JP2023510485A - 不可逆電気穿孔及び高周波アブレーション（ｉｒｅ／ｒｆａ）波形の生成及びインターリーブ - Google Patents

不可逆電気穿孔及び高周波アブレーション（ｉｒｅ／ｒｆａ）波形の生成及びインターリーブ Download PDF

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Abstract

Figure 2023510485000001
不可逆電気穿孔及び高周波アブレーション（ＩＲＥ／ＲＦＡ）発生器は、ＩＲＥパルス発生器と、高調波濾過回路と、波形インターリーバとを含む。ＩＲＥパルス発生器は、二相性ＩＲＥパルスを生成するように構成されている。高調波濾過回路は、ＩＲＥパルスをＲＦ信号に変換するように構成されている。波形インターリーバは、ＩＲＥパルス及びＲＦ信号を受信し、ＩＲＥパルスのうちの１つ以上をＲＦ信号の１つ以上の周期と交互にインターリーブすることによってＩＲＥ／ＲＦＡ出力信号を生成するように構成されている。

Description

本発明は、概して、不可逆電気穿孔及び高周波アブレーション併用治療の方法及びシステムに関し、特に不可逆電気穿孔及び高周波アブレーション併用による波形生成に関する。
組織への高周波（radiofrequency、ＲＦ）パルスの送達は、以前に特許文献で提案された。例えば、米国特許第１０，２５８，４０６号には、壊死閾値を有する組織にエネルギーを送達するためのコンピュータ実装システムが記載されている。システムは、一般に、複数の電極を含む電極アレイと、複数の電極の中間に配置された中心電極と、（ｉ）電気パルスの第１のシーケンスを電極アレイに印加して組織内の熱的加熱を誘発し、組織の壊死閾値を低下させ、（ｉｉ）電気パルスの第２のシーケンスを中心電極に印加して、不可逆電気穿孔により組織内の細胞壊死を誘発するように構成されたコントローラと、を含むことができる。例示的な実施形態では、エネルギー源は、約１Ｈｚ～約１０，０００Ｈｚの範囲の周波数、約＋／－１００ＶＤＣ～約＋／－６，０００ＶＤＣの範囲の振幅、及び約１マイクロ秒～約１００ミリ秒の範囲のパルス幅で電気パルスを生成するように構成されてもよい。エネルギー源は、熱的加熱を誘発するのに適した電気パルスと、組織内の不可逆電気穿孔に適したパルスとを生成するように構成されてもよい。エネルギー源は、二相モード及び単相モードで動作することができる。
別の例として、米国特許第１０，１８８，４４９号には、ＤＣ電力を出力するように構成された電源と、電源に連結され、複数のスイッチング素子を含むインバータと、インバータに連結され、インバータに信号を送ってＤＣ電力に基づいて高周波加熱波形及び電気穿孔波形を同時に生成するように構成されたコントローラとを含む電気外科用発生器が記載されている。例示的な実施形態では、インバータ回路に連結されたコントローラは、インバータ回路に信号を送って、ＤＣ電力に基づいて高周波加熱波形及び電気穿孔波形を同時に生成するように構成され、電気穿孔波形は、電界を生成するように構成された脈動ＤＣ波形であり、後続のどのパルスよりも高いピーク電圧及びより高い電圧上昇率を有する初期パルスを有する複数のパルスを含む。
米国特許第９，２８９，６０６号には、電気穿孔媒介療法、電気穿孔誘導一次壊死療法及び電界誘導アポトーシス療法用の方向感受性多極先端電極アセンブリを含むカテーテルシステムが記載されており、これは、狭い線形病変並びに分散した広範囲の病変を形成するための構成を含む。電気穿孔誘導一次壊死療法の場合、発生器は、電流を生成するように構成されてもよく、この電流は、電極アセンブリを介して、約０．１～１．０ｋＶ／ｃｍの比較的低い電界強度（即ち、組織部位で）を送達することができる近接して配置された電極間で短時間パルス（例えば、０．１～２０ミリ秒の持続時間）の形でパルス電界として送達される。電界誘導アポトーシス療法の場合、発生器は、電流を生成するように構成されてもよく、この電流は、約２～３００ｋＶ／ｃｍの比較的高い電界強度（即ち、組織部位で）で、非常に短時間の直流パルス（例えば、１～３００ナノ秒の持続時間）の形でパルス電界として送達される。電気穿孔媒介アブレーション療法などの特定の他の例示的な実施形態では、電気穿孔固有エネルギー及びアブレーション固有エネルギーの両方がプロセス全体で使用され、そのような実施形態では、発生器はアブレーションエネルギーも送達するように更に構成されてもよい。
