CN115136037A - 平视显示器系统 - Google Patents
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Abstract
本发明涉及一种HUD系统，该HUD系统包括：a.光源，其朝向窗玻璃投射p偏振光，b.所述窗玻璃，其包括具有第一表面和第二表面的外玻璃片材和具有第一表面和第二表面的内玻璃片材，其中，该内玻璃片材的第二表面包括第一涂层，两个片材通过至少一个夹层材料片材结合，其特征在于，所述第一涂层包括：至少一个高折射率层，其具有50nm至100nm的厚度；以及至少一个低折射率层，其具有70nm至160nm的厚度，其中，该至少一个高折射率层包括以下中的至少一者：Zr、Nb、Sn的氧化物；Ti、Zr、Nb、Si、Sb、Sn、Zn、In的混合氧化物；Si、Zr的氮化物；Si、Zr的混合氮化物。
Description
技术领域
本发明涉及平视显示器系统，并且涉及一种提供所述平视显示器系统的方法。
背景技术
平视显示器系统或HUD系统广泛地用于运输装置中以在所述运输装置的观察者或驾驶员的观察区域中的车辆窗玻璃上提供信息。
多种HUD系统是已知的。通常，投射系统与部分反射镜(部分反射器和部分窗口)进行组合来作为最终光学部件，以用于形成用户可观看的投射图像。同时，用户可以通过部分反射镜来观察其他场景。部分反射镜是影响显示器的可用性的重要部件。一般地，部分反射镜的反射率必须足以反射来自投影仪的光，但部分反射镜还必须足够透明以通过该部分反射镜提供充分观察。
在CN 104267498 A中提供了用于平视显示器系统的HUD系统的示例，该平视显示器系统包括：投射光源、层压玻璃和透明纳米膜，其中透明纳米膜包括从内玻璃板的表面按顺序地向外沉积的高反射率层/低反射率层的至少一个层压结构；投射光源用于生成p偏振光，p偏振光进入透明纳米薄膜，来自透明纳米薄膜的p偏振光的反射率不低于5％，并且p偏振光的入射角的范围为42度至72度。在CN 206147178 U和CN 204166197 U中提供了HUD系统的其他示例。
在EP 3187917 A2中提供了用于HUD系统的HUD的另一个示例，其包括投射光源和层压窗玻璃，层压窗玻璃包括内玻璃面板、外玻璃面板和夹在内玻璃面板与外玻璃面板之间的中间膜，其中平视显示器系统还包括透明纳米膜，该透明纳米膜包括至少两个介电层和至少一个金属层，每个金属层位于两个介电层之间；中间膜的折射率与内玻璃面板和外玻璃面板的折射率之间的差值不大于0.1；并且投射光源用于生成p偏振光，该p偏振光入射在内玻璃面板的背离中间膜的表面上，该光具有42度至72度的入射角，使得透明纳米膜可以反射一部分入射p偏振光。
WO 2019/046157 A1披露了层压板，该层压板包括：第一层，该第一层具有第一表面和第二表面，其中第一表面是层压板的外表面；第二层，该第二层具有面向第二表面的第三表面和与第三表面相反的第四表面，其中第四表面是层压板的内表面；位于层之间的夹层；以及位于层的表面的至少一部分上的增强型p偏振反射涂层。当层压板与具有相对于层压板的法线成60°角的p偏振辐射的辐射接触时，层压板表现出至少70％的LTA和至少10％的p偏振辐射的反射率。还披露了一种在平视显示器中投射图像的显示器系统和方法。
HUD系统的典型问题是出现重像或双像。还有一个问题是设置有投射信息的车辆窗玻璃周围的元件的反射，该反射使所述投射信息模糊和衰减。
仍然需要p偏振光反射涂层，这些涂层可以经受热处理并且仍然可用于在HUD系统中的窗玻璃上反射明显且清晰的图像显示。
发明内容
本发明提供了一种HUD系统，该HUD系统包括
a.光源，其朝向窗玻璃投射光，
b.所述窗玻璃包括具有第一表面和第二表面的外玻璃片材和具有第一表面和第二表面的内玻璃片材，
其中内玻璃片材的第二表面包括第一涂层，两个片材通过至少一个夹层材料片材结合，该至少一个夹层材料片材提供内玻璃片材的第一表面(S3)与外玻璃片材的第二表面(S2)之间的接触，
其特征在于，所述第一涂层包括
-至少一个高折射率层，其具有50nm至100nm的厚度
以及
-至少一个低折射率层，其具有70nm至160nm的厚度，
其中该至少一个高折射率层包括以下中的至少一者
-Zr、Nb、Sn的氧化物；
-Ti、Zr、Nb、Si、Sb、Sn、Zn、In的混合氧化物；
-Si、Zr的氮化物；
-Si、Zr的混合氮化物。
还提供了一种提供这种HUD系统的方法。
具体实施方式
本发明提供了一种HUD系统，该HUD系统包括
a.光源，其朝向窗玻璃投射光，
b.所述窗玻璃包括具有第一表面和第二表面的外玻璃片材和具有第一表面和第二表面的内玻璃片材，
其中内玻璃片材的第二表面包括第一涂层，两个片材通过至少一个夹层材料片材结合，该至少一个夹层材料片材提供内玻璃片材的第一表面与外玻璃片材的第二表面之间的接触，
其特征在于，所述第一涂层包括
-至少一个高折射率层，其具有50nm至100nm的厚度
以及
-至少一个低折射率层，其具有70nm至160nm的厚度，
其中该至少一个高折射率层包括以下中的至少一者
-Zr、Nb、Sn的氧化物；
-Ti、Zr、Nb、Si、Sb、Sn、Zn、In的混合氧化物；
-Si、Zr的氮化物；
-Si、Zr的混合氮化物。
光源典型地提供朝向窗玻璃的光投射。光源可以包括偏振器。入射在偏振器上的光可以包括电磁光谱的可见部分中的一些或全部。光还可以包括红外波长。反射偏振器可以被配置成使得在近垂直入射下且处于倾斜角度的s偏振光和p偏振光都在红外区域中高度反射，在这种情况下，例如可以实现对太阳辐射的额外抑制。此类光源典型地在本领域中是已知的并且本文将不进行描述。
在本发明的范围内，光源提供p偏振光。这种光允许将投射信息有利地朝向窗玻璃反射。
典型地，投射光以42度至72度的角度入射到窗玻璃。配置有p偏振光源的本发明HUD系统的优点在于，如果光的入射角接近布鲁斯特角(典型地为约56°)，则外玻璃表面(S1)不生成双像或生成可忽略的双像，这是本文所讨论的第一涂层的有效p偏振光反射率的结果。本发明HUD系统的另一个优点是能够以清晰细节投射并反射各种颜色。
窗玻璃包括具有第一表面(S1)和第二表面(S2)的外玻璃片材和具有第一表面(S3)和第二表面(S4)的内玻璃片材。这种窗玻璃典型地是层压的。窗玻璃的外玻璃片材是与车辆或建筑物的外部接触的片材。内玻璃片材是与车辆或建筑物的内部空间接触的片材。两个玻璃片材与层压片材或夹层保持接触，从而用于两个玻璃片材之间的粘合和接触。夹层提供内玻璃片材的第一表面(S3)与外玻璃片材的第二表面(S2)之间的接触。
玻璃可以是钠钙硅、铝硅酸盐或硼硅酸盐类型等的玻璃。典型地，玻璃片材是浮法玻璃，其具有0.5mm至12mm的厚度。在运输应用中，玻璃可以具有1mm至8mm的厚度，而在工程应用中它们也可以更薄或更厚，像除了1mm至8mm的厚度之外，0.5mm至1mm的超薄玻璃，或8mm至12mm的更厚玻璃。
窗玻璃的组成对于本发明的目的而言不是至关重要的，条件是所述玻璃片材适于运输或建筑应用。玻璃可以是透明玻璃、超透明玻璃或着色玻璃，它根据期望的效果包括呈适当量的一种或多种组分/着色剂。着色玻璃包括灰色、绿色或蓝色浮法玻璃。在一些情况下，着色玻璃可以有利于提供最终窗玻璃的适当且期望的颜色。
特别适合的着色玻璃可以是绿色玻璃，因为它提供了从车辆的外侧观察到的卓越美感。绿色玻璃可以是例如钠钙玻璃，其中氧化铁呈Fe2O3的形式，其量为0.3wt％至1.0wt％。
依照应用所需的形状，玻璃片材可以是平的或者全部地或部分地弯曲以正确地配合玻璃支座的特定设计。
夹层典型地包含热塑性材料，例如聚乙烯醇缩丁醛(PVB)、乙烯醋酸乙烯酯(EVA)、聚氨酯(PU)、聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)、聚碳酸酯或它们的多个层，典型地总厚度为0.3mm至0.9mm。夹层可以包含着色剂，并且因此是着色夹层。
在一些情况下，当玻璃不是着色玻璃时，夹层可以是着色夹层。同样，从外部观察者的角度来看，这种着色夹层可以提供卓越的美感。
夹层典型地在两个玻璃片材之间在其整个表面上具有均匀的厚度。因此，夹层典型地不被认为是“楔形”夹层。楔形夹层可能会在反射图像中提供伪影，并且因此在本发明的范围内不是必需的。此外，这种楔形夹层典型地与设计和生产的额外成本相关联。
在本发明的范围内，夹层典型地不含光吸收剂或任何光干扰聚合物。在本发明的范围内，夹层典型地不支持多层涂层。
内玻璃片材的第二表面(S4)包括第一涂层。第一涂层包括至少一个高折射率材料层和至少一个低折射率材料层。在本发明的范围内，这种序列将被称为“高/低”序列。
在一些实施例中，第一涂层可以包括交替的高折射率层和低折射率层，也就是说，第一涂层可以包括多于一个高折射率材料层和/或多于一个低折射率材料层。在此类情况下，“高/低”序列可以出现多余一次，也就是说，该序列可以重复至少2次。可以提供多达3次或4次或更多次的重复序列。在一些情况下，重复序列将不超过3次。
在本发明的范围内，至少设置有第一涂层的内片材适于经受热回火过程。因此，这种内片材可以经受热回火过程。
在本发明的范围内，在550nm的波长下，高折射率典型地≥1.8、替代性地≥1.9、替代性地≥2.0、替代性地≥2.1。
在本发明的范围内，在550nm的波长下，低折射率典型地<1.8、替代性地≤1.7、替代性地≤1.6。
在本发明的范围内，第一涂层的至少一个高折射率层包括以下中的至少一者
-Zr、Nb、Sn的氧化物；
-Ti、Zr、Nb、Si、Sb、Sn、Zn、In的混合氧化物；
-Si、Zr的氮化物；
-Si、Zr的混合氮化物。
在本发明的一些实施例中，第一涂层的至少一个高折射率层包括以下中的至少一者：混合钛锆氧化物、混合钛硅氧化物、混合铌锆氧化物、混合硅锆氮化物、铝掺杂氮化硅、氧化锆、混合铟锡氧化物、混合锌铝混合氧化物、混合锑锡氧化物、混合钛锌氧化物、混合锌锡氧化物。
在具体选择厚度范围时，选择此类高折射率材料，因为它们在热回火时不会经历重大的结晶度改变。从这样的角度来看，当仅存在第一涂层的一个高折射率层时，因此不推荐氧化钛作为高折射率材料，因为它在热回火时经历重大的结晶度改变。
在本发明的一些替代性实施例中，第一涂层的至少一个高折射率层包括以下中的至少一者：混合钛锆氧化物、混合钛硅氧化物、混合铌锆氧化物、混合硅锆氮化物、铝掺杂氮化硅、氧化锆、混合锌锡氧化物。
