KR20230124970A - 실란트 조성물 - Google Patents

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KR20230124970A
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타티아나 디미드로바
앤-마리 반 스티프허트
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다우 실리콘즈 코포레이션
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Abstract

본 발명은 분자당 적어도 2개의 가수분해성 기를 포함하는 폴리오르가노실록산 중합체, 주석(iv)계 촉매, 및 아미딘, 구아니딘 및 기타 알킬 아민 및 알킬 폴리아민으로부터 선택되고, 조성물의 0.1 내지 1.00 중량%의 양의, 하나 이상의 저분자량 선형 또는 분지형 질소 함유 화합물을 포함하는 1-파트(one-part) 실온 가황성(RTV) 실리콘 조성물에 관한 것이다. 조성물은 0℃ 내지 25℃(양쪽의 끝 수 포함)의 범위의 온도(T℃)에서 적어도 6개월 동안 저장 가능하도록 설계된다.

Description

실란트 조성물
본 발명은 분자당 2개 이상의 가수분해성 기를 포함하는 폴리오르가노실록산 중합체, 주석(iv)계 촉매 및 하나 이상의 저분자량 선형 또는 분지형 질소 함유 화합물을 포함하는 1-파트(one-part) 실온 가황성(RTV) 실리콘 조성물에 관한 것이다. 조성물은 0℃ 내지 25℃(양쪽의 끝 수 포함)의 범위의 온도에서 적어도 6개월 동안 저장 가능하도록 설계된다.
실온 가황성(RTV) 실리콘 고무 조성물(이하, "RTV 조성물"이라 함)은 잘 알려져 있다. 일반적으로, 이러한 조성물은 말단 규소 원자들 사이에 알킬렌 결합을 가질 수 있는 -OH 말단-차단된 디오르가노폴리실록산 중합체 또는 알콕시 말단-차단된 폴리디오르가노실록산을 포함한다. 이것들은 통상 축합 경화성이며, 따라서 또한 -OH 및/또는 알콕시기와 반응하도록 설계된 하나 이상의 적합한 가교제를 함유하고, 이로써 통상 그러나, 절대적으로 항상은 아니게 하나 이상의 축합 경화 촉매와 조합되어 예를 들어 엘라스토머 실란트 제품을 형성하도록 조성물을 가교시킨다. 필요에 따라, 보강 충전제, 비보강 충전제, 접착 촉진제 희석제(예를 들어, 가소제 및/또는 증량제), 사슬 연장제, 난연제, 내용매성 첨가제, 살생물제 등과 같은 하나 이상의 추가 성분이 또한 이러한 조성물에 종종 혼입된다. 이들은 1-파트 조성물 또는 다중-파트, 예를 들어 2-파트 조성물일 수 있다.
1-파트 축합 경화 실리콘 조성물은 일반적으로 외피(skin) 또는 확산 경화 실리콘 엘라스토머를 제조하는데 사용된다. 알콕시 티타늄 화합물 및/또는 알콕시 지르코늄 화합물, 즉 알킬 티타네이트는 그러한 하나의 성분 수분 경화성 실리콘을 경화하는 데 적합한 촉매라는 것은 당업자에게 잘 알려져 있다(참고: 문헌[Noll, W.; Chemistry and Technology of Silicones, Academic Press Inc., New York, 1968, p. 399], 문헌[Michael A. Brook, silicon in organic, organometallic and polymer chemistry, John Wiley & sons, Inc. (2000), p. 285]). 1-파트 축합 경화 실리콘 조성물은 일반적으로 가능한 한 임의의 물/수분을 조성물에 함유하지 않도록 설계되며, 즉 이것들은 일반적으로 사용 전 저장 동안 조기 경화를 막기 위해 실질적으로 무수 형태로 저장된다. 이러한 1-파트 축합 경화 실리콘 조성물은 전형적으로 15 mm보다 얇은 층에 적용된다. 15 mm보다 두꺼운 층에 적용된 이러한 조성물은 물질의 깊은 부분에서 물질이 미경화되게 하는 것으로 알려져 있는데, 그 이유는 매우 깊은 부분에서 수분이 확산하는 데 매우 느리기 때문이다. 피층 또는 확산 경화(예를 들어, 수분/축합)는 실란트/캡슐화제가 기재 표면 상에 적용된 후 조성물/공기 계면에서 경화된 피층이 형성됨으로써 발생한다. 표면 피층이 생성된 후, 경화 속도는 실란트/캡슐화제와 공기와의 계면에서 적용된 실리콘 조성물의 층의 내측(또는 코어)으로 수분이 확산되는 속도, 및 물질의 내측(또는 코어)에서 외측(또는 표면)으로 축합 반응 부산물/유출물이 확산되는 속도, 및 외측/표면에서 내측/코어로 시간이 경과함에 따라 경화된 피층이 점진적으로 증점되는 속도에 좌우된다. 유일한 공급원이 아닌 경우, 이러한 조성물에서 주요 수분 공급원은 무기 충전제, 예를 들어 존재하는 경우 실리카이다. 상기 충전제를 다른 성분과 상호 혼합하기 전에 무수 상태가 되도록 할 수 있거나, 또는 혼합 공정 동안 혼합물로부터 물/수분을 추출하여 생성되는 실란트 조성물을 실질적으로 무수 상태로 만들 수 있다.
말단 반응성 실릴기 내에 적어도 하나의 Si-알콕시 결합, 예를 들어, Si-메톡시 결합을 갖고 폴리디오르가노실록산 중합체 골격을 갖는 실리콘 실란트 조성물은 우수한 접착성, 및 내후성 등을 갖기 때문에 건설 산업에서 실란트로 널리 사용된다. 건설 산업에서는, 또한 적용 전에 성분을 혼합할 필요가 없는 1-성분 조성물 및 우수한 작업성을 갖는 조성물을 선호한다.
예를 들어 실리콘 실란트층 벌크에서 축합 경화를 활성화하도록 설계된 다중-성분 조성물은 일반적으로 주석 또는 아연 촉매, 예를 들어 디부틸 주석 디라우레이트, 주석 옥토에이트 및/또는 아연 옥토에이트와 같은 다른 촉매의 사용에 의존한다(문헌[Noll, W. Chemistry and Technology of Silicones, Academic Press Inc., New York, 1968, p. 397]). 사용 전에 둘 이상의 파트로 저장되는 실리콘 조성물에서, 한 파트는 제품의 벌크에서의 축합 경화를 활성화시키는 데 필요한 수분을 일반적으로 함유하는 충전제를 함유한다. 이전에 언급된 확산 경화 1-파트 시스템과 달리, 2-파트 축합 경화 시스템은, 일단 함께 혼합되고 나면, 심지어 깊이가 15 mm보다 큰 부분에서도 벌크 경화를 가능하게 한다. 이 경우에, 조성물은 물질 벌크 전체에 걸쳐 (혼합 후에) 경화될 것이다. 외피가 형성되는 경우, 이는 단지, 적용 후 처음 수 분 동안일 것이다. 얼마 후에, 생성물은 전체 덩어리가 고체가 될 것이다.
본 개시내용은 통상의 티타늄 또는 지르코늄계 촉매에 대한 대안으로서 저수준의 주석(iv)계 촉매를 1차 또는 2차 유기 아민과 조합하여 의존하는 1-파트 실온 가황성(RTV) 실리콘 조성물에 관한 것으로, 상기 조성물은 0℃ 내지 25℃(양 끝 범위 포함) 범위의 온도에서 적어도 6개월간 저장 가능하고, 경화 시 투명 또는 반투명 실란트를 제공한다.
본원에서는 1-파트 축합 경화성 실온 가황성(RTV) 실리콘 조성물로서,
(a) 조성물의 35 내지 90 중량%의 양의, 하기 화학식(1)의 분자당 적어도 2개의 히드록실 또는 가수분해성 기를 갖는 오르가노폴리실록산 중합체:
[화학식(1)]
X3- nRnSi-(Z)d ―(O)q- (R1 ySiO(4-y)/ 2)z ―(SiR1 2 - Z)d-Si-RnX3 -n
상기 식에서, 각각의 X는 독립적으로 히드록실기 또는 가수분해성 기이고, 각각의 R은 알킬, 알케닐 또는 아릴기이고, 각각의 R1은 X기, 알킬기, 알케닐기 또는 아릴기이고, Z는 2가 유기기이고;
d는 0 또는 1이고, q는 0 또는 1이며, d+q = 1이고; n은 0, 1, 2 또는 3이고, y는 0, 1 또는 2, 바람직하게는 2이고, z는 상기 오르가노폴리실록산 중합체가 25℃에서 30,000 내지 150,000 mPa.s, 대안적으로 25℃에서 40,000 내지 140,000 mPa.s의 점도를 갖도록 하는 정수임 -;
(b) 하나 이상의 본질적 무수 보강 충전제(들);
(c) 분자당 적어도 2개, 대안적으로 적어도 3개의 가수분해성 기를 갖는 규소 함유 화합물 형태의 하나 이상의 가교제;
(d) 조성물의 0.001 내지 0.1 중량%(양 끝 수 포함)의 양의 주석(iv)계 축합 촉매;
(e) 조성물의 0.1 내지 3.5 중량%(wt%)의 양의, 아미딘, 구아니딘 및 기타 알킬 아민 및 알킬 폴리아민으로부터 선택된 하나 이상의 저분자량 선형 또는 분지형 질소 함유 화합물을 포함하는 조성물이 제공된다.
조성물은 0℃ 내지 25℃(양쪽의 끝 수 포함)의 범위의 온도에서 방습 용기, 예를 들어 카트리지 및/또는 통에서 적어도 6개월 동안 저장 가능하다. 방습 용기란, 습기의 침투를 방지하는 용기를 의미한다. 생성 조성물은 투명 및/또는 반투명 외관을 가진다. 의심의 여지를 없애기 위해, 용어 조성물의 중량% 및 wt%는 동일한 의미를 갖도록 의도되며, 전체에 걸쳐 상호교환하여 사용된다.
이런 유형의 조성물은 다음과 같은 경우 저장 안정성이 있는 것으로 간주된다:
1. 지촉건조 시간(SOT: skin over time) 및 무점착 시간(TFT: Tack free time)이 밀폐된 카트리지에서 저장되는 동안 컴파운딩 시 결정된 초기 값에 비해 3배 넘게 증가하지 않는 경우; 및
2. 생성된 경화된 물질이 컴파운딩 시 결정된 초기 값과 비교 시 인장 강도(H-바 또는 덤벨 상 측정된 인장 강도를 통해 표시됨)의 적어도 75%를 유지하고, 경화된 물질의 경도(쇼어 A로 표시됨)도 또한 유지되어질 경우.
모든 성분들을 함께 혼합함으로써 상기 조성물을 제조하는 방법도 또한 본원에서 제공된다.
또한, 본원에서는 전술된 바와 같은 조성물의 경화 생성물인 엘라스토머성 실란트 물질이 제공된다.
또한, 파사드(facade), 단열 유리, 창호 건설, 자동차, 태양광 및 건설 분야에서 실란트로서의 상기 언급된 조성물의 용도가 제공된다.
2개의 기재 사이에 실을 생성하기 위해 2개의 기재 사이의 공간을 충전하는 방법을 제공하며, 상기 방법은:
a) 상기 기재된 바와 같은 실리콘 조성물을 제공하는 단계, 및
b) 실리콘 조성물을 제1 기재에 적용한 다음, 제2 기재를 제1 기재에 적용된 실리콘 조성물과 접촉시키는 단계, 또는
c) 제1 기재 및 제2 기재의 배열에 의해 형성되는 공간을 실리콘 조성물로 충전하는 단계, 및
d) 실리콘 조성물을 경화하는 단계를 포함한다.
본원에서 사용되는 "~을 포함하는(comprising)"의 개념은 "~을 포함하는(include)" 및 "~로 이루어진(consist of)"의 개념을 의미하고 이를 포함하도록 가장 넓은 의미로 사용된다.
본 출원의 목적상, "치환된"은 탄화수소 기 내의 하나 이상의 수소 원자가 다른 치환기로 대체되었음을 의미한다. 그러한 치환기의 예에는, 염소, 불소, 브롬 및 요오드와 같은 할로겐 원자; 클로로메틸, 퍼플루오로부틸, 트리플루오로에틸 및 노나플루오로헥실과 같은 할로겐 원자 함유기; 산소 원자; (메트)아크릴 및 카르복실과 같은 산소 원자 함유기; 질소 원자; 아미노-작용성기, 아미도-작용성기 및 시아노-작용성기와 같은 질소 원자 함유기; 황 원자; 및 메르캅토기와 같은 황 원자 함유기가 포함되나, 이로 제한되는 것은 아니다.
