JP2023506863A

JP2023506863A - ヘッドアップディスプレイシステム

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Publication number: JP2023506863A
Application number: JP2022536773A
Authority: JP
Inventors: ジュリーフーベルト，; カドサヘヴェシ，; パトリックアヨウブ，
Original assignee: AGC Glass Europe SA
Current assignee: AGC Glass Europe SA
Priority date: 2019-12-16
Filing date: 2020-12-16
Publication date: 2023-02-20
Also published as: CN115136037A; WO2021122848A1; EP4078251A1; US20230043367A1

Abstract

本発明は、ｐ偏光をグレージングに向けて投射する光源を含むＨＵＤシステムであって、前記グレージングが、第１の表面及び第２の表面を有する外側ガラスシートと、第１の表面及び第２の表面を有する内側ガラスシートとを含み、内側ガラスシートの第２の表面が第１のコーティングを含み、両シートが少なくとも１つの中間層材料シートによって接合され、前記第１のコーティングが、５０～１００ｎｍの厚さを有する少なくとも１つの高屈折率層と、７０～１６０ｎｍの厚さを有する少なくとも１つの低屈折率層とを含み、前記少なくとも１つの高屈折率層が、Ｚｒ、Ｎｂ、Ｓｎの酸化物、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｎｂ、Ｓｉ、Ｓｂ、Ｓｎ、Ｚｎ、Ｉｎの混合酸化物、Ｓｉ、Ｚｒの窒化物、Ｓｉ、Ｚｒの混合窒化物のうちの少なくとも１つを含む。【選択図】なし

Description

本発明は、ヘッドアップディスプレイシステム、及び前記ヘッドアップディスプレイシステムを提供する方法に関する。

ヘッドアップディスプレイシステム、又はＨＵＤシステムは輸送装置において広範囲に使用され、前記輸送装置のビューア又はドライバーの表示領域の車用グレージング上に情報を提供する。

多種多様なＨＵＤシステムが公知である。一般に、プロジェクションシステムは、ユーザーによって見ることができる投影画像を形成するための最終光学成分として部分ミラー（部分レフレクター及び部分ウィンドウ）と組み合わせられる。同時に、ユーザーは部分ミラーによって他の場面を見ることができる。部分ミラーは、ディスプレイの使用適性に影響を与える重要な成分である。一般的に、部分ミラーの反射能は、プロジェクターから光を反射するために十分でなければならないが、部分ミラーはまた、それによって十分な表示を提供するために十分に透明でなければならない。

中国特許第１０４２６７４９８Ａ号明細書において投射光源と、合わせガラスと、透明ナノメートルフィルムとを含むヘッドアップディスプレイシステムのためにＨＵＤシステムの実施例が提供されており、ここで透明ナノメートルフィルムは、内側ガラス板の表面から外へ連続に積み重なる高反射率層／低反射率層の少なくとも１つの積層構造物を含み、投射光源はｐ偏光を発生するために使用され、ｐ偏光が透明ナノメートルフィルムに入り、透明ナノメートルフィルムからのｐ偏光の反射能は５％以上であり、ｐ偏光の入射角は４２度～７２度の範囲である。ＨＵＤシステムのさらなる実施例が中国特許第２０６１４７１７８Ｕ号明細書及び中国特許第２０４１６６１９７Ｕ号明細書において提供されている。

投射光源と合わせグレージングとを含むＨＵＤシステムについて欧州特許第３１８７９１７Ａ２号明細書においてＨＵＤのさらなる実施例が提供され、合わせグレージングは、内側ガラスパネルと、外側ガラスパネルと、内側ガラスパネルと外側ガラスパネルとの間に挟まれた中間フィルムとを含み、ここでヘッドアップディスプレイシステムは、少なくとも２つの誘電体層と少なくとも１つの金属層とを含む透明ナノフィルムをさらに含み、各々の金属層が２つの誘電体層の間に配置され、中間フィルムの屈折率と内側ガラスパネル及び外側ガラスパネルの屈折率との間の差は０．１以下であり、投射光源は、中間フィルムから内側ガラスパネルの表面上に入射するｐ偏光を発生するために使用され、この光は４２～７２度の入射角を有し、透明ナノフィルムが入射ｐ偏光の一部を反射することができるようにする。

国際公開第ＷＯ２０１９／０４６１５７Ａ１号パンフレットには、積層体であって、第１の表面及び第２の表面を有する第１のプライ（第１の表面は積層体の外面である）と、第２の表面に対向する第３の表面と第３の表面の反対側の第４の表面とを有する第２のプライ（第４の表面は積層体の内面である）と、プライの間の中間層と；プライの表面の少なくとも一部分の上に配置される強化ｐ偏光反射コーティングとを備える、積層体が開示されている。積層体が積層体の垂線に対して６０の角度でｐ偏光放射線を有する放射線と接触されるとき、積層体は、少なくとも７０％のＬＴＡと少なくとも１０％のｐ偏光放射線の反射能とを示す。ディスプレイシステム及びヘッドアップディスプレイに画像を投射する方法もまた開示される。

ＨＵＤシステムに関する典型的な問題は、ゴースト像又は複像の出現である。また、問題は、被投射情報が提供される車用グレージングの周りの要素の反射であり、この反射は、前記被投射情報を不鮮明にし、弱める。

熱処理に耐え、且つＨＵＤシステムにおいてグレージング上に明瞭且つ鮮明な画像表示を反射するためになお有用であり得るｐ偏光反射コーティングが依然として必要とされている。

本発明は、
光をグレージングに向けて投射する光源を含むＨＵＤシステムであって、
グレージングが、第１の表面及び第２の表面を有する外側ガラスシートと、第１の表面及び第２の表面を有する内側ガラスシートとを含み、
内側ガラスシートの第２の表面が第１のコーティングを含み、両シートが、内側ガラスシートの第１の表面（Ｓ３）と外側ガラスシートの第２の表面（Ｓ２）との間の接触を与える少なくとも１つの中間層材料シートによって接合され、
前記第１のコーティングが、
－５０～１００ｎｍの厚さを有する少なくとも１つの高屈折率層と、
－７０～１６０ｎｍの厚さを有する少なくとも１つの低屈折率層とを含み、
前記少なくとも１つの高屈折率層が、
－Ｚｒ、Ｎｂ、Ｓｎの酸化物、
－Ｔｉ、Ｚｒ、Ｎｂ、Ｓｉ、Ｓｂ、Ｓｎ、Ｚｎ、Ｉｎの混合酸化物、
－Ｓｉ、Ｚｒの窒化物、
－Ｓｉ、Ｚｒの混合窒化物のうちの少なくとも１つを含むことを特徴とする。

このようなＨＵＤシステムを提供する方法もまた提供される。

本発明は、
光をグレージングに向けて投射する光源を含むＨＵＤシステムであって、
グレージングが、第１の表面及び第２の表面を有する外側ガラスシートと、第１の表面及び第２の表面を有する内側ガラスシートとを含み、
内側ガラスシートの第２の表面が第１のコーティングを含み、両シートが、内側ガラスシートの第１の表面と外側ガラスシートの第２の表面との間の接触を与える少なくとも１つの中間層材料シートによって接合され、
前記第１のコーティングが、
－５０～１００ｎｍの厚さを有する少なくとも１つの高屈折率層と
－７０～１６０ｎｍの厚さを有する少なくとも１つの低屈折率層とを含み、
前記少なくとも１つの高屈折率層が、
－Ｚｒ、Ｎｂ、Ｓｎの酸化物、
－Ｔｉ、Ｚｒ、Ｎｂ、Ｓｉ、Ｓｂ、Ｓｎ、Ｚｎ、Ｉｎの混合酸化物、
－Ｓｉ、Ｚｒの窒化物、
－Ｓｉ、Ｚｒの混合窒化物のうちの少なくとも１つを含むことを特徴とする。

光源は典型的に、グレージングに向けての光投射を提供する。光源は、偏光板を備えてもよい。偏光板上に入射する光は、電磁スペクトルの可視光部分の一部又は全てを含むことができる。それはまた、赤外波長を含むことができる。反射偏光板は、ほぼ直角入射及び傾斜角でｓ偏光及びｐ偏光の両方が、赤外域において高度に反射されるように構成され得、この場合例えば日射のさらなる排除を達成することができる。このような光源は典型的に本技術分野に公知であり、本明細書において説明されていない。

本発明の範囲において、光源はｐ偏光を提供する。このような光は、グレージングに向けて投射される情報の有利な反射を可能にする。

典型的に、投射光は４２～７２度の角度でグレージングに入射する。ｐ偏光源とともに構成される本ＨＵＤシステムの利点は、本明細書において考察される第１のコーティングの有効なｐ偏光反射能の結果として、光の入射角が典型的に約５６°の、ブリュースター角に近い場合、複像が外側ガラス表面（Ｓ１）によって全く又はごくわずかしか生じないことである。本ＨＵＤシステムのさらなる利点は、鮮明詳細に様々な色を投射及び反射する能力である。

グレージングは、第１の表面（Ｓ１）及び第２の表面（Ｓ２）を有する外側ガラスシートと、第１の表面（Ｓ３）及び第２の表面（Ｓ４）を有する内側ガラスシートとを含む。このようなグレージングは典型的に、積層される。グレージングの外側ガラスシートは、車又は建物の外部と接触しているシートである。内側ガラスシートは、車又は建物の内部空間と接触しているシートである。２つのガラスシートは積層用シート又は中間層と接触保持され、２つのガラスシートの間の接着及び接触に役立つ。中間層は、内側ガラスシートの第１の表面（Ｓ３）と外側ガラスシートの第２の表面（Ｓ２）との間の接触を与える。

ガラスは、ソーダ－石灰－シリカ、アルミノケイ酸塩又はホウケイ酸塩タイプ等のガラスであり得る。典型的に、ガラス板は、０．５～１２ｍｍの厚さを有するフロートガラスである。輸送用途において、ガラスは、１～８ｍｍの範囲の厚さを有し、他方、それらはまた、１～８ｍｍの厚さに加えて、０．５～１ｍｍの極薄ガラス、又は８～１２ｍｍのより厚めのガラスのような建築用途においてより薄め又はより厚めであり得る。

グレージングの組成物は本発明の目的のために重大ではないが、ただし前記ガラス板は輸送又は建築用途のために適切である。ガラスは、透明ガラス、超透明ガラス又は所望の効果の関数として適切な量の１つ以上の成分／着色剤を含む着色ガラスであり得る。着色ガラスには、灰色、緑色又は青色フロートガラスが含まれる。いくつかの状況では、着色ガラスは、最終グレージングの適切な及び所望の色を提供するために有利であり得る。

特に適した着色ガラスは、車の外側から見られる時にすぐれた審美性を提供するので、緑色ガラスであり得る。緑色ガラスは、例えば、０．３～１．０重量％の範囲の量のＦｅ_２Ｏ_３の形態の酸化鉄を有する、ソーダ石灰ガラスであり得る。

ガラス板は平らであるか、又は形状が用途のために必要とする場合はガラス支持体の特定の設計と正確に適合するように全く若しくは部分的に曲線状であり得る。

典型的に中間層は、０．３～０．９ｍｍの全厚さを典型的に有する、熱可塑性材料、例えば、ポリビニルブチラール（ＰＶＢ）、エチレンビニルアセテート（ＥＶＡ）、ポリウレタン（ＰＵ）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリカーボネート、又はそれらの複数の層を含有する。中間層は、着色剤を含有し得、したがって着色中間層であり得る。

いくつかの場合において、ガラスが着色ガラスではないとき、中間層は着色中間層であり得る。また、このような着色中間層は、外側から見る人の視点からすぐれた審美性を提供し得る。

中間層は典型的に、２つのガラスシートの間のその表面全体にわたって均一な厚さを有する。したがって中間層は典型的に、「ウエッジ」中間層と考えられない。ウエッジ中間層は反射像において人為的な結果をもたらし得、したがって本発明の範囲において本質的ではない。さらに、このようなウエッジ中間層は典型的に、設計及び製造のための付加的なコストを伴う。

本発明の範囲において、中間層は典型的に、吸光剤又はいかなる光干渉ポリマーをも含有しない。本発明の範囲において、中間層は典型的に、多層コーティングを支持していない。

内側ガラスシートの第２の表面（Ｓ４）は、第１のコーティングを含む。第１のコーティングは、高屈折率材料の少なくとも１つの層と、低屈折率材料の少なくとも１つの層とを含む。本発明の範囲において、このような配列は、「高／低」配列と称される。

いくつかの実施形態において、第１のコーティングは、高屈折率及び低屈折率の交互層を含み得、すなわち、第１のコーティングは、高屈折率材料の２つ以上の層、及び／又は低屈折率材料の２つ以上の層を含み得る。このような場合、「高／低」配列は２回以上存在し得、すなわち、配列は、少なくとも２回繰り返され得る。最大３回又は４回以上の繰り返し配列が提供され得る。いくつかの場合において、繰り返し配列は３回以下である。

本発明の範囲において、第１のコーティングが提供された少なくとも内側シートは、熱強化プロセスに耐えるように適している。したがって、このような内側シートは、熱強化プロセスに供されてもよい。

本発明の範囲において、高屈折率は典型的に、５５０ｎｍの波長において≧１．８、或いは≧１．９、或いは≧２．０、或いは≧２．１である。

本発明の範囲において、低屈折率は典型的に、５５０ｎｍの波長において＜１．８、或いは≦１．７、或いは≦１．６である。

本発明の範囲において、第１のコーティングの少なくとも１つの高屈折率層は、
－Ｚｒ、Ｎｂ、Ｓｎの酸化物、
－Ｔｉ、Ｚｒ、Ｎｂ、Ｓｉ、Ｓｂ、Ｓｎ、Ｚｎ、Ｉｎの混合酸化物、
－Ｓｉ、Ｚｒの窒化物、
－Ｓｉ、Ｚｒの混合窒化物のうちの少なくとも１つを含む。

本発明のいくつかの実施形態において、第１のコーティングの少なくとも１つの高屈折率層は、混合チタンジルコニウム酸化物、混合チタンケイ素酸化物、混合ニオブジルコニウム酸化物、混合ケイ素ジルコニウム窒化物、アルミニウムがドープされたケイ素窒化物、ジルコニウム酸化物、混合インジウムスズ酸化物、混合亜鉛アルミニウム混合酸化物、混合アンチモンスズ酸化物、混合チタン亜鉛酸化物、混合亜鉛スズ酸化物のうちの少なくとも１つを含む。

