JP2024014031A5 - - Google Patents
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Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2022116575A JP2024014031A (ja) | 2022-07-21 | 2022-07-21 | 検出装置、リソグラフィー装置および物品製造方法 |
| US18/346,296 US20240027926A1 (en) | 2022-07-21 | 2023-07-03 | Detection device, lithography apparatus, and article manufacturing method |
| TW112125082A TW202419984A (zh) | 2022-07-21 | 2023-07-05 | 檢測裝置、微影設備及物品製造方法 |
| KR1020230092815A KR20240013057A (ko) | 2022-07-21 | 2023-07-18 | 검출 장치, 리소그래피 장치 및 물품 제조 방법 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2022116575A JP2024014031A (ja) | 2022-07-21 | 2022-07-21 | 検出装置、リソグラフィー装置および物品製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2024014031A JP2024014031A (ja) | 2024-02-01 |
| JP2024014031A5 true JP2024014031A5 (enExample) | 2025-07-18 |
Family
ID=89577335
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2022116575A Pending JP2024014031A (ja) | 2022-07-21 | 2022-07-21 | 検出装置、リソグラフィー装置および物品製造方法 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US20240027926A1 (enExample) |
| JP (1) | JP2024014031A (enExample) |
| KR (1) | KR20240013057A (enExample) |
| TW (1) | TW202419984A (enExample) |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP5909210B2 (ja) * | 2013-07-11 | 2016-04-26 | キヤノン株式会社 | インプリント装置及び物品の製造方法 |
| JP6570914B2 (ja) * | 2015-08-03 | 2019-09-04 | 東芝メモリ株式会社 | インプリント方法 |
| JP7510280B2 (ja) * | 2020-06-02 | 2024-07-03 | キヤノン株式会社 | 検出器、インプリント装置および物品製造方法 |
| JP2024014030A (ja) * | 2022-07-21 | 2024-02-01 | キヤノン株式会社 | 検出装置、リソグラフィー装置および物品製造方法 |
-
2022
- 2022-07-21 JP JP2022116575A patent/JP2024014031A/ja active Pending
-
2023
- 2023-07-03 US US18/346,296 patent/US20240027926A1/en active Pending
- 2023-07-05 TW TW112125082A patent/TW202419984A/zh unknown
- 2023-07-18 KR KR1020230092815A patent/KR20240013057A/ko active Pending
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