JP2024023874A - 基板処理装置及び基板収納容器保管方法 - Google Patents

基板処理装置及び基板収納容器保管方法 Download PDF

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Abstract

【課題】基板を収納した基板処理容器を一時的に待機させる保管部に、従来よりも多くの基板収納容器を保管する。【解決手段】基板を処理する基板処理装置であって、前記基板処理装置において処理される基板を収納する基板収納容器を載置する基板収納容器載置部と、前記基板収納容器載置部に近接して配置され、前記基板収納容器を保管する保管領域と、を有し、前記保管領域は、複数の前記基板収納容器を水平方向に載置して保管する保管部を、上下多段に有し、前記保管領域における上側の保管部の下方に位置する下側の他の保管部には、前記上側の保管部に載置保管される基板収納容器とは、異なった向きで基板収納容器を載置して保管し、前記上側の保管部と、前記下側の他の保管部との間で、前記基板収納容器を移載可能であって、前記基板収納容器を保持した状態で水平方向に向きを変える機構を有する移載装置をさらに備える。【選択図】図２

Description

本開示は、基板処理装置及び基板収納容器保管方法に関する。
特許文献１には、基板の処理システムであって、当該基板の処理システムに搬入される複数のカセットを待機させるカセット待機ブロックが、基板の処理システムへの搬入出ブロックに隣接して設けられる構成が開示されている。
特開２００９－１０２８７号公報
本開示にかかる技術は、基板を収納した基板処理容器を一時的に待機させる保管部に、従来よりも多くの基板収納容器を保管する。
本開示の一態様は、基板を処理する基板処理装置であって、前記基板処理装置において処理される基板を収納する基板収納容器を載置する基板収納容器載置部と、前記基板収納容器載置部に近接して配置され、前記基板収納容器を保管する保管領域と、を有し、前記保管領域は、複数の前記基板収納容器を水平方向に載置して保管する保管部を、上下多段に有し、前記保管領域における上側の保管部の下方に位置する下側の他の保管部には、前記上側の保管部に載置保管される基板収納容器とは、異なった向きで基板収納容器を載置して保管し、前記上側の保管部と、前記下側の他の保管部との間で、前記基板収納容器を移載可能であって、前記基板収納容器を保持した状態で水平方向に向きを変える機構を有する移載装置をさらに備える。
本開示によれば、基板を収納した基板処理容器を一時的に待機させる保管部に、従来よりも多くの基板収納容器を保管することができる。
実施の形態にかかるウェハ処理装置の構成の概略を模式的に示す側面図である。 図１のウェハ処理装置における搬入出部周りの斜視図である。 図１のウェハ処理装置における最上部の保管部の斜視図である。 図１のウェハ処理装置の正面図である。 図１のウェハ処理装置における移載装置の斜視図である。 図１のウェハ処理装置における最上部の棚板上に載置されたカセットの保管状態を示す平面図である。 図６に示した最上部の棚板に載置されたカセットの１つを取り出した状態を示す平面図である。 図７に示した最上部の棚板から取り出したカセットの向きを変えた様子を示す平面図である。 図８に示した向きを変えたカセットを中段の棚板に載置する様子を示す平面図である。
先ず、特許文献１に開示されている従来の基板（以下、ウェハという）の処理システムの構成について説明する。特許文献１に開示の処理システムには、処理システムの搬入出ブロックに隣接して、当該搬入出ブロックに搬入出される複数のカセットを収容して待機させるストッカとしてのカセット保管庫が設けられている。カセット保管庫は通常、雰囲気制御を行うためのケーシングに覆われており、当該ケーシングの天井面には、カセットの搬入出口が形成されている。またカセット保管庫の上方には、装置間でカセットを搬送する天井走行車の軌道が配設されており、装置間カセット搬送装置は、前記搬入出口を介して、上方からカセット待機ブロックに対してカセットを搬入出できるように構成されている。
