JP2024025198A - ストレーナ、及び、加工装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】エア噴射や電力等のエネルギーを必要とすることなく、排水口からの廃液の流れを確保するための新規な構成を提案する。【解決手段】被加工物を保持する保持ユニットと、該保持ユニットで保持された被加工物に加工を施す加工ユニットと、該保持ユニットで保持された被加工物に加工液を供給する加工液供給ユニットと、加工屑を含む廃液を受けるウォーターケースと、該ウォーターケースに形成された廃液口と、を備えた加工装置の該廃液口に配設されるストレーナであって、該廃液口の縁に係留される鍔部と、該鍔部よりも下方の位置において液体を通過させる開口部を有する本体部と、該鍔部よりも上方の位置において液体を通過させる開口部を有し、該本体部に該加工屑が進入することを防止する防止壁と、を備えたストレーナとする。【選択図】図３
Description
本発明は、加工装置の廃液口に配設されるストレーナ、及び、加工装置に関する。
従来、例えば特許文献１に開示されるように、加工装置の廃液口から加工で生じた加工屑が流れ出ないように、加工装置の廃液口にはストレーナが配設されることが知られている。
加工で生じた加工屑がストレーナ内に落下すると、廃液口からの廃液の流れが妨げられ、ウォーターケースから廃液が漏水してしまう。
そこで、特許文献１では、網カゴ（ストレーナ）の下方から網カゴに向かってエアを噴射するエア噴射部を備え、エア噴射部から噴射したエアによって大きな加工屑を上昇させ、網カゴ内上方で大きな加工屑が浮きながら踊るように動かすことで、排水口からの廃液の流れが大きな加工屑によって妨げられないようにする技術を開示している。
特許文献１に開示される構成では、エア噴射のための機構が必要となって装置構成が複雑になり、また、電力等のエネルギーを利用する必要があることから改善が望まれていた。
本発明は以上の問題に鑑み、エア噴射や電力等のエネルギーを必要とすることなく、排水口からの廃液の流れを確保するための新規な構成を提案するものである。
本発明の解決しようとする課題は以上の如くであり、次にこの課題を解決するための手段を説明する。
本発明の一態様によれば、被加工物を保持する保持ユニットと、該保持ユニットで保持された被加工物に加工を施す加工ユニットと、該保持ユニットで保持された被加工物に加工液を供給する加工液供給ユニットと、加工屑を含む廃液を受けるウォーターケースと、該ウォーターケースに形成された廃液口と、を備えた加工装置の該廃液口に配設されるストレーナであって、該廃液口の縁に係留される鍔部と、該鍔部よりも下方の位置において液体を通過させる開口部を有する本体部と、該鍔部よりも上方の位置において液体を通過させる開口部を有し、該本体部に該加工屑が進入することを防止する防止壁と、を備えたストレーナとする。
また、本発明の一態様によれば、該防止壁は、該本体部の上部の開口を傘状に閉塞する、こととする。
また、本発明の一態様によれば、該防止壁は、該鍔部から立設する筒状である、こととする。
また、本発明の一態様によれば、被加工物を保持する保持ユニットと、該保持ユニットで保持された被加工物に加工を施す加工ユニットと、該保持ユニットで保持された被加工物に加工液を供給する加工液供給ユニットと、加工屑を含む廃液を受けるウォーターケースと、該ウォーターケースに形成された廃液口と、該廃液口に配設されるストレーナと、を備えた加工装置であって、該ストレーナは、該廃液口の縁に係留される鍔部と、該鍔部よりも下方の位置において液体を通過させる開口部を有する本体部と、該鍔部よりも上方の位置において液体を通過させる開口部を有し、該本体部に該加工屑が進入することを防止する防止壁と、を備えた加工装置とする。
本発明は、以下に示すような効果を奏する。
即ち、本発明の一態様によれば、加工屑が防止壁によって本体部に進入することが防がれ、本体部に加工屑が溜まることにより廃液口で廃液が流れなくなる不具合を防ぐことができる。また、エア噴射や電力等のエネルギーも必要されることはない。
