CN112786504A - 基板处理装置和基板收纳容器保管方法 - Google Patents

基板处理装置和基板收纳容器保管方法 Download PDF

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Abstract

本发明涉及基板处理装置和基板收纳容器保管方法。在使收纳了基板的基板处理容器暂时待机的保管部保管比以往更多的基板收纳容器。用于处理基板的基板处理装置具有：基板收纳容器载置部，其在基板处理装置载置基板收纳容器，该基板收纳容器收纳要处理的基板；以及保管区域，其配置为靠近基板收纳容器载置部，用于保管基板收纳容器，保管区域使在水平方向上载置并保管多个基板收纳容器的保管部具有上下多层，位于最上部的保管部能够在其与顶部行驶车之间交接基板收纳容器，顶部行驶车在基板处理装置的上方移动，处于位于最上部的保管部的下侧的其他保管部以与载置并保管在位于最上部的保管部的基板收纳容器不同的朝向载置并保管基板收纳容器。

Description

基板处理装置和基板收纳容器保管方法
技术领域
本公开涉及基板处理装置和基板收纳容器保管方法。
背景技术
在专利文献1公开了一种基板的处理系统，其结构为：使送入该基板的处理系统的多个盒待机的盒待机模块与相对于基板的处理系统送入送出的送入送出模块相邻地设置。
专利文献1：日本特开2009-10287号公报
发明内容
发明要解决的问题
本公开的技术在于，在使收纳了基板的基板处理容器暂时待机的保管部保管比以往更多的基板收纳容器。
用于解决问题的方案
本公开的第一技术方案是一种基板处理装置，其用于处理基板，该基板处理装置具有：基板收纳容器载置部，其在所述基板处理装置载置基板收纳容器，该基板收纳容器收纳要处理的基板；以及保管区域，其配置为靠近所述基板收纳容器载置部，用于保管所述基板收纳容器，所述保管区域使在水平方向上载置并保管多个所述基板收纳容器的保管部具有上下多层，位于最上部的保管部能够在其与顶部行驶车之间交接所述基板收纳容器，该顶部行驶车在所述基板处理装置的上方移动，处于所述位于最上部的保管部的下侧的其他保管部以与载置并保管在位于最上部的保管部的基板收纳容器不同的朝向载置并保管基板收纳容器。
本公开的第二技术方案根据第一技术方案所述的基板处理装置，其中，该基板处理装置具有送入送出部，该送入送出部在所述基板收纳容器载置部上的基板收纳容器和所述基板处理装置的处理部侧之间送入送出所述基板，所述保管区域设于所述送入送出部的上侧。
本公开的第三技术方案根据第一或第二技术方案所述的基板处理装置，其中，所述位于最上部的保管部具备基板支承部，该基板支承部能够在交接位置和保管所述基板收纳容器的保管位置之间移动，该交接位置是在所述基板收纳容器载置部的上方在该保管部与所述顶部行驶车之间交接所述基板收纳容器时该基板支承部所处的位置。
本公开的第四技术方案根据第二或第三技术方案所述的基板处理装置，其中，在所述送入送出部内具有输送臂，该输送臂在所述基板收纳容器载置部上的基板收纳容器和所述基板处理装置的处理部侧之间送入送出所述基板，
所述送入送出部相对于所述保管区域被气密地划分出。
本公开的第五技术方案根据第一～第四技术方案中任一项所述的基板处理装置，其中，该基板处理装置具有移载装置，该移载装置能够在位于最上部的保管部、处于所述位于最上部的保管部的下侧的其他保管部、以及所述基板收纳容器载置部之间移载所述基板收纳容器，
所述移载装置具备在保持所述基板收纳容器的状态下在水平方向上改变朝向的机构。
本公开的第六技术方案根据第五技术方案所述的基板处理装置，其中，所述移载装置能够三维移动且具有使保持着的基板收纳容器以保持的位置为中心至少在水平方向上旋转90度的旋转机构。