上述のように、一般的にＦＥＸ（Ｆｏｕｐ Ｅｘｃｈａｎｇｅｒ）と呼称されるカセット待機ブロックは、基板処理装置で処理される複数枚、例えば２５枚のウェハが収容された基板収納容器としてのカセット（Ｆｏｕｐ）を一時的に複数ストックするための装置である。当該ＦＥＸの内部には、複数、例えば１０個程度のカセットがストックされる。このようにＦＥＸは、処理システムに搬入出されるカセットを一時的にストックする機能を有するため、一般的に処理システムの搬入出ブロックに隣接して、すなわち、例えば特許文献１においては基板の処理システムにおける搬入出ブロックの前面側に設けられる。
しかしながら、ＦＥＸが複数のカセットをストックする場合、すべてのカセットは、その前面側、すなわちウェハを出し入れする側が、通常基板処理装置の搬入出ブロック側に向けて揃えて保管されている。かかる場合、ＦＥＸにより多くのカセットを保管しようとすると、ＦＥＸの規模を大きくせざるを得なかった。
そこで、本開示にかかる技術の一態様は、カセットを保管する保管領域に従来よりも多くの基板収納容器を保管する。
以下、本実施形態にかかる基板処理装置としてのウェハ処理装置の構成について、図面を参照しながら説明する。なお、本明細書において、実質的に同一の機能構成を有する要素においては、同一の符号を付することにより重複説明を省略する。
ウェハ処理装置１は、図１及び図２に示すように、複数枚の基板であるウェハを収納したＦＯＵＰなどの基板収納容器（以下、カセットという。）の搬入出部としての搬入出ステーション１０と、ウェハＷに所定の処理を施す複数の各種処理装置（図示せず）を備えた処理部としての処理ステーション２０とを一体に接続した構成を有している。
搬入出ステーション１０は、カセットブロック１１と、カセットブロック１１と接続されて、処理ステーション２０との間でウェハの中継を行う搬入出部としての搬入出ブロック１２を有している。カセットブロック１１はロードポートとも呼称されるカセット載置台１３を有しており、カセット載置台１３は、複数、例えば図示の例では、４台のカセット３０がＹ方向に一列に整列して載置可能である。
搬入出ブロック１２内には、カセット載置台１３上に載置されたカセットＣ内の未処理のウェハを取り出して処理ステーション２０側に搬送し、また処理ステーション２０において処理されたウェハをカセット載置台１３上のカセット３０内に搬送する搬送アーム１４を有している。搬入出ブロック１２は、処理ステーション２０よりも高さが低くなっており、カセット載置台１３は、搬入出ブロック１２よりもさらに高さが低く設定されている。
搬入出ブロック１２の上側には、保管領域としてのカセット保管領域４０が設けられている。カセット保管領域４０は、カセット３０を上下３段の保管部に保管するように構成されており、最下段の保管部１２ａは、搬入出ブロック１２の上面に設けられている。また中段の保管部は棚板４１に上に設定され、最上段の保管部は、棚板４２に設定されている。これら棚板４１、４２は、例えば処理ステーション２０の前面側の壁体２０ａに支持されている。
カセット載置台１３の上方には、例えばＹ方向に延びる搬送路Ｒ０に沿って移動自在な天井走行車としてのＯＨＴ（Ｏｖｅｒｈｅａｄ Ｈｏｉｓｔ Ｔｒａｎｓｐｏｒｔ）が設けられている。ＯＨＴはウェハ処理装置１の外部に設けられた他のウェハ処理装置との間でカセット３０を保持して搬送することができ、下降することで上方から後述の棚板４１の載置板４２ａに対してカセット３０を受け渡すことが可能である。カセット３０は、図２にも示したように、ウェハを出し入れする前面部３１と、上面に設けられた平面視が正方形の板状の係止部３２とを有しており、ＯＨＴはカセット３０の前面部３１をウェハ処理装置１の処理ステーション２０側に向けた状態で、係止部３２を保持して、搬送路Ｒ０を移動する。
最上段の保管部となる棚板４２は、図３にも示したように、４台のカセット３０をＹ方向に整列して載置して保管することができる。そして各カセット３０は、棚板４２に設けられた載置板４２ａ上に載置される。基板支持部となる各載置板４２ａには、カセット３０の下面を直接支持する支持部材４２ｂが設けられている。そして載置板４２ａは、図３に示したように、Ｘ方向にスライド自在であり、Ｘ方向負方向に移動することで、カセット載置台１３の上方の位置において前記したＯＨＴが保持しているカセット３０を受け取り可能であり、また載置板４２ａ上のカセット３０をＯＨＴが受け取り可能である。