即ち、本発明の一態様によれば、加工屑が防止壁によって本体部に進入することが防がれ、本体部に加工屑が溜まることにより廃液口で廃液が流れなくなる不具合を防ぐことができる。また、エア噴射や電力等のエネルギーも必要されることはない。
以下、図面を参照して本発明の実施形態について説明する。
図１に示す加工装置１は、被加工物Ｗを保持する保持ユニット３０と、保持ユニット３０で保持された被加工物Ｗに加工を施す加工ユニット７と、保持ユニット３０で保持された被加工物Ｗに加工液を供給する加工液供給ユニット６０と、加工屑を含む廃液を受けるウォーターケース４と、ウォーターケース４に形成された廃液口６と、を備える構成としている。
図１に示す加工装置１は、被加工物Ｗを保持する保持ユニット３０と、保持ユニット３０で保持された被加工物Ｗに加工を施す加工ユニット７と、保持ユニット３０で保持された被加工物Ｗに加工液を供給する加工液供給ユニット６０と、加工屑を含む廃液を受けるウォーターケース４と、ウォーターケース４に形成された廃液口６と、を備える構成としている。
以下詳細に説明すると、加工装置１のベース１０は、Ｙ軸方向を長手方向とするものであり、ベース１０の前方（－Ｙ方向側）は、保持ユニット３０に対して被加工物Ｗの搬出入が行われる搬出入領域Ａ２として構成され、ベース１０上の後方（＋Ｙ方向側）は、加工ユニット７によって保持ユニット３０上に保持された被加工物Ｗの研削が行われる研削領域Ａ１として構成される。研削領域Ａ１は図示せぬカバーによって形成される加工室内に形成され、加工室内に加工ユニット７が収容される。
なお、本発明に係る加工装置は、加工装置１のような加工ユニット７が１軸の研削装置に限定されるものではなく、粗研削手段と仕上げ研削手段とを備え、回転するターンテーブルで被加工物Ｗを粗研削手段又は仕上げ研削手段の下方に位置づけ可能な２軸の研削装置等であってもよい。また、加工装置は、回転する切削ブレードで被加工物をチップに切り分ける切削装置や、回転するバイトで被加工物Ｗの裏面を切削するバイト切削装置であってもよい。
被加工物Ｗは、例えば、シリコン母材等からなる円形の半導体ウェーハである。なお、被加工物Ｗはシリコン以外にガリウムヒ素、サファイア、窒化ガリウム、セラミックス、樹脂、又はシリコンカーバイド等で構成されていてもよいし、矩形のパッケージ基板等であってもよい。また、被加工物Ｗはデバイスが形成されていてもよいし、インゴットから切り出されデバイスが形成されていないウェーハであってもよい。また、外周部分を一方の面側から所定の深さでエッジトリミングした半導体ウェーハであってもよい。
被加工物Ｗを保持する図１に示す保持ユニット３０は、例えば、被加工物Ｗを吸着して保持する円形の保持テーブル３０ａと、保持テーブル３０ａを支持する枠体３０ｂとを備える。保持テーブル３０ａは、ポーラス部材等から構成され図示しない吸引源に連通し、保持テーブル３０ａの露出面である保持面上で被加工物Ｗを吸引保持する。なお、保持テーブル３０ａの保持面は、例えば、保持ユニット３０の回転中心を頂点とする極めて緩やかな円錐斜面となっている。
図１に示すように、保持ユニット３０は、カバー３９によって囲繞されていると共に、その下方に配設された図示しないテーブル回転手段によって、Ｚ軸方向の回転軸を軸に回転可能である。また、保持ユニット３０は、図１に示すカバー３９及びカバー３９の前後に連結された蛇腹カバー３７の下方に配設された図示しないＹ軸移動手段によって、Ｙ軸方向に往復移動可能となっている。
図１に示すベース１０上の研削領域Ａ１には、直立壁１１が立設されており、直立壁１１の前面には加工ユニット７を保持ユニット３０に対して離間又は接近するＺ軸方向（鉛直方向）に研削送りする研削送り機構５が配設されている。研削送り機構５は、鉛直方向の軸心を有するボールネジ５０と、ボールネジ５０と平行に配設された一対のガイドレール５１と、ボールネジ５０の上端に連結しボールネジ５０を回動させるモータ５２と、内部のナットがボールネジ５０に螺合し側部がガイドレール５１に摺接する昇降板５３とを備えており、モータ５２がボールネジ５０を回動させると、これに伴い昇降板５３がガイドレール５１にガイドされてＺ軸方向に往復移動し、昇降板５３に固定されている加工ユニット７がＺ軸方向に研削送りされる。
