JP2024000355A - アンモニアガス遠隔計測装置および方法 - Google Patents
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Abstract
Description
特許文献1に記載の物質遠隔特定装置では、物質ごとに共鳴ラマン散乱光が発生するレーザー光の励起波長が異なるため、特定しようとする対象物質に合わせて、波長変換装置でレーザー装置から射出されたレーザー光の波長を変換することで、アンモニアなどの対象物質に起因する共鳴ラマン散乱光を受光し、対象物質を検出することが開示されている。
また、波長可変レーザーや波長切替機構を有する構成では、高価となり、また装置が大型化してしまうという問題、さらに堅牢性が低いという問題がある。
上記アンモニアガス遠隔計測装置において、前記レーザー装置は、開放系空間である前記被照射空間に前記レーザー光を照射し、前記処理装置は、開放系空間の前記照射空間から入射する前記アンモニアガスに起因する共鳴ラマン散乱光を検出する構成とすることができる。
上記アンモニアガス遠隔計測装置において、前記処理装置は、前記光検出装置からの信号に基づいて、前記被照射空間に存在するアンモニアガスの空間分布を計測する構成とすることができる。
上記アンモニアガス遠隔計測装置において、前記レーザー装置は、特定波長のレーザー光を射出する発振器と、前記特定波長をアンモニアガスが共鳴する高調波に変換する高調波発生器と、を備える構成とすることができる。
上記アンモニアガス遠隔計測装置において、前記発振器は、単一の励起波長のレーザー光を被照射空間に射出するマイクロチップレーザーであり、前記高調波発生器は、単一の高調波発生器である構成とすることができる。
上記アンモニアガス遠隔計測装置において、前記発振器は、パルス幅が3ns以下のレーザー光を被照射空間に射出するマイクロチップレーザーである構成とすることができる。
上記アンモニアガス遠隔計測装置において、前記光検出装置は、前記被照射空間からアンモニアガスに起因するラマン散乱光も受光しており、前記処理装置は、前記被照射空間に存在するアンモニアガスの濃度が所定値未満の場合には、アンモニアガスに起因する共鳴ラマン散乱光に基づいてアンモニアガスの濃度を測定し、前記所定値以上の場合には、アンモニアガスに起因するラマン散乱光に基づいてアンモニアガスの濃度を測定する構成とすることができる。
上記アンモニアガス遠隔計測装置において、前記レーザー装置は、前記被照射空間に200~218nmの波長域のレーザー光を射出する構成とすることができる。
上記アンモニアガス遠隔計測装置において、前記処理装置は、前記光検出装置からの信号に基づいて、10m以上離れた場所に存在する5ppm以下のアンモニアガスを検出することができる構成とすることができる。
本発明に係るアンモニアガス遠隔計測方法は、被照射空間に存在するアンモニアガスを測定するアンモニアガス遠隔計測方法であって、レーザー装置から、アンモニアガスに共鳴ラマン散乱光を発生させるレーザー光を前記被照射空間に射出する工程と、光検出装置により、前記被照射空間からアンモニアガスに起因する共鳴ラマン散乱光を受光することで、アンモニアガスを検出する工程と、前記光検出装置からの信号に基づいて、前記被照射空間に存在する100ppm以下のアンモニアガスを検出する工程と、を有する。
このようなレーザー装置10の中でも、入手容易性や検知感度の高さなどから、特に、Nd:YAGレーザーまたはNd:GVOレーザーが好適である。
