JP2024009060A - 光学フィルム - Google Patents
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- 239000012788 optical film Substances 0.000 title claims abstract description 68
- 239000010408 film Substances 0.000 claims abstract description 307
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 claims abstract description 97
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims abstract description 60
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims abstract description 60
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 claims abstract description 20
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 claims abstract description 12
- 239000003607 modifier Substances 0.000 claims abstract description 4
- VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N Fumaric acid Natural products OC(=O)\C=C\C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N 0.000 claims description 23
- 239000001530 fumaric acid Substances 0.000 claims description 22
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 22
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 claims description 13
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 9
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 7
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 7
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 6
- 229920006389 polyphenyl polymer Chemical class 0.000 claims description 4
- 125000006165 cyclic alkyl group Chemical group 0.000 claims description 3
- 150000001491 aromatic compounds Chemical class 0.000 claims description 2
- 150000001558 benzoic acid derivatives Chemical class 0.000 claims description 2
- 150000008366 benzophenones Chemical class 0.000 claims description 2
- 150000001565 benzotriazoles Chemical class 0.000 claims description 2
- 150000003918 triazines Chemical class 0.000 claims description 2
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 abstract description 16
- 239000010409 thin film Substances 0.000 abstract description 7
- 230000000007 visual effect Effects 0.000 abstract 1
- -1 triazine compound Chemical class 0.000 description 39
- 238000000034 method Methods 0.000 description 33
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 22
- 239000011342 resin composition Substances 0.000 description 19
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 17
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 16
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 13
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 13
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 12
- 235000006708 antioxidants Nutrition 0.000 description 12
- FNMTVMWFISHPEV-AATRIKPKSA-N dipropan-2-yl (e)-but-2-enedioate Chemical group CC(C)OC(=O)\C=C\C(=O)OC(C)C FNMTVMWFISHPEV-AATRIKPKSA-N 0.000 description 12
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 12
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 10
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 10
- 239000000463 material Substances 0.000 description 10
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 10
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 8
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 8
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 7
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 6
- 238000005266 casting Methods 0.000 description 6
- 239000012153 distilled water Substances 0.000 description 6
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 6
- 229920001230 polyarylate Polymers 0.000 description 6
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 6
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 description 6
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Chemical compound O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229920006254 polymer film Polymers 0.000 description 5
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 5
- 238000005160 1H NMR spectroscopy Methods 0.000 description 4
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 4
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 4
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N ether Substances CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000005227 gel permeation chromatography Methods 0.000 description 4
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 4
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 4
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 4
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 4
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 4
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N Acetonitrile Chemical compound CC#N WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- HSHXDCVZWHOWCS-UHFFFAOYSA-N N'-hexadecylthiophene-2-carbohydrazide Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCNNC(=O)c1cccs1 HSHXDCVZWHOWCS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004695 Polyether sulfone Substances 0.000 description 3
- DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N Propylene glycol Chemical compound CC(O)CO DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000005587 bubbling Effects 0.000 description 3
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 3
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 3
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 3
- 125000001511 cyclopentyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C1([H])[H] 0.000 description 3
- IEPRKVQEAMIZSS-AATRIKPKSA-N diethyl fumarate Chemical compound CCOC(=O)\C=C\C(=O)OCC IEPRKVQEAMIZSS-AATRIKPKSA-N 0.000 description 3
- 239000002270 dispersing agent Substances 0.000 description 3
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 3
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 3
- 239000001866 hydroxypropyl methyl cellulose Substances 0.000 description 3
- 229920003088 hydroxypropyl methyl cellulose Polymers 0.000 description 3
- 235000010979 hydroxypropyl methyl cellulose Nutrition 0.000 description 3
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 3
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 3
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 3
- 229920005668 polycarbonate resin Polymers 0.000 description 3
- 239000004431 polycarbonate resin Substances 0.000 description 3
- 229920006393 polyether sulfone Polymers 0.000 description 3
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 3
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 3
- OPQYOFWUFGEMRZ-UHFFFAOYSA-N tert-butyl 2,2-dimethylpropaneperoxoate Chemical compound CC(C)(C)OOC(=O)C(C)(C)C OPQYOFWUFGEMRZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- GVJHHUAWPYXKBD-UHFFFAOYSA-N (±)-α-Tocopherol Chemical compound OC1=C(C)C(C)=C2OC(CCCC(C)CCCC(C)CCCC(C)C)(C)CCC2=C1C GVJHHUAWPYXKBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QPFMBZIOSGYJDE-UHFFFAOYSA-N 1,1,2,2-tetrachloroethane Chemical compound ClC(Cl)C(Cl)Cl QPFMBZIOSGYJDE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OGGKVJMNFFSDEV-UHFFFAOYSA-N 3-methyl-n-[4-[4-(n-(3-methylphenyl)anilino)phenyl]phenyl]-n-phenylaniline Chemical compound CC1=CC=CC(N(C=2C=CC=CC=2)C=2C=CC(=CC=2)C=2C=CC(=CC=2)N(C=2C=CC=CC=2)C=2C=C(C)C=CC=2)=C1 OGGKVJMNFFSDEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 2
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 2
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N Glycerine Chemical compound OCC(O)CO PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N Methyl acrylate Chemical group COC(=O)C=C BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 2
- DKGAVHZHDRPRBM-UHFFFAOYSA-N Tert-Butanol Chemical compound CC(C)(C)O DKGAVHZHDRPRBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 2
- RDOXTESZEPMUJZ-UHFFFAOYSA-N anisole Chemical compound COC1=CC=CC=C1 RDOXTESZEPMUJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N benzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1 WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QRUDEWIWKLJBPS-UHFFFAOYSA-N benzotriazole Chemical compound C1=CC=C2N[N][N]C2=C1 QRUDEWIWKLJBPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012964 benzotriazole Substances 0.000 description 2