このように、最上段の保管部となる棚板４２はカセット３０を、カセット載置台１３と同じく、カセット３０の前面部３１を処理ステーション２０側に向けて揃えて整列載置する。
一方で、搬入出ブロック１２の上面に設けられている最下段の保管部１２ａと、中段の保管部となる棚板４１は、図２、図４に示したように、最上段の棚板４２に載置されるカセット３０とは異なった向き、すなわち前面部３１をすべて、Ｙ方向負方向に向けてカセット３０を載置して保管する。
棚板４１、保管部１２ａのＹ方向の長さは、最上段の棚板４２と同じ長さであるが、この種のカセット３０は、幅の長さよりも奥行きの長さの方が短いので、前面部３１をＹ方向負方向に向けて整列して載置することで、最上部の棚板４２に載置、保管する場合より、多くのカセット３０を載置して、保管することができる。図示の例では、棚板４１、保管部１２ａには、５台のカセット３０を載置して保管することが可能になっている。したがって、棚板４１、保管部１２ａに載置するカセット３０を、最上段の棚板４２に載置するカセット３０と同じように、その前面部３１を処理ステーション２０側に向ける場合より、より多くのカセット３０を保管することが可能である。
かかる場合、前記したように、ＯＨＴから受け取ったカセット３０は、最上段の棚板４２では、前面部３１を処理ステーション２０側に向けて載置されているので、カセット３０の向きを変えて、棚板４１、保管部１２ａに移載する必要がある。
本実施の形態では、図５に示した移載装置支持機構５０、移載装置６０でかかる機能を実現している。すなわち、図２に示したように、移載装置支持機構５０は、例えばカセット載置台１３の両側に、支持柱５１、５２を有している。支持柱５１、５２の間には、移載装置支持部材５３が渡されている。この移載装置支持部材５３は、適宜の駆動機構（図示せず）によって支持柱５１、５２に沿ってＺ方向に上下動可能である。
移載装置６０は、その基部６１が、移載装置支持部材５３の長手方向、すなわちＹ方向に適宜の駆動機構（図示せず）によって移動自在である。基部６１には、そして適宜の駆動機構（図示せず）によってＸ方向に移動自在なスライド体６２が設けられている。そしてこのスライド体６２の下面側には、保持部６３が適宜の駆動機構（図示せず）によって回転自在に設けられている。実施の形態にかかる保持部６３は、カセット３０の上面に設けられた係止部３２を両側から抱え込むようにして係止部３２を保持する構成を有している。
より詳述すれば、例えば、図５に示した状態から、Ｘ方向正方向にスライド体６２が移動することで、カセット３０の係止部３２は、保持部６３によって保持される。そしてたとえばＸ方向負方向にスライド体６２が退避して、回転機構によって保持部６３を回転させることで、保持したカセット３０の向きを変えることができる。実施の形態では、３６０度任意の向きにカセット３０の方向を変えることができる。
以上の構成より、移載装置６０は三次元移動可能で、かつ保持したカセット３０を、保持した位置を中心に少なくとも水平方向に９０度回転させることが可能である。
このような構成を有する移載装置６０を有する実施の形態におけるカセット３０の移載手順の一例を次に説明する。
まず、既述したように、最上段の保管部である棚板４２の載置板４２ａが、図３に示したように、Ｘ方向負方向にスライドして受け取り位置にて待機する。次いでＯＨＴが保持しているカセット３０は、そのまま下降して載置板４２ａに載置される。カセット３０を載置した載置板４２ａは、Ｘ方向正方向にスライドして棚板４２の所定位置に戻る。たとえば棚板４２上に４台のカセット３０が載置された状態を、図６の平面図で示した。
その後、移載装置６０が図５に示したように、カセット３０を取り出す位置に移動し、Ｘ方向正方向にスライド体６２を移動させて、カセット３０の係止部３２を保持する。その状態で移載装置６０を一旦上昇させ、次いでＸ方向負方向にスライド体６２を移動させて、図７に示したように、カセット３０を棚板４２から退避させる。
その後回転機構によって保持部６３を回転させることで、図８に示したように、保持したカセット３０の向きを変えることができる。図８の例では、カセット３０の前面部３１を９０度時計回りに回転させている。
