JP2023512880A - シーラント組成物 - Google Patents

Abstract

硬化して、高い移動能力を有する非汚染性（清浄）シーラントとして使用され得る低弾性率シリコーンエラストマーになる、（ｉ）チタネート及び／又はジルコネート、並びに（ｉｉ）金属カルボン酸塩を含む触媒を含有する、一液型低弾性率室温加硫性（ＲＴＶ）シリコーン組成物。【選択図】なし

Description

本出願は、硬化して、高い移動能力（movement capability）を有する非汚染性（清浄）シーラントとして使用され得る低弾性率シリコーンエラストマーになる、（ｉ）チタネート及び／又はジルコネート、並びに（ｉｉ）金属カルボン酸塩を含む触媒を含有する、一液型低弾性室温加硫性（room temperature vulcanisable、ＲＴＶ）シリコーン組成物に関する。

室温加硫性（ＲＴＶ）シリコーンゴム組成物（以下、「ＲＴＶ組成物」と称される）は、周知である。一般に、そのような組成物は、－ＯＨ末端ブロック化ジオルガノポリシロキサンポリマー又はアルコキシ末端ブロック化ポリジオルガノシロキサンを含み、これは、末端ケイ素原子間のアルキレン結合と、－ＯＨ及び／又はアルコキシ基と反応し、それによって組成物を架橋して、エラストマーシーラント生成物を形成するように設計された１つ以上の好適な架橋剤と、を有し得る。触媒、補強性充填剤、非補強性充填剤、希釈剤（例えば、可塑剤及び／又は延長剤）、鎖延長剤、難燃剤、耐溶剤添加剤、殺生物剤などの１つ以上の追加の成分もまた、必要に応じてこれらの組成物に多くの場合組み込まれる。それらは、一液型組成物又は多液型組成物であり得る。一液型組成物は、一般に、早期硬化を防止するために実質的に無水形態で保存される。これらの組成物における湿気の主な供給源は、唯一ではないにしても、無機充填剤、例えば、存在する場合シリカである。当該充填剤は、他の成分と混合する前に無水にされ得るか、又は混合プロセス中に混合物から水／湿気が抽出されて、得られたシーラント組成物が実質的に無水であることを確実にし得る。

少なくとも１つのＳｉ－アルコキシ結合、例えば、末端反応性シリル基中のＳｉ－メトキシ結合を有し、ポリジオルガノシロキサンポリマー骨格を有するシリコーンシーラント組成物は、それらが低い粘度並びに良好な水分透過性、接着性、及び耐候性を有するため、建設産業におけるシーラントに広く使用されている。このようなシーラントは、多くの場合、少量の応力によって高度に伸縮することができる低弾性率硬化生成物を提供するために必要とされる。建設産業はまた、塗布前に成分を混合する必要性が不要になる一成分型組成物及び優れた作業性を有する組成物も好む。

低弾性率室温加硫性（ＲＴＶ）シリコーン組成物は、多種多様な用途で使用され得る。例えば、それらは、高速道路シーラントとして、そしてより最近、建築物建築産業においてかなりの商業的成功を達成している。高層建築物の建設などの特定の用途では、窓ガラスを建築物構造のフレーム（金属又は他のもの）に接着するための低弾性率シーラント及び／又は接着剤を利用することが、望ましく、多くの場合重要である。低弾性率特性は、結果として得られる硬化シリコーンエラストマーが、凝集又は接着破壊を引き起こすことなく、風などによる建物の動きによって容易に圧縮及び膨張することを可能にする。

実際、「鏡のような」高層建築物、すなわち、建築物の外部が大きな鏡である外観を有する高層建築物に対する最近の建築傾向は、審美的かつエネルギー節約の理由の両方のために、そのような効果をもたらすための好適な低弾性率シリコーンシーラントを提供することへの大きな関心の存在をもたらしている。

低弾性率シーラントは、典型的には、反応基で末端ブロックされるが、低架橋密度を有する架橋エラストマー生成物を生成するために、ポリマー鎖に沿ってケイ素原子に結合している低レベルの反応基を有する、高い分子量／鎖長のポリジオルガノシロキサンポリマーに依存する。そのようなポリマーは、多くの場合、好適な反応性シランが組成物の硬化中に鎖延長剤として利用され得る鎖延長プロセスを使用して調製されている。しかしながら、そのような高分子量ポリマーの使用は、典型的には、特に補強性充填剤も組成物に導入される場合、高粘度組成物をもたらす。

補強性充填剤は、組成物のコスト及びレオロジーの両方と、耐摩耗性、引張及び引き裂き強度、硬度、並びに弾性率などの、硬化時に組成物から形成された結果として得られるエラストマー材料の物理的特性とに重要な寄与をもたらす。例えば、微粒子ヒュームドシリカは、シリコーンシーラントが硬化エラストマーの強度を改善するために作製される組成物において使用される。充填剤並びに液体組成物中の高分子量ポリマーを含めることは、組成物の硬化及び組成物の流動性の低下をもたらし、その結果、より大量の充填剤が使用される場合の組成物の所望の均質混合状態を達成するための、混合中の増加し加えられた剪断に対する必要性をもたらす。これは、多くの場合、ガン塗布可能（gunnable）である、すなわち、シーラントガンを使用してシーラントチューブから未硬化のシーラントを押し出す手段によって塗布されるようにされる、室温硬化材料における主要な問題であり得る。

非反応性液体可塑剤／延長剤（プロセス助剤と呼ばれることもある）の導入は、低弾性率シーラントを生成するために利用されている。それらは、未硬化組成物の粘度を低下させる手段として使用される。しかしながら、硬化すると、シーラント内の未反応性液体は、移動し、潜在的にシーラントからしみ出す場合があり、長期間にわたって、シーラント破損をもたらす可能性があり、多くの場合隣接する基材中／上の汚染及び変色を引き起こす。

別の公知の問題は、スズ（ｉｖ）触媒がシーラント組成物において使用される場合、結果として得られるエラストマーでは、硬化時に、例えば、建築物が、例えば、延長した寿命にわたる天候条件により動く場合の膨張及び回復する能力が損なわれる傾向があるように理解される。このタイプの生成物は、低弾性率シーラントが、多くの場合高弾性率シーラントよりも低い回復特性を有するように見出されるため、膨張及び収縮に追従することができない。

アルコキシチタン化合物、すなわちアルキルチタネートが一成分型水分硬化性シリコーンを配合するための好適な触媒であることは、当業者に周知である（参考文献：Ｎｏｌｌ，Ｗ．；Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ ａｎｄ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ ｏｆ Ｓｉｌｉｃｏｎｅｓ，Ａｃａｄｅｍｉｃ Ｐｒｅｓｓ Ｉｎｃ．，Ｎｅｗ Ｙｏｒｋ，１９６８，ｐ．３９９，Ｍｉｃｈａｅｌ Ａ．Ｂｒｏｏｋ，ｓｉｌｉｃｏｎ ｉｎ ｏｒｇａｎｉｃ，ｏｒｇａｎｏｍｅｔａｌｌｉｃ ａｎｄ ｐｏｌｙｍｅｒ ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ，Ｊｏｈｎ Ｗｉｌｅｙ＆ｓｏｎｓ，Ｉｎｃ．（２０００），ｐ．２８５）。チタネート触媒は、スキン／拡散硬化した一液型縮合硬化型シリコーン組成物におけるそれらの使用について、広く記載されている。スキン又は拡散硬化（例えば、湿気／縮合）は、シーラント／封入材が基材表面に塗布された後、組成物／空気界面での硬化スキンの初期形成によって生じる。表面スキンの形成の後、硬化速度は、シーラント／封入材と空気との界面からの内部（又はコア）への水分の拡散速度、並びに、材料の内部（又はコア）から外部（又は表面）への縮合反応副生成物／排出物の拡散及び時間の経過による外部／表面から内部／コアへの硬化スキンの漸進的増粘によって変動する。これらの組成物は、典型的には、使用時に組成物が１５ｍｍ以下の層で塗布される用途において使用される。１５ｍｍより厚い層は、水分が非常に深い区分に拡散するのが非常に遅いため、そうでなければ硬化したエラストマーの深さに存在する未硬化材料をもたらすことが知られている。

本明細書の開示は、硬化時に、例えば、１００％伸びで０．４ＭＰａ以下の低弾性率を有するシーラントを提供し、花崗岩、石灰石、大理石、石積み、金属及び複合パネルのような多孔質基材に対して非汚染（清浄）である、一液型低弾性率室温加硫性（ＲＴＶ）シリコーン組成物を提供しようとするものである。

