JP7071611B2 - 光源モジュール - Google Patents

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Description

本発明は、光源モジュールに関する。
プロジェクタなどに光源モジュールが用いられる。光源モジュールにおいて、光強度分布の均一化が望まれる。
特開２００２－１５１７９９号公報
本発明は、光強度分布を均一化できる光源モジュールを提供する。
本発明の一態様によれば、光源モジュールは、第１光を出射する光源部と、前記第１光が入射する第１面及び前記第１光が出射する第２面を含む第１光学素子と、前記第１光学素子から出射した前記第１光が入射する第１端部を含む第２光学素子と、を含む。前記第１光は、第１方向に沿って前記第１面に入射する。前記第１光は、前記第１面における、前記第１方向と交差する第２方向に沿う第１幅と、前記第１面における、前記第１方向及び前記第２方向を含む平面と交差する第３方向に沿う第２幅と、を有する。前記第１幅は、前記第２幅よりも広い。前記第１面は、前記第１光の少なくとも一部が入射する第１領域を含む。前記第１方向及び前記第２方向を含む第１切断平面において前記第１領域は凸状である。前記第１方向及び前記第３方向を含む第２切断平面において前記第１領域は凹状である。前記第１切断平面及び前記第２切断平面において前記第２面は凸状である。
本発明の一態様によれば、光強度分布を均一化できる光源モジュールが提供される。
第１実施形態に係る光源モジュールを例示する模式図である。 第１実施形態に係る光源モジュールを例示する模式図である。 実施形態に係る光源モジュールを例示する模式的斜視図である。 実施形態に係る光源モジュールを例示する模式的斜視図である。 実施形態に係る光源モジュールを用いたプロジェクタを例示する模式図である。 第１実施形態に係る光源モジュールの一部を例示する模式的斜視図である。 第１実施形態に係る光源モジュールの一部を例示する模式的斜視図である。 第１実施形態に係る光源モジュールの一部を例示する模式的斜視図である。 第２実施形態に係る光源モジュールを例示する模式図である。 第２実施形態に係る光源モジュールを例示する模式図である。 第２実施形態に係る光源モジュールの一部を例示する模式的斜視図である。 実施形態に係る光源モジュールの一部を例示する模式的斜視図である。 実施形態に係る光源モジュールの一部を例示する模式的斜視図である。
以下に、本発明の各実施の形態について図面を参照しつつ説明する。
なお、図面は模式的または概念的なものであり、各部分の厚さと幅との関係、部分間の大きさの比率などは、必ずしも現実のものと同一とは限らない。また、同じ部分を表す場合であっても、図面により互いの寸法や比率が異なって表される場合もある。
なお、本願明細書において、既出の図に関して前述したものと同様の要素には同一の符号を付して詳細な説明は適宜省略する。
（第１実施形態）
図１及び図２は、第１実施形態に係る光源モジュールを例示する模式図である。
図１は、斜視図である。図２は、図１に例示する複数の切断平面に対応する断面図である。
図１に示すように、実施形態に係る光源モジュール１１０は、光源部３０、第１光学素子１０及び第２光学素子２０を含む。
光源部３０は、第１光Ｌ１を出射する。この例では、光源部３０から第１～第６光Ｌ１～Ｌ６が出射される。これらの光は、光源部３０から出射される光の例である。
第１光学素子１０は、第１面１０ａ及び第２面１０ｂを含む。第１面１０ａに、上記の光（例えば、第１～第６光Ｌ１～Ｌ６など）が入射する。第２面１０ｂからこれらの光（例えば、第１～第６光Ｌ１～Ｌ６など）が出射する。
第２光学素子２０は、第１端部２０ａ及び第２端部２０ｂを含む。第１端部２０ａに、第１光学素子１０から出射した上記の光ＬＬ（例えば、第１～第６光Ｌ１～Ｌ６など）が入射する。第２端部２０ｂから、第１端部２０ａに入射した上記の光ＬＬ（例えば、第１～第６光Ｌ１～Ｌ６など）が出射する。第２光学素子２０は、例えば、ロッドレンズである。
上記の光（例えば、第１～第６光Ｌ１～Ｌ６）は、第１方向Ｄ１に沿って、第１面１０ａに入射する。以下では、第１光Ｌ１について説明し、第２～第６光Ｌ２～Ｌ６については後述する。
第１光Ｌ１は、第１面１０ａにおける第１幅ｗ１、及び、第１面１０ａにおける第２幅ｗ２を有する。第１幅ｗ１は、第１光Ｌ１の、第２方向Ｄ２に沿う幅である。第２方向Ｄ２は、第１方向Ｄ１と交差する。第２幅ｗ２は、第１光Ｌ１の、第３方向Ｄ３に沿う幅である。第３方向Ｄ３は、第１方向Ｄ１及び第２方向Ｄ２を含む平面と交差する。第１幅ｗ１は、第２幅ｗ２よりも広い。例えば、第１幅ｗ１は、第１光Ｌ１の第１面１０ａにおける最大の幅である。例えば、第２幅ｗ２は、第１光Ｌ１の第１面１０ａにおける最小の幅である。
このように、第１光Ｌ１の断面形状は、異方性を有する。第１光Ｌ１は、例えば、レーザ光である。例えば、第１光Ｌ１は、ファーフィールドパターンで、第１面１０ａに入射する。第２方向Ｄ２は、例えば、ファーフィールドパターンの長軸方向である。第３方向Ｄ３は、例えば、ファーフィールドパターンの短軸方向である。
１つの例において、第２方向Ｄ２と第１方向Ｄ１との間の角度は、例えば８５度以上９５度以下である。１つの例において、第３方向Ｄ３と、第１方向Ｄ１及び第２方向Ｄ２を含む平面と、の間の角度は、例えば８５度以上９５度以下である。第２方向Ｄ２と第３方向Ｄ３との間の角度は、例えば、８５度以上９５度以下である。
第１光学素子１０の第１面１０ａは、第１領域Ｒ１を含む。第１領域Ｒ１に、第１光Ｌ１の少なくとも一部が入射する。
図１及び図２に示すように、第１方向Ｄ１及び第２方向Ｄ２を含む第１切断平面ＰＬ１において、第１領域Ｒ１は凸状である。図１及び図２に示すように、第１方向Ｄ１及び第３方向Ｄ３を含む第２切断平面ＰＬ２において、第１領域Ｒ１は凹状である。第１領域Ｒ１は、例えば、形状異方性を有する。
一方、図２に示すように、第１切断平面ＰＬ１及び第２切断平面ＰＬ２において、第２面１０ｂは、凸状である。１つの例において、第２面１０ｂは、軸（第１方向Ｄ１）について、対称である。第２面１０ｂは、例えば、軸対称の非球面である。
実施形態においては、上記のような形状異方性を有する第１領域Ｒ１に、上記のような第１光Ｌ１が入射する。