- BNHMJMTXEVFXNZ-MDZDMXLPSA-N bis(2-methylbutan-2-yl) (e)-but-2-enedioate Chemical group CCC(C)(C)OC(=O)\C=C\C(=O)OC(C)(C)CC BNHMJMTXEVFXNZ-MDZDMXLPSA-N 0.000 description 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 2
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 2
- BGTOWKSIORTVQH-UHFFFAOYSA-N cyclopentanone Chemical compound O=C1CCCC1 BGTOWKSIORTVQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BLKQQTCUGZJWLN-VAWYXSNFSA-N dicyclohexyl (e)-but-2-enedioate Chemical group C1CCCCC1OC(=O)/C=C/C(=O)OC1CCCCC1 BLKQQTCUGZJWLN-VAWYXSNFSA-N 0.000 description 2
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 2
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 239000000155 melt Substances 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 2
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 2
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 2
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 2
- 239000009719 polyimide resin Substances 0.000 description 2
- 229920000098 polyolefin Polymers 0.000 description 2
- HNJBEVLQSNELDL-UHFFFAOYSA-N pyrrolidin-2-one Chemical compound O=C1CCCN1 HNJBEVLQSNELDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010526 radical polymerization reaction Methods 0.000 description 2
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 2
- 125000002914 sec-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 125000003011 styrenyl group Chemical group [H]\C(*)=C(/[H])C1=C([H])C([H])=C([H])C([H])=C1[H] 0.000 description 2
- 238000010557 suspension polymerization reaction Methods 0.000 description 2
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N tetrachloromethane Chemical compound ClC(Cl)(Cl)Cl VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000006097 ultraviolet radiation absorber Substances 0.000 description 2
- QXUAGVBDEYPLTN-MDZDMXLPSA-N (E)-2,3-di(butan-2-yl)but-2-enedioic acid Chemical group CCC(C)C(\C(O)=O)=C(C(O)=O)\C(C)CC QXUAGVBDEYPLTN-MDZDMXLPSA-N 0.000 description 1
- LHLHWDNRHALZNF-BQYQJAHWSA-N (e)-2,3-di(propan-2-yl)but-2-enedioic acid Chemical group CC(C)C(\C(O)=O)=C(\C(C)C)C(O)=O LHLHWDNRHALZNF-BQYQJAHWSA-N 0.000 description 1
- LRWOKNIDORCOJJ-BQYQJAHWSA-N (e)-2,3-ditert-butylbut-2-enedioic acid Chemical group CC(C)(C)C(\C(O)=O)=C(/C(O)=O)C(C)(C)C LRWOKNIDORCOJJ-BQYQJAHWSA-N 0.000 description 1
- SCYULBFZEHDVBN-UHFFFAOYSA-N 1,1-Dichloroethane Chemical compound CC(Cl)Cl SCYULBFZEHDVBN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FIDRAVVQGKNYQK-UHFFFAOYSA-N 1,2,3,4-tetrahydrotriazine Chemical compound C1NNNC=C1 FIDRAVVQGKNYQK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JYEUMXHLPRZUAT-UHFFFAOYSA-N 1,2,3-triazine Chemical compound C1=CN=NN=C1 JYEUMXHLPRZUAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OCJBOOLMMGQPQU-UHFFFAOYSA-N 1,4-dichlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=C(Cl)C=C1 OCJBOOLMMGQPQU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DURPTKYDGMDSBL-UHFFFAOYSA-N 1-butoxybutane Chemical compound CCCCOCCCC DURPTKYDGMDSBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MEZZCSHVIGVWFI-UHFFFAOYSA-N 2,2'-Dihydroxy-4-methoxybenzophenone Chemical compound OC1=CC(OC)=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1O MEZZCSHVIGVWFI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZXDDPOHVAMWLBH-UHFFFAOYSA-N 2,4-Dihydroxybenzophenone Chemical compound OC1=CC(O)=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 ZXDDPOHVAMWLBH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IGFDJZRYXGAOKQ-UHFFFAOYSA-N 2-(4,6-diphenyl-1,3,5-triazin-2-yl)-5-ethoxyphenol Chemical compound OC1=CC(OCC)=CC=C1C1=NC(C=2C=CC=CC=2)=NC(C=2C=CC=CC=2)=N1 IGFDJZRYXGAOKQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LEVFXWNQQSSNAC-UHFFFAOYSA-N 2-(4,6-diphenyl-1,3,5-triazin-2-yl)-5-hexoxyphenol Chemical compound OC1=CC(OCCCCCC)=CC=C1C1=NC(C=2C=CC=CC=2)=NC(C=2C=CC=CC=2)=N1 LEVFXWNQQSSNAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UUINYPIVWRZHAG-UHFFFAOYSA-N 2-(4,6-diphenyl-1,3,5-triazin-2-yl)-5-methoxyphenol Chemical compound OC1=CC(OC)=CC=C1C1=NC(C=2C=CC=CC=2)=NC(C=2C=CC=CC=2)=N1 UUINYPIVWRZHAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DSBLSFKNWFKZON-UHFFFAOYSA-N 2-(4,6-diphenyl-1,3,5-triazin-2-yl)-5-propoxyphenol Chemical compound CCCOc1ccc(c(O)c1)-c1nc(nc(n1)-c1ccccc1)-c1ccccc1 DSBLSFKNWFKZON-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OLFNXLXEGXRUOI-UHFFFAOYSA-N 2-(benzotriazol-2-yl)-4,6-bis(2-phenylpropan-2-yl)phenol Chemical compound C=1C(N2N=C3C=CC=CC3=N2)=C(O)C(C(C)(C)C=2C=CC=CC=2)=CC=1C(C)(C)C1=CC=CC=C1 OLFNXLXEGXRUOI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LHPPDQUVECZQSW-UHFFFAOYSA-N 2-(benzotriazol-2-yl)-4,6-ditert-butylphenol Chemical compound CC(C)(C)C1=CC(C(C)(C)C)=CC(N2N=C3C=CC=CC3=N2)=C1O LHPPDQUVECZQSW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WXHVQMGINBSVAY-UHFFFAOYSA-N 2-(benzotriazol-2-yl)-4-tert-butylphenol Chemical compound CC(C)(C)C1=CC=C(O)C(N2N=C3C=CC=CC3=N2)=C1 WXHVQMGINBSVAY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 2-METHOXYETHANOL Chemical compound COCCO XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZSSVCEUEVMALRD-UHFFFAOYSA-N 2-[4,6-bis(2,4-dimethylphenyl)-1,3,5-triazin-2-yl]-5-(octyloxy)phenol Chemical compound OC1=CC(OCCCCCCCC)=CC=C1C1=NC(C=2C(=CC(C)=CC=2)C)=NC(C=2C(=CC(C)=CC=2)C)=N1 ZSSVCEUEVMALRD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 2-butoxyethanol Chemical compound CCCCOCCO POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ISPYQTSUDJAMAB-UHFFFAOYSA-N 2-chlorophenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1Cl ISPYQTSUDJAMAB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethanol Chemical compound CCOCCO ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QNXWZWDKCBKRKK-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-n-[4-[4-(n-(2-methylphenyl)anilino)phenyl]phenyl]-n-phenylaniline Chemical compound CC1=CC=CC=C1N(C=1C=CC(=CC=1)C=1C=CC(=CC=1)N(C=1C=CC=CC=1)C=1C(=CC=CC=1)C)C1=CC=CC=C1 QNXWZWDKCBKRKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NMAGCVWUISAHAP-UHFFFAOYSA-N 3,5-ditert-butyl-2-(2,4-ditert-butylphenyl)-4-hydroxybenzoic acid Chemical compound CC(C)(C)C1=CC(C(C)(C)C)=CC=C1C1=C(C(O)=O)C=C(C(C)(C)C)C(O)=C1C(C)(C)C NMAGCVWUISAHAP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ALKCLFLTXBBMMP-UHFFFAOYSA-N 3,7-dimethylocta-1,6-dien-3-yl hexanoate Chemical compound CCCCCC(=O)OC(C)(C=C)CCC=C(C)C ALKCLFLTXBBMMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ATGIXVUZFPZOHP-UHFFFAOYSA-N 4-(4-phenylphenyl)aniline Chemical group C1=CC(N)=CC=C1C1=CC=C(C=2C=CC=CC=2)C=C1 ATGIXVUZFPZOHP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DMVJDNDXIBORDT-UHFFFAOYSA-N 4-(n-[4-[4-(n-(4-formylphenyl)anilino)phenyl]phenyl]anilino)benzaldehyde Chemical compound C1=CC(C=O)=CC=C1N(C=1C=CC(=CC=1)C=1C=CC(=CC=1)N(C=1C=CC=CC=1)C=1C=CC(C=O)=CC=1)C1=CC=CC=C1 DMVJDNDXIBORDT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005218 4-Cyano-4''-pentyl-p-terphenyl Substances 0.000 description 1
- 239000005229 4-Cyano-4''-propyl-p-terphenyl Substances 0.000 description 1