厚さの範囲の特定の選択において、このような高屈折率材料は、熱強化した時に大きな結晶度の変化を受けないので、選択される。このような観点からみると、したがってチタン酸化物は、熱強化した時に大きな結晶度の変化を受けるので、第１のコーティングのただ１つの高屈折率層である時は高屈折率材料として推奨されない。

本発明のいくつかの代替実施形態において、第１のコーティングの少なくとも１つの高屈折率層は、混合チタンジルコニウム酸化物、混合チタンケイ素酸化物、混合ニオブジルコニウム酸化物、混合ケイ素ジルコニウム窒化物、アルミニウムがドープされたケイ素窒化物、ジルコニウム酸化物、混合亜鉛スズ酸化物のうちの少なくとも１つを含む。

これらの材料は、請求の範囲の厚さの範囲において熱サイクルでの高屈折率層の特質を脅かさない。

最大偏光反射を提供するための好ましい高屈折率材料には、好ましさの低くなる順に、混合チタンジルコニウム酸化物、混合ケイ素ジルコニウム窒化物、混合チタンケイ素酸化物、アルミニウムがドープされたケイ素窒化物及び混合亜鉛スズ酸化物が含まれる。

高屈折率層の好ましい材料は、任意選択的に、８５／１５～９５／５重量％のＴｉ／Ｓｉ比、好ましくは９２／８重量％の比の混合チタンケイ素酸化物の存在下での、５５／４５～７５／２５重量％のＴｉ／Ｚｒ比、好ましくは６５／３５重量％の比の混合チタンジルコニウム酸化物である。

低屈折率材料の例には、例えばアルミニウムが任意選択的にドープされた、ケイ素酸化物、ケイ素オキシ窒化物、ケイ素オキシ炭化物、又は例えばケイ素とアルミニウムの混合酸化物、ケイ素とジルコニウムの混合酸化物などの混合物が含まれる。

低屈折率層のための好ましい材料は、任意選択的にアルミニウムがドープされた、ケイ素酸化物、又はケイ素とアルミニウムの混合酸化物である。

したがって第１のコーティングは、ガラスと接触している高屈折率材料の第１の層と、高屈折率材料の第１の層の上の低屈折率材料の第１の層とを含み得る。このような実施形態において、１つ以上の副層から任意選択的に製造される、高屈折率材料の第１の層の厚さは、５０～１００ｎｍ、或いは６０～８０ｎｍの範囲であり得る。このような実施形態において、１つ以上の副層から任意選択的に製造される、低屈折率材料の第１の層の厚さは、独立に７０～１６０ｎｍ、或いは８０～１２０ｎｍの範囲であり得る。

請求の範囲のこれらの範囲の厚さは、最適なｐ偏光反射を有する第１のコーティングを可能にし、その結果、それは、全反射率が最適に抑えられて≦２１％にとどまるとともに、≧８％、或いは≧９％であり得、熱処理に耐えることができる。

高屈折率材料の第１の層の厚さ＜５０ｎｍは最適なｐ偏光反射を可能にしない。低屈折率材料の第１の層の厚さ＜７０ｎｍは最適なｐ偏光反射を可能にしない。低屈折率材料の第１の層の厚さ＞１６０ｎｍは全反射率を最適に抑えることができない。

高屈折率材料の選択と組み合わせられた、高屈折率材料の第１の層及び低屈折率材料の第１の層のためにここで提供される厚さの範囲の選択は、最適なｐ偏光反射コーティングを可能にし、それは同時に、高い全反射率を有さず、その結果、ダッシュボードからの反射は不快なものにならない。また、外側から見られる場合の反射の審美性も確実にされる。

本発明のいくつかの実施形態において、第１のコーティングは、ガラスと接触している高屈折率材料の第１の層と、高屈折率材料の第１の層の上の且つそれと接触している低屈折率材料の第１の層とからなる。このような実施形態において、１つ以上の副層から任意選択的に製造される、高屈折率材料の第１の層の厚さは、５０～１００ｎｍ、或いは６０～８０ｎｍの範囲であり得る。このような実施形態において、１つ以上の副層から任意選択的に製造される、低屈折率材料の第１の層の厚さは、独立に７０～１６０ｎｍ、或いは８０～１２０ｎｍの範囲であり得る。

本発明のいくつかの実施形態において、「高／低」繰り返し配列が２回である場合、第１のコーティングは、ガラスと接触している高屈折率材料の第１の層と、高屈折率材料の第１の層の上の低屈折率材料の第１の層と、低屈折率材料の第１の層の上の高屈折率材料の第２の層と、高屈折率材料の第２の層の上の低屈折率材料の第２の層とを含む。

２回の「高／低」繰り返し配列のこのような実施形態において、第１のコーティングは、
ａ．ガラスと接触している、１～１５ｎｍ、或いは２～１１ｎｍの厚さを有する高屈折率材料の第１の層、及び
ｂ．高屈折率材料の第１の層の上の、１５０～２２０ｎｍ、或いは１５２～２１０ｎｍ、或いは１５７．７～２１０ｎｍの厚さを有する低屈折率材料の第１の層、及び
ｃ．低屈折率材料の第１の層の上の、５０～１００ｎｍ、或いは５０～９０ｎｍ、或いは５５～７５ｎｍの厚さを有する高屈折率材料の第２の層、及び
ｄ．高屈折率材料の第２の層の上の、７０～１６０ｎｍ、或いは９５～１１５ｎｍの厚さを有する低屈折率材料の第２の層を含み得る。

具体的に、規定されている通りの範囲の、高屈折率層及び低屈折率層が互いに組み合わされたこれらの範囲の厚さは、最適なｐ偏光反射を有する第１のコーティングを可能にし、その結果、それは、全反射率が最適に抑えられて≦２１％にとどまるとともに、≧８％、或いは≧９％であり得、熱処理に耐えることができる。

各々の層についての厚さの範囲の選択は、ｐ偏光反射に関して特定の性能を可能にする。このような性能は例えば、低屈折率材料の第１の層は厚さ＜１５０ｎｍ、又は＜１５２ｎｍ又は＜１５７．７ｎｍを有する時には達成され得ない。

２回の「高／低」繰り返し配列の特定の実施形態において、第１のコーティングは、
ａ．ガラスと接触している、１～１５ｎｍ、或いは２～１１ｎｍの厚さを有する高屈折率材料の第１の層、及び
ｂ．高屈折率材料の第１の層の上の且つそれと接触している、１５０～２２０ｎｍ、或いは１５２～２１０ｎｍ、或いは１５７．７～２１０ｎｍの厚さを有する低屈折率材料の第１の層、及び
ｃ．低屈折率材料の第１の層の上の且つそれと接触している、５０～１００ｎｍ、或いは５０～９０ｎｍ、或いは５５～７５ｎｍの厚さを有する高屈折率材料の第２の層、及び
ｄ．高屈折率材料の第２の層の上の且つそれと接触している、７０～１６０ｎｍ、或いは９５～１１５ｎｍの厚さを有する低屈折率材料の第２の層からなる。

「高／低」繰り返し配列が３回であるとき、第１のコーティングは、ガラスと接触している高屈折率材料の第１の層と、高屈折率材料の第１の層の上の低屈折率材料の第１の層と、低屈折率材料の第１の層の上の高屈折率材料の第２の層と、高屈折率材料の第２の層の上の低屈折率材料の第２の層と、低屈折率材料の第２の層の上の高屈折率材料の第３の層と、高屈折率材料の第３の層の上の低屈折率材料の第３の層とを含む。

３回の「高／低」繰り返し配列のこのような実施形態において、第１のコーティングは、
ａ．ガラスと接触している、１～１５ｎｍ、或いは４～１０ｎｍの厚さを有する高屈折率材料の第１の層、及び
ｂ．高屈折率材料の第１の層の上の、１００～１６０ｎｍ、或いは１２０～１４０ｎｍの厚さを有する低屈折率材料の第１の層、及び
ｃ．低屈折率材料の第１の層の上の、１～２０ｎｍ、或いは２～８ｎｍの厚さを有する高屈折率材料の第２の層、及び
ｄ．高屈折率材料の第２の層の上の、２０～６０ｎｍ、或いは４０～５０ｎｍの厚さを有する低屈折率材料の第２の層、及び
ｅ．低屈折率材料の第２の層の上の、４０～１００ｎｍ、或いは４５～９０ｎｍの厚さを有する高屈折率材料の第３の層、及び
ｆ．高屈折率材料の第３の層の上の、８０～１４０ｎｍ、或いは９０～１３０ｎｍの厚さを有する低屈折率材料の第３の層を含み得る。

これらの範囲の厚さは、請求の範囲の第１のコーティングについて全反射率を最適に抑えるとともに最適なｐ偏光反射を可能にし、熱処理に耐えることができる。

３回の「高／低」繰り返し配列の他の実施形態において、第１のコーティングは、
ａ．ガラスと接触している、１～１５ｎｍ、或いは４～１０ｎｍの厚さを有する高屈折率材料の第１の層、及び
ｂ．高屈折率材料の第１の層の上の且つそれと接触している、１００～１６０ｎｍ、或いは１２０～１４０ｎｍの厚さを有する低屈折率材料の第１の層、及び
ｃ．低屈折率材料の第１の層の上の且つそれと接触している、１～２０ｎｍ、或いは２～８ｎｍの厚さを有する高屈折率材料の第２の層、及び
ｄ．高屈折率材料の第２の層の上の且つそれと接触している、２０～６０ｎｍ、或いは４０～５０ｎｍの厚さを有する低屈折率材料の第２の層、及び
ｅ．低屈折率材料の第２の層の上の且つそれと接触している、４０～１００ｎｍ、或いは４５～９０ｎｍの厚さを有する高屈折率材料の第３の層、及び
ｆ．高屈折率材料の第３の層の上の且つそれと接触している、８０～１４０ｎｍ、或いは９０～１３０ｎｍの厚さを有する低屈折率材料の第３の層からなる。

２回以上の「高／低」繰り返し配列の場合、第１のコーティングの高屈折率層の少なくとも１つは、
－Ｚｒ、Ｎｂ、Ｓｎの酸化物、
－Ｔｉ、Ｚｒ、Ｎｂ、Ｓｉ、Ｓｂ、Ｓｎ、Ｚｎ、Ｉｎの混合酸化物、
－Ｓｉ、Ｚｒの窒化物、
－Ｓｉ、Ｚｒの混合窒化物のうちの少なくとも１つを含む。

第１のコーティングに２つ以上の高屈折率層がある場合、すなわち、第１のコーティングに２回以上の「高／低」配列がある場合、高屈折率層の少なくとも１つは
－Ｚｒ、Ｎｂ、Ｓｎの酸化物、
－Ｔｉ、Ｚｒ、Ｎｂ、Ｓｉ、Ｓｂ、Ｓｎ、Ｚｎ、Ｉｎの混合酸化物、
－Ｓｉ、Ｚｒの窒化物、
－Ｓｉ、Ｚｒの混合窒化物のうちの少なくとも１つを含み得、
他方、第２の又はさらなる高屈折率層は独立に、
－任意選択的にＡｌ、Ｂ、Ｆ、Ｉｎ、Ｓｉ、Ｓｂ、Ｓｎがドープされた、Ｚｒ、Ｎｂ、Ｓｎ、Ｔｉ、Ｂｉ、Ｇａ、Ｇｄ、Ｈｆ、Ｍｇ、Ｗ、Ｙの酸化物、
－Ｔｉ、Ｚｒ、Ｎｂ、Ｓｉ、Ｓｂ、Ｓｎ、Ｚｎ、Ｉｎ、Ｂの混合酸化物、
－Ｓｉ、Ｚｒの窒化物、
－Ｓｉ、Ｚｒの混合窒化物の少なくとも１つを含み得る。

したがって、第２の又はさらなる高屈折率層のための高屈折率材料の例には、任意選択的にドープされた、チタン酸化物、ビスマス酸化物、ガリウム酸化物、ガドリニウム酸化物、ハフニウム酸化物、マグネシウム酸化物、タングステン酸化物、イットリウム酸化物、又はこれらの混合物、ジルコニウムとホウ素の混合酸化物、亜鉛とアルミニウムの混合酸化物が含まれ得る。第１の高屈折率層がチタン酸化物でないならば、チタン酸化物が第２の又はさらなる高屈折率層において使用され得る。このような観点からみると第１のコーティングに２つ以上の高屈折率層がある場合、チタン酸化物は、強化した時に結晶度の変化を受けるので、したがって第１の高屈折率層の高屈折率材料として推奨されない。

最大偏光反射を提供するための好ましい高屈折率材料には、好ましさの低くなる順に、混合チタンジルコニウム酸化物混合ケイ素ジルコニウム窒化物、混合チタンケイ素酸化物、アルミニウムがドープされたケイ素窒化物及び混合亜鉛スズ酸化物が含まれる。

厚さの範囲の選択において、高屈折率材料は、熱強化した時に大きな結晶度の変化を受けないので、選択される。このような観点からみると、全ての高屈折率層についてチタン酸化物は、熱強化した時に大きな結晶度の変化を受けるので、したがって推奨されない。

いくつかの実施形態において、第１のコーティングに２つ以上の高屈折率層がある場合、すなわち、第１のコーティングに２回以上の「高／低」配列がある場合、高屈折率層は各々独立に、
－Ｚｒ、Ｎｂ、Ｓｎの酸化物、
－Ｔｉ、Ｚｒ、Ｎｂ、Ｓｉ、Ｓｂ、Ｓｎ、Ｚｎ、Ｉｎの混合酸化物、
－Ｓｉ、Ｚｒの窒化物、
－Ｓｉ、Ｚｒの混合窒化物のうちの少なくとも１つを含み得る。

いくつかの場合において、少なくとも１つの高屈折率層材料の好ましい材料は、５５／４５～７５／２５重量％のＴｉ／Ｚｒ比、好ましくは６５／３５重量％の比の混合チタンジルコニウム酸化物であり、他方、少なくとも１つの他の高屈折率層材料は、８５／１５～９５／５重量％のＴｉ／Ｓｉ比の、好ましくは９２／８重量％の比の混合チタンケイ素酸化物であり得る。それらは一緒に、請求の範囲の厚さの範囲において且つ選択された低屈折率層とともに、最適なｐ偏光反射を有する第１のコーティングを達成することができ、その結果、それは、全反射率が最適に抑えられて≦２１％にとどまるとともに、≧８％、或いは≧９％であり得、熱処理に耐えることができる。

