層形成用塗工液を塗工することにより形成され、紫外線カット塗工層付基材として第１透明基材に貼り合わせられてもよい。

紫外線カット能を有する樹脂フィルム（紫外線カット樹脂フィルム）としては、紫外線吸収剤および／または紫外線反射剤を含む樹脂フィルム、ナノ積層技術を利用した樹脂フィルム等が挙げられる。

紫外線カット能を有する粘着剤層（紫外線カット粘着剤層）は、代表的には、紫外線吸収剤および／または紫外線反射剤を含む粘着剤層である。

紫外線吸収剤および紫外線反射剤としてはそれぞれ、任意の適切なものを用いることができる。紫外線吸収剤としては、２，４－ジヒドロキシベンゾフェノン、２－ヒドロキシ－４－メトキシ－ベンゾフェノン、２－ヒドロキシ－４－ｎ－オクトキシベンゾフェノン、２－ヒドロキシ－４－メトキシ－ベンゾフェノン－５－スルホン酸等のベンゾフェノン系紫外線吸収剤、２－（２’－ヒドロキシ－５’－メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２－（２’－ヒドロキシ－３’－ｔ－ブチル－５’－メチルフェニル）－５－クロロベンゾトリアゾール、２－（２’－ヒドロキシ－３’，５’－ジ－ｔ－ブチルフェニル）－５－クロロベンゾトリアゾール、２－（２’－ヒドロキシ－３’，５’－ジクミルフェニル）フェニルベンゾトリアゾール、２－（２’－ヒドロキシ－３’－ドデシル－５’－メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２，２’－メチレンビス［４－（１，１，３，３－テトラメチルブチル）－６－（２Ｈ－ベンゾトリアゾール－２－イル）フェノール］等のベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤、エチル－２－シアノ－３，３’－ジフェニルアクリレート、２－エチルヘキシル－２－シアノ－３，３’－ジフェニルアクリレート等のアクリレート系紫外線吸収剤、フェニルサリシレート、４－ｔ－ブチルフェニルサリシレート等のサリシレート系紫外線吸収剤、２－エトキシ－２’－エチルオキザリックアシドビスアニリド、２－エトキシン－５－ｔ－ブチル－２’－エチルオキザリックアシドビスアニリド等のオキザニリド系紫外線吸収剤、２－（４，６－ジフェニル－１，３，５－トリアジン－２－イル）－５－［（ヘキシル）オキシ］フェノール、１，３，５－トリアジン－２，４，６（１Ｈ，３Ｈ，５Ｈ）－トリオン、１，３，５－トリ［［３，５－ビス－（１，１－ジメチルエチル）－４－ヒドロキシフェニル］メチル］等のトリアジン系紫外線吸収剤等が挙げられる。紫外線反射剤としては、アルミニウム、亜鉛、銅、真鋳、ステンレス、酸化亜鉛、酸化チタン等が挙げられる。紫外線吸収剤および紫外線反射剤はそれぞれ、１種のみ用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。

紫外線カット層としては、市販品を用いることができる。紫外線カット層として使用可能な市販のフィルム製品としては、例えば、富士フィルム社製「ＴＪ２５ＵＬ」、コニカミノルタ社製「ＫＣ８ＵＡ」、Ｎｅｘｆｉｌ社製「Ｕ４－４００ＣＬ」等が挙げられる。

屈折率調整層は、ＰＤＬＣフィルムの色相および／または透過率を制御し得る。屈折率調整層は、単層からなってもよく、２層以上の積層体であってもよい。

屈折率調整層の屈折率は、１．３～１．８であることが好ましく、１．３５～１．７であることがより好ましく、１．３８～１．６８であることがさらに好ましい。単層の場合は、例えば透明電極層がＩＴＯの場合、ＩＴＯの屈折率を光学的に緩和できるようむしろ低い屈折率が望ましく、例えば１．３８～１．４６が好ましい。これにより、透明基材－透明電極層間における界面反射を好適に低減できる。

屈折率調整層は、無機物、有機物、あるいは無機物と有機物との混合物により形成される。屈折率調整層を形成する材料としては、ＮａＦ、Ｎａ_３ＡｌＦ_６、ＬｉＦ、ＭｇＦ_２、ＣａＦ_２、ＳｉＯ_２、ＬａＦ_３、ＣｅＦ_３、Ａｌ_２Ｏ_３、ＴｉＯ_２、Ｔａ_２Ｏ_５、ＺｒＯ_２、ＺｎＯ、ＺｎＳ、ＳｉＯ_ｘ（ｘは１．５以上２未満）等の無機物や、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、メラミン樹脂、アルキド樹脂、シロキサン系ポリマー等の有機物が挙げられる。特に、有機物として、メラミン樹脂とアルキド樹脂と有機シラン縮合物の混合物からなる熱硬化型樹脂を使用することが好ましい。

屈折率調整層は、平均粒子径が１ｎｍ～１００ｎｍのナノ微粒子を含んでいてもよい。屈折率調整層中にナノ微粒子を含有することによって、屈折率調整層自体の屈折率の調整を容易に行うことができる。

屈折率調整層中のナノ微粒子の含有割合は、０．１重量％～９０重量％であることが好ましい。また、屈折率調整層中のナノ微粒子の含有割合は、１０重量％～８０重量％であることがより好ましく、２０重量％～７０重量％であることがさらに好ましい。

ナノ微粒子を形成する無機酸化物としては、例えば、酸化ケイ素（シリカ）、中空ナノシリカ、酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化亜鉛、酸化錫、酸化ジルコニウム、酸化ニオブ等が挙げられる。これらの中でも、酸化ケイ素（シリカ）、酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化亜鉛、酸化錫、酸化ジルコニウム、酸化ニオブが好ましい。これらは１種を単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。

屈折率調整層の厚みは、１０ｎｍ～２００ｎｍであることが好ましく、２０ｎｍ～１５０ｎｍであることがより好ましく、３０ｎｍ～１３０ｎｍであることがさらに好ましい。屈折率調整層の厚みが過度に小さいと連続被膜となりにくい。また、屈折率調整層の厚みが過度に大きいと、透明状態における透明性が低下したり、クラックが生じ易くなったりする傾向がある。

屈折率調整層は、上記の材料を用いて、ウエット法、グラビアコート法やバーコート法等の塗布法、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法等により形成できる。

第１導電性基材は、図示例の構成に限定されない。例えば、図２に示すように、紫外線カット層１６を兼ねる第１透明基材１２とその一方の側に配置された第１透明電極層１４とを含む第１導電性基材１０ａを用いることができる。第１透明基材１２ａは、例えば、紫外線吸収剤を含む高分子フィルムであり、紫外線吸収剤および高分子フィルムについては上述のとおりである。

Ａ－１－２．ＰＤＬＣ層
ＰＤＬＣ層２０は、高分子マトリクス２２と高分子マトリクス２２中に分散した液晶化合物の液滴（液晶液滴）２４および光重合開始剤２６とを含む。図１に示すように、ＰＤＬＣ層２０は、第１領域Ａと第２領域Ｂとを有し、第１領域Ａにおける液晶液滴２４は、非配向状態の液晶ポリマー２４ｃと非重合性液晶化合物２４ｂとを含み、第２領域Ｂにおける液晶液滴２４は、重合性液晶化合物２４ａと非重合性液晶化合物２４ｂとを含む。第１領域Ａおよび第２領域Ｂは、ＰＤＬＣフィルムに所望される意匠に応じて、任意の適切なパターンで形成され得る。

高分子マトリクスは、任意の適切な樹脂で構成され得る。高分子マトリクス形成用樹脂は、光透過率、液晶化合物の屈折率、導電性基材との密着力等に応じて適切に選択され得る。例えば、ウレタン系樹脂、ポリビニルアルコール系樹脂、ポリエチレン系樹脂、ポリプロピレン系樹脂、アクリル系樹脂等の水溶性樹脂または水分散性樹脂が好ましく用いられ得る。高分子マトリクス形成用樹脂は、単独で用いても、複数を組み合わせて用いてもよい。

