JP2023536809A - 基板処理装置用ブロックバルブ及び基板処理装置 - Google Patents

Abstract

本発明は、収縮と膨張をする開閉部を有するバルブ部と、前記開閉部を駆動する駆動部、前記開閉部が収容される収容部を含むブロック本体を含み、前記ブロック本体は、前記収容部に連結したガス流入口、および前記収容部に連結したガス流出口とを含み、前記開閉部は、前記収容部内で前記ガス流入口または前記ガス流出口を開閉する、基板処理装置用ブロックバルブおよび基板処理装置に関するものである。

Description

本発明は、基板に対する蒸着工程、エッチング工程などの処理工程を行う基板処理装置に関するものである。

一般に、太陽電池（Solar Cell）、半導体素子、フラットパネルディスプレイなどを製造するためには、基板上に所定の薄膜層、薄膜回路パターン、または光学パターンを形成しなければならない。このため、基板に特定物質の薄膜を蒸着する蒸着工程、感光性物質を用いて薄膜を選択的に露出させるフォト工程、選択的に露出した部分の薄膜を除去してパターンを形成するエッチング工程などの基板に対する処理工程が行われる。このような基板に対する処理工程は、基板処理装置によって行われる。

図１は、従来技術による基板処理装置の概略構成図である。

図１を参照すると、従来技術による基板処理装置１００は、基板処理部１１０、ガス供給部１２０、ガスブロック１３０、及びバルブ部１４０を含む。

前記基板処理部１１０は、前記ガス供給部１２０が供給したガスを用いて基板に対する処理工程を行う。

前記ガス供給部１２０は、前記処理工程に使用されるガスを供給する。前記ガス供給部１２０は、前記ガスブロック１３０と前記バルブ部１４０を介して前記基板処理部１１０に連結する。

前記ガスブロック１３０は、前記ガス供給部１２０、前記バルブ部１４０、及び前記基板処理部１１０のそれぞれに連結する。前記ガスブロック１３０は、供給流路１３１を介して、前記ガス供給部１２０と前記バルブ部１４０に連結する。前記供給流路１３１は、入口側が配管を介して前記ガス供給部１２０に連結し、出口側が配管を介して前記バルブ部１４０に連結する。前記ガスブロック１３０は、排出流路１３２を介して、前記バルブ部１４０と前記基板処理部１１０に連結する。前記排出流路１３２は、入口側が配管を介して前記バルブ部１４０に連結し、出口側が配管を介して前記基板処理部１１０に連結する。

前記バルブ部１４０は、配管を介して前記ガスブロック１３０に連結する。前記バルブ部１４０は、前記供給流路１３１と前記排出流路１３２のそれぞれに連結した開閉流路１４１、前記開閉流路１４１が形成されたバルブ本体１４２、および前記開閉流路１４１を開閉するための開閉機構１４３を含む。

前記開閉機構１４３が前記開閉流路１４１を開放すると、前記ガス供給部１２０が供給したガスは、前記ガスブロック１３０の供給流路１３１、前記バルブ部１４０の開閉流路１４１、および前記ガスブロック１３０の排出流路１３２を経て、前記基板処理部１１０に供給される。前記開閉機構１４３が前記開閉流路１４１を閉鎖すると、前記ガス供給部１２０が供給したガスは、前記ガスブロック１３０の供給流路１３１を経て前記バルブ部１４０の開閉流路１４１に供給された後、前記開閉機構１４３によって遮断されることにより、前記ガスブロック１３０の排出流路１３２に供給されない。前記開閉機構１４３が予め設定された工程情報に従って前記開閉流路１４１を開閉することにより、前記基板処理部１１０では、前記工程情報に従って前記基板に対する処理工程が行われる。

このように、前記開閉流路１４１は、ガスの選択的な供給のために設けられるものであり、前記供給流路１３１と前記排出流路１３２は、前記ガス供給部１２０と前記基板処理部１１０のそれぞれに対する連結のために設けられるものである。これにより、従来技術による基板処理装置１００は、ガスの選択的な供給が実質的に前記開閉流路１４１と前記開閉機構１４３によって行われるので、前記供給流路１３１と前記排出流路１３２などに不要なデッドスペース（Dead Space）が発生するようになる。したがって、従来技術による基板処理装置１００は、デッドスペースによってガスの流動性が低下するため、基板に対する処理工程に悪影響を及ぼす問題がある。また、前記ガス供給部１２０と前記基板処理部１１０間を連結するための流路の長さが長くなるほど、前記供給流路１３１と前記排出流路１３２などでパーティクルが発生し得る。また、前記供給流路１３１と前記排出流路１３２等の長さがより長くなり、ガスの流動性低下と基板に対する処理工程に及ぼす悪影響及び前記基板処理部１１０が有するチャンバ上部の空間を多く占める問題がさらに深刻になる。

本発明は、前述したような問題点を解決すらために案出されたものであり、ガスの選択的な供給を具現するにおいて、デッドスペースを減らすことができるブロックバルブ及び基板処理装置を提供するためのものである。

前記の課題を解決するために、本発明は、以下の構成を含むことができる。

本発明に係る基板処理装置用ブロックバルブは、収縮と膨張を行う開閉部を有するバルブ部、前記開閉部を駆動させる駆動部、前記開閉部が収容される収容部を含むブロック本体を含むことができる。前記ブロック本体は、前記収容部に連結したガス流入口、および前記収容部に連結したガス流出口を含むことができる。前記開閉部は、前記収容部内で前記ガス流入口または前記ガス流出口を開閉することができる。