一液型縮合硬化性低弾性率室温加硫性（ＲＴＶ）シリコーン組成物であって、
（ａ）組成物の３５～６０重量％の量の、次の式の１分子当たり少なくとも２つのヒドロキシル基又は加水分解性基を有するオルガノポリシロキサンポリマーであって、

式中、各Ｘは、独立して、ヒドロキシル基又は加水分解性基であり、各Ｒは、アルキル、アルケニル、又はアリール基であり、各Ｒ^１は、Ｘ基、アルキル基、アルケニル基、又はアリール基であり、Ｚは、二価有機基であり、
ｄは、０又は１であり、ｑは、０又は１であり、ｄ＋ｑ＝１であり、ｎは、０、１、２、又は３であり、ｙは、０、１、又は２であり、かつ優先的に２であり、ｚは、当該オルガノポリシロキサンポリマーが、２５℃で、３０，０００～８０，０００ｍＰａ・ｓ、あるいは２５℃で、４０，０００～７５，０００ｍＰａ・ｓの粘度を有するような整数である、オルガノポリシロキサンポリマーと、
（ｂ）組成物の３０～５５重量％の量の疎水的に処理された補強性充填剤と、
（ｃ）組成物の０．５～５重量％の量の１つ以上の二官能性シランと、
（ｄ）（ｉ）チタネート及び／又はジルコネート、並びに（ｉｉ）金属カルボン酸塩を含む触媒と、
（ｅ）組成物の０．１～１重量％の量の接着促進剤と、
（ｆ）組成物の０～３重量％の量の少なくとも３つの官能基を有する１つ以上の反応性シランと、を含む一液型縮合硬化性低弾性率室温加硫性（ＲＴＶ）シリコーン組成物が、提供される。

本明細書では、全ての成分を一緒に混合することによって、上記組成物を作製する方法も提供される。

本明細書では、先に記載されたような組成物の硬化生成物であるエラストマーシーラント材料も提供される。

ファサード、絶縁ガラス、窓建設、自動車、ソーラー、及び建設分野におけるシーラントとしての、上記組成物の使用も提供される。

２つの基材間の封止をもたらすようにそれらの間の空間を充填するための方法であって、
ａ）先に記載されたようなシリコーン組成物を用意することと、
ｂ）シリコーン組成物を、第１の基材に塗布し、第２の基材を、第１の基材に塗布されているシリコーン組成物と接触させること、又は
ｃ）第１の基材及び第２の基材の配置によって形成された空間を、シリコーン組成物で充填し、シリコーン組成物を硬化させることのいずれかと、を含む、方法も提供される。

本明細書で使用する場合、「含む（comprising）」の観念は、その最も広い意味で使用され、「含む（include）」、及び「からなる（consist of）」という概念を意味し、これを包含する。

本出願の目的で、「置換」とは炭化水素基中の１個以上の水素原子が別の置換基で置換されていることを意味する。このような置換基の例としては、塩素、フッ素、臭素及びヨウ素などのハロゲン原子；クロロメチル基、ペルフルオロブチル基、トリフルオロエチル基、及びノナフルオロヘキシル基などのハロゲン原子含有基；酸素原子；（メタ）アクリル基及びカルボキシル基などの酸素原子含有基；窒素原子；アミノ官能基、アミド官能基、及びシアノ官能基などの窒素原子含有基；硫黄原子；並びにメルカプト基などの硫黄原子含有基が挙げられるが、これらに限定されない。

組成物は、好ましくは、加熱することなく室温で硬化するという点で、室温加硫性組成物であるが、適切と考えられる場合、加熱により促進され得る。

オルガノポリシロキサンポリマー（ａ）は、次の式の１分子当たり少なくとも２つのヒドロキシル基又は加水分解性基を有し、

式中、各Ｘは、独立して、ヒドロキシル基又は加水分解性基であり、各Ｒは、アルキル、アルケニル、又はアリール基であり、各Ｒ^１は、Ｘ基、アルキル基、アルケニル基、又はアリール基であり、Ｚは、二価有機基であり、
ｄは、０又は１であり、ｑは、０又は１であり、ｄ＋ｑ＝１であり、ｎは、０、１、２、又は３であり、ｙは、０、１、又は２であり、ｚは、当該オルガノポリシロキサンポリマー（ａ）が、ＡＳＴＭ Ｄ １０８４－１６に準拠し、１ｒｐｍでスピンドルＣＰ－５２を有するブルックフィールド回転粘度計を使用して、２５℃で、３０，０００～８０，０００ｍＰａ・ｓ、あるいは２５℃で、４０，０００～７５，０００ｍＰａ・ｓの粘度を有するような整数である。

オルガノポリシロキサン（ａ）の各Ｘ基は、同じであっても異なっていてもよく、ヒドロキシル基、又は縮合性若しくは加水分解性基であり得る。用語「加水分解性基」は、室温で水によって加水分解されるケイ素に結合した任意の基を意味する。加水分解性基Ｘは、式－ＯＴの基を含み、式中、Ｔは、メチル、エチル、イソプロピル、オクタデシルなどのアルキル基、アリル、ヘキセニルなどのアルケニル基、シクロヘキシル、フェニル、ベンジル、β－フェニルエチルなどの環状基、２－メトキシエチル、２－エトキシイソプロピル、２－ブトキシイソブチル、ｐ－メトキシフェニル、又は－（ＣＨ_２ＣＨ_２Ｏ）_２ＣＨ_３などの炭化水素エーテル基である。

最も好ましいＸ基は、ヒドロキシル基又はアルコキシ基である。例示的なアルコキシ基は、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキシ、イソブトキシ、ペントキシ、ヘキソキシオクタデシルオキシ、及び２－エチルヘキソキシ、メトキシメトキシ又はエトキシメトキシなどのジアルコキシ基、エトキシフェノキシなどのアルコキシアリールオキシである。最も好ましいアルコキシ基は、メトキシ基あるいはエトキシ基である。ｄ＝１の場合、ｎは、典型的には０又は１であり、各Ｘは、アルコキシ基、あるいは１～３個の炭素を有するアルコキシ基、あるいはメトキシ又はエトキシ基である。そのような場合、オルガノポリシロキサンポリマー（ａ）は、以下の構造を有し、
Ｘ_３－ｎＲ_ｎＳｉ－（Ｚ）－（Ｒ^１ _ｙＳｉＯ_{（４－ｙ）／２}）_ｚ－（ＳｉＲ^１ _２－Ｚ）－Ｓｉ－Ｒ_ｎＸ_３－ｎ
式中、Ｒ、Ｒ^１、Ｚ、ｙ、及びｚは、以前に上で特定されたのと同じであり、ｎは、０又は１であり、各Ｘは、アルコキシ基である。

各Ｒは、アルキル基、あるいは１～１０個の炭素原子、あるいは１～６個の炭素原子、あるいは１～４個の炭素原子を有するアルキル基、あるいはメチル又はエチル基、アルケニル基、あるいは２～１０個の炭素原子、あるいは２～６個の炭素原子を有するアルケニル基、例えば、ビニル、アリル、及びヘキセニル基、芳香族基、あるいは６～２０個の炭素原子を有する芳香族基、３，３，３－トリフルオロプロピル基などの置換脂肪族有機基、アミノアルキル基、ポリアミノアルキル基、及び／又はエポキシアルキル基、から個別に選択される。

各Ｒ^１は、Ｘ又はＲからなる群から個別に選択されるが、但し、１分子当たり累積で少なくとも２つのＸ基及び／又はＲ^１基は、ヒドロキシル基又は加水分解性基である。いくつかのＲ^１基は、ポリマー主鎖からの、シロキサン分岐であり得、その分岐は、先に記載されたような末端基を有し得ることが可能である。最も好ましいＲ^１は、メチルである。

各Ｚは、独立して、１～１０個の炭素原子を有するアルキレン基から選択される。一代替例では、各Ｚは、独立して、２～６個の炭素原子を有するアルキレン基から選択され、更なる代替例では、各Ｚは、独立して、２～４個の炭素原子を有するアルキレン基から選択される。各アルキレン基は、例えば、エチレン、プロピレン、ブチレン、ペンチレン、及び／又はヘキシレン基から個別に選択され得る。