次に、本実施形態に係るアンモニアガス遠隔計測装置1の実施例について説明する。本実施例では、大気下の開放系空間において、アンモニアガス遠隔計測装置1から15メートル離れた距離にガスセルを設置し、当該ガスセルからNH3標準ガス(N2バランス)を、大気下の計測箇所での濃度が10ppmとなるように噴出させた。なお、ガスセルの上方には噴出したアンモニアガスを排気するための排気装置が設定されている。そして、本実施形態に係るアンモニアガス遠隔計測装置1のレーザー装置10から213nm、パルスエネルギー0.6mJのレーザー光を、ガスセルの噴出口付近の計測箇所(被照射空間)に照射した。また、レーザー光を照射するとともに、光検出装置40により、被照射空間から入射されたアンモニアに起因する共鳴ラマン散乱光および大気成分に起因するラマン散乱光を受光し、その中から、アンモニアに起因する共鳴ラマン散乱光の受光信号を検出し、受光信号の信号強度を計測した。なお、アンモニアガス遠隔計測装置1は、アンモニアに起因する共鳴ラマン散乱光を検出するために、分光光学系30のスリット幅を50μmとし、213.5nm以上の波長の光を通過させるエッジフィルタを用い、グレーティングを1200ライン/mm、光検出装置40でのゲート幅を4ns、20回の計測結果を積算して結果を算出した。
また、アンモニアに起因する共鳴ラマン散乱光の受光信号の信号強度とアンモニア濃度との間に相関関係があるかを検証した。具体的には、ガスセルから噴出させるアンモニアガスのアンモニア濃度を変えるとともに、それぞれのアンモニア濃度において、アンモニアに起因する共鳴ラマン散乱光の受光信号の信号強度を測定し、検量線を作成した。図8は、アンモニアに起因する受光信号の強度とアンモニア濃度との関係を示す検量線のグラフである。図8に示すように、アンモニアに起因する共鳴ラマン散乱光の受光信号の信号強度とアンモニア濃度との間に相関関係があり、本実施形態に係るアンモニアガス遠隔計測装置1により、アンモニアに起因する共鳴ラマン散乱光の受光強度を検出することで、アンモニアガスの濃度を測定することが可能であることがわかった。本実施例のアンモニアガス遠隔計測装置1によれば、5ppm以下(好ましくは1ppm以下)のアンモニアガスの位置を10m以上の遠隔地から特定することが可能である。また、アンモニアに起因する共鳴ラマン散乱光の信号強度が大きいため、本実施例から、S/N比を2とした場合に、アンモニアガスの検出限界は0.1ppm以下であると考えられる。
10…レーザー装置
11…発振器
12…高調波発生器
20…望遠鏡
30…分光光学系
40…光検出装置
51,52…全反射ミラー
上記アンモニアガス遠隔計測装置において、前記レーザー装置は、開放系空間である前記被照射空間に前記レーザー光を照射し、前記処理装置は、開放系空間の前記照射空間から入射する前記アンモニアガスに起因する共鳴ラマン散乱光を検出する構成とすることができる。
上記アンモニアガス遠隔計測装置において、前記レーザー装置は、特定波長のレーザー光を射出する発振器と、前記特定波長をアンモニアガスが共鳴する高調波に変換する高調波発生器と、を備える構成とすることができる。
上記アンモニアガス遠隔計測装置において、前記発振器は、単一の励起波長のレーザー光を被照射空間に射出するマイクロチップレーザーであり、前記高調波発生器は、単一の高調波発生器である構成とすることができる。
上記アンモニアガス遠隔計測装置において、前記発振器は、パルス幅が3ns以下のレーザー光を被照射空間に射出するマイクロチップレーザーである構成とすることができる。
上記アンモニアガス遠隔計測装置において、前記光検出装置は、前記被照射空間からアンモニアガスに起因するラマン散乱光も受光しており、前記処理装置は、前記被照射空間に存在するアンモニアガスの濃度が所定値未満の場合には、アンモニアガスに起因する共鳴ラマン散乱光に基づいてアンモニアガスの濃度を測定し、前記所定値以上の場合には、アンモニアガスに起因するラマン散乱光に基づいてアンモニアガスの濃度を測定する構成とすることができる。
上記アンモニアガス遠隔計測装置において、前記レーザー装置は、前記被照射空間に200~218nmの波長域のレーザー光を射出する構成とすることができる。
