JP2023519468A - 歪みが低減された窒化インジウムガリウム発光ダイオード - Google Patents
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Abstract
LED発光体を形成する方法は、基板(310)の上にIII窒化物層を設けることを含み、III窒化物層は平坦な上面を有し、上記方法はさらに、上面の上に離散的な横方向成長領域を設けることと、各離散的な横方向成長領域の上に、In(x)Ga(1-x)N材料を含むベース領域(1210)を選択的にエピタキシャル成長させることとを含み、各ベース領域は上面に対して垂直に延在し、上記方法はさらに、ベース領域(1210)の一部の上にIn(x)Ga(1-x)N材料の表面を設けることを含み、表面は緩和された歪みを有し、そのバルク緩和値の0.1%以内のベース格子定数によって特徴付けられ、上記方法はさらに、表面の上にLED領域をエピタキシャル成長させることを含み、LED領域は、In(x)Ga(1-x)N材料の表面と擬似格子整合するIn(y)Ga(1-y)N材料の発光層を含み、ベース格子定数の0.1%以内の活性領域(1240)の格子定数によって特徴付けられ、0.05<x<0.2およびy>0.3である。
Description
関連出願の相互参照
本願は、2020年3月27日に出願された米国仮特許出願連続番号第63/001,221号に基づく優先権を主張し、この出願の全体を参照により本明細書に援用する。
本願は、2020年3月27日に出願された米国仮特許出願連続番号第63/001,221号に基づく優先権を主張し、この出願の全体を参照により本明細書に援用する。
開示の分野
本開示は、歪みが低減された窒化インジウムガリウム(InGaN)発光ダイオード(LED)、およびそのようなLEDを含むデバイスに関する。
本開示は、歪みが低減された窒化インジウムガリウム(InGaN)発光ダイオード(LED)、およびそのようなLEDを含むデバイスに関する。
背景
マイクロLEDなどのLEDは、ディスプレイ用途の候補である。場合によっては、青色、緑色および赤色放射を発するIII窒化物NE LEDの組み合わせが望まれる。
マイクロLEDなどのLEDは、ディスプレイ用途の候補である。場合によっては、青色、緑色および赤色放射を発するIII窒化物NE LEDの組み合わせが望まれる。
概要
長波長のIII窒化物発光層を成長させることは、内部量子効率(IQE)を低下させる大量の欠陥(点欠陥、拡張欠陥)や、(長波長発光のために一般に必要な)大量のインジウムの取り込みの難しさなど、いくつかの理由で困難であり得る。これらの効果は、一般に歪みによって悪化する。たとえば、GaNマトリックスとInGaN発光層との間の格子差によって引き起こされる歪みは、欠陥の取り込み/生成につながる恐れがあり、格子引張によってIn取り込みを減少させる。
長波長のIII窒化物発光層を成長させることは、内部量子効率(IQE)を低下させる大量の欠陥(点欠陥、拡張欠陥)や、(長波長発光のために一般に必要な)大量のインジウムの取り込みの難しさなど、いくつかの理由で困難であり得る。これらの効果は、一般に歪みによって悪化する。たとえば、GaNマトリックスとInGaN発光層との間の格子差によって引き起こされる歪みは、欠陥の取り込み/生成につながる恐れがあり、格子引張によってIn取り込みを減少させる。
必要なのは、長波長発光のための歪み効果が低減されたマイクロLEDである。
本発明のさまざまな局面は以下のように要約される。
本発明のさまざまな局面は以下のように要約される。
概して、第1の局面において、本発明はディスプレイ発光体を特徴とし、ディスプレイ発光体は、
各々がディスプレイのサブピクセルに対応する3つの複数のサブ領域を含み、3つの複数のサブ領域は、ディスプレイ発光体の動作時に青色、緑色および赤色光をそれぞれ放出し、各サブ領域は発光領域(たとえば複数のナノワイヤ(NW))を含み、発光領域(たとえばNWの各々)はベース領域を含み、ベース領域は、少なくとも5%のInを含むInGaN組成を有し、緩和された再成長面を有し、再成長面は、そのバルク値の0.1%以内のベース格子定数を有し、発光領域はさらに、再成長面の上に再成長したLED領域を含み、LED領域は、少なくとも10%のInを含むInGaN組成を有する少なくとも1つの発光層を含む。発光層は、再成長面と擬似格子整合し、ベース格子定数の0.1%以内の活性領域格子定数を有する。
各々がディスプレイのサブピクセルに対応する3つの複数のサブ領域を含み、3つの複数のサブ領域は、ディスプレイ発光体の動作時に青色、緑色および赤色光をそれぞれ放出し、各サブ領域は発光領域(たとえば複数のナノワイヤ(NW))を含み、発光領域(たとえばNWの各々)はベース領域を含み、ベース領域は、少なくとも5%のInを含むInGaN組成を有し、緩和された再成長面を有し、再成長面は、そのバルク値の0.1%以内のベース格子定数を有し、発光領域はさらに、再成長面の上に再成長したLED領域を含み、LED領域は、少なくとも10%のInを含むInGaN組成を有する少なくとも1つの発光層を含む。発光層は、再成長面と擬似格子整合し、ベース格子定数の0.1%以内の活性領域格子定数を有する。
実施形態は、以下の特徴および/または他の局面の特徴のうちの1つ以上を含んでもよい。
ベース領域は、ハイドライド気相成長(HVPE)によって形成してもよい。
LED領域は、有機金属化学蒸着(MOCVD)によって再成長させてもよい。
LED領域は、有機金属化学蒸着(MOCVD)によって再成長させてもよい。
ベースおよび活性領域格子定数は、面内格子定数であってもよい。
ベース領域は、InGaN組成と等しい均一な組成を有してもよい。
ベース領域は、InGaN組成と等しい均一な組成を有してもよい。
NWは、平坦なIII窒化物層の上に成長させてもよい。
ベース領域は、横方向寸法が300nm未満の横型構造を含み、ベース領域材料の緩和は横型構造の内部で起こってもよい。
ベース領域は、横方向寸法が300nm未満の横型構造を含み、ベース領域材料の緩和は横型構造の内部で起こってもよい。
概して、別の局面において、本発明はナノワイヤLED発光体を形成する方法を特徴とし、上記方法は、基板を設けることと、基板の上に平坦なGaN層を成長させることと、基板の上に開口部を有するマスクを形成することと、InCl3を前駆体として用いて、(たとえばHVPEによって)開口部の中にIn(x)Ga(1-x)Nベース領域を成長させることとを含み、ベース領域は開口部の上方に垂直に延在し、上記方法はさらに、ベース領域の一部の上に再成長面を設けることを含み、再成長面は緩和され、そのバルク緩和値の0.1%以内のベース格子定数によって特徴付けられ、上記方法はさらに、再成長面の上にLED領域を成長させることを含み、LED領域は、再成長面と擬似格子整合する組成In(y)Ga(1-y)Nを含む発光層を有し、ベース格子定数の0.1%以内の活性領域格子定数によって特徴付けられ、0.05<x<0.15およびy>0.2である。
実現例は、以下の特徴および/または他の局面の特徴のうちの1つ以上を含んでもよい。
概して、別の局面において、本発明はナノワイヤLED発光体を形成する方法を特徴とし、上記方法は、基板を設けることと、基板の上に開口部を有するマスクを形成することとを含み、マスクは上面を有し、上記方法はさらに、横方向成長を実質的に促進する第1の成長パラメータを有する第1の成長方法によって、開口部の中にIn(x)Ga(1-x)N基材を成長させることを含み、基材は上面の上方に延在し、基材は上面の上方で開口部の外側に横方向に延在し、上記方法はさらに、基材の一部の上に少なくとも1つの再成長面を設けることを含み、少なくとも1つの再成長面は少なくとも部分的に緩和され、上記方法はさらに、横方向成長を実質的に促進しない第2の成長パラメータを有する第2の成長方法によって、再成長面の上にLED領域を成長させることを含み、LED領域は、少なくとも1つの再成長面と擬似格子整合する組成In(y)Ga(1-y)Nを含む発光層を有し、0.05<x<0.2およびy>0.3であり、発光層と再成長面との間のミスフィット歪みは、発光層と緩和されたGaNとの間のミスフィット歪みの半分未満である。
実現例は、以下の特徴および/または他の局面の特徴のうちの1つ以上を含んでもよい。
少なくとも1つの再成長面は、そのバルク緩和値の0.5%以内のベース面内格子定数によって特徴付けられてもよい。第1の成長パラメータは、1以上(たとえば、2以上、5以上、10以上、100以上)の横方向と縦方向の成長速度比で成長を容易にし得る。第2の成長パラメータは、2以上(たとえば、10以上、100以上)の縦方向と横方向の成長速度比で成長を容易にする。第1の方法はHVPEであってもよく、第2の方法はMOCVDであってもよい。
概して、さらなる局面において、本発明は発光ダイオード(LED)を形成する方法を特徴とし、上記方法は、基板の表面の上に窒化ガリウム(GaN)を含むバッファ層を成長させることと、バッファ層の表面の上に開口部を有するマスクを形成することと、バッファ層の表面の上の開口部の中にベース層を形成することとを含み、ベース層を形成することは、(たとえば、モノハロゲン化物またはトリハロゲン化物前駆体を用いたハイドライド気相成長(HVPE)を用いて)In(x)Ga(1-x)Nをエピタキシャル成長させることを含み、上記方法はさらに、ベース層の上に再成長面を設けることを含み、再成長面は、In(x)Ga(1-x)Nのベース格子定数のバルク値の0.1%以内のベース格子定数を有する緩和結晶構造を有し、上記方法はさらに、再成長面の上に1つ以上の追加層をエピタキシャル成長させてLEDの活性領域を設けることを含み、1つ以上の追加層は、再成長面のベース格子定数の0.1%以内の活性領域格子定数を有する、再成長面と擬似格子整合するIn(y)Ga(1-y)Nの少なくとも1つの層を含み、上記方法はさらに、活性領域の上に1つ以上の追加層を形成してこれらの層を処理してLEDを提供することを含み、0.05<x<0.15およびy>0.2である。
実現例は、以下の特徴および/または他の局面の特徴のうちの1つ以上を含んでもよい。たとえば、マスクは、複数の離間した開口部を含んでもよく、上記方法は、各開口部の中にLEDを同時に形成して複数のLEDを提供することを含む。LEDは、ナノワイヤLED(NW LED)であってもよい。複数のNW LEDの各々は、可視スペクトル内の第1のピーク波長λ1で発光するように構成されてもよい。複数のNW LEDは、基板の第1の領域内にグループ化された第1の複数のNW LEDを含んでもよく、上記方法はさらに、基板の第2の領域内にグループ化された第2の複数のNW LEDを形成することを含み、第2の複数のNW LEDの各々は、可視スペクトル内の第2のピーク波長λ2で発光するように構成され、上記方法はさらに、基板の第3の領域内にグループ化された第3の複数のNW LEDを形成することを含み、第3の複数のNW LEDの各々は、可視スペクトル内の第3のピーク波長λ3で発光するように構成され、λ1、λ2およびλ3は互いに異なってもよい。
マスクの開口部は、バッファ層の表面の平面内の第1の方向に第1の寸法d1を有してもよく、再成長面は第1の方向に第2の寸法d2を有し、d2>d1である。
前駆体は塩化物前駆体であってもよい。塩化物前駆体は、GaCl、GaCl3、InClおよびInCl3の群から選択されてもよい。
GaNの層は平坦層であってもよい。
LEDは、開口部の上方で基板の表面に対して垂直に延在してもよい。
LEDは、開口部の上方で基板の表面に対して垂直に延在してもよい。
基板は、サファイア、シリコン、およびGaNの群から選択される基板材料を含んでもよい。
1つ以上の追加層は、電磁スペクトルの可視部にピーク波長λを有する光を放出するように構成された1つ以上の量子井戸(QW)層を含んでもよい。
1つ以上の追加層は、有機金属化学蒸着(MOCVD)または分子線エピタキシー(MBE)を用いて形成してもよい。
概して、さらなる局面において、本発明は発光デバイスを特徴とし、発光デバイスは、基板の表面の上のGaNバッファ層と、GaNバッファ層から延在する発光ダイオード(LED)とを含み、LEDは、In(y)Ga(1-y)Nの少なくとも1つの層を有するLED領域と、LED領域とGaNバッファ層との間のベース領域とを含む。ベース領域は、再成長面を有するIn(x)Ga(1-x)Nの層を含み、再成長面は、In(x)Ga(1-x)Nのベース格子定数のバルク値の0.1%以内のベース格子定数を有する緩和結晶構造を有する。LED領域内のIn(y)Ga(1-y)Nの層は、再成長面と擬似格子整合し、再成長面のベース格子定数の0.1%以内の活性領域格子定数を有し、0.05<x<0.15およびy>0.2である。
実施形態は、以下の特徴および/または他の局面の特徴のうちの1つ以上を含んでもよい。たとえば、LED領域は、In(y)Ga(1-y)Nの層によって支持される1つ以上の量子井戸(QW)層を有する活性領域を含んでもよい。LED領域はさらに、活性領域によって支持される第2のInGaN層を含んでもよい。
バッファ層の表面において、ベース領域は、バッファ層の表面の平面内の第1の方向に第1の寸法d1を有してもよく、再成長面は第1の方向に第2の寸法d2を有してもよく、d2>d1である。
発光デバイスは、バッファ層の表面の上にマスクを含んでもよく、NW LEDはマスクの開口の中に形成される。
ベース領域内のIn(x)Ga(1-x)Nの層は、モノハロゲン化物またはトリハロゲン化物前駆体を用いたハイドライド気相成長(HVPE)を使用して形成してもよい。
LED領域内のIn(y)Ga(1-y)Nの層は、有機金属化学蒸着(MOCVD)または分子線エピタキシー(MBE)を使用して形成してもよい。
別の局面において、本発明は複数のNW LEDを含むディスプレイデバイスを特徴とし、NW LEDの各々はGaNバッファ層から延在し、NW LEDは互いに離間している。複数のNW LEDの各々は、可視スペクトル内の第1のピーク波長λ1で発光するように構成されてもよい。複数のNW LEDは、基板の第1の領域内にグループ化された第1の複数のNW LEDを含み、ディスプレイデバイスはさらに、基板の第2の領域内にグループ化された第2の複数のNW LEDを含み、第2の複数のNW LEDの各々は、可視スペクトル内の第2のピーク波長λ2で発光するように構成され、ディスプレイデバイスはさらに、基板の第3の領域内にグループ化された第3の複数のNW LEDを含み、第3の複数のNW LEDの各々は、可視スペクトル内の第3のピーク波長λ3で発光するように構成され、λ1、λ2およびλ3は互いに異なり、第1、第2および第3の領域はディスプレイデバイスの1つの画素を構成する。
概して、さらなる局面において、本発明は発光ダイオード(LED)を形成する方法を特徴とし、上記方法は、テクスチャ化された上面を有する成長基板を設けることと、第1の成長技術を用いて、上面の領域の上に第1の基材を選択的に成長させて、少なくとも1つの横方向寸法が500nm未満の特徴を形成することとを含み、第1の基材は、緩和されたIn(x)Ga(1-x)N層を含み、上記方法はさらに、第2の成長技術を用いて、第1の基材の上に第2の基材を成長させることを含み、第2の基材の成長により、特徴の少なくとも1つの横方向寸法が1ミクロンよりも大きく延在し、第2の基材は、緩和されたIn(x)Ga(1-x)Nの層を含み、第2の成長技術は縦方向成長よりも横方向成長に有利であり、上記方法はさらに、第3の成長技術を用いて、特徴の上にLED構造を成長させることを含み、LED構造は、第2の基材と擬似格子整合するIn(y)Ga(1-y)Nの少なくとも1つの発光層を含み、第3の成長技術は横方向成長よりも縦方向成長に有利であり、0.05<x<0.2およびy>0.3であり、発光層と第2の基材との間のミスフィット歪みは、発光層と緩和されたGaNとの間のミスフィット歪みの半分未満である。
実現例は、以下の特徴および/または他の局面の特徴のうちの1つ以上を含んでもよい。たとえば、成長基板のテクスチャ化された上面は、横方向寸法が500nm未満の開口部を有するマスクで覆われた平面を含み、選択的な成長は開口部の中で起こる。
特徴はメサであってもよい。
第1および第2の基材は、それぞれの歪みのない平衡値の0.5%以内の面内格子定数を有してもよい。
第1および第2の基材は、それぞれの歪みのない平衡値の0.5%以内の面内格子定数を有してもよい。
発光層は平坦であってもよく、ウルツ鉱型結晶構造を有してもよく、発光層の平面はウルツ鉱型構造のc面に沿っていてもよい。
特徴は、1E7cm-1未満の平均転位密度を有してもよい。