加えて、ｎは、０、１、２、又は３であり、ｄは、０又は１であり、ｑは、０又は１であり、ｄ＋ｑ＝１である。一代替では、ｑが１である場合、ｎは、１又は２であり、各Ｘは、ＯＨ基又はアルコキシ基である。別の代替例では、ｄが１である場合、ｎは、０又は１であり、各Ｘは、アルコキシ基である。

オルガノポリシロキサンポリマー（ａ）は、ＡＳＴＭ Ｄ １０８４－１６に準拠し、１ｒｐｍでスピンドルＣＰ－５２を有するブルックフィールド回転粘度計を使用して、２５℃で、３０，０００～８０，０００ｍＰａ・ｓ、あるいは２５℃で、４０，０００～７５，０００ｍＰａ・ｓの粘度を有し、ｚは、したがって、そのような粘度を可能にする整数であり、あるいはｚは、３００～５０００の整数である。ｙは、０、１、又は２であるが、実質的にｙ＝２であり、例えば、Ｒ^１ _ｙＳｉＯ_{（４－ｙ）／２}基の少なくとも９０％、あるいは９５％が、ｙ＝２で特徴付けられる。

オルガノポリシロキサンポリマー（ａ）は、式（１）によって表される単一のシロキサンであり得るか、又は上記式によって表されるオルガノポリシロキサンポリマーの混合物であり得る。したがって、オルガノポリシロキサンポリマー（ａ）に関する「シロキサンポリマー混合物」という用語は、任意の個々のオルガノポリシロキサンポリマー（ａ）又はオルガノポリシロキサンポリマー（ａ）の混合物を含むことを意味する。

重合度（Degree of Polymerization、ＤＰ）（すなわち、実質的に上記式におけるｚ）は、通常、シリコーンの巨大分子若しくはポリマー又はオリゴマー分子中のモノマー単位の数として定義される。合成ポリマーは、異なる重合度を有する巨大分子種、したがって異なる分子量を有する巨大分子種の混合物から本質的になる。異なるタイプの平均ポリマー分子量が存在し、それらは異なる実験で測定することができる。２つの最重要のものは、数平均分子量（number average molecular weight、Ｍｎ）及び重量平均分子量（weight average molecular weight、Ｍｗ）である。シリコーンポリマーのＭｎ及びＭｗは、ゲル浸透クロマトグラフィ（Gel permeation chromatography、ＧＰＣ）によって、約１０～１５％の精度で測定することができる。この技術は標準的であり、Ｍｗ、Ｍｎ、及び多分散指数（polydispersity index、ＰＩ）が得られる。重合度（ＤＰ）＝Ｍｎ／Ｍｕであり、式中、ＭｎはＧＰＣ測定からの数平均分子量であり、Ｍｕはモノマー単位の分子量である。ＰＩ＝Ｍｗ／Ｍｎである。ＤＰは、Ｍｗによりポリマーの粘度に関連し、ＤＰが高くなるほど粘度が高くなる。オルガノポリシロキサンポリマー（ａ）は、組成物の３５～６０重量％、あるいは３５～５５％、あるいは４０～５５重量％の量で、組成物中に存在する。

補強性充填剤（ｂ）は、例えば、シリカ若しくは沈殿炭酸カルシウムを有する粉砕炭酸カルシウムなどの、米包灰又はその混合物を含む、沈殿炭酸カルシウム、粉砕炭酸カルシウムヒュームドシリカ、コロイダルシリカ及び／又は沈殿シリカなどの１つ以上の細かく分割された補強性充填剤を含む。典型的には、補強性充填剤（ｂ）の表面積は、ＢＥＴ法（ＩＳＯ ９２７７：２０１０）に準拠して測定して、沈降炭酸カルシウムの場合、少なくとも１５ｍ^２／ｇ以上、あるいは沈降炭酸カルシウムの場合、１５～５０ｍ^２／ｇ、あるいは１５～２５ｍ^２／ｇである。シリカ補強性充填剤は、少なくとも５０ｍ^２／ｇの典型的な表面積を有する。一実施形態では、補強性充填剤（ｂ）は、沈降炭酸カルシウム、沈降シリカ及び／又はヒュームドシリカ、あるいは沈降炭酸カルシウムである。高表面積ヒュームドシリカ及び／又は高表面積沈降シリカの場合、これらは、ＢＥＴ法（ＩＳＯ ９２７７：２０１０）に準拠して測定して、７５～４００ｍ^２／ｇ、あるいはＢＥＴ法（ＩＳＯ ９２７７：２０１０）に準拠して、１００～３００ｍ^２／ｇの表面積を有し得る。ヒュームドシリカの粒子サイズは、補強性充填剤について５０ｎｍ未満、かつ／又は典型的には、半補強性充填剤について７０～１５０ｍｎであり得る。

典型的には、補強性充填剤は、組成物の３０～５５重量％の量で組成物中に存在する。

補強性充填剤（ｂ）は、例えば１つ以上の脂肪酸、例えばステアリン酸などの脂肪酸、若しくはステアレートなどの脂肪酸エステルで、又はオルガノシラン、ポリジオルガノシロキサン、若しくはオルガノシラザンヘキサアルキルジシラザン、又は短鎖シロキサンジオールで、疎水性処理して、充填剤を疎水性にし、ひいては他の接着剤構成成分との均質混合物の取扱い及び入手をより容易にする。充填剤の表面処理は、ベース構成成分のオルガノシロキサンポリマー（ａ）によってそれらを容易に濡らす。これらの表面改質充填剤は、固まらず、組成物のオルガノシロキサンポリマー（ａ）に均質に組み込まれ得る。これによって、未硬化組成物の室温での機械的特性が改善される。充填剤は、前処理され得るか、又はオルガノポリシロキサンポリマー（ａ）と混合される場合、その場で処理され得る。

本明細書の組成物はまた、少なくとも１つの二官能性シラン（ｃ）を含む。二官能性シラン（ｃ）は、オルガノポリシロキサンポリマー（ａ）の架橋剤及び／又は鎖延長剤として利用される。
二官能性シランは、以下の構造を有し得、
（Ｒ^６）_２－Ｓｉ－（Ｒ^７）_２
式中、各Ｒ^６は、オルガノポリシロキサンポリマー（ａ）の－ＯＨ基又は加水分解性基と非反応性であるという点で、同じであっても異なっていてもよいが、非官能基である。したがって、各Ｒ^６基は、１～１０個の炭素原子を有するアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、又はフェニルなどのアリール基から選択される。一代替例では、Ｒ^６基は、アルキル基又はアルケニル基のいずれかであり、あるいは１分子当たり１つのアルキル基及び１つのアルケニル基が存在し得る。アルケニル基は、例えば、ビニル、プロペニル、及びヘキセニル基などの直鎖又は分岐状アルケニル基から選択され得、アルキル基は、メチル、エチル、又はイソプロピルなどの１～１０個の炭素原子を有する。

それぞれの基Ｒ^７は、同じであっても異なっていてもよく、水酸基又は加水分解性基と反応可能である。基Ｒ^７の実施例としては、アルコキシ、アセトキシ、オキシム、ヒドロキシ、及び／又はアセトアミド基が挙げられる。あるいは、各Ｒ^７は、アルコキシ基又はアセトアミド基のいずれかであり得る。Ｒ^７がアルコキシ基である場合、１～１０個の炭素原子を有する当該アルコキシ基、例えばメトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロプロキシ、ブトキシ、及びｔ－ブトキシ基。本明細書の構成成分（ｃ）のための好適なシランの具体例としては、ビニルメチルジメトキシシラン、ビニルエチルジメトキシシラン、ビニルメチルジエトキシシラン、ビニルエチルジエトキシシランなどのアルケニルアルキルジアルコキシシラン、ビニルメチルジオキシモシラン、ビニルエチルジオキシモシラン、ビニルメチルジオキシモシラン、ビニルエチルジオキシモシランなどのアルケニルアルキルジオキシモシラン、ビニルメチルジアセトキシシラン、ビニルエチルジアセトキシシラン、ビニルメチルジアセトキシシラン、ビニルエチルジアセトキシシランなどのアルケニルアルキルジアセトキシシラン、並びにビニルメチルジヒドロキシシラン、ビニルエチルジヒドロキシシラン、ビニルメチルジヒドロキシシラン及びビニルエチルジヒドロキシシランなどのアルケニルアルキルジヒドロキシシランが挙げられる。