这些材料在所要求的厚度范围内在热循环时不会损害高折射率层的质量。
提供最大偏振光反射的优选高折射率材料按递减的优选次序包括混合钛锆氧化物、混合硅锆氮化物、混合钛硅氧化物、铝掺杂氮化硅和混合锌锡氧化物。
用于高折射率层的优选材料是混合钛锆氧化物，其中Ti/Zr比率为55/45wt％至75/25wt％、优选地比率为65/35wt％，任选地存在混合钛硅氧化物，其中Ti/Si比率为85/15wt％至95/5wt％、优选地比率为92/8wt％。
低折射率材料的示例包括任选地掺杂有例如铝的氧化硅、氮氧化硅、碳氧化硅、或混合物，诸如硅和铝的混合氧化物、硅和锆的混合氧化物。
用于低折射率层的优选材料是任选地掺杂有铝的氧化硅、或硅和铝的混合氧化物。
因此，第一涂层可以包括与玻璃接触的第一高折射率材料层，以及在第一高折射率材料层上方的第一低折射率材料层。在此类实施例中，任选地由一个或多个子层制成的第一高折射率材料层的厚度的范围可以是50nm至100nm、替代性地60nm至80nm。在此类实施例中，任选地由一个或多个子层制成的第一低折射率材料层的厚度的范围可以独立地为70nm至160nm、替代性地80nm至120nm。
所要求的这些厚度范围允许具有最佳p偏振光反射(使得其可以≥8％、替代性地≥9％)连同总反射率的最佳抑制(剩余≤21％)的第一涂层，并且该第一涂层可以经受住热处理。
第一高折射率材料层的厚度<50nm不允许最佳p偏振光反射。第一低折射率材料层的厚度<70nm不允许最佳p偏振光反射。第一低折射率材料层的厚度>160nm不允许总反射率的最佳抑制。
如本文针对第一高折射率材料层和第一低折射率材料层提供的厚度范围的选择结合高折射率材料的选择允许最佳p偏振光反射涂层，同时不具有高的总反射率，使得来自仪表板的反射不会成为烦恼。从外部观察到的反射美学也得到了保证。
在本发明的一些实施例中，第一涂层由与玻璃接触的第一高折射率材料层和在第一高折射率材料层上方并与其接触的第一低折射率材料层组成。在此类实施例中，任选地由一个或多个子层制成的第一高折射率材料层的厚度的范围可以是50nm至100nm、替代性地60nm至80nm。在此类实施例中，任选地由一个或多个子层制成的第一低折射率材料层的厚度的范围可以独立地为70nm至160nm、替代性地80nm至120nm。
在本发明的一些实施例中，当重复序列“高/低”为两次时，第一涂层包括与玻璃接触的第一高折射率材料层、以及在第一高折射率材料层上方的第一低折射率材料层、以及在第一低折射率材料层上方的第二高折射率材料层、以及在第二高折射率材料层上方的第二低折射率材料层。
在2个“高/低”重复序列的此类实施例中，第一涂层可以包括
a.与玻璃接触的第一高折射率材料层，其具有1nm至15nm、替代性地2nm至11nm的厚度，以及
b.在第一高折射率材料层上方的第一低折射率材料层，其具有150nm至220nm、替代性地152nm至210nm、替代性地157.7nm至210nm的厚度，以及
c.在第一低折射率材料层上方的第二高折射率材料层，其具有50nm至100nm、替代性地50nm至90nm、替代性地55nm至75nm的厚度，以及
d.在第二高折射率材料层上方的第二低折射率材料层，其具有70nm至160nm、替代性地95nm至115nm的厚度。
针对高折射率层和低折射率层的彼此组合的这些厚度范围(特别是在所提供的范围内)允许具有最佳p偏振光反射(使得其可以≥8％、替代性地≥9％)连同总反射率的最佳抑制(剩余≤21％)的第一涂层，并且该第一涂层可以经受住热处理。
每个层的厚度范围的选择允许在p偏振光反射方面的特定性能。例如，当第一低折射率材料层具有<150nm、或<152nm或<157.7nm的厚度时，无法实现此类性能。
在2个“高/低”重复序列的具体实施例中，第一涂层由以下各者组成
a.与玻璃接触的第一高折射率材料层，其具有1nm至15nm、替代性地2nm至11nm的厚度，以及
b.在第一高折射率材料层上方并与其接触的第一低折射率材料层，其具有150nm至220nm、替代性地152nm至210nm、替代性地157.7nm至210nm的厚度，以及
c.在第一低折射率材料层上方并与其接触的第二高折射率材料层，其具有50nm至100nm、替代性地50nm至90nm、替代性地55nm至75nm的厚度，以及
d.在第二高折射率材料层上方并与其接触的第二低折射率材料层，其具有70nm至160nm、替代性地95nm至115nm的厚度。
当重复序列“高/低”为三次时，第一涂层包括与玻璃接触的第一高折射率材料层、以及在第一高折射率材料层上方的第一低折射率材料层、以及在第一低折射率材料层上方的第二高折射率材料层、以及在第二高折射率材料层上方的第二低折射率材料层、以及在第二低折射率材料层上方的第三高折射率材料层、以及在第三高折射率材料层上方的第三低折射率材料层。
在3个“高/低”重复序列的此类实施例中，第一涂层可以包括
a.与玻璃接触的第一高折射率材料层，其具有1nm至15nm、替代性地4nm至10nm的厚度，以及
b.在第一高折射率材料层上方的第一低折射率材料层，其具有100nm至160nm、替代性地120nm至140nm的厚度，以及
c.在第一低折射率材料层上方的第二高折射率材料层，其具有1nm至20nm、替代性地2nm至8nm的厚度，以及
d.在第二高折射率材料层上方的第二低折射率材料层，其具有20nm至60nm、替代性地40nm至50nm的厚度，以及
e.在第二低折射率材料层上方的第三高折射率材料层，其具有40nm至100nm、替代性地45nm至90nm的厚度，以及
f.在第三高折射率材料层上方的第三低折射率材料层，其具有80nm至140nm、替代性地90nm至130nm的厚度。
这些厚度范围允许所要求的第一涂层的最佳p偏振光反射以及总反射率的最佳抑制，该第一涂层可以经受住热处理。
在3个“高/低”重复序列的其他实施例中，第一涂层由以下各者组成
a.与玻璃接触的第一高折射率材料层，其具有1nm至15nm、替代性地4nm至10nm的厚度，以及
b.在第一高折射率材料层上方并与其接触的第一低折射率材料层，其具有100nm至160nm、替代性地120nm至140nm的厚度，以及
c.在第一低折射率材料层上方并与其接触的第二高折射率材料层，其具有1nm至20nm、替代性地2nm至8nm的厚度，以及
d.在第二高折射率材料层上方并与其接触的第二低折射率材料层，其具有20nm至60nm、替代性地40nm至50nm的厚度，以及
e.在第二低折射率材料层上方并与其接触的第三高折射率材料层，其具有40nm至100nm、替代性地45nm至90nm的厚度，以及
f.在第三高折射率材料层上方并与其接触的第三低折射率材料层，其具有80nm至140nm、替代性地90nm至130nm的厚度。
在多于1个“高/低”重复序列的那些情况下，第一涂层的高折射率层中的至少一者包括以下中的至少一者
-Zr、Nb、Sn的氧化物；
-Ti、Zr、Nb、Si、Sb、Sn、Zn、In的混合氧化物；
-Si、Zr的氮化物；
-Si、Zr的混合氮化物。
当第一涂层中存在多于一个高折射率层时，也就是说，当第一涂层中存在多于1个“高/低”序列时，高折射率层中的至少一者可以包括以下中的至少一者
-Zr、Nb、Sn的氧化物；
-Ti、Zr、Nb、Si、Sb、Sn、Zn、In的混合氧化物；
-Si、Zr的氮化物；
-Si、Zr的混合氮化物，
而第二或更多的高折射率层可以独立地包括以下中的至少一者
-任选地掺杂有Al、B、F、In、Si、Sb、Sn的Zr、Nb、Sn、Ti、Bi、Ga、Gd、Hf、Mg、W、Y的氧化物；
-Ti、Zr、Nb、Si、Sb、Sn、Zn、In、B的混合氧化物；
-Si、Zr的氮化物；
-Si、Zr的混合氮化物。
因此，用于第二或更多的高折射率层的高折射率材料的其他示例可以包括任选地掺杂的氧化钛、氧化铋、氧化镓、氧化钆、氧化铪、氧化镁、氧化钨、氧化钇、或这些的混合物、锆和硼的混合氧化物、锌和铝的混合氧化物。如果第一高折射率层不是氧化钛，则氧化钛可用于第二或更多的高折射率层。从这样的角度来看，当第一涂层中存在多于一个高折射率层时，因此不推荐氧化钛作为第一高折射率层的高折射率材料，因为它在回火时会经历结晶度改变。
提供最大偏振光反射的优选高折射率材料按递减的优选次序包括混合钛锆氧化物、混合硅锆氮化物、混合钛硅氧化物、铝掺杂氮化硅和混合锌锡氧化物。
在选择厚度范围时，选择高折射率材料，因为它们在热回火时不会经历重大的结晶度改变。从这样的角度来看，因此不推荐用于所有高折射率层的氧化钛，因为它在热回火时经历重大的结晶度改变。
在一些实施例中，当第一涂层中存在多于一个高折射率层时，也就是说，当第一涂层中存在多于一个“高/低”序列时，高折射率层可以各自独立地包括以下中的至少一者
-Zr、Nb、Sn的氧化物；
-Ti、Zr、Nb、Si、Sb、Sn、Zn、In的混合氧化物；
-Si、Zr的氮化物；
-Si、Zr的混合氮化物。
在一些情况下，用于至少一种高折射率层材料的优选材料是混合钛锆氧化物，其中Ti/Zr比率为55/45wt％至75/25wt％、优选地比率为65/35wt％，而至少一种其他高折射率层材料可以是混合钛硅氧化物，其中Ti/Si比率为85/15wt％至95/5wt％、优选地比率为92/8wt％。在所要求的厚度范围内并结合所选择的低折射率层，它们共同可以实现具有最佳p偏振光反射(使得其可以≥8％、替代性地≥9％)连同总反射率的最佳抑制(剩余≤21％)的第一涂层，该第一涂层可以经受住热处理。
在其他情况下，用于所有高折射率层材料的优选材料是混合钛锆氧化物，其中Ti/Zr比率为55/45wt％至75/25wt％、优选地比率为65/35wt％。在所要求的厚度范围内并结合所选择的低折射率层，这可以促成具有最佳p偏振光反射(使得其可以≥9％、替代性地≥10％)连同总反射率的最佳抑制(剩余≤21％)的第一涂层，该第一涂层可以经受住热处理。
用于所有低折射率层的优选材料是任选地掺杂有铝的氧化硅、或硅和铝的混合氧化物。
在所有实施例中，不同层的厚度可以在所提供的极限内独立变化，以微调本发明所提供的技术效果。
在本发明的范围内，第二涂层包括n个基于IR反射功能层的层和n+1个介电层，位于两个介电层之间的每个基于IR反射功能层的层可以任选地设置在内玻璃片材的第一表面(S3)或外玻璃片材的第二表面(S2)中的至少一者上。
