JP2023525607A - 表示基板、表示パネル、表示装置及び表示基板の製造方法 - Google Patents

表示基板、表示パネル、表示装置及び表示基板の製造方法 Download PDF

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Abstract

本開示は、表示基板、表示パネル、表示装置及び表示基板の製造方法を提供し、表示エリアには、第一薄膜封止構造を含む第一表示エリアと、第二薄膜封止構造を含む第二表示エリアと、第三薄膜封止構造を含む遷移表示エリアが含まれ、第一薄膜封止構造は、第一無機封止層、第一有機封止層及び第二無機封止層を含み、第二薄膜封止構造は、第一無機封止層、第二無機封止層及び第二有機封止層を含み、第三薄膜封止構造は、第一部分及び第二部分を含み、第一部分は、第一無機封止層、第一有機封止層、第二無機封止層及び第二有機封止層を含み、第二部分は、第一無機封止層、第二無機封止層及び第二有機封止層を含む。本開示に係る表示基板、表示パネル、表示装置及び表示基板の製造方法は、使用者の視覚体験を向上させることができる。

Description

（関連出願の相互参照）
本願は、２０２０年０５月０９日に中国で出願されたＰＣＴ特許出願第ＰＣＴ／ＣＮ２０２０／０８９４１３号の優先権を主張し、その内容の全ては、参照により本願に組み込まれる。
本開示は、表示の分野に関し、特に、表示基板、表示パネル、表示装置及び表示基板の製造方法に関する。
有機発光ダイオード（Ｏｒｇａｎｉｃ Ｌｉｇｈｔ－Ｅｍｉｔｔｉｎｇ Ｄｉｏｄｅ、ＯＬＥＤと略す）は、電流に応答して発光する有機化合物膜を有し、２つの電極の間に有機材料が挟まれており、且つ少なくとも１つの電極が透光電極である。ＯＬＥＤは、良好な発光性能及び効率を持ち、必要な駆動電圧が低いため、ディスプレイスクリーンとして使用する優れた候補である。
本開示の実施例は、使用者の視覚体験を向上させることができる表示基板、表示パネル、表示装置及び表示基板の製造方法を提供する。
本開示の実施例による技術案は、以下の通りである。
本開示の実施例は、表示基板であって、表示エリアを含み、前記表示エリアには、
ベース上に設けられた複数の表示ユニット、及び前記複数の表示ユニットの発光側に設けられた第一薄膜封止構造を含む第一表示エリアと、
ベース上に設けられた複数の表示ユニット、及び前記複数の表示ユニットの発光側に設けられた第二薄膜封止構造を含む第二表示エリアと、
ベース上に設けられた複数の表示ユニット、及び前記複数の表示ユニットの発光側に設けられた第三薄膜封止構造を含み、前記第一表示エリアと前記第二表示エリアとの間に位置する遷移表示エリアとが含まれ、
前記第一薄膜封止構造は、前記複数の表示ユニットの発光側に順次に重ねられた第一無機封止層、第一有機封止層及び第二無機封止層を含み、
前記第二薄膜封止構造は、前記複数の表示ユニットの発光側に順次に重ねられた第一無機封止層、第二無機封止層及び第二有機封止層を含み、
前記第三薄膜封止構造は、前記第一表示エリアに近い側に位置する第一部分、及び前記第二表示エリアに近い側に位置する第二部分を含み、前記第一部分は、前記複数の表示ユニットの発光側に順次に重ねられた第一無機封止層、第一有機封止層、第二無機封止層及び第二有機封止層を含み、前記第二部分は、前記複数の表示ユニットの発光側に順次に重ねられた第一無機封止層、第二無機封止層及び第二有機封止層を含む、表示基板を提供している。
例示的に、前記第二有機封止層の透光率は、前記第一有機封止層の透光率よりも大きい。
例示的に、前記表示エリアは、
複数の側辺であって、隣接する側辺が交差して複数の角部を形成した複数の側辺を含み、
前記第二表示エリアは、前記複数の角部の少なくとも１つに位置する。
例示的に、前記第一表示エリアと前記遷移表示エリアとの間に第一障壁が設けられ、前記第二表示エリアと前記遷移表示エリアとの間に第二障壁が設けられている。
例示的に、前記遷移表示エリアに第一障壁及び第二障壁が設けられており、前記第一障壁及び前記第二障壁と前記遷移表示エリアの表示ユニットとは、前記ベース上での正投影が重なり合わず、且つ前記第一障壁は、前記遷移表示エリアにおける前記第一表示エリアに近い側に設けられ、前記第二障壁は、前記遷移表示エリアにおける前記第二表示エリアに近い側に設けられている。
例示的に、前記第一部分の前記第一無機封止層、前記第一有機封止層及び前記第二無機封止層は、前記第一薄膜封止構造を前記遷移表示エリアの位置する側へ延在させて形成され、且つ前記第一部分の前記第一無機封止層、前記第一有機封止層及び前記第二無機封止層は、前記第一障壁を覆っており、
前記第二部分は、前記第二薄膜封止構造を前記遷移表示エリアの位置する側へ延在させて形成され、且つ前記第二部分は、前記第二障壁を覆っており、
前記第一部分の前記第二有機封止層は、前記第二部分における前記第二有機封止層を前記遷移表示エリアの位置する側へ延在させて形成されている。
例示的に、前記第一部分の前記第一有機封止層は、前記第二表示エリアに近い側に登坂面を有し、前記第一部分の前記第二有機封止層は、前記登坂面における前記ベースから遠い側を覆っている。
例示的に、前記第二薄膜封止構造における前記第二有機封止層と、前記第三薄膜封止構造における前記第二有機封止層とは、前記ベースから遠い側の表面が略面一になっている。
例示的に、前記第一表示エリアは、第一画素密度を有し、前記第二表示エリアは、第二画素密度を有し、前記遷移表示エリアは、第三画素密度を有し、前記第二画素密度及び前記第三画素密度は、何れも前記第一画素密度以下である。
例示的に、前記第二表示エリアは、
伸張可能ベースであって、前記伸張可能ベースの表面に沿って複数の開孔パターンが分布されており、前記複数の開孔パターンの各々は、複数の第一開孔を含み、前記複数の第一開孔のうち、少なくとも一部の隣接する第一開孔の間には、アイランドエリアを取り囲む複数のブリッジエリアが形成され、複数の第二表示ユニットは、各開孔パターンに形成されたアイランドエリア上に設けられている伸張可能ベースと、
前記アイランドエリア上の複数の表示ユニットの間にそれぞれ接続され、且つ前記複数のブリッジエリアにそれぞれ設けられた複数の配線ユニットとを含む。
例示的に、前記複数の表示ユニットの少なくとも１つは、
前記表示基板の発光方向に沿って前記ベースの前側に位置する第一平坦化層と、
前記第一平坦化層における前記ベースから遠い側に位置する有機絶縁層と、
前記第一平坦化層における前記ベースから遠い側に位置する第一電極層とを含み、
前記第一障壁は、第一凹溝を含み、前記第一凹溝が前記第一平坦化層上に設けられ、且つ前記有機絶縁層が前記第一凹溝をその形状に倣って覆っているか、或いは、前記第一凹溝が前記有機絶縁層上に設けられており、
前記第二障壁は、第二凹溝を含み、前記第二凹溝が前記第一平坦化層上に設けられ、且つ前記有機絶縁層が前記第二凹溝をその形状に倣って覆っているか、或いは、前記第二凹溝が前記有機絶縁層上に設けられており、
前記第一無機封止層は、前記第一電極層における前記ベースから遠い側に位置し、且つ前記第一電極層を覆っており、
前記第一有機封止層は、前記第一無機封止層のうち、前記第一凹溝における前記第二凹溝から遠い側に位置する部分、第一凹溝、及び前記第一凹溝と前記第二凹溝との間における前記第一凹溝に近い側にある部分を覆っているが、前記第一無機封止層のうち、前記第一凹溝と前記第二凹溝との間における前記第二凹溝に近い側にある部分、前記第二凹溝、及び前記第二凹溝における前記第一凹溝から遠い側にある部分を覆っておらず、
前記第二無機封止層は、前記第一有機封止層と、前記第一無機封止層のうち、前記第一有機封止層によって覆われていない部分とを覆っており、
前記第二有機封止層は、前記第二無機封止層のうち、前記第一凹溝に位置する部分及び前記第一凹溝における前記第一表示エリアから遠い側に位置する部分を覆っているが、前記第一開孔を覆っていない。
例示的に、前記有機絶縁層は、前記第一表示エリアに設けられた第一ポストスペーサ、前記遷移表示エリアに設けられた第二ポストスペーサ、及び前記第二表示エリアに設けられた第三ポストスペーサを含み、前記第一凹溝は、前記第一ポストスペーサ上に設けられ、前記第二凹溝は、前記第二ポストスペーサ上に設けられている。
例示的に、前記第一凹溝及び前記第二凹溝は、第一方向に沿って延在する連続凹溝を含み、前記第一方向は、前記第一表示エリアと前記遷移表示エリアとの境界線の延在する方向である。
例示的に、前記連続凹溝は、第二方向における溝幅が約５～１５μｍであり、第三方向における溝高さが約１．５～２．５μｍであり、前記第二方向は、前記第一方向に垂直であるとともに前記伸張可能ベースに平行であり、前記第三方向は、前記伸張可能ベースに垂直である。
例示的に、前記第一凹溝及び／又は第二凹溝は、第二方向に順次に配列された少なくとも一列の離散凹溝を含み、前記第二方向は、前記第一方向に垂直であるとともに前記伸張可能ベースに平行であり、各々の列の離散凹溝は、前記第一方向に沿って離間して並べられた複数の離散凹溝を含む。
例示的に、前記少なくとも一列の離散凹溝は、複数列の離散凹溝を含み、前記複数列の離散凹溝のうち、隣接する列の離散凹溝の間隔は、約２～１５μｍである。
例示的に、前記複数の表示ユニットの少なくとも１つは、
前記第二凹溝と前記第一開孔との間に位置し、前記第一隔離構造の両側における第一電極層を分断するように配された第一隔離構造を更に含み、
前記第一電極層は、前記第一隔離構造を覆っており、且つ前記第一隔離構造における前記第二凹溝に近接する側及び前記第一開孔に近接する側に位置する。
例示的に、前記第二表示エリアの複数の表示ユニットの少なくとも１つは、
前記第二表示エリアの有機絶縁層と前記第一開孔との間に一部が位置し、且つ前記第一平坦化層における前記伸張可能ベースから遠い側に少なくとも一部が位置する第一パッシベーション層を更に含み、
前記第一隔離構造は、前記第一パッシベーション層及び前記第一平坦化層に位置する少なくとも１つの第三凹溝を含み、前記少なくとも１つの第三凹溝の底部によって覆われた第一電極層と、前記第一パッシベーション層の表面を覆っている第一電極層とは、互いに分断されている。
例示的に、前記第二表示エリアの複数の表示ユニットの少なくとも１つは、
前記第一平坦化層における前記伸張可能ベースに近い側に少なくとも一部が位置する第二パッシベーション層を更に含み、
前記第一パッシベーション層は、前記第一平坦化層における前記伸張可能ベースから遠い側に位置する第一部分、及び、第一平坦化層における第一開孔に近接する側に位置する第二部分を含み、且つ前記第二部分は、前記第一パッシベーション層による前記第一平坦化層における第一開孔に近接する側の表面に対する隔離保護が形成されるように、前記第一平坦化層における第一開孔に近接する側の表面を覆うとともに前記第二パッシベーション層の表面に接続されている。
例示的に、前記第二表示エリアの複数の表示ユニットの少なくとも１つは、