Ｒ^７がアセトアミドである場合、ジシロキサンは、ジアルキルジアセトアミドシラン又はアルキルアルケニルジアセトアミドシランであり得る。そのようなジアセトアミドシランは、例えば、米国特許第５０１７６２８号及び同第３９９６１８４号に記載されているような低弾性率シーラント配合物のための公知の鎖延長材料である。ジアセトアミドシランは、例えば、次の構造を有し得、
ＣＨ_３－Ｃ（＝Ｏ）－ＮＲ^３－Ｓｉ（Ｒ^２）_２－ＮＲ^３－Ｃ（＝Ｏ）－ＣＨ_３
式中、各Ｒ^３は、同じであっても異なっていてもよく、上記で定義されるようなＲと同じであってもよく、あるいは、各Ｒ^３は同じであっても異なっていてもよく、１～６個の炭素、あるいは１～４個の炭素を有するアルキル基を含んでもよい。各Ｒ^２はまた、同じであっても異なっていてもよく、また、上記で定義されるようなＲと同じであってもよく、１～６個の炭素、あるいは１～４個の炭素を有するアルキル基、又は２～６個の炭素、あるいは２～４個の炭素を有するアルケニル基、あるいはビニルを含んでもよい。使用中、ジアセトアミドシランは、以下のうちの１つ以上から選択され得る。－
Ｎ，Ｎ’－（ジメチルシリレン）ビス［Ｎ－メチルアセトアミド］
Ｎ，Ｎ’－（ジメチルシリレン）ビス［Ｎ－エチルアセトアミド］
Ｎ，Ｎ’－（ジエチルシリレン）ビス［Ｎ－メチルアセトアミド］
Ｎ，Ｎ’－（ジエチルシリレン）ビス［Ｎ－エチルアセトアミド］
Ｎ，Ｎ’－（ジメチルシリレン）ビス［Ｎ－プロピルアセトアミド］
Ｎ，Ｎ’－（ジエチルシリレン）ビス［Ｎ－プロピルアセトアミド］
Ｎ，Ｎ’－（ジプロピルシリレン）ビス［Ｎ－メチルアセトアミド］
Ｎ，Ｎ’－（ジプロピルシリレン）ビス［Ｎ－エチルアセトアミド］
Ｎ，Ｎ’－（メチルビニルシリレン）ビス［Ｎ－エチルアセトアミド］
Ｎ，Ｎ’－（エチルビニルシリレン）ビス［Ｎ－エチルアセトアミド］
Ｎ，Ｎ’－（プロピルビニルシリレン）ビス［Ｎ－エチルアセトアミド］
Ｎ，Ｎ’－（メチルビニルシリレン）ビス［Ｎ－メチルアセトアミド］
Ｎ，Ｎ’－（エチルビニルシリレン）ビス［Ｎ－メチルアセトアミド］及び／又は
Ｎ，Ｎ’－（プロピルビニルシリレン）ビス［Ｎ－メチルアセトアミド］。
代替例では、ジアルキルジアセトアミドシランは、Ｎ，Ｎ’－（ジメチルシリレン）ビス［Ｎ－エチルアセトアミド］及び／又はＮ，Ｎ’－（ジメチルシリレン）ビス［Ｎ－メチルアセトアミド］から選択されるジアルキルジアセトアミドシランであり得る。あるいは、ジアルキルジアセトアミドシランは、Ｎ，Ｎ’－（ジメチルシリレン）ビス［Ｎ－エチルアセトアミド］である。

二官能性シラン（ｃ）は、組成物の０．５～５重量％の量で存在する。

先に記載されたように、触媒（ｄ）は、（ｉ）チタネート及び／又はジルコネート、並びに（ｉｉ）金属カルボン酸塩を含む触媒である。本明細書で定義されるようなシーラント組成物に含めるために選択される触媒（ｄ）中のチタネート及び／又はジルコネート（ｉ）は、必要な硬化速度に依存する。チタネート及び／又はジルコネート系触媒は、一般式Ｔｉ［ＯＲ^９］_４又はＺｒ［ＯＲ^９］_４に従う化合物を含み得、式中、各Ｒ^９は、同じでも異なっていてもよく、１～１０個の炭素原子を含有する直鎖状又は分岐状であり得る一価の、一級、二級、又は三級脂肪族炭化水素基を表す。任意選択的に、チタネート及び／又はジルコネート系触媒は、部分不飽和基を含有し得る。しかしながら、Ｒ^９の好ましい例としては、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、三級ブチル、及び２，４－ジメチル－３－ペンチルなどの分岐状二級アルキル基が挙げられるが、これらに限定されない。好ましくは、各Ｒ^９が同じである場合、Ｒ^９は、イソプロピル、分岐状二級アルキル基又は三級アルキル基、特に三級ブチルである。好適な例としては、例えばテトラ－ｎ－ブチルチタネート、テトラ－ｔ－ブチルチタネート、テトラ－ｔ－ブトキシチタネート、テトライソプロポキシチタネート、及びジイソプロポキシジエチルアセトアセテートチタネート（並びにジルコネートの均等物）が挙げられる。あるいは、チタネート／ジルコネートは、キレート化され得る。キレート化は、アルキルアセチルアセトネート、例えばメチル又はエチルアセチルアセトネートなどの、任意の好適なキレート剤によってもよい。あるいは、チタネートは、３つのキレート剤をもたらすモノアルコキシチタネート、例えば２－プロパノラト、トリスイソオクタデカノアトチタネートであってもよい。

本開示では、触媒（ｄ）はまた、金属が、亜鉛、アルミニウム、ビスマス、鉄、及び／又はジルコニウムのうちの１つ以上から選択される（ｉｉ）金属カルボン酸塩も含む。カルボキシレート基は、式Ｒ^１５ＣＯＯ^－のものであり、Ｒ^１５は、水素、アルキル基、アルケニル基、及びアリール基から選択される。Ｒ^１５に対する有用なアルキル基の例としては、１～１８個の炭素原子、あるいは１～８個の炭素原子を有するアルキル基が挙げられる。Ｒ^１５に対する有用なアルケニル基の例としては、ビニル、２－プロペニル、アリル、ヘキセニル、及びオクテニルなどの、２～１８個の炭素原子、あるいは２～８個の炭素原子を有するアルケニル基が挙げられる。Ｒ^１５に対する有用なアリール基の例としては、フェニル及びベンジルなどの、６～１８個の炭素原子、あるいは６～８個の炭素原子を有するアリール基が挙げられる。あるいは、Ｒ^１５は、メチル、２－プロペニル、アリル、及びフェニルである。したがって、触媒（エ）中の金属カルボン酸塩（ｉｉ）は、カルボン酸亜鉛（ＩＩ）、カルボン酸アルミニウム（ＩＩＩ）、カルボン酸ビスマス（ＩＩＩ）、及び／若しくはカルボン酸ジルコニウム（ＩＶ）、アルキルカルボン酸亜鉛（ＩＩ）、アルキルカルボン酸アルミニウム（ＩＩＩ）、アルキルカルボン酸ビスマス（ＩＩＩ）、及び／若しくはアルキルカルボン酸ジルコニウム（ＩＶ）、又はこれらの混合物であり得る。触媒（ｄ）中の金属カルボン酸塩（ｉｉ）の具体例としては、エチルヘキサン酸亜鉛、エチルヘキサン酸ビスマス、ステアリン酸亜鉛、ウンデシレン酸亜鉛、ネオデカン酸亜鉛、及び２－エチルヘキサン酸鉄（ＩＩＩ）が挙げられる。触媒（ｄ）のチタネート及び／又はジルコネート（ｉ）、並びに金属カルボン酸塩（ｉｉ）は、１：４～４：１のモル比で提供される。

触媒（ｄ）は、典型的には、組成物の０．２５～４．０重量％、あるいは組成物の０．２５～３重量％、あるいは組成物の０．３～２．５重量％の量で存在する。

好ましくはないが、適切又は必要とみなされる場合、任意選択的に触媒（ｅ）はまた、スズ触媒を更に含み得る。追加のスズ系縮合触媒は、総組成物の硬化に触媒作用を及ぼすのに好適な任意の触媒であり得る。当該スズ触媒は、使用される場合、触媒（ｅ）の他の構成成分と混和する必要がある。