第１領域Ｒ１において、例えば、第１光Ｌ１の第２方向Ｄ２の広がりを小さくできる。例えば、第１領域Ｒ１は、第１光Ｌ１を第２方向Ｄ２において、実質的にコリメートする。そして、第１光学素子１０の第２面１０ｂにより、第１光Ｌ１は、第２方向Ｄ２において、集光される。例えば、第１領域Ｒ１は、第２方向Ｄ２においてコリメートレンズとして機能する。第２面１０ｂは、集光レンズとして機能する。第１光学素子１０の第２面１０ｂを出射したこのような第１光Ｌ１が、第２光学素子２０の第１端部２０ａに入る。これにより、第１端部２０ａ（第２光学素子２０の開口）のサイズを小さくできる。例えば、第２光学素子２０（例えばロッドレンズ）が短い場合においても、第２光学素子２０の第２端部２０ｂから出射する光の第２方向Ｄ２の成分において、高い均一性が得られる。
一方、第１領域Ｒ１に入射した第１光Ｌ１は、例えば、第３方向Ｄ３においてはコリメートされない。第３方向Ｄ３においては、第１光Ｌ１は、広がり角が適度に制御された状態で、第２光学素子２０の第１端部２０ａに入射できる。例えば、過剰な反射が抑制された状態で、第１光Ｌ１は、第２光学素子２０内を伝搬し、第２端部２０ｂから出射する。反射によるロスが抑制できる。例えば、第１端部２０ａ（第２光学素子２０の開口）のサイズを小さくできる。例えば、第２光学素子２０（例えばロッドレンズ）が短い場合においても、第２光学素子２０の第２端部２０ｂから出射する光の第３方向Ｄ３の成分において、高い均一性が得られる。
既に説明したように、実施形態において、第２光Ｌ２及び第３光Ｌ３が出射されても良い。第２光Ｌ２及び第３光Ｌ３は、第１方向Ｄ１に沿って第１面１０ａに入射する。
第２光Ｌ２は、第１面１０ａにおける、第２方向Ｄ２に沿う第３幅ｗ３と、第１面１０ａにおける、第３方向Ｄ３に沿う第４幅ｗ４と、を有する。第３幅ｗ３は、第４幅ｗ４よりも広い。
第３光Ｌ３は、第１面１０ａにおける、第２方向Ｄ２に沿う第５幅ｗ５と、第１面１０ａにおける、第３方向Ｄ３に沿う第６幅ｗ６と、を有する。第５幅ｗ５は、第６幅ｗ６よりも広い。
第２光Ｌ２及び第３光Ｌ３は、例えば、レーザ光である。第２光Ｌ２及び第３光Ｌ３は、ファーフィールドパターンで、第１光学素子１０の第１面１０ａに入射する。
第１光学素子１０の第１面１０ａは、第２領域Ｒ２及び第３領域Ｒ３を含む。第２領域Ｒ２に、第２光Ｌ２の少なくとも一部が入射する。第３領域Ｒ３に、第３光Ｌ３の少なくとも一部が入射する。第２領域Ｒ２から第１領域Ｒ１への方向は、第３方向Ｄ３に沿う。第１領域Ｒ１は、第３方向Ｄ３において、第２領域Ｒ２と第３領域Ｒ３との間に設けられる。
例えば、第２領域Ｒ２及び第３領域Ｒ３は、第１面１０ａの第３方向Ｄ３における端部に設けられる。例えば、第１領域Ｒ１は、第１面１０ａの第３方向Ｄ３における中央部に設けられる。
図１及び図２に示すように、第１方向Ｄ１及び第２方向Ｄ２を含む第３切断平面ＰＬ３において、第２領域Ｒ２は凸状である。図１及び図２に示すように、第３切断平面ＰＬ３における第２領域Ｒ２の曲率半径は、第２切断平面ＰＬ２における第２領域Ｒ２の曲率半径よりも小さい。例えば、第２切断平面ＰＬ２において、第２領域Ｒ２の少なくとも一部は直線でも良い。この場合、第２切断平面ＰＬ２における第２領域Ｒ２の曲率は、実質的に０であり、第２切断平面ＰＬ２における第２領域Ｒ２の曲率半径は、著しく長い（例えば、無限大）。
図１及び図２に示すように、第１方向Ｄ１及び第２方向Ｄ２を含む第４切断平面ＰＬ４において、第３領域Ｒ３は凸状である。図１及び図２に示すように、第４切断平面ＰＬ４における第３領域Ｒ３の曲率半径は、第２切断平面ＰＬ２における第３領域Ｒ３の曲率半径よりも小さい。例えば、第２切断平面ＰＬ２において、第３領域Ｒ３の少なくとも一部は直線でも良い。この場合、第２切断平面ＰＬ２における第３領域Ｒ３の曲率は、実質的に０であり、第２切断平面ＰＬ２における第３領域Ｒ３の曲率半径は、著しく長い（例えば、無限大）。
このように、実施形態において、複数の光が入射する第１面１０ａにおいて、複数の光が入射する領域の形状を互いに変えても良い。例えば、第２領域Ｒ２に入射し第２面１０ｂから出射する第２光Ｌ２の第３方向Ｄ３における広がり角を、第１領域Ｒ１に入射し第２面１０ｂから出射する第１光Ｌ１の第３方向Ｄ３の広がり角に近づけることができる。例えば、第２方向Ｄ２において、第３領域Ｒ３に入射し第２面１０ｂから出射する第３光Ｌ３の第３方向Ｄ３の広がり角を、第１領域Ｒ１に入射し第２面１０ｂから出射する第１光Ｌ１の第３方向Ｄ３の広がり角に近づけることができる。このような光が第２光学素子２０の第１端部２０ａに入射する。これにより、複数の光（第１～第３光Ｌ１～Ｌ３など）の間において、第２光学素子２０内を伝搬する際の反射回数の差を小さくできる。例えば、第１光Ｌ１に含まれる複数の光の成分の間で、第２光学素子２０内を伝搬する際の反射回数が互いに異なる。例えば、第２光Ｌ２に含まれる複数の光の成分の間で、第２光学素子２０内を伝搬する際の反射回数が互いに異なる。例えば、第１光Ｌ１に含まれる複数の光の成分の間での反射回数の差と、第２光Ｌ２に含まれる複数の光の成分の間での反射回数の差と、の差を小さくできる。例えば、反射回数の差を実質的に同じにできる。過剰な反射が抑制されて、反射に伴うロスを抑制できる。
例えば、第１光学素子１０の第１面１０ａの曲率が第３方向Ｄ３において同じである第１参考例がある。例えば、第１参考例においては、第２切断平面ＰＬ２において、第１～第３領域Ｒ１～Ｒ３は、直線である。この場合、第１光学素子１０の中心部分（断面が直線状の第１領域Ｒ１）に入射し、第２面１０ｂから出射する光の第３方向Ｄ３の広がり角は、例えば、３．６度である。一方、第１光学素子１０の端部分（断面が直線状の第２領域Ｒ２及び第３領域Ｒ３など）に入射し、第２面１０ｂから出射する光の第３方向Ｄ３の広がり角は、例えば、１１．６度である。このように、第１参考例においては、第１光学素子１０に入射する光の位置によって、第１光学素子１０から出射する光の広がり角が異なる。
これに対して、実施形態においては、第１光学素子１０の中心部分（断面が凹状の第１領域Ｒ１）に入射し、第２面１０ｂから出射する光の第３方向Ｄ３広がり角は、例えば、１２．７度である。一方、第１光学素子１０の端部分（断面が直線状の第２領域Ｒ２及び第３領域Ｒ３など）に入射し、第２面１０ｂから出射する光の第３方向Ｄ３の広がり角は、例えば、１１．６度である。このように、実施形態においては、第１光学素子１０に入射する光の位置が異なっても、第１光学素子１０から出射する光の第３方向Ｄ３の広がり角の差を小さくできる。
一方、第２領域Ｒ２及び第３領域Ｒ３にそれぞれ入射する第２光Ｌ２及び第３光Ｌ３は、例えば、第２方向Ｄ２においてコリメートされる。第１端部２０ａのサイズを小さくできる。例えば、第２光学素子２０（例えばロッドレンズ）が短い場合においても、第２光学素子２０の第２端部２０ｂから出射する光の第２方向Ｄ２の成分において、高い均一性が得られる。
