JP2023521175A - 表面を光学的に検査するための方法及び検査デバイス - Google Patents

表面を光学的に検査するための方法及び検査デバイス Download PDF

Info

Publication number
JP2023521175A
JP2023521175A JP2022562049A JP2022562049A JP2023521175A JP 2023521175 A JP2023521175 A JP 2023521175A JP 2022562049 A JP2022562049 A JP 2022562049A JP 2022562049 A JP2022562049 A JP 2022562049A JP 2023521175 A JP2023521175 A JP 2023521175A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
pattern
image
illumination
recording
sequence
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2022562049A
Other languages
English (en)
Inventor
ロイテ,ステファン
晃一 原田
Original Assignee
イスラ ヴィジョン ゲーエムベーハー
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by イスラ ヴィジョン ゲーエムベーハー filed Critical イスラ ヴィジョン ゲーエムベーハー
Publication of JP2023521175A publication Critical patent/JP2023521175A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/84Systems specially adapted for particular applications
    • G01N21/88Investigating the presence of flaws or contamination
    • G01N21/8851Scan or image signal processing specially adapted therefor, e.g. for scan signal adjustment, for detecting different kinds of defects, for compensating for structures, markings, edges
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01BMEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
    • G01B11/00Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques
    • G01B11/24Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring contours or curvatures
    • G01B11/25Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring contours or curvatures by projecting a pattern, e.g. one or more lines, moiré fringes on the object
    • G01B11/2513Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring contours or curvatures by projecting a pattern, e.g. one or more lines, moiré fringes on the object with several lines being projected in more than one direction, e.g. grids, patterns
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01BMEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
    • G01B11/00Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques
    • G01B11/24Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring contours or curvatures
    • G01B11/25Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring contours or curvatures by projecting a pattern, e.g. one or more lines, moiré fringes on the object
    • G01B11/2518Projection by scanning of the object
    • G01B11/2522Projection by scanning of the object the position of the object changing and being recorded
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01BMEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
    • G01B11/00Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques
    • G01B11/24Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring contours or curvatures
    • G01B11/25Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring contours or curvatures by projecting a pattern, e.g. one or more lines, moiré fringes on the object
    • G01B11/2518Projection by scanning of the object
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01BMEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
    • G01B11/00Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques
    • G01B11/24Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring contours or curvatures
    • G01B11/25Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring contours or curvatures by projecting a pattern, e.g. one or more lines, moiré fringes on the object
    • G01B11/2518Projection by scanning of the object
    • G01B11/2527Projection by scanning of the object with phase change by in-plane movement of the patern
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/84Systems specially adapted for particular applications
    • G01N21/88Investigating the presence of flaws or contamination
    • G01N21/8806Specially adapted optical and illumination features
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/84Systems specially adapted for particular applications
    • G01N21/88Investigating the presence of flaws or contamination
    • G01N21/89Investigating the presence of flaws or contamination in moving material, e.g. running paper or textiles
    • G01N2021/8909Scan signal processing specially adapted for inspection of running sheets
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/84Systems specially adapted for particular applications
    • G01N21/88Investigating the presence of flaws or contamination
    • G01N21/89Investigating the presence of flaws or contamination in moving material, e.g. running paper or textiles

Landscapes

  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Computer Vision & Pattern Recognition (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Biochemistry (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Immunology (AREA)
  • Pathology (AREA)
  • Signal Processing (AREA)
  • Textile Engineering (AREA)
  • Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)

Abstract

本発明は物体(1)の表面(10)を光学的に検査する方法及び検査デバイス(9)に関する。この方法では、画像捕捉シーケンス中に時系列的に周期的でありそして様々な照明パターン(130)を有するパターン(13)が検査デバイス(9)の照明デバイス(8)により表面(10)上に生成され、画像捕捉シーケンスにおいて、表面(10)上のパターン(13)の複数画像が検査デバイス(9)の画像捕捉デバイス(7)により捕捉され、様々な照明パターン(130)のうちの1つの照明パターン(130)の生成はパターン(13)の画像のうちの1つの画像の捕捉と何れの場合も同期され;位相パターン(13)は、少なくとも1つの画素内で捕捉された知られた照明パターン(130)のシーケンスから判断され;表面(10)上の欠陥(4、5)は、生成された知られた照明パターン(130)から捕捉された照明パターン(130)の偏差から識別される。照明デバイス(8)及び画像捕捉デバイス(7)は反射角(α)で配置され、物体(1)は検査デバイス(9)に対して移動され、そして画像捕捉シーケンスの期間は、シーケンス反射領域(17)が一定である(図4b)と見做され得るように選択される。