先に記載されたような組成物はまた、１つ以上の接着促進剤（ｅ）を組み込んでもよい。好ましくは、接着促進剤（ｅ）は、アミノシラン系である。アミノシランは、次のものを含み、－
（ＣＨ_３）_ｎ（Ｒ’Ｏ）_３－ｎＳｉ－Ｚ^１－Ｎ（Ｈ）－（ＣＨ_２）_ｍ－ＮＨ_２
式中、各Ｒ’は同じであっても異なっていてもよく、１～１０個の炭素原子を含有するアルキル基であり、ｎは０又は１であり、Ｚ^１は２～１０個の炭素原子を有する直鎖状又は分岐状アルキレン基であり、ｍは２～１０である。各Ｒ’は同じであっても異なっていてもよく、１～１０個の炭素原子を有するアルキル基、あるいは１～６個の炭素原子、あるいは１～４個の炭素原子を有するアルキル基であり、あるいはメチル基又はエチル基である。一代替例では、少なくとも２つのＲ’基は同じであり、あるいは全てのＲ’基は同じである。少なくとも２つのＲ’基が同じ、あるいは全てのＲ’基が同じである場合、それらは、メチル基又はエチル基であることが好ましい。０個又は１個のｎ基が存在し得る。Ｚ^１は、２～１０個の炭素、あるいは２～６個の炭素を有する直鎖又は分岐鎖アルキレン基であり、例えば、Ｚ^１は、プロピレン基、ブチレン基、又はイソブチレン基であり得る。２～１０個のｍ基があってもよく、一代替例では、ｍは２～６であってもよく、別の代替例では、ｍは２～５であってもよく、なおも更なる代替例では、ｍは２又は３であってもよく、あるいは、ｍは２である。具体例としては、（エチレンジアミンプロピル）トリメトキシシラン（Ｎ－［３－（トリメトキシシリル）プロピル］エチレンジアミン）及び（エチレンジアミンプロピル）トリエトキシシランが挙げられるが、これらに限定されない。Ｎ－（２－アミノエチル）－３－アミノイソブチルメチルジメトキシシラン。

接着促進剤（ｅ）は、任意選択的に、組成物の０～３重量％の量で、あるいは組成物の０～２重量％の量で、あるいは組成物の０～１重量％組成物の０．１～１重量％の量で存在する。

反応性シラン（ｆ）は、存在する場合、架橋剤として機能する。反応性シラン（ｆ）は、次の構造を有するシランから選択され得、
Ｒ^８ _ｊＳｉ（ＯＲ^５）_４－ｊ
式中、各Ｒ^５は、同じであっても異なっていてもよく、少なくとも１つの炭素、あるいは１～２０個の炭素、あるいは１～１０個の炭素、あるいは１～６個の炭素を含有するアルキル基である。ｊの値は、０又は１である。各Ｒ^５基は同じであっても異なっていてもよいが、少なくとも２つのＲ^５基は同じであるか、あるいは少なくとも３つのＲ^５基は同じであるか、あるいは、ｊが０である場合、全てのＲ^５基は同じであることが好ましい。したがって、ｊがゼロである場合、反応性シラン（ｆ）の具体例としては、テトラエチルオルトシリケート、テトラプロピルオルトシリケート、テトラ（ｎ－）ブチルオルトシリケート、及びテトラ（ｔ－）ブチルオルトシリケートが挙げられる。

ｊが１である場合、Ｒ^８基が存在する。Ｒ^８は、
少なくとも１つの炭素を有する置換若しくは非置換の直鎖若しくは分岐状の一価炭化水素基、シクロアルキル基、アリール基、アラルキル基、又は前述のうちのいずれか１つから選択されるケイ素結合有機基であり、炭素に結合した少なくとも１つ以上の水素原子は、ハロゲン原子、又はエポキシ基、グリシジル基、アシル基、カルボキシル基、エステル基、アミノ基、アミド基、（メタ）アクリル基、メルカプト基、若しくはイソシアネート基を有する有機基によって置換されてもよい。Ｒ^８として好適な非置換一価炭化水素基としては、アルキル基、例えば、メチル、エチル、プロピル、及び他のアルキル基、ビニルなどのアルケニル基、シクロペンタン基及びシクロヘキサン基を含み得るシクロアルキル基を挙げることができる。Ｒ^８に、又はそれとして好適な置換基としては、例として、３－ヒドロキシプロピル基、３－（２－ヒドロキシエトキシ）アルキル基、ハロプロピル基、３－メルカプトプロピル基、トリフルオロアルキル基、例えば、３，３，３－トリフルオロプロピル基、２，３－エポキシプロピル基、３，４－エポキシブチル基、４，５－エポキシペンチル基、２－グリシドキシエチル基、３－グリシドキシプロピル基、４－グリシドキシブチル基、２－（３，４－エポキシシクロヘキシル）エチル基、３－（３，４－エポキシシクロヘキシル）アルキル基、アミノプロピル基、Ｎ－メチルアミノプロピル基、Ｎ－ブチルアミノプロピル基、Ｎ，Ｎ－ジブチルアミノプロピル基、３－（２－アミノエトキシ）プロピル基、メタクリルオキシアルキル基、アクリルオキシアルキル基、カルボキシアルキル基、例えば３－カルボキシプロピル基、１０－カルボキシデシル基を挙げることができる。

好適な反応性シラン（ｆ）の具体例としては、ビニルトリメトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、プロピルトリエトキシシラン、イソブチルトリエトキシシラン、イソブチルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、メチルトリス（イソプロペノキシ）シラン又はビニルトリス（イソプロペノキシ）シラン、３－ヒドロキシプロピルトリエトキシシラン、３－ヒドロキシプロピルトリメトキシシラン、３－（２－ヒドロキシエトキシ）エチルトリエトキシシラン、３－（２－ヒドロキシエトキシ）エチルトリメトキシシラン、クロロプロピルトリエトキシシラン、３－メルカプトプロピルトリエトキシシラン、３，３，３－トリフルオロプロピルトリエトキシシラン、２，３－エポキシプロピルトリエトキシシラン、２，３－エポキシプロピルトリメトキシシラン、３，４－エポキシブチルトリエトキシシラン、３，４－エポキシブチルトリメトキシシラン、４，５－エポキシペンチルトリエトキシシラン、４，５－エポキシペンチルトリメトキシシラン、２－グリシドキシエチルトリエトキシシラン、２－グリシドキシエチルトリメトキシシラン、３－グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、３－グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、４－グリシドキシブチルトリエトキシシラン、４－グリシドキシブチルトリメトキシシラン、２－（３，４－エポキシシクロヘキシル）エチルトリエトキシシラン、３－（３，４－エポキシシクロヘキシル）エチルトリエトキシシラン、アミノプロピルトリエトキシシラン、アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ－メチルアミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ－メチルアミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ－ブチルアミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ，Ｎ－ジブチルアミノプロピルトリエトキシシラン、３－（２－アミノエトキシ）プロピルトリエトキシシラン、メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、トリス（３－トリエトキシシリルプロピル）イソシアヌレート、アクリロキシプロピルトリエトキシシラン、３－カルボキシプロピルトリエトキシシラン、及び１０－カルボキシデシルトリエトキシシランが挙げられるが、これらに限定されない。

反応性シラン（ｆ）は、組成物の０～３重量％の量で存在し得る。

必要に応じて任意選択の添加剤を使用してもよい。これらは、非補強性充填剤、顔料、レオロジー調整剤、硬化調整剤、及び防カビ剤及び／又は殺生物剤などを含み得る。添加剤の一部は複数の添加剤のリストに挙げられることが理解される。その場合、このような添加剤は言及されている全ての異なる用途で機能する能力を有する。

単独で、又は上記に加えて使用することができる非補強性充填剤としては、アルミナイト、硫酸カルシウム（無水石膏）、石膏、ネフェリン、スベナイト（svenite）、石英、硫酸カルシウム、炭酸マグネシウム、カオリンなどの粘土、粉砕炭酸カルシウム、三水酸化アルミニウム、水酸化マグネシウム（水滑石）、黒鉛、炭酸銅、例えばマラカイト、炭酸ニッケル、例えばザラカイト（zarachite）、炭酸バリウム、例えば毒重石、及び／又は炭酸ストロンチウム、例えばストロンチアナイトが挙げられる。

