JP2023532872A - 結合研磨物品及びそれを作製する方法 - Google Patents
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- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 130
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims abstract description 90
- 239000011148 porous material Substances 0.000 claims abstract description 70
- 239000000843 powder Substances 0.000 claims description 54
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 47
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 45
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 21
- 238000003825 pressing Methods 0.000 claims description 19
- 229910003460 diamond Inorganic materials 0.000 claims description 13
- 239000010432 diamond Substances 0.000 claims description 13
- 238000011049 filling Methods 0.000 claims description 11
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 claims description 10
- HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N silicon carbide Chemical compound [Si+]#[C-] HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 claims description 9
- 229910052582 BN Inorganic materials 0.000 claims description 3
- PZNSFCLAULLKQX-UHFFFAOYSA-N Boron nitride Chemical compound N#B PZNSFCLAULLKQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 22
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 16
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 15
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 14
- 238000000227 grinding Methods 0.000 description 13
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 12
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 9
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 9
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 7
- 238000007088 Archimedes method Methods 0.000 description 5
- CETPSERCERDGAM-UHFFFAOYSA-N ceric oxide Chemical compound O=[Ce]=O CETPSERCERDGAM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910000422 cerium(IV) oxide Inorganic materials 0.000 description 4
- 229920000570 polyether Polymers 0.000 description 4
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 3
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 3
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 3
- 238000000879 optical micrograph Methods 0.000 description 3
- 229920001568 phenolic resin Polymers 0.000 description 3
- 239000005011 phenolic resin Substances 0.000 description 3
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 3
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 3
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 3
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 2
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 2
- 239000004721 Polyphenylene oxide Substances 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 2
- 239000004760 aramid Substances 0.000 description 2
- 229920003235 aromatic polyamide Polymers 0.000 description 2
- 230000002902 bimodal effect Effects 0.000 description 2
- 229910010293 ceramic material Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 2
- 229920006332 epoxy adhesive Polymers 0.000 description 2
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 description 2
- 238000010191 image analysis Methods 0.000 description 2
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 description 2