상기 조성물은, 가열 없이 실온에서 경화되지만 적절하다고 여겨지는 경우에는 가열에 의해 가속될 수 있다는 점에서, 바람직하게는 실온 가황성 조성물이다.
분자당 적어도 2개의 히드록실 또는 가수분해성 기를 갖는 오르가노폴리실록산 중합체(a)는 하기 화학식(1)을 가지며:
[화학식(1)]
X3-nRnSi-(Z)d ―(O)q- (R1 ySiO(4-y)/2)z ―(SiR1 2- Z)d-Si-RnX3-n
상기 식에서, 각각의 X는 독립적으로 히드록실기 또는 가수분해성 기이고, 각각의 R은 알킬, 알케닐 또는 아릴기이고, 각각의 R1은 X기, 알킬기, 알케닐기 또는 아릴기이고, Z는 2가 유기기이고;
d는 0 또는 1이고, q는 0 또는 1이며, d+q = 1이고; n은 0, 1, 2 또는 3이고, y는 0, 1 또는 2이고, z는, 스핀들 52를 사용하는 원추형 평판이 장착된 Brookfield HBDV-III Ultra Rheometer를 사용하여 공개적으로 사용 가능하고 ASTM D 1084-16 방법 B를 기반으로 하는 기업 시험 방법(Corporate test method) CTM 0050에 따라 측정하였을 때, 상기 오르가노폴리실록산 중합체(a)가 25℃에서 30,000 내지 150,000 mPa.s, 대안적으로 25℃에서 40,000 내지 140,000 mPa.s의 점도를 갖도록 하는 정수이다. 본원에서 모든 점도 측정은 달리 나타내지 않는 한 25℃에서 취하였다. 대안적으로, 점도는 고려된 점도에 대해 가장 적합한 설정 및 판을 이용한 오스트리아, 그라츠 소재의 Anton Paar GmbH의 Modular Compact Rheometer(MCR) 302 레오미터를 이용하여 측정될 수 있다. 예를 들어, 30,000-160,000 mPa.s 범위의 점도는, 40 mm 직경 원추형 평판이 장착된 MCR 302 레오미터를 이용하고 전단 속도를 1s-1로 하여 측정될 수 있고; 2000-30,000 mPa.s 범위의 점도는 50 mm 직경 원추형 평판이 장착된 MCR 302 레오미터를 이용하고 전단 속도를 1s-1로 하여 측정될 수 있고; 10-2000 mPa.s 범위의 점도는 75 mm 직경 원추형 평판이 장착된 MCR 302 레오미터를 이용하고 전단 속도를 1s-1로 하여 측정될 수 있다.
오르가노폴리실록산 중합체(a)의 각각의 X 기는 동일하거나 상이할 수 있으며, 히드록실기 또는 축합성 또는 가수분해성 기일 수 있다. 용어 "가수분해성 기"는 실온에서 물에 의해 가수분해되는 규소에 부착된 임의의 기를 의미한다. 가수분해성 기 X는 화학식 -OT의 기를 포함하며, 여기서 T는 알킬기, 예컨대 메틸, 에틸, 이소프로필, 옥타데실, 알케닐기, 예컨대 알릴, 헥세닐, 고리형 기, 예컨대 사이클로헥실, 페닐, 벤질, 베타-페닐에틸; 탄화수소 에테르기, 예컨대 2-메톡시에틸, 2-에톡시이소프로필, 2-부톡시이소부틸, p-메톡시페닐 또는 -(CH2CH2O)2CH3이다.
가장 바람직한 X기는 히드록실기 또는 알콕시기이다. 예시적인 알콕시기는 메톡시, 에톡시, 프로폭시, 이소프로폭시, n-부톡시, t-부톡시, 이소부톡시, 펜톡시, 헥속시, 옥타데실옥시 및 2-에틸헥속시; 디알콕시기, 예컨대 메톡시메톡시 또는 에톡시메톡시 및 알콕시아릴옥시, 예컨대 에톡시페녹시기이다. 가장 바람직한 알콕시기는 메톡시 또는 에톡시이다. d=1인 경우, n은 전형적으로는 0 또는 1이며, 각각의 X는 알콕시기, 대안적으로 1 내지 3개의 탄소를 갖는 알콕시기, 대안적으로 메톡시 또는 에톡시기이다. 이러한 경우, 오르가노폴리실록산 중합체(a)는 하기 구조를 갖는다:
X3-nRnSi-(Z)- (R1 ySiO(4-y)/2)z ―(SiR1 2- Z)-Si-RnX3-n
상기 식에서, R, R1, Z, y 및 z는 상기에 앞서 식별된 바와 동일하고, n은 0 또는 1이고, 각각의 X는 알콕시기이다.
각각의 R은 개별적으로 알킬기, 대안적으로 탄소수 1 내지 10, 대안적으로 탄소수 1 내지 6, 대안적으로 탄소수 1 내지 4의 알킬기, 대안적으로 메틸 또는 에틸기; 알케닐기, 대안적으로 탄소수 2 내지 10, 대안적으로 탄소수 2 내지 6의 알케닐기, 예컨대 비닐, 알릴 및 헥세닐기; 방향족기, 대안적으로 탄소수 6 내지 20의 방향족기, 치환된 지방족 유기기, 예컨대 3,3,3-트리플루오로프로필기 아미노알킬기, 폴리아미노알킬기 및/또는 에폭시알킬기로부터 선택된다.
각각의 R1은 X 또는 R로 이루어진 군으로부터 개별적으로 선택되나, 단, 누적하여 분자당 적어도 2개의 X 기 및/또는 R1 기는 히드록실 또는 가수분해성 기이다. 일부 R1 기는 중합체 골격의 실록산 분지일 수 있으며, 이러한 분지는 전술된 바와 같은 말단 기를 가질 수 있다. 가장 바람직한 R1은 메틸이다.
각각의 Z는 독립적으로 1 내지 10개의 탄소 원자를 갖는 알킬렌기로부터 선택된다. 하나의 대안에서, 각각의 Z는 독립적으로 탄소수 2 내지 6의 알킬렌기로부터 선택되고; 추가 대안에서 각각의 Z는 독립적으로 탄소수 2 내지 4의 알킬렌기로부터 선택된다. 각각의 알킬렌기는 예를 들어 개별적으로 에틸렌, 프로필렌, 부틸렌, 펜틸렌 및/또는 헥실렌기로부터 선택될 수 있다.
또한, n은 0, 1, 2 또는 3이고, d는 0 또는 1이고, q는 0 또는 1이며, d+q = 1이다. 하나의 대안에서, q가 1인 경우, n은 1 또는 2이며, 각각의 X는 OH 기 또는 알콕시기이다. 다른 대안에서, d가 1인 경우, n은 0 또는 1이며, 각각의 X는 알콕시기이다.
오르가노폴리실록산 중합체(a)는, 25℃에서 30,000 내지 150,000 mPa.s, 대안적으로 25℃에서 40,000 내지 140,000 mPa.s의 점도를 갖고, 여기서 상기 점도는 상기 기재된 바와 같은 방법 중 하나를 이용하여 결정되며; z는 그에 따라 그러한 점도를 가능하게 하는 정수이고, 대안적으로 z는 300 내지 5000의 정수이다. y는 0, 1 또는 2이지만, 실질적으로 y=2이며, 예를 들어 R1 ySiO(4-y)/2 기의 적어도 90%, 대안적으로 95%는 y=2를 특징으로 한다.
오르가노폴리실록산 중합체(a)는 화학식 (1)로 표시되는 단일 실록산일 수 있거나, 또는 이는 상기 화학식으로 표시되는 오르가노폴리실록산 중합체의 혼합물일 수 있다. 따라서, 오르가노폴리실록산 중합체(a)와 관련하여 용어 "실록산 중합체 혼합물"은 임의의 개별 오르가노폴리실록산 중합체(a) 또는 오르가노폴리실록산 중합체(a)의 혼합물을 포함하는 것을 의미한다.
중합도(DP)(즉, 상기 화학식에서, 실질적으로 z임)는 일반적으로는 실리콘의 거대분자 또는 중합체 또는 올리고머 분자 내의 단량체 단위의 수로서 정의된다. 합성 중합체는 항상 상이한 중합도 및 따라서 상이한 분자량을 갖는 거대분자 종들의 혼합물로 이루어진다. 다른 실험에서 측정할 수 있는 상이한 유형의 평균 중합체 분자량이 있다. 가장 중요한 두 가지는 수 평균 분자량(Mn) 및 중량 평균 분자량(Mw)이다. 실리콘 중합체의 Mn 및 Mw는 폴리스티렌 표준을 이용하여 약 10 내지 15%의 정밀도로 겔 투과 크로마토그래피(GPC)에 의해 결정될 수 있다.
이러한 기법은 표준 기법이며, Mw, Mn 및 다분산도 지수(PI)를 산출한다. 중합도(DP) = Mn/Mu, 여기서, Mn은 GPC 측정으로부터 얻어진 수 평균 분자량이고, Mu는 단량체 단위의 분자량이다. PI=Mw/Mn. DP는 Mw를 통해 중합체의 점도와 연결되며, DP가 더 높을수록 점도는 더 높다. 본 개시내용에서, 본원의 성분(a)의 수 평균 분자량 및 중량 평균 분자량 값은 예를 들어 진공 탈기 장치가 장착된 Waters 2695 Separations Module 및 Waters 2414 굴절률 검출기(Waters Corporation, MA, USA)를 이용하여 결정될 수 있다. 이어서, 용리액으로서 1.0 mL/분으로 흐르는 인증된 등급 톨루엔을 이용하여 분석을 수행할 수 있다. 데이터 수집 및 분석은 Waters Empower GPC 소프트웨어를 사용하여 수행할 수 있다.
오르가노폴리실록산 중합체(a)는 조성물의 35 내지 90 중량%, 대안적으로 조성물의 40 내지 90 중량%, 대안적으로 조성물의 45 내지 90 중량%의 양으로 조성물 중에 존재한다.
보강 충전제(b)는 본질적 무수 흄드 실리카 및/또는 침강 실리카를 예로 들 수 있고, 여기서 각 경우에서는 바람직하게 미분된 형태이다. 본질적 무수라는 것은, 충전제가 100% 무수성이라는 것이 거의 불가능하기 때문에 소량의 수분이 충전제에 잔존할 수 있지만, 충전제가 가능한 한 실질적으로 무수인 것이 바람직함을 의미한다.
침강 실리카, 흄드 실리카 및/또는 콜로이드성 실리카가 특히 바람직한데, 이는 전형적으로 50 m²/g 이상(ISO 9277: 2010에 따른 BET 방법)인 그의 상대적으로 높은 표면적 때문이다. 표면적이 50 내지 450 m²/g(ISO 9277: 2010에 따른 BET 방법)인, 대안적으로 50 내지 400 m²/g(ISO 9277: 2010에 따른 BET 방법)인 충전제가 전형적으로 사용된다. 이러한 모든 유형의 실리카가 상업적으로 입수 가능하다.
전형적으로 이러한 보강 충전제는 천연적으로 친수성(예를 들어, 미처리 실리카 충전제)이고, 그에 따라 통상 처리제로 처리하여 이를 소수성으로 만든다. 표면 처리는 충전제를 성분(a)에 의해 용이하게 습윤되게 하기 때문에, 이러한 표면 개질된 보강 충전제는 덩어리지지 않고, 균질하게 성분(a)의 폴리디오르가노실록산에 혼입될 수 있다.
보강 충전제(b)는 이것이 취급되기 더 쉽게 되고, 다른 성분과 균질한 혼합물을 수득하고, 가공 동안 오르가노실록산 조성물의 크레핑(creping)을 방지하기 위해 적용 가능한 당업계에서 개시된 임의의 저분자량 오르가노규소 화합물로 표면 처리될 수 있다. 예를 들어, 오르가노실란, 폴리디오르가노실록산 또는 오르가노실라잔, 예를 들어, 헥사알킬 디실라잔, 단쇄 실록산 디올은 충전제(들)를 소수성으로 만들고, 이에 따라 취급이 더 용이해지고, 다른 성분과의 균질한 혼합물을 얻기가 더 용이해진다. 구체적 예는 실란올 종결된 트리플루오로프로필메틸실록산, 실란올 종결된 비닐 메틸(ViMe) 실록산, 실란올 종결된 메틸 페닐(MePh) 실록산, 각각의 분자에서 평균 2 내지 20개의 디오르가노실록산 반복 단위를 함유하는 액체 히드록실디메틸-종결된 폴리디오르가노실록산, 히드록실디메틸 종결된 페닐메틸 실록산, 헥사오르가노디실록산, 예컨대 헥사메틸디실록산, 디비닐테트라메틸디실록산; 헥사오르가노디실라잔, 예컨대 헥사메틸디실라잔(HMDZ), 디비닐테트라메틸디실라잔 및 테트라메틸디(트리플루오로프로필)디실라잔; 히드록실디메틸 종결된 폴리디메틸메틸비닐 실록산, 옥타메틸 사이클로테트라실록산 및 실란, 예컨대 메틸트리메톡시실란, 디메틸디메톡시실란, 비닐트리메톡시실란, 메틸트리에톡시실란, 비닐트리에톡시실란, 클로트리메틸 실란, 디클로디메틸 실란을 포함하나, 이로 제한되는 것은 아니다.