酸化アルミニウム、かんらん石族；ざくろ石族；アルミノケイ酸塩；環状ケイ酸塩；鎖状ケイ酸塩；及び層状ケイ酸塩からなる群からのケイ酸塩が挙げられる。かんらん石族は、ケイ酸塩鉱物、例えばフォルステライト及びＭｇ_２ＳｉＯ_４を含むが、これらに限定されない。ざくろ石族は、赤色ざくろ石；Ｍｇ_３Ａｌ_２Ｓｉ_３Ｏ_１２；緑ざくろ石；及びＣａ_２Ａｌ_２Ｓｉ_３Ｏ_１２などの粉砕ケイ酸塩鉱物を含むが、これらに限定されない。アルミノケイ酸塩は、ケイ線石；Ａｌ_２ＳｉＯ_５；ムライト；３Ａｌ_２Ｏ_３．２ＳｉＯ_２；カイヤナイト；及びＡｌ_２ＳｉＯ_５などの粉砕ケイ酸塩鉱物を含むが、これらに限定されない。

環状ケイ酸塩族は、コージェライト及びＡｌ_３（Ｍｇ、Ｆｅ）_２［Ｓｉ_４ＡｌＯ_１８］などのケイ酸塩鉱石を含むが、これらに限定されない。鎖状ケイ酸塩族は、粉砕ケイ酸塩鉱物、例えば、珪灰石及びＣａ［ＳｉＯ_３］を含むが、これらに限定されない。

層状ケイ酸塩は、雲母；Ｋ_２ＡＩ_１４［Ｓｉ_６Ａｌ_２Ｏ_２０］（ＯＨ）_４；葉蝋石；Ａｌ_４［Ｓｉ_８Ｏ_２０］（ＯＨ）_４；タルク、Ｍｇ_６［Ｓｉ_８Ｏ_２０］（ＯＨ）_４；蛇絞石、例えばアスベスト；カオリナイト；Ａｌ_４［Ｓｉ_４Ｏ_１０］（ＯＨ）_８；及びバーミキュライトなどのケイ酸塩鉱物が挙げられるが、これらに限定されない。

更に、充填剤の表面処理は、例えば、ステアリン酸エステル、ステアリン酸、ステアリン酸の塩、ステアリン酸カルシウム、及びカルボキシレートポリブタジエンなどの脂肪酸又は脂肪酸エステルなどを用いて行うことができる。ケイ素含有材料ベースの処理剤としては、オルガノシラン、オルガノシロキサン、又はオルガノシラザンヘキサアルキルジシラザン若しくは短鎖シロキサンジオールを挙げることができ、それによって充填剤が疎水性になり、したがって容易に取扱うことができるようになり、他のシーラント成分との均質混合物が得られる。充填剤を表面処理は、シリコーンポリマーによって粉砕シリケート鉱物を容易に濡らす。これらの表面改質充填剤は、固まらず、シリコーンポリマー中に均質に組み込まれ得る。これによって、未硬化組成物の室温での機械的特性が改善される。更に、この表面処理充填剤により、未処理材料又は原料よりも低い伝導性が得られる。

本発明の組成物はまた、シーラント組成物などの、ケイ素結合ヒドロキシル基又は加水分解性基に基づく水分硬化性組成物における使用について公知の他の成分を含んでもよい。

顔料は必要に応じて利用され、組成物を着色する。組成物と適合性がある限り、任意の好適な顔料を用いることができる。存在する場合、カーボンブラックは、非補強性充填剤及び着色剤の両方として機能し、触媒パッケージ組成物の１～３０重量％、あるいは触媒パッケージ組成物の１～２０重量％、あるいは触媒パッケージ組成物の５～２０重量％、あるいは触媒組成物の７．５～２０重量％の範囲で存在する。

本発明による水分硬化性組成物中に組み込むことができるレオロジー調整剤としては、シリコーン有機コポリマー、例えばポリエーテル又はポリエステルのポリオールに基づく欧州特許第０８０２２３３号に記載されているもの；ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、エトキシル化ヒマシ油、オレイン酸エトキシレート、アルキルフェノールエトキシレート、コポリマー若しくはエチレンオキサイド及びプロピレンオキサイド、及びシリコーンポリエーテルコポリマーからなる群から選択されるノニオン性界面活性剤；並びにシリコーングリコールが挙げられる。いくつかの系について、これらのレオロジー調整剤、特に、エチレンオキサイドとプロピレンオキサイドとのコポリマー、及びシリコーンポリエーテルコポリマーにより、基材、特に可塑性基材に対する接着を増強することができる。

必要な場合、殺生物剤を組成物中で更に使用することができる。用語「殺生物剤」は、殺菌剤、殺真菌剤、及び殺藻剤などを包含するものであることに留意されたい。本明細書に記載の組成物中で使用することができる、有用な殺生物剤の好適な例としては、例えば：
カルバメート、例えば、メチル－Ｎ－ベンゾイミダゾール－２－イルカルバメート（カルベンダジム）及び他の好適なカルバメートなど、１０，１０’－オキシビスフェノキサシン、２－（４－チアゾリル）－ベンゾイミダゾール、
Ｎ－（フルオロジクロロメチルチオ）フタルイミド、ジヨードメチルｐ－トリルスルホン、紫外線安定剤との組み合わせに適切な場合、２，６－ジ（ｔｅｒｔ－ブチル）－ｐ－クレゾール、３－ヨード－２－プロピニル（propinyl）ブチルカルバメート（3-iodo-2-propinyl butylcarbamate、ＩＰＢＣ）、亜鉛２－ピリジンチオール－１－オキサイド、トリアゾリル化合物及びイソチアゾリノン、例えば、４，５－ジクロロ－２－（ｎ－オクチル）－４－イソチアゾリン－３－オン（4,5-dichloro-2-（n-octyl）-4-isothiazolin-3-one、ＤＣＯＩＴ）、２－（ｎ－オクチル）４－イソチアゾリン－３－オン（2-（n-octyl）-4-isothiazolin-3-one、ＯＩＴ）、及びｎ－ブチル－１，２－ベンゾイソチアゾリン－３－オン（n-butyl-1,2-benzisothiazolin-3-one、ＢＢＩＴ）など、が挙げられる。他の殺生物剤としては、例えば、亜鉛ピリジンチオン、１－（４－クロロフェニル）－４，４－ジメチル－３－（１，２，４－トリアゾール－１－イルメチル）ペンタン－３－オール及び／又は１－［［２－（２，４－ジクロロフェニル）－４－プロピル－１，３－ジオキソラン－２－イル］メチル］－１Ｈ－１，２，４－トリアゾールを挙げることができる。

好適には、殺真菌剤及び／又は殺生物剤は、組成物の０～０．３重量％の量で存在していてもよく、欧州特許第２１０６４１８号に記載されているとおり、要求される場合、カプセル化した形態で存在していてもよい。

成分及びそれらの量は、低弾性率シーラント組成物を提供するように設計される。低弾性率シリコーンシーラント組成物は、好ましくは「ガン塗布可能」であり、すなわち、ＡＳＴＭＣ１１８３－０４で測定される場合、１０ｍｌ／分、あるいは１０～１０００ｍＬ／分、あるいは１００～１０００ｍＬ／分の好適な押出能力、すなわちの最小押出速度を有する。

シーラント組成物中の成分及びそれらの量は、硬化後のシーラント材料に移動能力を付与するように選択される。移動能力は、ＡＳＴＭＣ７１９－１３によって測定される場合、２５％より大きく、あるいは移動能力は２５％～５０％の範囲である。

先に記載されたようなシーラント組成物は、
（ｉ）空間／ギャップ充填用途、
（ｉｉ）建設メンブレンにおけるラップ（ｌａｐ）接合部の縁部を封止するなどの封止用途、又は
（ｉｉｉ）封止貫通用途、例えば、建設メンブレンにおけるベントを封止すること、
（ｉｖ）少なくとも２つの基材を一緒に接着すること、
（ｖ）第１の基材、シーラント製品、及び第２の基材の積層体を生成するための２つの基材間の積層層のために使用されるガン塗布可能なシーラント組成物であり得る。
上記（ｖ）の場合、積層体における層として使用される場合、生成された積層構造体は、これらの３つの層に限定されない。硬化したシーラント及び基材の追加の層が、適用され得る。ラミネート中のガン塗布可能なシーラント組成物の層は、連続的又は不連続的であり得る。