本発明に係る基板処理装置用ブロックバルブは、ガス供給部が供給したガスを選択的に基板に対する処理工程が行われる基板処理部に供給するためのブロックバルブであって、前記ガス供給部と前記基板処理部のそれぞれに連結したブロック本体、前記ブロック本体に結合したバルブ部、および前記バルブ部を駆動させる駆動部を含むことができる。前記ブロック本体は、前記ガス供給部に連結したガス流入口、前記基板処理部に連結したガス流出口、及び前記ガス流入口と前記ガス流出口の間で前記ガス流入口と前記ガス流出口のそれぞれに連結した収容部を含むことができる。前記バルブ部は、前記ガス流入口または前記ガス流出口の中のいずれか一つを開閉する開閉部、および前記開閉部が移動可能に結合したバルブ本体を含むことができる。前記バルブ本体は、前記開閉部が前記収容部内を移動して前記ガス流入口または前記ガス流出口の中のいずれか一つを開閉するように前記ブロック本体に挿入して結合することができる。

本発明に係る基板処理装置は、処理空間を提供するチャンバ、少なくとも１つの基板を支持する支持部、前記支持部に向かってガスを噴射するガス噴射部、前記ガス噴射部にガスを供給するガス供給部、および前記ガス供給部と前記ガス噴射部のそれぞれに連結したブロックバルブを含むことができる。前記ブロックバルブは、前記ガス供給部と前記ガス噴射部のそれぞれに連結したブロック本体、前記ブロック本体に結合したバルブ部、および前記バルブ部を駆動させる駆動部を含むことができる。前記ブロック本体は、前記ガス供給部に連結したガス流入口、前記ガス噴射部に連結したガス流出口、及び前記ガス流入口と前記ガス流出口の間で前記ガス流入口と前記ガス流出口のそれぞれに連結した収容部とを含むことができる。前記バルブ部は、前記ガス流入口または前記ガス流出口の中のいずれか一つを開閉する開閉部、および前記開閉部が移動可能に結合したバルブ本体を含むことができる。前記バルブ本体は、前記開閉部が前記収容部内を移動して前記ガス流入口または前記ガス流出口の中のいずれか一つを開閉するように前記ブロック本体に挿入して結合することができる。

本発明によれば、次のような効果を得ることができる。

本発明は、ブロック本体を用いてガス供給部と基板処理部のそれぞれに対する連結機能およびガスの選択的な供給機能の両方を備えるように具現される。したがって、本発明は、ブロック本体の内部でガスが流動するためのガス通路のデッドステース、すなわちチャンバ上部空間を低減することができる。したがって、本発明は、ガスの流動性を向上させることができるので、処理工程が完了した基板の品質を向上させることができる。

本発明は、バルブ部内部にガスが流動するための別途の流路を備えていないので、バルブ部の全体的な大きさを低減することができる。また、本発明は、バルブ部がブロック本体に挿入されるので、ブロックバルブの全体的な大きさをさらに低減することができる。したがって、本発明は、ブロックバルブをコンパクトに具現することができるので、設置空間で占める面積を減らすことができる。

従来技術による基板処理装置の概略構成図である。 本発明に係る基板処理装置の概略構成図である。 本発明に係る基板処理装置の概略側断面図である。 本発明に係る基板処理装置の概略側断面図である。 本発明に係る基板処理装置の概略分解側断面図である。 図４のＡ部を拡大して示す側断面図である。 本発明に係る基板処理装置が連結本体を含む実施例を示す概略側断面図である。 本発明に係る基板処理装置においてブロック本体が複数個のガス流出口を含む実施例を示す概略側断面図である。

以下では、本発明に係る基板処理装置の実施例を添付の図を参照して詳細に説明する。本発明に係るブロックバルブは、本発明に係る基板処理装置に含むことができるので、本発明に係る基板処理装置の実施例を説明しながら一緒に説明する。

図２及び図３を参照すると、本発明に係る基板処理装置１は、基板（Ｓ）に対する処理工程を行うものである。前記基板（Ｓ）は、ガラス基板、シリコン基板、メタル基板などであり得る。本発明に係る基板処理装置１は、前記基板（Ｓ）に薄膜を蒸着する蒸着工程、前記基板（Ｓ）に蒸着した薄膜の一部を除去するエッチング工程等を行うことができる。以下では、本発明に係る基板処理装置１を、前記蒸着工程を行う実施例に基づいて説明するが、このことから本発明に係る基板処理装置１が前記エッチング工程等のように異なる処理工程を行う実施例を導出することは、本発明が属する技術分野に属する当業者には自明であろう。

本発明に係る基板処理装置１は、基板処理部２、ガス供給部３、及びブロックバルブ４を含むことができる。

＜基板処理部＞
図２を参照すると、前記基板処理部２は、基板に対する処理工程を行うものである。前記基板処理部２は、前記ガス供給部３から供給されたガスを用いて処理工程を行うことができる。前記基板処理部２は、チャンバ２１、支持部２２、ガス噴射部２３を含むことができる。