ＰＤＬＣ層中における高分子マトリクスの含有割合は、第１領域および第２領域の両方において、例えば３０重量％～６９．９重量％、好ましくは３５重量％～６５重量％、より好ましくは４０重量％～６０重量％である。高分子マトリクスの含有割合が当該範囲内であれば、適度な動作電圧で良好な調光機能が発揮される、良好な機械的強度が得られる、端部からの液晶漏れが防止される、等の効果が得られ得る。

非重合性液晶化合物としては、任意の適切な液晶化合物が用いられ得る。好ましくは波長５８９ｎｍにおいて０．０５～０．５０の複屈折Δｎ（＝ｎｅ－ｎｏ；ｎｅは液晶化合物分子の長軸方向の屈折率、ｎｏは液晶化合物分子の短軸方向の屈折率）、より好ましくは０．１０～０．４５の複屈折Δｎを有する液晶化合物が用いられる。

非重合性液晶化合物の誘電異方性は、正でも負でもよい。非重合性液晶化合物は、例えば、ネマティック型、スメクティック型、コレステリック型液晶化合物であり得る。透明状態において優れた透明性を実現できることから、ネマティック型液晶化合物を用いることが好ましい。

ネマティック型液晶化合物としては、ビフェニル系化合物、フェニルベンゾエート系化合物、シクロヘキシルベンゼン系化合物、アゾキシベンゼン系化合物、アゾベンゼン系化合物、アゾメチン系化合物、ターフェニル系化合物、ビフェニルベンゾエート系化合物、シクロヘキシルビフェニル系化合物、フェニルピリジン系化合物、シクロヘキシルピリミジン系化合物、コレステロール系化合物、フッ素系化合物等が挙げられる。これらの低分子液晶化合物は、単独で用いても、複数を組み合わせて用いてもよい。

重合性液晶化合物は、光透過率、非重合性液晶化合物との相溶性等に応じて適切に選択され得る。重合性液晶化合物は、２官能以上の架橋型であってもよい。重合性液晶化合物としては、例えば、特表２００２－５３３７４２（ＷＯ００／３７５８５）、ＥＰ３５８２０８（ＵＳ５２１１８７７）、ＥＰ６６１３７（ＵＳ４３８８４５３）、ＷＯ９３／２２３９７、ＥＰ０２６１７１２、ＤＥ１９５０４２２４、ＤＥ４４０８１７１、およびＧＢ２２８０４４５等に記載の重合型メソゲン化合物等が使用できる。このような重合型メソゲン化合物の具体例としては、例えば、ＢＡＳＦ社の商品名ＬＣ２４２が挙げられる。重合性液晶化合物としては、例えばネマティック型液晶モノマーが好ましい。

液晶ポリマーは、代表的には、上記重合性液晶化合物の重合体である。重合性液晶化合物の重合によりポリマーが形成され、また、架橋によりネットワーク構造が形成され得るが、これらは非液晶性である。したがって、液晶ポリマーにおいては、例えば、液晶性の化合物に特有の温度変化による液晶相、ガラス相、結晶相への転移が起きることはない。

液晶ポリマーは、液晶液滴中、代表的には、非配向状態で存在する。液晶液滴中の液晶ポリマーが非配向状態であることにより、電圧印加時であっても、第１領域は、高いヘイズ（例えば４０％～１００％、好ましくは６０％～１００％）を維持し得る。

第１領域における非重合性液晶化合物と液晶ポリマーとの合計含有割合は、例えば３０重量％～６９．９重量％、好ましくは３５重量％～６５重量％、より好ましくは４０重量％～６０重量％である。また、第１領域における非重合性液晶化合物と液晶ポリマーとの重量含有比（非重合性液晶化合物：液晶ポリマー）は、例えば９９：１～７０：３０、好ましくは９５：５～８０：２０である。また、第１領域における高分子マトリクスと非重合性液晶化合物と液晶ポリマーとの合計含有割合は、例えば９０重量％～９９．９重量％、好ましくは９５重量％～９９．９重量％であり得る。

第２領域における非重合性液晶化合物と重合性液晶化合物との合計含有割合は、例えば３０重量％～６９．９重量％、好ましくは３５重量％～６５重量％、より好ましくは４０重量％～６０重量％である。また、第２領域における非重合性液晶化合物と重合性液晶化合物との重量含有比（非重合性液晶化合物：重合性液晶化合物）は、例えば９９：１～７０：３０、好ましくは９５：５～８０：２０である。また、第２領域における高分子マトリクスと非重合性液晶化合物と重合性液晶化合物との合計含有割合は、例えば９０重量％～９９．９重量％、好ましくは９５重量％～９９．９重量％であり得る。

光重合開始剤としては、例えば、紫外線照射によって上記重合性液晶化合物の重合を開始させ得るものが用いられる。具体的には、ベンゾインエーテル系光重合開始剤、アセトフェノン系光重合開始剤、α－ケトール系光重合開始剤、芳香族スルホニルクロリド系光重合開始剤、光活性オキシム系光重合開始剤、ベンゾイン系光重合開始剤、ベンジル系光重合開始剤、ベンゾフェノン系光重合開始剤、ケタール系光重合開始剤、チオキサントン系光重合開始剤等が挙げられる。

ベンゾインエーテル系光重合開始剤としては、例えば、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインプロピルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、２，２－ジメトキシ－１，２－ジフェニルエタン－１－オン、アニソールメチルエーテル等が挙げられる。アセトフェノン系光重合開始剤としては、例えば、２，２－ジエトキシアセトフェノン、２，２－ジメトキシ－２－フェニルアセトフェノン、１－ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、４－フェノキシジクロロアセトフェノン、４－（ｔ－ブチル）ジクロロアセトフェノン等が挙げられる。α－ケトール系光重合開始剤としては、例えば、２－メチル－２－ヒドロキシプロピオフェノン、１－［４－（２－ヒドロキシエチル）フェニル］－２－メチルプロパン－１－オン等が挙げられる。芳香族スルホニルクロリド系光重合開始剤としては、例えば、２－ナフタレンスルホニルクロライド等が挙げられる。光活性オキシム系光重合開始剤としては、例えば、１－フェニル－１，１－プロパンジオン－２－（ｏ－エトキシカルボニル）－オキシム等が挙げられる。ベンゾイン系光重合開始剤としては、例えば、ベンゾイン等が挙げられる。ベンジル系光重合開始剤としては、例えば、ベンジル等が挙げられる。ベンゾフェノン系光重合開始剤としては、例えば、ベンゾフェノン、ベンゾイル安息香酸、３，３’－ジメチル－４－メトキシベンゾフェノン、ポリビニルベンゾフェノン、α－ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン等が挙げられる。ケタール系光重合開始剤としては、例えば、ベンジルジメチルケタール等が挙げられる。チオキサントン系光重合開始剤としては、例えば、チオキサントン、２－クロロチオキサントン、２－メチルチオキサントン、２，４－ジメチルチオキサントン、イソプロピルチオキサントン、２，４－ジイソプロピルチオキサントン、ドデシルチオキサントン等が挙げられる。

光重合開始剤は、例えば３００ｎｍ～３４０ｎｍ、好ましくは３２０ｎｍ～３４０ｎｍの範囲に極大吸収波長を有する。このような光重合開始剤を用いることにより、本発明の実施形態によるＰＤＬＣフィルムを容易に作製できるとともに、紫外線カット層による意図しない液晶ポリマーの生成を防止する効果が好適に得られ得る。

ＰＤＬＣ層における光重合開始剤の含有割合は、重合性液晶化合物および液晶ポリマーの合計１００重量部に対して、好ましくは０．１重量部～１０重量部であり、より好ましくは０．５重量部～５重量部である。