Description

本発明は、物体の表面の光学的検査のための方法及び検査デバイスだけでなく本方法及び検査デバイスの有利な使用にも関係する。
本方法を使用する際、様々な照明パターンを有する時間周期的パターンが検査デバイスの照明デバイスにより画像記録シーケンス中に表面上に生成される。画像記録シーケンスにおいて/中、表面上のパターンの多くの画像が検査デバイスの画像記録デバイスにより記録される。
このプロセス中、様々な照明パターンのうちの1つを生成することは、画像記録シーケンスからの各画像が様々な照明パターンの既知の照明パターンによりそれぞれ記録されるやり方でパターンの画像のうちの1つの画像の画像記録とそれぞれ同期される。換言すれば、これは、正確に1つの照明パターンが各カメラ画像内で可視であるということを意味する。画像記録とパターン生成とを同期することにより、照明パターンが画像記録の露光時間中に変化しないということが特に実現される。一連の記録された既知の照明パターンから、パターンの位相が少なくとも1つの像点において判断される。パターン及びパターンの周期的に異なる照明パターンは知られているので、像点は知られたパターンの点に関連付けられ得る。表面上では、欠陥が、生成された既知の照明パターンからの少なくとも1つの画像において記録された照明パターンの偏差から検出される。表面上の欠陥は既知のパターン(1つの画像において記録された1つの既知の照明パターン)の歪みに至る。これは、好適なアルゴリズムを使用することにより(例えば適切に好適なコンピューティングデバイスにより)、専門家に基本的に知られた画質評価により欠陥を識別しそして出力することを可能にする。いくつかの表面エリアを次から次へと走査することにより(すなわち表面の様々なエリアへの反復適用により)、全表面又は表面の選択部分が検査され得る。
表面検査中、最重要タスクの1つは、それらのトポロジー特徴に起因して光偏向を引き起こす欠陥を検出し分類することにその本質がある。これらの欠陥はしばしば、トポロジー欠陥としてであるが単に表面上の輝度又はニュアンスの変化として眼により全く知覚されない。しばしば、運動中の検査が必要である又は少なくとも有利である。特に、本発明の観点でのこのような表面の好ましいアプリケーションは後段階において説明されることになる。
原理的に、本発明による方法は反射面の光学的検査に好適である。本発明の観点での反射面は理想的反射(すなわち鏡面反射)表面及び反射特性に加えて或る散乱効果も呈示する表面の両方を含む。ここでの判断基準は、パターン(表面上へ投影されるパターンも含む)により照明された表面が画像で光学的に記録可能であるということである。
表面の検査のための長く確立された方法は偏向測定法である。これは、カメラにより表面上の既知のパターンの反射の画像を記録することとこれをコンピュータにおいて評価することとに関与する。表面内の欠陥は検出される表面上のパターンの歪みに至る。記録ジオメトリ及びパターンジオメトリが知られていれば、これは表面の3Dトポグラフィを判断するためにも使用され得る。どのようにこれが行われるかの様々な方法が専門家に知られている。これらは、本発明という観点では公知であると見なされ、したがってもはや詳細には説明されない。
偏向測定法の基本原理は、表面に入射する光線の偏向を判断することと、カメラ(記録デバイス)から発しそして表面上で鏡面反射された可視光線が入射するパターン内の点が識別されるということとにその本質がある。換言すれば、表面上の可視光線の偏向は、対応スポット(反射点)において表面法線(反射点において表面に対し垂直方向に直立する)の方向に依存する反射において判断される。このように判断された法線場(normal field)から、表面のトポグラフィが例えば積分により判断され得る。
点を見出すための一般的に使用される方法は、使用されるパターンが周期パターンである所謂位相シフト方法であり、そして判断されるべき点のパターンの位相位置が見出される判断が行われる。
これは、パターンの1つの画像で十分である又はいくつかの画像を必要とするいくつかの方法とは原理的に異なる。
1つの画像で十分である方法は、「これらの方法が、移動表面上でも使用され得、そしてしたがって例えばウェブ製品(web product)の検査のために始めからより好適であるように見える、又は生産プロセスにおいてより好適であるように見える」という利点を有する。しかし、これらの方法は、欠陥に対しより脆弱である又はビーム経路内の第2の物理的に存在するパターンを必要とするという不都合を有する。例えば国際公開第98/17971A1号は、どのように最小ビーム偏差が検出及び判断され得るかの方法を開示した。本質的に、ストライプパターンがここではカメラにより監視される。説明された方法に関しては、カメラの画素グリッドが第2のパターンとして使用されるので単一画像で十分である。しかし、ここでの不都合は、カメラ及びパターンが非常に精密な調節を必要とするということである。生産プロセスなどの産業環境では、これは実現するのが非常に困難である又は不当な費用においてだけ実現される。
多くの画像を操作する方法は、欠陥に対して実質的により頑強であり、そして時間がかかる調節を必要としない。パターンは、互いに対してシフトされたいくつかの位相位置に連続的に表示され記録される。特に簡単な評価は、それぞれ1/4周期長のずれでもって4回記録される正弦波的輝度曲線を有するストライプパターンが使用されれば生じる。しかし、他のパターン及び一連のパターンも可能である。各画素内の一連のグレイ値から、パターン内の位相位置が生じる。この方法は、関連教科書及び記事(例えばe.g. Gorthi and Rastogi, Fringe Projection Techniques: Whither we are?, Proc. Optics and Lasers in Engineering, 48(2): 133-140, 2010)に包括的に説明されている。しかし、不都合は、表面の同じスポットのいくつかの画像が必要とされるということである。しかし、生産プロセスにおける膜及び他のウェブ製品(基本的に検査デバイスに対して移動する表面)の検査中に、表面の全く同じスポットのいくつかの写真を撮ることは表面が連続的に移動しているので実際には不可能である。例えば、高速度で走るウェブは製造中に停止されることができない。我々は、ウェブと同期して移動する検査デバイスを使用することによりこの問題を解決することができた。正直なところ、このような解決策は技術的に複雑であり、したがって高価であり、そして特に生産環境においてはしばしば利用可能でない多量の空間を必要とする。
欧州特許第2,390,656B1号は、走るウェブ面がラインカメラにより好適に監視される方法を開示した。照明は、ウェブに対し横断方向に取り付けられた迅速切り替え可能パターン照明(好適にはLED照明)から構成される。この照明は個々に制御可能なLED又はLEDモジュールから構成され、これにより、様々な照明パターンを非常に速く且つ動的に生成することが可能である。切り替えと画像記録とは、様々な照明パターンを有する表面の画像が立て続けに記録され得るように同期される。特に、走査及び切り替えは非常に迅速に行われ得るので、送り方向の画像記録間の距離は送り方向の画素の広がりより非常に小さい。したがって、画像はほぼ同じスポットにおいて記録され得る。しかし、正確に同じスポットにおける記録は、これによっては実現されることができない。
本発明の目的は、移動表面の検査のための頑強な選択肢(特に生産プロセスなどの産業環境においてすら簡単なやり方で実現され得る)を提案することである。
本発明によると、この目的は請求項1に記載の方法及び請求項12に記載の検査デバイスにより満たされる。
始めに説明された方法により、(反射区域内の表面上で垂直方向にアライメントされた表面法線それぞれに対する)反射角で配置される照明デバイス及び画像記録デバイスのための手立てがなされる。「反射角で」は、像点の端光線(すなわち像点の端から発する可視光線)が表面上の反射点において反射されそして像点における照明パターンの可視エリア(パターンエリア)をマーキングするということを意味する。換言すれば、表面上のパターンの照明パターンの反射は画像記録デバイスの像点内に正確にマッピングされる。したがって、カメラ(記録デバイスとしての)は照明パターン(すなわち、例えば照明ラインとして設計され得る照明デバイス)上に正確に向いている。
移動物体により、反射角は、静止検査デバイスに対する表面の形状及びその配置が変化しない限り変化しない。これは、曲率が平均で一定であり且つ表面の表面法線の方向(少なくとも可視光線の方向に対する)が無視可能なだけ変化すれば平坦面又は少し曲がった表面に当てはまる。これは、例えば波状表面構造(表面法線の方向の変化が小さい)を有するケースであり得る。「小さい」は、変化がただ非常に大きいのでパターンエリアは像点において可視なままであるということを意味する。したがって、パターンエリアはそれに応じて送り方向に広くなければならない。これがもはや可能でなくなると直ちに、本発明による方法は静止検査デバイスにより適用されることができない。しかし、この場合、提案された独創的方法による検査デバイスは曲面全体にわたりそれぞれ反射配置で移動され得る。
表面法線の方向の変化の既知の周期性に起因して、検査デバイスの機械的追跡は、反射条件が厳守されるように、又は反射角が平坦照明デバイス及び記録デバイスを使用することに起因して記録エリア内に在るように、且つ周期的に発生する反射角に従って像点が選択されるように、可能である限り、本方法は曲面にも使用され得る。
これとは無関係に、本方法は、パターンの変化が検査デバイスにより明確に検出され得る限り不完全性のトポロジーを判断するために使用され得る。
より大きな表面エリアを検査することができるために、又は例えば製造中の連続検査を許容するために、表面の検査中に物体及びしたがって物体の表面を検査デバイスへ(好適には規定された又は厳密に制御された移動方向に)移動させるための手立てが本発明にしたがって行われる。
始めに説明された位相シフト方法に関して、画像シーケンスに属する画像は表面の同じスポットを常に記録するということが実際に必要である。ここでは記録デバイスに対して移動する材料ウェブなどの移動面が検査されるので、これは可能ではない。それにもかかわらず、本方法を使用することができ且つパターンの位相を検出することができるために、画像記録シーケンスの期間は、シーケンス反射区域(sequence reflection zone)が一定であると見なされるのに十分に短くなるように選択される。シーケンス反射区域は、反射区域により覆われ画像記録シーケンスからそれぞれの画像内に記録される全表面エリアとして定義される。簡略化されたやり方で表現すると、画像記録シーケンスの画像は、この画像記録シーケンスの最初の画像から最後の画像までの運動が非常に小さいので捕捉された表面エリア(反射区域)は表面の実質的に同じスポットと依然として見なされ得るような速度で次から次へと記録される。
