JP2024047013A - ヘッドチップ、液体噴射ヘッド、液体噴射記録装置及びヘッドチップの製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】チャネル（駆動壁）の形状を変更することなく、各吐出チャネル間での吐出性能のばらつきを抑制できるヘッドチップ、液体噴射ヘッド、液体噴射記録装置及びヘッドチップの製造方法を提供する。【解決手段】本開示の一態様に係るヘッドチップにおいて、第１共通電極部及び第２共通電極部のうち駆動壁を挟んでＸ方向で向かい合い、かつ駆動壁に電界を発生させる領域を対向領域とすると、第１上側共通部におけるＺ方向の寸法は、複数の駆動壁間においてＸの第１側に位置する駆動壁からＸ方向の第２側に位置する駆動壁に向かうに従い小さく形成され、第２上側共通部におけるＺ方向の寸法は、複数の駆動壁間においてＸ方向の第２側に位置する駆動壁からＸ方向の第１側に位置する駆動壁に向かうに従い小さく形成され、対向領域におけるＹ方向の寸法は、Ｘ方向の両端側に位置する駆動壁からＸ方向の中央部に位置する駆動壁に向かうに従い小さくなっている。【選択図】図８

Description

本開示は、ヘッドチップ、液体噴射ヘッド、液体噴射記録装置及びヘッドチップの製造方法に関する。

インクジェットプリンタに搭載されるインクジェットヘッドは、インクジェットヘッドに搭載されるヘッドチップを通じて被記録媒体にインクを吐出する。ヘッドチップは、吐出チャネル及び非吐出チャネルが形成されたアクチュエータプレートと、吐出チャネルに連通するノズル孔を有するノズルプレートと、を備えている。吐出チャネル及び非吐出チャネルは、駆動壁を隔てて交互に配列されている。
ヘッドチップにおいて、インクを吐出させるには、駆動壁に形成された電極間に電圧を印加して、駆動壁を厚み滑り変形させる。これにより、吐出チャネル内の容積が変化することで、吐出チャネル内のインクがノズル孔を通じて吐出される。

上述した電極は、チャネル延在方向から見てチャネル配列方向に交差する斜め方向から斜め蒸着を行うことで、各チャネルの内面（駆動壁）に成膜される。しかしながら、斜め蒸着により電極を形成する場合、蒸着源からの距離に応じて電極の蒸着深さが変化する。すなわち、チャネル深さ方向における電極の寸法は、蒸着源から遠いチャネルほど小さくなる。その結果、駆動壁を間に挟んで向かい合う電極同士が対向する領域（以下、対向領域）の面積が各駆動壁ごとに異なる。この場合、電圧印加時における駆動壁の変位量（吐出チャネルの容積変化量）が各駆動壁間で異なることで、インクの吐出速度にばらつきが生じる。これにより、被記録媒体へのインクの着弾タイミングにばらつきが生じ、吐出性能の低下に繋がるという課題があった。

上述した課題に対して、例えば下記特許文献１には、駆動壁の厚さを対向領域の面積ばらつきに応じて変更することで、吐出チャネルの容積変化量を調整する構成が開示されている。

特開２０１８－６９６７８号公報

しかしながら、上述した従来技術にあっては、駆動壁の厚さを変更する場合には、駆動壁の強度等、耐久性に影響が及ぶ可能性がある。

本開示は、チャネル（駆動壁）の形状を変更することなく、各吐出チャネル間での吐出性能のばらつきを抑制できるヘッドチップ、液体噴射ヘッド、液体噴射記録装置及びヘッドチップの製造方法を提供する。

上記課題を解決するために、本開示は以下の態様を採用した。
（１）本開示の一態様に係るヘッドチップは、第１方向に延びるチャネルが前記第１方向に交差する第２方向に複数配列されたアクチュエータプレートと、前記アクチュエータプレートにおいて隣り合う前記チャネル間を仕切る駆動壁のうち前記第２方向の第１側を向く第１側面上に配置された第１電極部、及び前記駆動壁のうち前記第１側とは反対側である前記第２方向の第２側を向く第２側面上に配置された第２電極部を有し、前記アクチュエータプレートのうち前記駆動壁を変形させて前記チャネルの容積を変化させる電極と、を備え、前記第１電極部及び前記第２電極部のうち前記駆動壁を挟んで前記第２方向で向かい合い、かつ前記駆動壁に電界を発生させる領域を対向領域とすると、前記第１電極部における前記第２方向から見て前記第１方向に交差する第３方向の寸法は、複数の前記駆動壁間において前記第２方向の第１側に位置する前記駆動壁から前記第２方向の第２側に位置する前記駆動壁に向かうに従い小さく形成され、前記第２電極部における前記第３方向の寸法は、複数の前記駆動壁間において前記第２側に位置する前記駆動壁から前記第１側に位置する前記駆動壁に向かうに従い小さく形成され、前記対向領域における前記第１方向の寸法は、前記第２方向の両端側に位置する前記駆動壁から前記第２方向の中央部に位置する前記駆動壁に向かうに従い小さくなっている。

駆動壁の側面に対して第３方向の第１側から斜め蒸着によって電極を形成すると、蒸着源から第２方向に離れるに従い各駆動壁の側面に形成される電極の第３方向における寸法が漸次小さくなる。したがって、アクチュエータプレートに対して第２方向の第１側に配置された蒸着源によって第１電極部を形成する場合、複数の駆動壁間において第２方向の第２側端に位置する駆動壁から第２方向の第１側端に位置する駆動壁に向かうに従い第１電極部における第３方向の寸法が小さくなる。アクチュエータプレートに対して第２方向の第２側に配置された蒸着源によって第２電極部を形成する場合、複数の駆動壁間において第２方向の第１側端に位置する駆動壁から第２方向の第２側端に位置する駆動壁に向かうに従い第２電極部における第３方向の寸法が小さくなる。
このような構成の下、本態様によれば、第２方向の両端側に位置する駆動壁から第２方向の中央部に位置する駆動壁に向かうに従い、対向領域における第１方向の寸法を小さくした。これにより、各駆動壁において、対向領域の面積（有効面積）を、蒸着源からの距離に依存することなく設定できる。この場合、チャネル（駆動壁）の形状変更をすることなく、各チャネル間において有効面積が均一化し易くなる。その結果、液体の噴射時において、駆動壁の変位量を均一化することができので、吐出性能のばらつきを抑制できる。

（２）上記（１）の態様に係るヘッドチップにおいて、前記対向領域の面積は、複数の前記駆動壁間で互いに同一になるように設定されていることが好ましい。
本態様によれば、各駆動壁間での有効面積が同一になるように設定することで、噴射性能のばらつきをより確実に抑制できる。

（３）上記（１）又は（２）の態様に係るヘッドチップにおいて、前記対向領域における前記第１方向の第１側端部は、複数の前記駆動壁間において前記第１方向で同じ位置に配置されていることが好ましい。
本態様によれば、複数のチャネル間において各電極部の第１方向の長さを異ならせた場合であっても、各電極部における第１側端部の位置が各チャネル間で揃う。これにより、電極部と外部配線とを接続する端子をアクチュエータプレートの表面に形成する場合に、各電極部を端子に引き回し易くなる。

（４）上記（１）又は（２）の態様に係るヘッドチップにおいて、前記アクチュエータプレートにおける前記第３方向を向く面上には、噴射孔プレートが配置され、前記噴射孔プレートのうち、前記第３方向から見て前記チャネルにおける前記第１方向の中央部に重なり合う位置には、前記チャネルに各別に連通する噴射孔が形成され、前記対向領域における前記第１方向の両端部は、前記第２方向の両端側に位置する駆動壁から前記第２方向の中央部に位置する前記駆動壁に向かうに従い前記第１方向の内側に位置することが好ましい。
本態様によれば、複数の駆動壁間において各電極部の第１方向の長さを異ならせた場合であっても、各駆動壁間において対向領域に対して第１方向の中央部で噴射孔を開口させることができる。これにより、各チャネル間での噴射性能のばらつきをより確実に抑制できる。

（５）上記（１）から（４）の何れかの態様に係るヘッドチップにおいて、前記第１電極部は、前記第３方向の一方側に位置する第１一方側領域、及び前記第１一方側領域に対して前記第３方向の他方側に連なる第１他方側領域を備え、前記第２電極部は、前記第３方向の一方側に位置する第２一方側領域、及び前記第２一方側領域に対して前記第３方向の他方側に連なる第２他方側領域を備え、前記対向領域のうち前記第１一方側領域及び前記第２一方側領域により構成された部分の前記第１方向の寸法は、前記第２方向の両端側に位置する前記駆動壁から前記第２方向の中央部に位置する前記駆動壁に向かうに従い小さくなっていることが好ましい。
本態様によれば、アクチュエータプレートに対して第３方向の両側から駆動配線を形成する場合において、対向領域の第３方向での寸法ばらつきに起因する有効面積のばらつきを、第１一方側領域及び第２一方側領域における第１方向の寸法調整で吸収することができる。

（６）上記（１）から（５）の何れかの態様に係るヘッドチップにおいて、前記第１電極部と前記第１側面との間において、前記第１方向の一部には第１低誘電膜が配置され、前記第２電極部と前記第２側面との間において、前記第１方向の一部には第２低誘電膜が配置され、前記第１低誘電膜及び前記第２低誘電膜における前記第１方向の寸法は、前記第２方向の中央部に位置する駆動壁から前記第２方向の両側に位置する前記駆動壁に向かうに従い小さくなっていることが好ましい。
本態様によれば、第１低誘電膜及び第２低誘電膜における第１方向の寸法を、第２方向の中央部に位置する駆動壁から第２方向の両端側に位置する駆動壁に向かうに従い小さく することで、第２方向の両端側に位置する駆動壁から第２方向の中央部に位置する駆動壁に向かうに従い、対向領域における第１方向の寸法を小さくすることができる。これにより、各駆動壁間において、有効面積が均一化し易くなる。

（７）本開示の一態様に係る液体噴射ヘッドは、上記（１）から（６）の何れかの態様に係るヘッドチップを備えている。
本態様によれば、各吐出チャネル毎の吐出性能のばらつきが少ない高性能な液体噴射ヘッドを提供できる。

（８）本開示の一態様に係る液体噴射記録装置は、上記（７）の態様に係る液体噴射ヘッドを備えている。
本態様によれば、各吐出チャネル毎の吐出性能のばらつきが少ない高性能な液体噴射記録装置を提供できる。

（９）本開示の一態様に係るヘッドチップの製造方法は、第１方向に延びるチャネルが前記第１方向に交差する第２方向に複数配列されたアクチュエータプレートと、前記アクチュエータプレートにおいて隣り合う前記チャネル間を仕切る駆動壁のうち前記第２方向の第１側を向く第１側面上に配置された第１電極部、及び前記駆動壁のうち前記第１側とは反対側である前記第２方向の第２側を向く第２側面上に配置された第２電極部を有し、前記駆動壁を変形させて前記チャネルの容積を変化させる電極と、を備えたヘッドチップの製造方法であって、前記アクチュエータプレートに対して前記第２方向の前記第１側に配置された蒸着源から、前記第１方向から見て前記第２方向に交差する斜め方向に斜め蒸着を行うことで、前記第２方向から見て前記第１方向に交差する第３方向の寸法が、複数の前記駆動壁間において前記第２方向の第１側に位置する前記駆動壁から前記第２方向の第２側に位置する前記駆動壁に向かうに従い小さくなる前記第１電極部を前記第１側面上に成膜する第１蒸着工程と、前記アクチュエータプレートに対して前記第２方向の前記第２側に配置された蒸着源から、前記第１方向から見て前記第２方向に交差する斜め方向に斜め蒸着を行うことで、前記第３方向の寸法が、複数の前記駆動壁間において前記第２側に位置する前記駆動壁から前記第１側に位置する前記駆動壁に向かうに従い小さくなる前記第２電極部を前記第２側面上に成膜する第２蒸着工程と、を備え、前記第１電極部及び前記第２電極部のうち前記駆動壁を挟んで前記第２方向で向かい合う領域を対向領域とすると、前記対向領域における前記第１方向の寸法を、前記第２方向の両端側に位置する前記駆動壁から前記第２方向の中央部に位置する前記駆動壁に向かうに従い小さくする。

（１０）上記（９）の態様に係るヘッドチップの製造方法において、前記第１蒸着工程及び前記第２蒸着工程では、前記第３方向から見て前記アクチュエータプレートと重なり合って配置されたマスクを用いて斜め蒸着を行うことで、前記マスクの開口部を通じて前記第１側面に前記第１電極部が形成されるとともに、前記第２側面に前記第２電極部が形成され、前記開口部は、前記第１方向の寸法が、前記第２方向の中央部に位置する前記駆動壁から前記第２方向の両端側に位置する前記駆動壁に向かうに従い大きくなっていることが好ましい。
本態様によれば、現状のプロセスを変更せず、マスクの形状を変更するだけで、各駆動壁間において有効面積が均一化し易くなる。

（１１）上記（１０）の態様に係るヘッドチップの製造方法において、前記第１蒸着工程では、前記第２方向の中央部に位置する前記駆動壁から前記第２方向の両端側に位置する前記駆動壁に向かうに従い小さくなる第１低誘電膜が前記第１側面に形成された状態で斜め蒸着を行い、前記第２蒸着工程では、前記第２方向の中央部に位置する前記駆動壁から前記第２方向の両側に位置する前記駆動壁に向かうに従い小さくなる第２低誘電膜が前記第２側面に形成された状態で斜め蒸着を行うことが好ましい。
本態様によれば、駆動壁の側面に対して予め低誘電膜を形成しておくことで、駆動壁の側面に第１方向の寸法を一律で電極部を形成した場合であっても、電極部のうち駆動壁の側面に接している部分であって、互いに向かい合う部分のみを対向領域として機能させることができる。