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000001247 metal acetylides Chemical class 0.000 description 2
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 2
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 description 2
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 2
- 229920002480 polybenzimidazole Polymers 0.000 description 2
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 2
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 2
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 description 2
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 2
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 2
- 238000001878 scanning electron micrograph Methods 0.000 description 2
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 2
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 2
- 229910011255 B2O3 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920002261 Corn starch Polymers 0.000 description 1
- FUJCRWPEOMXPAD-UHFFFAOYSA-N Li2O Inorganic materials [Li+].[Li+].[O-2] FUJCRWPEOMXPAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KKCBUQHMOMHUOY-UHFFFAOYSA-N Na2O Inorganic materials [O-2].[Na+].[Na+] KKCBUQHMOMHUOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 230000037237 body shape Effects 0.000 description 1
- 238000005266 casting Methods 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- -1 cermets Substances 0.000 description 1
- 229910052681 coesite Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 239000008120 corn starch Substances 0.000 description 1
- 229910052593 corundum Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052906 cristobalite Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- XUCJHNOBJLKZNU-UHFFFAOYSA-M dilithium;hydroxide Chemical compound [Li+].[Li+].[OH-] XUCJHNOBJLKZNU-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 1
- 239000012153 distilled water Substances 0.000 description 1
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 description 1
- 239000000806 elastomer Substances 0.000 description 1
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- 238000004108 freeze drying Methods 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007542 hardness measurement Methods 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 1
- 229910052500 inorganic mineral Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000011835 investigation Methods 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 229910001092 metal group alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 238000003801 milling Methods 0.000 description 1
- 239000011707 mineral Substances 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 229910052755 nonmetal Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000011056 performance test Methods 0.000 description 1
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N phenol group Chemical group C1(=CC=CC=C1)O ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 1
- 229920001225 polyester resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004645 polyester resin Substances 0.000 description 1
- 235000013824 polyphenols Nutrition 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 1
- 238000007493 shaping process Methods 0.000 description 1
- 238000007873 sieving Methods 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 1