画像記録シーケンスからのそれぞれの画像において反射区域により全体的に覆われる表面エリアは、共通エリア内の画像記録シーケンス中に記録されたすべての個々の画像のすべての反射区域を組み合わせることから生じ、これはシーケンス反射区域と呼ばれる。次に、この表面エリアは、画像記録からのすべての画像の反射区域が少なくとも40%以上、好適には少なくとも60%だけ重畳すれば、少なくとも略一定であると見做され得る。しかし、これらの値は、固定値としてではなく専門家がそれぞれの条件に対し恐らく実験的に適合させ得る典型的指針値として理解されるべきである。原理的に、本方法は、光学条件に起因してパターンの明確に1周期長未満が1つの像点上へマッピングされる限りうまく働く。凹面鏡効果に起因して大きなパターンエリアを像点上へマッピングする表面の凹状曲率が特に極めて重要である。故障検出のためには、40%~70%重畳のエリアで十分であるはずであり、表面法線の推定(すなわち表面のトポロジーの推定)は60%~80%重畳のエリアが十分であるはずである。表面の形状及び発生欠陥のタイプに依存して、専門家がそれぞれの検査デバイスをセットアップする際に本発明の教示に基づき試験測定結果の助けを借りて恐らく経験的に判断及び/又は予め定義し得る他のエリアもまた生じ得る。換言すれば、「画像記録シーケンス内で記録された画像を時系列に非常に迅速に次から次へと記録するので、画像記録シーケンスの最初の画像から最後の画像までの物体の運動に起因する表面のシフト経路は非常に小さいので最初の画像及び最後の画像の反射区域は表面上の同一エリアと見なされ得るやり方で画像記録シーケンスの期間を選択すること」が本発明に従って提案される。物体の静止時に取られる測定結果と比較して、「上記条件がより良く満たされればされる程大きさが低下する」測定誤差が生じる。
像点において捕捉される(カメラ画素により又は恐らくいくつかのカメラ画素の組み合わせにより定義される最小解像度で)表面上の反射区域は記録ジオメトリ(距離、記録角度)及び記録光学系により予め定義される。表面法線に対する反射角での記録デバイス及び照明デバイスの配置に起因して、2つのデバイスの一方のデバイスの角度の変化もまた、他のデバイスのために再生されなければならない。これは、反射角の変化を比較的高価にする。同じことは、記録光学系における変化にそれぞれ当てはまる。反射区域のサイズ及び/又は反射区域内にマッピングされたパターンエリアのサイズは、本発明に従って、記録デバイス及び/又は照明デバイスの距離を介し比較的簡単なやり方で変更又は調節され得る。正直なところ、これはまた、検査デバイスの構造の変更を必要とする。
本発明によると、本発明により提案された方法を行う際に他のパラメータに影響を与えることが容易である。次に、本方法を行う際に好適なパラメータについて説明する。シーケンス反射区域が一定であると見做され得るやり方で物体の所定速度及び移動方向に基づき画像記録シーケンスの期間を適合化するために、以下に列挙される方策のうちの1つ又は累積的に複数を引き受けることは本発明の好適な実施形態に従って可能である。
したがって、本発明の実施形態による方法を行う際、像点のサイズが設定されるための手立てがなされ得る。最も単純な場合、像点のサイズはカメラ(画像記録デバイスとして使用される)の画素解像度に対応し得る。これは、カメラの所与の距離及びカメラの所定焦点長に関し、可能な限り高い解像度を表す。カメラの解像度が高ければ高いほど、表面上の像点に関連付けられた反射区域は小さくなり、そして表面上で検出可能な欠陥はより小さくなる。像点のサイズを変更するための1つの選択肢は、カメラの画素解像度を変更することにその本質がある。カメラの画素解像度(本発明による好ましいデジタル画像記録のための)は、カメラの記録センサ(露光時間中に、個々の画素(センサ画素)がこの画素に入射する光を捕捉する(積分する))として使用される光チップにより予め判断される。解像度を低減することにより、像点のサイズはまた、1つの像点を形成するためにカメラのいくつかのセンサ画素を組み合わせることにより実現され得る。また、1つの像点は画素と呼ばれることがある。しかし、画像画素及びセンサ画素は、いくつかのセンサ画素が1つの画像画素を形成するために組み合されれば異なる。
一実施形態によると、像点のサイズを設定することは、1つの画像画素を形成するために記録デバイスの記録センサのいくつかの画素(センサ画素)を組み合わせることにより行われ得る。一変形態様では、物体の移動方向と物体の運動方向に対し横断方向とにおいて組み合わせられた画素の数は本発明による様々なやり方で選択され得る。1つの画像記録シーケンス内の個々の画像の反射区域のより高いカバレッジをそれぞれ実現するために、反射区域のサイズを物体の運動方向に増加することは低解像度を受け入れることにより得策であり得る。結果として、物体の運動方向のシーケンス反射区域が拡大される。それに対し横断方向に、より高い解像度が維持され得る。物体の運動方向及びその表面に対し横断方向の解像度は、記録ジオメトリ(すなわち、本質的には、像点のサイズ(可能な限り小さい広がりに関して画像記録デバイスの記録センサの画素サイズにより制限される)、レンズの焦点長、及び視認距離)によりもっぱら判断される。運動方向に対し横断方向の解像度は運動により影響されない。
動きボケ(movement blur)は運動の長手方向に発展する。画像記録中のカメラは1つの像点(記録センサの画素に必ずしも一致しない画像の画素)内のすべての光(露光中にこの像点に入射する)を積分するという事実に起因して、1つの像点上にマッピングされる監視表面が運動方向に拡張する。移動面(像点に関連付けられた反射区域とも呼ばれる)に対して、像点は(いわば)長さが伸長されたように見える。「長手方向」及び「横断方向」はここでは運動方向を指し、そしてカメラの行方向及び列方向に必ずしも一致する必要はない。斜め視角に関して、各画素はカメラの行及び列方向に対し対応するやり方で斜めに伸長されるように見える。
マルチ画像位相シフト方法のために記録される一連の画像(画像記録シーケンス中の)では、表面上の同じスポットは、すべての画像内の各像点(画像画素)において実際にマッピングされるべきである。しかし、多くの画像を次から次へと記録する際、これらは移動面に対し互いに対しシフトされる。したがって、これを補正するために、様々な画像の反射区域が表面上のほぼ同じスポットとして監視される結果となり得る方策が本発明に従って採用される。像点のサイズの変化は上述のやり方でこれに寄与し得る。
本発明によると、別の方策は、画像記録シーケンスの期間を本方法の実行中に設定することにその本質があり得る。画像記録シーケンスの期間(すなわち、換言すれば1つの画像記録シーケンスのすべての画像を記録するために必要な時間)は、どの程度、最初の画像の反射区域に対応する表面エリアが最後の画像の記録までにずれるかを(物体/表面の所定移動速度に関し)判断する。これにより、個々の画像の反射区域の本発明に従って設定されるシーケンス反射区域及び重畳のサイズを生じる。基本的に、重畳が大きければ大きいほど画像記録シーケンスの期間はより短くなると言うことは真実である。
記録センサの最大走査周波数の限界と記録デバイスの可能最短露光時間の限界とは別に、走査周波数(連続画像記録の周波数として定義される)及び/又は露光時間が適応化され得る。露光時間が短ければ短いほど記録された画像はより鮮明になり(動きボケの低減)、そしてより速い画像が逐次的に記録され得る(走査速度)。露光時間の短縮は、表面上で生成されたパターンの輝度が増加される及び/又は記録光学系の絞りが開放されるという点で実現され得る。輝度を増加する/絞り開口を拡大すること(光学系ではより小さな絞り数により通常は定義される)により、露光時間は短縮され得る。したがって、高いが減光可能な光強度を有する照明デバイスを使用することは道理にかなう。
好適な照明デバイスは個々の調光可能LEDから構築され得、個々の調光可能LEDは個々に減光されると或るパターンの生成を可能にし、そして一緒に減光されると全光強度の調節を可能にする。基本的に、最大光強度を有する照明デバイスを操作することと、露光された画像が好適に記録されるポイントまで露光時間を低減することとが好ましいかもしれない。
したがって、本発明によると、画像記録シーケンスの期間を調節する際、以下に列挙される変数のうちの少なくとも1つが適応化され得る:画像の露光時間、表面上に生成されるパターンの輝度、記録センサの走査周波数及び/又は画像記録シーケンス当たりの画像の数。変数のすべて又はそのいくつかを適合化することも可能である。
したがって、画像記録シーケンスの期間はまた、当然ながら、画像記録シーケンス当たりの画像の数を変更することにより本発明に従って変更され得、画像記録シーケンスを短縮することは画像の数を低減することにより実現され得、そして逆も同様である。
さらに、本発明によると、測定感度は照明距離(同時にまた、記録デバイスとパターンとの間の視認距離)及び視角を選択することを介し影響され得る。平坦な視角と全く同様に大きな距離(すなわち、表面に対してより平坦;表面に対して垂直方向の視覚は最大急勾配となるだろう)はより高い感度につながる。特に、鏡面反射方法及び拡散方法の両方での部分的反射面により、より平坦な視角及び照明角(例えば<30°)及び/又は最大照明距離を選択することが特に好適であり得る。本発明によると、最大照明距離は「利用可能空間が照明デバイスの配置のために利用される」ということを意味し得る。照明距離(照明デバイスと表面との間の距離)は例えば、記録デバイスと表面との間の距離より大きくなるように選択され得、標準値は1倍と例えば10倍との間の範囲に在り得る。専門家は、アプリケーションのそれぞれの場合に対し恐らく実験的に適応化される値を選択するだろう。ここで、本発明の基本教示に従って、感度は、多くの場合、より小さな照明角及び視角及び/又はより大きな照明距離(記録デバイスと照明デバイスとの間の)を介し増加されるだろう。
多くの画像を記録する目的は、記録された像点内の既知の照明パターンの位置をそれから識別するためにパターンの位相を判断することである。これは、表面の欠陥が表面上のパターンの歪みから検出されることを可能にすることになる。一実施形態によると、3つの画像が例えば記録され得る。生成されたパターンを、パターンの位相が3つの画像から明確に判断され得るように非対称的に周期的に成形することが例えば可能である。代替的に、パターンはまた、例えば同じ画像記録シーケンス内の様々な画像間の走査/画像記録周波数を変更することにより、非対称的に記録される画像により対称的に周期的に成形され得る。
しかし、本発明による好ましい1つのアプリケーションは、同じ画像記録シーケンス内の少なくとも4つの画像又は正確に4つの画像による走査を提供する。パターン自体は例えば、4つの異なる位相位置において同一走査シーケンスで記録される輝度の正弦分布であり得る。これから、画像の各画像内のパターンの位相が簡単なやり方で正確に判断され得る。例えば、連続画像の画像記録シーケンス内の位相位置間の位相シフトはパターンの周期長のちょうど1/4であり得る。しかし、画像記録シーケンスの画像間の他の位相シフトも可能である。
