JP2023035586A - ヘッドチップ、液体噴射ヘッド、液体噴射記録装置及びヘッドチップの製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】吐出性能の均一化を図り、商品性に優れたヘッドチップ、液体噴射ヘッド、液体噴射記録装置及びヘッドチップの製造方法を提供する。【解決手段】本開示の一態様に係るヘッドチップ５０において、吐出チャネル６１の内面には、下端部に設けられた第１低誘電膜１１８ａと、上端部に設けられた第２低誘電膜１１８ｂと、上端部から下端部に亘って設けられ、第１低誘電膜１１８ａ及び第２低誘電膜１１８ｂを覆う第１共通電極部１２３ａと、が設けられている。【選択図】図３

Description

本開示は、ヘッドチップ、液体噴射ヘッド、液体噴射記録装置及びヘッドチップの製造方法に関する。

インクジェットプリンタに搭載されるヘッドチップは、複数のチャネルを有するアクチュエータプレートに対して、カバープレートやノズルプレートが積層されて構成されている。カバープレートには、チャネルの上流側でチャネルに連通するインク流路が形成されている。ノズルプレートには、チャネルの下流側でチャネルに連通するノズル孔が形成されている。アクチュエータプレートのうち、各チャネルを区画する隔壁には電極が形成されている。
ヘッドチップにおいて、インクを吐出させるには、電極間に電圧を印加して、隔壁に電界をかけることにより、隔壁を厚み滑り変形させる。これにより、チャネル内の容積が変化することで、チャネル内のインクがノズル孔を通じて吐出される。

ヘッドチップは、駆動時における消費電力や静電容量の増加に起因して発熱することが知られている。ヘッドチップが発熱すると、インク粘度にばらつき等が生じ易く、吐出性能に影響が及ぶ可能性がある。そこで、例えば下記特許文献１には、チャネルの上流端部（インク流路との連通部分）において、隔壁と電極との間に低誘電膜を介在させる構成が開示されている。この構成によれば、隔壁のうち低誘電膜が介在している部分に電界がかかり難くなることで、ヘッドチップの発熱を抑制できるとされている。

国際公開第９７／３９８９７号

しかしながら、従来のヘッドチップでは、チャネル毎での低誘電膜の寸法ばらつきが生じ易かった。低誘電膜に寸法ばらつきが生じると、電極のうち、隔壁に直接接する部分と、低誘電膜を介して隔壁に接する部分と、の寸法がチャネル毎で異なる。そのため、従来のヘッドチップでは、同一チップにおける異なるチャネル間、又は複数のチップ間で吐出性能（出力）にばらつきが生じ易かった。

本開示は、吐出性能の均一化を図り、商品性に優れたヘッドチップ、液体噴射ヘッド、液体噴射記録装置及びヘッドチップの製造方法を提供する。

上記課題を解決するために、本開示は以下の態様を採用した。
（１）本開示の一態様に係るヘッドチップは、第１方向に延びるとともに、前記第１方向に交差する第２方向に間隔をあけて設けられた噴射チャネルを有し、前記噴射チャネルにおける前記第１方向の第１側端部が開口する端面を有するアクチュエータプレートと、前記噴射チャネルに連通する噴射孔を有し、前記端面に向かい合って設けられた噴射孔プレートと、を備え、前記噴射チャネルの内面には、前記第１方向における第１側端部に設けられた第１低誘電膜と、前記第１方向における第２側端部に設けられた第２低誘電膜と、前記第１方向における第１側端部から第２側端部に亘って設けられ、前記第１低誘電膜及び前記第２低誘電膜を覆う第１電極部と、が設けられている。

本態様によれば、噴射チャネルの両端部に第１低誘電膜及び第２低誘電膜を形成する場合には、例えば噴射チャネルのうち第１低誘電膜及び第２低誘電膜の形成領域に対応するマスク開口を有し、低誘電膜の非形成領域に対応する被覆部を有する第１マスクを配置して行う。この場合、低誘電膜の形成領域を被覆部の位置ずれを許容する許容代として利用できる。すなわち、低誘電膜が噴射チャネルにおける第１方向の何れかの端部のみに設けられる場合のように、噴射チャネルにおける何れかの端部で被覆部を位置合わせする場合に比べ、被覆部が位置ずれした際であっても低誘電膜の非形成領域の寸法が各噴射チャネル間で揃い易い。その結果、各噴射チャネル間での吐出性能のばらつきを抑制できる。

（２）上記（１）の態様に係るヘッドチップにおいて、前記第１低誘電膜及び前記第２低誘電膜間の前記第１方向での間隔は、複数の前記噴射チャネル間で一定になっていることが好ましい。
本態様によれば、第１電極部のうち、第１低誘電膜及び第２低誘電膜間に位置する部分は、噴射チャネルの内面に直接接し、アクチュエータプレートの駆動に寄与する駆動領域として機能する。本態様では、各噴射チャネル間で駆動領域の寸法が一定になるので、各噴射チャネル間での吐出性能のばらつきを抑制できる。

（３）上記（１）又は（２）の態様に係るヘッドチップにおいて、前記噴射チャネルに対して前記第１方向の第２側端部で連通する液体流路を有し、前記第１方向から見て前記第２方向に交差する厚さ方向で前記アクチュエータプレートに向かい合って設けられたカバープレートを備え、前記噴射チャネルは、前記厚さ方向から見て前記液体流路に重なり合う連通部と、前記連通部よりも前記第１方向の第１側に設けられたポンプ部と、を備え、前記第１方向において、前記第１低誘電膜及び前記第２低誘電膜間の間隔は、前記ポンプ部の長さよりも短いことが好ましい。
本態様によれば、本態様では、駆動領域をポンプ部に配置し易くなるので、ポンプ部を効率的に駆動させることができ、吐出性能を維持できる。

（４）上記（３）の態様に係るヘッドチップにおいて、前記第１低誘電膜は、前記ポンプ部に位置し、前記第２低誘電膜の一部は、前記ポンプ部と前記連通部との境界部分よりも前記第１方向の第１側に位置していることが好ましい。
本態様によれば、第１低誘電膜及び第２低誘電膜の位置ずれに関わらず、駆動領域が確実にポンプ部に配置される。そのため、低誘電膜形成用の第１マスクの位置ずれの影響を相殺し、各噴射チャネル間での吐出性能を一定に維持し易い。

（５）上記（３）の態様に係るヘッドチップにおいて、前記第１低誘電膜は、前記ポンプ部に位置し、前記第２低誘電膜の全体が、前記ポンプ部と前記連通部との境界部分よりも前記第１方向の第２側に位置していることが好ましい。
本態様によれば、第１マスクの位置ずれにより、駆動領域の一部がポンプ部からずれて配置された場合であっても、駆動領域の寸法は一定に維持される。この場合、第１電極部のうち、ポンプ部と連通部との境界部分よりも第２側に位置する部分（以下、はみだし部分という。）が噴射チャネルの内側面に直接接する。そのため、はみだし部分を噴射チャネルの駆動に少なからず寄与させることができる。これにより、第２低誘電膜の全体が連通部に位置している場合において、駆動領域をポンプ部内で収める構成に比べ、噴射性能の低下を抑制できる。すなわち、低誘電膜形成用の第１マスクの位置ずれによる噴射性能への影響を可能な限り軽減できる。

（６）上記（３）から（５）の何れかの態様に係るヘッドチップにおいて、前記アクチュエータプレートは、前記噴射チャネルに対して前記第１方向の第２側に位置する尾部を備え、前記第１電極部は、前記噴射チャネルの内面における前記厚さ方向の第１側に位置し、前記尾部のうち前記厚さ方向の第１側を向く主面上に設けられるとともに、前記噴射チャネルの開口縁で前記第１電極部に連なる端子部と、前記噴射チャネルの内面のうち、前記厚さ方向の第２側であって、前記第１方向の第１側端部及び第２側端部の内側に設けられ、前記噴射チャネルの内面において前記第１電極部に連なる第２電極部と、を備えていることが好ましい。
本態様によれば、噴射チャネルの内面における厚さ方向の第２側において、第１方向における第１側端部は第２電極部が形成されない第１非形成領域を構成し、第１方向の第２側端部は第２電極部が形成されない第２非形成領域を構成する。第１非形成領域及び第２非形成領域について、例えば第２マスクを介して形成する場合等には、噴射チャネルのうち非形成領域（第１方向の両端部）に対応して被覆部が配置され、第２電極部の形成領域に対応してマスク開口が配置される。この場合、非形成領域を被覆部の位置ずれを許容する許容代として利用できる。すなわち、第２マスクが所望の位置に対して第１方向に位置ずれした場合であっても、第２電極部の寸法ばらつきを抑制できる。これにより、噴射チャネルの第２側端部のみを第２電極部の非形成領域とする場合に比べ、被覆部が位置ずれした際における第２電極部の寸法が各噴射チャネル間で揃い易い。その結果、各噴射チャネル間での吐出性能のばらつきを抑制できる。

（７）上記（６）の態様に係るヘッドチップにおいて、前記第２電極部における前記第１方向での寸法は、複数の前記噴射チャネル間で一定になっていることが好ましい。
本態様によれば、各噴射チャネル間での吐出性能のばらつきを抑制できる。

（８）上記（６）又は（７）の態様に係るヘッドチップにおいて、前記噴射チャネルの内面における前記厚さ方向の第２側のうち、前記第１方向における第１側端部は、前記第２電極部が形成されない第１非形成領域を構成し、前記噴射チャネルの内面における前記厚さ方向の第２側のうち、前記第１方向における第２側端部は、前記第２電極部が形成されない第２非形成領域を構成し、前記第１非形成領域は、前記ポンプ部に位置し、前記第２非形成領域の一部は、前記ポンプ部と前記連通部との境界部分よりも前記第１方向の第１側に位置していることが好ましい。
本態様によれば、第２電極部が確実にポンプ部に配置されるので、ポンプ部を効率的に駆動させることができ、噴射性能を維持できる。