図１に示すように、第２光学素子２０の第１端部２０ａから第２端部２０ｂへの方向に沿う長さを長さｗ２１とする。長さｗ２１は、第２光学素子２０の軸方向に沿う長さに対応する。長さｗ２１は、第２光学素子２０の、第１端部２０ａから第２端部２０ｂへの上記の方向と交差する１つの方向に沿う長さよりも長い。長さｗ２１は、例えば、第２光学素子２０の第１方向Ｄ１に沿う長さである。第２光学素子２０の、第１端部２０ａから第２端部２０ｂへの上記の方向と交差する１つの方向に沿う長さは、例えば、長さｗ２２または長さｗ２３である。長さｗ２２は、例えば、第２方向Ｄ２に沿う第２光学素子２０の長さである。長さｗ２３は、例えば、第３方向Ｄ３に沿う第２光学素子２０の長さである。
１つの例において、長さｗ２１は、例えば、８ｍｍ以上１００ｍｍ以下である。長さｗ２１は、例えば、２５ｍｍ以上３５ｍｍ以下（約３０ｍｍ）でも良い。１つの例において、長さｗ２２は、例えば、０．５ｍｍ以上４ｍｍ以下である。長さｗ２２は、例えば、１ｍｍ以上２ｍｍ以下（約１．２８ｍｍ）でも良い。１つの例において、長さｗ２３は、例えば、０．５ｍｍ以上５ｍｍ以下である。長さｗ２３は、例えば、１．５ｍｍ以上３ｍｍ以下（約２．２ｍｍ）でも良い。
図１及び図２に示すように、第１領域Ｒ１と第２領域Ｒ２との間に、別の領域（例えば、第７領域Ｒ７）が設けられても良い。第１領域Ｒ１と第３領域Ｒ３との間に、別の領域（例えば、第８領域Ｒ８）が設けられても良い。図１に示すように、第１方向Ｄ１及び第２方向Ｄ２を含む切断平面において、別の領域（例えば第７領域Ｒ７）は凸状である。図２に示すように、第２切断平面ＰＬ２において第７領域Ｒ７は凹状である。図１に示すように、第１方向Ｄ１及び第２方向Ｄ２を含む切断平面において、第８領域Ｒ８は凸状である。図２に示すように、第２切断平面ＰＬ２において第８領域Ｒ８は凹状である。第７領域Ｒ７に、第７光Ｌ７が入射する(図２参照）。第８領域Ｒ８に第８光Ｌ８が入射する(図２参照）。
このように、光源部３０は、第１光Ｌ１とは異なる別の光をさらに出射する。例えば、この別の光は、第１光Ｌ１とは異なる。この別の光は、例えば、第７光Ｌ７である。この第７光Ｌ７は、後述する図６に例示する、第７領域Ｒ７に入射する第２色光Ｌｇである。この別の光のピーク波長は、第１光Ｌ１のピーク波長と同じでも良い。この別の光は、第１方向Ｄ１に沿って第１面１０ａに入射する。この別の光は、第１面１０ａにおける、第２方向Ｄ２に沿う幅と、第１面１０ａにおける、第３方向Ｄ３に沿う幅と、を有する。第２方向Ｄ２に沿う上記の幅は、第３方向Ｄ３に沿う上記の幅よりも広い。第１面１０ａは、上記の別の光の少なくとも一部が入射する別の領域（例えば、第７領域Ｒ７）を含む。上記の別の領域（第７領域Ｒ７）から第１領域Ｒ１への方向は、第３方向Ｄ３に沿う。第１方向Ｄ１及び第２方向Ｄ２を含む別の切断平面において、上記の別の領域（第７領域Ｒ７）は凸状である。第２切断平面ＰＬ２において、上記の別の領域（第７領域Ｒ７）は凹状である。
第２領域Ｒ２、第７領域Ｒ７、第１領域Ｒ１、第８領域Ｒ８及び第３領域Ｒ３は、第３方向Ｄ３に沿って並ぶ。
既に説明したように、光源部３０から、第４～第６光Ｌ４～Ｌ６がさらに出射されても良い。第４～第６光Ｌ４～Ｌ６は、第１方向Ｄ１に沿って、第１光学素子１０の第１面１０ａに入射する。
第４光Ｌ４は、第１面１０ａにおける、第２方向Ｄ２に沿う第７幅ｗ７と、第１面１０ａにおける、第３方向Ｄ３に沿う第８幅ｗ８と、を有する。第７幅ｗ７は、第８幅ｗ８よりも広い。
第５光Ｌ５は、第１面１０ａにおける、第２方向Ｄ２に沿う第９幅ｗ９と、第１面１０ａにおける、第３方向Ｄ３に沿う第１０幅ｗ１０と、を有する。第９幅ｗ９は、第１０幅ｗ１０よりも広い。
第６光Ｌ６は、第１面１０ａにおける、第２方向Ｄ２に沿う第１１幅ｗ１１と、第１面１０ａにおける、第３方向Ｄ３に沿う第１２幅ｗ１２と、を有する。第１１幅ｗ１１は、第１２幅ｗ１２よりも広い。
第４～第６光Ｌ４～Ｌ６は、例えば、レーザ光である。第４～第６光Ｌ４～Ｌ６は、ファーフィールドパターンで、第１光学素子１０の第１面１０ａに入射する。
第１面１０ａは、第４～第６領域Ｒ４～Ｒ６を含む。第４領域Ｒ４に、第４光Ｌ４の少なくとも一部が入射する。第５領域Ｒ５に、第５光Ｌ５の少なくとも一部が入射する。第６領域Ｒ６に、第６光Ｌ６の少なくとも一部が入射する。
第４領域Ｒ４から第１領域Ｒ１への方向は、第１方向Ｄ１及び第３方向Ｄ３を含む平面と交差する。１つの例において、第４領域Ｒ４から第１領域Ｒ１への方向は、第２方向Ｄ２に沿う。例えば、第４領域Ｒ４から第１領域Ｒ１への方向と、第２方向Ｄ２と、の間の角度の絶対値は、１０度以下でも良い。この角度の絶対値は、３０度以下でも良い。第４領域Ｒ４から第１領域Ｒ１への方向は、第２方向Ｄ２に対して傾斜しても良い。
例えば、第５領域Ｒ５から第４領域Ｒ４への方向は、第３方向に沿う。例えば、第４領域Ｒ４は、第３方向Ｄ３において、第５領域Ｒ５と第６領域Ｒ６との間に設けられる。
図２に示すように、第１方向Ｄ１及び第２方向Ｄ２を含む第５切断平面ＰＬ５において第４領域Ｒ４は凸状である。図２に示すように、第１方向Ｄ１及び第３方向Ｄ３を含む第６切断平面ＰＬ６において第４領域Ｒ４は凹状である。
図２に示すように、第１方向Ｄ１及び第２方向Ｄ２を含む第７切断平面ＰＬ７において、第５領域Ｒ５は凸状である。第７切断平面ＰＬ７における第５領域Ｒ５の曲率半径は、第６切断平面ＰＬ６おける第５領域Ｒ５の曲率半径よりも小さい。この例では、例えば、第６切断平面ＰＬ６において第５領域Ｒ５の少なくとも一部は直線である。
図２に示すように、第１方向Ｄ１及び第２方向Ｄ２を含む第８切断平面ＰＬ８において、第６領域Ｒ６は凸状である。第８切断平面ＰＬ８における第６領域Ｒ６の曲率半径は、第６切断平面ＰＬ６における第６領域Ｒ６の曲率半径よりも小さい。この例では、例えば、第６切断平面ＰＬ６において第６領域Ｒ６の少なくとも一部は直線である。
このように、この例では、第１面１０ａに、第４～第６領域Ｒ４～Ｒ６の組が設けられる。第４～第６領域Ｒ４～Ｒ６の組から第１～第３領域Ｒ１～Ｒ３の組への方向は、第２方向Ｄ２に沿う。例えば、第４～第６領域Ｒ４～Ｒ６の組と、第１～第３領域Ｒ１～Ｒ３の組と、の間の中点を通り第１方向Ｄ１に沿う直線は、第２面１０ｂの光軸と実質的に一致する。
