JP2023169223A - レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】レジスト組成物を提供する。【解決手段】式（Ｉ）で表される塩を含有する酸発生剤と、酸不安定基を有する構造単位及び式（ａ２－Ａ）で表される構造単位を含む樹脂とを含有するレジスト組成物。TIFF2023169223000166.tif72158【選択図】なし
Description
本発明は、半導体の微細加工に用いられる酸発生剤用の塩、該塩を含む酸発生剤、レジ
スト組成物及びレジストパターンの製造方法に関する。
スト組成物及びレジストパターンの製造方法に関する。
特許文献１には、下記式で表される塩及び該塩を酸発生剤として含有するレジスト組成
物が記載されている。
特許文献２には、下記式で表される塩及び該塩を酸発生剤として含有するレジスト組成
物が記載されている。
特許文献２には、下記式で表される塩及び該塩を酸発生剤として含有するレジスト組成
物も記載されている。
特許文献３には、下記式で表される塩及び該塩を酸発生剤として含有するレジスト組成
物が記載されている。
物が記載されている。
物が記載されている。
物も記載されている。
物が記載されている。
本発明は、上記の塩を含有するレジスト組成物から形成されたレジストパターンよりも
、ラインエッジラフネス（ＬＥＲ）が良好なレジストパターンを形成する塩を提供するこ
とを課題とする。
、ラインエッジラフネス（ＬＥＲ）が良好なレジストパターンを形成する塩を提供するこ
とを課題とする。
本発明は、以下の発明を含む。
［１］式（Ｉ）で表される塩。
［式（Ｉ）中、
Ｒ1は、炭素数３～１８の環状炭化水素基（該環状炭化水素基は置換基を有してもよい
。）を含む炭化水素基を表し、該炭化水素基に含まれる－ＣＨ2－は、－Ｏ－、－Ｓ－、
－ＳＯ２－又は－ＣＯ－に置き換わっていてもよい。
Ｒ２は、ハロゲン原子又は炭素数１～６のアルキル基を表す。
ｍ２は、０～４のいずれかの整数を表し、ｍ２が２以上のとき、複数のＲ２は互いに同
一であっても異なってもよい。
Ｚ+は有機カチオンを表す。］
［２］Ｒ1が、炭素数３～８の単環の脂環式炭化水素基（該脂環式炭化水素基は置換基
を有してもよい。）を含む炭化水素基（該炭化水素基に含まれる－ＣＨ2－は、－Ｏ－、
－Ｓ－、－ＳＯ２－又は－ＣＯ－に置き換わっていてもよい。）、又は、炭素数６～１２
の多環の脂環式炭化水素基（該脂環式炭化水素基は置換基を有してもよい。）を含む炭化
水素基（該炭化水素基に含まれる－ＣＨ2－は、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＳＯ２－又は－ＣＯ
－に置き換わっていてもよい。）である［１］に記載の塩。
［３］［１］又は［２］記載の塩を含有する酸発生剤。
［４］［３］記載の酸発生剤と酸不安定基を有する樹脂とを含有するレジスト組成物。
［５］酸不安定基を有する樹脂が、式（ａ１－１）で表される構造単位及び式（ａ１－
２）で表される構造単位の少なくとも１種を含む［４］記載のレジスト組成物。
［式（ａ１－１）及び式（ａ１－２）中、
Ｌａ１及びＬａ２は、それぞれ独立に、－Ｏ－又は＊－Ｏ－（ＣＨ２）ｋ１－ＣＯ－Ｏ
－を表し、ｋ１は１～７の整数を表し、＊は－ＣＯ－との結合手を表す。
Ｒａ４及びＲａ５は、それぞれ独立に、水素原子又はメチル基を表す。
Ｒａ６及びＲａ７は、それぞれ独立に、炭素数１～８のアルキル基、炭素数３～１８の
脂環式炭化水素基又はこれらを組合せた基を表す。
ｍ１は、０～１４のいずれかの整数を表す。
ｎ１は、０～１０のいずれかの整数を表す。
ｎ１’は、０～３のいずれかの整数を表す。］
［６］酸不安定基を有する樹脂が、さらに式（ａ２－Ａ）で表される構造単位を含む［
４］又は［５］記載のレジスト組成物。
［式（ａ２－Ａ）中、
Ｒa50は、水素原子、ハロゲン原子又はハロゲン原子を有していてもよい炭素数１～６
のアルキル基を表す。
Ｒa51は、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、炭素数１～６のアルキル基、炭素数１～６の
アルコキシ基、炭素数２～４のアルキルカルボニル基、炭素数２～４のアルキルカルボニ
ルオキシ基、アクリロイルオキシ基又はメタクリロイルオキシ基を表す。
Ａa50は、単結合又は＊－Ｘa51－（Ａa52－Ｘa52）nｂ－を表し、＊は－Ｒa50が結合す
る炭素原子との結合部位を表す。
Ａa52は、炭素数１～６のアルカンジイル基を表す。
Ｘa51及びＸa52は、それぞれ独立に、－Ｏ－、－ＣＯ－Ｏ－又は－Ｏ－ＣＯ－を表す。
ｎｂは、０又は１を表す。
ｍｂは０～４のいずれかの整数を表す。ｍｂが２以上のいずれかの整数である場合、複
数のＲa51は互いに同一であっても異なってもよい。］
［７］酸発生剤から発生する酸よりも酸性度の弱い酸を発生する塩をさらに含有する［
４］～［６］のいずれかに記載のレジスト組成物。
［８］（１）［４］～［７］のいずれかに記載のレジスト組成物を基板上に塗布する工
程、
（２）塗布後の組成物を乾燥させて組成物層を形成する工程、
（３）組成物層に露光する工程、
（４）露光後の組成物層を加熱する工程、及び
（５）加熱後の組成物層を現像する工程、を含むレジストパターンの製造方法。
［１］式（Ｉ）で表される塩。
［式（Ｉ）中、
Ｒ1は、炭素数３～１８の環状炭化水素基（該環状炭化水素基は置換基を有してもよい
。）を含む炭化水素基を表し、該炭化水素基に含まれる－ＣＨ2－は、－Ｏ－、－Ｓ－、
－ＳＯ２－又は－ＣＯ－に置き換わっていてもよい。
Ｒ２は、ハロゲン原子又は炭素数１～６のアルキル基を表す。
ｍ２は、０～４のいずれかの整数を表し、ｍ２が２以上のとき、複数のＲ２は互いに同
一であっても異なってもよい。
Ｚ+は有機カチオンを表す。］
［２］Ｒ1が、炭素数３～８の単環の脂環式炭化水素基（該脂環式炭化水素基は置換基
を有してもよい。）を含む炭化水素基（該炭化水素基に含まれる－ＣＨ2－は、－Ｏ－、
－Ｓ－、－ＳＯ２－又は－ＣＯ－に置き換わっていてもよい。）、又は、炭素数６～１２
の多環の脂環式炭化水素基（該脂環式炭化水素基は置換基を有してもよい。）を含む炭化
水素基（該炭化水素基に含まれる－ＣＨ2－は、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＳＯ２－又は－ＣＯ
－に置き換わっていてもよい。）である［１］に記載の塩。
［３］［１］又は［２］記載の塩を含有する酸発生剤。
［４］［３］記載の酸発生剤と酸不安定基を有する樹脂とを含有するレジスト組成物。
［５］酸不安定基を有する樹脂が、式（ａ１－１）で表される構造単位及び式（ａ１－
２）で表される構造単位の少なくとも１種を含む［４］記載のレジスト組成物。
Ｌａ１及びＬａ２は、それぞれ独立に、－Ｏ－又は＊－Ｏ－（ＣＨ２）ｋ１－ＣＯ－Ｏ
－を表し、ｋ１は１～７の整数を表し、＊は－ＣＯ－との結合手を表す。
Ｒａ４及びＲａ５は、それぞれ独立に、水素原子又はメチル基を表す。
Ｒａ６及びＲａ７は、それぞれ独立に、炭素数１～８のアルキル基、炭素数３～１８の
脂環式炭化水素基又はこれらを組合せた基を表す。
ｍ１は、０～１４のいずれかの整数を表す。
ｎ１は、０～１０のいずれかの整数を表す。
ｎ１’は、０～３のいずれかの整数を表す。］
［６］酸不安定基を有する樹脂が、さらに式（ａ２－Ａ）で表される構造単位を含む［
４］又は［５］記載のレジスト組成物。
Ｒa50は、水素原子、ハロゲン原子又はハロゲン原子を有していてもよい炭素数１～６
のアルキル基を表す。
Ｒa51は、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、炭素数１～６のアルキル基、炭素数１～６の
アルコキシ基、炭素数２～４のアルキルカルボニル基、炭素数２～４のアルキルカルボニ
ルオキシ基、アクリロイルオキシ基又はメタクリロイルオキシ基を表す。
Ａa50は、単結合又は＊－Ｘa51－（Ａa52－Ｘa52）nｂ－を表し、＊は－Ｒa50が結合す
る炭素原子との結合部位を表す。
Ａa52は、炭素数１～６のアルカンジイル基を表す。
Ｘa51及びＸa52は、それぞれ独立に、－Ｏ－、－ＣＯ－Ｏ－又は－Ｏ－ＣＯ－を表す。
ｎｂは、０又は１を表す。
ｍｂは０～４のいずれかの整数を表す。ｍｂが２以上のいずれかの整数である場合、複
数のＲa51は互いに同一であっても異なってもよい。］
［７］酸発生剤から発生する酸よりも酸性度の弱い酸を発生する塩をさらに含有する［
４］～［６］のいずれかに記載のレジスト組成物。
［８］（１）［４］～［７］のいずれかに記載のレジスト組成物を基板上に塗布する工
程、
（２）塗布後の組成物を乾燥させて組成物層を形成する工程、
（３）組成物層に露光する工程、
（４）露光後の組成物層を加熱する工程、及び
（５）加熱後の組成物層を現像する工程、を含むレジストパターンの製造方法。
本発明の塩を使用したレジスト組成物を用いることにより、良好なラインエッジラフネ
ス（ＬＥＲ）でレジストパターンを製造することができる。
ス（ＬＥＲ）でレジストパターンを製造することができる。
本明細書において、「（メタ）アクリル系モノマー」とは、「ＣＨ2＝ＣＨ－ＣＯ－」
の構造を有するモノマー及び「ＣＨ2＝Ｃ（ＣＨ3）－ＣＯ－」の構造を有するモノマーか
らなる群より選ばれる少なくとも１種を意味する。同様に「（メタ）アクリレート」及び
「（メタ）アクリル酸」とは、それぞれ「アクリレート及びメタクリレートからなる群よ
り選ばれる少なくとも１種」及び「アクリル酸及びメタクリル酸からなる群より選ばれる
少なくとも１種」を意味する。「ＣＨ2＝Ｃ（ＣＨ3）－ＣＯ－」又は「ＣＨ2＝ＣＨ－Ｃ
Ｏ－」を有する構造単位が例示されている場合には、双方の基を有する構造単位が同様に
例示されているものとする。また、本明細書中に記載する基において、直鎖構造と分岐構
造の両方をとり得るものについては、そのいずれでもよい。「組み合わせた基」とは、例
示した基を２種以上、それらの価数を適宜変更して結合させた基を意味する。立体異性体
が存在する場合は、全ての立体異性体を含む。
本明細書において、「レジスト組成物の固形分」とは、レジスト組成物の総量から、後
述する溶剤（Ｅ）を除いた成分の合計を意味する。
の構造を有するモノマー及び「ＣＨ2＝Ｃ（ＣＨ3）－ＣＯ－」の構造を有するモノマーか
らなる群より選ばれる少なくとも１種を意味する。同様に「（メタ）アクリレート」及び