- QBSMHWVGUPQNJJ-UHFFFAOYSA-N 4-[4-(4-aminophenyl)phenyl]aniline Chemical group C1=CC(N)=CC=C1C1=CC=C(C=2C=CC(N)=CC=2)C=C1 QBSMHWVGUPQNJJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AITQOXOBSMXBRV-UHFFFAOYSA-N 4-[4-(4-pentylphenyl)phenyl]benzonitrile Chemical group C1=CC(CCCCC)=CC=C1C1=CC=C(C=2C=CC(=CC=2)C#N)C=C1 AITQOXOBSMXBRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PWZKBBQJWUEPOK-UHFFFAOYSA-N 4-[4-(4-propylphenyl)phenyl]benzonitrile Chemical group C1=CC(CCC)=CC=C1C1=CC=C(C=2C=CC(=CC=2)C#N)C=C1 PWZKBBQJWUEPOK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HACXFZALVVMGPO-UHFFFAOYSA-N 4-methoxy-n-[4-[4-(n-(4-methoxy-2-methylphenyl)anilino)phenyl]phenyl]-2-methyl-n-phenylaniline Chemical compound CC1=CC(OC)=CC=C1N(C=1C=CC(=CC=1)C=1C=CC(=CC=1)N(C=1C=CC=CC=1)C=1C(=CC(OC)=CC=1)C)C1=CC=CC=C1 HACXFZALVVMGPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UNZWWPCQEYRCMU-UHFFFAOYSA-N 4-methyl-n-[4-[4-(n-(4-methylphenyl)anilino)phenyl]phenyl]-n-phenylaniline Chemical compound C1=CC(C)=CC=C1N(C=1C=CC(=CC=1)C=1C=CC(=CC=1)N(C=1C=CC=CC=1)C=1C=CC(C)=CC=1)C1=CC=CC=C1 UNZWWPCQEYRCMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GCPDCGCMGILXLN-UHFFFAOYSA-N 5-butoxy-2-(4,6-diphenyl-1,3,5-triazin-2-yl)phenol Chemical compound OC1=CC(OCCCC)=CC=C1C1=NC(C=2C=CC=CC=2)=NC(C=2C=CC=CC=2)=N1 GCPDCGCMGILXLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZQHPGUHHKNTBGL-UHFFFAOYSA-N 5-hexoxy-2-(1,3,5-triazin-2-yl)phenol Chemical compound CCCCCCOc1ccc(c(O)c1)-c1ncncn1 ZQHPGUHHKNTBGL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N Acrylonitrile Chemical group C=CC#N NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N Butyl acetate Natural products CCCCOC(C)=O DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SOGAXMICEFXMKE-UHFFFAOYSA-N Butylmethacrylate Chemical group CCCCOC(=O)C(C)=C SOGAXMICEFXMKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002284 Cellulose triacetate Polymers 0.000 description 1
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical group C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acrylate Chemical group CCOC(=O)C=C JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 description 1
- 229920006257 Heat-shrinkable film Polymers 0.000 description 1
- AVXURJPOCDRRFD-UHFFFAOYSA-N Hydroxylamine Chemical compound ON AVXURJPOCDRRFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PEEHTFAAVSWFBL-UHFFFAOYSA-N Maleimide Chemical compound O=C1NC(=O)C=C1 PEEHTFAAVSWFBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Chemical compound CC(C)CC(C)=O NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Natural products CCC(C)C(C)=O UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical group COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GYCMBHHDWRMZGG-UHFFFAOYSA-N Methylacrylonitrile Chemical group CC(=C)C#N GYCMBHHDWRMZGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylacetamide Chemical compound CN(C)C(C)=O FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005481 NMR spectroscopy Methods 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 1
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 1
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 1
- 229920001328 Polyvinylidene chloride Polymers 0.000 description 1
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N Vinyl acetate Chemical group CC(=O)OC=C XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229930003427 Vitamin E Natural products 0.000 description 1
- NNLVGZFZQQXQNW-ADJNRHBOSA-N [(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5-diacetyloxy-3-[(2s,3r,4s,5r,6r)-3,4,5-triacetyloxy-6-(acetyloxymethyl)oxan-2-yl]oxy-6-[(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5,6-triacetyloxy-2-(acetyloxymethyl)oxan-3-yl]oxyoxan-2-yl]methyl acetate Chemical compound O([C@@H]1O[C@@H]([C@H]([C@H](OC(C)=O)[C@H]1OC(C)=O)O[C@H]1[C@@H]([C@@H](OC(C)=O)[C@H](OC(C)=O)[C@@H](COC(C)=O)O1)OC(C)=O)COC(=O)C)[C@@H]1[C@@H](COC(C)=O)O[C@@H](OC(C)=O)[C@H](OC(C)=O)[C@H]1OC(C)=O NNLVGZFZQQXQNW-ADJNRHBOSA-N 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M acrylate group Chemical group C(C=C)(=O)[O-] NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 125000005396 acrylic acid ester group Chemical group 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 1
- 239000005456 alcohol based solvent Substances 0.000 description 1
- 150000001336 alkenes Chemical group 0.000 description 1
- XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N alpha-Methylstyrene Chemical group CC(=C)C1=CC=CC=C1 XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 1
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- 230000003078 antioxidant effect Effects 0.000 description 1
- 239000002216 antistatic agent Substances 0.000 description 1
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 1
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 1
- RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N benzophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1=CC=CC=C1 RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012965 benzophenone Substances 0.000 description 1
- WXNRYSGJLQFHBR-UHFFFAOYSA-N bis(2,4-dihydroxyphenyl)methanone Chemical compound OC1=CC(O)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(O)C=C1O WXNRYSGJLQFHBR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GJQGAYLLSMZOII-MDZDMXLPSA-N bis(2-methylpentan-2-yl) (e)-but-2-enedioate Chemical group CCCC(C)(C)OC(=O)\C=C\C(=O)OC(C)(C)CCC GJQGAYLLSMZOII-MDZDMXLPSA-N 0.000 description 1
- FQUNFJULCYSSOP-UHFFFAOYSA-N bisoctrizole Chemical compound N1=C2C=CC=CC2=NN1C1=CC(C(C)(C)CC(C)(C)C)=CC(CC=2C(=C(C=C(C=2)C(C)(C)CC(C)(C)C)N2N=C3C=CC=CC3=N2)O)=C1O FQUNFJULCYSSOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 1
- 238000012662 bulk polymerization Methods 0.000 description 1
- CQEYYJKEWSMYFG-UHFFFAOYSA-N butyl acrylate Chemical group CCCCOC(=O)C=C CQEYYJKEWSMYFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KVNRLNFWIYMESJ-UHFFFAOYSA-N butyronitrile Chemical compound CCCC#N KVNRLNFWIYMESJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QGJOPFRUJISHPQ-NJFSPNSNSA-N carbon disulfide-14c Chemical compound S=[14C]=S QGJOPFRUJISHPQ-NJFSPNSNSA-N 0.000 description 1
- 239000012461 cellulose resin Substances 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- MWJNGKOBSUBRNM-BQYQJAHWSA-N dibutan-2-yl (e)-but-2-enedioate Chemical group CCC(C)OC(=O)\C=C\C(=O)OC(C)CC MWJNGKOBSUBRNM-BQYQJAHWSA-N 0.000 description 1
- 229940117389 dichlorobenzene Drugs 0.000 description 1
- SIISCSYILCBRQH-MDZDMXLPSA-N dicyclopentyl (e)-but-2-enedioate Chemical group C1CCCC1OC(=O)/C=C/C(=O)OC1CCCC1 SIISCSYILCBRQH-MDZDMXLPSA-N 0.000 description 1
- AVMQULGJYOVQMP-AATRIKPKSA-N dicyclopropyl (e)-but-2-enedioate Chemical group C1CC1OC(=O)/C=C/C(=O)OC1CC1 AVMQULGJYOVQMP-AATRIKPKSA-N 0.000 description 1
- 150000005690 diesters Chemical class 0.000 description 1
- SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N diglyme Chemical compound COCCOCCOC SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NMWLGMUACXLYQW-VAWYXSNFSA-N dihexan-2-yl (e)-but-2-enedioate Chemical group CCCCC(C)OC(=O)\C=C\C(=O)OC(C)CCCC NMWLGMUACXLYQW-VAWYXSNFSA-N 0.000 description 1
- DJOLQBLYDDQTSY-MDZDMXLPSA-N dipentan-2-yl (e)-but-2-enedioate Chemical group CCCC(C)OC(=O)\C=C\C(=O)OC(C)CCC DJOLQBLYDDQTSY-MDZDMXLPSA-N 0.000 description 1
- SZXQTJUDPRGNJN-UHFFFAOYSA-N dipropylene glycol Chemical compound OCCCOCCCO SZXQTJUDPRGNJN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MSVGHYYKWDQHFV-BQYQJAHWSA-N ditert-butyl (e)-but-2-enedioate Chemical group CC(C)(C)OC(=O)\C=C\C(=O)OC(C)(C)C MSVGHYYKWDQHFV-BQYQJAHWSA-N 0.000 description 1
- 238000007606 doctor blade method Methods 0.000 description 1
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 1
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 1
- 238000010828 elution Methods 0.000 description 1
- 238000010556 emulsion polymerization method Methods 0.000 description 1
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 1
- 239000003759 ester based solvent Substances 0.000 description 1
- 125000004185 ester group Chemical group 0.000 description 1
- UIWXSTHGICQLQT-UHFFFAOYSA-N ethenyl propanoate Chemical group CCC(=O)OC=C UIWXSTHGICQLQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004210 ether based solvent Substances 0.000 description 1
- 125000001033 ether group Chemical group 0.000 description 1
- SUPCQIBBMFXVTL-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical group CCOC(=O)C(C)=C SUPCQIBBMFXVTL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007888 film coating Substances 0.000 description 1
- 238000009501 film coating Methods 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 description 1
- 238000010528 free radical solution polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- WIGCFUFOHFEKBI-UHFFFAOYSA-N gamma-tocopherol Natural products CC(C)CCCC(C)CCCC(C)CCCC1CCC2C(C)C(O)C(C)C(C)C2O1 WIGCFUFOHFEKBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 235000011187 glycerol Nutrition 0.000 description 1
