JP2024007933A - 光照射装置、光照射方法、及び部品の製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】大型な対象物に対して、照射光の積算光量の均一性を向上させることが可能な光照射装置、光照射方法、及び部品の製造方法を提供すること。【解決手段】本光照射装置は、第１の方向に沿って搬送される対象物の照射対象領域に対して、複数の照射領域に分けて、各々の照度が等しくなるように照射する。複数の照射領域は、照射対象領域の第１の方向に直交する第２の方向に沿った各位置にて、複数の照射領域を通過する距離の合計が等しくなるように設定される。また、複数の照射領域の各々は、少なくとも１つの他の照射領域と、第１の方向における異なる位置で、第２の方向において互いにオーバーラップするオーバーラップ領域が発生するように設定される。さらに、複数の照射領域は、オーバーラップ領域同士が、第２の方向において同じ向きに進んだ場合に、第１の方向におけるサイズの増減が逆の関係となるように設定される。【選択図】図２

Description

本発明は、光照射装置、光照射方法、及び部品の製造方法に関する。

近年、液晶パネルの配向膜や、視野角補償フィルムの配向層などの配向処理に関し、配向膜に所定の波長の偏光光を照射することにより配向を行なう、光配向と呼ばれる技術が採用されている。以下、光により配向を行う配向膜や配向層を設けたフィルムのことを総称して光配向膜と呼ぶ。
光配向膜は、液晶パネルの大型化と共に大型化しており、それと共に光配向膜に偏光光を照射する偏光光照射装置も大型化している。
光配向膜において、例えば視野角補償フィルムは、帯状で長尺のワークであり、配向処理後、所望の長さに切断し使用する。最近は、パネルの大きさに合わせて大きくなり、幅１５００ｍｍ以上のものもある。
このような大型の光配向膜に対して光配向を行うために、配向膜の幅に合せた線状の光源（棒状ランプ）を使った装置や、配向膜の幅に合せて照射ヘッドを多連化した装置が提案されている。
特許文献１には、大型の光配向膜に対し均一なエネルギー分布で偏光光を照射することが可能な光配向用偏光光照射装置について開示されている。

特開２０１１－２１５６３９号公報

このような大型の光配向膜に対する偏光光の照射や、大型の基板への露光等において、照射光の積算光量の均一性を向上させることが可能な技術が求められている。

以上のような事情に鑑み、本発明の目的は、大型な対象物に対して、照射光の積算光量の均一性を向上させることが可能な光照射装置、光照射方法、及び部品の製造方法を提供することにある。

上記目的を達成するため、本発明の一形態に係る光照射装置は、第１の方向に沿って搬送される対象物に光を照射する光照射装置であって、光源部と、照射部とを具備する。
前記照射部は、前記光源部から出射される光を、前記対象物の照射対象領域に対して、複数の照射領域に分けて、前記複数の照射領域の各々の照度が等しくなるように照射する。
前記複数の照射領域は、前記照射対象領域の前記第１の方向に直交する第２の方向に沿った各位置にて、前記複数の照射領域を通過する距離の合計が等しくなるように設定される。
また、前記複数の照射領域のうちの任意の照射領域を第１の照射領域とすると、前記第１の照射領域は、前記複数の照射領域の少なくとも１つの他の照射領域との間で、前記第１の方向における異なる位置で、前記第２の方向において互いにオーバーラップするオーバーラップ領域が発生するように設定される。
また、前記第１の照射領域に対して前記オーバーラップ領域が発生する前記他の照射領域を第２の照射領域とすると、前記第１の照射領域の前記オーバーラップ領域である第１のオーバーラップ領域は、前記第２の方向においていずれか一方の向きに進むにつれて、前記第１の方向におけるサイズが増加するように構成され、前記第２の照射領域の前記オーバーラップ領域である第２のオーバーラップ領域は、前記第２の方向において同じ向きに進むにつれて、前記第１の方向におけるサイズが減少するように構成される。

この光照射装置では、照射対象領域の第２の方向に沿った各位置にて、複数の照射領域を通過する距離の合計が等しくなるように構成される。これにより、照射対象領域の第２の方向に沿った各位置にて、積算光量を均一にすることが可能となる。
また、各照射領域は、他の照射領域との間でオーバーラップ領域が発生するように設定される。互いのオーバーラップ領域は、第２の方向において同じ向きに進んだ場合に、第１の方向におけるサイズの増減が逆の関係となるように設定される。これにより、照射領域の位置が第２の方向においてずれた場合でも、第２の方向に沿った各位置における積算光量への影響を十分に抑えることが可能となる。
このように本光照射装置では、大型な対象物に対して、照射光の積算光量の均一性を向上させることが可能となる。

前記複数の照射領域は、前記第２の方向に沿って並ぶ２以上の照射領域からなる照射領域群が、前記第１の方向に沿って多段に配置されるように設定されてもよい。

前記複数の照射領域は、前記照射領域群が２段に配置されるように設定されてもよい。

前記複数の照射領域は、互いに等しい形状を有してもよい。

前記複数の照射領域の各々の形状は、２つの対角線方向が前記第１の方向及び前記第２の方向に沿うように設定されたひし形であってもよい。

前記複数の照射領域の各々を、前記第１の方向に平行な対角線により、前記第２の方向における第１の向き側の第１の分割領域と、前記第２の方向における前記第１の向きとは反対の第２の向き側の第２の分割領域とに分割した場合、前記複数の照射領域の各々は、前記第１の分割領域又は前記第２の分割領域の少なくとも一方が、前記オーバーラップ領域となるように設定されてもよい。

前記複数の照射領域の各々の形状は、前記第１の方向に沿って互いに対向し、前記第２の方向に平行となる１組の対辺を含む六角形であってもよい。

前記複数の照射領域の各々を、前記１組の対辺の間の中央領域と、前記中央領域に対して前記第２の方向における第１の向き側に隣接する第１の分割領域と、前記中央領域に対して前記第２の方向における前記第１の向きとは反対の第２の向き側に隣接する第２の分割領域とに分割した場合、前記複数の照射領域の各々は、前記第１の分割領域又は前記第２の分割領域の少なくとも一方が、前記オーバーラップ領域となるように設定されてもよい。

前記複数の照射領域は、前記第１の照射領域の前記第１のオーバーラップ領域が前記第１の分割領域の場合は、前記第２の照射領域の前記第２のオーバーラップ領域は前記第２の分割領域となるように設定され、前記第１の照射領域の前記第１のオーバーラップ領域が前記第２の分割領域の場合は、前記第２の照射領域の前記第２のオーバーラップ領域は前記第１の分割領域となるように設定されてもよい。

前記照射部は、前記複数の照射領域に対応して配置され、前記複数の照射領域の各々の照度分布を均一化する複数のインテグレータレンズを有してもよい。この場合、前記複数のインテグレータレンズの各々は、出射面の形状が前記照射領域と等しい形状となる複数のレンズを含んでもよい。

前記照射部は、前記複数の照射領域に対応して配置され、前記複数の照射領域の各々の照度分布を均一化する複数のロッドレンズを有してもよい。この場合、前記複数のロッドレンズの各々は、断面の形状が前記照射領域と等しい形状であってもよい。

前記照射部は、前記複数の照射領域に対応して配置され、前記照射領域と等しい形状の光透過領域を有する１以上の遮光板を含んでもよい。

前記光照射装置は、さらに、前記複数の照射領域の各々に対応して配置される複数の光照射ユニットを具備してもよい。この場合、前記光源部は、前記複数の光照射ユニットに搭載される複数の光源を有してもよい。また、前記照射部は、前記複数の光照射ユニットに搭載され、前記光源から出射された光を、対応する照射領域に照射する複数の光学部品を有してもよい。

前記光学部品は、出射面の形状が前記照射領域と等しい形状となる複数のレンズを含むインテグレータレンズ、断面の形状が前記照射領域と等しい形状であるロッドレンズ、又は前記照射領域と等しい形状の光透過領域を有する遮光板の少なくとも１つを含んでもよい。

本発明の一形態に係る光照射方法は、第１の方向に沿って搬送される対象物に光を照射する光照射方法であって、光源部から光を出射させる工程と、前記光源部から出射される光を、前記対象物の照射対象領域に対して、複数の照射領域に分けて、前記複数の照射領域の各々の照度が等しくなるように照射する工程とを含む。
前記複数の照射領域は、前記照射対象領域の前記第１の方向に直交する第２の方向に沿った各位置にて、前記複数の照射領域を通過する距離の合計が等しくなるように設定される。
また、前記複数の照射領域のうちの任意の照射領域を第１の照射領域とすると、前記第１の照射領域は、前記複数の照射領域の少なくとも１つの他の照射領域との間で、前記第１の方向における異なる位置で、前記第２の方向において互いにオーバーラップするオーバーラップ領域が発生するように設定される。
また、前記第１の照射領域に対して前記オーバーラップ領域が発生する前記他の照射領域を第２の照射領域とすると、前記第１の照射領域の前記オーバーラップ領域である第１のオーバーラップ領域は、前記第２の方向においていずれか一方の向きに進むにつれて、前記第１の方向におけるサイズが増加するように構成され、前記第２の照射領域の前記オーバーラップ領域である第２のオーバーラップ領域は、前記第２の方向において同じ向きに進むにつれて、前記第１の方向におけるサイズが減少するように構成される。

本発明の一形態に係る部品の製造方法は、前記光照射装置を用いて部品に光を照射する工程を含む。

以上のように、本発明によれば、大型な対象物に対して、照射光の積算光量の均一性を向上させることが可能となる。なお、ここに記載された効果は必ずしも限定されるものではなく、本開示中に記載されたいずれかの効果であってもよい。

本発明の一実施形態に係る光照射装置の概要を説明するための模式図である。 ワークの上方側から複数の照射領域を見た場合の模式図である。 図２に示す複数の照射領域の拡大図である。 積算光量均一構成を実現する複数の照射領域の他の例を示す模式図である。 図４に示す複数の照射領域の拡大図である。 比較例として挙げる複数の照射領域の構成を示す模式図である。 図６に示す比較例において、照射領域のずれが発生した場合を示す模式図である。 図２に示す積算光量均一構成おいて、照射領域のずれが発生した場合を示す模式図である。 図４に示す積算光量均一構成おいて、照射領域のずれが発生した場合を示す模式図である。 積算光量均一構成の他の例を示す模式図である。 積算光量均一構成の他の例を示す模式図である。 積算光量均一構成の他の例を示す模式図である。 積算光量均一構成の他の例を示す模式図である。 積算光量均一構成の他の例を示す模式図である。 積算光量均一構成の他の例を示す模式図である。 複数の光照射ユニットを用いた場合の構成例を示す模式図である。 光照射ユニットの内部の構成例を示す模式図である。 光照射ユニットの内部の構成例を示す模式図である。 光照射ユニットの他の構成例を示す模式図である。 図１３Ａ及び図１３Ｂに示すインテグレータレンズの出射面の構成例を示す模式図である。 図１３Ａ及び図１３Ｂに示すインテグレータレンズの出射面の構成例を示す模式図である。 光照射ユニットの他の構成例を示す模式図である。 光照射ユニットの他の構成例を示す模式図である。 遮光板の一例を示す模式図である。 遮光板の一例を示す模式図である。 遮光板の一例を示す模式図である。 遮光板の一例を示す模式図である。