保持ユニット３０に保持された被加工物Ｗを研削する加工ユニット７は、軸方向がＺ軸方向であるスピンドル７０と、スピンドル７０を回転可能に支持するハウジング７１と、スピンドル７０を回転駆動するモータ７２と、スピンドル７０やモータ７２を支持して昇降板５３に固定されるマウント７３と、マウント７３の下面に着脱可能に装着された研削ホイール７４と、を備える。
研削ホイール７４は、金属製の環状ホイール７４ａと、環状ホイール７４ａの下面に周方向に間隔を開けて配置された略直方体形状の複数の研削砥石７４ｂと、を有して構成される。各研削砥石７４ｂは、バインダー（接着剤）でダイヤモンド砥粒等を固着して形成され、各研削砥石７４ｂの下面にて研削面が構成される。
研削ホイール７４の環状ホイール７４ａには加工液を噴出するための図示せぬ噴出口が形成され、研削砥石７４ｂの研削面と被加工物Ｗの間に加工液が連続的に供給される。加工液は、加工ユニット７に形成される供給路６０ｂを通じ、加工液供給源６０ａから供給される。
環状ホイール７４ａに形成される図示せぬ噴出口、供給路６０ｂ、加工液供給源６０ａにより、被加工物に加工液を供給するための加工液供給ユニット６０が構成される。なお、研削ホイール７４に噴出口を設ける構成とする他、研削ホイール７４に対して噴出口が向けられた加工液噴射ノズルを設け、加工液噴射ノズルから加工液が噴射される構成としてもよい。
加工装置１は、加工装置１の各構成要素を制御するためのコントローラ１９を備えている。コントローラ１９は、研削送り機構５による加工ユニット７の研削送り動作、加工ユニット７における研削ホイール７４の回転動作、及びＹ軸移動手段による保持ユニット３０の研削ホイール７４に対する位置付け動作等が制御される。
保持ユニット３０のＹ軸方向の移動経路の両脇には、加工ユニット７で被加工物Ｗを加工することで発生する加工屑を含んだ加工水（廃液）を受け止めるウォーターケース４が構成される。一方のウォーターケース４の底面４ａには、廃液口６が形成されている。なお、もう一方のウォーターケース４の底面４ａにも廃液口６が形成されることとしてもよい。
図１に示すように、廃液口６にはストレーナ２０が設置されている。
図２及び図３に示すように、ストレーナ２０は、廃液口６の縁に係留される鍔部２２と、鍔部２２よりも下方の位置において液体を通過させる開口部（開口部２４ａ、通過孔２４ｃ）を有する本体部２４と、鍔部２２よりも上方の位置において液体を通過させる開口部（通過孔２６ｃ）を有し、本体部２４に加工屑が進入することを防止する防止壁２６と、を有して構成される。
図２及び図３に示すように、ストレーナ２０は、廃液口６の縁に係留される鍔部２２と、鍔部２２よりも下方の位置において液体を通過させる開口部（開口部２４ａ、通過孔２４ｃ）を有する本体部２４と、鍔部２２よりも上方の位置において液体を通過させる開口部（通過孔２６ｃ）を有し、本体部２４に加工屑が進入することを防止する防止壁２６と、を有して構成される。
図２及び図３に示す実施形態のストレーナ２０は、例えば、ステンレス製の板材を曲げ加工や溶接加工により構成することや、樹脂成型品にて構成することができる。
ストレーナ２０の本体部２４は円筒状に構成され、廃液口６の下方に形成される廃液路９に挿入される。廃液路９に挿入された状態の本体部２４の上端からは、上に向かうにつれて拡径するようにして鍔部２２が形成される。鍔部２２の上端からは、上に向かうにつれて縮径するようにして防止壁２６が形成される。
本体部２４は、筒状の側面に長方形状の開口部２４ａが形成され、本体部２４の中に流入した廃液が本体部２４の外へと排出される。本体部２４の中には加工屑が流入しないため、開口部２４ａは廃液に含まれる加工屑を通過させずに液体のみを通過させるように機能する。
また、本体部２４の下端部は、複数の通過孔２４ｃが形成された底面２４ｂにて閉じられており、底面２４ｂを通じ、本体部２４の中に流入した廃液が本体部２４の外へと排出される。底面２４ｂは、網やパンチングメッシュ（板厚方向に貫通穴を複数配列した板材）の形態にて構成することができ、廃液に含まれる加工屑を通過させずに液体のみを通過させる開口部（通過孔２４ｃ）を有する構成とする。
本体部２４の全体を、網やパンチングメッシュにて構成することとしてもよい。また、開口部２４ａと通過孔２４ｃは、いずれか一方が設けられる構成としてもよい。