（９）上記（６）又は（７）の態様に係るヘッドチップにおいて、前記噴射チャネルの内面における厚さ方向の第２側のうち、前記第１方向における第１側端部は、前記第２電極部が形成されない第１非形成領域を構成し、前記噴射チャネルの内面における厚さ方向の第２側のうち、前記第１方向における第２側端部は、前記第２電極部が形成されない第２非形成領域を構成し、前記第１非形成領域は、前記ポンプ部に位置し、前記第２非形成領域の全体が、前記ポンプ部と前記連通部との境界部分よりも前記第１方向の第２側に位置していることが好ましい。
本態様によれば、第２電極部のうち、ポンプ部と連通部との境界部分よりも第２側に位置する部分（以下、はみだし部分という。）を噴射チャネルの駆動に少なからず寄与させることができる。これにより、第２電極部をポンプ部内で収める構成に比べ、噴射性能の低下を抑制できる。すなわち、低誘電膜形成用の第２マスクの位置ずれによる噴射性能への影響を可能な限り軽減できる。

（１０）本開示の一態様に係る液体噴射ヘッドは、上記（１）から（９）の何れかの態様に係るヘッドチップを備えている。
本態様によれば、同一のヘッドチップにおける各噴射チャネル間、又は複数のヘッドチップ間で噴射性能の均一化を図り、商品性に優れた液体噴射ヘッドを提供できる。

（１１）本開示の一態様に係る液体噴射記録装置は、上記（１０）の態様に係る液体噴射ヘッドを備えている。
本態様によれば、同一のヘッドチップにおける各噴射チャネル間、又は複数のヘッドチップ間で噴射性能の均一化を図り、商品性に優れた液体噴射記録装置を提供できる。

（１２）本開示の一態様に係るヘッドチップの製造方法は、第１方向に延びるとともに、前記第１方向に交差する第２方向に間隔をあけて設けられた噴射チャネルを有するアクチュエータプレートに対して、前記噴射チャネルの内面に第１マスクを介して低誘電膜を形成する低誘電膜形成工程と、前記噴射チャネルの内面に対して前記低誘電膜を覆うように電極を形成する電極形成工程と、前記噴射チャネル内に連通する液体流路を有するカバープレートを、前記第１方向から見て前記第２方向に交差する厚さ方向で、前記アクチュエータプレートに重ね合わせる積層工程と、を有し、前記噴射チャネルは、前記厚さ方向から見て前記液体流路に重なり合う連通部と、前記連通部よりも前記第１方向の第１側に設けられたポンプ部と、を備え、前記第１マスクには、前記第１方向の間隔が前記第１方向における前記ポンプ部の寸法よりも短く設定された第１マスク開口及び第２マスク開口が形成され、前記低誘電膜形成工程では、前記第１マスクのうち前記第１マスク開口及び前記第２マスク開口間に位置する被覆部を前記ポンプ部に重ね合わせた状態で、前記第１マスク開口及び前記第２マスク開口を通じて前記噴射チャネル内に前記低誘電膜の形成材料を導入する。

本態様によれば、低誘電膜形成工程において、第１マスク開口及び第２マスク開口（低誘電膜の形成領域）を被覆部の位置ずれを許容する許容代として利用できる。すなわち、低誘電膜が噴射チャネルにおける第１方向の何れかの端部のみに設けられる場合のように、噴射チャネルにおける何れかの端部で被覆部を位置合わせする場合に比べ、被覆部が位置ずれした際であっても低誘電膜の非形成領域の寸法が各噴射チャネル間で揃い易い。その結果、各噴射チャネル間での吐出性能のばらつきを抑制できる。

（１３）上記（１２）の態様に係るヘッドチップの製造方法において、前記アクチュエータプレートは、前記噴射チャネルに対して前記第１方向の第２側に位置する尾部を備え、前記電極形成工程は、前記噴射チャネル内に対して前記厚さ方向の第１側から前記電極の形成材料を導入する第１工程と、前記噴射チャネル内に対して前記厚さ方向の第２側から第２マスクを介して前記電極の形成材料を導入する第２工程と、を備え、前記第１工程では、前記噴射チャネルの内面において前記低誘電膜を覆うように前記電極を形成するとともに、前記尾部のうち前記厚さ方向の第１側を向く主面上に前記電極に連なる端子を形成し、前記第２マスクには、前記第２方向の間隔が前記第１方向における前記ポンプ部の寸法よりも短く設定された第３マスク開口が形成され、前記第２工程では、前記第３マスク開口を前記ポンプ部に重ね合わせた状態で、前記第３マスク開口を通じて前記噴射チャネル内に前記電極の形成材料を導入することが好ましい。
本態様によれば、第２工程において、第２マスクのうち第３マスク開口に対して両側に位置する部分（非形成領域）を第３マスク開口の位置ずれを許容する許容代として利用できる。すなわち、第２マスクが所望の位置に対して第１方向に位置ずれした場合であっても、第２電極部の寸法ばらつきを抑制できる。これにより、噴射チャネルの第２側端部のみを第２電極部の非形成領域とする場合に比べ、被覆部が位置ずれした際における第２電極部の寸法が各噴射チャネル間で揃い易い。その結果、各噴射チャネル間での吐出性能のばらつきを抑制できる。

本開示の一態様によれば、吐出性能の均一化を図り、商品性に優れたヘッドチップ、液体噴射ヘッド、液体噴射記録装置及びヘッドチップの製造方法を提供できる。

実施形態に係るインクジェットプリンタの概略構成図である。 実施形態に係るヘッドチップの分解斜視図である。 図２のＩＩＩ－ＩＩＩ線に対応する断面図である。 図２のＩＶ－ＩＶ線に対応する断面図である。 図２のＶ－Ｖ線に対応する断面図である。 図２のＶＩ－ＶＩ線に対応する断面図である。 実施形態に係るヘッドチップの製造方法を説明するためのフローチャートである。 実施形態に係るヘッドチップの製造方法を説明するための工程図である。 実施形態に係るヘッドチップの製造方法を説明するための工程図である。 実施形態に係るヘッドチップの製造方法を説明するための工程図である。 実施形態に係るヘッドチップの製造方法を説明するための工程図である。 実施形態に係るヘッドチップの製造方法を説明するための工程図である。 実施形態に係るヘッドチップの製造方法を説明するための工程図である。 実施形態に係るヘッドチップの製造方法を説明するための工程図である。 実施形態に係るヘッドチップの製造方法を説明するための工程図である。 実施形態に係るヘッドチップの製造方法を説明するための工程図である。 実施形態に係るヘッドチップの製造方法を説明するための工程図である。 実施形態に係るヘッドチップの製造方法を説明するための工程図である。 実施形態に係るヘッドチップの製造方法を説明するための工程図である。 実施形態に係るヘッドチップの製造方法を説明するための工程図である。 実施形態に係るヘッドチップの製造方法を説明するための工程図である。 実施形態に係るヘッドチップの製造方法を説明するための工程図である。 実施形態に係るヘッドチップの製造方法を説明するための工程図である。 実施形態に係るヘッドチップの製造方法を説明するための工程図である。 実施形態に係るヘッドチップの作用を説明するための説明図であって、ヘッドチップの断面図である。 実施形態に係るヘッドチップの作用を説明するための説明図であって、ヘッドチップの断面図である。 実施形態に係るヘッドチップの作用を説明するための説明図であって、ヘッドチップの断面図である。 実施形態に係るヘッドチップの作用を説明するための説明図であって、ヘッドチップの断面図である。 第１変形例に係るヘッドチップの断面図である。 第２変形例に係るヘッドチップの断面図である。 第３変形例に係るヘッドチップの断面図である。 第３変形例に係るヘッドチップの断面図である。 従来技術に係るヘッドチップの断面図である。 従来技術に係るヘッドチップの断面図である。

以下、本開示に係る実施形態について図面を参照して説明する。以下で説明する実施形態や変形例において、対応する構成については同一の符号を付して説明を省略する場合がある。なお、以下の説明において、例えば「平行」や「直交」、「中心」、「同軸」等の相対的又は絶対的な配置を示す表現は、厳密にそのような配置を表すのみならず、公差や同じ機能が得られる程度の角度や距離をもって相対的に変位している状態も表すものとする。以下の実施形態では、インク（液体）を利用して被記録媒体に記録を行うインクジェットプリンタ（以下、単にプリンタという）を例に挙げて説明する。なお、以下の説明に用いる図面では、各部材を認識可能な大きさとするため、各部材の縮尺を適宜変更している。

［プリンタ１］
図１はプリンタ１の概略構成図である。
図１に示すように、第1実施形態のプリンタ（液体噴射記録装置）１は、一対の搬送機構２，３と、インク供給機構４と、インクジェットヘッド（液体噴射ヘッド）５と、走査機構６と、を備えている。

以下の説明では、必要に応じてＸ，Ｙ，Ｚの直交座標系を用いて説明する。この場合、Ｘ方向は被記録媒体Ｐ（例えば、紙等）の搬送方向（副走査方向）に一致している。Ｙ方向は走査機構６の走査方向（主走査方向）に一致している。Ｚ方向は、Ｘ方向及びＹ方向に直交する高さ方向（重力方向）を示している。以下の説明では、Ｘ方向、Ｙ方向及びＺ方向のうち、図中矢印側をプラス（＋）側とし、矢印とは反対側をマイナス（－）側として説明する。本明細書において、＋Ｚ側は重力方向の上方に相当し、－Ｚ側は重力方向の下方に相当する。

搬送機構２，３は、被記録媒体Ｐを＋Ｘ側に搬送する。搬送機構２，３は、例えばＹ方向に延びる一対のローラ１１，１２をそれぞれ含んでいる。
インク供給機構４は、インクが収容されたインクタンク１５と、インクタンク１５とインクジェットヘッド５とを接続するインク配管１６と、を備えている。インクタンク１５には、例えばイエロー、マゼンタ、シアン、ブラックの４色のインクが各別に収容されている。各インクジェットヘッド５は、接続されたインクタンク１５に応じてイエロー、マゼンタ、シアン、ブラックの４色のインクをそれぞれ吐出可能に構成されている。