- 238000005245 sintering Methods 0.000 description 1
- 238000001694 spray drying Methods 0.000 description 1
- 229910052682 stishovite Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920002994 synthetic fiber Polymers 0.000 description 1
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 1
- 229920001169 thermoplastic Polymers 0.000 description 1
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000004416 thermosoftening plastic Substances 0.000 description 1
- 229910052905 tridymite Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000004584 weight gain Effects 0.000 description 1
- 235000019786 weight gain Nutrition 0.000 description 1
- 229910001845 yogo sapphire Inorganic materials 0.000 description 1
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B24—GRINDING; POLISHING
- B24D—TOOLS FOR GRINDING, BUFFING OR SHARPENING
- B24D3/00—Physical features of abrasive bodies, or sheets, e.g. abrasive surfaces of special nature; Abrasive bodies or sheets characterised by their constituents
- B24D3/02—Physical features of abrasive bodies, or sheets, e.g. abrasive surfaces of special nature; Abrasive bodies or sheets characterised by their constituents the constituent being used as bonding agent
- B24D3/04—Physical features of abrasive bodies, or sheets, e.g. abrasive surfaces of special nature; Abrasive bodies or sheets characterised by their constituents the constituent being used as bonding agent and being essentially inorganic
- B24D3/14—Physical features of abrasive bodies, or sheets, e.g. abrasive surfaces of special nature; Abrasive bodies or sheets characterised by their constituents the constituent being used as bonding agent and being essentially inorganic ceramic, i.e. vitrified bondings
- B24D3/18—Physical features of abrasive bodies, or sheets, e.g. abrasive surfaces of special nature; Abrasive bodies or sheets characterised by their constituents the constituent being used as bonding agent and being essentially inorganic ceramic, i.e. vitrified bondings for porous or cellular structure
Abstract
Description
実施形態1.研磨物品であって、結合材料、研磨粒子、及び複数の細孔を含む本体を含み、結合材料が、ガラス質材料を含み、研磨粒子が、結合材料中に含有され、超研磨材料を含み、本体が、本体の全容積に対して少なくとも40容積%かつ70容積%以下の細孔率、本体の総重量に対して少なくとも10重量%以上かつ94重量%以下の研磨粒子の含有量、少なくとも0.05ミクロンかつ5ミクロン以下の研磨粒子の平均粒径(D50)、
少なくとも0.1ミクロンかつ5ミクロン以下である複数の細孔の平均細孔サイズ(D50)、又はそれらの任意の組み合わせのうちの1つを含む、研磨物品。
実施形態2.研磨物品であって、結合材料、研磨粒子、及び複数の細孔を含む本体を含み、結合材料が、ガラス質材料を含み、更に、研磨粒子が、結合材料中に含有され、超研磨材料を含み、研磨粒子が、少なくとも0.1ミクロンかつ5ミクロン以下の平均粒径(D50)を更に含み、本体が、本体の総重量に対して少なくとも15重量%の量の研磨粒子を含む、研磨物品。
実施形態3.研磨物品であって、結合材料、研磨粒子、及び複数の細孔を含む本体を含み、結合材料が、ガラス質材料を含み、研磨粒子が、結合材料中に含有され、超研磨材料を含み、研磨粒子が、少なくとも0.1ミクロンかつ5ミクロン以下の平均粒径(D50)を有し、本体の細孔率が、本体の全容積に対して少なくとも40容積%かつ70容積%以下であり、細孔率が、少なくとも0.1ミクロンかつ5ミクロン以下の平均細孔サイズを画定する、研磨物品。
実施形態4.基材と、基材に取り付けられた複数の本体と、を含む、研磨物品であって、複数の本体の各本体が、ガラス質材料を含む結合材料中に含有された研磨粒子を含み、複数の本体が、複数の細孔を含み、複数の本体の正規化された細孔率含有量変動(PCV)値が、1.3以下である、研磨物品。
実施形態5.複数の本体を含む本体のバッチであって、複数の本体の各本体が、ガラス質材料及び複数の細孔を含む結合材料中に含有された研磨粒子を含み、複数の本体が、少なくとも0.45cm3の総容積を有し、複数の本体の空隙率含有量変動(PCV)値が、1.3以下である、本体のバッチ。
実施形態6.複数の本体が、少なくとも15個の本体、又は少なくとも30個の本体、又は少なくとも40個の本体、又は少なくとも45個の本体、又は少なくとも50個の本体、又は少なくとも100個の本体、又は少なくとも150個の本体、又は少なくとも200個の本体を含む、実施形態4又は5の複数の本体。
実施形態7.複数の本体のPCV値が、1.2以下、又は1.0以下、又は0.8以下、又は0.6以下、又は0.4以下、又は0.3以下、又は0.2以下である、実施形態4~6のいずれか1つに記載の複数の本体。