本発明の例示的な実施形態は、ＩＲＥパルス発生器と、高調波濾過回路と、波形インターリーバとを含む不可逆電気穿孔及び高周波アブレーション（irreversible electroporation/radio frequency ablation、ＩＲＥ／ＲＦＡ）発生器を提供する。ＩＲＥパルス発生器は、二相性ＩＲＥパルスを生成するように構成されている。高調波濾過回路は、ＩＲＥパルスをＲＦ信号に変換するように構成されている。波形インターリーバは、ＩＲＥパルス及びＲＦ信号を受信し、ＩＲＥパルスのうちの１つ以上をＲＦ信号の１つ以上の周期と交互にインターリーブすることによってＩＲＥ／ＲＦＡ出力信号を生成するように構成されている。
一部の例示的な実施形態では、波形インターリーバは、プロセッサから、ＩＲＥパルスとＲＦ信号の周期との間のインターリーブ比を指定する設定を受信し、設定に応答してインターリーブされたＩＲＥ／ＲＦＡ出力信号を生成するように構成されている。
一部の例示的な実施形態では、ＩＲＥパルス発生器は、プロセッサから、ＩＲＥパルスの形状、振幅及び繰り返し率のうちの１つ以上を指定する設定を受信し、設定に応答して二相性ＩＲＥパルスを生成するように構成されている。
一部の例示的な実施形態では、高調波濾過回路は、プロセッサから、ＲＦ信号の周波数及び振幅のうちの１つ以上を指定する設定を受信し、設定に応答してＩＲＥパルスをＲＦ信号に変換するように構成されている。
例示的な実施形態では、ＩＲＥ／ＲＦＡ発生器は、事前に指定されたパルス波形をＩＲＥパルスに印加するように構成されたＩＲＥパルス整形回路を更に含む。
一部の例示的な実施形態では、波形インターリーバは、設定可能な治療プロトコルに従って、ＩＲＥパルスをＲＦ信号とインターリーブするように構成されている。
本発明の別の例示的な実施形態によれば、不可逆電気穿孔及び高周波アブレーション（ＩＲＥ／ＲＦＡ）信号を生成する方法が更に提供され、この方法は、二相性ＩＲＥパルスを生成することを含む。高調波濾過回路を使用して、ＩＲＥパルスはＲＦ信号に変換される。ＩＲＥ／ＲＦＡ出力信号は、ＩＲＥパルスのうちの１つ以上をＲＦ信号の１つ以上の周期とインターリーブすることによって生成される。
本発明は、図面とともに、その実施形態の以下の詳細な説明からより完全に理解されるであろう。
本発明の例示的な実施形態によるカテーテルベースのＩＲＥ／ＲＦＡシステムの概略図である。 本発明の例示的な実施形態による、図１のシステムのＩＲＥ／ＲＦＡ発生器の概略ブロック図である。 本発明の例示的な実施形態による、図２のＩＲＥ／ＲＦＡ発生器の特定の詳細を示す概略ブロック図である。 本発明の例示的な実施形態による、図１のＩＲＥ／ＲＦＡシステムを使用するＩＲＥ／ＲＦＡ治療の方法を概略的に示すフローチャートである。
概要
侵襲的治療法として使用される高周波アブレーション（radiofrequency ablation、ＲＦＡ）及び不可逆電気穿孔（irreversible electroporation、ＩＲＥ）は、相補的な臨床特性を有する可能性がある。ＲＦＡは、組織内の電気エネルギーを散逸させることによって組織細胞を熱で破壊するが、ＩＲＥは、組織内の電気エネルギーの散逸を最小限に抑えながら、組織を強力な電界パルスにさらすことによって組織細胞を破壊する。