Ｂ項で詳述するように、第１領域と第２領域とを有するＰＤＬＣ層は、重合性液晶化合物と非重合性液晶化合物とを含む液晶液滴を含むＰＤＬＣ層の所定の領域において、重合性液晶化合物を重合させて液晶ポリマーを形成させることによって形成され得、この場合、当該所定の領域が第１領域となり、他の領域が第２領域となる。このとき、第１領域における液晶液滴には、未反応の重合性液晶化合物が残存し得る。第１領域における未反応の重合性液晶化合物の含有割合は、例えば３重量％以下、好ましくは１重量％以下である。また、第２領域における液晶液滴には、実質的に液晶ポリマーが存在しないことが好ましい。第２領域における液晶ポリマーの含有割合は、例えば３重量％以下、好ましくは１重量％以下である。

液晶液滴の平均粒子径は、例えば０．３μｍ～９μｍ、好ましくは０．４μｍ～８μｍであり得る。液晶液滴の平均粒子径が小さすぎると、光の波長よりも液晶液滴サイズが小さいために、光が散乱することなく液晶液滴を透過してしまい、結果として、十分なヘイズを得られないという問題が生じ得る。また、該平均粒子径が大きすぎると、光の波長よりも液晶液滴サイズが大きすぎるために、十分なヘイズを得られないという問題が生じ得る。なお、上記ＰＤＬＣ層中における液晶液滴の平均粒子径は、ＰＤＬＣフィルムの主面に対して垂直な方向から見た場合の液晶液滴の体積平均粒子径である。

ＰＤＬＣ層の厚みは、代表的には２μｍ～４０μｍであり、好ましくは３μｍ～３５μｍ、より好ましくは４μｍ～３０μｍである。

Ａ－１－３．第２導電性基材
第２導電性基材３０は、代表的には、第２透明基材３２とその一方の側に設けられた第２透明電極層３４とを有する。第２導電性基材３０は、必要に応じて、第２透明基材３２の片側または両側にハードコート層を有していてもよく、また、第２透明基材３２と第２透明電極層３４との間に屈折率調整層を有していてもよい。

第２導電性基材の第２透明電極層側表面の表面抵抗値は、好ましくは１Ω／□～１０００Ω／□であり、より好ましくは５Ω／□～３００Ω／□であり、さらに好ましくは１０Ω／□～２００Ω／□である。

第２導電性基材のヘイズ値は、好ましくは２０％以下であり、より好ましくは１０％以下であり、さらに好ましくは０．１％～１０％である。

第２導電性基材の全光線透過率は、好ましくは３０％以上であり、より好ましくは６０％以上であり、さらに好ましくは８０％以上である。

第２透明基材および第２透明電極層については、第１透明基材および第１透明電極層と同様の説明をそれぞれ適用することができる。

Ａ－２．第２の実施形態のＰＤＬＣフィルム
図３（ａ）は、本発明の第２の実施形態のＰＤＬＣフィルムの一例の概略平面図であり、（ｂ）は、（ａ）で示すＰＤＬＣフィルムの電圧無印加時の状態を説明する概略断面図であり、（ｃ）は、（ａ）で示すＰＤＬＣフィルムの電圧印加時の状態を説明する概略断面図である。ＰＤＬＣフィルム１００ｂは、紫外線カット層１６を含む第１導電性基材１０と、高分子マトリクス２２と高分子マトリクス２２中に分散した液晶液滴２４および光重合開始剤２６とを含むＰＤＬＣ層２０と、第２導電性基材３０と、をこの順に含む。ＰＤＬＣ層２０は、平面視において、電圧の印加によるヘイズの変化量が異なる第１領域Ａと第２領域Ｂとを有する。第２領域Ｂにおける液晶液滴２４は、重合性液晶化合物２４ａと非重合性液晶化合物２４ｂとを含む。第１領域Ａにおける液晶液滴２４は液晶ポリマー２４ｃと非重合性液晶化合物２４ｂとを含む。代表的には、液晶ポリマー２４ｃは所定の方向（図示例では、第１導電性基材１０および第２導電性基材３０の主面に対して垂直方向）に配向している。光重合開始剤２６は、ＰＤＬＣ層２０中に分散しており、その少なくとも一部は液晶液滴２４にも含まれている。

図３（ｂ）に示すように、電圧無印加時のＰＤＬＣフィルム１００ｂにおいては、第２領域Ｂにおける液晶液滴２４中の重合性液晶化合物２４ａおよび非重合性液晶化合物２４ｂが共に非配向状態であることから、透過光の散乱が生じる。一方、第１領域Ａにおいては、液晶ポリマー２４ｃの配向方向に沿って非重合性液晶化合物２４ｂが配向する結果、透過光の散乱が抑制される。よって、ＰＤＬＣフィルム１００ｂにおいて、第１領域Ａは透明状態であり得、また、第２領域Ｂは散乱状態であり得る。

一方、図３（ｃ）に示すように、電圧印加時のＰＤＬＣフィルム１００ｂにおいては、第２領域Ｂにおける液晶液滴２４中の重合性液晶化合物２４ａおよび非重合性液晶化合物２４ｂが共に第１導電性基材１０および第２導電性基材３０の主面に対して垂直方向に配向し、透過光の散乱が抑制される結果、ヘイズが低下する。一方、第１領域Ａにおいては、液晶ポリマー２４ｃによる配向規制を受けて重合性液晶化合物２４ｂの配向が大きく変化しないことから、依然として透過光の散乱が抑制される。よって、第１領域における電圧の印加によるヘイズの変化量は、第２領域における該変化量よりも小さく、また、第１領域のヘイズと第２領域のヘイズとの差は、電圧の印加によって減少する。

以上のように、ＰＤＬＣフィルム１００ｂは、電圧無印加時には第１領域が透明、第２領域が白濁した外観を呈し、電圧印加により第２領域のヘイズが大きく低下して、両方の領域が透明状態となり、結果として、主面全体が透明な外観を呈し得る。よって、ＰＤＬＣフィルム１００ｂは、電圧の印加と無印加との切り替えによって、異なる外観を呈することができる。

電圧印加時にＰＤＬＣフィルムに印加される電圧は、ＰＤＬＣフィルムを動作させ得る電圧（動作電圧）であり、例えば５Ｖ～２００Ｖ、好ましくは１０Ｖ～１００Ｖであり得る。

電圧無印加時における第１領域のヘイズは、例えば１％～２０％、好ましくは１％～１０％である。電圧印加時における第１領域のヘイズは、例えば１％～２０％、好ましくは１％～１０％である。電圧の印加による第１領域のヘイズの変化量（｜電圧無印加時のヘイズ－電圧印加時のヘイズ｜）は、例えば０％～２０％、好ましくは０％～１０％である。

電圧無印加時における第２領域のヘイズは、例えば５０％～１００％、好ましくは７０％～１００％である。電圧印加時における第２領域のヘイズは、例えば１％～２０％、好ましくは１％～１０％である。電圧の印加による第２領域のヘイズの変化量（｜電圧無印加時のヘイズ－電圧印加時のヘイズ｜）は、例えば３０％～９９％、好ましくは６０％～９９％である。

電圧の印加による第１領域のヘイズの変化量は、電圧の印加による第２領域のヘイズの変化量よりも小さく、その差は、例えば１０％～９９％、好ましくは３０％～９９％である。

電圧無印加時における第１領域の全光線透過率は、例えば７０％～９５％、好ましくは８０％～９０％である。電圧印加時における第１領域の全光線透過率は、例えば７０％～９５％、好ましくは８０％～９０％である。

電圧無印加時における第２領域の全光線透過率は、例えば５０％～９５％、好ましくは６０％～９０％である。電圧印加時における第２領域の全光線透過率は、例えば７０％～９５％、好ましくは８０％～９０％である。

３０℃５５％ＲＨの条件下、キセノン光を１２０Ｗ／ｍ^２（３００ｎｍ－４００ｎｍ）で１２５時間照射後の第２領域における電圧印加（例えば５０Ｖ）によるヘイズの変化量Ｖａ（｜電圧印加時のヘイズ－電圧無印加時のヘイズ｜）および照射前の第２領域における電圧印加（例えば５０Ｖ）によるヘイズの変化量Ｖｂは、例えば（Ｖｂ－Ｖａ）／Ｖｂ×１００≦５の関係を満たし、好ましくは（Ｖｂ－Ｖａ）／Ｖｂ×１００≦３の関係を満たす。