実施形態8.複数の本体の各本体の全容積が、少なくとも0.03cm3、又は少なくとも0.05cm3、又は少なくとも0.1cm3、又は少なくとも0.2cm3、又は少なくとも0.25cm3、又は少なくとも0.3cm3、又は少なくとも0.5cm3、又は少なくとも0.7cm3、又は少なくとも1cm3、又は少なくとも5cm3、又は少なくとも10cm3、又は少なくとも12cm3である、実施形態4~7のいずれか1つに記載の複数の本体。
実施形態9.複数の本体の各本体の全容積が、20cm3以下、又は15cm3以下、又は10cm3以下、又は5cm3以下、又は1cm3以下、又は0.5cm3以下、又は0.3cm3以下である、実施形態4~7のいずれか1つに記載の複数の本体。
実施形態10.複数の研磨物品であって、複数の研磨物品の各研磨物品が、実施形態4~9のいずれか1つに記載の複数の本体を含む、複数の研磨物品。
実施形態11.複数の研磨物品の量が、少なくとも5個の研磨物品、又は少なくとも10個の研磨物品、又は少なくとも20個の研磨物品、又は少なくとも30個の研磨物品、又は少なくとも50個の研磨物品である、実施形態10に記載の複数の研磨物品。
実施形態12.複数の物品の全ての本体の空隙率含有量変動(PCV)値が、1.3以下である、実施形態10又は11に記載の複数の研磨物品。
実施形態13.研磨粒子が、ダイヤモンド、立方晶窒化ホウ素、又はそれらの組み合わせを含む、実施形態1~12のいずれか1つに記載の研磨物品。
実施形態14.研磨粒子が、ダイヤモンドを含む、実施形態13に記載の研磨物品。
実施形態15.研磨粒子が、ダイヤモンドから本質的になる、実施形態14に記載の研磨物品。
実施形態16.本体が、本体の全容積に対して少なくとも40容積%かつ70容積%以下の空隙率を含む、実施形態2、4、又は5のいずれか1つに記載の研磨物品。
実施形態17.本体の空隙率が、本体の全容積に対して、少なくとも41容積%、又は少なくとも42容積%、又は少なくとも43容積%、又は少なくとも44容積%、又は少なくとも45容積%、又は少なくとも46容積%、又は少なくとも47容積%、又は少なくとも48容積%、又は少なくとも49容積%、又は少なくとも50容積%である、実施形態1、3、及び13のいずれか1つに記載の研磨物品。
実施形態18.本体の空隙率が、65容積%以下、又は60容積%以下、又は58容積%以下、又は56容積%以下、又は55容積%以下、又は54容積%以下、又は53容積%以下、又は52容積%以下、又は51容積%以下、又は50容積%以下である、実施形態1、3、及び16のいずれか1つに記載の研磨物品。
実施形態19.空隙率が、少なくとも45容積%かつ60容積%以下、又は少なくとも50容積%かつ58容積%以下、又は少なくとも53容積%かつ57容積%以下である、実施形態17又は18に記載の研磨物品。
実施形態20.本体が、少なくとも0.1ミクロンかつ5ミクロン以下の平均細孔サイズ(D50)を有する複数の細孔を含む、実施形態2、4、及び5のいずれか1つに記載の研磨物品。
実施形態21.細孔が、少なくとも0.3ミクロン、又は少なくとも0.4ミクロン、又は少なくとも0.5ミクロン、又は少なくとも0.8ミクロン、又は少なくとも1ミクロン、又は少なくとも1.5ミクロン、又は少なくとも2ミクロンの平均細孔サイズ(D50)を有する、実施形態1、3、又は20に記載の研磨物品。
実施形態22.細孔が、4ミクロン以下、又は3ミクロン以下、又は2.5ミクロン以下、又は2.0ミクロン以下、又は1.5ミクロン以下、又は1.3ミクロン以下、又は1.0ミクロン以下、又は0.8ミクロン以下の平均細孔サイズ(D50)を有する、実施形態1、3、又は20に記載の研磨物品。
実施形態23.複数の細孔が、20ミクロン以下、又は10ミクロン以下、又は5ミクロン以下、又は1ミクロン以下、又は0.95ミクロン以下のD99値を有する、実施形態1~22のいずれか1つに記載の研磨物品。
実施形態24.複数の細孔が、1ミクロン以下、又は0.5ミクロン以下、又は0.3ミクロン以下のD10-D50範囲値を有する、実施形態1~23のいずれか1つに記載の研磨物品。
実施形態25.複数の細孔が、1ミクロン以下、又は0.5ミクロン以下、又は0.4ミクロン以下のD50-D90範囲値を有する、実施形態1~24のいずれか1つに記載の研磨物品。
実施形態26.複数の細孔の少なくとも95%、例えば、少なくとも96%、又は少なくとも97%、又は少なくとも98%、又は少なくとも99%、又は少なくとも99.5%、少なくとも99.9%、又は100%が、0.1ミクロン~1ミクロンの細孔サイズを有する、実施形態1~25のいずれか1つに記載の研磨物品。
実施形態27.複数の細孔が、多峰性サイズ分布を画定する、実施形態1~26のいずれか1つに記載の研磨物品。
実施形態28.複数の細孔が、二峰性又は三峰性サイズ分布を画定する、実施形態27に記載の研磨物品。
実施形態29.本体の空隙率(Pt)の本体の開放空隙率(Po)との比[Pt:Po]が、1.25以下、例えば、1.11以下又は1.05以下又は1.01以下である、実施形態1~28のいずれか1つに記載の研磨物品。
実施形態30.研磨粒子の量が、本体の総重量に基づいて、少なくとも15重量%、又は少なくとも20重量%、又は少なくとも25重量%、又は少なくとも30重量%、又は少なくとも35重量%、又は少なくとも40重量%、又は少なくとも45重量%、又は少なくとも50重量%、又は少なくとも55重量%、又は少なくとも60重量%である、実施形態1~29のいずれか1つに記載の研磨物品。
実施形態31.研磨粒子の量が、本体の総重量に基づいて、95重量%以下、又は94重量%以下、又は93重量%以下、又は92重量%以下、又は90重量%以下、又は85重量%以下、又は80重量%以下、又は70重量%以下、又は65重量%以下、又は60重量%以下、又は55重量%以下、又は50重量%以下、又は45重量%以下、又は40重量%以下である、実施形態1~30のいずれか1つに記載の研磨物品。
実施形態32.結合材料の量が、本体の総重量に基づいて、少なくとも5重量%、少なくとも6重量%、又は少なくとも7重量%、又は少なくとも10重量%、又は少なくとも15重量%、又は少なくとも20重量%、又は少なくとも25重量%、又は少なくとも30重量%である、実施形態1~31のいずれか1つに記載の研磨物品。
実施形態33.結合材料の量が、本体の総重量に基づいて、93重量%以下、又は92重量%以下、又は91重量%以下、又は90重量%以下、又は85重量%以下、又は80重量%以下、又は70重量%以下、又は60重量%以下、又は50W%以下、又は40重量%以下、又は35重量%以下、又は30重量%以下、又は20重量%以下、又は15重量%以下、又は10重量%以下、又は8重量%以下、又は6重量%以下である、実施形態1~32のいずれか1つに記載の研磨物品。
実施形態34.結合材料が、ガラス質材料から本質的になる、実施形態1~33のいずれか1つに記載の研磨物品。
実施形態35.結合材料が、非晶質相及び/又は多結晶質相を含む、実施形態1~34のいずれか1つに記載の研磨物品。
実施形態36.結合材料[Cb]の研磨粒子[Ca]との重量%比[Cb:Ca]が、少なくとも1:15、又は少なくとも1:12、又は少なくとも1:10、又は少なくとも1:8、又は少なくとも1:5である、実施形態1~35のいずれか1つに記載の研磨物品。
実施形態37.結合材料[Cb]の研磨粒子[Ca]との重量%比[Cb:Ca]が、10:1以下、又は1:1以下、又は1:5以下、又は1:10以下である、実施形態1~36のいずれか1つに記載の研磨物品。