「（メタ）アクリル酸」とは、それぞれ「アクリレート及びメタクリレートからなる群よ
り選ばれる少なくとも１種」及び「アクリル酸及びメタクリル酸からなる群より選ばれる
少なくとも１種」を意味する。「ＣＨ2＝Ｃ（ＣＨ3）－ＣＯ－」又は「ＣＨ2＝ＣＨ－Ｃ
Ｏ－」を有する構造単位が例示されている場合には、双方の基を有する構造単位が同様に
例示されているものとする。また、本明細書中に記載する基において、直鎖構造と分岐構
造の両方をとり得るものについては、そのいずれでもよい。「組み合わせた基」とは、例
示した基を２種以上、それらの価数を適宜変更して結合させた基を意味する。立体異性体
が存在する場合は、全ての立体異性体を含む。
本明細書において、「レジスト組成物の固形分」とは、レジスト組成物の総量から、後
述する溶剤（Ｅ）を除いた成分の合計を意味する。
＜式（Ｉ）で表される塩＞
本発明は、式（Ｉ）で表される塩（以下「塩（Ｉ）」という場合がある）に関する。
塩（Ｉ）のうち、負電荷を有する側を「アニオン（Ｉ）」、正電荷を有する側を「カチ
オン（Ｉ）」と称することがある。
本発明は、式（Ｉ）で表される塩（以下「塩（Ｉ）」という場合がある）に関する。
塩（Ｉ）のうち、負電荷を有する側を「アニオン（Ｉ）」、正電荷を有する側を「カチ
オン（Ｉ）」と称することがある。
Ｒ１における環状炭化水素基を含む炭化水素基としては、単環式又は多環式の炭素数３
～１８の脂環式炭化水素基及び炭素数６～１８の芳香族炭化水素基等の環状炭化水素基も
しくはこれらを組み合わせた基、環状炭化水素基と炭素数１～６の鎖式炭化水素基（アル
キル基、アルケニル基、アルキニル基）とを任意に組み合わせた基等が挙げられる。
～１８の脂環式炭化水素基及び炭素数６～１８の芳香族炭化水素基等の環状炭化水素基も
しくはこれらを組み合わせた基、環状炭化水素基と炭素数１～６の鎖式炭化水素基（アル
キル基、アルケニル基、アルキニル基）とを任意に組み合わせた基等が挙げられる。
脂環式炭化水素基は、単環式、多環式及びスピロ環のいずれでもよく、飽和及び不飽和
のいずれでもよい。脂環式炭化水素基としては、シクロプロピル基、シクロブチル基、シ
クロペンチル基、シクロへキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、シクロノニ
ル基、シクロデシル基、シクロドデシル基等の単環式シクロアルキル基、デカヒドロナフ
チル基、ノルボルニル基、アダマンチル基等の多環式シクロアルキル基が挙げられる。
芳香族炭化水素基としては、フェニル基、ナフチル基、ビフェニル基、アントリル基、
フェナントリル基、ビナフチル基等のアリール基等が挙げられる。
のいずれでもよい。脂環式炭化水素基としては、シクロプロピル基、シクロブチル基、シ
クロペンチル基、シクロへキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、シクロノニ
ル基、シクロデシル基、シクロドデシル基等の単環式シクロアルキル基、デカヒドロナフ
チル基、ノルボルニル基、アダマンチル基等の多環式シクロアルキル基が挙げられる。
芳香族炭化水素基としては、フェニル基、ナフチル基、ビフェニル基、アントリル基、
フェナントリル基、ビナフチル基等のアリール基等が挙げられる。
アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、
イソブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基
、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基等のアルキル基が挙げられる。アルキ
ル基の炭素数は、好ましくは１～９であり、より好ましくは１～４である。
アルケニル基としては、エテニル基、プロペニル基、イソプロペニル基、ブテニル基、
イソブテニル基、ｔｅｒｔ－ブテニル基、ペンテニル基、ヘキセニル基、ヘプテニル基、
オクチニル基、イソオクチニル基、ノネニル基が挙げられる。
アルキニル基としては、エチニル基、プロピニル基、イソプロピニル基、ブチニル基、
イソブチニル基、ｔｅｒｔ－ブチニル基、ペンチニル基、ヘキシニル基、オクチニル基、
ノニニル基等が挙げられる。
イソブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基
、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基等のアルキル基が挙げられる。アルキ
ル基の炭素数は、好ましくは１～９であり、より好ましくは１～４である。
アルケニル基としては、エテニル基、プロペニル基、イソプロペニル基、ブテニル基、
イソブテニル基、ｔｅｒｔ－ブテニル基、ペンテニル基、ヘキセニル基、ヘプテニル基、
オクチニル基、イソオクチニル基、ノネニル基が挙げられる。
アルキニル基としては、エチニル基、プロピニル基、イソプロピニル基、ブチニル基、
イソブチニル基、ｔｅｒｔ－ブチニル基、ペンチニル基、ヘキシニル基、オクチニル基、
ノニニル基等が挙げられる。
組み合わせた基としては、
脂環式炭化水素基と芳香族炭化水素基とを組み合わせた基（該組み合わせた基に含まれ
る－ＣＨ2－は、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＣＯ－又は－ＳＯ２－に置き換わっていてもよい）
、
環状炭化水素基と鎖式炭化水素基（アルキル基、アルケニル基、アルキニル基）とを組
み合わせた基（該組み合わせた基に含まれる－ＣＨ2－は、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＣＯ－又
は－ＳＯ２－に置き換わっていてもよい）、つまり、
脂環式炭化水素基と鎖式炭化水素基（アルキル基、アルケニル基、アルキニル基）とを
組み合わせた基（該組み合わせた基に含まれる－ＣＨ2－は、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＣＯ－
又は－ＳＯ２－に置き換わっていてもよい）及び
芳香族炭化水素基と鎖式炭化水素基（アルキル基、アルケニル基、アルキニル基）とを
組み合わせた基（該組み合わせた基に含まれる－ＣＨ2－は、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＣＯ－
又は－ＳＯ２－に置き換わっていてもよい）を表す。
なお、組み合わせにおいて、脂環式炭化水素基、芳香族炭化水素基、鎖状炭化水素基（
アルキル基、アルケニル基、アルキニル基等）は、それぞれ２種以上を組み合わせてもよ
い。また、いずれの基が酸素原子に結合していてもよい。また、上述の基において価数の
異なる基（アルカンジイル基、アルカントリイル基、シクロアルカンジイル基、シクロア
ルカントリイル基等）が含まれていてもよい。Ｒ１における環状炭化水素基を含む炭化水
素基の合計炭素数は、例えば、３～２４が挙げられ、３～１８が好ましく、５～１２がよ
り好ましい。
脂環式炭化水素基と芳香族炭化水素基とを組み合わせた基（該組み合わせた基に含まれ
る－ＣＨ2－は、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＣＯ－又は－ＳＯ２－に置き換わっていてもよい）
、
環状炭化水素基と鎖式炭化水素基（アルキル基、アルケニル基、アルキニル基）とを組
み合わせた基（該組み合わせた基に含まれる－ＣＨ2－は、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＣＯ－又
は－ＳＯ２－に置き換わっていてもよい）、つまり、
脂環式炭化水素基と鎖式炭化水素基（アルキル基、アルケニル基、アルキニル基）とを
組み合わせた基（該組み合わせた基に含まれる－ＣＨ2－は、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＣＯ－
又は－ＳＯ２－に置き換わっていてもよい）及び
芳香族炭化水素基と鎖式炭化水素基（アルキル基、アルケニル基、アルキニル基）とを
組み合わせた基（該組み合わせた基に含まれる－ＣＨ2－は、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＣＯ－
又は－ＳＯ２－に置き換わっていてもよい）を表す。
なお、組み合わせにおいて、脂環式炭化水素基、芳香族炭化水素基、鎖状炭化水素基（
アルキル基、アルケニル基、アルキニル基等）は、それぞれ２種以上を組み合わせてもよ
い。また、いずれの基が酸素原子に結合していてもよい。また、上述の基において価数の
異なる基（アルカンジイル基、アルカントリイル基、シクロアルカンジイル基、シクロア
ルカントリイル基等）が含まれていてもよい。Ｒ１における環状炭化水素基を含む炭化水
素基の合計炭素数は、例えば、３～２４が挙げられ、３～１８が好ましく、５～１２がよ
り好ましい。
組み合わせた基の具体例としては、
アダマンチルメチル基、アダマンチルエチル基、シクロヘキシルメチル基、シクロヘキ
シルエチル基等の、脂環式炭化水素基－鎖式炭化水素基－＊（該鎖式炭化水素基及び該脂
環式炭化水素基に含まれる－ＣＨ2－は、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＣＯ－又は－ＳＯ２－に置
き換わっていてもよい）、
メチルアダマンチル基、メチルシクロヘキシル基、ジメチルシクロヘキシル基等の、鎖
式炭化水素基－脂環式炭化水素基－＊（該鎖式炭化水素基及び該脂環式炭化水素基に含ま
れる－ＣＨ2－は、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＣＯ－又は－ＳＯ２－に置き換わっていてもよい
）、
トリル基、キシリル基等の、鎖式炭化水素基－芳香族炭化水素基－＊（該鎖式炭化水素
基に含まれる－ＣＨ2－は、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＣＯ－又は－ＳＯ２－に置き換わってい
てもよい）、
メチルシクロヘキシルメチル基等の、鎖式炭化水素基－脂環式炭化水素基－鎖式炭化水
素基－＊（該鎖式炭化水素基及び該脂環式炭化水素基に含まれる－ＣＨ2－は、－Ｏ－、
－Ｓ－、－ＣＯ－又は－ＳＯ２－に置き換わっていてもよい）、
ベンジル基、フェネチル基等の、芳香族炭化水素基－鎖式炭化水素基－＊（該鎖式炭化
水素基に含まれる－ＣＨ2－は、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＣＯ－又は－ＳＯ２－に置き換わっ