第４～第６領域Ｒ４～Ｒ６の組において、例えば、第５領域Ｒ５に入射し第２面１０ｂから出射する第５光Ｌ５の第３方向Ｄ３の広がり角を、第４領域Ｒ４に入射し第２面１０ｂから出射する第４光Ｌ４の第３方向Ｄ３の広がり角に近づけることができる。例えば、第２方向Ｄ２において、第６領域Ｒ６に入射し第２面１０ｂから出射する第６光Ｌ６の第３方向Ｄ３の広がり角を、第４領域Ｒ４に入射し第２面１０ｂから出射する第４光Ｌ４の第３方向Ｄ３の広がり角に近づけることができる。このような光が第２光学素子２０の第１端部２０ａに入射する。これにより、複数の光（第４～第６光Ｌ４～Ｌ６など）の間において、第２光学素子２０内を伝搬する際の反射回数の差を小さくできる。反射回数の差を実質的に同じにできる。過剰な反射が抑制されて、反射に伴うロスを抑制できる。
一方、第４～第６領域Ｒ４～Ｒ６のそれぞれにそれぞれ入射する光（例えば、第４～第６光Ｌ４～Ｌ６）は、例えば、第２方向Ｄ２においてコリメートされる。第１端部２０ａのサイズを小さくできる。例えば、第２光学素子２０（例えばロッドレンズ）が短い場合においても、第２光学素子２０の第２端部２０ｂから出射する光の第２方向Ｄ２の成分において、高い均一性が得られる。
図１及び図２に示すように、第４領域Ｒ４と第５領域Ｒ５との間に、別の領域（例えば、第９領域Ｒ９）が設けられても良い。第４領域Ｒ４と第６領域Ｒ６との間に、別の領域（例えば、第１０領域Ｒ１０）が設けられても良い。図１に示すように、第１方向Ｄ１及び第２方向Ｄ２を含む切断平面において、第９領域Ｒ９は凸状である。図２に示すように、第６切断平面ＰＬ６において第９領域Ｒ９は凹状である。図１に示すように、第１方向Ｄ１及び第２方向Ｄ２を含む切断平面において、第１０領域Ｒ１０は凸状である。図２に示すように、第６切断平面ＰＬ６において第１０領域Ｒ１０は凹状である。９領域Ｒ９に、第９光Ｌ９が入射する（第２参照）。第１０領域Ｒ１０に第１０光Ｌ１０が入射する（図２参照）。
第５領域Ｒ５、第９領域Ｒ９、第４領域Ｒ４、第１０領域Ｒ１０及び第６領域Ｒ６は、第３方向Ｄ３に沿って並ぶ。
例えば、第２方向Ｄ２は、上記の複数の光（第１～第１０光Ｌ１～Ｌ１０）の１つにおいて、幅が最大となる方向である。第３方向Ｄ３は、上記の複数の光の上記の１つにおいて、幅が最小となる方向である。
以下、実施形態に係る光源モジュール１１０及びそれを用いたプロジェクタの例について説明する。
図３及び図４は、実施形態に係る光源モジュールを例示する模式的斜視図である。
図５は、実施形態に係る光源モジュールを用いたプロジェクタを例示する模式図である。
図３及び図５に示すように、光源モジュール１１０において、光源部３０と第１光学素子１０が組み合わされる。第１光学素子１０から出射した光が、第２光学素子２０の第１端部２０ａに入射する。
図５に示すように、第２光学素子２０から出射した光は、例えば、光変調装置５１に入射する。光変調装置５１は、光変調装置５１に入射する光の強度を変調して、その光を出射させる。光変調装置５１は、例えば、ＤＭＤ（Digital Micromirror Device）などを含む。光変調装置５１に、データプロセッサ５２（例えば、コンピュータ）から、画像信号が供給される。光変調装置５１において、画像信号に応じた変調が行われる。光変調装置５１で変調された光が、投射レンズ５５を通過して、例えば投射スクリーンに向けて進む。投射スクリーンに、所望の像が形成される。
この例では、第２光学素子２０と、光変調装置５１と、の光路において、光学素子群（光学素子４１、４２、４５及び４６など）が設けられる。これらの光学素子は、例えば、レンズである。
光学素子（例えば、光学素子４１、４２、４５及び４６など）は、光源モジュール１１０に含まれても良い。
以下、複数の光の色の例について説明する。
図６は、第１実施形態に係る光源モジュールの一部を例示する模式的斜視図である。
図６に示すように、この例では、第１色光Ｌｂ、第２色光Ｌｇ及び第３色光Ｌｒが、第１光学素子１０の第１面１０ａに入射する。これらの光は、光源部３０から出射される。
この例では、第１領域Ｒ１に第１色光Ｌｂが入射する。第２領域Ｒ２に、２つの第２色光Ｌｇと、１つの第１色光Ｌｂが入射する。第２領域Ｒ２において、第３方向において、上記の２つの第２色光Ｌｇの間に、上記の１つの第１色光Ｌｂが位置する。この例では、第７領域Ｒ７及び第８領域Ｒ８に、第２色光Ｌｇがそれぞれ入射する。第３領域Ｒ３に、２つの第２色光Ｌｇと、１つの第１色光Ｌｂが入射する。第３領域Ｒ３において、第３方向において、上記の２つの第２色光Ｌｇの間に、上記の１つの第１色光Ｌｂが位置する。
図６に示すように、この例では、第４～第６領域Ｒ４～Ｒ６、第９領域Ｒ９及び第１０領域Ｒ１０に、第３色光Ｌｒが入射する。
第１色光Ｌｂの第１ピーク波長は、第２色光Ｌｇの第２ピーク波長とは異なる。第３色光Ｌｒの第３ピーク波長は、第１ピーク波長とは異なり、第２ピーク波長とは異なる。１つの例において、第２ピーク波長は、第１ピーク波長と第３ピーク波長との間である。
１つの例において、第２ピーク波長は、第１ピーク波長よりも長く、第３ピーク波長は、第２ピーク波長よりも長い。第１色光Ｌｂは、例えば、青光であり、第２色光Ｌｇは、緑光であり、第３色光Ｌｒは、赤光である。
第１ピーク波長は、例えば、４４０ｎｍ以上４９０ｎｍ未満である。第２ピーク波長は、例えば、５００ｎｍ以上５５０ｎｍ未満である。第３ピーク波長は、例えば、６００ｎｍ以上６５０ｎｍ以下である。
上記の例において、第１～第３領域Ｒ１～Ｒ３に着目する。この例では、第１領域Ｒ１に入射する第１光Ｌ１は、第１色光Ｌｂである。この例では、第２領域Ｒ２に入射する複数の第２光Ｌ２の１つは、第２色光Ｌｇである。第３領域Ｒ３に入射する複数の第３光Ｌ３の１つは、第２色光Ｌｇである。
この場合、第２光Ｌ２（第２色光Ｌｇ）のピーク波長は、第１光Ｌ１（第１色光Ｌｂ）のピーク波長と異なる。第３光Ｌ３（第２色光Ｌｇ）のピーク波長は、第１光Ｌ１（第１色光Ｌｂ）のピーク波長と異なる。第３光Ｌ３（第２色光Ｌｇ）のピーク波長と、第２光Ｌ２のピーク波長との差は、第２光Ｌ２のピーク波長と、第１光Ｌ１のピーク波長と、の差よりも小さい。例えば、第３光Ｌ３（例えば、第２色光Ｌｇ）のピーク波長は、第２光Ｌ２（例えば、第２色光Ｌｇ）のピーク波長と実質的に同じである。
この例では、第４領域Ｒ４に入射する第４光Ｌ４は、第３色光Ｌｒである。第４領域Ｒ４に入射する第４光Ｌ４のピーク波長は、第１領域Ｒ１に入射する第１光Ｌ１のピーク波長と異なっても良い。この例では、第４～第６領域Ｒ４～Ｒ６にそれぞれ入射する第４～第６光Ｌ４～Ｌ６は、第３色光Ｌｒである。例えば、第５領域Ｒ５に入射する第５光Ｌ５のピーク波長は、第２領域Ｒ２に入射する第２光Ｌ２のピーク波長と異なっても良い。例えば、第６領域Ｒ６に入射する第６光Ｌ６のピーク波長は、第３領域Ｒ３に入射する第３光Ｌ３のピーク波長と異なっても良い。
例えば、第４光Ｌ４のピーク波長、第５光Ｌ５のピーク波長、及び、第６光Ｌ６のピーク波長は、互いに、実質的に同じでも良い。