ＩＲＥとＲＦＡを組み合わせることで、より効果的な治療が達成され得ることが期待されている。例えば、熱補助ＩＲＥは、より完全なアブレーションにつながる可能性があり、そこでは、例えば、組織の幾何学的形状及び／又は組成のために１つの方法によって十分に破壊されていない組織は、その後、もう１つの方法によって完全に破壊される。しかしながら、前述の治療を次々に送達することは、例えば心臓の動きのために、心臓治療などの一部の応用ではそれほど効果的ではない可能性がある。
以下に記載される本発明の例示的な実施形態は、同じ位置へのＩＲＥ及びＲＦＡ治療の共同送達のためのシステム及び方法を提供する。以下「ＩＲＥ／ＲＦＡ」とも呼ばれる開示された技術では、１秒未満のスケールで絡み合った、織り合わされた、及び／又はインターリーブされたＩＲＥ及びＲＦＡ波形のシーケンスが生成され、送達される。例示的な実施形態では、ＩＲＥパルス及びＲＦＡサイクルは、事前設定されたインターリーブ比に従って、同じアブレーション電極上で１つ以上のＩＲＥパルスを１つ以上のＲＦＡサイクルとインターリーブすることによって、同じ組織位置に同時に印加される。
一部の例示的な実施形態では、波形の出力シーケンスを変化させて、ＩＲＥパルスのみ、ＲＦサイクルのみ、又はＭ個のＩＲＥパルスのシーケンス及びＮ個のＲＦＡサイクルを交互に、印加することができる発生器が提供され、Ｍ≧１、Ｎ≧１である。
シーケンスの他の特性、例えば、ＩＲＥパルス波形及び振幅、パルス繰り返し率、並びにＲＦ周波数などのＲＦＡパラメータは、発生器を制御するプロセッサを介して構成されてもよい。通常、ＩＲＥの場合、発生器は、通常のマイクロ秒のパルス幅で最大４ｋＶのピークツーピーク電圧を有する二相性パルスを生成することができる。ＲＦＡの場合、発生器は、ミリ秒の周期で最大１００Ｖのピークツーピーク電圧を有する正弦波サイクルを生成することができる。
一部の例示的な実施形態では、開示された発生器のオペレータは、例えば、プロセッサ内のユーザインターフェースを使用して、例えば、１００％ＩＲＥ（Ｎ＝０で表される）、１００％ＲＦＡ（Ｍ＝０で表される）、又はその間の任意の比率などのエネルギースケールを選択することができる。発生器は、例えば設定可能なプロトコルを使用して、オペレータの選択に従って｛Ｍ，Ｎ｝インターリーブ波形の正しいシーケンスを提供するようにプログラムされる。そのような設定可能なプロトコルは、例えば、必要な選択をもたらすパルス幅及びパルス振幅を更に含み得る。
一部の例示的な実施形態では、開示された発生器は、（ａ）高調波濾過回路及び（ｂ）ＩＲＥ／ＲＦＡスイッチング回路（いずれも開示された発生器に含まれている）を使用して、ＩＲＥパルスからＲＦ信号（例えば、サイクル）を生成する。ＲＦＡの波形を生成するために、開示された高調波濾過は、所定の実施形態に従って、ＩＲＥ波形にローパス濾過、バンドパス濾過、又はバンドストップ濾過のうちの１つ以上を適用することができる。
開示されたＩＲＥ／ＲＰＡ発生器は、ＩＲＥ及びＲＦＡ治療を同じ位置に同時に適用することを可能にし、したがって、心不整脈の侵襲的治療の臨床転帰を改善する可能性がある。
システムの説明
図１は、本発明の例示的な実施形態によるカテーテルベースのＩＲＥ／ＲＦＡシステム２０の概略図である。システム２０はカテーテル２１を含み、カテーテルのシャフト２２は、シース２３を介して患者２８の心臓２６に挿入される。カテーテル２１の近位端は、コンソール２４に接続されている。
コンソール２４は、カテーテル２１を介して絡み合ったＩＲＥ／ＲＦＡ波形を印加して心臓２６の左心房４５内の組織を切除するためのＩＲＥ／ＲＦＡ発生器３８を含む。本明細書に記載の例示的な実施形態では、カテーテル２１は、心臓２６の左心房４５内の肺静脈の口組織の電気的感知及び／又は分離などの任意の適切な治療及び／又は診断の目的で使用され得る。