本開示の一態様によれば、チャネル（駆動壁）の形状を変更することなく、各吐出チャネル間での吐出性能のばらつきを抑制できる。

第１実施形態に係るプリンタの概略構成図である。 第１実施形態に係るインクジェットヘッド及びインク循環機構の概略構成図である。 第１実施形態に係るヘッドチップの分解斜視図である。 図３のＩＶ－ＩＶ線に対応する断面図である。 図３のＶ－Ｖ線に対応する断面図である。 図３のＶＩ－ＶＩ線に対応する断面図である。 図３のＶＩＩ矢視図である。 図３のＶＩＩＩ矢視図である。 第１実施形態に係るヘッドチップの製造方法を説明するためのフローチャートである。 第１実施形態に係るヘッドチップの製造方法を説明するための工程図（断面図）である。 第１実施形態に係るヘッドチップの製造方法を説明するための工程図（断面図）である。 第１実施形態に係るヘッドチップの製造方法を説明するための工程図（断面図）である。 第１実施形態に係るヘッドチップの製造方法を説明するための工程図（断面図）である。 第１実施形態に係るヘッドチップの製造方法を説明するための工程図（断面図）である。 第１実施形態に係るヘッドチップの製造方法を説明するための工程図（平面図）である。 第１実施形態に係るヘッドチップの製造方法を説明するための工程図（平面図）である。 第１実施形態に係るヘッドチップの製造方法を説明するための工程図（平面図）である。 第１実施形態に係るヘッドチップの製造方法を説明するための工程図（平面図）である。 第１上側蒸着工程を説明するためのヘッドチップを示す断面図である。 チャネルの配列方向（Ｘ方向）に対するｔａｎβを示すグラフである。 変形例に係るに係るヘッドチップの製造方法を説明するための工程図（平面図）である。 変形例に係るに係るヘッドチップの平面図である。 チャネルの配列方向（Ｘ方向）に対する静電容量を示すグラフである。 変形例に係るに係るヘッドチップの製造方法を説明するための工程図（平面図）である。 変形例に係るに係るヘッドチップの平面図である。 第２実施形態に係るに係るヘッドチップの平面図である。 第２実施形態に係るに係るヘッドチップの製造方法を説明するためのフローチャートである。 第２実施形態に係るに係るヘッドチップの製造方法を説明するための工程図（平面図）である。 第２実施形態に係るに係るヘッドチップの製造方法を説明するための工程図（平面図）である。 第３実施形態に係るヘッドチップの分解斜視図である。 図３０のＸＸＸＩ－ＸＸＸＩ線に対応する断面図である。 図３０のＸＸＸＩＩ－ＸＸＸＩＩ線に対応する断面図である。 図３０のＸＸＸＩＩＩ－ＸＸＸＩＩＩ線に対応する断面図である。 第３実施形態に係るヘッドチップの平面図である。 第３実施形態に係るに係るヘッドチップの製造方法を説明するための工程図（平面図）である。 第３実施形態に係るに係るヘッドチップの製造方法を説明するための工程図（平面図）である。

以下、本開示に係る実施形態について図面を参照して説明する。以下で説明する実施形態や変形例において、対応する構成については同一の符号を付して説明を省略する場合がある。以下の説明において、例えば「平行」や「直交」、「中心」、「同軸」等の相対的又は絶対的な配置を示す表現は、厳密にそのような配置を表すのみならず、公差や同じ機能が得られる程度の角度や距離をもって相対的に変位している状態も表すものとする。以下の実施形態では、インク（液体）を利用して被記録媒体に記録を行うインクジェットプリンタ（以下、単にプリンタという）を例に挙げて説明する。以下の説明に用いる図面では、各部材を認識可能な大きさとするため、各部材の縮尺を適宜変更している。

（第１実施形態）
［プリンタ１］
図１はプリンタ１の概略構成図である。
図１に示すように、第１実施形態のプリンタ（液体噴射記録装置）１は、一対の搬送機構２，３と、インクタンク４と、インクジェットヘッド（液体噴射ヘッド）５と、インク循環機構６と、走査機構７と、を備えている。

以下の説明では、必要に応じてＸ，Ｙ，Ｚの直交座標系を用いて説明する。この場合、Ｘ方向は被記録媒体Ｐ（例えば、紙等）の搬送方向（副走査方向）に一致している。Ｙ方向は走査機構７の走査方向（主走査方向）に一致している。Ｚ方向は、Ｘ方向及びＹ方向に直交する高さ方向（重力方向）を示している。以下の説明では、Ｘ方向、Ｙ方向及びＺ方向のうち、図中矢印側をプラス（＋）側とし、矢印とは反対側をマイナス（－）側として説明する。第１実施形態において、＋Ｚ側は重力方向の上方に相当し、－Ｚ側は重力方向の下方に相当する。

搬送機構２，３は、被記録媒体Ｐを＋Ｘ側に搬送する。搬送機構２，３は、例えばＹ方向に延びる一対のローラ１１，１２をそれぞれ含んでいる。
インクタンク４は、例えばイエロー、マゼンタ、シアン、ブラックの４色のインクが各別に収容されている。各インクジェットヘッド５は、接続されたインクタンク４に応じてイエロー、マゼンタ、シアン、ブラックの４色のインクをそれぞれ吐出可能に構成されている。なお、インクタンク４に収容されるインクは、溶剤に水を使用した水性インク（導電性インク）を用いることが可能である。

図２は、インクジェットヘッド５及びインク循環機構６の概略構成図である。
図１、図２に示すように、インク循環機構６は、インクタンク４とインクジェットヘッド５との間でインクを循環させる。具体的に、インク循環機構６は、インク供給管２１及びインク排出管２２を有する循環流路２３と、インク供給管２１に接続された加圧ポンプ２４と、インク排出管２２に接続された吸引ポンプ２５と、を備えている。

加圧ポンプ２４は、インク供給管２１内を加圧し、インク供給管２１を通してインクジェットヘッド５にインクを送り出している。これにより、インクジェットヘッド５に対してインク供給管２１側は正圧になる。
吸引ポンプ２５は、インク排出管２２内を減圧し、インク排出管２２内を通してインクジェットヘッド５からインクを吸引している。これにより、インクジェットヘッド５に対してインク排出管２２側は負圧になる。インクは、加圧ポンプ２４及び吸引ポンプ２５の駆動により、インクジェットヘッド５とインクタンク４との間を、循環流路２３を通して循環可能となっている。

走査機構７は、インクジェットヘッド５をＹ方向に往復走査させる。走査機構７は、Ｙ方向に延びるガイドレール２８と、ガイドレール２８に移動可能に支持されたキャリッジ２９と、を備えている。

＜インクジェットヘッド５＞
図１に示すように、インクジェットヘッド５は、キャリッジ２９に搭載されている。図示の例では、複数のインクジェットヘッド５が、一つのキャリッジ２９にＹ方向に並んで搭載されている。インクジェットヘッド５は、ヘッドチップ５０（図３参照）と、インク循環機構６及びヘッドチップ５０間を接続するインク供給部（不図示）と、ヘッドチップ５０に駆動電圧を印加する制御部（不図示）と、を備えている。

＜ヘッドチップ５０＞
図３は、ヘッドチップ５０の分解斜視図である。
図３に示すヘッドチップ５０は、後述する吐出チャネル６１における延在方向（Ｙ方向）の中央部からインクを吐出する、いわゆる循環式サイドシュートタイプのヘッドチップ５０である。ヘッドチップ５０は、ノズルプレート５１と、アクチュエータプレート５２と、カバープレート５３と、を備えている。ヘッドチップ５０は、ノズルプレート５１、アクチュエータプレート５２及びカバープレート５３が、この順番にＺ方向（第３方向）に積層された構成である。

アクチュエータプレート５２は、酸化物を含む圧電材料により形成されている。第１実施形態において、アクチュエータプレート５２は、例えばＰＺＴ（チタン酸ジルコン酸鉛）等により形成されている。アクチュエータプレート５２は、例えば分極方向がＺ方向の＋側と－側とで異なる、いわゆるシェブロン基板である。

アクチュエータプレート５２には、チャネル列６０が形成されている。チャネル列６０は、インクが充填される吐出チャネルチャネル）６１、及びインクが充填されない非吐出チャネル（チャネル）６２を有している。各チャネル６１，６２は、アクチュエータプレート５２において、Ｘ方向（第２方向）に間隔をあけた状態で交互に配列されている。第１実施形態では、チャネル延在方向（第１方向）がＹ方向に一致する構成について説明するが、チャネル延在方向がＹ方向に交差していてもよい。

図４は、図３のＩＶ－ＩＶ線に対応する断面図である。
図４に示すように、吐出チャネル６１は、Ｘ方向から見て下方に向けて凸の円弧状に形成されている。吐出チャネル６１は、Ｙ方向の中央部において、アクチュエータプレート５２をＺ方向に貫通している。すなわち、吐出チャネル６１は、アクチュエータプレート５２の上面（＋Ｚ側を向く面）及び下面（－Ｚ側を向く面）上でそれぞれ開口している。吐出チャネル６１は、Ｙ方向の両端部において、Ｙ方向の外側に向かうに従い深さが漸次浅くなっている。

図５は、図３のＶ－Ｖ線に対応する断面図である。
図５に示すように、非吐出チャネル６２は、アクチュエータプレート５２をＺ方向に貫通した状態で、Ｙ方向に直線状に延びている。図３に示すように、アクチュエータプレート５２のうち、隣り合う吐出チャネル６１及び非吐出チャネル６２間に位置する部分は、それぞれ駆動壁６５を構成している。したがって、チャネル６１，６２は、一対の駆動壁６５によってＸ方向の両側が囲まれている。第１実施形態では、チャネル列６０が一列のヘッドチップ５０を例にして説明しているが、チャネル列６０は、Ｙ方向に複数列設けられていてもよい。この場合、隣り合うチャネル列６０を構成する吐出チャネル６１同士は、チャネル列６０の個数をｎとすると、一のチャネル列６０における吐出チャネル６１の配列ピッチに対して１／ｎピッチ毎にずれて配列されていることが好ましい。

図６は、図３のＶＩ－ＶＩ線に対応する断面図である。
図６に示すように、カバープレート５３は、各チャネル６１，６２の上端開口部を覆うように、アクチュエータプレート５２の上面に、接着等によって積層されている。図４に示すように、カバープレート５３において、チャネル列６０の－Ｙ側端部と平面視で重なり合う位置には、入口共通インク室７０が形成されている。入口共通インク室７０は、例えばチャネル列６０を跨る長さでＸ方向に延びるとともに、カバープレート５３の上面で開口している。
入口共通インク室７０において、吐出チャネル６１と平面視で重なり合う位置には、入口スリット７１が形成されている。入口スリット７１は、各吐出チャネル６１の－Ｙ側端部と、入口共通インク室７０内と、の間を各別に連通している。

カバープレート５３において、チャネル列６０の＋Ｙ側端部と平面視で重なり合う位置には、出口共通インク室７５が形成されている。出口共通インク室７５は、例えばチャネル列６０を跨る長さでＸ方向に延びるとともに、カバープレート５３の上面で開口している。
出口共通インク室７５において、非吐出チャネル６２と平面視で重なり合う位置には、出口スリット７６が形成されている。出口スリット７６は、各吐出チャネル６１の＋Ｙ側端部と、出口共通インク室７５内と、の間を各別に連通している。したがって、入口スリット７１及び出口スリット７６は、それぞれ各吐出チャネル６１に連通する一方、非吐出チャネル６２には連通していない。

図６に示すように、ノズルプレート５１は、アクチュエータプレート５２の下面（開口面）に接着等により積層されているノズルプレート５１は、金属材料（ＳＵＳやＮｉ－Ｐｄ等）により厚さが５０μｍ程度に形成されている。但し、ノズルプレート５１は、金属材料の他、樹脂材料（ポリイミド等）、ガラス、シリコン等による単層構造、又は積層構造であってもよい。

ノズルプレート５１には、ノズルプレート５１をＺ方向に貫通する複数のノズル孔７９が形成されている。ノズル孔７９は、例えば上方から下方に向かうに従い内径が漸次縮小するテーパ状に形成されている。ノズル孔７９は、それぞれＸ方向に間隔をあけて配置されている。各ノズル孔７９は、対応する吐出チャネル６１のうちＹ方向の中央部で各別に連通している。したがって、各非吐出チャネル６２は、ノズル孔７９には連通しておらず、ノズルプレート５１により下方から覆われている。

図３に示すように、各ノズル孔７９は、吐出チャネル６１のうちＹ方向の中央部において千鳥状に配列されている。具体的に、一の吐出チャネル６１に連通するノズル孔７９と、一の吐出チャネル６１に対してＸ方向の両側に位置する一対の他の吐出チャネル６１に連通するノズル孔７９に対してＹ方向にずれて配置されている。また、一対の他の吐出チャネル６１に連通するノズル孔７９同士は、Ｙ方向で同じ位置に配置されている。但し、各ノズル孔７９は、Ｘ方向に直線状に配列されていてもよい。

なお、ノズルプレート５１とアクチュエータプレート５２との間に中間プレート（不図示）を介在させてもよい。この場合、吐出チャネル６１とノズル孔７９とは、中間プレートに形成された連通孔を通じて連通させる。

次に、アクチュエータプレート５２に形成された駆動配線について説明する。図７は、図３のＶＩＩ矢視図である。
図７に示すように、アクチュエータプレート５２には、共通配線８１及び個別配線８２が形成されている。

図４、図７に示すように、共通配線８１は、共通電極（電極）８５と、共通端子８６と、を備えている。
共通電極８５は、吐出チャネル６１の内面のうち、Ｘ方向で向かい合う内側面に形成されている。共通電極８５は、吐出チャネル６１の内面において、Ｚ方向の全域に亘って形成されている。なお、共通電極８５の詳細については後述する。

共通端子８６は、アクチュエータプレート５２のうち、吐出チャネル６１に対して－Ｙ側に位置する部分（以下、尾部９０という。）に形成されている。共通端子８６は、尾部９０の下面において、各吐出チャネル６１に対応して設けられている。各共通端子８６は、対応する吐出チャネル６１に対してＹ方向に直線状に延びている。共通端子８６における＋Ｙ側端部は、吐出チャネル６１の下端開口縁において共通電極８５に連なっている。

図４、図７に示すように、個別配線８２は、個別電極８７と、個別端子８８と、バイパス配線８９と、を備えている。
個別電極８７は、各非吐出チャネル６２の内面のうち、Ｘ方向で向かい合う内側面に形成されている。図示の例において、個別電極８７は、非吐出チャネル６２の内面において、Ｚ方向の全域に亘って形成されている。なお、個別電極８７の詳細については後述する。

個別端子８８は、尾部９０の下面において、共通端子８６よりも－Ｙ側に位置する部分に形成されている。個別端子８８は、Ｘ方向に延びる帯状とされている。個別端子８８は、吐出チャネル６１を間に挟んでＸ方向で向かい合う非吐出チャネル６２の下端開口縁において、吐出チャネル６１を間に挟んでＸ方向で向かい合う個別電極８７同士を接続している。尾部９０において、共通端子８６と個別端子８８との間に位置する部分には、区画溝９１が形成されている。区画溝９１は、尾部９０において、Ｘ方向に延びている。区画溝９１は、共通端子８６と個別端子８８とを分離している。