以下、本発明に係る実施形態を、図面を参照しながら説明する。

［光照射装置の概要］
図１は、本発明の一実施形態に係る光照射装置の概要を説明するための模式図である。
光照射装置１は、所定の方向に沿って搬送されるワークＷに光Ｌを照射するように構成される。図１に示すように、本実施形態では、長尺で帯状のワークＷが、送り出しローラ２から引き出され、巻き取りローラ３に巻き取られる。
光照射装置１は、送り出しローラ２から巻き取りローラ３に向かって搬送されるワークＷに対して、光Ｌを照射する。図中の矢印Ｔに示すように、ワークＷの搬送方向は、送り出しローラ２から巻き取りローラ３に向かう方向となる。

ここで、便宜的に、図面に対して以下のＸＹＺ座標を規定する。
Ｘ方向：ワークＷの搬送方向（ワークＷが進行する向きを正の向きとする）
Ｙ方向：帯状のワークＷの幅方向
Ｚ方向：ワークＷの法線方向

また、本技術の説明において、Ｘ方向の正側を下流側、負側を上流側とする。またＹ方向の正側を右側、負側を左側とする。またＺ方向の正側を上方側、負側を下方側とする。
もちろん、本技術の適用に関して、光照射装置１が使用される向きや、ワークＷが搬送される搬送方向等が限定される訳ではない。

図１に示すように、帯状のワークＷは、互いに対向する左側辺部４と、右側辺部５とを有する。
本実施形態では、光照射装置１により、左側辺部４から右側辺部５にまでの全幅にわたって、光Ｌが照射される。すなわち、本実施形態では、ワークＷの全幅が、照射対象領域Ｒとなる。照射対象領域Ｒは、有効照射領域とも呼ばれる。

例えば、ワークＷ上に光配向膜が形成され、光照射装置１により、所定の波長の偏光光が照射される。このような配向処理に、本技術を適用することが可能となる。
光配光膜のＹ方向のサイズ（幅）は、ワークＷと等しくてもよいし、ワークＷよりも小さくてもよい。光配向膜の幅がワークＷの幅よりも小さい場合には、配光膜の全幅を照射対象領域Ｒ（有効照射領域）として、偏光光が照射される。
もちろん、本技術の適用が、光配光膜に対して偏光光を照射する配向処理に限定される訳ではない。

図１に示すように、光照射装置１は、ワークＷの照射対象領域Ｒに対して、複数の照射領域６に分けて、光Ｌを照射する。また光照射装置１は、複数の照射領域６の各々の照度が等しくなるように、光Ｌを照射する。

図１に模式的に図示されているように、光照射装置１は、光源部７と、照射部８とを有する。
照射部８により、光源部７から出射される光Ｌが、ワークＷの照射対象領域Ｒに対して、複数の照射領域６に分けて、複数の照射領域６の各々の照度が等しくなるように照射される。

本開示では、まず複数の照射領域６の詳細について説明する。そして、その後に、複数の照射領域６に光Ｌを照射するための、光源部７及び照射部８の具体的な構成例について説明する。
なお、図１に示す例において、搬送方向となるＸ方向が、第１の方向の一実施形態となる。またＹ方向が、第１の方向に直交する第２の方向の一実施形態となる。
また、ワークＷが、対象物の一実施形態となる。なお、ワークＷに光配向膜が形成されて配向処理が実行される場合には、光配向膜が対象物の一実施形態となり得る。
ワークＷは限定されず、プリント基板、液晶パネル用のガラス基板等、任意のデバイスをワークＷとして、本技術を適用することが可能である。

[複数の照射領域に関する積算光量均一構成]
図２は、ワークＷの上方側から複数の照射領域６を見た場合の模式図である。
なお図２では、図１と比べて、ワークＷの全幅となる照射対象領域Ｒのサイズが小さく図示されている。また、複数の照射領域６の数も少なく図示されている。
以下に説明する複数の照射領域６の構成を、左右方向（Ｙ方向）に拡張することで、照射対象領域Ｒの幅がより大きい形態に対応することが可能である。

本発明者は、複数の照射領域６の構成に関して、Ｘ方向に沿って搬送されるワークＷの照射対象領域Ｒに対して、照射される光Ｌの積算光量（エネルギー分布）を均一とするための新たな構成を見出した。
以下、発明者により新たに考案された構成を積算光量均一構成と記載し、詳しく説明する。

（特徴Ａ：通過距離の合計均一）
図２に示すように、複数の照射領域６は、照射対象領域ＲのＹ方向（幅方向）に沿った各位置にて、複数の照射領域６を通過する距離の合計が等しくなるように設定される。
すなわち、ワークＷが搬送方向（Ｘ方向）に沿って搬送される際に、複数の照射領域６を通過する距離の合計が、照射対象領域Ｒの幅方向におけるどの位置においても等しくなるように、複数の照射領域６が設定される。

本実施形態では、複数の照射領域６の各々の照度が等しくなるように、光Ｌが照射される。従って、照射対象領域Ｒの各位置における照射領域６を通過する距離は、当該位置における積算光量に対応するパラメータとなる。
照射領域６を通過する距離が大きくなるほど、当該位置に照射される光Ｌの積算光量は大きくなる。照射領域６を通過する距離が小さくなるほど、当該位置に照射される光Ｌの積算光量は小さくなる。

図２には、ワークＷの幅方向に沿った各位置の積算光量を表すグラフが図示されている。
ワークＷの幅方向に沿った各位置にて、複数の照射領域６を通過する距離の合計が等しくなる。従って、図２に示すように、ワークＷの幅方向に沿った各位置にて、照射される光Ｌの積算光量は均一となっている。

図２に示す例では、複数の照射領域６は、互いに等しい形状となるように設定される。具体的には、複数の照射領域６の各々の形状は、２つの対角線方向が搬送方向（Ｘ方向）及び幅方向（Ｙ方向）に沿うように設定された正方形である。

図２に示すように、複数の照射領域６は、幅方向（Ｙ方向）に沿って並ぶ２以上の照射領域６からなる照射領域群９が、搬送方向（Ｘ方向）に沿って多段に配置されるように設定される。
本実施形態では、幅方向に沿って６個の照射領域６が並ぶように配置され、第１の照射領域群９ａが構成されている。また、その下流側に、幅方向に沿って５つの照射領域６が並ぶように配置され、第２の照射領域群９ｂが構成されている。
すなわち本実施形態では、第１の照射領域群９ａ及び第２の照射領域群９ｂが搬送方向（Ｘ方向）に沿って２段に配置される。

第１の照射領域群９ａ及び第２の照射領域群９ｂは、積算光量均一構成の特徴Ａを実現するために、互いに位置関係が設定されている。
図２に示すように、第１の照射領域群９ａは、最左端の照射領域６の搬送方向（Ｘ方向）に延在する対角線が、ワークＷの左側辺部４上に配置されるように設定される。また第１の照射領域群９ａは、最右端の照射領域６の搬送方向に延在する対角線が、ワークＷの右側辺部５上に配置されるように設定される。
また図２に示すように、第１の照射領域群９ａとして並ぶ照射領域６間の隣接位置に、第２の照射領域群９ｂとして並ぶ照射領域６の搬送方向（Ｘ方向）に延在する対角線が合せられる。
すなわち、幅方向（Ｙ方向）において、第１の照射領域群９ａに対して、正方形の対角線の半分の大きさ分だけ左右にシフトするように、第２の照射領域群９ｂが配置される。
このことは、第２の照射領域群９ｂとして並ぶ照射領域６間の隣接位置に、第１の照射領域群９ａとして並ぶ照射領域６の搬送方向（Ｘ方向）に延在する対角線が合せられるとも言える。

図２に示す位置Ｐ１は、第１の照射領域群９ａの左から２番目の照射領域６の、搬送方向（Ｘ方向）に延在する対角線の位置である。第２の照射領域群９ｂは、この位置Ｐ１が、互いに隣接する照射領域６の隣接位置となるように設定される。
図２に示す位置Ｐ２は、第２の照射領域群９ｂの左から２番目の照射領域６の、搬送方向（Ｘ方向）に延在する対角線の位置である。第１の照射領域群９ａは、この位置Ｐ２が、互いに隣接する照射領域６の隣接位置となるように設定される。

図２に示す位置Ｐ３及びＰ４は、照射領域６の搬送方向（Ｘ方向）に延在する対角線の位置、及び互いに隣接する照射領域６の隣接位置のいずれからも外れた位置である。
図２に示す位置Ｐ１～Ｐ４、及びその他の任意の位置において、搬送により照射領域６を通過する距離の合計は、正方形の対角線の長さＤ１となる。従って、照射対象領域Ｒの幅方向（Ｙ方向）に沿った各位置にて、照射される光Ｌの積算光量は均一となる。

（特徴Ｂ：オーバーラップ領域の構成）
図３は、複数の照射領域６の拡大図である。
図３を参照しながら、本技術に係る積算光量均一構成の特徴Ｂについて説明する。
複数の照射領域６の各々は、少なくとも１つの他の照射領域６との間で、オーバーラップ領域１０が発生するように設定される。
すなわち、複数の照射領域６のうちの任意の照射領域６を、第１の照射領域１１とする。第１の照射領域１１は、少なくとも１つの他の照射領域６との間で、オーバーラップ領域１０が発生するように設定される。
なお、オーバーラップ領域１０は、搬送方向（Ｘ方向）における異なる位置で、幅方向（Ｙ方向）において互いにオーバーラップする領域である。なお、積算光量均一構成において、異なる照射領域６同士が隣接することはあり得るが、照射領域６同士が重なる（重複する）ことはない。
複数の照射領域６の各々について、最左端の頂点及び最右端の頂点の各々から、Ｘ方向に延在する直線を想定する。この２本の直線の間の領域内に、少なくとも１つの他の照射領域６の一部が含まれるように配置される。そしてＹ方向において互いにオーバーラップする領域が、オーバーラップ領域１０となる。