前記チャンバ２１は、前記処理空間２１ａを提供するものである。前記処理空間２１ａでは、前記基板に対する蒸着工程、エッチング工程などの処理工程を行うことができる。前記処理空間２１ａは、前記チャンバ２１の内部に配置することができる。前記チャンバ２１には、前記処理空間２１ａからガスを排気する排気口（未図示）を結合することができる。前記チャンバ２１には、前記支持部２２と前記ガス噴射部２３を設けることができる。

前記支持部２２は、前記基板を支持するものである。前記支持部２２は、１つの基板を支持することもでき、複数の基板を支持することもできる。前記支持部２２に複数の基板が支持された場合、一度に複数個の基板に対して処理工程を行うこともできる。前記支持部２２は、前記チャンバ２１に結合することができる。前記支持部２２は、前記チャンバ２１の内部に配置することができる。

前記ガス噴射部２３は、前記支持部２２に向かってガスを噴射するものである。前記ガス噴射部２３は、前記チャンバ２１に結合することができる。前記ガス噴射部２３は、前記支持部２２と対向するように配置することができる。前記ガス噴射部２３と前記支持部２２の間には、前記処理空間２１ａを配置することができる。前記ガス噴射部２３は、リード２１ｂに結合することもできる。前記リード２１ｂは、前記チャンバ２１の上部を覆うように前記チャンバ２１に結合したものである。

＜ガス供給部＞
図２を参照すると、前記ガス供給部３は、ガスを供給するものである。前記ガス供給部３が供給したガスは、前記ガス噴射部２３を介して前記処理空間２１ａに噴射されることにより、前記基板に対する処理工程に用いることができる。前記ガス供給部３は、前記基板に蒸着する薄膜物質を含むソースガス、前記ソースガスと反応する反応ガス、及び前記処理空間２１ａに存在するガスをパージするためのパージガス等を供給することができる。前記ガス供給部３は、ガスを貯蔵する少なくとも１つの貯蔵タンク（未図示）を含むことができる。前記ガス供給部３は、前記ブロックバルブ４を介して前記基板処理部２に連結することができる。これにより、前記ガス供給部３が供給したガスを前記ブロックバルブ４を経て前記基板処理部２に供給することができる。

＜バルブ部＞
図２～図５を参照すると、前記ブロックバルブ４は、前記ガス供給部３が供給したガスを選択的に前記基板処理部２に供給するものである。前記ブロックバルブ４は、本発明に係る基板処理装置用ブロックバルブ４として具現することができる。前記ブロックバルブ４は、前記ガス供給部３と前記基板処理部２のそれぞれに連結することができる。この場合、前記ブロックバルブ４は、前記基板処理部２のガス噴射部２３に連結することができる。前記ブロックバルブ４が、ガスの通過を許容すると、前記ガス供給部３が供給したガスは、前記ブロックバルブ４を通過して前記基板処理部２に供給された後、前記ガス噴射部２３を介して前記処理空間２１ａに噴射することができる。前記ブロックバルブ４がガスの通過を遮断すると、前記ガス供給部３が供給したガスは、前記ブロックバルブ４を通過できず、前記基板処理部２に供給されない。前記ブロックバルブ４は、予め設定された工程情報によって前記ガス供給部３が供給したガスを選択的に通過させることができる。前記工程情報は、前記処理工程によるガスの噴射時点、ガスの噴射時間、ガスの流量などで、作業者によって予め設定することができる。前記工程情報は、制御部（未図示）に貯蔵することができる。この場合、前記ブロックバルブ４は、前記制御部の制御によって前記ガス供給部３が供給したガスを選択的に通過させることができる。

前記ブロックバルブ４は、ブロック本体４１、バルブ部４２、及び駆動部４３を含むことができる。

前記ブロック本体４１は、前記ガス供給部３と前記基板処理部２のそれぞれに連結したものである。前記ブロック本体４１には、前記バルブ部４２を結合することができる。これにより、前記ブロック本体４１は、前記ガス供給部３から前記基板処理部２にガスを供給するためのガス通路として機能するとともに、当該ガス通路が前記バルブ部４２により選択的に開閉するように具現される。すなわち、前記ブロック本体４１は、前記ガス供給部３と前記基板処理部２のそれぞれに対する連結およびガスの選択的な供給の両方を具現するように設けられる。したがって、本発明に係る基板処理装置１は、以下の作用効果を図ることができる。

まず、図１に示すように、ガスを選択的に供給するための開閉流路１４１を有するバルブ本体１４２、およびガス供給部１２０と基板処理部１１０を連結するための供給流路１３１と、排出流路１３２を有するガスブロック１３０が別途設けられた比較例の場合、２つのブロックに重複する機能をする流路が存在することにより、不要なデッドスペースが発生することになる。このようなデッドスペースのため、比較例はガスの流動性が低下し、基板に対する処理工程に悪影響を及ぼすことになる。また、前記ガス供給部１２０と前記基板処理部１１０の間を連結するための流路の長さが増加するほど、前記供給流路１３１と前記排出流路１３２等でのデッドスペースが長くなるので、デッドスペースによるガスの流動性の低下と基板に対する処理工程に悪影響を及ぼす問題がさらに深刻化する。