소량의 물이 가공 보조제로서 실리카 처리제(들)와 함께 첨가될 수 있다.
충전제가 조성물에 도입되기 전에 표면 처리될 수 있거나, 대안적으로는 통상 폴리오르가노실록산 성분(a) 및 상기 충전제를 실질적으로 포함하는 베이스 물질 제조 동안에 제자리에서(in-situ) 표면 처리될 수 있다.
충전제가 조성물에 도입되기 전에 표면 처리될 수 있거나, 대안적으로는 통상 폴리오르가노실록산 성분(a) 및 상기 충전제(b)를 실질적으로 포함하는 베이스 물질 제조 동안에 제자리에서 표면 처리될 수 있다.
보강 충전제는 조성물의 2.5 내지 40 중량%(wt%), 대안적으로는 조성물의 5.0 내지 35 중량%, 대안적으로는 조성물의 5 내지 20 중량%, 대안적으로는 조성물의 7.0 내지 15 중량%, 대안적으로 조성물의 7 내지 12 중량%, 대안적으로 조성물의 7 내지 11 중량%의 양으로 존재한다.
성분(c)는 분자당 적어도 2개, 대안적으로 적어도 3개의 히드록실 및/또는 가수분해성 기를 갖는 규소 함유 화합물을 포함하는 하나 이상의 가교제이다.
성분(c)는 가교제로서 효과적으로 작용하며, 따라서 분자당 최소 2개, 바람직하게는 3개 이상의 가수분해성 기를 필요로 한다. 성분(c)는 성분(a)가 분자당 3개 이상의 히드록실 또는 가수분해성 기를 가질 때 2개의 가수분해성 기를 가질 수 있다. 따라서, 성분(c)는 성분(a)의 실란올 기와 반응성인 규소-결합된 축합성(바람직하게는, 히드록실 및/또는 가수분해성) 기를 분자당 2개 가질 수 있지만, 대안적으로 3개 이상을 가질 수 있다.
전형적으로 성분(c)는 하기일 수 있다:
- 분자 기당 적어도 2개의 가수분해성 기, 대안적으로 적어도 3개의 가수분해성 기를 갖는 하나 이상의 실란; 및/또는
- 각각의 실릴기가 적어도 하나의 가수분해성 기를 함유하는 적어도 2개의 실릴기를 갖는 하나 이상의 실릴 작용성 분자.
본원에서 개시를 위해, 디실릴 작용성 분자는 적어도 하나의 가수분해성 기를 각각 갖는 2개의 규소 원자를 포함하며, 여기서 규소 원자는 전술되지 않은 유기 사슬 또는 실록산 사슬에 의해 분리된다. 전형적으로, 디실릴 작용성 분자 상의 각 실릴기는 말단기일 수 있다. 스페이서(spacer)는 중합체 사슬일 수 있다.
실릴기 상의 가수분해성 기는 아크릴옥시기(예를 들어, 아세톡시, 옥타노일옥시, 및 벤조일옥시기); 케톡시미노기(예를 들어, 디메틸 케톡시모, 및 이소부틸케톡시모); 알콕시기(예를 들어, 메톡시, 에톡시 및 프로폭시) 및 알케닐옥시기(예를 들어, 이소프로페닐옥시 및 1-에틸-2-메틸비닐옥시)로부터 선택될 수 있다. 일부 경우에, 가수분해성 기는 히드록실기를 포함할 수 있다. 대안적으로, 실릴기 상의 상기 가수분해성 기는 아크릴옥시기; 알콕시기 및/또는 알케닐옥시기로부터 선택된다.
성분(c)가 실란인 경우, 상기 실란은 알콕시 작용성 실란, 옥시모실란, 아세톡시 실란, 아세톤옥심 실란 및/또는 에녹시 실란을 포함할 수 있다. 바람직하게 성분(c)가 실란인 경우, 상기 실란은 알콕시 작용성 실란, 아세톡시 실란, 아세톤옥심 실란 및/또는 에녹시 실란을 포함할 수 있고, 알콕시 작용성 실란이 가장 바람직하다.
성분(c)가 실란인 경우 및 실란이 분자당 단지 3개의 규소-결합된 가수분해성 기를 갖는 경우, 제4의 기는 적합하게는 비-가수분해성 규소-결합된 유기 기이다. 이러한 규소-결합된 유기 기는 적합하게는 불소 및 염소와 같은 할로겐으로 선택적으로 치환된 히드로카빌기이다. 이러한 제4의 기의 예에는 알킬기(예를 들어 메틸, 에틸, 프로필 및 부틸); 사이클로알킬기(예를 들어 사이클로펜틸 및 사이클로헥실); 알케닐기(예를 들어 비닐 및 알릴); 아릴기(예를 들어 페닐 및 톨릴); 아르알킬기(예를 들어, 2-페닐에틸) 및 전술한 유기 기 내의 수소 중 전부 또는 일부를 할로겐으로 대체하여 얻은 기가 포함된다. 제4의 규소-결합된 유기 기는 메틸일 수 있다.
전형적인 실란은 하기 화학식(8)로 기술될 수 있다:
[화학식(8)]
R"4-rSi(OR5)r
상기 식에서, R5는 후술되며, r은 2, 3 또는 4의 값을 갖는다. 전형적인 실란은 R"가 메틸, 에틸 또는 비닐 또는 이소부틸을 나타내는 것들이다. R"은 선형 및 분지형 알킬, 알릴, 페닐 및 치환된 페닐, 아세톡시, 옥심으로부터 선택되는 유기 라디칼이다. 일부 경우에, R5는 메틸 또는 에틸을 나타내며, r은 3이다.
다른 유형의 성분(c)에 대한 적합한 실란은 유형 Si(OR5)4의 분자이며, 여기서 R5는 하기에 기재되는 바와 같고, 대안적으로 프로필, 에틸 또는 메틸이다. Si(OR5)4의 부분 축합물이 또한 고려될 수 있다.
추가의 실시형태에서, 성분(c)는 적어도 1개 내지 3개 이하의 가수분해성 기를 각각 갖는 적어도 2개의 실릴 기를 갖는 실릴 작용성 분자이며, 대안적으로 각각의 실릴 기는 적어도 2개의 가수분해성 기를 갖는다.
성분(c)는 디실릴 작용성 중합체, 즉, 하기 화학식(4)에 의해 기술되는 바와 같은 적어도 하나의 가수분해성 기를 각각 함유하는 2개의 실릴기를 함유하는 중합체일 수 있다:
[화학식(4)]
(R6O)m(Y1)3-m ― Si (CH2)x ― ((NHCH2CH2)t - Q(CH2)x)s - Si(OR6)m(Y1)3-m
상기 식에서, R6은 C1-10 알킬기이고, Y1은 1 내지 8개의 탄소를 함유하는 알킬기이고,
Q는 고립 전자쌍을 갖는 헤테로원자를 함유하는 화학 기, 예를 들어 아민, N-알킬아민 또는 우레아이고; 각각의 x는 1 내지 6의 정수이고, t는 0 또는 1이고; 각각의 m은 독립적으로 1, 2 또는 3이고, s는 0 또는 1이다.
성분(c)가 디실릴 작용성 중합체인 경우, 중합체는 유기 중합체성 골격을 가질 수 있다. 실릴(예를 들어, 디실릴) 작용성 성분(c)의 중합체성 골격은 유기일 수 있으며, 즉 성분(c)는 실릴 말단기를 갖는 유기 기반 중합체, 예를 들어 실릴 폴리에테르, 실릴 아크릴레이트 및 실릴 종결된 폴리이소부틸렌을 포함할 수 있다. 실릴 폴리에테르의 경우, 중합체 사슬은 폴리옥시알킬렌계 단위를 기반으로 한다. 그러한 폴리옥시알킬렌 단위는 바람직하게는 평균 화학식 (-CnH2n-O-)y(여기서, n은 2 내지 4의 정수(2와 4를 포함함)이고 y는 4 이상의 정수임)에 의해 예시되는, 반복되는 옥시알킬렌 단위, (-CnH2n-O-)로 구성된 주로 선형 옥시알킬렌 중합체를 포함한다. 마찬가지로, 점도는 25℃에서 ≤ 1000 mPa.s일 것이고, 대안적으로는 25℃에서 250 내지 1000 mPa.s일 것이고, 대안적으로 25℃에서 250 내지 750 mPa.s일 것이고, 존재하는 각각의 폴리옥시알킬렌 중합체 블록의 적합한 수 평균 분자량을 가질 것이다. 점도는 상기 기재된 바와 같이 고려된 점도에 대해 가장 적합한 설정 및 판을 이용한 오스트리아, 그라츠 소재의 Anton Paar GmbH의 Modular Compact Rheometer(MCR) 302와 같은 임의의 적합한 수단을 이용하여 측정될 수 있다. 더욱이, 옥시알킬렌 단위는 폴리옥시알킬렌 단량체 전체에 걸쳐 반드시 동일하지는 않지만, 단위마다 상이할 수 있다. 폴리옥시알킬렌 블록 또는 중합체는, 예를 들어, 옥시에틸렌 단위(-C2H4-O-); 옥시프로필렌 단위(-C3H6-O-); 또는 옥시부틸렌 단위(-C4H8-O-); 또는 이들의 혼합물로 구성될 수 있다.
다른 폴리옥시알킬렌 단위는 예를 들어 하기 구조의 단위를 포함할 수 있다:
-[-Re-O-(-Rf-O-)w-Pn-CRg 2-Pn-O-(-Rf-O-)q-Re]-
상기 식에서, Pn은 1,4-페닐렌기이고, 각각의 Re는 상동 또는 상이하고, 탄소수 2 내지 8의 2가 탄화수소기이고, 각각의 Rf는 상동 또는 상이하고, 에틸렌기 또는 프로필렌기이고, 각각의 Rg는 상동 또는 상이하고, 수소 원자 또는 메틸기이고, 아래첨자 w 및 q 각각은 3 내지 30 범위의 양의 정수이다.
본 출원의 목적상, "치환된"은 탄화수소 기 내의 하나 이상의 수소 원자가 다른 치환기로 대체되었음을 의미한다. 그러한 치환기의 예에는, 염소, 불소, 브롬 및 요오드와 같은 할로겐 원자; 클로로메틸, 퍼플루오로부틸, 트리플루오로에틸 및 노나플루오로헥실과 같은 할로겐 원자 함유기; 산소 원자; (메트)아크릴 및 카르복실과 같은 산소 원자 함유기; 질소 원자; 아미노-작용성기, 아미도-작용성기 및 시아노-작용성기와 같은 질소 원자 함유기; 황 원자; 및 메르캅토기와 같은 황 원자 함유기가 포함되나, 이로 제한되는 것은 아니다. 상기 유기 기반 가교제의 경우, 분자 구조는 직쇄형, 분지형, 사이클릭 또는 거대분자, 즉 알콕시 작용성 말단기를 갖는 유기 중합체 사슬일 수 있다.
임의의 적합한 가수분해성 기가 이용될 수 있지만, 가수분해성 기가 알콕시 기이고, 따라서 말단 실릴 기가 -RaSi(ORb)2, -Si(ORb)3, -Ra 2SiORb 또는 ―(Ra)2 Si -Rc- SiRd p(ORb)3-p와 같은 화학식을 가질 수 있는 것이 바람직하며, 상기 식에서 각각의 Ra는 독립적으로 1가 히드로카빌 기, 예를 들어 알킬 기, 특히 1 내지 8개의 탄소 원자를 갖는 알킬 기를 나타내고(바람직하게는 메틸이고); 각각의 Rb 및 Rd 기는 독립적으로 탄소수 6개 이하의 알킬기이고; Rc는 6개 이하의 규소 원자를 갖는 하나 이상의 실록산 스페이서가 개재될 수 있는 2가 탄화수소기이고; p는 값 0, 1 또는 2를 가진다. 전형적으로 각각의 말단 실릴기는 2 또는 3개의 알콕시기를 가질 것이다.