前記表示基板の発光方向に沿って前記伸張可能ベースの前側に位置する層間絶縁層を更に含み、
前記第一隔離構造は、前記層間絶縁層における前記伸張可能ベースから遠い側の表面に位置する少なくとも１つの第一バンプを含み、前記第一電極層は、前記少なくとも１つの第一バンプの頂部及び前記層間絶縁層の一部の表面を覆っており、前記少なくとも１つの第一バンプの頂部に位置する第一電極層と、前記層間絶縁層の表面に位置する第一電極層とは、互いに分断されている。
例示的に、前記複数の配線ユニットの少なくとも１つは、
前記表示基板の発光方向に沿って前記伸張可能ベースの前側に位置する第二平坦化層と、
前記第二平坦化層における前記伸張可能ベースから遠い側に位置し、前記第二平坦化層の一部の表面を覆うとともに、少なくとも１つの第四凹溝を有する画素規定層と、
前記少なくとも１つの第四凹溝の底部によって覆われ及び前記画素規定層の表面を覆う第三電極層とを含み、
前記少なくとも１つの第四凹溝の底部によって覆われた第三電極層と、前記画素規定層の表面が覆われた第三電極層とは、互いに分断されている。
例示的に、前記少なくとも１つの第三凹溝のうち、第三凹溝の数量は、前記少なくとも１つの第四凹溝のうち、第四凹溝の数量と同じであり、前記少なくとも１つの第四凹溝と前記少なくとも１つの第三凹溝とは、それぞれ互いに連通して、前記第一開孔を取り囲む閉環状に形成されている。
例示的に、前記複数の配線ユニットの少なくとも１つは、
前記表示基板の発光方向に沿って前記伸張可能ベースの前側に位置するゲート絶縁層と、
前記ゲート絶縁層における前記伸張可能ベースから遠い側の表面に位置する少なくとも１つの第二バンプと、
前記少なくとも１つの第二バンプの頂部、及び前記ゲート絶縁層のうち、前記少なくとも１つの第二バンプによって覆われていない一部の表面を覆う第三電極層とを含み、
前記少なくとも１つの第二バンプの頂部が覆われた第三電極層と、前記ゲート絶縁層の表面が覆われた第三電極層とは、互いに分断されている。
例示的に、前記少なくとも１つの第二バンプのうち、第二バンプの数量は、前記少なくとも１つの第一バンプのうち、第一バンプの数量と同じであり、前記少なくとも１つの第二バンプと前記少なくとも１つの第一バンプとは、それぞれ互いに連通して、前記第一開孔を取り囲む閉環状に形成されている。
例示的に、前記第一開孔は、前記ベースから遠い側に位置する開口端、前記ベースに近い側に位置する底端、及び前記開口端と前記底端との間に位置する孔体部分を含み、複数の第一開孔のうち、少なくとも１つの開孔幅は、前記表示基板の出光方向に沿って前記孔体部分の開孔幅が徐々に増大し、前記開口端の開孔幅が前記孔体部分の最大開孔幅よりも小さく、前記孔体部分の最大開孔幅が前記底端の開孔幅よりも大きくなるようにされている。
例示的に、前記孔体部分の側壁における前記開口端に近い少なくとも一部は、弧形の曲面状である。
本開示の実施例は、
本開示の実施例による表示基板と、
前記表示基板の出光側に位置し、且つ前記表示基板と封止されるカバープレートとを含む、表示パネルを更に提供している。
本開示の実施例は、
本開示の実施例による表示パネルを含む、表示装置を更に提供している。
本開示の実施例は、
ベースを用意することと、
表示エリアであって、前記表示エリアには、ベース上に設けられた複数の表示ユニット、及び前記複数の表示ユニットの発光側に設けられた第一薄膜封止構造を含む第一表示エリアと、ベース上に設けられた複数の表示ユニット、及び前記複数の表示ユニットの発光側に設けられた第二薄膜封止構造を含む第二表示エリアと、ベース上に設けられた複数の表示ユニット、及び前記複数の表示ユニットの発光側に設けられた第三薄膜封止構造を含み、前記第一表示エリアと前記第二表示エリアとの間に位置する遷移表示エリアとが含まれ、前記第一薄膜封止構造は、前記複数の表示ユニットの発光側に順次に重ねられた第一無機封止層、第一有機封止層及び第二無機封止層を含み、前記第二薄膜封止構造は、前記複数の表示ユニットの発光側に順次に重ねられた第一無機封止層、第二無機封止層及び第二有機封止層を含み、前記第三薄膜封止構造は、前記第一表示エリアに近い側に位置する第一部分、及び前記第二表示エリアに近い側に位置する第二部分を含み、前記第一部分は、前記複数の表示ユニットの発光側に順次に重ねられた第一無機封止層、第一有機封止層及び第二無機封止層を含み、前記第二部分は、前記複数の表示ユニットの発光側に順次に重ねられた第一無機封止層、第二無機封止層及び第二有機封止層を含む表示エリアを、ベース上に形成することとを含む、表示基板の製造方法を更に提供している。
例示的に、前記表示エリアをベース上に形成することは、具体的に、
前記表示エリアに第一障壁及び第二障壁を形成することと、
前記表示エリアに第一無機封止層を形成することと、
前記第一無機封止層上に第一有機材料をプリントして、前記第一表示エリアに一部が位置するとともに前記第一障壁及び／又は前記第二障壁を他部が延在して覆う第一有機材料層を形成することと、
前記第一有機材料層に対し薄化処理を行って、前記第一有機材料層を一部除去して、前記第一有機封止層を形成し、前記遷移表示エリアの第一無機封止層が少なくとも一部露出されるようにすることと、
前記第一有機封止層を一部が覆うとともに、前記第一無機封止層のうち、前記第一有機封止層によって覆われていない部分を他部が覆う第二無機封止層を形成することと、
前記第二無機封止層上に第二有機封止層を塗布して、前記第二有機封止層の一部が前記第二無機封止層のうち、前記第一有機封止層を覆う一部を覆うとともに、前記第二有機封止層の他部が前記第一無機封止層のうち、前記第一有機封止層によって覆われていない部分を覆うようにすることとを含む。
本開示の実施例が奏する有益な効果は、以下の通りである。
本開示の実施例による表示基板、表示パネル、表示装置及び表示基板の製造方法によれば、表示エリアの異なる領域では、薄膜封止層構造が異なり、表示エリアの異なる領域の出光効率及び製品寿命を保証し、使用者の視覚体験を向上させることができる。
明細書の一部を構成する図面は、本開示の実施例を説明しており、明細書と共に本開示の原理を解釈するためのものである。
図面を参照しながら、以下の詳細な説明によれば、本開示は、より明確に理解されることが可能となる。
本開示による表示パネルの一実施例の構造模式図である。 本開示による表示パネルの一実施例における表示基板のレイアウト模式図である。 本開示による表示パネルの一実施例における第一表示エリア、第二表示エリア及び遷移表示エリアの部分上面図である。 本開示による表示パネルの一実施例における表示基板のうち、第二表示エリアに対応する部分がガラス基板上に形成される構造模式図である。 本開示による表示パネルの一実施例における表示基板のうち、第二表示エリアに対応する部分がガラス基板から離脱される構造模式図である。 本開示による表示パネルの一実施例における表示基板のうち、第一表示エリア、第二表示エリア及び遷移表示エリアに対応する部分がガラス基板上に形成される構造模式図である。 本開示による表示パネルの別の実施例における表示基板のうち、第一表示エリア、第二表示エリア及び遷移表示エリアに対応する部分がガラス基板上に形成される構造模式図である。 それぞれ本開示による表示パネルのいくつかの実施例におけるアイランドエリア、第一開孔及びブリッジエリアの配置模式図である。 それぞれ本開示による表示パネルのいくつかの実施例におけるアイランドエリア、第一開孔及びブリッジエリアの配置模式図である。 それぞれ本開示による表示パネルのいくつかの実施例におけるアイランドエリア、第一開孔及びブリッジエリアの配置模式図である。 それぞれ本開示による表示パネルのいくつかの実施例における第一凹溝の断面模式図である。 それぞれ本開示による表示パネルのいくつかの実施例における第一凹溝の断面模式図である。 本開示による表示パネルの製造方法の一実施例の一部のステップの模式図である。 本開示による表示パネルの製造方法の一実施例の一部のステップの模式図である。 本開示による表示パネルの製造方法の一実施例の一部のステップの模式図である。 本開示による表示パネルの製造方法の一実施例の一部のステップの模式図である。
理解すべきなのは、図面に示される各部の寸法は、実際の比例関係に従って描かれたものではないことである。なお、同一又は類似の参照符号は、同一又は類似の構成要素を示す。
以下、図面を参照しながら、本開示の各例示的な実施例を詳細に説明する。例示的な実施例の説明は、単に例示的なものであり、決して本開示及びその適用や使用に対するいかなる制限として解釈されない。本開示は、明細書に記載の実施例に限定されなく、多くの異なる形態で実現され得る。これらの実施例は、本開示を徹底的且つ完全的にさせ、そして当業者に本開示の範囲を十分に示すように提供される。注意すべきなのは、特に明記しない限り、これらの実施例に記載の部品及びステップの相対配置、材料の成分、数値表現式及び数値は、限定されるものではなく、単なる例示的なものとして解釈されるべきである。
本開示に用いられる用語「第一」、「第二」及び類似の用語は、いかなる順序、数量又は重要性を示すものではなく、異なる構成要素を区別するために使用されるだけである。「含む」や「包含」などの類する用語とは、その用語の前に現れる要素が、その用語の後に現れる要素を包含することを意味するが、他の要素も包含する可能性も除外されるとは意図しない。「上」、「下」、「左」、「右」などは、相対位置関係を示すためのみに使用され、説明された対象の絶対位置が変化すると、該相対位置関係もそれに応じて変化する。
本開示では、特定の素子が第一素子と第二素子との間に位置することが説明される時、当該特定の素子と第一素子又は第二素子との間には、介在素子が存在してもよく、存在しなくてもよい。特定の素子が他の素子に接続されることが説明される時、当該特定の素子は、介在素子を有することなく他の素子に直接接続されてもよいし、他の素子に直接接続されなく介在素子を有してもよい。
本開示で使用される全ての用語（技術的用語又は化学的用語を含む）は、特に定義しない限り、本開示が属する技術分野の当業者によって理解されるものと同じ意味を有する。また、理解すべきなのは、一般辞書などに定義された用語は、関連技術の文脈における意味と一致する意味を有すると解釈されるべきであり、明細書で明確に定義しない限り、理想化又は極度の形式化の意味で解釈されるべきではない。
本開示では、用語「約」は、本明細書に列挙されたそれらの数値範囲及び／又は数値とは、許容されるプロセス誤差及び測定誤差の範囲内で実質的に同じ数値範囲及び／または数値を意味する。
関連分野の当業者に知られている技術、方法及び装置については詳細に検討しないが、適宜な場合、前記技術、方法及び装置は、明細書の一部とみなされるべきである。