第1および第2の成長技術はハイドライド気相成長(HVPE)であってもよく、第3の成長技術は有機金属化学蒸着(MOCVD)であってもよい。
第1および第2の成長技術はハイドライド気相成長(HVPE)であってもよく、第3の成長技術は有機金属化学蒸着(MOCVD)であってもよい。
第1の成長技術はHVPEであってもよく、第2および第3の成長技術はMOCVDであってもよい。
上記方法は、第2の基材の成長後、およびLED構造の成長前に、LED構造の成長を容易にするために特徴の表面を準備することを含んでもよい。
本開示、図面、および特許請求の範囲から1つ以上の利点が明らかになるであろう。
詳細な説明
LED構造
本明細書に開示されるいくつかの実施形態はナノワイヤ(NW)LEDであり、各LEDは1本または数本のNWを含む。NWは、InGaN層を含むベース領域と、nドープ層、少なくとも1つの発光InGaN層を有する活性領域(発光領域)、およびpドープ層を含むLED領域とを有する。ベース領域は、HVPEなどの第1の技術によって成長させてもよい。LED領域は、MOCVDまたはMBEなどの第2の技術によってベース領域の上に再成長させてもよい。
LED構造
本明細書に開示されるいくつかの実施形態はナノワイヤ(NW)LEDであり、各LEDは1本または数本のNWを含む。NWは、InGaN層を含むベース領域と、nドープ層、少なくとも1つの発光InGaN層を有する活性領域(発光領域)、およびpドープ層を含むLED領域とを有する。ベース領域は、HVPEなどの第1の技術によって成長させてもよい。LED領域は、MOCVDまたはMBEなどの第2の技術によってベース領域の上に再成長させてもよい。
図1A~図1Bは、そのようなLED100および100′の例をそれぞれ示す。図1Aにおいて、活性領域110は平坦であり、それぞれのNW軸101に対して垂直に成長する。図1Bにおいて、活性領域111およびp-GaN層121はベースNWとコンフォーマルである(これはコアシェル構造と呼ばれる)。どちらの例においても、NW100および101は、基板150の上のGaN層140の上に成長したn-InGaN層130を含む。マスク層160がGaN層140の上に支持されて開口を含み、この開口の中にNWが形成される。NWの形状は垂直である必要はなく、傾斜側壁を有してもよく、コアシェル構造はさまざまなファセット(水平、垂直、傾斜を含む)に沿って活性領域を有してもよい。
ベース領域は適切な歪み状態を有することができ、完全に緩和されてもよく、または部分的に緩和されてもよい。ベース領域は、LED領域のエピタキシャル層を成長させるためのベースとして機能する。いくつかの実施形態は、発光層の歪みを低減するために、発光層を取り囲むさまざまな層に高濃度のInを含むという点で、従来のLEDと対比される。
図2A~図2Bは、従来のLEDエピタキシャルスタック200と実施形態201とを対比している。図2Aにおいて、ほとんどの層がGaNである。具体的には、下から上にLED200を形成する層のスタックは、GaNバッファ210、n-GaN層220、GaN/InGaN下地層230、および活性領域250を支持するGaNスペーサ240となっている。活性領域250は、GaN障壁層によって分離されたIn0.2GaN量子井戸層で構成されている。活性領域250の上に、スタックは、GaNスペーサ260と、AlGaN EBL270と、p GaN層280と、最後にp++GaN層290とを含む。これらの層は、緩和されたGaNバッファ210の上に成長し、GaNと擬似格子整合する。活性領域250内のIn0.2GaN QWは、GaNとの格子不整合が大きいため、高い歪みを受けることがある。
図2Bにおいて、LED201を形成するスタックは、表面が緩和されたIn0.05GaNベース層211の上に成長し、GaNよりも大きい格子定数を有する(完全緩和の場合、格子定数はバルクIn0.05GaNの格子定数である)。LED層は、GaNではなくInGaNを含んでもよい。LED層はベース領域と同じ含有量を有してもよく、これによって低い歪みが得られる(しかしながら、GaNおよびAlGaN層を含む他の組成も可能である)。図2Bに示す例では、ベース211の上に成長したスタックは、下から上に、In0.05GaN層221と、InGaN/InGaN下地層231と、In0.05GaNスペーサ241とを活性領域251の下に含む。活性領域251の上に、スタックは、In0.05GaNスペーサ261と、AlGaN EBL271と、p In0.05GaN層281と、p++In0.05GaN層291とを含む。活性領域251内の同じIn0.2GaN QWは、図2Aよりも低い歪みを維持する。これは、材料品質の向上および性能の向上を容易にし得る。
いくつかの実施形態では、LED発光体は画素を含み、各画素は、(たとえば、青色、緑色および赤色光を放出する)3つのサブピクセルを有する。各サブピクセルはナノワイヤ(NW)発光体を含む。ナノワイヤは、HVPEによって成長したInGaNベース領域と、MOCVDによって成長した量子井戸を有するInGaN LED領域とを特徴とする。赤色ナノワイヤは、緩和された表面領域を有するInGaNベース領域(5%<[In]<15%である)と、表面領域の上に擬似格子整合するように成長したInGaN量子井戸([In]>20%である)とによって特徴付けられる。
InGaNベース領域内の少なくとも1つの層は、実質的に緩和され、50%以下(たとえば、40%以下、30%以下、25%以下、20%以下、15%以下)の[In]組成を有してもよい。いくつかの実施形態では、InGaNベース領域内の少なくとも1つの層は、実質的に緩和され、5%以上(たとえば、7.5%以上、10%以上、12.5%以上、15%以上)の[In]組成を有する。
成長
成長は、ベース領域の成長と、ベース領域の上のLED領域の成長とを含む。次にこれらについて説明する。
成長は、ベース領域の成長と、ベース領域の上のLED領域の成長とを含む。次にこれらについて説明する。
ベース領域成長
いくつかの実施形態では、LEDのベース領域は、In組成を有するIII窒化物領域を含む。
いくつかの実施形態では、LEDのベース領域は、In組成を有するIII窒化物領域を含む。
一般に、厚いInGaN層の成長は困難である。高品質のInGaN層は、ハイドライド気相成長(HVPE)によって成長可能であることが分かっている。たとえば、InCl3および/またはGaCl3前駆体を用いるトリハロゲン化物HVPE(THVPE)は、大量のInを効率的に結晶に取り込んで、0~100%の範囲のInGaN組成をもたらすことができる。THVPE InGaN成長は、平面形状およびNW形状の両方で実証されている。
したがって、実施形態は、InGaNベース領域を成長させるのに適した成長技術を使用することができる。ベース領域は、少なくとも3%(たとえば、5%以上、8%以上、10%以上、12%以上、たとえば最大15%)の、たとえば5~15%(たとえば、5~10%、10~15%、5~12%)の範囲のIn含有量を有してもよい。
InGaN材料は、その歪み状態によって特徴付けられ得る。いくつかの実施形態では、InGaN材料の領域は完全に緩和され、格子定数(たとえば、面内および/または垂直)は、そのバルク状態におけるInGaN材料の格子定数と等しい。本開示はInGaNに着目しているが、適切な格子定数を提供する他の材料(たとえば、AlInN、AlInGaN)を本明細書に開示される技術に従って使用することができる。
ベース領域は、サファイアまたはSiまたはGaN(GaNテンプレートもしくは擬似バルクもしくはバルクGaNを含む)などの基板の上に形成してもよい。基板は、ベース領域の歪みを低減するように構成されてもよい(たとえば、歪みエンジニアリングを提供するためにさまざまな組成のいくつかのIII窒化物層を含んでもよい)。基板表面は、核生成および成長を促進するために他の何らかの材料で官能化されてもよい。基板は、+m方向(または-m、+a、-a、+c、-c)における0~3°(たとえば、0~1°、0.1~1°)の範囲のオフカットを含むオフカットを有してもよい。
ベース領域は平坦層として成長させてもよい。次にこの平坦層をそのまま使用してもよく、またはエッチングして横型構造(メサもしくはNWなど)を形成してもよい。いくつかの実施形態では、これらの横型構造は、5ミクロン以下(たとえば、3ミクロン以下、1ミクロン以下、500nm以下、300nm以下、150nm以下、たとえばわずか100nm)の典型的な横方向寸法を有する。
図3A~図3Dは、横型構造を有するベース領域を製造するためのそのようなプロセスフローを示す。図3Aにおいて、(たとえばバッファ層320を有する)基板310を設ける。図3Bにおいて、平坦ベース層330を(たとえばHVPEによって)成長させる。このベース層はInGaNであってもよい。図3Cにおいて、ベース層330を(たとえばドライエッチングによって)パターニングおよびエッチングして横型構造340(たとえばNW)を形成する。エッチングは、(図3Cに示すように)ベース層の界面で停止してもよく、またはベース層の一部をエッチングせずに残してもよく、またはベース層の下に(たとえばバッファおよび/もしくは基板内に)延在してもよい。図3Cの構造は、LED領域を再成長させるためのベース領域として使用してもよい。あるいは、この構造を(たとえば、HVPE、またはMOCVDなどの別の技術によって)さらに再成長させてベース領域に余分な材料を成長させてもよい。この再成長は横型構造のすべての表面上で起こってもよく、または選択的であってもよい。図3Dは、再成長した横型構造341を含む、結果として生じる構造を示す。この構造は、LED領域の再成長のために使用してもよい。
図3A~図3Cに示すアプローチでは、歪み緩和は、横型構造のエッチングによって、および/または再成長によって起こり得る。
いくつかの実施形態では、ベース領域を構造化層として成長させる。たとえば、ベース領域は、横型構造によって容易になる非平坦形状を有する。これらの横型構造は、5ミクロン以下(たとえば、3ミクロン以下、1ミクロン以下、500nm以下、300nm以下、150nm以下、たとえばわずか100nm)の典型的な横方向寸法を有してもよい。この構造化は、基板の上にマスク(パターニングおよびエッチングされて、成長基板へのアクセスを与える開口部を明確にするハードマスクなど)を形成し、マスクの開口部の中にベース領域を成長させることによって得ることができる。開口部は、5ミクロン以下(たとえば、3ミクロン以下、1ミクロン以下、500nm以下、300nm以下、150nm以下、たとえばわずか100nm)の典型的な横方向寸法を有してもよい。いくつかの実施形態では、成長は開口部の上方で実質的に縦方向であるが、いくつかの実施形態では成長は開口部の外側で横方向に延び、いくつかの実施形態では成長は開口部の上方で内向きに進行する。内向き成長は、横方向の負の成長速度によって、したがって、負である横方向と縦方向の成長比によって特徴付けられ得る。この比は0以下(たとえば、-0.1以下、-0.3以下、-1以下)であってもよい。
図4A~図4Cは、横型構造を有するベース領域を製造するためのそのようなプロセスフローを示す。図4Aにおいて、基板310と、バッファ320と、開口部411を有する成長マスク410とを有する成長構造を設ける(バッファは任意である)。図4Bにおいて、開口部411の中でベース層の成長が進行して、たとえばInGaNの横型構造420が形成される。マスク開口部411の寸法に応じて、横型構造は、メサ、マイクロメサ(たとえば、10ミクロン以下、5ミクロン以下、3ミクロン以下、1ミクロン以下など、1ミクロンもしくは数ミクロンの典型的な横方向寸法を有する)、またはNWであってもよい。図4Cにおいて、成長は縦方向だけでなく横方向にも起こり、開口部411を越えてマスク410の上に延在する横型構造430が設けられる。
横方向成長によって、横型構造のサイズが実質的に増加し得る。いくつかの実施形態では、成長マスクの開口部は(本明細書に教示されるように)比較的小さく、横型構造の横方向サイズは比較的大きい。横型構造は、マスク開口部よりも少なくとも2倍(たとえば、5倍以上、10倍以上、20倍以上、30倍以上)大きい横方向サイズを有してもよい。開口部は、本明細書に教示されるように、歪み緩和を容易にするように選択された横方向寸法を有してもよい。横型構造の最終的なサイズは、たとえば平面状LED製造工程を容易にするよう十分なサイズなど、所望のサイズのデバイスを得るように選択されてもよい。一例として、開口部は500nmよりも小さい横方向寸法を有し、横型構造は1ミクロンよりも大きい横方向寸法を有する。
成長パラメータは、横方向成長を促進するように選択されてもよい。いくつかの実施形態では、ベース層の一部は、2よりも大きい(たとえば、5以上、10以上、50以上、100以上の)横方向と縦方向の成長速度比で成長する。いくつかの実施形態では、まず第1の成長パラメータを用いて基材を開口部の中に成長させ、基材がマスクの上に突き出ると、第2の成長パラメータが横方向成長を促進する。
いくつかの実施形態では、横方向成長を促進しない(またはさらには抑制する)他の成長パラメータが使用される。たとえば、ベース構造が得られると、そのような成長条件でLEDを再成長させる。いくつかの実施形態では、2よりも大きい(たとえば、5以上、10以上、50以上、100以上の)縦方向と横方向の成長速度比で層を成長させる。明確にするために、横方向成長速度は、垂直でない面のうち、成長が最も速い面を特徴付ける。これは、m面、a面、半極性面であってもよい。
いくつかの実施形態では、ベース領域は複数のサブ領域を有する。各サブ領域は横型構造を有し、構造の特性はサブ領域によって異なる。たとえば、横型構造の寸法が異なり(たとえば、NWはさまざまな直径もしくは横方向寸法もしくは高さを有してもよい)、および/または横型構造の組成が異なってもよい(たとえば、一部のNWは5%のInを有し、他のNWは10%のInを有する)。
横型構造は、メサまたはNWであってもよい。横型構造は、10nm以上(たとえば、50nm以上、100nm以上、たとえば、10ミクロン以下、3ミクロン以下、2ミクロン以下、1ミクロン以下)の、たとえば50nm~10ミクロン、10nm~1ミクロン、100nm~2ミクロン、500nm~3ミクロンの範囲の高さと、500nm以上(たとえば、1ミクロン以上、たとえば20ミクロン以下、10ミクロン以下、5ミクロン以下、3ミクロン以下)の、たとえば500nm~20ミクロン、1~3ミクロン、1~5ミクロン、1~10ミクロンの範囲の典型的な横方向寸法とを有してもよい。
ベース領域の一部は、その歪み状態および/またはその格子定数によって特徴付けられ得る。特に、ベース領域は再成長面を有し、この上にLED領域が形成される。これらの再成長面は、横型構造(NWまたはメサ)の上部および/または側壁であってもよい。再成長面は完全に緩和され、同じ組成のバルク材料と等しい格子定数(面内および/または垂直)を有してもよい。いくつかの実施形態では、緩和は部分的であり、格子定数は同じ組成のバルク材料の1%以内(たとえば、0.5%以内、0.3%以内、0.1%以内、0.05%以内、0.03%以内、0.01%以内)である。バルク緩和材料の格子定数は、平衡格子定数としても公知である。同様に、緩和は相対単位ではなく絶対単位で表すことができる。緩和層(ベース領域層、活性領域層、量子井戸、超格子を含む)は、その平衡格子定数の5E-3nm以内(たとえば、3E-3nm以内、1E-3nm以内、0.5E-3nm以内、0.1E-3nm以内)の格子定数を有してもよい。第1の層の上に成長した擬似格子整合層は、第1の層の格子定数の5E-3nm以内(たとえば、3E-3nm以内、1E-3nm以内、0.5E-3nm以内、0.1E-3nm以内)の格子定数を有してもよい。
横型構造の断面はさまざまな形状を有してもよく、これは歪み緩和に影響を及ぼし得る。いくつかの実施形態では、横型構造は細長い(たとえば、幅よりも長さの方がはるかに大きいストライプである)。これは、より狭い方向に沿った緩和を容易にし得る。いくつかの実施形態では、横型構造は長さLおよび幅wを有し、L/W>3(たとえば、5以上、10以上、50以上、100以上)である。いくつかの実施形態では、w<300nm(たとえば、<200nm、<150nm、<100nm、<75nm、たとえばわずか50nm)である。いくつかの実施形態では、歪みは幅の方向に沿って一軸緩和される。いくつかの実施形態では、横型構造の平面内の2つの等価な結晶方向(たとえば2つのいわゆるa方向またはm方向)が異なる緩和によって特徴付けられ、格子定数は方向間で0.1%よりも大きく異なる。これに対して、他の実施形態では、形状は実質的に規則的(円形、正方形、三角形または六角形など)であり、これは二軸性歪み緩和を容易にし得る。いくつかの実施形態では、横型構造の平面内の2つの等価な結晶方向(たとえば2つのa方向またはm方向)が、等しいまたは同様の緩和によって特徴付けられ、格子定数は方向間で0.1%未満だけ異なる。