本発明に係るアンモニアガス遠隔計測方法は、被照射空間に存在するアンモニアガスを測定するアンモニアガス遠隔計測方法であって、レーザー装置から、アンモニアガスに共鳴ラマン散乱光を発生させるレーザー光を前記被照射空間に射出する工程と、光検出装置により、前記被照射空間からアンモニアガスに起因する2000cm -1 以下のラマンシフトにおける共鳴ラマン散乱光を受光することで、アンモニアガスを検出する工程と、前記光検出装置からの信号に基づいて、前記被照射空間に存在する100ppm以下のアンモニアガスを検出する工程と、を有する。
Claims (10)
- 被照射空間に存在するアンモニアガスを測定するアンモニアガス遠隔計測装置であって、
アンモニアガスに共鳴ラマン散乱光を発生させるレーザー光を前記被照射空間に射出するレーザー装置と、
前記被照射空間からアンモニアガスに起因する共鳴ラマン散乱光を受光する光検出装置と、
前記レーザー装置および前記光検出装置の動作を制御し、前記光検出装置からの信号に基づいて、前記被照射空間に存在する100ppm以下のアンモニアガスを検出する処理装置とを有する、アンモニアガス遠隔計測装置。 - 前記レーザー装置は、開放系空間である前記被照射空間に前記レーザー光を照射し、
前記処理装置は、開放系空間の前記被照射空間から入射する前記アンモニアガスに起因する共鳴ラマン散乱光を検出する、請求項1に記載のアンモニアガス遠隔計測装置。 - 前記処理装置は、前記光検出装置からの信号に基づいて、前記被照射空間に存在するアンモニアガスの空間分布を計測する、請求項1に記載のアンモニアガス遠隔計測装置。
- 前記レーザー装置は、特定波長のレーザー光を射出する発振器と、前記特定波長をアンモニアガスが共鳴する高調波に変換する高調波発生器と、を備える、請求項1に記載のアンモニアガス遠隔計測装置。
- 前記発振器は、単一の励起波長のレーザー光を被照射空間に射出するマイクロチップレーザーであり、
前記高調波発生器は、単一の高調波発生器である、請求項4に記載のアンモニアガス遠隔計測装置。 - 前記発振器は、パルス幅が3ns以下のレーザー光を被照射空間に射出するマイクロチップレーザーである、請求項4に記載のアンモニアガス遠隔計測装置。
- 前記光検出装置は、前記被照射空間からアンモニアガスに起因するラマン散乱光も受光しており、
前記処理装置は、前記被照射空間に存在するアンモニアガスの濃度が所定値未満の場合には、アンモニアガスに起因する共鳴ラマン散乱光に基づいてアンモニアガスの濃度を測定し、前記所定値以上の場合には、アンモニアガスに起因するラマン散乱光に基づいてアンモニアガスの濃度を測定する、請求項1に記載のアンモニアガス遠隔計測装置。 - 前記レーザー装置は、前記被照射空間に200~218nmの波長域のレーザー光を射出する、請求項1ないし7のいずれかに記載のアンモニアガス遠隔計測装置。
- 前記処理装置は、前記光検出装置からの信号に基づいて、10m以上離れた場所に存在する5ppm以下のアンモニアガスを検出することができる、請求項1ないし7のいずれかに記載のアンモニアガス遠隔計測装置。
- 被照射空間に存在するアンモニアガスを測定するアンモニアガス遠隔計測方法であって、
レーザー装置から、アンモニアガスに共鳴ラマン散乱光を発生させるレーザー光を前記被照射空間に射出する工程と、
光検出装置により、前記被照射空間からアンモニアガスに起因する共鳴ラマン散乱光を受光することで、アンモニアガスを検出する工程と、
前記光検出装置からの信号に基づいて、前記被照射空間に存在する100ppm以下のアンモニアガスを検出する工程と、を有するアンモニアガス遠隔計測方法。
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