本発明の別の様相によると、照明パターンは、それぞれの1つの画像記録シーケンス中に記録された画像の像点において記録された照明パターンの可視エリアが一定であると見なされ得るようなやり方で照明デバイスにより生成され得る。
画像記録シーケンス中の像点において可視である照明パターンのエリア(パターンエリア)は、このパターンエリアが像点において全く依然として可視なままであり且つパターンエリアの記録された強度が著しく変化しない限り一定であると見なされ得る。これは、例えば画像記録シーケンス中の記録された強度が10%以下だけ、好適には8%以下だけ、特に好適には4%以下だけ変化すれば仮定され得る、又は別の定義された判断基準が維持される。基本的に、上に既に論述された判断基準がここでも適用される。
この趣旨で、本発明の好適な形態によると、照明パターン内のパターンの周期長は、パターンコースの方向における表面のトポロジーに依存して強度変更が十分に一定であると見なされ得るように選択され得る。換言すれば、これは、強度変化がそれぞれの状況にとって適切な判断基準を越えないということを意味する。判断基準の選択は、本システム及びいくつかのパターンが設定される際に専門家により恐らく実験的に判断され得る。
表面のトポロジーは、(表面法線の方向における変化を伴う)特にその曲率により判断される。表面法線の方向は反射角と相関付けられる。したがって、本発明による方法により調べられる表面のトポロジーにより、検査デバイスの既知配置の結果反射角を介し判断することが可能であり、照明パターンのパターンエリアは画像記録シーケンスの規定期間中に像点内にマッピングされる。したがって、周期長を予め定義することにより、照明パターンは上述の判断基準が維持されるようなやり方で規定され得る。したがって、本方法は定義された検査タスク用に柔軟に使用され得る。
本発明による提案された方法の別の態様によると、周期的パターンは、物体の運動方向に沿って、物体の運動方向に対し横断方向に、又は代替的に物体の運動方向に沿って且つそれに対し横断方向に生成されるということが想定され得る。
物体の運動方向に沿ったパターンにより、検査されるべき曲面の既に論述された動きボケ及び反射区域のシフトは、反射角の変化に起因して像点を通して見られるパターンエリアのシフトと重畳し、そしてそれに関連して強度変化と重畳することになるが、これは、パターンの強度がこの方向に変化するためである。
運動方向に対し横断方向のパターンに関し、反射区域も変化する。しかし、物体のシフト方向に沿ったパターンは同じ強度を含むので、反射角の変化は強度の変化に必ずしも至らない。像点において測定される強度は、像点が同じパターンエリアを捕捉し、且つ表面の曲率が運動方向に対し横断方向の像点において捕捉されたパターンエリアのシフトに至らない限り同じままである。
本発明によると、この差は、物体の運動方向に沿った又はそれに対し横断方向のパターンのアラインメントに基づいてパターンの周期長の上述の適応化中に考慮され得る。パターン(特に運動方向に沿い且つそれに対し横断方向のパターン)の周期長は、本発明によると、特に好適には異なり得る。
加えて、無欠陥表面と欠陥表面とを区別するために、及び/又は欠陥の検出の一部として、記録された画像の評価時に既知の(予測)表面形状から生じる偏差を補正するために、好適な判断基準を規定するための検査されるべき規定表面エリア内の物体の表面の既知の曲率もまた、本発明に従って使用され得る。
運動方向に沿ったパターン及び運動方向に対し横断方向のパターンを交互に生成することに起因して、様々な欠陥(特に表面内の方向性欠陥)がより信頼できるやり方で系統的に捕捉され得る。
本発明に従って提案された方法の一実施形態では、記録デバイスは画像内の記録された照明パターンがぼかされるように合焦され得る。
これは、例えば記録デバイスがパターン上ではなく表面上又は別の規定点上に合焦されるという意味で実現され得る。いくつかの絞り及び焦点設定を予め定義することにより、照明パターンはぼかされるが表面に焦点が合うように照明パターンを画像内にマッピングするために焦点深度/被写界深度がまた本発明に従って選択的に選択され得る。これは、鋭い輝度分布をだらけた分布に見えるようにする効果がある。したがって、例えば、交互分離可能な明エリア/暗エリアから単純に構成される鋭いパターンは略正弦的輝度曲線としてマッピングされ得る。この場合、特に単純な照明デバイスが、所望輝度曲線を生成するために追加光学素子の必要性無く使用され得る。その上、輝度分布は、シフトされたパターンエリアが画像記録シーケンスで記録された画像上にマッピングされる場合はそれほど鋭くなくなる(特に曲面に対するプラスの効果とそれに関係する効果とを有し得る)。
多くの場合、検査される表面は、理想的鏡面反射性ではないが半拡散的に反射する。反射はそれにもかかわらず導かれるが、比較的大きな空間的角度で散乱する(双方向反射率分布関数BRDF(Bidirectional Reflectance Distribution Function)が中間幅の散乱クラブ(scatter club)を有するということを意味する)。これもまた「散乱クラブが非常に狭いのでカメラ画像内の鏡映パターンの十分な変調を生じ、そして反射に基づいて働くことが可能である限り」画像内のパターンの輝度分布の全く有用な「だらけ」(wash-out)に至る(理想的鏡面ではないが)。表面のこのような特性はまた、パターンに対するカメラの説明された焦点ズレ設定を介し実現されたものと同じ効果を実現するために利用され得る。しかし、このような(追加)効果は、(この場合に所望される)ぼやけの一部がいかなる場合も表面自体により生成されるので焦点ズレ設定中に考慮されなければならない。
他方で、表面は、パターンがいずれにしても観測されることを依然として可能にするために十分に鏡面反射しなければならない。したがって、比較的小さな鏡面反射を有する表面に関して、可能な限り平坦である視角及び照明角を選択することと照明距離を拡大することとが有利である。
偏向測定プロセスにより本発明に従って行われる表面の検査中に物体の表面の三次元トポグラフィが判断されれば、特に有利であり得る。本発明に従って提案された方法と同様に、記録ジオメトリ及びパターンジオメトリが知られていれば、表面の3Dトポグラフィもまた判断され得る。どのようにこれが行われ得るかに関し多くの選択肢が知られている。偏向測定法では、表面に入射する光線の偏差が「カメラ(記録デバイス)により発射されそして表面において鏡面反射(反射)される可視光線が入射するパターンの点が判断される」という意味で判断される。したがって、それぞれのスポット内の表面法線に依存する可視光線の偏向が判断される。表面のこのようにして生成された法線場から、表面のトポグラフィが判断され得る(例えば積分により)。
上述の方法又はその一部の及び/又は以下に説明される検査デバイスの特に好ましい使用は、例えば、特には、処理された、湾曲された、又は平坦な表面の生産プロセス中の又はその製造後のウェブ製品の検査から生じる。
重要且つ具体的且つ典型的例は製造中の又は製造後のFCCL膜の検査である。FCCL(フレキシブル銅張り積層:Flexible Copper Clad Laminate)膜はフレキシブルプリント回路基板の製造用のコア材料である。FCCL膜は、通常約100~150μmの厚さを含み、そして銅膜により一方の表面側又は両方の表面側に積層される例えばポリアミドコア(一般的にはプラスチック膜)を含む。積層中、本発明に従って提案された方法により検出されるいくつかの折り畳みが生成され得る。表面検査中、積層欠陥(特に、所謂積層折り畳み4(図1に概略的に描写されるような)又は内側折り畳み5(図2に概略的に描写されるような))を検出することも望ましいかもしれない。積層折り畳みにより、材料は若干の折り畳み(積層プロセス中に再び押しつぶされた)を形成した。内側折り畳みは内側プラスチック膜内の折り畳み(積層された)から発展する。
両方の欠陥は、膜が非常に薄くしたがって表面は折り畳みによりそれほど影響を受けないので人間の眼により検出するのが非常に難しい。これらの欠陥は、膜の表面上の光の直接反射を観測する際にだけ検出される。これは、銅膜が半拡散的に反射するという事実により集約される。他の積層膜により、小さなトポロジー特徴にもかかわらずこのような欠陥により悪影響を受ける外観が重要である。
例えば彩色された容器、車体などの曲面の検査により、検査デバイスは、例えばそれぞれの処理ユニットにより好適な実施形態に従ってプログラムされ、そして照明デバイス及び記録デバイスの両方が表面に対し反射角で保持されるように曲面全体にわたり誘導される。したがって、この場合、検査デバイスはほとんど静止した物体に対して移動される。これは、検査デバイスに対する物体/物体表面の相対運動を生成する。再び、本明細書では、検査デバイスに対する移動物体について話すときはこのタイプの相対運動が参照される。最も重要なことは、表面の外観又は機能に悪影響を与える可能性がある湾曲表面上の最小平坦トポロジー欠陥をこのようにして可能な限り頻繁に発見することである。頻繁に、このような欠陥を三次元的やり方で測定すること(すなわち表面及び欠陥の3Dトポロジーを判断すること)も有用である。
本発明はさらに、物体の表面の光学的検査のための検査デバイスだけでなく上述のアプリケーションのためのその使用にも関する。検査デバイスは照明デバイス及び記録デバイスを備え、照明デバイス及び記録デバイスは、可視光線の入射スポット内の表面上の垂直方向に立つ表面法線が出射可視光線と反射可視光線との角度を丁度2分する場合に「記録デバイスから発する可視光線が、次に表面において反射される可視光線として照明デバイスに入射するように」互いにアライメントされる。したがって、換言すれば、検査デバイスの記録デバイス及び照明デバイスは表面に対する反射角で配置される。照明デバイスは、画像記録シーケンス中に、様々な照明パターンを有する時間周期的パターンを生成するように設計され、記録デバイスは、画像記録シーケンス中に照明パターンの生成と同期して表面上で反射されるパターンの画像を記録するように設計される。検査デバイスはさらに、検査デバイスを制御するためのそして記録された画像を評価するための計算ユニットを含み、計算ユニットのプロセッサは上述の方法又はその一部を行うように設計される。
本発明に従って提案された検査デバイスの好適な実施形態によると、照明デバイスは、行で又は行列として配置された個々に制御可能な光素子を含む。さらに好適には、記録デバイスは、記録光学系を介し記録センサ上にマッピングされた画像を記録するための記録センサを含み得、記録センサは、行で又は行列として配置された個々のセンサ画素(カメラ画素)を含む。