いくつかの実施形態では、ベース領域の歪みは空間的に変化する。たとえば、ベース領域は、GaNの上に成長したInGaNである。当初、InGaNはGaNと擬似格子整合し、成長が進行するにつれて、InGaNは(欠陥を形成することによっておよび/または横方向の拡張によって)歪みを緩和し、十分な成長の後、InGaNは部分的なまたは完全な緩和を獲得する。横方向の拡張による緩和は、たとえばパターニングされたマスクの上部に成長が達したときなど、基材が横方向に自由に成長できるようになるとすぐに起こり得る。欠陥形成による緩和の場合、拡張欠陥は、成長方向に伝播するのではなく、横型構造の側壁で終了し得る(たとえば側壁に向かって曲がり得る)。
いくつかの実施形態は、緩和を実現するために必要な小さい厚さによって特徴付けられ、緩和は、1ミクロン未満(たとえば、500nm以下、200nm以下、たとえばわずか100nm)の成長の範囲内で起こり得る。これは、擬似バルク層において利用可能な緩和のメカニズムを越える緩和のメカニズムを提供する横型構造の存在によって容易になり得る。いくつかの実施形態では、ベース領域は、緩和のためのバルク臨界厚さtによって特徴付けられるInGaN組成を含み、緩和はtの80%未満(たとえば、50%以下、20%以下、10%以下、たとえばわずか1%)の厚さの範囲内で起こる。
いくつかの実施形態では、緩和は弾性のままであり、塑性緩和が回避される。いくつかの実施形態では、塑性緩和が起こり、拡張欠陥(転位など)の形成に関連付けられる。構造は、これらの拡張欠陥が発光層から遠く(たとえば少なくとも100nm)離れたままであるように構成される(これは、塑性緩和のゾーンの上に十分厚い材料を成長させることによって実現することができる)。
いくつかの実施形態では、再成長面は低欠陥密度を有する。再成長面は、5E8cm-2未満(たとえば、1E8cm-2以下、5E7cm-2以下、1E8cm-2以下、5E6cm-2以下、わずか1E6cm-2)の貫通転位密度(TDD)を有してもよい。この低TDDは、低TDD基板の上にベース領域を成長させることによって実現されてもよい。これは、TDDを側方領域に移動させることによって、または十分成長すると互いに消滅させることによって、実現されてもよい。欠陥(TDD、積層欠陥、Vピットを含む)の密度は、横型構造1個当たり1未満(たとえば、NW1本当たり1、横型構造10個当たり1以下、横型構造100個当たり1以下)であるように構成されてもよい。
いくつかの実施形態では、ベース領域は、不均一な組成を有するNWを含む。たとえば、ベース領域NWは、第1の組成のInGaN(たとえば5%)および第2の組成のInGaN(たとえば8%)を含んでもよい。
図5A~図5Dは、さまざまなIn含有量を有するベース領域を示す。図5Aにおいて、ベース領域はNW500を有する。NW500は、異なる組成(たとえば、1,2,3)を有する複数の領域510,520および530を有する。領域510,520および530は平坦であってもよく、または別の形状であってもよい。図5Aの例では第1の組成はマスク410の厚さと一致しているが、そうである必要はない。歪みおよび歪み緩和は領域によって異なり得る。図5Bに示すように、In組成は(たとえば、3%から5%に、そして10%に)成長時に増加してもよく、これは緩やかな歪み緩和を容易にし得る。したがって、主エピタキシャル方向に沿ったIn%の変化は、少なくとも2%であってもよい。領域は離散的であってもよく、または組成は図5Cのように連続的に変化してもよい。図5Dに示すように、高In領域の後に低In領域(たとえば、8%の上に5%)が続いてもよい。この場合、高In領域は部分的に緩和されて欠陥がある場合があり、低In領域の方が(たとえば、高In領域上に擬似格子整合するように成長するので、または低/無歪みで成長するので)緩和が大きく欠陥が少ない場合がある。
いくつかの実施形態では、再成長面は均一な組成を有し、各元素の組成は再成長面全体にわたって2%以下(たとえば、1%以下、0.5%以下)変化する。
いくつかの実施形態では、ベース領域またはその一部はドープ(たとえば、nドープまたはpドープ)される。たとえば、ベース領域は、1つ以上のドーパント(O、Siなど)の存在によりnドープInGaN領域を有し、またはドーパント(Mg、Geなど)の存在によりpドープInGaN領域を有する。ドーピングレベルは、良好なキャリア伝導性を提供するよう十分であってもよく、少なくとも1E16(たとえば、5E16以上、1E17以上、5E17以上、1E18以上、5E18以上、1E19以上、5E19以上)であってもよい。ドーピングレベルは、自由キャリア吸収を回避するよう十分低くてもよく、1E20未満(たとえば、5E19以下、1E19以下、5E18以下、1E18以下)であってもよい。適切なドーピング上下限は、(種同士の間の活性化レベルおよび光学断面のばらつきのために)ドーピング種に依存し得る。いくつかの実施形態では、ドーピング種はOであり、ドーピングレベルは1E17~1E19cm-3の範囲である。ドーピング種は、複合体および隙間を含むさまざまな状態を結晶中に形成し得る。ベース領域がpドープされる実施形態は、逆極性構造(すなわち、LEDスタックにおいてpの上にnがある接合)の可能性を開く。そのような場合、LED成長はアンドープInGaNで始まり、活性領域を含むアンドープ層が成長し、最後にn-GaNが成長し得る。必要に応じて、再成長の前にベース領域を活性化してもよい。処理中に逆極性構造を反転させてベース領域のp層を露出してもよい。露出したこれらのp層の上でp再成長ステップを実行して、pコンタクトを形成するためのコンタクト層を作成してもよい。
ベース領域は、HVPE反応器内で成長させてもよい。反応器は、モノハロゲン化物(たとえば、GaCl、InCl)および/またはトリハロゲン化物(たとえば、GaCl3、InCl3)を含むさまざまな前駆体を用いてもよい。MClおよびMCl3(MはGa、In、Alを含むIII族金属である)は、MをHClもしくは気体のCl種(Cl2を含む)と予備反応させることによって、または固体形態から(たとえば、N2もしくはH2などの適切なキャリアガス中のMClもしくはMCl3固体/粉末の昇華)得ることができる。前駆体は、反応器内で、たとえば成長領域とは別の領域に形成してもよい。反応器は、Nの供給源としてNH3を用いてもよい。いくつかの実施形態では、InCl3は、たとえば3%よりも高い(たとえば、5%以上、8%以上、10%以上の)高インジウム組成をベース領域に取り込むことを容易にする。H2/N2/Ar/Heおよびそれらの組み合わせを含むキャリアガスを、これらの前駆体ガスと混合してもよい。成長は、以下の前駆体の組み合わせ、すなわち、GaCl/InCl、GaCl/InCl3、GaCl3/InCl、GaCl3/InCl3、のうちの1つを使用してもよい。いくつかの前駆体の組み合わせは、いくつかの成長方向に適している場合がある。いくつかの実施形態では、前駆体はGaCl3/InCl3であり、成長は-c面に沿って起こる。いくつかの実施形態では、前駆体はGaCl/InCl3であり、成長は+c面に沿って起こる。InCl3前駆体は、多くのInの取り込みを容易にし得る。いくつかの実施形態では、InCl3が用いられ、ベース領域はIn(x)Ga(1-x)N材料を有し、x>0.05である。より一般的には、可能な前駆体はMXおよびMX3を含み、MはIII族金属(In、Ga、Al)であり、XはCl、Br、Iのうちの1つである。
ベース領域の組成は、LED領域の発光層との十分小さい格子定数不整合を提供するように選択されてもよい。場合によっては、これは、混和性ギャップ内の組成を有するInGaN材料を必要とする。本発明の実施形態は、混和性ギャップが消失するような動的成長に有利な成長技術(たとえばHVPE)および成長パラメータを用いることによって、これを容易にする。圧力(または種の分圧)は、動的成長を確保するために所定の値に維持されてもよい。種の所定の過飽和が得られてもよい。
ドーピング元素はさらに、HVPE反応器に入れられてもよい。ドーパント源は、O含有ガス(O2を含む)またはSi含有ガス(シラン、ジクロロシランを含む)を含む気体であってもよく、固体(たとえば、高純度結晶Siを含む酸化物または固体形態Si)であってもよい。ドーピング種および濃度は、ドーピングに起因する歪みを制限するように選択されてもよい。
いくつかの実施形態では、ベース領域成長条件は、欠陥形成を低減するように選択される。特に、空孔密度が1E18cm-3未満(たとえば、1E17cm-3以下、1E16cm-3以下、1E15cm-3以下、1E14cm-3以下、1E13cm-3以下、1E12cm-3以下、1E11cm-3以下、たとえば1E10cm-3以下)である、低い空孔(NまたはGaまたはInを含む)密度が求められる場合がある。低密度は、900°C以下(たとえば、850°C以下、800°C以下、750°C以下、700°C以下、650°C以下、600°C以下、550°C以下、500°C以下)などの比較的低い成長温度を使用することによって実現されてもよい。低密度は、対応する種の高分圧を使用することによって実現されてもよい。
ベース領域の組成は、LED領域から放出された光の光吸収を制限するように制御されてもよい。いくつかの実施形態では、LED領域は、さまざまな波長(たとえば青色/緑色/赤色)で発光するサブ領域を有し、したがって、最短波長の再吸収が最も可能性が高い。ベース領域の組成は、最短波長の光吸収を制限するように選択される。いくつかの実施形態では、LED領域のサブ領域は、ピーク波長を有する短波長光(たとえば青色光)を放出し、ピーク波長でのベース層のバルク吸収係数(すなわち、バルク形態で有するであろう吸収)は10cm-1未満(たとえば、5cm-1以下、2cm-1以下、1cm-1以下)である。いくつかの実施形態では、完全なデバイスが形成された後、ベース領域による短波長光の正味の電力吸収は10%未満(たとえば、5%以下、2%以下、1%以下)である。この正味の電力吸収は、全光のどれだけがベース層に吸収されるかを定量化し、デバイスの正味の抽出効率と直接競合する。言い換えれば、(所与の色のサブピクセルについての)抽出効率はCex=1-Abase-Aotherと書くことができ、Abaseは正味のベース層吸収であり、Aotherはすべての他のソースからの吸収(金属、活性領域、自由キャリア吸収等)である。いくつかの実施形態では、青色サブピクセルについてはAbase<10%(たとえば、<5%、<2%、<1%)である。
吸収は、上記で教示したように、吸収材料の組成および厚さを選択することによって低減されてもよい。吸収を制限するために、他の手段を単独でまたは材料組成とともに用いてもよい。これは、たとえばサブピクセル間に光分離層(たとえば、反射板、鏡)を形成することによって、サブピクセル間の(たとえば青色LEDから赤色LEDまでの)光路が縮小または遮断されるLEDデバイスを形成することを含む。これは、サブピクセルの適切な物理的レイアウトを選択することを含む。これは、(たとえば、エッチング、研削、および本明細書に開示される他の技術によって)吸収材料を除去することを含む。いくつかの実施形態では、吸収材料(たとえば、基板、エピタキシャル層、基材の一部)が一部のエピタキシャルステップ中に存在しており、デバイスが処理される間に除去されるか部分的に除去される(たとえば、材料の少なくとも25%、少なくとも50%、少なくとも90%が除去される)。
したがって、ベース領域のIn組成は、活性領域における歪みを低減するよう十分高いが、光吸収を低減するよう十分低くてもよい。いくつかの実施形態では、ベース領域のIn組成は2%~20%(たとえば、5~10%、2~5%、3~10%、5~8%、5~12%、5~15%、10~20%)の範囲である。
いくつかの実施形態では、再成長のために再成長領域を準備する。再成長領域がエピタキシャル成長可能な状態であることを確実にするために表面処理を行ってもよい。表面処理は、1つまたはいくつかのウェットエッチング(酸、塩基、溶媒を含む)を含んでもよい。いくつかのウェットエッチングにより、いくつかの結晶面を選択的にエッチングしてもよい。ウェットエッチングはKOHまたはH3PO4エッチングを含んでもよい。いくつかの実施形態では、研磨ステップを実行して、RMS粗さが5nm未満(たとえば、3nm以下、1nm以下、5A以下、3A以下)の滑らかな表面が得られる。研磨は、機械的、化学的、化学機械的、研削、および当該技術において公知の他の技術であってもよい。いくつかの実施形態では、ドライエッチングステップ(ICP、RIEなど)を使用して材料をエッチングする。いくつかの技術を組み合わせて所望の厚さおよび所望の表面状態を実現してもよい。いくつかの実施形態では、第1のステップ(たとえばドライエッチング)が材料を除去し、第2のステップ(たとえば研磨またはウェットエッチング)が低い粗さを容易にする。いくつかの実施形態では、再成長領域は、結晶方向からの所望のオフカットを有する表面を有する。たとえば、再成長面は、特定の方向(a面またはm面を含む)において0.1~5°(たとえば、0.1~1°または1~5°)の範囲のオフカット角を有してc面から少しずれていてもよい。オフカットは研磨ステップによって得られてもよい。
図6A~図6Bは、オフカットを有するNWを有するベース領域の例を示す。図6Aにおいて、ベース領域の上面を巨視的な距離(たとえばウェハ全体)にわたって傾斜させて、オフカットを共有するNW610を設ける。図6Bにおいて、オフカットはNW620ごとに個別に生じる。
成長反応器は、高い材料品質および所望の材料特性のために選択された圧力で動作してもよい。空孔を含むいくつかの欠陥の存在を低減するために、高い圧力が望ましい場合がある。いくつかの実施形態では、圧力は大気圧であるか、または1atmよりも高い(少なくとも1.2atm、少なくとも1.5atm、少なくとも2atm、少なくとも5atm、少なくとも10atmなどである)。いくつかの実施形態では、N含有種の分圧は、結晶中のN空孔の存在を低減するために高い。いくつかの実施形態では、圧力は、本明細書に開示されるような歪み緩和を促進するように選択される。
成長パラメータは、十分な成長速度を確保するように選択されてもよい。いくつかの実施形態では、成長速度は少なくとも1ミクロン/時(たとえば5ミクロン/時)であり、これは100nm~10ミクロンの範囲の厚さのベース領域を成長させるのに十分であり得る。いくつかの実施形態では、成長速度は少なくとも20ミクロン/時(たとえば、50ミクロン/時、100ミクロン/時)であり、これは厚いベース層および/または擬似バルクベース層の成長を容易にする。
HVPE反応器は、実施形態に利点を提供し得る他の成長技術においてより頻繁に見られる形状を含む、さまざまな形状を採用してもよい。これは長手方向/水平方向の形状を有してもよい。これは垂直方向の流れを有してもよい。反応器は、所与の方向のキャリアガス流と、キャリアガス流の制御を容易にする第2の方向の二次ガス流とを有する、デュアルフロー反応器であってもよい。これはシャワーヘッドの設計を有してもよい。形状は、成長均一性を高めるように選択されてもよい。成長は、半径が少なくとも4インチの少なくとも1つのウェハの上で起こってもよく、ベース層材料のIn組成は、ウェハ面積の少なくとも60%(たとえば、80%以上、90%以上)の面積にわたって3%未満(たとえば、2%以下、1%以下、0.5%以下)変化してもよい。反応器は石英材料を含んでもよい。これはコールドウォール反応器であってもよい。これは、反応器の内壁の温度が少なくとも400°C(たとえば、500°C以上、600°C以上、650°C以上、700°C以上)を含む所望の温度よりも高く維持されるホットウォール反応器であってもよい。反応器は、結晶中の特定の原子種の存在を制限するように設計されてもよい。これは、Fe、Cu、Sn、C、B、Mnなどの種を含む。選択された種の濃度は1E15cm-3未満(たとえば、1E14cm-3以下、1E13cm-3以下、1E12cm-3以下、1E11cm-3以下、1E10cm-3以下)であってもよい。いくつかの実施形態では、成長が起こる反応器の部分は、欠陥の取り込みおよび/または寄生的な核生成を減少させるように、反応器の他の部分よりも高い温度に設定される。温度差は少なくとも50°C(たとえば、100°C以上、150°C以上)であってもよい。いくつかの実施形態では、ウェハ温度は、基材中の高い形成エネルギを有するいくつかの欠陥(たとえば、N空孔および/またはIII族空孔)の形成を制限するために、最高温度未満に保たれてもよい。したがって、ウェハ温度は400~1000°C(たとえば、500~600°C、400~800°C、450~750°C、550~650°C)の範囲であってもよい。