따라서, 성분(c)는 알킬트리알콕시실란, 예를 들어 메틸트리메톡시실란(MTM) 및 메틸트리에톡시실란, 테트라에톡시실란, 부분적으로 축합된 테트라에톡시실란, 알케닐트리알콕시 실란, 예를 들어 비닐트리메톡시실란 및 비닐트리에톡시실란, 이소부틸트리메톡시실란(iBTM)을 포함한다. 다른 적합한 실란은 에틸트리메톡시실란, 비닐트리에톡시실란, 페닐트리메톡시실란, 알콕시트리옥시모실란, 알케닐트리옥시모실란, 3,3,3-트리플루오로프로필트리메톡시실란, 메틸트리아세톡시실란, 비닐트리아세톡시실란, 에틸 트리아세톡시실란, 디-부톡시 디아세톡시실란, 페닐-트리프로피온옥시실란, 메틸트리스(메틸에틸케톡시모)실란, 비닐-트리스-메틸에틸케톡시모)실란, 메틸트리스(메틸에틸케톡시미노)실란, 메틸트리스(이소프로페녹시)실란, 비닐트리스(이소프로페녹시)실란, 에틸폴리실리케이트, n-프로필오르토실리케이트, 에틸오르토실리케이트, 디메틸테트라아세톡시디실록산, 옥시모실란, 아세톡시 실란, 아세톤옥심 실란, 에녹시 실란 및 이의 다른 상기 삼작용성 알콕시실란뿐만 아니라 부분 가수분해 축합 생성물; 1,6-비스(트리메톡시실릴)헥산(대안적으로 헥사메톡시디실릴헥산으로 알려져 있음), 비스(트리알콕시실릴알킬)아민, 비스(디알콕시알킬실릴알킬)아민, 비스(트리알콕시실릴알킬) N-알킬아민, 비스(디알콕시알킬실릴알킬) N-알킬아민, 비스(트리알콕시실릴알킬)우레아, 비스(디알콕시알킬실릴알킬) 우레아, 비스(3-트리메톡시실릴프로필)아민, 비스(3-트리에톡시실릴프로필)아민, 비스(4-트리메톡시실릴부틸)아민,
비스(4-트리에톡시실릴부틸)아민, 비스(3-트리메톡시실릴프로필)N-메틸아민,
비스(3-트리에톡시실릴프로필) N-메틸아민, 비스(4-트리메톡시실릴부틸) N-메틸아민, 비스(4-트리에톡시실릴부틸) N-메틸아민, 비스(3-트리메톡시실릴프로필)우레아,
비스(3-트리에톡시실릴프로필)우레아, 비스(4-트리메톡시실릴부틸)우레아, 비스(4-트리에톡시실릴부틸)우레아, 비스(3-디메톡시메틸실릴프로필)아민, 비스(3-디에톡시메틸실릴프로필)아민, 비스(4-디메톡시메틸실릴부틸)아민, 비스(4-디에톡시메틸실릴부틸)아민,
비스(3-디메톡시메틸실릴프로필) N-메틸아민,
비스(3-디에톡시메틸실릴프로필) N-메틸아민,
비스(4-디메톡시메틸실릴부틸) N-메틸아민,
비스(4-디에톡시메틸실릴부틸) N-메틸아민, 비스(3-디메톡시메틸실릴프로필)우레아, 비스(3-디에톡시메틸실릴프로필)우레아, 비스(4-디메톡시메틸실릴부틸)우레아,
비스(4-디에톡시메틸실릴부틸)우레아, 비스(3-디메톡시에틸실릴프로필)아민,
비스(3-디에톡시에틸실릴프로필)아민, 비스(4-디메톡시에틸실릴부틸)아민,
비스(4-디에톡시에틸실릴부틸)아민, 비스(3-디메톡시에틸실릴프로필) N-메틸아민, 비스(3-디에톡시에틸실릴프로필) N-메틸아민, 비스(4-디메톡시에틸실릴부틸) N-메틸아민,
비스(4-디에톡시에틸실릴부틸) N-메틸아민, 비스(3-디메톡시에틸실릴프로필)우레아, 비스(3-디에톡시에틸실릴프로필)우레아, 비스(4-디메톡시에틸실릴부틸)우레아 및/또는
비스(4-디에톡시에틸 실릴부틸)우레아; 비스(트리에톡시실릴프로필)아민, 비스(트리메톡시실릴프로필)아민, 비스(트리메톡시실릴프로필)우레아, 비스(트리에톡시실릴프로필)우레아, 비스(디에톡시메틸실릴프로필)N-메틸아민; 디 또는 트리알콕시 실릴 종결된 폴리디알킬 실록산, 디 또는 트리알콕시 실릴 종결된 폴리아릴알킬 실록산, 디 또는 트리알콕시 실릴 종결된 폴리프로필렌옥시드, 폴리우레탄, 폴리아크릴레이트; 폴리이소부틸렌; 디 또는 트리아세톡시 실릴 종결된 폴리디알킬; 폴리아릴알킬 실록산; 디 또는 트리옥시미노 실릴 종결된 폴리디알킬; 폴리아릴알킬 실록산; 디 또는 트리아세토녹시 종결된 폴리디알킬 또는 폴리아릴알킬을 포함한다. 사용되는 성분(c)는 또한 상기한 것들 중 둘 이상의 임의의 조합을 포함할 수 있다.
성분(c)가 상기 기재된 바와 같은 하나 이상의 실란 또는 실릴 작용성 분자인 경우, 이들은 조성물에 조성물의 1 내지 25 중량%(wt%)의 양으로 존재할 수 있다.
상기 분자당 적어도 3개의 히드록실 및/또는 가수분해성 기를 갖는 하나 이상의 실란 가교제(c)는, 존재하는 경우, 하기 구조를 갖는 실란으로부터 선택될 수 있다:
R8 j Si(OR5)4-j
앞서 언급된 바와 같이, 상기 식에서, 각각의 R5는 동일하거나 상이할 수 있으며, 수소 또는 적어도 하나의 탄소, 대안적으로 1 내지 20개의 탄소, 대안적으로 1 내지 10개의 탄소, 대안적으로 1 내지 6개의 탄소를 함유하는 알킬기이다. j의 값은 0 또는 1이다. 각각의 R5 기는 동일하거나 상이할 수 있지만, 적어도 2개의 R5 기가 동일하고, 대안적으로 적어도 3개의 R5 기가 동일하며, 대안적으로 j가 0인 경우 모든 R5 기는 동일한 것이 바람직하다. 따라서, j가 0인 경우의 반응성 실란(c)의 구체적인 예는 테트라에틸오르토실리케이트, 테트라프로필오르토실리케이트, 테트라 n-부틸오르토실리케이트 및 테트라 t-부틸오르토실리케이트를 포함한다.
j가 1일 때, 기 R8이 존재한다. R8은 적어도 1개의 탄소를 갖는 치환 또는 비치환된 직쇄 또는 분지형 1가 탄화수소 기, 사이클로알킬기, 아릴기, 아르알킬기, 또는 탄소에 결합된 적어도 하나의 수소 원자가 할로겐 원자, 또는 에폭시기, 글리시딜기, 아실기, 카르복실기, 에스테르기, 아미노기, 아미드기, (메트)아크릴기, 메르캅토기, 이소시아누레이트기 또는 이소시아네이트기를 갖는 유기 기에 의해 치환되는 전술한 것들 중 임의의 하나로부터 선택되는 규소-결합된 유기 기이다. R8로서 적합한 비치환된 1가 탄화수소 기는 알킬기, 예를 들어 메틸, 에틸, 프로필, 및 다른 알킬기, 알케닐기, 예를 들어 비닐기를 포함할 수 있으며, 사이클로알킬기는 사이클로펜탄기 및 사이클로헥산기를 포함할 수 있다. R8에서 또는 R8로서 적합한 치환된 기는, 예를 들어, 3-히드록시프로필기, 3-(2-히드록시에톡시)알킬기, 할로프로필기, 3-메르캅토프로필기, 트리플루오로알킬기, 예를 들어 3,3,3-트리플루오로프로필, 2,3-에폭시프로필기, 3,4-에폭시부틸기, 4,5-에폭시펜틸기, 2-글리시독시에틸기, 3-글리시독시프로필기, 4-글리시독시부틸기, 2-(3,4-에폭시사이클로헥실) 에틸기, 3-(3,4-에폭시사이클로헥실)알킬기, 아미노프로필기, N-메틸아미노프로필기, N-부틸아미노프로필기, N,N-디부틸아미노프로필기, 3-(2-아미노에톡시)프로필기, 메타크릴옥시알킬기, 아크릴옥시알킬기, 카르복시알킬기, 예를 들어 3-카르복시프로필기, 10-카르복시데실기를 포함할 수 있다.
분자당 적어도 3개의 히드록실 및/또는 가수분해성 기를 갖는 적합한 실란 가교제(c)의 구체적인 예로는 비닐트리메톡시실란, 메틸트리메톡시실란, 에틸트리에톡시실란, 에틸트리메톡시실란, 프로필트리에톡시실란, 이소부틸트리에톡시실란, 이소부틸트리메톡시실란, 비닐트리에톡시실란, 페닐트리에톡시실란, 페닐트리메톡시실란, 메틸트리스(이소프로페녹시)실란 또는 비닐트리스(이소프로페녹시)실란, 3-히드록시프로필 트리에톡시실란, 3-히드록시프로필 트리메톡시실란, 3-(2-히드록시에톡시)에틸트리에톡시실란, 3-(2-히드록시에톡시)에틸트리메톡시실란, 클로로프로필 트리에톡시실란, 3-메르캅토프로필 트리에톡시실란, 3,3,3-트리플루오로프로필 트리에톡시실란, 2,3-에폭시프로필 트리에톡시실란, 2,3-에폭시프로필 트리메톡시실란, 3,4-에폭시부틸 트리에톡시실란, 3,4-에폭시부틸 트리메톡시실란, 4,5-에폭시펜틸 트리에톡시실란, 4,5-에폭시펜틸 트리메톡시실란, 2-글리시독시에틸 트리에톡시실란, 2-글리시독시에틸 트리메톡시실란, 3-글리시독시프로필 트리에톡시실란, 3-글리시독시프로필 트리메톡시실란, 4-글리시독시부틸 트리에톡시실란, 4-글리시독시부틸 트리메톡시실란, 2-(3,4-에폭시사이클로헥실)에틸 트리에톡시실란, 3-(3,4-에폭시사이클로헥실)에틸 트리에톡시실란, 아미노프로필 트리에톡시실란, 아미노프로필 트리메톡시실란, N-메틸아미노프로필 트리에톡시실란, N-메틸아미노프로필 트리메톡시실란, N-부틸아미노프로필 트리메톡시실란, N,N-디부틸아미노프로필 트리에톡시실란, 3-(2-아미노에톡시)프로필 트리에톡시실란, 메타크릴옥시프로필 트리에톡시실란, 트리스(3-트리에톡시실릴프로필) 이소시아누레이트, 아크릴옥시프로필 트리에톡시실란, 3-카르복시프로필 트리에톡시실란 및 10-카르복시데실 트리에톡시실란을 포함하지만, 이에 제한되지 않는다.
분자당 적어도 3개의 히드록실 및/또는 가수분해성 기를 갖는 하나 이상의 가교제(c)는 조성물의 0.1 내지 5 중량%의 양, 조성물의 0.5 내지 4 중량%의 양, 대안적으로 조성물의 1 내지 3.5 중량%의 양, 대안적으로 조성물의 1 내지 3.5 중량%의 양으로 존재한다.
성분(d), 주석(iv) 촉매는 임의의 적합한 주석(iv)계 축합 경화 촉매일 수 있다. 적합한 주석(iv)계 촉매의 예에는 디메틸주석 디-2-에틸헥사노에이트, 디메틸주석 디라우레이트, 디-n-부틸주석 디아세테이트(DBTDA), 디-n-부틸주석 디-2-에틸헥사노에이트, 디메틸주석 디네오데카노에이트(DMTDN), 디옥틸주석 디네오데카노에이트(DOTDN), 디-n-부틸주석 디카프릴레이트, 디-n-부틸주석 디-2,2-디메틸옥타노에이트, 디-n-부틸주석 옥타노네이트, 디-n-부틸주석 디라우레이트(DBTDL), 디-n-부틸주석 디스테아레이트, 디-n-부틸주석 디말레에이트, 디-n-부틸주석 디올레에이트, 디-n-옥틸주석 디-2-에틸헥사노에이트, 디-n-옥틸주석 디-2,2-디메틸옥타노에이트, 디-n-옥틸주석 디말레에이트, 디-n-옥틸 주석 디라우레이트(DOTDL), 디-n-부틸 주석 옥시드, 카르보메톡시페닐 주석 트리수베레이트, 주석 부티레이트, 부틸주석트리-2-에틸헥소에이트, 주석 나프테네이트, 이소부틸주석트리세로에이트 주석 옥토에이트, 트리에틸주석 타르트레이트 및 디-n-옥틸 주석 옥시드로부터 선택된, 디알킬주석 화합물, 주석 트리플레이트를 포함한다. 상기 주석(iv)계 축합 촉매는 조성물의 0.001 내지 0.1 중량%(wt%)(양쪽의 끝 수 포함)의 양으로 존재한다.