走査機構６は、インクジェットヘッド５をＹ方向に往復走査させる。走査機構６は、ガイドレール２２と、Ｙ方向に移動可能にガイドレール２２に支持されたキャリッジ２３と、を備えている。インクジェットヘッド５は、被記録媒体Ｐへの印字動作の際において、キャリッジ２３に搭載された状態でＹ方向に往復移動する。

＜インクジェットヘッド５＞
図１に示すように、インクジェットヘッド５は、一つのキャリッジ２３にＹ方向に並んで搭載されている。インクジェットヘッド５は、ヘッドチップ５０（図２参照）と、インクタンク１５及びヘッドチップ５０間を接続するインク供給部（不図示）と、ヘッドチップ５０に駆動電圧を印加する制御部（不図示）と、を備えている。

＜ヘッドチップ５０＞
図２は、ヘッドチップ５０の分解斜視図である。
図２に示すヘッドチップ５０は、後述する吐出チャネル６１における延在方向（Ｚ方向）の端部からインクを吐出する、いわゆるエッジシュートタイプのヘッドチップ５０である。ヘッドチップ５０は、ノズルプレート５１（図３等参照）と、アクチュエータプレート５３と、カバープレート５４と、を備えている。

アクチュエータプレート５３は、メインプレート５５と、バックプレート５６と、がＹ方向に重ね合わされた構成である。メインプレート５５及びバックプレート５６は、ＰＺＴ（チタン酸ジルコン酸鉛）等の圧電材料で形成されている。メインプレート５５は、例えば分極方向がＹ方向で異なる２枚の圧電プレートが積層された構成である（いわゆるシェブロンタイプ）。アクチュエータプレート５３は、少なくともメインプレート５５が圧電材料で形成されていれば、バックプレート５６は圧電材料以外の材料で形成されていてもよい。

アクチュエータプレート５３には、インクが充填される吐出チャネル（噴射チャネル）６１、及びインクが充填されない非吐出チャネル（非噴射チャネル）６２が形成されている。各チャネル６１，６２は、アクチュエータプレート５３において、Ｘ方向（第２方向）に間隔をあけた状態で交互に配列されている。本実施形態では、チャネル延在方向がＺ方向（第１方向）に一致する構成について説明するが、チャネル延在方向がＺ方向に交差していてもよい。

図３は、図２のＩＩＩ－ＩＩＩ線に対応する断面図である。以下の説明において、＋Ｙ側（第１側）を表面（主面）側とし、－Ｙ側（第２側）を裏面側とし、＋Ｚ側を上側（第２側）とし、－Ｚ側を下側（第１側）として説明する。
図３に示すように、吐出チャネル６１は、アクチュエータプレート５３の表面上で開口するとともに、Ｚ方向に延びている。吐出チャネル６１は、延在部６１ａと、切り上がり部６１ｂと、を備えている。
延在部６１ａは、Ｙ方向の深さが一様な部分である。延在部６１ａの下端部（第１側端部）は、アクチュエータプレート５３の下端面（第１側の端面）において開放されている。本実施形態において、延在部６１ａは、メインプレート５５をＹ方向に貫通している。したがって、延在部６１ａの底面は、バックプレート５６の表面によって形成されている。

切り上がり部６１ｂは、延在部６１ａの上端に連なっている。切り上がり部６１ｂは、上方に向かうに従いＹ方向の深さが漸次浅くなっている。具体的に、切り上がり部６１ｂの底面は、上方に向かうに従い表面側に向けて湾曲しながら延びる傾斜面に形成されている。

図４は、図２のＩＶ－ＩＶ線に沿う断面図である。
図４に示すように、非吐出チャネル６２は、アクチュエータプレート５３の表面上で開口するとともに、アクチュエータプレート５３をＺ方向に貫通している。非吐出チャネル６２は、非吐出チャネル６２において、Ｙ方向の深さは、Ｚ方向の全長に亘って一様である。非吐出チャネル６２は、メインプレート５５をＹ方向に貫通している。したがって、非吐出チャネル６２の底面は、バックプレート５６の表面によって形成されている。

図２に示すように、アクチュエータプレート５３のうち、吐出チャネル６１及び非吐出チャネル６２間に位置する部分は、それぞれ駆動壁６５を構成している。したがって、吐出チャネル６１は、一対の駆動壁６５によってＸ方向の両側が囲まれている。アクチュエータプレート５３のうち、吐出チャネル６１に対して上方に位置する部分は、尾部７８を構成している。尾部７８には、区画溝７９が形成されている。区画溝７９は、尾部７８の表面上をＸ方向に延び、隣り合う非吐出チャネル６２間を架け渡している。

＜カバープレート５４＞
図２～図４に示すように、カバープレート５４は、アクチュエータプレート５３の表面に接着等により固定されている。具体的に、カバープレート５４は、Ｙ方向を厚さ方向として配置されている。カバープレート５４は、尾部７８の表面を露出させた状態で各チャネル６１，６２の表面側開口部を閉塞している。Ｚ方向において、カバープレート５４の下端面は、アクチュエータプレート５３の下端面と面一に配置されている。

カバープレート５４において、吐出チャネル６１の上端部とＹ方向から見て重なり合う位置には、入口共通インク室９０が形成されている。入口共通インク室９０は、例えば各チャネル６１，６２を跨る長さでＸ方向に延びるとともに、カバープレート５４の表面上で開口している。
入口共通インク室９０において、吐出チャネル６１とＹ方向から見て重なり合う位置には、入口スリット（液体流路）９１が形成されている。入口スリット９１は、各吐出チャネル６１の上端部と、入口共通インク室９０内と、の間を各別に連通している。入口スリット９１は、切り上がり部６１ｂとＹ方向に向かい合っている。したがって、入口スリット９１は、それぞれ各吐出チャネル６１に連通する一方、各非吐出チャネル６２には連通していない。

図３、図４に示すように、吐出チャネル６１のうち、入口スリット９１よりも下方であって、カバープレート５４で覆われている領域は、ポンプ部１００を構成している。ポンプ部１００は、ヘッドチップ５０の駆動時において、駆動壁６５のＹ方向への変形がカバープレート５４によって規制されることで、駆動壁６５がＸ方向に変形し易い領域である。一方、吐出チャネル６１のうち、入口スリット９１に連通している領域（カバープレート５４で覆われていない領域）は、連通部１０１を構成している。図示の例において、ポンプ部１００と連通部１０１との境界部分は、延在部６１ａと切り上がり部６１ｂとの境界部分よりも下方に位置している。但し、ポンプ部１００と連通部１０１との境界部分は、延在部６１ａと切り上がり部６１ｂとの境界部分に対してＺ方向で一致していてもよく、延在部６１ａと切り上がり部６１ｂとの境界部分に対して上方に位置していてもよい。

ノズルプレート５１は、アクチュエータプレート５３の下端面に接着等によって固定されている。ノズルプレート５１は、Ｚ方向を厚さ方向とし、Ｘ方向を長手方向として配置されている。本実施形態において、ノズルプレート５１は、ポリイミド等の樹脂材料により厚さが５０μｍ程度に形成されている。但し、ノズルプレート５１は、樹脂材料の他、金属材料（ＳＵＳやＮｉ－Ｐｄ等）、ガラス、シリコン等による単層構造、又は積層構造であってもよい。ノズルプレート５１は、アクチュエータプレート５３の下端面に直接固定されていてもよく、例えば中間プレート等を介して間接的に固定されていてもよい。

ノズルプレート（噴射孔プレート）５１には、ノズルプレート５１をＺ方向に貫通する上述したノズル孔（噴射孔）１０２が形成されている。ノズル孔１０２は、ノズルプレート５１のうち、吐出チャネル６１にＺ方向で向かい合う位置に各別に形成されている。なお、各ノズル孔１０２は、上方から下方に向かうに従い漸次先細るテーパ状に形成されている。

次に、アクチュエータプレート５３の配線構造について説明する。
アクチュエータプレート５３には、低誘電膜１１０と、共通配線１１１と、個別配線１１２と、が設けられている。
低誘電膜１１０は、誘電率が低い材料（例えばＳｉＯ_２等）により形成された薄膜である。低誘電膜１１０は、吐出チャネル６１の内面に形成された吐出側膜１１５と、非吐出チャネル６２の内面に形成された非吐出側膜１１６と、尾部７８の表面に形成された尾部側膜１１７と、を備えている。

吐出側膜１１５は、吐出チャネル６１内において、Ｙ方向の中央部を含む＋Ｙ側の範囲に少なくとも形成されている。吐出側膜１１５は、吐出チャネル６１の内面のうちＸ方向で向かい合う両内側面に形成された内側面部１１８と、切り上がり部６１ｂの底面上に形成された底面部１１９と、を備えている。

図５は、図２のＶ－Ｖ線に対応する断面図である。
図３、図５に示すように、内側面部１１８は、吐出チャネル６１の同一内側面上において、Ｚ方向で離れて設けられた第１低誘電膜１１８ａ及び第２低誘電膜１１８ｂを備えている。
第１低誘電膜１１８ａは、ポンプ部１００の下端部に形成されている。第１低誘電膜１１８ａの下端は、吐出チャネル６１の下端と一致している。

図３に示すように、第２低誘電膜１１８ｂは、吐出チャネル６１の内側面における上端部（第２側端部）に設けられている。第２低誘電膜１１８ｂは、Ｚ方向において、ポンプ部１００と連通部１０１との境界部分を跨って設けられている。本実施形態において、第２低誘電膜１１８ｂは、連通部１０１の全域及びポンプ部１００の上端部に連続的に形成されている。