先に記載されたようなシーラント組成物は、任意の好適な基材に塗布され得る。好適な基材としては、ガラス；コンクリート；煉瓦；化粧漆喰；アルミニウム、銅、金、ニッケル、ケイ素、銀、ステンレス鋼合金、及びチタンなどの金属；セラミック材料；Ｍｉｄｌａｎｄ，Ｍｉｃｈｉｇａｎ，Ｕ．Ｓ．Ａ．のＴｈｅ Ｄｏｗ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｃｏｍｐａｎｙから市販されるもの、アクリロニトリル－ブタジエン－スチレン、スチレン修飾ポリ（フェニレンオキシド）、ポリ（フェニレンスルフィド）、ビニルエステル、ポリフタルアミド、及びポリイミドなどの、ポリアミド樹脂のシンジオタクチオックポリスチレンとのブレンドなどの、エポキシ、ポリカーボネート、ポリ（ブチレンテレフタレート）樹脂、ポリアミド樹脂、及びそれらのブレンド；紙、布、及び木材などのセルロース基材；並びにそれらの組み合わせが挙げられ得るが、これらに限定されない。２つ以上の基材が使用される場合、基材が同じ材料で作製される必要はない。例えば、プラスチック及び金属基材又は木材及びプラスチック基材のラミネートを形成することが、可能である。塗布及び硬化後、エラストマーシーラント製品は、花崗岩、石灰石、大理石、石積み、金属及び複合パネルのような多孔質基材に対して非汚染（清浄）である。これは、組成物が、組成物中の非反応性可塑剤又は延長剤などの希釈剤を必要としないため、少なくとも部分的である。

先に記載されたようなシリコーンシーラント組成物の場合、２つの基材間に封止をもたらすようにそれらの間の空間を充填するための方法であって、
ａ）先に記載されたようなシリコーン組成物を用意することと、
ｂ）シリコーン組成物を、第１の基材に塗布し、第２の基材を、第１の基材に塗布されているシリコーン組成物と接触させること、又は
ｃ）第１の基材及び第２の基材の配置によって形成された空間を、シリコーン組成物で充填し、シリコーン組成物を硬化させることのいずれかと、を含む、方法も提供される。

一代替例では、先に記載されたようなシーラント組成物は、高速道路シーラントとして好適であり得る自己レベリングシーラントであり得る。自己レベリングシーラント組成物は、それが、保存容器から水平接合部に押し出される場合、「自己レベリング」であることを意味し、すなわち、シーラントは、シーラントと接合空間の側面との間に密接な接触を提供するのに十分な重力の下で流動することになる。これにより、接合面に対するシーラントの最大の接着を生じさせることができる。自己レベリングはまた、水平接合部及び垂直接合部の両方で使用するように設計されたシーラントが必要とするように、シーラントを接合部の中に入れた後にシーラントを道具を使用して細工する必要性を排除する。したがって、シーラントは、塗布時に亀裂を充填するのに十分に良く流動する。シーラントは、重力の下で十分な流動を有する場合、不規則な亀裂壁の側面との密接な接触を形成し、良好な結合を形成することになるが、亀裂側壁と接触するように機械的に力を加えるために、クラックへ押し出された後にシーラントを道具を使用して細工する必要はない。

本明細書に記載される自己レベリング組成物は、アスファルト舗装の封止における機能に必要な特性の独特な組み合わせを有するシーラントとして有用である。アスファルト舗装材料は、２０．３２ｃｍなどの適切な材料厚さに堆積させることによってアスファルト高速道路を形成するために、かつ例えば１０．１６ｃｍの厚さを有する層を上重ねすることによる劣化コンクリート高速道路の修復のために使用される。

アスファルトの上層は、コンクリートに存在する接合部において下層のコンクリートの移動が原因でアスファルト上層に亀裂が生じる反射亀裂として公知の現象を経る。この反射亀裂は、亀裂への水の浸入を防ぐため封止する必要があり、この亀裂は、水が凍結及び膨張した場合に、アスファルト舗装道路を更に破壊することになる。任意の理由、例えば、熱膨張及び収縮による移動に曝される亀裂に対する有効な封止を形成するため、封止材料を亀裂の側壁の界面に結合させなければならず、この封止材料は、亀裂が圧縮及び膨張するときに結合力を失ってはならない。アスファルト舗装の場合、シーラントは、アスファルト自体を破壊させるように界面でアスファルトに十分なひずみを発揮してはならず、すなわち、シーラントの弾性率は、結合線（bond line）に加えられた応力がアスファルトの降伏強度を十分に下回るように、十分に低くなければならない。

そのような事例では、硬化した材料の弾性率は、アスファルトを凝集破壊させるのに十分な力をアスファルトに対して発揮しないように、十分に低く設計される。硬化した材料は、張力下に置かれたとき、張力により生じた応力のレベルが時間と共に低下し、伸びが高度の場合でさえも接合部が高応力レベルに曝されないようなものである。

先に記載されたような組成物は、実質的に可塑剤を含まない半透明の低弾性率シリコーンシーラントを提供し、高い移動能力を有し、建設のための耐汚染天候封止シーラント材料として使用するための、花崗岩、石灰石、大理石、石積み、金属及び複合パネルなどの多孔質であってもなくてもよい建設基材に対して非汚染（清浄）である。

本明細書に記載の組成物の硬化時に生成されたシリコーンエラストマーの低弾性率の性質は、任意の理由による移動に曝され得る封止接合部でエラストマーを効果的にするが、これは、硬化したシーラントが凝集破壊若しくは界面破損（接着破壊）することなく、より大きな接合部移動に対応することを可能にするか、又は基材破壊を引き起こすことを可能にする、接合部の膨張又は収縮により、他の硬化シーラント（標準又は高弾性率を有する）と比較して、より低い力が、硬化したシーラント本体に生成され、基材／シーラント界面にシーラントによって伝達されるためである。

粘度試験は、コーン５２を有するブルックフィールドＤＶＩＩＩ Ｕｌｔｒａを５ｒｐｍで２分間行った。組成物を、混合し、室温（約２５℃）で測定した。ＡＳＴＭ Ｄ４１２－９８ａ（２００２）ｅ１）に準拠した試験は、ダンベル試験片を使用した。

シリコーンマスターバッチを、表１ａにおける成分を使用して調製した。次いで、マスターバッチを、以下の表１ｂに示される触媒と組み合わせて各実施例／比較例において使用した。

使用した粉砕炭酸カルシウムは、Ｑｕｎｘｉｎ Ｐｏｗｄｅｒ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙから得られた２０３Ａ型（４．６μｍ）であり、マスターバッチに使用された沈殿炭酸カルシウムは、Ｘｉｎｔａｉ Ｎａｎｏ ＭａｔｅｒｉａｌからのＸＴＣＣ ２０１（表面積２０ｍ^２／ｇを有する６０～７０ｎｍ）であった。両方の充填剤が脂肪酸処理されたことが理解される。

別段の指示がない限り、マスターバッチを、室温及び圧力で以下のプロセスを使用して、Ｔｕｒｅｌｌｏミキサーにおいて調製した。－
トリメトキシシリル末端ポリジメチルシロキサンを、最初にミキサーに導入し、４００回転／分（ｒｐｍ）で撹拌し、メチルビニルジメトキシシラン及びメチルトリメトキシシランを添加し、混合物を４００ｒｐｍで更に５分間混合した。次いで、沈降炭酸カルシウム及び粉砕炭酸カルシウムを、混合を５００ｒｐｍで維持しながら徐々に導入した。全ての炭酸カルシウムを組成物に導入し混合した後、混合速度を８００ｒｐｍに増加させ、混合物を真空下で１５分間更に２回混合した。この後、結果として得られたマスターバッチ組成物を、必要になるまで保存した。

次いで、一液型シリコーンシーラント組成物を、以下の表１ｂに示される量でＳｅｍｃｏミキサーを使用してマスターバッチを残りの成分と混合することによって調製した。

標準キレート化チタネート触媒は、４：１の重量比でメチルトリメトキシシランと組み合わせて供給されたジイソプロポキシ－ビスエチルアセトアセタトチタネート（bisethylacetoacetatotitanate）であり、
触媒１は、６１：２９の重量比のテトラ三級ブチルチタネート（tetra tertiary butyl titanate、ＴｔＢＴ）＋エチルヘキサン酸亜鉛塩（Ｚｎ（ＥＨＡ）_２）の混合物であり、
触媒２は、１６：９の重量比のジイソプロポキシ－ビスエチルアセトアセタトチタネート及びエチルヘキサン酸亜鉛塩、（Ｚｎ（ＥＨＡ）_２）の混合物であった。