この状態で、カセット３０の向きを変えて載置する棚板４１、あるいは保管部１２ａの高さより少し高い位置に設定されている位置に移載装置６０をＺ方向に移動させ、また基部６１をＹ方向に移動させて、図９に示したように、棚板４１、あるいは保管部１２ａに載置する位置に移動させる。図９の例では、中段の棚板４１に載置させようとしている。なおこのような移載装置６０のＺ方向、Ｙ方向の移動は同時に行ってもよい。
その後、移載装置６０のスライド体６２を棚板４１側に移動させて、保持したカセット０を棚板４１の所定の載置板４１ａの支持部材４１ｂ上に移動させる。次いで移載装置６０を下降させて、カセット３０を前記所定位置の支持部材４１ｂ上に載置したら、スライド体６２を退避させる。
このような移載装置６０の移動により、カセット３０をその向きを変えて、棚板４１や保管部１２ａ上に整列して載置、保管させることができる。
既述したように、棚板４１、保管部１２ａ上に最上段の棚板４２とは向きを変えてカセット３０を載置することにより、従来よりも多くのカセット３０をカセット保管領域４０に保管することができる。
なおそのようにして向きを変えて載置した、すなわち、図２に示したように、カセット３０の前面部３１を、Ｙ方向負方向に向けて載置したカセット３０を、カセット載置台１３に向きを変えて載置するにあたっては、上記した手順とは逆の手順で移載装置６０を移動させればよい。すなわち、棚板４１に載置されているカセット３０に対してスライド体６２を前進させて保持部６３でカセット３０の係止部３２を保持し、その後一旦移載装置６０を上昇させた後退避させ、その後に保持部６３を反時計方向に回転させて、保持したカセット３０の前面部３１を処理ステーション２０側に向ける。そしてそのままカセット載置台１３上の所定位置にカセット３０を載置すればよい。最上段の棚板４２に移載する場合もこれと同様な手順となる。
移載装置６０は、以上に示した構成に限らず、三次元移動が可能で、かつ保持したカセット３０を水平方向で９０度以上回転させる構成を有するものであれば、適用可能である。
また前記した実施の形態では。カセット保管領域４０は、搬入出ブロック１２の上側に設けられているので、ウェハ処理装置１の床専有面積を増大させることなく。一時待機させるカセット３０を大量に載置、保管することが可能である。
また搬入出ブロック１２内には前記したように、搬送アーム１４が設けられているが、搬入出ブロック１２は通常、気密に閉鎖されている区画であるから、搬入出ブロック１２の上側に設定されたカセット保管領域４０と搬入出ブロック１２内との間で塵やパーティクルが通流することはない。
またカセット保管領域４０自体を清浄な雰囲気に維持するためには、例えば移載装置支持機構５０、移載装置６０、カセット保管領域４０全体をパネル等で覆い、ＯＨＴと最上段の棚板４２との間でカセット３０を受け渡しする部分のみＯＨＴ、カセット３０が通過可能な開口を形成したり、あるいはさらに当該開口自体を開閉可能なシャッタを設ければよい。
なおさらに多くのカセット３０を保管する場合には、例えば移載装置支持機構５０、移載装置６０を挟んで処理ステーション２０と反対側（Ｘ方向負方向）に、カセット保管領域４０と同様な他の保管領域を設けてもよい。この場合も、他の保管領域にはカセット保管領域４０と同様に、カセット３０をその向きを変えて載置、保管する棚板などを上下多段に設ければ、非常に多くのカセット３０を収容、保管することが可能である。この場合、前記したように移載装置６０のスライド体６２はＸ方向に移動可能であるから、当該他の保管領域に保管したカセットや棚板などにアクセスすることが可能である。
以上、今回開示された実施形態はすべての点で例示であって制限的なものではないと考えられるべきである。上記の実施形態は、添付の請求の範囲及びその主旨を逸脱することなく、様々な形態で省略、置換、変更されてもよい。
なお、以下のような構成も本開示の技術的範囲に属する。
（１）基板を処理する基板処理装置であって、