図７は、第１実施形態に係る光源モジュールの一部を例示する模式的斜視図である。
図７に示すように、光源部３０の近くに第１光学素子１０が設けられても良い。例えば、光源部３０と第１光学素子１０との間の距離（例えば、光源部３０と第１光学素子１０との間の最短の距離）は、第１光学素子１０の第３方向Ｄ３に沿う長さよりも短くても良い。例えば、光源部３０と第１光学素子１０との間の上記の距離は、第１光学素子１０の第２方向Ｄ２に沿う長さよりも短くても良い。例えば、光源部３０と第１光学素子１０との間の上記の距離は、第１光学素子１０の第１方向Ｄ１に沿う長さよりも短くても良い。例えば、光源モジュール１１０のサイズを小さくできる。
図８は、第１実施形態に係る光源モジュールの一部を例示する模式的斜視図である。
図８に示すように、実施形態に係る光源モジュール１１１においても、第１色光Ｌｂ、第２色光Ｌｇ及び第３色光Ｌｒが、第１光学素子１０の第１面１０ａに入射する。これらの光は、光源部３０から出射される。図８では、光源部３０及び第２光学素子２０は省略されている。
光源モジュール１１１においては、第１～第３領域Ｒ１～Ｒ３、第７領域Ｒ７及び第８領域Ｒ８に、第３色光Ｌｒが入射する。
第４領域Ｒ４に第１色光Ｌｂが入射する。第５領域Ｒ５に、２つの第２色光Ｌｇと、１つの第１色光Ｌｂが入射する。第５領域Ｒ５において、第３方向において、上記の２つの第２色光Ｌｇの間に、上記の１つの第１色光Ｌｂが位置する。この例では、第９領域Ｒ９及び第１０領域Ｒ１０に、第２色光Ｌｇがそれぞれ入射する。第６領域Ｒ６に、２つの第２色光Ｌｇと、１つの第１色光Ｌｂが入射する。第６領域Ｒ６において、第３方向において、上記の２つの第２色光Ｌｇの間に、上記の１つの第１色光Ｌｂが位置する。
この例では、第２光Ｌ２（第３色光Ｌｒ）のピーク波長、及び、第３光Ｌ３（第３色光Ｌｒ）のピーク波長のそれぞれは、第１光Ｌ１（第３色光Ｌｒ）のピーク波長と実質的に同じである。
（第２実施形態）
図９及び図１０は、第２実施形態に係る光源モジュールを例示する模式図である。
図９は、斜視図である。図１０は、図９に例示する複数の切断平面に対応する断面図である。
図９に示すように、実施形態に係る光源モジュール１２０は、光源部３０、第１光学素子１０及び第２光学素子２０を含む。
光源部３０は、例えば、第１～第３光Ｌ１～Ｌ６を出射する。これらの光は、光源部３０から出射される光の例である。
第１光学素子１０は、第１面１０ａ及び第２面１０ｂを含む。第１面１０ａに、上記の光（例えば、第１～第３光Ｌ１～Ｌ３など）が入射する。第２面１０ｂからこれらの光（例えば、第１～第３光Ｌ１～Ｌ３など）が出射する。
第２光学素子２０は、第１端部２０ａ及び第２端部２０ｂを含む。第１端部２０ａに、第１光学素子１０から出射した上記の光ＬＬ（例えば、第１～第３光Ｌ１～Ｌ３など）が入射する。第２端部２０ｂから、第１端部２０ａに入射した上記の光ＬＬ（例えば、第１～第３光Ｌ１～Ｌ３など）が出射する。第２光学素子２０は、例えば、ロッドレンズである。
上記の光（例えば、第１～第３光Ｌ１～Ｌ３）は、第１方向Ｄ１に沿って、第１面１０ａに入射する。以下では、第１光Ｌ１について説明し、第２光Ｌ２及び第３光Ｌ３については後述する。
第１光Ｌ１は、第１面１０ａにおける、第１方向Ｄ１と交差する第２方向Ｄ２に沿う第１幅ｗ１を有する。第１光Ｌ１は、第１面１０ａにおける、第１方向Ｄ１及び第２方向Ｄ２を含む平面と交差する第３方向Ｄ３に沿う第２幅ｗ２を有する。第１幅ｗ１は、第２幅ｗ２よりも広い。第１光Ｌ１は、例えば、レーザ光である。例えば、第１光Ｌ１は、ファーフィールドパターンで、第１面１０ａに入射する。第２方向Ｄ２は、例えば、ファーフィールドパターンの長軸方向である。第３方向Ｄ３は、例えば、ファーフィールドパターンの短軸方向である。
第１面１０ａは、第１光Ｌ１の少なくとも一部が入射する第１領域Ｒ１を含む。第１方向Ｄ１及び第２方向Ｄ２を含む第１切断平面ＰＬ１、及び、第１方向Ｄ１及び第３方向Ｄ３を含む第２切断平面ＰＬ２において、第１領域Ｒ１の少なくとも一部は凸状である。一方、第１切断平面ＰＬ１、及び、第２切断平面ＰＬ２において、第２面１０ｂは凸状である。
図１０に示すように、実施形態においては、第１切断平面ＰＬ１における第１領域Ｒ１の上記の少なくとも一部の曲率半径は、第２切断平面ＰＬ２における第１領域Ｒ１の上記の少なくとも一部の曲率半径よりも大きい。
第１領域Ｒ１において、例えば、第１光Ｌ１の第２方向Ｄ２の広がりを小さくできる。例えば、第１領域Ｒ１は、第１光Ｌ１を第２方向Ｄ２において、実質的にコリメートする。そして、第１光学素子１０の第２面１０ｂにより、第１光Ｌ１は、第２方向Ｄ２において、集光される。第１光学素子１０の第２面１０ｂを出射したこのような第１光Ｌ１が、第２光学素子２０の第１端部２０ａに入る。これにより、第１端部２０ａ（第２光学素子２０の開口）のサイズを小さくできる。例えば、第２光学素子２０（例えばロッドレンズ）が短い場合においても、第２光学素子２０の第２端部２０ｂから出射する光において、第２方向Ｄ２において、高い均一性が得られる。
一方、第１領域Ｒ１に入射した第１光Ｌ１は、例えば、第３方向Ｄ３においてはコリメートされない。第３方向Ｄ３においては、第１光Ｌ１は、広がり角が適度に制御された状態で、第２光学素子２０の第１端部２０ａに入射できる。これにより、過剰な反射が抑制された状態で、第１光Ｌ１は、第２光学素子２０内を伝搬し、第２端部２０ｂから出射する。反射によるロスが抑制できる。例えば、第１端部２０ａ（第２光学素子２０の開口）のサイズを小さくできる。例えば、第２光学素子２０（例えばロッドレンズ）が短い場合においても、第２光学素子２０の第２端部２０ｂから出射する光において、第３方向Ｄ３において、高い均一性が得られる。
既に説明したように、実施形態において、第２光Ｌ２及び第３光Ｌ３が出射されても良い。第２光Ｌ２及び第３光Ｌ３は、第１方向Ｄ１に沿って第１面１０ａに入射する。
第２光Ｌ２は、第１面１０ａにおける、第２方向Ｄ２に沿う第３幅ｗ３と、第１面１０ａにおける、第３方向Ｄ３に沿う第４幅ｗ４と、を有する。第３幅ｗ３は、第４幅ｗ４よりも広い。
第３光Ｌ３は、第１面１０ａにおける、第２方向Ｄ２に沿う第５幅ｗ５と、第１面１０ａにおける、第３方向Ｄ３に沿う第６幅ｗ６と、を有する。第５幅ｗ５は、第６幅ｗ６よりも広い。
第２光Ｌ２及び第３光Ｌ３は、例えば、レーザ光である。第２光Ｌ２及び第３光Ｌ３は、ファーフィールドパターンで、第１光学素子１０の第１面１０ａに入射する。