该第二涂层与上述所有先前实施例兼容。这样的第二涂层不损害第一涂层的功能，也就是说，第一涂层仍然提供对在HUD系统中的窗玻璃上反射明显且清晰的图像显示有用的p偏振光反射。
在一些情况下，当内片材或外片材中的至少一者是厚度为0.5mm至1mm的超薄透明玻璃片材时，第二涂层的存在进一步允许减小总日光透射。
在本发明的范围内，术语“下方”、“底下”、“下面”指示在从基板开始的层序列内的一个层相对于下一层的相对位置。在本发明的范围内，术语“上方”、“上部”、“顶部”、“上”指示在从基板开始的层序列内的一个层相对于下一层的相对位置。
在本发明的范围内，任选的第二涂层内各层的相对位置不一定暗示直接接触。即，可以在第一层与第二层之间提供某个中间层。在一些情况下，层实际上可以由几个多个单独的层(或子层)构成。
在一些情况下，相对位置可能暗指直接接触，并且将被指定。
在大多数情况下，任选的第二涂层不包含与玻璃表面接触的含氮化物层。
IR反射功能层可以由银、金、钯、铂或其合金制成。功能层可以具有2nm至22nm、替代性地5nm至20nm、替代性地8nm至18nm的厚度。功能层的厚度范围将影响第二涂层的电导率、发射率、反阳光功能和透光率。
介电层典型地可以包括Zn、Sn、Ti、Zr、In、Al、Bi、Ta、Mg、Nb、Y、Ga、Sb、Mg、Si及其混合物的氧化物、氮化物、氮氧化物或碳氧化物。这些材料任选地可以被掺杂，其中掺杂剂的示例包括铝、锆或其混合物。掺杂剂或掺杂剂混合物可以以高达15wt％的量存在。介电材料的典型示例包括但不限于硅基氧化物、硅基氮化物、氧化锌、氧化锡、混合锌锡氧化物、氮化硅、氮氧化硅、氧化钛、氧化铝、氧化锆、氧化铌、氮化铝、氧化铋、混合硅锆氮化物及其至少两者的混合物(比如，钛锆氧化物)。
涂层可以包括在至少一个功能层底下的种子层，和/或涂层可以包括在至少一个功能层上的阻挡层。给定的功能层可以具备种子层或者阻挡层、或两者。第一功能层可以具备种子层和阻挡层中的任一者或两者，并且第二功能层可以具备种子层和阻挡层中的任一者或两者、以及更多的层。这些结构不是相互排斥的。种子层和/或阻挡层可以具有0.1nm至35nm、替代性地0.5nm至25nm、替代性地0.5nm至15nm、替代性地0.5nm至10nm的厚度。
涂层还可以包括薄的牺牲材料层，该牺牲材料层具有<15nm、替代性地为<9nm的厚度，其设置在至少一个功能层上方并与其接触，并且可以选自包括以下各者的组：钛、锌、镍、铝、铬及其混合物。
涂层可以任选地包括作为最后的层的面涂层或顶层，其旨在保护在它下方的堆叠免受损坏。这种面涂层包括Ti、Zr、Si、Al或其混合物的氧化物；Si、Al或其混合物的氮化物；碳基层(比如，石墨或类金刚石碳)。
任选的第二涂层的示例包括那些包括以下各者的涂层：
*红外(IR)反射层，其接触第一层和第二层并夹在它们之间，所述第二层包括NiCrOx；并且
*其中包括NiCrOx的至少所述第二层是有氧化等级的，使得所述第二层的靠近所述红外(IR)反射层的第一部分比所述第二层的离所述红外(IR)反射层更远的第二部分更少氧化。
任选的第二涂层的示例还包括那些包括以下各者的涂层：介电层；包括氧化锌的第一层，其位于介电层之上；包括银的红外(IR)反射层，其位于包括氧化锌的第一层之上并接触其；包括NiCr氧化物的层，其位于IR反射层之上并接触其；包括氧化锌的第二层，其位于包括NiCr氧化物的层之上并接触其；以及另一个介电层，其位于包括氧化锌的第二层之上；
或者那些包括以下各者的涂层：第一介电层；包括银的第一红外(IR)反射层，其位于至少第一介电层之上；包括氧化锌的第一层，其位于至少第一IR反射层和第一介电层之上；包括银的第二IR反射层，其位于包括氧化锌的第一层之上并接触其；包括NiCr氧化物的层，其位于第二IR反射层之上并接触其；包括氧化锌的第二层，其位于包括NiCr氧化物的层之上并接触其；以及另一个介电层，其位于至少第二层之上；包括氧化锌。
任选的第二涂层的进一步合适的示例包括遮阳涂层，该遮阳涂层包括：
·基础介电层，其至少包括基础介电下层和基础介电上层，该基础介电上层具有与基础介电下层的组成不同的组成，该基础介电上层包括氧化锌或者Zn和至少一种附加材料X的混合氧化物中的任一者，其中在基础介电上层中的比率X/Zn按重量计在0.02与0.5之间，并且其中X是选自包括以下各者的组的材料中的一者或多者：Sn、Al、Ga、In、Zr、Sb、Bi、Mg、Nb、Ta和Ti，
·第一红外反射层，比如银、金、铂或其混合物，
·第一阻挡层，
·中央介电层，其至少包括中央介电下层和中央介电上层，该中央介电上层具有与中央介电下层的组成不同的组成，该中央介电下层与第一阻挡层和中央介电上层直接接触；中央介电上层包括氧化锌或者Zn和至少一种附加材料Y的混合氧化物中的任一者，其中在基础介电上层中的比率Y/Zn按重量计在0.02与0.5之间，并且其中Y是选自包括以下各者的组的材料中的一者或多者：Sn、Al、Ga、In、Zr、Sb、Bi、Mg、Nb、Ta和Ti，
·第二红外反射层，比如银、金、铂或其混合物，
·第二阻挡层，
·顶部介电层。
合适的任选的第二涂层的更进一步示例包括遮阳涂层，该遮阳涂层包括：
·基础介电层，其至少包括基础介电下层和基础介电上层，该基础介电上层具有与基础介电下层的组成不同的组成，该基础介电上层包括氧化锌或者Zn和至少一种附加材料X的混合氧化物中的任一者，其中在基础介电上层中的比率X/Zn按重量计在0.02与0.5之间，并且其中X是选自包括以下各者的组的材料中的一者或多者：Sn、Al、Ga、In、Zr、Sb、Bi、Mg、Nb、Ta和Ti，
·第一红外反射层，比如银、金、铂或其混合物，
·第一阻挡层，
·第二介电层，其至少包括第二介电下层和第二介电上层，该第二介电上层具有与第二介电下层的组成不同的组成，该第二介电下层与第一阻挡层和第二介电上层直接接触；第二介电上层包括氧化锌或者Zn和至少一种附加材料Y的混合氧化物中的任一者，其中在第二介电上层中的比率Y/Zn按重量计在0.02与0.5之间，并且其中Y是选自包括以下各者的组的材料中的一者或多者：Sn、Al、Ga、In、Zr、Sb、Bi、Mg、Nb、Ta和Ti，
·第二红外反射层，比如银、金、铂或其混合物，
·第二阻挡层，
·第三介电层，其至少包括第三介电下层和第三介电上层，该第三介电上层具有与第三介电下层的组成不同的组成，该第三介电下层与第二阻挡层和第三介电上层直接接触；第三介电上层包括氧化锌或者Zn和至少一种附加材料Y的混合氧化物中的任一者，其中在第三介电上层中的比率Y/Zn按重量计在0.02与0.5之间，并且其中Y是选自包括以下各者的组的材料中的一者或多者：Sn、Al、Ga、In、Zr、Sb、Bi、Mg、Nb、Ta和Ti，
·第三红外反射层，比如银、金、铂或其混合物，
·第三阻挡层，
·顶部介电层。
在此类堆叠中，基础介电上层可以与第一红外反射层直接接触。中央介电上层可以与第二红外反射层直接接触。基础介电层和中央、第一和第二介电层两者的上层可以独立地具有在约3nm至20nm范围内的几何厚度。附加材料X和Y中的一者或两者可以是Sn和/或Al。在形成基础介电上层和/或形成中央介电上层的混合氧化物中Zn的比例可以使得比率X/Zn和/或比率Y/Zn按重量计在约0.03与0.3之间。第一和/或第二和/或第三阻挡层可以是包括Ti和/或包括Ti氧化物的层，并且它们可以各自独立地具有0.5nm至7nm的几何厚度。基础介电上层和/或中央和/或第二和/或第三介电上层可以独立地具有如下的几何厚度：<20nm、替代性地<15nm、替代性地<13nm、替代性地<11nm且>3nm、替代性地>5nm、替代性地>10nm。红外反射层可以各自具有2nm至22nm、替代性地5nm至20nm、替代性地8nm至18nm的厚度。顶部介电层可以包括至少一个层，该至少一个层包括Zn和至少一种附加材料W的混合氧化物，其中在该层中的比率W/Zn按重量计在0.02与2.0之间，并且其中W是选自包括以下各者的组的材料中的一者或多者：Sn、Al、Ga、In、Zr、Sb、Bi、Mg、Nb、Ta和Ti。
下表中提供了这种遮阳涂层的具体示例，其中ZnSnOx是包含通过在氧气存在的情况下反应性地溅射靶材来沉积的Zn和Sn的混合氧化物，该靶材是Zn和Sn的合金或混合物。替代性地，可以通过特别是在氩气或富含氩的含氧气氛中溅射靶材来形成混合氧化物层，该靶材是氧化锌和附加材料的氧化物的混合物。
通过在纯氩或富含氩的含氧气氛中溅射Ti靶材来沉积Ti屏障，以沉积未完全氧化的屏障。基础、中央和顶部ZnSnOx介电层中的每一者中的氧化状态不一定需要相同。类似地，每个Ti屏障中的氧化状态不需要相同。每个上覆屏障在溅射沉积其上覆ZnSnOx氧化物层期间保护其下层的银层免受氧化。虽然这些阻挡层的进一步氧化可能在沉积其上覆的氧化物层期间发生，但这些屏障的一部分可以保持为金属形式或未完全氧化的氧化物形式从而为随后热处理窗玻璃面板以及在此期间提供屏障。
表1
适合本发明的最佳的遮阳涂层可以包括以下顺序层：
·基础介电层，其包括基础介电下层和基础介电上层，该基础介电上层具有与基础介电下层的组成不同的组成，
·基础介电下层包括Zn和Sn的混合氧化物，该混合氧化物的比率Sn/Zn的范围为按重量计0.5至2，
·基础介电上层包括Zn和Sn的混合氧化物，该混合氧化物的比率Sn/Zn的范围为按重量计0.02至0.5，
·包括金属银的第一红外反射层，
·第一阻挡层，
·中央介电层，其包括中央介电下层和中央介电上层，该中央介电上层具有与中央介电下层的组成不同的组成，该中央介电下层与第一阻挡层直接接触并且包括Zn和Sn的混合氧化物，该混合氧化物的比率Sn/Zn的范围为0.5至2，
·中央介电上层包括Zn和Sn的混合氧化物，该混合氧化物的比率Sn/Zn的范围为按重量计0.02至0.5，
·包括金属银的第二红外反射层，
·第二阻挡层，
·顶部介电层。
适合本发明的这种最佳的遮阳涂层可以包括以下顺序层和几何厚度：
·基础介电层，其包括基础介电下层和基础介电上层，该基础介电上层具有与基础介电下层的组成不同的组成，
·基础介电下层包括Zn和Sn的混合氧化物，该混合氧化物的比率Sn/Zn的范围为按重量计0.5至2，该基础介电下层具有15nm至25nm的几何厚度，