ＰＤＬＣフィルムの厚みは、例えば３０μｍ～２５０μｍ、好ましくは５０μｍ～１５０μｍである。

第２の実施形態のＰＤＬＣフィルムに関して、第１導電性基材および第２導電性基材については、第１の実施形態のＰＤＬＣフィルムにおける第１導電性基材および第２導電性基材と同様の説明をそれぞれ適用することができる。また、ＰＤＬＣ層については、第１領域における液晶液滴に含まれる液晶ポリマーが所定の方向に配向していること以外は、第１の実施形態のＰＤＬＣフィルムにおけるＰＤＬＣ層と同様の説明を適用することができる。

ＰＤＬＣ層の第１領域において、液晶液滴に含まれる液晶ポリマーは、所定の方向に配向している。液晶ポリマーは、好ましくは第１導電性基材および第２導電性基材の主面に対して略垂直方向に、例えば９０°±５°、好ましくは９０°±３°の角度をなすように配向している。液晶液滴中の液晶ポリマーが所定の方向に配向していることにより、電圧無印加時であっても、第１領域は、低いヘイズ（例えば１％～２０％、好ましくは１％～１０％）を維持し得る。

Ｂ．高分子分散型液晶フィルムの製造方法
Ａ項に記載のＰＤＬＣフィルムは、任意の適切な製造方法によって製造され得る。
例えば、上記ＰＤＬＣフィルムは、
（工程Ａ１）第１導電性基材と；高分子マトリクスと、上記高分子マトリクス中に分散した非重合性液晶化合物と上記重合性液晶化合物とを含む液晶液滴および光重合開始剤と、を含むＰＤＬＣ層と；第２導電性基材と；をこの順に含む未パターン化ＰＤＬＣフィルムを作成すること、および
（工程Ａ２）未パターン化ＰＤＬＣフィルムの第２導電性基材側から所定のパターンで活性エネルギー線を照射して、上記重合性液晶化合物を重合させて、その重合体である液晶ポリマーと上記非重合性液晶化合物とを含む液晶液滴を含む第１領域を形成すること、
を含む製造方法（製造方法Ａ）によって製造され得る。
上記ＰＤＬＣフィルムの製造方法によれば、液晶液滴が液晶ポリマーと非重合性液晶化合物とを含む第１領域と、液晶液滴が重合性液晶化合物と非重合性液晶化合物とを含む第２領域と、を有するＰＤＬＣ層を形成することができ、結果として、Ａ項に記載のＰＤＬＣフィルムが好適に得られ得る。なお、ＰＤＬＣフィルムの製造方法の説明において、第１領域と第２領域とが形成されたＰＤＬＣ層またはＰＤＬＣフィルムをパターン化ＰＤＬＣ層またはパターン化ＰＤＬＣフィルムと称し、第１領域と第２領域とが未形成のＰＤＬＣ層またはＰＤＬＣフィルムを未パターン化ＰＤＬＣ層または未パターン化ＰＤＬＣフィルムと称する場合がある。

１つの実施形態において、工程Ａ２の活性エネルギー線照射は、第１導電性基材と第２導電性基材との間に電圧を印加しない状態で行われる。別の実施形態において、工程Ａ２の活性エネルギー線照射は、第１導電性基材と第２導電性基材との間に電圧を印加した状態で行われる。

Ｂ－１．工程Ａ１
工程Ａ１においては、第１導電性基材と；高分子マトリクスと、上記高分子マトリクス中に分散した非重合性液晶化合物と上記重合性液晶化合物とを含む液晶液滴および光重合開始剤と、を含むＰＤＬＣ層と；第２導電性基材と；をこの順に含む未パターン化ＰＤＬＣフィルムを作成する。

工程Ａ１は、例えば、
（工程Ａ１－１）第１導電性基材または第２導電性基材のいずれか一方の基材に、高分子マトリクス形成用樹脂と非重合性液晶化合物と重合性液晶化合物と光重合開始剤と溶媒とを含む塗工液を塗工して、塗布層を得ること、
（工程Ａ１－２）該塗布層を乾燥させて、高分子マトリクスと、該高分子マトリクス中に分散した上記非重合性液晶化合物と上記重合性液晶化合物とを含む液晶液滴および光重合開始剤と、を含む未パターン化ＰＤＬＣ層を得ること、および
（工程Ａ１－３）上記未パターン化ＰＤＬＣ層の上に他方の基材を積層すること、
を含む。

工程Ａ１－１においては、第１導電性基材または第２導電性基材のいずれか一方の基材に、高分子マトリクス形成用樹脂と非重合性液晶化合物と重合性液晶化合物と光重合開始剤と溶媒とを含む塗工液を塗工して、塗布層を得る。

上記塗工液は、好ましくは、非重合性液晶化合物と重合性液晶化合物とを含む液晶粒子が溶媒中に分散したエマルション（以下、「エマルション塗工液」と称する場合がある）である。１つの実施形態において、塗工液は、高分子マトリクス形成用樹脂粒子と、非重合性液晶化合物と重合性液晶化合物とを含む液晶粒子とが溶媒中に分散したエマルション塗工液である。エマルション塗工液は、光重合開始剤をさらに含み、目的に応じて、任意の適切な添加剤をさらに含み得る。

溶媒としては、水または水と水混和性有機溶媒との混合溶媒が好ましく用いられ得る。水混和性有機溶媒としては、Ｃ１－３アルコール、アセトン、ＤＭＳＯ等が挙げられる。非重合性液晶化合物、重合性液晶化合物および高分子マトリクス形成用樹脂については、Ａ項に記載した通りである。任意の添加剤としては、分散剤、レベリング剤、架橋剤等が挙げられる。

塗工液の固形分における液晶化合物の含有割合（非重合性液晶化合物と重合性液晶化合物との合計含有割合）は、例えば３０重量％～６９．９重量％、好ましくは３５重量％～６５重量％、より好ましくは４０重量％～６０重量％であり得る。

塗工液における非重合性液晶化合物と重合性液晶化合物との含有重量比（非重合性液晶化合物：重合性液晶化合物）は、好ましくは９９：１～７０：３０、より好ましくは９５：５～８０：２０であり得る。

塗工液の固形分における高分子マトリクス形成用樹脂の含有割合は、例えば３０重量％～６９．９重量％、好ましくは３５重量％～６５重量％、より好ましくは４０重量％～６０重量％であり得る。

塗工液における液晶化合物の含有量（非重合性液晶化合物と重合性液晶化合物との合計含有量）と高分子マトリクス形成用樹脂の含有量との重量比（液晶化合物：高分子マトリクス形成用樹脂）は、例えば３０：７０～７０：３０、好ましくは３５：６５～６５：３５、より好ましくは４０：６０～６０：４０であり得る。また、塗工液の固形分における高分子マトリクス形成用樹脂と非重合性液晶化合物と重合性液晶化合物との合計含有割合は、例えば９０重量％～９９．９重量％、好ましくは９５重量％～９９．９重量％であり得る。

液晶粒子の平均粒子径は、好ましくは０．３μｍ以上であり、より好ましくは０．４μｍ以上である。また、液晶粒子の平均粒子径は、好ましくは９μｍ以下であり、より好ましくは８μｍ以下である。液晶粒子の平均粒子径が当該範囲内であれば、ＰＤＬＣ層における液晶液滴の平均粒子径を所望の範囲とすることができる。なお、上記液晶粒子の平均粒子径は、体積平均粒子径である。

液晶粒子の平均粒子径は、比較的狭い粒度分布を有することが好ましい。液晶粒子の平均粒子径の変動係数（ＣＶ値）は、例えば０．４０未満であり得、好ましくは０．３５以下、より好ましくは０．３０以下であり得る。１つの実施形態において、粒子径が０．３μｍ未満または９μｍ超である液晶粒子を実質的に含まないエマルション塗工液（例えば、液晶粒子の総体積に対する粒子径が０．３μｍ未満または９μｍ超である液晶粒子の体積の割合が１０％以下であるエマルション塗工液）が用いられ得る。