前記基板処理装置において処理される基板を収納する基板収納容器を載置する基板収納容器載置部と、前記基板収納容器載置部に近接して配置され、前記基板収納容器を保管する保管領域と、を有し、前記保管領域は、複数の前記基板収納容器を水平方向に載置して保管する保管部を、上下多段に有し、最上部に位置する保管部は、前記基板処理装置の上方を移動する天井走行車との間で前記基板収納容器が受け渡し可能であり、前記最上部に位置する保管部の下側に位置する他の保管部は、最上部に位置する保管部に載置保管される基板収納容器とは、異なった向きで基板収納容器を載置して保管する、基板処理装置。
（２）前記基板収納容器載置部上の基板収納容器と、前記基板処理装置の処理部側との間で前記基板を搬入出する搬入出部を有し、前記保管領域は、前記搬入出部の上側に設けられている、（２）に記載の基板処理装置。
（３）前記最上部に位置する保管部は、前記基板収納容器載置部の上方にて前記天井走行車との間で前記基板収納容器を受け渡す位置と、前記基板収納容器を保管する位置との間で移動可能な、基板支持部を備えている、（１）または（２）のいずれかに記載の基板処理装置。
（４）前記搬入出部内には、前記基板収納容器載置部上の基板収納容器と、前記基板処理装置の処理部側との間で前記基板を搬入出する搬送アームを有し、
前記搬入出部は、前記保管領域とは気密に区画されている、（２）または（３）のいずれかに記載の基板処理装置。
（５）最上部に位置する保管部と、前記最上部に位置する保管部の下側に位置する他の保管部と、前記基板収納容器載置部との間で、前記基板収納容器を移載可能な移載装置を有し、
前記移載装置は、前記基板収納容器を保持した状態で、水平方向に向きを変える機構を備えている、（１）～（４）のいずれかに記載の基板処理装置。
（６）前記移載装置は三次元移動可能で、保持した基板収納容器を保持した位置を中心に少なくとも水平方向に９０度回転させる回転機構を有する、（５）に記載の基板処理装置。
（７）前記基板収納容器載置部を挟んで前記保管領域と対向する位置に、基板収納容器を保管する他の保管領域を有し、前記移載装置は、当該他の保管領域に保管されている基板収納容器を、前記最上部に位置する保管部と前記基板収納容器載置部に移載可能である、（５）または（６）のいずれかに記載の基板処理装置。
（８）基板を収納する基板収納容器の保管方法であって、
前記基板収納容器は、基板を処理する基板処理装置における基板収納容器載置部に近接配された保管領域に保管するようにし、
前記保管領域には、複数の前記基板収納容器を水平方向に載置して保管する保管部を、上下多段に設け、
最上部に位置する保管部は、前記基板処理装置の上方を移動する天井走行車との間で前記基板収納容器を受け渡し可能とし、
前記最上部に位置する保管部の下側に位置する他の保管部には、最上部に位置する保管部に載置して保管される基板収納容器とは、異なった向きで基板収納容器を載置して保管する、基板収納容器保管方法。
１ ウェハ処理装置
１０ 搬入出ステーション
１１ カセットブロック
１２ 搬入出ブロック
１２ａ 保管部
１３ カセット載置台
２０ 処理ステーション
３０ カセット
３１ 前面部
３２ 係止部
４０ カセット保管領域
４１、４２ 棚板
４１ａ、４２ａ 載置板
５０ 移載装置支持機構
５１、５２ 支持柱
５３ 移載装置支持部材
６０ 移載装置
６１ 基部
６２ スライド体
６３ 保持部

Claims (7)

  1. 基板を処理する基板処理装置であって、
    前記基板処理装置において処理される基板を収納する基板収納容器を載置する基板収納容器載置部と、
    前記基板収納容器載置部に近接して配置され、前記基板収納容器を保管する保管領域と、を有し、
    前記保管領域は、複数の前記基板収納容器を水平方向に載置して保管する保管部を上下多段に有し、
    前記保管領域における上側の保管部の下方に位置する下側の他の保管部には、前記上側の保管部に載置保管される基板収納容器とは、異なった向きで基板収納容器を載置して保管し、
    前記上側の保管部と、前記下側の他の保管部との間で、前記基板収納容器を移載可能であって、前記基板収納容器を保持した状態で水平方向に向きを変える機構を有する移載装置をさらに備える、基板処理装置。
  2. 基板を処理する基板処理装置であって、
    前記基板処理装置において処理される基板を収納する基板収納容器を載置する基板収納容器載置部と、