いくつかの関連技術では、フレキシブルＯＬＥＤは、高分子材料を保護カバープレートとして使用しており、形成されたＯＬＥＤデバイスが割れ難い。本発明者は、研究したところ、いくつかのＯＬＥＤフレキシブル表示デバイスの四隅部にブラックバンド現象が発生し、使用者の視覚体験に影響を与えていることを見出した。使用者の視覚体験を向上させることができるように、表示基板は、表示スクリーンの四隅部に表示エリアを設けてブラックバンド現象を改善することが可能であるが、通常の表示エリアと四隅部の表示エリアとに発光の違いがあり、人の目に見える混色が発生し易くなる。
これに鑑みて、本開示の実施例は、使用者の視覚体験を向上させることができる表示基板、表示パネル、表示装置及び表示基板の製造方法を提供している。
図１は、表示パネルの一実施例の構造模式図である。図２は、図１に示す表示パネルによる一実施例における表示基板のレイアウト模式図である。
図１及び図２を参照して、いくつかの実施例において、表示パネルは、表示基板Ａ及びカバープレートＢを含む。カバープレートＢは、前記表示基板Ａの出光方向に沿って前記表示基板Ａの前側に位置し、即ち表示基板Ａの発光側に位置する。表示基板ＡとカバープレートＢとの間は、シーラントＣ（例えば、光学接着剤ＯＣＡ等）によって封止され得る。図２では、表示基板Ａは、表示エリアＡ１と、前記表示エリアＡ１を取り囲む非表示エリアＡ２とを有する。表示基板Ａは、非表示エリアＡ２にてカバープレートＢと封止され得る。カバープレートＢの材料としては、剛性材料又はフレキシブル材料、例えばガラスや無色ポリイミド（Ｃｏｌｏｒｌｅｓｓ Ｐｏｌｙｉｍｉｄｅ、ＣＰＩと略す）薄膜等が使用され得る。
図２を参照して、表示エリアＡ１は、複数の側辺Ａ１１を含み、前記複数の側辺Ａ１１のうち、隣接する側辺Ａ１１が交差して複数の角部Ａ１２を形成している。図２では、表示エリアＡ１は、対向する側辺Ａ１１を２組有し、隣接する側辺Ａ１１が互いに垂直である。それに応じて、表示エリアＡ１は、４つの角部Ａ１２を有する。表示エリアＡ１には、第一表示エリアＡ１３、第二表示エリアＡ１４、及び第一表示エリアＡ１３と第二表示エリアＡ１４との間の遷移領域Ａ１５が含まれる。第一表示エリアＡ１３は、第一画素密度を有し、第二表示エリアＡ１４は、第二画素密度を有し、遷移領域Ａ１５は、第三画素密度を有する。前記第二画素密度は、前記第一画素密度よりも低く、前記第三画素密度は、第一画素密度又は第二画素密度に等しいか、或いは、第一画素密度との第二画素密度との間にある。ここでの画素密度とは、単位面積あたりの画素数量を意味する。
図２を参照して、いくつかの実施例において、前記第二表示エリアＡ１４は、前記複数の角部Ａ１２の少なくとも１つに位置する。図２では、４つの角部Ａ１２の何れにも、第二表示エリアＡ１４が設けられている。いくつかの関連技術における表示基板の角部とカバープレートとの間が有機インクによって充填封止されることに起因して角部にブラックバンドが発生してしまう点を考慮して、本実施例は、第一表示エリアよりも画素密度が低くなる第二表示エリアを角部に設けるようにしている。こうして、角部での画像表示を実現可能となるため、画面占有率が向上され、表示額縁が狭められ、更に使用者により良好な視覚体験を与えられながら、角部の加工プロセスの困難度も低減できる。
図３は、本開示による表示パネルの一実施例における部分上面図の模式図である。図４は、本開示による表示パネルの一実施例における表示基板のうち、第二表示エリアに対応する部分がガラス基板上に形成される構造模式図である。図５は、本開示による表示パネルの一実施例における表示基板のうち、第二表示エリアに対応する部分がガラス基板から離脱される構造模式図である。
図３～図５を参照して、いくつかの実施例において、第二表示エリアＡ１４は、伸張可能ベース１、複数の表示ユニット２及び複数の配線ユニット３を含む。伸張可能ベース１には、フレキシブル材料、例えばポリイミドＰＩ等が使用され得る。図３を参照して、伸張可能ベース１は、前記伸張可能ベース１の表面に沿って分布された複数の開孔パターン１０（例えば、図３における破線枠内の複数の開孔によって構成された開孔パターン）を含む。複数の開孔パターン１０の各々は、複数の第一開孔１１を含み、前記複数の第一開孔１１のうち、少なくとも一部の隣接する第一開孔１１の間には、アイランドエリア１３を取り囲む複数のブリッジエリア１２が形成されている。伸張可能ベース１上に複数の開孔パターン１０を設けることで、第二表示エリアＡ１４の伸張表示を実現可能となる。第二表示エリアでの伸張表示によって、表示基板の表示エリアの角部とカバープレートとがより緊密に貼り合わせられるようにし、封止時に角部とカバープレートとの間の貼り合わせに影響を与える状況例えば気泡等の発生を低減又は回避することができる。
図３では、開孔パターン１０のアイランドエリア１３の四周には、それぞれ３つの第一開孔１１が設けられており、３つの第一開孔１１によれば、隣接する第一開孔１１の間に２つのブリッジエリア１２が形成できる。別のいくつかの実施例において、アイランドエリア１３に対するアイランドエリア１３の周囲にある第一開孔１１の位置、第一開孔１１の数量は、図３に示すものに限定されない。第一開孔１１の幅は、約１５～２５μｍであってもよい。図４を参照して、いくつかの実施例において、複数の表示ユニット２は、それぞれ各開孔パターン１０に形成されたアイランドエリア１３上に設けられ、複数の配線ユニット３は、それぞれ前記複数の表示ユニット２の間に接続され、且つそれぞれ前記複数のブリッジエリア１２に設けられている。表示ユニット２は、表示サブ画素（例えば、ＲＧＢサブ画素）及び駆動回路を有し、画像表示を実現できる。複数の表示ユニット２は、それぞれ複数の配線ユニット３を介して接続される。
各表示エリア内の表示ユニットが正常に発光できることを確保し、材料失効及び電極腐食の発生を防止するために、各表示エリアは、薄膜封止層によって封止保護されてもよい。そのうち、第一表示エリアＡ１３は、ベース上に設けられた複数の表示ユニット、及び前記複数の表示ユニットの発光側に設けられた第一薄膜封止構造を含み、第二表示エリアＡ１４は、ベース上に設けられた複数の表示ユニット、及び前記複数の表示ユニットの発光側に設けられた第二薄膜封止構造を含み、遷移表示エリアＡ１５は、ベース上に設けられた複数の表示ユニット、及び前記複数の表示ユニットの発光側に設けられた第三薄膜封止構造を含む。
いくつかの関連技術では、表示基板上の薄膜封止層は、通常、表示ユニットの発光側に順次に重ねられた第一無機封止層、有機封止層及び第二無機封止層によって形成された積層構造である。第一無機封止層及び第二無機封止層は、プラズマ強化化学気相堆積によって形成されてもよく、有機封止層は、プリントによって形成されてもよい。有機封止層をプリントした有機材料（例えば、有機インク）が第一開孔内に溢れ出て、第二表示エリアＡ１４内の表示ユニットを水分及び酸素による侵食の危険にさらしてしまうことを回避するために、第二表示エリアＡ１４内の表示ユニットと第一開孔との間に障壁を設けることで、有機材料に対するエッジ位置の制御を実現してもよい。しかし、第二表示エリアＡ１４及び遷移表示エリアＡ１５の薄膜封止層が何れも第一表示エリアＡ１３と同じ薄膜封止層構造を使用した場合、第二表示エリアＡ１４及び遷移表示エリアＡ１５の画素密度が第一表示エリアＡ１３よりも低いと、遷移表示エリアＡ１５及び第二表示エリアＡ１４が影響されて異常に発光し、人の目に見える混色が生じてしまう。
上記問題を改善するために、図６を参照して、図６は、本開示の実施例による表示基板における第一表示エリアＡ１３、第二表示エリアＡ１４及び遷移表示エリアの薄膜封止層構造の断面構造図であり、第一表示エリアＡ１３内の第一薄膜封止構造は、前記複数の表示ユニットの発光側に順次に重ねられた第一無機封止層２５１、第一有機封止層２５２及び第二無機封止層２５３を含み、第二表示エリアＡ１４内の第二薄膜封止構造は、前記複数の表示ユニットの発光側に順次に重ねられた第一無機封止層２５１、第二無機封止層２５３及び第二有機封止層２５４を含み、前記第三薄膜封止構造は、第一部分２５０Ａ及び第二部分２５０Ｂを含み、第一部分２５０Ａは、前記第一表示エリアＡ１３に近い側に位置し、第二部分２５０Ｂは、前記第二表示エリアＡ１４に近い側に位置し、前記第一部分２５０Ａは、前記複数の表示ユニットの発光側に順次に重ねられた第一無機封止層２５１、第一有機封止層２５２、第二無機封止層２５３及び第二有機封止層２５４を含み、前記第二部分２５０Ｂは、前記複数の表示ユニットの発光側に順次に重ねられた第一無機封止層２５１、第二無機封止層２５３及び第二有機封止層２５４を含み、前記第二有機封止層２５４の透光率は、前記第一有機封止層２５２の透光率よりも大きい。
上記態様では、第一表示エリアＡ１３、第二表示エリアＡ１４及び遷移表示エリアＡ１５の薄膜封止層の構造は異なり、第一無機封止層２５１及び第二無機封止層２５３は、プラズマ強化化学気相堆積によって形成されてもよく、第一有機封止層２５２は、プリントによって形成されてもよく、第二有機封止層２５は、選択的に、光学接着剤等の塗布によって形成されてもよく、第二有機封止層２５４の透光率は、第一有機封止層２５２よりも大きい。これによって、第一薄膜封止構造の透光率は、第二薄膜封止構造及び第三薄膜封止構造の透光率よりも小さくなり、遷移表示エリアＡ１５及び第二表示エリアＡ１４の異常発光現象を改善し、視覚体験を向上させることができる。
なお、第一有機封止層２５２がプリントによって完成され、第一有機封止層２５２の有機材料（例えば、有機インク）が流動性を有し、プリント完了後に長い登坂距離があるため、第一表示エリアＡ１３と遷移表示エリアＡ１５との間には、プリント用インキが制御できない場合がある（図１３に示す）。したがって、図６を参照して、いくつかの実施例において、第一表示エリアＡ１３と遷移表示エリアＡ１５との間に第一障壁２７１を設けることで、遷移表示エリアＡ１５と第二表示エリアＡ１４との間は、第二障壁２７２によって隔てられ、有機インキが溢れ出るリスクが低減される。
図６を参照して、第一障壁２７１は、前記第一表示エリアＡ１３の複数の表示ユニットの発光エリアと、前記遷移表示エリアＡ１５の複数の表示ユニットの発光エリアとの間に設けられ、第二障壁２７２は、前記第二表示エリアＡ１４の複数の表示ユニットの発光エリアと、前記遷移表示エリアＡ１５の複数の表示ユニットの発光エリアとの間に設けられている。
前記第一部分２５０Ａの第一無機封止層２５１、第一有機封止層２５２及び前記第二無機封止層２５３は、前記第一薄膜封止構造を前記遷移表示エリアＡ１５の位置する側へ延在させて形成され、且つ前記第一部分２５０Ａの第一無機封止層２５１、第一有機封止層２５２及び前記第二無機封止層２５３は、前記第一障壁２７１を覆っているが、前記第二障壁２７２を覆っていない。つまり、第一表示エリアＡ１３の第一薄膜封止構造における各膜層と第一部分２５０Ａにおける対応する各膜層とは、同じ材料且つ同じ材質となり、第一薄膜封止構造は、遷移表示エリアＡ１５に向かって、ある程度の距離だけ延在すると、第一障壁２７１を覆うとともに第二障壁２７２を覆わない位置に到達して、当該第一部分２５０Ａの第一無機封止層２５１、第一有機封止層２５２及び前記第二無機封止層２５３が形成される。