- 238000007756 gravure coating Methods 0.000 description 1
- 150000008282 halocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 1
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 1
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NZYMWGXNIUZYRC-UHFFFAOYSA-N hexadecyl 3,5-ditert-butyl-4-hydroxybenzoate Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCOC(=O)C1=CC(C(C)(C)C)=C(O)C(C(C)(C)C)=C1 NZYMWGXNIUZYRC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TXGJTWACJNYNOJ-UHFFFAOYSA-N hexane-2,4-diol Chemical compound CCC(O)CC(C)O TXGJTWACJNYNOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-M hexanoate Chemical compound CCCCCC([O-])=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 150000007529 inorganic bases Chemical class 0.000 description 1
- 239000005453 ketone based solvent Substances 0.000 description 1
- 150000002596 lactones Chemical class 0.000 description 1
- 238000003475 lamination Methods 0.000 description 1
- 239000004611 light stabiliser Substances 0.000 description 1
- 239000000314 lubricant Substances 0.000 description 1
- AUHZEENZYGFFBQ-UHFFFAOYSA-N mesitylene Substances CC1=CC(C)=CC(C)=C1 AUHZEENZYGFFBQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001827 mesitylenyl group Chemical group [H]C1=C(C(*)=C(C([H])=C1C([H])([H])[H])C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000005397 methacrylic acid ester group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005395 methacrylic acid group Chemical group 0.000 description 1
- UZKWTJUDCOPSNM-UHFFFAOYSA-N methoxybenzene Substances CCCCOC=C UZKWTJUDCOPSNM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SDVOZSYGHFDAKX-UHFFFAOYSA-N n,4-diphenyl-n-[4-[4-(n-(4-phenylphenyl)anilino)phenyl]phenyl]aniline Chemical compound C1=CC=CC=C1N(C=1C=CC(=CC=1)C=1C=CC(=CC=1)N(C=1C=CC=CC=1)C=1C=CC(=CC=1)C=1C=CC=CC=1)C1=CC=C(C=2C=CC=CC=2)C=C1 SDVOZSYGHFDAKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DCZNSJVFOQPSRV-UHFFFAOYSA-N n,n-diphenyl-4-[4-(n-phenylanilino)phenyl]aniline Chemical compound C1=CC=CC=C1N(C=1C=CC(=CC=1)C=1C=CC(=CC=1)N(C=1C=CC=CC=1)C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 DCZNSJVFOQPSRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002825 nitriles Chemical class 0.000 description 1
- DXGLGDHPHMLXJC-UHFFFAOYSA-N oxybenzone Chemical compound OC1=CC(OC)=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 DXGLGDHPHMLXJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002989 phenols Chemical class 0.000 description 1
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 1
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 1
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 1
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 1
- 229920002492 poly(sulfone) Polymers 0.000 description 1
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 1
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 239000005518 polymer electrolyte Substances 0.000 description 1
- 229920000417 polynaphthalene Polymers 0.000 description 1
- 229920005672 polyolefin resin Polymers 0.000 description 1
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 1
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 1
- 229920000915 polyvinyl chloride Polymers 0.000 description 1
- 239000004800 polyvinyl chloride Substances 0.000 description 1
- 239000005033 polyvinylidene chloride Substances 0.000 description 1
- 238000012673 precipitation polymerization Methods 0.000 description 1
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000004805 propylene group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 1
- 239000013557 residual solvent Substances 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 238000012916 structural analysis Methods 0.000 description 1
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 1
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 1
- CXVGEDCSTKKODG-UHFFFAOYSA-N sulisobenzone Chemical compound C1=C(S(O)(=O)=O)C(OC)=CC(O)=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 CXVGEDCSTKKODG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 1
- 238000010558 suspension polymerization method Methods 0.000 description 1
- KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-L terephthalate(2-) Chemical compound [O-]C(=O)C1=CC=C(C([O-])=O)C=C1 KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 125000001973 tert-pentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N triethylene glycol Chemical compound OCCOCCOCCO ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ABDKAPXRBAPSQN-UHFFFAOYSA-N veratrole Chemical compound COC1=CC=CC=C1OC ABDKAPXRBAPSQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001567 vinyl ester resin Polymers 0.000 description 1
- 235000019165 vitamin E Nutrition 0.000 description 1
- 229940046009 vitamin E Drugs 0.000 description 1
- 239000011709 vitamin E Substances 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
- Polarising Elements (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
- Shaping By String And By Release Of Stress In Plastics And The Like (AREA)
Abstract
【課題】光学部材の薄膜化への適合性の観点から、薄膜で優れた視野角特性と波長分散特性を発現する位相差フィルムが求められている。【解決手段】負の複屈折を示すエステル系樹脂と正の波長分散を示す波長分散調整剤を含有し、フィルム面内の進相軸方向の屈折率をnx、それと直交するフィルム面内方向の屈折率をny、フィルム面外の垂直方向の屈折率をnzとした場合のそれぞれの関係がnx<ny≦nzであり、下記式(a)にて示される波長450nmで測定した面内位相差(R450)と波長550nmで測定した面内位相差(R550)の比(R450/R50)が1.00以下である光学フィルム。Re=(ny-nx)×d (a)(式中、nxはフィルム面内の進相軸方向の屈折率を示し、nyはフィルム面内の遅相軸方向の屈折率、フィルム面外の垂直方向の屈折率をnz、dはフィルムの厚み示す。)【選択図】なし
Description
本発明は位相差フィルム等に好適に用いることのできる光学フィルムの製造方法に関するものであり、さらに詳しくは、位相差特性、波長依存性に優れる光学フィルムに関する。
液晶ディスプレイは、マルチメディア社会における最も重要な表示デバイスとして、携帯電話、コンピューター用モニター、ノートパソコン、テレビまで幅広く使用されている。液晶ディスプレイには表示特性向上のため多くの光学フィルムが用いられている。特に光学フィルムは、正面や斜めから見た場合のコントラスト向上、色調の補償など大きな役割を果たしている。
液晶ディスプレイ関係の光学フィルムで代表的なものとして、位相差フィルムを挙げることができる。位相差フィルムは反射型液晶表示装置、タッチパネルや有機ELの反射防止層として用いられる。
液晶ディスプレイ関係の光学フィルムで代表的なものとして、位相差フィルムを挙げることができる。位相差フィルムは反射型液晶表示装置、タッチパネルや有機ELの反射防止層として用いられる。
従来の位相差フィルムとしては、ポリカーボネートや環状ポリオレフィンが使用されており、これらの高分子はいずれも正の複屈折を有する高分子である。ここで、複屈折の正負は以下に示すように定義される。
延伸等で分子配向した高分子フィルムの光学異方性は、フィルムを延伸した場合のフィルム面内の進相軸方向の屈折率をnx、それと直交するフィルム面内方向の屈折率をny、フィルムの厚み方向の屈折率をnzとした屈折率楕円体で表すことができる。
延伸等で分子配向した高分子フィルムの光学異方性は、フィルムを延伸した場合のフィルム面内の進相軸方向の屈折率をnx、それと直交するフィルム面内方向の屈折率をny、フィルムの厚み方向の屈折率をnzとした屈折率楕円体で表すことができる。
つまり、負の複屈折を有する高分子の一軸延伸では延伸軸方向の屈折率が小さく(進相軸:延伸方向)、正の複屈折を有する高分子の一軸延伸では延伸軸方向と直交する軸方向の屈折率が小さい(進相軸:延伸方向と直交方向)。
また、面内位相差(Re)は、進相軸方向と直交方向の屈折率(ny)-進相軸方向の屈折率(nx)にフィルムの厚みを掛けた値として表される。
また、面内位相差(Re)は、進相軸方向と直交方向の屈折率(ny)-進相軸方向の屈折率(nx)にフィルムの厚みを掛けた値として表される。
多くの高分子は正の複屈折性を有する。負の複屈折を有する高分子としてはアクリル樹脂やポリスチレンがあるが、アクリル樹脂は位相差の発現性が小さく、光学補償フィルムとしての特性は十分でない。ポリスチレンは、室温領域での光弾性係数が大きくわずかな応力で位相差が変化するなど位相差の安定性の課題、位相差の波長依存性が大きいといった光学特性上の課題、更に耐熱性が低いといった実用上の課題があり現状用いられていない。
位相差の波長依存性とは、位相差が測定波長に依存して変化することを意味し、波長450nmで測定した位相差(R450)と波長550nmで測定した位相差(R550)の比R450/R550として表すことができる。一般に芳香族構造の高分子ではこのR450/R550が大きくなる傾向が強く、低波長領域でのコントラストや視野角特性が低下する。該用途では、特に長波長域ほど面内位相差が大きいR450/R550が1.00以下となる位相差フィルム(以下、「逆波長分散フィルム」という)が求められている。
負の複屈折を示す高分子の延伸フィルムはフィルムの厚み方向の屈折率が高く、従来にない光学補償フィルムとなるため、例えばスーパーツイストネマチック型液晶(STN-LCD)や垂直配向型液晶(VA-LCD)、面内配向型液晶(IPS-LCD)、反射型液晶ディスプレイ、半透過型液晶ディスプレイなどのディスプレイの視野角特性の補償用の位相差フィルムや偏光板の視野角を補償するための位相差フィルムとして有用であり、負の複屈折を有する位相差フィルムに対して市場の要求が強い。
このような要求特性に対し、種々の位相差フィルムが開発されている。
正の複屈折を有する高分子を用いてフィルムの厚み方向の屈折率を高めたフィルムの製造方法が提案されている。ひとつは高分子フィルムの片面または両面に熱収縮性フィルムを接着し、その積層体を加熱延伸処理して、高分子フィルムの厚み方向に収縮力をかける処理方法(例えば特許文献1~3参照)である。また、高分子フィルムに電場を印加しながら面内に一軸延伸する方法が提案されている(例えば特許文献4参照)。
また、負の光学異方性を有する微粒子と透明性高分子からなる位相差フィルムが提案されている(例えば特許文献5参照)。
正の複屈折を有する高分子を用いてフィルムの厚み方向の屈折率を高めたフィルムの製造方法が提案されている。ひとつは高分子フィルムの片面または両面に熱収縮性フィルムを接着し、その積層体を加熱延伸処理して、高分子フィルムの厚み方向に収縮力をかける処理方法(例えば特許文献1~3参照)である。また、高分子フィルムに電場を印加しながら面内に一軸延伸する方法が提案されている(例えば特許文献4参照)。
また、負の光学異方性を有する微粒子と透明性高分子からなる位相差フィルムが提案されている(例えば特許文献5参照)。
しかし、特許文献1~4において提案された方法は、製造工程が非常に複雑になるため生産性に劣るといった課題がある。また位相差の均一性などの制御も従来の延伸による制御に比べると著しく難しくなる。
また、特許文献5で得られる光学補償フィルムは、負の光学異方性を有する微粒子を添加することにより負の複屈折を有する位相差フィルムであり、微粒子の均一分散性、均一配向制御、フィルム透明性等に課題を有する。
また、特許文献5で得られる光学補償フィルムは、負の光学異方性を有する微粒子を添加することにより負の複屈折を有する位相差フィルムであり、微粒子の均一分散性、均一配向制御、フィルム透明性等に課題を有する。