バイパス配線８９は、アクチュエータプレート５２のうち、個別端子８８よりも＋Ｙ側に位置する部分に形成されている。バイパス配線８９は、アクチュエータプレート５２の上面、及び吐出チャネル６１を間に挟んでＸ方向で向かい合う非吐出チャネル６２の両内側面を通じて、吐出チャネル６１を間に挟んでＸ方向で向かい合う個別電極８７同士を接続している。

図４、図５に示すように、尾部９０の下面には、フレキシブルプリント基板９２が圧着されている。フレキシブルプリント基板９２は、尾部９０の下面において、共通端子８６と個別端子８８に接続されている。フレキシブルプリント基板９２は、アクチュエータプレート５２の外側を通って上方に引き出されている。

図８は、図３のＶＩＩＩ矢視図である。
ここで、図４、図６、図８に示すように、上述した共通電極８５は、吐出チャネル６１の内側面（吐出チャネル６１に対して－Ｘ側に位置する駆動壁６５）のうち＋Ｘ側を向く面（以下、＋Ｘ側面という。）に形成された第１共通電極部（第１電極部）１００と、吐出チャネル６１の内側面のうち－Ｘ側を向く面（以下、－Ｘ側面という。）に形成された第２共通電極部（第２電極部）１０１と、を備えている。

第１共通電極部１００は、吐出チャネル６１の＋Ｘ側面（第１側面）において、Ｚ方向の全体に亘って形成されている。第１共通電極部１００は、第１上側共通部（第１一方側電極部）１００ａと、第１下側共通部（第１他方側電極部）１００ｂと、を備えている。
図６に示すように、第１上側共通部１００ａは、第１共通電極部１００の上部領域を構成する。第１上側共通部１００ａの上端縁は、吐出チャネル６１の上端開口縁に達している。

第１上側共通部１００ａの下端縁は、各吐出チャネル６１を構成する複数の駆動壁６５のうち、最も＋Ｘ側に位置する駆動壁６５（以下、＋Ｘ側端の駆動壁６５という。）から最も－Ｘ側に位置する駆動壁６５（以下、－Ｘ側端の駆動壁６５という。）に向かうに従い上方に位置している。すなわち、第１上側共通部１００ａのＺ方向の寸法は、＋Ｘ側端の駆動壁６５から－Ｘ側端の駆動壁６５に向かうに従い、徐々に小さくなっている。

図８に示すように、第１上側共通部１００ａのＹ方向での寸法は、各吐出チャネル６１を構成する複数の駆動壁６５のうちＸ方向の両端側に位置する駆動壁６５（以下、両端側の駆動壁６５Ａ，６５Ｂという。）からＸ方向の中央部に位置する駆動壁６５（以下、中央部の駆動壁６５Ｃという。）に向かうに従い徐々に小さくなっている。第１実施形態において、各第１上側共通部１００ａは、それぞれのＹ方向の中心が一致するように形成されている。すなわち、各第１上側共通部１００ａにおけるＹ方向の両端は、両端側の駆動壁６５から中央部の駆動壁６５に向かうに従い、Ｙ方向の内側に位置している。図４に示すように、第１上側共通部１００ａにおけるＹ方向の最大寸法（両端側の駆動壁６５Ａ，６５Ｂに形成された第１上側共通部１００ａ）は、第１下側共通部１００ｂよりも小さくなっている。

図６に示すように、第１下側共通部１００ｂは、第１共通電極部１００の下部領域を構成する。第１下側共通部１００ｂの下端縁は、吐出チャネル６１の下端開口縁に達している。第１共通電極部１００は、第１下側共通部１００ｂを介して共通端子８６に接続されている（図７参照）。第１下側共通部１００ｂの上端部と、第１上側共通部１００ａの下端部と、が重なり合うことで、第１共通電極部１００が吐出チャネル６１の＋Ｘ側面において、Ｚ方向の全体に亘って形成されている。

第１下側共通部１００ｂの上端縁は、＋Ｘ側端の駆動壁６５Ｂから－Ｘ側端の駆動壁６５Ａに向かうに従い、下方に位置している。すなわち、第１下側共通部１００ｂのＺ方向の寸法は、－Ｘ側端の駆動壁６５Ａから－Ｘ側端の駆動壁６５Ｂに向かうに従い、徐々に小さくなっている。なお、第１上側共通部１００ａと第１下側共通部１００ｂとは、－Ｘ側端の駆動壁６５Ａにおいても、導通が確保できるように（少なくとも一部が重なり合うように）、Ｚ方向の寸法がそれぞれ設定されている。

図７に示すように、第１下側共通部１００ｂにおけるＹ方向の寸法は、各吐出チャネル６１間で同等に形成されている。第１実施形態において、第１下側共通部１００ｂは、吐出チャネル６１の下端開口部におけるＹ方向の寸法と同等に形成されている。

図４、図６、図８に示すように、第２共通電極部１０１は、吐出チャネル６１の－Ｘ側面（第２側面）において、Ｚ方向の全体に亘って形成されている。第２共通電極部１０１は、第２上側共通部（第２一方側電極部）１０１ａと、第２下側共通部（第２他方側電極部）１０１ｂと、を備えている。
第２上側共通部１０１ａは、第２共通電極部１０１の上部領域を構成する。第２上側共通部１０１ａの上端縁は、吐出チャネル６１の上端開口縁に達している。

図６に示すように、第２上側共通部１０１ａの下端縁は、各吐出チャネル６１を構成する複数の駆動壁６５のうち、－Ｘ側端の駆動壁６５から＋Ｘ側端の駆動壁６５に向かうに従い、上方に位置している。すなわち、第２上側共通部１０１ａのＺ方向の寸法は、－Ｘ側端の駆動壁６５から＋Ｘ側端の駆動壁６５に向かうに従い、徐々に小さくなっている。

図８に示すように、第２上側共通部１０１ａのＹ方向での寸法は、両端側の駆動壁６５Ａ，６５Ｂから中央部の駆動壁６５Ｃに向かうに従い徐々に小さくなっている。第１実施形態において、各第２上側共通部１０１ａは、それぞれのＹ方向の中心が一致するように形成されている。すなわち、各第２上側共通部１０１ａにおけるＹ方向の両端は、両端側の駆動壁６５から中央部の駆動壁６５に向かうに従い、Ｙ方向の内側に位置している。第１実施形態において、第２上側共通部１０１ａにおけるＹ方向の最大寸法（両端側の駆動壁６５Ａ，６５Ｂに形成された第２上側共通部１０１ａ）は、第２下側共通部１０１ｂよりも小さくなっている（図４参照）。

図６に示すように、第２下側共通部１０１ｂは、第２共通電極部１０１の下部領域を構成する。第２下側共通部１０１ｂの下端縁は、吐出チャネル６１の下端開口縁に達している。第２共通電極部１０１は、第２下側共通部１０１ｂを介して共通端子８６に接続されている。第２下側共通部１０１ｂの上端部と、第２上側共通部１０１ａの下端部と、が重なり合うことで、第２共通電極部１０１が吐出チャネル６１の－Ｘ側面において、Ｚ方向の全体に亘って形成されている。

各吐出チャネル６１間において、第２下側共通部１０１ｂの上端縁は、－Ｘ側端の駆動壁６５から＋Ｘ側端の駆動壁６５に向かうに従い、下方に位置している。すなわち、第２下側共通部１０１ｂのＺ方向の寸法は、－Ｘ側端の駆動壁６５から－Ｘ側端の駆動壁６５に向かうに従い、徐々に小さくなっている。なお、第２上側共通部１０１ａと第２下側共通部１０１ｂとは、＋Ｘ側端の駆動壁６５Ｂにおいても、導通が確保できるように、Ｚ方向の寸法がそれぞれ設定されている。

図７に示すように、第２下側共通部１０１ｂにおけるＹ方向の寸法は、各吐出チャネル６１間で同等に形成されている。第１実施形態において、第２下側共通部１０１ｂは、吐出チャネル６１の下端開口部におけるＹ方向の寸法と同等に形成されている。

図５、図６、図８に示すように、個別電極８７は、非吐出チャネル６２（駆動壁６５）の＋Ｘ側面（第１側面）に形成された第１個別電極部（第１電極部）１１０と、非吐出チャネル６２（駆動壁６５）の－Ｘ側面（第２側面）に形成された第２個別電極部（第２電極部）１１１と、を備えている。

第１個別電極部１１０は、非吐出チャネル６２の＋Ｘ側面において、Ｚ方向の全体に亘って形成されている。第１個別電極部１１０は、第１上側個別部（第１一方側電極部）１１０ａと、第１下側個別部（第１他方側電極部）１１０ｂと、を備えている。
第１上側個別部１１０ａは、第１個別電極部１１０の上部領域を構成する。第１上側個別部１１０ａは、側面視において、少なくとも吐出チャネル６１と重なり合う範囲に形成されている（図５参照）。第１上側個別部１１０ａの上端縁は、非吐出チャネル６２の上端開口縁に達している。

図６に示すように、第１上側個別部１１０ａの下端縁は、各非吐出チャネル６２を構成する駆動壁６５のうち、最も＋Ｘ側に位置する駆動壁６５（以下、＋Ｘ側端の駆動壁６５Ｅという。）から最も－Ｘ側に位置する駆動壁６５（以下、－Ｘ側端の駆動壁６５Ｄという。）に向かうに従い、上方に位置している。すなわち、第１上側個別部１１０ａのＺ方向の寸法は、＋Ｘ側端の駆動壁６５Ｅから－Ｘ側端の駆動壁６５Ｄに向かうに従い、徐々に小さくなっている。

図８に示すように、第１上側個別部１１０ａのＹ方向での寸法は、各非吐出チャネル６２を構成する複数の駆動壁６５のうちＸ方向の両端側に位置する駆動壁６５（以下、両端側の駆動壁６５Ｄ，６５Ｅという。）からＸ方向の中央部に位置する駆動壁６５（以下、中央部の駆動壁６５Ｃという。）に向かうに従い徐々に小さくなっている。第１実施形態において、各第１上側個別部１１０ａは、それぞれのＹ方向の中心が一致するように形成されている。すなわち、各第１上側個別部１１０ａにおけるＹ方向の両端は、両端側の駆動壁６５Ｄ，６５Ｅから中央部の駆動壁６５Ｃに向かうに従い、Ｙ方向の内側に位置している。第１実施形態において、第１上側個別部１１０ａにおけるＹ方向の寸法は、駆動壁６５を挟んで向かい合う第１上側共通部１００ａにおけるＹ方向の寸法と同等になっている。

図６に示すように、第１下側個別部１１０ｂは、第１個別電極部１１０の下部領域を構成する。第１下側個別部１１０ｂの下端縁は、非吐出チャネル６２の下端開口縁に達している。図７に示すように、第１個別電極部１１０は、第１下側個別部１１０ｂを介して個別端子８８に接続されている。第１下側個別部１１０ｂの上端部と、第１上側個別部１１０ａの下端部と、が重なり合うことで、第１個別電極部１１０が非吐出チャネル６２の＋Ｘ側面において、Ｚ方向の全体に亘って形成されている。

第１下側個別部１１０ｂの上端縁は、＋Ｘ側端の駆動壁６５Ｅから－Ｘ側端の駆動壁６５Ｄに向かうに従い、下方に位置している。すなわち、第１下側個別部１１０ｂのＺ方向の寸法は、＋Ｘ側端の駆動壁６５Ｅから－Ｘ側端の駆動壁６５Ｄに向かうに従い、徐々に小さくなっている。なお、第１上側個別部１１０ａと第１下側個別部１１０ｂとは、－Ｘ側端の駆動壁６５Ｄにおいても、導通が確保できるように（少なくとも一部が重なり合うように）、Ｚ方向の寸法がそれぞれ設定されている。

図７に示すように、第１下側個別部１１０ｂにおけるＹ方向の寸法は、各非吐出チャネル６２間で同等に形成されている。第１実施形態において、第１下側個別部１１０ｂは、非吐出チャネル６２におけるＹ方向の寸法と同等に形成されている。

図５、図６、図８に示すように、第２個別電極部１１１は、非吐出チャネル６２の－Ｘ側面において、Ｚ方向の全体に亘って形成されている。第２個別電極部１１１は、第２上側個別部１１１ａと、第２下側個別部１１１ｂと、を備えている。
第２上側個別部１１１ａは、第２個別電極部１１１の上部領域を構成する。第１実施形態において、第２上側個別部１１１ａは、側面視において、少なくとも吐出チャネル６１と重なり合う範囲に形成されている。第２上側個別部１１１ａの上端縁は、非吐出チャネル６２の上端開口縁に達している。

図６に示すように、第２上側個別部１１１ａの下端縁は、－Ｘ側端の駆動壁６５Ｄから＋Ｘ側端の駆動壁６５Ｅに向かうに従い、上方に位置している。すなわち、第２上側個別部１１１ａのＺ方向の寸法は、－Ｘ側端の駆動壁６５Ｄから＋Ｘ側端の駆動壁６５Ｅに向かうに従い、徐々に小さくなっている。

図８に示すように、第２上側個別部１１１ａのＹ方向での寸法は、両端側の駆動壁６５Ｄ，６５Ｅから中央部の駆動壁６５Ｃに向かうに従い徐々に小さくなっている。第１実施形態において、各第２上側個別部１１１ａは、それぞれのＹ方向の中心が一致している。すなわち、各第２上側個別部１１１ａにおけるＹ方向の両端は、両端側の駆動壁６５Ｄ，６５Ｅから中央部の駆動壁６５Ｃに向かうに従い、Ｙ方向の内側に位置している。第１実施形態において、第２上側個別部１１１ａにおけるＹ方向の寸法は、駆動壁６５を挟んで向かい合う第２上側共通部１０１ａにおけるＹ方向の寸法と同等になっている。

図５、図６、図８に示すように、第２下側個別部１１１ｂは、第２個別電極部１１１の下部領域を構成する。第２下側個別部１１１ｂの下端縁は、非吐出チャネル６２の下端開口縁に達している。第２個別電極部１１１は、第２下側個別部１１１ｂを介して個別端子８８に接続されている（図７参照）。第２下側個別部１１１ｂの上端部と、第２上側個別部１１１ａの下端部と、が重なり合うことで、第２個別電極部１１１が非吐出チャネル６２の－Ｘ側面において、Ｚ方向の全体に亘って形成されている。