ていてもよい）、
トリルメチル基等の、鎖式炭化水素基－芳香族炭化水素基－鎖式炭化水素基－＊（該鎖
式炭化水素基に含まれる－ＣＨ2－は、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＣＯ－又は－ＳＯ２－に置き
換わっていてもよい）、
フェニルアダマンチル基等の、芳香族炭化水素基－脂環式炭化水素基－＊（該脂環式炭
化水素基に含まれる－ＣＨ2－は、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＣＯ－又は－ＳＯ２－に置き換わ
っていてもよい）、
シクロヘキシルフェニル基、アダマンチルフェニル基等の、脂環式炭化水素基－芳香族
炭化水素基－＊（該脂環式炭化水素基に含まれる－ＣＨ2－は、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＣＯ
－又は－ＳＯ２－に置き換わっていてもよい）等が挙げられる。ここで、＊は酸素原子と
の結合部位を表す。
アダマンチルメチル基、アダマンチルエチル基、シクロヘキシルメチル基、シクロヘキ
シルエチル基等の、脂環式炭化水素基－鎖式炭化水素基－＊（該鎖式炭化水素基及び該脂
環式炭化水素基に含まれる－ＣＨ2－は、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＣＯ－又は－ＳＯ２－に置
き換わっていてもよい）、
メチルアダマンチル基、メチルシクロヘキシル基、ジメチルシクロヘキシル基等の、鎖
式炭化水素基－脂環式炭化水素基－＊（該鎖式炭化水素基及び該脂環式炭化水素基に含ま
れる－ＣＨ2－は、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＣＯ－又は－ＳＯ２－に置き換わっていてもよい
）、
トリル基、キシリル基等の、鎖式炭化水素基－芳香族炭化水素基－＊（該鎖式炭化水素
基に含まれる－ＣＨ2－は、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＣＯ－又は－ＳＯ２－に置き換わってい
てもよい）、
メチルシクロヘキシルメチル基等の、鎖式炭化水素基－脂環式炭化水素基－鎖式炭化水
素基－＊（該鎖式炭化水素基及び該脂環式炭化水素基に含まれる－ＣＨ2－は、－Ｏ－、
－Ｓ－、－ＣＯ－又は－ＳＯ２－に置き換わっていてもよい）、
ベンジル基、フェネチル基等の、芳香族炭化水素基－鎖式炭化水素基－＊（該鎖式炭化
水素基に含まれる－ＣＨ2－は、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＣＯ－又は－ＳＯ２－に置き換わっ
ていてもよい）、
トリルメチル基等の、鎖式炭化水素基－芳香族炭化水素基－鎖式炭化水素基－＊（該鎖
式炭化水素基に含まれる－ＣＨ2－は、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＣＯ－又は－ＳＯ２－に置き
換わっていてもよい）、
フェニルアダマンチル基等の、芳香族炭化水素基－脂環式炭化水素基－＊（該脂環式炭
化水素基に含まれる－ＣＨ2－は、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＣＯ－又は－ＳＯ２－に置き換わ
っていてもよい）、
シクロヘキシルフェニル基、アダマンチルフェニル基等の、脂環式炭化水素基－芳香族
炭化水素基－＊（該脂環式炭化水素基に含まれる－ＣＨ2－は、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＣＯ
－又は－ＳＯ２－に置き換わっていてもよい）等が挙げられる。ここで、＊は酸素原子と
の結合部位を表す。
Ｒ１で表される炭化水素基に含まれる－ＣＨ2－は、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＣＯ－又は－
ＳＯ２－に置き換わっている場合、置き換わる前の炭素数を該炭化水素基の総炭素数とす
る。また、その数は、１つでもよいし、２以上でもよい、
ＳＯ２－に置き換わっている場合、置き換わる前の炭素数を該炭化水素基の総炭素数とす
る。また、その数は、１つでもよいし、２以上でもよい、
環状炭化水素基が有していてもよい置換基としては、ハロゲン原子、シアノ基、炭素数
１～１２のアルキル基が挙げられ、該アルキル基に含まれる－ＣＨ2－は、－Ｏ－、－Ｓ
－、－ＣＯ－又は－ＳＯ２－に置き換わっていてもよい。
ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子及びヨウ素原子等が挙げられ
る。
炭素数１～１２のアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピ
ル基、ブチル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチ
ル基、ノニル基等が挙げられる。
置換基として、アルキル基に含まれる－ＣＨ2－は、－Ｏ－又は－ＣＯ－に置き換わっ
ている場合、置き換わる前の炭素数を該アルキル基の総炭素数とする。ヒドロキシ基（メ
チル基中に含まれる－ＣＨ2－が、－Ｏ－に置き換わった基）、カルボキシル基（エチル
基中に含まれる－ＣＨ2－ＣＨ2－が、－Ｏ－ＣＯ－に置き換わった基）、炭素数１～１１
のアルコキシ基（炭素数２～１２のアルキル基中に含まれる－ＣＨ2－が、－Ｏ－に置き
換わった基）、炭素数２～１１のアルコキシカルボニル基（炭素数３～１２のアルキル基
中に含まれる－ＣＨ2－ＣＨ2－が、－Ｏ－ＣＯ－に置き換わった基）、炭素数２～１２の
アルキルカルボニル基（炭素数２～１２のアルキル基中に含まれる－ＣＨ2－が、－ＣＯ
－に置き換わった基）、炭素数２～１１のアルキルカルボニルオキシ基（炭素数３～１２
のアルキル基中に含まれる－ＣＨ2－ＣＨ2－が、－ＣＯ－Ｏ－に置き換わった基）等が挙
げられる。
炭素数１～１１のアルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブ
トキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、オクチルオキシ基、２－エチルヘキシ
ルオキシ基、ノニルオキシ基、デシルオキシ基、ウンデシルオキシ基等が挙げられる。
炭素数２～１１のアルコキシカルボニル基、炭素数２～１２のアルキルカルボニル基及
び炭素数２～１１のアルキルカルボニルオキシ基は、上述したアルキル基又はアルコキシ
基にカルボニル基又はカルボニルオキシ基が結合した基を表す。
炭素数２～１１のアルコキシカルボニル基としては、メトキシカルボニル基、エトキシ
カルボニル基、ブトキシカルボニル基等が挙げられ、炭素数２～１２のアルキルカルボニ
ル基としては、アセチル基、プロピオニル基及びブチリル基等が挙げられ、炭素数２～１
１のアルキルカルボニルオキシ基としては、アセチルオキシ基、プロピオニルオキシ基、
ブチリルオキシ基等が挙げられる。
炭素数３～１８の環状炭化水素基は、１つの置換基又は複数の置換基を有していてもよ
い。
１～１２のアルキル基が挙げられ、該アルキル基に含まれる－ＣＨ2－は、－Ｏ－、－Ｓ
－、－ＣＯ－又は－ＳＯ２－に置き換わっていてもよい。
ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子及びヨウ素原子等が挙げられ
る。
炭素数１～１２のアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピ
ル基、ブチル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチ
ル基、ノニル基等が挙げられる。
置換基として、アルキル基に含まれる－ＣＨ2－は、－Ｏ－又は－ＣＯ－に置き換わっ
ている場合、置き換わる前の炭素数を該アルキル基の総炭素数とする。ヒドロキシ基（メ
チル基中に含まれる－ＣＨ2－が、－Ｏ－に置き換わった基）、カルボキシル基（エチル
基中に含まれる－ＣＨ2－ＣＨ2－が、－Ｏ－ＣＯ－に置き換わった基）、炭素数１～１１
のアルコキシ基（炭素数２～１２のアルキル基中に含まれる－ＣＨ2－が、－Ｏ－に置き
換わった基）、炭素数２～１１のアルコキシカルボニル基（炭素数３～１２のアルキル基
中に含まれる－ＣＨ2－ＣＨ2－が、－Ｏ－ＣＯ－に置き換わった基）、炭素数２～１２の
アルキルカルボニル基（炭素数２～１２のアルキル基中に含まれる－ＣＨ2－が、－ＣＯ
－に置き換わった基）、炭素数２～１１のアルキルカルボニルオキシ基（炭素数３～１２
のアルキル基中に含まれる－ＣＨ2－ＣＨ2－が、－ＣＯ－Ｏ－に置き換わった基）等が挙
げられる。
炭素数１～１１のアルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブ
トキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、オクチルオキシ基、２－エチルヘキシ
ルオキシ基、ノニルオキシ基、デシルオキシ基、ウンデシルオキシ基等が挙げられる。
炭素数２～１１のアルコキシカルボニル基、炭素数２～１２のアルキルカルボニル基及
び炭素数２～１１のアルキルカルボニルオキシ基は、上述したアルキル基又はアルコキシ
基にカルボニル基又はカルボニルオキシ基が結合した基を表す。
炭素数２～１１のアルコキシカルボニル基としては、メトキシカルボニル基、エトキシ
カルボニル基、ブトキシカルボニル基等が挙げられ、炭素数２～１２のアルキルカルボニ
ル基としては、アセチル基、プロピオニル基及びブチリル基等が挙げられ、炭素数２～１
１のアルキルカルボニルオキシ基としては、アセチルオキシ基、プロピオニルオキシ基、
ブチリルオキシ基等が挙げられる。
炭素数３～１８の環状炭化水素基は、１つの置換基又は複数の置換基を有していてもよ
い。
炭素数３～１８の環状炭化水素基（該環状炭化水素基は置換基を有してもよく、該脂環
式炭化水素基に含まれる－ＣＨ2－は、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＳＯ２－又は－ＣＯ－に置き
換わっていてもよい。）は、
置換基を有してもよい炭素数３～１８の脂環式炭化水素基（該脂環式炭化水素基に含ま
れる－ＣＨ2－は、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＳＯ２－又は－ＣＯ－に置き換わっていてもよい