複数の照射領域６から任意に選択された第１の照射領域１１に対して、オーバーラップ領域１０が発生する他の照射領域６を第２の照射領域１２とする。
図３に示す例において、第１の照射領域群９に含まれる中央の照射領域６が、第１の照射領域１１として選択されたとする。
第１の照射領域１１は、下流側であり左側に半分シフトされて配置される照射領域６との間で、オーバーラップ領域１０が発生するように設定されている。また、第１の照射領域１１は、下流側であり右側に半分シフトされて配置される照射領域６との間でも、オーバーラップ領域１０が発生するように設定されている。
従って、第１の照射領域１１に対して、下流側であり左側に半分シフトされて配置される照射領域６は、第２の照射領域１２ａとなる。また、第１の照射領域１１に対して、下流側であり右側に半分シフトされて配置される照射領域６も、第２の照射領域１２ｂとなる。
すなわち、第１の照射領域１１は、２つの照射領域６との間でオーバーラップ領域１０が発生している。

積算光量均一構成では、第１の照射領域１１のオーバーラップ領域１０である第１のオーバーラップ領域は、幅方向（Ｙ方向）においていずれか一方の向きに進むにつれて、搬送方向（Ｘ方向）におけるサイズが増加するように構成される。
そして、第２の照射領域１２のオーバーラップ領域１０である第２のオーバーラップ領域は、幅方向（Ｙ方向）において同じ向きに進むにつれて、搬送方向（Ｘ方向）におけるサイズが減少するように構成される。

図３に示す第１の照射領域１１と、第２の照射領域１２ａとの関係を参照する。
図３に示すように、正方形からなる照射領域６を、搬送方向（Ｘ方向）に平行な対角線により、左半分領域１４ａと、右半分領域１４ｂとに分割する。
この場合、第１の照射領域１１の左半分領域１４ａが、第１のオーバーラップ領域１０ａ１となる。第２の照射領域１２ａの右半分領域１４ｂが、第２のオーバーラップ領域１０ａ２となる。
第１の照射領域１１の第１のオーバーラップ領域１０ａ１は、幅方向（Ｙ方向）において、右向きに進むにつれて、搬送方向（Ｘ方向）におけるサイズが増加するように構成される。
第２の照射領域１２ａの第２のオーバーラップ領域１０ａ２は、幅方向（Ｙ方向）において、同じ向き（右向き）に進むにつれて、搬送方向（Ｘ方向）におけるサイズが減少するように構成される。

図３に示す第１の照射領域１１と、第２の照射領域１２ｂとの関係を参照する。
第１の照射領域１１の右半分領域１４ｂが、第１のオーバーラップ領域１０ｂ１となる。第２の照射領域１２ｂの左半分領域１４ａが、第２のオーバーラップ領域１０ｂ２となる。
第１の照射領域１１の第１のオーバーラップ領域１０ｂ１は、幅方向（Ｙ方向）において、左向きに進むにつれて、搬送方向（Ｘ方向）におけるサイズが増加するように構成される。
第２の照射領域１２ｂの第２のオーバーラップ領域１０ｂ２は、幅方向（Ｙ方向）において、同じ向き（左向き）に進むにつれて、搬送方向（Ｘ方向）におけるサイズが減少するように構成される。

このように積算光量均一構成では、各照射領域６は、他の照射領域６との間でオーバーラップ領域１０が発生するように設定される。そして、互いのオーバーラップ領域１０は、幅方向（Ｙ方向）において同じ向きに進んだ場合に、搬送方向（Ｘ方向）におけるサイズの増減が逆の関係となるように設定される。
本実施形態では、上記した積算光量均一構成の（特徴Ａ：通過距離の合計均一）を実現するために、第１のオーバーラップ領域１０ａ１（１０ｂ１）の搬送方向（Ｘ方向）におけるサイズの増加の割合と、第２のオーバーラップ領域１０ａ２（１０ｂ２）の搬送方向（Ｘ方向）におけるサイズの減少の割合とが、互いに等しくなる。

図２及び図３示すように、複数の照射領域６の各々は、右半分領域１４ｂ、又は左半分領域１４ａの少なくとも一方が、オーバーラップ領域１０となるように設定される。
また、任意に選択された第１の照射領域１１の第１のオーバーラップ領域が左半分領域１４ａの場合は、互いにオーバーラップする第２の照射領域１２の第２のオーバーラップ領域は、右半分領域１４ｂとなる。
任意に選択された第１の照射領域１１の第１のオーバーラップ領域が右半分領域１４ｂの場合は、互いにオーバーラップする第２の照射領域１２の第２のオーバーラップ領域は、左半分領域１４ａとなる。
すなわち、各照射領域６は、左半分領域１４ａが他の照射領域６の右半分領域１４ｂとオーバーラップする、又は右半分領域１４ｂが他の照射領域６の左半分領域１４ａとオーバーラップする、の少なくとも一方が成り立つように設定される。

図２に示す例では、１１個の照射領域６のうち、第１の照射領域群９ａの最左端及び最右端の２つの照射領域６以外は、左半分領域１４ａ及び右半分領域１４ｂの両方がオーバーラップ領域１０となる。
第１の照射領域群９ａの最左端の照射領域６は、右半分領域１４ｂが、オーバーラップ領域１０となる。第１の照射領域群９ａの最右端の照射領域６は、左半分領域１４ａが、オーバーラップ領域１０となる。

なお、照射領域６の左半分領域１４ａ及び右半分領域１４ｂは、本技術に係る第１の分割領域及び第２の分割領域の一実施形態に相当する。
第１の分割領域は、搬送方向（Ｘ方向）に平行な対角線により分割された２つの領域のうちの、幅方向（Ｙ方向）における第１の向き側の領域である。
第２の分割領域は、搬送方向（Ｘ方向）に平行な対角線により分割された２つの領域のうちの、幅方向（Ｙ方向）における第２の向き側の領域である。
従って、第１の向きを左向き、第２の向きを右向きとすると、左半分領域１４ａが第１の分割領域に相当し、右半分領域１４ｂが第２の分割領域に相当する。
一方、第１の向きを右向き、第２の向きを左向きとすると、右半分領域１４ｂが第１の分割領域に相当し、左半分領域１４ａが第２の分割領域に相当する。
いずれにおいても、本技術を適用することが可能である。

このように、積算光量均一構成は、（特徴Ａ：通過距離の合計均一）及び（特徴Ｂ：オーバーラップ領域の構成）を有する。これらの特徴は、積算光量均一構成を実現するための条件とも言える。

図４は、積算光量均一構成を実現する複数の照射領域６の他の例を示す模式図である。
図５は、図４に示す複数の照射領域６の拡大図である。

図４に示す例では、複数の照射領域６の各々の形状は、搬送方向（Ｘ方向）に沿って互いに対向し、幅方向（Ｙ方向）に平行となる１組の対辺１５ａ及び１５ｂを含む正六角形である。
図４に示すように、幅方向（Ｙ方向）に沿って５つの照射領域６が並ぶように配置され、第１の照射領域群９ａが構成されている。また、その下流側に、幅方向（Ｙ方向）に沿って４つの照射領域６が並ぶように配置され、第２の照射領域群９ｂが構成されている。

図４に示すように、第１の照射領域群９ａは、最左端の照射領域６の１組の対辺１５ａ及び１５ｂの左端が、ワークＷの左側辺部４上に配置されるように設定される。また第１の照射領域群９ａは、最右端の照射領域６の１組の対辺１５ａ及び１５ｂの右端が、ワークＷの右側辺部５上に配置されるように設定される。
また第１の照射領域群９ａは、正六角形の１辺の長さ分だけ間隔をあけて、幅方向（Ｙ方向）に沿って配置される。すなわち、１辺の長さをピッチとして、幅方向（Ｙ方向）に沿って並ぶように、照射領域６が設定される。

図４に示すように、第２の照射領域群９ｂは、第１の照射領域群９ａの互いに隣接する照射領域６間の隙間の位置と、１組の対辺１５ａ及び１５ｂの位置とが合うように設定される。
従って、第２の照射領域群９ｂも、１辺の長さをピッチとして、幅方向（Ｙ方向）に沿って並ぶように、照射領域６が設定される。
なお、第１の照射領域群９ａの照射領域６の１組の対辺１５ａ及び１５ｂの位置は、第２の照射領域群９ｂの互いに隣接する照射領域６間の隙間の位置に合わせられる。

図４に示す位置Ｐ１は、第１の照射領域群９ａの左から２番目の照射領域６の、最右端の頂点の位置である。位置Ｐ２は、第１の照射領域群９ａの左から３番目の照射領域６の、最左端の頂点の位置である。位置Ｐ１と位置Ｐ２との間が、互いに隣接する照射領域６間の隙間の位置となる。
第２の照射領域群９ｂは、位置Ｐ１と位置Ｐ２との間の位置に、照射領域６の１組の対辺１５ａ及び１５ｂの位置が合わせられる。すなわち、位置Ｐ１上に１組の対辺１５ａ及び１５ｂの左端が位置し、位置Ｐ２上に１組の対辺１５ａ及び１５ｂの右端が位置するように、第２の照射領域群９ｂが設定される。

図４に示す位置Ｐ３は、照射領域６の中心の位置である。
位置Ｐ４は、第１の照射領域群９ａの右から２番目の照射領域６の、最左端の頂点から１組の対辺１５ａ及び１５ｂの左端までの間の位置である。
位置Ｐ５は、第１の照射領域群９ａの右から２番目の照射領域６の、１組の対辺１５ａ及び１５ｂの右端から最右端の頂点までの間の位置である。
図４に示す位置Ｐ１～Ｐ５、及びその他の任意の位置において、搬送により照射領域６を通過する距離の合計は、正六角形の１組の対辺１５ａ及び１５ｂの間の長さＤ２となる。
従って、照射対象領域Ｒの幅方向（Ｙ方向）に沿った各位置にて、照射される光Ｌの積算光量は均一となる。すなわち、積算光量均一構成に関する（特徴Ａ：通過距離の合計均一）が実現されている。

図５に示す例において、第１の照射領域群９に含まれる中央の照射領域６が、第１の照射領域１１として選択されたとする。
第１の照射領域１１は、下流側であり左側にシフトされて配置される照射領域６との間で、オーバーラップ領域１０が発生するように設定されている。また、第１の照射領域１１は、下流側であり右側にシフトされて配置される照射領域６との間でも、オーバーラップ領域１０が発生するように設定されている。
従って、第１の照射領域１１に対して、下流側であり左側にシフトされて配置される照射領域６は、第２の照射領域１２ａとなる。また、第１の照射領域１１に対して、下流側であり右側にシフトされて配置される照射領域６も、第２の照射領域１２ｂとなる。