第１光学素子１０の第１面１０ａは、第２領域Ｒ２及び第３領域Ｒ３を含む。第２領域Ｒ２に、第２光Ｌ２の少なくとも一部が入射する。第３領域Ｒ３に、第３光Ｌ３の少なくとも一部が入射する。第２領域Ｒ２から第１領域Ｒ１への方向は、第３方向Ｄ３に沿う。第１領域Ｒ１は、第３方向Ｄ３において第２領域Ｒ２と第３領域Ｒ３との間に設けられる。
図９及び図１０に示すように、第１方向Ｄ１及び第２方向Ｄ２を含む第３切断平面ＰＬ３、及び、第２切断平面ＰＬ２において、第２領域Ｒ２の少なくとも一部は凸状である。第３切断平面ＰＬ３における第２領域Ｒ２の上記の少なくとも一部の曲率半径は、第２切断平面ＰＬ２における第２領域Ｒ２の上記の少なくとも一部の曲率半径よりも大きい。
図９及び図１０に示すように、第１方向Ｄ１及び第２方向Ｄ２を含む第４切断平面ＰＬ４、及び、第２切断平面ＰＬ２において、第３領域Ｒ３の少なくとも一部は凸状である。第４切断平面ＰＬ４における第３領域Ｒ３の上記の少なくとも一部の曲率半径は、第２切断平面ＰＬ２における第３領域Ｒ３の上記の少なくとも一部の曲率半径よりも大きい。
実施形態において、第２光Ｌ２及び第３光Ｌ３においても、第２方向Ｄ２の広がりを小さくできる。第２光Ｌ２及び第３光Ｌ３は、第３方向Ｄ３においては、コリメートされない。第１光学素子１０の第２面１０ｂにより、第２光Ｌ２及び第３光Ｌ３は、第３方向Ｄ３において、集光される。
光源モジュール１２０において、第２光Ｌ２のピーク波長は、第１光Ｌ１のピーク波長とは異なる。第３光Ｌ３のピーク波長は、第１光Ｌ１のピーク波長とは異なり、第２光Ｌ２のピーク波長とも異なる。例えば、第１光Ｌ１は、例えば、第１色光Ｌｂである。第２光Ｌ２は、例えば、第２色光Ｌｇである。第３光Ｌ３は、例えば、第３色光Ｌｒである。
光源モジュール１２０は、例えば、図５に例示したプロジェクタ２１０に応用できる。
図１１は、第２実施形態に係る光源モジュールの一部を例示する模式的斜視図である。 図１１に示すように、光源部３０に近接して第１光学素子１０が設けられても良い。例えば、光源部３０と第１光学素子１０との間の距離（例えば、光源部３０と第１光学素子１０との間の最短の距離）は、第１光学素子１０の第３方向Ｄ３に沿う長さよりも短くても良い。例えば、光源部３０と第１光学素子１０との間の上記の距離は、第１光学素子１０の第２方向Ｄ２に沿う長さよりも短くても良い。例えば、光源部３０と第１光学素子１０との間の上記の距離は、第１光学素子１０の第１方向Ｄ１に沿う長さよりも短くても良い。例えば、光源モジュール１２０のサイズを小さくできる。
以下、光源部３０の例について説明する。
図１２及び図１３は、実施形態に係る光源モジュールの一部を例示する模式的斜視図である。
図１２は、斜視図である。図１３は、図１２のXIII-XIII線断面図である。図１２及び図１３に例示する光源部３０は、例えば、光源モジュール１１０または１１１などに使用できる。
図１２に示すように、基体３０ｓ（例えば基板）において、第１光源３１、第２光源３２、第３光源３３、第１反射面３５ａ及び第２反射面３５ｂが設けられる。この例では、複数の第１光源３１、複数の第２光源３２及び複数の第３光源３３が設けられる。この例では、複数の第２光源３２は、１つの方向に並ぶ。この１つの方向は、例えば、第３方向Ｄ３（図１参照）に対応する。この例では、複数の第１光源３１及び複数の第３光源３３は、この１つの方向に沿って、並ぶ。
第１光源３１は、第１色光Ｌｂを出射する。第２光源３２は、第３色光Ｌｒを出射する。第３光源３３は、第２色光Ｌｇを出射する。図６に関して説明したように、１つの方向（例えば第３方向Ｄ３）に沿って、「Ｌｇ、Ｌｂ、Ｌｇ、Ｌｇ、Ｌｂ、Ｌｇ、Ｌｇ、Ｌｂ、Ｌｇ」の順で並んでも良い。この場合、複数の第１光源３１及び複数の第３光源３３は、「３３、３１、３３、３３、３１、３３、３３、３１、３３」の順で並ぶ。
第１反射面３５ａは、第１光源３１（複数の第１光源３１の１つ）と、第２光源３２（複数の第２光源３２の１つ）と、の間に設けられる。第１反射面３５ａに、第１光源３１から出射した光（この例では、第１色光Ｌｂ）が入射する。第１光源３１から出射した光は、例えば、第１光Ｌ１に対応する。この例では、第１反射面３５ａに、第３光源３３から出射した光（この例では、第２色光Ｌｇ）が入射する。第２色光Ｌｇは、第２光Ｌ１に対応する。
第２反射面３５ｂは、第１反射面３５ａと、第２光源３２（複数の第２光源３２の１つ）と、の間に設けられる。第２反射面３５ｂに、第２光源３２から出射した光（この例では、第３色光Ｌｒ）が入射する。第２光源３２から出射した光は、例えば、第４光Ｌ４に対応する。
図１２に例示するように、第１光源３１と第２光源３２との間、及び、第３光源３３と第２光源３２との間に、凸部３５が設けられる。凸部３５の２つの斜面の１つが、第１反射面３５ａに対応する。凸部３５の２つの斜面の別の１つが、第２反射面３５ｂに対応する。
図１３に示すように、例えば、第１光源３１から、第１反射面３５ａに向かって、第１色光Ｌｂが出射する。第１色光Ｌｂは、第１反射面３５ａで反射して、基体３０ｓの主面に対して実質的に垂直に進行する。例えば、第２光源３２から、第２反射面３５ｂに向かって、第３色光Ｌｒが出射する。第３色光Ｌｒは、第２反射面３５ｂで反射して、基体３０ｓの主面に対して実質的に垂直に進行する。同様に、例えば、第３光源３３から、第１反射面３５ａに向かって、第２色光Ｌｇが出射する（図１３では図示しない）。第２色光Ｌｇは、第１反射面３５ａで反射して、基体３０ｓの主面に対して実質的に垂直に進行する（図１２参照）。これらの光の光軸は、互いに実質的に平行である。このような光が、第１光学素子１０（図１参照）に入射する。
第１～第３光源３１～３３は、例えば、レーザである。第１反射面３５ａ及び第２反射面３５ｂは、例えば、金属膜または誘電体多層膜の反射面である。第１色光Ｌｂの第１反射面３５ａにおける入射角は、例えば、４０度以上５０度以下である。第２色光Ｌｇの第１反射面３５ａにおける入射角は、例えば、４０度以上５０度以下である。第３色光Ｌｒの第２反射面３５ｂにおける入射角は、例えば、４０度以上５０度以下である。
例えば、図９などに例示した光源モジュール１２０において、光源部３０は、図１２及び図１３に例示した第１反射面３５ａが設けられ、第２反射面３５ｂは省略される。そして、複数の光源（例えば、複数の第１光源３１及び複数の第３光源３３など）の１つから第１光Ｌ１が出射する。複数の光源の別の１つから第２光Ｌ２が出射する。複数の光源の別の１つから第３光Ｌ３が出射する。
第１実施形態及び第２実施形態において、第１光学素子１０及び第２光学素子２０には、例えば、ガラスまたはプラスチックなどが用いられる。第２光学素子２０における光の反射は、例えば、屈折率差に基づく全反射に基づいても良い。第２光学素子２０における光の反射は、例えば、鏡面反射に基づいても良い。