第１低誘電膜１１８ａのＺ方向の寸法Ｄ１は、第２低誘電膜１１８ｂのうち、ポンプ部１００に位置する部分のＺ方向の寸法Ｄ２と同等になっている。但し、第１低誘電膜１１８ａの寸法Ｄ１と、第２低誘電膜１１８ｂの寸法Ｄ２と、は互いに異なっていてもよい（図２５、図２６等参照）。なお、吐出側膜１１５は、少なくとも内側面部１１８を有していればよく、底面部１１９を有していなくてもよい。

図４、図５に示すように、非吐出側膜１１６は、非吐出チャネル６２内において、Ｙ方向の中央部を含む＋Ｙ側の範囲に少なくとも形成されている。非吐出側膜１１６は、非吐出チャネル６２の内面のうちＸ方向で向かい合う両内側面に形成されている。

非吐出側膜１１６は、非吐出チャネル６２の同一内側面上において、Ｚ方向で離れて設けられた第３低誘電膜１１６ａ及び第４低誘電膜１１６ｂを備えている。
第３低誘電膜１１６ａは、非吐出チャネル６２の下端部において、第１低誘電膜１１８ａと向かい合って形成されている。第３低誘電膜１１６ａの下端は、非吐出チャネル６２の下端と一致している。
第４低誘電膜１１６ｂは、非吐出チャネル６２の内側面における上部に設けられている。具体的に、第４低誘電膜１１６ｂの下端部は、第１低誘電膜１１８ａとＸ方向で向かい合って設けられている。第４低誘電膜１１６ｂの上端部は、切り上がり部６１ｂよりも上方に延びている。図示の例において、第４低誘電膜１１６ｂの上端部は、Ｚ方向において区画溝７９まで達している。

図３に示すように、尾部側膜１１７は、尾部７８の表面のうち、区画溝７９よりも下方に位置する部分に形成されている。尾部側膜１１７は、尾部７８の表面において、吐出チャネル６１と同一直線状に延びている。尾部側膜１１７の下端縁は、吐出チャネル６１の表面側開口縁において、底面部１１９の上端縁に連なっている。

共通配線１１１は、共通電極（電極）１２０と、共通端子（端子部）１２１と、を備えている。
共通電極１２０は、吐出チャネル６１の内面に形成されている。具体的に、共通電極１２０は、側面電極１２３及び底面電極１２４を備えている。

図６は、図２のＶＩ－ＶＩ線に対応する断面図である。
図３、図５、図６に示すように、側面電極１２３は、吐出チャネル６１の内面において、Ｘ方向で向かい合う内側面にそれぞれ形成されている。側面電極１２３は、吐出チャネル６１内において、Ｙ方向の中央部を含む＋Ｙ側の範囲に形成された第１共通電極部（第１電極部）１２３ａと、Ｙ方向の中央部を含む－Ｙ側の範囲に形成された第２共通電極部（第２電極部）１２３ｂと、を備えている。第１共通電極部１２３ａ及び第２共通電極部１２３ｂは、吐出チャネル６１内において、Ｙ方向の中央部で重なり合っている。

第１共通電極部１２３ａは、吐出チャネル６１の内側面において、Ｚ方向の全域に亘って形成されている。すなわち、第１共通電極部１２３ａは、Ｚ方向の両端部において、第１低誘電膜１１８ａ及び第２低誘電膜１１８ｂを各別に覆っている。第１共通電極部１２３ａにおいて、Ｚ方向の両端部は、第１低誘電膜１１８ａ及び第２低誘電膜１１８ｂを介して吐出チャネル６１の内側面上に配置されている（図５参照）。一方、第１共通電極部１２３ａにおいて、第１低誘電膜１１８ａ及び第２低誘電膜１１８ｂ間に位置する部分は、吐出チャネル６１の内側面に直接接している（図６参照）。

第１共通電極部１２３ａのうち、吐出チャネル６１の内側面に直接接している範囲を、共通駆動領域１２５という。共通駆動領域１２５は、各吐出チャネル６１間で一定になっている。共通駆動領域１２５のＺ方向での寸法Ｄ３は、ポンプ部１００の寸法Ｄ０よりも小さい。共通駆動領域１２５の寸法Ｄ３は、ポンプ部１００の寸法Ｄ０に対して１０％～２０％程度短くすることが好ましい。図示の例では、共通駆動領域１２５の全域がポンプ部１００の範囲内に設けられている。但し、駆動壁６５に電界をかけられる構成であれば、共通駆動領域１２５に位置する第１共通電極部１２３ａと、吐出チャネル６１の内側面と、の間に導電性材料が介在していてもよい。

第２共通電極部１２３ｂは、吐出チャネル６１の内側面において、Ｚ方向の両端部に対して内側に位置する領域（Ｚ方向の両端部を除く領域）に形成されている。すなわち、吐出チャネル６１の内側面において、第２共通電極部１２３ｂに対して下方に位置する部分は、第２共通電極部１２３ｂが形成されていない第１非形成領域１２８ａを構成している。吐出チャネル６１の内側面において、第２共通電極部１２３ｂに対して上方に位置する部分は、第２共通電極部１２３ｂが形成されていない第２非形成領域１２８ｂを構成している。

第２共通電極部１２３ｂにおけるＺ方向の寸法Ｄ４は、共通駆動領域１２５の寸法Ｄ３と同等になっている。図示の例において、第２共通電極部１２３ｂと共通駆動領域１２５との全体がＺ方向で重なり合っている。但し、第２共通電極部１２３ｂにおけるＺ方向の寸法Ｄ４と、共通駆動領域１２５の寸法Ｄ３と、は異なっていてもよい。また、第２共通電極部１２３ｂと共通駆動領域１２５とは、一部がＺ方向にずれて配置されていてもよい（図２５～図２９等参照）。

図２、図３に示すように、共通端子１２１は、尾部７８の表面上に尾部側膜１１７を介して配置されている。共通端子１２１は、尾部７８の表面上において、Ｚ方向に延びる帯状に形成されている。共通端子１２１は、吐出チャネル６１の表面側開口縁において、共通電極１２０（底面電極１２４）に接続されている。

図４～図６に示すように、個別配線１１２は、個別電極１３０と、個別端子１３１と、を備えている。
個別電極１３０は、駆動壁６５のうち非吐出チャネル６２に面する内側面にそれぞれ形成されている。非吐出チャネル６２の内面のうち、向かい合う内側面に形成された個別電極１３０同士は、非吐出チャネル６２の底面で分離されている。個別電極１３０は、非吐出チャネル６２内において、Ｙ方向の中央部を含む＋Ｙ側の範囲に形成された第１個別電極部１３０ａと、Ｙ方向の中央部を含む－Ｙ側の範囲に形成された第２個別電極部１３０ｂと、を備えている。第１個別電極部１３０ａ及び第２個別電極部１３０ｂは、非吐出チャネル６２内において、Ｙ方向の中央部で重なり合っている。

第１個別電極部１３０ａは、非吐出チャネル６２の内側面において、Ｚ方向の全域に亘って形成されている。すなわち、第１個別電極部１３０ａは、Ｚ方向の両端部において、第３低誘電膜１１６ａ及び第４低誘電膜１１６ｂを各別に覆っている。第１個別電極部１３０ａにおいて、Ｚ方向の両端部は、第３低誘電膜１１６ａ及び第４低誘電膜１１６ｂを介して非吐出チャネル６２の内側面上に配置されている。一方、第１個別電極部１３０ａにおいて、第３低誘電膜１１６ａ及び第４低誘電膜１１６ｂ間に位置する部分は、非吐出チャネル６２の内側面に直接接している。

第１個別電極部１３０ａのうち、非吐出チャネル６２の内側面に直接接している範囲を、個別駆動領域１３５という。個別駆動領域１３５のＺ方向での寸法Ｄ５は、ポンプ部１００の寸法Ｄ０よりも小さい。図示の例では、個別駆動領域１３５の全域がポンプ部１００の範囲内に設けられている。但し、駆動壁６５に電界をかけられる構成であれば、個別駆動領域１３５に位置する第１個別電極部１３０ａと、非吐出チャネル６２の内側面と、の間に導電性材料が介在していてもよい。

第２個別電極部１３０ｂは、非吐出チャネル６２の内側面において、Ｚ方向の両端部に対して内側に位置する領域（Ｚ方向の両端部を除く領域）に形成されている。すなわち、非吐出チャネル６２の内側面において、第２個別電極部１３０ｂに対して下方に位置する部分は、第２個別電極部１３０ｂが形成されていない第３非形成領域１３８ａを構成している。非吐出チャネル６２の内側面において、第２個別電極部１３０ｂに対して上方に位置する部分は、第２個別電極部１３０ｂが形成されていない第４非形成領域１３８ｂを構成している。第４非形成領域１３８ｂは、吐出チャネル６１よりも上方まで延びていることが好ましい。図示の例において、第４非形成領域１３８ｂは、非吐出チャネル６２の上端まで達している。

第２個別電極部１３０ｂにおけるＺ方向の寸法Ｄ６は、個別駆動領域１３５の寸法Ｄ５と同等になっている。図示の例において、第２個別電極部１３０ｂと個別駆動領域１３５との全体がＺ方向で重なり合っている。但し、第２個別電極部１３０ｂにおけるＺ方向の寸法Ｄ６と、個別駆動領域１３５の寸法Ｄ５と、は異なっていてもよい。また、第２個別電極部１３０ｂと個別駆動領域１３５とは、一部がＺ方向にずれて配置されていてもよい。

図３、図４に示すように、駆動壁６５を挟んで向かい合う第１共通電極部１２３ａ（共通駆動領域１２５）及び第１個別電極部１３０ａ同士は、Ｚ方向の寸法Ｄ３，Ｄ５がそれぞれ同等で、かつＸ方向から見てＺ方向の全体が重なり合っていることが好ましい。但し、共通駆動領域１２５の寸法Ｄ３及び第１個別電極部１３０ａの寸法Ｄ５は、互いに異なっていてもよい。また、第１共通電極部１２３ａ及び第１個別電極部１３０ａ同士は、Ｘ方向から見て一部がずれていてもよい。