성분(e)는 조성물의 0.1 내지 3.5 중량%(wt%), 대안적으로는 조성물의 0.1 내지 1.5 중량%(wt%), 대안적으로 조성물의 0.1 내지 1.0 중량%(wt%) 양의, 아미딘, 구아니딘 및 기타 알킬 아민 및 알킬 폴리아민으로부터 선택된 하나 이상의 저분자량 선형 또는 분지형 질소 함유 화합물이다. 저분자량이란, 1000 g/mol 이하의 분자량을 갖는 것을 의미한다. 성분(e)의 질소 함유 화합물은 선형 또는 분지형인 것으로 확인되며, 이로써 고리형 구아니딘 및 아미딘과 같은 헤테로사이클릭 화합물, 예를 들어 트리아자바이사이클로데센(1,5,7-트리아자바이사이클로[4.4.0]데크-5-엔(TBD)) 7-메틸-1,5,7-트리아자바이사이클로[4.4.0]데크-5-엔(mTBD), 1,5-디아자바이사이클로[4.3.0]논-5-엔(DBN) 및/또는 1,8-디아자바이사이클로[5.4.0]운데크-7-엔(DBU) 및 이미다졸 및 벤즈이미다졸과 같은 헤테로사이클릭 질소기를 함유하는 기타 화합물은 제외된다.
화학적으로, 성분(e)가 어떻게 작용하는지는 확실하지 않지만, 이 존재는, 이것이 아주 적은 양으로 존재할 때 성분(d)의 촉매 특성을 어떤 식으로든 "부스팅"하는 것으로 보이므로, 그러한 소량의 주석(iv) 함유 경화 촉매는 성공적으로 실리콘 실란트 등의 조성물을 경화시킬 수 있게 하나, 촉매 부스트의 부재 하에서는, 주석(iv) 촉매의 양이 충분히 잘 작용하지 않을 수 있다. 성분(e)는 아미딘, 구아니딘, 및 기타 알킬 아민 및 알킬 폴리아민 또는 이들의 혼합물로부터 선택된 하나 이상의 선형 또는 분지형 분자일 수 있다.
아미딘 또는 구아니딘기는 하기에 도시된 기 (1) 내지 (4) 중 하나 이상을 함유하는 선형, 또는 분지형 분자 유기 분자를 포함할 수 있다.
상기 식에서, 각각의 R4, R5, R6, R7 및 R8은 상동 또는 상이할 수 있고, 수소, 알킬기, 사이클로알킬기, 페닐기, 아르알킬기로부터 선택될 수 있다. 또는
대안적으로 기 (1) 내지 (4)는 1 내지 20개의 탄소를 포함하는 선형 또는 분지형 알킬기, 또는 지방족 사이클릭 기에 직접 또는 알킬렌 결합을 통해 결합될 수 있고, 그 예는 구아니딘, 테트라메틸 구아니딘, 예를 들어 구조 (CH3)2N ― C=NH(N(CH3)2)를 갖는 1,1,3,3-테트라메틸구아니딘(TMG)을 포함한다.
대안적으로, 분자량이 1000 g/mol 이하라면, 상기 구조 (1) 내지 (4) 중 어느 하나는 알키드 수지, 오일-개질된 알키드 수지, 포화 또는 불포화 폴리에스테르, 천연 오일, 에폭시드, 폴리아미드, 폴리카르보네이트, 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 폴리부틸렌, 폴리스티렌, 에틸렌-프로필렌 공중합체, (메트)아크릴레이트, (메트)아크릴아미드 및 그 염, 페놀 수지, 폴리옥시메틸렌 동종중합체 및 공중합체, 폴리우레탄, 폴리술폰, 폴리술파이드 고무, 니트로셀룰로오스, 비닐 부티레이트, 비닐 중합체, 에틸셀룰로오스, 셀룰로오스 아세테이트 및/또는 부티레이트, 레이온, 쉘락, 왁스, 에틸렌 공중합체, 유기 고무, 폴리실록산, 폴리에테르실록산, 실리콘 올리고머, 폴리에테르, 폴리에테르에스테르 및/또는 폴리에테르 카르보네이트로 이루어진 군으로부터 선택된 중합체 라디칼에 연결될 수 있다.
추가의 대안에서, 성분(e)은 하나 이상의 알킬 폴리아민, 예컨대 디부틸 아민, 에틸렌 디아민, 트리-에틸렌 3차 아민, 디에틸렌트리아민, 헥실아민 및 디헥실아민 또는 이들의 혼합물일 수 있다.
선택적인 첨가제가 필요 시 이용될 수 있다. 이들은 비-보강 충전제, 안료, 레올로지 개질제, 경화 개질제, 및 살진균제 및/또는 살생물제 등을 포함할 수 있다; 첨가제 중 일부는 하나 초과의 첨가제 목록에 포함될 수 있다는 것을 이해할 수 있을 것이다. 그런 다음, 이러한 첨가제는 언급된 모든 상이한 방식으로 기능하는 능력을 갖게 될 것이다.
단독으로 또는 상기에 더하여 사용될 수 있는 비-보강 충전제는 알루미나이트, 황산칼슘(경석고), 석고, 네펠린, 스베나이트, 석영, 황산칼슘, 탄산마그네슘, 점토, 예를 들어 카올린, 분쇄 탄산칼슘, 삼수산화알루미늄, 수산화마그네슘(수활석), 흑연, 탄산구리, 예를 들어 공작석, 탄산니켈, 예를 들어 자라카이트(zarachite), 탄산바륨, 예를 들어 독중석 및/또는 탄산스트론튬, 예를 들어 스트론티아나이트를 포함한다.
산화알루미늄, 감람석군; 석류석군; 알루미노실리케이트; 고리 실리케이트; 사슬 실리케이트; 및 시트 실리케이트로 이루어진 군으로부터의 실리케이트. 감람석군은 포스테라이트 및 Mg2SiO4와 같은 실리케이트 미네랄을 포함하지만, 이에 제한되지 않는다. 석류석군은 홍석류석; Mg3Al2Si3O12; 그로설라; 및 Ca2Al2Si3O12와 같은 분쇄 실리케이트 미네랄을 포함하나, 이에 제한되지 않는다. 알루미노실리케이트는 규선석; Al2SiO5; 멀라이트; 3Al2O3.2SiO2; 남정석; 및 Al2SiO5와 같은 분쇄 실리케이트 미네랄을 포함한다.
고리 실리케이트 군은 실리케이트 미네랄, 예를 들어 코디어라이트 및 Al3(Mg,Fe)2[Si4AlO18]을 포함하지만, 이에 제한되지 않는다. 사슬 실리케이트 군은 분쇄 실리케이트 미네랄, 예를 들어 규회석 및 Ca[SiO3]을 포함하지만, 이에 제한되지 않는다.
시트 실리케이트 군은 운모; K2AI14[Si6Al2O20](OH)4; 파이로필라이트; Al4[Si8O20](OH)4; 활석; Mg6[Si8O20](OH)4; 사문석 예를 들어, 석면; 카올리나이트; Al4[Si4O10](OH)8; 및 질석과 같은 실리케이트 미네랄을 포함하지만, 이에 제한되지는 않는다.
또한, 예를 들어, 지방산 또는 지방산 에스테르, 예를 들어, 스테아레이트 에스테르, 스테아르산, 스테아르산의 염, 칼슘 스테아레이트 및 카르복실레이트폴리부타디엔을 사용하여 충전제(들)의 표면 처리를 수행할 수 있다. 규소 함유 물질에 기반한 처리제는 충전제(들)를 소수성으로 만들어 취급을 더 용이하게 하고 다른 실란트 성분들과의 균질한 혼합물을 얻기 위해 오르가노실란, 오르가노실록산, 또는 오르가노실라잔 헥사알킬 디실라잔 또는 단쇄 실록산 디올을 포함할 수 있다. 충전제의 표면 처리는 분쇄 실리케이트 미네랄이 실리콘 중합체에 의해 용이하게 습윤되도록 만든다. 이들 표면 개질된 충전제는 덩어리지지 않으며, 실리콘 중합체 내로 균질하게 혼입될 수 있다. 이는 미경화 조성물의 실온 기계적 특성을 개선시킨다. 더욱이, 표면 처리된 충전제는 미처리된 물질 또는 원료 물질보다 더 낮은 전도율을 제공한다.
본 발명의 조성물은 또한 규소-결합된 히드록실기 또는 가수분해성 기를 기반으로 하는 수분 경화성 조성물, 예를 들어 실란트 조성물에서 사용하기 위한 공지된 다른 성분들을 포함할 수 있다.
필요에 따라, 조성물을 착색하기 위해 안료가 사용된다. 조성물과 상용성인 경우, 임의의 적합한 안료가 사용될 수 있다. 존재하는 경우, 카본 블랙은 비-보강 충전제 및 착색제 둘 모두로서 기능할 것이며, 촉매 패키지 조성물의 1 내지 30 중량%, 대안적으로 촉매 패키지 조성물의 1 내지 20 중량%; 대안적으로 촉매 패키지 조성물의 5 내지 20 중량%, 대안적으로 촉매 조성물의 7.5 내지 20 중량%의 범위로 존재한다.
본 발명에 따른 수분 경화성 조성물에 포함될 수 있는 레올로지 개질제에는 폴리에테르 또는 폴리에스테르의 폴리올을 기반으로 하는 유럽 특허 EP0802233호에 기재된 것과 같은 실리콘 유기 공중합체; 폴리에틸렌 글리콜, 폴리프로필렌 글리콜, 에톡실화 캐스터 오일, 올레산 에톡실레이트, 알킬페놀 에톡실레이트, 공중합체 또는 에틸렌 옥시드 및 프로필렌 옥시드, 및 실리콘 폴리에테르 공중합체로 이루어진 군으로부터 선택된 비이온성 계면활성제뿐만 아니라; 실리콘 글리콜이 포함된다. 일부 시스템의 경우, 이러한 레올로지 개질제, 특히 에틸렌 옥시드 및 프로필렌 옥시드의 공중합체, 및 실리콘 폴리에테르 공중합체는 기재, 특히 플라스틱 기재에 대한 접착력을 향상시킬 수 있다.
필요한 경우, 살생물제가 조성물에 추가로 사용될 수 있다. 용어 "살생물제"는 살균제, 살진균제 및 살조제(algicide) 등을 포함하는 것으로 의도된다. 본원에서 기재된 바와 같은 조성물에 사용될 수 있는 유용한 살생물제의 적합한 예로는, 예를 들어, 다음의 것들을 포함한다:
카르바메이트, 예를 들어 메틸-N-벤즈이미다졸-2-일카르바메이트(카르벤다짐) 및 기타 적합한 카르바메이트, 10,10'-옥시비스페녹사르신, 2-(4-티아졸릴)-벤즈이미다졸,
N-(플루오로디클로로메틸티오)프탈이미드, 디요오도메틸 p-톨릴 설폰, 적절한 경우, UV 안정화제와의 조합, 예를 들어 2,6-디(tert-부틸)-p-크레졸, 3-요오도-2-프로피닐 부틸카르바메이트(IPBC), 아연 2-피리딘티올 1-옥시드, 트리아졸릴 화합물 및 이소티아졸리논, 예를 들어 4,5-디클로로-2-(n-옥틸)-4-이소티아졸린-3-온(DCOIT), 2-(n-옥틸)-4-이소티아졸린-3-온(OIT) 및 n-부틸-1,2-벤즈이소티아졸린-3-온(BBIT). 다른 살생물제는 예를 들어 아연 피리딘에티온, 1-(4-클로로페닐)-4,4-디메틸-3-(1,2,4-트리아졸-1-일메틸)펜탄-3-올 및/또는 1-[[2-(2,4-디클로로페닐)-4-프로필-1,3-디옥솔란-2-일] 메틸]-1H-1,2,4-트리아졸을 포함할 수 있다.
살진균제 및/또는 살생물제는 적합하게는 조성물의 0 내지 0.3 중량%의 양으로 존재할 수 있으며, 필요한 경우 유럽 특허 EP2106418호에 기재된 바와 같이 캡슐화된 형태로 존재할 수 있다.