照明デバイスは、好適には送り方向(検査デバイスに対する物体/表面の運動方向)に対し横断方向に又はそれに沿って配置される例えば照明ラインとして設計され得る。ラインで配置された個々に制御可能な照明要素から構成される照明ラインは、画像記録と同期して個々に切り替えられ得る並置された多くのLED又はLEDモジュールから構成され得る。照明デバイスは位相シフトプロセスに必要な周期的パターンを立て続けに生成するために使用される。記録デバイスはまた、並置されたいくつかのラインカメラモジュールから(必要に応じ)組み立てられ得る例えばラインカメラとして設計され得る。このような配置では、ラインカメラの合成画像場(composed image field)は表面上の線(所謂走査線)である。この走査線は表面の相対運動方向に対し横断方向にアライメントされ得、そして、また運動方向に、ラインカメラの画素解像度に依存するその長さ(それに対し横断方向に延伸する)と比較して非常に小さな幅を有する。
照明ラインは、非常に長い(運動方向に対し横断方向に)ので、反射角において検査されるウェブの(又は表面上の所望検査エリアの)全幅を覆い得る。カメラ及び照明が表面から同じ距離に配置される場合、各側の照明ラインは、すべてのカメラにより観測される表面上の走査線より個々のラインカメラの走査線幅の約1/2だけ長くなければならない。他の距離に関して、これは必要に応じてより長く又はより短くなければならない。
照明ライン(運動方向内の)の幅が、当該配置により依然として測定されることができる最大表面角度を決定し得る。表面角度が最大表面角度より大きくなれば、表面により反射されるカメラの可視光線は、照明上へもはや入射せず、カメラは何も見えない。
本方法はまた、面走査(行列配置)カメラによる使用に好適である。このとき、走査線は、運動方向の幅が著しく大きくなるので、画像場になる。照明ラインの幅はまた、運動方向に対応して拡大され得る。一変形形態では、照明行列が照明ラインの代わりに使用され得る。これは、いくつかのシームレスに接合された照明ライン(すべて、画像記録と同期して互いに独立に切り替え可能である)で配置される多くの個々のLED又はLEDモジュールから構成される。したがって照明ラインの幅もまた、いくつかの照明ラインが同じやり方で切り替えられるという意味で簡単なやり方で変更され得る。
照明行列は、ウェブ方向に対する横断方向の切り替えパターンのためだけでなくウェブ方向に沿った切り替えパターンのためにも使用され得る。これが利点である理由は、偏向測定プロセスが表面角度/表面法線(すなわち周期的パターンの方向の)を主として測定するためである。したがって、照明ラインを使用する際、運動方向に対し横断方向の角度だけが測定され得る一方で、照明行列を使用することにより、すべての方向(好適には運動方向に沿った及びそれに対し横断方向の2方向)が測定され得る。
第1の典型的欠陥により検査される表面を有する物体を概略断面図で示す。 第2の典型的欠陥により検査される表面を有する図1による物体を概略断面図で示す。 平坦面の検査のための本発明の実施形態による検査デバイス上への上面図を示す。 図3aによる検査デバイスの側面図を示す。
その表面10が本発明による検査デバイスにより検査される図1、2において描写される物体1はプリント回路基板の原料として使用されるFCCL膜である。これは、3つの層(中間層として中間プラスチック膜3とその上へ積層される外側銅膜2)から構成される積層膜1である。物体1の表面10は通常、表面欠陥に関し調べられる。
この表面検査はまた、積層欠陥:特に所謂積層折り畳み4(図1)及び内側折り畳み5(図2)を検出するために使用される。積層折り畳み4により、材料は、積層プロセス中に再び押しつぶされた若干の折り畳みを形成した。内側折り畳み5は、積層された内側プラスチック膜3内にそれが形成されるという意味で生成される。
図3bは照明デバイス8及び記録デバイス7を有する検査デバイス9の側面図を示す。照明デバイス8上で、物体1の表面10を照明する(図3aに関する上面図も参照)様々な照明パターン130を有する時間周期的パターン13が描写される。照明パターン130は輝度分布14を含む。これはまた、パターン13が表面10上に生成されるようにする。記録デバイス7は表面10上のパターン13を画像内に記録する。
記録デバイス7はまた、多くの像点12を有する画像を生成する記録センサ11を含む。記録デバイスの光学系に起因して、(各)像点12から発する非描写可視光線15が、表面10において反射され、そして、そこで生成されたパターン13上の照明デバイス8上の反射可視光線19として入射される。これらの可視光線15、19の端光線が図3bにプロットされる。端光線は、像点12の端から発し、そして表面10上の反射区域17を画定する。反射角αで像点12から発しそして表面に入射するすべての可視光線15は、表面10上の反射区域17内に在り、そして反射可視光線19として表面から反射角αでまた反射される。これらの可視光線は、本独創的配置によると記録デバイス7及び照明デバイス8が表面10に対し反射角αで配置されるのでパターンエリア17内の照明デバイス8に入射する。
反射角αは、入射可視光線15、19(像点12から発する)/出射(表面10から反射される)と関連表面法線16との角度として定義される。可視光線15、19に属する表面法線16は、可視光線15、19が表面10に入射する反射点170において表面に対し垂直方向に延伸する。
図3aは、記録デバイス7の記録センサ11のライン(FCCL膜などの物体1として運動方向に移動するウェブ製品などの表面10の幅に沿って延伸する)を具体的に示す。記録デバイス7は、記録センサ11のただ1つのセンサラインを有するラインカメラとして又はいくつかのこのようなセンサラインを有する面走査カメラとして構築され得る。像点12は1又はいくつかのセンサ画素から形成され得る。光学系を介し、記録デバイス(カメラ)の非描写像点12は表面10上の反射区域17を捕捉する。可視光線15は、表面10上で偏向され、そしてパターン13のエリア/画像記録のその時点のパターン13のそれぞれの照明パターン130により与えられるパターンエリア18を捕捉する。図3a、3bに描写された例では、照明デバイスは、表面10の運動方向6に対し横断方向にアライメントされた照明ラインとして設計されている。
図3bは、可視光線15、19(すべての図のように端光線としてプロットされる)の反射が表面法線16に対して反射角αにより明確に認識可能である同じ配置を側面図で示す。可視光線15、19のプロットされた端光線は、表面10上の反射区域17のサイズ/エリア及びパターン13内のパターンエリア18のサイズ/エリアを視覚化する。
図3a、3bは画像記録中の状態を示し、ここでは、運動方向に移動する表面10の運動は画像記録の短い露光時間中に無視され得るということが仮定される。そうでなければ、記録された画像は、露光時間を短縮する(照明は十分に明るいと仮定して)ことにより相殺され得る動きボケを示す。
既に説明されたように、多くの画像が、画像記録シーケンス中に本発明による方法により時系列で記録される。表面は画像記録シーケンス中に運動方向6に移動するので、像点12は、逐次的に記録された画像のそれぞれの反射区域17内の同じ表面エリアをもはや見ない。むしろ、表面10上の反射区域17は逐次的に記録された画像内で互いに対しシフトされる。
これは、図4a、4bに描写され、ここでは、画像記録シーケンス内の最初の記録と最後の記録との間の表面10のシフト61がプロットされる。反射区域17aは画像記録シーケンスからの最初の画像記録の反射区域としてプロットされ、そして反射区域17bは画像記録シーケンスからの最後の画像記録の反射区域としてプロットされ、それぞれ90°だけ回転されたハッチングとして示される。重畳エリアでは、2つのハッチングは重畳される。記録シーケンスのすべての画像全体にわたる全反射区域17はそれに応じて拡大される(個々の記録の反射区域に対して全体的に覆われた表面10に対して)。この効果はまた、既に論述された動きボケに関するものと基本的に似ており、その差異は、全反射区域が1つの画像内へ組み込まれるということである。これは、動きボケが仮にも認識される限りで、画像をぼかされたように見せる。
記録ジオメトリは平坦面に関しては変化しないので、表面10のシフトはいかなる影響もパターンエリア18に与えない;これは記録シーケンス中に不変なままであり、ここでは、当然、既に説明されたように、パターン照明は位相シフトされて生成される。しかし、これは明瞭化のために図4aに示されない。
図4bは図4aと同じ状況を側面図で示す。画像aの記録中の表面法線16aは当該時に画像bの記録中の表面法線l6bと同じ位置にあったが、これは、配置の瞬間的記録としてここでは示される。平坦面10のために、表面法線16a、16bのアラインメントはパターンエリア18もまた変更しないという効果と同じである。
図3c、4cは検査デバイス9の配置を示し、ここでは、照明デバイス8は表面10の運動方向6に沿ってアライメントされた照明ラインを含む。これはそれに応じて制御されるライン照明デバイス(それに応じてアライメントされたラインを有する)又は行列照明デバイスにより実現され得る。平坦面に起因して、図3a、3b、4a、4bに示されるものに相当する状況がまたこの配置において生じる。詳細説明に関しては、上記説明を参照。
図3d、4dは図3c、4cの配置と同様な検査デバイス9の配置を示し、ここでは、照明デバイス8の照明ラインだけでなく記録センサ11のセンサラインも表面10の運動方向6に沿ってアライメントされる。したがって、記録デバイスは、ラインカメラ(ただ1つのセンサラインを有する)として又は行列カメラ(並置されたいくつかのセンサラインを有する)とし設計され得る。平坦面に起因して、図3a、3b、3c、4a、4b、4cに示される配置に相当する状況がまたこの配置で生じる。詳細説明に関しては、上記説明を参照。
この絵は表面が実際平坦でない場合は異なる。これは、図5a、5b、5c、5d/図6a、6b、6c、6dに描写される。これらのビュー及び配置は、図3a、3b、3c、3d/図4a、4b、4c、4dに関係するビュー及び配置を参照して論述されたビュー及び配置に対応する。したがって、概要という観点で、参照は上記に対しなされるべきである。表面法線16’、16のアラインメントに影響を与えそして可視光線15、19の反射に影響を与える表面10の曲率に起因して、異なるパターンエリア18a、18bが画像記録シーケンスの異なる画像の結果として生じる。
図5a、5b、5c、5dは1つの画像の状況(例えば画像シーケンスの最初の画像)をそれぞれ示す。図5aは本質的には図3aに対応し、ここでは、湾曲されたやり方で描写された表面10の両側は、表面10の曲率を運動方向6に対し横断方向に延伸するものとして指示する。表面10の曲率に起因して、可視光線(上面図の)は、直線として反射されないが、反射点170、170’において偏向される。それに応じて、反射された可視光線19は、図3aによるパターンエリア18のものと異なるスポット内に在るパターンエリア18内のパターン13に入射する。図5bは、表面法線16、16’が反射点170、170’において異なるやり方でアライメントされる(そしてしたがって異なる参照符号によりマーキングされた)ということをそれに応じて示す。したがって反射角α、α’もまた異なる。