駆動壁６５を挟んで向かい合う第２共通電極部１２３ｂ及び第２個別電極部１３０ｂ同士は、Ｚ方向の寸法Ｄ４，Ｄ６がそれぞれ同等で、かつＸ方向から見てＺ方向の全体が重なり合っていることが好ましい。但し、第２共通電極部１２３ｂの寸法Ｄ４及び第２個別電極部１３０ｂの寸法Ｄ６は、互いに異なっていてもよい。また、第２共通電極部１２３ｂ及び第２個別電極部１３０ｂ同士は、Ｘ方向から見て一部がずれていてもよい。

図２に示すように、個別端子１３１は、尾部７８の表面において、共通端子１２１よりも上方に位置する部分に形成されている。個別端子１３１は、Ｘ方向に延びる帯状とされている。個別端子１３１は、吐出チャネル６１を間に挟んでＸ方向で向かい合う非吐出チャネル６２の表面側開口縁において、吐出チャネル６１を間に挟んでＸ方向で向かい合う個別電極１３０（第１個別電極部１３０ａ）同士を接続している。個別端子１３１と共通端子１２１とは、区画溝７９によって分離されている。

図３、図４に示すように、尾部７８の表面には、フレキシブルプリント基板１３９が圧着されている。フレキシブルプリント基板１３９は、尾部７８の表面において、共通端子１２１及び個別端子１３１に接続されている。フレキシブルプリント基板１３９は、上方に引き出されている。

［プリンタ１の動作方法］
次に、上述したように構成されたプリンタ１を利用して、被記録媒体Ｐに文字や図形等を記録する場合について以下に説明する。
なお、初期状態として、図１に示す４つのインクタンク１５にはそれぞれ異なる色のインクが十分に封入されているものとする。また、インクタンク１５内のインクは、インク配管１６を通じてインクジェットヘッド５内に充填された状態となっている。

このような初期状態のもと、プリンタ１を作動させると、被記録媒体Ｐが搬送機構２，３のローラ１１，１２に挟み込まれながら＋Ｘ側に搬送される。また、これと同時にキャリッジ２３がＹ方向に移動することで、キャリッジ２３に搭載されたインクジェットヘッド５がＹ方向に往復移動する。
インクジェットヘッド５が往復移動する間に、各インクジェットヘッド５よりインクを被記録媒体Ｐに適宜吐出させる。これにより、被記録媒体Ｐに対して文字や画像等の記録を行うことができる。

キャリッジ２３（図１参照）の移動によってインクジェットヘッド５の往復移動が開始されると、フレキシブルプリント基板１３９を介して共通電極１２０及び個別電極１３０間に駆動電圧が印加される。この際、個別電極１３０を駆動電位Ｖｄｄとし、共通電極１２０を基準電位ＧＮＤとして各電極１２０，１３０間に駆動電圧を印加する。すると、駆動壁６５は、いわゆる逆圧電効果によって厚み滑り変形が生じることで、Ｙ方向の中央部を起点にしてＶ字状に屈曲変形する。すなわち、駆動壁６５は吐出チャネル６１の容積が拡大するように変形する。

各吐出チャネル６１の容積が増大した後、共通電極１２０及び個別電極１３０間に印加した電圧をゼロにする。すると、駆動壁６５が復元し、一旦増大した吐出チャネル６１の容積が元の容積に戻る。これにより、吐出チャネル６１の内部の圧力が増加し、インクが加圧される。そして、吐出チャネル６１内の圧力増加によって発生した圧力波が、ノズル孔１０２に向けて伝播する。その結果、吐出チャネル６１内のインクがノズル孔１０２を通じて液滴状に吐出される。ノズル孔１０２から吐出されたインクが被記録媒体Ｐ上に着弾することで、被記録媒体Ｐに文字や画像等を記録することができる。

＜ヘッドチップ５０の製造方法＞
次に、上述したヘッドチップ５０の製造方法について説明する。図７は、ヘッドチップ５０の製造方法を説明するためのフローチャートである。図８～図１０は、ヘッドチップ５０の製造方法を説明するための工程図であって、メインウエハ２００の平面図である。図１１～図２４は、ヘッドチップ５０の製造方法を説明するための工程図であって、図１１～図１８は図８のＡ－Ａ線に対応する断面図、図１９～図２４は図８のＢ－Ｂ線に対応する断面図である。本実施形態では、複数のヘッドチップ５０をウエハレベルで一括して製造する方法について説明する。
図７に示すように、ヘッドチップ５０は、例えばパターン形成工程と、第１ダイシング工程と、第２ダイシング工程と、低誘電膜形成工程と、第１配線形成工程（第１工程）と、第３ダイシング工程と、カバーウエハ積層工程（積層工程）と、グラインド工程と、第２配線形成工程（第２工程）と、バックウエハ積層工程と、個片化工程と、ノズルプレート積層工程と、を経て製造される。

まず、パターン形成工程として、第１電極形成工程で用いるマスクパターン（不図示）を形成する。具体的には、後にメインプレート５５となるメインウエハ２００（図８参照）の表面に感光性ドライフィルム等のマスク材料を貼り付ける。その後、フォトリソグラフィ技術を用いてマスク材料をパターニングすることで、マスク材料のうち共通配線１１１及び個別配線１１２（図４参照）の形成領域に位置する部分のマスク材料を除去する。これにより、メインウエハ２００の表面上において、少なくとも共通端子１２１及び個別端子１３１の形成領域が開口するマスクパターンが形成される。なお、マスク材料は、メインウエハ２００の表面に塗布等により形成してもよい。

図８、図１１に示すように、第１ダイシング工程は、メインウエハ２００に対し、後に吐出チャネル６１となる第１ダイシングライン２１０を形成する。具体的には、メインウエハ２００に対して表面側からダイサーを進入させ、ダイサーを所定量走行させる。第１ダイシングライン２１０の延在方向Ｌ１に沿う長さは、吐出チャネル６１の２つ分程度の長さに設定されている。したがって、第１ダイシングライン２１０のうち、延在方向Ｌ１の両端部は吐出チャネル６１の切り上がり部６１ｂ（図３参照）として機能する部分となり、延在方向Ｌ１の中央部は延在部６１ａ（図３参照）として機能する部分となる。第１ダイシング工程では、上述した動作を、メインウエハ２００に対して延在方向Ｌ１及び延在方向Ｌ１に交差する交差方向（以下、交差方向Ｌ２という。）に間隔をあけて繰り返し行う。

図８、図１９に示すように、第２ダイシング工程では、後に非吐出チャネル６２となる第２ダイシングライン２１１を形成する。具体的には、メインウエハ２００における第１ダイシングライン２１０に対してＸ方向の両側に位置する部分にダイサーを進入させ、延在方向Ｌ１においてメインウエハ２００の全長に亘ってダイサーを走行させる。これにより、隣り合う第１ダイシングライン２１０同士の間に第２ダイシングライン２１１が形成される。

図１２、図２０に示すように、低誘電膜形成工程では、メインウエハ２００に対して低誘電膜１１０を形成する。具体的に、低誘電膜形成工程は、メインウエハ２００の表面にメタルマスク（第１マスク）２２０をセットした状態で、メインウエハ２００の表面に対して低誘電膜１１０の形成材料を斜め蒸着等することにより行う。メタルマスク２２０は、メインウエハ２００のうち、低誘電膜１１０の形成領域と重なり合う部分にマスク開口（第１マスク開口２２１ａ及び第２マスク開口２２１ｂ）を有する板状に形成されている。

第１マスク開口２２１ａは、第１ダイシングライン２１０における延在方向Ｌ１の中央部に位置している。第１マスク開口２２１ａは、延在方向Ｌ１において、上述した第１低誘電膜１１８ａが２つ分（Ｄ１×２）の長さ程度を有している。第１マスク開口２２１ａは、交差方向Ｌ２において、全てのダイシングライン２１０，２１１を跨る幅を有している。但し、第１マスク開口２２１ａは、一又は複数のダイシングライン２１０，２１１毎に形成されていてもよい。

第２マスク開口２２１ｂは、第１マスク開口２２１ａに対して延在方向Ｌ１の両側にそれぞれ位置している。一方の第２マスク開口２２１ｂは、第１ダイシングライン２１０の一方の端部から第１ダイシングライン２１０の外側領域まで至っている。他方の第２マスク開口２２１ｂは、第１ダイシングライン２１０の他方の端部から第１ダイシングライン２１０の外側領域まで至っている。

メタルマスク２２０のうち、一方の第２マスク開口２２１ｂと第１マスク開口２２１ａとの間に位置する部分、及び他方の第２マスク開口２２１ｂと第１マスク開口２２１ａとの間に位置する部分は、それぞれチャネル被覆部（被覆部）２２２を構成している。各チャネル被覆部２２２は、駆動領域１２５，１３５と重なり合う部分であって、延在方向Ｌ１における寸法がポンプ部１００の寸法Ｄ０よりも小さく設定されている。また、メタルマスク２２０のうち、隣り合う第１ダイシングライン２１０の間であって、第２マスク開口２２１ｂに対してチャネル被覆部２２２とは反対側に位置する部分は、尾部被覆部２２３を構成している。

低誘電膜形成工程では、メタルマスク２２０をメインウエハ２００の表面上にセットする。この際、第１マスク開口２２１ａにおける延在方向Ｌ１の中心が、第１ダイシングライン２１０における延在方向Ｌ１の中心に一致していることが好ましい。これにより、ポンプ部１００におけるＺ方向の中心が、駆動領域１２５，１３５（チャネル被覆部２２２）におけるＺ方向の中心に一致する。この状態で、メインウエハ２００の表面に対して斜め蒸着を行うことで、マスク開口２２１ａ，２２１ｂを通じてメインウエハ２００に低誘電膜１１０の形成材料が成膜される。すなわち、低誘電膜１１０は、メインウエハ２００の表面、及び各ダイシングライン２１０，２１１の内面における＋Ｙ側に成膜される。低誘電膜形成工程後、メタルマスク２２０を取り外す。