따라서, 본원의 1-파트 축합 경화성 실온 가황성(RTV) 실리콘 조성물은 다음을 포함할 수 있다:
(a) 조성물의 35 내지 90 중량%, 대안적으로 40 내지 90 중량%, 대안적으로 조성물의 45 내지 90 중량%의 양의, 하기 화학식(1)의 분자당 적어도 2개의 히드록실 또는 가수분해성 기를 갖는 오르가노폴리실록산 중합체:
[화학식(1)]
X3-nRnSi-(Z)d ―(O)q- (R1 ySiO(4-y)/2)z ―(SiR1 2- Z)d-Si--RnX3-n
상기 식에서, 각각의 X는 독립적으로 히드록실기 또는 가수분해성 기이고, 각각의 R은 알킬, 알케닐 또는 아릴기이고, 각각의 R1은 X기, 알킬기, 알케닐기 또는 아릴기이고, Z는 2가 유기기이고;
d는 0 또는 1이고, q는 0 또는 1이며, d+q = 1이고; n은 0, 1, 2 또는 3이고, y는 0, 1 또는 2, 바람직하게는 2이고, z는 상기 오르가노폴리실록산 중합체가 25℃에서 30,000 내지 150,000 mPa.s, 대안적으로 25℃에서 40,000 내지 140,000 mPa.s의 점도를 갖도록 하는 정수임 -;
(b) 침강 실리카, 흄드 실리카 및/또는 콜로이드성 실리카가 특히 바람직한데, 이는 전형적으로 50 m²/g 이상(ISO 9277: 2010에 따른 BET 방법)인 그의 상대적으로 높은 표면적 때문이다. 표면적이 50 내지 450 m²/g(ISO 9277: 2010에 따른 BET 방법)인, 대안적으로 50 내지 400 m²/g(ISO 9277: 2010에 따른 BET 방법)인 충전제,
(조성물의 2.5 내지 40 중량%(wt%), 대안적으로는 조성물의 5.0 중량%, 대안적으로는 조성물의 5 내지 20 중량%, 대안적으로는 조성물의 7.0 내지 15 중량%, 대안적으로 조성물의 7 내지 12 중량%, 대안적으로 조성물의 7 내지 11 중량%의 양).
(c) 조성물의 0.1 내지 5 중량%의 양, 조성물의 0.5 내지 4 중량%의 양, 대안적으로 조성물의 1 내지 3.5 중량%의 양, 대안적으로 조성물의 1 내지 3.5 중량%의 양의, 분자당 적어도 3개의 히드록실 및/또는 가수분해성 기를 갖는 하나 이상의 가교제.
(d) 조성물의 0.001 내지 0.1 중량%의 양의 상기 기재된 바와 같은 주석(iv)계 축합 촉매; 및
(e) 조성물의 0.1 내지 3.75 중량%, 대안적으로는 조성물의 0.1 내지 1.5 중량%, 대안적으로 조성물의 0.1 내지 1.0 중량% 양의, 아미딘, 구아니딘 및 기타 선형 또는 분지형 알킬 아민 및 선형 또는 분지형 알킬 폴리아민으로부터 선택된 하나 이상의 저분자량 질소 함유 화합물. 조성물은 0℃ 내지 25℃(양쪽의 끝 수 포함)의 범위의 온도에서 방습 용기, 예를 들어 카트리지 및/또는 통에서 적어도 6개월 동안 저장 가능하다. 생성 조성물은 투명 내지 반투명 외관을 가진다.
조성물은 임의의 상기 조합을 포함할 수 있으나, 단 성분 (a) 내지 (e)의 전체 조성물이 조성물에 포함된 임의의 기타 선택적인 성분들과 함께 조성물의 100 중량%의 값을 갖는다는 조건 하에서다.
또한, 본원에서는 모든 성분을 함께 혼합하여 상기 1-파트 축합 경화성 실온 가황성(RTV) 실리콘 조성물을 제조하는 방법이 제공된다. 바람직하게 일단 혼합되면, 즉시 사용하지 않는 한, 조성물은 하나 이상의 방습 용기에 밀봉되고, 그 안에서 0℃ 내지 25℃(양쪽의 끝 수 포함)의 범위의 온도에서 저장된다. 일 실시형태에서, 충전제(b)기 먼저 중합체(a)에 혼합되며, 선택적으로는 필요한 경우 소수성 처리제와 조합되어 충전제가 중합체로 혼합되는 동안 제자리에서 처리된다. 충전제가 적절하게 중합체에 혼합되면 (그리고 원하는 경우 소수성으로 처리됨), 그 이후 잔류 성분들이 첨가되어 완전한 조성물을 만든다.
또한, 본원에서는 전술된 바와 같은 1-파트 축합 경화성 실온 가황성(RTV) 실리콘 조성물의 경화 생성물인 엘라스토머성 실란트 물질이 제공된다.
또한, 파사드, 단열 유리, 창호 건설, 자동차, 태양광 및 건설 분야에서 실란트로서의 상술된 1-파트 축합 경화성 실온 가황성(RTV) 실리콘 조성물의 용도가 제공된다.
하기와 같은 이유로 전술한 바와 같은 조성물은 저장 안정성이 있는 것으로 밝혀졌다:
1. 지촉건조 시간(SOT) 및 무점착 시간(TFT)이 밀폐된 카트리지에서 저장되는 동안 컴파운딩 시 결정된 초기 값에 비해 3배 넘게 증가하지 않고;
2. 생성된 경화된 물질이 컴파운딩 시 결정된 초기 값과 비교 시 인장 강도(H-바 또는 덤벨 상 측정된 인장 강도를 통해 표시됨)의 적어도 75%를 유지하고, 경화된 물질의 경도(쇼어 A로 표시됨)도 또한 유지되어지기 때문임.
일 실시형태에서, 본원의 1-파트 축합 경화성 실온 가황성(RTV) 실리콘 조성물은 저 모듈러스 실란트 조성물을 제공하도록 설계될 수 있다: 본 발명의 목적을 위해, "저 모듈러스" 실란트는 [ISO11600, second edition 2002-10-01, section 4.3]에 따라 정의되고, 저 모듈러스 실리콘 실란트 조성물은 바람직하게 "건형(gunnable)"이고, 즉, 그들은 적합한 압출 능력, 즉 ASTM C1183-04에 의해 측정하였을 때 10 ml/분, 대안적으로 10 내지 1000 mL/분, 대안적으로 30 내지 500 mL/분의 최소 압출 속도를 갖는다.
1-파트 축합 경화성 실온 가황성(RTV) 실리콘 조성물은 이러한 경우에 후경화 실란트 물질에 허용 신축률(movement capability)을 부여할 수 있다. 허용 신축률은 ASTM C719 - 13에 의해 측정하였을 때 25% 초과이며, 대안적으로 허용 신축률은 25% 내지 50% 범위이다.
전술된 바와 같은 1-파트 축합 경화성 실온 가황성(RTV) 실리콘 조성물은 하기에 사용되는 건형 실란트 조성물일 수 있다:
(i) 공간/갭 충전 적용;
(ii) 실(seal) 적용, 예를 들어 건축용 멤브레인에서 랩 조인트의 에지를 실링; 또는
(iii) 실 침투 적용, 예를 들어 건축용 멤브레인의 통풍구 실링;
(iv) 적어도 2개의 기재를 함께 접착; 및/또는
(v) 제1 기재, 실란트 제품 및 제2 기재의 라미네이트를 생성하기 위한 2개의 기재 사이의 라미네이팅 층.
상기 (v)의 경우에, 라미네이트의 층으로서 사용되는 경우, 생성되는 라미네이트 구조는 이들 3개의 층으로 제한되지 않는다. 경화된 실란트 및 기재의 추가의 층이 적용될 수 있다. 라미네이트에서 건형 실란트 조성물의 층은 연속적이거나 불연속적일 수 있다.
전술된 바와 같은 1-파트 축합 경화성 실온 가황성(RTV) 실리콘 조성물은 임의의 적합한 기재 상에 적용될 수 있다. 적합한 기재는 이에 제한되는 것은 아니나 하기를 포함할 수 있다: 유리; 콘크리트; 벽돌; 스타코(stucco); 금속 예컨대 알루미늄, 구리, 금, 니켈, 규소, 은, 스테인레스 스틸 합금 및 티타늄; 세라믹 물질; 엔지니어링 플라스틱을 포함하는 플라스틱, 예컨대 에폭시, 폴리카르보네이트, 폴리(부틸렌 테레프탈레이트) 수지, 폴리아미드 수지, 폴리비닐 클로라이드(PVC) 및 이들의 블렌드, 예컨대 미국 미시간주 미들랜드 소재의 The Dow Chemical Company로부터 상업적으로 입수 가능한 신디오택틱(syndiotactic) 폴리스티렌과 폴리아미드 수지와의 블렌드, 아크릴로니트릴-부타디엔-스티렌, 스티렌-개질된 폴리(페닐렌 옥시드), 폴리(페닐렌 술파이드), 비닐 에스테르, 폴리프탈아미드, 및 폴리이미드; 셀룰로오스 기재, 예컨대 종이, 패브릭, 및 목재; 및 이들의 조합. 하나 초과의 기재가 사용되는 경우, 기재는 동일한 물질로 제조될 필요는 없다. 예를 들어, 플라스틱과 금속 기재 또는 나무와 플라스틱 기재의 라미네이트를 형성할 수 있다. 적용 및 경화 후, 엘라스토머성 실란트 생성물은 화강암, 석회석, 대리석, 석조, 금속 및 복합 패널과 같은 다공성 기재에 대해 비-오염성(non-staining; 클린)이다. 하기 실시예에서 입증된 바와 같이 특히 주목되는 것은 이 조성물이 경화 시 PVC 기재에 부착된다는 점이다.
전술된 바와 같은 1-파트 축합 경화성 실온 가황성(RTV) 실리콘 조성물의 경우, 하기를 포함하는, 2개의 기재 사이의 공간을 충전하여 이들 사이에 실을 생성하는 방법이 제공된다:
a) 전술된 바와 같은 1-파트 축합 경화성 실온 가황성(RTV) 실리콘 조성물을 제공하는 단계, 및
b) 1-파트 축합 경화성 실온 가황성(RTV) 실리콘 조성물을 제1 기재에 적용한 다음, 제2 기재를 제1 기재에 적용된 실리콘 조성물과 접촉시키는 단계, 또는
c) 제1 기재 및 제2 기재의 배열에 의해 형성되는 공간을 1-파트 축합 경화성 실온 가황성(RTV) 실리콘 조성물로 충전하는 단계, 및 d) 이를 경화하는 단계.
전술된 바와 같은 1-파트 축합 경화성 실온 가황성(RTV) 실리콘 조성물은 그에 따라 높은 허용 신축률을 가진 저-모듈러스 유형일 수 있는 실리콘 실란트를 제공할 수 있다: 게다가, 본원의 조성물은 맑고, 즉 투명 및/또는 반투명하며, 다공성일 수도 있고 아닐 수도 있는 건설용 기재, 예를 들어 건설 및 유사 응용 분야를 위한 내오염성 내후성 실링 실란트 물질로서 사용되는 화강암, 석회암, 대리석, 석조, 유리, 금속 및 복합 패널 상에서 비-오염성(클린)이다.
본원에 기재된 저 모듈러스로 설계되어질 때 1-파트 축합 경화성 실온 가황성(RTV) 실리콘 조성물의 경화 시에 생성되는 실리콘 엘라스토머의 저 모듈러스 특성은 어떤 이유로든 운동하게 될 수 있는 실링 조인트에서 엘라스토머를 효과적으로 만드는데, 이는 (표준 또는 고 모듈러스를 갖는) 다른 경화된 실란트와 비교하여 경화된 실란트 바디에서 더 적은 힘이 생성되고 응집성 또는 계면(접착성)의 실패 없이 또는 기재 파손을 유발하지 않고서 경화된 실란트가 더 큰 조인트 운동을 수용할 수 있도록 조인트의 팽창 또는 수축으로 인해 실란트에 의해 기판/실란트 계면으로 전달되기 때문이다.
실시예
모든 점도 측정은 달리 나타내지 않는 한 25℃에서 취하였다. 달리 지시되지 않으면, 모든 점도는 오스트리아, 그라츠 소재의 Anton Paar GmbH의 Modular Compact Rheometer(MCR) 302 레오미터를 이용하여 측정하였다. 30,000-160,000 mPa.s 범위의 점도는, 40 mm 직경 원추형 평판 및 1s-1의 전단 속도를 이용하여 측정하였고; 2000-30,000 mPa.s 범위의 점도는 50 mm 직경 원추형 평판 및 1s-1로의 전단 속도를 이용하여 측정하였고; 10-2000 mPa.s 범위의 점도는 75 mm 직경 원추형 평판 및 1s-1의 전단 속도를 이용하여 측정하였다.