前記第二部分２５０Ｂは、前記第二薄膜封止構造を前記遷移表示エリアＡ１５の位置する側へ延在させて形成され、前記第二部分２５０Ｂは、前記第二障壁２７２を覆うが、前記第一障壁２７１を覆っておらず、
且つ前記第一部分２５０Ａの前記第二有機封止層２５４は、前記第二部分２５０Ｂにおける前記第二有機封止層２５４を前記遷移表示エリアＡ１５の位置する側へ延在させて形成されている。つまり、第二表示エリアＡ１４の第二薄膜封止構造における各膜層と、第二部分２５０Ｂにおける対応する各膜層とは、同じ材料且同じ材質となり、第二表示エリアＡ１４の第二薄膜封止構造における各膜層は、遷移表示エリアＡ１５に向かって、ある程度の距離だけ延在して、第二障壁２７２を覆うようになり、且つ前記第二部分２５０Ｂの前記第二有機封止層２５４は、前記第一部分２５０Ａの前記第二無機封止層２５３を覆う位置まで延在する。
説明すべきなのは、上記実施例では、第一障壁２７１は、前記第一表示エリアＡ１３と前記遷移表示エリアＡ１５との間に設けられ、第二障壁２７２は、前記第二表示エリアＡ１４と前記遷移表示エリアＡ１５との間に設けられていたが、別のいくつかの実施例において、
前記遷移表示エリアＡ１５に第一障壁２７１及び第二障壁２７２が設けられ、前記第一障壁２７１及び前記第二障壁２７２と、前記遷移表示エリアＡ１５の表示ユニットとは、前記ベース上での正投影が重なり合わず、且つ前記第一障壁２７１は、前記遷移表示エリアＡ１５における前記第一表示エリアＡ１３に近い側に設けられ、前記第二障壁２７２は、前記遷移表示エリアＡ１５における前記第二表示エリアＡ１４に近い側に設けられるようにする。
なお、図６を参照して、第一有機封止層２５２がプリントによって完成され、そのプリント材料が流動性を有するため、第二表示エリアＡ１４に近い側に登坂面２５２０が形成されることになり、一方で、第二無機封止層２５３が第一有機封止層２５２を覆うため、前記第一部分２５０Ａは、前記第二表示エリアＡ１４に近い側に登坂面２５２０を有し、前記第一部分２５０Ａの前記第二有機封止層２５４は、前記登坂面２５２０における前記ベース１から遠い側を覆う。
図６を参照して、前記第二薄膜封止構造における前記第二有機封止層２５４の前記ベースから遠い側の表面と、前記第三薄膜封止構造における前記第二有機封止層２５４の前記ベースから遠い側の表面とは、略面一になっている。
図４及び図５を参照して、いくつかの実施例において、表示基板Ａは、最初にガラス基板４上に形成され、形成後に表示基板Ａがガラス基板４上から剥離される。表示基板の形成中に、第一開孔１１に対応する位置で全膜層に亘って孔を掘る一方で、アイランドエリア１３、ブリッジエリア１２及び第一開孔１１に対応する位置で、（例えば、表示基板の電極層及び無機封止層等の）全面メッキを行う。
表示基板Ａを（例えば、レーザリフトオフによって）剥離する場合、レーザリフトオフ中に、第一開孔１１に位置する膜層とアイランドエリアに位置する膜層との間の膜層の剥落（Ｐｅｅｌｉｎｇ）及び局所的な不規則な膜層の破裂（Ｃｒａｃｋ）のリスクがあると判明された。このプロセスリスクを解決するために、図４では、表示基板Ａ上における第一開孔１１に対応する位置にて、表示基板に垂直な方向に沿って開孔してから、電極層及び無機封止層等の膜層の全面蒸着を行うことで、第一開孔１１内にも電極層及び無機封止層等の膜層が存在するようにしている。
ここで説明すべきなのは、上記第一開孔１１は、ドライエッチングプロセスによって形成されてもよいが、プロセス条件によって制約される。いくつかの実施例において、前記第一開孔１１は、前記ベース１から遠い側に位置する開口端１１１、前記ベース１に近い側に位置する底端１１２、及び、前記開口端１１１と前記底端１１２との間に位置する孔体部分１１３を含み、複数の第一開孔１１のうち、少なくとも１つの開孔幅は、前記表示基板Ａの出光方向に沿って前記孔体部分１１３の開孔幅が徐々に増大し、前記開口端１１１の開孔幅ｄ１が前記孔体部分の最大開孔幅ｄ２よりも小さく、前記孔体部分１１３の最大開孔幅ｄ２が前記底端１１２の開孔幅ｄ３よりも大きくなるようにされており、即ち、上下が狭くて中間が広い第一開孔形状が形成される。前記孔体部分１１３の側壁における前記開口端１１１に近い少なくとも一部は、弧形の曲面状である。
レーザリフトオフ検証によれば、このような開孔形状は、剥離時に第一開孔１１におけるアイランドエリア１３に近接する側の孔壁及びブリッジエリア１２に近接する側の孔壁の何れも比較的平らな断面を形成可能にするため、プロセスが効果的に改善される。剥離後、第一開孔１１の底部の膜層１５は、剥離された基板４上に残される。ここでの平らな断面とは、第一開孔１１の両側の孔壁と膜層１５との間の分断された部位が比較的平らであり、局所的な膜層の剥離又は不規則な膜層の断裂による凹凸が断面にないことを意味する。説明すべきなのは、前記孔体部分１１３の開孔幅の範囲は、５～２５ミクロンとされてもよく、前記開口端１１１の開孔幅の範囲は、３～２０ミクロンとされてもよく、前記孔体部分１１３の深さｈの範囲は、５～２５ミクロンとされてもよい。
なお、更に説明すべきなのは、前記孔体部分１１３の最大開孔幅ｄ２と前記開口端１１１の開孔幅ｄ１との差の範囲は、０．４～４ミクロンとされる。即ち、前記第一開孔１１の対向する両側では、各側の前記孔体部分１１３の開孔幅が前記開口端１１１の開孔幅よりも０．２～２ミクロンだけ大きい。
ここで説明すべきなのは、もし第一表示エリアＡ１３、第二表示エリアＡ１４及び遷移表示エリアＡ１５の薄膜封止層構造が、何れも従来の第一無機封止層２５１、有機封止層及び第二無機封止層２５３の積層構造を使用した場合、有機封止層が第一開孔１１内に溢れ出るリスクがあり、第一開孔１１について全膜層に亘る孔掘りプロセスを使用した場合（図５に示す）、表示基板のレーザリフトオフ中に、第一開孔１１に位置する膜層とアイランドエリアに位置する膜層との間の膜層の剥落（Ｐｅｅｌｉｎｇ）及び局所的な不規則な膜層の破裂（Ｃｒａｃｋ）のリスクが増加する。
これに対して、本開示の実施例による表示基板に基づけば、第二表示エリアＡ１４の第二薄膜封止構造において、第二有機封止層２５４は、封止構造の最上層に位置し、第二有機封止層２５４には、選択的にフォトレジスト等の材料が使用されてもよく、表示基板の剥離前に、第二有機封止層２５４に対してパターン化処理を行っておくことで、第一開孔に対応する位置にある第二有機封止層２５４が除去されるようにしてもよい。こうすれば、表示基板の剥離時に、膜層の剥落及び破裂のリスクを低減できる。
なお、図６を参照して、いくつかの実施例において、表示基板Ａは、最初にガラス基板４上に形成され、形成後に表示基板Ａがガラス基板４上から剥離される。表示基板の形成中に、第一開孔１１に対応する位置が盲孔とされてもよく、つまり、フレキシブルベースの下地が一部残されてもよい。こうすれば、レーザリフトオフ時には、膜層の裂け又は膜層の脱落のリスクがなくなる。実際の応用では、伸張可能ベースの伸張可能量に応じて、前記第一開孔１１を盲孔にするか、それとも全膜層に亘る掘り孔にするかを選択可能である。
図６は、本開示による表示パネルのいくつかの実施例における表示基板のうち、第一表示エリアＡ１３、第二表示エリアＡ１４及び遷移表示エリアＡ１５に対応する部分がガラス基板上に形成される構造模式図である。図８は、本開示に係る表示パネルのいくつかの実施例における表示基板のうち、第二表示エリアＡ１４に対応する部分がガラス基板上に形成される構造模式図である。図９及び図１０は、それぞれ本開示による表示パネルのいくつかの実施例におけるアイランドエリア、第一開孔及びブリッジエリアの配置模式図である。図１０及び図１１は、それぞれ本開示による表示パネルのいくつかの実施例における第一凹溝の断面模式図である。
いくつかの実施例において、第一表示エリアＡ１３、第二表示エリアＡ１４及び遷移表示エリアＡ１５の何れにも、複数の表示ユニットが設けられており、且つ各表示エリア内の表示ユニットの構造が同じであってもよいし、異なってもよい。
図６に示すものを例にすると、複数の表示ユニット２の少なくとも１つは、薄膜トランジスタ２２、第一平坦化層２４１、第二電極層２４３、有機絶縁層２６、第一有機発光層２４５、第一電極層２４４を含む。図６を参照して、いくつかの実施例において、前記有機絶縁層は、複数のポストスペーサ（Ｐｏｓｔ Ｓｐａｃｅｒ、ＰＳと略す）を含む。
図６及び図７では、薄膜トランジスタ２２は、ベース１上に設けられている。薄膜トランジスタ２２は、アクティブ層２２１、ゲート２２２、第一ソース２２３、第一ドレイン２２４、第二ソース２２５及び第二ドレイン２２６を含む。第一ソース２２３及び第一ドレイン２２４は、ビアホールを介してアクティブ層２２１に電気的に接続され、第二ソース２２５及び第二ドレイン２２６は、それぞれビアホールを介して前記第一ソース２２３及び第一ドレイン２２４に電気的に接続される。薄膜トランジスタ２２は、図６及び図７に示す構造形態に限定されず、別のいくつかの実施例において、他の構造形態を使用してもよく、例えば薄膜トランジスタは、単層のソース及びドレインを含んでもよい。
第一平坦化層２４１は、前記表示基板の発光方向に沿って前記ベース１の前側に位置し、即ち前記ベース１における前記カバープレートＢに近接する側に位置する。具体的に、第一平坦化層２４１は、前記薄膜トランジスタ２２における前記ベース１から遠い側に位置し、且つ前記薄膜トランジスタ２２を覆っている。第一平坦化層２４１は、その上の膜層の形成に平坦な表面を提供するために使用され得る。
いくつかの実施例において、有機絶縁層２３６は、前記第一平坦化層２４１における前記伸張可能ベース１から遠い側に位置し、前記第一障壁２７１は、第一凹溝を含んでもよく、当該第一凹溝が前記第一平坦化層２４１上に設けられ、且つ前記有機絶縁層が前記第一凹溝をその形状に倣って覆っていて、前記第一障壁２７１を形成してもよく、前記第二障壁２７２は、第二凹溝を含んでもよく、当該第二凹溝が前記第一平坦化層２４１上に設けられ、且つ前記有機絶縁層が前記第二凹溝をその形状に倣って覆っていて、前記第二障壁２７２を形成してもよい。
別のいくつかの実施例において、前記第一凹溝及び前記第二凹溝は、前記有機絶縁層上に設けられて、それぞれ第一障壁２７１及び第二障壁２７２を形成してもよい。
具体的に、図６を参照して、いくつかの実施例において、前記有機絶縁層は、前記第一表示エリアＡ１３に設けられた第一ポストスペーサ２３６ａ、前記遷移表示エリアＡ１５に設けられた第二ポストスペーサ２３６ｂ、及び前記第二表示エリアＡ１４に設けられた第三ポストスペーサ２３６ｃを含み、前記第一凹溝は、前記第一ポストスペーサ２３６ａ上に設けられ、前記第二凹溝は、前記第二ポストスペーサ２３６ｂ上に設けられ、前記第三ポストスペーサ２３６ｃ上には、凹溝が設けられていない。
第二電極層２４３は、前記第一平坦化層２４１における前記伸張可能ベース１から遠い側に位置し、且つビアホールを介して前記薄膜トランジスタ２２に電気的に接続される。