負の複屈折を有する樹脂を主成分とする逆波長分散性を示すフィルムの実用化例はしられていなかった。そのような位相差膜は、正の複屈折を示すポリカーボネートやポリアリレートの薄層フィルムと組み合わせることで、薄膜でありながら高い面内位相差を発現し、任意の面外位相差に調整することが可能となり、逆波長分散性に優れたフィルムを実現することができる。
本発明者らが鋭意検討した結果、特定の性質を有するエステル系樹脂と波長分散調整剤を用いた光学フィルムが、上記課題を満足することを見出し、本発明を完成するに至った。
すなわち、本発明は、負の複屈折を示すエステル系樹脂と正の複屈折を示す波長分散調整剤を含有し、フィルム面内の進相軸方向の屈折率をnx、それと直交するフィルム面内方向の屈折率をny、フィルム面外の垂直方向の屈折率をnzとした場合のそれぞれの関係がnx<ny≦nzであり、下記式(a)にて示される波長450nmで測定した面内位相差(R450)と波長550nmで測定した面内位相差(R550)の比(R450/R550)が1.00以下である光学フィルムに関するものである。
Re=(ny-nx)×d (a)
(式中、nxはフィルム面内の進相軸方向の屈折率を示し、nyはフィルム面内の遅相軸方向の屈折率、フィルム面外の垂直方向の屈折率をnz、dはフィルムの厚み示す。)
Re=(ny-nx)×d (a)
(式中、nxはフィルム面内の進相軸方向の屈折率を示し、nyはフィルム面内の遅相軸方向の屈折率、フィルム面外の垂直方向の屈折率をnz、dはフィルムの厚み示す。)
本発明によれば、単一成分に近い薄膜で特定の位相差特性および逆波長分散特性を示すことから、液晶ディスプレイ用光学フィルムや反射防止用フィルムとして有用である。
以下、本発明の一態様である光学フィルム(以下、「本発明の光学フィルム」という。)について詳細に説明する。
本発明の光学フィルムは、負の複屈折を示すエステル系樹脂と正の複屈折を示す波長分散調整剤を含有し、フィルム面内の進相軸方向の屈折率をnx、それと直交するフィルム面内方向の屈折率をny、フィルム面外の垂直方向の屈折率をnzとした場合のそれぞれの関係がnx<ny≦nzであり、下記式(a)にて示される波長450nmで測定した面内位相差(R450)と波長550nmで測定した面内位相差(R550)の比(R450/R550)が1.00以下であることを特徴とする光学フィルム(以下「フィルム(A)」とも記載する)である。
Re=(ny-nx)×d (a)
(式中、nxはフィルム面内の進相軸方向の屈折率を示し、nyはフィルム面内の遅相軸方向の屈折率、フィルム面外の垂直方向の屈折率をnz、dはフィルムの厚み示す。)
Re=(ny-nx)×d (a)
(式中、nxはフィルム面内の進相軸方向の屈折率を示し、nyはフィルム面内の遅相軸方向の屈折率、フィルム面外の垂直方向の屈折率をnz、dはフィルムの厚み示す。)
屈折率 nx、ny、nzの関係がnx<ny≦nzとなるようなフィルムは、例えば負の複屈折性を持つポリマーを一軸延伸することにより得ることができる。ここで複屈折の正負は以下に示すように定義される。
負の複屈折とは延伸方向が進相軸方向となるものであり、正の複屈折とは延伸方向の垂直方向が進相軸方向となるものである。
つまり、一軸延伸すると延伸軸と直交する軸方向の屈折率が小さく(進相軸:延伸方向の垂直方向)なるものを正の複屈折を示す樹脂、一軸延伸すると延伸軸方向の屈折率が小さく(進相軸:延伸方向)なるものを負の複屈折を示す樹脂という。
つまり、一軸延伸すると延伸軸と直交する軸方向の屈折率が小さく(進相軸:延伸方向の垂直方向)なるものを正の複屈折を示す樹脂、一軸延伸すると延伸軸方向の屈折率が小さく(進相軸:延伸方向)なるものを負の複屈折を示す樹脂という。
正の複屈折を示す樹脂及び負の複屈折を示す樹脂は、延伸することによって、延伸方向と直交する軸方向で屈折率差が生じるため、面内位相差(Re)が発現する。Reは下記式(a)で表される。また正の複屈折を示す樹脂は、延伸方向と直交する厚さ方向の屈折率が小さくなるため、面外位相差(Rth)が正に大きくなる。一方、負の複屈折を示す樹脂は、延伸方向と直交する厚さ方向の屈折率が大きくなるため、面外位相差(Rth)が負に大きくなる。Rthは下記式(b)で表される。
Re=(ny-nx)×d (a)
Rth=〔(nx+ny)/2-nz〕×d (b)
(式(a)、(b)中、dはフィルムの厚みを示す。)
Re=(ny-nx)×d (a)
Rth=〔(nx+ny)/2-nz〕×d (b)
(式(a)、(b)中、dはフィルムの厚みを示す。)
本発明の光学フィルムは、負の複屈折を持つエステル樹脂に、正の複屈折を持つ波長分散調整剤を含有する組成物を含むことを特徴とする。組成物を構成する材の負と正の複屈折の組み合わせにより、波長分散を制御する事が可能となる。該組成物の構成により、波長450nmで測定した面内位相差(R450)と波長550nmで測定した面内位相差(R550)の R450/R550 で表される波長分散特性(以下、「波長分散特性」という。)が1.00以下の優れた逆波長分散特性を発現する事が可能となる。
逆波長分散特性を発現するためには、一般的に負と正の複屈折の組み合わせが必要となる。そのため、正の複屈折を持つ樹脂の波長分散を、逆波長分散に制御する際には、負の複屈折を有する波長分散調整剤が必要となるが、延伸方向と直交する軸方向に屈折率が大きくなる負の複屈折を発現することは容易ではなく、配向性が低下する添加剤などの低分子量成分では更に困難となる。
一方、本発明の光学フィルムの構成では、負の複屈折を持つ樹脂の波長分散を、正の複屈折を有する波長分散制御剤を用いて調整する。延伸方向に屈折率が大きい正の複屈折は、添加剤などの低分子量でも発現可能かつ大きな波長分散特性を発現しやすい。そのため、負の複屈折を持つ樹脂の波長分散を、正の複屈折を有する波長分散制御剤を用いて調整することで、逆波長分散特性発現が可能となる。
一方、本発明の光学フィルムの構成では、負の複屈折を持つ樹脂の波長分散を、正の複屈折を有する波長分散制御剤を用いて調整する。延伸方向に屈折率が大きい正の複屈折は、添加剤などの低分子量でも発現可能かつ大きな波長分散特性を発現しやすい。そのため、負の複屈折を持つ樹脂の波長分散を、正の複屈折を有する波長分散制御剤を用いて調整することで、逆波長分散特性発現が可能となる。
本発明の光学フィルムの波長分散特性は、1.00以下であり、好ましくはRe(450)/Re(550)≦0.99であり、さらに好ましくはRe(450)/Re(550)≦0.98である。ここで、波長分散特性Re(450)/Re(550)は、一般的な全自動複屈折計を用い、測定波長450nmの条件で測定された値Re(450)と、測定波長550nmの条件で測定された値Re(550)の比を計算した値である。
正の複屈折を示す波長分散調整剤とは、正の複屈折を有し、負の複屈折を示すエステル系樹脂より波長分散特性が大きい添加剤である。正の波長分散特性が大きく、波長分散調整機能が優れるため、芳香族化合物であることが好ましい。好ましい例としては、ベンゾトリアゾール系化合物、ベンゾフェノン系化合物、トリアジン系化合物、ベンゾエート系化合物、ポリフェニル系化合物等が挙げられる。波長分散調整剤としては、特に正の波長分散が大きい点からトリアジン系化合物またはポリフェニル系化合物の少なくともいずれかが好ましい。
波長分散調整剤は、樹脂との相溶性、面内位相差及び波長分散調整の観点から、分子量が100~30,000であることが好ましく、300~10,000であることがさらに好ましく、300~1,000であることが特に好ましい。ここで分子量とは、波長分散調整剤が化学構造から計算できる低分子化合物であればその分子量を示し、繰り返し単位を有する高分子化合物であれば標準ポリスチレン換算の重量平均分子量を示す。
本発明の光学フィルムに含まれる組成物における波長分散調整剤の割合は、機械的性質向上、面内位相差及び波長分散調整の観点から、0.01~30重量%であり、好ましくは0.1~15重量%であり、さらに好ましくは0.3~10重量%である。
本発明に用いる波長分散調整剤としては、例えば、2-(2’-ヒドロキシ-5’-t-ブチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2-(2’-ヒドロキシ-3’,5’-ジ-t-ブチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2-[2-ヒドロキシ-3,5-ビス(α,α-ジメチルベンジル)フェニル]ベンゾトリアゾール、2,2’-メチレンビス[6-(ベンゾトリアゾール-2-イル)-4-t-オクチルフェノール]、2-(2H-ベンゾトリアゾール-2-イル)-4,6-ビス(1-メチル-1-フェニルエチル)フェノール等のベンゾトリアゾール系化合物;2-ヒドロキシ-4-メトキシベンゾフェノン、2,2′-ジヒドロキシ-4-メトキシベンゾフェノン、2,2′-ジヒドロキシ-4,4′-メトキシベンゾフェノン、2,4-ジヒドロキシベンゾフェノン、2,2′,4,4′-テトラヒドロキシベンゾフェノン、2-ヒドロキシ-4-メトキシ-5-スルホベンゾフェノン等のベンゾフェノン系化合物。2,4-ジフェニル-6-(2-ヒドロキシ-4-メトキシフェニル)-1,3,5-トリアジン、2,4-ジフェニル-6-(2-ヒドロキシ-4-エトキシフェニル)-1,3,5-トリアジン、2,4-ジフェニル-(2-ヒドロキシ-4-プロポキシフェニル)-1,3,5-トリアジン、2,4-ジフェニル-(2-ヒドロキシ-4-ブトキシフェニル)-1,3,5-トリアジン、2,4-ビス(2,4-ジメチルフェニル)-6-(2-ヒドロキシ-4-n-オクチルオキシフェニル)-1,3,5-トリアジン、2,6-ジフェニル-4-(2-ヒドロキシ-4-ヘキシルオキシフェニル)-1,3,5-トリアジン等のトリアジン系化合物。2,4-ジ-t-ブチルフェニル-3,5-ジ-t-ブチル-4-ヒドロキシベンゾエート、2,4-ジ-t-ペンチルフェニル-3,5-ジ-t-ブチル-4-ヒドロキシベンゾエート、ヘキサデシル-3,5-ジ-t-ブチル-4-ヒドロキシベンゾエート等のベンゾエート系化合物。N,N,N’,N’-テトラフェニルベンジジン、N,N’-ジフェニル-N,N’-ジ(o-トリル)ベンジジン、N,N’-ジフェニル-N,N’-ジ(m-トリル)ベンジジン、N,N’-ジフェニル-N,N’-ジ(p-トリル)ベンジジン、N,N’-ビス(4-ホルミルフェニル)-N,N’-ジフェニルベンジジン、N,N’-ジ(4-ビフェニリル)-N,N’-ジフェニルベンジジン、N,N’-ビス(4-メトキシ-2-メチルフェニル)-N,N’-ジフェニルベンジジン、4-シアノ-4’’-プロピル-p-テルフェニル、4-シアノ-4’’-ペンチル-p-テルフェニル、4-アミノ-p-テルフェニル、4,4’’-ジアミノ-p-テルフェニル、4,4’’’-ジヒドロキシ-p-クォーターフェニル等のポリフェニル系化合物が挙げられる。
負の複屈折性を持つエステル樹脂としては耐熱性や透明性などの点から好ましい例として、フマル酸エステル系樹脂が挙げられる。
フマル酸エステル系樹脂としては、フマル酸エステルの重合体が挙げられ、その中でも下記式(1)に示されるフマル酸ジエステル残基単位を含むことが好ましい。
フマル酸エステル系樹脂としては、フマル酸エステルの重合体が挙げられ、その中でも下記式(1)に示されるフマル酸ジエステル残基単位を含むことが好ましい。
(式中、R1及びR2はそれぞれ独立して炭素数1~12である直鎖状アルキル基、炭素数3~12の分岐状アルキル基、又は炭素数3~6である環状アルキル基からなる群の1種を示す)
フマル酸エステル系樹脂が式(1)で示されるフマル酸ジエステル残基単位を含む場合、該残基単位を50モル%以上含有することが好ましい。
式(1)中、R1、R2は、それぞれ独立して、炭素数1~12である直鎖状アルキル基、炭素数3~12の分岐状アルキル基、又は炭素数3~6環状アルキル基である。該アルキル基は、フッ素原子,塩素原子などのハロゲン基;エーテル基;エステル基若しくはアミノ基で置換されていてもよい。
具体的なR1、R2はとして、例えば、エチル基、イソプロピル基、s-ブチル基、t-ブチル基、s-ペンチル基、t-ペンチル基、s-ヘキシル基、t-ヘキシル基、シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等が挙げられ、その中でも耐熱性、機械特性に優れた位相差フィルムとなることからエチル基、イソプロピル基、s-ブチル基、t-ブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基からなる群の一種であることが好ましく、特に耐熱性、機械特性のバランスに優れた位相差フィルムとなることからイソプロピル基が好ましい。
具体的なR1、R2はとして、例えば、エチル基、イソプロピル基、s-ブチル基、t-ブチル基、s-ペンチル基、t-ペンチル基、s-ヘキシル基、t-ヘキシル基、シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等が挙げられ、その中でも耐熱性、機械特性に優れた位相差フィルムとなることからエチル基、イソプロピル基、s-ブチル基、t-ブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基からなる群の一種であることが好ましく、特に耐熱性、機械特性のバランスに優れた位相差フィルムとなることからイソプロピル基が好ましい。
ここで、式(1)で示されるフマル酸ジエステル残基単位としては、具体的にはフマル酸ジイソプロピル残基、フマル酸ジ-s-ブチル残基、フマル酸ジ-t-ブチル残基、フマル酸ジ-s-ペンチル残基、フマル酸ジ-t-ペンチル残基、フマル酸ジ-s-ヘキシル残基、フマル酸ジ-t-ヘキシル残基、フマル酸ジシクロプロピル残基、フマル酸ジシクロペンチル残基、フマル酸ジシクロヘキシル残基等が挙げられ、フマル酸ジイソプロピル残基、フマル酸ジ-s-ブチル残基、フマル酸ジ-t-ブチル残基、フマル酸ジシクロペンチル残基、フマル酸ジシクロヘキシル残基等が好ましく、特にフマル酸ジイソプロピル残基が好ましい。
フマル酸ジエステル系樹脂は、式(1)で示される残基単位を一成分含んでいてもよく、また、2種類以上の式(1)で示される残基単位を含む、すなわち二成分以上含んでいてもよい。
本発明に用いるフマル酸エステル系樹脂として式(1)に示されるフマル酸ジエステル残基単位を50モル%以上、フマル酸ジエステル類と共重合可能な単量体からなる残基単位を50モル%以下含む樹脂であることが好ましい。ここで、フマル酸ジエステル類と共重合可能な単量体からなる残基単位としては、例えばスチレン残基、α-メチルスチレン残基等のスチレン類残基;アクリル酸残基;アクリル酸メチル残基、アクリル酸エチル残基、アクリル酸ブチル残基等のアクリル酸エステル類残基;メタクリル酸残基;メタクリル酸メチル残基、メタクリル酸エチル残基、メタクリル酸ブチル残基等のメタクリル酸エステル類残基;酢酸ビニル残基、プロピオン酸ビニル残基等のビニルエステル類残基;アクリロニトリル残基;メタクリロニトリル残基;エチレン残基、プロピレン残基等のオレフィン類残基;等の1種又は2種以上を挙げることができる。その中でも、一般式(1)に示されるフマル酸ジエステル残基単位が70モル%以上であることが好ましく、特に耐熱性及び機械特性に優れた位相差フィルムとなることからフマル酸ジエステル残基単位が80モル%以上であることが好ましく、さらに90モル%以上であることが好ましい。
エステル系樹脂は、特に機械特性に優れ、製膜時の成形加工性に優れたものとなることから、ゲル・パ-ミエイション・クロマトグラフィ-(GPC)により測定した溶出曲線より得られる標準ポリスチレン換算の数平均分子量(Mn)が1×103~5×106のものであることが好ましく、5×103~3×105であることがさらに好ましい。
エステル系樹脂の製造方法としては、該共重合体が得られる限りにおいて如何なる方法により製造してもよく、ラジカル重合を行うことにより製造することができる。
ラジカル重合の方法としては、例えば、塊状重合法、溶液重合法、懸濁重合法、沈殿重合法、乳化重合法等のいずれもが採用可能である。
ラジカル重合の方法としては、例えば、塊状重合法、溶液重合法、懸濁重合法、沈殿重合法、乳化重合法等のいずれもが採用可能である。
本発明の光学フィルムの厚みは、光学部材の薄膜化への適合性の観点から、厚みが0.1μm以上79.9μm以下であることが好ましく、0.1μm以上34.9μm以下がさらに好ましく、0.1μm以上19.9μm以下がもっとも好ましい。
本発明の光学フィルムの589nmで測定されたReは、光学特性に優れた位相差フィルムとなることから、好ましくは120nm以上700nm以下、さらに好ましくは130nm以上500nm以下、特に好ましくは130nm以上350nm以下である。
本発明の光学フィルムの589nmで測定されたRthは、視野角特性に優れた位相差フィルムとなることから、好ましくは-700nm以上-60nm以下、さらに好ましくは-350nm以上-65nm以下、特に好ましくは-200nm以上-65nm以下である。
本発明の光学フィルムの589nmで測定されたRthは、視野角特性に優れた位相差フィルムとなることから、好ましくは-700nm以上-60nm以下、さらに好ましくは-350nm以上-65nm以下、特に好ましくは-200nm以上-65nm以下である。
以下、本発明の一態様である積層フィルム(以下、「本発明の積層フィルム」という。)について詳細に説明する。
本発明の光学フィルム(以下、「フィルム(A)」という。)は、正の複屈折を示すフィルム(以下、「フィルム(B)」という)と積層することで、優れた視野角特性と逆波長分散特性を発現する。
フィルム(A)のRthが負の値を持ち、フィルム(B)のRthが正の値を持つために、積層時のRthを任意の値へと調整する事が可能となる。更に、フィルム(B)が正の波長分散特性を持つことで、フィルム(A)とフィルム(B)の積層時の波長分散特性をより大きな逆波長分散特性へと調整する事が可能となる。
通常のRe(450)/Re(550)>1.00の負の複屈折を有する材料と異なり、本発明のフィルム(A)は逆波長分散特性を有しているため、フィルム(B)との積層時に、より薄膜で大きな逆波長分散特性を発現することが可能となる。