·基础介电上层包括Zn和Sn的混合氧化物，该混合氧化物的比率Sn/Zn的范围为按重量计0.02至0.5，该基础介电上层具有5nm至15nm的几何厚度，
·包括金属银的第一红外反射层，其具有8nm至16nm的几何厚度，
·第一阻挡层，其具有3nm至8nm的几何厚度，
·中央介电层，其包括中央介电下层和中央介电上层，该中央介电上层具有与中央介电下层的组成不同的组成，该中央介电下层与第一阻挡层直接接触并且包括Zn和Sn的混合氧化物，该混合氧化物的比率Sn/Zn的范围为0.5至2，该中央介电层具有58nm至74nm的几何厚度，
·中央介电上层包括Zn和Sn的混合氧化物，该混合氧化物的比率Sn/Zn的范围为按重量计0.02至0.5，该中央介电上层具有5nm至15nm的几何厚度，
·包括金属银的第二红外反射层，其具有8nm至16nm的几何厚度，
·第二阻挡层，其具有3nm至8nm的几何厚度，
·顶部介电层，其具有14nm至22nm的几何厚度，
·任选的面涂层，其具有2nm至8nm的几何厚度。
根据本发明的进一步最佳的遮阳涂层可以包括以下顺序层：
·基础介电层，其包括基础介电下层和基础介电上层，该基础介电上层具有与基础介电下层的组成不同的组成，
·基础介电下层包括Zn和Sn的混合氧化物，该混合氧化物的比率Sn/Zn的范围为按重量计0.5至2，
·基础介电上层包括Zn和Sn的混合氧化物，该混合氧化物的比率Sn/Zn的范围为按重量计0.02至0.5，
·包括金属银的第一红外反射层，
·第一阻挡层，
·第二介电层，其包括第二介电下层和第二介电上层，该第二介电上层具有与第二介电下层的组成不同的组成，该第二介电下层与第一阻挡层直接接触并且包括Zn和Sn的混合氧化物，该混合氧化物的比率Sn/Zn的范围为0.5至2，
·第二介电上层包括Zn和Sn的混合氧化物，该混合氧化物的比率Sn/Zn的范围为按重量计0.02至0.5，
·包括金属银的第二红外反射层，
·第二阻挡层，
·第三介电层，其包括第三介电下层和第三介电上层，该第三介电上层具有与第三介电下层的组成不同的组成，该第三介电下层与第二阻挡层直接接触并且包括Zn和Sn的混合氧化物，该混合氧化物的比率Sn/Zn的范围为0.5至2，
·第三介电上层包括Zn和Sn的混合氧化物，该混合氧化物的比率Sn/Zn的范围为按重量计0.02至0.5，
·包括金属银的第三红外反射层，
·第三阻挡层，
·顶部介电层。
适合本发明的这种进一步最佳的遮阳涂层可以包括以下顺序层和几何厚度：
·基础介电层，其包括基础介电下层和基础介电上层，该基础介电上层具有与基础介电下层的组成不同的组成，
·基础介电下层包括Zn和Sn的混合氧化物，该混合氧化物的比率Sn/Zn的范围为按重量计0.5至2，该基础介电下层具有25nm至35nm的几何厚度，
·基础介电上层包括Zn和Sn的混合氧化物，该混合氧化物的比率Sn/Zn的范围为按重量计0.02至0.5，该基础介电上层具有5nm至15nm的几何厚度，
·包括金属银的第一红外反射层，其具有10nm至16nm的几何厚度，
·第一阻挡层，其具有3nm至8nm的几何厚度，
·第二介电层，其包括第二介电下层和第二介电上层，该第二介电上层具有与第二介电下层的组成不同的组成，该第二介电下层与第一阻挡层直接接触并且包括Zn和Sn的混合氧化物，该混合氧化物的比率Sn/Zn的范围为0.5至2，该第二介电层具有58nm至74nm的几何厚度，
·第二介电上层包括Zn和Sn的混合氧化物，该混合氧化物的比率Sn/Zn的范围为按重量计0.02至0.5，该第二介电上层具有5nm至15nm的几何厚度，
·包括金属银的第二红外反射层，其具有10nm至17nm的几何厚度，
·第二阻挡层，其具有3nm至8nm的几何厚度，
·第三介电层，其包括第三介电下层和第三介电上层，该第三介电上层具有与第三介电下层的组成不同的组成，该第三介电下层与第二阻挡层直接接触并且包括Zn和Sn的混合氧化物，该混合氧化物的比率Sn/Zn的范围为0.5至2，该第三介电层具有50nm至75nm的几何厚度，
·第三介电上层包括Zn和Sn的混合氧化物，该混合氧化物的比率Sn/Zn的范围为按重量计0.02至0.5，该第三介电上层具有5nm至15nm的几何厚度，
·包括金属银的第三红外反射层，其具有10nm至16nm的几何厚度，
·第三阻挡层，其具有3nm至8nm的几何厚度，
·顶部介电层，其具有20nm至40nm的几何厚度，
·任选的面涂层，其具有2nm至8nm的几何厚度。
在一些实施例中，HUD系统包括
a.光源，其朝向窗玻璃投射p偏振光，
b.所述窗玻璃包括具有第一表面和第二表面的外玻璃片材和具有第一表面和第二表面的内玻璃片材，
其中内玻璃片材的第二表面包括第一涂层，两个片材通过至少一个夹层材料片材结合，该至少一个夹层材料片材提供内玻璃片材的第一表面(S3)与外玻璃片材的第二表面(S2)之间的接触，其特征在于，所述第一涂层包括
-至少一个高折射率层，其具有50nm至100nm的厚度
以及
-至少一个低折射率层，其具有70nm至160nm的厚度，
其中该至少一个高折射率层包括以下中的至少一者
-Zr、Nb、Sn的氧化物；
-Ti、Zr、Nb、Si、Sb、Sn、Zn、In的混合氧化物；
-Si、Zr的氮化物；
-Si、Zr的混合氮化物，
以及
c.内玻璃片材的第一表面或外玻璃片材的第二表面中的至少一者包括第二涂层，该第二涂层包括以下顺序层：
·基础介电层，其至少包括基础介电下层和基础介电上层，该基础介电上层具有与基础介电下层的组成不同的组成，该基础介电上层包括氧化锌或者Zn和至少一种附加材料X的混合氧化物中的任一者，其中在基础介电上层中的比率X/Zn按重量计在0.02与0.5之间，并且其中X是选自包括以下各者的组的材料中的一者或多者：Sn、Al、Ga、In、Zr、Sb、Bi、Mg、Nb、Ta和Ti，
·第一红外反射层，比如银、金、铂或其混合物，
·第一阻挡层，
·中央介电层，其至少包括中央介电下层和中央介电上层，该中央介电上层具有与中央介电下层的组成不同的组成，该中央介电下层与第一阻挡层和中央介电上层直接接触；中央介电上层包括氧化锌或者Zn和至少一种附加材料Y的混合氧化物中的任一者，其中在基础介电上层中的比率Y/Zn按重量计在0.02与0.5之间，并且其中Y是选自包括以下各者的组的材料中的一者或多者：Sn、Al、Ga、In、Zr、Sb、Bi、Mg、Nb、Ta和Ti，
·第二红外反射层，比如银、金、铂或其混合物，
·第二阻挡层，
·顶部介电层。
在其他实施例中，HUD系统包括
a.光源，其朝向窗玻璃投射p偏振光，
b.所述窗玻璃包括具有第一表面和第二表面的外玻璃片材和具有第一表面和第二表面的内玻璃片材，
其中内玻璃片材的第二表面包括第一涂层，两个片材通过至少一个夹层材料片材结合，该至少一个夹层材料片材提供内玻璃片材的第一表面(S3)与外玻璃片材的第二表面(S2)之间的接触，其特征在于，所述第一涂层包括
-至少一个高折射率层，其具有50nm至100nm的厚度
以及
-至少一个低折射率层，其具有70nm至160nm的厚度，
其中该至少一个高折射率层包括以下中的至少一者
-Zr、Nb、Sn的氧化物；
-Ti、Zr、Nb、Si、Sb、Sn、Zn、In的混合氧化物；
-Si、Zr的氮化物；
-Si、Zr的混合氮化物，
以及
c.内玻璃片材的第一表面或外玻璃片材的第二表面中的至少一者包括第二涂层，该第二涂层包括以下顺序层：
·基础介电层，其至少包括基础介电下层和基础介电上层，该基础介电上层具有与基础介电下层的组成不同的组成，该基础介电上层包括氧化锌或者Zn和至少一种附加材料X的混合氧化物中的任一者，其中在基础介电上层中的比率X/Zn按重量计在0.02与0.5之间，并且其中X是选自包括以下各者的组的材料中的一者或多者：Sn、Al、Ga、In、Zr、Sb、Bi、Mg、Nb、Ta和Ti，
·第一红外反射层，比如银、金、铂或其混合物，
·第一阻挡层，
·第二介电层，其至少包括第二介电下层和第二介电上层，该第二介电上层具有与第二介电下层的组成不同的组成，该第二介电下层与第一阻挡层和第二介电上层直接接触；第二介电上层包括氧化锌或者Zn和至少一种附加材料Y的混合氧化物中的任一者，其中在第二介电上层中的比率Y/Zn按重量计在0.02与0.5之间，并且其中Y是选自包括以下各者的组的材料中的一者或多者：Sn、Al、Ga、In、Zr、Sb、Bi、Mg、Nb、Ta和Ti，
·第二红外反射层，比如银、金、铂或其混合物，
·第二阻挡层，
·第三介电层，其至少包括第三介电下层和第三介电上层，该第三介电上层具有与第三介电下层的组成不同的组成，该第三介电下层与第二阻挡层和第三介电上层直接接触；第三介电上层包括氧化锌或者Zn和至少一种附加材料Y的混合氧化物中的任一者，其中在第三介电上层中的比率Y/Zn按重量计在0.02与0.5之间，并且其中Y是选自包括以下各者的组的材料中的一者或多者：Sn、Al、Ga、In、Zr、Sb、Bi、Mg、Nb、Ta和Ti，
·第三红外反射层，比如银、金、铂或其混合物，
·第三阻挡层，
·顶部介电层。
在又其他实施例中，HUD系统包括
a.光源，其朝向窗玻璃投射p偏振光，
b.所述窗玻璃包括具有第一表面和第二表面的外玻璃片材和具有第一表面和第二表面的内玻璃片材，
其中内玻璃片材的第二表面包括第一涂层，两个片材通过至少一个夹层材料片材结合，该至少一个夹层材料片材提供内玻璃片材的第一表面(S3)与外玻璃片材的第二表面(S2)之间的接触，其特征在于，所述第一涂层包括
-至少一个高折射率层，其具有50nm至100nm的厚度
以及
-至少一个低折射率层，其具有70nm至160nm的厚度，
其中该至少一个高折射率层包括以下中的至少一者
-Zr、Nb、Sn的氧化物；
-Ti、Zr、Nb、Si、Sb、Sn、Zn、In的混合氧化物；
-Si、Zr的氮化物；
-Si、Zr的混合氮化物，
以及
c.内玻璃片材的第一表面或外玻璃片材的第二表面中的至少一者包括第二涂层，该第二涂层包括以下顺序层：
·基础介电层，其包括基础介电下层和基础介电上层，该基础介电上层具有与基础介电下层的组成不同的组成，
·基础介电下层包括Zn和Sn的混合氧化物，该混合氧化物的比率Sn/Zn的范围为按重量计0.5至2，
·基础介电上层包括Zn和Sn的混合氧化物，该混合氧化物的比率Sn/Zn的范围为按重量计0.02至0.5，
·包括金属银的第一红外反射层，
·第一阻挡层，