高分子マトリクス形成用樹脂粒子の平均粒子径は、好ましくは１０ｎｍ～５００ｎｍであり、より好ましくは３０ｎｍ～３００ｎｍ、さらに好ましくは５０ｎｍ～２００ｎｍである。樹脂の種類および／または平均粒子径の異なる２種以上の樹脂粒子を用いてもよい。高分子マトリクス形成用樹脂粒子の平均粒子径は、体積平均のメジアン径を意味し、動的光散乱式粒度分布測定装置を用いて測定され得る。

光重合開始剤およびその含有量はＡ項で記載したとおりである。

分散剤としては、例えば、アニオン界面活性剤、カチオン界面活性剤、両性界面活性剤、非イオン界面活性剤等を挙げることができる。分散剤の含有割合は、エマルション塗工液１００重量部に対して、好ましくは０．０５重量部～１０重量部であり、より好ましくは０．１重量部～１重量部である。

レベリング剤としては、例えば、アクリル系レベリング剤、フッ素系レベリング剤、シリコーン系レベリング剤等を挙げることができる。レベリング剤の含有割合は、エマルション塗工液１００重量部に対して、好ましくは０．０５重量部～１０重量部であり、より好ましくは０．１重量部～１重量部である。

架橋剤としては、例えば、アジリジン系架橋剤、イソシアネート系架橋剤等を挙げることができる。架橋剤の含有割合は、エマルション塗工液１００重量部に対して、好ましくは０．５重量部～１０重量部であり、より好ましくは０．８重量部～５重量部である。

エマルション塗工液は、例えば、高分子マトリクス形成用樹脂粒子を含む樹脂エマルションまたは樹脂粒子分散体と、液晶粒子を含む液晶エマルションと、光重合開始剤と、任意の添加剤（例えば、分散剤、レベリング剤、架橋剤）と、を混合することによって調製され得る。必要に応じて、混合時に、溶媒をさらに添加してもよい。あるいは、エマルション塗工液は、溶媒中に非重合性液晶化合物、重合性液晶化合物、水分散性樹脂、光重合開始剤、および任意の添加剤を添加し、機械的に分散させること等によっても調製され得る。

上記樹脂エマルションおよび液晶エマルションは、例えば、機械的乳化法、マイクロチャネル法、膜乳化法等によって調製され得る。なかでも、液晶エマルションは膜乳化法で調製されることが好ましい。膜乳化法によれば、粒度分布が揃ったエマルションが好適に得られ得る。膜乳化法の詳細については、特開平４－３５５７１９号公報、特開２０１５－４０９９４号公報（これらは、本明細書に参考として援用される）等の開示を参照することができる。

エマルション塗工液の固形分濃度は、例えば２０重量％～６０重量％、好ましくは３０重量％～５０重量％であり得る。

エマルション塗工液の粘度は、基材への塗布が好適に行われるように適切に調整され得る。塗布時におけるエマルション塗工液の粘度は、好ましくは２０ｍＰａｓ～４００ｍＰａｓであり、より好ましくは３０ｍＰａｓ～３００ｍＰａｓであり、さらに好ましくは４０ｍＰａｓ～２００ｍＰａｓである。粘度が２０ｍＰａｓ未満の場合、溶媒を乾燥させる際に溶媒の対流が顕著となり、ＰＤＬＣ層の厚みが不安定となるおそれがある。また、粘度が４００ｍＰａｓを超える場合、エマルション塗工液のビードが安定しないおそれがある。エマルション塗工液の粘度は、例えば、アントンパール社製レオメーターＭＣＲ３０２により測定することができる。ここでの粘度は、２０℃、せん断速度１０００（１／ｓ）の条件でのせん断粘度の値を用いている。

エマルション塗工液は、代表的には、第１導電性基材または第２導電性基材の透明電極層側表面に塗布される。これらの基材については、Ａ項に記載した通りである。

塗布方法としては、任意の適切な方法を採用することができる。例えば、ロールコート法、スピンコート法、ワイヤーバーコート法、ディップコート法、ダイコート法、カーテンコート法、スプレコート法、ナイフコート法（コンマコート法等）等が挙げられる。なかでも、ロールコート法が好ましい。例えば、スロットダイを用いたロールコート法による塗布に関しては、特開２０１９－５６９８号公報の記載を参照することができる。

塗布層の厚みは、好ましくは３μｍ～４０μｍであり、より好ましくは４μｍ～３０μｍであり、さらに好ましくは５μｍ～２０μｍである。このような範囲であれば、厚みの均一性に優れるＰＤＬＣ層を得ることができる。

工程Ａ１－２においては、上記塗布層を乾燥させて、高分子マトリクスと、高分子マトリクス中に分散した液晶液滴および光重合開始剤と、を含む未パターン化ＰＤＬＣ層を得る。乾燥により塗布層から溶媒が除去されて、高分子マトリクス形成用樹脂粒子が互いに融着し合うことにより、高分子マトリクス中に重合性液晶化合物と非重合性液晶化合物とを含む液晶液滴と、光重合開始剤と、が分散した構造を有するＰＤＬＣ層が形成される。

塗布層の乾燥は、任意の適切な方法によって行われ得る。乾燥方法の具体例としては、加熱乾燥、熱風乾燥等が挙げられる。エマルション塗工液が架橋剤を含む場合、乾燥時において、高分子マトリクスの架橋構造が形成され得る。

乾燥温度は、好ましくは２０℃～１５０℃であり、より好ましくは２５℃～８０℃である。乾燥時間は、好ましくは１分～１００分であり、より好ましくは２分～１０分である。

工程Ａ１－３においては、未パターン化ＰＤＬＣ層の上に他方の基材を積層する。これにより、第１導電性基材と、未パターン化ＰＤＬＣ層と、第２導電性基材と、をこの順に有する未パターン化ＰＤＬＣフィルムが得られる。

ＰＤＬＣ層上への第１導電性基材または第２導電性基材の積層は、透明電極層側がＰＤＬＣ層と対向するように行われる。当該積層は、十分な密着性を得る観点から、好ましくはラミネーターを用いて、０．００６ＭＰａ／ｍ～７ＭＰａ／ｍのラミネート圧、より好ましくは０．０６ＭＰａ／ｍ～０．７ＭＰａ／ｍのラミネート圧をかけながら行われ得る。

Ｂ－２．工程Ａ２
工程Ａ２においては、未パターン化ＰＤＬＣフィルムの第２導電性基材側から所定のパターンで活性エネルギー線を照射して、上記重合性液晶化合物を重合させて、その重合体である液晶ポリマーと上記非重合性液晶化合物とを含む液晶液滴を含む第１領域を形成する。具体的には、活性エネルギー線が照射された領域（照射領域）においては、液晶液滴中の重合性液晶化合物が重合して液晶ポリマーが生成する結果、液晶ポリマーと非重合性液晶化合物とを含む液晶液滴が形成される。一方、活性エネルギー線が照射されない領域（非照射領域）においては、重合性液晶化合物が未反応のまま存在する結果、液晶液滴は、重合性液晶化合物と非重合性液晶化合物とを含む。よって、ＰＤＬＣ層の照射領域が、液晶ポリマーと非重合性液晶化合物とを含む液晶液滴を含む第１領域Ａとなり、非照射領域が、重合性液晶化合物と非重合性液晶化合物とを含む液晶液滴を含む第２領域Ｂとなる。なお、非照射領域における液滴中の重合性液晶化合物と非重合性液晶化合物との含有量比は、液晶液滴の形成当初の含有量比、すなわち、塗工液における重合性液晶化合物と非重合性液晶化合物との含有量比に概ね対応し得る。

活性エネルギー線の照射は、所定のパターンのフォトマスクを介して行われる。活性エネルギー線としては、紫外線、赤外線、Ｘ線、α線、β線、γ線および電子線等が用いられる。なかでも、紫外線が好ましい。また、活性エネルギー線は照射源からの直進性が高いコリメート光であることが好ましい。