本発明の積層フィルムの波長分散特性は、フィルム(A)とフィルム(B)の波長分散特性とReを調整することにより、制御可能である。色ずれ抑制のため、好ましくは0.80≦Re(450)/Re(550)≦0.90であり、さらに好ましくは0.81≦Re(450)/Re(550)≦0.87であり、特に好ましくは0.82≦Re(450)/Re(550)≦0.86である。
本発明の積層フィルムの波長分散特性は、フィルム(A)とフィルム(B)の波長分散特性とReを調整することにより、制御可能である。色ずれ抑制のため、好ましくは0.80≦Re(450)/Re(550)≦0.90であり、さらに好ましくは0.81≦Re(450)/Re(550)≦0.87であり、特に好ましくは0.82≦Re(450)/Re(550)≦0.86である。
本発明の積層フィルム厚みは、光学部材の薄膜化への適合性の観点から、80μm以下であることが好ましく、0.2μm以上50μm以下がさらに好ましく、0.2μm以上40μm以下がもっとも好ましい。
本発明の積層フィルムのReは、フィルム(A)とフィルム(B)のReを調整することにより、制御可能である。本発明の積層フィルムを位相差フィルムとして使用した際により光学特性に優れることから、好ましくは120nm以上300nm以下、さらに好ましくは130nm以上300nm以下、特に好ましくは130nm以上280nm以下である。
本発明の積層フィルムのRthは、フィルム(A)とフィルム(B)のRthを調整することにより、制御可能である。本発明の積層フィルムを位相差フィルムとして使用した際により視野角補償性能に優れることから、好ましくは-300nm以上10nm以下、さらに好ましくは-100nm以上10nm以下、特に好ましくは-10nm以上10nm以下である。
本発明の積層フィルムのRthは、フィルム(A)とフィルム(B)のRthを調整することにより、制御可能である。本発明の積層フィルムを位相差フィルムとして使用した際により視野角補償性能に優れることから、好ましくは-300nm以上10nm以下、さらに好ましくは-100nm以上10nm以下、特に好ましくは-10nm以上10nm以下である。
フィルム(B)の厚みは、光学部材の薄膜化への適合性の観点から、厚みが0.1μm以上79.9μm以下であることが好ましく、0.1μm以上19.9μm以下がさらに好ましく、0.1μm以上9.9μm以下がもっとも好ましい。
フィルム(B)のReは、フィルム(A)とフィルム(B)の積層時により薄膜で光学特性に優れた位相差フィルムとなることから、好ましくは20nm以上400nm以下、さらに好ましくは20nm以上250nm以下、特に好ましくは20nm以上200nm以下である。
フィルム(B)のRthは、フィルム(A)とフィルム(B)の積層時により薄膜で視野角特性に優れた位相差フィルムとなることから、好ましくはRthが10nm以上800nm以下、さらに好ましくはRthが10nm以上200nm以下、特に好ましくは10nm以上100nm以下である。
フィルム(B)のRthは、フィルム(A)とフィルム(B)の積層時により薄膜で視野角特性に優れた位相差フィルムとなることから、好ましくはRthが10nm以上800nm以下、さらに好ましくはRthが10nm以上200nm以下、特に好ましくは10nm以上100nm以下である。
フィルム(B)の波長分散特性は、正の波長分散が大きい程、フィルム(A)とフィルム(B)の積層時により薄膜で優れた逆波長分散特性を発現できることから、好ましくは1.07≦Re(450)/Re(550)、さらに好ましくは1.09≦Re(450)/Re(550)であり、特に好ましくは1.10≦Re(450)/Re(550)である。
このようなフィルム(B)は、例えば正の複屈折性を持つポリマーを一軸延伸することにより得ることができる。該正の複屈折性を持つポリマーとしては、正の複屈折性を有するポリマーであれば特に制限はなく、耐熱性や透明性などの点から好ましい例としては、ポリカーボネート樹脂、ポリエーテルサルフォン樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリイミド樹脂、環状オレフィン樹脂、セルロース樹脂、N-置換マレイミド系樹脂等が挙げられる。これらの中でも、特にフィルム(A)との積層時に逆波長分散性を有する位相差フィルムが得られることから、ポリカーボネート樹脂 、ポリエーテルサルフォン樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリイミド樹脂等の正の波長分散の大きなフィルムが好ましい
フィルム(A)の進相軸とフィルム(B)の進相軸のなす角度は、目的に応じて設定可能であり、その中でも積層時により薄膜で優れた逆波長分散特性を発現し、生産性が高くなることから、90度±20度以下であることが好ましく、さらに90度±5度以下であることが好ましく、特に90度±2度以下であることが好ましい。
フィルム(A)の進相軸とフィルム(B)の進相軸のなす角度は、目的に応じて設定可能であり、その中でも積層時により薄膜で優れた逆波長分散特性を発現し、生産性が高くなることから、90度±20度以下であることが好ましく、さらに90度±5度以下であることが好ましく、特に90度±2度以下であることが好ましい。
本発明の光学フィルムは、フィルム(A)の進相軸とフィルム(B)の進相軸のなす角度が90度、つまりフィルム(A)とフィルム(B)の延伸方向が一致した状態で積層することで、優れた波長分散特性と視野角特性を発現する。そのため、2枚のフィルムを異なる角度を為す方向にカットし、貼り合せる必要性がなく、生産性の高い位相差フィルムとなる。
フィルム(A)およびフィルム(B)は、熱安定性を向上させるために酸化防止剤を含有していても良い。酸化防止剤としては、例えば、ヒンダードフェノール系酸化防止剤、リン系酸化防止剤、硫黄系酸化防止剤、ラクトン系酸化防止剤、アミン系酸化防止剤、ヒドロキシルアミン系酸化防止剤、ビタミンE系酸化防止剤、その他酸化防止剤が挙げられ、これら酸化防止剤はそれぞれ単独でもよく、2種以上を組み合わせてもよい。
フィルム(A)およびフィルム(B)は、耐候性を高めるためヒンダ-ドアミン系光安定剤や紫外線吸収剤を含有していてもよい。紫外線吸収剤としては、例えば、ベンゾトリアゾ-ル、ベンゾフェノン、トリアジン、ベンゾエ-ト等が挙げられる。
フィルム(A)およびフィルム(B)は、耐候性を高めるためヒンダ-ドアミン系光安定剤や紫外線吸収剤を含有していてもよい。紫外線吸収剤としては、例えば、ベンゾトリアゾ-ル、ベンゾフェノン、トリアジン、ベンゾエ-ト等が挙げられる。
フィルム(A)およびフィルム(B)は、発明の主旨を超えない範囲で、その他ポリマー、界面活性剤、高分子電解質、導電性錯体、顔料、染料、帯電防止剤、アンチブロッキング剤、滑剤等を含有していてもよい。
本発明のフィルム(A)およびフィルム(B)の製造方法としては、特に制限はなく、例えば、原料の樹脂を溶液キャスト法、溶融キャスト法等の方法により、長尺状のフィルム化し、該フィルムを一軸又は二軸以上に延伸することにより製造することができる。
以下に該長尺状のフィルムの製造方法を説明する。
フィルムの製造方法としては、如何なる方法を用いてもよいが、溶液キャスト法により製造することが好ましい。ここで、溶液キャスト法とは、樹脂溶液(一般にはド-プと称する。)を支持基材上に流延した後、加熱することにより溶媒を蒸発させてフィルムを得る方法である。塗工方法は特に制限されず、通常の方法を採用できる。例えば、Tダイ法、ドクタ-ブレ-ド法、バ-コ-タ-法、スロットダイ法、リップコ-タ-法、リバースグラビアコート法、マイクログラビア法、スピンコート法、刷毛塗り法、ロールコート法、フレキソ印刷法などがあげられる。また、用いられる支持基材としては、特に制限はないが、例えばポリエステルやポリカーボネート、ポリスチレン、ポリエチレンやポリプロピレン、ポリ塩化ビニルやポリ塩化ビニリデン、トリアセチルセルロースやポリビニルアルコール、ポリイミドやポリアリレート、ポリスルホンやポリエーテルスルホン、エポキシ系樹脂等からなる高分子基材、ガラス板や石英基板などのガラス基材、アルミやステンレスやフェロタイプ等の金属基材、セラミックス基板などの無機基材等が挙げられる。上記基材として好ましくは、高分子基材または金属基材である。
フィルムの製造方法としては、如何なる方法を用いてもよいが、溶液キャスト法により製造することが好ましい。ここで、溶液キャスト法とは、樹脂溶液(一般にはド-プと称する。)を支持基材上に流延した後、加熱することにより溶媒を蒸発させてフィルムを得る方法である。塗工方法は特に制限されず、通常の方法を採用できる。例えば、Tダイ法、ドクタ-ブレ-ド法、バ-コ-タ-法、スロットダイ法、リップコ-タ-法、リバースグラビアコート法、マイクログラビア法、スピンコート法、刷毛塗り法、ロールコート法、フレキソ印刷法などがあげられる。また、用いられる支持基材としては、特に制限はないが、例えばポリエステルやポリカーボネート、ポリスチレン、ポリエチレンやポリプロピレン、ポリ塩化ビニルやポリ塩化ビニリデン、トリアセチルセルロースやポリビニルアルコール、ポリイミドやポリアリレート、ポリスルホンやポリエーテルスルホン、エポキシ系樹脂等からなる高分子基材、ガラス板や石英基板などのガラス基材、アルミやステンレスやフェロタイプ等の金属基材、セラミックス基板などの無機基材等が挙げられる。上記基材として好ましくは、高分子基材または金属基材である。
溶液キャストに用いる溶剤としては、樹脂等を溶解できる溶剤であればいかなる溶剤であっても構わないが、製膜工程にて、残溶剤が残りにくい様、溶剤の沸点は200℃以下が好ましく、170℃以下がより好ましい。
該溶剤としては、例えば、クロロホルム、ジクロロメタン、四塩化炭素、ジクロロエタン、テトラクロロエタン、トリクロロエチレン、テトラクロロエチレン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼンなどのハロゲン化炭化水素類;フェノール、クロロフェノールなどのフェノール類;ベンゼン、トルエン、キシレン、メトキシベンゼン、メシチレン、ジメトキシベンゼンなどの芳香族炭化水素類;アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、シクロペンタノン、2-ピロリドン、N-メチル-2
-ピロリドンなどのケトン系溶媒;酢酸エチル、酢酸ブチルなどのエステル系溶媒;t-ブチルアルコール、グリセリン、エチレングリコール、トリエチレングリコール、エチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、2-メチル-2,4-ペンタンジオールのようなアルコール系溶媒;ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミドのようなアミド系溶媒;アセトニトリル、ブチロニトリルのようなニトリル系溶媒;ジエチルエーテル、ジブチルエーテル、テトラヒドロフランのようなエーテル系溶媒;二硫化炭素、エチルセロソルブ、ブチルセルソルブなどを単独または混合した溶媒が挙げられる。
-ピロリドンなどのケトン系溶媒;酢酸エチル、酢酸ブチルなどのエステル系溶媒;t-ブチルアルコール、グリセリン、エチレングリコール、トリエチレングリコール、エチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、2-メチル-2,4-ペンタンジオールのようなアルコール系溶媒;ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミドのようなアミド系溶媒;アセトニトリル、ブチロニトリルのようなニトリル系溶媒;ジエチルエーテル、ジブチルエーテル、テトラヒドロフランのようなエーテル系溶媒;二硫化炭素、エチルセロソルブ、ブチルセルソルブなどを単独または混合した溶媒が挙げられる。
フィルムを製造する際の樹脂溶液の粘度は、各成分の分子量、濃度、溶媒の種類で調整可能である。樹脂溶液の粘度としては特に制限はないが、フィルム塗工性をより容易にするため、好ましくは100~30000cps、さらに好ましくは300~20000cps、特に好ましくは300~15000cpsである。
塗工溶液の乾燥工程における乾燥方法は特に制限されず、通常の加熱手段を採用できる。例えば、熱風器、加熱ロール、遠赤外線ヒーター等があげられる。
フィルムの製造方法では、乾燥温度が1段のみの条件でも構わないし、外観保持や乾燥時間短縮のため、1段階目に低温で乾燥し、2段階目以降に高温で乾燥するような多段階乾燥でも構わない。
フィルムの製造方法では、乾燥温度が1段のみの条件でも構わないし、外観保持や乾燥時間短縮のため、1段階目に低温で乾燥し、2段階目以降に高温で乾燥するような多段階乾燥でも構わない。
本発明において、ドープに対する原料樹脂の濃度は、溶解、製膜が可能な限り特に限定されない。樹脂組成物の溶解を実施する方法は、溶解する段階で所定の濃度になるように実施してもよく、また予め低濃度溶液として作製した後に濃縮工程で所定の高濃度溶液に調整してもよい。さらに、予め樹脂組成物の高濃度の樹脂溶液とした後に、種々の添加物を添加することで所定の低濃度の樹脂溶液としてもよい。
また、溶融キャスト法は、樹脂を押出機内で溶融し、Tダイのスリットからフィルム状に押出した後、ロールやエアーなどで冷却しつつ引き取る成形法である。
また、溶融キャスト法は、樹脂を押出機内で溶融し、Tダイのスリットからフィルム状に押出した後、ロールやエアーなどで冷却しつつ引き取る成形法である。
フィルムに対して一軸又は二軸に延伸することにより位相差が制御され、本発明の積層フィルムを構成するフィルム(A)またはフィルム(B)とすることが可能である。一軸延伸方法としては、例えば自由幅一軸延伸、テンターにより延伸する方法、ロール間で延伸する方法などが挙げられ、ニ軸延伸方法としては、例えばテンターにより延伸する方法、チューブ状に膨らませて延伸する方法などがある。延伸方向は、フィルム幅方向や斜め方向に延伸するのが良い。
延伸する際の温度は、厚みむらが発生し難く、機械的特性、光学的特性に優れる位相差フィルムとなることから、好ましくは100℃以上300℃以下、特に好ましくは110℃以上250℃以下である。
フィルムの延伸の倍率(以下、「延伸倍率」という。)は、得られるフィルムが良好な位相差特性を発現することから、好ましくは1.05倍以上4.0倍以下、特に好ましくは1.1倍以上3.5倍以下である。
このように、延伸温度及び延伸倍率を調整することで、得られる延伸フィルムの面内位相差を制御することができる。
このように、延伸温度及び延伸倍率を調整することで、得られる延伸フィルムの面内位相差を制御することができる。
延伸工程における樹脂フィルムの搬送速度は、機械精度、安定性等から好ましくは0.5m/分以上30m/分以下の範囲を例示することができ、より好ましくは1m/分以上20m/分以下の範囲を挙げることができる。
本発明の製造方法においては、延伸工程により得られたフィルムに対して収縮処理を行う収縮工程を有してもよい。具体的には、延伸加工された樹脂フィルムを延伸方向と反対向きに収縮させる。これにより、延伸加工された樹脂伸フィルム内に溜まった残留応力を緩和させることができ、得られるフィルムは、長期間の経過を経てもなお、高い位相差を発現する。
延伸工程に供する樹脂組成物フィルムの厚みは、延伸処理のし易さおよび光学部材の薄膜化への適合性の観点から、5~200μmが好ましく、5~150μmがさらに好ましく、5~100μmが特に好ましい。
フィルム(A)およびフィルム(B)は、画像表示装置の光量低下を避けるため、フィルム形状における透過率が好ましくは85%以上、さらに好ましくは90%以上である。ここで光線透過率は全光線透過率を表し、JIS K 7361-1(1997版)に準拠し、白色光源を備えた透過率測定可能な装置を用い、波長380nmから780nmで測定した値である。ここで全光線透過率とは、本発明の光学フィルムに含有される組成物を、厚さ50μmのフィルムに成形して測定した際の値である。
フィルム(A)およびフィルム(B)のヘーズは、好ましくは3.0%以下、さらに好ましくは1.5%以下である。前記範囲にヘーズを制御することにより、位相差フィルムとして表示装置に組み込んだ際に高コントラストの画像が得られる。ここでヘーズは、JIS-K 7136(2000年版)に準拠し、白色光源備えた一般的なヘーズメーターを用い、波長380nmから780nmで測定した値である。
フィルム(A)およびフィルム(B)は、必要に応じて他樹脂を含むフィルムと更に積層することができる。他樹脂としては、例えば、ポリエーテルサルフォン、ポリアリレート、ポリエチレンテレフタレート、ポリナフタレンテレフタレート、ポリカーボネート、環状ポリオレフィン、マレイミド系樹脂、フッ素系樹脂、ポリイミド等が挙げられる。また、液晶層やハードコート層、ガスバリア層、屈折率を制御した層(低反射層)を積層することも可能である。
フィルム(A)およびフィルム(B)は、液晶表示装置用、有機EL表示装置用等の用途に用いられる偏光板において、好適に用いられる。また、該偏光板は画像表示装置として好適に用いられる。
フィルム(A)およびフィルム(B)は、液晶表示装置用、有機EL表示装置用等の用途に用いられる偏光板において、好適に用いられる。また、該偏光板は画像表示装置として好適に用いられる。
以下、本発明を実施例により説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。
なお、実施例により示す諸物性は、以下の方法により測定した。
なお、実施例により示す諸物性は、以下の方法により測定した。
<重合体の解析>
重合体の構造解析は核磁気共鳴測定装置(日本電子製、商品名:JNM-GX270)を用い、プロトン核磁気共鳴分光(1H-NMR)スペクトル分析より求めた。
<数平均分子量の測定>
ゲル・パ-ミエイション・クロマトグラフィ-(GPC)装置(東ソ-製、商品名:C0-8011(カラムGMHHR-Hを装着))を用い、テトラヒドロフラン、またはジメチルホルムアミドを溶媒として、40℃で測定し、標準ポリスチレン換算値として求めた。