本公开的第七技术方案根据第五或第六技术方案所述的基板处理装置，其中，在隔着所述基板收纳容器载置部与所述保管区域相对的位置具有保管基板收纳容器的其他保管区域，所述移载装置能够将保管在该其他保管区域的基板收纳容器向所述位于最上部的保管部和所述基板收纳容器载置部移载。
本公开的第八技术方案是一种基板收纳容器保管方法，其为用于收纳基板的基板收纳容器的保管方法，其中，
所述基板收纳容器保管在保管区域，该保管区域配置为靠近处理基板的基板处理装置的基板收纳容器载置部，
在所述保管区域，将在水平方向上载置并保管多个所述基板收纳容器的保管部设为上下多层，
位于最上部的保管部能够在其与顶部行驶车之间交接所述基板收纳容器，该顶部行驶车在所述基板处理装置的上方移动，
在处于所述位于最上部的保管部的下侧的其他保管部，以与载置并保管在位于最上部的保管部的基板收纳容器不同的朝向载置并保管基板收纳容器。
发明的效果
根据本公开，能够在使收纳了基板的基板处理容器暂时待机的保管部保管比以往更多的基板收纳容器。
附图说明
图1是示意地表示实施方式的晶圆处理装置的概略结构的侧视图。
图2是图1的晶圆处理装置的送入送出部周围的立体图。
图3是图1的晶圆处理装置的最上部的保管部的立体图。
图4是图1的晶圆处理装置的主视图。
图5是图1的晶圆处理装置的移载装置的立体图。
图6是表示在图1的晶圆处理装置的最上部的搁板上载置的盒的保管状态的俯视图。
图7是表示取出了载置于图6所示的最上部的搁板的盒中的一个盒的状态的俯视图。
图8是表示改变了从图7所示的最上部的搁板取出的盒的朝向的样子的俯视图。
图9是表示将图8所示的改变了朝向的盒载置于中层的搁板的样子的俯视图。
具体实施方式
首先，对在专利文献1公开的以往的基板(以下，称为晶圆)的处理系统的结构进行说明。在专利文献1公开的处理系统设有作为贮藏柜的盒保管箱，该贮藏柜与处理系统的送入送出模块相邻，用于收纳相对于该送入送出模块送入送出的多个盒并使其待机。盒保管箱通常被用于进行气氛控制的壳体覆盖，在该壳体的顶面形成有盒的送入送出口。此外，在盒保管箱的上方配设有在装置间输送盒的顶部行驶车的轨道，装置间盒输送装置构成为能够经由所述送入送出口从上方相对于盒待机模块送入送出盒。
如上所述，通常被称为FEX(Foup Exchanger：前开式晶圆传送盒交换器)的盒待机模块是用于暂时储存多个作为基板收纳容器的盒(Foup：前开式晶圆传送盒)的装置，该基板收纳容器收纳有利用基板处理装置处理的多张、例如25张晶圆。在该FEX的内部储存有多个、例如10个左右的盒。如此，FEX具有暂时储存相对于处理系统送入送出的盒的功能，因此，通常与处理系统的送入送出模块相邻，即，例如在专利文献1中，设于基板的处理系统的送入送出模块的前表面侧。
然而，在FEX储存多个盒的情况下，所有的盒的前表面侧、即取出放入晶圆的侧通常朝向基板处理装置的送入送出模块侧对齐地保管。在该情况下，在欲利用FEX保管更多的盒时，不得不扩大FEX的规模。
因此，本公开的技术的一样态在于，在用于保管盒的保管区域保管比以往更多的基板收纳容器。
以下，参照附图对作为本实施方式的基板处理装置的晶圆处理装置的结构进行说明。另外，在本说明书中，对于实质上具有相同的功能结构的要素标注相同的附图标记，而省略重复说明。
如图1和图2所示，晶圆处理装置1具有将以下装置连接为一体而成的结构：送入送出站10，其作为收纳了多张基板即晶圆的FOUP等基板收纳容器(以下，称为盒)的送入送出部；以及处理站20，其作为具备对晶圆W实施规定的处理的多个各种处理装置(未图示)的处理部。
送入送出站10具有盒模块11和送入送出模块12，该送入送出模块12与盒模块11连接，作为在送入送出站10与处理站20之间进行晶圆的交接的送入送出部。盒模块11具有也被称为加载端口的盒载置台13，盒载置台13能够将多个、例如在图示的例中为4个盒30在Y方向排列成一列地载置。