組成物を室温及び圧力で７日間硬化させ、その後、次いで、異なる実施例及び比較例の物理的特性を評価した。結果を、以下の表２ａに要約する。ＡＳＴＭ Ｄ４１２－９８ａ（２００２）ｅ１に準拠した試験は、ダンベル試験片を使用した。

硬化深さ試験を、好適な容器にシーラントを充填し（エアポケットの導入を回避）、容器に含有されるシーラントを、室温（約２３℃）及び約５０％の相対湿度で、適切な期間硬化させることによって、２４時間でシーラントが表面からどれだけ硬化したかを決定するために行った。適切な硬化時間後、容器から試料を取り出し、硬化した試料の高さを測定した。

実施例１及び２は、従来のチタネート触媒単独を使用した比較よりもはるかに低い引張弾性率を示した一方で、同様の硬化速度が得られたことを、見ることができる。試料調製において示されるように、高充填レベルのＮ－（２－アミノエチル）－３－アミノイソブチルメチルジメトキシシランを、ポリマー鎖延長剤として塗布した。しかし、通常のジイソプロポキシ－ビスエチルアセトアセタトチタネートを触媒として用いると、硬化したシーラントは低弾性率の要件（１００％伸長で０．４ＭＰａ未満）を満たすことができなかった。しかしながら、触媒組成の一部として（Ｚｎ（ＥＨＡ）_２）を使用する触媒は、０．４９ＭＰａから０．３７ＭＰａ、更には０．３４ＭＰａ未満に低減したシーラント弾性率を与え、他の物理的特性は性能の期待に応えていた。

各実施例及び比較例の試料を、５０℃の温度で２週間エージングし、次いで、それらのエージング物理的特性を評価する前に７日間、２３℃及び相対湿度５０％で硬化させた。結果を以下の表２ｂに提供する。

示されるように、先に記載されたような触媒を使用することは、他の特性の値のいかなる犠牲もなく、本明細書に記載される一液型アルコキシ非汚染（清浄）シーラントの１００％伸長時の弾性率の低減をもたらす。したがって、本明細書に記載の組成物は、低弾性率標準を満たすために一液型アルコキシ非汚染（清浄）シーラントを作製するための実用的な方法を提供する。

Claims (15)

1. 一液型縮合硬化性低弾性率室温加硫性（ＲＴＶ）シリコーン組成物であって、
   （ａ）前記組成物の３５～６０重量％の量の、次の式の１分子当たり少なくとも２つのヒドロキシル基又は加水分解性基を有するオルガノポリシロキサンポリマーであって、
   

   

   式中、各Ｘは、独立して、ヒドロキシル基又は加水分解性基であり、各Ｒは、アルキル、アルケニル、又はアリール基であり、各Ｒ^１は、Ｘ基、アルキル基、アルケニル基、又はアリール基であり、Ｚは、二価有機基であり、
   ｄは、０又は１であり、ｑは、０又は１であり、ｄ＋ｑ＝１であり、ｎは、０、１、２、又は３であり、ｙは、０、１、又は２であり、かつ優先的に２であり、ｚは、前記オルガノポリシロキサンポリマーが、２５℃で、３０，０００～８０，０００ｍＰａ・ｓ、あるいは２５℃で、４０，０００～７５，０００ｍＰａ・ｓの粘度を有するような整数である、オルガノポリシロキサンポリマーと、
   （ｂ）前記組成物の３０～５５重量％の量の疎水的に処理された補強性充填剤と、
   （ｃ）前記組成物の０．５～５重量％の量の１つ以上の二官能性シランと、
   （ｄ）（ｉ）チタネート及び／又はジルコネート、並びに（ｉｉ）金属カルボン酸塩を含む触媒と、
   （ｅ）前記組成物の０．１～１重量％の量の接着促進剤と、
   （ｆ）前記組成物の０～３重量％の量の少なくとも３つの官能基を有する１つ以上の反応性シランと、を含む、一液型縮合硬化性低弾性率室温加硫性（ＲＴＶ）シリコーン組成物。
2. オルガノポリシロキサンポリマー（ａ）が、次の構造
   Ｘ_３－ｎＲ_ｎＳｉ－（Ｚ）－（Ｒ^１ _ｙＳｉＯ_{（４－ｙ）／２}）_ｚ－（ＳｉＲ^１ _２－Ｚ）－Ｓｉ－Ｒ_ｎＸ_３－ｎ
   （式中、ｎは０又は１であり、各Ｘはアルコキシ基である）のものである、請求項１に記載の一液型室温加硫性（ＲＴＶ）シリコーン組成物。
3. 触媒（ｄ）の前記金属カルボン酸塩（ｉｉ）の前記金属が、亜鉛、アルミニウム、ビスマス、及び／又はジルコニウムのうちの１つ以上から選択される、請求項１に記載の一液型室温加硫性（ＲＴＶ）シリコーン組成物。
4. 触媒（ｄ）の前記金属カルボン酸塩（ｉｉ）が、カルボン酸亜鉛（ＩＩ）、カルボン酸アルミニウム（ＩＩＩ）、カルボン酸ビスマス（ＩＩＩ）、及び／若しくはカルボン酸ジルコニウム（ＩＶ）、アルキルカルボン酸亜鉛（ＩＩ）、アルキルカルボン酸アルミニウム（ＩＩＩ）、アルキルカルボン酸ビスマス（ＩＩＩ）、及び／若しくはアルキルカルボン酸ジルコニウム（ＩＶ）、又はこれらの混合物から選択される、請求項１～３のいずれか一項に記載の一液型室温加硫性（ＲＴＶ）シリコーン組成物。
5. 触媒（ｄ）の前記金属カルボン酸塩（ｉｉ）が、エチルヘキサン酸亜鉛、エチルヘキサン酸ビスマスステアリン酸亜鉛、ウンデシレン酸亜鉛、ネオデカン酸亜鉛、及び２－エチルヘキサン酸鉄（ＩＩＩ）から選択される、請求項１～４のいずれか一項に記載の一液型室温加硫性（ＲＴＶ）シリコーン組成物。
6. 触媒（ｄ）のチタネート及び／又はジルコネート（ｉ）、並びに金属カルボン酸塩（ｉｉ）が、１：４～４：１のモル比で提供される、請求項１～５のいずれか一項に記載の一液型室温加硫性（ＲＴＶ）シリコーン組成物。
7. ガン塗布可能であり、かつ／又は自己レベリングである、請求項１～６のいずれか一項に記載の一液型室温加硫性（ＲＴＶ）シリコーン組成物。
8. ２つの隣接する基材表面間の接合部として塗布されることができ、硬化の前に、前記隣接する基材表面に接着するエラストマーボディに硬化するまで、その割り当てられた位置に残る平滑な表面質量を提供するように用いられ得る、請求項１～７のいずれか一項に記載の一液型室温加硫性（ＲＴＶ）シリコーン組成物。
9. 請求項１～８のいずれか一項に記載の一液型室温加硫性（ＲＴＶ）シリコーン組成物を硬化させることによって得られた反応生成物である、シリコーンエラストマー。
10. 硬化時に、低い弾性率、例えば、１００％伸びで０．４ＭＰａ以下を有するシーラントを提供する、請求項９に記載のシリコーンエラストマー。
11. 非汚染性である、請求項９又は１０に記載のシリコーンエラストマー。
12. 全ての成分を一緒に混合することによって、請求項１～８のいずれか一項に記載の一液型室温加硫性（ＲＴＶ）シリコーン組成物を作製する、方法。
13. ファサード、絶縁ガラス、窓建設、自動車、ソーラー、及び建設分野におけるシーラントとしての、請求項１～８のいずれか一項に記載の組成物の、使用。
14. ２つの基材間の封止をもたらすようにそれらの間の空間を充填するための方法であって、
    ａ）請求項１～７のいずれか一項に記載の一液型室温加硫性（ＲＴＶ）シリコーン組成物を提供することと、
    ｂ）前記シリコーン組成物を、第１の基材に塗布し、第２の基材を、前記第１の基材に塗布されている前記シリコーン組成物と接触させること、又は
    ｃ）第１の基材及び第２の基材の配置によって形成された空間を、前記シリコーン組成物で充填し、前記シリコーン組成物を硬化させることのいずれかと、を含む、方法。
15. 請求項１４に記載の２つの基材間の空間を充填するための方法であって、前記空間が、押出の手段によるか、又はシーラントガンを通して前記シーラント組成物を導入することによって充填される、方法。