紫外線の照射条件は、重合性液晶化合物の種類、第２導電性基材の透過率、光重合開始剤の吸収波長等に応じて適切に設定され得る。照射強度は、例えば０．１ｍＷ／ｃｍ^２～１０００ｍＷ／ｃｍ^２、好ましくは１ｍＷ／ｃｍ^２～１００ｍＷ／ｃｍ^２であり得る。照射量は、例えば１０ｍＪ／ｃｍ^２～１００００ｍＪ／ｃｍ^２、好ましくは１００ｍＪ／ｃｍ^２～５０００ｍＪ／ｃｍ^２であり得る。照射温度は、例えば－２０℃～８０℃、好ましくは－２０℃～６０℃であり得る。

図４および図５はそれぞれ、本発明の実施形態によるＰＤＬＣフィルムの製造方法における活性エネルギー線照射の一例を説明する概略図である。図４に示す実施形態において、活性エネルギー線照射は、フォトマスク４０を介して、第１導電性基材１０と第２導電性基材３０との間に電圧を印加しない状態で行われる。本実施形態によれば、ＰＤＬＣ層２０の照射領域の液晶液滴２４において、重合性液晶化合物２４ａが非配向状態で重合することから、形成される液晶ポリマー２４ｃもまた非配向状態となる。よって、本実施形態によれば、Ａ－１項に記載の第１の実施形態のＰＤＬＣフィルムが好適に得られ得る。

図５に示す実施形態において、活性エネルギー線照射は、フォトマスク４０を介して、第１導電性基材１０と第２導電性基材３０との間に電圧を印加した状態で行われる。本実施形態によれば、ＰＤＬＣ層２０の照射領域の液晶液滴２４において、重合性液晶化合物２４ａが電界に沿って所定の方向（図示例では、第１導電性基材１０および第２導電性基材３０の主面に対して垂直方向）に配向した状態で重合することから、当該配向が固定化された液晶ポリマー２４ｃが形成される。よって、本実施形態によれば、Ａ－２項に記載の第２の実施形態のＰＤＬＣフィルムが好適に得られ得る。なお、活性エネルギー線照射時に印加する電圧は、所望の配向（換言すれば、第１領域に所望されるヘイズ）が実現される限りにおいて制限はなく、例えば１０Ｖ～２００Ｖ、好ましくは２０Ｖ～１００Ｖであり得る。

１つの実施形態において、開口率が異なる複数の透光部を有するフォトマスクを用いて活性エネルギー線照射を行うことにより、各透光部に対応する領域において、その開口率に対応した割合で第１領域を形成することができる。よって、得られるＰＤＬＣフィルムにおいて、各透光部に対応する領域は、全体視において、その開口率に対応したヘイズを示し得る。

例えば、開口率が右端部から左端部に向かって連続的に増大するフォトマスクを用い、電圧を印加しない状態で活性エネルギー線照射を行うことにより、電圧無印加時には全面が散乱状態であり、電圧印加時には右端部から左端部に向かってヘイズが連続的に増大する外観を呈するＰＤＬＣフィルムが得られ得る。また例えば、開口率が右端部から左端部に向かって連続的に増大するフォトマスクを用い、電圧を印加した状態で活性エネルギー線照射を行うことにより、電圧印加時には全面が透明状態であり、電圧無印加時には右端部から左端部に向かってヘイズが連続的に低下する外観を呈するＰＤＬＣフィルムが得られ得る。

上記ＰＤＬＣフィルムの製造方法Ａでは、第１導電性基材と未パターン化ＰＤＬＣ層と第２導電性基材とをこの順に含む未パターン化ＰＤＬＣフィルムを作製し、未パターン化ＰＤＬＣフィルムの第２導電性基材側から活性エネルギー線照射を行ったが、上記ＰＤＬＣフィルムの製造方法は、当該実施形態に限定されない。

例えば、上記ＰＤＬＣフィルムは、第２導電性基材と未パターン化ＰＤＬＣ層と第２導電性基材とをこの順に含む未パターン化ＰＤＬＣフィルムを作製すること、未パターン化ＰＤＬＣフィルムのいずれか一方の側から所定のパターンで活性エネルギー線照射を行うこと、およびいずれか一方の第２導電性基材の外側に紫外線カット層を設けること、をこの順に含む製造方法（製造方法Ｂ）によって製造され得る。活性エネルギー線照射は、両基材間に電圧を印加しない状態または印加した状態で行われる。

また例えば、上記ＰＤＬＣフィルムは、第２導電性基材と未パターン化ＰＤＬＣ層と第２導電性基材とをこの順に含む未パターン化ＰＤＬＣフィルムを作製すること、いずれか一方の第２導電性基材の外側に紫外線カット層を設けること、および紫外線カット層が設けられていない第２導電性基材側から所定のパターンで活性エネルギー線照射を行うこと、をこの順に含む製造方法（製造方法Ｃ）によって製造され得る。活性エネルギー線照射は、両基材間に電圧を印加しない状態または印加した状態で行われる。

紫外線カット層が設けられた第２導電性基材は第１導電性基材に相当し得ることから、製造方法Ｂおよび製造方法Ｃによっても、紫外線カット層を含む第１導電性基材とパターン化ＰＤＬＣ層と第２導電性基材とをこの順に含むパターン化ＰＤＬＣフィルムを得ることができる。

Ｃ．変形例
Ｃ－１．変形例１
図６は、本発明の実施形態によるＰＤＬＣフィルムの変形例の構成を説明する概略断面図である。ＰＤＬＣフィルム１００ｃは、第１紫外線カット層１６を含む第１導電性基材１０と、高分子マトリクス（図示せず）と高分子マトリクス中に分散した液晶液滴（図示せず）および光重合開始剤（図示せず）とを含むＰＤＬＣ層２０と、第２紫外線カット層３６を含む第２導電性基材３０と、をこの順に含む。ＰＤＬＣ層２０は、図１または図３に示すような第１領域および第２領域を有するパターン化ＰＤＬＣ層である。すなわち、ＰＤＬＣフィルム１００ｃは、第２導電性基材３０が第２紫外線カット層３６を含む点において、ＰＤＬＣフィルム１００ａまたは１００ｂと異なっている。ＰＤＬＣフィルム１００ｃは、パターン化ＰＤＬＣ層の両側に紫外線カット層が設けられていることから、耐光性をより好適に向上することができる。

Ｃ－２．変形例２
図７は、本発明の実施形態によるＰＤＬＣフィルムの別の変形例の構成を説明する概略断面図である。ＰＤＬＣフィルム１００ｄは、第１紫外線カット層１６を含む第１導電性基材１０と、高分子マトリクス（図示せず）と高分子マトリクス中に分散した液晶液滴（図示せず）および光重合開始剤（図示せず）とを含むＰＤＬＣ層２０と、反射層３８を含む第２導電性基材３０と、をこの順に含む。ＰＤＬＣ層２０は、図１または図３に示すような第１領域および第２領域を有するパターン化ＰＤＬＣ層である。すなわち、ＰＤＬＣフィルム１００ｄは、第２導電性基材３０が反射層３８を含む点において、ＰＤＬＣフィルム１００ａまたは１００ｂと異なっている。

ＰＤＬＣフィルム１００ｄによれば、第１導電性基材１０側から散乱状態のＰＤＬＣ層２０に入射した光は、反射層３８で反射されると共にＰＤＬＣ層２０で散乱される結果、散乱反射成分を多く含む光として第１導電性基材１０側から出射する。一方、第１導電性基材１０側から透明状態（非散乱状態）のＰＤＬＣ層２０に入射した光は、ＰＤＬＣ層２０での散乱が抑制されつつ反射層３８で反射される結果、正反射成分を多く含む光として導電性透明基材１０側から出射する。その結果、散乱状態の領域は光沢が少ない外観（マットな外観）を呈し、透明状態の領域は光沢がある外観（金属調の外観）を呈し得る。よって、第１領域と第２領域とを所望のパターンで形成し、電圧の印加状態を切り替えることにより、主面全体が光沢がある外観または光沢が少ない外観である状態と、一部の領域のみ光沢がある外観または光沢が少ない外観である状態と、と切り替えることができる。