·中央介电层，其包括中央介电下层和中央介电上层，该中央介电上层具有与中央介电下层的组成不同的组成，该中央介电下层与第一阻挡层直接接触并且包括Zn和Sn的混合氧化物，该混合氧化物的比率Sn/Zn的范围为0.5至2，
·中央介电上层包括Zn和Sn的混合氧化物，该混合氧化物的比率Sn/Zn的范围为按重量计0.02至0.5，
·包括金属银的第二红外反射层，
·第二阻挡层，
·顶部介电层。
在更进一步的实施例中，HUD系统包括
a.光源，其朝向窗玻璃投射p偏振光，
b.所述窗玻璃包括具有第一表面和第二表面的外玻璃片材和具有第一表面和第二表面的内玻璃片材，
其中内玻璃片材的第二表面包括第一涂层，两个片材通过至少一个夹层材料片材结合，该至少一个夹层材料片材提供内玻璃片材的第一表面(S3)与外玻璃片材的第二表面(S2)之间的接触，其特征在于，所述第一涂层包括
-至少一个高折射率层，其具有50nm至100nm的厚度
以及
-至少一个低折射率层，其具有70nm至160nm的厚度，
其中该至少一个高折射率层包括以下中的至少一者
-Zr、Nb、Sn的氧化物；
-Ti、Zr、Nb、Si、Sb、Sn、Zn、In的混合氧化物；
-Si、Zr的氮化物；
-Si、Zr的混合氮化物，
以及
c.内玻璃片材的第一表面或外玻璃片材的第二表面中的至少一者包括第二涂层，该第二涂层包括以下顺序层：
·基础介电层，其包括基础介电下层和基础介电上层，该基础介电上层具有与基础介电下层的组成不同的组成，
·基础介电下层包括Zn和Sn的混合氧化物，该混合氧化物的比率Sn/Zn的范围为按重量计0.5至2，
·基础介电上层包括Zn和Sn的混合氧化物，该混合氧化物的比率Sn/Zn的范围为按重量计0.02至0.5，
·包括金属银的第一红外反射层，
·第一阻挡层，
·第二介电层，其包括第二介电下层和第二介电上层，该第二介电上层具有与第二介电下层的组成不同的组成，该第二介电下层与第一阻挡层直接接触并且包括Zn和Sn的混合氧化物，该混合氧化物的比率Sn/Zn的范围为0.5至2，
·第二介电上层包括Zn和Sn的混合氧化物，该混合氧化物的比率Sn/Zn的范围为按重量计0.02至0.5，
·包括金属银的第二红外反射层，
·第二阻挡层，
·第三介电层，其包括第三介电下层和第三介电上层，该第三介电上层具有与第三介电下层的组成不同的组成，该第三介电下层与第二阻挡层直接接触并且包括Zn和Sn的混合氧化物，该混合氧化物的比率Sn/Zn的范围为0.5至2，
·第三介电上层包括Zn和Sn的混合氧化物，该混合氧化物的比率Sn/Zn的范围为按重量计0.02至0.5，
·包括金属银的第三红外反射层，
·第三阻挡层，
·顶部介电层。
在更进一步的实施例中，HUD系统包括
a.光源，其朝向窗玻璃投射p偏振光，
b.所述窗玻璃包括具有第一表面和第二表面的外玻璃片材和具有第一表面和第二表面的内玻璃片材，
其中内玻璃片材的第二表面包括第一涂层，两个片材通过至少一个夹层材料片材结合，该至少一个夹层材料片材提供内玻璃片材的第一表面(S3)与外玻璃片材的第二表面(S2)之间的接触，其特征在于，所述第一涂层包括
-至少一个高折射率层，其具有50nm至100nm的厚度
以及
-至少一个低折射率层，其具有70nm至160nm的厚度，
其中该至少一个高折射率层包括以下中的至少一者
-Zr、Nb、Sn的氧化物；
-Ti、Zr、Nb、Si、Sb、Sn、Zn、In的混合氧化物；
-Si、Zr的氮化物；
-Si、Zr的混合氮化物，
以及
c.内玻璃片材的第一表面或外玻璃片材的第二表面中的至少一者包括第二涂层，该第二涂层包括以下顺序层：
·基础介电层，其包括基础介电下层和基础介电上层，该基础介电上层具有与基础介电下层的组成不同的组成，
·基础介电下层包括Zn和Sn的混合氧化物，该混合氧化物的比率Sn/Zn的范围为按重量计0.5至2，该基础介电下层具有15nm至25nm的几何厚度，
·基础介电上层包括Zn和Sn的混合氧化物，该混合氧化物的比率Sn/Zn的范围为按重量计0.02至0.5，该基础介电上层具有5nm至15nm的几何厚度，
·包括金属银的第一红外反射层，其具有8nm至16nm的几何厚度，
·第一阻挡层，其具有3nm至8nm的几何厚度，
·中央介电层，其包括中央介电下层和中央介电上层，该中央介电上层具有与中央介电下层的组成不同的组成，该中央介电下层与第一阻挡层直接接触并且包括Zn和Sn的混合氧化物，该混合氧化物的比率Sn/Zn的范围为0.5至2，该中央介电层具有58nm至74nm的几何厚度，
·中央介电上层包括Zn和Sn的混合氧化物，该混合氧化物的比率Sn/Zn的范围为按重量计0.02至0.5，该中央介电上层具有5nm至15nm的几何厚度，
·包括金属银的第二红外反射层，其具有8nm至16nm的几何厚度，
·第二阻挡层，其具有3nm至8nm的几何厚度，
·顶部介电层，其具有14nm至22nm的几何厚度，
任选的面涂层，其具有2nm至8nm的几何厚度。
在更进一步的实施例中，HUD系统包括
a.光源，其朝向窗玻璃投射p偏振光，
b.所述窗玻璃包括具有第一表面和第二表面的外玻璃片材和具有第一表面和第二表面的内玻璃片材，
其中内玻璃片材的第二表面包括第一涂层，两个片材通过至少一个夹层材料片材结合，该至少一个夹层材料片材提供内玻璃片材的第一表面(S3)与外玻璃片材的第二表面(S2)之间的接触，其特征在于，所述第一涂层包括
-至少一个高折射率层，其具有50nm至100nm的厚度
以及
-至少一个低折射率层，其具有70nm至160nm的厚度，
其中该至少一个高折射率层包括以下中的至少一者
-Zr、Nb、Sn的氧化物；
-Ti、Zr、Nb、Si、Sb、Sn、Zn、In的混合氧化物；
-Si、Zr的氮化物；
-Si、Zr的混合氮化物，
以及
c.内玻璃片材的第一表面或外玻璃片材的第二表面中的至少一者包括第二涂层，该第二涂层包括以下顺序层：
·基础介电层，其包括基础介电下层和基础介电上层，该基础介电上层具有与基础介电下层的组成不同的组成，
·基础介电下层包括Zn和Sn的混合氧化物，该混合氧化物的比率Sn/Zn的范围为按重量计0.5至2，该基础介电下层具有25nm至35nm的几何厚度，
·基础介电上层包括Zn和Sn的混合氧化物，该混合氧化物的比率Sn/Zn的范围为按重量计0.02至0.5，该基础介电上层具有5nm至15nm的几何厚度，
·包括金属银的第一红外反射层，其具有10nm至16nm的几何厚度，
·第一阻挡层，其具有3nm至8nm的几何厚度，
·第二介电层，其包括第二介电下层和第二介电上层，该第二介电上层具有与第二介电下层的组成不同的组成，该第二介电下层与第一阻挡层直接接触并且包括Zn和Sn的混合氧化物，该混合氧化物的比率Sn/Zn的范围为0.5至2，该第二介电层具有58nm至74nm的几何厚度，
·第二介电上层包括Zn和Sn的混合氧化物，该混合氧化物的比率Sn/Zn的范围为按重量计0.02至0.5，该第二介电上层具有5nm至15nm的几何厚度，
·包括金属银的第二红外反射层，其具有10nm至17nm的几何厚度，
·第二阻挡层，其具有3nm至8nm的几何厚度，
·第三介电层，其包括第三介电下层和第三介电上层，该第三介电上层具有与第三介电下层的组成不同的组成，该第三介电下层与第二阻挡层直接接触并且包括Zn和Sn的混合氧化物，该混合氧化物的比率Sn/Zn的范围为0.5至2，该第三介电层具有50nm至75nm的几何厚度，
·第三介电上层包括Zn和Sn的混合氧化物，该混合氧化物的比率Sn/Zn的范围为按重量计0.02至0.5，该第三介电上层具有5nm至15nm的几何厚度，
·包括金属银的第三红外反射层，其具有10nm至16nm的几何厚度，
·第三阻挡层，其具有3nm至8nm的几何厚度，
·顶部介电层，其具有20nm至40nm的几何厚度，
·任选的面涂层，其具有2nm至8nm的几何厚度。
可以对根据本发明的第一涂层进行变化，该第一涂层可以包括与玻璃接触的第一高折射率材料层、以及在第一高折射率材料层上方的第一低折射率材料层、以及在第一低折射率材料层上方的第二高折射率材料层、以及在第二高折射率材料层上方的第二低折射率材料层。
在所有以上实施例中，第二涂层可以位于内玻璃片材的第一表面(S3)上或外玻璃片材的第二表面(S2)上。
还披露了一种提供本HUD系统的方法，该方法包括以下步骤：
a.通过组装第一或外玻璃片材、至少一个夹层材料片材
和第二或内玻璃片材来提供窗玻璃，该第二或内玻璃片材在其第二表面上包括第一涂层，该第一涂层包括
-至少一个高折射率层，其具有50nm至100nm的厚度
以及
-至少一个低折射率层，其具有70nm至160nm的厚度，
其中该至少一个高折射率层包括以下中的至少一者
-Zr、Nb、Sn的氧化物；
-Ti、Zr、Nb、Si、Sb、Sn、Zn、In的混合氧化物；
-Si、Zr的氮化物；
-Si、Zr的混合氮化物，
其中夹层提供内玻璃片材的第一表面(S3)与外玻璃片材的第二表面(S2)之间的接触，
b.提供能够投射p偏振光的光源
c.布置所述光源以将所述p偏振光以42°至72°的入射角朝向所述窗玻璃投射。
典型地通过首先将第一涂层和第二涂层沉积到玻璃的相应表面来提供窗玻璃。
第一涂层和第二涂层在玻璃的相应表面上的沉积方法包括CVD、PECVD、PVD、磁控溅射、湿涂等。相应涂层的不同层可以使用不同的技术来沉积。
在一些实施例中，第一涂层的至少一个低折射率层可以通过PECVD法(比如空心阴极法)来沉积在第二玻璃片材上。这种方法提供了降低的成本和高沉积速率的额外益处。
在本发明的范围内，设置有第一涂层的内玻璃片材可以进行热处理，前提是所述第一涂层能够经受住这种热处理。在一些情况下，设置有第一涂层的内玻璃片材进行热处理。
将2个玻璃片材与至少一个夹层组装的步骤可以是平板玻璃的层压步骤，或者可以是弯曲层压玻璃的弯折步骤，该弯折步骤包括首先使玻璃片材弯折并且其次层压所述弯折玻璃片材的步骤。
在一些情况下，可能有用的是通过热处理对外玻璃片材进行机械加固以提高其对机械约束的抵抗力。对于具体应用，可能还需要在高温下弯折车辆窗玻璃。
热处理包括：根据热处理类型和窗玻璃的厚度，在大约3、4、6、8、10、12甚至15分钟期间，将窗玻璃在空气中加热到至少560℃的温度，例如在560℃与700℃之间、特别是大约640℃至670℃。该处理可以包括在加热步骤之后的快速冷却步骤，以在玻璃的表面与芯之间引入应力差，使得在冲击的情况下，所谓的经回火的玻璃片材将安全地破碎成小块。如果冷却步骤不太强劲，则玻璃然后将简单地进行热强化并在任何情况下均提供更好的机械阻力。