これとは異なり、本発明に係る基板処理装置１は、前記ブロック本体４１が前記ガス供給部３と前記基板処理部２のそれぞれに対する連結機能及びガスの選択的な供給機能の両方を備えるように具備される。したがって、本発明に係る基板処理装置１は、比較例と対比する際、デッドステースを低減することができるので、ガスの流動性を向上させることができる。これにより、本発明に係る基板処理装置１は、処理工程が完了した基板の品質を向上させることができる。また、前記ガス供給部３と前記基板処理部２の間を連結するための流路の長さが増加しても、本発明に係る基板処理装置１は、増加した流路の長さに合う長さに形成されたブロック本体４１に代替することで、前記ガス供給部３と前記基板処理部２の間を連結するための流路の長さ変動に対する対応力を向上させることができる。

前記ブロック本体４１は、前記基板処理部２に結合することができる。例えば、前記ブロック本体４１は、前記リード２１ｂに結合することができる。この場合、前記ブロック本体４１は、前記ガス供給部３から離隔した位置に配置することができる。前記ブロック本体４１は、配管等を介して前記ガス供給部３に連結することができる。前記ブロック本体４１は、前記基板処理部２から離隔した位置に配置することもできる。この場合、前記ブロック本体４１は、配管などを介して前記ガス噴射部２３に連結することができる。

前記ブロック本体４１は、ガス流入口４１１、ガス流出口４１２、および収容部４１３を含むことができる。

ガス流入口４１１は、前記ガス供給部３に連結したものである。前記ガス流入口４１１は、前記ガス供給部３が供給したガスが流入する流入通路として機能することができる。前記ガス流入口４１１は、前記ブロック本体４１に対する掘削（Drilling）工程によって形成することができる。

前記ガス流出口４１２は、前記基板処理部２に連結したものである。前記ガス流出口４１２は、前記ガス流入口４１１を介して流入したガスが、前記基板処理部２に流出する流出通路として機能することができる。前記ガス流出口４１２は、前記ブロック本体４１に対する掘削工程によって形成することができる。前記ガス流出口４１２は、前記収容部４１３の下面に位置することができる。この場合、前記ガス流入口４１１は、前記収容部４１３の側面に位置することができる。前記ガス流出口４１２は、前記収容部４１３の側面に位置することもできる。この場合、前記ガス流入口４１１は、前記収容部４１３の下面に位置することができる。

前記収容部４１３は、前記ガス流入口４１１と前記ガス流出口４１２の間で前記ガス流入口４１１とガス流出口４１２のそれぞれに連結したものである。前記収容部４１３は、前記ガス流入口４１１と前記ガス流出口４１２を連結する連結通路として機能することができる。前記収容部４１３は、前記ブロック本体４１に対する掘削工程を通じて形成することができる。

図２～図６を参照すると、前記バルブ部４２は、前記ガス流入口４１１または前記ガス流出口４１２を開閉するものである。図３～図８には、前記バルブ部４２が前記ガス流出口４１２を開閉するように配置された実施例が示されており、これから前記バルブ部４２が、前記ガス流入口４１１を開閉するように配置された実施例を導出することは、本発明が属する技術分野の当業者に自明な事項である。また、以下では、前記バルブ部４２が前記ガス流出口４１２を開閉するように配置された実施例を基準に説明するが、これから前記バルブ部４２が前記ガス流入口４１１を開閉するように配置された実施例を導出することは、本発明が属する技術分野の当業者に自明な事項である。

図３に示すように、前記バルブ部４２が前記ガス流出口４１２を開放した場合、前記ガス供給部３が供給したガスは、前記ガス流入口４１１、前記収容部４１３、および前記ガス流出口４１２を経て前記基板処理部２に供給することができる。

図４に示すように、前記バルブ部４２が前記ガス流出口４１２を閉鎖した場合、前記ガス供給部３が供給したガスは、前記ガス流出口４１２を通って流出することが遮断され得る。これにより、前記ガス供給部３が供給したガスは、前記基板処理部２に供給されない。

このように、前記バルブ部４２が前記ガス流出口４１２を開閉するか否かによって、前記ガス供給部３が供給したガスを前記基板処理部２に選択的に供給することができる。

前記バルブ部４２は、前記ブロック本体４１に結合することができる。この場合、前記バルブ部４２は、前記収容部４１３に挿入することができる。これにより、前記バルブ部４２は、前記収容部４１３を介して前記ブロック本体４１に挿入された状態で、前記ガス流出口４１２を開閉することができる。したがって、本発明に係る基板処理装置１は、次のような作用効果を図ることができる。

第１に、本発明に係る基板処理装置１は、前記ブロック本体４１と前記バルブ部４２を用いて前記ガス供給部３と前記基板処理部２それぞれに対する連結機能およびガスの選択的な供給機能をすべて備えるように具備される。したがって、本発明に係る基板処理装置１は、前記ブロック本体４１の内部でガスが流動するためのガス通路のデッドスペースを低減することができるので、ガスの流動性を向上させることができる。これにより、本発明に係る基板処理装置１は、処理工程が完了した基板の品質を向上させることができる。

第２に、本発明に係る基板処理装置１は、前記バルブ部４２の内部にガスが流動するための別途の流路が具備されないので、前記バルブ部４２の全体的な大きさを低減することができる。また、本発明に係る基板処理装置１は、前記バルブ部４２が前記収容部４１３を介して前記ブロック本体４１に挿入されることで、前記ブロックバルブ４の全体的な大きさをさらに減らすことができる。したがって、本発明に係る基板処理装置１は、前記ブロックバルブ４をコンパクトに具現することができるので、設置空間で占める面積を減らすことができる。