図示例において、第２導電性基材３０は、第２透明電極層３４と第２透明基材３２と反射層３８とをこの順に有する。反射層３８を含む第２導電性基材３０の構成は当該図示例に限定されない。例えば、図８（ａ）に例示するように、反射層３８と第２透明電極層３４と第２透明基材３２とをこの順に有する第２導電性基材３０ａであってもよい。また例えば、図８（ｂ）に例示するように、第２透明基材３２とその一方の側（ＰＤＬＣ層側）に設けられた導電性反射層３５とを有する第２導電性基材３０ｂであってもよい。ここで、導電性反射層とは、反射層の機能と電極層の機能との両方を発揮し得る層を意味する。反射層はその一方または両方の表面に保護層が設けられた反射フィルムの形態で用いられてもよい。

反射層３８は、好ましくは鏡面反射性を有する。鏡面反射性を有する反射層としては、例えば、アルミニウム、スズ、金、銀、鉄、クロム、コバルト、ニッケル、またはこれらの合金等から構成される金属反射層、種類の異なるポリマーを数百から一千層、数ナノメートルの薄さで多層積層した金属光沢調のナノ積層フィルム（例えば、東レ社製「ピカサス」）等が好ましく例示できる。金属反射層は、導電性反射層として、反射層の機能と電極層の機能とを兼ねることができる。

反射層の厚みは、金属反射層の場合、例えば０．０１μｍ～０．１０μｍ、好ましくは０．０１μｍ～０．４５μｍ、ナノ積層フィルムの場合、例えば２０μｍ～３００μｍ、好ましくは３０μｍ～２５０μｍであり得る。

反射層は、例えば、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法等の真空成膜法によって形成することができる。

ＰＤＬＣフィルム１００ｄは、例えば、反射層を含まない第２導電性基材と未パターン化ＰＤＬＣ層と反射層を含む第２導電性基材とをこの順に含む未パターン化ＰＤＬＣフィルムを作製すること、反射層を含まない第２導電性基材側から未パターン化ＰＤＬＣフィルムに活性エネルギー線照射を行うこと、および反射層を含まない第２導電性基材の外側に紫外線カット層を設けること、を含む製造方法によって得ることができる。活性エネルギー線照射は、両基材間に電圧を印加しない状態または印加した状態で行われる。

以下、実施例により本発明を具体的に説明するが、本発明はこれら実施例になんら限定されるものではない。各特性の測定方法は以下の通りである。また、特に明記しない限り、実施例および比較例における「部」および「％」は重量基準である。

（１）厚み
デジタルマイクロメーター（アンリツ社製、製品名「ＫＣ－３５１Ｃ」）を用いて測定した。
（２）液晶エマルション中の液晶粒子の体積平均粒子径
電解質水溶液（コールター社製、「アイソトンＩＩ」）２００ｍｌに液晶エマルションを０．１重量％添加し、得られた混合液を測定試料としてマルチサイザー３（コールター社製、アパーチャーサイズ＝２０μｍ）を用いて、０．４μｍから１２μｍまで対数基準で等間隔に２５６分割し離散化した粒子径ごとの体積の統計を取り、体積平均粒子径を算出した。なお、１２μｍ以上の粒子が存在している場合は、アパーチャーサイズを３０μｍとし、０．６μｍから１８μｍまで対数基準で等間隔に２５６分割し離散化した粒子径ごとの体積の統計を取ることで、体積平均粒子径を算出した。
（３）樹脂粒子の平均粒子径
１００ｍＬの水に樹脂分散体を数滴加えて測定試料を調製した。動的光散乱式粒子径分布測定装置（Ｍｉｃｒｏｔｒａｃ社製、装置名「Ｎａｎｏｔｒａｃ１５０」）を用いて、装置の測定ホルダに測定試料をセットし、測定可能な濃度であることを装置のモニタにて確認後に測定を行った。
（４）ヘイズ
日本電色社製 製品名「ＮＤＨ４０００」を用い、ＪＩＳ Ｋ ７１３６に基づいて測定した。紫外線カット層を含むＰＤＬＣフィルムについては、紫外線カット層を剥離して測定した。
（５）吸光度
日立ハイテクサイエンス社製「ＵＨ－４１５０ＡＤ＋」を用い、測定対象のフィルムを直入射検知器付属装置を用いて測定した。

［実施例１］
（導電性基材の作製）
ＰＥＴ基材（東洋紡社製、製品名「コスモシャイン」、厚み：５０μｍ）の一方の面に、スパッタ法によりＩＴＯ層を形成して、［透明基材／透明電極層］の構成を有する導電性基材を得た。ＰＥＴ基材の波長３５０ｎｍにおける吸光度の０．１５であった。

（エマルション塗工液の作製）
非重合性液晶化合物（ＪＮＣ社製、製品名「ＬＸ－１５３ＸＸ」、複屈折Δｎ＝０．１４９（ｎｅ＝１．６５１，ｎｏ＝１．５０２）、粘度＝４８．５ｍＰａ・ｓ）５３．７部、重合性液晶化合物（Ｍｅｒｃｋ社製、製品名「ＲＭ２５７」）５．９部、光重合開始剤（ＩＧＭ社製、製品名「ＯＭＮＩＲＡＤ１８４」、極大吸収波長２４３ｎｍ、３３１ｎｍ）０．１部、純水３９．８部、および分散剤（第一工業製薬社製、「ノイゲンＥＴ１５９」）０．５部を混合し、ホモジナイザーにて１００ｒｐｍで１０分攪拌することにより液晶エマルションを調製した。得られた液晶エマルション中の液晶粒子の平均粒子径は、３．４μｍであった。
上記液晶エマルション３８．４部、ポリエーテル系ポリウレタン樹脂水性分散体（ＤＳＭ社製、商品名「ＮｅｏＲｅｚ Ｒ９６７」、ポリマー平均粒子径：８０ｎｍ、ＣＶ値＝０．２７、固形分：４０ｗｔ％）１９．１部、ポリエステル系ポリウレタン樹脂水性分散体（三洋化成社製、商品名「ユーコート Ｃ－１０２」、ポリマー平均粒子径：１６８ｎｍ、ＣＶ値＝０．２３、固形分：４５ｗｔ％）１７．０部、レベリング剤（ＤＩＣ社製、製品名「Ｆ－４４４」）０．１部、および架橋剤（トリス〔３－（２－メチルアジリジン－１－イル）プロピオン酸〕＝プロピリジントリメチル）１．１部、純水２４．３部を混合することにより、エマルション塗工液（固形分濃度：４０ｗｔ％）を得た。

（エマルション塗工液の塗布および乾燥）
上記エマルション塗工液を、上記導電性基材のＩＴＯ層面に塗布して厚み２０μｍの塗布層を形成した。塗布は、スロットダイを用いて行い、ライン速度は６ｍ／ｍｉｎであった。次いで、該塗布層を２５℃で８分乾燥させることにより、厚み８μｍの未パターン化ＰＤＬＣ層を形成した。

（未パターン化ＰＤＬＣフィルムの作製）
ラミネーターを用いて０．４ＭＰａ／ｍのラミネート圧を適用しながら、上記未パターン化ＰＤＬＣ層の上に別の導電性基材を、ＩＴＯ層が未パターン化ＰＤＬＣ層に対向するように積層した。これにより、未パターン化ＰＤＬＣフィルムを得た。