第一有機発光層２４５は、前記第二電極層２４３における前記ベース１から遠い側に位置する。第一電極層２４４は、前記第一有機発光層２４５におけるベース１から遠い側に位置する。第一電極層２４４によって、前記第一有機発光層２４５も覆われる。
いくつかの実施例において、当該第二電極層２４３は、アノード層であり、第一電極層２４４は、カソード層である。第二電極層２４３、第一有機発光層２４５及び第一電極層２４４は、薄膜トランジスタ２２によって駆動される発光エレメントを形成可能である。第一有機発光層２４５に使用される異なる材料によって、異なる色のサブ画素を実現可能である。
図６及び図７を参照して、いくつかの実施例において、前記第一有機封止層２５２は、前記第一無機封止層２５１のうち、前記第一凹溝（即ち第一障壁２７１）における前記第二凹溝（即ち第二障壁２７２）から遠い側に位置する部分、及び、前記第一凹溝と前記第二凹溝との間における前記第一凹溝に近い側にある部分を覆っているが、前記第一無機封止層２５１のうち、前記第一凹溝と前記第二凹溝との間における前記第二凹溝に近い側にある部分、前記第二凹溝、及び前記第二凹溝における前記第一凹溝から遠い側にある部分を覆っておらず、前記第二無機封止層２５３は、前記第一有機封止層２５２と、前記第一無機封止層２５１における前記第一有機封止層２５２によって覆われていない部分とを覆っており、前記第二有機封止層２５４は、前記第二無機封止層２５３のうち、前記第一凹溝に位置する部分、及び前記第一凹溝における前記第一表示エリアから遠い側にある部分を覆うが、前記第一開孔１１を覆っていない。
第一凹溝は、第一有機絶縁層２３６における前記ベース１から遠い側に設けられ、第二凹溝は、第二有機絶縁層２３６における前記ベース１から遠い側に設けられ、第一有機封止層２５２を形成した有機材料の溢れ出の阻止に使用される。こうして、第一有機封止層２５２によって、第一無機封止層２５１のうち、前記第一凹溝における前記第二凹溝から遠い側に位置する部分、及び前記第一凹溝と前記第二凹溝との間における前記第一凹溝に近い側の部分が覆われるが、前記第一無機封止層２５１のうち、前記第一凹溝と前記第二凹溝との間における前記第二凹溝に近い側にある部分、前記第二凹溝、及び前記第二凹溝における前記第一凹溝から遠い側にある部分が覆われない。
第一凹溝及び第二凹溝の設置位置は、前記遷移表示エリアＡ１５及び前記第二表示エリアＡ１４のアイランドエリア内のサブ画素の間隔及び並び方に応じて決定可能である。
図６及び図７では、第一凹溝及び第二凹溝は、露光現像プロセスによって完成されてもよい。有機材料のプリントの際、有機材料が第二凹溝に流れた後、引き続き第二凹溝２７における第一開孔に近接する側へ溢れ出にくくなる。
図９を参照して、いくつかの実施例において、第一凹溝及び第二凹溝は何れも、前記第一方向に沿って延在する連続凹溝２７ａを含み、前記第一方向は、前記第一表示エリアと前記遷移表示エリアとの境界線の延在する方向であり、即ち、第一開孔１１の長さ方向である。図９及び図１１を参照して、連続凹溝２７ａは、第二方向における溝幅ｗ１が約５～１５μｍであり、第三方向における溝高さｈ１が約１．０～２．５μｍであり、前記第二方向は、前記第一方向に垂直であるとともに前記伸張可能ベースに平行であり、前記第三方向は、前記伸張可能ベースに垂直である。つまり、ここでの溝幅ｗ１とは、有機絶縁層２３６上の連続凹溝２７ａの、第一方向に垂直であるとともに伸張可能ベース１に平行な方向に沿った寸法であり、溝高さｈ１とは、有機絶縁層２３６上の連続凹溝２７ａの、伸張可能ベース１に垂直な方向に沿った寸法である。
図１０を参照して、いくつかの実施例において、第一凹溝及び第二凹溝は何れも、前記第二方向に沿って配列された少なくとも一列の離散凹溝２７ｂを含み、前記第二方向は、前記第一方向に垂直であるとともに前記伸張可能ベースに平行であり、各々の列の離散凹溝２７ｂは、前記第一方向に沿って離間して並べられた複数の離散凹溝２７ｂを含み。そのうち、前記第一凹溝及び前記第二凹溝が少なくとも２列の離散凹溝２７ｂを含む場合、少なくとも２列の離散凹溝２７ｂは、アレイ状に分布されてもよく、つまり、少なくとも２列の離散凹溝２７ｂの行方向が前記第二方向であり、列方向が前記第一方向であってもよい。
図１０及び図１２を参照して、複数の離散凹溝２７ｂは、溝幅ｗ２が約５～１５μｍであり、溝高さｈ２が約１．０～２．５μｍである。ここでの溝幅ｗ２とは、有機絶縁層２３６上の各離散凹溝２７ｂの第二方向に沿った寸法であり、溝高さｈ２とは、有機絶縁層２３６上の各離散凹溝２７ｂの、伸張可能ベース１に垂直な第三方向に沿った寸法である。
図１０では、少なくとも一列の離散凹溝２７ｂは、第二方向に順次に配列された複数列の離散凹溝２７ｂ（例えば、２列の離散凹溝）を含む。
複数列の離散凹溝２７ｂのうち、隣接する列の離散凹溝２７ｂの間隔ｄは、約２～１５μｍである。ここでの間隔ｄとは、隣接する列の離散凹溝２７ｂの第二方向に沿った距離である。
説明すべきなのは、いくつかの実施例において、第一凹溝及び第二凹溝の形状、寸法は、同じであるが、別のいくつかの実施例において、第一凹溝及び第二凹溝の形状、寸法は、異なってもよい。
いくつかの表示パネルの実施例の製造プロセスでは、一部の膜層（例えば、有機発光層又は電極層）は、第二表示エリアＡ１４内で全面メッキによって形成される。それに応じて、第一開孔に対応する膜層とアイランドエリアに対応する膜層との連通による失効のリスクを防ぐために、いくつかの実施例において、第一凹溝と第一開孔１１との間に第一隔離構造を設けることで、膜層の仕切り効果を実現するようにしている。
図６及び図８を参照して、いくつかの実施例において、複数の表示ユニット２の少なくとも１つは、第一隔離構造２８、２８’を更に含む。第一隔離構造２８、２８’は、前記第一凹溝と前記第一開孔１１との間に位置しており、横方向の有効封止距離を高めるために、前記第一隔離構造２８、２８’の両側における第一電極層２４４を分断するように配されている。第一電極層２４４は、前記第一隔離構造２８、２８’を覆っており、且つ前記第一隔離構造２８、２８’における前記第一凹溝に近接する側及び前記第一開孔１１に近接する側に位置する。
図６を参照して、複数の表示ユニット２の少なくとも１つは、第一パッシベーション層２３５を更に含む。当該第一パッシベーション層２３５は、前記第三ポストスペーサ２３６ｃと前記第一開孔１１との間に位置し、且つ第一パッシベーション層２３５の少なくとも一部は、前記第一平坦化層２４１における前記伸張可能ベース１から遠い側に位置する。なお、複数の表示ユニット２の少なくとも１つは、第一バッファ層２１、第一ゲート絶縁層２３１、第二ゲート絶縁層２３２、層間絶縁層２３３及び第二パッシベーション層２３４を更に含んでもよい。
研究により、プラズマ成膜プロセスを使用して第一無機封止層２５１及び第二無機封止層２５３を形成した場合、第一平坦化層２４１における第一開孔１１に近接する部位に形成された側方膜層（即ち第一無機封止層２５１及び第二無機封止層２５３のうち、第一開孔１１側壁上に位置する部分）は、大きいな段差に起因して比較的薄くなり、第一開孔１１側からの湿気は、薄くなった側方膜層から第一平坦化層を経由して薄膜トランジスタ等の素子に入り込むことで、素子の失効を招く恐れがあると判明された。
図６及び図７では、第一パッシベーション層２３５は、前記第一平坦化層２４１における前記伸張可能ベース１から遠い側に位置する第一パッシベーション部分２３５ａ、及び第一平坦化層２４１における第一開孔１１に近接する側に位置する第二パッシベーション部分２３５ｂを含む。当該第二パッシベーション部分２３５ｂは、第一パッシベーション層２３５による第一平坦化層２４１における第一開孔１１に近接する側の表面に対する隔離保護が形成されて、第一開孔１１側からの湿気が第一平坦化層を経由して薄膜トランジスタ等の素子に入り込むリスクが低減又は回避されるように、第二パッシベーション層２３４の表面に接続されている。いくつかの実施例において、第一パッシベーション層２３５と第二パッシベーション層２３４とは、両者の間のより緊密な結合が実現されるように、同じ材料とされている。
第一バッファ層２１は、前記伸張可能ベース１における前記第一平坦化層２４１に近接する側に位置する。第一ゲート絶縁層２３１は、前記第一バッファ層２１における前記伸張可能ベース１から遠い側に位置し、且つ前記薄膜トランジスタ２２のアクティブ層２２１を覆っている。第二ゲート絶縁層２３２は、前記第一ゲート絶縁層２３１における前記伸張可能ベース１から遠い側に位置し、且つ前記薄膜トランジスタ２２のゲート２２２を覆っている。
層間絶縁層２３３は、前記第二ゲート絶縁層２３２における前記伸張可能ベース１から遠い側に位置する。第二パッシベーション層２３４は、前記層間絶縁層２３３と前記第一平坦化層２４１との間に位置する。第一パッシベーション層２３５は、前記第一平坦化層２４１における前記伸張可能ベース１から遠い側に位置し、且つ前記有機絶縁層２３６と前記第一開孔１１との間に位置する。
薄膜トランジスタ２２のゲート２２２は、第一ゲート絶縁層２３１における伸張可能ベース１から遠い側の表面に位置する。薄膜トランジスタ２２の第一ソース２２３及び第一ドレイン２２４は、層間絶縁層２３３における伸張可能ベース１から遠い側の表面に位置し、且つ第一ゲート絶縁層２３１、第二ゲート絶縁層２３２及び層間絶縁層２３３を貫通したビアホールを介してアクティブ層２２１に電気的に接続される。薄膜トランジスタ２２の第二ソース２２５及び第二ドレイン２２６は、第二パッシベーション層２３４における伸張可能ベース１から遠い側の表面に位置し、且つ第二パッシベーション層２３４を貫通したビアホールを介してアクティブ層２２１に電気的に接続される。別のいくつかの実施例において、表示ユニット２は、第一ゲート絶縁層２３１のみを含み、第二ゲート絶縁層２３２を含まない。別のいくつかの実施例において、薄膜トランジスタ２２は、単層のソース及びドレインを含む。
図６及び図７では、第一隔離構造２８は、前記第一パッシベーション層２３５に位置する少なくとも１つの第三凹溝２８１を含む。少なくとも１つの第三凹溝２８１の底部によって覆われた第一電極層２４４と、前記第一パッシベーション層２３５の表面を覆っている第一電極層２４４とは、互いに分断されている。図６及び図７を参照して、少なくとも１つの第三凹溝２８１は、溝幅ｗ３が約３～１０μｍであり、溝高さｈ３が約１０００～３０００ｎｍである。ここでの溝幅ｗ３とは、各第三凹溝２８１の、第一開孔１１に垂直な第二方向に沿った寸法であり、溝高さｈ３とは、各第三凹溝２８１の、伸張可能ベース１に垂直な第三方向に沿った寸法である。
図６及び図７を参照して、いくつかの実施例において、前記複数の配線ユニット３の少なくとも１つは、第二平坦化層３３１、画素規定層３３２及び第三電極層３３３を含む。第二平坦化層３３１は、前記表示基板の発光方向に沿って前記伸張可能ベース１の前側に位置し、即ち前記伸張可能ベース１における前記カバープレートＢに近接する側に位置する。画素規定層３３２は、前記第二平坦化層３３１における前記伸張可能ベース１から遠い側に位置し、前記第二平坦化層３３１の一部の表面を覆うとともに、少なくとも１つの第四凹溝３６１を有している。