実施形態38.結合材料[Cb]の研磨粒子[Ca]との重量パーセント比[Cb:Ca]が、1:15~10:1、又は1:15~1:4、又は1:15~1:10の範囲である、実施形態36又は37に記載の研磨物品。
実施形態39.本体が、少なくとも1.3g/cm3、又は少なくとも1.35g/cm3、又は少なくとも1.40g/cm3、又は少なくとも1.42g/cm3、又は少なくとも1.44g/cm3、又は少なくとも31.46g/cm3、又は少なくとも1.48g/cm3の密度を有する、実施形態1~38のいずれか1つに記載の研磨物品。
実施形態40.本体が、1.6g/cm3以下、又は1.55g/cm3以下、又は1.50g/cm3以下、又は1.48g/cm3以下、又は1.45g/cm3以下の密度を有する、実施形態1~39のいずれか1つに記載の研磨物品。
実施形態41.本体が、5以下、又は3以下、又は1以下の正規化欠陥量(nDFA)を含み、nDFAが、50ミクロン以上の直径サイズを有する1mm2当たりの粒子凝集体の総量である、実施形態1~40のいずれか1つに記載の研磨物品。
実施形態42.本体が、50ミクロン以上の直径サイズを有する欠陥を含まない、実施形態40に記載の研磨物品。
実施形態43.本体が、5以下、又は3以下、又は1以下の正規化欠陥量(nDFA)を含み、nDFAが、18ミクロン以上の直径サイズを有する1mm2当たりの粒子凝集体の総量である、実施形態1~40のいずれか1つに記載の研磨物品。
実施形態44.本体が、18ミクロン以上の直径サイズを有する欠陥を含まない、実施形態43に記載の研磨物品。
実施形態45.本体が、セリアを本質的に含まない、実施形態1~44のいずれか1つに記載の研磨物品。
実施形態46.本体が、セリアを含まない、実施形態45に記載の研磨物品。
実施形態47.本体の材料が、少なくとも70、又は少なくとも73、又は少なくとも75、又は少なくとも77のASTM D2240によるショアD硬度を含む、実施形態1~46のいずれか1つに記載の研磨物品。
実施形態48.本体の材料が、ASTM E1876によって、少なくとも10GPa、又は少なくとも11GPa、又は少なくとも12GPa、又は少なくとも13GPa、又は少なくとも14GPaの弾性率(EMOD)を含む、実施形態1~47のいずれか1つに記載の研磨物品。
実施形態49.研磨物品が、酸化物、炭化物、窒化物、ホウ化物、又はそれらの任意の組み合わせからなる群から選択されるシリコン又はセラミック材料を含むウェハ上で材料除去作業を行うように構成されている、実施形態1~48のいずれか1つに記載の研磨物品。
実施形態50.研磨物品が、炭化ケイ素ウェハ上で材料除去作業を行うように構成されている、実施形態49に記載の研磨物品。
実施形態51.研磨物品が、30Å以下、又は25Å以下、又は20Å以下、又は15Å以下、又は10Å以下の表面粗さRaまで炭化ケイ素ウェハ上で材料除去作業を行うように適合されている、実施形態50に記載の研磨物品。
実施形態52.研磨物品が、2ミクロン以下の総厚さ変動で少なくとも200mmの直径を有する炭化ケイ素ウェハから材料を除去するように適合されている、実施形態50又は51に記載の研磨物品。
実施形態53.複数の本体が、接着剤によって基材に取り付けられている、実施形態4及び6~52のいずれか1つに記載の研磨物品。
実施形態54.基材の材料が、アルミニウム又は鋼を含む、実施形態4及び6~53のいずれか1つに記載の研磨物品。
実施形態55.複数の本体が、基材に取り付けられた少なくとも45個の本体を含み、基材が、11インチ以下の直径を有する、実施形態4及び6~54のいずれか1つに記載の研磨物品。
実施形態56.研磨粒子の平均粒径(D50)が、少なくとも0.1ミクロン、又は少なくとも0.3ミクロン、又は少なくとも0.4ミクロン、又は少なくとも0.5ミクロン、又は少なくとも0.8ミクロン、又は少なくとも1ミクロン、又は少なくとも1.5ミクロン、又は少なくとも2ミクロン、又は少なくとも3ミクロンである、実施形態1~55のいずれか1つに記載の研磨物品。
実施形態57.研磨粒子の平均粒径(D50)が、5ミクロン以下、又は4ミクロン以下、又は3ミクロン以下、又は2.5ミクロン以下、又は2.0ミクロン以下、又は1.5ミクロン以下、又は1.3ミクロン以下、又は1.0ミクロン以下、又は0.9ミクロン以下、又は0.8ミクロン以下、又は0.7ミクロン以下、又は0.6ミクロン以下である、実施形態1~56のいずれか1つに記載の研磨物品。
実施形態58.研磨物品を形成する方法であって、
本体を形成することを含み、本体を形成することが、
研磨粒子及び結合材料を含む粉末混合物を提供することであって、結合材料が、ガラス質材料を含む、提供することと、
粉末混合物を金型内に充填することと、
冷間プレスを行って、所定の容積を有する冷間プレス本体を形成することと、
冷間プレス本体を少なくとも600℃の最大加熱温度まで加熱して、本体を形成することと、を含み、研磨粒子が、超研磨材料を含み、少なくとも0.05ミクロンかつ5ミクロン以下の粒径を有する、方法。
実施形態59.粉末混合物が、粉末混合物の総重量に基づいて、3重量%以下の含水量を含む、実施形態58に記載の方法。
実施形態60.冷間プレスが、少なくとも20℃、又は少なくとも25℃、又は少なくとも30℃、又は少なくとも40℃の温度で行われる、実施形態58又は59に記載の方法。
実施形態61.冷間プレスが、80℃以下、又は60℃以下、又は50℃以下、又は40℃以下の温度で行われる、実施形態58~60のいずれか1つに記載の方法。
実施形態62.冷間プレスが、少なくとも40MPa、又は少なくとも100MPa、又は少なくとも120MPaの圧力で行われる、実施形態58~61のいずれか1つに記載の方法。
実施形態63.冷間プレスが、150MPa以下、又は130以下、又は125MPa以下の圧力で行われる、実施形態58~62のいずれか1つに記載の方法。
実施形態64.金型を充填することが、少なくとも2つの工程で粉末混合物を金型内に添加することと、粉末混合物を予備圧縮して、閉じ込められた空気を除去することと、を含む、実施形態58~63のいずれか1つに記載の方法。
実施形態65.金型を粉末混合物で充填することが、少なくとも3つの工程を含む、実施形態64に記載の方法。
実施形態66.金型を粉末混合物で充填することが、粉末混合物のタップ密度まで粉末混合物を予備圧縮することを含む、実施形態64又は65に記載の方法。
実施形態67.金型内の粉末のタップ密度が、少なくとも0.45g/cm3、又は少なくとも0.50g/cm3、又は少なくとも0.52g/cm3、又は少なくとも0.54g/cm3である、実施形態66に記載の方法。
実施形態68.冷間プレス本体の所定の容積が、少なくとも1.3g/cm3、又は少なくとも1.35g/cm3、又は少なくとも1.40g/cm3、又は少なくとも1.42g/cm3、又は少なくとも1.44g/cm3、又は少なくとも1.46g/cm3の加熱後の密度に対応する、実施形態58~67のいずれか1つに記載の方法。
実施形態69.冷間プレス本体の所定の容積が、1.6g/cm3以下、又は1.55g/cm3以下、又は1.50g/cm3以下、又は1.45g/cm3以下の加熱後の密度に対応する、実施形態58~68のいずれか1つに記載の方法。
実施形態70.最大加熱温度が、少なくとも620℃、又は少なくとも650℃、又は少なくとも680℃、又は少なくとも700℃である、実施形態58~69のいずれか1つに記載の方法。