在送入送出模块12内具有输送臂14，该输送臂14取出在盒载置台13上载置的盒30内的未处理的晶圆并向处理站20侧输送，或将在处理站20处理后的晶圆向盒载置台13上的盒30内输送。送入送出模块12的高度设定得比处理站20的高度低，盒载置台13的高度设定得比送入送出模块12的高度更低。
在送入送出模块12的上侧设有作为保管区域的盒保管区域40。盒保管区域40构成为将盒30保管在上下3层的保管部，最下层的保管部12a设于送入送出模块12的上表面。此外，中层的保管部设定在搁板41上，最上层的保管部设定在搁板42。上述搁板41、42例如支承于处理站20的前表面侧的壁体20a。
在盒载置台13的上方设有作为顶部行驶车的OHT(Overhead Hoist Transport：高空提升运输车)，该顶部行驶车例如沿着在Y方向上延伸的输送路径R0移动自如。OHT能够在晶圆处理装置1与设于晶圆处理装置1的外部的其他晶圆处理装置之间保持盒30并对其进行输送，并能够通过下降而将盒30从上方向后述的搁板42的载置板42a交接。也如图2所示，盒30具有供晶圆取出放入的前表面部31和设于上表面的俯视时呈正方形的板状的卡定部32，OHT在盒30的前表面部31朝向晶圆处理装置1的处理站20侧的状态下保持卡定部32，并在输送路径R0上移动。
也如图3所示，成为最上层的保管部的搁板42能够将4个盒30在Y方向上排列地载置并保管。而且，各盒30载置在设于搁板42的载置板42a上。在成为基板支承部的各载置板42a设有直接支承盒30的下表面的支承构件42b。而且，如图3所示，载置板42a在X方向上滑动自如，通过使载置板42a向X方向负方向移动，能够在盒载置台13的上方的位置接收所述的OHT所保持的盒30，此外，OHT能够接收载置板42a上的盒30。
如此，成为最上层的保管部的搁板42与盒载置台13同样地，将盒30的前表面部31朝向处理站20侧对齐地排列载置盒30。
另一方面，如图2、图4所示，在送入送出模块12的上表面设置的最下层的保管部12a和成为中层的保管部的搁板41以与载置于最上层的搁板42的盒30不同的朝向、即以前表面部31全部朝向Y方向负方向的方式载置并保管盒30。
搁板41、保管部12a的Y方向上的长度是与最上层的搁板42相同的长度，这种盒30的深度上的长度比宽度上的长度短，因此，通过使前表面部31朝向Y方向负方向排列地载置，从而与在最上部的搁板42载置、保管的情况相比，能够载置并保管较多的盒30。在图示的例中，能够在搁板41、保管部12a载置并保管5个盒30。因而，相较于将载置于搁板41、保管部12a的盒30以与载置于最上层的搁板42的盒30同样的方式使其前表面部31朝向处理站20侧的情况，能够保管更多的盒30。
在该情况下，如上所述，自OHT接收来的盒30在最上层的搁板42使前表面部31朝向处理站20侧地载置，因此，需要改变盒30的朝向，而向搁板41、保管部12a移载。
在本实施方式中，利用图5所示的移载装置支承机构50、移载装置60实现该功能。即，如图2所示，移载装置支承机构50例如在盒载置台13的两侧具有支承柱51、52。在支承柱51、52之间架设有移载装置支承构件53。该移载装置支承构件53能够利用适当的驱动机构(未图示)沿着支承柱51、52在Z方向上上下移动。
移载装置60的基部61利用适当的驱动机构(未图示)在移载装置支承构件53的长度方向上、即Y方向上移动自如。在基部61设有利用适当的驱动机构(未图示)在X方向上移动自如的滑动体62。而且，在该滑动体62的下表面侧，保持部63利用适当的驱动机构(未图示)设为旋转自如。实施方式的保持部63具有以从两侧抱着设于盒30的上表面的卡定部32的方式保持卡定部32的结构。