本窗玻璃可以用于运输应用或建筑应用，其中可使用来自p偏振光源的图像或光的投射。建筑应用包括显示器、窗户、门、隔板、淋浴面板等。在此类建筑应用中，清晰图像的投射对于显示房间或建筑物信息等可以是有用的。
运输应用包括用于公路、空中、水中和水上运输的那些车辆，特别是汽车、公共汽车、火车、轮船、飞机、航天器、空间站和其他机动车辆。
本窗玻璃因此可以是挡风玻璃、后窗、侧窗、天窗、全景天窗或对汽车有用的任何其他窗户，或用于任何其他运输装置的任何窗玻璃，其中清晰图像的投射可以是有用的。投射和反射的信息可以包括任何交通信息，比如方向或交通密度；或任何车辆状态信息，比如速度、温度等。两者都能够经受住热处理的第一涂层和任选的第二涂层的宽视场和对表面的均匀覆盖允许不同的视角，并且因此适用于更高和更小的观察者/驾驶员。
在一些情况下，车辆窗玻璃可以用作可加热车辆窗玻璃。这种可加热车辆窗玻璃包括可加热挡风玻璃。
在一些实施例中，第二光源可以存在于HUD系统中并且提供辅助图像或信息。第二光源可以不是偏振的或者可以是p偏振的或s偏振的，但是将提供与第一光源相同或不同的图像。在一些情况下，图像或信息在第一光源与第二光源之间是不同的。在一些情况下，由于宽视场和/或投射场，增强现实信息可以由至少一个光源投射。
在一些特定情况下，第一涂层可以在至少一个特定表面之上去涂层，使得本发明可以兼容用于高级驾驶员辅助系统(ADAS)。
当存在第二光源时，夹层可以是楔形夹层。
在本发明的范围内，在车辆窗玻璃上存在第一涂层允许p偏振光的最佳光反射。投射和反射的图像典型地将是清晰且明显的、由清晰的轮廓和表面限定。由于窗玻璃的p偏振光反射的质量较差，因此在模糊图像的情况下，所述表面典型地增大。当窗玻璃的反射特性最佳时，清晰和模糊的图像轮廓之间的差异是最小的。
第一层涂层的材料选择对于将光学特性与耐热性和耐磨性结合起来至关重要，因为此类窗玻璃的加工典型地涉及使涂层玻璃在典型地在600℃至700℃之间的温度下弯折和/或回火。此外，最终使用条件包括涂层位于窗玻璃的暴露于车辆或建筑物内部的外表面上，这意味着暴露于各种清洁剂、湿度、污染和机械磨损。HUD系统中的本窗玻璃允许所述HUD系统正常运行，其中在从42°至72°的p偏振光的入射角下、替代性地在55°的角度下，第一涂层的p偏振光反射率>4.0％；替代性地>6.0％、替代性地>7.0％、替代性地>9.0％替代性地>10.0％。
本发明还提供了玻璃片材的用途，该玻璃片材在其表面中的一者上包括第一涂层，所述涂层包括
-至少一个高折射率层，其具有50nm至100nm的厚度
以及
-至少一个低折射率层，其具有70nm至160nm的厚度，
其中该至少一个高折射率层包括以下中的至少一者
-Zr、Nb、Sn的氧化物；
-Ti、Zr、Nb、Si、Sb、Sn、Zn、In的混合氧化物；
-Si、Zr的氮化物；
-Si、Zr的混合氮化物，
在包括以42°至72°的入射角在窗玻璃上投射光的p偏振光源的HUD系统中，用于反射所述p偏振光。
当以42°至72°的入射角投射时，这种窗玻璃提供了最佳反射p偏振光的优点。
示例
给出了发光体D65(2°的反射或透射水平)和发光体D65(10°的颜色指数(a*和b*))的所有光学参数。
除非另有说明，否则在550nm的波长下测量所有折射率。
提供窗玻璃，该窗玻璃包括1.8mm的第一透明浮法玻璃片材和1.4mm的第二透明浮法玻璃片材，该窗玻璃与0.76mm的透明PVB片材层压。若干个第一涂层沉积在内玻璃片材的第二表面(S4)上，其中“高/低”序列如下表所概述。
包括2个银层和3个介电层的第二涂层可能已经沉积在内玻璃片材的第一表面(S3)上，如将在随后的示例中指出。
然后将窗玻璃布置在由光源发射的光的路径中。光源被配置为发射正常光或p偏振光。在下表中呈现了窗玻璃对入射光的行为。
关于外部反射(Rv(外))测量的参数如下：
a)发光体A，2°
-Tv＝在可见光范围内的透射率
-Rv(外)(％)＝在8°的“标准”入射角下在可见光范围内的外部反射
-Rv(内)(％)＝非偏振光在接近布鲁斯特角(55°)的入射角下在可见光范围内的内部反射，如果从窗玻璃的相反侧参考入射角(即，180°至55°)，则也称为R125(内)
-Rp_pol(％)＝p偏振光在可见光范围内且在接近布鲁斯特角(55°)的入射角下的内部反射，如果从窗玻璃的相反侧参考入射角(即，180°至55°)，则也称为Rp_pol 125°
-R172(内)(％)＝在8°(或172°，如果参照窗玻璃的外表面)的“标准”入射角下在可见光范围内的内部反射。
b)发光体D65，2°
-Tv(％)＝在可见光范围内的透射率
c)光源D65，10°
-a*R外＝a*在8°下的外部反射的颜色指数
-b*R外＝b*在8°下的外部反射的颜色指数
-a*_R内＝a*R125＝a*在125°下的内部反射的颜色指数
-b*_R内＝b*R125＝b*在125°下的内部反射的颜色指数
-a*_Rp_pol＝a*R125p_pol＝a*p偏振光在125°下的内部反射的颜色指数
-b*_Rp_pol＝b*R125p_pol＝b*p偏振光在125°下的内部反射的颜色指数
-a*R172＝a*在172°下的内部反射的颜色指数
-b*R172＝b*在172°下的内部反射的颜色指数
结果一般表明
·可见光透射率>70％
·外部反射保持在中等水平且呈具有吸引力的反射美学，如由在8°和55°角度下的颜色指数指示。
·在将55°下的全局内部反射保持在14％至17％时内部反射的光学特性(比如当提供4层或更多层时改进的在55°入射下的Rp-pol)达到13％或14％的水平，其中高折射率层具有比率为65/35wt％的混合钛锆氧化物、任选地具有92/8wt％的混合硅钛氧化物层；并且低折射率层是掺杂有铝(2％)的氧化硅
这些结果表明本车辆窗玻璃在所要求的HUD系统中的适用性。
示例1至5、比较示例1
提供窗玻璃，该窗玻璃包括1.8mm的第一透明浮法玻璃片材和1.4mm的第二透明浮法玻璃片材，该窗玻璃与0.76mm的透明PVB片材层压。若干个第一涂层沉积在内玻璃片材上，其中“高/低”序列如表2和3所概述。
示例1至5和比较示例1包括具有172.3nm的相同光学厚度的高折射率层，而低折射率层具有145.1nm的相同光学厚度。因此，表中概述了几何厚度和折射率，其中几何厚度＝光学厚度/折射率。
基于折射率为2.35(550nm)的氧化钛的比较示例1在55°的入射角下具有10.2％的p偏振光反射。
基于折射率为2.33(550nm)的TZO的示例1在55°的入射角下具有9.9％的p偏振光反射。具有SiZrN的示例2在55°的入射角下具有>7.0％的p偏振光反射。具有TSO的示例3在55°的入射角下具有>6.0％的p偏振光反射。具有SiN和锌锡氧化物的示例4和5在55°的入射角下分别具有大于4.0％的p偏振光反射。在颜色指数方面，它们都具有令人满意的美感。
因此，用于高折射率层的最佳材料按性能次序是折射率≥2.0的混合钛锆氧化物(其在55°的入射角下提供>9.0％的p偏振光反射)、混合硅锆氮化物、混合钛硅氧化物、铝掺杂氮化硅和混合锌锡氧化物。
示例1至5的第一涂层能够经受住热处理并保持其光学特性，而比较示例1经受不住热处理。
示例6至13
提供窗玻璃，该窗玻璃包括1.8mm的第一透明浮法玻璃片材和1.4mm的第二透明浮法玻璃片材，该窗玻璃与0.76mm的透明PVB片材层压。若干个第一涂层沉积在内玻璃片材上，其中“高/低”序列如表4和5所概述。
示例6中的高折射率层为TZO，而示例7至11中的高折射率层是基于TZO和TSO的子层。具有两个“高/低”序列的示例12和13中的高折射率层是TZO或TSO。
光学特性表明在颜色指数方面具有令人满意的美感。
示例6和7在55°的入射角下具有>10.0％的p偏振光反射。示例8至11在55°的入射角下具有>9.0％的p偏振光反射。示例12和13在55°的入射角下具有>12.0％的p偏振光反射。
示例14至22
提供示例14至22的窗玻璃，该窗玻璃包括1.8mm的第一透明浮法玻璃片材和1.4mm的第二透明浮法玻璃片材，该窗玻璃与0.76mm的透明PVB片材层压。若干个第一涂层沉积在内玻璃片材的第二表面(S4)上，其中“高/低”序列如表6和7所概述。
包括2个银层和3个介电层的第二涂层通过真空溅射沉积来沉积在内玻璃片材的第一表面(S3)上，如堆叠表1中所概述：
堆叠表1
| 玻璃 | ZnSnOx | ZnO | Ag | TiOx | ZnSnOx | ZnO | Ag | TiOx | ZnSnOx | TiOx |
| nm | 19 | 10 | 10.5 | 6 | 66 | 10 | 9.4 | 5.3 | 19 | 5 |
示例14至18中的高折射率层是基于TZO和TSO的子层。具有两个“高/低”序列的示例19至22中的高折射率层是TZO或TSO。
光学特性表明在颜色指数方面具有令人满意的美感。
示例14至18在55°的入射角下具有>10.0％的p偏振光反射(表7)。示例19至22在55°的入射角下具有>13.0％的p偏振光反射(表7)。
示例23至27、比较示例2
提供示例23至27的窗玻璃，该窗玻璃包括1.8mm的第一透明浮法玻璃片材和1.4mm的第二透明浮法玻璃片材，该窗玻璃与0.76mm的透明PVB片材层压。若干个第一涂层沉积在内玻璃片材的第二表面(S4)上，其中“高/低”序列如表8和9所概述。
包括2个银层和3个介电层的第二涂层沉积在内玻璃片材的第一表面(S3)上，如堆叠表1中所概述：
基于折射率为2.35(550nm)的氧化钛的比较示例2在55°的入射角下具有11.29％的p偏振光反射。
基于折射率为2.33(550nm)的TZO的示例23在55°的入射角下具有10.99％的p偏振光反射。具有SiZrN的示例24在55°的入射角下具有>8.0％的p偏振光反射。具有TSO的示例25在55°的入射角下具有>7.0％的p偏振光反射。分别具有SiN:Al和氧化锌锡的示例26和27在55°的入射角下分别具有>5.0％的p偏振光反射。在颜色指数方面，它们都具有令人满意的美感。
示例23至27的第一涂层能够经受住热处理并保持其光学特性，而比较示例2经受不住热处理。
示例28至30