図６では、複数の配線ユニット３の少なくとも１つは、第二バッファ層３１、第一導電配線３７１、ゲート絶縁層３２及び第二導電配線３７２を更に含む。第二バッファ層３１は、前記伸張可能ベース１の表面に位置する。第一導電配線３７１は、前記第二バッファ層３１における前記伸張可能ベース１から遠い側の表面に位置する。ゲート絶縁層３２は、前記第二バッファ層３１における前記伸張可能ベース１から遠い側に位置し、且つ前記第一導電配線３７１を覆っている。第二導電配線３７２は、前記ゲート絶縁層３２における前記伸張可能ベース１から遠い側の表面に位置する。
図６では、第二平坦化層３３１は、前記第二導電配線３７２における前記伸張可能ベース１から遠い側に位置し、且つ前記第二導電配線３７２を覆っている。少なくとも１つの第四凹溝３６１は、前記第一開孔１１に近接するように設けられている。そして、第三電極層３３３は、前記少なくとも１つの第四凹溝３６１の底部によって覆われ及び前記画素規定層３３２の表面を覆っている。
少なくとも１つの第四凹溝３６１の底部によって覆われた第三電極層３３３と、前記画素規定層３３２の表面が覆われた第三電極層３３３とは、互いに分断されている。これにより、ブリッジエリアに位置する第三電極層３３３と、第一開孔１１に対応する第三電極層３３３とが仕切られて、第一開孔に対応する膜層が、ブリッジエリアに対応する膜層を介してアイランドエリアに対応する膜層に連通されることを防止される。
前述した図４及び図５に示す実施例では、表示基板は、ガラス基板４上に形成されてから、レーザによって剥離される。それに応じて、いくつかの実施例において、プロセスを簡素化するためには、第一表示エリアＡ１３、第二表示エリアＡ１４及び遷移表示エリアＡ１５にそれぞれ設けられた対応する膜層が、同じ層に位置するするとともに同じ材料であり、且つ第二表示エリアＡ１４のアイランドエリア及びブリッジエリアにおける対応する膜層が、同じ層に位置するとともに同じ材料であるようにしてもよい。ここ及びその後で言及される同じ層に位置するとともに同じ材料であるとは、特定パターン形成用の膜層を、同一成膜プロセスによって形成してから、同一マスクを使用して１回のパターニングプロセスによって当該膜層をパターン化して形成された層構造であってもよい。異なる特定パターンに応じて、１回のパターニングプロセスには、露光、現像又はエッチングプロセスが複数回含まれる可能性があり、形成された層構造における特定パターンは、連続的であってもよいし、不連続的であってもよい。これらの特定パターンは、異なる高さに位置したり、異なる厚さを有したりし得る。
例えば、第二バッファ層３１と前記第一バッファ層２１とは、同じ層に位置するとともに同じ材料である。第一導電配線３７１と、前記薄膜トランジスタ２２の一部のソース及びドレイン（例えば、第一ソース２２３及び第一ドレイン２２４）とが同じ層に位置するとともに同じ材料であることで、第二導電配線３７２と前記薄膜トランジスタ２２の一部のソース及びドレイン（例えば、第二ソース２２５及び第二ドレイン２２６）とが同じ層に位置するとともに同じ材料であるようになり、第二平坦化層３３１と前記第一平坦化層２４１とが同じ層に位置するとともに同じ材料であるようになり、第三電極層３３３と前記第一電極層２４４とが同じ層に位置するとともに同じ材料であるようになる。
図９及び図１０を参照して、いくつかの実施例において、少なくとも１つの第四凹溝３６１のうち、第四凹溝３６１の数量は、前記少なくとも１つの第三凹溝２８１のうち、第三凹溝２８１の数量と同じであり、前記少なくとも１つの第三凹溝３６１と、前記少なくとも１つの第三凹溝２８１とは、それぞれ互いに連通して、前記第一開孔１１を取り囲む閉環状に形成されている。図９及び図１０では、第一開孔１１におけるアイランドエリアのサブ画素に近接する側にある２つの第三凹溝２８１（２８１ａ、２８１ｂ）は、それぞれ第一開孔１２におけるブリッジエリアに近接する側にある２つの第四凹溝３６１（３６１ａ、３６１ｂ）に連通されている。
図６に示す実施例に比べて、図８では、第一隔離構造２８’は、前記層間絶縁層２３３における前記伸張可能ベース１から遠い側の表面に位置する少なくとも１つの第一バンプ２８２を含む。前記第一電極層２４４は、前記少なくとも１つの第一バンプ２８２の頂部及び前記層間絶縁層２３３の表面を覆っている。前記少なくとも１つの第一バンプ２８２の頂部に位置する第一電極層２４４と、前記層間絶縁層２３３の表面に位置する第一電極層２４４とは、互いに分断されている。図８を参照して、少なくとも１つの第一バンプは、突起幅ｗ４が約３～１０μｍであり、突起高さｈ４が約４００～８００ｎｍである。ここでの突起幅ｗ４とは、各第一バンプ２８２の、第一開孔１１に垂直な第二方向に沿った寸法であり、突起高さｈ４とは、各第一バンプ２８２の、伸張可能ベース１に垂直な第三方向に沿った寸法である。第一バンプ２８２の材料は、Ｔｉ－Ａｌ－Ｔｉの３層構造とされてもよい。
それに応じて、図８を参照して、いくつかの実施例において、複数の配線ユニット３の少なくとも１つは、ゲート絶縁層３２、少なくとも１つの第二バンプ３６２、及び第三電極層３３３を含む。ゲート絶縁層３２は、前記表示基板の発光方向に沿って前記伸張可能ベース１の前側に位置し、即ち前記伸張可能ベース１における前記カバープレートＢに近接する側に位置する。少なくとも１つの第二バンプ３６２は、前記ゲート絶縁層３２における前記伸張可能ベース１から遠い側の表面に位置する。
図８では、複数の配線ユニット３の少なくとも１つは、第二バッファ層３１、第一導電配線３７１、第二導電配線３７２、第二平坦化層３３１及び画素規定層３３２を更に含んでもよい。第二バッファ層３１は、前記伸張可能ベース１の表面に位置する。第一導電配線３７１は、前記第二バッファ層３１における前記伸張可能ベース１から遠い側の表面に位置する。第三ゲート絶縁層３２は、前記第二バッファ層３１における前記伸張可能ベース１から遠い側に位置し、且つ前記第一導電配線３７１を覆っている。第二導電配線３７２は、前記第三ゲート絶縁層３２における前記伸張可能ベース１から遠い側の表面に位置する。
第二平坦化層３３１は、前記第二導電配線３７２における前記伸張可能ベース１から遠い側に位置し、且つ前記第二導電配線３７２を覆っている。画素規定層３３２は、前記第二平坦化層３３１における前記伸張可能ベース１から遠い側に位置し、前記第二平坦化層３３１の一部の表面を覆っている。
少なくとも１つの第二バンプ３６２は、前記第一開孔１１に近接するように設けられていてもよい。第三電極層３３３は、前記少なくとも１つの第二バンプ３６２の頂部、及び前記第三ゲート絶縁層３２のうち、前記第三ゲート絶縁層３２によって覆われていない一部の表面を覆っている。少なくとも１つの第二バンプ３６２の頂部が覆われた第三電極層３３３と、前記第三ゲート絶縁層３２の表面が覆われた第三電極層３３３とは、互いに分断されている。これにより、ブリッジエリアに位置する第三電極層３３３と、第一開孔１１に対応する第三電極層３３３とが仕切られて、第一開孔に対応する膜層が、ブリッジエリアに対応する膜層を介してアイランドエリアに対応する膜層に連通されることが防止される。
いくつかの実施例において、アイランドエリア及びブリッジエリアにそれぞれ設けられた対応する膜層は、同じ層に位置するとともに同じ材料であるようにされてもよい。例えば、第二バッファ層３１と前記第一バッファ層２１とは、同じ層に位置するとともに同じ材料である。第一導電配線３７１と、前記薄膜トランジスタ２２の一部のソース及びドレイン（例えば、第一ソース２２３及び第一ドレイン２２４）とが同じ層に位置するとともに同じ材料であることで、第二導電配線３７２と、前記薄膜トランジスタ２２の一部のソース及びドレイン（例えば、第二ソース２２５及び第二ドレイン２２６）とが同じ層に位置するとともに同じ材料であるようになり、第二平坦化層３３１と前記第一平坦化層２４１とが同じ層に位置するとともに同じ材料であるようになり、第三電極層３３３と前記第一電極層２４４とが同じ層に位置するとともに同じ材料であるようになる。
図９及び図１０を参照して、いくつかの実施例において、少なくとも１つの第二バンプ３６２のうち、第二バンプ３６２の数量は、前記少なくとも１つの第一バンプ２８２のうち、第一バンプ２８２の数量と同じであり、且つそれぞれ互いに連通して、前記第一開孔１１を取り囲む閉環状に形成されている。第二バンプ３６２と第一バンプ２８２とは、同一パターニングプロセスにて形成されてもよい。
図６及び図７を参照して、いくつかの実施例において、ブリッジエリアにおいて、複数の配線ユニット３における伸張可能ベースから遠い側の薄膜封止構造は、複数の配線ユニット３における伸張可能ベースから遠い側に順次に重ねられた第一無機側封止層、第二無機封止層２５３及び第二有機封止層２５４を含んでもよく、ブリッジエリアの薄膜封止構造とアイランドエリアの薄膜封止構造とは、各膜層の構造が同じであり、且つブリッジエリアとアイランドエリアの第二有機封止層２５４とは、伸張可能ベースから遠い側の表面が面一である。
製品の信頼性要件が満たされている場合、表示基板とカバープレートとが、ブリッジエリアに対応する位置でフレキシブルに貼り合わせられることを可能にするためには、第二有機封止層２５４とカバープレートＢとの間に他の膜層が設けられなくてもよい。
第二有機封止層２５４の形成方式としては、先ず、有機材料を第二無機封止層２５３上に塗布し、次に露光、現像等のパターン化プロセスを行って、第一開孔位置での有機材料を除去して、第二有機封止層２５４を得るようにしてもよい。第二有機封止層２５４の有機材料としては、１－メトキシ－２－プロピルアセテートやアクリル樹脂等が使用されてもよい。
いくつかの実施例において、プロセスを簡素化するために、第三電極層３３３と前記第一電極層２４４とは、同じ層に位置するとともに同じ材料である。
なお、ブリッジエリアの第二有機封止層２５４における前記伸張可能ベースから遠い側の表面は、有機封止層パターンを更に含み、前記有機封止層パターンは、少なくとも１つの第二開孔を含み、前記少なくとも１つの第二開孔の長さ方向は、隣接する第一開孔１１の長さ方向に平行である。いくつかの実施例において、有機封止層パターンは、相互に平行な複数の第二開孔を含む。塗布層パターンの第二開孔は、露光現像プロセスによって形成されてもよい。ブリッジエリアの第二有機封止層２５４における第二開孔によれば、ブリッジエリアの伸張特性を効果的に向上させることができる。
本開示の上記表示パネルの実施例は、様々な表示装置に適用可能である。したがって、本開示は、前述した表示パネルを含む表示装置を更に提供している。当該表示装置は、携帯電話、タブレットＰＣ、テレビ、ディスプレイ、ノートＰＣ、デジタルフォトフレーム、又はナビゲータ等の表示機能を有するいかなる製品又は部品であってもよい。