前記バルブ部４２は、開閉部４２１およびバルブ本体４２２を含むことができる。

前記開閉部４２１は、前記バルブ本体４２２に移動可能に結合されるものである。前記開閉部４２１は、前記バルブ本体４２２に結合した状態で移動しながら前記ガス流出口４１２を開閉することができる。前記開閉部４２１は、収縮と膨張をしながら前記ガス流出口４１２を開閉することもできる。前記バルブ本体４２２が前記ブロック本体４１に挿入されて結合すると、前記開閉部４２１は、前記収容部４１３内を移動して前記ガス流出口４１２を開閉することができる。

前記開閉部４２１は、開閉部材４２１１、開閉フランジ４２１２、及び遮断部材４２１３を含むことができる。

前記開閉部材４２１１は、前記バルブ本体４２２に移動可能に結合することができる。前記開閉部材４２１１は、一端側が前記バルブ本体４２２から突出し、他端側が前記バルブ本体４２２の内部に配置され得る。前記開閉部材４２１１の一端側は、前記ガス流出口４１２を開閉するために用いることができる。前記開閉部材４２１１の他方側は、前記ガス流出口４１２の開閉のための移動に用いることができる。この場合、前記駆動部４３は、前記開閉部材４２１１の他端側を移動させることにより、前記開閉部材４２１１を移動させることができる。

前記開閉フランジ４２１２は、前記開閉部材４２１１の外側に突出したものである。前記開閉部４２１が前記ガス流出口４１２を閉じた場合、前記開閉フランジ４２１２は、前記ブロック本体４１の内壁に接触することによって前記ガス流出口４１２を覆うことができる。これにより、前記ガス流出口４１２を閉鎖することができる。前記開閉部４２１が前記ガス流出口４１２を開放した場合、前記開閉フランジ４２１２は、前記ブロック本体４１の内壁から離隔することができる。これにより、前記ガス流出口４１２を開放することができる。前記開閉フランジ４２１２と前記開閉部材４２１１は、一体に形成することもできる。

前記遮断部材４２１３は、前記開閉フランジ４２１２に結合したものである。前記開閉部４２１が、前記ガス流出口４１２を閉鎖した場合、前記遮断部材４２１３は、前記開閉フランジ４２１２と前記ブロック本体４１の間に配置されることにより、ガスの通過を遮断することができる。これにより、前記遮断部材４２１３は、前記ガス流出口４１２に対する密閉力を強化することができる。前記遮断部材４２１３は、Ｏリング（O-ring）で具現することができる。

前記開閉部４２１は、弾性部材４２１４を含むことができる。

前記弾性部材４２１４は、前記開閉部材４２１１が弾性的に移動するように前記開閉部材４２１１に弾性力を提供することができる。前記弾性部材４２１４は、前記開閉フランジ４２１２と前記バルブ本体４２２の間に配置することができる。前記開閉部材４２１１が前記ガス流出口４１２を閉鎖するように移動した場合、前記弾性部材４２１４は、伸びて復元力を有することができる。この場合、前記弾性部材４２１４が有する復元力は、前記開閉部材４２１１が前記ガス流出口４１２を開放するように移動するときに使用することができる。前記弾性部材４２１４は、前記開閉部材４２１１を囲むように配置することができる。この場合、前記開閉部材４２１１は、前記弾性部材４２１４の内部に配置することができる。前記弾性部材４２１４は、ベローズで具現することができる。

前記開閉部４２１は、ガイド部材４２１５を含むことができる。

前記ガイド部材４２１５は、前記開閉部材４２１１から突出したものである。前記ガイド部材４２１５は、前記開閉部材４２１１から前記ガス流出口４１２に向かう方向に前記開閉部材４２１１から突出することができる。前記ガイド部材４２１５は、前記開閉部材４２１１から突出するほど大きさが減少するように形成することができる。例えば、前記ガイド部材４２１５は、前記開閉部材４２１１から突出するほど直径が減少するように形成することができる。前記開閉部４２１が、前記ガス流出口４１２を閉鎖するために移動する過程で、前記ガイド部材４２１５は、前記開閉部材４２１１より先に前記ガス流出口４１２に挿入することができる。したがって、前記ガイド部材４２１５は、前記開閉部４２１が前記ガス流出口４１２を正確に閉鎖するようにガイドする機能を有することができる。前記ガイド部材４２１５と前記開閉部材４２１１は、一体に形成することもできる。

図２～図６を参照すると、前記バルブ本体４２２は、前記ブロック本体４１に結合するものである。前記バルブ本体４２２には、前記開閉部材４２１１が移動可能に結合され得る。前記バルブ本体４２２は、前記開閉部材４２１１が前記収容部４１３内を移動して前記ガス流出口４１２を開閉するように、前記ブロック本体４１に挿入して結合することができる。