実施形態71.最大加熱温度が、850℃以下、又は800℃以下、又は750℃以下である、実施形態58~70のいずれか1つに記載の方法。
実施形態72.研磨粒子が、ダイヤモンド粒子から本質的になる、実施形態58~71のいずれか1つに記載の方法。
実施形態73.粉末混合物の平均粒径(D50)が、少なくとも0.5ミクロン、又は少なくとも0.6ミクロン、又は少なくとも0.8ミクロン、又は少なくとも1ミクロンである、実施形態58~72のいずれか1つに記載の方法。
実施形態74.粉末混合物の平均粒径(D50)が、2ミクロン以下、又は1.5ミクロン以下、又は1.0ミクロン以下である、実施形態58~73のいずれか1つに記載の方法。
実施形態75.粉末混合物のD90値が、7ミクロン以下、又は5ミクロン以下、又は4ミクロン以下である、実施形態58~74のいずれか1つに記載の方法。
実施形態76.粉末混合物のD99値が、15ミクロン以下、又は10ミクロン以下、又は9ミクロン以下である、実施形態58~75のいずれか1つに記載の方法。
実施形態77.粉末混合物が、有機結合剤を更に含む、実施形態58~76のいずれか1つに記載の方法。
実施形態78.有機結合剤としては、ポリエーテル、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、ポリエステル樹脂、ポリウレタン、ポリエステル、ポリイミド、ポリベンズイミダゾール、芳香族ポリアミド、又はそれらの任意の組み合わせが挙げられる、実施形態77に記載の方法。
実施形態79.有機結合剤が、ポリエーテルを含む、実施形態78に記載の方法。
実施形態80.ポリエーテルが、ポリエチレングリコール(PEG)を含む、実施形態79に記載の方法。
実施形態81.有機結合剤の量が、粉末混合物の総重量に基づいて、少なくとも0.8重量%、又は少なくとも1重量%、又は少なくとも1.5重量%、又は少なくとも2.0重量%、又は少なくとも3重量%である、実施形態78~80のいずれか1つに記載の方法。
実施形態82.有機結合剤の量が、粉末混合物の総重量に基づいて、10重量%以下、又は5重量%以下、又は3重量%以下である、実施形態77~81のいずれか1つに記載の方法。
実施形態83.PEGの分子量が、18,000以下、又は15,000以下、又は10,000以下、又は9000以下、又は8,000以下、又は7,000以下である、実施形態80に記載の方法。
実施形態84.PEGの分子量が、少なくとも1000、又は少なくとも3000、又は少なくとも5000、又は少なくとも7000、又は少なくとも8000である、実施形態80に記載の方法。
実施形態85.粉末混合物が、セリアを本質的に含まない、実施形態58~84のいずれか1つに記載の方法。
実施形態86.粉末混合物が、セリアを含まない、実施形態85に記載の方法。
実施形態87.加熱後に、本体が、ダイヤモンド粒子及びガラス質結合材料から本質的になる、実施形態58~86のいずれか1つに記載の方法。
実施形態88.加熱後に、本体を複数の本体に切断することを更に含む、実施形態58~87のいずれか1つに記載の方法。
実施形態89.接着剤で複数の本体を基材に取り付けることを更に含む、実施形態88に記載の方法。
実施形態90.複数の本体の空隙率含有量変動(PCV)値が、1.3以下である、実施形態88又は89に記載の方法。
図3に図示されるような粒径分布を有する原料粉末を使用して、10個の本体試料を生成した。原料粉末は、約0.5ミクロンの平均粒径(D50)を有する約91.5重量%のダイヤモンド粒子、2.5ミクロンの平均粒径を有する7.0重量%のガラス質材料、及び1.5重量%の有機結合剤(ポリエチレングリコール)から作製された均質な微粉末混合物であった。
微細構造の調査。
本体の微細構造を図示するために、実施例1の試料9のクロスカットの断面のSEM画像が図4Aに示される。本体が、粒子の任意のより大きな凝集物もなく、かつより大きな細孔又はクラックもなく、非常に均質な構造を有したことを分かることができる。ImageJソフトウェアを用いて行われた画像分析は、図4Aに示される本体の横断面が、1mm2の面積内に50ミクロン以上の直径サイズを有する凝集体(本明細書では欠陥とも呼ばれる)を含まないことを示した。
様々な空隙率を有する機械的特性。
52~59パーセントの空隙率を有する様々な本体を調製し、機械的特性ショアD硬度及び弾性率(EMOD)について試験した。実施例1に記載したように、同じ容積にプレスしながら、金型内に充填される粉末混合物の量を変動させることによって、異なる空隙率を有する本体を形成した。
研磨ホイールの組み立て。
実施例1の説明によって作製された焼結体である試料S1~S10を、本明細書で複数の本体とも呼ばれるより小さい本体セグメントに切断し、各本体セグメントは、図5に図示されるように、長さ約0.5インチ、高さ0.125インチ、及び厚さ0.25インチの形状を有し、丸みを帯びた縁部を有していた。
研削性能の試験。
52.8%の空隙率を有する代表的な本体(試料S20)の研削性能を、オーバープレスによって作製された本体(C1)の研削性能と比較した。オーバープレスは、金型内の粉末の量を増加させ、同じ容積にプレスすることによって行った。試料S20と同様の空隙率を有するが、1mm2当たり約22個の欠陥の欠陥量を有するあまり均質でない構造を有する更なる比較体(C2)を試験した。
Claims (15)
- 研磨物品であって、
結合材料、研磨粒子、及び複数の細孔を含む本体を含み、
前記結合材料が、ガラス質材料を含み、
前記研磨粒子が、前記結合材料中に含有され、超研磨材料を含み、
前記本体が、
前記本体の全容積に対して少なくとも40容積%かつ70容積%以下の空隙率、
前記本体の総重量に対して少なくとも10重量%以上かつ94重量%以下の研磨粒子の含有量、
少なくとも0.05ミクロンかつ5ミクロン以下の前記研磨粒子の平均粒径(D50)、
少なくとも0.1ミクロンかつ5ミクロン以下である前記複数の細孔の平均細孔サイズ(D50)、又は
それらの任意の組み合わせ
のうちの少なくとも1つを含む、研磨物品。 - 前記本体の前記空隙率が、少なくとも48容積%かつ60容積%以下である、請求項1に記載の研磨物品。
- 前記複数の細孔の前記平均細孔サイズ(D50)が、0.9ミクロン以下である、請求項1又は2に記載の研磨物品。
- 前記研磨粒子が、ダイヤモンド、立方晶窒化ホウ素、又はそれらの組み合わせを含む、請求項1、2、又は3に記載の研磨物品。
- 前記研磨粒子が、ダイヤモンドから本質的になる、請求項4に記載の研磨物品。
- 前記結合材料が、ガラス質材料から本質的になる、請求項1、2、又は3に記載の研磨物品。
- 前記複数の細孔が、1ミクロン以下のD90値を有する、請求項1、2、又は3に記載の研磨物品。
- 前記研磨粒子の量が、前記本体の前記総重量に基づいて、少なくとも85重量%である、請求項1、2、又は3に記載の研磨物品。
- 前記結合材料の量が、前記本体の前記総重量に基づいて、少なくとも5重量%かつ15重量%以下である、請求項1、2、又は3に記載の研磨物品。
- 前記結合材料[Cb]の前記研磨粒子[Ca]との重量パーセント比[Cb:Ca]が、1:15~1:10の範囲である、請求項1、2、又は3に記載の研磨物品。
- 前記本体が、5以下の正規化欠陥量(nDFA)を含み、前記nDFAが、18ミクロン以上の直径サイズを有する1mm2当たりの粒子凝集体の総量として定義される、請求項1、2、又は3に記載の研磨物品。
- 前記研磨物品が、炭化ケイ素ウェハ又は炭化ケイ素インゴット上で前記材料除去作業を行うように構成されている、請求項1、2、又は3に記載の研磨物品。