いくつかの実施形態では、ベース領域を最初に横型構造で成長させ、合体させて連続層を形成する。図7Aは、横型構造710が合体して連続表面711が設けられるそのような形状を示す。成長条件は、横方向成長を促進する(半極性または非極性面などの面に沿った成長の促進を含む)ように選択されてもよい。場合によっては、成長はウルツ鉱型構造の6つの等価な結晶面に沿って起こる。別々の横型構造からの材料は成長フロントで合体してもよい。合体フロントは、面、点(すなわち頂点)、または他の領域であってもよい。場合によっては、転位、積層欠陥および他の結晶位置決め不良などの欠陥が合体フロントに形成されることがある。あるいは、合体フロントに欠陥がないこともある。横型構造の形状および成長条件は、合体欠陥を低減するように制御されてもよい。ベース領域は、横方向成長の挙動と一致して欠陥を低減するように選択された形状を有するパターニングされたマスクの上に成長させてもよい。たとえば、マスクは三角格子を有し、成長フロントはウルツ鉱型構造の6つの等価な方向に沿って伝播する。図7Bおよび図7Cに示すように、成長フロント730がマスクの三角格子に対して平行または垂直であるようにマスク開口部720を位置合わせすることにより、平面状の(図7C)または点状の(図7B)合体フロントを得ることができる。これは、マスク格子とm面またはa面との位置合わせにそれぞれ対応し得る。位置合わせは、1度または2度または5度または10度などの予め選択された角度だけa面またはm面から意図的に傾斜させてもよい。いくつかの実施形態では、マスクを+/-5度(たとえば、+/-1度、+/-0.1度)の範囲内で結晶の格子と位置合わせする。いくつかの実施形態では、平均して1つ以下の転位(または転位束)が、点状の合体成長フロントに作成される。これは、転位750に対するマスク開口部720を示す図7Dに示されている。ベース領域の連続層表面は、成長後に平坦であってもよく、またはプロセスによって平坦化されてもよい。
合体は、1つの成長技術(たとえば、HVPE、MOCVD)のみを用いて、または異なる技術を用いた連続する成長ステップによって得ることができる。いくつかの実施形態では、横型構造を有するベース層をHVPEによって成長させ、MOCVD再成長を用いて横型構造を合体させる。次に、LED領域を、合体ステップと同じMOCVD反応器内で成長させるか、または第3の成長ステップで成長させる(すなわち、合体領域とLED領域とを別々にMOCVD成長させる)。
LED領域を成長させる前に、ベース領域を処理してもよい。LED領域を成長させる前に、ベース領域をサブマウントに転写してもよい。場合によっては、ベース領域は平坦な上面を有する。上面はIII族極性を(すなわち+c方向に沿って)有してもよい。上面をサブマウントに取り付けた状態で、これを1度転写する。成長基板およびバッファ(もしあれば)を、研削および研磨および/またはレーザリフトオフを含む、本明細書に開示される技術によって除去してもよい。露出したベース領域の一部を除去/薄化してもよく、これは非合体部分(すなわち、横型構造を有する部分)を含んでもよい。これは、研削および研磨を含む、本明細書に開示される技術によって実現することができる。このステップの後のベース領域は平坦であってもよい。ベース領域を第2のサブマウントに2度目に転写してもよい。この後、ベース領域は、上面が再び露出した状態で、第2のサブマウントに連続的に取り付けられた平坦層であってもよい。転写したこのベース領域は、LED成長のための成長基板/テンプレートとして使用してもよい。転写したベース領域を、(たとえばメサ形状で)さらにパターニングしてもよく、サブピクセルとして適切なミクロンスケールのメサなど、寸法が小さいメサを形成してもよい。そのようなメサは、たとえば、ベース領域を第1のサブマウント上で薄化すると、またはベース領域を第2のサブマウントに転写した後など、プロセスのさまざまな部分で形成してもよい。
図8A~図8Iはそのようなプロセスフローを示す。(A)たとえば、バッファ320およびマスク410を有する基板310の上に成長した合体ベース領域710を設ける。(B)ベース領域をサブマウント810に取り付ける。(C)基板/マスク/バッファをレーザリフトオフ820によって除去する。(D)ベース領域を薄化して、平面821を有する薄化ベース領域820を得る。(E)ベース領域を第2のサブマウント830に取り付ける。(F)第1のサブマウント810を除去する。あるいは、ステップ(D)の後、(G)においてベース領域をパターニングしてメサ825を形成する。(H)メサ825を有するベース領域を第2のサブマウント835と接触させる。(I)メサ825の一部を転写する。この選択的転写は、さまざまな技術によって(たとえば、一部のメサの選択的結合を容易にするパターニングされた材料を第2のサブマウント上に有することによって、または、一部のメサを押すために第1および/もしくは第2の基板を通して加えられる力など、選択的なメサに加えられる機械的な力によって)実現されてもよい。
本明細書に開示されるベース領域転写方法を用いて、同じサブマウント上でさまざまなベース領域を組み合わせてもよい。たとえば、いくつかの合体したベース領域が組み合わされ、それらは異なる組成および/または歪み状態を有する。これは、図8Iのプロセスを繰り返すことによって実現することができる。ベース領域は、各ベース領域がサブピクセルのタイプに対応するように、サブマウント上で空間的に組み合わされてもよい。たとえば、In組成が増加するメサを有する3つのベース領域が、サブマウント上に3組のサブピクセルを形成し、LED領域を再成長させるために使用される。再成長の前または後に、欠陥のあるメサを交換する修復プロセスを用いてもよい。
LED領域成長
LED領域は、ベース領域の再成長面の上に成長する。
LED領域は、ベース領域の再成長面の上に成長する。
LED領域は、通常のGaN n層、p層に類似した、キャリア搬送のためのInGaN層(ドープおよび/またはアンドープ)と、従来のIII窒化物LEDに見られる下部および上部障壁とを有してもよい。LED領域は、電子ブロッキング層の役割を果たすAlGaNまたはAlInGaNまたはAlInN層を有してもよい。LED領域は、InGaN/GaNまたはInGaN/InGaNからなる発光量子井戸(QW)/障壁を有する活性領域を有してもよい。LED領域は、欠陥低減層(均一なInGaNもしくはAlInN層、またはInGaN/InGaN、InGaN/GaN、InGaN/AlInNおよび他の種類のIII窒化物層の超格子など)を有してもよい。これらのさまざまな層は、発光層の歪みを低減するように選択された組成を有してもよい。
いくつかの実施形態では、再成長面は、図1AのようにNWの上面である。いくつかの実施形態では、再成長面は、たとえば図1Bのような上面および側壁など、NWのいくつかの表面を含む。
いくつかの実施形態では、LED領域は再成長面と擬似格子整合するか、または擬似格子整合に近い(LED領域内のすべての層が、再成長面と0.1%または0.01%未満だけ異なる面内格子定数を有する)。したがって、再成長面の格子定数は、活性領域の歪み状態を決定するので重要である。
いくつかの実施形態では、活性領域は、組成を有する1つまたはいくつかのQWを含む。組成は、少なくとも10%(たとえば、15%以上、20%以上、25%以上、30%以上、35%以上、40%以上)のInを含んでもよい。
ベース領域およびLED領域の層は、QWの歪みを低減するように構成されてもよい。たとえば、ベース領域はベース組成(たとえばIn0.1GaN)を有し、LED領域のいくつかのn層およびp層は、歪みがないように同じベース組成を有する。QW間の障壁も、同じベース組成または同様の組成を有してもよい。障壁の組成は、QWの応力を補償するように構成されてもよい。たとえば、障壁は、ベース領域よりもInが少なく、QWの圧縮歪みを補償する引張歪みを有する。
スタック内の組成の一例は以下の通りである(最初の層以外のすべての層をLED領域の一部として再成長させている)。
歪み状態は、さまざまな量によって定量化することができる。都合のよい量は、以下のような2つの層の面内格子パラメータ間のミスフィット歪み(または基底歪み場)である。
e=(a_b-a_l)/a_l
式中、a_bはベース層(すなわち、擬似格子整合成長が起こる層)の平衡面内格子定数であり、a_lは成長中の層の面内平衡格子定数である。
式中、a_bはベース層(すなわち、擬似格子整合成長が起こる層)の平衡面内格子定数であり、a_lは成長中の層の面内平衡格子定数である。
いくつかの実施形態では、QWのミスフィット歪みは、緩和されたGaN表面の上にQWが擬似格子整合するように成長した場合のミスフィット歪みの80%未満(たとえば、50%以下、30%以下、20%以下、10%以下)まで低減される。たとえば、c面GaNの上に擬似格子整合するように成長したc面In20GaN QWのミスフィット歪み値は、-2.2%となる。いくつかの実施形態では、同じIn20GaN QWを緩和されたIn10GaN層の上に擬似格子整合するように成長させ、そのミスフィット歪みは約-1.1%であり、これはGaNの上に成長した場合の歪みの約半分である。
以下の表は、可能な実施形態を示す。実施形態は、この表に教示される最小および最大境界に従って構成されてもよい。たとえば、ある実施形態は、選択値(たとえば3.22A)を上回る値を有する面内格子定数を有するベース層と、選択値(たとえば30%)を上回る少なくともInGaN組成を有する活性領域とを有してもよく、選択値(たとえば67%)を下回るミスフィット歪み比を有するように構成されてもよい。
この表は、ベース層が緩和されたInGaNであると仮定している。しかしながら、同様の面内格子定数を有する他の材料(In含有III窒化物化合物および他の材料を含む)も適している。ミスフィット歪み比は、活性層がGaNの上に擬似格子整合するように成長した場合のミスフィット歪みの値に対する、(ベース層と活性層との間)実際のミスフィット歪みの比である。
いくつかの実施形態では、歪み成分イプシロン_3はミスフィット歪みにほぼ比例し、したがって、歪みに起因する分極場はミスフィット歪みにほぼ比例する。したがって、本明細書において可能になるミスフィット歪み比の値は、活性層における実際の分極場を、構造がGaNと擬似格子整合する場合の分極場で割ったものと定義される、分極場比の値にも対応し得る。
いくつかの実施形態では、LEDから放出された光の少なくとも50%(たとえば、80%以上、90%以上)は1つまたはいくつかの活性層から放出され、活性層は本明細書に教示される特性(組成、ミスフィット歪み、ミスフィット歪み比、分極場比など)によってさらに特徴付けられる。
いくつかの実施形態では、活性領域は、組成と、その組成の緩和されたGaNの上の擬似格子整合成長のための臨界厚さの少なくとも1.5倍(たとえば、2倍以上、3倍以上)の厚さとを有する。これは、活性領域における歪み低減によって容易になる。いくつかの実施形態では、QWは、2~4nmの範囲の厚さと30~60%の範囲の組成とを有する。
いくつかの実施形態では、活性領域は、少なくとも30%(たとえば、35%以上、40%以上、50%以上、たとえば30~60%の範囲)のIn含有量と、少なくとも2nm(たとえば、2.5nm以上、たとえば2~5nmの範囲)の厚さとを有する発光層を有する。
いくつかの実施形態では、活性領域は、その成長時に横方向の緩和を受ける。たとえば、活性領域は、図1Aのように平坦(ベースNW/プレートレット/メサの軸に対して垂直)である。活性領域は、成長すると、高いIn組成を有し、したがって下地層(ベース領域を含む)よりも大きい面内格子定数を有するので、圧縮歪みを受ける。NWの典型的な横方向寸法は、活性領域の横方向の拡張によって歪みが緩和されるよう十分小さい。緩和は部分的であってもよい。活性領域は、面内格子定数がベース領域の再成長面よりも少なくとも0.01%(たとえば、0.03%以上、0.05%以上、0.1%以上)大きい量子井戸を含んでもよい。
従来技術は、InGaN緩和(たとえば、非常に厚いInGaN層に欠陥を形成することによる塑性緩和)を利用した構造を実証している。しかしながら、そのような構造はIQEが非常に悪いと考えられる。これに対して、本発明のいくつかの実施形態は、活性領域の歪みを低減しながら低い欠陥率および/または高いIQEを維持する。これは、緩和ベース領域上の成長によって容易になる。
したがって、いくつかの実施形態は、活性領域における低い欠陥レベルによって特徴付けられる。活性領域は、5E8cm-2未満(たとえば、1E8cm-2以下、5E7cm-2以下、1E8cm-2以下、5E6cm-2以下、1E6cm-2以下)のTDDを有してもよい。活性領域は、1E5cm-1未満(たとえば、1E4cm-1以下、1E3cm-1以下、1E2cm-1以下、1E1cm-1以下)の積層欠陥密度またはミスフィット転位密度を有してもよい。横型構造(たとえば、NWまたはマイクロメサ)を有する実施形態では、欠陥(TDD、積層欠陥、Vピットを含む)の密度は、横型構造1個当たり1未満(たとえばNW1本当たり1)、または横型構造10個当たり1、または横型構造100個当たり1未満であるように構成されてもよい。
いくつかの実施形態は、高い内部量子効率(IQE)によって特徴付けられる。この高いIQEは、GaNの上の従来の歪み成長によって得ることができるものよりもかなり高い場合がある。これは、活性領域における歪みの低減によって容易になり得る。
図9は波長とIQEとの関係を示しており、従来技術と実施形態を対比している。従来技術の曲線は、さまざまな発光波長を有するMOCVDによって成長した平面LEDについての公開データに基づいており、周知のグリーンギャップの現れとして、IQEは長波長で大きく低下している。歪みがこの低下の(少なくとも一部の)原因であると考えられる。したがって、歪みがIQEに与える影響をモデル化することができ、歪み低減によるIQEの改善を予測することができる。実施形態の曲線はこの手順の結果を示しており、いくつかの実施形態の予想性能を示している。ここでは、In0.05GaNを有する完全緩和ベース層を想定している。赤色範囲(620~630nm)内に報告されている最良の従来技術のデバイスのEQEは約2~2.5%であり、これは約3%のIQEに対応する。これに対して、いくつかの実施形態のIQEは、少なくとも610nm(たとえば、620nm以上、625nm以上、630nm以上)のピーク発光波長で少なくとも5%(たとえば、10%以上、15%以上、20%以上、30%以上)である。図9は例示であり、所望のIQEを実現するためにIn組成および歪み緩和の他の値が必要な場合もある。実施形態は、所望のピーク発光波長と、光電子デバイスの性能指数についての少なくとも1つの基準(IQEまたは外部量子効率(EQE)またはウォールプラグ効率(WPE)の最小所望値を含む)とを選択し、この少なくとも1つの基準を実現するように発光体を本明細書に教示されるように構成する(ベース領域の組成および歪み状態を選択することを含む)方法を含む。一実施形態では、発光波長は少なくとも615nmであり、IQEは少なくとも15%であり、ベース領域は少なくとも5%のIn組成を有して実質的に完全に緩和される。
いくつかの実施形態では、ベース領域は複数のサブ領域を有する。サブ領域は、In組成の異なるベース層を有する。これは、本明細書に開示されるように(たとえば図8A~図8Iのプロセスに従って)実現することができる。たとえば、GaN NW、In0.05GaN NWおよびIn0.1GaN NWを有するサブ領域がある。Inが多い領域は、長波長LEDを成長させるのに適している。格子引張効果によって、同じ成長条件であれば、Inが多い領域ほど当然のことながらLED成長時に多くのInを取り込み得る。いくつかの実施形態では、LED領域の成長はさまざまなサブ領域上で同時に起こり、格子引張によって、さまざまなサブ領域は異なる活性領域組成および異なる発光波長を有する。いくつかの実施形態では、3組のサブ領域が存在し、青色、緑色および赤色光をそれぞれ放出するLEDをこれらの上に同時に成長させる。ベース領域は、組成の異なる3組のサブ領域を有してもよい。青色、緑色および赤色光を放出するLED領域をこれら3組のサブ領域の上にそれぞれ再成長させる。