他の例では、全ての高屈折率層材料のための好ましい材料は、５５／４５～７５／２５重量％のＴｉ／Ｚｒ比の、好ましくは６５／３５重量％の比の混合チタンジルコニウム酸化物である。それは、請求の範囲の厚さの範囲において且つ選択された低屈折率層とともに、最適なｐ偏光反射を有する第１のコーティングに寄与し得、その結果、それは全反射率が最適に抑えられて≦２１％にとどまるとともに≧９％、或いは≧１０％であり得、熱処理に耐えることができる。

全ての低屈折率層のための好ましい材料は、任意選択的にアルミニウムがドープされた、ケイ素酸化物、又はケイ素とアルミニウムの混合酸化物である。

全ての実施形態において、異なった層の厚さは、提供される限度内で独立に変化して、本発明によって提供される技術的効果のために微調整することができる。

本発明の範囲において、第２のコーティングはｎ個の赤外線反射機能性層ベースの層とｎ＋１個の誘電体層とを含み、２つの誘電体層の間に配置されている各々の赤外線反射機能性層ベースの層は、任意選択的に、内側ガラスシートの第１の表面（Ｓ３）又は外側ガラスシートの第２の表面（Ｓ２）の少なくとも１つの上に提供され得る。

この第２のコーティングは、上述の全ての先行の実施形態に適合する。このような第２のコーティングは、第１のコーティングの機能を損なわない、すなわち、第１のコーティングは、ＨＵＤシステムにおいてグレージング上に明瞭且つ鮮明な画像表示を反射するために有用なｐ偏光反射をなお提供している。

いくつかの場合において、内側シート又は外側シートの少なくとも１つが０．５～１ｍｍの厚さを有する透明ガラスの超薄シートであるとき、第２のコーティングの存在によってさらに、全日射透過の減少が可能にされる。

本発明の範囲において、用語「下に（ｂｅｌｏｗ）」、「下に（ｕｎｄｅｒｎｅａｔｈ）」、「下に（ｕｎｄｅｒ）」は、基材から出発して層配列中の層の、次層に対する相対位置を示す。本発明の範囲において、用語「上に（ａｂｏｖｅ）」、「上の（ｕｐｐｅｒ）」、「上に（ｏｎｔｏｐ）」、「上に（ｏｎ）」は、基材から出発して層配列中の層の、次層に対する相対位置を示す。

本発明の範囲において、任意選択の第２のコーティング内の層の相対位置は、直接接触を必ずしも意味しない。すなわち、第１の層と第２の層との間に或る中間層が提供され得る。いくつかの場合において、層は、いくつかの複数の単独層（又は副層）から実際に構成され得る。

いくつかの場合において、相対位置は直接接触を意味し得、明記される。

ほとんどの場合、任意選択の第２のコーティングは、ガラス表面と接触している窒化物含有層を含有していない。

赤外線反射機能性層は、銀、金、パラジウム、白金又はそれらの合金から製造され得る。機能性層は、２～２２ｎｍ、或いは５～２０ｎｍ、或いは８～１８ｎｍの厚さを有し得る。機能性層の厚さの範囲は、第２のコーティングの導電率、輻射率、日射防止機能及び光の透過率に影響を与える。

誘電体層は典型的に、Ｚｎ、Ｓｎ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｉｎ、Ａｌ、Ｂｉ、Ｔａ、Ｍｇ、Ｎｂ、Ｙ、Ｇａ、Ｓｂ、Ｍｇ、Ｓｉの酸化物、窒化物、オキシ窒化物又はオキシ炭化物及びそれらの混合物を含み得る。これらの材料は任意選択的にドープされ得、ここでドーパントの例には、アルミニウム、ジルコニウム、又はそれらの混合物が含まれる。ドーパント又はドーパントの混合物は、１５重量％までの量で存在し得る。誘電体材料の典型的な例には、ケイ素系酸化物、ケイ素系窒化物、亜鉛酸化物、スズ酸化物、混合亜鉛－スズ酸化物、ケイ素窒化物、ケイ素オキシ窒化物、チタン酸化物、アルミニウム酸化物、ジルコニウム酸化物、ニオブ酸化物、アルミニウム窒化物、ビスマス酸化物、混合ケイ素－ジルコニウム窒化物、及びそれらの少なくとも２つの混合物、例えばチタン－ジルコニウム酸化物などが含まれるがそれらに限定されない。

コーティングは、少なくとも１つの機能性層の下にシード層を含み得、及び／又はコーティングは、少なくとも１つの機能性層上にバリア層を含み得る。与えられた機能性層は、シード層、若しくはバリア層のどちらか又は両方が提供され得る。第１の機能性層は、シード層及びバリア層のどちらか一方又は両方が提供され得、第２の機能性層は、シード層及びバリア層のどちらか一方又は両方が提供され得、以降も同様である。これらの構造物は、互いに排他的ではない。シード層及び／又はバリア層は、０．１～３５ｎｍ、或いは０．５～２５ｎｍ、或いは０．５～１５ｎｍ、或いは０．５～１０ｎｍの厚さを有し得る。

また、コーティングは、少なくとも１つの機能性層の上に提供された且つそれと接触している、＜１５ｎｍ、或いは＜９ｎｍの厚さを有する犠牲材料の薄い層を含み得、それは、チタン、亜鉛、ニッケル、アルミニウムクロム及びそれらの混合物を含む群から選択され得る。

コーティングは、任意選択的に、その下のスタックを損傷から保護することを意図された最終層として、トップコート又は最上層を含み得る。このようなトップコートは、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｓｉ、Ａｌの酸化物、又はそれらの混合物、Ｓｉ、Ａｌの窒化物、又はそれらの混合物、炭素－ベースの層（例えば黒鉛又はダイアモンド状炭素など）を含有する。

任意選択の第２のコーティングの例には、
＊第１の層と、ＮｉＣｒＯｘを含む第２の層との間に挟まれてこれらと接触する赤外線（ＩＲ）反射層を含むコーティングが含まれ、
＊ここで、前記赤外線（ＩＲ）反射層に近い前記第２の層の第１の部分が前記赤外線（ＩＲ）反射層からさらに離れている前記第２の層の第２の部分ほど酸化されていないように、ＮｉＣｒＯｘを含む少なくとも前記第２の層は酸化が段階的に行われる。

また、任意選択の第２のコーティングの例には、誘電体層と、誘電体層の上に配置された亜鉛酸化物を含む第１の層と、亜鉛酸化物を含む第１の層の上に配置されてこれと接触する銀を含む赤外線（ＩＲ）反射層と、赤外線反射層の上に配置されてこれと接触するＮｉＣｒの酸化物を含む層と、ＮｉＣｒの酸化物を含む層の上に配置されてこれと接触する亜鉛酸化物を含む第２の層と、亜鉛酸化物を含む第２の層の上に配置される別の誘電体層とを含むコーティング、

又は第１の誘電体層と、少なくとも第１の誘電体層の上に配置される銀を含む第１の赤外線（ＩＲ）反射層と、少なくとも第１の赤外線反射層及び第１の誘電体層の上に配置された亜鉛酸化物を含む第１の層と、亜鉛酸化物を含む第１の層の上に配置されてこれと接触する銀を含む第２の赤外線反射層と、第２の赤外線反射層の上に配置されてこれと接触するＮｉＣｒの酸化物を含む層と、ＮｉＣｒの酸化物を含む層の上に配置されてこれと接触する亜鉛酸化物を含む第２の層と、亜鉛酸化物を含む、少なくとも第２の層の上に配置された別の誘電体層とを含むコーティングが含まれる。

任意選択の第２のコーティングのさらなる適した例には、
・少なくとも基礎誘電体下層と基礎誘電体下層の組成と異なった組成である基礎誘電体上層とを含む基礎誘電体層であって、基礎誘電体上層が、亜鉛酸化物又はＺｎと少なくとも１つの付加的な材料Ｘとの混合酸化物のどちらかを含み、基礎誘電体上層におけるＸ／Ｚｎ重量比が０．０２～０．５であり、且つＸが、Ｓｎ、Ａｌ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｚｒ、Ｓｂ、Ｂｉ、Ｍｇ、Ｎｂ、Ｔａ及びＴｉを含む群から選択される材料の１つ以上である、基礎誘電体層と、
・銀、金、白金、又はそれらの混合物などの第１の赤外線反射層と、
・第１のバリア層と、
・少なくとも中心誘電体下層と中心誘電体下層の組成と異なった組成である中心誘電体上層とを含む中心誘電体層であって、中心誘電体下層が第１のバリア層及び中心誘電体上層と直接接触しており、中心誘電体上層が、亜鉛酸化物又はＺｎと少なくとも１つの付加的な材料Ｙとの混合酸化物のどちらかを含み、中心誘電体上層におけるＹ／Ｚｎ重量比が０．０２～０．５であり、且つＹが、Ｓｎ、Ａｌ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｚｒ、Ｓｂ、Ｂｉ、Ｍｇ、Ｎｂ、Ｔａ及びＴｉを含む群から選択される材料の１つ以上である、中心誘電体層と、
・銀、金、白金、又はそれらの混合物などの第２の赤外線反射層と、
・第２のバリア層と、
・最上誘電体層とを含む日射制御コーティングが含まれる。

適した任意選択の第２のコーティングのなおさらなる例には、
・少なくとも基礎誘電体下層と基礎誘電体下層の組成と異なった組成である基礎誘電体上層とを含む基礎誘電体層であって、基礎誘電体上層が、亜鉛酸化物又はＺｎと少なくとも１つの付加的な材料Ｘとの混合酸化物のどちらかを含み、基礎誘電体上層におけるＸ／Ｚｎ重量比が０．０２～０．５であり、且つＸが、Ｓｎ、Ａｌ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｚｒ、Ｓｂ、Ｂｉ、Ｍｇ、Ｎｂ、Ｔａ及びＴｉを含む群から選択される材料の１つ以上である、基礎誘電体層、
・銀、金、白金、又はそれらの混合物などの第１の赤外線反射層、
・第１のバリア層、
・少なくとも第２の誘電体下層と第２の誘電体下層の組成と異なった組成である第２の誘電体上層とを含む第２の誘電体層であって、第２の誘電体下層が、第１のバリア層及び第２の誘電体上層と直接接触しており、第２の誘電体上層が、亜鉛酸化物又はＺｎと少なくとも１つの付加的な材料Ｙとの混合酸化物のどちらかを含み、第２の誘電体上層におけるＹ／Ｚｎ重量比が０．０２～０．５であり、且つＹが、Ｓｎ、Ａｌ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｚｒ、Ｓｂ、Ｂｉ、Ｍｇ、Ｎｂ、Ｔａ及びＴｉを含む群から選択される材料の１つ以上である、基礎誘電体層、
・銀、金、白金、又はそれらの混合物などの第２の赤外線反射層、
・第２のバリア層、
・少なくとも第３の誘電体下層と第３の誘電体下層の組成と異なった組成である第３の誘電体上層とを含む第３の誘電体層であって、第３の誘電体下層が、第２のバリア層及び第３の誘電体上層と直接接触しており、第３の誘電体上層が、亜鉛酸化物又はＺｎと少なくとも１つの付加的な材料Ｙとの混合酸化物のどちらかを含み、第３の誘電体上層におけるＹ／Ｚｎ重量比が０．０２～０．５であり、且つＹが、Ｓｎ、Ａｌ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｚｒ、Ｓｂ、Ｂｉ、Ｍｇ、Ｎｂ、Ｔａ及びＴｉを含む群から選択される材料の１つ以上である、基礎誘電体層、
・銀、金、白金、又はそれらの混合物などの第３の赤外線反射層、
・第３のバリア層、
・最上誘電体層を含む、日射制御コーティングが含まれる。

このような積み重ね体において、基礎誘電体上層は、第１の赤外線反射層と直接接触していることができる。中心誘電体上層は、第２の赤外線反射層と直接接触していることができる。基礎誘電体層と中心の、第１及び第２の誘電体層との両方の上層は独立に、約３～２０ｎｍの範囲内の幾何学厚さを有し得る。付加的な材料Ｘ及びＹの一方又は両方は、Ｓｎ及び／又はＡｌであり得る。基礎誘電体上層を形成する及び／又は中心誘電体上層を形成する混合酸化物中のＺｎの比率は、Ｘ／Ｚｎ比及び／又はＹ／Ｚｎ比が約０．０３～０．３重量比であるようなものであり得る。第１の及び／又は第２の及び／又は第３のバリア層は、Ｔｉを含む及び／又はＴｉの酸化物を含む層であり得、それらは、各々独立に０．５～７ｎｍの幾何学厚さを有し得る。基礎誘電体上層及び／又は中心の及び／又は第２の及び／又は第３の誘電体上層は、独立に＜２０ｎｍ、或いは＜１５ｎｍ、或いは＜１３ｎｍ、或いは＜１１ｎｍ、及び＞３ｎｍ、或いは＞５ｎｍ、或いは＞１０ｎｍの幾何学厚さを有し得る。赤外線反射層は、各々独立に２～２２ｎｍ、或いは５～２０ｎｍ、或いは８～１８ｎｍの厚さを有し得る。最上誘電体層は、Ｚｎと少なくとも１つの付加的な材料Ｗとの混合酸化物を含む少なくとも１つの層を含み得、ここで、その層のＷ／Ｚｎ比は、０．０２～２．０重量比であり且つＷは、Ｓｎ、Ａｌ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｚｒ、Ｓｂ、Ｂｉ、Ｍｇ、Ｎｂ、Ｔａ及びＴｉを含む群から選択される材料の１つ以上である。

このような日射制御コーティングの特定の例が以下の表に提供され、ここで、ＺｎＳｎＯｘは、酸素の存在下で、ＺｎとＳｎの合金又は混合物である目標物を反応性スパッタリングすることによって堆積されるＺｎとＳｎを含有する混合酸化物である。或いは、混合酸化物層は、亜鉛酸化物と付加的な材料の酸化物の混合物である目標物を、特にアルゴンガス又はアルゴンリッチ酸素含有雰囲気中でスパッタリングすることによって形成され得る。