図6a、6bは、反射区域17a(記録中に図5a、5bにおいて再生された可視光線15、19の)及び反射区域17b(図6a、6bにおいて再生された可視光線15、19の)を重畳エリア171と共に示す。パターンエリア18a、18b及びそれらの重畳エリア181は対応するやり方で示される。
像点12は、端可視光線15(表面10において鏡面反射されることに先立って)/19(表面10において鏡面反射された後)により制限されるパターンのエリア18、18a、18bにより記録センサ11において照明され、ここでは、このエリア18、18a、18bは、記録デバイス7内の表面10の反射区域17、17a、17b全体にわたりパターン13上にマッピングされる。しかし、可視光線15のそれぞれは、このスポット内に存在する表面法線16、16’、16a、16a/16b、16b’に従って偏向される。
図5a、5b、5c、5dでは、シーケンスの最初の画像内の状況が描写される。再び、画像センサ11内のカメラ画素12は、端光線15(表面において鏡面反射することに先立つ)/19a(表面において鏡面反射された後)により画定されたパターンのエリア18により照明され、ここでは、このエリア18はカメラ内の表面10のエリア17a全体にわたりパターン13上にマッピングされる。しかし、可視光線15はこのスポット内に存在する表面法線16a/16bに従って偏向される。各画像記録シーケンスのそれぞれ最後の画像内の状況が図6a、6b、6c、6dに示される。今や、パターン13のエリア18bは像点12内のシフトされた表面10全体にわたるエリア17b全体にわたりマッピングされる。今や、表面法線16b、16bはカメラから発する端光線15の鏡面反射に関連する。これらは最初の画像(図5a、5b、5c、5d)とは異なるので、照明デバイス8における照明パターン130のエリア(像点12内に見られ/マッピングされた)がまたシフトされる。全体で、最初の記録から最終の記録までの画像シーケンス中、像点12は、図6a、6b、6c、6dの表面10のエリア17の上をそしてしたがってパターン13の全エリア18の上を掃引する。像点12は、表面10上の反射区域17a、17b内及びパターン13上のパターンエリア18a、18b内の両方に在るエリアを見る。すなわち、像点12は、全体画像シーケンス中に17a又は17b/18a又は18b内だけに存在するエリアを見ない。
しかし、図3a、3b、3c、3d、4a、4b、4c、4d、5a、5b、5c、5d、6a、6b、6c、6dの比率は現実的ではないということに留意すべきである。クロスハッチングにより描写された切断エリア171、181はそれぞれ、現実的な変数に対応するのではなく、理解を促進するための説明目的を果たすだけである。実際、少なくともパターン13/照明パターンは、像点12が波長のごく一部だけを覆うように、像点12の描写されたサイズと比較してはるかに長い波であるべきである。サイズに関する比率が現実的であれば、原理は図面でもはや認識されない可能性がある。
既に説明したように、マルチ画像位相シフトプロセスのために記録される画像記録シーケンスでは、表面10(すなわち同じ反射区域17)の同じスポットが各像点12におけるすべての画像内に実際にマッピングされるべきである。いくつかの画像が、次から次へと記録される場合、これらは移動面10に対して互いにシフトされる。画像シーケンス中に像点12により記録されるものが本発明という観点で「ほぼ同じスポット」と依然として見なされ得るかどうかに関する評価のために決定的であるものは、どの程度記録デバイス7における表面10全体にわたる周期的パターン13のマッピングが画像シーケンス中に変化するかに最終的に依存する。これは、延いては、一方ではパターン13(照明パターン130)自体と表面10からのその距離とに依存し、他方では画像シーケンス全体中に像点12上にマッピングされる反射区域17とどのようにこのエリア(反射区域17)が変化するかとに依存する。反射区域のエリア(すなわち、1つの画素上の視認面内にマッピングされるエリア)は、光学的画素解像度、露光時間、露光シーケンスの期間、及び横断速度(すなわち、どれくらい遠くへ表面10が完全画素シーケンス中に移動するか)に依存する。パターンエリア18の変化は表面トポグラフィに(特に、表面法線の変化に)依存する。
位相シフトプロセスが行われれば、パターン13及び像点12(また静止表面10の場合の)は、照明パターン130上の像点12により覆われる照明パターン130の一部において、輝度がほとんど一定であると見なされ得/中間輝度が像点12において測定された輝度を実質的に表すように互いに整合されなければならない。また、輝度は「必要とされる最小曲面偏向(検出される欠陥により引き起こされる)の輝度は、検査デバイス9がこれを知覚することができるために、十分に変化する」程度まで変化することが許容される。前者は、反射区域19として像点12により覆われる表面10がほとんど平坦であると見なされ得ればそのケースである。そうでなければ、トポロジー測定は別の情報無しにもはや可能ではない;すなわち、依然として検出され得るのは表面偏差が存在するということだけである。加えて、横方向解像度(すなわち表面上のエリアのサイズ)は、最小表面偏差(検査中に識別される)が依然として解決されるように調節されなければならない。
移動面10に関して、画像記録シーケンス中、より大きなエリア(図4a、4b、4c、4dの表面10上の全反射区域17、例えば6a、6b、6c、6dが像点により覆われるということがさらに考慮されなければならない。これは横方向解像度に影響を与える。表面が追加的に湾曲されれば、パターン13上のより大きなパターンエリア18は1つの像点により追加的に覆われる。これは深さ解像度に影響を与える。表面10が画像記録シーケンスにおける画像の記録中に移動すれば、決定的要因は、どのように像点12のそれぞれの可視光線15、19が照明パターン130上で掃引するか(パターン13の瞬間的記録)である。
平坦面10の場合、この影響は図3、4のようには決して発生しない。したがって、誤差は、様々な記録パターンエリアを記録シーケンスの画像内にマッピングするので発生しない。それにもかかわらず、これは、邪魔されないケースにおいていかなる測定誤差も無い場合に限り適用される。何らかの故障が表面上で発生すると直ちに(又はこれがとにかく湾曲されれば)、これはもはや適用されない。したがって、図5と図6に示すケースがまた、誤差を測定する場合に発生する。
本発明による方法とそれぞれの検査デバイスとに起因して、本システムは、上述の条件が露光時間/完了画像記録シーケンスの全記録時間に関しても維持されるように配置される。この目的を達成するために、画像記録シーケンスの画像は非常に迅速に次から次へと時系列に記録されるので、記録中の表面10のシフトは非常に小さく、したがって各像点12は、依然として一定と見なされ得る表面10上のエリア(反射区域17)を覆う。その上、パターン31の周期長は、画像記録シーケンスの記録中に表面において鏡面反射又は反射された記録デバイス7の可視光線15、19によりその上を掃引されるエリアが依然として一定と見なされ得るように/それから発生する誤差が必要とされる深さ解像度より小さくなるように配置される。
表面10がより強く湾曲されればされるほど、画像はより速く記録される必要があり、そしてパターン13はより長波長にならなければならない。しかし、両方の条件は、実際に検査される表面10上のそれらのエリアに関してだけ維持されなければならない。これらは、ほとんどの場合、構造的欠陥無し表面エリアと、平坦なトポロジー長波長欠陥が存在するそれらのエリアである。ほとんどの表面はさらに、非常に小さく且つたいていは非常に急峻なトポロジー欠陥を有する。これらの欠陥に関して、これらの条件はほとんどの場合もはや維持され得なく、これは静的ケースにほとんど既に適用されている。ここで行われ得るのはこれらの欠陥を検出すること(欠陥の検出)だけであるが、それらを測定する(トポグラフィを測定する)ことはもはや可能ではない。
非常に高い画像記録周波数が、本方法のために、そして必要とされる横方向解像度が画像記録シーケンス全体に関して実現されるために、必要である。これらは、延いては、非常に短い露光時間を必要とし、これは延いては非常に明るい照明を必要とする。
この文脈において非常に有利なやり方で使用される位相シフト方法に関して、パターン13(すなわち照明パターン130のそれぞれ)が正弦輝度曲線であれば最も有利である。これは通常、例えばスクリーンを使用することにより又は表面上に投影されるパターンを使用することに実現される。正弦曲線は、非常に良好~完全なやり方で表され得る。残念ながら、これらの照明により経済的に正当化された経費で実現可能な輝度はしばしば十分ではなく、そして可能画像周波数は、遅いプロセスにおいてだけ使用され得るように制限される。
個々のLED、又は多くの単一LEDから構成される個々のLEDモジュールが別々に制御され得るLEDライン又はLED行列により、必要とされる輝度及び必要とされる切り替え周波数の両方は、カメラの画像記録と同期して実現され得る。又は、多くのラインが行列を形成するために組み合わせられ得る。
最も単純な形式では、個々のLED/LEDモジュールはオン又はオフにされ得るだけである。これは、実際に望まれる輝度曲線の粗い近似に過ぎない矩形輝度曲線だけが実現され得るということを意味する。これは位相シフト方法を行うためには既に十分であるが精度が制限される。様々な方策を取ることにより、所望曲線に対するより良い近似が実現され得る。正弦曲線に近づけば近づくほど精度は良くなる。照明ライン/照明行列は、個々のLEDの中間輝度もまた設定され得るように修正され得る。LED又はLEDモジュールのサイズに依存して、正弦曲線の良好な近似が実現され得る。これは、例えば個々のLED/LEDモジュールが実際の露光時間中に時々接続されるだけであるという点で可能である。しかし、この方法は、極高速制御エレクトロニクスが必要とされるので高価である。本発明による好ましい解決策は、カメラ上でぼかされてマッピングされるパターンを提供する。これは既に説明されており、ここでは繰り返されない。
上記説明という観点で用語「カメラ」及び「画像記録デバイス」は同義的に使用されるということが指摘される。カメラに関連して開示されたすべての特徴及び機能はまたそれに応じて画像記録デバイスに当てはまり、そして逆も同様である。
1 物体
2 銅膜
3 プラスチック膜
4 第1の欠陥
5 第2の欠陥
6 運動方向
61 シフト
7 記録デバイス
8 照明デバイス
9 検査デバイス
10 表面
11 記録センサ
12 像点
13 パターン
130 照明パターン
14 輝度分布
15 可視光線
16 表面法線
17 反射区域
170 反射点
171 個々の画像の反射区域の切断エリア
18 パターンエリア
181 個々の画像内のパターンエリアの切断エリア
19 可視光線
α 反射角