図５に示す第１の照射領域１１と、第２の照射領域１２ａとの関係を参照する。
図５に示すように、複数の照射領域６の各々を、正六角形からなる照射領域６の１組の対辺１５ａ及び１５ｂの間の中央領域１７ａと、中央領域１７ａに対して左側に隣接する左側領域１７ｂと、中央領域１７ａに対して右側に隣接する右側領域１７ｃとに分割する。
この場合、第１の照射領域１１の左側領域１７ｂが、第１のオーバーラップ領域１０ａ１となる。第２の照射領域１２ａの右側領域１７ｃが、第２のオーバーラップ領域１０ａ２となる。
第１の照射領域１１の第１のオーバーラップ領域１０ａ１は、幅方向（Ｙ方向）において、右向きに進むにつれて、搬送方向（Ｘ方向）におけるサイズが増加するように構成される。
第２の照射領域１２ａの第２のオーバーラップ領域１０ａ２は、幅方向（Ｙ方向）において、同じ向き（右向き）に進むにつれて、搬送方向（Ｘ方向）におけるサイズが減少するように構成される。

図５に示す第１の照射領域１１と、第２の照射領域１２ｂとの関係を参照する。
第１の照射領域１１の右側領域１７ｃが、第１のオーバーラップ領域１０ｂ１となる。第２の照射領域１２ｂの左側領域１７ｂが、第２のオーバーラップ領域１０ｂ２となる。
第１の照射領域１１の第１のオーバーラップ領域１０ｂ１は、幅方向（Ｙ方向）において、左向きに進むにつれて、搬送方向（Ｘ方向）におけるサイズが増加するように構成される。
第２の照射領域１２ｂの第２のオーバーラップ領域１０ｂ２は、幅方向（Ｙ方向）において、同じ向き（左向き）に進むにつれて、搬送方向（Ｘ方向）におけるサイズが減少するように構成される。
第１のオーバーラップ領域１０ａ１（１０ｂ１）の搬送方向（Ｘ方向）におけるサイズの増加の割合と、第２のオーバーラップ領域１０ａ２（１０ｂ２）の搬送方向（Ｘ方向）におけるサイズの減少の割合とは、互いに等しくなる。
このように、積算光量均一構成に関する（特徴Ｂ：オーバーラップ領域の構成）も実現されている。

図４及び図５示すように、複数の照射領域６の各々は、左側領域１７ｂ又は右側領域１７ｃの少なくとも一方が、オーバーラップ領域１０となるように設定される
また、任意に選択された第１の照射領域１１の第１のオーバーラップ領域が左側領域１７ｂの場合は、互いにオーバーラップする第２の照射領域１２の第２のオーバーラップ領域は、右側領域１７ｃとなる。
任意に選択された第１の照射領域１１の第１のオーバーラップ領域が右側領域１７ｃの場合は、互いにオーバーラップする第２の照射領域１２の第２のオーバーラップ領域は、左側領域１７ｂとなる。
すなわち、各照射領域６は、左側領域１７ｂが他の照射領域６の右側領域１７ｃとオーバーラップする、又は右側領域１７ｃが他の照射領域６の左側領域１７ｂとオーバーラップする、の少なくとも一方が成り立つように設定される。

図４に示す例では、９個の照射領域６のうち、第１の照射領域群９ａの最左端及び最右端の２つの照射領域６以外は、左側領域１７ｂ及び右側領域１７ｃの両方がオーバーラップ領域１０となる。
第１の照射領域群９ａの最左端の照射領域６は、右側領域１７ｃが、オーバーラップ領域１０となる。第１の照射領域群９ａの最右端の照射領域６は、左側領域１７ｂが、オーバーラップ領域１０となる。

なお、照射領域６の中央領域１７ａ、左側領域１７ｂ、及び右側領域１７ｃは、本技術に係る中央領域、第１の分割領域、及び第２の分割領域の一実施形態に相当する。
このうち、第１の分割領域は、中央領域１７ａに対して幅方向（Ｙ方向）における第１の向き側に隣接する領域である。
第２の分割領域は、中央領域１７ａに対して幅方向（Ｙ方向）における第２の向き側に隣接する領域である。
従って、第１の向きを左向き、第２の向きを右向きとすると、左側領域１７ｂが第１の分割領域に相当し、右側領域１７ｃが第２の分割領域に相当する。
一方、第１の向きを右向き、第２の向きを左向きとすると、右側領域１７ｃが第１の分割領域に相当し、左側領域１７ｂが第１の分割領域に相当する。
いずれにおいても、本技術を適用することが可能である。

[積算光量均一構成の効果]
図６及び図７は、比較例として挙げる複数の照射領域９６の構成を示す模式図である。
図６に示す比較例では、複数の照射領域９６の各々の形状は、２つの辺方向が搬送方向（Ｘ方向）及び幅方向（Ｙ方向）に沿うように設定された正方形である。
図６に示すように、幅方向に沿って５つの照射領域９６が並ぶように配置され、第１の照射領域群９８ａが構成されている。また、その下流側に、幅方向に沿って４つの照射領域９６が並ぶように配置され、第２の照射領域群９８ｂが構成されている。

図６に示すように、第１の照射領域群９８ａは、正方形の１辺の長さ分だけ間隔をあけて、幅方向（Ｙ方向）に沿って配置される。すなわち、１辺の長さをピッチとして、幅方向（Ｙ方向）に沿って並ぶように、照射領域９６が設定される。
第２の照射領域群９８ｂは、第１の照射領域群９８ａの互いに隣接する照射領域９６間の隙間を埋めるようにして、下流側に設定される。
従って、第２の照射領域群９８ｂも、１辺の長さをピッチとして、幅方向（Ｙ方向）に沿って並ぶように、照射領域９６が設定される。

図６に示す位置Ｐ１は、第１の照射領域群９８ａの左から２番目の照射領域９６の、右辺の位置である。位置Ｐ２は、第１の照射領域群９８ａの左から３番目の照射領域９６の、左辺の位置である。
第２の照射領域群９８ｂの照射領域９６は、位置Ｐ１と位置Ｐ２との間を埋めるように配置される。なお、第２の照射領域群９８ｂの照射領域９６は、第１の照射領域群９８ａの照射領域９６の右辺及び左辺の位置（位置Ｐ１及びＰ２）上には、位置しないように配置される。
従って、幅方向（Ｙ方向）において、第１の照射領域群９８ａの照射領域９６の左右の辺と、第２の照射領域群９８ｂの照射領域９６の左右の辺とが同じ位置になることはない。

図６に示す位置Ｐ３及びＰ４は、照射領域９６の中心の位置である。
図６に示す位置Ｐ１～Ｐ４、及びその他の任意の位置において、搬送により照射領域９６を通過する距離の合計は、正方形の１辺の長さＤ３となる。
従って、照射対象領域Ｒの幅方向（Ｙ方向）に沿った各位置にて、照射される光Ｌの積算光量は均一となる。すなわち、図６に示す比較例は、積算光量均一構成に関する（特徴Ａ：通過距離の合計均一）が実現されている。
一方で、図６に示す例では、積算光量均一構成に関する（特徴Ｂ：オーバーラップ領域の構成）は実現されていない。

ここで、図７に示すように、幅方向（Ｙ方向）において、照射領域９６の位置がずれた場合を考察する。
図７に示す例では、第２の照射領域群９８ｂの右から２番目の照射領域９６ａが、右側にずれている。その結果、上流側であり左側にシフトされている照射領域９６ｂの右辺の位置Ｐ５と、照射領域９６ａの左辺の位置Ｐ６との間に隙間が発生する。
また、上流側であり右側にシフトされている照射領域９６ｃの左辺の位置Ｐ７と、照射領域９６ａの右辺の位置Ｐ８との間で、オーバーラップ領域が発生している。
この結果、図７に示すように、位置Ｐ５と位置Ｐ６との間の積算光量はゼロとなってしまう。また、位置Ｐ７と位置Ｐ８との間では、オーバーラップ領域分だけ積算光量が増加してしまう。
すなわち、比較例における照射領域９６の構成では、照射領域９６が幅方向において少しずれただけでも、照射対象領域Ｒにおける積算光量の均一性が大幅に低下してしまう。

図８は、図２に示す積算光量均一構成おいて、照射領域６のずれが発生した場合を示す模式図である。
図８に示す例では、第２の照射領域群９ｂの右から２番目の照射領域６ａが、幅方向（Ｙ方向）において、右側にずれている。従って、上流側であり左側及び右側にシフトされている照射領域６ｂ及び６ｃに対して、位置がずれている。また、右隣りの照射領域６ｄに対して、一部の領域が重なってしまっている。

照射領域６ａの右側へのずれに応じた積算光量の変化は以下の通りとなる。
照射領域６ｂの中心位置Ｐ５から照射領域６ａの最左端の頂点の位置Ｐ６までの範囲で積算光量が低下
照射領域６ａの最左端の頂点の位置Ｐ６から照射領域６ｂの最右端の頂点の位置Ｐ７までの範囲で、積算光量は低い状態で維持
照射領域６ｂの最右端の頂点の位置Ｐ７から照射領域６ａの中心位置Ｐ８までの範囲で、積算光量が増加（途中の位置で目標とする積算光量を超える）
照射領域６ａの中心位置Ｐ８から照射領域６ｃの中心位置Ｐ９までの範囲で、積算光量は高い状態で維持
照射領域６ｃの中心位置Ｐ９から照射領域６ａの最右端の頂点の位置Ｐ１０までの範囲で、積算光量が低下（位置Ｐ１０で目標とする積算光量に戻る）

図９は、図４に示す積算光量均一構成おいて、照射領域６のずれが発生した場合を示す模式図である。
図９に示す例では、第２の照射領域群９ｂの右から２番目の照射領域６ａが、幅方向（Ｙ方向）において、右側にずれている。従って、上流側であり左側及び右側にシフトされている照射領域６ｂ及び６ｃに対して、位置がずれている。