前記バルブ本体４２２は、前記ブロック本体４１に形成された挿入ホーム４１４に挿入することができる。前記挿入ホーム４１４は、前記収容部４１３に連結するように形成されたものである。前記開閉部材４２１１が移動する方向を基準として、前記収容部４１３は、前記ガス流出口４１２と前記挿入ホーム４１４の間に配置することができる。前記挿入ホーム４１４は、前記収容部４１３に比べてより大きい大きさに形成することができる。前記挿入ホーム４１４と前記収容部４１３の両方が円形に形成される場合、前記挿入ホーム４１４は、前記収容部４１３に比べてより大きい直径を有するように形成することができる。これにより、前記ブロック本体４１の前記収容部４１３と前記挿入ホーム４１４が連結する部分には、段差を形成することができる。

前記バルブ本体４２２は、第１バルブフランジ４２２１を含むことができる。

前記第１バルブフランジ４２２１は、前記挿入ホーム４１４に挿入することができる。前記第１バルブフランジ４２２１は、前記バルブ本体４２２の外側に突出することができる。前記第１バルブフランジ４２２１は、前記挿入ホーム４１４が形成された前記ブロック本体４１の内壁に支持することができる。前記挿入ホーム４１４内で前記第１バルブフランジ４２２１と前記ブロック本体４１の間には、密閉部材４２２ａが配置され得る。前記密閉部材４２２ａは、前記第１バルブフランジ４２２１と前記ブロック本体４１の間を密閉することにより、前記第１バルブフランジ４２２１と前記ブロック本体４１の間を通じてガスが漏洩することを遮断することができる。前記密閉部材４２２ａは、メタルガスケット（Metal Gasket）で具現することができる。前記密閉部材４２２ａは、Ｏリングで具現することもできる。前記バルブ本体４２２が、前記ブロック本体４１に結合した場合、前記第１バルブフランジ４２２１は、前記第１バルブフランジ４２２１を加圧することができる。これにより、前記密閉部材４２２ａを用いた密閉力をさらに強化することができる。

図２～図６を参照すると、前記駆動部４３は、前記バルブ部４２を駆動させるものである。前記駆動部４３は、前記バルブ部４２が有する開閉部４２１を駆動させることができる。これにより、前記開閉部４２１は、前記駆動部４３によって前記ガス流出口４１２を開閉するように移動することができる。例えば、前記駆動部４３は、空気圧を用いて前記バルブ部４２を駆動させることができる。前記駆動部４３は、前記バルブ本体４２２に気体を供給するか、前記バルブ本体４２２から気体を排出させることにより、前記バルブ本体４２２の内部に位置する開閉部材４２１１の部分を移動させることができる。これにより、前記開閉部材４２１１は、移動しながら前記ガス流出口４１２を開閉することができる。前記駆動部４３は、前記バルブ本体４２２の内部空間に連結するように配置することができる。前記駆動部４３は、配管等を介して前記バルブ本体４２２の内部空間に連結することができる。前記駆動部４３は、油圧を用いて前記バルブ部４２を駆動させることもできる。

図２～図６を参照すると、前記ブロックバルブ４は固定部４４を含むことができる。

前記固定部４４は、前記ブロック本体４１に挿入されるものである。前記固定部４４は、前記挿入ホーム４１４に挿入して前記第１バルブフランジ４２２１を加圧することができる。これにより、前記第１バルブフランジ４２２１と前記ブロック本体４１の間に配置された密閉部材４２２ａは、前記第１バルブフランジ４２２１による加圧力と前記固定部４４による加圧力により、前記第１バルブフランジ４２２１と前記ブロック本体４１の間を強く密閉させることができる。したがって、本発明に係る基板処理装置１は、前記密閉部材４２２ａを用いて、前記ガス供給部３から前記基板処理部２に供給されるガスが漏洩することを防止することができる。前記固定部４４には、貫通孔を形成することができる。前記貫通孔には、前記バルブ本体４２２を挿入することができる。

前記固定部４４を具備する場合、前記バルブ本体４２２は、第２バルブフランジ４２２２を含むことができる。前記第２バルブフランジ４２２２は、前記第１バルブフランジ４２２１から離隔して配置することができる。前記第２バルブフランジ４２２２と前記第１バルブフランジ４２２１の間に、前記固定部４４を配置することができる。これにより、前記第２バルブフランジ４２２２は、前記固定部４４を加圧して前記第１バルブフランジ４２２１を加圧し、前記第１バルブフランジ４２２１を加圧して前記密閉部材４２２ａを加圧することができる。したがって、本発明に係る基板処理装置１は、前記第２バルブフランジ４２２２、前記固定部４４、および前記第１バルブフランジ４２２１を用いて前記密閉部材４２２ａを加圧することにより、前記密閉部材４２２ａに対する加圧力の増大を通じてガスの漏洩を遮断する遮断力をさらに強化することができる。前記第２バルブフランジ４２２２は、前記バルブ本体４２２の外側に突出することができる。

図７を参照すると、前記ブロックバルブ４は、連結本体４５とシール部材４６を含むことができる。

前記連結本体４５は、前記ブロック体４１に着脱可能に連結するものである。前記連結本体４５は、前記ガス流入口４１１または前記ガス流出口４１２に連結するための連結流路４５１を含むことができる。前記連結本体４５が前記ブロック体４１に連結することにより、前記連結流路４５１が前記ガス流入口４１１に連結した場合、前記連結流路４５１は、前記ガス供給部３から供給されるガスを、前記ガス流入口４１１に供給するために通過する流路として機能することができる。前記連結本体４５をブロック体４１に連結することにより、前記連結流路４５１が前記ガス流出口４１２に連結した場合、前記連結流路４５１は、前記ガス流出口４１２から流出するガスを前記基板処理部２に供給するために通過する流路として機能することができる。