図１３～図１６は、本開示による表示パネルの製造方法の一実施例のフローにおける一部のステップの模式図である。上記表示基板の実施例については、図１３～図１６に示す製造方法の実施例を参照して製造され得る。
図１３～図１６を参照して、いくつかの実施例において、表示基板の製造方法は、
ベースを用意するステップＳ０１と、
表示エリアであって、前記表示エリアには、ベース上に設けられた複数の表示ユニット、及び前記複数の表示ユニットの発光側に設けられた第一薄膜封止構造を含む第一表示エリアＡ１３と、ベース上に設けられた複数の表示ユニット、及び前記複数の表示ユニットの発光側に設けられた第二薄膜封止構造を含む第二表示エリアＡ１４と、ベース上に設けられた複数の表示ユニット、及び前記複数の表示ユニットの発光側に設けられた第三薄膜封止構造を含み、前記第一表示エリアＡ１３と前記第二表示エリアＡ１４との間に位置する遷移表示エリアＡ１５とが含まれ、前記第一薄膜封止構造は、前記複数の表示ユニットの発光側に順次に重ねられた第一無機封止層２５１、第一有機封止層２５２及び第二無機封止層２５３を含み、前記第二薄膜封止構造は、前記複数の表示ユニットの発光側に順次に重ねられた第一無機封止層２５１、第二無機封止層２５３及び第二有機封止層２５４を含み、前記第三薄膜封止構造は、前記第一表示エリアＡ１３に近い側に位置する第一部分２５０Ａ、及び前記第二表示エリアＡ１４に近い側に位置する第二部分２５０Ｂを含み、前記第一部分２５０Ａは、前記複数の表示ユニットの発光側に順次に重ねられた第一無機封止層２５１、第一有機封止層２５２及び第二無機封止層２５３を含み、前記第二部分２５０Ｂは、前記複数の表示ユニットの発光側に順次に重ねられた第一無機封止層２５１、第二無機封止層２５３及び第二有機封止層２５４を含む表示エリアを、ベース上に形成するステップＳ０２とを含む。
ステップＳ０２は、具体的に、以下のステップＳ０２１～Ｓ０２６を含む。
ステップＳ０２１は、前記表示エリアの前記複数の表示ユニットの発光側に第一障壁２７１及び第二障壁２７２を形成することであり、
具体的に、露光現像プロセスによって、有機絶縁層又は第一平坦化層２４１上に第一凹溝及び第二凹溝をそれぞれ第一障壁２７１及び第二障壁２７２として形成してもよい。
ステップＳ０２２は、前記表示エリアの前記複数の表示ユニットの発光側に第一無機封止層２５１を形成することであり、
具体的に、プラズマ強化化学気相堆積を使用して第一無機封止層２５１を形成してもよい。
ステップＳ０２３は、前記第一無機封止層２５１上に第一有機材料をプリントして、前記第一表示エリアＡ１３に一部が位置するとともに前記第一障壁２７１及び／又は前記第二障壁２７２を他部が延在して覆う第一有機材料層を形成することであり、
具体的に、図１３に示すように、有機材料をプリントして、第一有機材料層を形成してもよく、有機材料は、流動性を有し、長い登坂距離があることで、第一障壁２７１を覆うとともに第二障壁２７２を覆わない位置まで延在するか、或いは、第二障壁２７２を覆う位置まで延在することになる。
ステップＳ０２４は、前記第一有機材料層に対し薄化処理を行って、前記第一有機材料層を一部除去して第一有機封止層２５２を形成し、前記遷移表示エリアＡ１５の第一無機封止層２５１が少なくとも一部露出されるようにすることであり、
具体的に、図１４に示すように、プラズマ薄化プロセスを使用して、前記第一有機材料層を約数百オングストロームの厚さになるように薄化させて、遷移表示エリアＡ１５上の薄い有機材料が除去され、遷移表示エリアＡ１５の第一無機封止層２５１が露出されるようにして、図１５に示すような表示基板が得られる。
ステップＳ０２５は、前記第一有機封止層２５２を一部が覆うとともに、前記第一無機封止層２５１のうち、前記第一有機封止層２５２によって覆われていない部分を他部が覆う第二無機封止層２５３を形成することであり、
具体的に、プラズマ強化化学気相堆積を使用して第二無機封止層２５３を形成してもよい。
ステップＳ０２６は、図１６に示すように、前記第二無機封止層２５３上に第二有機封止層２５４を塗布して、前記第二有機封止層２５４の一部が前記第二無機封止層２５３のうち、前記第一有機封止層２５２を覆う一部を覆うとともに、前記第二有機封止層２５４の他部が前記第一無機封止層２５１のうち、前記第一有機封止層２５２によって覆われていない部分を覆うようにすることであり、
具体的に、塗布の方式で第二有機封止層２５４を形成してもよい。
本明細書における複数の実施例は、漸進的な方式で説明されており、各実施例の重点が異なり、各実施例の同一部分又は類似部分について、互いに参照すればよい。方法の実施例については、その全体及びそれに係るステップが表示パネルの実施例の内容と対応関係があるため、簡単に説明されているが、関連部分は、表示パネルの実施例の説明部分を参照すればよい。
ここまで、本開示の各実施例を詳細に説明した。本開示の概念を遮蔽することを避けるため、当分野で周知される細部を説明していない。当業者であれば、上記の説明に基づき、本明細書で開示された技術案を如何にして実施するかを完全に理解することができるであろう。
本開示のいくつかの特定の実施例を例示により詳細に説明したが、当業者であれば、上記の例示が単に説明するためのものであり、本開示の範囲を限定するものではないことを理解すべきである。当業者でれば、本開示の発想及び精神から逸脱しない範囲内に、上記の実施例を変形し、又は一部の技術的特徴を同等に置換可能であることを理解すべきである。本開示の範囲は、添付の特許請求の範囲によって限定される。

Claims (30)

  1. 表示基板であって、表示エリアを含み、前記表示エリアには、
    ベース上に設けられた複数の表示ユニット、及び前記複数の表示ユニットの発光側に設けられた第一薄膜封止構造を含む第一表示エリアと、
    ベース上に設けられた複数の表示ユニット、及び前記複数の表示ユニットの発光側に設けられた第二薄膜封止構造を含む第二表示エリアと、
    ベース上に設けられた複数の表示ユニット、及び前記複数の表示ユニットの発光側に設けられた第三薄膜封止構造を含み、前記第一表示エリアと前記第二表示エリアとの間に位置する遷移表示エリアとが含まれ、
    前記第一薄膜封止構造は、前記複数の表示ユニットの発光側に順次に重ねられた第一無機封止層、第一有機封止層及び第二無機封止層を含み、
    前記第二薄膜封止構造は、前記複数の表示ユニットの発光側に順次に重ねられた第一無機封止層、第二無機封止層及び第二有機封止層を含み、
    前記第三薄膜封止構造は、前記第一表示エリアに近い側に位置する第一部分、及び前記第二表示エリアに近い側に位置する第二部分を含み、前記第一部分は、前記複数の表示ユニットの発光側に順次に重ねられた第一無機封止層、第一有機封止層、第二無機封止層及び第二有機封止層を含み、前記第二部分は、前記複数の表示ユニットの発光側に順次に重ねられた第一無機封止層、第二無機封止層及び第二有機封止層を含む、ことを特徴とする表示基板。
  2. 前記第二有機封止層の透光率は、前記第一有機封止層の透光率よりも大きい、ことを特徴とする請求項１に記載の表示基板。
  3. 前記表示エリアは、
    複数の側辺であって、隣接する側辺が交差して複数の角部を形成した複数の側辺を含み、
    前記第二表示エリアは、前記複数の角部の少なくとも１つに位置する、ことを特徴とする請求項１に記載の表示基板。
  4. 前記第一表示エリアと前記遷移表示エリアとの間に第一障壁が設けられ、前記第二表示エリアと前記遷移表示エリアとの間に第二障壁が設けられている、ことを特徴とする請求項１に記載の表示基板。
  5. 前記遷移表示エリアに第一障壁及び第二障壁が設けられており、前記第一障壁及び前記第二障壁と前記遷移表示エリアの表示ユニットとは、前記ベース上での正投影が重なり合わず、且つ前記第一障壁は、前記遷移表示エリアにおける前記第一表示エリアに近い側に設けられ、前記第二障壁は、前記遷移表示エリアにおける前記第二表示エリアに近い側に設けられている、ことを特徴とする請求項１に記載の表示基板。
  6. 前記第一部分の前記第一無機封止層、前記第一有機封止層及び前記第二無機封止層は、前記第一薄膜封止構造を前記遷移表示エリアの位置する側へ延在させて形成され、且つ前記第一部分の前記第一無機封止層、前記第一有機封止層及び前記第二無機封止層は、前記第一障壁を覆っており、
    前記第二部分は、前記第二薄膜封止構造を前記遷移表示エリアの位置する側へ延在させて形成され、且つ前記第二部分は、前記第二障壁を覆っており、
    前記第一部分の前記第二有機封止層は、前記第二部分における前記第二有機封止層を前記遷移表示エリアの位置する側へ延在させて形成されている、ことを特徴とする請求項４又は５に記載の表示基板。
  7. 前記第一部分の前記第一有機封止層は、前記第二表示エリアに近い側に登坂面を有し、前記第一部分の前記第二有機封止層は、前記登坂面における前記ベースから遠い側を覆っている、ことを特徴とする請求項４又は５に記載の表示基板。
  8. 前記第二薄膜封止構造における前記第二有機封止層と、前記第三薄膜封止構造における前記第二有機封止層とは、前記ベースから遠い側の表面が略面一になっている、ことを特徴とする請求項７に記載の表示基板。
  9. 前記第一表示エリアは、第一画素密度を有し、前記第二表示エリアは、第二画素密度を有し、前記遷移表示エリアは、第三画素密度を有し、前記第二画素密度及び前記第三画素密度は、何れも前記第一画素密度以下である、ことを特徴とする請求項１に記載の表示基板。
  10. 前記第二表示エリアは、
    伸張可能ベースであって、前記伸張可能ベースの表面に沿って複数の開孔パターンが分布されており、前記複数の開孔パターンの各々は、複数の第一開孔を含み、前記複数の第一開孔のうち、少なくとも一部の隣接する第一開孔の間には、アイランドエリアを取り囲む複数のブリッジエリアが形成され、複数の第二表示ユニットは、各開孔パターンに形成されたアイランドエリア上に設けられている伸張可能ベースと、
    前記アイランドエリア上の複数の表示ユニットの間にそれぞれ接続され、且つ前記複数のブリッジエリアにそれぞれ設けられた複数の配線ユニットとを含む、ことを特徴とする請求項４又は５に記載の表示基板。
  11. 前記複数の表示ユニットの少なくとも１つは、
    前記表示基板の発光方向に沿って前記ベースの前側に位置する第一平坦化層と、
    前記第一平坦化層における前記ベースから遠い側に位置する有機絶縁層と、
    前記第一平坦化層における前記ベースから遠い側に位置する第一電極層とを含み、
    前記第一障壁は、第一凹溝を含み、前記第一凹溝が前記第一平坦化層上に設けられ、且つ前記有機絶縁層が前記第一凹溝をその形状に倣って覆っているか、或いは、前記第一凹溝が前記有機絶縁層上に設けられており、
    前記第二障壁は、第二凹溝を含み、前記第二凹溝が前記第一平坦化層上に設けられ、且つ前記有機絶縁層が前記第二凹溝をその形状に倣って覆っているか、或いは、前記第二凹溝が前記有機絶縁層上に設けられており、