いくつかの実施形態では、サブ領域はさまざまな直径のNWを有する。たとえば、直径が80nm、120nmおよび150nmのサブ領域がある。これは、LED領域成長時にIn取り込みの変化を容易にする。たとえば、直径が小さい領域は、小さい成長体積によってIn原子が消費されるので、多くのIn取り込みを容易にする。いくつかの実施形態では、3組のサブ領域が存在し、青色、緑色および赤色光をそれぞれ放出するLEDをこれらの上に同時に成長させる。
上記に提示した2つの概念を組み合わせてもよい。サブ領域はさまざまな組成およびさまざまなNWサイズを有してもよく、サイズおよび組成引張効果を組み合わせてさまざまな発光波長(青色/緑色/赤色などの所望の波長を有するLEDの同時成長を含む)を実現してもよい。
いくつかの実施形態では、いくつかのサブ領域の上のLED領域の再成長を、同じ再成長ステップで実行する。他の実施形態では、いくつかの再成長ステップを実行する。たとえば、ベース領域は3組のサブ領域を有する。第1の組を露出し、残りの2組を成長マスクで覆う。マスクは、酸化物材料(SiOx、AlOxを含む)と、窒化物材料(SiNx、AlNx)と、誘電体層と、金属(Moを含む)とを含む。成長ステップを(たとえばMOCVDによって)実行し、第1の波長を有するLED領域を第1組のサブ領域の上に形成し、これらはたとえば青色サブピクセルを形成してもよい。このプロセスを残りの2組のサブ領域で繰り返して、他の波長(たとえば、緑色および赤色)で発光する他のLED領域を形成する。
図10A~図10Eは、LED領域再成長を伴うプロセスを示す。(A)基板1010の上に3組のベースサブ領域1020,1030および1040を有する部材1000を設ける。これらの組はInGaN組成1,2および3を有する。(b)サブ領域1030および1040の上に第1の成長マスク1050を形成する。(C)ベースサブ領域1020の上でLEDサブ領域1060の成長を実行する。(D)第1の成長マスク1050を除去し、サブ領域1020および1030の上に第2の成長マスク1070を形成する。(E)マスキングおよびエピステップを数回繰り返した後、すべてのベースサブ領域1020,1030および1040の上にLEDサブ領域1060,1080および1090を成長させる。
いくつかの実施形態では、連続する再成長ステップを異なる波長に対して実行し、より長い波長のステップを最後に実行する。たとえば、赤色LEDを最後に成長させる。これは良好な材料品質を容易にし得る。なぜなら、長波長の活性領域には、低サーマルバジェットを有し得る高いIn含有量が必要であるからである。いくつかの実施形態では、1つの再成長ステップによって赤色LEDが得られ、この再成長ステップは低サーマルバジェットで実行される。低サーマルバジェットは最高温度Tmによって定義することができ、このステップにおける各サブステップはTm未満で実行される。Tmは900°C以下(たとえば、850°C以下、800°C以下、750°C以下、700°C以下、650°C以下、600°C以下、550°C以下、500°C以下)であってもよい。低サーマルバジェットは、最高温度Tmおよび最大期間tmによって定義することができ、このステップにおける各サブステップはTm未満で実行され、Tmでまたはその付近で実行されるステップはtm未満しか継続しない。
いくつかの実施形態では、LED領域(またはその層)をパルス成長技術で、たとえば異なる時間に異なるIII族前駆体(TMGおよびTMIなど)を流すことによって、成長させる。これは、高In含有量層の成長を容易にし得る。
いくつかの実施形態では、LED再成長はベース層の自由表面全体で起こる。たとえば、これは、図1Bにすでに示したように、コアシェル形状において、ベースNWの上部および側壁で起こる。
これに対して、いくつかの実施形態では、LED成長はベース層の一部のみで、たとえば、図1Aにすでに示したように、ベースNWの上部ファセットのみで起こる。これにより、NWの軸に沿った平坦な活性領域がもたらされ得る。活性領域は円盤形状であってもよく、またはより一般的にはNWと同じ断面を有してもよい。
この上部のみの成長を実現するためにさまざまな技術が使用され得る。成長パラメータは、上面での核形成を促進するように選択されてもよい。たとえば、上面はc面であり、成長条件は他の面(たとえば、m面、c面、半極性面)よりもc面の核形成を促進する。適切な成長条件は、温度、圧力、さまざまな前駆体の分圧、III/V比、成長速度、パルス成長の使用を含んでもよい。いくつかの実施形態では、低温を使用して上面成長を促進する。発光層を成長させるための温度は、700°C未満(たとえば、675°C以下、650°C以下、625°C以下、600°C以下、550°C以下、500°C以下、450°C以下、400°C以下)であってもよい。低温成長に適した成長技術(MBE、スパッタリング、プラズマ支援CVD、および低温に適した他のCVD技術を含む)を使用してもよい。
側壁でのエピ成長を防止するために側壁を覆ってもよい。いくつかの実施形態では、誘電体材料(たとえば、SiOx、AlOx、SiNx、AlNx、TiOx、TaOx、ZrOx)を側壁に堆積させる。誘電体材料は、すべての側壁を覆ってもよく、またはほぼすべての側壁を覆って、NWの上部領域は成長のために残しておいてもよい。
図11A~図11Fは、NW側壁を覆うためのプロセスフローを示す。図11Aは、ベース領域1100の成長後のベース領域NW1110を示す。図11Bにおいて、NW1110を誘電体材料1120で被覆し、この場合、堆積はコンフォーマルである(これは原子層堆積および他の公知のプロセスによって得られてもよい)。図11Cにおいて、誘電体材料1120の上部を除去してNW1110の上面1130を露出する。これは、機械的プロセス(たとえば、研削、研磨)およびドライエッチング(たとえば、RIE、ICP)を含む技術によって実現されてもよい。機械的プロセスは、半導体のエッチング速度よりも誘電体のエッチング速度の方が速い選択的な機械的プロセスを含む。ドライエッチングは、方向性ドライエッチングプロセス(誘電体材料の側壁よりも上面を速くエッチングし、エッチングのパラメータ[圧力、組成、電力]を適切に選択することによって実現され得る)と、半導体のエッチング速度よりも誘電体のエッチング速度の方が速い選択的ドライエッチングプロセスとを含む。再成長前の最終的な形状はさまざまであり得る。図11Dは、誘電体1121を上面1130の下方にエッチングする場合を示す。図11Eは、誘電体1122が上面1130の上方に延在する場合を示す。図11Fは、誘電体1123がコンフォーマルではなくNW1110の周りに延在する場合を示す。
図11Dの場合、横方向成長の一部は、側壁(または存在する場合は傾斜壁)が露出しているところで起こり得る。いくつかの実施形態では、横方向成長の量を制限することが望ましい。したがって、充填材料の凹部は、NWの突出部分が小さいよう、たとえば100nm未満(たとえば、50nm以下、25nm以下、10nm以下、5nm以下)であるよう十分小さくてもよい。
いくつかの実施形態では、横方向成長が起こり、成長条件は、横方向成長が起こるがIn含有層(すなわちQW)はNW上部よりもNW側部の方がInが少ないか薄いように、横方向成長のためのIn取り込みおよび/または成長速度を減少させるように選択される。たとえば、上面上のQWは厚さtおよびIn組成xを有し、側壁上の対応する層はt*0.8(もしくは0.5)未満の厚さおよび/またはx*0.8(もしくは0.5)未満の組成を有する。これは、側方材料による発光および/または吸収を妨げ得る。
すでに開示したように、再成長のために(すなわち、エピタキシャル成長可能な状態となるように)再成長面を準備してもよい。このような準備ステップは、本明細書に記載される誘電体被覆ステップの前または後に行われてもよい。
誘電体以外の材料(たとえば金属)を用いてNWを覆ってもよい。側壁、上部、傾斜壁、半極性ファセットなど、NWのさまざまな部分を再成長の核形成から防止するために覆ってもよい。いくつかの実施形態では、一部の結晶ファセットを被覆して他の結晶ファセットは被覆しないことにより、再成長を容易にする。いくつかの実施形態では、被覆されないファセットはc面(またはm面、a面、半極性)である。構造の結晶方位に応じて、さまざまな面が上部ファセットに対応し得る。
いくつかの実施形態では、LED領域の層は、特定の分極場を実現し、発光層における電子および正孔波動関数(WF)の重なりを制御するように構成される。さまざまな結晶方向について、III窒化物ヘテロ構造は、自然発生的な分極場、および歪みに起因する分極場の両方を示す。これらの場は、WFの重なり(放射効率にとって好ましくない場合がある)の分離、発光波長の増加(特に所与の材料組成で長波長に達するために有益な場合がある)など、さまざまな効果を有する。したがって、本発明の実施形態は、所与の強度の場を求めてもよく、または所与の範囲において、これらの効果間のトレードオフを軽減することに務めてもよい。いくつかの実施形態では、活性領域における分極場の大きさは、歪みが低減されるおかげで小さくなる(たとえば、In0.3GaN QWは、従来のGaN層と擬似格子整合するときよりもIn0.1GaNベース領域と擬似格子整合するときの方が低い分極場を有する)。いくつかの実施形態では、活性領域の周りの層は、歪み差、したがって場を操作するように選択される。たとえば、活性領域は、In(x)Ga(1-x)N発光QWと、In(y)Ga(1-y)N(y<xである)、またはGaN、またはAlGaN、またはAlInGaNを含む、QWに隣接する少なくとも1つの層(たとえば障壁)とを含んでもよい。いくつかの実施形態では、QW間の障壁は複数の層で構成され、たとえば2つのQW間のスタックは以下の通りであってもよい(p側またはn側のいずれかが左側である)。
InGaN QW / InGaN / InGaN / InGaN QW
InGaN QW / InGaN / GaN / InGaN QW
InGaN QW / InGaN / AlGaN / InGaN QW
InGaN QW / GaN / AlGaN / InGaN QW
いくつかの実施形態では、QWは1~4MVcm-1(たとえば、1~2,2~2.5,2.5~3,3~4MVcm-1)の範囲の分極場を有する。分極場は、(分極場との厚さとの積がQW両端の電圧降下と等しいので)厚さとともに選択されてもよい。いくつかの実施形態では、QWの厚さとQWを横切る分極場との積は、0.1~1V(たとえば、0.1~0.3V、0.25~0.5V、0.5~0.75V、0.75V~1V、1V未満、0.5V未満、0.3V未満)の範囲である。いくつかの実施形態では、上述の値は、QWが組成In(x)Ga(1-x)N(x>0.2(たとえば、>0.25、>0.3、>0.4)である)を有するにもかかわらず得られる。一実施形態では、QWは、組成In(x)Ga(1-x)N(x>0.3である)と厚さt>1nmとを有し、これを組成In(y)Ga(1-y)N(y>0.05である)を有するベース層の上に擬似格子整合するように成長させ、QW両端の電圧降下は、yと、tと、QWを取り囲む層の組成とを含むパラメータの適切な構成のおかげで、0.5V未満である。
InGaN QW / InGaN / GaN / InGaN QW
InGaN QW / InGaN / AlGaN / InGaN QW
InGaN QW / GaN / AlGaN / InGaN QW
いくつかの実施形態では、QWは1~4MVcm-1(たとえば、1~2,2~2.5,2.5~3,3~4MVcm-1)の範囲の分極場を有する。分極場は、(分極場との厚さとの積がQW両端の電圧降下と等しいので)厚さとともに選択されてもよい。いくつかの実施形態では、QWの厚さとQWを横切る分極場との積は、0.1~1V(たとえば、0.1~0.3V、0.25~0.5V、0.5~0.75V、0.75V~1V、1V未満、0.5V未満、0.3V未満)の範囲である。いくつかの実施形態では、上述の値は、QWが組成In(x)Ga(1-x)N(x>0.2(たとえば、>0.25、>0.3、>0.4)である)を有するにもかかわらず得られる。一実施形態では、QWは、組成In(x)Ga(1-x)N(x>0.3である)と厚さt>1nmとを有し、これを組成In(y)Ga(1-y)N(y>0.05である)を有するベース層の上に擬似格子整合するように成長させ、QW両端の電圧降下は、yと、tと、QWを取り囲む層の組成とを含むパラメータの適切な構成のおかげで、0.5V未満である。
いくつかの実施形態は、下地層、たとえば、欠陥を取り込むことによって活性領域のIQEを改善するように構成された層を含む。下地層はInを含んでもよく、連続的なInGaNもしくはAlInGaNもしくはAlInN層であってもよく、またはIn含有化合物の超格子であってもよい。あるいは、実施形態は、他の層(すなわち、ベース層、InGaN n層および障壁)のIn濃度がすでに点欠陥を効果的に捕捉している場合は、別の下地層は不要であり得る。
図12A~図12Bは、一実施形態の形状および歪み状態を示す。図12Aは、ベース領域1210の成長後の構造を示す。マスク410を有するGaNバッファ320を基板310の上に設け、マスク開口部の中にInGaNベース領域1210を成長させる。ベース領域1210の成長が進行するにつれて、その歪みは緩和する。ここではこれを横方向の拡張として示しているが、本明細書に開示されるように他の緩和メカニズムも可能である。ベース領域1210は、緩和された再成長面1220で終了する。成長方向に沿ったさまざまな位置において、格子定数が増加する。たとえば、マスク開口部(位置1211)では、成長は擬似格子整合し、面内格子定数はGaNバッファの面内格子定数である。中間位置1212では、緩和は部分的であり、面内格子定数はバルクGaNの面内格子定数とバルクInGaNの面内格子定数との中間である。位置1213では、材料は完全に緩和され、面内格子定数はバルクInGaNの面内格子定数である。図12Bは、n-InGaN1230と、活性領域1240と、p-InGaN1250とを含む、再成長面1220上のLED領域の再成長を示す。LED領域は再成長面1220と擬似格子整合してもよく、すなわち、位置3と同じ面内格子定数を(+/-0.1%の格子定数値など、いくらかの公差内で)を有してもよい。
図13A~図13Cは、NWを図12A~図12Bに従って成長させた場合のさまざまな量の発展を示す。図13Aは層、すなわち、ベース層1210と、LED層1230,1240および1250(ベース層と同じ組成の層、およびIn組成がより高いQWを含む)とを示す。図13Bは、ベース領域1210で始まる、NWの軸に沿った面内格子定数の発展を示す。当初、ベース領域はGaNバッファと擬似格子整合し(格子定数a1)、その後緩和が始まって格子定数がそのバルク値に向かって増加し(格子定数a2)、完全緩和に達する。ベース領域の成長が終了した後、LED領域の擬似格子整合成長が続く。図13Cは、対応する歪みの単純化された略図を示す。歪みはベース層の緩和時に低減する。QWではIn含有量が高いため、歪みが増加する。
NW(または他の横型構造)の寸法は、緩和を容易にするように選択されてもよい。いくつかの実施形態では、NWの直径(または典型的な横方向寸法)は、200nm未満(たとえば、150nm以下、120nm以下、100nm以下、80nm以下、50nm以下)である。小さい直径は横方向の緩和を容易にし得る。いくつかの実施形態では、いくつかのグループの横型構造がベース面の上に存在しており、異なる緩和レベルによって特徴付けられる。これは、それらの異なる寸法によって容易になり得る。いくつかの実施形態では、3つの異なる典型的な横方向寸法を有する3つのグループのNWが存在しており、寸法が大きいNWは緩和が少ない。そのような実施形態では、3つのグループは青色、緑色および赤色画素に対応してもよく、赤色画素の緩和を大きくして青色画素の緩和を小さくすることが有利であり得る。
場合によっては、ベース領域における緩和は、横方向の拡張によるものではなく、欠陥(積層欠陥、転位、空孔、隙間および他の欠陥を含む)ならびに/または空隙の形成などの他の効果によるものである。緩和は、GaNバッファの上に擬似格子整合InGaN材料がほとんどまたはまったく成長してない状態で、すぐに始まることもある。時として、緩和は不完全であり、再成長面の格子定数は同じ組成のバルクInGaNよりも小さいことがある。再成長面と同じ組成のバルク材料との間の格子定数の差は、バルクGaNと同じ組成のバルク材料との間の格子定数の差の半分未満であり得る。