図６に示すように、各非吐出チャネル６２間において、第２下側個別部１１１ｂの上端縁は、－Ｘ側端の駆動壁６５Ｄから＋Ｘ側端の駆動壁６５Ｅに向かうに従い、下方に位置している。すなわち、第２下側個別部１１１ｂのＺ方向の寸法は、－Ｘ側端の駆動壁６５Ｄから＋Ｘ側端の駆動壁６５Ｅに向かうに従い、徐々に小さくなっている。第２上側個別部１１１ａと第２下側個別部１１１ｂとは、＋Ｘ側端の駆動壁６５Ｅにおいても、導通が確保できるように、Ｚ方向の寸法がそれぞれ設定されている。

図７に示すように、第２下側個別部１１１ｂにおけるＹ方向の寸法は、各非吐出チャネル６２間で同等に形成されている。第１実施形態において、第２下側個別部１１１ｂは、非吐出チャネル６２におけるＹ方向の寸法と同等に形成されている。

ここで、図６、図８に示すように、吐出チャネル６１と、吐出チャネル６１に対して－Ｘ側で隣り合う非吐出チャネル６２と、の間を仕切る駆動壁６５ａには、＋Ｘ側面に第１共通電極部１００が形成され、－Ｘ側面に第２個別電極部１１１が形成されている。各駆動壁６５ａに形成された第１共通電極部１００及び第２個別電極部１１１のうち、駆動壁６５ａを挟んで向かい合い（Ｘ方向から見て重なり合い）、かつ駆動壁６５ａに対して電界を生じさせる領域を第１対向領域とする。この場合、第１対向領域のうち第１上側共通部１００ａは、＋Ｘ側端の駆動壁６５ａから－Ｘ側端の駆動壁６５ａに向かうに従いＺ方向の寸法が徐々に小さくなる一方、両端側の駆動壁６５ａから中央部の駆動壁６５ａに向かうに従いＹ方向の寸法が徐々に小さくなっている。また、第１対向領域のうち第２上側個別部１１１ａは、－Ｘ側端の駆動壁６５ａから＋Ｘ側端の駆動壁６５ａに向かうに従いＺ方向の寸法が徐々に小さくなっている一方、両端側の駆動壁６５ａから中央部の駆動壁６５ａに向かうに従いＹ方向の寸法が徐々に小さくなっている。これにより、各第１対向領域の面積が各駆動壁６５ａ毎に同一になるように設定されている。

吐出チャネル６１と、吐出チャネル６１に対して＋Ｘ側で隣り合う非吐出チャネル６２と、の間を仕切る駆動壁６５ｂには、－Ｘ側面に第２共通電極部１０１が形成され、＋Ｘ側面に第１個別電極部１１０が形成されている。各駆動壁６５ｂに形成された第２共通電極部１０１及び第１個別電極部１１０のうち、駆動壁６５ｂを挟んで向かい合い（Ｘ方向から見て重なり合い）、かつ駆動壁６５ｂに対して電界を生じさせる領域を第２対向領域とする。この場合、第２対向領域のうち第２上側共通部１０１ａは、－Ｘ側端の駆動壁６５ｂから＋Ｘ側端の駆動壁６５ｂに向かうに従いＺ方向の寸法が徐々に小さくなる一方、両端側の駆動壁６５ｂから中央部の駆動壁６５ｂに向かうに従いＹ方向の寸法が徐々に小さくなっている。また、第２対向領域のうち第１上側個別部１１０ａは、＋Ｘ側端の駆動壁６５ｂから－Ｘ側端の駆動壁６５ｂに向かうに従いＺ方向の寸法が徐々に小さくなっている一方、両端側の駆動壁６５ｂから中央部の駆動壁６５ｂに向かうに従いＹ方向の寸法が徐々に小さくなっている。これにより、各第２対向領域の面積が各駆動壁６５ｂ毎に同一になるように設定されている。第１実施形態では、全ての駆動壁６５ａ，６５ｂにおいて、第１対向領域及び各第２対向領域の面積が同一になっていることが好ましい。

［プリンタ１の動作方法］
次に、プリンタ１を利用して、被記録媒体Ｐに文字や図形等を記録する場合について以下に説明する。
プリンタ１は、初期状態として、各インクタンク４にそれぞれ異なる色のインクが十分に充填されているものとする。インクジェットヘッド５には、インクタンク４内のインクがインク循環機構６を介して充填された状態となっている。

このような初期状態のもと、プリンタ１を作動させると、被記録媒体Ｐが搬送機構２，３のローラ１１，１２に挟み込まれながら＋Ｘ側に搬送される。被記録媒体Ｐの搬送と同時にキャリッジ２９がＹ方向に移動することで、キャリッジ２９に搭載されたインクジェットヘッド５がＹ方向に往復移動する。
インクジェットヘッド５が往復移動する間に、各インクジェットヘッド５よりインクを被記録媒体Ｐに適宜吐出させる。これにより、被記録媒体Ｐに対して文字や画像等の記録を行うことができる。

ここで、各インクジェットヘッド５の動きについて、以下に詳細に説明する。
第１実施形態のような循環式サイドシュートタイプのインクジェットヘッド５では、まず図２に示す加圧ポンプ２４及び吸引ポンプ２５を作動させることで、循環流路２３内にインクを流通させる。この場合、インク供給管２１を流通するインクは、図４に示すように、入口共通インク室７０及び入口スリット７１を通して各吐出チャネル６１内に供給される。各吐出チャネル６１内に供給されたインクは、各吐出チャネル６１をＹ方向に流通する。その後、インクは、出口スリット７６を通じて出口共通インク室７５に排出された後、インク排出管２２を通してインクタンク４に戻される。これにより、インクジェットヘッド５とインクタンク４との間でインクを循環させることができる。

キャリッジ２９（図１参照）の移動によってインクジェットヘッド５の往復移動が開始されると、フレキシブルプリント基板９２を介して共通電極８５及び個別電極８７間に駆動電圧が印加される。この際、個別電極８７を駆動電位Ｖｄｄとし、共通電極８５を基準電位ＧＮＤとして各電極８５，８７間に駆動電圧を印加する。すると、各駆動壁６５のうち、各対向領域で挟まれた部分に電界が生じることで、各駆動壁６５がＺ方向の中間部分を中心にしてＶ字状に屈曲変形する。すなわち、駆動壁６５は吐出チャネル６１の容積が拡大するように変形する。

各吐出チャネル６１の容積を増大させた後、共通電極８５及び個別電極８７間に印加した電圧をゼロにする。すると、駆動壁６５が復元し、一旦増大した吐出チャネル６１の容積が元の容積に戻る。これにより、吐出チャネル６１の内部の圧力が増加し、インクが加圧される。その結果、インクがノズル孔７９を通じて液滴状に吐出される。ノズル孔７９から吐出されたインクが被記録媒体Ｐ上に着弾することで、被記録媒体Ｐに文字や画像等を記録することができる。

［ヘッドチップ５０の製造方法］
次に、ヘッドチップ５０の製造方法について説明する。図９は、ヘッドチップ５０の製造方法を示すフローチャートである。図１０～図１８は、ヘッドチップ５０の製造方法を説明するための工程図である。以下の説明では、便宜上、ヘッドチップ５０をチップレベルで製造する場合を例にして説明する。
図９に示すように、ヘッドチップ５０の製造方法は、上面パターン形成工程Ｓ１と、アクチュエータプレート加工工程Ｓ２と、第１配線形成工程Ｓ３と、カバープレート接合工程Ｓ４と、グラインド工程Ｓ５と、下面パターン形成工程Ｓ６と、第２配線形成工程Ｓ７と、ノズルプレート接合工程Ｓ８と、を備えている。

上面パターン形成工程Ｓ１では、アクチュエータプレート５２の上面に対してマスクパターン（不図示）を形成する。具体的には、アクチュエータプレート５２の上面にマスク材料（例えば、レジスト膜）を形成した後、フォトリソグラフィ技術を用いてマスク材料をパターニングする。マスクパターンには、バイパス配線８９の形成領域のうち、アクチュエータプレート５２の上面に位置する部分にマスク開口が形成されている。なお、上面パターン形成工程Ｓ１に代えて、第１配線形成工程Ｓ３の後、レーザー照射等によってアクチュエータプレート５２の上面上に形成された不要な導電材料を除去してもよい。

図１０、図１５に示すように、アクチュエータプレート加工工程Ｓ２では、アクチュエータプレート５２のうち、吐出チャネル６１及び非吐出チャネル６２の形成領域に対してアクチュエータプレート５２の上方からダイサーを進入させる。この際、マスクパターンのうち各チャネル６１，６２の形成領域に位置する部分が、ダイサーによってアクチュエータプレート５２とともに一括して切削される。なお、ダイサーの進入量は、後のグラインド工程Ｓ５でのアクチュエータプレート５２の仕上がり厚さよりも大きく設定する。

図１１、図１６に示すように、第１配線形成工程Ｓ３では、アクチュエータプレート５２の上方から電極材料を成膜することで、バイパス配線８９、上側共通部１００ａ，１０１ａ及び上側個別部１１０ａ，１１１ａを形成する。第１配線形成工程Ｓ３では、アクチュエータプレート５２の上面に上面側メタルマスク１３５をセットした状態で、第１上側蒸着工程（第１蒸着工程）Ｓ３ａと第２上側蒸着工程（第２蒸着工程）Ｓ３ｂとを行う。各上側蒸着工程Ｓ３ａ，Ｓ３ｂでは、Ｙ方向から見てアクチュエータプレート５２の上面に交差する斜め方向から電極材料を斜め蒸着する。具体的に、第１上側蒸着工程Ｓ３ａでは、アクチュエータプレート５２の上方であって、アクチュエータプレート５２に対して＋Ｘ側に配置された蒸着源１３６から、各駆動壁６５の＋Ｘ側面に対して斜め蒸着を行う（図１６参照）。第２上側蒸着工程Ｓ３ｂでは、アクチュエータプレート５２に対して－Ｘ側に配置された蒸着源１３６から、各駆動壁６５の－Ｘ側面に対して斜め蒸着を行う（図１７参照）。

上面側メタルマスク１３５には、第１マスク開口１３５ａ及び第２マスク開口１３５ｂが形成されている。第１マスク開口１３５ａは、上面側メタルマスク１３５のうち上側共通部１００ａ，１０１ａ及び上側個別部１１０ａ，１１１ａの形成領域に平面視で重なる部分が、チャネル列６０全体に亘って一括して開口している。第１マスク開口１３５ａは、Ｘ方向の両端側から中心に向かうに従い、Ｙ方向の寸法が徐々に縮小している。第１実施形態では、第１マスク開口１３５ａの開口縁のうち、Ｙ方向で向かい合う対向縁同士がＸ方向の両端側から中心に向かうに従いＹ方向の内側に延びている。第２マスク開口１３５ｂは、上面側メタルマスク１３５のうちバイパス配線８９の形成領域に平面視で重なる部分が、各チャネル列６０全体に亘って一括して開口している。

以下、第１マスク開口１３５ａの設定方法について説明する。図１９は、第１上側蒸着工程Ｓ３ａを説明するためのヘッドチップ５０を示す断面図である。
図１９に示すように、各チャネル６１，６２の内側面（成膜面）に対して斜め蒸着を行う場合、蒸着源１３６から成膜面までのＸ方向の距離に応じて蒸着深さＤ（Ｄ１，Ｄ２…）が異なる。具体的に、蒸着源とチャネル６１，６２の上端開口部との間のＸ方向の距離をｘ（ｘ１，ｘ２…）、アクチュエータプレート５２の上面と蒸着源１３６とのＺ方向の寸法をｚ、チャネル６１，６２の上端開口部におけるＸ方向の寸法をｓとした場合、以下の式（１）が成り立つ。
ｔａｎβ＝ｓ／Ｄ＝ｘ／ｚ…（１）
式（１）より、蒸着深さＤは式（２）の通り表される。
Ｄ＝ｓ／ｔａｎβ＝ｓｚ／ｘ…（２）
式（２）より、蒸着深さＤは、ｔａｎβ（β１，β２…）が大きくなるに従い（蒸着源１３６からＸ方向に離れるに従い）浅くなることが分かる。

図６、図８に示すように、対向領域を設定するにあたっては、一の駆動壁６５に形成された共通電極部１００及び個別電極部１１０のうち、面積の小さい電極部が支配的となる。ヘッドチップ５０では、上側共通部１００ａ，１０１ａ及び下側共通部１００ｂ，１０１ｂ同士、並びに上側個別部１１０ａ，１１１ａ及び下側個別部１１０ｂ，１１１ｂ同士でＹ方向の寸法が異なっている。具体的に、下側共通部１００ｂ，１０１ｂ及び下側個別部１１０ｂ，１１１ｂについては、端子８６，８８に接続する関係で、Ｙ方向の寸法を調整することが難しい。一方、上側共通部１００ａ，１０１ａは、Ｙ方向の寸法を吐出チャネル６１の下端開口部よりも大きく形成してしまうと、グラインド工程Ｓ５の際にＹ方向の両端部が吐出チャネル６１におけるＹ方向の両端縁とともに削られてしまい、バリが発生する可能性がある。したがって、上側共通部１００ａ，１０１ａ及び上側個別部１１０ａ，１１１ａについては、グラインド工程Ｓ５で発生するバリを抑制するために、Ｙ方向の寸法を吐出チャネル６１の下端開口部（下側共通部１００ｂ，１０１ｂ及び下側個別部１１０ｂ，１１１ｂ）よりも小さくする必要がある。この場合、従来のヘッドチップのように、上側共通部１００ａ，１０１ａ及び上側個別部１１０ａ，１１１ａのＹ方向での寸法を各駆動壁６５間で同一に設定した場合には、両端側に位置する駆動壁６５において、上側共通部１００ａ，１０１ａ及び上側個別部１１０ａ，１１１ａの何れかの蒸着深さＤが最小となる。そのため、対向領域の面積は、両端側の駆動壁６５で最小となり、両端側の駆動壁６５から中央部の駆動壁６５に向かうに従い徐々に大きくなる。