    前記第一無機封止層は、前記第一電極層における前記ベースから遠い側に位置し、且つ前記第一電極層を覆っており、
    前記第一有機封止層は、前記第一無機封止層のうち、前記第一凹溝における前記第二凹溝から遠い側に位置する部分、第一凹溝、及び前記第一凹溝と前記第二凹溝との間における前記第一凹溝に近い側にある部分を覆っているが、前記第一無機封止層のうち、前記第一凹溝と前記第二凹溝との間における前記第二凹溝に近い側にある部分、前記第二凹溝、及び前記第二凹溝における前記第一凹溝から遠い側にある部分を覆っておらず、
    前記第二無機封止層は、前記第一有機封止層と、前記第一無機封止層のうち、前記第一有機封止層によって覆われていない部分とを覆っており、
    前記第二有機封止層は、前記第二無機封止層のうち、前記第一凹溝に位置する部分及び前記第一凹溝における前記第一表示エリアから遠い側に位置する部分を覆っているが、前記第一開孔を覆っていない、ことを特徴とする請求項１０に記載の表示基板。
  12. 前記有機絶縁層は、前記第一表示エリアに設けられた第一ポストスペーサ、前記遷移表示エリアに設けられた第二ポストスペーサ、及び前記第二表示エリアに設けられた第三ポストスペーサを含み、前記第一凹溝は、前記第一ポストスペーサ上に設けられ、前記第二凹溝は、前記第二ポストスペーサ上に設けられている、ことを特徴とする請求項１１に記載の表示基板。
  13. 前記第一凹溝及び前記第二凹溝は、第一方向に沿って延在する連続凹溝を含み、前記第一方向は、前記第一表示エリアと前記遷移表示エリアとの境界線の延在する方向である、ことを特徴とする請求項１１に記載の表示基板。
  14. 前記連続凹溝は、第二方向における溝幅が約５～１５μｍであり、第三方向における溝高さが約１～２．５μｍであり、前記第二方向は、前記第一方向に垂直であるとともに前記伸張可能ベースに平行であり、前記第三方向は、前記伸張可能ベースに垂直である、ことを特徴とする請求項１３に記載の表示基板。
  15. 前記第一凹溝及び／又は第二凹溝は、第二方向に順次に配列された少なくとも一列の離散凹溝を含み、前記第二方向は、前記第一方向に垂直であるとともに前記伸張可能ベースに平行であり、各々の列の離散凹溝は、前記第一方向に沿って離間して並べられた複数の離散凹溝を含む、ことを特徴とする請求項１３に記載の表示基板。
  16. 前記少なくとも一列の離散凹溝は、複数列の離散凹溝を含み、前記複数列の離散凹溝のうち、隣接する列の離散凹溝の間隔は、約２～１５μｍである、ことを特徴とする請求項１５に記載の表示基板。
  17. 前記複数の表示ユニットの少なくとも１つは、
    前記第二凹溝と前記第一開孔との間に位置し、前記第一隔離構造の両側における第一電極層を分断するように配された第一隔離構造を更に含み、
    前記第一電極層は、前記第一隔離構造を覆っており、且つ前記第一隔離構造における前記第二凹溝に近接する側及び前記第一開孔に近接する側に位置する、ことを特徴とする請求項１２に記載の表示基板。
  18. 前記第二表示エリアの複数の表示ユニットの少なくとも１つは、
    前記第二表示エリアの第三ポストスペーサと前記第一開孔との間に一部が位置し、且つ前記第一平坦化層における前記伸張可能ベースから遠い側に少なくとも一部が位置する第一パッシベーション層を更に含み、
    前記第一隔離構造は、前記第一パッシベーション層及び前記第一平坦化層に位置する少なくとも１つの第三凹溝を含み、前記少なくとも１つの第三凹溝の底部によって覆われた第一電極層と、前記第一パッシベーション層の表面を覆っている第一電極層とは、互いに分断されている、ことを特徴とする請求項１７に記載の表示基板。
  19. 前記第二表示エリアの複数の表示ユニットの少なくとも１つは、
    前記第一平坦化層における前記伸張可能ベースに近い側に少なくとも一部が位置する第二パッシベーション層を更に含み、
    前記第一パッシベーション層は、前記第一平坦化層における前記伸張可能ベースから遠い側に位置する第一パッシベーション部分、及び、第一平坦化層における第一開孔に近接する側に位置する第二パッシベーション部分を含み、且つ前記第二パッシベーション部分は、前記第一パッシベーション層による前記第一平坦化層における第一開孔に近接する側の表面に対する隔離保護が形成されるように、前記第一平坦化層における第一開孔に近接する側の表面を覆うとともに前記第二パッシベーション層の表面に接続されている、ことを特徴とする請求項１８に記載の表示基板。
  20. 前記第二表示エリアの複数の表示ユニットの少なくとも１つは、
    前記表示基板の発光方向に沿って前記伸張可能ベースの前側に位置する層間絶縁層を更に含み、
    前記第一隔離構造は、前記層間絶縁層における前記伸張可能ベースから遠い側の表面に位置する少なくとも１つの第一バンプを含み、前記第一電極層は、前記少なくとも１つの第一バンプの頂部及び前記層間絶縁層の一部の表面を覆っており、前記少なくとも１つの第一バンプの頂部に位置する第一電極層と、前記層間絶縁層の表面に位置する第一電極層とは、互いに分断されている、ことを特徴とする請求項１８に記載の表示基板。
  21. 前記複数の配線ユニットの少なくとも１つは、
    前記表示基板の発光方向に沿って前記伸張可能ベースの前側に位置する第二平坦化層と、
    前記第二平坦化層における前記伸張可能ベースから遠い側に位置し、前記第二平坦化層の一部の表面を覆うとともに、少なくとも１つの第四凹溝を有する画素規定層と、
    前記少なくとも１つの第四凹溝の底部によって覆われ及び前記画素規定層の表面を覆う第三電極層とを含み、
    前記少なくとも１つの第四凹溝の底部によって覆われた第三電極層と、前記画素規定層の表面が覆われた第三電極層とは、互いに分断されている、ことを特徴とする請求項２０に記載の表示基板。
  22. 前記少なくとも１つの第三凹溝のうち、第三凹溝の数量は、前記少なくとも１つの第四凹溝のうち、第四凹溝の数量と同じであり、前記少なくとも１つの第四凹溝と前記少なくとも１つの第三凹溝とは、それぞれ互いに連通して、前記第一開孔を取り囲む閉環状に形成されている、ことを特徴とする請求項２１に記載の表示基板。
  23. 前記複数の配線ユニットの少なくとも１つは、
    前記表示基板の発光方向に沿って前記伸張可能ベースの前側に位置するゲート絶縁層と、
    前記ゲート絶縁層における前記伸張可能ベースから遠い側の表面に位置する少なくとも１つの第二バンプと、
    前記少なくとも１つの第二バンプの頂部、及び前記ゲート絶縁層のうち、前記少なくとも１つの第二バンプによって覆われていない一部の表面を覆う第三電極層とを含み、
    前記少なくとも１つの第二バンプの頂部が覆われた第三電極層と、前記ゲート絶縁層の表面が覆われた第三電極層とは、互いに分断されている、ことを特徴とする請求項２２に記載の表示基板。
  24. 前記少なくとも１つの第二バンプのうち、第二バンプの数量は、前記少なくとも１つの第一バンプのうち、第一バンプの数量と同じであり、前記少なくとも１つの第二バンプと前記少なくとも１つの第一バンプとは、それぞれ互いに連通して、前記第一開孔を取り囲む閉環状に形成されている、ことを特徴とする請求項２３に記載の表示基板。
  25. 前記第一開孔は、前記ベースから遠い側に位置する開口端、前記ベースに近い側に位置する底端、及び前記開口端と前記底端との間に位置する孔体部分を含み、複数の第一開孔のうち、少なくとも１つの開孔幅は、前記表示基板の出光方向に沿って前記孔体部分の開孔幅が徐々に増大し、前記開口端の開孔幅が前記孔体部分の最大開孔幅よりも小さく、前記孔体部分の最大開孔幅が前記底端の開孔幅よりも大きくなるようにされている、ことを特徴とする請求項１０に記載の表示基板。
  26. 前記孔体部分の側壁における前記開口端に近い少なくとも一部は、弧形の曲面状である、ことを特徴とする請求項２５に記載の表示基板。
  27. 請求項１～２６の何れか一項に記載の表示基板と、
    前記表示基板の出光側に位置し、且つ前記表示基板と封止されるカバープレートとを含む、ことを特徴とする表示パネル。
  28. 請求項２７に記載の表示パネルを含む、ことを特徴とする表示装置。
  29. ベースを用意することと、
    表示エリアであって、前記表示エリアには、ベース上に設けられた複数の表示ユニット、及び前記複数の表示ユニットの発光側に設けられた第一薄膜封止構造を含む第一表示エリアと、ベース上に設けられた複数の表示ユニット、及び前記複数の表示ユニットの発光側に設けられた第二薄膜封止構造を含む第二表示エリアと、ベース上に設けられた複数の表示ユニット、及び前記複数の表示ユニットの発光側に設けられた第三薄膜封止構造を含み、前記第一表示エリアと前記第二表示エリアとの間に位置する遷移表示エリアとが含まれ、前記第一薄膜封止構造は、前記複数の表示ユニットの発光側に順次に重ねられた第一無機封止層、第一有機封止層及び第二無機封止層を含み、前記第二薄膜封止構造は、前記複数の表示ユニットの発光側に順次に重ねられた第一無機封止層、第二無機封止層及び第二有機封止層を含み、前記第三薄膜封止構造は、前記第一表示エリアに近い側に位置する第一部分、及び前記第二表示エリアに近い側に位置する第二部分を含み、前記第一部分は、前記複数の表示ユニットの発光側に順次に重ねられた第一無機封止層、第一有機封止層及び第二無機封止層を含み、前記第二部分は、前記複数の表示ユニットの発光側に順次に重ねられた第一無機封止層、第二無機封止層及び第二有機封止層を含む表示エリアを、ベース上に形成することとを含む、ことを特徴とする表示基板の製造方法。
  30. 前記表示エリアをベース上に形成することは、具体的に、
    前記表示エリアの前記複数の表示ユニットの発光側に第一障壁及び第二障壁を形成することと、
    前記表示エリアの前記複数の表示ユニットの発光側に第一無機封止層を形成することと、
    前記第一無機封止層上に第一有機材料をプリントして、前記第一表示エリアに一部が位置するとともに前記第一障壁及び／又は前記第二障壁を他部が延在して覆う第一有機材料層を形成することと、
    前記第一有機材料層に対し薄化処理を行って、前記第一有機材料層を一部除去して、前記第一有機封止層を形成し、前記遷移表示エリアの第一無機封止層が少なくとも一部露出されるようにすることと、
    前記第一有機封止層を一部が覆うとともに、前記第一無機封止層のうち、前記第一有機封止層によって覆われていない部分を他部が覆う第二無機封止層を形成することと、
    前記第二無機封止層上に第二有機封止層を塗布して、前記第二有機封止層の一部が前記第二無機封止層のうち、前記第一有機封止層を覆う一部を覆うとともに、前記第二有機封止層の他部が前記第一無機封止層のうち、前記第一有機封止層によって覆われていない部分を覆うようにすることとを含む、ことを特徴とする請求項２９に記載の表示基板の製造方法。
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