照射領域６ａの右側へのずれに応じた積算光量の変化は以下の通りとなる。
照射領域６ｂの１組の対辺１５ａ及び１５ｂの右端の位置Ｐ６から照射領域６ａの最左端の頂点の位置Ｐ７までの範囲で積算光量が低下
照射領域６ａの最左端の頂点の位置Ｐ７から照射領域６ｂの最右端の頂点の位置Ｐ８の範囲で、積算光量は低い状態で維持
照射領域６ｂの最右端の頂点の位置Ｐ８から照射領域６ａの１組の対辺１５ａ及び１５ｂの左端の位置Ｐ９までの範囲で、積算光量が増加（位置Ｐ９で目標とする積算光量に戻る）
照射領域６ａの１組の対辺１５ａ及び１５ｂの左端の位置Ｐ９から照射領域６ｃの最左端の頂点の位置Ｐ１０までの範囲で、目標とする積算光量を維持
照射領域６ｃの最左端の位置Ｐ１０から照射領域６ａの１組の対辺１５ａ及び１５ｂの右端の位置Ｐ１１までの範囲で、積算光量が増加
照射領域６ａの１組の対辺１５ａ及び１５ｂの右端の位置Ｐ１１から、照射領域６ｃの１組の対辺１５ａ及び１５ｂの左端の位置Ｐ１２までの範囲で、積算光量は高い状態で維持
照射領域６ｃの１組の対辺１５ａ及び１５ｂの左端の位置Ｐ１２から、照射領域６ａの最右端の頂点の位置Ｐ１３までの範囲で、積算光量が低下（位置Ｐ１３で目標とする積算光量に戻る）

図８及び図９に示すように、積算光量均一構成では、（特徴Ｂ：オーバーラップ領域の構成）により、図７に示す比較例と比べて、照射領域６の位置がずれた場合でも、幅方向（Ｙ方向）に沿った各位置における積算光量への影響を抑えることが可能となる。

なお、図８及び図９では、照射領域６のずれの影響を分かりやすく説明するために、照射領域６のずれが非常に大きくなるように図示している。その結果、図８及び図９に示す積算光量均一構成でも、積算光量の変化が大きく発生しているように見える。
実際には、照射領域６のずれは、もっと小さい範囲に抑えることが可能である。
例えば幅が３０００ｍｍ程度の照射領域Ｒに対して、幅が１００～４００ｍｍ程度となる照射領域６が、積算光量均一構成が実現されるように設定される。その際に、照射領域６を１ｍｍのオーダーで位置決めすることが可能である。すなわち、照射領域６の幅方向におけるずれは１ｍｍ以内に抑えることが可能である。
例えば、図８及び図９の例で見た場合、照射領域６の幅に対して、１／１００～１／４００程度のずれ量に抑えることが可能である。この結果、照射領域６の位置がずれた場合における、幅方向（Ｙ方向）に沿った各位置における積算光量への影響は、十分に抑えられる。

［積算光量均一構成のバリエーション］
図１０Ａ～図１０Ｃ及び図１１Ａ～図１１Ｃは、積算光量均一構成の他の例を示す模式図である。
図１０Ａに示す例では、複数の照射領域６の各々の形状が、２つの対角線方向が搬送方向（Ｘ方向）及び幅方向（Ｙ方向）に沿うように設定されたひし形となっている。
第１の照射領域群９ａに対して、左半分領域１４ａと右半分領域１４ｂとが互いにオーバーラップ領域となるように、第２の照射領域群９ｂが設定される。
これにより、積算光量均一構成を実現することが可能である。

なお、図１０Ａに示す例は、図２に示す正方形からなる照射領域６の搬送方向（Ｘ方向）に沿った対角線の長さＤ１を短くした形状に相当する。
搬送方向（Ｘ方向）に沿った対角線の長さ、及び幅方向（Ｙ方向）に沿った対角線の長さは、それぞれ任意に設計可能である。すなわち、様々な形状のひし形を用いて、積算光量均一構成を実現することが可能である。なお、正方形は、ひし形に含まれる。

図１０Ｂに示す例では、複数の照射領域６の各々の形状が、搬送方向（Ｘ方向）に沿って互いに対向し、幅方向（Ｙ方向）に平行となる１組の対辺１５ａ及び１５ｂを含む六角形となっている。
第１の照射領域群９ａに対して、左側領域１７ｂと右側領域１７ｃとが互いにオーバーラップ領域となるように、第２の照射領域群９ｂが設定される。
これにより、積算光量均一構成を実現することが可能である。

なお、図１０Ｂに示す例は、図４に示す正六角形からなる照射領域６の搬送方向（Ｘ方向）におけるサイズを小さくした形状に相当する。すなわち、１組の対辺１５ａ及び１５ｂの間の長さＤ２を短くした形状に相当する。
六角形の搬送方向（Ｘ方向）に沿ったサイズ、幅方向（Ｙ方向）に沿ったサイズは、それぞれ任意に設計可能である。すなわち、様々な形状の六角形を用いて、積算光量均一構成を実現することが可能である。

図１０Ｃに示す例では、複数の照射領域６の各々の形状が、１辺の辺方向が幅方向（Ｙ方向）に沿うように設定された正三角形となっている。
幅方向に平行に設定される辺を底辺１９とし、底辺に対向する頂点を頂点２０とする。第１の照射領域群９ａは、底辺１９に対して頂点２０が下流側に位置する向きとなるように、幅方向（Ｙ方向）に沿って並べられる。
第１の照射領域群９ａに対して、底辺１９に対して頂点２０が上流側に位置する向きとなるように、第２の照射領域群９ｂが幅方向（Ｙ方向）に沿って並べられる。また、第２の照射領域群９ｂは、第１の照射領域群９ａの左半分領域２１ａと第２の照射領域群９ｂの右半分領域２２ｂとが互いにオーバーラップ領域となるように、かつ、第１の照射領域群９ａの右半分領域２１ｂと第２の照射領域群９ｂの左半分領域２２ａとが互いにオーバーラップ領域となるように設定される。
照射対象領域Ｒの幅方向（Ｙ方向）に沿った各位置において、照射領域６を通過する距離の合計は、頂点２０から底辺１９までの垂線の長さＤ４となる。

なお、底辺１９に対して頂点２０の位置が変更され、二等辺三角形の形状で照射領域６が構成されてもよい。その他、様々な形状の三角形を用いて、積算光量均一構成を実現することが可能である。

図１１Ａに示す例では、複数の照射領域６は、照射領域群２３ａ～２３ｄの４段の照射領域群２３から構成されている。
このように、幅方向（Ｙ方向）に沿って並ぶ２以上の照射領域６からなる照射領域群が、搬送方向（Ｘ方向）に沿って、任意の数の段数で配置されてもよい。
なお、図１１Ａに示す例は、図２に示す積算光量均一構成の第１の照射領域群９ａの左から数えて偶数番目の照射領域６を、上流側にシフトさせて、第１の照射領域群２３ａとしている。そして、奇数番目の照射領域６を、第２の照射領域群２３ｂとしている。
また図２に示す第２の照射領域群９ｂの左から数えて偶数番目の照射領域６を、下流側にシフトさせて、第４の照射領域群２３ｄとしている。そして、奇数番目の照射領域６を、第３の照射領域群２３ｃとしている。
もちろん、このような構成に限定されず、多段の照射領域群からなる任意の構成が採用されてよい。

図１１Ｂに示す例では、複数の照射領域６が、搬送方向（Ｘ方向）に対して、斜めに交差する直線Ｓ上に沿って並ぶように設定される。また、直線Ｓに沿って並べられる照射領域群２４ａ及び２４ｂが、搬送方向（Ｘ方向）に沿って多段に配置される。
なお、図１１Ｂに示す例は、図２に示す積算光量均一構成の照射領域６の各々を、中心が直線Ｓ上に配置されるように、搬送方向（Ｘ方向）に沿ってシフトさせたものである。
もちろん、このような構成に限定にされず、搬送方向（Ｘ方向）に対して斜めに交差する直線Ｓに沿った任意の構成が採用されてよい。

図１１Ｃに示す例は、図２に示す積算光量均一構成の照射領域６の各々を、搬送方向（Ｘ方向）に沿ってランダムにシフトさせたものである。
このような構成でも、積算光量均一構成を実現することが可能である。

図１０Ａ～図１０Ｃ及び図１１Ａ～図１１Ｃに例示するように、積算光量均一構成として、様々な構成が考えられる。上記した、（特徴Ａ：通過距離の合計均一）及び（特徴Ｂ：オーバーラップ領域の構成）を満たすのであれば、任意の構成が採用されてよい。
例えば、特徴Ａ及び特徴Ｂを満たすのであれば、複数の照射領域６の各々が、異なる形状や異なるサイズを含むように設定されてもよい。
例えば、図１に示す光源部７及び照射部８の具体的な構成を検討する上で有利となるように、照射領域６の形状や位置等が設定されてもよい。

なお、図２に示す積算光量均一構成は、桧垣模様に準じた構成とも言える。また図４に示す積算光量均一構成は、亀甲模様に準じた構成とも言える。このように、規則的に展開される模様等に準じて、積算光量均一構成を実現することも可能である。

［光源部７及び照射部８の具体的な構成］
光源部７及び照射部８の具体的な構成としては、上記で説明した積算光量均一構成を実現することが可能であれば、任意の構成が採用されてよい。
以下、光源部７及び照射部８の具体的な構成例を説明する。

［複数の光照射ユニット］
図１２は、複数の光照射ユニットを用いた場合の構成例を示す模式図である。
図１２に示すように、複数の光照射ユニット２５は、複数の照射領域６に対応して配置される。図１２に示す光照射装置１では、複数の照射領域６の各々に対して、１つずつ光照射ユニット２５が配置される。

本実施形態では、第１の照射領域群９ａの５個の照射領域６に対応して、５個の光照射ユニット２５が、幅方向（Ｙ方向）に並べられ、第１の光照射ユニット群２６ａとして構成される。
また、第２の照射領域群９ｂの４個の照射領域６に対応して、４個の光照射ユニット２５が、幅方向（Ｙ方向）に並べられ、第２の光照射ユニット群２６ａとして構成される。
すなわち、図１２に示す例では、２段の照射領域群９に対応して、光照射ユニット群２６が、２段配置されている。
本実施形態では、ワークＷの左右の両脇に支柱２７が設置される。そして、支柱の間に保持部材を介して、複数の光照射ユニット２５が保持される。複数の光照射ユニット２５を保持するための具体的な構成は限定されず、任意に設計されてよい。

図１３Ａ及び図１３Ｂは、光照射ユニット２５の内部の構成例を示す模式図である。
図１３Ａは、光照射ユニット２５を幅方向（Ｙ方向）の左側から見た場合の内部の構成を示す模式図である。
図１３Ｂは、光照射ユニット２５を搬送方向（Ｘ方向）の下流側から見た場合の内部の構成を示す模式図である。
なお図１２では、光照射ユニット２５が、単純な直方体の形状で、模式的に図示されている。