図２０は、チャネル６１，６２の配列方向（Ｘ方向）に対するｔａｎβ（蒸着深さＤの理論値）を示すグラフである。具体的に、図２０に示すグラフは、Ｘ方向を横軸とした上で、各チャネル６１，６２でのｔａｎβの値をプロットしたものである。図２０において、実線は第１上側蒸着工程Ｓ３ａを示し、破線は第２上側蒸着工程Ｓ３ｂを示している。
図２０に示すように、蒸着源１３６の高さｚを一定とした場合、蒸着源１３６からの距離ｘが増加するに従い、ｔａｎβが増加することが分かる。式（２）より、蒸着深さＤはｔａｎβに対して反比例することから、チャネル６１，６２の上端開口部の寸法ｓと、蒸着源１３６の高さｚを一定とした場合、蒸着深さＤは蒸着源１３６からのＸ方向の距離に対して反比例する。

そこで、駆動壁６５毎の上側共通部１００ａ，１０１ａ及び上側個別部１１０ａ，１１１ａにおけるｔａｎβ（蒸着深さＤ）の大きさに合わせて、上側共通部１００ａ，１０１ａ及び上側個別部１１０ａ，１１１ａのＹ方向の寸法（蒸着長さ）を調整する。具体的には、中央部の駆動壁６５Ｃでの上側共通部１００ａ，１０１ａ及び上側個別部１１０ａ，１１１ａのＹ方向の寸法が最小となり、両端側の駆動壁６５Ａ，６５Ｂ，６５Ｄ，６５Ｅでの上側共通部１００ａ，１０１ａ及び上側個別部１１０ａ，１１１ａのＹ方向の寸法が最大となるように、第１マスク開口１３５ａのＹ方向の寸法を調整する。すなわち、中央部の駆動壁６５Ｃと両端側の駆動壁６５Ａ，６５Ｂ，６５Ｄ，６５Ｅとの間のｔａｎβ（蒸着深さＤ）の差分をａとすると、中央部の駆動壁６５Ｃと両端側の駆動壁６５Ａ，６５Ｂ，６５Ｄ，６５Ｅとの間でＹ方向の寸法（蒸着長さ）をａだけ異ならせる。第１実施形態では、各駆動壁６５間において、蒸着長さの調整量を、１：１の割合でＹ方向の両側に分配している。すなわち、第１マスク開口１３５ａのうちＹ方向で向かい合う対向縁同士がＸ方向の両端側から中心に向かうに従いＹ方向の内側に延びている。なお、蒸着長さをＹ方向の両側で分配するにあたって、分配率は１：１以外であってもよい。

図１１、図１６に示すように、上述した上面側メタルマスク１３５を用いて第１上側蒸着工程Ｓ３ａを行うことで、バイパス配線８９、第１上側共通部１００ａ及び第１上側個別部１１０ａが形成される。具体的に、バイパス配線８９は、アクチュエータプレート５２の上面及び非吐出チャネル６２の＋Ｘ側面に跨って形成される。また、第１上側共通部１００ａ及び第１上側個別部１１０ａは、＋Ｘ側端の駆動壁６５Ｂ，６５Ｅから－Ｘ側端の駆動壁６５Ａ，６５Ｄに向かうに従いＺ方向の寸法が徐々に小さくなる一方、両端側の駆動壁６５Ａ，６５Ｂ，６５Ｄ，６５Ｅから中央部の駆動壁６５Ｃに向かうに従いＹ方向の寸法が徐々に小さくなるように形成される。

図１２、図１７に示すように、第２上側蒸着工程Ｓ３ｂでは、第１上側蒸着工程Ｓ３ａに対してアクチュエータプレート５２の中心回りにアクチュエータプレート５２を１８０°反転させた状態で、アクチュエータプレート５２に対して斜め蒸着を行う。これにより、バイパス配線８９のうち、アクチュエータプレート５２の上面及び非吐出チャネル６２の－Ｘ側面に位置する部分が形成される。また、第２上側共通部１０１ａ及び第２上側個別部１１１ａは、－Ｘ側端の駆動壁６５Ａ，６５Ｄから＋Ｘ側端の駆動壁６５Ｂ，６５Ｅに向かうに従いＺ方向の寸法が徐々に小さくなる一方、両端側の駆動壁６５Ａ，６５Ｂ，６５Ｄ，６５Ｅから中央部の駆動壁６５Ｃに向かうに従いＹ方向の寸法が徐々に小さくなるように形成される。なお、第１配線形成工程Ｓ３の終了後は、上面側メタルマスク１３５を取り外し、リフトオフ等によってマスクパターンを除去する。

図１３に示すように、カバープレート接合工程Ｓ４では、アクチュエータプレート５２の上面に対し、接着剤を介してカバープレート５３を貼り付ける。これにより、アクチュエータプレート５２及びカバープレート５３が積層された積層体が形成される。

図１４に示すように、グラインド工程Ｓ５では、アクチュエータプレート５２の下面に対してグラインド加工を施す（図１３中鎖線参照）。この際、吐出チャネル６１及び非吐出チャネル６２がアクチュエータプレート５２の下面で開口するまでアクチュエータプレート５２をグラインドする。

下面パターン形成工程Ｓ６では、アクチュエータプレート５２の下面に対して、共通端子８６及び個別端子８８の形成領域が開口するマスクパターン（不図示）を形成する。なお、下面パターン形成工程Ｓ６に代えて、第２配線形成工程Ｓ７の後、レーザー照射等によってアクチュエータプレート５２の下面上に形成された不要な導電材料を除去してもよい。

図１８に示すように、第２配線形成工程Ｓ７では、アクチュエータプレート５２の下方から電極材料を成膜することで、共通端子８６、個別端子８８、下側共通部１００ｂ，１０１ｂ及び下側個別部１１０ｂ，１１１ｂを形成する。第２配線形成工程Ｓ７では、アクチュエータプレート５２の下面に下面側メタルマスク１４１をセットした状態で、上述した第１配線形成工程Ｓ３と同様に、アクチュエータプレート５２に対して＋Ｘ側及び－Ｘ側から斜め蒸着を行う。下面側メタルマスク１４１に形成されたマスク開口１４１ａは、共通端子８６、個別端子８８、下側共通部１００ｂ，１０１ｂ及び下側個別部１１０ｂ，１１１ｂの形成領域と平面視で重なる部分が、チャネル列６０の全体に亘って一括して開口している。これにより、アクチュエータプレート５２の下面に共通端子８６及び個別端子８８が形成され、吐出チャネル６１の下端開口部を通じて下側共通部１００ｂ，１０１ｂが形成され、非吐出チャネル６２の下端開口部を通じて下側個別部１１０ｂ，１１１ｂが形成される。なお、第２配線形成工程Ｓ７の終了後は、下面側メタルマスク１４１を取り外し、リフトオフ等によってマスクパターンを除去する。また、第２配線形成工程Ｓ７の後、アクチュエータプレート５２の下面に対して区画溝９１を形成する。

ノズルプレート接合工程Ｓ８では、ノズル孔７９と吐出チャネル６１とを位置合わせした状態で、アクチュエータプレート５２の下面に接着剤を介してノズルプレート５１を貼り付ける。
以上により、ヘッドチップ５０が製造される。なお、ノズルプレート５１とアクチュエータプレート５２との間に中間プレートを介在させる場合には、第２配線形成工程Ｓ７とノズルプレート接合工程Ｓ８との間に、中間プレート接合工程を行う。中間プレート接合工程では、アクチュエータプレート５２の下面に対し、接着剤を介して中間プレートを接合する。

このように、本実施形態のヘッドチップ５０において、第１上側共通部１００ａは、両端側の駆動壁６５Ａ，６５Ｂから中央部の駆動壁６５Ｃに向かうに従いＹ方向の寸法が徐々に小さくなっており、第２上側個別部１１１ａは、両端側の駆動壁６５Ｄ，６５Ｅから中央部の駆動壁６５Ｃに向かうに従いＹ方向の寸法が徐々に小さくなっている構成とした。また、第２上側共通部１０１ａは、両端側の駆動壁６５Ａ，６５Ｂから中央部の駆動壁６５Ｃに向かうに従いＹ方向の寸法が徐々に小さくなっており、第１上側個別部１１０ａは、両端側の駆動壁６５Ｄ，６５Ｅから中央部の駆動壁６５Ｃに向かうに従いＹ方向の寸法が徐々に小さくなっている構成とした。
この構成によれば、各チャネル６１，６２（駆動壁６５）において、対向領域の面積（有効面積）を、蒸着源１３６からの距離に依存することなく設定できる。この場合、チャネル６１，６２（駆動壁６５）の形状変更をすることなく、各チャネル６１，６２間において、有効面積が均一化し易くなる。その結果、インク吐出時において、駆動壁６５の変位量を均一化することができるので、吐出性能のばらつきを抑制できる。
しかも、第１上側蒸着工程Ｓ３ａにおいて、Ｙ方向の寸法が両端側の駆動壁６５Ａ，６５Ｂ，６５Ｄ，６５Ｅから中央部の駆動壁６５Ｃに向かうに従いＹ方向の寸法が徐々に小さい第１マスク開口１３５ａが形成された上面側メタルマスク１３５を用いて斜め蒸着を行うことで、現状のプロセスを変更せず、各チャネル６１，６２間において有効面積が均一化し易くなる。

本実施形態では、各対向領域の面積が各チャネル６１，６２（駆動壁６５）間で互いに同一になるように設定されている構成とした。
この構成によれば、各駆動壁６５間での有効面積が同一になるように設定することで、吐出性能のばらつきをより確実に抑制できる。

本実施形態のヘッドチップ５０において、対向領域におけるＹ方向両端部は、Ｘ方向の両端側に位置する駆動壁６５Ａ，６５Ｂ，６５Ｄ，６５Ｅから中央部に位置する駆動壁６５Ｃに向かうに従いＹ方向の内側に位置する構成とした。
この構成によれば、複数の駆動壁６５間において各電極部１００，１０１のＹ方向の長さを異ならせた場合であっても、各駆動壁６５間において対向領域に対してＹ方向の中央部でノズル孔７９を開口させることができる。これにより、各チャネル６１，６２間での吐出性能のばらつきをより確実に抑制できる。

本実施形態のヘッドチップ５０において、共通電極部１００，１０１は、上方に位置する上側共通部１００ａ，１０１ａ及び下方に位置する下側共通部１００ｂ，１０１ｂを備え、個別電極部１１０，１１１は、上方に位置する上側個別部１１０ａ，１１１ａ及び下方に位置する下側個別部１１０ｂ，１１１ｂを備え、対向領域のうち上側共通部１００ａ，１０１ａ及び上側個別部１１０ａ，１１１ａのＹ方向の寸法は、両端側の駆動壁６５Ａ，６５Ｂ，６５Ｄ，６５Ｅから中央部の駆動壁６５Ｃに向かうに従い小さくなっている構成とした。
この構成によれば、アクチュエータプレート５２に対してＺ方向の両側から駆動配線を形成する場合において、対向領域のＺ方向での寸法ばらつきに起因する有効面積のばらつきを、上側共通部１００ａ，１０１ａ及び上側個別部１１０ａ，１１１ａにおけるＹ方向の寸法調整で吸収することができる。

本実施形態のインクジェットヘッド５及びプリンタ１は、上述したヘッドチップ５０を備えているので、各吐出チャネル６１毎の吐出性能のばらつきが少ない高性能なインクジェットヘッド５及びプリンタ１を提供できる。

なお、上述した第１実施形態では、上面側メタルマスク１３５の第１マスク開口１３５ａをｔａｎβの理論値に合わせて設定したが、この構成に限られない。例えば図２１に示す上面側メタルマスク１３５のように、図２０に示すグラフを直線近似したものに合わせて第１マスク開口１３５ａを設定してもよい。この場合、第１マスク開口１３５ａにおけるＹ方向で向かい合う端縁を直線状に形成することができるので、上面側メタルマスク１３５の加工性を向上させることができる。

そして、図２１に示す上面側メタルマスク１３５を用いて第１配線形成工程Ｓ３を行うことで、図２２に示すように、上側共通部１００ａ，１０１ａ及び上側個別部１１０ａ，１１１ａのＹ方向の寸法が、両端側の駆動壁６５Ａ，６５Ｂ，６５Ｄ，６５Ｅから中央部の駆動壁６５Ｃに向かうに従い直線状に小さくなる。

第１マスク開口１３５ａは、従来のヘッドチップにおける各駆動壁６５での静電容量のシミュレーション結果に合わせて設定してもよい。なお、従来のヘッドチップとは、上側共通部及び上側個別部のＹ方向の寸法が各駆動壁６５間で同一のものである。

図２３は、従来のヘッドチップにおいて、チャネル６１，６２の配列方向（Ｘ方向）に対する各駆動壁６５での静電容量の大きさを示すグラフである。
図２３に示すグラフのように、従来のヘッドチップでは、対向領域の面積が両端側の駆動壁６５Ａ，６５Ｂ，６５Ｄ，６５Ｅから中央部の駆動壁６５Ｃに向かうに従い徐々に大きくなることから、静電容量についても両端側の駆動壁６５Ａ，６５Ｂ，６５Ｄ，６５Ｅから中央部の駆動壁６５Ｃに向かうに従い徐々に大きくなる。したがって、各駆動壁６５での静電容量の大きさに合わせて上側共通部１００ａ，１０１ａ及び上側個別部１１０ａ，１１１ａのＹ方向の寸法する場合においても、上述した第１実施形態と同様に、中央部の駆動壁６５Ｃでの上側共通部１００ａ，１０１ａ及び上側個別部１１０ａ，１１１ａのＹ方向の寸法が最小となり、両端側の駆動壁６５Ａ，６５Ｂ，６５Ｄ，６５Ｅでの上側共通部１００ａ，１０１ａ及び上側個別部１１０ａ，１１１ａのＹ方向の寸法が最大となるように、第１マスク開口１３５のＹ方向の寸法が調整される。なお、各駆動壁６５での静電容量の大きさは、チャネル列６０全体で円弧状に表される。そのため、図２４に示すように、静電容量の大きさに合わせて第１マスク開口１３５ａを設定する場合には、第１マスク開口１３５ａのうちＹ方向で向かい合う端縁がＸ方向の中心に向かうに従いＹ方向の内側に向けて凸の円弧状に形成される。

そして、図２４に示す上面側メタルマスク１３５を用いて第１配線形成工程Ｓ３を行うことで、図２５に示すように、上側共通部１００ａ，１０１ａ及び上側個別部１１０ａ，１１１ａのＹ方向の寸法が、両端側の駆動壁６５Ａ，６５Ｂ，６５Ｄ，６５Ｅから中央部の駆動壁６５Ｃに向かうに従い円弧状に小さくなる。