医師３０は、患者２８の血管系を通してシャフト２２を挿入する。挿入図２５に見られるように、膨張可能なバルーン４０がシャフト２２の遠位端に取り付けられている。シャフト２２の挿入中、バルーン４０はシース２３内で折り畳まれた構成に維持される。バルーン４０を折り畳まれた構成で収容することにより、シース２３はまた、標的位置への途中での血管の外傷を最小限にするのに役立つ。医師３０は、シャフト２２の遠位端を心臓２６内の標的位置へとナビゲートする。
シャフト２２の遠位端が標的位置に到達すると、医師３０は、シース２３を後退させてバルーン４０を拡張させる。次に、医師３０は、バルーン４０上に配置された電極が口の内壁に係合するようにシャフト２２を操作する。
コンソール２４は、カテーテル２１、及び通常は患者２６の胸部の周りに配置される外部電極４９から信号を受信するための適切なフロントエンド及びインターフェース回路３７を備えたプロセッサ４１、典型的には汎用コンピュータを含む。この目的で、プロセッサ４１は、ケーブル３９を通るワイヤによって外部電極４９に接続されている。例示的な実施形態では、医師３０は、例えばカテーテル２１によって取得された電気生理学的信号を使用して、不整脈源性組織の位置を診断する。続いて、医師３０は、バルーン４０上に配置された電極を介して、絡み合ったＩＲＥ／ＲＦＡ波形を印加して組織を切除する。
プロセッサ４１は、通常、本明細書に記載の機能を実行するようにプログラムされる（ソフトウェア）。ソフトウェアは、例えば、ネットワークを介して電子形式でコンピュータにダウンロードされてもよく、代替的又は追加的に、磁気、光学、又は電子メモリなどの非一時的な有形媒体上に提供及び／又は記憶されてもよい。
図示された例示的な実施形態は、特に心臓組織のアブレーションのためのバルーンの使用に関するが、システム２０の要素及び本明細書に記載の方法は、代替的に、マルチアームアブレーションカテーテルなどの他の種類の多電極アブレーションデバイスを使用してアブレーションを制御する際に適用されてもよい。言い換えれば、本発明に従って任意の適切なデバイスを利用することができる。
インターリーブされたＩＲＥ／ＲＦＡ波形のシーケンスの生成
図２は、本発明の例示的な実施形態による、図１に示されたシステム２０のＩＲＥ／ＲＦＡ発生器３８の概略ブロック図である。図示された例示的な実施形態では、発生器３８は、ＩＲＥパルス発生器５０と、ＩＲＥ／ＲＦＡ波形整形器及びインターリーバ５５とを含み、これらは両方とも構成可能であり、プロセッサ４１によって制御される。
図示のように、ＩＲＥパルス発生器５０は、事前定義された波形の高電圧ＩＲＥ二相性パルスのシーケンス５２を生成する。本明細書において、「二相性パルス」という用語は、パルスの平均電圧がゼロボルトであるように、正電圧相及び負電圧相を有するパルスを指す。例示的な実施形態では、二相性パルスは方形波パルス波形を有するが、必ずしもそうではない。一部の例示的な実施形態では、二相性パルスのピークツーピーク電圧は、最大４ＫＶ、即ち±２ＫＶのオーダーである。各二相性パルスのパルス幅は、通常、数マイクロ秒のオーダーである。あるいは、任意の他の適切なパルスパラメータを使用してもよい。
図３に更に記載されるＩＲＥ／ＲＦＡ波形整形器及びインターリーバ５５は、入力シーケンス５２を、例えば、ＲＦエネルギーのＮ＝２の正弦波周期（例えば、２つの正弦波形状パルス）とインターリーブされたＭ＝２のＩＲＥ形状パルスを含む、出力波形のインターリーブされたＩＲＥ／ＲＦＡシーケンス５７に変換する。ＩＲＥ／ＲＦＡシーケンス５７は、通常、図１を参照して上述したようにアブレーション電極を介して選択された組織位置に印加するために、カテーテル２２に送達される。
図３は、本発明の例示的な実施形態による、図２のＩＲＥ／ＲＦＡ発生器３８の特定の詳細を示す概略ブロック図である。本実施例では、ＩＲＥ／ＲＦＡ波形整形器及びパルスインターリーバ５５は、二相性パルス整形器回路６０、高調波フィルタ回路６４、及び波形インターリーバ回路６６を含む。