図１３Ａ及び図１３Ｂに示すように、光照射ユニット２５は、ランプ２９と、集光ミラー３０と、平面ミラー３１と、インテグレータレンズ３２と、コリメータミラー３３と、偏光素子（偏光板）３４を有する。
本実施形態では、ランプ２９として、ショートアーク型の水銀ランプが用いられる。ランプ２９からは、例えば、波長２５４ｎｍ、３１３ｎｍ、３６５ｎｍ等を含む紫外光が出射される。
集光ミラー３０は、ランプ２９から出射された光Ｌを集光して、光軸Ｏに沿って平面ミラー３１に向けて出射する。平面ミラー３１は、集光ミラー３０から出射された光Ｌを、インテグレータレンズ３２に向かって反射する。

インテグレータレンズ３２は、平面ミラー３１により反射される光Ｌの光路上に配置され、照射領域６に照射される光Ｌの照度分布を均一化する。インテグレータレンズ３２は、複数のレンズセグメント（複数の微小なレンズ）を並べて構成されており、フライアイレンズ（蝿目レンズ）とも呼ばれる。各レンズセグメントから出射される光Ｌが、照射領域６上で重畳されることで、照度が均一化される。

コリメータミラー３３は、インテグレータレンズ３２から出射された光Ｌを、下方側に折り返し、平行光として出射する。コリメータミラー３３により平行光として反射された光Ｌは、偏光板３４を介して、照射領域６に照射される。
照射領域６の形状は、インテグレータレンズ３２を構成するレンズセグメントの形状と相似形をなす。

光照射ユニット２５の具体的な構成は限定されず、任意の構成が採用されてよい。
例えば、コリメータミラー３３の代わりに、反射鏡（平面鏡）とコリメータレンズを配置し、反射鏡（平面鏡）により光路を折り返し、コリメータレンズに入射させ、コリメータレンズから平行光を出射する構成としても良い。なお、平行光はワークＷの表面に垂直な方向に対して、約０～７０度の範囲で照射する。

また、光照射装置１が、液晶素子の配向膜や視野角補償フィルムの配向層等など光配向膜に対する配向処理とは異なる用途で用いられる場合等において、偏光板３４が配置されない構成もあり得る。

図１２に示すように、複数の光照射ユニット２５を並べて配置することで、幅方向（Ｙ方向）のサイズが大きい大型のワークＷに対して、積算構成均一構成を容易に実現することが可能である。この結果、大型のワークＷに対して、照射光Ｌの積算光量の均一性を向上させることが可能となる。

図１４は、光照射ユニットの他の構成例を示す模式図である。
図１４に示す例では、第１の照射領域群９ａに対して、幅方向（Ｙ方向）に延在する１つの光照射ユニット３６ａが配置される。また第２の照射領域群９ｂに対して、幅方向（Ｙ方向）に延在する１つの光照射ユニット３６ｂが配置される。
このように、多段に配置される複数の照射領域群９の各々に対応して、１つずつ光照射ユニット３６が構成されてもよい。
例えば、図２に例示するような積算光量均一構成等において、照射領域６が互いに隣接する場合には、照射領域群９をまとめて照射する光照射ユニット３６が有利となる場合も多い。

光照射ユニット３６の内部の構成例としては、例えば、図１３Ａ及び図１３Ｂに例示する内部の構成を採用することが可能である。例えば、光照射ユニット３６の内部に、図１３Ａ及び図１３Ｂに例示する内部の構成を、照射領域６に対応して複数並ぶように配置する。
これにより、照射領域群９をまとめて照射可能な光照射ユニット３６を実現することが可能となる。

あるいは、各照射領域群９において、隣接する複数の照射領域６に対して、ランプ等を共通して配置する構成が採用されてもよい。
例えば、互いに隣接する２つの照射領域６に対して、インテグレータレンズ３２は１つずつ配置する。一方で、ランプは、幅方向（Ｙ方向）に延在する棒状のランプを、２つの照射領域６に対して共通に用いるといった構成も可能である。
もちろん、３つ以上の照射領域６に対して、１つのランプ等を用いるといったことも可能である。その他、任意の構成が採用されてよい。

図１２に例示する光照射ユニット２５では、複数の光照射ユニット２５の各々に搭載されるランプ２９及び集光ミラー３０のセットが、図１に示す光源部７として機能する。また複数の光照射ユニット２５の数分配置される、ランプ２９及び集光ミラー３０の複数のセットが、複数の光源の一実施形態となる。
また、複数の光照射ユニット２５の各々に搭載される、平面ミラー３１、インテグレータレンズ３２、コリメータミラー３３、及び偏光板３４が、図１に示す照射部８として機能する。また、平面ミラー３１、インテグレータレンズ３２、コリメータミラー３３、及び偏光板３４は、光源から出射された光を、対応する照射領域に照射する複数の光学部品の一実施形態となる。

図１４に例示する光照射ユニット３６も同様に、各光照射ユニット３６に搭載されるランプ等が、図１に示す光源部７として機能する。また、複数の照射領域６に対応して配置されるインテグレータレンズ３２等が、図１に示す照射部８として機能する。

光源部７として、水銀ランプ以外の光源が用いられてもよい。例えば、紫外光とは異なる波長帯域の光を出射するランプが用いられてもよい。
その他、ＬＥＤ（Light Emitting Diode）やＬＤ（Laser Diode）等の固体光源が用いられてもよい。
例えば、図１３Ａ及び図１３Ｂに示す光照射ユニット２５に対して、ランプ２９及び集光ミラー３０のセットに代えて、ＬＥＤやＬＤのアレイ光源を配置することも可能である。

［インテグレータレンズの構成］
図１５Ａ及び図１５Ｂは、図１３Ａ及び図１３Ｂに示すインテグレータレンズ３２の出射面３８の構成例を示す模式図である。出射面３８は、光軸Ｏに沿って出射側からインテグレータレンズ３２を見た場合の、光Ｌが出射される面である。
インテグレータレンズ３２は、複数のレンズセグメント３９を含む。図１５Ａ及び図１５Ｂに示すように、インテグレータレンズ３２の出射面３８を光軸Ｏに沿って見た場合、複数のレンズセグメント３９の各々の出射面４０が密集して配置される。
インテグレータレンズ３２から出射される光が照射される領域の形状は、光軸Ｏに沿って見た場合の、各レンズセグメント３９の出射面４０の形状と等しくなる。
レンズセグメント３９は、本技術に係る複数のレンズの一実施形態に相当する。

積算光量均一構成を実現する上で、照射領域６の形状は非常に重要である。
図１２に示すように、複数の照射領域６に対応して、複数の照射領域６の各々の照度分布を均一化する複数のインテグレータレンズ３２を配置する。すなわち、複数の照射領域６の各々に対して、１つずつインテグレータレンズ３２を配置する。
そして、インテグレータレンズ３２に含まれるレンズセグメント３９の出射面４０の形状を、照射領域６の形状と等しくなるように設計する。すなわち、複数の照射領域６に対応して配置される複数のインテグレータレンズ３２として、出射面４０の形状が照射領域６と等しい形状となる複数のレンズセグメント３９を含むインテグレータレンズを配置する。
これにより、照射領域６の形状を、容易に、積算光量均一構成を実現するために必要な形状とすることが可能である。

図１５Ａに示す例では、各レンズセグメント３９の出射面４０の形状が、正方形となるように設計されている。そして、照射領域６の２つの対角線方向が搬送方向（Ｘ方向）及び幅方向（Ｙ方向）に沿うように、各レンズセグメント３９の出射面４０の向きも設定されている。
図１５Ａに示す例では、正方形からなる出射面４０の２つの対角線がＺ方向及びＹ方向に沿うように、インテグレータレンズ３２の向きが設定される。これにより、図１３Ａ及び図１３Ｂに示すコリメータミラー３３により下方に反射された光Ｌは、２つの対角線方向が搬送方向（Ｘ方向）及び幅方向（Ｙ方向）に沿うように設定された照射領域６に照射される。
図１５Ａに示すインテグレータレンズ３２を用いることで、図２や図１４に示す積算光量均一構成を容易に実現することが可能となる。

図１５Ｂに示す例では、各レンズセグメント３９の出射面４０の形状が、正六角形となるように設計されている。そして、照射領域６の１組の対辺１５ａ及び１５ｂが、搬送方向（Ｘ方向）に沿って互いに対向し、幅方向（Ｙ方向）に平行となるように、各レンズセグメント３９の出射面４０の向きも設定されている。
図１５Ｂに示す例では、正六角形からなる出射面４０の１組の対辺４１ａ及び４１ｂが、Ｚ方向に沿って互いに対向し、Ｙ方向に平行となるように、インテグレータレンズ３２の向きが設定される。これにより、図１３Ａ及び図１３Ｂに示すコリメータミラー３３により下方に反射された光Ｌは、１組の対辺１５ａ及び１５ｂが、搬送方向（Ｘ方向）に沿って互いに対向し、幅方向（Ｙ方向）に平行となるように設定された照射領域６に照射される。
図１５Ｂに示すインテグレータレンズ３２を用いることで、図４や図１２に示す積算光量均一構成を容易に実現することが可能となる。
もちろん図１２や図１４に例示する積算光量均一構成のみに限定される訳ではない。

図１５Ａ及び図１５Ｂに示すようなインテグレータレンズ３２を構成する際に、各レンズセグメント３９の出射面４０を密に配置することで、光を有効利用することが可能となる。レンズセグメント３９の出射面４０の間に隙間が存在すると、光の損失の原因となってしまう。
従って、レンズセグメント３９の出射面４０の形状を制御することで、照射領域６の形状を制御する方法を採用する際には、同じ形状からなるレンズセグメント３９の出射面４０を、同じ向きとなるように密集して配置することが可能な形状が有利となる。
そのような形状としては、図２や図１０Ａに例示するひし形（正方形を含む）、及び図４や図１０Ｂに例示する六角形が有利となる。
もちろん、これらの形状に限定されず、他の同じ形状かつ同じ向きで密に配置可能な他の形状が採用されてもよい。

図１０Ｃに例示するような三角形では、向きを逆にすれば、密に配置してインテグレータレンズ３２を構成することが可能となる。しかしながら、図１０Ｃに示す例では、第１の照射領域群９ａや第２の照射領域群９ｂは、向きが規定された三角形で照射領域６が設定されている。
この場合、同じ向きの三角形からなる出射面４０では、密に配置することが難しいので、光の損失が発生してしまう可能性が高い。
もちろん、図１０Ｃに例示する積算光量均一構成を実現するために、レンズセグメント３９の出射面４０の形状を三角形に設計する方法が採用されてもよい。