図14は、実施形態に係るLEDを得るための一例としてのプロセスフロー1400を示す。ステップ1410において、基板を設ける。ステップ1420において、基板の上にGaNバッファを成長させる。ステップ1430において、GaNバッファ層の表面をパターニングする。ステップ1440において、HVPEによってパターンの開口部の中にInGaNベース領域を成長させる。ステップ1450において、MOCVDによってベース領域の上にInGaN LEDを成長させる。ステップ1460において、試料をさらに処理してLEDデバイスを形成する。一部のステップは任意であり、一部のステップは省略または順序を変更することができる。
いくつかの実施形態では、エッチングステップを実行して、成長後にLED領域からエピタキシャル材料を除去する。エッチングステップは、KOH、H3PO4および他のエッチングを含む選択的な化学エッチングであってもよく、一部の結晶面を他の結晶面よりも速くエッチングしてもよい。エッチングステップは、ドライエッチング(ICP、RIEを含む)であってもよく、光化学または電気化学または光電気化学エッチングであってもよい。エッチングは、非極性ファセット(mおよび/またはaを含む)を速くエッチングし、c面ファセット(+cを含む)をゆっくりとエッチングしてもよい。これを用いて、上部材料を除去することなく、NWまたはメサから側壁材料を除去してもよい。
いくつかの実施形態では、LED領域成長はコンフォーマルに起こり、NW(またはメサ)の上部および側面に材料が成長する。次にエッチングステップを実行して、上部材料を残しながら側壁材料を除去する。側壁のp型材料および活性領域材料が除去されるまでこのエッチングステップを実行してもよい。これにより、LED領域のn型材料またはベース領域の材料を露出してもよい。上面は、側壁材料のみが除去されるように、エッチングステップの前に被覆するかそうでなければ保護してもよい。エッチング後の構造は、実質的に垂直な側壁を有してもよい。エッチングは、欠陥(たとえばダングリングボンド)が少ない高結晶品質をもたらすことによって側壁再結合を低減するように選択されてもよい。側壁はさらに、再結合を低減するために成長後に(たとえば誘電体層によって)不動態化されてもよい。エッチングを使用して、横型構造の横方向寸法を制御してもよい。いくつかの実施形態では、エッチングにより側壁から欠陥材料を除去する。側壁材料は欠陥(貫通転位、ミスフィット転位、ダングリングボンドを含む)を有することがあり、NWに欠陥が存在しなくなるまでエッチングにより材料を除去してもよい。
いくつかの実施形態では、エッチングにより、望ましくない波長で発光する材料を除去する。一例では、NWは、その軸に対して垂直な発光領域(たとえば、円形のNWの場合は円盤状の活性領域)を有し、活性領域の発光波長は径方向に不均一である(すなわち、中心から端部にかけて変化する)ので、発光の第1のFWHMが得られる。エッチングにより周囲付近の材料を除去するので、第1のFWHMよりも狭い第2のFWHMが得られる。別の例では、LED領域成長はコンフォーマルであり、活性領域の上部および側壁は異なる波長で発光し、エッチングにより、発光が活性領域の上部からのみ来るように側壁材料を除去する。エッチングによりナノ多孔質材料を形成してもよい。いくつかの実施形態では、エッチングは歪み緩和を容易にする。たとえば、エッチングにより側方材料を除去することにより、NW直径が小さくなって活性領域の横方向の格子拡張が容易になり、歪みが低減される。
エピタキシャル層は、引張歪みまたは圧縮歪みを有してもよい。いくつかの実施形態では、GaNの上またはIn(y)Ga(1-y)N層の上に成長したIn(x)Ga(1-x)N層(x>yである)が圧縮歪みを有する。圧縮歪みを有する層の付近に引張歪みを有する層を成長させて、歪みのバランスを取ってもよい。引張歪みはたとえば、(たとえば、適切な組成のAlGaN層、AlInN層、AlInGaN層を用いて)III窒化物化合物にAlを添加することによって実現されてもよい。たとえば、AlGaN障壁をInGaN量子井戸の付近に成長させてもよい。いくつかの実施形態では、圧縮ミスフィット歪みe1を有する層を引張歪みe2を有する層の付近に成長させ、0.25<|e1/e2|<4(たとえば0.5<|e1/e2|<2)である。付近とは、10nm以下(たとえば、5nm以下、2nm以下、1nm以下)であってもよい。
形状
いくつかの実施形態は、NWまたはメサまたはプレートレットを含む。以下ではこれらの構成のうちのいずれかが一例として選ばれることがあるが、教示は一般に適用される。
いくつかの実施形態は、NWまたはメサまたはプレートレットを含む。以下ではこれらの構成のうちのいずれかが一例として選ばれることがあるが、教示は一般に適用される。
ワイヤの上面は実質的に平坦であってもよい。たとえば、側壁から上面への移行は、傾斜側壁なしに、または限られた範囲(20nm未満、10nm未満、5nm未満、3nm未満など)の傾斜側壁で起こる。
図15A~図15Dは、いくつかの実施形態に係る、その軸1501に沿ったNW(またはプレートレット)の断面を示す。図15Aにおいて、NW1510は垂直の断面を有し、その側壁1511は軸1501と平行である。図15Bにおいて、NWは、傾斜側壁1521と、NW軸1501に対して垂直な平面内のみに成長した活性領域1522とを有する断面を有する。図15Cにおいて、NW1530は傾斜側壁1531を有し、LED活性領域1532の成長はすべてのファセットに沿って起こっている(コアシェル構造)。図15Dにおいて、NW1540はコアシェル構造を有するが、マスキング層1545が側壁の一部に沿った成長を妨げる。マスキング層1545の寸法によっては、LED活性領域1542の大部分を平面ファセットの上に成長させ、他の平面に沿ってはほとんど成長させなくてもよい。
NWは、実質的に0001(+c)方向に沿って成長させてもよく、または000-1(-c)方向に沿って成長させてもよい。NWにはドメイン反転(すなわち、極性が+cと-cとの間で切り替わるドメイン)が実質的になくてもよい。いくつかの実施形態では、ベース領域の上面の少なくとも90%(たとえば、95%以上、99%以上)は一定の極性である。
NWの高さは10nm~10ミクロン(たとえば、10nm~1ミクロン、100nm~10ミクロン、100nm~3ミクロン)の範囲であってもよい。NWの直径(または典型的な横方向寸法)は、10nm~1ミクロン(たとえば、10~100nm、または10nm~500nm、または30nm~1000nm、または10nm~300nm)の範囲であってもよい。
いくつかの実施形態はマイクロプレートレットを含む(すなわち、横方向寸法が1ミクロンまたは数ミクロンのオーダーの横型構造を有する)。
図16A~図16Cは、実施形態に係る、プレートレットLEDの製造工程の一例を示す。図16Aにおいて、マスク1620に選択的な成長開口部を有する基板1610を設け、緩和ベース層1630を成長させる。基板は、たとえば、GaNまたはSiまたはAlN核形成層を有するSiまたはサファイアであってもよい。ベース層1630の成長は、マスク1620の開口部で始まる。ベース層1630は、本明細書に教示されるように緩和を受ける。たとえば適切な成長条件を選択することによって、横方向に沿った成長が促進される。図16Aに示す構造の形成の終了時に、ベース横型構造は、約1ミクロンもしくは数ミクロンの、または500nm~10ミクロン(たとえば、1ミクロン~5ミクロン、500nm~10ミクロン、1ミクロン~3ミクロン)の範囲の横方向寸法を有してもよい。これは、成長モードのため、平坦でなくてもよい。したがって、図16Bに示すように平坦化ステップを用いることにより、本明細書に教示されるような所望の形態の平坦層1632を得てもよい。図16Cにおいて、本明細書に教示されるようにベース領域1632の上にマイクロLED構造1640を成長させる。この図では、LEDは、マイクロLEDの端部まで延在する平坦な活性領域1642を有する。
マイクロLEDは、(たとえば半極性面に対応する)垂直または傾斜側壁を有してもよい。いくつかの実施形態では、活性領域はマイクロLEDの端部まで実質的に延在するが、活性領域の構成は横方向に変化する。活性層の厚さは、プレートレットの端部近くで減少してもよい。プレートレットの端部における活性層の厚さは、プレートレットの中心における同じ活性層の厚さの90%未満(たとえば、80%以下、50%以下)であってもよい。活性層の組成は、プレートレットの端部近くで減少してもよい。プレートレットの端部における活性層のIn組成は、プレートレットの中心における同じ活性層のIn組成よりも少なくとも1%(たとえば、2%以上、5%以上)小さくてもよい。
そのような変化は、プレートレットの端部近くのキャリアの注入の減少を容易にし得る。いくつかの実施形態では、プレートレットLEDの端部の周りに排除領域が存在する。排除領域の面積は、活性領域の総面積の5%~50%であってもよく、少なくとも5%(たとえば、10%以上、20%以上、30%以上)および50%未満(たとえば、30%以下、20%以下)であってもよい。全放出光の20%未満(たとえば、10%以下、5%以下、1%以下)が排除領域から生じてもよい。
図17A~図17Dは、中心構造から端部構造までの活性領域特性の横方向の変化を示す。図17Aは、中心構造および端部構造を示す。図17B~図17Dは、特性が相対的な横方向距離の関数(0が中心で1が端部)として中心から端部までどのように変化し得るかを示す。特性は、中心からある距離(この例では0.8であるが、約0.7、約0.9などの他の値も可能である)までは実質的に一定であり、その距離から端部にかけて変化してもよい。活性層1642の厚さは、少なくとも5%(たとえば、10%以上、20%以上、30%以上、40%以上、50%以上)減少してもよい。活性層1642のIn組成は、少なくとも1%(たとえば、2%以上、5%以上、10%以上)減少してもよい。発光強度は、少なくとも50%(たとえば、80%以上、90%以上、95%以上)減少してもよい。
LED成長に先立ってベース横型構造を薄化することに加えて、ベース横型構造の横方向寸法に影響を与える処理ステップを使用してもよい。横方向寸法を、たとえばリソグラフィおよびエッチングによって、ドライエッチングまたは化学エッチングによって、当該技術において公知の他の方法によって、減少させてもよい。
さまざまな寸法のプレートレットを同じ基板の上に形成してもよい。いくつかの実施形態では、3つの寸法が存在し、それらは赤色/緑色/青色発光に対応する。いくつかの実施形態では、さまざまな寸法は、マスク開口部のサイズを変更することによって得られ、これにより、ベース領域成長後にさまざまなサイズのプレートレットが得られる。いくつかの実施形態では、さまざまな寸法は、一部のプレートレットの寸法を選択的に減少させることによって(たとえば、一部のプレートレットをマスキングして他のプレートレットをエッチングすることによって)得られる。
さまざまな歪み状態の基材を有するプレートレットを同じ基板の上に形成してもよい。いくつかの実施形態では、基材の成長前に、異なるサイズの開口部を成長マスクに形成する。小さい開口部は高い緩和度を容易にする。大きい開口部は低い緩和度を容易にする。
さまざまな横方向寸法または歪み状態により、本明細書に教示されるように、LEDの成長時のIn取り込みの違いが容易になり、本明細書に教示されるように、さまざまな発光波長(たとえば赤色/緑色/青色)を有するLEDの同時成長がもたらされ得る。歪み状態の違いによって、歪みの少ない基材ほどその上方に多くのInが取り込まれる、異なる格子引張効果を得ることができる。いくつかの実施形態では、活性層を成長させ、異なるプレートレット全体にわたるIn%の差は少なくとも5%(たとえば、10%以上、15%以上)である。これは、少なくとも50nm(たとえば100nm以上)の発光波長の差を容易にし得る。
処理
ベース領域およびLED領域の成長後、半導体材料をLEDデバイスに加工する。横型、縦型、フリップチップを含む、さまざまな公知のデバイスアーキテクチャを使用することができる。
ベース領域およびLED領域の成長後、半導体材料をLEDデバイスに加工する。横型、縦型、フリップチップを含む、さまざまな公知のデバイスアーキテクチャを使用することができる。
図18A~図18Hは、プロセスフローの一例を示す。(A)基板1810/バッファ層1820の上に成長したNW1830を設ける。NW1830はnドープ領域およびpドープ領域(n領域とp領域との間に活性領域がある)を有する。(B)バッファ1820を(たとえばドライエッチングによって)エッチングしてサブピクセルを単一化する。(C)nコンタクト1840をnドープ材料に形成する(この材料は、示されるようにバッファの一部に作られてもよく、またはベース領域、LED領域など他の場所に作られてもよい)。(D)平坦化材料1850を形成して、NW1830の上面に沿って平面を得る。平坦化材1850は、さまざまな公知の技術(電子ビーム、CVD、PEVCD、ALD)によって堆積される誘電体であってもよく、または硬化流体もしくはスピンオン材料(たとえばスピンオングラス)であってもよい。これを薄化してNWのp側を露出してもよい。(E)NW1830の上にpコンタクト1860を形成する。nおよびpコンタクトは透明(たとえばTCOコンタクト)であってもよく、または反射性(たとえば金属層を含む)であってもよい。(F)pコンタクト1860および平坦化材1850を除去して、nコンタクト1840へのアクセスを開放する。(F)のデバイスは、nコンタクト1860およびpコンタクト1840へのコンタクトが形成された状態で、そのまま使用してもよい。このデバイスは、(基板およびコンタクトが不透明であるか透明であるかに応じて)トップエミッション型デバイスであってもボトムエミッション型デバイスであってもよい。(G)あるいは、金属配線1870および1875を有するサブマウント1880にデバイスをフリップチップする。配線はさまざまな形状であってもよい(ここでは表面層/列として示されているが、貫通ビア、再分配配線などのサブマウントに埋め込まれた配線、および当該技術において公知の他の形状であってもよい)。次に、配線1870および1875を電気ドライバに接続して、さまざまなサブピクセルを駆動することができる。(H)必要に応じて、基板1810を除去する。たとえば、これは、基板が不透明である場合、またはその存在がシステムの光学系を乱す場合に有用である。基板除去は、ウェットエッチング、ドライエッチング、機械的エッチング(たとえば、研削、研磨)、レーザリフトオフ、光化学または電気化学または光電気化学エッチング、およびそれらの組み合わせなど、さまざまな技術によって実現することができる。これはプロセスの一例にすぎず、変形および置換が可能である。たとえば、ステップHの後にサブピクセルの上にnコンタクトを形成することにより、縦型LED形状を得てもよい。この場合、次に、nコンタクトを形成した後にアセンブリの上に部材を取り付けて電流経路を設けてもよい。基板、サブマウント、コンタクト、および上述の部材を含む、アセンブリ内のさまざまな材料が透明であってもよく、したがって発光はアセンブリの両側から可能である。
図19A~図19Gは、プロセスフローの別の例を示す。(A)基板層1910/バッファ層1920の上に成長したNW1930を設ける。(B)NW1930の間に平坦化材料1940を形成する。(C)NW1930の上にpコンタクト1950を形成する。(D)金属配線1960を有するサブマウント1970にウェハをフリップチップする。(E)基板1910を除去する。(F)バッファ1920を(たとえばレーザリフトオフによって)除去する。(G)NW1930のn側にnコンタクト1980およびパッド1990を形成する。これはプロセスの一例にすぎず、変形および置換が可能である。たとえば、基板1910は透明であってもよく、バッファと同じステップ(たとえばレーザリフトオフステップ)において除去されてもよい。nパッド1990は、(たとえば、不動態化されたNWの側壁へのnコンタクトを形成する方向性堆積を用いることによって)nコンタクト1980をサブマウント上の金属トレースに接続するように形成してもよい。
バッファを除去してNWのn側を露出するために、さまざまな技術を使用することができる。これらの技術は、選択的な化学エッチング、研削および研磨プロセス、ドライエッチングプロセス、レーザリフトオフ(LLO)プロセス、機械的破断/劈開、(スマートカットプロセスに類似の)イオン注入および破断/劈開、レーザアブレーションまたはマイクロアブレーションプロセス(たとえばステルスプロセス)と場合によってはそれに続く機械的破断、などである。