上記の第１及び第２実施形態において、光源部３０は、１つまたは複数の光を出射する。複数の光の出射方向は、互いに同じ（例えば第１方向Ｄ１）である。第１実施形態の１つの例においては、異なる波長の複数の光（例えば、青、緑及び赤）のそれぞれに、複数の光源が設けられても良い。この光源は、例えばレーザである。これらの複数の光源から出射する複数の光のファーフィールドパターンの長軸方向（例えば遅軸方向）は、互いに、実質的に平行である。第１実施形態の１つの例において、第１領域Ｒ１に入射する光のピーク波長は、第４領域Ｒ４に入射する光のピーク波長とは異なる。第１領域Ｒ１と第４領域Ｒ４とは、第１光学素子１０の中心軸に対して実質的に対称の位置に設けられる。
第２実施形態の１つの例においても、複数の光源（例えばレーザ）から出射する複数の光のファーフィールドパターンの長軸方向（例えば遅軸方向）は、互いに、実質的に平行である。複数の光は、ファーフィールドパターンの短軸方向（例えば速軸方向）に沿って並ぶ。
第１光学素子１０の入射面（第１面１０ａ）は、複数の光のそれぞれに対応する複数の領域を含む。第１光学素子１０の出射面（第２面１０ｂ）は、集光機能を有するレンズを含む。１つの例において、第１面１０ａに設けられる少なくとも１つのレンズの速軸は、コリメート機能を有する凸レンズ形状を有する。上記の少なくとも１つのレンズの遅軸は、コリメート機能以外の、凹レンズ形状、直線形状、及び凸レンズ形状の少なくともいずれかの形状を有する。
第２光学素子２０（例えばロッドレンズ）の入射端部（第１端部２０ａ）は、第１光学素子１０の出射面（第２面１０ｂ）の焦点位置の近傍に設けられる。
実施形態によれば、光強度分布を均一化できる光源モジュールを提供できる。
なお、本願明細書において、「垂直」及び「平行」は、厳密な垂直及び厳密な平行だけではなく、例えば製造工程におけるばらつきなどを含むものであり、実質的に垂直及び実質的に平行であれば良い。
以上、具体例を参照しつつ、本発明の実施の形態について説明した。しかし、本発明は、これらの具体例に限定されるものではない。例えば、光源モジュールに含まれる光源部、光源、反射面、第１光学素子及び第２光学素子などのそれぞれの具体的な構成に関しては、当業者が公知の範囲から適宜選択することにより本発明を同様に実施し、同様の効果を得ることができる限り、本発明の範囲に包含される。
また、各具体例のいずれか２つ以上の要素を技術的に可能な範囲で組み合わせたものも、本発明の要旨を包含する限り本発明の範囲に含まれる。
その他、本発明の実施の形態として上述した光源モジュールを基にして、当業者が適宜設計変更して実施し得る全ての光源モジュールも、本発明の要旨を包含する限り、本発明の範囲に属する。
その他、本発明の思想の範疇において、当業者であれば、各種の変更例及び修正例に想到し得るものであり、それら変更例及び修正例についても本発明の範囲に属するものと解される。
１０…第１光学素子、 １０ａ、１０ｂ…第１、第２面、 ２０…第２光学素子、 ２０ａ、２０ｂ…第１、第２端部、 ３０…光源部、 ３０ｓ…基体、 ３１～３３…第１～第３光源、 ３５…凸部、 ３５ａ、３５ｂ…第１、第２反射面、 ４１、４２、４５、４６…光学素子、 ５１…光変調装置、 ５２…データプロセッサ、 ５５…投射レンズ、 １１０、１１１、１２０…光源モジュール、 Ｄ１～Ｄ３…第１～第３方向、 Ｌ１～Ｌ１０…第１～第１０光、 ＬＬ…光、 Ｌｂ…第１色光、 Ｌｇ…第２色光、 Ｌｒ…第３色光、 ＰＬ１～ＰＬ８…第１～第８切断平面、 Ｒ１～Ｒ１０…第１～第１０領域、 ｗ１～ｗ１２…第１～第１２幅、 ｗ２１、ｗ２２、Ｗ２３…長さ

Claims (16)

  1. 第１光を出射する光源部と、
    前記第１光が入射する第１面及び前記第１光が出射する第２面を含む第１光学素子と、
    前記第１光学素子から出射した前記第１光が入射する第１端部を含む第２光学素子と、
    を備え、
    前記第１光は、第１方向に沿って前記第１面に入射し、
    前記第１光は、前記第１面における、前記第１方向と交差する第２方向に沿う第１幅と、前記第１面における、前記第１方向及び前記第２方向を含む平面と交差する第３方向に沿う第２幅と、を有し、前記第１幅は、前記第２幅よりも広く、
    前記第１面は、前記第１光の少なくとも一部が入射する第１領域を含み、
    前記第１方向及び前記第２方向を含む第１切断平面において前記第１領域は凸状であり、
    前記第１方向及び前記第３方向を含む第２切断平面において前記第１領域は凹状である、
    前記第１切断平面及び前記第２切断平面において前記第２面は凸状である、光源モジュール。
  2. 前記光源部は、別の光をさらに出射し、
    前記別の光は前記第１方向に沿って前記第１面に入射し、
    前記別の光は、前記第１面における、前記第２方向に沿う幅と、前記第１面における、前記第３方向に沿う第４幅と、を有し、前記第２方向に沿う前記幅は、前記第３方向に沿う前記幅よりも広く、
    前記第１面は、前記別の光の少なくとも一部が入射する別の領域を含み、
    前記別の領域から前記第１領域への方向は、前記第３方向に沿い、
    前記第１方向及び前記第２方向を含む別の切断平面において前記別の領域は凸状であり、
    前記第２切断平面において前記別の領域は凹状である、請求項１記載の光源モジュール。
  3. 前記光源部は、第２光をさらに出射し、
    前記第２光は前記第１方向に沿って前記第１面に入射し、
    前記第２光は、前記第１面における、前記第２方向に沿う第３幅と、前記第１面における、前記第３方向に沿う第４幅と、を有し、前記第３幅は、前記第４幅よりも広く、
    前記第１面は、前記第２光の少なくとも一部が入射する第２領域を含み、
    前記第２領域から前記第１領域への方向は、前記第３方向に沿い、
    前記第１方向及び前記第２方向を含む第３切断平面において前記第２領域は凸状であり、
    前記第３切断平面における前記第２領域の曲率半径は、前記第２切断平面における前記第２領域の曲率半径よりも小さい、請求項１記載の光源モジュール。
  4. 前記第２切断平面において前記第２領域の少なくとも一部は直線である、請求項３記載の光源モジュール。
  5. 前記光源部は、第３光をさらに出射し、
    前記第３光は前記第１方向に沿って前記第１面に入射し、
    前記第３光は、前記第１面における、前記第２方向に沿う第５幅と、前記第１面における、前記第３方向に沿う第６幅と、を有し、前記第５幅は、前記第６幅よりも広く、
    前記第１面は、前記第３光の少なくとも一部が入射する第３領域を含み、