（第２実施形態）
図２６は、第２実施形態に係るヘッドチップ５０の平面図である。第２実施形態では、上側共通部１００ａ及び上側個別部１１０ａと駆動壁６５との間に、低誘電膜２００ａ～２００ｄを介在させることで、対向領域の調整を行う点で第１実施形態と相違している。

図２６に示すように、低誘電膜２００ａ～２００ｄは、第１共通側低誘電膜２００ａと、第２共通側低誘電膜２００ｂと、第１個別側低誘電膜２００ｃと、第２個別側低誘電膜２００ｄと、を含んでいる。低誘電膜２００ａ～２００ｄは、誘電率が低い材料（例えばＳｉＯ_２等）により形成された薄膜である。

第１共通側低誘電膜２００ａは、各吐出チャネル６１の内側面のうち＋Ｘ側面において、Ｙ方向の両端部に一対ずつ形成されている。各第１共通側低誘電膜２００ａの上端縁は、吐出チャネル６１の上端開口縁に達している。第１共通側低誘電膜２００ａのＺ方向の寸法は、対応する各吐出チャネル６１の＋Ｘ側面に形成された第１上側共通部１００ａと同様に、＋Ｘ側端の駆動壁６５から－Ｘ側端の駆動壁６５に向かうに従い、徐々に小さくなっている。

各吐出チャネル６１の＋Ｘ側面に形成された一対の第１共通側低誘電膜２００ａにおいて、それぞれのＹ方向の寸法は、両端側の駆動壁６５Ａ，６５Ｂから中央部の駆動壁６５Ｃに向かうに従い徐々に大きくなっている。各吐出チャネル６１の＋Ｘ側面に形成された一対の第１共通側低誘電膜２００ａにおいて、Ｙ方向の外側端縁の位置は、各吐出チャネル６１間で一致している。各吐出チャネル６１の＋Ｘ側面に形成された一対の第１共通側低誘電膜２００ａにおいて、Ｙ方向の内側端縁の位置は、両端側の駆動壁６５Ａ，６５Ｂから中央部の駆動壁６５Ｃに向かうに従いＹ方向の内側に位置している。

第２共通側低誘電膜２００ｂは、各吐出チャネル６１の内側面のうち－Ｘ側面において、Ｙ方向の両端部に一対ずつ形成されている。各第２共通側低誘電膜２００ｂの上端縁は、吐出チャネル６１の上端開口縁に達している。第２共通側低誘電膜２００ｂのＺ方向の寸法は、対応する各吐出チャネル６１の－Ｘ側面に形成された第２上側共通部１０１ａと同様に、－Ｘ側端の駆動壁６５Ａから＋Ｘ側端の駆動壁６５Ｂに向かうに従い、徐々に小さくなっている。

各吐出チャネル６１の－Ｘ側面に形成された一対の第２共通側低誘電膜２００ｂにおいて、それぞれのＹ方向の寸法は、両端側の駆動壁６５Ａ，６５Ｂから中央部の駆動壁６５Ｃに向かうに従い徐々に大きくなっている。各吐出チャネル６１の－Ｘ側面に形成された一対の第２共通側低誘電膜２００ｂにおいて、Ｙ方向の外側端縁の位置は、各吐出チャネル６１間で一致している。各吐出チャネル６１の＋Ｘ側面に形成された一対の第２共通側低誘電膜２００ｂにおいて、Ｙ方向の内側端縁の位置は、両端側の駆動壁６５Ａ，６５Ｂから中央部の駆動壁６５Ｃに向かうに従いＹ方向の内側に位置している。

第１個別側低誘電膜２００ｃは、各非吐出チャネル６２の内側面のうち＋Ｘ側面において、側面視で吐出チャネル６１におけるＹ方向の両端部に重なり合う部分に一対ずつ形成されている。各第１個別側低誘電膜２００ｃの上端縁は、非吐出チャネル６２の上端開口縁に達している。第１個別側低誘電膜２００ｃのＺ方向の寸法は、対応する各非吐出チャネル６２の＋Ｘ側面に形成された第１上側個別部１１０ａと同様に、＋Ｘ側端の駆動壁６５Ｅから－Ｘ側端の駆動壁６５Ｄに向かうに従い、徐々に小さくなっている。

各非吐出チャネル６２の＋Ｘ側面に形成された一対の第１個別側低誘電膜２００ｃにおいて、それぞれのＹ方向の寸法は、両端側の駆動壁６５Ｄ，６５Ｅから中央部の駆動壁６５Ｃに向かうに従い徐々に大きくなっている。各非吐出チャネル６２の＋Ｘ側面に形成された一対の第１個別側低誘電膜２００ｃにおいて、Ｙ方向の外側端縁の位置は、各非吐出チャネル６２間で一致している。各非吐出チャネル６２の＋Ｘ側面に形成された一対の第１個別側低誘電膜２００ｃにおいて、Ｙ方向の内側端縁の位置は、両端側の駆動壁６５Ｄ，６５Ｅから中央部の駆動壁６５Ｃに向かうに従いＹ方向の内側に位置している。

第２個別側低誘電膜２００ｄは、各非吐出チャネル６２の内側面のうち－Ｘ側面において、側面視で吐出チャネル６１におけるＹ方向の両端部に重なり合う部分に一対ずつ形成されている。各第２個別側低誘電膜２００ｄの上端縁は、非吐出チャネル６２の上端開口縁に達している。第２個別側低誘電膜２００ｄのＺ方向の寸法は、対応する各非吐出チャネル６２の－Ｘ側面に形成された第２上側個別部１１１ａと同様に、－Ｘ側端の駆動壁６５Ｄから＋Ｘ側端の駆動壁６５Ｅに向かうに従い、徐々に小さくなっている。

各非吐出チャネル６２の＋Ｘ側面に形成された一対の第２個別側低誘電膜２００ｄにおいて、それぞれのＹ方向の寸法は、両端側の駆動壁６５Ｄ，６５Ｅから中央部の駆動壁６５Ｃに向かうに従い徐々に大きくなっている。各非吐出チャネル６２の－Ｘ側面に形成された一対の第２個別側低誘電膜２００ｄにおいて、Ｙ方向の外側端縁の位置は、各非吐出チャネル６２間で一致している。各非吐出チャネル６２の－Ｘ側面に形成された一対の第２個別側低誘電膜２００ｄにおいて、Ｙ方向の内側端縁の位置は、両端側の駆動壁６５Ｄ，６５Ｅから中央部の駆動壁６５Ｃに向かうに従いＹ方向の内側に位置している。

第２実施形態において、第１上側共通部１００ａ及び第２上側共通部１０１ａは、各吐出チャネル６１間において、Ｙ方向の寸法が同等に形成されている。具体的に、第１上側共通部１００ａ及び第２上側共通部１０１ａは、吐出チャネル６１におけるＹ方向のほぼ全域に亘って延びている。すなわち、第１上側共通部１００ａのうち、Ｙ方向の両端部は、第１共通側低誘電膜２００ａを挟んで吐出チャネル６１の＋Ｘ側面上に配置されている。一方、第２上側共通部１０１ａのうち、Ｙ方向の両端部は、第２個別側低誘電膜２００ｄを挟んで非吐出チャネル６２の－Ｘ側面上に配置されている。

第１上側個別部１１０ａ及び第２上側個別部１１１ａは、各非吐出チャネル６２間において、Ｙ方向の寸法が同等に形成されている。第２実施形態において、第１上側個別部１１０ａ及び第２上側個別部１１１ａは、上側共通部１００ａ，１０１ａとＹ方向で同等の寸法に形成されている。第１上側個別部１１０ａのうち、Ｙ方向の両端部は、第１個別側低誘電膜２００ｃを挟んで非吐出チャネル６２の＋Ｘ側面上に配置されている。一方、第２上側個別部１１１ａのうち、Ｙ方向の両端部は、第２個別側低誘電膜２００ｄを挟んで非吐出チャネル６２の－Ｘ側面上に配置されている。

ここで、第１上側共通部１００ａのうち、第１共通側低誘電膜２００ａと重なり合う部分は、駆動壁６５に対して電界を生じさせない部分となる。第２上側個別部１１１ａのうち、第２個別側低誘電膜２００ｄと重なり合う部分は、駆動壁６５に対して電界を生じさせない部分となる。したがって、第１上側共通部１００ａ及び第２上側個別部１１１ａは、駆動壁６５に直接接している部分（低誘電膜２００ａ，２００ｄに対してＹ方向の内側に位置する部分）が、第１対向領域を構成する。この場合、第１上側共通部１００ａ及び第２上側個別部１１１ａのうち、第１対向領域を構成する部分は、両端側の駆動壁６５Ａ，６５Ｂ，６５Ｄ，６５Ｅから中央部の駆動壁６５Ｃに向かうに従いＹ方向の寸法が徐々に小さくなっている。第２実施形態において、各第１対向領域の面積は各駆動壁６５毎に同一になるように設定されている。

第２上側共通部１０１ａのうち、第２共通側低誘電膜２００ｂと重なり合う部分は、駆動壁６５に対して電界を生じさせない部分となる。第１上側個別部１１０ａのうち、第１個別側低誘電膜２００ｃと重なり合う部分は、駆動壁６５に対して電界を生じさせない部分となる。したがって、第２上側共通部１０１ａ及び第２上側個別部１１１ａは、駆動壁６５に直接接している部分（低誘電膜２００ｂ，２００ｃに対してＹ方向の内側に位置する部分）が、第２対向領域を構成する。この場合、第２上側共通部１０１ａ及び第１上側個別部１１０ａのうち、第２対向領域を構成する部分は、両端側の駆動壁６５Ａ，６５Ｂ，６５Ｄ，６５Ｅから中央部の駆動壁６５Ｃに向かうに従いＹ方向の寸法が徐々に小さくなっている。第２実施形態において、各第２対向領域の面積は各駆動壁６５毎に同一になるように設定されている。

なお、第２実施形態では、各電極のうち対向領域を構成する部分が、駆動壁６５に直接接している構成について説明したが、この構成に限られない。各電極のうち対向領域を構成する部分において、駆動壁６５と各電極との間に導電性を有する材料が介在していてもよい。すなわち、駆動壁６５と各電極とが間接的に接している場合であっても、駆動壁６５に対して電界を生じさせる構成であれば対向領域として機能させることができる。また、低誘電膜２００ａ～２００ｄは、対応する各電極のうち所望の領域に形成されていれば、各電極に対してＹ方向の外側にはみ出していてもよい。

次に、第２実施形態に係るヘッドチップ５０の製造方法について説明する。第２実施形態のヘッドチップ５０を製造するには、図２７示すようにアクチュエータプレート加工工程Ｓ２と第１配線形成工程Ｓ３との間に低誘電膜形成工程Ｓ１０を行う。

図２８、図２９は、第２実施形態に係るヘッドチップ５０の製造方法を説明するための平面図である。
図２８に示すように、低誘電膜形成工程Ｓ１０では、アクチュエータプレート５２の上面に低誘電膜用メタルマスク２１０をセットした状態で、第１成膜工程Ｓ１０ａと第２成膜工程Ｓ１０ｂとを行う。第１成膜工程Ｓ１０ａでは、アクチュエータプレート５２の上方であって、アクチュエータプレート５２に対して＋Ｘ側に配置された蒸着源２２０から、各駆動壁６５の＋Ｘ側面に対して斜め蒸着を行う。図２９に示すように、第２成膜工程Ｓ１０ｂでは、アクチュエータプレート５２に対して－Ｘ側に配置された蒸着源２２０から、各駆動壁６５の－Ｘ側面に対して斜め蒸着を行う。

低誘電膜用メタルマスク２１０には、平面視において、各チャネル６１，６２の低誘電膜２００ａ～２００ｄの形成領域が一括して開口するマスク開口２１０ａが形成されている。マスク開口２１０ａは、チャネル列６０におけるＹ方向の両端部に一対で設けられている。各マスク開口２１０ａは、Ｘ方向の両側から中心に向かうに従いＹ方向の寸法が徐々に拡大している。なお、Ｘ方向の位置に対するマスク開口２１０ａのＹ方向の寸法は、上述した第１マスク開口１３５ａの設定方法に基づいて行う。すなわち、各チャネル６１，６２の内側面のうち、対向領域として機能する部分以外の部分が、低誘電膜２００ａ～２００ｄで覆われるようにマスク開口２１０ａの寸法を調整する。

上述した低誘電膜用メタルマスク２１０を用いて第１成膜工程Ｓ１０ａを行うことで、第１共通側低誘電膜２００ａ及び第１個別側低誘電膜２００ｃが対応するチャネル６１，６２の＋Ｘ側面に一対ずつ形成される。
図２９に示すように、第２成膜工程Ｓ１０ｂでは、第１成膜工程Ｓ１０ａに対してアクチュエータプレート５２の中心回りにアクチュエータプレート５２を１８０°反転させた状態で、アクチュエータプレート５２に対して斜め蒸着を行う。これにより、第２共通側低誘電膜２００ｂ及び第２個別側低誘電膜２００ｄが対応するチャネル６１，６２の－Ｘ側面に一対ずつ形成される。

このように、第２実施形態では、低誘電膜２００ａ～２００ｄにおけるＹ方向の寸法を、中央部の駆動壁６５から両端側の駆動壁６５に向かうに従い小さくする構成とした。
この構成によれば、対応する低誘電膜２００ａ～２００ｄを覆うように共通電極部１００，１０１及び個別電極部１１０，１１１を形成することで、対向領域のうち上側共通部１００ａ，１０１ａ及び上側個別部１１０ａ，１１１ａのＹ方向の寸法は、両端側の駆動壁６５Ａ，６５Ｂ，６５Ｄ，６５Ｅから中央部の駆動壁６５Ｃに向かうに従い小さくなる。これにより、各チャネル６１，６２間において、有効面積が均一化し易くなる。

しかも、チャネル６１，６２の内側面に対して予め低誘電膜２００ａ～２００ｄを形成しておくことで、チャネル６１，６２の内側面にＹ方向の寸法を一律で電極部１００，１０１，１１０，１１１を形成した場合であっても、電極部１００，１０１，１１０，１１１のうちチャネル６１，６２の内側面に接している部分であって、互いに向かい合う部分のみを対向領域として機能させることができる。

なお、第２実施形態では、各駆動壁６５の上半部分のみに低誘電膜２００ａ～２００ｄが形成された構成について説明したが、この構成に限られない。低誘電膜２００ａ～２００ｄは、例えばアクチュエータプレート５２に対して上下両面から成膜することで、各駆動壁６５におけるＺ方向の全体に亘って形成してもよい。