このように、本発明に係る基板処理装置１は、前記連結本体４５を用いてブロックを通るガス流路の長さを延長することができるように具現される。したがって、本発明に係る基板処理装置１は、必要に応じてガスの流路に対する長さを延長する作業の容易性を向上させることができる。前記連結本体４５は、ボルトなどの締結手段を用いて前記ブロック体４１に着脱可能に連結することができる。

前記シール部材４６は、前記連結本体４５と前記ブロック体４１の間に配置することができる。前記シール部材４６は、前記連結流路４５１に沿って流動するガスが前記連結本体４５と前記ブロック本体４１の間を通って漏洩することを遮断することができる。前記シール部材４６は、Ｏリングで具現することができる。

図８を参照すると、前記ブロック本体４１は、前記ガス流出口４１２を複数個含むこともできる。この場合、前記ガス流入口４１１は、前記ガス流出口４１２のそれぞれに連結するように前記ブロック本体４１に形成することができる。前記ブロックバルブ４は、前記バルブ部４２を複数個含むことができる。前記バルブ部４２は、それぞれ前記ガス流出口４１２を個別に開閉するように、前記ブロック本体４１に結合することができる。これにより、前記ガス流入口４１１に沿って流動するガスは、前記ガス流出口４１２の中で前記バルブ部４２によって開放されたところを通じて前記基板処理部２に供給することができる。このように、本発明に係る基板処理装置１は、１つのブロック本体４１を用いて複数のガス流出口４１２を通じてガスを選択的に流出させるマニホールド（Manifold）型で具現することができる。前記ガス流出口４１２が前記基板処理部２に連結した流出部分は、前記収容部４１３に配置することができる。これにより、前記バルブ部４２が前記ガス流出口４１２を開放した場合、前記ガス供給部３が供給したガスは、前記ガス流入口４１１と前記ガス流出口４１２を経て、前記収容部４１３に供給された後、前記ガス流出口４１２の流出部分４１２ａを通じて前記基板処理部２に供給することができる。

図８には、前記ブロック本体４１に３つのガス流出口４１２、４１２'、４１２''を形成するとともに、３個のバルブ部４２、４２'、４２''が結合した例を示しているが、これに限定されず、前記ブロック本体４１には、２つまたは４つ以上の前記ガス流出口４１２を形成するとともに、２つまたは４つ以上の前記バルブ部４２を結合することもできる。この場合、前記ガス流出口４１２の個数と前記バルブ部４２の個数とは、互いに同一に具現することができる。

前記ブロック本体４１は、前記収容部４１３を複数個含むことができる。この場合、前記収容部４１３は、前記ガス流出口４１２のそれぞれに連結することができる。前記ガス流出口４１２が前記基板処理部２に連結する流出部分は、前記収容部４１３のそれぞれに配置することができる。前記ブロックバルブ４は、前記バルブ部４２を複数個含むことができる。前記バルブ部４２は、前記収容部４１３のそれぞれに挿入されるように前記ブロック本体４１に結合することができる。

図８には、前記ブロック本体４１に３つの前記収容部４１３、４１３'、４１３''を形成するとともに、３つのバルブ部４２、４２'、４２''が結合した例を示しているが、これに限定されず、前記ブロック本体４１には、２つまたは４つ以上の収容部４１３を形成するとともに、２つまたは４つ以上のバルブ部４２を結合することもできる。この場合、前記収容部４１３の個数と前記バルブ部４２の個数は、互いに同一に具現することができる。

以上、説明した本発明は、上述した実施例及び添付の図に限定されるものではなく、本発明の技術的思想から逸脱しない範囲内で種々の置換、変形及び変更が可能であることが、本発明が属する技術分野において通常の知識を有する者にとって明らかであろう。

Claims (13)