Ｔｉバリアは、高純度アルゴン中又はアルゴンリッチ酸素含有雰囲気中にあるＴｉ目標物をスパッタリングして、完全に酸化されていないバリアを堆積させることによって堆積される。基礎ＺｎＳｎＯｘ誘電体層、中心ＺｎＳｎＯｘ誘電体層及び最上ＺｎＳｎＯｘ誘電体層の各々の酸化数は、必ずしも同じであることを必要としない。同様に、Ｔｉバリアの各々の酸化数は同じであることを必要としない。各々の上位バリアは、その上位ＺｎＳｎＯｘ酸化物層をスパッタ堆積する間にその下位銀層を酸化から保護する。これらのバリア層のさらなる酸化がそれらの上位酸化物層を堆積する間に起こり得るが、これらのバリアの一部分は金属形態のままであるか又は完全に酸化されていない酸化物の形態のままであり得、グレージングパネルの後続の熱処理のための及びその間のバリアを提供することができる。

本発明に適した最適な日射制御コーティングは、以下の連続層：
・基礎誘電体下層と基礎誘電体下層の組成と異なった組成である基礎誘電体上層とを含む基礎誘電体層であって、基礎誘電体下層が、０．５～２の範囲のＳｎ／Ｚｎ重量比を有するＺｎとＳｎの混合酸化物を含み、基礎誘電体上層が、０．０２～０．５の範囲のＳｎ／Ｚｎ重量比を有するＺｎとＳｎの混合酸化物を含む、基礎誘電体層
・金属銀を含む第１の赤外線反射層
・第１のバリア層
・中心誘電体下層と、第１のバリア層と直接接触しており且つ０．５～２の範囲のＳｎ／Ｚｎ比を有するＺｎとＳｎの混合酸化物を含む中心誘電体下層の組成と異なった組成である中心誘電体上層とを含む中心誘電体層であって、中心誘電体上層が、０．０２～０．５の範囲のＳｎ／Ｚｎ重量比を有するＺｎとＳｎの混合酸化物を含む、中心誘電体層
・金属銀を含む第２の赤外線反射層
・第２のバリア層
・最上誘電体層を含み得る。

本発明に適したこのような最適な日射制御コーティングは、以下の連続層及び幾何学厚さ：
・基礎誘電体下層と基礎誘電体下層の組成と異なった組成である基礎誘電体上層とを含む基礎誘電体層であって、基礎誘電体下層が、０．５～２の範囲のＳｎ／Ｚｎ重量比を有するＺｎとＳｎの混合酸化物を含み、１５～２５ｎｍの幾何学厚さを有し、基礎誘電体上層が、０．０２～０．５の範囲のＳｎ／Ｚｎ重量比を有するＺｎとＳｎの混合酸化物を含み、５～１５ｎｍの幾何学厚さを有する、基礎誘電体層、
・金属銀を含み、８～１６ｎｍの幾何学厚さを有する、第１の赤外線反射層、
・３～８ｎｍの幾何学厚さを有する、第１のバリア層、
・中心誘電体下層と、第１のバリア層と直接接触しており且つ０．５～２の範囲のＳｎ／Ｚｎ比を有するＺｎとＳｎの混合酸化物を含む、５８～７４ｎｍの幾何学厚さを有する中心誘電体下層の組成と異なった組成である中心誘電体上層とを含む中心誘電体層であって、中心誘電体上層が、０．０２～０．５の範囲のＳｎ／Ｚｎ重量比を有するＺｎとＳｎの混合酸化物を含み、５～１５ｎｍの幾何学厚さを有する、中心誘電体層、
・金属銀を含み、８～１６ｎｍの幾何学厚さを有する第２の赤外線反射層、
・３～８ｎｍの幾何学厚さを有する、第２のバリア層、
・１４～２２ｎｍの幾何学厚さを有する、最上誘電体層、
・２～８ｎｍの幾何学厚さを有する任意選択のトップコートを含み得る。

本発明に適したさらなる最適な日射制御コーティングは、以下の連続層：
・基礎誘電体下層と基礎誘電体下層の組成と異なった組成である基礎誘電体上層とを含む基礎誘電体層であって、基礎誘電体下層が、０．５～２の範囲のＳｎ／Ｚｎ重量比を有するＺｎとＳｎの混合酸化物を含み、基礎誘電体上層が、０．０２～０．５の範囲のＳｎ／Ｚｎ重量比を有するＺｎとＳｎの混合酸化物を含む、基礎誘電体層
・金属銀を含む第１の赤外線反射層
・第１のバリア層
・第２の誘電体下層と、第１のバリア層と直接接触しており且つ０．５～２の範囲のＳｎ／Ｚｎ比を有するＺｎとＳｎの混合酸化物を含む第２の誘電体下層の組成と異なった組成である第２の誘電体上層とを含む第２の誘電体層であって、第２の誘電体上層が、０．０２～０．５の範囲のＳｎ／Ｚｎ重量比を有するＺｎとＳｎの混合酸化物を含む、第２の誘電体層、
・金属銀を含む第２の赤外線反射層
・第２のバリア層
・第３の誘電体下層と、第２のバリア層と接触しており且つ０．５～２の範囲のＳｎ／Ｚｎ比を有するＺｎとＳｎの混合酸化物を含む第３の誘電体下層の組成と異なった組成である第３の誘電体上層とを含む第３の誘電体層であって、第３の誘電体上層が、０．０２～０．５の範囲のＳｎ／Ｚｎ重量比を有するＺｎとＳｎの混合酸化物を含む、第３の誘電体層、
・金属銀を含む第３の赤外線反射層
・第３のバリア層
・最上誘電体層を含み得る。

本発明に適したこのようなさらなる最適な日射制御コーティングは、以下の連続層及び幾何学厚さ：
・基礎誘電体下層と基礎誘電体下層の組成と異なった組成である基礎誘電体上層とを含む基礎誘電体層であって、基礎誘電体下層が、０．５～２の範囲のＳｎ／Ｚｎ重量比を有するＺｎとＳｎの混合酸化物を含み、２５～３５ｎｍの幾何学厚さを有し、基礎誘電体上層が、０．０２～０．５の範囲のＳｎ／Ｚｎ重量比を有するＺｎとＳｎの混合酸化物を含み、５～１５ｎｍの幾何学厚さを有する、基礎誘電体層、
・金属銀を含み、１０～１６ｎｍの幾何学厚さを有する、第１の赤外線反射層、
・３～８ｎｍの幾何学厚さを有する、第１のバリア層、
・第２の誘電体下層と、第１のバリア層と直接接触しており且つ０．５～２の範囲のＳｎ／Ｚｎ比を有するＺｎとＳｎの混合酸化物を含む、５８～７４ｎｍの幾何学厚さを有する第２の誘電体下層の組成と異なった組成である第２の誘電体上層とを含む第２の誘電体層であって、第２の誘電体上層が、０．０２～０．５の範囲のＳｎ／Ｚｎ重量比を有するＺｎとＳｎの混合酸化物を含み、５～１５ｎｍの幾何学厚さを有する、第２の誘電体層、
・金属銀を含み、１０～１７ｎｍの幾何学厚さを有する、第２の赤外線反射層、
・３～８ｎｍの幾何学厚さを有する、第２のバリア層、
・第３の誘電体下層と、第２のバリア層と接触しており且つ０．５～２の範囲のＳｎ／Ｚｎ比を有するＺｎとＳｎの混合酸化物を含む、５０～７５ｎｍの幾何学厚さを有する第３の誘電体下層の組成と異なった組成である第３の誘電体上層とを含む第３の誘電体層であって、第３の誘電体上層が、０．０２～０．５の範囲のＳｎ／Ｚｎ重量比を有するＺｎとＳｎの混合酸化物を含み、５～１５ｎｍの幾何学厚さを有する、第３の誘電体層、
・金属銀を含み、１０～１６ｎｍの幾何学厚さを有する、第３の赤外線反射層、
・３～８ｎｍの幾何学厚さを有する、第３のバリア層、
・２０～４０ｎｍの幾何学厚さを有する、最上誘電体層、
・２～８ｎｍの幾何学厚さを有する任意選択のトップコートを含み得る。

いくつかの実施形態において、ＨＵＤシステムは、
ｐ偏光をグレージングに向けて投射する光源を含み、
前記グレージングが、第１の表面及び第２の表面を有する外側ガラスシートと、第１の表面及び第２の表面を有する内側ガラスシートとを含み、
内側ガラスシートの第２の表面が第１のコーティングを含み、両シートが、内側ガラスシートの第１の表面（Ｓ３）と外側ガラスシートの第２の表面（Ｓ２）との間の接触を与える少なくとも１つの中間層材料シートによって接合され、
前記第１のコーティングが、
－５０～１００ｎｍの厚さを有する少なくとも１つの高屈折率層と、
－７０～１６０ｎｍの厚さを有する少なくとも１つの低屈折率層とを含み、
少なくとも１つの高屈折率層が、
－Ｚｒ、Ｎｂ、Ｓｎの酸化物、
－Ｔｉ、Ｚｒ、Ｎｂ、Ｓｉ、Ｓｂ、Ｓｎ、Ｚｎ、Ｉｎの混合酸化物、
－Ｓｉ、Ｚｒの窒化物、
－Ｓｉ、Ｚｒの混合窒化物のうちの少なくとも１つを含み、
及び
内側ガラスシートの第１の表面又は外側ガラスシートの第２の表面の少なくとも１つが、以下の連続層を含む第２のコーティングを含む：
・少なくとも基礎誘電体下層と基礎誘電体下層の組成と異なった組成である基礎誘電体上層とを含む基礎誘電体層であって、基礎誘電体上層が、亜鉛酸化物又はＺｎと少なくとも１つの付加的な材料Ｘとの混合酸化物のどちらかを含み、基礎誘電体上層におけるＸ／Ｚｎ重量比が０．０２～０．５であり、且つＸが、Ｓｎ、Ａｌ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｚｒ、Ｓｂ、Ｂｉ、Ｍｇ、Ｎｂ、Ｔａ及びＴｉを含む群から選択される材料の１つ以上である、基礎誘電体層、
・銀、金、白金、又はそれらの混合物などの第１の赤外線反射層、
・第１のバリア層、
・少なくとも中心誘電体下層と中心誘電体下層の組成と異なった組成である中心誘電体上層とを含む中心誘電体層であって、中心誘電体下層が第１のバリア層及び中心誘電体上層と直接接触しており、中心誘電体上層が、亜鉛酸化物又はＺｎと少なくとも１つの付加的な材料Ｙとの混合酸化物のどちらかを含み、中心誘電体上層におけるＹ／Ｚｎ重量比が０．０２～０．５であり、且つＹが、Ｓｎ、Ａｌ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｚｒ、Ｓｂ、Ｂｉ、Ｍｇ、Ｎｂ、Ｔａ及びＴｉを含む群から選択される材料の１つ以上である、中心誘電体層、
・銀、金、白金、又はそれらの混合物などの第２の赤外線反射層、
・第２のバリア層、
・最上誘電体層。

他の実施形態において、ＨＵＤシステムは、
ｐ偏光をグレージングに向けて投射する光源を含み、
前記グレージングが、第１の表面及び第２の表面を有する外側ガラスシートと、第１の表面及び第２の表面を有する内側ガラスシートとを含み、
内側ガラスシートの第２の表面が第１のコーティングを含み、両シートが、内側ガラスシートの第１の表面（Ｓ３）と外側ガラスシートの第２の表面（Ｓ２）との間の接触を与える少なくとも１つの中間層材料シートによって接合され、
前記第１のコーティングが、
－５０～１００ｎｍの厚さを有する少なくとも１つの高屈折率層と、
－７０～１６０ｎｍの厚さを有する少なくとも１つの低屈折率層とを含み、
少なくとも１つの高屈折率層が、
－Ｚｒ、Ｎｂ、Ｓｎの酸化物、
－Ｔｉ、Ｚｒ、Ｎｂ、Ｓｉ、Ｓｂ、Ｓｎ、Ｚｎ、Ｉｎの混合酸化物、
－Ｓｉ、Ｚｒの窒化物、
－Ｓｉ、Ｚｒの混合窒化物のうちの少なくとも１つを含み、
及び
内側ガラスシートの第１の表面又は外側ガラスシートの第２の表面の少なくとも１つが、以下の連続層を含む第２のコーティングを含む：
・少なくとも基礎誘電体下層と基礎誘電体下層の組成と異なった組成である基礎誘電体上層とを含む基礎誘電体層であって、基礎誘電体上層が、亜鉛酸化物又はＺｎと少なくとも１つの付加的な材料Ｘとの混合酸化物のどちらかを含み、基礎誘電体上層におけるＸ／Ｚｎ重量比が０．０２～０．５であり、且つＸが、Ｓｎ、Ａｌ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｚｒ、Ｓｂ、Ｂｉ、Ｍｇ、Ｎｂ、Ｔａ及びＴｉを含む群から選択される材料の１つ以上である、基礎誘電体層、
・銀、金、白金、又はそれらの混合物などの第１の赤外線反射層、
・第１のバリア層、
・少なくとも第２の誘電体下層と第２の誘電体下層の組成と異なった組成である第２の誘電体上層とを含む第２の誘電体層であって、第２の誘電体下層が、第１のバリア層及び第２の誘電体上層と直接接触しており、第２の誘電体上層が、亜鉛酸化物又はＺｎと少なくとも１つの付加的な材料Ｙとの混合酸化物のどちらかを含み、第２の誘電体上層におけるＹ／Ｚｎ重量比が０．０２～０．５であり、且つＹが、Ｓｎ、Ａｌ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｚｒ、Ｓｂ、Ｂｉ、Ｍｇ、Ｎｂ、Ｔａ及びＴｉを含む群から選択される材料の１つ以上である、第２の誘電体層、
・銀、金、白金、又はそれらの混合物などの第２の赤外線反射層、
・第２のバリア層、
・少なくとも第３の誘電体下層と第３の誘電体下層の組成と異なった組成である第３の誘電体上層とを含む第３の誘電体層であって、第３の誘電体下層が、第２のバリア層及び第３の誘電体上層と直接接触しており、第３の誘電体上層が、亜鉛酸化物又はＺｎと少なくとも１つの付加的な材料Ｙとの混合酸化物のどちらかを含み、第３の誘電体上層におけるＹ／Ｚｎ重量比が０．０２～０．５であり、且つＹが、Ｓｎ、Ａｌ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｚｒ、Ｓｂ、Ｂｉ、Ｍｇ、Ｎｂ、Ｔａ及びＴｉを含む群から選択される材料の１つ以上である、第３の誘電体層、
・銀、金、白金、又はそれらの混合物などの第３の赤外線反射層、
・第３のバリア層、
・最上誘電体層。