- 研磨物品を形成する方法であって、
本体を形成することを含み、前記本体を形成することが、
研磨粒子及び結合材料を含む粉末混合物を提供することであって、前記結合材料が、ガラス質材料を含む、提供することと、
前記粉末混合物を金型内に充填することと、
前記粉末混合物を所定の容積に冷間プレスすることを行って、冷間プレス本体を得ることと、
前記冷間プレス本体を少なくとも600℃の最大加熱温度まで加熱して、前記本体を形成することと、を含み、
前記研磨粒子が、少なくとも0.05ミクロンかつ5ミクロン以下の粒径を有する超研磨材料を含む、方法。 - 前記金型を前記粉末混合物で充填することが、前記粉末混合物のタップ密度まで前記粉末混合物を予備圧縮することを含む、請求項13に記載の方法。
- 前記粉末混合物の平均粒径(D50)が、少なくとも0.5ミクロンかつ2ミクロン以下である、請求項13又は14に記載の方法。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US202063050620P | 2020-07-10 | 2020-07-10 | |
US63/050,620 | 2020-07-10 | ||
PCT/US2021/041048 WO2022011234A1 (en) | 2020-07-10 | 2021-07-09 | Bonded abrasive article and method of making the same |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2023532872A true JP2023532872A (ja) | 2023-08-01 |
Family
ID=79172081
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2022580299A Pending JP2023532872A (ja) | 2020-07-10 | 2021-07-09 | 結合研磨物品及びそれを作製する方法 |
Country Status (9)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US11667009B2 (ja) |
EP (1) | EP4178762A1 (ja) |
JP (1) | JP2023532872A (ja) |
KR (1) | KR20230050320A (ja) |
CN (1) | CN115812021A (ja) |
CA (1) | CA3184679A1 (ja) |
IL (1) | IL298939A (ja) |
TW (3) | TWI814674B (ja) |
WO (1) | WO2022011234A1 (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CA3184679A1 (en) * | 2020-07-10 | 2022-01-13 | Cecile O. MEJEAN | Bonded abrasive article and method of making the same |
CN115338783B (zh) * | 2022-08-03 | 2024-04-16 | 莆田市屹立砂轮磨具有限公司 | 一种使用寿命长的砂轮磨具及其制备工艺 |
Family Cites Families (30)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH072307B2 (ja) | 1988-09-13 | 1995-01-18 | 旭ダイヤモンド工業株式会社 | メタルボンドダイヤモンド砥石 |
JP2884031B2 (ja) | 1993-12-17 | 1999-04-19 | 旭ダイヤモンド工業株式会社 | メタルボンド超砥粒砥石及びその製造方法 |
US6319108B1 (en) * | 1999-07-09 | 2001-11-20 | 3M Innovative Properties Company | Metal bond abrasive article comprising porous ceramic abrasive composites and method of using same to abrade a workpiece |
JP2002030272A (ja) | 2000-07-19 | 2002-01-31 | Fujimi Inc | 研磨用組成物およびそれを用いた酸化ケイ素材料の研磨方法 |
DE10063859A1 (de) | 2000-12-21 | 2002-07-25 | Hilzinger Thum Schleif Und Pol | Spannvorrichtung mit einem Spanndorn |
JP4592207B2 (ja) | 2001-03-29 | 2010-12-01 | 旭ダイヤモンド工業株式会社 | 超砥粒ホイール及びその製造方法 |
US6609963B2 (en) | 2001-08-21 | 2003-08-26 | Saint-Gobain Abrasives, Inc. | Vitrified superabrasive tool and method of manufacture |
US6685755B2 (en) | 2001-11-21 | 2004-02-03 | Saint-Gobain Abrasives Technology Company | Porous abrasive tool and method for making the same |
US6679758B2 (en) | 2002-04-11 | 2004-01-20 | Saint-Gobain Abrasives Technology Company | Porous abrasive articles with agglomerated abrasives |
US7544114B2 (en) | 2002-04-11 | 2009-06-09 | Saint-Gobain Technology Company | Abrasive articles with novel structures and methods for grinding |
US7435165B2 (en) * | 2002-10-28 | 2008-10-14 | Cabot Microelectronics Corporation | Transparent microporous materials for CMP |
MX2007007980A (es) * | 2004-12-30 | 2007-08-22 | 3M Innovative Properties Co | Articulo abrasivo y metodos para fabricar el mismo. |
KR101161337B1 (ko) | 2007-03-14 | 2012-07-02 | 생-고벵 아브라시프 | 연마지석 제품 및 그의 제조방법 |
CN101678534A (zh) | 2007-03-14 | 2010-03-24 | 圣戈班磨料磨具有限公司 | 粘合的磨料物品和制造方法 |