提供示例28至30的窗玻璃，该窗玻璃包括2.1mm的第一透明浮法玻璃片材和1.6mm的第二透明浮法玻璃片材，该窗玻璃与0.76mm的透明PVB片材层压。若干个第一涂层沉积在内玻璃片材的第二表面(S4)上，其中“高/低”序列如表10和11所概述。
对于示例29，包括2个银层和3个介电层的第二涂层沉积在内玻璃片材的第一表面(S3)上，如堆叠表1中所概述：
基于折射率为2.33(550nm)的TZO的示例28在55°的入射角下具有10.4％的p偏振光反射。示例29在55°的入射角下具有>11.0％的p偏振光反射。示例30在55°的入射角下具有>12.0％的p偏振光反射。
示例28至30在颜色指数方面具有令人满意的美感。
示例28至30的第一涂层能够经受住热处理并保持其光学特性。未提供具有TiO2层作为高折射率层的比较示例，因为它经受不住热处理。
示例31、比较示例3和4
比较示例3和4涉及WO 2019/046157 A1的实施例3和5，其中p偏振光的反射率分别为11.52％和11.15％，并且全反射分别为15.84％和15.46％(重新计算)。
示例31设置有第一涂层，该第一涂层具有73.2nm的TZO高折射率层和99.5nm的SiO2低折射率层。示例31的特征在于11.30％的p偏振光反射率和12.10％的全反射。
这表明对于p偏振光的等效反射，根据本发明的HUD中的第一涂层允许更少的反射，这对于减少例如仪表板到车辆窗玻璃上的反射的干扰是有用的。
示例32和33、比较示例5至9-表12
示例32设置有第一涂层，该第一涂层具有65nm的TZO高折射率层和80nm的SiO2低折射率层。示例32的特征在于12.4％的全反射和10.4％的p偏振光反射率。
示例33设置有第一涂层，该第一涂层具有80nm的TZO高折射率层和110nm的SiO2低折射率层。示例33的特征在于12.6％的全反射和9.1％的p偏振光反射率。
示例32和33都能够经受住在650℃的温度下进行5分钟的弯折步骤的热处理。
比较示例5设置有第一涂层，该第一涂层具有40nm的TZO高折射率层和65nm的SiO2低折射率层。这两个值都超出了高折射率层和低折射率层所要求的范围。比较示例5的特征在于19.6％(>21％)的全反射和7.5％(<8％)的p偏振光反射率。
比较示例6设置有第一涂层，该第一涂层具有40nm的TZO高折射率层和170nm的SiO2低折射率层。这两个值都超出了高折射率层和低折射率层所要求的范围。比较示例6的特征在于22.60％(>21％)的全反射和7.5％(<8％)的p偏振光反射率。
由于TZO的存在，比较示例5和6都能够经受住在650℃温度下进行5分钟的弯折步骤的热处理，但是厚度范围超出了所要求的范围，它们在全反射和p偏振光的反射率方面的光学特性使其不适用于本发明的范围。
根据CN 204166197 U的示例1，比较示例7设置有第一涂层，该第一涂层具有65.6nm的TiO2高折射率层和102nm的SiO2低折射率层。比较示例7的特征在于12.4％的全反射和11.5％的p偏振光反射率。尽管比较示例7在光学测量值的可接受范围内，但由于存在二氧化钛作为高折射率层材料，它不能经受在650℃温度下进行5分钟的弯折步骤的热处理。
根据CN 206147178 U的示例1，比较示例8设置有第一涂层，该第一涂层具有4个层，即，13.8nm的与玻璃接触的ZSO层、以及76.1nm的折射率为1.45至1.9的SiON层、下面74nm的TiO2高折射率层、以及92.1nm的SiO2层。
根据CN 206147178 U的示例3，比较示例9设置有第一涂层，该第一涂层具有3个层，即，128nm的与玻璃接触的ZSO层、下面75nm的TiO2高折射率层、以及110nm的SiO2层。
尽管比较示例8和9在光学测量值的可接受范围内，但由于存在二氧化钛作为高折射率层材料，它不能经受在650℃温度下进行5分钟的弯折步骤的热处理。
示例34和35、比较示例10和11-表13
示例34设置有第一涂层，该第一涂层具有2nm的TZO第一高折射率层、165nm的SiO2第一低折射率层、55nm的TZO第二高折射率层、75nm的SiO2第二低折射率层。示例34的特征在于17.3％的全反射和11.7％的p偏振光反射率。
示例35设置有第一涂层，该第一涂层具有12nm的TZO第一高折射率层、168nm的SiO2第一低折射率层、80nm的TZO第二高折射率层、120nm的SiO2第二低折射率层。示例35的特征在于20.4％的全反射和14.6％的p偏振光反射率。
示例34和35都能够经受住在650℃的温度下进行5分钟的弯折步骤的热处理。
比较示例10设置有18nm的TZO第一高折射率层、140nm的SiO2第一低折射率层、40nm的TZO第二高折射率层、170nm的SiO2第二低折射率层。层厚度超出了高折射率层和低折射率层所要求的范围。比较示例10的特征在于36.2％(>21％)的全反射、13.6％的p偏振光反射率和62.0％的光透射率(<70.0％，这在汽车领域是不可接受的)。
比较示例11设置有25nm的TZO第一高折射率层、130nm的SiO2第一低折射率层、30nm的TZO第二高折射率层、65nm的SiO2第二低折射率层。层厚度超出了高折射率层和低折射率层所要求的范围。比较示例11的特征在于37.6％(>21％)的全反射、10.8％的p偏振光反射率和61.1％的光透射率(<70.0％)。
表12
表13
Claims (18)
1.一种HUD系统，包括
a.光源，其朝向窗玻璃投射p偏振光，
b.所述窗玻璃包括具有第一表面和第二表面的外玻璃片材和具有第一表面和第二表面的内玻璃片材，
其中，所述内玻璃片材的第二表面包括第一涂层，两个片材通过至少一个夹层材料片材结合，所述至少一个夹层材料片材提供所述内玻璃片材的第一表面与所述外玻璃片材的第二表面之间的接触，
其特征在于，所述第一涂层包括
-至少一个高折射率层，其具有50nm至100nm的厚度
以及
-至少一个低折射率层，其具有70nm至160nm的厚度，
其中，所述至少一个高折射率层包括以下中的至少一者
-Zr、Nb、Sn的氧化物；
-Ti、Zr、Nb、Si、Sb、Sn、Zn、In的混合氧化物；
-Si、Zr的氮化物；
-Si、Zr的混合氮化物。
2.如权利要求1所述的HUD系统，其中，所述至少一个高折射率层包括以下中的至少一者：混合钛锆氧化物、混合钛硅氧化物、混合铌锆氧化物、混合硅锆氮化物、铝掺杂氮化硅、氧化锆、混合铟锡氧化物、混合锌铝混合氧化物、混合锑锡混合氧化物、混合钛锌氧化物、混合锌锡氧化物。
3.如权利要求1所述的HUD系统，其中，所述至少一个高折射率层包括以下中的至少一者：混合钛锆氧化物、混合钛硅氧化物、混合铌锆氧化物、混合硅锆氮化物、铝掺杂氮化硅、氧化锆。
4.如前述权利要求中任一项所述的HUD系统，其中，所述投射光以42度至72度的角度入射到所述窗玻璃。
5.一种HUD系统，包括
a.光源，其朝向窗玻璃投射p偏振光，
b.所述窗玻璃包括具有第一表面和第二表面的外玻璃片材和具有第一表面和第二表面的内玻璃片材，
其中，所述内玻璃片材的第二表面包括第一涂层，两个片材通过至少一个夹层材料片材结合，所述至少一个夹层材料片材提供所述内玻璃片材的第一表面与所述外玻璃片材的第二表面之间的接触，
其特征在于，所述第一涂层包括
i.与所述玻璃接触的第一高折射率材料层，其具有1nm至15nm的厚度，以及
ii.在所述第一高折射率材料层上方的第一低折射率材料层，其具有150nm至220nm的厚度，以及
iii.在所述第一低折射率材料层上方的第二高折射率材料层，其具有50nm至100nm的厚度，以及
iv.在所述第二高折射率材料层上方的第二低折射率材料层，其具有70nm至160nm的厚度，
其中，至少一个高折射率层包括以下中的至少一者
-Zr、Nb、Sn的氧化物；
-Ti、Zr、Nb、Si、Sb、Sn、Zn、In的混合氧化物；
-Si、Zr的氮化物；
-Si、Zr的混合氮化物。
6.一种HUD系统，包括
a.光源，其朝向窗玻璃投射p偏振光，
b.所述窗玻璃包括具有第一表面和第二表面的外玻璃片材和具有第一表面和第二表面的内玻璃片材，
其中，所述内玻璃片材的第二表面包括第一涂层，两个片材通过至少一个夹层材料片材结合，所述至少一个夹层材料片材提供所述内玻璃片材的第一表面与所述外玻璃片材的第二表面之间的接触，
其特征在于，所述第一涂层包括
i.与所述玻璃接触的第一高折射率材料层，其具有1nm至15nm的厚度，以及
ii.在所述第一高折射率材料层上方的第一低折射率材料层，其具有100nm至160nm的厚度，以及
iii.在所述第一低折射率材料层上方的第二高折射率材料层，其具有1nm至20nm的厚度，以及
iv.在所述第二高折射率材料层上方的第二低折射率材料层，其具有20nm至60nm的厚度，以及
v.在所述第二低折射率材料层上方的第三高折射率材料层，其具有40nm至100nm的厚度，以及
vi.在所述第三高折射率材料层上方的第三低折射率材料层，其具有80nm至140nm的厚度，
其中，至少一个高折射率层包括以下中的至少一者
-Zr、Nb、Sn的氧化物；
-Ti、Zr、Nb、Si、Sb、Sn、Zn、In的混合氧化物；
-Si、Zr的氮化物；
-Si、Zr的混合氮化物。
7.如前述权利要求中任一项所述的HUD系统，进一步包括第二涂层，所述第二涂层包括n个基于IR反射功能层的层和n+1个介电层，位于两个介电层之间的每个基于IR反射功能层的层在所述内玻璃片材的第一表面或所述外玻璃片材的第二表面中的至少一者上包括。
8.如权利要求7所述的HUD系统，其中，所述第二涂层包括以下顺序层：
·基础介电层，其至少包括基础介电下层和基础介电上层，所述基础介电上层具有与所述基础介电下层的组成不同的组成，所述基础介电上层包括氧化锌或者Zn和至少一种附加材料X的混合氧化物中的任一者，其中，在所述基础介电上层中的比率X/Zn按重量计在0.02与0.5之间，并且其中，X是选自包括以下各者的组的材料中的一者或多者：Sn、Al、Ga、In、Zr、Sb、Bi、Mg、Nb、Ta和Ti，
·第一红外反射层，比如银、金、铂或其混合物，
·第一阻挡层，