二相性パルス整形器回路６０は、必要に応じて、シーケンス５２のＩＲＥパルスを、最終形状及び繰返し率を有するＩＲＥパルス６２に適合させるように構成される。例えば、パルス整形器６０は、二相性パルスの異なる立ち上がり時間及び／又は立ち下がり時間を生成するためのコンデンサのアレイを含むことができる。
高調波フィルタ回路６４は、上述したいくつかのタイプの高調波フィルタのセットを含むことができ、また、プロセッサ４１によって提供される設定に基づいて、シーケンス５２の入力ＩＲＥパルスをＲＦ信号５９、典型的には正弦波信号に変換するように構成されてもよい。ＲＦ信号５９は、通常、４５０ｋＨｚ～５００ｋＨｚのオーダーの周波数と、最大１００Ｖ（即ち、±５０Ｖ）のオーダーのピークツーピーク電圧を有する。しかしながら、代替的に、任意の他の適切な信号パラメータを使用してもよい。
挿入図６５に見られるように、高調波濾過は、ローパスフィルタ（コンデンサで表される）によって実行されてもよいが、出力電圧は、１つ以上の変圧器を使用して決定される。最後に、波形インターリーバ６６は、１つ以上のＩＲＥパルス６２をＲＦ信号５９の１つ以上の周期とインターリーブし、インターリーブされたシーケンス５７をカテーテル２１に出力する。図示のように、波形インターリーバ６６は、入力波形５９と入力波形６２との間で切り替えるためのスイッチング回路６７を含む。
高調波濾過は、方形波を正弦波に変換する最も簡単な方法の１つである。方形波は、基本周波数と高次高調波で構成される。高調波濾過は、高次高調波を除去するのに役立ち、それによって正弦波基本周波数信号を残す。
図２及び図３に示される例示的な構成は、純粋に概念を明確にするために選択される。代替の例示的な実施形態では、開示された技術は、他の任意の適切なパルス生成及び整形スキームを使用することができる。
図４は、本発明の例示的な実施形態による、図１のＩＲＥ／ＲＦＡシステム２０を使用するＩＲＥ／ＲＦＡ治療の方法を概略的に示すフローチャートである。このプロセスは、カテーテル挿入ステップ７０において、医師３０がカテーテル２０を心臓２６に挿入することから始まる。次に、医師３０は、治療エネルギー選択ステップ７２において、例えば、事前定義されたプロトコルを選択することによって、標的組織に送達されるＩＲＥ／ＲＦＡエネルギーの比率を選択する。上記のように、医師３０は、臨床目標に応じて、１００％ＩＲＥエネルギーから１００％ＲＦＡエネルギーまでの間の任意の比率を選択することができる。
医師３０がＩＲＥとＲＦＡの混合エネルギーを印加することを選択したと仮定すると、医師３０は、インターリーブされたシーケンスの選択ステップ７４において、例えば選択したプロトコルによって指定されるように、ＩＲＥ／ＲＦＡ波形のインターリーブされたシーケンスを指定する。例えば、医師３０は、上記で定義されたように、最大程度のインターリーブを有する｛Ｍ＝１，Ｎ＝１｝シーケンスを選択することができる。
次に、カテーテル位置決めステップ７６において、医師３０はカテーテル２１を操作して、バルーン４０上に配置された電極と肺静脈の口などの組織との間の接触を確立する。次に、医師３０は、ＩＲＥ／ＲＦＡ治療ステップ７８において、選択したＩＲＥ／ＲＦＡ波形のインターリーブされたシーケンスを組織に印加する。
治療直後、ＩＲＥ／ＲＦＡ治療後の診断ステップ８０において、医師３０は、診断カテーテルとしてバルーン４０を使用して電位図を取得し、治療ステップ７８がどの程度分離を達成したかを確認する。確認ステップ８２において、医師が十分な分離が達成されたと見なした場合、医師３０は、カテーテル後退ステップ８４において、患者の体からカテーテルを取り外す。そうでない場合、医師３０は、ステップ７２にループバックすることによって、追加の治療のためにバルーンを再配置して、追加の治療ステップのパラメータを選択することができる。
本明細書に記載の実施形態は、主に心臓応用に対処するが、本明細書に記載の方法及びシステムは、肺又は肝臓などの固形腫瘍の治療など、他の医療応用にも使用することができる。