（活性エネルギー線照射）
未パターン化ＰＤＬＣフィルムの両面において、導電性基材の一部を透明基材までハーフカットして透明電極層を露出させ、当該露出部を取り出し電極として用いた。電極処理を施した未パターン化ＰＤＬＣフィルムに所定のパターンを有するフォトマスクを載せ、５０Ｖの電圧を印加しながらＵＶ－ＬＥＤランプ（浜松ホトニクス社製、製品名「Ｃ１１９２４－１０１」、ピーク波長３６５ｎｍ）の下で１０ｍＷ／ｃｍ^２で１０分間露光処理した。これにより、ＰＤＬＣ層に、配向した液晶ポリマーと非重合性液晶化合物とを含む第１領域と、重合性液晶化合物とを非重合性液晶化合物とを含む第２領域と、を形成し、これにより、［導電性基材／パターン化ＰＤＬＣ層／導電性基材］の構成を有するパターン化ＰＤＬＣフィルムを得た。
得られたパターン化ＰＤＬＣフィルムは、電圧無印加時において、照射領域のヘイズが７．８％であり、非照射領域のヘイズが８８．０％であり、５０Ｖの交流電圧印加時において、照射領域のヘイズが３．７％であり、非照射領域のヘイズが３．６％であった。

（紫外線カット層の積層）
上記パターン化ＰＤＬＣの一方の導電性基材側表面にアクリル系粘着剤層を介して紫外線カット層としてのＵＶ吸収トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）フィルム（コニカミノルタ社製、「ＫＣ８ＵＡ」、厚み８０μｍ）を貼り合せた。これにより、［第１導電性基材（ＫＣ８ＵＡ／ＰＥＴ基材／ＩＴＯ層）／パターン化ＰＤＬＣ層／第２導電性基材（ＩＴＯ層／ＰＥＴ基材）］の構成を有するパターン化ＰＤＬＣフィルムを得た。

［実施例２］
紫外線カット層として、Ｎｅｘｆｉｌ社製のＵＶ吸収フィルム「Ｕ４－４００ＣＬ」（厚み６０μｍ）を貼り合せたこと以外は実施例１と同様にして、［第１導電性基材（Ｕ４－４００ＣＬ／ＰＥＴ基材／ＩＴＯ層）／パターン化ＰＤＬＣ層／第２導電性基材（ＩＴＯ層／ＰＥＴ基材）］の構成を有するパターン化ＰＤＬＣフィルムを得た。

［実施例３］
紫外線カット層として、ＵＶ吸収フィルム「Ｕ４－４００ＣＬ」と、ＵＶ吸収ＴＡＣフィルム（富士フイルム社製、「ＴＪ２５ＵＬ」、厚み２５μｍ）とをＰＤＬＣ層側からこの順に貼り合せたこと以外は実施例１と同様にして、［第１導電性基材（ＴＪ２５ＵＬ／Ｕ４－４００ＣＬ／ＰＥＴ基材／ＩＴＯ層）／パターン化ＰＤＬＣ層／第２導電性基材（ＩＴＯ層／ＰＥＴ基材）］の構成を有するパターン化ＰＤＬＣフィルムを得た。

［比較例１］
紫外線カット層を貼り合せる前のパターン化ＰＤＬＣフィルムを比較例１のパターン化ＰＤＬＣフィルムとして用いた。

＜耐光性評価１＞
比較例１のパターン化ＰＤＬＣフィルムの片側から、スーパーキセノンウェザーメーターＳＸ－７５（スガ試験機社製、３０℃、５５％ＲＨ条件）にて、キセノン光を１２０Ｗ／ｍ^２（３００ｎｍ－４００ｎｍ）で１２５時間照射し、所定時間照射後のＰＤＬＣフィルムに電圧を印加し、非照射領域のヘイズを測定した。測定結果を図９に示す。

＜耐光性評価２＞
実施例１～３のパターン化ＰＤＬＣフィルムに第１導電性基材側から、スーパーキセノンウェザーメーターＳＸ－７５（スガ試験機社製、３０℃、５５％ＲＨ条件）にて、キセノン光を１２０Ｗ／ｍ^２（３００ｎｍ－４００ｎｍ）で１２５時間照射した。照射前後のＰＤＬＣフィルムに関して、０Ｖ～５０Ｖの電圧を印加した際の非照射領域のヘイズを測定した。測定結果を用いた紫外線カット層の吸収スペクトルとともに図１０に示す。

図９および図１０から、パターン化ＰＤＬＣフィルムの紫外線に曝露される側に紫外線カット層を設けることにより、非照射領域のヘイズ変化量の減少が抑制されることがわかる。具体的には、実施例１のパターン化ＰＤＬＣフィルムの非照射領域のキセノン光照射前における５０Ｖ電圧印加時および電圧無印加時のヘイズはそれぞれ、３．６％および８６．５％であり、１２５時間照射後における５０Ｖ電圧印加時および電圧無印加時のヘイズはそれぞれ、１５．０％および８２．０％であった。なお、比較例１のパターン化ＰＤＬＣフィルムに対する耐光性評価において、非照射領域のキセノン光照射前における５０Ｖ電圧印加時および電圧無印加時のヘイズはそれぞれ、３．６％および８８．０％であり、１２５時間照射後における５０Ｖ電圧印加時および電圧無印加時のヘイズはそれぞれ、５２．７％および８５．３％であった。また、波長３００ｎｍ～３８０ｎｍの全範囲および波長４００ｎｍにおいて高い吸光度を有する紫外線カット層を設けた実施例３においては、キセノン光照射前後におけるヘイズの変化量の変化率が０．３％以下であり、耐光性に極めて優れることがわかる。

本発明のＰＤＬＣフィルムは、広告、案内板等の表示体、スマートウインドウ等の種々の用途に好適に用いられる。

１００ ＰＤＬＣフィルム
１０ 第１導電性基材
２０ ＰＤＬＣ層
２２ 高分子マトリクス
２４ 液晶液滴
２４ａ 重合性液晶化合物
２４ｂ 非重合性液晶化合物
２４ｃ 液晶ポリマー
３０ 第２導電性基材

Claims (9)

1. 第１導電性基材と、高分子マトリクスと前記高分子マトリクス中に分散した液晶液滴および光重合開始剤とを含む高分子分散型液晶層と、第２導電性基材と、をこの順に含み、
   前記高分子分散型液晶層が、平面視において、電圧の印加によるヘイズの変化量が異なる第１領域と第２領域とを有し、
   前記第１領域における電圧の印加によるヘイズの変化量が、前記第２領域における電圧の印加によるヘイズの変化量よりも小さく、
   前記第２領域における前記液晶液滴が、重合性液晶化合物と非重合性液晶化合物とを含み、
   前記第１領域における前記液晶液滴が、前記重合性液晶化合物の重合体である液晶ポリマーと前記非重合性液晶化合物とを含み、
   前記第１導電性基材が、紫外線カット層を含む、
   高分子分散型液晶フィルム。
2. 前記紫外線カット層の波長３５０ｎｍにおける吸光度が、２以上である、請求項１に記載の高分子分散型液晶フィルム。
3. 前記光重合開始剤の最も長波長側の極大吸収波長をＡｎｍとした場合に、前記紫外線カット層のＡ－３０ｎｍ～Ａ＋５０ｎｍの波長範囲における吸光度が、５以上である、請求項１に記載の高分子分散型液晶フィルム。
4. 前記光重合開始剤の最も長波長側の極大吸収波長をＡｎｍとした場合に、前記紫外線カット層のＡ＋７０ｎｍの波長における吸光度が、１．８以上である、請求項１に記載の高分子分散型液晶フィルム。
5. 前記光重合開始剤が、３００ｎｍ～３４０ｎｍの範囲に極大吸収波長を有する、請求項１に記載の高分子分散型液晶フィルム。
6. 前記第２導電性基材が、紫外線カット層または反射層を含む、請求項１に記載の高分子分散型液晶フィルム。
7. 前記第２領域における前記非重合性液晶化合物と前記重合性液晶化合物との含有重量比（非重合性液晶化合物：重合性液晶化合物）が、９９：１～７０：３０である、請求項１に記載の高分子分散型液晶フィルム。
8. 前記第１領域のヘイズと前記第２領域のヘイズとの差が、電圧の印加によって増大する、請求項１に記載の高分子分散型液晶フィルム。
9. 前記第１領域のヘイズと前記第２領域のヘイズとの差が、電圧の印加によって減少する、請求項１に記載の高分子分散型液晶フィルム。

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