。）、又は、
置換基を有してもよい炭素数６～１８の芳香族炭化水素基であることが好ましく、
炭素数１～４のアルキル基、ヒドロキシ基及びフッ素原子からなる群より選ばれる１以
上を有してもよい炭素数３～１８の脂環式炭化水素基（該脂環式炭化水素基に含まれる－
ＣＨ2－は、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＳＯ２－又は－ＣＯ－に置き換わっていてもよい。）、
又は、
炭素数１～４のアルキル基、ヒドロキシ基及びフッ素原子からなる群より選ばれる１以
上を有してもよい炭素数６～１８の芳香族炭化水素基であることがより好ましく、
炭素数１～４のアルキル基、ヒドロキシ基及びフッ素原子からなる群より選ばれる１以
上を有してもよい炭素数３～８の単環の脂環式炭化水素基（該脂環式炭化水素基に含まれ
る－ＣＨ2－は、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＳＯ２－又は－ＣＯ－に置き換わっていてもよい。
）、又は、
炭素数１～４のアルキル基、ヒドロキシ基及びフッ素原子からなる群より選ばれる１以
上を有してもよい炭素数６～１２の多環の脂環式炭化水素基（該脂環式炭化水素基に含ま
れる－ＣＨ2－は、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＳＯ２－又は－ＣＯ－に置き換わっていてもよい
。）であることがさらに好ましい。
式炭化水素基に含まれる－ＣＨ2－は、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＳＯ２－又は－ＣＯ－に置き
換わっていてもよい。）は、
置換基を有してもよい炭素数３～１８の脂環式炭化水素基（該脂環式炭化水素基に含ま
れる－ＣＨ2－は、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＳＯ２－又は－ＣＯ－に置き換わっていてもよい
。）、又は、
置換基を有してもよい炭素数６～１８の芳香族炭化水素基であることが好ましく、
炭素数１～４のアルキル基、ヒドロキシ基及びフッ素原子からなる群より選ばれる１以
上を有してもよい炭素数３～１８の脂環式炭化水素基（該脂環式炭化水素基に含まれる－
ＣＨ2－は、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＳＯ２－又は－ＣＯ－に置き換わっていてもよい。）、
又は、
炭素数１～４のアルキル基、ヒドロキシ基及びフッ素原子からなる群より選ばれる１以
上を有してもよい炭素数６～１８の芳香族炭化水素基であることがより好ましく、
炭素数１～４のアルキル基、ヒドロキシ基及びフッ素原子からなる群より選ばれる１以
上を有してもよい炭素数３～８の単環の脂環式炭化水素基（該脂環式炭化水素基に含まれ
る－ＣＨ2－は、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＳＯ２－又は－ＣＯ－に置き換わっていてもよい。
）、又は、
炭素数１～４のアルキル基、ヒドロキシ基及びフッ素原子からなる群より選ばれる１以
上を有してもよい炭素数６～１２の多環の脂環式炭化水素基（該脂環式炭化水素基に含ま
れる－ＣＨ2－は、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＳＯ２－又は－ＣＯ－に置き換わっていてもよい
。）であることがさらに好ましい。
Ｒ１で表される炭素数３～１８の環状炭化水素基（該環状炭化水素基は置換基を有して
もよい。）を含む炭化水素基（該炭化水素基に含まれる－ＣＨ2－は、－Ｏ－、－Ｓ－、
－ＳＯ２－又は－ＣＯ－に置き換わっていてもよい。）としては、
好ましくは、置換基を有してもよい炭素数３～１８の脂環式炭化水素基（該脂環式炭化
水素基に含まれる－ＣＨ2－は、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＳＯ２－又は－ＣＯ－に置き換わっ
ていてもよい。）、置換基を有してもよい炭素数６～１８の芳香族炭化水素基、置換基を
有してもよい炭素数３～１８の脂環式炭化水素基と炭素数１～６の鎖式炭化水素基とを組
み合わせた基（該組み合わせた基に含まれる－ＣＨ2－は、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＳＯ２－
又は－ＣＯ－に置き換わっていてもよい。）、又は、置換基を有してもよい炭素数６～１
８の芳香族炭化水素基と炭素数１～６の鎖式炭化水素基とを組み合わせた基（該組み合わ
せた基に含まれる－ＣＨ2－は、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＳＯ２－又は－ＣＯ－に置き換わっ
ていてもよい。）であり、
より好ましくは、炭素数１～４のアルキル基、ヒドロキシ基及びフッ素原子からなる群
より選ばれる１以上を有してもよい炭素数３～１８の脂環式炭化水素基（該脂環式炭化水
素基に含まれる－ＣＨ2－は、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＳＯ２－又は－ＣＯ－に置き換わって
いてもよい。）、炭素数１～４のアルキル基、ヒドロキシ基及びフッ素原子からなる群よ
り選ばれる１以上を有してもよい炭素数６～１８の芳香族炭化水素基、又は、炭素数１～
４のアルキル基、ヒドロキシ基及びフッ素原子からなる群より選ばれる１以上を有しても
よい炭素数３～１８の脂環式炭化水素基と炭素数１～６の鎖式炭化水素基とを組み合わせ
た基（該組み合わせた基に含まれる－ＣＨ2－は、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＳＯ２－又は－Ｃ
Ｏ－に置き換わっていてもよい。）であり、
さらに好ましくは、炭素数１～４のアルキル基、ヒドロキシ基及びフッ素原子からなる
群より選ばれる１以上を有してもよい炭素数３～８の単環の脂環式炭化水素基（該脂環式
炭化水素基に含まれる－ＣＨ2－は、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＳＯ２－又は－ＣＯ－に置き換
わっていてもよい。）、炭素数１～４のアルキル基、ヒドロキシ基及びフッ素原子からな
る群より選ばれる１以上を有してもよい炭素数６～１２の多環の脂環式炭化水素基（該脂
環式炭化水素基に含まれる－ＣＨ2－は、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＳＯ２－又は－ＣＯ－に置
き換わっていてもよい。）、炭素数１～４のアルキル基、ヒドロキシ基及びフッ素原子か
らなる群より選ばれる１以上を有してもよい炭素数３～８の単環の脂環式炭化水素基と炭
素数１～６の鎖式炭化水素基とを組み合わせた基（該組み合わせた基に含まれる－ＣＨ2
－は、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＳＯ２－又は－ＣＯ－に置き換わっていてもよい。）、又は、
炭素数１～４のアルキル基、ヒドロキシ基及びフッ素原子からなる群より選ばれる１以上
を有してもよい炭素数６～１２の多環の脂環式炭化水素基と炭素数１～６の鎖式炭化水素
基とを組み合わせた基（該組み合わせた基に含まれる－ＣＨ2－は、－Ｏ－、－Ｓ－、－
ＳＯ２－又は－ＣＯ－に置き換わっていてもよい。）であり、
特に好ましくは、炭素数１～４のアルキル基、ヒドロキシ基及びフッ素原子からなる群
より選ばれる１以上を有してもよい炭素数３～８の単環の脂環式炭化水素基（該脂環式炭
化水素基に含まれる－ＣＨ2－は、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＳＯ２－又は－ＣＯ－に置き換わ
っていてもよい。）、又は、炭素数１～４のアルキル基、ヒドロキシ基及びフッ素原子か
らなる群より選ばれる１以上を有してもよい炭素数６～１２の多環の脂環式炭化水素基（
該脂環式炭化水素基に含まれる－ＣＨ2－は、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＳＯ２－又は－ＣＯ－
に置き換わっていてもよい。）である。
もよい。）を含む炭化水素基（該炭化水素基に含まれる－ＣＨ2－は、－Ｏ－、－Ｓ－、
－ＳＯ２－又は－ＣＯ－に置き換わっていてもよい。）としては、
好ましくは、置換基を有してもよい炭素数３～１８の脂環式炭化水素基（該脂環式炭化
水素基に含まれる－ＣＨ2－は、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＳＯ２－又は－ＣＯ－に置き換わっ
ていてもよい。）、置換基を有してもよい炭素数６～１８の芳香族炭化水素基、置換基を
有してもよい炭素数３～１８の脂環式炭化水素基と炭素数１～６の鎖式炭化水素基とを組
み合わせた基（該組み合わせた基に含まれる－ＣＨ2－は、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＳＯ２－
又は－ＣＯ－に置き換わっていてもよい。）、又は、置換基を有してもよい炭素数６～１
８の芳香族炭化水素基と炭素数１～６の鎖式炭化水素基とを組み合わせた基（該組み合わ
せた基に含まれる－ＣＨ2－は、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＳＯ２－又は－ＣＯ－に置き換わっ
ていてもよい。）であり、
より好ましくは、炭素数１～４のアルキル基、ヒドロキシ基及びフッ素原子からなる群
より選ばれる１以上を有してもよい炭素数３～１８の脂環式炭化水素基（該脂環式炭化水
素基に含まれる－ＣＨ2－は、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＳＯ２－又は－ＣＯ－に置き換わって
いてもよい。）、炭素数１～４のアルキル基、ヒドロキシ基及びフッ素原子からなる群よ
り選ばれる１以上を有してもよい炭素数６～１８の芳香族炭化水素基、又は、炭素数１～
４のアルキル基、ヒドロキシ基及びフッ素原子からなる群より選ばれる１以上を有しても
よい炭素数３～１８の脂環式炭化水素基と炭素数１～６の鎖式炭化水素基とを組み合わせ
た基（該組み合わせた基に含まれる－ＣＨ2－は、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＳＯ２－又は－Ｃ