図１３、図２１に示すように、第１配線形成工程では、不図示のマスクパターンを介してメインウエハ２００の表面に対して斜め蒸着等を行うことで、電極材料を成膜する。これにより、メインウエハ２００の表面や各ダイシングライン２１０，２１１の内面に共通配線１１１及び個別配線１１２の一部（第１共通電極部１２３ａ、第１個別電極部１３０ａ、共通端子１２１及び個別端子１３１）が形成される。この場合、図１３に示すように、第１共通電極部１２３ａの一部は、第１ダイシングライン２１０の適所（両端部及び中央部）において、低誘電膜１１０を介して成膜される。共通端子１２１は、メインウエハ２００の表面上において、低誘電膜１１０を介して成膜される。個別端子１３１は、メインウエハ２００の表面上に直接形成される。図２１に示すように、第１個別電極部１３０ａの一部は、第２ダイシングライン２１１の適所において、低誘電膜１１０を介して成膜される。

図９に示すように、第３ダイシング工程では、後に区画溝７９となる第３ダイシングライン２１３を形成する。具体的には、メインウエハ２００において、延在方向Ｌ１で隣り合う第１ダイシングライン２１０の間に位置する部分に対し、メインウエハ２００を表面側からダイサーを進入させ、ダイサーを交差方向Ｌ２に走行させる。

図１４、図２２に示すように、カバーウエハ積層工程では、メインウエハ２００の表面に、後にカバープレート５４となるカバーウエハ２３０をＹ方向で重ね合わせる。
図１５、図２３に示すように、グラインド工程では、メインウエハ２００の裏面に対してグラインド加工を施し、第１ダイシングライン２１０及び第２ダイシングライン２１１をメインウエハ２００の裏面上で開口させる。

図１６、図２４に示すように、第２配線形成工程では、メインウエハ２００の裏面上にメタルマスク（第２マスク）２４０をセットした状態で、メインウエハ２００の裏面に対して電極材料を斜め蒸着等することにより行う。メタルマスク２４０は、メインウエハ２００のうち、第２共通電極部１２３ｂ及び第２個別電極部１３０ｂの形成領域と重なり合う部分にマスク開口（第３マスク開口）２４１を有する板状に形成されている。

マスク開口２４１は、第１ダイシングライン２１０のうち、延在方向Ｌ１の中央部に対して両側に位置している。マスク開口２４１は、駆動領域１２５，１３５と重なり合う部分であって、延在方向Ｌ１における寸法がポンプ部１００の寸法Ｄ０よりも小さく設定されている。マスク開口２４１は、交差方向Ｌ２において、全てのダイシングライン２１０，２１１を跨る幅を有している。但し、マスク開口２４１は、一又は複数のダイシングライン２１０，２１１毎に形成されていてもよい。

メタルマスク２４０のうち、一の第１ダイシングライン２１０に重なり合うマスク開口２４１同士の間に位置する部分は、中央被覆部２４２ａを構成している。中央被覆部２４２ａは、第１ダイシングライン２１０における延在方向Ｌ１の中央部に位置している。メタルマスク２４０のうち、マスク開口２４１に対して中央被覆部２４２ａとは反対側に位置する部分は、外側被覆部２４２ｂを構成している。外側被覆部２４２ｂは、第１ダイシングライン２１０の端部から第１ダイシングライン２１０の外側領域まで至っている。

第２配線形成工程では、メタルマスク２４０をメインウエハ２００の裏面上にセットする。この際、中央被覆部２４２ａにおける延在方向Ｌ１の中心が、第１ダイシングライン２１０における延在方向Ｌ１の中心に一致していることが好ましい。これにより、ポンプ部１００におけるＺ方向の中心が、駆動領域１２５，１３５（マスク開口２４１）におけるＺ方向の中心に一致する。この状態で、メインウエハ２００の裏面に対して斜め蒸着を行うことで、マスク開口２４１を通じ各ダイシングライン２１０，２１１の内面に電極材料が成膜される。この場合、図１６に示すように、第１ダイシングライン２１０の内面のうち、延在方向Ｌ１の中央部及び両端部を除く部分に、第２共通電極部１２３ｂが形成される、一方、図２４に示すように、第２ダイシングライン２１１の内面のうち、第２共通電極部１２３ｂと交差方向Ｌ２で向かい合う部分に第２個別電極部１３０ｂが形成される。

図１７に示すように、バックウエハ積層工程では、メインウエハ２００の裏面に、後にバックプレート５６となるバックウエハ２４５を積層する。これにより、各ダイシングライン２１０，２１１が閉塞される。

図１０、図１８に示すように、個片化工程では、メインウエハ２００、カバーウエハ２３０及びバックウエハ２４５からなるウエハ接合体２４６をヘッドチップ５０毎に分割する。具体的には、ウエハ接合体２４６のうち、第１ダイシングライン２１０における延在方向Ｌ１の中央部（図９中Ｑ１参照）、延在方向Ｌ１で隣り合う第１ダイシングライン２１０の間に位置する部分（図９中Ｑ２参照）に対して、ダイサーを交差方向Ｌ２に走行させる。これにより、上述したアクチュエータプレート５３及びカバープレート５４がチップ単位で切り出された複数のチップ接合体２４７が形成される。

ノズルプレート接合工程では、個片化工程で切り出されたチップ接合体２４７にノズルプレート５１を貼り合わせる。
以上により、ヘッドチップ５０が製造される。

このように、本実施形態では、吐出チャネル６１の内面に、下端部に設けられた第１低誘電膜１１８ａと、上端部に設けられた第２低誘電膜１１８ｂと、上端部から下端部に亘って設けられ、第１低誘電膜１１８ａ及び第２低誘電膜１１８ｂを覆う第１共通電極部１２３ａと、が設けられている構成とした。
この構成によれば、吐出チャネル６１の両端部に内側面部１１８（第１低誘電膜１１８ａ及び第２低誘電膜１１８ｂ）を形成する場合には、例えば吐出チャネル６１のうち低誘電膜１１８ａ，１１８ｂの形成領域に対応するマスク開口２２１ａ，２２１ｂを有し、低誘電膜１１８ａ，１１８ｂの非形成領域に対応する被覆部２２２，２２３を有するメタルマスク２２０を配置して行う。この場合、低誘電膜１１８ａ，１１８ｂの形成領域をチャネル被覆部２２２の位置ずれを許容する許容代として利用できる。すなわち、内側面部１１８が吐出チャネル６１におけるＺ方向（延在方向Ｌ１）の何れかの端部のみに設けられる場合のように、吐出チャネル６１における何れかの端部でチャネル被覆部２２２を位置合わせする場合に比べ、チャネル被覆部２２２が位置ずれした際であっても内側面部１１８の非形成領域の寸法が各吐出チャネル６１間で揃い易い。その結果、各吐出チャネル６１間での吐出性能のばらつきを抑制できる。

上述した作用効果について、図面に基づき説明する。図３３、図３４は、従来技術に係るヘッドチップ５０の断面図である。図２５、図２６は、本実施形態のヘッドチップ５０の断面図である。以下の説明において、実施形態に係るヘッドチップ５０と同一の構成については、同一の符号を付して説明を省略する。
図３３、図３４に示すように、従来のヘッドチップ５０では、メタルマスク１００１のチャネル被覆部１００２が吐出チャネル６１の下端部を覆った状態で、低誘電膜１１０の内側面部１１８が形成される。すなわち、メタルマスク１００１のマスク開口１００３は、吐出チャネル６１の上端部を含む部分を露出させている。この場合、メタルマスク１００１が所望の位置に対してＺ方向に位置ずれした場合、共通駆動領域１２５におけるＺ方向の寸法Ｄ３にばらつきが生じ易い。すなわち、図３３に示すように、メタルマスク１００１が所望の位置に対して＋Ｚ側に位置ずれすると、共通駆動領域１２５が長くなる。一方、図３４に示すように、メタルマスク１００１が所望の位置に対して－Ｚ側に位置ずれすると、共通駆動領域１２５が短くなる。すると、ウエハ接合体２４６（図１７参照）から個片化される各ヘッドチップ５０間で共通駆動領域１２５の長さが異なる。その結果、各ヘッドチップ５０間での吐出性能のばらつきが生じる可能性がある。
また、メタルマスク１００１がＹ方向に沿う軸線回りで位置ずれすると、同一のヘッドチップ５０における各吐出チャネル６１間で共通駆動領域１２５の長さが異なることになる。その結果、同一のヘッドチップ５０における各吐出チャネル６１間での吐出性能のばらつきが生じる可能性がある。

これに対して、本実施形態では、図２５に示すように、メタルマスク２２０が所望の位置に対して－Ｚ側に位置ずれした場合であっても、図２６に示すようにメタルマスク２２０が所望の位置に対して＋Ｚ側に位置ずれした場合であっても、共通駆動領域１２５の寸法ばらつきを抑制できる。そのため、上述したようにチャネル被覆部２２２が位置ずれした際であっても内側面部１１８の非形成領域の寸法が各吐出チャネル６１間で揃い易い。その結果、各吐出チャネル６１間での吐出性能のばらつきを抑制できる。

本実施形態では、第１低誘電膜１１８ａ及び第２低誘電膜１１８ｂ間のＺ方向での間隔（共通駆動領域１２５の寸法Ｄ３）は、複数の吐出チャネル６１間で一定になっている構成とした。
この構成によれば、第１共通電極部１２３ａのうち、第１低誘電膜１１８ａ及び第２低誘電膜１１８ｂ間に位置する部分は、吐出チャネル６１の内面に直接接し、アクチュエータプレート５３の駆動に寄与する共通駆動領域１２５として機能する。本実施形態では、各吐出チャネル６１間で共通駆動領域１２５の寸法Ｄ３が一定になるので、各吐出チャネル６１間での吐出性能のばらつきを抑制できる。