    前記第１領域は、前記第３方向において前記第２領域と前記第３領域との間に設けられ、
    前記第１方向及び前記第２方向を含む第４切断平面において前記第３領域は凸状であり、
    前記第４切断平面における前記第３領域の曲率半径は、前記第２切断平面における前記第３領域の曲率半径よりも小さい、請求項３または４に記載の光源モジュール。
  6. 前記第２光のピーク波長は、前記第１光のピーク波長と異なり、
    前記第３光のピーク波長と前記第２光の前記ピーク波長との差は、前記第２光の前記ピーク波長と前記第１光の前記ピーク波長との差よりも小さい、請求項５記載の光源モジュール。
  7. 前記第２光のピーク波長、及び、前記第３光のピーク波長のそれぞれは、前記第１光のピーク波長と実質的に同じである、請求項５記載の光源モジュール。
  8. 前記光源部は、第４光をさらに出射し、
    前記第４光は、第１方向に沿って前記第１面に入射し、
    前記第４光は、前記第１面における、前記第２方向に沿う第７幅と、前記第１面における、前記第３方向に沿う第８幅と、を有し、前記第７幅は、前記第８幅よりも広く、
    前記第１面は、前記第４光の少なくとも一部が入射する第４領域を含み、
    前記第４領域から前記第１領域への方向は、前記第１方向及び前記第３方向を含む平面と交差し、
    前記第１方向及び前記第２方向を含む第５切断平面において前記第４領域は凸状であり、
    前記第１方向及び前記第３方向を含む第６切断平面において前記第４領域は凹状である、請求項１～７のいずれか１つに記載の光源モジュール。
  9. 前記第４領域から前記第１領域への前記方向と、前記第２方向と、の間の角度の絶対値は、３０度以下である、請求項８記載の光源モジュール。
  10. 前記光源部は、第５光をさらに出射し、
    前記第５光は前記第１方向に沿って前記第１面に入射し、
    前記第５光は、前記第１面における、前記第２方向に沿う第９幅と、前記第１面における、前記第３方向に沿う第１０幅と、を有し、前記第９幅は、前記第１０幅よりも広く、
    前記第１面は、前記第５光の少なくとも一部が入射する第５領域を含み、
    前記第５領域から前記第４領域への方向は、前記第３方向に沿い、
    前記第１方向及び前記第２方向を含む第７切断平面において前記第５領域は凸状であり、
    前記第７切断平面における前記第５領域の曲率半径は、前記第６切断平面おける前記第５領域の曲率半径よりも小さい、請求項８または９に記載の光源モジュール。
  11. 前記光源部は、第６光をさらに出射し、
    前記第６光は前記第１方向に沿って前記第１面に入射し、
    前記第６光は、前記第１面における、前記第２方向に沿う第１１幅と、前記第１面における、前記第３方向に沿う第１２幅と、を有し、前記第１１幅は、前記第１２幅よりも広く、
    前記第１面は、前記第６光の少なくとも一部が入射する第６領域を含み、
    前記第４領域は、前記第３方向において前記第５領域と前記第６領域との間に設けられ、
    前記第１方向及び前記第２方向を含む第８切断平面において前記第６領域は凸状であり、
    前記第８切断平面における前記第６領域の曲率半径は、前記第６切断平面における前記第６領域の曲率半径よりも小さい、請求項１０記載の光源モジュール。
  12. 第１光を出射する光源部と、
    前記第１光が入射する第１面及び前記第１光が出射する第２面を含む第１光学素子と、
    前記第２面から出射した前記第１光が入射する第１端部を含む第２光学素子と、
    を備え、
    前記第１光は、第１方向に沿って前記第１面に入射し、
    前記第１光は、前記第１面における、前記第１方向と交差する第２方向に沿う第１幅と、前記第１面における、前記第１方向及び前記第２方向を含む平面と交差する第３方向に沿う第２幅と、を有し、前記第１幅は、前記第２幅よりも広く、
    前記第１面は、前記第１光の少なくとも一部が入射する第１領域を含み、
    前記第１方向及び前記第２方向を含む第１切断平面、及び、前記第１方向及び前記第３方向を含む第２切断平面において前記第１領域の少なくとも一部は凸状であり、
    前記第１切断平面、及び、前記第２切断平面において前記第２面は凸状であり、
    前記第１切断平面における前記第１領域の前記少なくとも一部の曲率半径は、前記第２切断平面における前記第１領域の前記少なくとも一部の曲率半径よりも大きい、光源モジュール。
  13. 前記光源部は、第２光をさらに出射し、
    前記第２光の第２ピーク波長は、前記第１光の第１ピーク波長とは異なり、
    前記第２光は、前記第１面に入射し、前記第２面から出射し、
    前記第２面から出射した前記第２光は前記第１端部に入射し、
    前記第２光は、前記第１方向に沿って前記第１面に入射し、
    前記第２光は、前記第１面における、前記第２方向に沿う第３幅と、前記第１面における、前記第３方向に沿う第４幅と、を有し、前記第１幅は、前記第２幅よりも広く、
    前記第１面は、前記第２光の少なくとも一部が入射する第２領域をさらに含み、
    前記第２領域から前記第１領域への方向は、前記第３方向に沿い、
    前記第１方向及び前記第２方向を含む第３切断平面、及び、前記第２切断平面において前記第２領域の少なくとも一部は凸状であり、
    前記第３切断平面における前記第２領域の前記少なくとも一部の曲率半径は、前記第２切断平面における前記第２領域の前記少なくとも一部の曲率半径よりも大きい、請求項１２記載の光源モジュール。
  14. 前記第２光学素子は、第２端部をさらに含み、
    前記第１端部に入射した前記第１光は、前記第２端部から出射し、
    前記第２光学素子の前記第１端部から前記第２端部への方向に沿う長さは、前記第２光学素子の、前記第１端部から前記第２端部への前記方向と交差する方向に沿う長さよりも長い、請求項１～１３のいずれか１つに記載の光源モジュール。
  15. 前記光源部は、
    第１光源と、
    第２光源と、
    前記第１光源と前記第２光源との間に設けられ前記第１光源から出射した光が入射する第１反射面と、
    前記第１反射面と前記第２光源との間に設けられ前記第２光源から出射した光が入射する第２反射面と、
    を含む、請求項１～１４のいずれか１つに記載の光源モジュール。
  16. 前記第１光及び第２光は、レーザ光である、請求項１～１５のいずれか１つに記載の光源モジュール。
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