いくつかの実施形態では、バッファはNWよりも大きいバンドギャップを有し、たとえば、バッファはGaNであり、NWはInGaN領域を有する。これは、バッファには吸収されないがNWには吸収される放射源(パルスレーザなど)を用いる選択的LLOを容易にする。たとえば、波長は、GaNにはあまり吸収されないがIn0.1GaNには大きく吸収される390nmである。いくつかの実施形態では、NWの特定の層は高いIn組成を有して吸収するが、NWの他のInGaN層は吸収しない。たとえば、NWは、In0.1GaNを有するコア領域と、In0.2GaNを有する犠牲層とを有する。LLOは、In0.2GaNには吸収されるがIn0.1GaNには吸収されないレーザを用いて実行される。犠牲層はLED領域の成長時に成長させてもよい。
また、光子に対する吸収が高くエッチングされやすい特定の組成の層を用いて、光化学エッチング(または光電気化学エッチング)を使用してもよい。透明度/吸収とは、エッチングステップで使用される波長を指す。たとえば、ある実施形態は、透明基板と、透明層(たとえばGaN)と、吸収が大きいベースInGaN層と、LED層とを有する。構造は、基板(研磨されてもよく、および/または光学仕上げが施されてもよい)を通して照明される。照明が透明層を通ってベース層に吸収されることにより、ベース層がエッチングされる。
ウェットエッチングを用いてバッファまたは基板(基板がSiである場合を含む)を除去してもよい。
いくつかの実施形態では、いくつかの技術が連続して使用される。たとえば、LLOプロセスを用いてバッファを除去して、NWの一部を露出する。次に、材料除去ステップ(たとえば、機械研磨、ドライエッチング等)を用いて、露出したNWを所望の厚さまで薄化してから、研磨したNWへのコンタクトを形成する。NWを薄化して平面を得てもよい。NWを薄化してドープ層に達してもよい。いくつかの実施形態では、NWの一部はドープされておらず他の一部はドープされており、ドープされていない材料を除去してドープされている材料に達するために材料除去プロセスが使用される。
いくつかの実施形態では、ベース領域は空隙を含んでもよい(たとえば、NWのベースは空隙を有してもよい)。これによってNWと下地層との接続が弱くなり、NWは空隙の近くで破断しやすくなる。
いくつかの実施形態では、NWのドープ面へのコンタクトを形成する前に、ドープ面上で表面準備ステップが使用される。この処理は、洗浄(溶媒、酸、塩基によるものを含む)、ウェットエッチング、ドライエッチングを含んでもよい。表面はnドープされてもよく、この処理は、表面のより高いドーピングを容易にすることによって、表面へのコンタクトが形成される際のコンタクト抵抗を低下させる、OまたはSiを含むドライエッチングであってもよい。いくつかの実施形態では、表面準備領域は、表面準備前の半導体よりも高いドーピングを有する。いくつかの実施形態では、InGaNベース領域の表面が露出し、ベース領域はエピタキシー後にドーピングレベルD(たとえば、約1E16,5E16,1E17,5E17,1E18,5E19,1E19)を有し、表面処理によってドーピングがDの少なくとも10倍増加する。これにより、成長時の中程度のドーピングにもかかわらず、良好な接触抵抗が提供され得る。中程度のドーピングは、たとえばドーピングに起因する歪みを制限するために望ましいことがある。ベース領域のドーピングレベルは、所望の電流密度でNWサブピクセルの十分低い抵抗率を確保するように選択されてもよい。いくつかの実施形態では、最大動作電流密度は中程度(たとえば、50A.cm-2または10A.cm-2または1A.cm-2または0.1A.cm-2未満)であり、したがって中程度のドーピングレベルが許容され得る。
その他
本開示の一部ではNW LEDについて述べているが、教示の一部はNWを特徴としないLEDに適用される。たとえば、1組のNWの代わりにメサLED(本明細書に開示されるようにプレートレットとも呼ばれる)を使用してもよい。メサは、小さい寸法(たとえば、10ミクロン以下、5ミクロン以下、3ミクロン以下)を有し、サブピクセルであってもよい。メサは、パターニングされたメサを有するベース領域の成長、およびLED領域の再成長によって形成されてもよい。歪み緩和は、本明細書に開示されるように、小さいメサで実現されてもよい。
本開示の一部ではNW LEDについて述べているが、教示の一部はNWを特徴としないLEDに適用される。たとえば、1組のNWの代わりにメサLED(本明細書に開示されるようにプレートレットとも呼ばれる)を使用してもよい。メサは、小さい寸法(たとえば、10ミクロン以下、5ミクロン以下、3ミクロン以下)を有し、サブピクセルであってもよい。メサは、パターニングされたメサを有するベース領域の成長、およびLED領域の再成長によって形成されてもよい。歪み緩和は、本明細書に開示されるように、小さいメサで実現されてもよい。
InGaN層に言及しているが、適切な歪みを提供するのであれば他の化合物(たとえば、AlInGaN、AlInN)も適切であり得ることを理解すべきである。たとえば、NWのベース領域は、所望の含有量のInGaNと面内格子定数が等しいAlInNであってもよい。このようなベース領域は、InGaNベース領域で起こるようなInGaN発光層との格子不整合を低減する。本教示は、III-VおよびII-VI化合物半導体を含む、III窒化物系以外の材料系にも適用可能である。
たとえば、適切な格子定数を有する他の結晶(半導体および絶縁結晶を含む)を基材として用いて、本明細書に開示されるような活性領域の歪み低減を実現してもよい。いくつかの実施形態では、基板材料は、歪みが低減されたInGaNの成長を容易にする結晶対称性および格子定数を有する。対称性は、六角形(ウルツ鉱型対称性を含む)であってもよい。格子定数は、GaNの上の擬似格子整合成長の場合のミスフィット歪みの半分未満のミスフィット歪みを容易にし得る。いくつかの実施形態では、基板材料の上にInGaNベース層を成長させ、InGaNベース層の上にInGaN活性領域を成長させる。InGaNベース層は、実質的に緩和されてもよく、または基板材料と擬似格子整合してもよい。ベース層はベース層In組成を有してもよく、活性領域は活性領域In組成を有してもよく、活性領域In組成はベース層In組成よりも少なくとも3%(たとえば、5%以上、8%以上、10%以上、12%以上、15%以上、20%以上、25%以上、30%以上)高い。
面内格子定数とは、一般に、成長に対して垂直な方向の格子定数を指す。たとえば、ウルツ鉱型材料をc軸(またはc軸に近い方向)に沿って成長させる一般的な例では、面内格子定数とは、c軸に対して垂直な格子定数を指す。
元素組成が本明細書に開示される場合、それらは、一般慣行に従って、所与の群(たとえば、III列またはV列)の元素の分数組成と理解されるべきである。たとえば、In0.2GaNはIn0.2Ga0.8Nを表し、Inの原子番号とGaの原子番号との和はNの原子番号と等しい。
いくつかの実施形態は、断面が円形でない(たとえば、正方形、長方形、六角形、楕円形等である)横型構造(たとえば、メサまたはNW)を有する。このような構造は、それにもかかわらず、典型的な横方向寸法によって特徴付けることができる。断面が面積Aを有する場合、典型的な横方向寸法は本明細書では2*sqrt(A/pi)と定義される。この定義は、円形断面の直径と一致する。
本明細書に記載されるLED発光体は、マイクロディスプレイを含むディスプレイに使用してもよい。マイクロディスプレイは、典型的には複数の画素を有し、その各々が赤色、緑色および青色サブピクセルを有する。2つの画素間の距離は、20μm未満(たとえば、15μm、10μm、7μm、5μm、3μm)であってもよい。2つのサブピクセル間の距離は、10μm未満(たとえば、7.5μm、5μm、3.5μm、2.5μm、1.5μm)であってもよい。マイクロディスプレイは、拡張現実または仮想現実ヘッドセットなどのディスプレイシステムに統合されてもよい。ディスプレイの個々のサブピクセルは電気的に動作して、光を放出して画像を形成することができる。
歪み、歪み緩和、格子定数は、当該技術において公知の技術によって測定することができる。これは、X線回折、X線逆格子空間マップ(RSM)、斜入射X線、横方向電子顕微鏡法、ラマン分光法、および当該技術において公知の他の技術を含む。たとえば、適切な方向(III窒化物における(10-15)方向など)に沿ったRSM測定は、層が擬似格子整合しているか否か、部分的に緩和されているか完全に緩和されているかを示すことができ、面内格子定数の測定を可能にすることができる。
そのような測定は、当該技術において公知であるように、第1の材料の上に成長した第2の材料の緩和度も定義する。擬似格子整合する層は0%緩和され、そのバルク平衡値と等しい面内格子定数を有する層は100%緩和され、第1の材料(たとえばGaN)とその平衡値との中間の格子定数を有する第1の材料の上に成長した層は50%緩和される。言い換えれば、緩和度=(a2-a1)/(a2_緩和-a1)である。
したがって、実施形態は、十分なIn組成(たとえば、少なくとも5%、10%以上、15%以上、20%以上、25%以上、30%以上)と、GaNに対する十分な緩和度(たとえば、少なくとも30%、50%以上、60%以上、70%以上、80%以上)とを有するInGaN材料(たとえば、本明細書に教示されるベース層)を提供する。InGaN材料/ベース層の表面が、そのような緩和を提供し得る。たとえば発光層/量子井戸などの追加層を緩和表面の上に成長させてもよい。このような活性層は、十分なIn組成(たとえば、少なくとも20%、30%以上、35%以上、40%以上、50%以上、60%以上)と、InGaN材料に対する限られた緩和度(たとえば、50%以下、40%以下、30%以下、20%以下、10%以下)とを有してもよい。いくつかの実施形態では、デバイスは、バッファ層(たとえばGaN)と、バッファ層の上に成長したベース層とを有し、ベース層は、In>10%であり(バッファに対する)緩和度が少なくとも50%であるInGaN表面を有し、デバイスはさらに、ベース層の上の活性領域を有するLED構造を有し、活性領域は、In>35%であり、(第1の材料の格子定数に対する)緩和度が20%未満である。
多数の実施形態を説明してきた。他の実施形態は以下の特許請求の範囲にある。
Claims (109)
- LED発光体を形成する方法であって、前記方法は、
基板の上にIII窒化物層を設けることを備え、前記III窒化物層は平坦な上面を有し、前記方法はさらに、
前記平坦な上面の上に離散的な横方向成長領域を設けることと、
各離散的な横方向成長領域の上に、In(x)Ga(1-x)N材料を含むベース領域を選択的にエピタキシャル成長させることとを備え、各ベース領域は前記平坦な上面に対して垂直な方向に延在し、前記方法はさらに、
前記ベース領域の一部の上に前記In(x)Ga(1-x)N材料の表面を設けることを備え、前記In(x)Ga(1-x)N材料の前記表面は緩和された歪みを有し、前記In(x)Ga(1-x)N材料の前記表面は、そのバルク緩和値の0.1%以内のベース格子定数によって特徴付けられ、前記方法はさらに、
前記表面の上にLED領域をエピタキシャル成長させることを備え、前記LED領域は、前記In(x)Ga(1-x)N材料の前記表面と擬似格子整合するIn(y1)Ga(1-y1)N材料の発光層を含み、前記ベース格子定数の0.1%以内の活性領域の格子定数によって特徴付けられ、
0.05<x<0.2およびy>0.3である、方法。 - 選択的に成長した前記In(x)Ga(1-x)N材料は、前記ベース領域の成長時に緩和する、請求項1に記載の方法。
- 前記緩和は、前記平坦な上面に平行な方向における、成長した前記材料の横方向の拡張によって容易になる、請求項2に記載の方法。
- 前記ベース領域の成長の一部の間の横方向と縦方向の成長速度比は1よりも大きい、請求項3に記載の方法。
- 前記緩和は、前記ベース領域における欠陥の形成によって容易になる、請求項2に記載の方法。
- 前記欠陥は、前記ベース領域における歪みを解放する、請求項5に記載の方法。
- 前記欠陥は、貫通転位、ミスフィット転位、およびVピット、のうちの1つ以上を含む、請求項5に記載の方法。
- 前記欠陥は、前記ベース領域の上のその後の成長時に抑制される、請求項5に記載の方法。
- 前記欠陥のうちの少なくともいくつかは、前記発光層から100nmよりも大きい距離だけ離れている、請求項8に記載の方法。
- 前記緩和は、前記平坦な上面に対して垂直な方向に沿って前記ベース領域のIn組成を変化させることによって容易になる、請求項2に記載の方法。
- 前記In組成は、前記平坦な上面に対して垂直な前記方向に沿って少なくとも5%変化する、請求項10に記載の方法。
- 前記緩和は、前記In組成と相関して変化する、請求項10に記載の方法。
- 緩和は、ベース領域材料が1μm成長する前に始まる、請求項1に記載の方法。
- 前記In(x)Ga(1-x)N材料の緩和は、緩和されたGaNの上での成長のための臨界厚さの80%未満の厚さの範囲内で起こる、請求項1に記載の方法。
- 前記ベース領域およびLED領域はメサを形成し、前記平坦な上面と反対側の各メサの表面は、前記横方向成長領域の横方向寸法よりも小さい横方向寸法を有する、請求項1に記載の方法。
- 前記メサの前記エピタキシャル成長は、前記横方向成長領域の上方の前記メサの横方向寸法の減少を促進する、請求項15に記載の方法。
- 前記メサは傾斜側壁を含む、請求項15に記載の方法。
- 前記側壁は半極性ファセットに対応する、請求項17に記載の方法。
- 各メサの前記表面の前記横方向寸法は、ドライエッチング、ウェットエッチング、切断、研磨、のうちの少なくとも1つによって成形される、請求項15に記載の方法。
- エピタキシャルステップの後に前記メサの側壁に材料を堆積させて前記メサを不動態化することをさらに備える、請求項15に記載の方法。
- 前記発光領域は、中心領域に対応する中心面積と、周辺領域に対応する周辺面積とを含む総面積を有し、前記周辺面積は前記総面積の10%以上であり、前記LED発光体の動作時に、前記活性領域から放出される光の5%以下は前記周辺領域から生じる、請求項15に記載の方法。
- 前記活性領域は、前記中心領域において、前記周辺領域よりも少なくとも1%In高いIn組成を有する、請求項21に記載の方法。
- 前記活性領域は、前記周辺領域よりも前記中心領域の方が薄い、請求項22に記載の方法。
- 前記ベース領域およびLED領域はメサを形成し、各メサの一部は前記横方向成長領域の上を横方向に延在する、請求項1に記載の方法。
- 前記メサの前記エピタキシャル成長の第1の部分の間、第1の成長条件が、前記横方向成長領域の上方の前記メサの横方向寸法の拡張を促進する、請求項24に記載の方法。
- 前記第1の成長条件中の横方向と縦方向の成長速度比は1よりも大きい、請求項25に記載の方法。
- 前記メサの前記エピタキシャル成長の第2の部分の間、第2の成長条件が、前記横方向成長領域の上方の前記メサの前記横方向寸法の拡張を抑制する、請求項25に記載の方法。
- 前記第2の成長条件中の横方向と縦方向の成長速度比は0.5未満である、請求項27に記載の方法。
- 前記第1の成長条件は歪み緩和を容易にする、請求項27に記載の方法。
- 前記横方向成長領域は第1の横方向成長領域であり、前記方法はさらに、
前記平坦な上面の上に離散的な第2の横方向成長領域を形成することと、
前記第2の横方向成長領域の上に第2のベース領域をエピタキシャル成長させることと、
前記第2のベース領域の対応する表面の上に、In(y2)Ga(1-y2)N材料の発光層を含む第2のLED領域をエピタキシャル成長させることと、
前記平坦な上面の上に離散的な第3の横方向成長領域を形成することと、
前記第3の横方向成長領域の上に第3のベース領域をエピタキシャル成長させることと、
前記第3のベース領域の対応する表面の上に、In(y3)Ga(1-y3)N材料の発光層を含む第3のLED領域をエピタキシャル成長させることとを備え、
y1>y2>y3であり、前記第1、第2および第3のLED領域は、動作時に赤色、緑色および青色光をそれぞれ放出する、請求項1に記載の方法。 - 少なくとも1つの赤色、緑色および青色発光LEDがディスプレイの画素を形成する、請求項30に記載の方法。
- 前記第1、第2および第3のベース領域の前記対応する表面は、面内格子定数a1、a2およびa3をそれぞれ有し、a1>a2>a3である、請求項30に記載の方法。
- 前記第1、第2および第3のLED領域は同じエピタキシャルステップで成長する、請求項32に記載の方法。
- 格子定数の順序付けa1>a2>a3は、格子引張によって、組成の順序付けy1>y2>y3を容易にする、請求項33に記載の方法。
- 前記第2および第3のベース領域の前記対応する表面は、少なくとも部分的に緩和される、請求項32に記載の方法。