重合体の構造解析は核磁気共鳴測定装置(日本電子製、商品名:JNM-GX270)を用い、プロトン核磁気共鳴分光(1H-NMR)スペクトル分析より求めた。
<数平均分子量の測定>
ゲル・パ-ミエイション・クロマトグラフィ-(GPC)装置(東ソ-製、商品名:C0-8011(カラムGMHHR-Hを装着))を用い、テトラヒドロフラン、またはジメチルホルムアミドを溶媒として、40℃で測定し、標準ポリスチレン換算値として求めた。
<位相差特性の測定>
試料傾斜型自動複屈折計(王子計測機器製、商品名:KOBRA-21ADH)を用いて波長589nmの光を用いて光学フィルムの位相差特性を測定した。
<波長分散特性の測定>
試料傾斜型自動複屈折計(王子計測機器製、商品名:KOBRA-21ADH、光源:ハロゲンランプ(12V100W))を用い、波長450nmの光による位相差Re(450)と波長550nmの光による位相差Re(550)の比として光学フィルムの波長分散特性を測定した。
試料傾斜型自動複屈折計(王子計測機器製、商品名:KOBRA-21ADH)を用いて波長589nmの光を用いて光学フィルムの位相差特性を測定した。
<波長分散特性の測定>
試料傾斜型自動複屈折計(王子計測機器製、商品名:KOBRA-21ADH、光源:ハロゲンランプ(12V100W))を用い、波長450nmの光による位相差Re(450)と波長550nmの光による位相差Re(550)の比として光学フィルムの波長分散特性を測定した。
合成例1
攪拌機、冷却管、窒素導入管及び温度計を備えた1リットル反応器に、蒸留水600g、分散剤であるヒドロキシプロピルメチルセルロース(信越化学製、商品名メトローズ60SH-50)3.4g、フマル酸ジイソプロピル387.5g、3-エチル-3-オキセタニルメチルアクリレート12.5g(フマル酸ジイソプロピル100重量部に対し、3.2重量部)及び油溶性ラジカル開始剤であるt-ブチルパーオキシピバレート8.3gを入れ、窒素バブリングを1時間行なった後、400rpmで攪拌しながら50℃で24時間保持することによりラジカル懸濁重合を行なった。重合反応の終了後、反応器より内容物を回収し、重合物をろ別し、蒸留水で2回洗浄およびメタノールで2回洗浄後、80℃で減圧乾燥した(収率:73%)。
得られたフマル酸エステル系重合体の数平均分子量は147,000であった。1H-NMR測定により、ポリマー粒子はフマル酸ジイソプロピル残基単位/3-エチル-3-オキセタニルメチルアクリレート残基単位=96.1/3.9(モル%)であるフマル酸ジイソプロピル・3-エチル-3-オキセタニルメチルアクリレート共重合体であることを確認した。
攪拌機、冷却管、窒素導入管及び温度計を備えた1リットル反応器に、蒸留水600g、分散剤であるヒドロキシプロピルメチルセルロース(信越化学製、商品名メトローズ60SH-50)3.4g、フマル酸ジイソプロピル387.5g、3-エチル-3-オキセタニルメチルアクリレート12.5g(フマル酸ジイソプロピル100重量部に対し、3.2重量部)及び油溶性ラジカル開始剤であるt-ブチルパーオキシピバレート8.3gを入れ、窒素バブリングを1時間行なった後、400rpmで攪拌しながら50℃で24時間保持することによりラジカル懸濁重合を行なった。重合反応の終了後、反応器より内容物を回収し、重合物をろ別し、蒸留水で2回洗浄およびメタノールで2回洗浄後、80℃で減圧乾燥した(収率:73%)。
得られたフマル酸エステル系重合体の数平均分子量は147,000であった。1H-NMR測定により、ポリマー粒子はフマル酸ジイソプロピル残基単位/3-エチル-3-オキセタニルメチルアクリレート残基単位=96.1/3.9(モル%)であるフマル酸ジイソプロピル・3-エチル-3-オキセタニルメチルアクリレート共重合体であることを確認した。
合成例2
攪拌機、冷却管、窒素導入管及び温度計を備えた1リットル反応器に、蒸留水600g、分散剤であるヒドロキシプロピルメチルセルロース(信越化学製、商品名メトローズ60SH-50)3.4g、フマル酸ジイソプロピル400.0g及び油溶性ラジカル開始剤であるt-ブチルパーオキシピバレート8.3gを入れ、窒素バブリングを1時間行なった後、400rpmで攪拌しながら50℃で24時間保持することによりラジカル懸濁重合を行なった。重合反応の終了後、反応器より内容物を回収し、重合物をろ別し、蒸留水で2回洗浄およびメタノールで2回洗浄後、80℃で減圧乾燥した(収率:77%)。得られたフマル酸ジイソプロピル重合体の数平均分子量は129,000であった。
攪拌機、冷却管、窒素導入管及び温度計を備えた1リットル反応器に、蒸留水600g、分散剤であるヒドロキシプロピルメチルセルロース(信越化学製、商品名メトローズ60SH-50)3.4g、フマル酸ジイソプロピル400.0g及び油溶性ラジカル開始剤であるt-ブチルパーオキシピバレート8.3gを入れ、窒素バブリングを1時間行なった後、400rpmで攪拌しながら50℃で24時間保持することによりラジカル懸濁重合を行なった。重合反応の終了後、反応器より内容物を回収し、重合物をろ別し、蒸留水で2回洗浄およびメタノールで2回洗浄後、80℃で減圧乾燥した(収率:77%)。得られたフマル酸ジイソプロピル重合体の数平均分子量は129,000であった。
合成例3
攪拌機、冷却管、窒素導入管及び温度計を備えた1リットル反応器に、蒸留水600g、分散剤であるヒドロキシプロピルメチルセルロース(信越化学製、商品名メトローズ60SH-50)3.4g、フマル酸ジイソプロピル350.9g、フマル酸ジエチル49.1g(フマル酸ジイソプロピル100重量部に対し、14.0重量部)及び油溶性ラジカル開始剤であるt-ブチルパーオキシピバレート8.3gを入れ、窒素バブリングを1時間行なった後、400rpmで攪拌しながら50℃で28時間保持することによりラジカル懸濁重合を行なった。重合反応の終了後、反応器より内容物を回収し、重合物をろ別し、蒸留水で2回洗浄およびメタノールで2回洗浄後、80℃で減圧乾燥した(収率:75%)。
攪拌機、冷却管、窒素導入管及び温度計を備えた1リットル反応器に、蒸留水600g、分散剤であるヒドロキシプロピルメチルセルロース(信越化学製、商品名メトローズ60SH-50)3.4g、フマル酸ジイソプロピル350.9g、フマル酸ジエチル49.1g(フマル酸ジイソプロピル100重量部に対し、14.0重量部)及び油溶性ラジカル開始剤であるt-ブチルパーオキシピバレート8.3gを入れ、窒素バブリングを1時間行なった後、400rpmで攪拌しながら50℃で28時間保持することによりラジカル懸濁重合を行なった。重合反応の終了後、反応器より内容物を回収し、重合物をろ別し、蒸留水で2回洗浄およびメタノールで2回洗浄後、80℃で減圧乾燥した(収率:75%)。
得られたフマル酸エステル系重合体の数平均分子量は138,000であった。1H-NMR測定により、ポリマー粒子はフマル酸ジイソプロピル残基単位/フマル酸ジエチル残基単位=86.7/13.3(モル%)であるフマル酸ジイソプロピル・フマル酸ジエチル共重合体であることを確認した。
フィルム作製例1(正の複屈折を示すフィルム(B))
ポリカーボネート樹脂(帝人製)20.0gを塩化メチレン溶液に溶解させて20重量%の樹脂溶液とした。該溶液をコーターによりポリエチレンテレフタレートフィルム上に流涎し、乾燥温度50℃、80℃、155℃の3段乾燥した後、ポリエチレンテレフタレートフィルムから剥ぎ取って、膜厚8μmのフィルム(樹脂組成物)を得た。得られたフィルムを、バッチ式のフィルム二軸延伸装置を用いて、144℃1.75倍に縦一軸延伸した。得られたフィルムは、膜厚5μm、面内位相差Re=192nm、面外位相差Rth=101nm、R450/R550=1.07であった。
ポリカーボネート樹脂(帝人製)20.0gを塩化メチレン溶液に溶解させて20重量%の樹脂溶液とした。該溶液をコーターによりポリエチレンテレフタレートフィルム上に流涎し、乾燥温度50℃、80℃、155℃の3段乾燥した後、ポリエチレンテレフタレートフィルムから剥ぎ取って、膜厚8μmのフィルム(樹脂組成物)を得た。得られたフィルムを、バッチ式のフィルム二軸延伸装置を用いて、144℃1.75倍に縦一軸延伸した。得られたフィルムは、膜厚5μm、面内位相差Re=192nm、面外位相差Rth=101nm、R450/R550=1.07であった。
フィルム作製例2(正の複屈折を示すフィルム(B))
延伸用原反フィルム(樹脂組成物)の膜厚を12μm、延伸方法を固定幅延伸に変更したこと以外はフィルム作製例1と同様の方法で、フィルムを作製した。得られたフィルムは、膜厚8μm、面内位相差Re=198nm、面外位相差Rth=190nm、R450/R550=1.07であった。
延伸用原反フィルム(樹脂組成物)の膜厚を12μm、延伸方法を固定幅延伸に変更したこと以外はフィルム作製例1と同様の方法で、フィルムを作製した。得られたフィルムは、膜厚8μm、面内位相差Re=198nm、面外位相差Rth=190nm、R450/R550=1.07であった。
フィルム作製例3(正の複屈折を示すフィルム(B))
延伸用原反フィルム(樹脂組成物)の膜厚を28μmに変更したこと以外はフィルム作製例2と同様の方法で、フィルムを作製した。得られたフィルムは、膜厚17μm、面内位相差Re=339nm、面外位相差Rth=300nm、R450/R550=1.07であった。
延伸用原反フィルム(樹脂組成物)の膜厚を28μmに変更したこと以外はフィルム作製例2と同様の方法で、フィルムを作製した。得られたフィルムは、膜厚17μm、面内位相差Re=339nm、面外位相差Rth=300nm、R450/R550=1.07であった。
フィルム作製例4(正の複屈折を示すフィルム(B))
ポリアリレート樹脂(ユニチカ製)15.0gを塩化メチレン溶液に溶解させて15重量%の樹脂溶液とした。該溶液をコーターによりポリエチレンテレフタレートフィルム上に流涎し、乾燥温度50℃、80℃、155℃の3段乾燥した後、ポリエチレンテレフタレートフィルムから剥ぎ取って、膜厚13μmのフィルム(樹脂組成物)を得た。得られたフィルムを、バッチ式のフィルム二軸延伸装置を用いて、206℃1.75倍に縦一軸延伸した。得られたフィルムは、膜厚10μm、面内位相差Re=170nm、面外位相差Rth=72nm、R450/R550=1.10であった。
ポリアリレート樹脂(ユニチカ製)15.0gを塩化メチレン溶液に溶解させて15重量%の樹脂溶液とした。該溶液をコーターによりポリエチレンテレフタレートフィルム上に流涎し、乾燥温度50℃、80℃、155℃の3段乾燥した後、ポリエチレンテレフタレートフィルムから剥ぎ取って、膜厚13μmのフィルム(樹脂組成物)を得た。得られたフィルムを、バッチ式のフィルム二軸延伸装置を用いて、206℃1.75倍に縦一軸延伸した。得られたフィルムは、膜厚10μm、面内位相差Re=170nm、面外位相差Rth=72nm、R450/R550=1.10であった。
フィルム作製例5(正の複屈折を示すフィルム(B))
延伸用原反フィルム(樹脂組成物)の膜厚を25μm、延伸方法を固定幅延伸に変更したこと以外はフィルム作製例4と同様の方法で、フィルムを作製した。得られたフィルムは、膜厚15μm、面内位相差Re=167nm、面外位相差Rth=160nm、R450/R550=1.10であった。
延伸用原反フィルム(樹脂組成物)の膜厚を25μm、延伸方法を固定幅延伸に変更したこと以外はフィルム作製例4と同様の方法で、フィルムを作製した。得られたフィルムは、膜厚15μm、面内位相差Re=167nm、面外位相差Rth=160nm、R450/R550=1.10であった。
フィルム作製例6(正の複屈折を示すフィルム(B))
延伸用原反フィルム(樹脂組成物)の膜厚を17μmに変更したこと以外はフィルム作製例2と同様の方法で、フィルムを作製した。得られたフィルムは、膜厚10μm、面内位相差Re=228nm、面外位相差Rth=201nm、R450/R550=1.07であった。
延伸用原反フィルム(樹脂組成物)の膜厚を17μmに変更したこと以外はフィルム作製例2と同様の方法で、フィルムを作製した。得られたフィルムは、膜厚10μm、面内位相差Re=228nm、面外位相差Rth=201nm、R450/R550=1.07であった。
フィルム作製例7(正の複屈折を示すフィルム(B))
延伸用原反フィルム(樹脂組成物)の膜厚を10μmに変更したこと以外はフィルム作製例1と同様の方法で、フィルムを作製した。得られたフィルムは、膜厚7μm、面内位相差Re=244nm、面外位相差Rth=132nm、R450/R550=1.07であった。
延伸用原反フィルム(樹脂組成物)の膜厚を10μmに変更したこと以外はフィルム作製例1と同様の方法で、フィルムを作製した。得られたフィルムは、膜厚7μm、面内位相差Re=244nm、面外位相差Rth=132nm、R450/R550=1.07であった。
実施例1
合成例1により得られたフマル酸エステル系樹脂19.4g、2,6-ジフェニル-4-(2-ヒドロキシ-4-ヘキシルオキシフェニル)-1,3,5-トリアジン(分子量:426)0.6gをトルエン/メチルエチルケトン=9/1(重量比)溶液に溶解させて20重量%の樹脂溶液とした。該溶液をコーターによりポリエチレンテレフタレートフィルム上に流涎し、乾燥温度80℃、130℃の2段乾燥した後、ポリエチレンテレフタレートフィルムから剥ぎ取って、膜厚49μmの延伸用原反フィルム(樹脂組成物)を得た。得られたフィルムを、バッチ式のフィルム二軸延伸装置を用いて、140℃2.0倍に縦一軸延伸した。得られた光学フィルムの膜厚、位相差特性、波長分散特性を測定した。その結果を表1に合わせて示す。得られたフィルムは、視野角特性、逆波長分散特性に優れており、光学フィルムとして好適であった。
合成例1により得られたフマル酸エステル系樹脂19.4g、2,6-ジフェニル-4-(2-ヒドロキシ-4-ヘキシルオキシフェニル)-1,3,5-トリアジン(分子量:426)0.6gをトルエン/メチルエチルケトン=9/1(重量比)溶液に溶解させて20重量%の樹脂溶液とした。該溶液をコーターによりポリエチレンテレフタレートフィルム上に流涎し、乾燥温度80℃、130℃の2段乾燥した後、ポリエチレンテレフタレートフィルムから剥ぎ取って、膜厚49μmの延伸用原反フィルム(樹脂組成物)を得た。得られたフィルムを、バッチ式のフィルム二軸延伸装置を用いて、140℃2.0倍に縦一軸延伸した。得られた光学フィルムの膜厚、位相差特性、波長分散特性を測定した。その結果を表1に合わせて示す。得られたフィルムは、視野角特性、逆波長分散特性に優れており、光学フィルムとして好適であった。
実施例2
延伸用原反フィルム(樹脂組成物)の膜厚を91μm、延伸倍率を2.25倍に変更したこと以外は実施例1と同様の方法で、フィルムを作製した。得られた光学フィルムの膜厚、位相差特性、波長分散特性を測定した。その結果を表1に合わせて示す。得られたフィルムは、視野角特性、逆波長分散特性に優れており、光学フィルムとして好適であった。
延伸用原反フィルム(樹脂組成物)の膜厚を91μm、延伸倍率を2.25倍に変更したこと以外は実施例1と同様の方法で、フィルムを作製した。得られた光学フィルムの膜厚、位相差特性、波長分散特性を測定した。その結果を表1に合わせて示す。得られたフィルムは、視野角特性、逆波長分散特性に優れており、光学フィルムとして好適であった。
実施例3
延伸用原反フィルム(樹脂組成物)の膜厚を45μmに変更したこと以外は実施例1と同様の方法で、フィルムを作製した。得られた光学フィルムの膜厚、位相差特性、波長分散特性を測定した。その結果を表1に合わせて示す。得られたフィルムは、視野角特性、逆波長分散特性に優れており、光学フィルムとして好適であった。
延伸用原反フィルム(樹脂組成物)の膜厚を45μmに変更したこと以外は実施例1と同様の方法で、フィルムを作製した。得られた光学フィルムの膜厚、位相差特性、波長分散特性を測定した。その結果を表1に合わせて示す。得られたフィルムは、視野角特性、逆波長分散特性に優れており、光学フィルムとして好適であった。
実施例4
合成例2により得られたフマル酸エステル系樹脂19.2g、N,N’―ジフェニル―N,N’―ジ(m-トリル)ベンジジン(分子量:517)0.8gをトルエン/メチルエチルケトン=9/1(重量比)溶液に溶解させて20重量%の樹脂溶液とした。該溶液をコーターによりポリエチレンテレフタレートフィルム上に流涎し、乾燥温度80℃、130℃の2段乾燥した後、ポリエチレンテレフタレートフィルムから剥ぎ取って、膜厚51μmの延伸用原反フィルム(樹脂組成物)を得た。得られたフィルムを、バッチ式のフィルム二軸延伸装置を用いて、140℃2.25倍に縦一軸延伸した。得られた光学フィルムの膜厚、位相差特性、波長分散特性を測定した。その結果を表1に合わせて示す。得られたフィルムは、視野角特性、逆波長分散特性に優れており、光学フィルムとして好適であった。
合成例2により得られたフマル酸エステル系樹脂19.2g、N,N’―ジフェニル―N,N’―ジ(m-トリル)ベンジジン(分子量:517)0.8gをトルエン/メチルエチルケトン=9/1(重量比)溶液に溶解させて20重量%の樹脂溶液とした。該溶液をコーターによりポリエチレンテレフタレートフィルム上に流涎し、乾燥温度80℃、130℃の2段乾燥した後、ポリエチレンテレフタレートフィルムから剥ぎ取って、膜厚51μmの延伸用原反フィルム(樹脂組成物)を得た。得られたフィルムを、バッチ式のフィルム二軸延伸装置を用いて、140℃2.25倍に縦一軸延伸した。得られた光学フィルムの膜厚、位相差特性、波長分散特性を測定した。その結果を表1に合わせて示す。得られたフィルムは、視野角特性、逆波長分散特性に優れており、光学フィルムとして好適であった。
実施例5
合成例3により得られたフマル酸エステル系樹脂19.2g、2,4-ビス(2,4-ジメチルフェニル)-6-(2-ヒドロキシ-4-n-オクチルオキシフェニル)-1,3,5-トリアジン(分子量:510)0.8gをトルエン/メチルエチルケトン=9/1(重量比)溶液に溶解させて20重量%の樹脂溶液とした。該溶液をコーターによりポリエチレンテレフタレートフィルム上に流涎し、乾燥温度80℃、130℃の2段乾燥した後、ポリエチレンテレフタレートフィルムから剥ぎ取って、膜厚54μmの延伸用原反フィルム(樹脂組成物)を得た。得られたフィルムを、バッチ式のフィルム二軸延伸装置を用いて、140℃1.4倍に縦一軸延伸した。得られた光学フィルムの膜厚、位相差特性、波長分散特性を測定した。その結果を表1に合わせて示す。得られたフィルムは、視野角特性、逆波長分散特性に優れており、光学フィルムとして好適であった。