Ｏ－に置き換わっていてもよい。）であり、
さらに好ましくは、炭素数１～４のアルキル基、ヒドロキシ基及びフッ素原子からなる
群より選ばれる１以上を有してもよい炭素数３～８の単環の脂環式炭化水素基（該脂環式
炭化水素基に含まれる－ＣＨ2－は、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＳＯ２－又は－ＣＯ－に置き換
わっていてもよい。）、炭素数１～４のアルキル基、ヒドロキシ基及びフッ素原子からな
る群より選ばれる１以上を有してもよい炭素数６～１２の多環の脂環式炭化水素基（該脂
環式炭化水素基に含まれる－ＣＨ2－は、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＳＯ２－又は－ＣＯ－に置
き換わっていてもよい。）、炭素数１～４のアルキル基、ヒドロキシ基及びフッ素原子か
らなる群より選ばれる１以上を有してもよい炭素数３～８の単環の脂環式炭化水素基と炭
素数１～６の鎖式炭化水素基とを組み合わせた基（該組み合わせた基に含まれる－ＣＨ2
－は、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＳＯ２－又は－ＣＯ－に置き換わっていてもよい。）、又は、
炭素数１～４のアルキル基、ヒドロキシ基及びフッ素原子からなる群より選ばれる１以上
を有してもよい炭素数６～１２の多環の脂環式炭化水素基と炭素数１～６の鎖式炭化水素
基とを組み合わせた基（該組み合わせた基に含まれる－ＣＨ2－は、－Ｏ－、－Ｓ－、－
ＳＯ２－又は－ＣＯ－に置き換わっていてもよい。）であり、
特に好ましくは、炭素数１～４のアルキル基、ヒドロキシ基及びフッ素原子からなる群
より選ばれる１以上を有してもよい炭素数３～８の単環の脂環式炭化水素基（該脂環式炭
化水素基に含まれる－ＣＨ2－は、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＳＯ２－又は－ＣＯ－に置き換わ
っていてもよい。）、又は、炭素数１～４のアルキル基、ヒドロキシ基及びフッ素原子か
らなる群より選ばれる１以上を有してもよい炭素数６～１２の多環の脂環式炭化水素基（
該脂環式炭化水素基に含まれる－ＣＨ2－は、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＳＯ２－又は－ＣＯ－
に置き換わっていてもよい。）である。
Ｒ２の炭素数１～６のアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプ
ロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基等の
アルキル基が挙げられる。アルキル基の炭素数は、好ましくは１～４である。
Ｒ２のハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子及びヨウ素原子等が挙
げられる。
ｍ２は、０～４のいずれかの整数であり、０～２のいずれかの整数であることが好まし
い。一実施形態では、ｍ２は０であるものが好ましい。また、別の実施形態では、ｍ２が
１又は２であるものが好ましい。ｍ２が１である場合、Ｒ２がハロゲン原子であることが
好ましく、Ｒ２がフッ素原子又ヨウ素原子であることがより好ましい。ｍ２が２である場
合、Ｒ２の一方がハロゲン原子であり、他方がハロゲン原子又は炭素数１～４のアルキル
基であることが好ましく、Ｒ２の一方がフッ素原子又ヨウ素原子であり、他方がフッ素原
子、ヨウ素原子又は炭素数１～３のアルキル基であることがより好ましい。
ロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基等の
アルキル基が挙げられる。アルキル基の炭素数は、好ましくは１～４である。
Ｒ２のハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子及びヨウ素原子等が挙
げられる。
ｍ２は、０～４のいずれかの整数であり、０～２のいずれかの整数であることが好まし
い。一実施形態では、ｍ２は０であるものが好ましい。また、別の実施形態では、ｍ２が
１又は２であるものが好ましい。ｍ２が１である場合、Ｒ２がハロゲン原子であることが
好ましく、Ｒ２がフッ素原子又ヨウ素原子であることがより好ましい。ｍ２が２である場
合、Ｒ２の一方がハロゲン原子であり、他方がハロゲン原子又は炭素数１～４のアルキル
基であることが好ましく、Ｒ２の一方がフッ素原子又ヨウ素原子であり、他方がフッ素原
子、ヨウ素原子又は炭素数１～３のアルキル基であることがより好ましい。
アニオン（Ｉ）としては、例えば、以下のアニオンが挙げられる。なかでも、式（Ｉａ
－１）～式（Ｉａ－９）、式（Ｉａ－１６）、式（Ｉａ－１８）～式（Ｉａ－２６）で表
されるアニオンが好ましい。
－１）～式（Ｉａ－９）、式（Ｉａ－１６）、式（Ｉａ－１８）～式（Ｉａ－２６）で表
されるアニオンが好ましい。
アニオン（Ｉ）においては、特に、ＳＯ３
－基に対してメタ位にエステル基による電子
吸引性が１つのみ存在する場合には、エステル基による電子吸引性が２つ存在する場合に
比べて、後述するようなレジスト組成物において、レジストパターン形成時のラインエッ
ジラフネス（ＬＥＲ）に効果的に作用させることができる。特に、Ｒ１が脱離基を有し、
酸との接触により脱離基が脱離して親水性基（例えば、ヒドロキシ基又はカルボキシ基）
を形成し得る構造を有する場合には、より顕著であると考えられる。
吸引性が１つのみ存在する場合には、エステル基による電子吸引性が２つ存在する場合に
比べて、後述するようなレジスト組成物において、レジストパターン形成時のラインエッ
ジラフネス（ＬＥＲ）に効果的に作用させることができる。特に、Ｒ１が脱離基を有し、
酸との接触により脱離基が脱離して親水性基（例えば、ヒドロキシ基又はカルボキシ基）
を形成し得る構造を有する場合には、より顕著であると考えられる。
Ｚ＋の有機カチオンとしては、有機オニウムカチオン、有機スルホニウムカチオン、有
機ヨードニウムカチオン、有機アンモニウムカチオン、ベンゾチアゾリウムカチオン及び
有機ホスホニウムカチオン等が挙げられる。これらの中でも、有機スルホニウムカチオン
及び有機ヨードニウムカチオンが好ましく、アリールスルホニウムカチオンがより好まし
い。具体的には、式（ｂ２－１）～式（ｂ２－４）のいずれかで表されるカチオン（以下
、式番号に応じて「カチオン（ｂ２－１）」等という場合がある。）が挙げられる。
式（ｂ２－１）～式（ｂ２－４）において、
Ｒb4～Ｒb6は、それぞれ独立に、炭素数１～３０の鎖式炭化水素基、炭素数３～３６の
脂環式炭化水素基又は炭素数６～３６の芳香族炭化水素基を表し、該鎖式炭化水素基に含
まれる水素原子は、ヒドロキシ基、炭素数１～１２のアルコキシ基、炭素数３～１２の脂
環式炭化水素基又は炭素数６～１８の芳香族炭化水素基で置換されていてもよく、該脂環
式炭化水素基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子、炭素数１～１８の脂肪族炭化水素基
、炭素数２～４のアルキルカルボニル基又はグリシジルオキシ基で置換されていてもよく
、該芳香族炭化水素基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子、ヒドロキシ基又は炭素数１
～１２のアルコキシ基で置換されていてもよい。
Ｒb4とＲb5とは、互いに結合してそれらが結合する硫黄原子と一緒になって環を形成し
てもよく、該環に含まれる－ＣＨ2－は、－Ｏ－、－Ｓ－又は－ＣＯ－に置き換わっても
よい。
Ｒb7及びＲb8は、それぞれ独立に、ヒドロキシ基、炭素数１～１２の脂肪族炭化水素基
又は炭素数１～１２のアルコキシ基を表す。
ｍ２及びｎ２は、それぞれ独立に０～５のいずれかの整数を表す。
ｍ２が２以上のとき、複数のＲb7は同一でも異なってもよく、ｎ２が２以上のとき、複
数のＲb8は同一でも異なってもよい。
Ｒb9及びＲb10は、それぞれ独立に、炭素数１～３６の鎖式炭化水素基又は炭素数３～
３６の脂環式炭化水素基を表す。
Ｒb9とＲb10とは、互いに結合してそれらが結合する硫黄原子と一緒になって環を形成
してもよく、該環に含まれる－ＣＨ2－は、－Ｏ－、－Ｓ－又は－ＣＯ－に置き換わって
もよい。
Ｒb11は、水素原子、炭素数１～３６の鎖式炭化水素基、炭素数３～３６の脂環式炭化
水素基又は炭素数６～１８の芳香族炭化水素基を表す。
Ｒb12は、炭素数１～１２の鎖式炭化水素基、炭素数３～１８の脂環式炭化水素基又は
炭素数６～１８の芳香族炭化水素基を表し、該鎖式炭化水素に含まれる水素原子は、炭素
数６～１８の芳香族炭化水素基で置換されていてもよく、該芳香族炭化水素基に含まれる
水素原子は、炭素数１～１２のアルコキシ基又は炭素数１～１２のアルキルカルボニルオ
キシ基で置換されていてもよい。
Ｒb11とＲb12とは、互いに結合してそれらが結合する－ＣＨ－ＣＯ－を含めて環を形成
していてもよく、該環に含まれる－ＣＨ2－は、－Ｏ－、－Ｓ－又は－ＣＯ－に置き換わ
ってもよい。
Ｒb13～Ｒb18は、それぞれ独立に、ヒドロキシ基、炭素数１～１２の脂肪族炭化水素基
又は炭素数１～１２のアルコキシ基を表す。
Ｌb31は、硫黄原子又は酸素原子を表す。
ｏ２、ｐ２、ｓ２、及びｔ２は、それぞれ独立に、０～５のいずれかの整数を表す。
ｑ２及びｒ２は、それぞれ独立に、０～４のいずれかの整数を表す。
ｕ２は０又は１を表す。
ｏ２が２以上のとき、複数のＲb13は同一又は相異なり、ｐ２が２以上のとき、複数の
Ｒb14は同一又は相異なり、ｑ２が２以上のとき、複数のＲb15は同一又は相異なり、ｒ２
が２以上のとき、複数のＲb16は同一又は相異なり、ｓ２が２以上のとき、複数のＲb17は
同一又は相異なり、ｔ２が２以上のとき、複数のＲb18は同一又は相異なる。
機ヨードニウムカチオン、有機アンモニウムカチオン、ベンゾチアゾリウムカチオン及び
有機ホスホニウムカチオン等が挙げられる。これらの中でも、有機スルホニウムカチオン
及び有機ヨードニウムカチオンが好ましく、アリールスルホニウムカチオンがより好まし
い。具体的には、式（ｂ２－１）～式（ｂ２－４）のいずれかで表されるカチオン（以下
、式番号に応じて「カチオン（ｂ２－１）」等という場合がある。）が挙げられる。
Ｒb4～Ｒb6は、それぞれ独立に、炭素数１～３０の鎖式炭化水素基、炭素数３～３６の