하기의 성분이 실시예에서 참조된다:
중합체 A : 점도가 50,000 mPa.s인 트리-메톡시-종결된 폴리디메틸실록산 중합체;
중합체 B : 점도가 115,000 mPa.s인 트리-에톡시/트리메틸 종결된 본질적으로 선형인 폴리디메틸실록산 중합체. 트리-메틸 말단에 대한 트리-에톡시 말단의 비율은 NMR에 의해 결정하였고, 이는 85/15에 해당한다;
중합체 B-1 : 점도가 123,000 mPa.s인 트리-메톡시/트리메틸 종결된 본질적으로 선형인 폴리디메틸실록산 중합체. 트리-메틸 말단기에 대한 트리-메톡시 말단기의 비율은 NMR에 의해 결정하였고, 이는 85/15에 해당한다;
중합체 C : 점도가 60,000 mPa.s인 트리-에톡시 종결된, 본질적으로 선형인 폴리디메틸실록산 중합체;
중합체 D : 점도가 100 mPa.s인 트리-메틸 종결된, 본질적으로 선형인 폴리디메틸실록산 중합체
중합체 E : 점도가 1000 mPa.s인 트리-메틸 종결된, 본질적으로 선형인 폴리디메틸실록산 중합체
문구 "본질적으로 선형인 폴리디메틸실록산"에서 용어 "본질적으로"란 우리가 알고 있는 한 중합체가 각 경우에 선형임을 의미하나, 제조 과정에서 소량의 분지가 발생할 수 있다는 점을 100% 무시할 수는 없다.
Aerosil ® R 972는 Evonik로부터의 비표면적이 90-130 m2/g(공급업체 정보)인 디메틸디클로로실란으로 처리된 후의 소수성 흄드 실리카이고;
Aerosil ® R 974는 Evonik으로부터의 비표면적이 150-190 m2/g(공급업체 정보)인 친수성 흄드 실리카를 기반으로 한 디메틸디클로로실란으로 처리된 후의 소수성 흄드 실리카이고;
MTM은 메틸-트리 메톡시실란이고; DBTDL은 디부틸주석 디라우레이트이고; DBTDN은 디메틸주석 디네오데카노에이트이고; DBN은 1,5-디아자바이사이클로(4.3.0)논-5-엔이고; DBU는 1,8-디아자바이사이클로[5.4.0]운데크-7-엔이고; TnBT는 테트라 n-부틸 티타네이트이고; HMDZ는 헥사메틸디실라잔이다.
표 1a 및 1b에 나타낸 조성을 이용하여 비교 조성물을 제조하였다.
[표 1a]
Figure pct00002
[표 1b]
Figure pct00003
비교 실시예 (C1 내지 C4)를, 진공 기능이 장착된 DAC 600.1vac-p Speed Mixer를 이용하여 일련의 초기 실험에서 제조하였다. 먼저, 중합체(들)를 HMDZ와 혼합한 다음, 충전제(실리카)를 점진적으로 중합체(들)에 완전히 혼입될 때까지 첨가하였다. 후속해서, 가교제(들), 접착 촉진제(들) 및 선택적인 첨가제들을 조성물에 첨가하고 혼합한다. 촉매 및 부스터를 이어서 첨가하고, 추가 혼합 후 최종 조성물을 탈기시켜 공정 중 방출된 휘발성 물질을 제거하였다. 컴파운딩한 직후 얻은 생성물(실란트)를 방습 카트리지로 옮겼다. 하나의 카트리지를 90℃에서 유지하고, 다른 하나의 카트리지는 실온(20-23℃)에서 유지하였다.
실시예 E10을 제외하고, 비교예 (C5-C13)을 포함하는 나머지 실시예들을 동일한 혼합 방법을 이용하여 제조하나, 이는 혼합 블레이드 및 진공 기능이 장착된 5L 배치(batch) 믹서에서 수행하였다. C5-C13에서, 달리 언급되지 않는 한, 비교예당 약 3 ㎏의 물질을 생성하고, 이것을 후속해서 330 mL 실란트 카트리지로 옮겨 저장하였는데, 카트리지는 도입 직후에 수분 침투를 방지하기 위해 밀봉하였다. 실시예 E10은 상이한 방법에 따라 제조하였다. 5L 믹서의 이중-벽 케틀로 다시 시작하여, 중합체를 먼저 첨가한 다음 약 75℃의 온도로 가열하였다. 그런 다음, 트리메톡시 실란, DBTDL, TMG 및 아미노-실란을 첨가하고, 얻은 혼합물을 완전히 혼합하고 탈기시켰다. 이어서, 실리카를 3회의 거의 동일한 분량으로, 각 첨가 사이에 혼합하면서 완전히 혼입될 때까지 첨가하였다. 그 뒤에 추가의 탈기 단계를 수행하였다. 최종적으로, HMDZ를 첨가하고, 완전히 통합시켰다. 생성된 실란트 조성물을 탈기시키고, 이를 분리시켰다.
조성물 C1 내지 C4에 대한 지촉건조 시간(SOT) 및 무점착 시간(TFT)을 표 2a에, 상이한 저장 조건에 적용시킨 후 제공하였다.
폴리에틸렌 시트 또는 Kraft 페이퍼 상 캐스팅된 조성물의 1-2 mm 두께 스미어(smear)를 먼저 적용함으로써 SOT 측정을 수행하였다. 이는 표면 외층이 실온(20-23℃) 및 대략 50% 상대 습도(RH)에서 형성되어지는 데 필요한 최소 시간을 결정하기 위해 겨냥한 주기적으로(예, 1-2분마다) 반복되는 신속한 "핑거 테스트"이다.
폴리에틸렌 시트 또는 Kraft 페이퍼 상 캐스팅된 조성물의 1-2 mm 두께 스미어를 먼저 적용함으로써 TFT 측정도 또한 수행하였다. 작고 깨끗한 폴리에틸렌(PE) 리본을, 일정 시간 주기 후, 예를 들어 매 1-2분마다 적용한 다음 조심스럽게 떼어낸다. 테스트를 상이한 스미어 위치에서 시간에 맞춰 반복하고, TFT는 리본이 스미어 표면으로부터 깨끗하게 탈착될 때(즉, "무점착"), 달성된 것으로 간주된다.
실온(20-23℃)에서 에이징 효과를 가속시키는 실용적인 수단으로서 조성물을 열 에이징하였다. 대부분의 경우, 조성물이 50℃에서 6주(wk)의 에이징을 견딜 수 있다면, 실온(20-23℃)에서 9 내지 12개월의 기간 동안 적절하게 잘 에이징할 것이라고 예상할 수 있다. 마찬가지로, 50℃에서 4주의 저장은 실온(20-23℃)에서 약 6개월간의 에이징 결과와 대략적으로 동일하다. 상기 두 방식으로 테스트된 샘플의 물리적 결과가 반드시 에이징 후 동일한 물리적 특성으로 이어지는 것은 아닐 것이다.
조성물을 보유하고 있는 카트리지를 적어도 4시간 동안 냉각시킨 후에만 열 에이징된 샘플에 대한 테스트를 수행하였다. 경화 이전 실온(RT)에서 6개월 동안 에이징된 샘플의 SOT 및 TFT를 또한 제공한다.
[표 2]
Figure pct00004
가능한 모든 테스트를 각각 및 모든 제형에 대해서 수행한 것은 아니다. 약어 NT는 "테스트되지 않음"을 나타낸다. 카트리지에서 경화란, 즉 저장 동안 "카트리지에서 경화됨"을 나타낸다. C1 내지 C4 각각의 경우에서, 조성물은 6개월 후에 비작용성이다. 카트리지에서 경화된 C1 조성물 및 C2 및 C3은 실용적으로 유용한 TFT를 제공하는 데 너무 오랜 시간이 걸렸다.
실시예 C4는 주석계 촉매 단독만으로는 적절한 경화 실란트를 생성하지 못한다는 점을 나타낸다. 고온에서의 가속 에이징이 실란트의 상업적 실행능(viability)을 예측하지 못하며, 어떤 실시예도 실온(20-23℃)에서 6개월 에이징을 견딜 수 있지 않다는 점에 주목한다.
표 3은 실험실 저장 조건 하에서 6, 9 및 12개월(m)(1년(yr)) 때 측정된 보관 수명(저장 안정성)뿐 아니라, 50℃에서의 가속 에이징을 이용하여 C5 내지 C13의 경화 시간을 나타낸다.
[표 3]
Figure pct00005
>로 시작하는 상기 표의 값에 대해서, 테스트 중인 조성물은 표시된 기간 이후 SOT 및/또는 TFT를 가졌으나, 더이상의 측정은 수행하지 않았다. 표 3에서 > 의 용어는, 예를 들어 >195는 SOT 또는 TFT 값이 195분 초과임을 의미한다. 마찬가지로, 용어 60<90은, SOT 또는 TFT 테스트가 60분 후 및 90분 후에 착수되고, SOT 또는 TFT가 둘 사이 어딘가에 있음을 지시한다.
이들 중 어떤 것도 9개월의 저장 안정성의 특징을 이루지 않음을 알 수 있다. C5 내지 C10은 50℃에서 4주의 가속 에이징을 견디는 것으로 보이지만, 이들의 경화는 실온에서 6개월의 저장에서는 실질적으로 더 느리고, 에이징은 기계적 특성 및 접착력에 영향을 미친다.
표 4는 비교예 C5 내지 C13의 기계적 특성을 나타낸다.
상기 기재된 조성물의 에이징은 특정 시간 및 조건 하에서 실란트의 카트리지 저장으로 이루어진다. 지정된 에이징 기간 후, 조성물 또는 조성물의 경화로 얻은 경화된 생성물 물질을 필요한 에이징 기간의 완료 후 48시간 이내에 테스트하였다. 초기의 특성은 혼합 후 48시간 내 결정하였다.
기계적 특성은 하기에 지시하고 도시된 바와 같이 H-바 테스트 조각 또는 덤벨 테스트 조각을 이용하여 결정하였다.
H-바 테스트 시험편의 경우, 치수가 12 × 12 × 50 mm인 조성물의 샘플을 두 기재 사이에 끼웠다. 두 기재는 모두 유리로 만들어졌거나, 모두 알루미늄으로 만들어졌거나, 하나는 유리로 하나는 알루미늄으로 만들어졌고, 치수는 ISO 8339 Second edition 2005-06-15에 규정된 바와 같이 12 × 75 mm였다. 달리 지시되지 않는 한, 본원에서 테스트에 사용된 기재는 하나의 유리 및 하나의 알루미늄 기재였다. 이러한 시험편은 일반적으로 업계에서 H-바 또는 H-조각으로 지칭되며, 이 표기는 약어(HP)와 함께 하기의 실시예 전반에 걸쳐 사용될 것이다. 각각의 시험편은 실온(20-23℃) 및 약 50% 상대습도(RH)에서 28일 동안 경화된다.
경화된 시험편을, ISO 8339에 기재된 대로 인장 견인 테스트를 이용하여 기계적으로 테스트하였다. 조각을 파단하는데 필수적인 인장 강도 및 파단시 연신율을 기록하였다. 파괴를 시각적으로 관찰하고, 응집 파괴(CF: cohesive failure)에 상응하는 표면의 백분율을 정량화하였다. 기록된 파단 매개변수, 예를 들어 인장 강도 및 파단시 연신율은 각각 MPa 및 %로 표시된다.
응집 파괴(CF)는 경화된 물질이 이것이 접착되어 있는 기재로부터 탈착되지 않으면서 파단될 때 관찰된다. 접착 파괴(AF: adhesive failure)는 경화된 물질이 기재로부터 깨끗하게 탈착(박리)되는 경우의 상황을 지칭한다. 일부 경우에서, AF와 CF가 혼합되어 있는 혼합된 파괴 모드가 관찰될 수 있다. 이 상황에서, CF(%CF) 및 AF(%AF) 거동을 나타내는 표면의 비율이 결정되고, % CF + % AF=100%이다. 하기 표 4에 나열된 값은 관찰된 %CF를 지칭한다.
표 4에서의 각 테스트에 대해서 기록된 값은 3 또는 4회의 독립된 측정치의 산술 평균을 나타낸다. 28-일 경화 기간 후 85% CF 미만을 나타내는 샘플은 인장 시험에 실패한 것으로 간주하였다. 경화된 물질, 예를 들어 실란트는, H-바에서 측정된 인장 강도의 75%가 에이징 후 유지되는 경우에 안정적인 것으로 간주되었다.
[표 4]
Figure pct00006
표 4에서 비교예 C5 내지 C13으로부터 제조된 비교용 경화된 물질 중 어떤 것도 양호한 기계적 특성을 갖지 않는다. C5, C6, C9 및 C10은 불충분한 초기 접착력을 보인 반면, C7 및 C8은 에이징 시 접착력이 완전히 손실되었음을 나타낸다. 비교예 C11, C12 및 C13의 경우에서, 적절한 접착력은 유지되었으나, 이것들은 심각한 인장 강도 손실을 겪었고, 즉 그 결과가, 부적절하다고 간주되는 초기 값의 75% 미만이었음을 발견하였다.