（第３実施形態）
図３０は、第３実施形態に係るヘッドチップ３００の分解斜視図である。第３実施形態では、吐出チャネル３１０における延在方向の端部からインクを吐出する、いわゆるエッジシュートタイプのヘッドチップ３００を採用する点で上述した各実施形態と相違している。
図３０に示すヘッドチップ３００は、アクチュエータプレート３０１と、カバープレート３０２と、ノズルプレート３０３と、を備えている。
アクチュエータプレート３０１は、Ｙ方向を厚さ方向として配置されている。以下の説明において、＋Ｙ側を表面側とし、－Ｙ側を裏面側という場合がある。

アクチュエータプレート３０１には、吐出チャネル３１０及び非吐出チャネル３１１が形成されている。吐出チャネル（チャネル）３１０及び非吐出チャネル（チャネル）３１１は、駆動壁３１２を隔ててＸ方向に交互に並んで形成されている。

図３１は、図３０のＸＸＸＩ－ＸＸＸＩ線に対応する断面図である。
図３１に示すように、吐出チャネル３１０は、アクチュエータプレート３０１の下端面（開口面）上で開口するとともに、Ｚ方向に延びている。吐出チャネル３１０の上端部は、上方に向かうに従い吐出チャネル３１０の深さが漸次浅くなる円弧状に形成されている。

図３２は、図３０のＸＸＸＩＩ－ＸＸＸＩＩ線に対応する断面図である。
図３２に示すように、非吐出チャネル３１１は、アクチュエータプレート３０１をＺ方向に貫通している。非吐出チャネル３１１の深さは、Ｚ方向の全域で一様になっている。

図３０に示すように、カバープレート３０２は、アクチュエータプレート３０１の表面に接合されている。カバープレート３０２は、アクチュエータプレート３０１の上端部（以下、尾部３０１ａという。）を突出させた状態で、各チャネル３１０，３１１の表面側開口部を閉塞している。

カバープレート３０２において、吐出チャネル３１０の上端部とＹ方向から見て重なり合う位置には、共通インク室３０２ａが形成されている。共通インク室３０２ａは、例えば各チャネル３１０，３１１を跨る長さでＸ方向に延びるとともに、カバープレート３０２の表面上で開口している。
共通インク室３０２ａにおいて、吐出チャネル３１０とＹ方向から見て重なり合う位置には、スリット３０２ｂが形成されている。スリット３０２ｂは、各吐出チャネル３１０の上端部と、共通インク室３０２ａ内と、の間を各別に連通している。スリット３０２ｂは、それぞれ各吐出チャネル３１０に連通する一方、各非吐出チャネル３１１には連通していない。

ノズルプレート３０３は、アクチュエータプレート３０１の下端面に接合されている。ノズルプレート３０３には、ノズル孔３０３ａが形成されている。ノズル孔３０３ａは、ノズルプレート３０３のうち、吐出チャネル３１０にＺ方向で向かい合う位置に各別に形成されている。

アクチュエータプレート３０１には、共通配線３２０及び個別配線３２１が形成されている。図３０、図３１に示すように、共通配線３２０は、共通電極３２５と、共通端子３２６と、を備えている。
共通電極３２５は、各吐出チャネル３１０の内側面にそれぞれ形成されている。
共通端子３２６は、アクチュエータプレート３０１の表面上において、吐出チャネル３１０の上方に位置する部分（尾部３０１ａ）に形成されている。共通端子３２６の下端部は、吐出チャネル３１０における表面側開口縁において、共通電極３２５に接続されている。

図３０、図３２に示すように、個別配線３２１は、個別電極３２７と、個別端子３２８と、を備えている。
個別電極３２７は、各非吐出チャネル３１１の内側面にそれぞれ形成されている。
個別端子３２８は、アクチュエータプレート３０１の表面上において、共通端子３２６よりも上方に位置する部分に形成されている。個別端子３２８は、吐出チャネル３１０を間に挟んでＸ方向で向かい合う非吐出チャネル３１１の個別電極３２７同士を接続している。

尾部３０１ａの表面には、フレキシブルプリント基板３４０が圧着されている。フレキシブルプリント基板３４０は、尾部３０１ａの表面において、共通端子３２６と個別端子３２８に接続されている。

図３３は、図３０のＸＸＸＩＩＩ－ＸＸＸＩＩＩ線に対応する断面図である。
ここで、図３３に示すように、共通電極３２５は、各吐出チャネル３１０の＋Ｘ側面に形成された第１共通電極部３２５ａと、各吐出チャネル３１０の－Ｘ側面に形成された第２共通電極部３２５ｂと、を含んでいる。
第１共通電極部３２５ａは、各吐出チャネル３１０の＋Ｘ側面において、表面側の半分を含む領域に形成されている。第１共通電極部３２５ａの表面側端縁は、吐出チャネル３１０の表面側開口縁に達している。各第１共通電極部３２５ａの裏面側端縁は、＋Ｘ側面におけるＹ方向の中心よりも裏面側に位置している。各吐出チャネル３１０間において、第１共通電極部３２５ａの裏面側端縁は、＋Ｘ側端の駆動壁３１２Ａから－Ｘ側端の駆動壁３１２Ｂに向かうに従い表面側に位置している。すなわち、第１共通電極部３２５ａのＹ方向の寸法は、＋Ｘ側端の駆動壁３１２Ａから－Ｘ側端の駆動壁３１２Ｂに向かうに従い、徐々に小さくなっている。

図３４は、第３実施形態に係るアクチュエータプレート３０１の平面図である。
図３４に示すように、各吐出チャネル３１０間において、第１共通電極部３２５ａのＺ方向での寸法は、Ｘ方向における両端側の駆動壁３１２Ａ，３１２ＢからＸ方向の中央部の駆動壁３１２Ｃに向かうに従い徐々に小さくなっている。第３実施形態において、各第１共通電極部３２５ａは、それぞれの上端縁の位置が一致している。すなわち、各第１共通電極部３２５ａの下端縁は、両端側の駆動壁３１２Ａ，３１２Ｂから中央部の駆動壁３１２Ｃに向かうに従い上方に位置している。

図３３に示すように、第２共通電極部３２５ｂは、各吐出チャネル３１０の－Ｘ側面において、表面側の半分を含む領域に形成されている。第２共通電極部３２５ｂの表面側端縁は、吐出チャネル３１０の表面側開口縁に達している。各第２共通電極部３２５ｂの裏面側端縁は、－Ｘ側面におけるＹ方向の中心よりも裏面側に位置している。各吐出チャネル３１０間において、第２共通電極部３２５ｂの裏面側端縁は、－Ｘ側端の駆動壁３１２から＋Ｘ側端の駆動壁３１２に向かうに従い表面側に位置している。すなわち、第２共通電極部３２５ｂのＹ方向の寸法は、－Ｘ側端の駆動壁３１２Ｂから＋Ｘ側端の駆動壁３１２Ａに向かうに従い、徐々に小さくなっている。

図３４に示すように、各吐出チャネル３１０間において、第２共通電極部３２５ｂのＺ方向での寸法は、両端側の駆動壁３１２Ａ，３１２Ｂから中央部の駆動壁３１２Ｃに向かうに従い徐々に小さくなっている。第３実施形態において、各第２共通電極部３２５ｂは、それぞれの上端縁の位置が一致している。すなわち、各第２共通電極部３２５ｂの下端縁は、両端側の駆動壁３１２Ａ，３１２Ｂから中央部の駆動壁３１２Ｃに向かうに従い上方に位置している。

図３３に示すように、個別電極３２７は、各非吐出チャネル３１１の＋Ｘ側面に形成された第１個別電極部３２７ａと、各非吐出チャネル３１１の－Ｘ側面に形成された第２個別電極部３２７ｂと、を備えている。
第１個別電極部３２７ａは、各非吐出チャネル３１１の＋Ｘ側面において、表面側の半分を含む領域に形成されている。第１個別電極部３２７ａの表面側端縁は、非吐出チャネル３１１の表面側開口縁に達している。各第１個別電極部３２７ａの裏面側端縁は、＋Ｘ側面におけるＹ方向の中心よりも裏面側に位置している。各非吐出チャネル３１１間において、第１個別電極部３２７ａの裏面側端縁は、＋Ｘ側端の駆動壁３１２Ｄから－Ｘ側端の駆動壁３１２Ｅに向かうに従い表面側に位置している。すなわち、第１個別電極部３２７ａのＹ方向の寸法は、＋Ｘ側端の駆動壁３１２Ｄから－Ｘ側端の駆動壁３１２Ｅに向かうに従い、徐々に小さくなっている。

図３４に示すように、各非吐出チャネル３１１間において、第１個別電極部３２７ａのＺ方向での寸法は、両端側の駆動壁３１２Ｄ，３１２Ｅから中央部の駆動壁３１２Ｃに向かうに従い徐々に小さくなっている。第３実施形態において、各第１個別電極部３２７ａは、それぞれの上端縁の位置が一致している。すなわち、各第１個別電極部３２７ａの下端縁は、両端側の駆動壁３１２Ｄ，３１２Ｅから中央部の駆動壁３１２Ｃに向かうに従い上方に位置している。

図３３に示すように、第２個別電極部３２７ｂは、各非吐出チャネル３１１の－Ｘ側面において、表面側の半分を含む領域に形成されている。第２個別電極部３２７ｂの表面側端縁は、非吐出チャネル３１１の表面側開口縁に達している。各第２個別電極部３２７ｂの裏面側端縁は、－Ｘ側面におけるＹ方向の中心よりも裏面側に位置している。各非吐出チャネル３１１間において、第２個別電極部３２７ｂの裏面側端縁は、－Ｘ側端の駆動壁３１２Ｅから＋Ｘ側端の駆動壁３１２Ｄに向かうに従い表面側に位置している。すなわち、第２個別電極部３２７ｂのＹ方向の寸法は、－Ｘ側端の駆動壁３１２Ｅから＋Ｘ側端の駆動壁３１２Ｄに向かうに従い、徐々に小さくなっている。

図３４に示すように、各非吐出チャネル３１１間において、第２個別電極部３２７ｂのＺ方向での寸法は、両端側の駆動壁３１２Ｄ，３１２Ｅから中央部の駆動壁３１２Ｃに向かうに従い徐々に小さくなっている。第３実施形態において、各第２個別電極部３２７ｂは、それぞれの上端縁の位置が一致している。すなわち、各第２個別電極部３２７ｂの下端縁は、両端側の駆動壁３１２Ｄ，３１２Ｅから中央部の駆動壁３１２Ｃに向かうに従い上方に位置している。

図３３、図３４に示すように、吐出チャネル３１０と、吐出チャネル３１０に対して－Ｘ側で隣り合う非吐出チャネル３１１と、の間を仕切る駆動壁３１２ａには、＋Ｘ側面に第１共通電極部３２５ａが形成され、－Ｘ側面に第２個別電極部３２７ｂが形成されている。各駆動壁３１２ａに形成された第１共通電極部３２５ａ及び第２個別電極部３２７ｂのうち、駆動壁３１２ａを挟んで向かい合い（Ｘ方向から見て重なり合い）、かつ駆動壁３１２ａに対して電界を生じさせる領域を第１対向領域とする。この場合、図３３に示すように、第１対向領域のうち第１共通電極部３２５ａは、＋Ｘ側端の駆動壁３１２ａから－Ｘ側端の駆動壁３１２ａに向かうに従いＹ方向の寸法が徐々に小さくなる一方、両端側の駆動壁３１２ａから中央部の駆動壁３１２ａに向かうに従いＺ方向の寸法が徐々に小さくなっている。図３４に示すように、第１対向領域のうち第２個別電極部３２７ｂは、－Ｘ側端の駆動壁３１２ａから＋Ｘ側端の駆動壁３１２ａに向かうに従いＹ方向の寸法が徐々に小さくなっている一方、両端側の駆動壁３１２ａから中央部の駆動壁３１２ａに向かうに従いＺ方向の寸法が徐々に小さくなっている。これにより、各第１対向領域の面積が各駆動壁６５ａ毎に同一になるように設定されている。

図３３、図３４に示すように、吐出チャネル３１０と、吐出チャネル３１０に対して＋Ｘ側で隣り合う非吐出チャネル３１１と、の間を仕切る駆動壁３１２ｂには、－Ｘ側面に第２共通電極部３２５ｂが形成され、＋Ｘ側面に第１個別電極部３２７ａが形成されている。各駆動壁３１２ｂに形成された第２共通電極部３２５ｂ及び第１個別電極部３２７ａのうち、駆動壁３１２ｂを挟んで向かい合い（Ｘ方向から見て重なり合い）、かつ駆動壁３１２ｂに対して電界を生じさせる領域を第２対向領域とする。この場合、第２対向領域のうち第２共通電極部３２５ｂは、－Ｘ側端の駆動壁３１２ｂから＋Ｘ側端の駆動壁３１２ｂに向かうに従いＹ方向の寸法が徐々に小さくなる一方、両端側の駆動壁３１２ｂから中央部の駆動壁３１２ｂに向かうに従いＺ方向の寸法が徐々に小さくなっている。また、第２対向領域のうち第１個別電極部３２７ａは、＋Ｘ側端の駆動壁３１２ｂから－Ｘ側端の駆動壁３１２ｂに向かうに従いＹ方向の寸法が徐々に小さくなっている一方、両端側の駆動壁３１２ｂから中央部の駆動壁３１２ｂに向かうに従いＺ方向の寸法が徐々に小さくなっている。これにより、各第２対向領域の面積が各駆動壁３１２ｂ毎に同一になるように設定されている。第３実施形態では、全ての駆動壁３１２ａ，３１２ｂにおいて、第１対向領域及び各第２対向領域の面積が同一になっていることが好ましい。

図３５、図３６は、第３実施形態に係るヘッドチップ３００の製造方法を説明するための工程図である。
第３実施形態において、共通電極部３２５ａ，３２５ｂ及び個別電極部３２７ａ，３２７ｂを形成するには、図３５、図３６に示すように、配線形成工程で用いるメタルマスク３５０のマスク開口３５０ａを、上述した設定方法に倣って調整する。すなわち、駆動壁３１２毎の共通電極部３２５ａ，３２５ｂ及び個別電極部３２７ａ，３２７ｂにおけるｔａｎβ（蒸着深さＤ）の大きさに合わせて、共通電極部３２５ａ，３２５ｂ及び個別電極部３２７ａ，３２７ｂのＺ方向の寸法を調整する。この際、各駆動壁３１２間において、蒸着長さの調整量をＺ方向の片側のみで調整する。したがって、中央部の駆動壁３１２での共通電極部３２５ａ，３２５ｂ及び個別電極部３２７ａ，３２７ｂのＺ方向の寸法が最小となり、両端側の駆動壁３１２Ａ，３１２Ｂ，Ｄ，３１２Ｅでの共通電極部３２５ａ，３２５ｂ及び個別電極部３２７ａ，３２７ｂのＺ方向の寸法が最大となるように、マスク開口３５０ａを形成する。