脂環式炭化水素基又は炭素数６～３６の芳香族炭化水素基を表し、該鎖式炭化水素基に含
まれる水素原子は、ヒドロキシ基、炭素数１～１２のアルコキシ基、炭素数３～１２の脂
環式炭化水素基又は炭素数６～１８の芳香族炭化水素基で置換されていてもよく、該脂環
式炭化水素基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子、炭素数１～１８の脂肪族炭化水素基
、炭素数２～４のアルキルカルボニル基又はグリシジルオキシ基で置換されていてもよく
、該芳香族炭化水素基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子、ヒドロキシ基又は炭素数１
～１２のアルコキシ基で置換されていてもよい。
Ｒb4とＲb5とは、互いに結合してそれらが結合する硫黄原子と一緒になって環を形成し
てもよく、該環に含まれる－ＣＨ2－は、－Ｏ－、－Ｓ－又は－ＣＯ－に置き換わっても
よい。
Ｒb7及びＲb8は、それぞれ独立に、ヒドロキシ基、炭素数１～１２の脂肪族炭化水素基
又は炭素数１～１２のアルコキシ基を表す。
ｍ２及びｎ２は、それぞれ独立に０～５のいずれかの整数を表す。
ｍ２が２以上のとき、複数のＲb7は同一でも異なってもよく、ｎ２が２以上のとき、複
数のＲb8は同一でも異なってもよい。
Ｒb9及びＲb10は、それぞれ独立に、炭素数１～３６の鎖式炭化水素基又は炭素数３～
３６の脂環式炭化水素基を表す。
Ｒb9とＲb10とは、互いに結合してそれらが結合する硫黄原子と一緒になって環を形成
してもよく、該環に含まれる－ＣＨ2－は、－Ｏ－、－Ｓ－又は－ＣＯ－に置き換わって
もよい。
Ｒb11は、水素原子、炭素数１～３６の鎖式炭化水素基、炭素数３～３６の脂環式炭化
水素基又は炭素数６～１８の芳香族炭化水素基を表す。
Ｒb12は、炭素数１～１２の鎖式炭化水素基、炭素数３～１８の脂環式炭化水素基又は
炭素数６～１８の芳香族炭化水素基を表し、該鎖式炭化水素に含まれる水素原子は、炭素
数６～１８の芳香族炭化水素基で置換されていてもよく、該芳香族炭化水素基に含まれる
水素原子は、炭素数１～１２のアルコキシ基又は炭素数１～１２のアルキルカルボニルオ
キシ基で置換されていてもよい。
Ｒb11とＲb12とは、互いに結合してそれらが結合する－ＣＨ－ＣＯ－を含めて環を形成
していてもよく、該環に含まれる－ＣＨ2－は、－Ｏ－、－Ｓ－又は－ＣＯ－に置き換わ
ってもよい。
Ｒb13～Ｒb18は、それぞれ独立に、ヒドロキシ基、炭素数１～１２の脂肪族炭化水素基
又は炭素数１～１２のアルコキシ基を表す。
Ｌb31は、硫黄原子又は酸素原子を表す。
ｏ２、ｐ２、ｓ２、及びｔ２は、それぞれ独立に、０～５のいずれかの整数を表す。
ｑ２及びｒ２は、それぞれ独立に、０～４のいずれかの整数を表す。
ｕ２は０又は１を表す。
ｏ２が２以上のとき、複数のＲb13は同一又は相異なり、ｐ２が２以上のとき、複数の
Ｒb14は同一又は相異なり、ｑ２が２以上のとき、複数のＲb15は同一又は相異なり、ｒ２
が２以上のとき、複数のＲb16は同一又は相異なり、ｓ２が２以上のとき、複数のＲb17は
同一又は相異なり、ｔ２が２以上のとき、複数のＲb18は同一又は相異なる。
脂肪族炭化水素基とは、鎖式炭化水素基及び脂環式炭化水素基を表す。
鎖式炭化水素基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル
基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基及び
２－エチルヘキシル基のアルキル基が挙げられる。
特に、Ｒb9～Ｒb12の鎖式炭化水素基は、好ましくは炭素数１～１２である。
脂環式炭化水素基としては、単環式又は多環式のいずれでもよく、単環式の脂環式炭化
水素基としては、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロへキシ
ル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、シクロデシル基等のシクロアルキル基が挙
げられる。多環式の脂環式炭化水素基としては、デカヒドロナフチル基、アダマンチル基
、ノルボルニル基及び下記の基等が挙げられる。
特に、Ｒb9～Ｒb12の脂環式炭化水素基は、好ましくは炭素数３～１８、より好ましく
は炭素数４～１２である。
水素原子が脂肪族炭化水素基で置換された脂環式炭化水素基としては、メチルシクロヘ
キシル基、ジメチルシクロへキシル基、２－メチルアダマンタン－２－イル基、２－エチ
ルアダマンタン－２－イル基、２－イソプロピルアダマンタン－２－イル基、メチルノル
ボルニル基、イソボルニル基等が挙げられる。水素原子が脂肪族炭化水素基で置換された
脂環式炭化水素基においては、脂環式炭化水素基と脂肪族炭化水素基との合計炭素数が好
ましくは２０以下である。
芳香族炭化水素基としては、フェニル基、ビフェニリル基、ナフチル基、フェナントリ
ル基等のアリール基等が挙げられる。芳香族炭化水素基は、鎖式炭化水素基又は脂環式炭
化水素基を有していてもよく、鎖式炭化水素基を有する芳香族炭化水素基（トリル基、キ
シリル基、クメニル基、メシチル基、ｐ－エチルフェニル基、ｐ－ｔｅｒｔ－ブチルフェ
ニル基、２，６－ジエチルフェニル基、２－メチル－６－エチルフェニル基等）及び脂環
式炭化水素基を有する芳香族炭化水素基（ｐ－シクロへキシルフェニル基、ｐ－アダマン
チルフェニル基等）等が挙げられる。
なお、芳香族炭化水素基が、鎖式炭化水素基又は脂環式炭化水素基を有する場合は、炭
素数１～１８の鎖式炭化水素基及び炭素数３～１８の脂環式炭化水素基が好ましい。
水素原子がアルコキシ基で置換された芳香族炭化水素基としては、ｐ－メトキシフェニ
ル基等が挙げられる。
水素原子が芳香族炭化水素基で置換された鎖式炭化水素基としては、ベンジル基、フェ
ネチル基、フェニルプロピル基、トリチル基、ナフチルメチル基、ナフチルエチル基等の
アラルキル基が挙げられる。
鎖式炭化水素基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル
基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基及び
２－エチルヘキシル基のアルキル基が挙げられる。
特に、Ｒb9～Ｒb12の鎖式炭化水素基は、好ましくは炭素数１～１２である。
脂環式炭化水素基としては、単環式又は多環式のいずれでもよく、単環式の脂環式炭化
水素基としては、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロへキシ
ル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、シクロデシル基等のシクロアルキル基が挙
げられる。多環式の脂環式炭化水素基としては、デカヒドロナフチル基、アダマンチル基
、ノルボルニル基及び下記の基等が挙げられる。
は炭素数４～１２である。
水素原子が脂肪族炭化水素基で置換された脂環式炭化水素基としては、メチルシクロヘ
キシル基、ジメチルシクロへキシル基、２－メチルアダマンタン－２－イル基、２－エチ
ルアダマンタン－２－イル基、２－イソプロピルアダマンタン－２－イル基、メチルノル
ボルニル基、イソボルニル基等が挙げられる。水素原子が脂肪族炭化水素基で置換された
脂環式炭化水素基においては、脂環式炭化水素基と脂肪族炭化水素基との合計炭素数が好
ましくは２０以下である。
芳香族炭化水素基としては、フェニル基、ビフェニリル基、ナフチル基、フェナントリ
ル基等のアリール基等が挙げられる。芳香族炭化水素基は、鎖式炭化水素基又は脂環式炭
化水素基を有していてもよく、鎖式炭化水素基を有する芳香族炭化水素基（トリル基、キ
シリル基、クメニル基、メシチル基、ｐ－エチルフェニル基、ｐ－ｔｅｒｔ－ブチルフェ
ニル基、２，６－ジエチルフェニル基、２－メチル－６－エチルフェニル基等）及び脂環
式炭化水素基を有する芳香族炭化水素基（ｐ－シクロへキシルフェニル基、ｐ－アダマン
チルフェニル基等）等が挙げられる。
なお、芳香族炭化水素基が、鎖式炭化水素基又は脂環式炭化水素基を有する場合は、炭
素数１～１８の鎖式炭化水素基及び炭素数３～１８の脂環式炭化水素基が好ましい。
水素原子がアルコキシ基で置換された芳香族炭化水素基としては、ｐ－メトキシフェニ
ル基等が挙げられる。
水素原子が芳香族炭化水素基で置換された鎖式炭化水素基としては、ベンジル基、フェ
ネチル基、フェニルプロピル基、トリチル基、ナフチルメチル基、ナフチルエチル基等の
アラルキル基が挙げられる。
アルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、ペンチ
ルオキシ基、ヘキシルオキシ基、ヘプチルオキシ基、オクチルオキシ基、デシルオキシ基
及びドデシルオキシ基等が挙げられる。
アルキルカルボニル基としては、アセチル基、プロピオニル基及びブチリル基等が挙げ
られる。
ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子及びヨウ素原子等が挙げられ
る。
アルキルカルボニルオキシ基としては、メチルカルボニルオキシ基、エチルカルボニル
オキシ基、プロピルカルボニルオキシ基、イソプロピルカルボニルオキシ基、ブチルカル
ボニルオキシ基、ｓｅｃ－ブチルカルボニルオキシ基、ｔｅｒｔ－ブチルカルボニルオキ
シ基、ペンチルカルボニルオキシ基、ヘキシルカルボニルオキシ基、オクチルカルボニル
オキシ基及び２－エチルヘキシルカルボニルオキシ基等が挙げられる。
ルオキシ基、ヘキシルオキシ基、ヘプチルオキシ基、オクチルオキシ基、デシルオキシ基
及びドデシルオキシ基等が挙げられる。
アルキルカルボニル基としては、アセチル基、プロピオニル基及びブチリル基等が挙げ
られる。
ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子及びヨウ素原子等が挙げられ
る。
アルキルカルボニルオキシ基としては、メチルカルボニルオキシ基、エチルカルボニル
オキシ基、プロピルカルボニルオキシ基、イソプロピルカルボニルオキシ基、ブチルカル
ボニルオキシ基、ｓｅｃ－ブチルカルボニルオキシ基、ｔｅｒｔ－ブチルカルボニルオキ
シ基、ペンチルカルボニルオキシ基、ヘキシルカルボニルオキシ基、オクチルカルボニル
オキシ基及び２－エチルヘキシルカルボニルオキシ基等が挙げられる。