なお、図１０Ａ～図１０Ｃ及び図１１Ａ～図１１Ｃを参照して、幅方向（Ｙ方向）に沿って構成される照射領域群９を、搬送方向（Ｘ方向）に沿って少ない段数で配置する。これにより、搬送方向（Ｘ方向）において、光Ｌを照射するのに必要なスペースを小さくすることが可能となり、装置の小型化に有利となる。
光照射ユニット２５等の構成によっては、図１０Ａに示すような互いに隣接する照射領域６を幅方向（Ｙ方向）に沿って連続的に設定することが難しい場合もあり得る。そのような場合には、例えば図１１Ａに示すような４段の構成、図１１Ｂに示すような斜め方向に沿った構成、図１１Ｃに示すような搬送方向（Ｘ方向）に沿ってランダムにシフトする構成等を採用することで、容易に積算光量均一構成を実現することが可能となる。

［光照射方法］
光照射装置１による光照射方法について説明する。
本光照射方法は、搬送方向（Ｘ方向）に沿って搬送されるワークＷに光Ｌを照射する光照射方法であって、積算光量均一構成を実現する複数の照射領域６に、光Ｌを照射する方法である。
具体的には、図１に示す光源部７から光を出射させるステップと、光源部７から出射される光Ｌを、ワークＷの照射対象領域Ｒに対して、複数の照射領域６に分けて、複数の照射領域６の各々の照度が等しくなるように照射するステップとを具備する。
積算光量均一構成を実現する複数の照射領域６、光源部７、及び照射部８としては、上記で説明した種々の構成を採用することが可能である。

以上、本実施形態に係る光照射装置１では、照射対象領域Ｒの幅方向（Ｙ方向）に沿った各位置にて、複数の照射領域６を通過する距離の合計が等しくなるように構成される。これにより、照射対象領域Ｒの幅方向（Ｙ方向）に沿った各位置にて、積算光量を均一にすることが可能となる。
また、各照射領域６は、他の照射領域６との間でオーバーラップ領域１０が発生するように設定される。互いのオーバーラップ領域１０は、幅方向（Ｙ方向）において同じ向きに進んだ場合に、搬送方向（Ｘ方向）におけるサイズの増減が逆の関係となるように設定される。これにより、照射領域の位置が幅方向（Ｙ方向）においてずれた場合でも、幅方向（Ｙ方向）に沿った各位置における積算光量への影響を十分に抑えることが可能となる。
本光照射装置１を用いることで、大型なワークＷに対して、照射光Ｌの積算光量の均一性を向上させることが可能となる。

光照射装置１を適用可能な分野は限定されず、任意の用途に光照射装置１を用いることが可能である。
例えば、上記したように、液晶素子の配向膜や視野角補償フィルムの配向層等など光配向膜に対する配向処理に、本技術を適用することが可能である。
また、ワークＷに光を照射して、光化学反応によりワークＷの表面改質等を行なう用途に、本技術を適用することも可能である。
また、プリント基板または液晶パネル用のガラス基板等の大型の基板に対して、光照射装置１により露光を行い、所定のパターンを形成することも可能である。
その他、均一な積算光量にて光を照射することが求められる任意の分野やシステムに、本光照射装置１を使用することが可能である。

［部品の製造方法］
本技術に係る部品の製造方法として、光照射装置１を用いて部品に光を照射する工程を含む任意の方法を実施することが可能である。
例えば、光照射装置１を用いて配向処理を行うことで、光配向膜を含む様々な部品を製造することが可能である。
また、光照射装置１を用いて表面改質等を行うことで、様々な部品を製造することが可能である。
また、光照射装置１を用いて露光を行うことで、所定のパターンが形成された種々の基板を、部品として製造することが可能となる。例えば、部品として、電気回路素子、光学素子、ＭＥＭＳ、記録素子、センサ、或いは、型等を製造することが可能である。
電気回路素子としては、ＤＲＡＭ、ＳＲＡＭ、フラッシュメモリ、ＭＲＡＭのような、揮発性あるいは不揮発性の半導体メモリや、ＬＳＩ、ＣＣＤ、イメージセンサ、ＦＰＧＡのような半導体素子等が挙げられる。型としては、インプリント用のモールド等が挙げられる。

＜その他の実施形態＞
本発明は、以上説明した実施形態に限定されず、他の種々の実施形態を実現することができる。

［ロッドレンズの断面形状の設計］
複数の照射領域６の各々の照度分布を均一化するために、図１３Ａ及び図１３Ｂに示すインテグレータレンズ３２に代えて、ロッドレンズを用いることも可能である。ロッドレンズは例えば、図１３Ａ及び図１３Ｂに示すインテグレータレンズ３２とほぼ同じ位置に配置することが可能であり、その図は省略する。

ロッドレンズは一方向に延在する柱形状を有し、一方の端面を光入射面として、他方の端面が光出射面となる。光入射面に入射した光はロッドレンズ内で反射を繰り返し、インテグレータレンズ３２と同様に、照射領域６に照射される光の照度分布を均一にすることが可能である。

例えば、複数の照射領域６に対応して、複数の照射領域６の各々の照度分布を均一化する複数のロッドレンズを配置する。すなわち、複数の照射領域６の各々に対して、１つずつロッドレンズを配置する。
そして、ロッドレンズの光軸方向（光の出射方向）に直交する断面の形状を、照射領域６の形状と等しくなるように設計する。すなわち、複数の照射領域６に対応して配置される複数のロッドレンズとして、光軸方向に直交する断面の形状が、照射領域６と等しい形状となるロッドレンズを配置する。
これにより、照射領域６の形状を、容易に、積算光量均一構成を実現するために必要な形状とすることが可能である。

例えば、光軸方向に直交する断面の形状をひし形に設計し、ロッドレンズを配置する向きを適宜設定する。これにより、図２や図１４に示す積算光量均一構成を容易に実現することが可能となる。
また、光軸方向に直交する断面の形状を六角形に設計し、ロッドレンズを配置する向きを適宜設定する。図４や図１２に示す積算光量均一構成を容易に実現することが可能となる。
例えば、光軸方向に直交する断面の形状を三角形に設計し、ロッドレンズを配置する向きを適宜設定する。これにより、図１０Ｃに例示する積算光量均一構成を容易に実現することも可能となる。
その他、任意の形状の照射領域６に適用することが可能である。

［遮光板の光透過領域の形状の設計］
図１６Ａ及び図１６Ｂは、光照射ユニットの他の構成例を示す模式図である。
図１６Ａ及び図１６Ｂに示す光照射ユニット４３では、光Ｌの出射口に、照射領域６と等しい形状の光透過領域を有する遮光板４４が配置される。
光透過領域の全体を含むサイズの光束を出射することが可能であれば、光照射ユニット４３の内部の構成は任意に設計されてよく、従来の構成を採用することも可能である。
すなわち、本実施形態では、従来の光照射ユニットに、本技術に係る遮光板４４を配置することで、積算光量均一構成を容易に実現することが可能となる。
例えば、各レンズセグメント３９の出射面が円形であるインテグレータレンズや、円柱もしくは角柱のロッドレンズにより構成された光照射ユニットを用いることも可能である。

図１７Ａ、図１７Ｂ、図１８Ａ及び図１８Ｂは、遮光板４４の一例を示す模式図である。
図１７Ａに示す遮光板４４ａでは、正方形からなる光透過領域４５が１つ形成されている。なお、光透過領域４５としては、貫通孔が構成されてもよいし、ガラス等の光透過材料からなる窓部が構成されてもよい。
例えば、図１７Ａに示す遮光板４４ａが向きを適宜設定して光照射ユニット４３に装着される。そして、複数の照射領域６に対応して、光照射ユニット４３が配置される。これにより、例えば図１１Ａ～図１１Ｃ等に示す積算光量均一構成を容易に実現することが可能となる。

図１７Ｂに示す遮光板４４ｂでは、正六角形からなる光透過領域４５が１つ形成されている。本遮光板４４ｂが向きを適宜設定して光照射ユニット４３に装着される。そして、複数の照射領域６に対応して、光照射ユニット４３が配置される。これにより、例えば図１２等に示す積算光量均一構成を容易に実現することが可能となる。

図１８Ａ及び図１８Ｂに示す遮光板４４ｃ及び４４ｄでは、照射対象領域Ｒの幅方向（Ｙ方向）に沿って並ぶ複数の照射領域６に対応する複数の光透過領域４５が形成されている。すなわち、遮光板４４ｃ及び４４ｄは、照射領域群９各々に対応して構成されている。

図１８Ａに示す遮光板４４ｃでは、正方形からなる複数の光透過領域４５が、一方向に沿って並ぶように形成されている。
例えば、図１４に例示した、照射領域群９の各々に対応して１つずつ構成される光照射ユニット３６の出射口に、遮光板４４ｃを配置する。これにより、例えば図１４等に示す積算光量均一構成を容易に実現することが可能となる。

図１８Ｂに示す遮光板４４ｄでは、六角形からなる複数の光透過領域４５が、所定のピッチで一方向に沿って並ぶように形成されている。
例えば、図１４に例示した、照射領域群９の各々に対応して１つずつ構成される光照射ユニット３６の出射口に、遮光板４４ｄを配置する。これにより、例えば図４等に示す積算光量均一構成を容易に実現することが可能となる。

その他、複数の照射領域６に対して、１つの遮光板４４に形成される光透過領域４５の数は限定されず、任意に設計されてよい。
図１７Ａ、図１７Ｂ、図１８Ａ及び図１８Ｂに示す遮光板４４は、複数の照射領域６に対応して配置され、照射領域６と等しい形状の光透過領域を有する１以上の遮光板の一実施形態に相当する。

複数の照射領域６に対応して配置される複数の光照射ユニット２５に含まれる光学部品として、出射面４０の形状が照射領域６と等しい形状となる複数のレンズセグメント３９を含むインテグレータレンズ３２、断面の形状が照射領域６と等しい形状であるロッドレンズ、又は照射領域６と等しい形状の光透過領域４５を有する遮光板４４の少なくとも１つを搭載する。
これにより、照射領域６の形状を容易に、積算光量均一構成を実現するために必要な形状とすることが可能である。

各図面を参照して説明した光照射装置、複数の照射領域、積算光量均一構成、光照射ユニット、インテグレータレンズ、遮光板等の各構成はあくまで一実施形態であり、本技術の趣旨を逸脱しない範囲で、任意に変形可能である。すなわち本技術を実施するための他の任意の構成が採用されてよい。