Claims (14)

  1. 検査デバイス(9)により物体(1)の表面(10)を光学的に検査する方法であって、
    前記検査デバイス(9)の照明デバイス(8)により、様々な照明パターン(130)を有する時間周期的パターン(13)が画像記録シーケンス中に前記表面(10)上に生成され、
    前記画像記録シーケンスにおいて、前記表面(10)上の前記パターン(13)の多くの画像が前記検査デバイス(9)の画像記録デバイス(7)により記録され、
    前記様々な照明パターン(130)の1つを生成することは、前記画像記録シーケンスからの各画像が前記様々な照明パターン(130)のうちの知られた照明パターン(130)によりそれぞれ記録されるように前記パターン(13)の前記画像のうちの1つの画像の画像記録とそれぞれ同期され;
    前記パターン(13)の位相は、少なくとも1つの像点における一連の記録された知られた照明パターン(130)から判断され;
    前記表面(10)上の欠陥(4、5)は、前記生成された知られた照明パターン(130)からの少なくとも1つの画像内に記録された前記照明パターン(130)の偏差から検出される、方法において;
    前記照明デバイス(8)及び前記画像記録デバイス(7)は反射角(α)で配置され、
    前記表面(10)の検査中、前記物体(1)は前記検査デバイス(9)に対して移動され;
    前記画像記録シーケンスの期間は、前記画像記録シーケンスからのそれぞれの画像内の反射区域(17a、17b)により全体的に覆われた表面エリアとして定義されるシーケンス反射区域(17)が一定と見なされ得るように選択される、ことを特徴とする方法。
  2. 前記像点(12)のサイズは前記方法の実行中に設定されることを特徴とする請求項1に記載の方法。
  3. 前記像点(12)のサイズを設定することは前記記録デバイス(7)の記録センサ(11)のいくつかの画素を組み合わせることにより行われることを特徴とする請求項2に記載の方法。
  4. 前記画像記録シーケンスの期間は前記方法の実行中に設定されることを特徴とする請求項1乃至3のいずれか一項に記載の方法。
  5. 前記画像記録シーケンスの期間を設定する際、以下に列挙される変数のうちの少なくとも1つが適応化されることを特徴とする請求項4に記載の方法:
    -画像の露光時間
    -前記表面(10)上で生成された前記パターン(13)の輝度
    -前記記録センサ(11)の走査周波数
    -画像記録シーケンス当たりの画像の数。
  6. 前記照明パターン(130)は、各画像記録シーケンス中に記録された画像の前記像点(12)において可視である前記照明パターン(130)の前記エリアが一定と見なされ得るように前記照明デバイス(7)により生成される、ことを特徴とする請求項1乃至5のいずれか一項に記載の方法。
  7. 前記照明パターン(130)内の前記パターン(13)の周期長は、前記パターンコースの方向の前記表面(10)のトポロジーに依存して、強度変化が十分に一定であると見なされ得るように選択される、ことを特徴とする請求項6に記載の方法。
  8. 前記周期的パターン(13)は、前記物体(10)の運動方向に沿って、前記物体(10)の運動方向に対し横断方向に、又は代替的に前記物体(10)の運動方向に沿って且つそれに対し横断方向に生成される、ことを特徴とする請求項1乃至7のいずれか一項に記載の方法。
  9. 前記記録デバイス(7)は前記画像内で記録された前記照明パターン(130)がぼかされるように合焦される、ことを特徴とする請求項1乃至8のいずれか一項に記載の方法。
  10. 前記表面(10)の検査中、前記物体(1)の前記表面(10)の三次元トポグラフィは偏向測定プロセスにより判断される、ことを特徴とする請求項1乃至9のいずれか一項に記載の方法。
  11. ウェブ製品又は処理された面(10)の検査のための請求項1乃至10のいずれか一項に記載の方法の使用。
  12. 照明デバイス(8)及び記録デバイス(7)により物体(1)の表面(10)を光学的に検査する検査デバイスであって、
    前記照明デバイス(8)及び前記記録デバイス(7)は、可視光線(15、19)の入射スポット内の表面(10)上で垂直方向に立つ表面法線(16)が出射する前記可視光線(15)と反射する前記可視光線(19)との角度を丁度2分する場合に、前記表面上で反射された可視光線(19)として前記記録デバイス(7)から発する可視光線(15)が次に前記照明デバイス(8)に入射するやり方で互いにアライメントされ、
    前記照明デバイス(8)は画像記録シーケンス中に様々な照明パターン(130)により時間周期的パターン(13)を生成するように設計され、
    前記記録デバイス(7)は、前記照明パターン(130)の生成と同期して前記画像記録シーケンス中に前記表面(10)上で反射される前記パターン(13)の画像を記録するように設計され、
    前記検査デバイス(9)は、前記検査デバイス(9)を制御するための及び記録された画像を評価するための計算ユニットを含む、検査デバイスにおいて、
    前記計算ユニットのプロセッサが請求項1乃至10のいずれか一項に記載の方法を行うように設計される、ことを特徴とする検査デバイス。
  13. 前記照明デバイス(8)は行又は行列で配置された個々に制御可能な光素子を含むことと、前記記録デバイス(7)は、記録光学系を介しセンサ(11)上にマッピングされた画像を記録するための前記センサ(11)を含むこととを特徴とする請求項12に記載の検査デバイスであって、
    前記センサ(11)は行又は行列で配置された個々のセンサ画素を含む、検査デバイス。
  14. 前記記録デバイス(7)及び前記照明デバイス(8)は、平坦な視角及び照明角が前記それぞれの可視光線(15、19)と前記表面(10)との間に提供されるように、及び/又は大きな照明距離が前記表面(10)と前記照明デバイス(8)との間に提供されるように配置されることを特徴とする、請求項12又は13に記載の検査デバイス。
JP2022562049A 2020-04-09 2021-03-22 表面を光学的に検査するための方法及び検査デバイス Pending JP2023521175A (ja)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE102020109945.2A DE102020109945A1 (de) 2020-04-09 2020-04-09 Verfahren und Inspektionseinrichtung zur optischen Inspektion einer Oberfläche
DE102020109945.2 2020-04-09
PCT/EP2021/057217 WO2021204521A1 (de) 2020-04-09 2021-03-22 Verfahren und inspektionseinrichtung zur optischen inspektion einer oberfläche