鍔部２２は、廃液口６の開口よりも大きな直径部分を有し、本体部２４を廃液口６の上から挿入すると鍔部２２が廃液口６にひっかかり、ストレーナ２０が廃液口６に嵌め込まれるような状態で収められる。なお、鍔部２２の形状については、廃液口６の縁にひっかかるようにしてストレーナ２０を係留させることができる構成であれば、特に限定されるものではない。
鍔部２２を構成する傾斜部分は、例えば、複数の通過孔２２ｃを有する網やパンチングメッシュの形態にて構成することができ、廃液に含まれる加工屑を通過させずに液体のみを通過させる開口部（通過孔２２ｃ）を有する構成とすることができる。
防止壁２６は三角錐状に構成され、本体部２４の上部の開口を傘状に閉鎖し、本体部２４に加工屑が進入することを防ぐものである。三角錐状の傾斜部分は、複数の通過孔２６ｃを有する網やパンチングメッシュの形態にて構成することができ、廃液に含まれる加工屑を通過させずに液体のみを通過させる開口部（通過孔２６ｃ）を有する構成とする。
防止壁２６は三角錐状とすることで、その傾斜によって防止壁２６の上面に加工屑が堆積せずに流れ落ち易い構成とすることができる。なお、三角錐状の形態とする他、平坦な板状の形態や、半球状の形態であってもよい。
以上のストレーナ２０の構成では、加工屑が防止壁２６によって本体部２４に進入することが防がれ、本体部２４に加工屑が溜まることにより廃液口６で廃液が流れなくなる不具合を防ぐことができる。また、エア噴射や電力等のエネルギーも必要されることはない。
図４に示す別実施形態のストレーナ４０は、廃液口６の縁に係留される鍔部４２と、鍔部４２よりも下方の位置において液体を通過させる開口部（開口部４４ａ、通過孔４４ｃ）を有する本体部４４と、鍔部４２よりも上方の位置において液体を通過させる開口部（通過孔４６ｃ）を有し、本体部４４に加工屑が進入することを防止する防止壁４６と、を有して構成される。
図４に示す別実施形態のストレーナ４０も同様に、例えば、ステンレス製の板材を曲げ加工や溶接加工により構成することや、樹脂成型品にて構成することができる。
ストレーナ４０の本体部４４と防止壁４６は連続する筒状の部材にて構成され、本体部４４と防止壁４６の境界部に、円筒の外側方向に延出するように鍔部４２が形成される。本体部４４は、廃液口６の下方に形成される廃液路９に挿入される。
本体部４４は、筒状の側面に長方形状の開口部４４ａが形成され、本体部４４の中に流入した廃液が本体部４４の外へと排出される。本体部４４の中には加工屑が流入しないため、開口部４４ａは廃液に含まれる加工屑を通過させずに液体のみを通過させるように機能する。
また、本体部４４の下端部は、複数の通過孔４４ｃが形成された底面４４ｂにて閉じられており、底面４４ｂを通じ、本体部４４の中に流入した廃液が本体部４４の外へと排出される。底面４４ｂは、網やパンチングメッシュの形態にて構成することができ、廃液に含まれる加工屑を通過させずに液体のみを通過させる開口部（通過孔４４ｃ）を有する構成とする。
本体部４４の全体を、網やパンチングメッシュにて構成することとしてもよい。また、開口部４４ａと通過孔４４ｃは、いずれか一方が設けられる構成としてもよい。
鍔部４２は、廃液口６の開口よりも直径が大きな円環状の形態にて構成され、本体部４４を廃液口６の上から挿入すると鍔部４２が廃液口６にひっかかり、ストレーナ４０が廃液口６に嵌め込まれるような状態で収められる。なお、鍔部４２の形状については、廃液口６の縁にひっかかるようにしてストレーナ４０を係留させることができる構成であれば、特に限定されるものではない。
防止壁４６は、複数の通過孔４６ｃを有する網やパンチングメッシュの形態にて構成することができ、廃液に含まれる加工屑を通過させずに液体のみを通過させる開口部（通過孔４６ｃ）を有する構成とする。
防止壁４６は本体部４４に加工屑が進入することを防ぐように、ウォーターケース４の底面４ａよりも上方に向けて突出し、上端が所定の高さに位置付けられるように構成される。ここで所定の高さは、本実施例では、加工液や加工屑の飛散の元となる研削ホイール７４や、保持ユニット３０の位置よりも高い位置Ｈ1としている。