さらに他の実施形態において、ＨＵＤシステムは、
ｐ偏光をグレージングに向けて投射する光源を含み、
前記グレージングが、第１の表面及び第２の表面を有する外側ガラスシートと、第１の表面及び第２の表面を有する内側ガラスシートとを含み、
内側ガラスシートの第２の表面が第１のコーティングを含み、両シートが、内側ガラスシートの第１の表面（Ｓ３）と外側ガラスシートの第２の表面（Ｓ２）との間の接触を与える少なくとも１つの中間層材料シートによって接合され、
前記第１のコーティングが、
－５０～１００ｎｍの厚さを有する少なくとも１つの高屈折率層と、
－７０～１６０ｎｍの厚さを有する少なくとも１つの低屈折率層とを含み、
少なくとも１つの高屈折率層が、
－Ｚｒ、Ｎｂ、Ｓｎの酸化物、
－Ｔｉ、Ｚｒ、Ｎｂ、Ｓｉ、Ｓｂ、Ｓｎ、Ｚｎ、Ｉｎの混合酸化物、
－Ｓｉ、Ｚｒの窒化物、
－Ｓｉ、Ｚｒの混合窒化物のうちの少なくとも１つを含み、
及び
内側ガラスシートの第１の表面又は外側ガラスシートの第２の表面の少なくとも１つが、以下の連続層を含む第２のコーティングを含む：
・基礎誘電体下層と基礎誘電体下層の組成と異なった組成である基礎誘電体上層とを含む基礎誘電体層であって、基礎誘電体下層が、０．５～２の範囲のＳｎ／Ｚｎ重量比を有するＺｎとＳｎの混合酸化物を含み、基礎誘電体上層が、０．０２～０．５の範囲のＳｎ／Ｚｎ重量比を有するＺｎとＳｎの混合酸化物を含む、基礎誘電体層
・金属銀を含む第１の赤外線反射層
・第１のバリア層
・中心誘電体下層と、第１のバリア層と直接接触しており且つ０．５～２の範囲のＳｎ／Ｚｎ比を有するＺｎとＳｎの混合酸化物を含む中心誘電体下層の組成と異なった組成である中心誘電体上層とを含む中心誘電体層であって、中心誘電体上層が、０．０２～０．５の範囲のＳｎ／Ｚｎ重量比を有するＺｎとＳｎの混合酸化物を含む、中心誘電体層
・金属銀を含む第２の赤外線反射層
・第２のバリア層
・最上誘電体層。

またさらなる実施形態において、ＨＵＤシステムは、
ｐ偏光をグレージングに向けて投射する光源を含み、
前記グレージングが、第１の表面及び第２の表面を有する外側ガラスシートと、第１の表面及び第２の表面を有する内側ガラスシートとを含み、
内側ガラスシートの第２の表面が第１のコーティングを含み、両シートが、内側ガラスシートの第１の表面（Ｓ３）と外側ガラスシートの第２の表面（Ｓ２）との間の接触を与える少なくとも１つの中間層材料シートによって接合され、
前記第１のコーティングが、
－５０～１００ｎｍの厚さを有する少なくとも１つの高屈折率層と、
－７０～１６０ｎｍの厚さを有する少なくとも１つの低屈折率層とを含み、
少なくとも１つの高屈折率層が、
－Ｚｒ、Ｎｂ、Ｓｎの酸化物、
－Ｔｉ、Ｚｒ、Ｎｂ、Ｓｉ、Ｓｂ、Ｓｎ、Ｚｎ、Ｉｎの混合酸化物、
－Ｓｉ、Ｚｒの窒化物、
－Ｓｉ、Ｚｒの混合窒化物のうちの少なくとも１つを含み、
及び
内側ガラスシートの第１の表面又は外側ガラスシートの第２の表面の少なくとも１つが、以下の連続層を含む第２のコーティングを含む：
・基礎誘電体下層と基礎誘電体下層の組成と異なった組成である基礎誘電体上層とを含む基礎誘電体層であって、基礎誘電体下層が、０．５～２の範囲のＳｎ／Ｚｎ重量比を有するＺｎとＳｎの混合酸化物を含み、基礎誘電体上層が、０．０２～０．５の範囲のＳｎ／Ｚｎ重量比を有するＺｎとＳｎの混合酸化物を含む、基礎誘電体層
・金属銀を含む第１の赤外線反射層
・第１のバリア層
・第２の誘電体下層と、第１のバリア層と直接接触しており且つ０．５～２の範囲のＳｎ／Ｚｎ比を有するＺｎとＳｎの混合酸化物を含む第２の誘電体下層の組成と異なった組成である第２の誘電体上層とを含む第２の誘電体層であって、第２の誘電体上層が、０．０２～０．５の範囲のＳｎ／Ｚｎ重量比を有するＺｎとＳｎの混合酸化物を含む、第２の誘電体層
・金属銀を含む第２の赤外線反射層
・第２のバリア層
・第３の誘電体下層と、第２のバリア層と接触しており且つ０．５～２の範囲のＳｎ／Ｚｎ比を有するＺｎとＳｎの混合酸化物を含む第３の誘電体下層の組成と異なった組成である第３の誘電体上層とを含む第３の誘電体層であって、第３の誘電体上層が、０．０２～０．５の範囲のＳｎ／Ｚｎ重量比を有するＺｎとＳｎの混合酸化物を含む、第３の誘電体層
・金属銀を含む第３の赤外線反射層
・第３のバリア層
・最上誘電体層。

またさらなる実施形態において、ＨＵＤシステムは、
ｐ偏光をグレージングに向けて投射する光源を含み、
前記グレージングが、第１の表面及び第２の表面を有する外側ガラスシートと、第１の表面及び第２の表面を有する内側ガラスシートとを含み、
内側ガラスシートの第２の表面が第１のコーティングを含み、両シートが、内側ガラスシートの第１の表面（Ｓ３）と外側ガラスシートの第２の表面（Ｓ２）との間の接触を与える少なくとも１つの中間層材料シートによって接合される、グレージングとを含み、前記第１のコーティングが、
－５０～１００ｎｍの厚さを有する少なくとも１つの高屈折率層と、
－７０～１６０ｎｍの厚さを有する少なくとも１つの低屈折率層とを含み、
少なくとも１つの高屈折率層が、
－Ｚｒ、Ｎｂ、Ｓｎの酸化物、
－Ｔｉ、Ｚｒ、Ｎｂ、Ｓｉ、Ｓｂ、Ｓｎ、Ｚｎ、Ｉｎの混合酸化物、
－Ｓｉ、Ｚｒの窒化物、
－Ｓｉ、Ｚｒの混合窒化物のうちの少なくとも１つを含み、
及び
内側ガラスシートの第１の表面又は外側ガラスシートの第２の表面の少なくとも１つが、以下の連続層を含む第２のコーティングを含む：
・基礎誘電体下層と基礎誘電体下層の組成と異なった組成である基礎誘電体上層とを含む基礎誘電体層であって、基礎誘電体下層が、０．５～２の範囲のＳｎ／Ｚｎ重量比を有するＺｎとＳｎの混合酸化物を含み、１５～２５ｎｍの幾何学厚さを有し、基礎誘電体上層が、０．０２～０．５の範囲のＳｎ／Ｚｎ重量比を有するＺｎとＳｎの混合酸化物を含み、５～１５ｎｍの幾何学厚さを有する、基礎誘電体層、
・金属銀を含み、８～１６ｎｍの幾何学厚さを有する第１の赤外線反射層、
・３～８ｎｍの幾何学厚さを有する第１のバリア層、
・中心誘電体下層と、第１のバリア層と直接接触しており且つ０．５～２の範囲のＳｎ／Ｚｎ比を有するＺｎとＳｎの混合酸化物を含む、５８～７４ｎｍの幾何学厚さを有する中心誘電体下層の組成と異なった組成である中心誘電体上層とを含む中心誘電体層であって、中心誘電体上層が、０．０２～０．５の範囲のＳｎ／Ｚｎ重量比を有するＺｎとＳｎの混合酸化物を含み、５～１５ｎｍの幾何学厚さを有する、中心誘電体層、
・金属銀を含み、８～１６ｎｍの幾何学厚さを有する第２の赤外線反射層、
・３～８ｎｍの幾何学厚さを有する第２のバリア層、
・１４～２２ｎｍの幾何学厚さを有する最上誘電体層、
２～８ｎｍの幾何学厚さを有する任意選択のトップコート。

またさらなる実施形態において、ＨＵＤシステムは、
ｐ偏光をグレージングに向けて投射する光源を含み、
前記グレージングが、第１の表面及び第２の表面を有する外側ガラスシートと、第１の表面及び第２の表面を有する内側ガラスシートとを含む前記グレージングにおいて、
内側ガラスシートの第２の表面が第１のコーティングを含み、両シートが、内側ガラスシートの第１の表面（Ｓ３）と外側ガラスシートの第２の表面（Ｓ２）との間の接触を与える少なくとも１つの中間層材料シートによって接合され、
前記第１のコーティングが、
－５０～１００ｎｍの厚さを有する少なくとも１つの高屈折率層と、
－７０～１６０ｎｍの厚さを有する少なくとも１つの低屈折率層とを含み、
少なくとも１つの高屈折率層が、
－Ｚｒ、Ｎｂ、Ｓｎの酸化物、
－Ｔｉ、Ｚｒ、Ｎｂ、Ｓｉ、Ｓｂ、Ｓｎ、Ｚｎ、Ｉｎの混合酸化物、
－Ｓｉ、Ｚｒの窒化物、
－Ｓｉ、Ｚｒの混合窒化物のうちの少なくとも１つを含み、
及び
内側ガラスシートの第１の表面又は外側ガラスシートの第２の表面の少なくとも１つが、以下の連続層を含む第２のコーティングを含む：
・基礎誘電体下層と基礎誘電体下層の組成と異なった組成である基礎誘電体上層とを含む基礎誘電体層であって、基礎誘電体下層が、０．５～２の範囲のＳｎ／Ｚｎ重量比を有するＺｎとＳｎの混合酸化物を含み、２５～３５ｎｍの幾何学厚さを有し、基礎誘電体上層が、０．０２～０．５の範囲のＳｎ／Ｚｎ重量比を有するＺｎとＳｎの混合酸化物を含み、５～１５ｎｍの幾何学厚さを有する、基礎誘電体層、
・金属銀を含み、１０～１６ｎｍの幾何学厚さを有する第１の赤外線反射層、
・３～８ｎｍの幾何学厚さを有する第１のバリア層、
・第２の誘電体下層と、第１のバリア層と直接接触しており且つ０．５～２の範囲のＳｎ／Ｚｎ比を有するＺｎとＳｎの混合酸化物を含む、５８～７４ｎｍの幾何学厚さを有する第２の誘電体下層の組成と異なった組成である第２の誘電体上層とを含む第２の誘電体層であって、第２の誘電体上層が、０．０２～０．５の範囲のＳｎ／Ｚｎ重量比を有するＺｎとＳｎの混合酸化物を含み、５～１５ｎｍの幾何学厚さを有する、第２の誘電体層、
・金属銀を含み、１０～１７ｎｍの幾何学厚さを有する第２の赤外線反射層、
・３～８ｎｍの幾何学厚さを有する第２のバリア層、
・第３の誘電体下層と、第２のバリア層と接触しており且つ０．５～２の範囲のＳｎ／Ｚｎ比を有するＺｎとＳｎの混合酸化物を含む、５０～７５ｎｍの幾何学厚さを有する第３の誘電体下層の組成と異なった組成である第３の誘電体上層とを含む第３の誘電体層であって、第３の誘電体上層が、０．０２～０．５の範囲のＳｎ／Ｚｎ重量比を有するＺｎとＳｎの混合酸化物を含み、５～１５ｎｍの幾何学厚さを有する、第３の誘電体層、
・金属銀を含み、１０～１６ｎｍの幾何学厚さを有する第３の赤外線反射層、
・３～８ｎｍの幾何学厚さを有する第３のバリア層、
・２０～４０ｎｍの幾何学厚さを有する最上誘電体層、
・２～８ｎｍの幾何学厚さを有する任意選択のトップコート。

本発明による第１のコーティングには別形態があり得、それはガラスと接触している高屈折率材料の第１の層と、高屈折率材料の第１の層の上の低屈折率材料の第１の層と、低屈折率材料の第１の層の上の高屈折率材料の第２の層と、高屈折率材料の第２の層の上の低屈折率材料の第２の層とを含み得る。

全ての上記の実施形態において、第２のコーティングは、内側ガラスシートの第１の表面（Ｓ３）上に又は外側ガラスシートの第２の表面（Ｓ２）上に配置され得る。

ａ．第１の又は外側ガラスシートと、少なくとも１つの中間層材料シートと、５０～１００ｎｍの厚さを有する少なくとも１つの高屈折率層及び７０～１６０ｎｍの厚さを有する少なくとも１つの低屈折率層を含む第１のコーティングをその第２の表面上に含む第２の又は内側ガラスシートとを組み立てることによってグレージングを提供する工程と、
但し、少なくとも１つの高屈折率層が、
－Ｚｒ、Ｎｂ、Ｓｎの酸化物、
－Ｔｉ、Ｚｒ、Ｎｂ、Ｓｉ、Ｓｂ、Ｓｎ、Ｚｎ、Ｉｎの混合酸化物、
－Ｓｉ、Ｚｒの窒化物、
－Ｓｉ、Ｚｒの混合窒化物のうちの少なくとも１つを含み、
中間層が、内側ガラスシートの第１の表面（Ｓ３）と外側ガラスシートの第２の表面（Ｓ２）との間の接触を与える、
ｂ．ｐ偏光を投射することができる光源を提供する工程と、
ｃ．前記ｐ偏光を前記グレージングに向けて４２～７２°の入射角で投射するように前記光源を配置する工程とを含む、本ＨＵＤシステムを提供する方法もまた、開示される。

グレージングは典型的に、第１及び第２のコーティングをガラスのそれぞれの表面に最初に堆積させることによって提供される。

ガラスのそれぞれの表面上への第１のコーティング及び第２のコーティングの堆積方法には、ＣＶＤ、ＰＥＣＶＤ、ＰＶＤ、マグネトロンスパッタリング、湿潤コーティング等が含まれる。それぞれのコーティングの異なった層は、異なった技術を使用して堆積され得る。

いくつかの実施形態において、第１のコーティングの少なくとも１つの低屈折率層は、中空カソード法などのＰＥＣＶＤ方法によって第２のガラスシート上に堆積され得る。この方法は、コストの低減及び高い堆積速度の付加的な利点を提供する。