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2023521175A true JP2023521175A (ja) 2023-05-23

Family

ID=75302515

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2022562049A Pending JP2023521175A (ja) 2020-04-09 2021-03-22 表面を光学的に検査するための方法及び検査デバイス

Country Status (11)

Country Link
US (1) US20230140278A1 (ja)
EP (1) EP4133260A1 (ja)
JP (1) JP2023521175A (ja)
KR (1) KR20230014686A (ja)
CN (1) CN115398213A (ja)
BR (1) BR112022020214A2 (ja)
CA (1) CA3179520A1 (ja)
DE (1) DE102020109945A1 (ja)
IL (1) IL297164A (ja)
MX (1) MX2022012556A (ja)
WO (1) WO2021204521A1 (ja)

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010256021A (ja) * 2009-04-21 2010-11-11 Konica Minolta Opto Inc フィルム表面欠陥検査装置、フィルム表面欠陥検査方法及び光学フィルムの製造方法
JP2011089981A (ja) * 2009-09-24 2011-05-06 Kde Corp 検査システム及び検査方法
JP2012053015A (ja) * 2010-09-03 2012-03-15 Saki Corp:Kk 外観検査装置及び外観検査方法
JP2018205005A (ja) * 2017-05-31 2018-12-27 株式会社キーエンス 画像検査装置
JP2019120644A (ja) * 2018-01-10 2019-07-22 アイシン精機株式会社 表面検査装置、及び表面検査方法

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE19643018B4 (de) 1996-10-18 2010-06-17 Isra Surface Vision Gmbh Verfahren und Vorrichtung zum Messen des Verlaufs reflektierender Oberflächen
DE10063293A1 (de) * 2000-12-19 2002-07-04 Fraunhofer Ges Forschung Verfahren und Vorrichtung zur mehrkanaligen Inspektion von Oberflächen im Durchlauf
DE102004033526A1 (de) 2004-07-08 2006-02-02 Universität Karlsruhe (TH) Institut für Mess- und Regelungstechnik Verfahren und Vorrichtung zur Analyse zumindest partiell reflektierender Oberflächen
US8125563B2 (en) 2005-11-10 2012-02-28 OBE OHNMACHT & BAUMGäRTNER GMBH & CO. KG Camera chip, camera and method for image recording
JP2011064482A (ja) * 2009-09-15 2011-03-31 Kurabo Ind Ltd 高速三次元計測装置及び高速三次元計測方法
DE102010021853B4 (de) 2010-05-28 2012-04-26 Isra Vision Ag Einrichtung und Verfahren zur optischen Überprüfung eines Gegenstands
DE102011117894A1 (de) 2011-11-04 2013-05-08 OBE OHNMACHT & BAUMGäRTNER GMBH & CO. KG Vorrichtung und Verfahren zur optischen Formerfassung von bewegten Gegenständen

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010256021A (ja) * 2009-04-21 2010-11-11 Konica Minolta Opto Inc フィルム表面欠陥検査装置、フィルム表面欠陥検査方法及び光学フィルムの製造方法
JP2011089981A (ja) * 2009-09-24 2011-05-06 Kde Corp 検査システム及び検査方法
JP2012053015A (ja) * 2010-09-03 2012-03-15 Saki Corp:Kk 外観検査装置及び外観検査方法
JP2018205005A (ja) * 2017-05-31 2018-12-27 株式会社キーエンス 画像検査装置
JP2019120644A (ja) * 2018-01-10 2019-07-22 アイシン精機株式会社 表面検査装置、及び表面検査方法

Also Published As

Publication number Publication date
US20230140278A1 (en) 2023-05-04
BR112022020214A2 (pt) 2022-12-13
CA3179520A1 (en) 2021-10-14
EP4133260A1 (de) 2023-02-15
DE102020109945A1 (de) 2021-10-14
KR20230014686A (ko) 2023-01-30
WO2021204521A1 (de) 2021-10-14
MX2022012556A (es) 2023-01-11
CN115398213A (zh) 2022-11-25
IL297164A (en) 2022-12-01

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US8243285B2 (en) Inspection system and method
US7382457B2 (en) Illumination system for material inspection
JP3878023B2 (ja) 三次元計測装置
TWI402498B (zh) 影像形成方法及影像形成裝置
JP3878165B2 (ja) 三次元計測装置
JP2010532871A (ja) 物体の表面を光学検査するための方法および装置
WO2020213101A1 (ja) 欠陥検査装置および欠陥検査方法
KR101211438B1 (ko) 결함 검사장치
JP2003028805A (ja) 表面性状評価装置
JP5776949B2 (ja) 検査方法
JP4808072B2 (ja) フィルタ格子縞板、三次元計測装置及び照明手段
JP2010528314A (ja) 立体形状測定装置
KR20120031835A (ko) 결함 검사장치
JP2009092426A (ja) 表面検査方法及び表面検査装置
JP2000121323A (ja) 表面高さ検査方法及びその検査装置並びにカラーフィルタ基板、その検査方法及びその製造方法
JP5890953B2 (ja) 検査装置
JP2008157788A (ja) 表面検査方法及び表面検査装置
JP2023521175A (ja) 表面を光学的に検査するための方法及び検査デバイス
JP2009109263A (ja) 検査装置及び検査方法
RU2812804C1 (ru) Способ и контрольное устройство для оптического контроля поверхности
JP2000108316A (ja) 品質検査装置
WO2022059710A1 (ja) 欠陥検査装置
KR101423276B1 (ko) 표면형상 측정장치
JP4903658B2 (ja) 表面検査方法及び表面検査装置
JP7459525B2 (ja) 三次元形状計測装置、三次元形状計測方法及びプログラム

Legal Events

Date Code Title Description
A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20221222

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20221214

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20231027

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20231101

A601 Written request for extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601

Effective date: 20240123

A601 Written request for extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601

Effective date: 20240326

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20240430