本開示において、説明の理解を容易とするために、「略」「ほぼ」「おおよそ」等の文言が適宜使用されている。一方で、これら「略」「ほぼ」「おおよそ」等の文言を使用する場合と使用しない場合とで、明確な差異が規定されるわけではない。
すなわち、本開示において、「中心」「中央」「均一」「等しい」「同じ」「直交」「平行」「対称」「延在」「軸方向」「円柱形状」「円筒形状」「リング形状」「円環形状」等の、形状、サイズ、位置関係、状態等を規定する概念は、「実質的に中心」「実質的に中央」「実質的に均一」「実質的に等しい」「実質的に同じ」「実質的に直交」「実質的に平行」「実質的に対称」「実質的に延在」「実質的に軸方向」「実質的に円柱形状」「実質的に円筒形状」「実質的にリング形状」「実質的に円環形状」等を含む概念とする。
例えば「完全に中心」「完全に中央」「完全に均一」「完全に等しい」「完全に同じ」「完全に直交」「完全に平行」「完全に対称」「完全に延在」「完全に軸方向」「完全に円柱形状」「完全に円筒形状」「完全にリング形状」「完全に円環形状」等を基準とした所定の範囲（例えば±１０％の範囲）に含まれる状態も含まれる。
従って、「略」「ほぼ」「おおよそ」等の文言が付加されていない場合でも、いわゆる「略」「ほぼ」「おおよそ」等を付加して表現され得る概念が含まれ得る。反対に、「略」「ほぼ」「おおよそ」等を付加して表現された状態について、完全な状態が必ず排除されるというわけではない。

従って本開示において、「複数の照射領域の各々の照度が等しくなるように照射する」という技術事項は、複数の照射領域の各々の照度が実質的に等しくなるように照射することを含む。例えば、複数の照射領域の各々の照度が多少異なっていても、本発明者により新たに考案された積算光量均一構成を実現させることで、積算光量の均一性を向上させることが可能である。

本開示において、「Ａより大きい」「Ａより小さい」といった「より」を使った表現は、Ａと同等である場合を含む概念と、Ａと同等である場合を含なまい概念の両方を包括的に含む表現である。例えば「Ａより大きい」は、Ａと同等は含まない場合に限定されず、「Ａ以上」も含む。また「Ａより小さい」は、「Ａ未満」に限定されず、「Ａ以下」も含む。
本技術を実施する際には、上記で説明した効果が発揮されるように、「Ａより大きい」及び「Ａより小さい」に含まれる概念から、具体的な設定等を適宜採用すればよい。

以上説明した本技術に係る特徴部分のうち、少なくとも２つの特徴部分を組み合わせることも可能である。すなわち各実施形態で説明した種々の特徴部分は、各実施形態の区別なく、任意に組み合わされてもよい。また上記で記載した種々の効果は、あくまで例示であって限定されるものではなく、また他の効果が発揮されてもよい。

Ｌ…光（照射光）
Ｏ…光軸
Ｐ…幅方向に沿った各位置
Ｒ…照射対象領域
Ｗ…ワーク
１…光照射装置
６…照射領域
７…光源部
８…照射部
９、２３、２４、９８…照射領域群
１０…オーバーラップ領域
１１…第１の照射領域
１２…第２の照射領域
１４ｂ…右半分領域
１４ａ…左半分領域
１５ａ、１５ｂ…１組の対辺
１７ａ…中央領域
１７ｂ…左側領域
１７ｃ…右側領域
２５、３６、４３…光照射ユニット
２９…ランプ
３２…インテグレータレンズ
３９…レンズセグメント
４０…レンズセグメントの出射面
４４…遮光板
４５…光透過領域

Claims (16)

1. 第１の方向に沿って搬送される対象物に光を照射する光照射装置であって、
   光源部と、
   前記光源部から出射される光を、前記対象物の照射対象領域に対して、複数の照射領域に分けて、前記複数の照射領域の各々の照度が等しくなるように照射する照射部と
   を具備し、
   前記複数の照射領域は、前記照射対象領域の前記第１の方向に直交する第２の方向に沿った各位置にて、前記複数の照射領域を通過する距離の合計が等しくなるように設定され、
   前記複数の照射領域のうちの任意の照射領域を第１の照射領域とすると、
   前記第１の照射領域は、前記複数の照射領域の少なくとも１つの他の照射領域との間で、前記第１の方向における異なる位置で、前記第２の方向において互いにオーバーラップするオーバーラップ領域が発生するように設定され、
   前記第１の照射領域に対して前記オーバーラップ領域が発生する前記他の照射領域を第２の照射領域とすると、
   前記第１の照射領域の前記オーバーラップ領域である第１のオーバーラップ領域は、前記第２の方向においていずれか一方の向きに進むにつれて、前記第１の方向におけるサイズが増加するように構成され、
   前記第２の照射領域の前記オーバーラップ領域である第２のオーバーラップ領域は、前記第２の方向において同じ向きに進むにつれて、前記第１の方向におけるサイズが減少するように構成される
   光照射装置。
2. 請求項１に記載の光照射装置であって、
   前記複数の照射領域は、前記第２の方向に沿って並ぶ２以上の照射領域からなる照射領域群が、前記第１の方向に沿って多段に配置されるように設定される
   光照射装置。
3. 請求項２に記載の光照射装置であって、
   前記複数の照射領域は、前記照射領域群が２段に配置されるように設定される
   光照射装置。
4. 請求項１から３のうちいずれか１項に記載の光照射装置であって、
   前記複数の照射領域は、互いに等しい形状を有する
   光照射装置。
5. 請求項４に記載の光照射装置であって、
   前記複数の照射領域の各々の形状は、２つの対角線方向が前記第１の方向及び前記第２の方向に沿うように設定されたひし形である
   光照射装置。
6. 請求項５に記載の光照射装置であって、
   前記複数の照射領域の各々を、前記第１の方向に平行な対角線により、前記第２の方向における第１の向き側の第１の分割領域と、前記第２の方向における前記第１の向きとは反対の第２の向き側の第２の分割領域とに分割した場合、
   前記複数の照射領域の各々は、前記第１の分割領域又は前記第２の分割領域の少なくとも一方が、前記オーバーラップ領域となるように設定される
   光照射装置。
7. 請求項４に記載の光照射装置であって、
   前記複数の照射領域の各々の形状は、前記第１の方向に沿って互いに対向し、前記第２の方向に平行となる１組の対辺を含む六角形である
   光照射装置。
8. 請求項７に記載の光照射装置であって、
   前記複数の照射領域の各々を、前記１組の対辺の間の中央領域と、前記中央領域に対して前記第２の方向における第１の向き側に隣接する第１の分割領域と、前記中央領域に対して前記第２の方向における前記第１の向きとは反対の第２の向き側に隣接する第２の分割領域とに分割した場合、
   前記複数の照射領域の各々は、前記第１の分割領域又は前記第２の分割領域の少なくとも一方が、前記オーバーラップ領域となるように設定される
   光照射装置。
9. 請求項６に記載の光照射装置であって、
   前記複数の照射領域は、
   前記第１の照射領域の前記第１のオーバーラップ領域が前記第１の分割領域の場合は、前記第２の照射領域の前記第２のオーバーラップ領域は前記第２の分割領域となるように設定され、
   前記第１の照射領域の前記第１のオーバーラップ領域が前記第２の分割領域の場合は、前記第２の照射領域の前記第２のオーバーラップ領域は前記第１の分割領域となるように設定される
   光照射装置。
10. 請求項４に記載の光照射装置であって、
    前記照射部は、前記複数の照射領域に対応して配置され、前記複数の照射領域の各々の照度分布を均一化する複数のインテグレータレンズを有し、
    前記複数のインテグレータレンズの各々は、出射面の形状が前記照射領域と等しい形状となる複数のレンズを含む
    光照射装置。
11. 請求項４に記載の光照射装置であって、
    前記照射部は、前記複数の照射領域に対応して配置され、前記複数の照射領域の各々の照度分布を均一化する複数のロッドレンズを有し、
    前記複数のロッドレンズの各々は、断面の形状が前記照射領域と等しい形状である
    光照射装置。
12. 請求項４に記載の光照射装置であって、
    前記照射部は、前記複数の照射領域に対応して配置され、前記照射領域と等しい形状の光透過領域を有する１以上の遮光板を含む
    光照射装置。
13. 請求項１に記載の光照射装置であって、さらに、
    前記複数の照射領域の各々に対応して配置される複数の光照射ユニットを具備し、
    前記光源部は、前記複数の光照射ユニットに搭載される複数の光源を有し、
    前記照射部は、前記複数の光照射ユニットに搭載され、前記光源から出射された光を、対応する照射領域に照射する複数の光学部品を有する
    光照射装置。
14. 請求項１３に記載の光照射装置であって、
    前記光学部品は、出射面の形状が前記照射領域と等しい形状となる複数のレンズを含むインテグレータレンズ、断面の形状が前記照射領域と等しい形状であるロッドレンズ、又は前記照射領域と等しい形状の光透過領域を有する遮光板の少なくとも１つを含む
    光照射装置。
15. 第１の方向に沿って搬送される対象物に光を照射する光照射方法であって、
    光源部から光を出射させる工程と、
    前記光源部から出射される光を、前記対象物の照射対象領域に対して、複数の照射領域に分けて、前記複数の照射領域の各々の照度が等しくなるように照射する工程と
    を含み、
    前記複数の照射領域は、前記照射対象領域の前記第１の方向に直交する第２の方向に沿った各位置にて、前記複数の照射領域を通過する距離の合計が等しくなるように設定され、
    前記複数の照射領域のうちの任意の照射領域を第１の照射領域とすると、
    前記第１の照射領域は、前記複数の照射領域の少なくとも１つの他の照射領域との間で、前記第１の方向における異なる位置で、前記第２の方向において互いにオーバーラップするオーバーラップ領域が発生するように設定され、
    前記第１の照射領域に対して前記オーバーラップ領域が発生する前記他の照射領域を第２の照射領域とすると、
    前記第１の照射領域の前記オーバーラップ領域である第１のオーバーラップ領域は、前記第２の方向においていずれか一方の向きに進むにつれて、前記第１の方向におけるサイズが増加するように構成され、
    前記第２の照射領域の前記オーバーラップ領域である第２のオーバーラップ領域は、前記第２の方向において同じ向きに進むにつれて、前記第１の方向におけるサイズが減少するように構成される
    光照射方法。
16. 請求項１に記載の光照射装置を用いて部品に光を照射する工程を含む
    部品の製造方法。

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