本発明の範囲において、第１のコーティングが提供された内側ガラスシートを熱処理に供することができ、前記第１のコーティングはこのような熱処理に耐えることができる。いくつかの場合において、第１のコーティングが提供された内側ガラスシートは熱処理に供される。

２つのガラスシートと少なくとも１つの中間層とを組み立てる工程は、平板ガラスの積層工程であり得るか、又は曲線状合わせガラスの曲げ工程であり得、この曲げ工程は、最初にガラスシートを曲げる工程と、第二に、前記曲げられたガラスシートを積層する工程とを含む。

ある場合、熱処理によって外側ガラス板を機械的に補強して、機械的拘束に対するその耐性を改良することが有用であり得る。また特定の用途のために高温で車用グレージングを曲げることが必要な場合がある。

熱処理は、熱処理のタイプ及びグレージングの厚さに従って約３、４、６、８、１０、１２又はさらに１５分間空気中で少なくとも５６０℃の温度まで、例えば５６０℃～７００℃、特に約６４０℃～６７０℃にグレージングを加熱する工程を含む。処理は、加熱工程の後に急冷工程を含むことができ、ガラスの表面とコアとの間に応力差を導入して、衝撃がある場合に、いわゆる強化ガラス板が安全に小片に破断するようにできる。冷却工程がそれほど強くないのであれば、ガラスはその場合、単に熱強化され、どのような場合でもより良い機械抵抗を提供する。

本グレージングは、輸送用途又は建築用途において有用であり得、ここで画像又はｐ偏光源からの光投射を用いることができる。建築用途には、ディスプレイ、ウィンドウ、ドア、パーティション、シャワーパネル等が含まれる。このような建築用途において、鮮明画像の投射は、部屋又は建物情報等を表示するために有用であり得る。

輸送用途には、路上、空中、水中及び水上の輸送のためのそれらの手段、特に車、バス、列車、船、航空機、宇宙船、宇宙ステーション及びその他の自動車が含まれる。

したがって本グレージングは、フロントガラス、リアウィンドウ、サイドウィンドウ、サンルーフ、パノラマルーフ又は車のために有用な任意の他のウィンドウ、又は任意の他の輸送装置のための任意のグレージングであり得、ここで鮮明画像の投射は有用であり得る。投射及び反射される情報には、方向若しくは交通量などの任意の交通情報、又は速度、温度等の任意の車の状態の情報などが含まれ得る。両方とも熱処理に耐えることができる、第１のコーティング及び任意選択の第２のコーティングによる表面の広い視野及び均質な有効範囲は異なった視角を可能にし、したがって背が高め及び低めの閲覧者／ドライバーに適合可能である。

いくつかの場合において、車用グレージングは、暖房可能な車用グレージングとして役立ち得る。このような暖房可能な車用グレージングには、暖房可能なフロントガラスが含まれる。

いくつかの実施形態において、第２の光源がＨＵＤシステム内に存在し得、二次画像又は情報を提供し得る。第２の光源は偏光を発することができないか又はｐ偏光を発するか若しくはｓ偏光を発することができるが、第１の光源と同一であるか又は異なる画像を提供するであろう。いくつかの場合において、画像又は情報は、第１の光源と第２の光源との間で異なっている。いくつかの場合において、拡張現実情報は、広い視野及び／又は投射範囲のために、光源の少なくとも１つによって投射され得る。

いくつかの特定の状況において、第１のコーティングを少なくとも１つの特定の表面の上に被覆することができ、その結果、本発明は、先進運転支援システム（ＡＤＡＳ）において使用するために適合し得る。

第２の光源が存在している場合、中間層はウエッジ中間層であり得る。

本発明の範囲において、車用グレージング上の第１のコーティングの存在によって、ｐ偏光の最適な光反射が可能にされる。投射及び反射された画像は典型的に、鮮明且つ明瞭であり、鮮明輪郭及び表面によって画定される。前記表面は典型的に、グレージングのｐ偏光反射の好ましくない特質のためにぼやけた画像の場合増加する。グレージングの反射特性が最適である場合、鮮明な画像の輪郭とぼやけた画像の輪郭との間の差は最小である。

このようなグレージングの加工は典型的に、コートされたガラスを典型的に６００～７００℃の間の温度で曲げる及び／又は強化する工程を必要とするので、光学的特性を耐熱性及び耐摩耗性と組み合わせるために第１のコーティングのための材料の選択は重要である。さらに、最終利用条件は、コーティングが、様々な種類の洗浄剤、湿度、汚染及び機械的摩耗への暴露を意味する、車又は建物の内部に暴露されるグレージングの外面上にあることを必要とする。ＨＵＤシステム内の本グレージングは、４２～７２°のｐ偏光の入射角で、或いは５５°の角度でｐ偏光の反射能が＞４．０％、或いは＞６．０％、或いは＞７．０％、或いは＞９．０％、或いは＞１０．０％である第１のコーティングによって、前記ＨＵＤシステムの適切な機能を可能にする。

また、本発明は、グレージング上に４２～７２°の入射角で光を投射してｐ偏光を反射するｐ偏光源を含むＨＵＤシステムにおける、第１のコーティングをその表面の１つの上に含むガラスシートの使用を提供し、
前記コーティングは、
－５０～１００ｎｍの厚さを有する少なくとも１つの高屈折率層と、
－７０～１６０ｎｍの厚さを有する少なくとも１つの低屈折率層とを含み、
前記少なくとも１つの高屈折率層が、
－Ｚｒ、Ｎｂ、Ｓｎの酸化物、
－Ｔｉ、Ｚｒ、Ｎｂ、Ｓｉ、Ｓｂ、Ｓｎ、Ｚｎ、Ｉｎの混合酸化物、
－Ｓｉ、Ｚｒの窒化物、
－Ｓｉ、Ｚｒの混合窒化物のうちの少なくとも１つを含む。

このようなグレージングは、４２～７２°の入射角で投射される時にｐ偏光を最適に反射する利点を提供する。

全ての光学パラメーターは、反射又は透過レベルについてはＤ６５光源、２°に対して及びカラーインデックス（ａ＊及びｂ＊）についてはＤ６５光源、１０°に対して与えられる。

別記しない限り、全ての屈折率は５５０ｎｍの波長において測定される。

１．８ｍｍの第１の透明フロートガラスシートと１．４ｍｍの第２の透明フロートガラスシートとを含み、０．７６ｍｍの透明ＰＶＢシートが積層されるグレージングが提供される。以下の表に略述されるような「高／低」配列を有する、いくつかの第１のコーティングが内側ガラスシートの第２の表面（Ｓ４）上に堆積される。

後続の実施例に示されるように、２つの銀層と３つの誘電体層とを含む第２のコーティングがある場合、内側ガラスシートの第１の表面（Ｓ３）上に堆積されてもよい。

次いで、グレージングは、光源によって放射される光の経路内に配置された。光源は、通常の光又はｐ偏光を放射するように構成される。入射光に対してのグレージングの挙動は、以下の表に示される。

外部反射（Ｒｖ_{（ｏｕｔ）}）に関して測定されるパラメーターは、以下の通りであった：
ａ）Ａ光源、２°
－Ｔｖ＝可視光領域の透過
－Ｒｖ_{（ｏｕｔ）}（％）＝８°の＜＜標準＞＞入射角における可視光領域の外部反射
－Ｒｖ_（ｉｎ）（％）＝入射角がグレージングの反対側から参照される場合（すなわち１８０°－５５°）の、Ｒ１２５（ｉｎ）とも称される、ブリュースター角（５５°）に近い入射角における非偏光の可視光領域の内部反射
－Ｒｐ＿ｐｏｌ（％）＝入射角がグレージングの反対側から参照される場合（すなわち１８０°－５５°）の、Ｒｐ＿ｐｏｌ１２５°とも称される－可視光領域の及びブリュースター角（５５°）に近い入射角におけるｐ偏光の内部反射
－Ｒ１７２_（ｉｎ）（％）＝８°（又はグレージングの外面を参照する場合は１７２°）の＜＜標準＞＞入射角における可視光領域の内部反射。
ｂ）Ｄ６５光源、２°
－Ｔｖ（％）＝可視光領域の透過
ｃ）Ｄ６５光源、１０°
－ａ＊Ｒ_ｏｕｔ＝８°における外部反射のａ＊カラーインデックス
－ｂ＊Ｒ_ｏｕｔ＝８°における外部反射のｂ＊カラーインデックス
－ａ＊＿Ｒ_ｉｎ＝ａ＊Ｒ１２５＝１２５°における内部反射のａ＊カラーインデックス
－ｂ＊＿Ｒ_ｉｎ＝ｂ＊Ｒ１２５＝１２５°における内部反射のｂ＊カラーインデックス
－ａ＊＿Ｒ_{ｐ＿ｐｏｌ}＝ａ＊Ｒ１２５ｐ＿ｐｏｌ＝ｐ偏光について１２５°における内部反射のａ＊カラーインデックス
－ｂ＊＿Ｒ_{ｐ＿ｐｏｌ}＝ｂ＊Ｒ１２５ｐ＿ｐｏｌ＝ｐ偏光について１２５°における内部反射のｂ＊カラーインデックス
－ａ＊Ｒ１７２＝１７２°における内部反射のａ＊カラーインデックス
－ｂ＊Ｒ１７２＝１７２°における内部反射のｂ＊カラーインデックス

結果は一般的に、
・可視光線の透過＞７０％
・８°及び５５°の角度におけるカラーインデックスによって示されるように魅力ある反射の審美性が適度なレベルに維持される外部反射を示す。
・内部反射の光学的特性、例えば５５°入射のＲｐ－ｐｏｌは、４層以上が提供される場合、６５／３５重量％の比の混合チタンジルコニウム酸化物の高屈折率層を用いて、任意選択的に９２／８重量％の比の混合ケイ素チタン酸化物を用いて、及びアルミニウムがドープされる（２％）ケイ素酸化物である低屈折率層を用いて、５５°における全内部反射を１４～１７％に維持しながら、１３～１４％のレベルまで改良した。

これらの結果は、請求の範囲のＨＵＤシステムにおける本車用グレージングの適性を示す。

実施例１～５、比較例１
１．８ｍｍの第１の透明フロートガラスシートと１．４ｍｍの第２の透明フロートガラスシートとを含み、０．７６ｍｍの透明ＰＶＢシートが積層されるグレージングが提供された。表２及び３に略述される「高／低」配列を有するいくつかの第１のコーティングが内側ガラスシート上に堆積された。

実施例１～５及び比較例１は１７２．３ｎｍの同じ光学厚さを有する高屈折率層を有したが、他方、低屈折率層は１４５．１ｎｍの同じ光学厚さを有した。このため、幾何学厚さ及び屈折率は表に略述され、幾何学厚さ＝光学厚さ／屈折率である。

２．３５の屈折率（５５０ｎｍ）を有するチタン酸化物をベースとした比較例１は、５５°の入射角で１０．２％のｐ偏光反射を有した。

２．３３の屈折率（５５０ｎｍ）を有するＴＺＯをベースとした実施例１は、５５°の入射角で９．９％のｐ偏光反射を有した。ＳｉＺｒＮを有する実施例２は、５５°の入射角でｐ偏光反射＞７．０％を有した。ＴＳＯを有する実施例３は、５５°の入射角でｐ偏光反射＞６．０％を有した。ＳｉＮ及び亜鉛スズ酸化物をそれぞれ有する実施例４及び５は、５５°の入射角でｐ偏光反射＞４．０％を有した。それらは全て、カラーインデックスに関して十分な審美性を有した。

したがって、性能に関して高屈折率層のための最良の材料は、屈折率≧２．０を有し、５５°の入射角でｐ偏光反射＞９．０％を提供する混合チタンジルコニウム酸化物であり、混合ケイ素ジルコニウム窒化物、混合チタンケイ素酸化物、アルミニウムがドープされたケイ素窒化物及び混合亜鉛スズ酸化物である。

実施例１～５の第１のコーティングは熱処理に耐え且つそれらの光学的特性を維持することができたが、他方、比較例１は熱処理に耐えなかった。

実施例６～１３
１．８ｍｍの第１の透明フロートガラスシートと１．４ｍｍの第２の透明フロートガラスシートとを含み、０．７６ｍｍの透明ＰＶＢシートが積層されるグレージングが提供された。表４及び５に略述される「高／低」配列を有するいくつかの第１のコーティングが内側ガラスシート上に堆積された。

実施例６の高屈折率層はＴＺＯであったが、実施例７～１１の高屈折率層はＴＺＯ及びＴＳＯの副層をベースとしていた。２つの「高／低」配列を有する実施例１２及び１３の高屈折率層はＴＺＯ又はＴＳＯであった。

光学的特性は、カラーインデックスに関して十分な審美性を示した。

実施例６及び７は、５５°の入射角でｐ偏光反射＞１０．０％を有した。実施例８～１１は、５５°の入射角でｐ偏光反射＞９．０％を有した。実施例１２及び１３は、５５°の入射角でｐ偏光反射＞１２．０％を有した。

実施例１４～２２
１．８ｍｍの第１の透明フロートガラスシートと１．４ｍｍの第２の透明フロートガラスシートとを含み、０．７６ｍｍの透明ＰＶＢシートが積層される実施例１４～２２のグレージングが提供された。表６及び７に略述される「高／低」配列を有する、いくつかの第１のコーティングが内側ガラスシートの第２の表面（Ｓ４）上に堆積された。

積み重ね体の表１に略述されるように、２つの銀層と３つの誘電体層とを含む第２のコーティングが内側ガラスシートの第１の表面（Ｓ３）上に堆積され、真空スパッタリングによって堆積された：

実施例１４～１８の高屈折率層は、ＴＺＯ及びＴＳＯの副層をベースとした。２つの「高／低」配列を有する実施例１９～２２の高屈折率層はＴＺＯ又はＴＳＯであった。

実施例１４～１８は、５５°の入射角でｐ偏光反射＞１０．０％を有した（表７）。実施例１９～２２は、５５°の入射角でｐ偏光反射＞１３．０％を有した（表７）。

実施例２３～２７、比較例２
１．８ｍｍの第１の透明フロートガラスシートと１．４ｍｍの第２の透明フロートガラスシートとを含み、０．７６ｍｍの透明ＰＶＢシートが積層される実施例２３～２７のグレージングが提供された。表８及び９に略述される「高／低」配列を有するいくつかの第１のコーティングが内側ガラスシートの第２の表面（Ｓ４）上に堆積された。