更详细地说，例如，滑动体62从图5所示的状态向X方向正方向移动，从而盒30的卡定部32被保持部63保持。而且例如，滑动体62向X方向负方向退避，并利用旋转机构使保持部63旋转，从而能够改变保持着的盒30的朝向。在实施方式中，能够将盒30的朝向改变为360度任意的朝向。
根据以上的结构，移载装置60能够三维移动，且能够使保持着的盒30以保持的位置为中心至少在水平方向上旋转90度。
接着对具备具有这样的结构的移载装置60的实施方式中的盒30的移载步骤的一例进行说明。
首先，如上所述，如图3所示，作为最上层的保管部的搁板42的载置板42a向X方向负方向滑动并在接收位置待机。接着，使OHT保持着的盒30以该状态下降并载置于载置板42a。载置有盒30的载置板42a向X方向正方向滑动并返回搁板42的规定位置。例如以图6的俯视图示出4个盒30载置在搁板42上的状态。
之后，如图5所示，移载装置60向取出盒30的位置移动，并使滑动体62向X方向正方向移动，来保持盒30的卡定部32。在该状态下使移载装置60暂时上升，接着，使滑动体62向X方向负方向移动，而如图7所示，使盒30自搁板42退避。
之后，利用旋转机构使保持部63旋转，从而如图8所示，能够改变保持的盒30的朝向。在图8的例中，使盒30的前表面部31顺时针旋转90度。
在该状态下，使移载装置60在Z方向上向设定为比以改变盒30的朝向的方式载置该盒30的搁板41或者保管部12a的高度稍微高的位置的位置移动，此外，使基部61在Y方向上移动，如图9所示，使其向在搁板41或者保管部12a载置的位置移动。在图9的例中，使其载置于中层的搁板41。另外，也可以同时进行这样的移载装置60在Z方向、Y方向上的移动。
之后，使移载装置60的滑动体62向搁板41侧移动，而使保持着的盒30向搁板41的规定的载置板41a的支承构件41b上移动。接着，使移载装置60下降，在将盒30载置在所述规定位置的支承构件41b上之后，使滑动体62退避。
通过这样的移载装置60的移动，能够改变盒30的朝向，而使其排列地载置、保管在搁板41、保管部12a上。
如上所述，通过将盒30相对于最上层的搁板42改变了朝向地载置在搁板41、保管部12a上，而与以往相比，能够将更多的盒30保管在盒保管区域40。
另外，在将如此改变了朝向地载置的、即如图2所示那样使盒30的前表面部31朝向Y方向负方向地载置的盒30改变朝向地载置于盒载置台13时，只要以与上述的步骤相反的步骤使移载装置60移动即可。即，使滑动体62相对于载置于搁板41的盒30前进，利用保持部63保持盒30的卡定部32，之后，在使移载装置60暂时上升后退避，之后使保持部63向逆时针方向旋转，使保持着的盒30的前表面部31朝向处理站20侧。然后，只要以该状态将盒30载置在盒载置台13上的规定位置即可。向最上层的搁板42移载的情况也为与此为同样的步骤。
移载装置60不限于以上所示的结构，只要是能够三维移动且具有使保持着的盒30在水平方向上旋转90度以上的结构，就能够适用。
此外，在所述的实施方式中，盒保管区域40设于送入送出模块12的上侧，因此，不会增大晶圆处理装置1的占地面积。能够大量地载置、保管暂时待机的盒30。
此外，在送入送出模块12内如所述那样设有输送臂14，但送入送出模块12通常是气密地封闭着的区域，因此，灰尘、颗粒不会在设定于送入送出模块12的上侧的盒保管区域40和送入送出模块12内之间通流。
此外，为了将盒保管区域40自身维持在清净的气氛，例如利用面板等覆盖整个移载装置支承机构50、移载装置60、盒保管区域40，而仅在OHT和最上层的搁板42之间用于交接盒30的部分形成能够供OHT、盒30穿过的开口、或者进一步设置能够开闭该开口自身的闸即可。