これにより、防止壁４６の上端の開口部４６ａがウォーターケース４の底面４ａから大きく離れた位置Ｈ１に設定され、開口部４６ａから加工屑が進入し、本体部４４に落下することを防ぐことができる。なお、防止壁４６の上端の開口部４６ａは、板材で閉鎖することや、網やパンチングメッシュにて塞ぐこととしてもよい。
以上のストレーナ４０の構成によっても、加工屑が防止壁４６によって本体部４４に進入することが防がれ、本体部４４に加工屑が溜まることにより廃液口６で廃液が流れなくなる不具合を防ぐことができる。
１ 加工装置
４ ウォーターケース
４ａ 底面
６ 廃液口
７ 加工ユニット
９ 廃液路
１０ ベース
２０ ストレーナ
２２ 鍔部
２２ｃ 通過孔
２４ 本体部
２４ａ 開口部
２４ｂ 底面
２４ｃ 通過孔
２６ 防止壁
２６ｃ 通過孔
３０ 保持ユニット
３０ａ 保持テーブル
３０ｂ 枠体
３９ カバー
４０ ストレーナ
４２ 鍔部
４４ 本体部
４４ａ 開口部
４４ｂ 底面
４４ｃ 通過孔
４６ 防止壁
４６ｃ 通過孔
７４ 研削ホイール
７４ａ 環状ホイール
７４ｂ 研削砥石
Ｗ 被加工物
４ ウォーターケース
４ａ 底面
６ 廃液口
７ 加工ユニット
９ 廃液路
１０ ベース
２０ ストレーナ
２２ 鍔部
２２ｃ 通過孔
２４ 本体部
２４ａ 開口部
２４ｂ 底面
２４ｃ 通過孔
２６ 防止壁
２６ｃ 通過孔
３０ 保持ユニット
３０ａ 保持テーブル
３０ｂ 枠体
３９ カバー
４０ ストレーナ
４２ 鍔部
４４ 本体部
４４ａ 開口部
４４ｂ 底面
４４ｃ 通過孔
４６ 防止壁
４６ｃ 通過孔
７４ 研削ホイール
７４ａ 環状ホイール
７４ｂ 研削砥石
Ｗ 被加工物
Claims (4)
- 被加工物を保持する保持ユニットと、該保持ユニットで保持された被加工物に加工を施す加工ユニットと、該保持ユニットで保持された被加工物に加工液を供給する加工液供給ユニットと、加工屑を含む廃液を受けるウォーターケースと、該ウォーターケースに形成された廃液口と、を備えた加工装置の該廃液口に配設されるストレーナであって、
該廃液口の縁に係留される鍔部と、
該鍔部よりも下方の位置において液体を通過させる開口部を有する本体部と、
該鍔部よりも上方の位置において液体を通過させる開口部を有し、該本体部に該加工屑が進入することを防止する防止壁と、
を備えたストレーナ。 - 該防止壁は、該本体部の上部の開口を傘状に閉塞する、
ことを特徴とする請求項１に記載のストレーナ。 - 該防止壁は、該鍔部から立設する筒状である、
ことを特等とする請求項１に記載のストレーナ。 - 被加工物を保持する保持ユニットと、
該保持ユニットで保持された被加工物に加工を施す加工ユニットと、
該保持ユニットで保持された被加工物に加工液を供給する加工液供給ユニットと、
加工屑を含む廃液を受けるウォーターケースと、
該ウォーターケースに形成された廃液口と、
該廃液口に配設されるストレーナと、を備えた加工装置であって、
該ストレーナは、該廃液口の縁に係留される鍔部と、
該鍔部よりも下方の位置において液体を通過させる開口部を有する本体部と、
該鍔部よりも上方の位置において液体を通過させる開口部を有し、該本体部に該加工屑が進入することを防止する防止壁と、を備えた加工装置。
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| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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| JP2022128445A Pending JP2024025198A (ja) | 2022-08-10 | 2022-08-10 | ストレーナ、及び、加工装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2024025198A (ja) |
-
2022
- 2022-08-10 JP JP2022128445A patent/JP2024025198A/ja active Pending
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