積み重ね体の表１に略述されるように、２つの銀層と３つの誘電体層とを含む第２のコーティングが内側ガラスシートの第１の表面（Ｓ３）上に堆積された。

２．３５の屈折率（５５０ｎｍ）を有するチタン酸化物をベースとした比較例２は、５５°の入射角で１１．２９％のｐ偏光反射を有した。

２．３３の屈折率（５５０ｎｍ）を有するＴＺＯをベースとした実施例２３は、５５°の入射角で１０．９９％のｐ偏光反射を有した。ＳｉＺｒＮを有する実施例２４は、５５°の入射角でｐ偏光反射＞８．０％を有した。ＴＳＯを有する実施例２５は、５５°の入射角でｐ偏光反射＞７．０％を有した。ＳｉＮ：Ａｌ及び亜鉛スズ酸化物をそれぞれ有する実施例２６及び２７は、５５°の入射角でｐ偏光反射＞５．０％を有した。それらは全て、カラーインデックスに関して十分な審美性を有した。

実施例２３～２７の第１のコーティングは熱処理に耐え且つそれらの光学的特性を維持することができたが、他方、比較例２は熱処理に耐えなかった。

実施例２８～３０
２．１ｍｍの第１の透明フロートガラスシートと１．６ｍｍの第２の透明フロートガラスシートとを含み、０．７６ｍｍの透明ＰＶＢシートが積層される実施例２８～３０のグレージングが提供された。表１０及び１１に略述される「高／低」配列を有するいくつかの第１のコーティングが内側ガラスシートの第２の表面（Ｓ４）上に堆積された。

実施例２９については、積み重ね体の表１に略述されるように、２つの銀層と３つの誘電体層とを含む第２のコーティングが内側ガラスシートの第１の表面（Ｓ３）上に堆積された。

２．３３の屈折率（５５０ｎｍ）を有するＴＺＯをベースとした実施例２８は、５５°の入射角で１０．４％のｐ偏光反射を有した。実施例２９は、５５°の入射角でｐ偏光反射＞１１．０％を有した。実施例３０は、５５°の入射角でｐ偏光反射＞１２．０％を有した。

実施例２８～３０は全て、カラーインデックスに関して十分な審美性を有した。

実施例２８～３０の第１のコーティングは熱処理に耐え且つそれらの光学的特性を維持することができた。高屈折率層としてＴｉＯ_２層を有する比較例は、熱処理に耐えなかったので、提供されなかった。

実施例３１、比較例３及び４
比較例３及び４は、それぞれ１５．８４％及び１５．４６％の全反射（検算された）とともに、それぞれ１１．５２％及び１１．１５％のｐ偏光の反射能を有する国際公開第２０１９／０４６１５７Ａ１号パンフレットの実施例３及び５と関係する。

実施例３１では、７３．２ｎｍのＴＺＯの高屈折率層、及び９９．５ｎｍのＳｉＯ_２の低屈折率層を有する第１のコーティングが提供された。実施例３１は、１１．３０％のｐ偏光の反射能及び１２．１０％の全反射を特徴としている。

これは、ｐ偏光の等価反射について、本発明に従うＨＵＤの第１のコーティングは、反射を減らすことができることを示し、それは、例えば車用グレージング上へのダッシュボードの反射からの不快感を低減するのに有用である。

実施例３２及び３３、比較例５～９－表１２
実施例３２では、６５ｎｍのＴＺＯの高屈折率層、及び８０ｎｍのＳｉＯ_２の低屈折率層を有する第１のコーティングが提供された。実施例３２は、１２．４％の全反射及び１０．４％のｐ偏光の反射能を特徴としている。

実施例３３は、８０ｎｍのＴＺＯの高屈折率層、及び１１０ｎｍのＳｉＯ_２の低屈折率層を有する第１のコーティングが提供される。実施例３３は、１２．６％の全反射及び９．１％のｐ偏光の反射能を特徴としている。

実施例３２及び３３の両方とも、５分間６５０℃の温度で行われる曲げ工程の熱処理に耐えることができる。

比較例５では、４０ｎｍのＴＺＯの高屈折率層、及び６５ｎｍのＳｉＯ_２の低屈折率層を有する第１のコーティングが提供された。両方の値は、高低屈折率層及び低屈折率層について請求の範囲の範囲外である。比較例５は、１９．６％（＞２１％）の全反射及び７．５％（＜８％）のｐ偏光の反射能を特徴としている。

比較例６では、４０ｎｍのＴＺＯの高屈折率層、及び１７０ｎｍのＳｉＯ_２の低屈折率層を有する第１のコーティングが提供された。両方の値は、高低屈折率層及び低屈折率層について請求の範囲の範囲外である。比較例６は、２２．６０％（＞２１％）の全反射及び７．５％（＜８％）のｐ偏光の反射能を特徴としている。

比較例５及び６の両方とも、ＴＺＯの存在のために５分間６５０℃の温度で行われる曲げ工程の熱処理に耐えることができるが、しかしながら厚さの範囲は請求の範囲のこれらの範囲外であり、全反射及びｐ偏光の反射能を用いたそれらの光学的特性によって、それらは本発明の範囲において不適当である。

比較例７では、中国特許第２０４１６６１９７Ｕ号明細書の実施例１に従って、６５．６ｎｍのＴｉＯ_２の高屈折率層、及び１０２ｎｍのＳｉＯ_２の低屈折率層を有する第１のコーティングが提供された。比較例７は、１２．４％の全反射及び１１．５％のｐ偏光の反射能を特徴としている。比較例７は光学測定について許容範囲の範囲内の値であるが、それは高屈折率層材料として二酸化チタンの存在のために、５分間６５０℃の温度で行われる曲げ工程の熱処理に耐えなかった。

比較例８では、中国特許第２０６１４７１７８Ｕ号明細書の実施形態１に従って、ガラスと接触している１３．８ｎｍのＺＳＯ層、及び１．４５～１．９の屈折率を有する７６．１ｎｍのＳｉＯＮ層、その次の７４ｎｍのＴｉＯ_２高屈折率層、並びに９２．１ｎｍのＳｉＯ_２層の４層を有する第１のコーティングが提供された。

比較例９では、中国特許第２０６１４７１７８Ｕ号明細書の実施形態３に従って、ガラスと接触している１２８ｎｍのＺＳＯ層、その次の７５ｎｍのＴｉＯ_２の高屈折率層、及び１１０ｎｍのＳｉＯ_２層の３層を有する第１のコーティングが提供された。

比較例８及び９光学測定について許容範囲内の値であるが、それらは、高屈折率層材料として二酸化チタンの存在のために、５分間６５０℃の温度で行われる曲げ工程の熱処理に耐えなかった。

実施例３４及び３５、比較例１０及び１１－表１３
実施例３４では、２ｎｍのＴＺＯの第１の高屈折率層、１６５ｎｍのＳｉＯ_２の第１の低屈折率層、５５ｎｍのＴＺＯの第２の高屈折率層、７５ｎｍのＳｉＯ_２の第２の低屈折率層を有する第１のコーティングが提供された。実施例３４は、１７．３％の全反射及び１１．７％のｐ偏光の反射能を特徴としている。

実施例３５では、１２ｎｍのＴＺＯの第１の高屈折率層、１６８ｎｍのＳｉＯ_２の第１の低屈折率層、８０ｎｍのＴＺＯの第２の高屈折率層、１２０ｎｍのＳｉＯ_２の第２の低屈折率層を有する第１のコーティングが提供された。実施例３５は、２０．４％の全反射及び１４．６％のｐ偏光の反射能を特徴としている。

実施例３４及び３５の両方が５分間６５０℃の温度で行われる曲げ工程の熱処理に耐えることができる。

比較例１０では、１８ｎｍのＴＺＯの第１の高屈折率層、１４０ｎｍのＳｉＯ_２の第１の低屈折率層、４０ｎｍのＴＺＯの第２の高屈折率層、１７０ｎｍのＳｉＯ_２の第２の低屈折率層が提供された。層の厚さは、高低屈折率層及び低屈折率層について請求の範囲の範囲外である。比較例１０は、３６．２％（＞２１％）の全反射、１３．６％のｐ偏光の反射能及び６２．０％（＜７０．０％、これは自動車の分野においては不合格である）の光の透過率を特徴としている。

比較例１１では、２５ｎｍのＴＺＯの第１の高屈折率層、１３０ｎｍのＳｉＯ_２の第１の低屈折率層、３０ｎｍのＴＺＯの第２の高屈折率層、６５ｎｍのＳｉＯ_２の第２の低屈折率層が提供された。層の厚さは、高低屈折率層及び低屈折率層について請求の範囲の範囲外である。比較例１１は、３７．６％（＞２１％）の全反射、１０．８％のｐ偏光の反射能及び６１．１％（＜７０．０％）の光の透過率を特徴としている。