SG192427A1 (en) | 2008-06-23 | 2013-08-30 | Saint Gobain Abrasives Inc | High porosity vitrified superabrasive products and method of preparation |
MX2012004912A (es) | 2009-10-27 | 2012-08-15 | Saint Gobain Abrasifs Sa | Abrasivo aglomerado vitreo. |
CN101870091B (zh) | 2010-06-17 | 2011-09-14 | 大连理工大学 | 一种陶瓷结合剂超细金刚石砂轮制备方法 |
CN103781595B (zh) * | 2011-09-07 | 2019-08-27 | 3M创新有限公司 | 粘结磨具制品 |
MX366227B (es) | 2011-11-23 | 2019-07-03 | Saint Gobain Abrasives Inc | Articulo abrasivo para operaciones de amolado de ultra alta velocidad de remocion de material. |
TW201404528A (zh) * | 2012-06-29 | 2014-02-01 | Saint Gobain Abrasives Inc | 研磨物品及形成方法 |
TWI535535B (zh) | 2012-07-06 | 2016-06-01 | 聖高拜磨料有限公司 | 用於低速研磨操作之磨料物品 |
US10259102B2 (en) | 2014-10-21 | 2019-04-16 | 3M Innovative Properties Company | Abrasive preforms, method of making an abrasive article, and bonded abrasive article |
RU2017120984A (ru) * | 2014-12-01 | 2019-01-09 | Сен-Гобен Абразивс, Инк. | Абразивное изделие, содержащее агломераты, которые содержат карбид кремния и неорганический связующий материал |
WO2016109735A1 (en) * | 2014-12-30 | 2016-07-07 | Saint-Gobain Abrasives, Inc. | Abrasive articles and methods for forming same |
WO2016154130A1 (en) | 2015-03-21 | 2016-09-29 | Saint-Gobain Abrasives, Inc. | Abrasive tools and methods for forming same |
US10518387B2 (en) | 2017-07-18 | 2019-12-31 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. | Grinding element, grinding wheel and manufacturing method of semiconductor package using the same |
KR20200050472A (ko) | 2017-09-28 | 2020-05-11 | 생-고뱅 어브레이시브즈, 인코포레이티드 | 실리콘 카바이드를 포함하는 비응집된 연마제 입자 및 무기 결합 재료를 포함하는 연마제 물품 |
CN111936595B (zh) * | 2018-03-30 | 2022-01-07 | 圣戈班磨料磨具有限公司 | 包括涂层的粘结磨料制品 |
CN112566993B (zh) * | 2018-08-17 | 2023-04-11 | 圣戈班磨料磨具有限公司 | 包括包含氮化物的填料的粘结磨料制品 |
CA3184679A1 (en) * | 2020-07-10 | 2022-01-13 | Cecile O. MEJEAN | Bonded abrasive article and method of making the same |
-
2021
- 2021-07-09 CA CA3184679A patent/CA3184679A1/en active Pending
- 2021-07-09 CN CN202180048262.3A patent/CN115812021A/zh active Pending
- 2021-07-09 KR KR1020237004043A patent/KR20230050320A/ko unknown
- 2021-07-09 US US17/371,401 patent/US11667009B2/en active Active
- 2021-07-09 IL IL298939A patent/IL298939A/en unknown
- 2021-07-09 WO PCT/US2021/041048 patent/WO2022011234A1/en unknown
- 2021-07-09 EP EP21837297.7A patent/EP4178762A1/en active Pending
- 2021-07-09 JP JP2022580299A patent/JP2023532872A/ja active Pending
- 2021-07-12 TW TW112100605A patent/TWI814674B/zh active
- 2021-07-12 TW TW110125477A patent/TWI772100B/zh active
- 2021-07-12 TW TW111125311A patent/TWI791411B/zh active
-
2023
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Publication number | Publication date |
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TW202319504A (zh) | 2023-05-16 |
EP4178762A1 (en) | 2023-05-17 |
TWI772100B (zh) | 2022-07-21 |
US11667009B2 (en) | 2023-06-06 |
US20220009056A1 (en) | 2022-01-13 |
TW202242064A (zh) | 2022-11-01 |
WO2022011234A1 (en) | 2022-01-13 |
TWI791411B (zh) | 2023-02-01 |
TWI814674B (zh) | 2023-09-01 |
TW202202595A (zh) | 2022-01-16 |
IL298939A (en) | 2023-02-01 |
CN115812021A (zh) | 2023-03-17 |
US20230356360A1 (en) | 2023-11-09 |
KR20230050320A (ko) | 2023-04-14 |
CA3184679A1 (en) | 2022-01-13 |
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