표 5는 덤벨 테스트 조각을 이용하여 측정된 선택된 비교용 제형의 기계적 특성을 나타낸다. 2 mm 두께 시트를 각 샘플에 대해 제조한 다음 실온(20-23℃) 및 약 50% 상대 습도에서 7일간 경화하였다. 이어서, 표준 덤벨 형상 테스트 조각을 시트로부터 즉시 또는 적합한 에이징 기간 후에 잘라내고, ASTM D 412 - 06에 따라 이들 시험편의 기계적 특성을 테스트하였다. 쇼어 A(Shore A)를 ASTM D 2240에 기재된 대로 테스트하였다. 기록된 값은 4 또는 5회의 독립된 측정치의 평균 값을 나타낸다. 실란트는 인장 강도 및 경도(쇼어 A)의 75%가 에이징 시 유지되는 경우에 안정적인 것으로 간주되었다.
[표 5]
Figure pct00007
C11, C12 및 C13은 모두 경도 및 인장 강도에 있어서 심각한 손실을 나타낸다는 점을 알 수 있다.
표 5b는 비교 제형물의 정성적 개요를 제공한다.
[표 5b]
Figure pct00008
표 6은 본 발명의 제형의 조성을 나타내고, 표 7은 SOT 및 TFT 시간을 나타내는 한편, 표 8 및 표 9는 각각 덤벨에서 측정된 기계적 특성을 나타낸다.
DBA 또는 TMG 부스터를 함유하는 본 발명 실시예 E1, E2, E3, E4는 C7, C8, C9, C10의 조성 유사체로, 유일한 차이점은 각 부스터 분자를 포함한다는 것이다. 적절한 부스터를 선택하면 충분한 적용 특성의 실란트가 제공된다는 것을 알 수 있다.
[표 6]
Figure pct00009
[표 7]
Figure pct00010
모든 물질이 9개월과 1년의 실온(RT, 20-23℃) 저장 후에 허용 가능한 경화 시간을 지님을 알 수 있다.
[표 8]
[표 9]
접착력(H-바 상에서 결정됨)뿐 아니라 기계적 특성이 잘 유지되는 것을 볼 수 있다. 덤벨에서 측정된 인장 강도 및 경도(쇼어 A)에 대해서도 동일하게 유지된다.
표 10은 E1 내지 E6의 특성의 정성적 요약을 나타낸다.
[표 10]
Figure pct00013
E1 및 E2는 실온에서 1년간 안정적이었고, 이들 둘 모두 4주 동안 50℃에서 가속된 에이징을 충족시킨다는 점을 알 수 있다. E3 및 E4는 50℃에서 4주의 가속 에이징 시 이들의 기계적 특성을 유지한다. E5 및 E6은 실온에서 1년 동안 안정적이었고, 50℃에서 4주의 가속 에이징 후 기계적 특성을 유지했다.
추가의 실시예 E7 내지 10을 제조하였다. 실시예 9 및 10은 이것이 연장된 실란트 조성물로 작용함을 보여준다. 조성물을 표 11에 나타내고, 그 결과를 하기 표 12 및 13에 나타낸다.
표 11은 본원에 개시된 바와 같은 조성물의 접착성을 분석하는 데 사용된 실시예 7, 8, 9 및 10의 조성(모든 값은 중량%임)을 나타낸다.
[표 11]
Figure pct00014
[표 12]
Figure pct00015
E7, E8, E9 및 E10 모두 50℃에서 6주의 가속 에이징을 충족시킴을 표 12로부터 알 수 있다. E7, E8, E9 및 E10을 이들의 폴리비닐 클로라이드(PVC)에 대한 접착력을 확인하도록 테스트하였다. 치수가 15 × 7.5 cm인 백색의 PVC 기재를 5 내지 10분 이소프로판올로 세척함으로써 준비한 후, 기재의 긴 면을 따라 실리콘의 "핑거"를 압출하였다. 압출 직후, 핑거를 스파츌러로 부드럽게 눌러 약 1 cm 너비 및 5-8 mm 두께의 테스트 견본을 형성시켰다. 이들 샘플을 실온 및 50% 상대 습도(RH)에서 저장하였다. 일정한 간격으로, PVC 기재에 가까이 언더컷을 실란트 "핑거"에 수직 방향으로 수행하였다. 이어서 그 결과 생성된 느슨한 말단을 수동으로 몇 cm 끌어 당겼다. 그 결과는 두 테스트의 평균이다. 핑거를 잡아당겨 초기에 덮힌 PVC 표면의 적어도 50%에 대해 기재로부터 탈착되지 않으면서 실란트 내부가 파괴된다면 그 실란트는 PVC에 부착한 것으로 간주하였다.
[표 13]
Figure pct00016
각 경우에서, E7 내지 E10 모두는 상업적으로 이용가능한 안정성과 더불어, 100% 응집 파괴를 보였다.

Claims (16)

1-파트 축합 경화성 실온 가황성(RTV) 실리콘 조성물로서,
(a) 조성물의 35 내지 90 중량%의 양의, 하기 화학식(1)의 분자당 적어도 2개의 히드록실 또는 가수분해성 기를 갖는 오르가노폴리실록산 중합체:
[화학식(1)]
X3-nRnSi-(Z)d ―(O)q- (R1 ySiO(4-y)/2)z ―(SiR1 2- Z)d-Si--RnX3-n
상기 식에서, 각각의 X는 독립적으로 히드록실기 또는 가수분해성 기이고, 각각의 R은 알킬, 알케닐 또는 아릴기이고, 각각의 R1은 X기, 알킬기, 알케닐기 또는 아릴기이고, Z는 2가 유기기이고;
d는 0 또는 1이고, q는 0 또는 1이며, d+q = 1이고; n은 0, 1, 2 또는 3이고, y는 0, 1 또는 2, 바람직하게는 2이고, z는 상기 오르가노폴리실록산 중합체가 25℃에서 30,000 내지 150,000 mPa.s, 대안적으로 25℃에서 40,000 내지 140,000 mPa.s의 점도를 갖도록 하는 정수임 -;
(b) 하나 이상의 본질적 무수 보강 충전제(들);
(c) 분자당 적어도 2개, 대안적으로 적어도 3개의 가수분해성 기를 갖는 규소 함유 화합물 형태의 하나 이상의 가교제;
(d) 조성물의 0.0.01 내지 0.1 중량%의 양의, 주석(iv)계 축합 촉매; 및
(e) 조성물의 0.1 내지 3.5 중량%의 양의, 아미딘, 구아니딘 및 기타 알킬 아민 및 알킬 폴리아민으로부터 선택된 하나 이상의 저분자량 선형 또는 분지형 질소 함유 화합물을 포함하는, 1-파트 축합 경화성 실온 가황성(RTV) 실리콘 조성물.
제1항에 있어서, 오르가노폴리실록산 중합체(a)는 하기 구조를 가지며:
X3-nRnSi-(Z)- (R1 ySiO(4-y)/2)z ―(SiR1 2- Z)-Si-RnX3-n
상기 식에서, n은 0 또는 1이고, 각각의 X는 알콕시기인, 1-파트 실온 가황성(RTV) 실리콘 조성물.
제1항 또는 제2항에 있어서, 보강 충전제(b)는 ISO 9277: 2010)에 따른 BET 방법을 이용하여 측정된 표면적이 적어도 50.0 m2/g인 소수성 처리된 본질적 무수 흄드 실리카 및/또는 침강 실리카를 포함하는, 1-파트 실온 가황성(RTV) 실리콘 조성물.
제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 조성물 및 생성된 경화된 물질은 반투명 및/또는 투명한, 1-파트 실온 가황성(RTV) 실리콘 조성물.
제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서, 주석(iv) 촉매는 디메틸주석 디-2-에틸헥사노에이트, 디메틸주석 디라우레이트, 디-n-부틸주석 디아세테이트, 디-n-부틸주석 디-2-에틸헥사노에이트, 디메틸주석 디네오데카노에이트(DMTDN), 디-n-부틸주석 디카프릴레이트, 디-n-부틸주석 디-2,2-디메틸옥타노에이트, 디-n-부틸주석 옥타노네이트, 디-n-부틸주석 디라우레이트(DBTDL), 디-n-부틸주석 디스테아레이트, 디-n-부틸주석 디말레에이트, 디-n-부틸주석 디올레에이트, 디-n-옥틸주석 디-2-에틸헥사노에이트, 디-n-옥틸주석 디-2,2-디메틸옥타노에이트, 디-n-옥틸주석 디말레에이트, 디-n-옥틸 주석 디라우레이트, 디-n-부틸 주석 옥시드, 카르보메톡시페닐 주석 트리수베레이트, 주석 부티레이트, 부틸주석트리-2-에틸헥소에이트 주석 나프테네이트, 이소부틸주석트리세로에이트 주석 옥토에이트, 트리에틸주석 타르트레이트 및 디-n-옥틸 주석 옥시드로부터 선택된, 디알킬주석 화합물, 주석 트리플레이트 중 하나 이상으로부터 선택되는, 1-파트 실온 가황성(RTV) 실리콘 조성물.
제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서, 성분(e)는 하기 도시된 기 (1) 내지 (4) 중 하나 이상을 함유하는 선형 또는 분지형 유기 분자를 포함할 수 있으며:

상기 식에서, 각각의 R4, R5, R6, R7 및 R8은 상동 또는 상이할 수 있고, 수소, 알킬기, 사이클로알킬기, 페닐기, 아르알킬기로부터 선택될 수 있는, 1-파트 실온 가황성(RTV) 실리콘 조성물.
제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서, 성분(e)는 구아니딘, 테트라메틸 구아니딘, 예를 들어 (CH3)2N ― C=NH(N(CH3)2) 구조를 갖는 1,1,3,3-테트라메틸구아니딘(TMG), 디부틸 아민, 에틸렌 디아민, 트리-에틸렌터트아민 및 디에틸렌트리아민 중 하나 이상을 포함하는, 1-파트 실온 가황성(RTV) 실리콘 조성물.
제1항 내지 제7항 중 어느 한 항에 있어서, 경화 전에, 인접한 기재 표면에 부착되는 엘라스토머성 바디로 경화될 때까지 그의 지정된 위치에 잔류할 매끄러운 표면 매스(smooth surfaced mass)를 제공하도록 가공될 수 있는, 2개의 인접 기재 표면 사이의 조인트에 페이스트로서 적용될 수 있는 1-파트 실온 가황성(RTV) 실리콘 조성물.
제1항 내지 제8항 중 어느 한 항에 있어서, 폴리 비닐 클로라이드 기재에 접착 가능한 1-파트 실온 가황성(RTV) 실리콘 조성물.
제1항 내지 제9항 중 어느 한 항에 따른 1-파트 실온 가황성(RTV) 실리콘 조성물을 경화시킴으로써 얻어지는 반응 생성물인 실리콘 엘라스토머.
제10항에 있어서, 투명 및/또는 반투명 및/또는 비-오염성인 실리콘 엘라스토머.
모든 성분을 함께 혼합함으로써 제1항 내지 제8항 중 어느 한 항에 따른 1-파트 실온 가황성(RTV) 실리콘 조성물을 제조하는 방법.
파사드(facade), 단열 유리, 창호 공사, 자동차, 태양광 및 건설 분야에서 실란트로서의 제1항 내지 제9항 중 어느 한 항에 따른 조성물의 용도.
우수한 접착 프로파일을 갖는 실란트로서의, 제1항 내지 제9항 중 어느 한 항에 따른 조성물의 용도.
하기를 포함하는, 2개의 기재 사이에 실(seal)을 생성하기 위하여 2개의 기재 사이의 공간을 충전하는 방법:
a) 제1항 내지 제9항 중 어느 한 항에 따른 1-파트 실온 가황성(RTV) 실리콘 조성물을 제공하는 단계, 및
b) 실리콘 조성물을 제1 기재에 적용한 다음, 제2 기재를 제1 기재에 적용된 실리콘 조성물과 접촉시키는 단계, 또는
c) 제1 기재 및 제2 기재의 배열에 의해 형성되는 공간을 실리콘 조성물로 충전한 다음, 실리콘 조성물을 경화하는 단계.
제15항에 있어서, 공간은 압출에 의해 또는 실란트 건을 통해 실란트 조성물을 도입함으로써 충전되고/되거나, 기재 중 하나는 폴리비닐 클로라이드(PVC)인, 2개의 기재 사이의 공간을 충전하는 방법.
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