その上で、配線形成工程では、図３５に示すように、アクチュエータプレート３０１の上方であって、アクチュエータプレート３０１に対して＋Ｘ側に配置された蒸着源３５１から、各駆動壁３１２の＋Ｘ側面に対して斜め蒸着を行う。これにより、各駆動壁３１２の＋Ｘ側面に、第１共通電極部３２５ａ及び第１個別電極部３２７ａが形成される。
その後、図３６に示すように、アクチュエータプレート３０１に対して＋Ｘ側に配置された蒸着源３５１から、各駆動壁３１２の－Ｘ側面に対して斜め蒸着を行う。これにより、各駆動壁３１２の－Ｘ側面に、第２共通電極部３２５ｂ及び第２個別電極部３２７ｂが形成される。

以上の通り、第１実施形態のように駆動配線がチャネルの両側から形成される場合、及び第３実施形態のように駆動配線がチャネルの片側のみに形成される場合の双方において、同様の配線形成工程によって対向領域の面積の均一化を図ることができる。これにより、汎用性に優れた製造方法を提供できる。
しかも、本実施形態では、各電極部３２５，３２５の上端部が、複数のチャネル３１０，３１１間で同じ位置に配置されている構成とした。
この構成によれば、複数のチャネル３１０，３１１間において各共通電極部３２５ａ，３２５ｂ及び個別電極部３２７ａ，３２７ｂのＺ方向の寸法を異ならせた場合であっても、各共通電極部３２５ａ，３２５ｂ及び個別電極部３２７ａ，３２７ｂにおける上端部の位置が各チャネル３１０，３１１間で揃う。これにより、共通電極部３２５ａ，３２５ｂ及び個別電極部３２７ａ，３２７ｂとフレキシブルプリント基板３４０とを接続する端子３２６，３２８をアクチュエータプレート３０１の表面に形成する場合に、各共通電極部３２５ａ，３２５ｂ及び個別電極部３２７ａ，３２７ｂを端子３２６，３２８に引き回し易くなる。

第３実施形態では、エッジシュートタイプのヘッドチップ３００において、アクチュエータプレート５２がモノポール基板である場合を説明したが、この構成に限られない。エッジシュートタイプのヘッドチップ３００において、アクチュエータプレート５２がシェブロン基板である場合にも本開示の構成を適用することが可能である。また、サイドシュートタイプのヘッドチップにおいて、アクチュエータプレート５２にモノポール基板を用いてもよい。さらに、第３実施形態のヘッドチップ３００において、上述した第２実施形態のように各電極と駆動壁との間に低誘電膜を介在させることで、対向領域の面積を調整するようにしてもよい。

（その他の変形例）
なお、本開示の技術範囲は上述した実施形態に限定されるものではなく、本開示の趣旨を逸脱しない範囲において種々の変更を加えることが可能である。
例えば、上述した実施形態では、液体噴射記録装置の一例として、インクジェットプリンタ１を例に挙げて説明したが、プリンタに限られるものではない。例えば、ファックスやオンデマンド印刷機等であってもよい。
上述した実施形態では、印刷時にインクジェットヘッドが被記録媒体に対して移動する構成（いわゆる、シャトル機）を例にして説明をしたが、この構成に限られない。本開示に係る構成は、インクジェットヘッドを固定した状態で、インクジェットヘッドに対して被記録媒体を移動させる構成（いわゆる、固定ヘッド機）に採用してもよい。
上述した実施形態では、被記録媒体Ｐが紙の場合について説明したが、この構成に限られない。被記録媒体Ｐは、紙に限らず、金属材料や樹脂材料であってもよく、食品等であってもよい。
上述した実施形態では、液体噴射ヘッドが液体噴射記録装置に搭載された構成について説明したが、この構成に限られない。すなわち、液体噴射ヘッドから噴射される液体は、被記録媒体に着弾させるものに限らず、例えば調剤中に配合する薬液や、食品に添加する調味料や香料等の食品添加物、空気中に噴射する芳香剤等であってもよい。

上述した実施形態では、Ｚ方向が重力方向に一致する構成について説明したが、この構成のみに限らず、Ｚ方向を水平方向に沿わせてもよい。
上述した実施形態では、電圧の印加によって吐出チャネルの容積が拡大する方向にアクチュエータプレートを変形させた後、アクチュエータプレートを復元させることで、インクを吐出させる構成（いわゆる、引き打ち）について説明したが、この構成に限られない。本開示に係るヘッドチップは、電圧の印加によって吐出チャネルの容積が縮小する方向にアクチュエータプレートを変形させることで、インクを吐出させる構成（いわゆる、押し打ち）であってもよい。押し打ちを行う場合、駆動電圧の印加により、アクチュエータプレートは、吐出チャネル内に向けて膨出するように変形する。これにより、吐出チャネル内の容積が減少することで、吐出チャネル内の圧力が増加し、吐出チャネル内のインクがノズル孔を通じて外部に吐出される。駆動電圧をゼロにすると、アクチュエータプレートが復元する。その結果、吐出チャネル内の容積が元に戻る。

上述した実施形態では、第１対向領域及び第２対向領域の面積が各駆動壁毎に同一になるように、電極の寸法を調整した場合について説明したが、この構成に限られない。第１対向領域及び第２対向領域の面積は、各駆動壁毎に僅かに異なっていてもよい。

その他、本開示の趣旨を逸脱しない範囲で、上述した実施形態における構成要素を周知の構成要素に置き換えることは適宜可能であり、また、上述した各変形例を適宜組み合わせてもよい。

１：プリンタ（液体噴射記録装置）
５：インクジェットヘッド（液体噴射ヘッド）
５０：ヘッドチップ
５２：アクチュエータプレート
６１：吐出チャネル（チャネル）
６２：非吐出チャネル（チャネル）
６５，６５ｂ，６５Ａ，６５Ｂ，６５Ｃ，６５Ｄ，６５Ｅ：駆動壁
８５：共通電極（電極）
８７：個別電極（電極）
１００：第１共通電極部（第１電極部）
１０１：第２共通電極部（第２電極部）
１００ａ：第１上側共通部（第１一方側電極部）
１００ｂ：第１下側共通部（第１他方側電極部）
１０１ａ：第２上側共通部（第２一方側電極部）
１０１ｂ：第２下側共通部（第２他方側電極部）
１１０：第１個別電極部（第１電極部）
１１０ａ：第１上側個別部（第１一方側電極部）
１１０ｂ：第１下側個別部（第１他方側電極部）
１１１ａ：第２上側個別部（第２一方側電極部）
１１１ｂ：第２下側個別部（第２他方側電極部）
１１１：第２個別電極部（第２電極部）
１３６：蒸着源
２００ａ：第１共通側低誘電膜（第１低誘電膜）
２００ｂ：第２共通側低誘電膜（第２低誘電膜）
２００ｃ：第１個別側低誘電膜（第１低誘電膜）
２００ｄ：第２個別側低誘電膜（第２低誘電膜）
３００：ヘッドチップ
３０１：アクチュエータプレート
３１０：吐出チャネル（チャネル）
３１１：非吐出チャネル（チャネル）
３１２，３１２ａ，３１２ｂ，３１２Ａ，３１２Ｂ，３１２Ｃ，３１２Ｄ，３１２Ｅ：駆動壁
３２５：共通電極部（電極部）
３２７：個別電極部（電極部）
３５１：蒸着源

Claims (11)

1. 第１方向に延びるチャネルが前記第１方向に交差する第２方向に複数配列されたアクチュエータプレートと、
   前記アクチュエータプレートにおいて隣り合う前記チャネル間を仕切る駆動壁のうち前記第２方向の第１側を向く第１側面上に配置された第１電極部、及び前記駆動壁のうち前記第１側とは反対側である前記第２方向の第２側を向く第２側面上に配置された第２電極部を有し、前記アクチュエータプレートのうち前記駆動壁を変形させて前記チャネルの容積を変化させる電極と、を備え、
   前記第１電極部及び前記第２電極部のうち前記駆動壁を挟んで前記第２方向で向かい合い、かつ前記駆動壁に電界を発生させる領域を対向領域とすると、
   前記第１電極部における前記第２方向から見て前記第１方向に交差する第３方向の寸法は、複数の前記駆動壁間において前記第２方向の第１側に位置する前記駆動壁から前記第２方向の第２側に位置する前記駆動壁に向かうに従い小さく形成され、
   前記第２電極部における前記第３方向の寸法は、複数の前記駆動壁間において前記第２側に位置する前記駆動壁から前記第１側に位置する前記駆動壁に向かうに従い小さく形成され、
   前記対向領域における前記第１方向の寸法は、前記第２方向の両端側に位置する前記駆動壁から前記第２方向の中央部に位置する前記駆動壁に向かうに従い小さくなっているヘッドチップ。
2. 前記対向領域の面積は、複数の前記駆動壁間で互いに同一になるように設定されている請求項１に記載のヘッドチップ。
3. 前記対向領域における前記第１方向の第１側端部は、複数の前記駆動壁間において前記第１方向で同じ位置に配置されている請求項１又は請求項２に記載のヘッドチップ。
4. 前記アクチュエータプレートにおける前記第３方向を向く面上には、噴射孔プレートが配置され、
   前記噴射孔プレートのうち、前記第３方向から見て前記チャネルにおける前記第１方向の中央部に重なり合う位置には、前記チャネルに各別に連通する噴射孔が形成され、
   前記対向領域における前記第１方向の両端部は、前記第２方向の両端側に位置する駆動壁から前記第２方向の中央部に位置する前記駆動壁に向かうに従い前記第１方向の内側に位置する請求項１又は請求項２に記載のヘッドチップ。
5. 前記第１電極部は、前記第３方向の一方側に位置する第１一方側領域、及び前記第１一方側領域に対して前記第３方向の他方側に連なる第１他方側領域を備え、
   前記第２電極部は、前記第３方向の一方側に位置する第２一方側領域、及び前記第２一方側領域に対して前記第３方向の他方側に連なる第２他方側領域を備え、
   前記対向領域のうち前記第１一方側領域及び前記第２一方側領域により構成された部分の前記第１方向の寸法は、前記第２方向の両端側に位置する前記駆動壁から前記第２方向の中央部に位置する前記駆動壁に向かうに従い小さくなっている請求項１又は請求項２に記載のヘッドチップ。
6. 前記第１電極部と前記第１側面との間において、前記第１方向の一部には第１低誘電膜が配置され、
   前記第２電極部と前記第２側面との間において、前記第１方向の一部には第２低誘電膜が配置され、
   前記第１低誘電膜及び前記第２低誘電膜における前記第１方向の寸法は、前記第２方向の中央部に位置する駆動壁から前記第２方向の両側に位置する前記駆動壁に向かうに従い小さくなっている請求項１又は請求項２に記載のヘッドチップ。
7. 請求項１又は請求項２に記載のヘッドチップを備えている液体噴射ヘッド。
8. 請求項７に記載の液体噴射ヘッドを備えている液体噴射記録装置。
9. 第１方向に延びるチャネルが前記第１方向に交差する第２方向に複数配列されたアクチュエータプレートと、
   前記アクチュエータプレートにおいて隣り合う前記チャネル間を仕切る駆動壁のうち前記第２方向の第１側を向く第１側面上に配置された第１電極部、及び前記駆動壁のうち前記第１側とは反対側である前記第２方向の第２側を向く第２側面上に配置された第２電極部を有し、前記駆動壁を変形させて前記チャネルの容積を変化させる電極と、を備えたヘッドチップの製造方法であって、
   前記アクチュエータプレートに対して前記第２方向の前記第１側に配置された蒸着源から、前記第１方向から見て前記第２方向に交差する斜め方向に斜め蒸着を行うことで、前記第２方向から見て前記第１方向に交差する第３方向の寸法が、複数の前記駆動壁間において前記第２方向の第１側に位置する前記駆動壁から前記第２方向の第２側に位置する前記駆動壁に向かうに従い小さくなる前記第１電極部を前記第１側面上に成膜する第１蒸着工程と、
   前記アクチュエータプレートに対して前記第２方向の前記第２側に配置された蒸着源から、前記第１方向から見て前記第２方向に交差する斜め方向に斜め蒸着を行うことで、前記第３方向の寸法が、複数の前記駆動壁間において前記第２側に位置する前記駆動壁から前記第１側に位置する前記駆動壁に向かうに従い小さくなる前記第２電極部を前記第２側面上に成膜する第２蒸着工程と、を備え、
   前記第１電極部及び前記第２電極部のうち前記駆動壁を挟んで前記第２方向で向かい合う領域を対向領域とすると、前記対向領域における前記第１方向の寸法を、前記第２方向の両端側に位置する前記駆動壁から前記第２方向の中央部に位置する前記駆動壁に向かうに従い小さくするヘッドチップの製造方法。
10. 前記第１蒸着工程及び前記第２蒸着工程では、前記第３方向から見て前記アクチュエータプレートと重なり合って配置されたマスクを用いて斜め蒸着を行うことで、前記マスクの開口部を通じて前記第１側面に前記第１電極部が形成されるとともに、前記第２側面に前記第２電極部が形成され、
    前記開口部は、前記第１方向の寸法が、前記第２方向の中央部に位置する前記駆動壁から前記第２方向の両端側に位置する前記駆動壁に向かうに従い大きくなっている請求項９に記載のヘッドチップの製造方法。
11. 前記第１蒸着工程では、前記第２方向の中央部に位置する前記駆動壁から前記第２方向の両端側に位置する前記駆動壁に向かうに従い小さくなる第１低誘電膜が前記第１側面に形成された状態で斜め蒸着を行い、
    前記第２蒸着工程では、前記第２方向の中央部に位置する前記駆動壁から前記第２方向の両側に位置する前記駆動壁に向かうに従い小さくなる第２低誘電膜が前記第２側面に形成された状態で斜め蒸着を行う請求項９に記載のヘッドチップの製造方法。

Images