另外，在保管更多的盒30的情况下，例如也可以在隔着移载装置支承机构50、移载装置60与处理站20相反的一侧(X方向负方向)设置与盒保管区域40同样的其他保管区域。在该情况下也是，如果在其他保管区域与盒保管区域40同样地将改变盒30的朝向地载置、保管该盒30的搁板等设为上下多层，则能够收纳、保管非常多的盒30。在该情况下，如所述那样，移载装置60的滑动体62能够在X方向上移动，因此，能够到达保管在该其他保管区域的盒、搁板等。
以上，应该认为本次公开的实施方式在所有方面都是例示而并非限制性的。上述实施方式在不脱离权利要求书及其主旨的前提下，可以以各种方式进行省略、置换、变更。

Claims (8)

1.一种基板处理装置，其用于处理基板，其特征在于，
该基板处理装置具有：
基板收纳容器载置部，其在所述基板处理装置载置基板收纳容器，该基板收纳容器收纳要处理的基板；以及
保管区域，其配置为靠近所述基板收纳容器载置部，用于保管所述基板收纳容器，
所述保管区域使在水平方向上载置并保管多个所述基板收纳容器的保管部具有上下多层，
位于最上部的保管部能够在其与顶部行驶车之间交接所述基板收纳容器，该顶部行驶车在所述基板处理装置的上方移动，
处于所述位于最上部的保管部的下侧的其他保管部以与载置并保管在位于最上部的保管部的基板收纳容器不同的朝向载置并保管基板收纳容器。
2.根据权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，
该基板处理装置具有送入送出部，该送入送出部在所述基板收纳容器载置部上的基板收纳容器和所述基板处理装置的处理部侧之间送入送出所述基板，
所述保管区域设于所述送入送出部的上侧。
3.根据权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，
所述位于最上部的保管部具备基板支承部，该基板支承部能够在交接位置和保管所述基板收纳容器的保管位置之间移动，该交接位置是在所述基板收纳容器载置部的上方在该保管部与所述顶部行驶车之间交接所述基板收纳容器时该基板支承部所处的位置。
4.根据权利要求2所述的基板处理装置，其特征在于，
在所述送入送出部内具有输送臂，该输送臂在所述基板收纳容器载置部上的基板收纳容器和所述基板处理装置的处理部侧之间送入送出所述基板，
所述送入送出部相对于所述保管区域被气密地划分出。
5.根据权利要求1～4中任一项所述的基板处理装置，其特征在于，
该基板处理装置具有移载装置，该移载装置能够在位于最上部的保管部、处于所述位于最上部的保管部的下侧的其他保管部、以及所述基板收纳容器载置部之间移载所述基板收纳容器，
所述移载装置具备在保持所述基板收纳容器的状态下在水平方向上改变朝向的机构。
6.根据权利要求5所述的基板处理装置，其特征在于，
所述移载装置能够三维移动且具有使保持着的基板收纳容器以保持的位置为中心至少在水平方向上旋转90度的旋转机构。
7.根据权利要求5所述的基板处理装置，其特征在于，
在隔着所述基板收纳容器载置部与所述保管区域相对的位置具有保管基板收纳容器的其他保管区域，所述移载装置能够将保管在该其他保管区域的基板收纳容器向所述位于最上部的保管部和所述基板收纳容器载置部移载。
8.一种基板收纳容器保管方法，其为用于收纳基板的基板收纳容器的保管方法，其特征在于，
所述基板收纳容器保管在保管区域，该保管区域配置为靠近用于处理基板的基板处理装置的基板收纳容器载置部，
在所述保管区域，将在水平方向上载置并保管多个所述基板收纳容器的保管部设为上下多层，
位于最上部的保管部能够在其与顶部行驶车之间交接所述基板收纳容器，该顶部行驶车在所述基板处理装置的上方移动，
在处于所述位于最上部的保管部的下侧的其他保管部，以与载置并保管在位于最上部的保管部的基板收纳容器不同的朝向载置并保管基板收纳容器。
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