本実施形態では、Ｚ方向において、第１低誘電膜１１８ａ及び第２低誘電膜１１８ｂ間の間隔（共通駆動領域１２５の寸法Ｄ３）は、ポンプ部１００の長さよりも短い構成とした。
この構成によれば、共通駆動領域１２５をポンプ部１００に配置し易くなるので、ポンプ部１００を効率的に駆動させることができ、吐出性能を維持できる。

本実施形態では、第１低誘電膜１１８ａは、ポンプ部１００に位置し、第２低誘電膜１１８ｂの一部は、ポンプ部１００と連通部１０１との境界部分よりも下方に位置している構成とした。
この構成によれば、低誘電膜１１８ａ，１１８ｂの位置ずれに関わらず、共通駆動領域１２５が確実にポンプ部１００に配置される。そのため、低誘電膜形成用のメタルマスク２２０の位置ずれの影響を相殺し、各吐出チャネル６１間での吐出性能を一定に維持し易い。

本実施形態では、吐出チャネル６１の内面のうち、－Ｙ側であって、Ｚ方向の両端部に対して内側の領域に設けられ、吐出チャネル６１の内面において第１共通電極部１２３ａに連なる第２共通電極部１２３ｂを備えている構成とした。
この構成によれば、吐出チャネル６１の内面の－Ｙ側において、下端部は第２共通電極部１２３ｂが形成されない第１非形成領域１２８ａを構成し、上端部は第２共通電極部１２３ｂが形成されない第２非形成領域１２８ｂを構成する。第１非形成領域１２８ａ及び第２非形成領域１２８ｂについて、例えばメタルマスク２４０を介して形成する場合等には、吐出チャネル６１のうち非形成領域１２８ａ，１２８ｂ（Ｚ方向の両端部）に対応して被覆部２４２ａ，２４２ｂが配置され、第２共通電極部１２３ｂの形成領域に対応してマスク開口２４１が配置される。この場合、非形成領域１２８ａ，１２８ｂをマスク開口２４１の位置ずれを許容する許容代として利用できる。すなわち、図２７に示すように、メタルマスク２４０が所望の位置に対して－Ｚ側に位置ずれした場合であっても、図２８に示すようにメタルマスク２４０が所望の位置に対して＋Ｚ側に位置ずれした場合であっても、第２共通電極部１２３ｂの寸法ばらつきを抑制できる。これにより、吐出チャネル６１の上端部のみを第２共通電極部１２３ｂの非形成領域とする場合に比べ、被覆部２４２ａ，２４２ｂが位置ずれした際における第２共通電極部１２３ｂの寸法が各吐出チャネル６１間で揃い易い。その結果、各吐出チャネル６１間での吐出性能のばらつきを抑制できる。

しかも、本実施形態では、非吐出チャネル６２の内側面について、ポンプ部１００よりも上方に位置する部分に第４非形成領域１３８ｂを設ける構成とした。
この構成によれば、駆動壁６５のうち、ポンプ部１００よりも上方に位置する部分（駆動に寄与し難い部分）に対し、第２個別電極部１３０ｂに流れる電流によって電界がかかるのを抑制できる。これにより、ヘッドチップ５０の発熱を抑えることができるとともに、消費電力を軽減できる。

本実施形態では、第２共通電極部１２３ｂにおけるＺ方向での寸法が、複数の吐出チャネル６１間で一定になっている構成とした。
この構成によれば、各吐出チャネル６１間での吐出性能のばらつきを抑制できる。

本実施形態では、第１非形成領域１２８ａがポンプ部１００に位置し、第２非形成領域１２８ｂの一部がポンプ部１００と連通部１０１との境界部分よりも下方に位置している構成とした。
この構成によれば、第２共通電極部１２３ｂが確実にポンプ部１００に配置されるので、ポンプ部１００を効率的に駆動させることができ、吐出性能を維持できる。

本実施形態のインクジェットヘッド５及びプリンタ１では、上述したヘッドチップ５０を備えているので、同一のヘッドチップ５０における各吐出チャネル６１間、又は複数のヘッドチップ５０間で吐出性能の均一化を図り、商品性に優れたインクジェットヘッド５及びプリンタ１を提供できる。

（第１変形例）
本変形例のヘッドチップ５０は、図２９に示すように、第２低誘電膜１１８ｂの全体がポンプ部１００と連通部１０１との境界部分よりも上方に位置する部分に設けられている。すなわち、メタルマスク２２０が＋Ｚ側に位置ずれした結果、第２低誘電膜１１８ｂの全体が連通部１０１に設けられている。
本変形例では、第１共通電極部１２３ａがＺ方向の全域に亘って設けられているため、第２低誘電膜１１８ｂが連通部１０１に位置している場合には、共通駆動領域１２５の上端部が連通部１０１に位置する。

本変形例のように、メタルマスク２２０の位置ずれにより、共通駆動領域１２５の一部がポンプ部１００からずれて配置された場合であっても、共通駆動領域１２５の寸法Ｄ３は一定に維持される。この場合、第１共通電極部１２３ａのうち、ポンプ部１００と連通部１０１との境界部分よりも上方に位置する部分（以下、はみだし部分という。）が吐出チャネル６１の内側面に直接接する。そのため、はみだし部分を吐出チャネル６１の駆動に少なからず寄与させることができる。これにより、第２低誘電膜１１８ｂの全体が連通部１０１に位置している場合において、共通駆動領域１２５をポンプ部１００内で収める構成に比べ、吐出性能の低下を抑制できる。すなわち、低誘電膜形成用のメタルマスク２２０の位置ずれによる吐出性能への影響を可能な限り軽減できる。

（第２変形例）
本変形例のヘッドチップ５０は、図３０に示すように、第２非形成領域１２８ｂの全体がポンプ部１００と連通部１０１との境界部分よりも上方に位置する部分に設けられている。すなわち、メタルマスク２４０が＋Ｚ側に位置ずれした結果、第２非形成領域１２８ｂの全体が連通部１０１に設けられている。そのため、第２共通電極部１２３ｂの一部（上端部）は、連通部１０１に位置している。

この場合、第２共通電極部１２３ｂのうち、ポンプ部１００と連通部１０１との境界部分よりも上方に位置する部分（以下、はみだし部分という。）を吐出チャネルの駆動に少なからず寄与させることができる。これにより、第２共通電極部１２３ｂをポンプ部１００内で収める構成に比べ、吐出性能の低下を抑制できる。すなわち、低誘電膜形成用のメタルマスク２４０の位置ずれによる吐出性能への影響を可能な限り軽減できる。

（第３変形例）
上述した実施形態及び各種変形例では、第２共通電極部１２３ｂ及び第２個別電極部１３０ｂに対してＺ方向の両側に非形成領域１２８ａ，１２８ｂ，１３８ａ，１３８ｂを備える点について説明した。但し、本開示においては、非形成領域１２８ａ，１２８ｂ，１３８ａ，１３８ｂを備えない構成であってもよい。
図３１に示すヘッドチップ５０において、第２共通電極部１２３ｂは、吐出チャネル６１の内側面のうち－Ｙ側に位置する部分において、延在部６１ａの全域に亘って延びている。第２共通電極部１２３ｂの下端は、吐出チャネル６１の下端に一致している。一方、第２共通電極部１２３ｂの上端は、延在部６１ａの底面と切り上がり部６１ｂの底面との境界部分（ナイフエッジ部）まで達している。

図３２に示すように、第２個別電極部１３０ｂは、非吐出チャネル６２の内側面のうち－Ｙ側に位置する部分において、Ｚ方向の全域に亘って延びている。第２共通電極部１２３ｂの下端は、非吐出チャネル６２の下端に一致している。一方、第２個別電極部１３０ｂの上端は、非吐出チャネル６２の上端に一致している。

本変形例によれば、第２共通電極部１２３ｂ及び第２個別電極部１３０ｂのＺ方向の寸法を確保できるので、第２共通電極部１２３ｂ及び第２個別電極部１３０ｂを吐出チャネル６１の駆動に寄与させ易い。その結果、ヘッドチップ５０の出力を向上させ易い。

（その他の変形例）
なお、本開示の技術範囲は上述した実施形態に限定されるものではなく、本開示の趣旨を逸脱しない範囲において種々の変更を加えることが可能である。
例えば、上述した実施形態では、液体噴射記録装置の一例として、インクジェットプリンタ１を例に挙げて説明したが、プリンタに限られるものではない。例えば、ファックスやオンデマンド印刷機等であってもよい。
上述した実施形態では、印刷時にインクジェットヘッドが被記録媒体に対して移動する構成（いわゆる、シャトル機）を例にして説明をしたが、この構成に限られない。本開示に係る構成は、インクジェットヘッドを固定した状態で、インクジェットヘッドに対して被記録媒体を移動させる構成（いわゆる、固定ヘッド機）に採用してもよい。
上述した実施形態では、被記録媒体Ｐが紙の場合について説明したが、この構成に限られない。被記録媒体Ｐは、紙に限らず、金属材料や樹脂材料であってもよく、食品等であってもよい。
上述した実施形態では、液体噴射ヘッドが液体噴射記録装置に搭載された構成について説明したが、この構成に限られない。すなわち、液体噴射ヘッドから噴射される液体は、被記録媒体に着弾させるものに限らず、例えば調剤中に配合する薬液や、食品に添加する調味料や香料等の食品添加物、空気中に噴射する芳香剤等であってもよい。

上述した実施形態では、Ｚ方向が重力方向に一致する構成について説明したが、この構成のみに限らず、Ｚ方向を水平方向に沿わせてもよい。
上述した実施形態では、第１方向がＺ方向に一致し、第２方向がＸ方向に一致する構成について説明したが、この構成に限られない。第１方向及び第２方向は、Ｘ方向及びＺ方向とは別に定めてもよい。