1. 収縮と膨張をする開閉部を有するバルブ部、
   前記開閉部を駆動する駆動部、
   前記開閉部を収容する収容部を含むブロック本体を含み、
   前記ブロック本体が、前記収容部に連結したガス流入口、および前記収容部に連結したガス流出口を含み、
   前記開閉部は、前記収容部内で前記ガス流入口または前記ガス流出口を開閉することを特徴とする、基板処理装置用ブロックバルブ。
2. 前記ガス流入口と前記ガス流出口の中のいずれか一つが、前記収容部の側面に位置し、他の一つは前記収容部の下面に位置することを特徴とする、請求項１に記載の基板処理装置用ブロックバルブ。
3. ガス供給部が供給したガスを選択的に基板に対する処理工程が行われる基板処理部に供給するためのブロックバルブであって、
   前記ガス供給部と前記基板処理部のそれぞれに連結したブロック本体、
   前記ブロック本体に結合したバルブ部、および
   前記バルブ部を駆動する駆動部を含み、
   前記ブロック本体が、前記ガス供給部に連結したガス流入口、前記基板処理部に連結したガス流出口、及び前記ガス流入口と前記ガス流出口の間で前記ガス流入口と前記ガス流出口のそれぞれに連結した収容部を含み、
   前記バルブ部は、前記ガス流入口または前記ガス流出口の中のいずれか一つを開閉する開閉部、および前記開閉部が移動可能に結合したバルブ本体を含み、
   前記バルブ本体は、前記開閉部が前記収容部内を移動して前記ガス流入口または前記ガス流出口の中のいずれか一つを開閉するように前記ブロック本体に挿入され結合したことを特徴とする、基板処理装置用ブロックバルブ。
4. 前記バルブ本体と前記ブロック本体の間を密閉させるための密閉部材を含み、
   前記ブロック本体が、前記収容部に連結するように形成された挿入ホームを含み、
   前記バルブ本体は、前記挿入ホームに挿入される第１バルブフランジを含み、
   前記密閉部材は、前記挿入ホーム内で前記第１バルブフランジと前記ブロック本体の間に配置され、
   前記第１バルブフランジは、前記挿入ホームに挿入されて前記密閉部材を加圧することを特徴とする、請求項３に記載の基板処理装置用ブロックバルブ。
5. 前記挿入ホームに挿入されて前記第１バルブフランジを加圧して前記密閉部材を加圧する固定部を含むことを特徴とする、請求項４に記載の基板処理装置用ブロックバルブ。
6. 前記開閉部が、前記バルブ本体に移動可能に結合した開閉部材、前記開閉部材の外側に突出した開閉フランジ、及び前記開閉フランジに結合した遮断部材を含み、
   前記開閉部が前記ガス流入口または前記ガス流出口を閉鎖するとき、前記遮断部材は前記開閉フランジと前記ブロック本体の間に配置されてガスの通過を遮断することを特徴とする、請求項３に記載の基板処理装置用ブロックバルブ。
7. 前記開閉部が、前記バルブ本体に移動可能に結合した開閉部材、および前記開閉部材が弾性的に移動するように前記開閉部材に弾性力を提供する弾性部材を含み、
   前記弾性部材は、前記バルブ本体が有する第１バルブフランジと前記開閉部材が有する開閉フランジの間に配置されたことを特徴とする、請求項３に記載の基板処理装置用ブロックバルブ。
8. 前記開閉部が、前記バルブ本体に移動可能に結合した開閉部材、および前記開閉部材から前記ガス流入口又は前記ガス流出口に向かう方向に前記開閉部材から突出したガイド部材を含み、
   前記ガイド部材は、前記開閉部材から突出するほど大きさが減少するように形成され、前記開閉部が前記ガス流入口又は前記ガス流出口を閉鎖するために移動する過程において、前記開閉部材より先に前記ガス流入口又は前記ガス流出口に挿入されることを特徴とする、請求項３に記載の基板処理装置用ブロックバルブ。
9. 前記ブロック本体に挿入される固定部を含み、
   前記ブロック本体が、収容部に連結するように形成された挿入ホームを含み、
   前記バルブ本体は、前記挿入ホームに挿入されて前記バルブ本体に支持される第１バルブフランジ、および前記第１バルブフランジから離隔して配置された第２バルブフランジを含み、
   前記固定部は、前記第１バルブフランジと前記第２バルブフランジの間に配置されるように前記挿入ホームに挿入されたことを特徴とする、請求項３に記載の基板処理装置用ブロックバルブ。
10. 前記ブロック本体に着脱可能に結合した連結本体と、前記連結本体と前記ブロック本体の間に配置されたシール部材を含み、
    前記連結本体が、前記ガス流入口または前記ガス流出口に連結するための連結流路を含むことを特徴とする、請求項３に記載の基板処理装置用ブロックバルブ。
11. 前記ブロック本体が、前記ガス流出口を複数個含み、
    前記ブロック本体には、前記ガス流出口の各々を個別に開閉するように前記バルブ部が複数個結合したことを特徴とする、請求項３に記載の基板処理装置用ブロックバルブ。
12. 前記ブロック本体が、前記収容部を複数個含み、
    前記ブロック本体には、前記収容部のそれぞれに挿入されるように前記バルブ部が複数個結合したことを特徴とする、請求項３に記載の基板処理装置用ブロックバルブ。
13. 処理空間を提供するチャンバ、
    少なくとも１つの基板を支持する支持部、
    前記支持部に向かってガスを噴射するガス噴射部、
    前記ガス噴射部にガスを供給するガス供給部、および
    前記ガス供給部と前記ガス噴射部のそれぞれに連結したブロックバルブを含み、
    前記ブロックバルブが、
    前記ガス供給部と前記ガス噴射部のそれぞれに連結したブロック本体、
    前記ブロック本体に結合したバルブ部、および
    前記バルブ部を駆動する駆動部を含み、
    前記ブロック本体は、前記ガス供給部に連結したガス流入口、前記ガス噴射部に連結したガス流出口、及び前記ガス流入口と前記ガス流出口の間で前記ガス流入口と前記ガス流出口のそれぞれに連結した収容部を含み、
    前記バルブ部は、前記ガス流入口または前記ガス流出口の中のいずれか一つを開閉する開閉部、および前記開閉部が移動可能に結合したバルブ本体を含み、
    前記バルブ本体は、前記開閉部が前記収容部内を移動して前記ガス流入口または前記ガス流出口の中のいずれか一つを開閉するように前記ブロック本体に挿入されて結合したことを特徴とする基板処理装置。