したがって、上記の例示的な実施形態は例として引用されており、本発明は、上記で特に示され、説明されたものに限定されないことが理解されるであろう。むしろ、本発明の範囲は、上記の様々な特徴の組み合わせ及び部分的組み合わせの両方、並びに前述の説明を読んで当業者に想到され、先行技術に開示されていないそれらの変形及び修正を含む。参照により本特許出願に組み込まれた文書は、本出願の不可欠な部分と見なされ、ただし、いずれかの用語が、これらの組み込まれた文書において、本明細書中で明示的又は暗黙的に行われた定義と矛盾する方法で定義されている限り、本明細書における定義のみを考慮すべきである。
〔実施の態様〕
（１） 不可逆電気穿孔及び高周波アブレーション（ＩＲＥ／ＲＦＡ）発生器であって、
二相性ＩＲＥパルスを生成するように構成されたＩＲＥパルス発生器と、
前記ＩＲＥパルスをＲＦ信号に変換するように構成された高調波濾過回路と、
前記ＩＲＥパルス及び前記ＲＦ信号を受信し、前記ＩＲＥパルスのうちの１つ以上を前記ＲＦ信号の１つ以上の周期と交互にインターリーブすることによってＩＲＥ／ＲＦＡ出力信号を生成するように構成された波形インターリーバと、を備える、不可逆電気穿孔及び高周波アブレーション（ＩＲＥ／ＲＦＡ）発生器。
（２） 前記波形インターリーバは、プロセッサから、前記ＩＲＥパルスと前記ＲＦ信号の前記周期との間のインターリーブ比を指定する設定を受信し、前記設定に応答して前記インターリーブされたＩＲＥ／ＲＦＡ出力信号を生成するように構成されている、実施態様１に記載のＩＲＥ／ＲＦＡ発生器。
（３） 前記ＩＲＥパルス発生器は、プロセッサから、前記ＩＲＥパルスの形状、振幅及び繰り返し率のうちの１つ以上を指定する設定を受信し、前記設定に応答して前記二相性ＩＲＥパルスを生成するように構成されている、実施態様１に記載のＩＲＥ／ＲＦＡ発生器。
（４） 前記高調波濾過回路は、プロセッサから、前記ＲＦ信号の周波数及び振幅のうちの１つ以上を指定する設定を受信し、前記設定に応答して前記ＩＲＥパルスを前記ＲＦ信号に変換するように構成されている、実施態様１に記載のＩＲＥ／ＲＦＡ発生器。
（５） 事前に指定されたパルス波形を前記ＩＲＥパルスに印加するように構成されたＩＲＥパルス整形回路を備える、実施態様１に記載のＩＲＥ／ＲＦＡ発生器。
（６） 前記波形インターリーバは、設定可能な治療プロトコルに従って、前記ＩＲＥパルスを前記ＲＦ信号とインターリーブするように構成されている、実施態様１に記載のＩＲＥ／ＲＦＡ発生器。
（７） 不可逆電気穿孔及び高周波アブレーション（ＩＲＥ／ＲＦＡ）信号を生成する方法であって、
二相性ＩＲＥパルスを生成することと、
高調波濾過回路を使用して、前記ＩＲＥパルスをＲＦ信号に変換することと、
前記ＩＲＥパルスのうちの１つ以上を前記ＲＦ信号の１つ以上の周期とインターリーブすることによってＩＲＥ／ＲＦＡ出力信号を生成することと、を含む、方法。
（８） 前記ＩＲＥ／ＲＦＡ出力信号を生成することは、プロセッサから、前記ＩＲＥパルスと前記ＲＦ信号の前記周期との間のインターリーブ比を指定する設定を受信することと、前記設定に応答して前記インターリーブされたＩＲＥ／ＲＦＡ出力信号を生成することと、を含む、実施態様７に記載の方法。
（９） 前記二相性ＩＲＥパルスを生成することは、プロセッサから、前記ＩＲＥパルスの形状、振幅及び繰り返し率のうちの１つ以上を指定する設定を受信することと、前記設定に応答して前記二相性ＩＲＥパルスを生成することと、を含む、実施態様７に記載の方法。
（１０） 前記ＩＲＥパルスを前記ＲＦ信号に変換することは、プロセッサから、前記ＲＦ信号の周波数及び振幅のうちの１つ以上を指定する設定を受信することと、前記設定に応答して前記ＩＲＥパルスを前記ＲＦ信号に変換することと、を含む、実施態様７に記載の方法。
（１１） 事前に指定されたパルス波形を前記ＩＲＥパルスに印加することによって前記ＩＲＥパルスを整形することを含む、実施態様７に記載の方法。