上述した実施形態では、各チャネル６１，６２の内側面について、＋Ｙ側に位置する部分のみに低誘電膜１１８ａ，１１８ｂ，１１６ａ，１１６ｂが形成された構成について説明したが、この構成に限られない。低誘電膜は、各チャネル６１，６２の内側面について、Ｙ方向の全域に亘って設けられていてもよい。
上述した実施形態では、チャネルの内側面における＋Ｙ側及び－Ｙ側に対し、電極（例えば、第１共通電極部１２３ａ及び第２共通電極部１２３ｂ）を別工程で形成する構成について説明したが、この構成に限られない。チャネルの内側面におけるＹ方向の全域に亘って第１共通電極部１２３ａや第１個別電極部１３０ａが一括して形成されていてもよい。

上述した実施形態では、各チャネル６１，６２の内側面に低誘電膜１１８ａ，１１８ｂ，１１６ａ，１１６ｂが形成された構成について説明したが、この構成に限られない。低誘電膜は、吐出チャネル６１の内側面及び非吐出チャネル６２の内側面のうち何れかの内側面のみに設けられていてもよい。
上述した実施形態では、吐出チャネル６１と非吐出チャネル６２とが交互に配列された構成について説明したが、これに限らない。例えば、全チャネルから順次インクを噴射する、いわゆる３サイクル方式のヘッドチップ５０に本開示を適用しても構わない。

上述した実施形態では、アクチュエータプレート５３として、分極方向がＹ方向で異なる２枚の圧電プレートが積層されたシェブロンタイプを例にして説明したが、この構成に限られない。アクチュエータプレート５３として、分極方向がＹ方向（厚さ方向）の全域で一方向な一枚の圧電プレートで形成されていてもよい（いわゆるモノポールタイプ）。モノポールタイプのヘッドチップ５０では、各チャネル６１，６２のうち、Ｙ方向の中央部を含む少なくとも＋Ｙ側に各種電極が設けられる。

その他、本開示の趣旨を逸脱しない範囲で、上述した実施形態における構成要素を周知の構成要素に置き換えることは適宜可能であり、また、上述した各変形例を適宜組み合わせてもよい。

１…インクジェットプリンタ（液体噴射記録装置）
５…インクジェットヘッド（液体噴射ヘッド）
５０…ヘッドチップ
５１…ノズルプレート（噴射孔プレート）
５３…アクチュエータプレート
５１…ノズルプレート（噴射孔プレート）
５４…カバープレート（流路部材）
６１…吐出チャネル（噴射チャネル）
７８：尾部
９１：入口スリット（液体流路）
１００：ポンプ部
１０１：連通部
１０２：ノズル孔（噴射孔）
１１０：低誘電膜
１１８ａ：第１低誘電膜
１１８ｂ：第２低誘電膜
１２０：共通電極（電極）
１２１：共通端子（端子部）
１２３ａ：第１共通電極部（第１電極部）
１２３ｂ：第２共通電極部（第２電極部）
１２８ａ：第１非形成領域
１２８ｂ：第２非形成領域
２２１ａ：第１マスク開口
２２１ｂ：第２マスク開口
２２２：被覆部
２４１：マスク開口（第３マスク開口）

Claims (13)

1. 第１方向に延びるとともに、前記第１方向に交差する第２方向に間隔をあけて設けられた噴射チャネルを有し、前記噴射チャネルにおける前記第１方向の第１側端部が開口する端面を有するアクチュエータプレートと、
   前記噴射チャネルに連通する噴射孔を有し、前記端面に向かい合って設けられた噴射孔プレートと、を備え、
   前記噴射チャネルの内面には、
   前記第１方向における第１側端部に設けられた第１低誘電膜と、
   前記第１方向における第２側端部に設けられた第２低誘電膜と、
   前記第１方向における第１側端部から第２側端部に亘って設けられ、前記第１低誘電膜及び前記第２低誘電膜を覆う第１電極部と、が設けられているヘッドチップ。
2. 前記第１低誘電膜及び前記第２低誘電膜間の前記第１方向での間隔は、複数の前記噴射チャネル間で一定になっている請求項１に記載のヘッドチップ。
3. 前記噴射チャネルに対して前記第１方向の第２側端部で連通する液体流路を有し、前記第１方向から見て前記第２方向に交差する厚さ方向で前記アクチュエータプレートに向かい合って設けられたカバープレートを備え、
   前記噴射チャネルは、
   前記厚さ方向から見て前記液体流路に重なり合う連通部と、
   前記連通部よりも前記第１方向の第１側に設けられたポンプ部と、を備え、
   前記第１方向において、前記第１低誘電膜及び前記第２低誘電膜間の間隔は、前記ポンプ部の長さよりも短い請求項１又は請求項２に記載のヘッドチップ。
4. 前記第１低誘電膜は、前記ポンプ部に位置し、
   前記第２低誘電膜の一部は、前記ポンプ部と前記連通部との境界部分よりも前記第１方向の第１側に位置している請求項３に記載のヘッドチップ。
5. 前記第１低誘電膜は、前記ポンプ部に位置し、
   前記第２低誘電膜の全体が、前記ポンプ部と前記連通部との境界部分よりも前記第１方向の第２側に位置している請求項３に記載のヘッドチップ。
6. 前記アクチュエータプレートは、前記噴射チャネルに対して前記第１方向の第２側に位置する尾部を備え、
   前記第１電極部は、前記噴射チャネルの内面における前記厚さ方向の第１側に位置し、
   前記尾部のうち前記厚さ方向の第１側を向く主面上に設けられるとともに、前記噴射チャネルの開口縁で前記第１電極部に連なる端子部と、
   前記噴射チャネルの内面のうち、前記厚さ方向の第２側であって、前記第１方向の第１側端部及び第２側端部の内側に設けられ、前記噴射チャネルの内面において前記第１電極部に連なる第２電極部と、を備えている請求項３から請求項５の何れか１項に記載のヘッドチップ。
7. 前記第２電極部における前記第１方向での寸法は、複数の前記噴射チャネル間で一定になっている請求項６に記載のヘッドチップ。
8. 前記噴射チャネルの内面における前記厚さ方向の第２側のうち、前記第１方向における第１側端部は、前記第２電極部が形成されない第１非形成領域を構成し、
   前記噴射チャネルの内面における前記厚さ方向の第２側のうち、前記第１方向における第２側端部は、前記第２電極部が形成されない第２非形成領域を構成し、
   前記第１非形成領域は、前記ポンプ部に位置し、
   前記第２非形成領域の一部は、前記ポンプ部と前記連通部との境界部分よりも前記第１方向の第１側に位置している請求項６又は請求項７に記載のヘッドチップ。
9. 前記噴射チャネルの内面における厚さ方向の第２側のうち、前記第１方向における第１側端部は、前記第２電極部が形成されない第１非形成領域を構成し、
   前記噴射チャネルの内面における厚さ方向の第２側のうち、前記第１方向における第２側端部は、前記第２電極部が形成されない第２非形成領域を構成し、
   前記第１非形成領域は、前記ポンプ部に位置し、
   前記第２非形成領域の全体が、前記ポンプ部と前記連通部との境界部分よりも前記第１方向の第２側に位置している請求項６又は請求項７に記載のヘッドチップ。
10. 請求項１から請求項９の何れか１項に記載のヘッドチップを備えている液体噴射ヘッド。
11. 請求項１０に記載の液体噴射ヘッドを備えている液体噴射記録装置。
12. 第１方向に延びるとともに、前記第１方向に交差する第２方向に間隔をあけて設けられた噴射チャネルを有するアクチュエータプレートに対して、前記噴射チャネルの内面に第１マスクを介して低誘電膜を形成する低誘電膜形成工程と、
    前記噴射チャネルの内面に対して前記低誘電膜を覆うように電極を形成する電極形成工程と、
    前記噴射チャネル内に連通する液体流路を有するカバープレートを、前記第１方向から見て前記第２方向に交差する厚さ方向で、前記アクチュエータプレートに重ね合わせる積層工程と、を有し、
    前記噴射チャネルは、
    前記厚さ方向から見て前記液体流路に重なり合う連通部と、
    前記連通部よりも前記第１方向の第１側に設けられたポンプ部と、を備え、
    前記第１マスクには、前記第１方向の間隔が前記第１方向における前記ポンプ部の寸法よりも短く設定された第１マスク開口及び第２マスク開口が形成され、
    前記低誘電膜形成工程では、前記第１マスクのうち前記第１マスク開口及び前記第２マスク開口間に位置する被覆部を前記ポンプ部に重ね合わせた状態で、前記第１マスク開口及び前記第２マスク開口を通じて前記噴射チャネル内に前記低誘電膜の形成材料を導入するヘッドチップの製造方法。
13. 前記アクチュエータプレートは、前記噴射チャネルに対して前記第１方向の第２側に位置する尾部を備え、
    前記電極形成工程は、
    前記噴射チャネル内に対して前記厚さ方向の第１側から前記電極の形成材料を導入する第１工程と、
    前記噴射チャネル内に対して前記厚さ方向の第２側から第２マスクを介して前記電極の形成材料を導入する第２工程と、を備え、
    前記第１工程では、前記噴射チャネルの内面において前記低誘電膜を覆うように前記電極を形成するとともに、前記尾部のうち前記厚さ方向の第１側を向く主面上に前記電極に連なる端子を形成し、
    前記第２マスクには、前記第２方向の間隔が前記第１方向における前記ポンプ部の寸法よりも短く設定された第３マスク開口が形成され、
    前記第２工程では、前記第３マスク開口を前記ポンプ部に重ね合わせた状態で、前記第３マスク開口を通じて前記噴射チャネル内に前記電極の形成材料を導入する請求項１２に記載のヘッドチップの製造方法。

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