- 前記第1、第2および第3のLED領域は連続するエピタキシャルステップで成長する、請求項30に記載の方法。
- 赤色を発光する前記LED領域は、緑色を発光する前記LED領域および青色を発光する前記LED領域の後に成長する、請求項36に記載の方法。
- 赤色を発光する前記LED領域は、前記LED発光体の形成中に900°C未満の成長温度のみにさらされる、請求項37に記載の方法。
- 先に成長したLED領域は、後のLED領域が成長する間、誘電体マスクで覆われる、請求項36に記載の方法。
- 前記ベース領域の組成は、前記LED発光体の動作時に、前記第3のLED領域から放出された青色光の10%以下が前記ベース領域に吸収されるように構成される、請求項30に記載の方法。
- 前記緩和された歪みは緩和されたミスフィット歪みであり、前記緩和されたミスフィット歪みの値は、GaNの上に擬似格子整合するように成長したIn(x)Ga(1-x)Nのミスフィット歪みの50%未満である、先行する請求項のいずれか1項に記載の方法。
- 前記LED発光体は、動作時に、620nm以上の発光波長および20%以上の内部量子効率を有する、先行する請求項のいずれか1項に記載の方法。
- 前記ベース格子定数は面内格子定数であり、そのバルク平衡値の0.5%以下である、先行する請求項のいずれか1項に記載の方法。
- 前記活性領域は、絶対値が3%未満である圧縮ミスフィット歪みによって特徴付けられる、先行する請求項のいずれか1項に記載の方法。
- 前記歪み緩和は二軸性であり、前記In(x)Ga(1-x)N材料の前記表面は、2つの主要な面内方向に沿って等しい面内格子定数を有する、先行する請求項のいずれか1項に記載の方法。
- 前記LED領域におけるすべての層は、前記ベース領域の上に擬似格子整合するように成長する、先行する請求項のいずれか1項に記載の方法。
- 前記横方向成長領域は、前記平坦な上面の上に誘電体マスクを形成し、前記誘電体マスクに開口部を形成することによって規定される、先行する請求項のいずれか1項に記載の方法。
- 前記LED領域は、以下の形状、すなわちマイクロメサおよびナノワイヤ、のうちの一方を有する、先行する請求項のいずれか1項に記載の方法。
- 前記LED領域は5μm以下の横方向寸法を有する、先行する請求項のいずれか1項に記載の方法。
- 前記横方向成長領域は5μm以下の横方向寸法を有する、先行する請求項のいずれか1項に記載の方法。
- 前記LED領域は六角形の面内断面を有する、先行する請求項のいずれか1項に記載の方法。
- 前記基板は、サファイア、シリコン、およびGaN、のうちの1つである、先行する請求項のいずれか1項に記載の方法。
- 前記基板はc面方位を有する、先行する請求項のいずれか1項に記載の方法。
- 前記表面は、1E8/cm2以下の貫通転位密度によって特徴付けられる、先行する請求項のいずれか1項に記載の方法。
- 前記ベース領域の前記エピタキシャル成長および前記LED領域の前記エピタキシャル成長は別々のエピタキシャルステップで行われ、前記In(x)Ga(1-x)N材料の前記表面は再成長界面である、先行する請求項のいずれか1項に記載の方法。
- 前記III窒化物層および前記ベース領域はnドープされる、先行する請求項のいずれか1項に記載の方法。
- 前記LED領域を部材に取り付けて前記基板を除去することをさらに備える、先行する請求項のいずれか1項に記載の方法。
- LED発光体を形成する方法であって、前記方法は、
基板の上にIII窒化物層を設けることを備え、前記III窒化物層は平坦な上面を有し、前記方法はさらに、
前記平坦な上面の上に複数の離散的な横方向成長領域を設けることと、
各離散的な横方向成長領域の上に、In(x)Ga(1-x)N材料を含むベース領域を選択的にエピタキシャル成長させることとを備え、xは前記エピタキシャル成長時に前記ベース領域に歪み緩和をもたらすのに十分であり、その結果、組成In(y)Ga(1-y)N(y>5%である)と、そのバルク緩和値の1%以内の面内格子定数とを有する緩和表面が得られ、前記方法はさらに、
前記緩和表面の上にLED構造を選択的にエピタキシャル成長させることを備え、前記LED構造は、前記緩和表面と擬似格子整合し、少なくとも1つのIn(z)Ga(1-z)量子井戸(z>30%である)を含む、方法。 - 前記量子井戸は、2nm以上の厚さを有し、前記LED発光体の動作時に、少なくとも20%のピーク内部量子効率および620nmの発光波長で光を放出する、請求項58に記載の方法。
- 前記量子井戸は、GaNの上に成長したIn(z)Ga(1-z)の緩和のための臨界厚さよりも大きい厚さを有する、請求項58に記載の方法。
- 前記ベース層のIn%組成は、成長方向において、前記歪み緩和を容易にするのに十分な5%以上変化する、請求項58に記載の方法。
- 前記横方向成長領域は5μm以下の横方向寸法を有する、請求項58に記載の方法。
- 歪み緩和は、成長時の前記ベース領域材料の横方向の拡張によって容易になる、請求項58に記載の方法。
- 歪み緩和は、成長時の欠陥の形成によって容易になり、前記欠陥は、貫通転位、ミスフィット転位、およびVピット、のうちの1つである、請求項58に記載の方法。
- LED発光体を形成する方法であって、前記方法は、
基板の上にIII窒化物層を設けることを備え、前記III窒化物層は平坦な上面を有し、前記方法はさらに、
前記平坦な上面の上に少なくとも1つの青色LED構造を成長させることと、
前記平坦な上面の上に少なくとも1つの緑色LED構造を成長させることと、
前記平坦な上面の上に複数の離散的な横方向成長領域を設けることと、
各横方向成長領域の上にベース層を選択的にエピタキシャル成長させることとを備え、前記ベース層において歪みが緩和され、前記ベース層は、組成In(y)Ga(1-y)N(y>5%である)と、そのバルク緩和値の1%以内の面内格子定数とを有する緩和表面を有し、前記方法はさらに、
前記緩和表面の各々の上に赤色LED構造を成長させることを備える、方法。 - 前記青色および緑色LED構造は、前記平坦な上面の上に設けられた離散的な側方領域の上に選択的に成長する、請求項65に記載の方法。
- 前記赤色LED構造は前記青色および緑色LED構造の後に成長する、請求項65に記載の方法。
- 前記青色または緑色LED構造のうちの少なくとも一方は、前記赤色LED構造の成長時に誘電体マスクで覆われる、請求項67に記載の方法。
- LED発光体を形成する方法であって、前記方法は、
基板の上にIII窒化物層を設けることを備え、前記III窒化物層は平坦な上面を有し、前記方法はさらに、
前記上面の上に設けられた離散的な側方領域の上に、各々がInGaN材料を含む第1、第2および第3組のベース領域を形成することを備え、前記第1、第2および第3組のベース領域はIn組成x1、x2、x3によってそれぞれ特徴付けられ、x1>5%およびx1>x2>x3であり、前記方法はさらに、
それぞれの前記ベース領域の上に第1、第2および第3組のLED領域を同時に成長させることを備え、前記第1、第2および第3組のLED領域の活性領域はIn組成y1、y2、y3によってそれぞれ特徴付けられ、y1>y2>y3であり、前記第1、第2および第3組のLED領域は、前記LED発光体の動作時に青色、緑色および赤色光をそれぞれ放出する、方法。 - 各側方領域の横方向寸法は5μm以下である、請求項69に記載の方法。
- 前記第1、第2および第3のベース領域は第1、第2および第3の面内格子定数a1、a2およびa3によってそれぞれ特徴付けられ、a1>a2>a3である、請求項69に記載の方法。
- 格子定数の順序付けa1>a2>a3は、格子引張によって、組成の順序付けy1>y2>y3を容易にする、請求項71に記載の方法。
- 前記第1のベース領域は緩和され、そのバルク緩和値の1%以内の面内格子定数によって特徴付けられる、請求項69に記載の方法。
- 前記第1、第2および第3組のLED領域の同時成長に先立って、前記第1のベース領域または第1のLED領域を処理する間、前記第2および第3のベース領域はマスクで覆われる、請求項69に記載の方法。
- 前記ベース領域は、以下のステップ、すなわち、ドライエッチング、ウェットエッチング、研削、研磨、レーザリフトオフ、イオン注入および層劈開、ならびにレーザアブレーション、のうちの1つ以上によって少なくとも部分的に成形される、請求項69に記載の方法。
- 前記第1、第2および第3のベース領域のうちの少なくとも1つはナノ多孔質材料を含む、請求項69に記載の方法。
- LED発光体であって、
基板の上のIII窒化物層を備え、前記III窒化物層は平坦な上面を有し、前記LED発光体はさらに、
各々が前記平坦な上面の上の対応する離散的な横方向成長領域にエピタキシャル成長した複数のベース領域を備え、各ベース領域はIn(x)Ga(1-x)N材料を含み、各ベース領域は前記平坦な上面に対して垂直な方向に延在し、前記ベース領域の各々は前記In(x)Ga(1-x)N材料の表面を有し、前記表面は、前記平坦な上面における前記ベース領域の前記In(x)Ga(1-x)N材料に対して緩和された歪みを有し、前記In(x)Ga(1-x)N材料の前記表面は、そのバルク緩和値の0.1%以内のベース格子定数によって特徴付けられ、前記LED発光体はさらに、
各々が前記ベース領域のうちの対応する1つによって支持される複数のLED領域を備え、前記LED領域の各々は、前記In(x)Ga(1-x)N材料の前記表面と擬似格子整合するIn(y1)Ga(1-y1)N材料の発光層を含み、前記ベース格子定数の0.1%以内の活性領域の格子定数によって特徴付けられ、
0.05<x<0.2およびy>0.3である、LED発光体。 - 前記ベース領域のIn組成は、前記平坦な上面に対して垂直な方向に沿って少なくとも5%変化する、請求項77に記載のLED発光体。
- 前記In組成は、前記平坦な上面に対して垂直な方向に沿って少なくとも5%変化する、請求項78に記載のLED発光体。
- 前記ベース領域およびLED領域はメサを形成し、前記平坦な上面と反対側の各メサの表面は、前記横方向成長領域の横方向寸法よりも小さい横方向寸法を有する、請求項77に記載のLED発光体。
- 前記メサは傾斜側壁を含む、請求項80に記載のLED発光体。
- 前記側壁は半極性ファセットに対応する、請求項81に記載のLED発光体。
- 前記ベース領域は前記側壁の上にパッシベーション層を含む、請求項80に記載のLED発光体。
- 前記LED発光体の発光領域は、中心領域に対応する中心面積と、周辺領域に対応する周辺面積とを含む総面積を有し、前記周辺面積は前記総面積の10%以上であり、前記LED発光体の動作時に、前記活性領域から放出される光の5%以下は前記周辺領域から生じる、請求項80に記載のLED発光体。
- 前記活性領域は、前記中心領域において、前記周辺領域よりも少なくとも1%In高いIn組成を有する、請求項84に記載のLED発光体。
- 前記活性領域は、前記周辺領域よりも前記中心領域の方が薄い、請求項84に記載のLED発光体。
- 前記ベース領域およびLED領域はメサを形成し、各メサの一部は前記横方向成長領域の上を横方向に延在する、請求項77に記載のLED発光体。
- 前記ベース領域は複数のベース領域であり、第1の複数のベース領域であり、前記LED発光体はさらに、第2の複数のベース領域によって支持されるIn(y2)Ga(1-y2)N材料の発光層を含む第2のLED領域と、第3の複数のベース領域によって支持されるIn(y3)Ga(1-y3)N材料の発光層を含む第3のLED領域とを備え、
y1>y2>y3であり、前記第1、第2および第3のLED領域は、動作時に赤色、緑色および青色光をそれぞれ放出する、請求項77に記載のLED発光体。 - 前記第1、第2および第3の複数のベース領域の対応する表面は、面内格子定数a1、a2およびa3をそれぞれ有し、a1>a2>a3である、請求項88に記載のLED発光体。
- 請求項88に記載のLED発光体を備える、画素を含むディスプレイ。
- 前記LED発光体は、動作時に、620nm以上の発光波長および20%以上の内部量子効率を有する、請求項77に記載のLED発光体。
- 前記ベース格子定数は面内格子定数であり、そのバルク平衡値の0.5%以下である、請求項77に記載のLED発光体。
- 前記LED領域は、以下の形状、すなわちマイクロメサおよびナノワイヤ、のうちの一方を有する、請求項77に記載のLED発光体。
- 前記LED領域は5μm以下の横方向寸法を有する、請求項77に記載のLED発光体。
- 前記LED領域は六角形の面内断面を有する、請求項77に記載のLED発光体。
- 前記基板は、サファイア、シリコン、およびGaN、のうちの1つである、請求項77に記載のLED発光体。
- 前記基板はc面方位を有する、請求項77に記載のLED発光体。
- 前記表面は、1E8/cm2以下の貫通転位密度によって特徴付けられる、請求項77に記載のLED発光体。
- 前記III窒化物層および前記ベース領域はnドープされる、請求項77に記載のLED発光体。
- LED発光体であって、
基板の上のIII窒化物層を備え、前記III窒化物層は平坦な上面を有し、前記LED発光体はさらに、
前記平坦な上面の上の複数の離散的な横方向成長領域と、
各々が前記平坦な上面の上の対応する離散的な横方向成長領域にエピタキシャル成長した複数のベース領域と備え、各ベース領域はIn(x)Ga(1-x)N材料を含み、xは前記ベース領域に歪み緩和をもたらすのに十分であり、その結果、組成In(y)Ga(1-y)N(y>5%である)と、そのバルク緩和値の1%以内の面内格子定数とを有する緩和表面が得られ、前記LED発光体はさらに、
前記緩和表面と擬似格子整合する、前記緩和表面の上の複数のLED構造を備え、前記複数のLED構造の各々は少なくとも1つのIn(z)Ga(1-z)量子井戸(z>30%である)を含む、LED発光体。 - 前記量子井戸は、2nm以上の厚さを有し、前記LED発光体の動作時に、少なくとも20%のピーク内部量子効率および620nmの発光波長で光を放出する、請求項100に記載のLED発光体。
- 前記量子井戸は、GaNの上に成長したIn(z)Ga(1-z)の緩和のための臨界厚さよりも大きい厚さを有する、請求項100に記載のLED発光体。
- 前記ベース層のIn%組成は、成長方向において、前記歪み緩和を容易にするのに十分な5%以上変化する、請求項100に記載のLED発光体。
- LED発光体であって、
基板の上のIII窒化物層を備え、前記III窒化物層は平坦な上面を有し、前記LED発光体はさらに、
前記平坦な上面の上の少なくとも1つの青色LED構造と、
前記平坦な上面の上の少なくとも1つの緑色LED構造と、
前記平坦な上面の上の少なくとも1つの赤色LED構造とを備え、前記赤色LED構造は、前記平坦な上面の上の対応する離散的な横方向成長領域にエピタキシャル成長したベース層を含み、
前記ベース層において歪みが緩和され、前記ベース層は、組成In(y)Ga(1-y)N(y>5%である)と、そのバルク緩和値の1%以内の面内格子定数とを有する緩和表面を有する、LED発光体。 - LED発光体であって、
基板の上のIII窒化物層を備え、前記III窒化物層は平坦な上面を有し、前記LED発光体はさらに、
各々が前記上面の上の対応する離散的な側方領域に形成された第1、第2および第3組のベース領域を備え、前記第1、第2および第3組のベース領域の各々はInGaN材料を含み、前記第1、第2および第3組のベース領域はIn組成x1、x2およびx3によってそれぞれ特徴付けられ、x1>5%およびx1>x2>x3であり、前記LED発光体はさらに、
それぞれの前記ベース領域の上の第1、第2および第3組のLED領域を備え、前記第1、第2および第3組のLED領域の活性領域はIn組成y1、y2およびy3によってそれぞれ特徴付けられ、y1>y2>y3であり、前記第1、第2および第3組のLED領域は、前記LED発光体の動作時に青色、緑色および赤色光をそれぞれ放出する、LED発光体。 - 各側方領域の横方向寸法は5μm以下である、請求項105に記載のLED発光体。
- 前記第1、第2および第3のベース領域は第1、第2および第3の面内格子定数a1、a2およびa3によってそれぞれ特徴付けられ、a1>a2>a3である、請求項105に記載のLED発光体。
- 前記第1のベース領域は緩和され、そのバルク緩和値の1%以内の面内格子定数によって特徴付けられる、請求項105に記載のLED発光体。
- 前記第1、第2および第3のベース領域のうちの少なくとも1つはナノ多孔質材料を含む、請求項105に記載のLED発光体。
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