Ｒb4とＲb5とが互いに結合してそれらが結合する硫黄原子と一緒になって形成する環は
、単環式、多環式、芳香族性、非芳香族性、飽和及び不飽和のいずれの環であってもよい
。この環は、炭素数３～１８の環が挙げられ、好ましくは炭素数４～１８の環である。ま
た、硫黄原子を含む環は、３員環～１２員環が挙げられ、好ましくは３員環～７員環であ
り、例えば下記の環が挙げられる。＊は結合部位を表す。
Ｒb9とＲb10とが一緒になって形成する環は、単環式、多環式、芳香族性、非芳香族性
、飽和及び不飽和のいずれの環であってもよい。この環は、３員環～１２員環が挙げられ
、好ましくは３員環～７員環である。例えば、チオラン－１－イウム環（テトラヒドロチ
オフェニウム環）、チアン－１－イウム環、１，４－オキサチアン－４－イウム環等が挙
げられる。
Ｒb11とＲb12とが一緒になって形成する環は、単環式、多環式、芳香族性、非芳香族性
、飽和及び不飽和のいずれの環であってもよい。この環は、３員環～１２員環が挙げられ
、好ましくは３員環～７員環である。オキソシクロヘプタン環、オキソシクロヘキサン環
、オキソノルボルナン環、オキソアダマンタン環等が挙げられる。
、単環式、多環式、芳香族性、非芳香族性、飽和及び不飽和のいずれの環であってもよい
。この環は、炭素数３～１８の環が挙げられ、好ましくは炭素数４～１８の環である。ま
た、硫黄原子を含む環は、３員環～１２員環が挙げられ、好ましくは３員環～７員環であ
り、例えば下記の環が挙げられる。＊は結合部位を表す。
、飽和及び不飽和のいずれの環であってもよい。この環は、３員環～１２員環が挙げられ
、好ましくは３員環～７員環である。例えば、チオラン－１－イウム環（テトラヒドロチ
オフェニウム環）、チアン－１－イウム環、１，４－オキサチアン－４－イウム環等が挙
げられる。
Ｒb11とＲb12とが一緒になって形成する環は、単環式、多環式、芳香族性、非芳香族性
、飽和及び不飽和のいずれの環であってもよい。この環は、３員環～１２員環が挙げられ
、好ましくは３員環～７員環である。オキソシクロヘプタン環、オキソシクロヘキサン環
、オキソノルボルナン環、オキソアダマンタン環等が挙げられる。
カチオン（ｂ２－１）～カチオン（ｂ２－４）の中でも、好ましくは、カチオン（ｂ２
－１）である。
カチオン（ｂ２－１）としては、以下のカチオンが挙げられる。
－１）である。
カチオン（ｂ２－１）としては、以下のカチオンが挙げられる。
カチオン（ｂ２－２）としては、以下のカチオンが挙げられる。
カチオン（ｂ２－３）としては、以下のカチオンが挙げられる。
カチオン（ｂ２－４）としては、以下のカチオンが挙げられる。
塩（Ｉ）としては、表１に記載の塩が挙げられる。例えば表１において、塩（Ｉ－１）
は、式（Ｉａ－１）で表されるアニオンと式（ｂ２－ｃ－１）で表されるカチオンとから
なる塩であり、以下に示す塩である。
は、式（Ｉａ－１）で表されるアニオンと式（ｂ２－ｃ－１）で表されるカチオンとから
なる塩であり、以下に示す塩である。
なかでも、塩（Ｉ）は、塩（Ｉ－１）～塩（Ｉ－９）、塩（Ｉ－１６）、塩（Ｉ－１８
）～塩（Ｉ－２９）、塩（Ｉ－３６）、塩（Ｉ－３８）～塩（Ｉ－４９）、塩（Ｉ－５６
）、塩（Ｉ－５８）～塩（Ｉ－６９）、塩（Ｉ－７６）、塩（Ｉ－７８）～塩（Ｉ－８９
）、塩（Ｉ－９６）、塩（Ｉ－９８）～塩（Ｉ－１０９）、塩（Ｉ－１１６）、塩（Ｉ－
１１８）～塩（Ｉ－１２９）、塩（Ｉ－１３６）、塩（Ｉ－１３８）～塩（Ｉ－１４９）
、塩（Ｉ－１５６）、塩（Ｉ－１５８）～塩（Ｉ－１６９）、塩（Ｉ－１７６）、塩（Ｉ
－１７８）～塩（Ｉ－１８９）、塩（Ｉ－１９６）、塩（Ｉ－１９８）～塩（Ｉ－２００
）、塩（Ｉ－２０１）～塩（Ｉ－２６０）が好ましい。
）～塩（Ｉ－２９）、塩（Ｉ－３６）、塩（Ｉ－３８）～塩（Ｉ－４９）、塩（Ｉ－５６
）、塩（Ｉ－５８）～塩（Ｉ－６９）、塩（Ｉ－７６）、塩（Ｉ－７８）～塩（Ｉ－８９
）、塩（Ｉ－９６）、塩（Ｉ－９８）～塩（Ｉ－１０９）、塩（Ｉ－１１６）、塩（Ｉ－
１１８）～塩（Ｉ－１２９）、塩（Ｉ－１３６）、塩（Ｉ－１３８）～塩（Ｉ－１４９）
、塩（Ｉ－１５６）、塩（Ｉ－１５８）～塩（Ｉ－１６９）、塩（Ｉ－１７６）、塩（Ｉ
－１７８）～塩（Ｉ－１８９）、塩（Ｉ－１９６）、塩（Ｉ－１９８）～塩（Ｉ－２００
）、塩（Ｉ－２０１）～塩（Ｉ－２６０）が好ましい。
＜塩（Ｉ）の製造方法＞
塩（Ｉ）は、例えば、式（Ｉ－ａ）で表される塩と式（Ｉ１－ｂ）で表される塩とを、
溶媒中で反応させることにより製造することができる。
（式中、全ての符号は、それぞれ前記と同じ意味を表す。Ｘは、ハロゲン原子又はＣＨ
３ＳＯ４を表す。）
この反応における溶媒としては、クロロホルム、アセトニトリル、ジメチルホルムアミ
ド等が挙げられる。
反応温度は通常５℃～８０℃であり、反応時間は通常０．５時間～２４時間である。
塩（Ｉ）は、例えば、式（Ｉ－ａ）で表される塩と式（Ｉ１－ｂ）で表される塩とを、
溶媒中で反応させることにより製造することができる。
３ＳＯ４を表す。）
この反応における溶媒としては、クロロホルム、アセトニトリル、ジメチルホルムアミ
ド等が挙げられる。
反応温度は通常５℃～８０℃であり、反応時間は通常０．５時間～２４時間である。
式（Ｉ－ａ）で表される塩は、例えば、以下で表される塩などが挙げられ、市場より容
易に入手することができる。
易に入手することができる。
式（Ｉ－ｂ）で表される塩は、例えば、式（Ｉ－ｃ）で表される塩とカルボニルジイミ
ダゾールとを、溶媒中で反応させた後、さらに、式（Ｉ－ｄ）で表される化合物と反応さ
せることにより製造することができる。
（式中、全ての符号は、それぞれ前記と同じ意味を表す。）
この反応における溶媒としては、クロロホルム、アセトニトリル、ジメチルホルムアミ
ド等が挙げられる。
反応温度は通常５℃～８０℃であり、反応時間は通常０．５時間～２４時間である。
式（Ｉ－ｃ）で表される塩は、例えば、以下で表される塩などが挙げられ、市場より容
易に入手することができる。
式（Ｉ－ｄ）で表される化合物としては、下記式で表される化合物等が挙げられ、市場
より容易に入手することができる。
ダゾールとを、溶媒中で反応させた後、さらに、式（Ｉ－ｄ）で表される化合物と反応さ
せることにより製造することができる。
この反応における溶媒としては、クロロホルム、アセトニトリル、ジメチルホルムアミ
ド等が挙げられる。
反応温度は通常５℃～８０℃であり、反応時間は通常０．５時間～２４時間である。
式（Ｉ－ｃ）で表される塩は、例えば、以下で表される塩などが挙げられ、市場より容
易に入手することができる。
より容易に入手することができる。
＜酸発生剤＞
本発明の酸発生剤は、塩（Ｉ）を含有する酸発生剤である。塩（Ｉ）は単独で用いても
よいし、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
本発明の酸発生剤は、塩（Ｉ）に加えて、レジスト分野で公知の酸発生剤（以下「酸発
生剤（Ｂ）」という場合がある）を含有していてもよい。酸発生剤（Ｂ）は、単独で用い
てもよいし、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
本発明の酸発生剤は、塩（Ｉ）を含有する酸発生剤である。塩（Ｉ）は単独で用いても
よいし、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
本発明の酸発生剤は、塩（Ｉ）に加えて、レジスト分野で公知の酸発生剤（以下「酸発
生剤（Ｂ）」という場合がある）を含有していてもよい。酸発生剤（Ｂ）は、単独で用い
てもよいし、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
酸発生剤（Ｂ）は、非イオン系又はイオン系のいずれを用いてもよい。非イオン系酸発
生剤としては、スルホネートエステル類（例えば２－ニトロベンジルエステル、芳香族ス
ルホネート、オキシムスルホネート、Ｎ－スルホニルオキシイミド、スルホニルオキシケ
トン、ジアゾナフトキノン ４－スルホネート）、スルホン類（例えばジスルホン、ケト
スルホン、スルホニルジアゾメタン）等が挙げられる。イオン系酸発生剤としては、オニ
ウムカチオンを含むオニウム塩（例えばジアゾニウム塩、ホスホニウム塩、スルホニウム
塩、ヨードニウム塩）が代表的である。オニウム塩のアニオンとしては、スルホン酸アニ
オン、スルホニルイミドアニオン、スルホニルメチドアニオン等が挙げられる。
酸発生剤（Ｂ）としては、特開昭６３－２６６５３号、特開昭５５－１６４８２４号、
特開昭６２－６９２６３号、特開昭６３－１４６０３８号、特開昭６３－１６３４５２号
、特開昭６２－１５３８５３号、特開昭６３－１４６０２９号、米国特許第３，７７９，
７７８号、米国特許第３，８４９，１３７号、独国特許第３９１４４０７号、欧州特許第
１２６，７１２号等に記載の放射線によって酸を発生する化合物を使用することができる
。また、公知の方法で製造した化合物を使用してもよい。酸発生剤（Ｂ）は、２種以上を
組み合わせて用いてもよい。
生剤としては、スルホネートエステル類（例えば２－ニトロベンジルエステル、芳香族ス
ルホネート、オキシムスルホネート、Ｎ－スルホニルオキシイミド、スルホニルオキシケ
トン、ジアゾナフトキノン ４－スルホネート）、スルホン類（例えばジスルホン、ケト
スルホン、スルホニルジアゾメタン）等が挙げられる。イオン系酸発生剤としては、オニ
ウムカチオンを含むオニウム塩（例えばジアゾニウム塩、ホスホニウム塩、スルホニウム
塩、ヨードニウム塩）が代表的である。オニウム塩のアニオンとしては、スルホン酸アニ
オン、スルホニルイミドアニオン、スルホニルメチドアニオン等が挙げられる。
酸発生剤（Ｂ）としては、特開昭６３－２６６５３号、特開昭５５－１６４８２４号、
特開昭６２－６９２６３号、特開昭６３－１４６０３８号、特開昭６３－１６３４５２号
、特開昭６２－１５３８５３号、特開昭６３－１４６０２９号、米国特許第３，７７９，
７７８号、米国特許第３，８４９，１３７号、独国特許第３９１４４０７号、欧州特許第
１２６，７１２号等に記載の放射線によって酸を発生する化合物を使用することができる
。また、公知の方法で製造した化合物を使用してもよい。酸発生剤（Ｂ）は、２種以上を
組み合わせて用いてもよい。
酸発生剤（Ｂ）は、好ましくはフッ素含有酸発生剤であり、より好ましくは式（Ｂ１）
で表される塩（以下「酸発生剤（Ｂ１）」という場合がある。但し、塩（Ｉ）を除く。）