·中央介电层，其至少包括中央介电下层和中央介电上层，所述中央介电上层具有与所述中央介电下层的组成不同的组成，所述中央介电下层与所述第一阻挡层和所述中央介电上层直接接触；所述中央介电上层包括氧化锌或者Zn和至少一种附加材料Y的混合氧化物中的任一者，其中，在所述基础介电上层中的比率Y/Zn按重量计在0.02与0.5之间，并且其中，Y是选自包括以下各者的组的材料中的一者或多者：Sn、Al、Ga、In、Zr、Sb、Bi、Mg、Nb、Ta和Ti，
·第二红外反射层，比如银、金、铂或其混合物，
·第二阻挡层，
·顶部介电层。
9.如权利要求7所述的HUD系统，其中，所述第二涂层包括以下顺序层：
·基础介电层，其至少包括基础介电下层和基础介电上层，所述基础介电上层具有与所述基础介电下层的组成不同的组成，所述基础介电上层包括氧化锌或者Zn和至少一种附加材料X的混合氧化物中的任一者，其中，在所述基础介电上层中的比率X/Zn按重量计在0.02与0.5之间，并且其中，X是选自包括以下各者的组的材料中的一者或多者：Sn、Al、Ga、In、Zr、Sb、Bi、Mg、Nb、Ta和Ti，
·第一红外反射层，比如银、金、铂或其混合物，
·第一阻挡层，
·第二介电层，其至少包括第二介电下层和第二介电上层，所述第二介电上层具有与所述第二介电下层的组成不同的组成，所述第二介电下层与所述第一阻挡层和所述第二介电上层直接接触；所述第二介电上层包括氧化锌或者Zn和至少一种附加材料Y的混合氧化物中的任一者，其中，在所述第二介电上层中的比率Y/Zn按重量计在0.02与0.5之间，并且其中，Y是选自包括以下各者的组的材料中的一者或多者：Sn、Al、Ga、In、Zr、Sb、Bi、Mg、Nb、Ta和Ti，
·第二红外反射层，比如银、金、铂或其混合物，
·第二阻挡层，
·第三介电层，其至少包括第三介电下层和第三介电上层，所述第三介电上层具有与所述第三介电下层的组成不同的组成，所述第三介电下层与所述第二阻挡层和所述第三介电上层直接接触；所述第三介电上层包括氧化锌或者Zn和至少一种附加材料Y的混合氧化物中的任一者，其中，在所述第三介电上层中的比率Y/Zn按重量计在0.02与0.5之间，并且其中，Y是选自包括以下各者的组的材料中的一者或多者：Sn、Al、Ga、In、Zr、Sb、Bi、Mg、Nb、Ta和Ti，
·第三红外反射层，比如银、金、铂或其混合物，
·第三阻挡层，
·顶部介电层。
10.如权利要求7所述的HUD系统，其中，所述第二涂层包括以下顺序层：
··基础介电层，其包括基础介电下层和基础介电上层，所述基础介电上层具有与所述基础介电下层的组成不同的组成，
·所述基础介电下层包括Zn和Sn的混合氧化物，所述混合氧化物的比率Sn/Zn的范围为按重量计0.5至2，
·所述基础介电上层包括Zn和Sn的混合氧化物，所述混合氧化物的比率Sn/Zn的范围为按重量计0.02至0.5，
·包括金属银的第一红外反射层，
·第一阻挡层，
·中央介电层，其包括中央介电下层和中央介电上层，所述中央介电上层具有与所述中央介电下层的组成不同的组成，所述中央介电下层与所述第一阻挡层直接接触并且包括Zn和Sn的混合氧化物，所述混合氧化物的比率Sn/Zn的范围为0.5至2，
·所述中央介电上层包括Zn和Sn的混合氧化物，所述混合氧化物的比率Sn/Zn的范围为按重量计0.02至0.5，
·包括金属银的第二红外反射层，
·第二阻挡层，
·顶部介电层。
11.如权利要求10所述的HUD系统，其中，所述第二涂层包括以下顺序层：
·基础介电层，其包括基础介电下层和基础介电上层，所述基础介电上层具有与所述基础介电下层的组成不同的组成，
·所述基础介电下层包括Zn和Sn的混合氧化物，所述混合氧化物的比率Sn/Zn的范围为按重量计0.5至2，所述基础介电下层具有15nm至25nm的几何厚度，
·所述基础介电上层包括Zn和Sn的混合氧化物，所述混合氧化物的比率Sn/Zn的范围为按重量计0.02至0.5，所述基础介电上层具有5nm至15nm的几何厚度，
·包括金属银的第一红外反射层，其具有8nm至16nm的几何厚度，
·第一阻挡层，其具有3nm至8nm的几何厚度，
·中央介电层，其包括中央介电下层和中央介电上层，所述中央介电上层具有与所述中央介电下层的组成不同的组成，所述中央介电下层与所述第一阻挡层直接接触并且包括Zn和Sn的混合氧化物，所述混合氧化物的比率Sn/Zn的范围为0.5至2，所述中央介电层具有58nm至74nm的几何厚度，
·所述中央介电上层包括Zn和Sn的混合氧化物，所述混合氧化物的比率Sn/Zn的范围为按重量计0.02至0.5，所述中央介电上层具有5nm至15nm的几何厚度，
·包括金属银的第二红外反射层，其具有8nm至16nm的几何厚度，
·第二阻挡层，其具有3nm至8nm的几何厚度，
·顶部介电层，其具有14nm至22nm的几何厚度，
·任选的面涂层，其具有2nm至8nm的几何厚度。
12.如权利要求7所述的HUD系统，其中，所述第二涂层包括以下顺序层：
·基础介电层，其包括基础介电下层和基础介电上层，所述基础介电上层具有与所述基础介电下层的组成不同的组成，
·所述基础介电下层包括Zn和Sn的混合氧化物，所述混合氧化物的比率Sn/Zn的范围为按重量计0.5至2，
·所述基础介电上层包括Zn和Sn的混合氧化物，所述混合氧化物的比率Sn/Zn的范围为按重量计0.02至0.5，
·包括金属银的第一红外反射层，
·第一阻挡层，
·第二介电层，其包括第二介电下层和第二介电上层，所述第二介电上层具有与所述第二介电下层的组成不同的组成，所述第二介电下层与所述第一阻挡层直接接触并且包括Zn和Sn的混合氧化物，所述混合氧化物的比率Sn/Zn的范围为0.5至2，
·所述第二介电上层包括Zn和Sn的混合氧化物，所述混合氧化物的比率Sn/Zn的范围为按重量计0.02至0.5，
·包括金属银的第二红外反射层，
·第二阻挡层，
·第三介电层，其包括第三介电下层和第三介电上层，所述第三介电上层具有与所述第三介电下层的组成不同的组成，所述第三介电下层与所述第二阻挡层直接接触并且包括Zn和Sn的混合氧化物，所述混合氧化物的比率Sn/Zn的范围为0.5至2，
·所述第三介电上层包括Zn和Sn的混合氧化物，所述混合氧化物的比率Sn/Zn的范围为按重量计0.02至0.5，
·包括金属银的第三红外反射层，
·第三阻挡层，
·顶部介电层。
13.如权利要求12所述的HUD系统，其中，所述第二涂层包括以下顺序层：
·基础介电层，其包括基础介电下层和基础介电上层，所述基础介电上层具有与所述基础介电下层的组成不同的组成，
·所述基础介电下层包括Zn和Sn的混合氧化物，所述混合氧化物的比率Sn/Zn的范围为按重量计0.5至2，所述基础介电下层具有25nm至35nm的几何厚度，
·所述基础介电上层包括Zn和Sn的混合氧化物，所述混合氧化物的比率Sn/Zn的范围为按重量计0.02至0.5，所述基础介电上层具有5nm至15nm的几何厚度，
·包括金属银的第一红外反射层，其具有10nm至16nm的几何厚度，
·第一阻挡层，其具有3nm至8nm的几何厚度，
·第二介电层，其包括第二介电下层和第二介电上层，所述第二介电上层具有与所述第二介电下层的组成不同的组成，所述第二介电下层与所述第一阻挡层直接接触并且包括Zn和Sn的混合氧化物，所述混合氧化物的比率Sn/Zn的范围为0.5至2，所述第二介电层具有58nm至74nm的几何厚度，
·所述第二介电上层包括Zn和Sn的混合氧化物，所述混合氧化物的比率Sn/Zn的范围为按重量计0.02至0.5，所述第二介电上层具有5nm至15nm的几何厚度，
·包括金属银的第二红外反射层，其具有10nm至17nm的几何厚度，
·第二阻挡层，其具有3nm至8nm的几何厚度，
·第三介电层，其包括第三介电下层和第三介电上层，所述第三介电上层具有与所述第三介电下层的组成不同的组成，所述第三介电下层与所述第二阻挡层直接接触并且包括Zn和Sn的混合氧化物，所述混合氧化物的比率Sn/Zn的范围为0.5至2，所述第三介电层具有50nm至75nm的几何厚度，
·所述第三介电上层包括Zn和Sn的混合氧化物，所述混合氧化物的比率Sn/Zn的范围为按重量计0.02至0.5，所述第三介电上层具有5nm至15nm的几何厚度，
·包括金属银的第三红外反射层，其具有10nm至16nm的几何厚度，
·第三阻挡层，其具有3nm至8nm的几何厚度，
·顶部介电层，其具有20nm至40nm的几何厚度，
·任选的面涂层，其具有2nm至8nm的几何厚度。
14.如权利要求7至13中任一项所述的HUD系统，其中，所述第二涂层能够位于所述内玻璃片材的第一表面(S3)上或在所述外玻璃片材的第二表面(S2)上。
15.一种提供HUD系统的方法，包括以下步骤：
a.通过组装第一或外玻璃片材、至少一个夹层材料片材和第二或内玻璃片材来提供窗玻璃，所述第二或内玻璃片材在其第二表面上包括第一涂层，所述第一涂层包括
-至少一个高折射率层，其具有50nm至100nm的厚度
以及
-至少一个低折射率层，其具有70nm至160nm的厚度，
其中，所述至少一个高折射率层包括以下中的至少一者
-Zr、Nb、Sn的氧化物；
-Ti、Zr、Nb、Si、Sb、Sn、Zn、In的混合氧化物；
-Si、Zr的氮化物；
-Si、Zr的混合氮化物，
其中，所述夹层提供所述内玻璃片材的第一表面与所述外玻璃片材的第二表面之间的接触，
b.提供能够投射p偏振光的光源
c.布置所述光源以将所述p偏振光以42°至72°的入射角朝向所述窗玻璃投射。
16.如权利要求15所述的方法，其中，所述第一涂层通过选自CVD、PECVD、PVD、磁控溅射、湿涂的方法沉积在所述第二玻璃片材上。
17.如权利要求15或16所述的方法，其中，所述第一涂层的具有70nm至160nm的厚度的至少一个低折射率层通过PECVD方法沉积在所述第二玻璃片材上。
18.一种玻璃片材的用途，所述玻璃片材在其表面中的一者上包括第一涂层，所述涂层包括
-至少一个高折射率层，其具有50nm至100nm的厚度
以及
-至少一个低折射率层，其具有70nm至160nm的厚度，
其中，所述至少一个高折射率层包括以下中的至少一者
-Zr、Nb、Sn的氧化物；
-Ti、Zr、Nb、Si、Sb、Sn、Zn、In的混合氧化物；
-Si、Zr的氮化物；
-Si、Zr的混合氮化物，
在包括以42°至72°的入射角在所述窗玻璃上投射光的p偏振光源的HUD系统中，用于反射所述p偏振光。
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