合成例3により得られたフマル酸エステル系樹脂19.2g、2,4-ビス(2,4-ジメチルフェニル)-6-(2-ヒドロキシ-4-n-オクチルオキシフェニル)-1,3,5-トリアジン(分子量:510)0.8gをトルエン/メチルエチルケトン=9/1(重量比)溶液に溶解させて20重量%の樹脂溶液とした。該溶液をコーターによりポリエチレンテレフタレートフィルム上に流涎し、乾燥温度80℃、130℃の2段乾燥した後、ポリエチレンテレフタレートフィルムから剥ぎ取って、膜厚54μmの延伸用原反フィルム(樹脂組成物)を得た。得られたフィルムを、バッチ式のフィルム二軸延伸装置を用いて、140℃1.4倍に縦一軸延伸した。得られた光学フィルムの膜厚、位相差特性、波長分散特性を測定した。その結果を表1に合わせて示す。得られたフィルムは、視野角特性、逆波長分散特性に優れており、光学フィルムとして好適であった。
実施例6
延伸用原反フィルム(樹脂組成物)の膜厚を21μm、延伸倍率を1.4倍に変更したこと以外は実施例1と同様の方法で、フィルムを作製した。得られた光学フィルムの膜厚、位相差特性、波長分散特性を測定した。その結果を表1に合わせて示す。得られたフィルムは、視野角特性、逆波長分散特性に優れており、光学フィルムとして好適であった。
延伸用原反フィルム(樹脂組成物)の膜厚を21μm、延伸倍率を1.4倍に変更したこと以外は実施例1と同様の方法で、フィルムを作製した。得られた光学フィルムの膜厚、位相差特性、波長分散特性を測定した。その結果を表1に合わせて示す。得られたフィルムは、視野角特性、逆波長分散特性に優れており、光学フィルムとして好適であった。
実施例7
延伸用原反フィルム(樹脂組成物)の膜厚を22μm、延伸倍率を1.4倍に変更したこと以外は実施例4と同様の方法で、フィルムを作製した。得られた光学フィルムの膜厚、位相差特性、波長分散特性を測定した。その結果を表1に合わせて示す。得られたフィルムは、視野角特性、逆波長分散特性に優れており、光学フィルムとして好適であった。
延伸用原反フィルム(樹脂組成物)の膜厚を22μm、延伸倍率を1.4倍に変更したこと以外は実施例4と同様の方法で、フィルムを作製した。得られた光学フィルムの膜厚、位相差特性、波長分散特性を測定した。その結果を表1に合わせて示す。得られたフィルムは、視野角特性、逆波長分散特性に優れており、光学フィルムとして好適であった。
実施例8
実施例1とフィルム作製例1の2枚のフィルムを、延伸軸が一致(2枚のフィルムの進
相軸を90度直交)するように貼合した。
得られた光学フィルムの膜厚、位相差特性、波長分散特性を測定した。その結果を表2に合わせて示す。得られたフィルムは、視野角特性、逆波長分散特性に優れており、光学フィルムとして好適であった。
実施例1とフィルム作製例1の2枚のフィルムを、延伸軸が一致(2枚のフィルムの進
相軸を90度直交)するように貼合した。
得られた光学フィルムの膜厚、位相差特性、波長分散特性を測定した。その結果を表2に合わせて示す。得られたフィルムは、視野角特性、逆波長分散特性に優れており、光学フィルムとして好適であった。
実施例9
実施例1とフィルム作製例2の2枚のフィルムを、延伸軸が一致(2枚のフィルムの進相軸を90度直交)するように貼合した。
得られた光学フィルムの膜厚、位相差特性、波長分散特性を測定した。その結果を表2に合わせて示す。得られたフィルムは、視野角特性、逆波長分散特性に優れており、光学フィルムとして好適であった。
実施例1とフィルム作製例2の2枚のフィルムを、延伸軸が一致(2枚のフィルムの進相軸を90度直交)するように貼合した。
得られた光学フィルムの膜厚、位相差特性、波長分散特性を測定した。その結果を表2に合わせて示す。得られたフィルムは、視野角特性、逆波長分散特性に優れており、光学フィルムとして好適であった。
実施例10
実施例2とフィルム作製例3の2枚のフィルムを、延伸軸が一致(2枚のフィルムの進相軸を90度直交)するように貼合した。
得られた光学フィルムの膜厚、位相差特性、波長分散特性を測定した。その結果を表2に合わせて示す。得られたフィルムは、視野角特性、逆波長分散特性に優れており、光学フィルムとして好適であった。
実施例2とフィルム作製例3の2枚のフィルムを、延伸軸が一致(2枚のフィルムの進相軸を90度直交)するように貼合した。
得られた光学フィルムの膜厚、位相差特性、波長分散特性を測定した。その結果を表2に合わせて示す。得られたフィルムは、視野角特性、逆波長分散特性に優れており、光学フィルムとして好適であった。
実施例11
実施例3とフィルム作製例4の2枚のフィルムを、延伸軸が一致(2枚のフィルムの進相軸を90度直交)するように貼合した。
得られた光学フィルムの膜厚、位相差特性、波長分散特性を測定した。その結果を表2に合わせて示す。得られたフィルムは、視野角特性、逆波長分散特性に優れており、光学フィルムとして好適であった。
実施例3とフィルム作製例4の2枚のフィルムを、延伸軸が一致(2枚のフィルムの進相軸を90度直交)するように貼合した。
得られた光学フィルムの膜厚、位相差特性、波長分散特性を測定した。その結果を表2に合わせて示す。得られたフィルムは、視野角特性、逆波長分散特性に優れており、光学フィルムとして好適であった。
実施例12
実施例3とフィルム作製例5の2枚のフィルムを、延伸軸が一致(2枚のフィルムの進相軸を90度直交)するように貼合した。
得られた光学フィルムの膜厚、位相差特性、波長分散特性を測定した。その結果を表2に合わせて示す。得られたフィルムは、視野角特性、逆波長分散特性に優れており、光学フィルムとして好適であった。
実施例3とフィルム作製例5の2枚のフィルムを、延伸軸が一致(2枚のフィルムの進相軸を90度直交)するように貼合した。
得られた光学フィルムの膜厚、位相差特性、波長分散特性を測定した。その結果を表2に合わせて示す。得られたフィルムは、視野角特性、逆波長分散特性に優れており、光学フィルムとして好適であった。
実施例13
実施例4とフィルム作製例6の2枚のフィルムを、延伸軸が一致(2枚のフィルムの進相軸を90度直交)するように貼合した。
得られた光学フィルムの膜厚、位相差特性、波長分散特性を測定した。その結果を表2に合わせて示す。得られたフィルムは、視野角特性、逆波長分散特性に優れており、光学フィルムとして好適であった。
実施例4とフィルム作製例6の2枚のフィルムを、延伸軸が一致(2枚のフィルムの進相軸を90度直交)するように貼合した。
得られた光学フィルムの膜厚、位相差特性、波長分散特性を測定した。その結果を表2に合わせて示す。得られたフィルムは、視野角特性、逆波長分散特性に優れており、光学フィルムとして好適であった。
実施例14
実施例5とフィルム作製例7の2枚のフィルムを、延伸軸が一致(2枚のフィルムの進相軸を90度直交)するように貼合した。
得られた光学フィルムの膜厚、位相差特性、波長分散特性を測定した。その結果を表2に合わせて示す。得られたフィルムは、視野角特性、逆波長分散特性に優れており、光学フィルムとして好適であった。
実施例5とフィルム作製例7の2枚のフィルムを、延伸軸が一致(2枚のフィルムの進相軸を90度直交)するように貼合した。
得られた光学フィルムの膜厚、位相差特性、波長分散特性を測定した。その結果を表2に合わせて示す。得られたフィルムは、視野角特性、逆波長分散特性に優れており、光学フィルムとして好適であった。
比較例1
合成例1により得られたフマル酸エステル系樹脂19.6gを、波長分散調整剤を加えずにトルエン/メチルエチルケトン=9/1(重量比)溶液に溶解させて20重量%の樹脂溶液とした。該溶液をコーターによりポリエチレンテレフタレートフィルム上に流涎し、乾燥温度80℃、130℃の2段乾燥した後、ポリエチレンテレフタレートフィルムから剥ぎ取って、膜厚84μmの延伸用原反フィルム(樹脂組成物)を得た。得られたフィルムを、バッチ式のフィルム二軸延伸装置を用いて、140℃1.2倍に縦一軸延伸した。得られた光学フィルムの膜厚、位相差特性、波長分散特性を測定した。その結果を表1に合わせて示す。得られたフィルムは、逆波長分散特性を示しておらず、光学フィルムとして不適であった。
合成例1により得られたフマル酸エステル系樹脂19.6gを、波長分散調整剤を加えずにトルエン/メチルエチルケトン=9/1(重量比)溶液に溶解させて20重量%の樹脂溶液とした。該溶液をコーターによりポリエチレンテレフタレートフィルム上に流涎し、乾燥温度80℃、130℃の2段乾燥した後、ポリエチレンテレフタレートフィルムから剥ぎ取って、膜厚84μmの延伸用原反フィルム(樹脂組成物)を得た。得られたフィルムを、バッチ式のフィルム二軸延伸装置を用いて、140℃1.2倍に縦一軸延伸した。得られた光学フィルムの膜厚、位相差特性、波長分散特性を測定した。その結果を表1に合わせて示す。得られたフィルムは、逆波長分散特性を示しておらず、光学フィルムとして不適であった。
比較例2
合成例1により得られたフマル酸エステル系樹脂19.6g、可塑剤のアジピン酸ジイソデシル(分子量:427)0.4gを、トルエン/メチルエチルケトン=9/1(重量比)溶液に溶解させて20重量%の樹脂溶液にしたこと、延伸用原反フィルム(樹脂組成物)の膜厚を82μmに変更したこと以外は比較例1と同様の方法で、フィルムを作製した。得られた光学フィルムの膜厚、位相差特性、波長分散特性を測定した。その結果を表1に合わせて示す。得られたフィルムは、逆波長分散特性を示しておらず、光学フィルムとして不適であった。
合成例1により得られたフマル酸エステル系樹脂19.6g、可塑剤のアジピン酸ジイソデシル(分子量:427)0.4gを、トルエン/メチルエチルケトン=9/1(重量比)溶液に溶解させて20重量%の樹脂溶液にしたこと、延伸用原反フィルム(樹脂組成物)の膜厚を82μmに変更したこと以外は比較例1と同様の方法で、フィルムを作製した。得られた光学フィルムの膜厚、位相差特性、波長分散特性を測定した。その結果を表1に合わせて示す。得られたフィルムは、逆波長分散特性を示しておらず、光学フィルムとして不適であった。
比較例3
比較例1とフィルム作製例1の2枚のフィルムを、延伸軸が一致(2枚のフィルムの進相軸を90度直交)するように貼合した。
得られた光学フィルムの膜厚、位相差特性、波長分散特性を測定した。その結果を表2に合わせて示す。得られたフィルムは、厚膜かつ逆波長分散特性が不十分で、光学フィルムとして不適であった。
比較例1とフィルム作製例1の2枚のフィルムを、延伸軸が一致(2枚のフィルムの進相軸を90度直交)するように貼合した。
得られた光学フィルムの膜厚、位相差特性、波長分散特性を測定した。その結果を表2に合わせて示す。得られたフィルムは、厚膜かつ逆波長分散特性が不十分で、光学フィルムとして不適であった。
比較例4
比較例2とフィルム作製例4の2枚のフィルムを、延伸軸が一致(2枚のフィルムの進相軸を90度直交)するように貼合した。
得られた光学フィルムの膜厚、位相差特性、波長分散特性を測定した。その結果を表2に合わせて示す。得られたフィルムは、厚膜かつ逆波長分散特性が不十分で、光学フィルムとして不適であった。
比較例2とフィルム作製例4の2枚のフィルムを、延伸軸が一致(2枚のフィルムの進相軸を90度直交)するように貼合した。
得られた光学フィルムの膜厚、位相差特性、波長分散特性を測定した。その結果を表2に合わせて示す。得られたフィルムは、厚膜かつ逆波長分散特性が不十分で、光学フィルムとして不適であった。
Claims (6)
- 負の複屈折を示すエステル系樹脂と正の複屈折を示す波長分散調整剤を含有し、フィルム面内の進相軸方向の屈折率をnx、それと直交するフィルム面内方向の屈折率をny、フィルム面外の垂直方向の屈折率をnzとした場合のそれぞれの関係がnx<ny≦nzであり、式(a)にて示される波長450nmで測定した面内位相差(R450)と波長550nmで測定した面内位相差(R550)の比(R450/R550)が1.00以下であることを特徴とする光学フィルム。
Re=(ny-nx)×d (a)
(式中、nxはフィルム面内の進相軸方向の屈折率を示し、nyはフィルム面内の遅相軸方向の屈折率、フィルム面外の垂直方向の屈折率をnz、dはフィルムの厚み示す。) - 正の複屈折を示す波長分散調整剤が芳香族化合物である請求項1に記載の光学フィルム。
- 正の複屈折を示す波長分散調整剤が、ベンゾトリアゾール系化合物、ベンゾフェノン系化合物、トリアジン系化合物、ベンゾエート系化合物、ポリフェニル系化合物からなる群の少なくとも1種である請求項1または2に記載の光学フィルム。
- フィルムに含まれる組成物における波長分散調整剤の割合が0.01重量%以上30重量%以下である請求項1乃至3いずれか一項に記載の光学フィルム。
- 負の複屈折を示すエステル系樹脂が、下記式(1)で示されるフマル酸エステル残基単位50モル%以上を含む請求項1乃至4いずれか一項に記載の光学フィルム。
- フィルムの厚みが80μm以下、波長589nmで測定したReが120nm以上700nm以下、式(b)にて示される波長589nmで測定した面外位相差(Rth)が-700nm以上-60nm以下であることを特徴とする請求項1乃至5いずれか一項に記載の光学フィルム。
Rth=〔(nx+ny)/2-nz〕×d (b)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2023192679A JP2024009060A (ja) | 2020-05-29 | 2023-11-13 | 光学フィルム |
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2020093921A JP7419971B2 (ja) | 2020-05-29 | 2020-05-29 | 光学フィルム |
JP2023192679A JP2024009060A (ja) | 2020-05-29 | 2023-11-13 | 光学フィルム |
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Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2020093921A Division JP7419971B2 (ja) | 2020-05-29 | 2020-05-29 | 光学フィルム |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2024009060A true JP2024009060A (ja) | 2024-01-19 |
Family
ID=78849518
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2020093921A Active JP7419971B2 (ja) | 2020-05-29 | 2020-05-29 | 光学フィルム |
JP2023192679A Pending JP2024009060A (ja) | 2020-05-29 | 2023-11-13 | 光学フィルム |
Family Applications Before (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2020093921A Active JP7419971B2 (ja) | 2020-05-29 | 2020-05-29 | 光学フィルム |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (2) | JP7419971B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2022210589A1 (ja) * | 2021-03-30 | 2022-10-06 | 東ソー株式会社 | フマル酸ジエステル系樹脂、フィルム、及び偏光板 |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4905082B2 (ja) * | 2006-11-22 | 2012-03-28 | 東ソー株式会社 | 位相差フィルム |
JP2008197638A (ja) * | 2007-01-18 | 2008-08-28 | Fujifilm Corp | 偏光板及び液晶表示装置 |
JP5407786B2 (ja) * | 2009-11-13 | 2014-02-05 | 東ソー株式会社 | 光学補償フィルム |
JP6459175B2 (ja) * | 2014-01-29 | 2019-01-30 | 東洋紡株式会社 | 液晶表示装置及び偏光板 |
JP6904137B2 (ja) * | 2017-07-26 | 2021-07-14 | 東ソー株式会社 | 樹脂組成物およびそれを用いた光学補償フィルム |
KR102176881B1 (ko) * | 2018-04-18 | 2020-11-10 | 주식회사 엘지화학 | 위상차 필름, 이를 포함하는 편광판 및 이를 포함하는 액정표시장치 |
-
2020
- 2020-05-29 JP JP2020093921A patent/JP7419971B2/ja active Active
-
2023
- 2023-11-13 JP JP2023192679A patent/JP2024009060A/ja active Pending
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Publication number | Publication date |
---|---|
JP2021189286A (ja) | 2021-12-13 |
JP7419971B2 (ja) | 2024-01-23 |
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