（１２） 前記ＩＲＥ／ＲＦＡ出力信号を生成することは、設定可能な治療プロトコルに従って、前記ＩＲＥパルスを前記ＲＦ信号とインターリーブすることを含む、実施態様７に記載の方法。

Claims (12)

  1. 不可逆電気穿孔及び高周波アブレーション（ＩＲＥ／ＲＦＡ）発生器であって、
    二相性ＩＲＥパルスを生成するように構成されたＩＲＥパルス発生器と、
    前記ＩＲＥパルスをＲＦ信号に変換するように構成された高調波濾過回路と、
    前記ＩＲＥパルス及び前記ＲＦ信号を受信し、前記ＩＲＥパルスのうちの１つ以上を前記ＲＦ信号の１つ以上の周期と交互にインターリーブすることによってＩＲＥ／ＲＦＡ出力信号を生成するように構成された波形インターリーバと、を備える、不可逆電気穿孔及び高周波アブレーション（ＩＲＥ／ＲＦＡ）発生器。
  2. 前記波形インターリーバは、プロセッサから、前記ＩＲＥパルスと前記ＲＦ信号の前記周期との間のインターリーブ比を指定する設定を受信し、前記設定に応答して前記インターリーブされたＩＲＥ／ＲＦＡ出力信号を生成するように構成されている、請求項１に記載のＩＲＥ／ＲＦＡ発生器。
  3. 前記ＩＲＥパルス発生器は、プロセッサから、前記ＩＲＥパルスの形状、振幅及び繰り返し率のうちの１つ以上を指定する設定を受信し、前記設定に応答して前記二相性ＩＲＥパルスを生成するように構成されている、請求項１に記載のＩＲＥ／ＲＦＡ発生器。
  4. 前記高調波濾過回路は、プロセッサから、前記ＲＦ信号の周波数及び振幅のうちの１つ以上を指定する設定を受信し、前記設定に応答して前記ＩＲＥパルスを前記ＲＦ信号に変換するように構成されている、請求項１に記載のＩＲＥ／ＲＦＡ発生器。
  5. 事前に指定されたパルス波形を前記ＩＲＥパルスに印加するように構成されたＩＲＥパルス整形回路を備える、請求項１に記載のＩＲＥ／ＲＦＡ発生器。
  6. 前記波形インターリーバは、設定可能な治療プロトコルに従って、前記ＩＲＥパルスを前記ＲＦ信号とインターリーブするように構成されている、請求項１に記載のＩＲＥ／ＲＦＡ発生器。
  7. 不可逆電気穿孔及び高周波アブレーション（ＩＲＥ／ＲＦＡ）信号を生成する方法であって、
    二相性ＩＲＥパルスを生成することと、
    高調波濾過回路を使用して、前記ＩＲＥパルスをＲＦ信号に変換することと、
    前記ＩＲＥパルスのうちの１つ以上を前記ＲＦ信号の１つ以上の周期とインターリーブすることによってＩＲＥ／ＲＦＡ出力信号を生成することと、を含む、方法。
  8. 前記ＩＲＥ／ＲＦＡ出力信号を生成することは、プロセッサから、前記ＩＲＥパルスと前記ＲＦ信号の前記周期との間のインターリーブ比を指定する設定を受信することと、前記設定に応答して前記インターリーブされたＩＲＥ／ＲＦＡ出力信号を生成することと、を含む、請求項７に記載の方法。
  9. 前記二相性ＩＲＥパルスを生成することは、プロセッサから、前記ＩＲＥパルスの形状、振幅及び繰り返し率のうちの１つ以上を指定する設定を受信することと、前記設定に応答して前記二相性ＩＲＥパルスを生成することと、を含む、請求項７に記載の方法。
  10. 前記ＩＲＥパルスを前記ＲＦ信号に変換することは、プロセッサから、前記ＲＦ信号の周波数及び振幅のうちの１つ以上を指定する設定を受信することと、前記設定に応答して前記ＩＲＥパルスを前記ＲＦ信号に変換することと、を含む、請求項７に記載の方法。
  11. 事前に指定されたパルス波形を前記ＩＲＥパルスに印加することによって前記ＩＲＥパルスを整形することを含む、請求項７に記載の方法。
  12. 前記ＩＲＥ／ＲＦＡ出力信号を生成することは、設定可能な治療プロトコルに従って、前記ＩＲＥパルスを前記ＲＦ信号とインターリーブすることを含む、請求項７に記載の方法。
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