    前記基板収納容器載置部に近接して配置され、前記基板収納容器を保管する保管領域と、を有し
    前記保管領域は、複数の前記基板収納容器を水平方向に載置して保管する保管部を、上下多段に有し、
    前記保管領域における上側の保管部の下方に位置する下側の他の保管部には、前記上側の保管部に載置保管される基板収納容器とは、異なった向きで基板収納容器を載置して保管し、
    前記基板収納容器載置部上の基板収納容器と、前記基板処理装置の処理部側との間で前記基板を搬送する搬送アームを含む搬入出部を有し、
    前記搬入出部は、前記処理部よりも高さが低く、前記搬入出部の上側に少なくとも１つの前記保管部が設けられる、基板処理装置。
  3. 前記上側の保管部は、前記基板収納容器載置部の上方にて前記基板処理装置の上方を移動する天井走行車との間で、前記基板収納容器を受け渡す位置と、前記基板収納容器を保管する位置との間で移動可能な基板支持部を備えている、請求項１または２のいずれか一項に記載の基板処理装置。
  4. 前記移載装置は三次元移動可能で、保持した基板収納容器を保持した位置を中心に少なくとも水平方向に９０度回転させる回転機構を有する、請求項１に記載の基板処理装置。
  5. 前記上側の保管部は、第１の棚板を有し、
    前記下側の保管部は、第１の棚板と同じ長さの第２の棚板を有し、
    第２の棚板に載置される前記基板収納容器の数は、第１の棚板に載置される前記基板収納容器の数よりも多い、請求項１または２に記載の基板処理装置。
  6. 基板を収納する基板収納容器の保管方法であって、
    前記基板収納容器は、基板を処理する基板処理装置における基板収納容器載置部に近接配された保管領域に保管するようにし、
    前記保管領域には、複数の前記基板収納容器を水平方向に載置して保管する保管部を、上下多段に設け、
    前記保管領域における上側の保管部の下方に位置する下側の他の保管部には、前記上側の保管部に載置保管される基板収納容器とは、異なった向きで基板収納容器を載置して保管し、
    前記基板収納容器を保持した状態で水平方向に向きを変える機構を有する移載装置によって、前記上側の保管部と前記下側の他の保管部との間で、前記基板収納容器を移載する、基板収納容器保管方法。
  7. 基板を収納する基板収納容器の保管方法であって、
    前記基板収納容器は、基板を処理する基板処理装置における基板収納容器載置部に近接配された保管領域に保管するようにし、
    前記保管領域には、複数の前記基板収納容器を水平方向に載置して保管する保管部を、上下多段に設け、
    前記保管領域における上側の保管部の下方に位置する下側の他の保管部には、前記上側の保管部に載置保管される基板収納容器とは、異なった向きで基板収納容器を載置して保管し、
    前記基板収納容器載置部上の基板収納容器と、前記基板処理装置の処理部側との間で前記基板を搬送する搬送アームを含む搬入出部が、前記処理部よりも高さが低く設けられており、少なくとも１つの前記保管部が前記搬入出部の上側に設けられることを含む、基板収納容器保管方法。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4266197B2 (ja) * 2004-10-19 2009-05-20 東京エレクトロン株式会社 縦型熱処理装置
JP4464993B2 (ja) * 2007-06-29 2010-05-19 東京エレクトロン株式会社 基板の処理システム
JP5212165B2 (ja) * 2009-02-20 2013-06-19 東京エレクトロン株式会社 基板処理装置
JP6430870B2 (ja) * 2015-03-20 2018-11-28 東京エレクトロン株式会社 クランプ装置及びこれを用いた基板搬入出装置、並びに基板処理装置
WO2017037785A1 (ja) * 2015-08-28 2017-03-09 株式会社日立国際電気 基板処理装置および半導体装置の製造方法
JP6862163B2 (ja) * 2016-12-09 2021-04-21 東京エレクトロン株式会社 基板処理装置

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