Claims

ｐ偏光をグレージングに向けて投射する光源を含むＨＵＤシステムであって、
前記グレージングが、第１の表面及び第２の表面を有する外側ガラスシートと、第１の表面及び第２の表面を有する内側ガラスシートとを含み、
前記内側ガラスシートの第２の表面が第１のコーティングを含み、両シートが、前記内側ガラスシートの第１の表面と前記外側ガラスシートの第２の表面との間の接触を与える少なくとも１つの中間層材料シートによって接合され、
前記第１のコーティングが、
－５０～１００ｎｍの厚さを有する少なくとも１つの高屈折率層と、
－７０～１６０ｎｍの厚さを有する少なくとも１つの低屈折率層とを含み、
前記少なくとも１つの高屈折率層が、
－Ｚｒ、Ｎｂ、Ｓｎの酸化物、
－Ｔｉ、Ｚｒ、Ｎｂ、Ｓｉ、Ｓｂ、Ｓｎ、Ｚｎ、Ｉｎの混合酸化物、
－Ｓｉ、Ｚｒの窒化物、
－Ｓｉ、Ｚｒの混合窒化物
のうちの少なくとも１つを含むことを特徴とする、ＨＵＤシステム。
前記少なくとも１つの高屈折率層が、混合チタンジルコニウム酸化物、混合チタンケイ素酸化物、混合ニオブジルコニウム酸化物、混合ケイ素ジルコニウム窒化物、アルミニウムがドープされたケイ素窒化物、ジルコニウム酸化物、混合インジウムスズ酸化物、混合亜鉛アルミニウム混合酸化物、混合アンチモンスズ混合酸化物、混合チタン亜鉛酸化物、混合亜鉛スズ酸化物のうちの少なくとも１つを含む、請求項１に記載のＨＵＤシステム。
前記少なくとも１つの高屈折率層が、混合チタンジルコニウム酸化物、混合チタンケイ素酸化物、混合ニオブジルコニウム酸化物、混合ケイ素ジルコニウム窒化物、アルミニウムがドープされたケイ素窒化物、ジルコニウム酸化物のうちの少なくとも１つを含む、請求項１に記載のＨＵＤシステム。
前記投射光が、４２～７２度の角度で前記グレージングに入射する、請求項１～３のいずれか一項に記載のＨＵＤシステム。
ｐ偏光をグレージングに向けて投射する光源を含むＨＵＤシステムであって、
前記グレージングが、第１の表面及び第２の表面を有する外側ガラスシートと、第１の表面及び第２の表面を有する内側ガラスシートとを含み、
前記内側ガラスシートの第２の表面が第１のコーティングを含み、両シートが、前記内側ガラスシートの第１の表面と前記外側ガラスシートの第２の表面との間の接触を与える少なくとも１つの中間層材料シートによって接合され、
前記第１のコーティングが、
ｉ．ガラスと接触している、１～１５ｎｍの厚さを有する高屈折率材料の第１の層と、
ｉｉ．高屈折率材料の第１の層の上の、１５０～２２０ｎｍの厚さを有する低屈折率材料の第１の層と、
ｉｉｉ．低屈折率材料の第１の層の上の、５０～１００ｎｍの厚さを有する高屈折率材料の第２の層と、
ｉｖ．高屈折率材料の第２の層の上の、７０～１６０ｎｍの厚さを有する低屈折率材料の第２の層とを含み、
前記少なくとも１つの高屈折率層が、
－Ｚｒ、Ｎｂ、Ｓｎの酸化物、
－Ｔｉ、Ｚｒ、Ｎｂ、Ｓｉ、Ｓｂ、Ｓｎ、Ｚｎ、Ｉｎの混合酸化物、
－Ｓｉ、Ｚｒの窒化物、
－Ｓｉ、Ｚｒの混合窒化物
のうちの少なくとも１つを含むことを特徴とする、ＨＵＤシステム。
ｐ偏光をグレージングに向けて投射する光源を含むＨＵＤシステムであって、
前記グレージングが、第１の表面及び第２の表面を有する外側ガラスシートと、第１の表面及び第２の表面を有する内側ガラスシートとを含み、
前記内側ガラスシートの第２の表面が第１のコーティングを含み、両シートが、前記内側ガラスシートの第１の表面と前記外側ガラスシートの第２の表面との間の接触を与える少なくとも１つの中間層材料シートによって接合され、
前記第１のコーティングが、
ｉ．ガラスと接触している、１～１５ｎｍの厚さを有する高屈折率材料の第１の層と、
ｉｉ．高屈折率材料の第１の層の上の、１００～１６０ｎｍの厚さを有する低屈折率材料の第１の層と、
ｉｉｉ．低屈折率材料の第１の層の上の、１～２０ｎｍの厚さを有する高屈折率材料の第２の層と、
ｉｖ．高屈折率材料の第２の層の上の、２０～６０ｎｍの厚さを有する低屈折率材料の第２の層と、
ｖ．低屈折率材料の第２の層の上の、４０～１００ｎｍの厚さを有する高屈折率材料の第３の層と、
ｖｉ．高屈折率材料の第３の層の上の、８０～１４０ｎｍの厚さを有する低屈折率材料の第３の層とを含み、
前記少なくとも１つの高屈折率層が、
－Ｚｒ、Ｎｂ、Ｓｎの酸化物、
－Ｔｉ、Ｚｒ、Ｎｂ、Ｓｉ、Ｓｂ、Ｓｎ、Ｚｎ、Ｉｎの混合酸化物、
－Ｓｉ、Ｚｒの窒化物、
－Ｓｉ、Ｚｒの混合窒化物
のうちの少なくとも１つを含むことを特徴とする、ＨＵＤシステム。
ｎ個の赤外線反射機能性層ベースの層とｎ＋１個の誘電体層とを含む第２のコーティングをさらに含む、請求項１～６のいずれか一項に記載のＨＵＤシステムであって、各々の赤外線反射機能性層ベースの層が、前記内側ガラスシートの第１の表面又は前記外側ガラスシートの第２の表面の少なくとも１つの上に２つの誘電体層の間に配置されている、ＨＵＤシステム。
前記第２のコーティングが、以下の連続層を含む、請求項７に記載のＨＵＤシステム：
・少なくとも基礎誘電体下層と前記基礎誘電体下層の組成と異なった組成である基礎誘電体上層とを含む基礎誘電体層であって、前記基礎誘電体上層が、亜鉛酸化物又はＺｎと少なくとも１つの付加的な材料Ｘとの混合酸化物のどちらかを含み、前記基礎誘電体上層におけるＸ／Ｚｎ重量比が０．０２～０．５であり、且つＸが、Ｓｎ、Ａｌ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｚｒ、Ｓｂ、Ｂｉ、Ｍｇ、Ｎｂ、Ｔａ及びＴｉを含む群から選択される材料の１つ以上である、基礎誘電体層、
・銀、金、白金、又はそれらの混合物などの第１の赤外線反射層、
・第１のバリア層、
・少なくとも中心誘電体下層と前記中心誘電体下層の組成と異なった組成である中心誘電体上層とを含む中心誘電体層であって、前記中心誘電体下層が第１のバリア層及び前記中心誘電体上層と直接接触しており、前記中心誘電体上層が、亜鉛酸化物又はＺｎと少なくとも１つの付加的な材料Ｙとの混合酸化物のどちらかを含み、前記中心誘電体上層におけるＹ／Ｚｎ重量比が０．０２～０．５であり、且つＹが、Ｓｎ、Ａｌ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｚｒ、Ｓｂ、Ｂｉ、Ｍｇ、Ｎｂ、Ｔａ及びＴｉを含む群から選択される材料の１つ以上である、中心誘電体層、
・銀、金、白金、又はそれらの混合物などの第２の赤外線反射層、
・第２のバリア層、
・最上誘電体層。
前記第２のコーティングが、以下の連続層を含む、請求項７に記載のＨＵＤシステム：
・少なくとも基礎誘電体下層と前記基礎誘電体下層の組成と異なった組成である基礎誘電体上層とを含む基礎誘電体層であって、前記基礎誘電体上層が、亜鉛酸化物又はＺｎと少なくとも１つの付加的な材料Ｘとの混合酸化物のどちらかを含み、前記基礎誘電体上層におけるＸ／Ｚｎ重量比が０．０２～０．５であり、且つＸが、Ｓｎ、Ａｌ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｚｒ、Ｓｂ、Ｂｉ、Ｍｇ、Ｎｂ、Ｔａ及びＴｉを含む群から選択される材料の１つ以上である、基礎誘電体層、
・銀、金、白金、又はそれらの混合物などの第１の赤外線反射層、
・第１のバリア層、
・少なくとも第２の誘電体下層と前記第２の誘電体下層の組成と異なった組成である第２の誘電体上層とを含む第２の誘電体層であって、前記第２の誘電体下層が、前記第１のバリア層及び前記第２の誘電体上層と直接接触しており、前記第２の誘電体上層が、亜鉛酸化物又はＺｎと少なくとも１つの付加的な材料Ｙとの混合酸化物のどちらかを含み、前記第２の誘電体上層におけるＹ／Ｚｎ重量比が０．０２～０．５であり、且つＹが、Ｓｎ、Ａｌ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｚｒ、Ｓｂ、Ｂｉ、Ｍｇ、Ｎｂ、Ｔａ及びＴｉを含む群から選択される材料の１つ以上である、第２の誘電体層、
・銀、金、白金、又はそれらの混合物などの第２の赤外線反射層、
・第２のバリア層、
・少なくとも第３の誘電体下層と前記第３の誘電体下層の組成と異なった組成である第３の誘電体上層とを含む第３の誘電体層であって、前記第３の誘電体下層が、前記第２のバリア層及び前記第３の誘電体上層と直接接触しており、前記第３の誘電体上層が、亜鉛酸化物又はＺｎと少なくとも１つの付加的な材料Ｙとの混合酸化物のどちらかを含み、前記第３の誘電体上層におけるＹ／Ｚｎ重量比が０．０２～０．５であり、且つＹが、Ｓｎ、Ａｌ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｚｒ、Ｓｂ、Ｂｉ、Ｍｇ、Ｎｂ、Ｔａ及びＴｉを含む群から選択される材料の１つ以上である、第３の誘電体層、
・銀、金、白金、又はそれらの混合物などの第３の赤外線反射層、
・第３のバリア層、
・最上誘電体層。
前記第２のコーティングが、以下の連続層を含む、請求項７に記載のＨＵＤシステム：
・基礎誘電体下層と前記基礎誘電体下層の組成と異なった組成である基礎誘電体上層とを含む基礎誘電体層であって、前記基礎誘電体下層が、０．５～２の範囲のＳｎ／Ｚｎ重量比を有するＺｎとＳｎの混合酸化物を含み、前記基礎誘電体上層が、０．０２～０．５の範囲のＳｎ／Ｚｎ重量比を有するＺｎとＳｎの混合酸化物を含む、基礎誘電体層
・金属銀を含む第１の赤外線反射層
・第１のバリア層
・中心誘電体下層と、前記第１のバリア層と直接接触しており且つ０．５～２の範囲のＳｎ／Ｚｎ比を有するＺｎとＳｎの混合酸化物を含む前記中心誘電体下層の組成と異なった組成である中心誘電体上層とを含む中心誘電体層であって、前記中心誘電体上層が、０．０２～０．５の範囲のＳｎ／Ｚｎ重量比を有するＺｎとＳｎの混合酸化物を含む、中心誘電体層
・金属銀を含む第２の赤外線反射層
・第２のバリア層
・最上誘電体層。
前記第２のコーティングが、以下の連続層を含む、請求項１０に記載のＨＵＤシステム：
・基礎誘電体下層と前記基礎誘電体下層の組成と異なった組成である基礎誘電体上層とを含む基礎誘電体層であって、前記基礎誘電体下層が、０．５～２の範囲のＳｎ／Ｚｎ重量比を有するＺｎとＳｎの混合酸化物を含み、１５～２５ｎｍの幾何学厚さを有し、前記基礎誘電体上層が、０．０２～０．５の範囲のＳｎ／Ｚｎ重量比を有するＺｎとＳｎの混合酸化物を含み、５～１５ｎｍの幾何学厚さを有する、基礎誘電体層、
・金属銀を含み、８～１６ｎｍの幾何学厚さを有する第１の赤外線反射層、
・３～８ｎｍの幾何学厚さを有する第１のバリア層、
・中心誘電体下層と、前記第１のバリア層と直接接触しており且つ０．５～２の範囲のＳｎ／Ｚｎ比を有するＺｎとＳｎの混合酸化物を含む、５８～７４ｎｍの幾何学厚さを有する前記中心誘電体下層の組成と異なった組成である中心誘電体上層とを含む中心誘電体層であって、前記中心誘電体上層が、０．０２～０．５の範囲のＳｎ／Ｚｎ重量比を有するＺｎとＳｎの混合酸化物を含み、５～１５ｎｍの幾何学厚さを有する、中心誘電体層、
・金属銀を含み、８～１６ｎｍの幾何学厚さを有する第２の赤外線反射層、
・３～８ｎｍの幾何学厚さを有する第２のバリア層、
・１４～２２ｎｍの幾何学厚さを有する最上誘電体層、
・２～８ｎｍの幾何学厚さを有する任意選択のトップコート。
前記第２のコーティングが、以下の連続層を含む、請求項７に記載のＨＵＤシステム：
基礎誘電体下層と前記基礎誘電体下層の組成と異なった組成である基礎誘電体上層とを含む基礎誘電体層であって、前記基礎誘電体下層が、０．５～２の範囲のＳｎ／Ｚｎ重量比を有するＺｎとＳｎの混合酸化物を含み、前記基礎誘電体上層が、０．０２～０．５の範囲のＳｎ／Ｚｎ重量比を有するＺｎとＳｎの混合酸化物を含む、基礎誘電体層
金属銀を含む第１の赤外線反射層
第１のバリア層
第２の誘電体下層と、前記第１のバリア層と直接接触しており且つ０．５～２の範囲のＳｎ／Ｚｎ比を有するＺｎとＳｎの混合酸化物を含む前記第２の誘電体下層の組成と異なった組成である第２の誘電体上層とを含む第２の誘電体層であって、前記第２の誘電体上層が、０．０２～０．５の範囲のＳｎ／Ｚｎ重量比を有するＺｎとＳｎの混合酸化物を含む、第２の誘電体層
金属銀を含む第２の赤外線反射層
第２のバリア層
第３の誘電体下層と、前記第２のバリア層と接触しており且つ０．５～２の範囲のＳｎ／Ｚｎ比を有するＺｎとＳｎの混合酸化物を含む前記第３の誘電体下層の組成と異なった組成である第３の誘電体上層とを含む第３の誘電体層であって、前記第３の誘電体上層が、０．０２～０．５の範囲のＳｎ／Ｚｎ重量比を有するＺｎとＳｎの混合酸化物を含む、第３の誘電体層
金属銀を含む第３の赤外線反射層
第３のバリア層
最上誘電体層。
前記第２のコーティングが、以下の連続層を含む、請求項１２に記載のＨＵＤシステム：
・基礎誘電体下層と前記基礎誘電体下層の組成と異なった組成である基礎誘電体上層とを含む基礎誘電体層であって、前記基礎誘電体下層が、０．５～２の範囲のＳｎ／Ｚｎ重量比を有するＺｎとＳｎの混合酸化物を含み、２５～３５ｎｍの幾何学厚さを有し、前記基礎誘電体上層が、０．０２～０．５の範囲のＳｎ／Ｚｎ重量比を有するＺｎとＳｎの混合酸化物を含み、５～１５ｎｍの幾何学厚さを有する、基礎誘電体層、
・金属銀を含み、１０～１６ｎｍの幾何学厚さを有する第１の赤外線反射層、
・３～８ｎｍの幾何学厚さを有する第１のバリア層、
・第２の誘電体下層と、前記第１のバリア層と直接接触しており且つ０．５～２の範囲のＳｎ／Ｚｎ比を有するＺｎとＳｎの混合酸化物を含む、５８～７４ｎｍの幾何学厚さを有する前記第２の誘電体下層の組成と異なった組成である第２の誘電体上層とを含む第２の誘電体層であって、前記第２の誘電体上層が、０．０２～０．５の範囲のＳｎ／Ｚｎ重量比を有するＺｎとＳｎの混合酸化物を含み、５～１５ｎｍの幾何学厚さを有する、第２の誘電体層、
・金属銀を含み、１０～１７ｎｍの幾何学厚さを有する第２の赤外線反射層、
・３～８ｎｍの幾何学厚さを有する第２のバリア層、
・第３の誘電体下層と、前記第２のバリア層と接触しており且つ０．５～２の範囲のＳｎ／Ｚｎ比を有するＺｎとＳｎの混合酸化物を含む、５０～７５ｎｍの幾何学厚さを有する前記第３の誘電体下層の組成と異なった組成である第３の誘電体上層とを含む第３の誘電体層であって、前記第３の誘電体上層が、０．０２～０．５の範囲のＳｎ／Ｚｎ重量比を有するＺｎとＳｎの混合酸化物を含み、５～１５ｎｍの幾何学厚さを有する、第３の誘電体層、
・金属銀を含み、１０～１６ｎｍの幾何学厚さを有する第３の赤外線反射層、
・３～８ｎｍの幾何学厚さを有する第３のバリア層、
・２０～４０ｎｍの幾何学厚さを有する最上誘電体層、
・２～８ｎｍの幾何学厚さを有する任意選択のトップコート。
前記第２のコーティングが、前記内側ガラスシートの第１の表面（Ｓ３）上に又は前記外側ガラスシートの第２の表面（Ｓ２）上に配置され得る、請求項７～１３のいずれか一項に記載のＨＵＤシステム。
ａ．第１の又は外側ガラスシートと、少なくとも１つの中間層材料シートと、５０～１００ｎｍの厚さを有する少なくとも１つの高屈折率層及び７０～１６０ｎｍの厚さを有する少なくとも１つの低屈折率層を含む第１のコーティングをその第２の表面上に含む第２の又は内側ガラスシートとを組み立てることによってグレージングを提供する工程と、
但し、前記少なくとも１つの高屈折率層が、
－Ｚｒ、Ｎｂ、Ｓｎの酸化物、
－Ｔｉ、Ｚｒ、Ｎｂ、Ｓｉ、Ｓｂ、Ｓｎ、Ｚｎ、Ｉｎの混合酸化物、
－Ｓｉ、Ｚｒの窒化物、
－Ｓｉ、Ｚｒの混合窒化物のうちの少なくとも１つを含み、
中間層が、前記内側ガラスシートの第１の表面と前記外側ガラスシートの第２の表面との間の接触を与える、
ｂ．ｐ偏光を投射することができる光源を提供する工程と、
ｃ．前記ｐ偏光を前記グレージングに向けて４２～７２°の入射角で投射するように前記光源を配置する工程
とを含むＨＵＤシステムを提供する方法。
前記第１のコーティングが、ＣＶＤ、ＰＥＣＶＤ、ＰＶＤ、マグネトロンスパッタリング、湿潤コーティングから選択される方法によって前記第２のガラスシート上に堆積される、請求項１５に記載の方法。
前記第１のコーティングの７０～１６０ｎｍの厚さを有する前記少なくとも１つの低屈折率層が、ＰＥＣＶＤ方法によって前記第２のガラスシート上に堆積される、請求項１５又は１６に記載の方法。
グレージング上に４２～７２°の入射角で光を投射してｐ偏光を反射するｐ偏光源を含むＨＵＤシステムにおける、第１のコーティングをその表面の１つの上に含むガラスシートの使用であって、
前記コーティングが、
－５０～１００ｎｍの厚さを有する少なくとも１つの高屈折率層と、
－７０～１６０ｎｍの厚さを有する少なくとも１つの低屈折率層とを含み、
前記少なくとも１つの高屈折率層が、
－Ｚｒ、Ｎｂ、Ｓｎの酸化物、
－Ｔｉ、Ｚｒ、Ｎｂ、Ｓｉ、Ｓｂ、Ｓｎ、Ｚｎ、Ｉｎの混合酸化物、
－Ｓｉ、Ｚｒの窒化物、
－Ｓｉ、Ｚｒの混合窒化物のうちの少なくとも１つを含む、
ガラスシートの使用。