である。
［式（Ｂ１）中、
Ｑｂ１及びＱｂ２は、それぞれ独立に、フッ素原子又は炭素数１～６のペルフルオロア
ルキル基を表す。
Ｌｂ１は、炭素数１～２４の２価の飽和炭化水素基を表し、該２価の飽和炭化水素基に
含まれる－ＣＨ２－は、－Ｏ－又は－ＣＯ－に置き換わっていてもよく、該２価の飽和炭
化水素基に含まれる水素原子は、フッ素原子又はヒドロキシ基で置換されていてもよい。
Ｙは、置換基を有していてもよいメチル基又は置換基を有していてもよい炭素数３～１
８の脂環式炭化水素基を表し、該脂環式炭化水素基に含まれる－ＣＨ２－は、－Ｏ－、－
Ｓ（Ｏ）２－又は－ＣＯ－に置き換わっていてもよい。
Ｚ１＋は、有機カチオンを表す。］
で表される塩（以下「酸発生剤（Ｂ１）」という場合がある。但し、塩（Ｉ）を除く。）
である。
Ｑｂ１及びＱｂ２は、それぞれ独立に、フッ素原子又は炭素数１～６のペルフルオロア
ルキル基を表す。
Ｌｂ１は、炭素数１～２４の２価の飽和炭化水素基を表し、該２価の飽和炭化水素基に
含まれる－ＣＨ２－は、－Ｏ－又は－ＣＯ－に置き換わっていてもよく、該２価の飽和炭
化水素基に含まれる水素原子は、フッ素原子又はヒドロキシ基で置換されていてもよい。
Ｙは、置換基を有していてもよいメチル基又は置換基を有していてもよい炭素数３～１
８の脂環式炭化水素基を表し、該脂環式炭化水素基に含まれる－ＣＨ２－は、－Ｏ－、－
Ｓ（Ｏ）２－又は－ＣＯ－に置き換わっていてもよい。
Ｚ１＋は、有機カチオンを表す。］
Ｑｂ１及びＱｂ２の表すペルフルオロアルキル基としては、トリフルオロメチル基、ペ
ルフルオロエチル基、ペルフルオロプロピル基、ペルフルオロイソプロピル基、ペルフル
オロブチル基、ペルフルオロｓｅｃ－ブチル基、ペルフルオロｔｅｒｔ－ブチル基、ペル
フルオロペンチル基及びペルフルオロヘキシル基等が挙げられる。
Ｑｂ１及びＱｂ２は、それぞれ独立に、フッ素原子又はトリフルオロメチル基であるこ
とが好ましく、ともにフッ素原子であることがより好ましい。
ルフルオロエチル基、ペルフルオロプロピル基、ペルフルオロイソプロピル基、ペルフル
オロブチル基、ペルフルオロｓｅｃ－ブチル基、ペルフルオロｔｅｒｔ－ブチル基、ペル
フルオロペンチル基及びペルフルオロヘキシル基等が挙げられる。
Ｑｂ１及びＱｂ２は、それぞれ独立に、フッ素原子又はトリフルオロメチル基であるこ
とが好ましく、ともにフッ素原子であることがより好ましい。
Ｌｂ１における２価の飽和炭化水素基としては、直鎖状アルカンジイル基、分岐状アル
カンジイル基、単環式又は多環式の２価の脂環式飽和炭化水素基が挙げられ、これらの基
のうち２種以上を組合せることにより形成される基でもよい。
具体的には、メチレン基、エチレン基、プロパン－１，３－ジイル基、ブタン－１，４
－ジイル基、ペンタン－１，５－ジイル基、ヘキサン－１，６－ジイル基、ヘプタン－１
，７－ジイル基、オクタン－１，８－ジイル基、ノナン－１，９－ジイル基、デカン－１
，１０－ジイル基、ウンデカン－１，１１－ジイル基、ドデカン－１，１２－ジイル基、
トリデカン－１，１３－ジイル基、テトラデカン－１，１４－ジイル基、ペンタデカン－
１，１５－ジイル基、ヘキサデカン－１，１６－ジイル基及びヘプタデカン－１，１７－
ジイル基等の直鎖状アルカンジイル基；
エタン－１，１－ジイル基、プロパン－１，１－ジイル基、プロパン－１，２－ジイル
基、プロパン－２，２－ジイル基、ペンタン－２，４－ジイル基、２－メチルプロパン－
１，３－ジイル基、２－メチルプロパン－１，２－ジイル基、ペンタン－１，４－ジイル
基、２－メチルブタン－１，４－ジイル基等の分岐状アルカンジイル基；
シクロブタン－１，３－ジイル基、シクロペンタン－１，３－ジイル基、シクロヘキサ
ン－１，４－ジイル基、シクロオクタン－１，５－ジイル基等のシクロアルカンジイル基
である単環式の２価の脂環式飽和炭化水素基；
ノルボルナン－１，４－ジイル基、ノルボルナン－２，５－ジイル基、アダマンタン－
１，５－ジイル基、アダマンタン－２，６－ジイル基等の多環式の２価の脂環式飽和炭化
水素基等が挙げられる。
Ｌｂ１で表される２価の飽和炭化水素基に含まれる－ＣＨ２－が－Ｏ－又は－ＣＯ－で
置き換わった基としては、例えば、式（ｂ１－１）～式（ｂ１－３）のいずれかで表され
る基が挙げられる。なお、式（ｂ１－１）～式（ｂ１－３）で表される基及びそれらの具
体例である式（ｂ１－４）～式（ｂ１－１１）で表される基において、＊及び＊＊は結合
部位を表し、＊は－Ｙとの結合手を表す。
カンジイル基、単環式又は多環式の２価の脂環式飽和炭化水素基が挙げられ、これらの基
のうち２種以上を組合せることにより形成される基でもよい。
具体的には、メチレン基、エチレン基、プロパン－１，３－ジイル基、ブタン－１，４
－ジイル基、ペンタン－１，５－ジイル基、ヘキサン－１，６－ジイル基、ヘプタン－１
，７－ジイル基、オクタン－１，８－ジイル基、ノナン－１，９－ジイル基、デカン－１
，１０－ジイル基、ウンデカン－１，１１－ジイル基、ドデカン－１，１２－ジイル基、
トリデカン－１，１３－ジイル基、テトラデカン－１，１４－ジイル基、ペンタデカン－
１，１５－ジイル基、ヘキサデカン－１，１６－ジイル基及びヘプタデカン－１，１７－
ジイル基等の直鎖状アルカンジイル基；
エタン－１，１－ジイル基、プロパン－１，１－ジイル基、プロパン－１，２－ジイル
基、プロパン－２，２－ジイル基、ペンタン－２，４－ジイル基、２－メチルプロパン－
１，３－ジイル基、２－メチルプロパン－１，２－ジイル基、ペンタン－１，４－ジイル
基、２－メチルブタン－１，４－ジイル基等の分岐状アルカンジイル基；
シクロブタン－１，３－ジイル基、シクロペンタン－１，３－ジイル基、シクロヘキサ
ン－１，４－ジイル基、シクロオクタン－１，５－ジイル基等のシクロアルカンジイル基
である単環式の２価の脂環式飽和炭化水素基；
ノルボルナン－１，４－ジイル基、ノルボルナン－２，５－ジイル基、アダマンタン－
１，５－ジイル基、アダマンタン－２，６－ジイル基等の多環式の２価の脂環式飽和炭化
水素基等が挙げられる。
Ｌｂ１で表される２価の飽和炭化水素基に含まれる－ＣＨ２－が－Ｏ－又は－ＣＯ－で
置き換わった基としては、例えば、式（ｂ１－１）～式（ｂ１－３）のいずれかで表され
る基が挙げられる。なお、式（ｂ１－１）～式（ｂ１－３）で表される基及びそれらの具
体例である式（ｂ１－４）～式（ｂ１－１１）で表される基において、＊及び＊＊は結合
部位を表し、＊は－Ｙとの結合手を表す。
Ｌｂ２は、単結合又は炭素数１～２２の２価の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素
基に含まれる水素原子は、フッ素原子に置換されていてもよい。
Ｌｂ３は、単結合又は炭素数１～２２の２価の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素
基に含まれる水素原子は、フッ素原子又はヒドロキシ基に置換されていてもよく、該飽和
炭化水素基に含まれる－ＣＨ２－は、－Ｏ－又は－ＣＯ－に置き換わっていてもよい。
ただし、Ｌｂ２とＬｂ３との炭素数合計は、２２以下である。
式（ｂ１－２）中、
Ｌｂ４は、単結合又は炭素数１～２２の２価の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素
基に含まれる水素原子は、フッ素原子に置換されていてもよい。
Ｌｂ５は、単結合又は炭素数１～２２の２価の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素
基に含まれる水素原子は、フッ素原子又はヒドロキシ基に置換されていてもよく、該飽和
炭化水素基に含まれる－ＣＨ２－は、－Ｏ－又は－ＣＯ－に置き換わっていてもよい。
ただし、Ｌｂ４とＬｂ５との炭素数合計は、２２以下である。
式（ｂ１－３）中、
Ｌｂ６は、単結合又は炭素数１～２３の２価の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素
基に含まれる水素原子は、フッ素原子又はヒドロキシ基に置換されていてもよい。
Ｌｂ７は、単結合又は炭素数１～２３の２価の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素
基に含まれる水素原子は、フッ素原子又はヒドロキシ基に置換されていてもよく、該飽和
炭化水素基に含まれる－ＣＨ２－は、－Ｏ－又は－ＣＯ－に置き換わっていてもよい。
ただし、Ｌｂ６とＬｂ７との炭素数合計は、２３以下である。］
式（ｂ１－１）～式（ｂ１－３）で表される基においては、飽和炭化水素基に含まれる
－ＣＨ２－が－Ｏ－又は－ＣＯ－に置き換わっている場合、置き換わる前の炭素数を該飽
和炭化水素基の炭素数とする。
２価の飽和炭化水素基としては、Ｌｂ１の２価の飽和炭化水素基と同様のものが挙げら
れる。
－ＣＨ２－が－Ｏ－又は－ＣＯ－に置き換わっている場合、置き換わる前の炭素数を該飽
和炭化水素基の炭素数とする。
２価の飽和炭化水素基としては、Ｌｂ１の２価の飽和炭化水素基と同様のものが挙げら
れる。
Ｌｂ２は、好ましくは単結合である。
Ｌｂ３は、好ましくは炭素数１～４の２価の飽和炭化水素基である。
Ｌｂ４は、好ましくは炭素数１～８の２価の飽和炭化水素基であり、該２価の飽和炭化
水素基に含まれる水素原子はフッ素原子に置換されていてもよい。
Ｌｂ５は、好ましくは単結合又は炭素数１～８の２価の飽和炭化水素基である。
Ｌｂ６は、好ましくは単結合又は炭素数１～４の２価の飽和炭化水素基であり、該飽和
炭化水素基に含まれる水素原子はフッ素原子に置換されていてもよい。
Ｌｂ７は、好ましくは単結合又は炭素数１～１８の２価の飽和炭化水素基であり、該飽
和炭化水素基に含まれる水素原子はフッ素原子又はヒドロキシ基に置換されていてもよく
、該２価の飽和炭化水素基に含まれる－ＣＨ２－は－Ｏ－又は－ＣＯ－に置き換わってい
てもよい。
Ｌｂ３は、好ましくは炭素数１～４の２価の飽和炭化水素基である。
Ｌｂ４は、好ましくは炭素数１～８の２価の飽和炭化水素基であり、該２価の飽和炭化
水素基に含まれる水素原子はフッ素原子に置換されていてもよい。
Ｌｂ５は、好ましくは単結合又は炭素数１～８の２価の飽和炭化水素基である。
Ｌｂ６は、好ましくは単結合又は炭素数１～４の２価の飽和炭化水素基であり、該飽和
炭化水素基に含まれる水素原子はフッ素原子に置換されていてもよい。
Ｌｂ７は、好ましくは単結合又は炭素数１～１８の２価の飽和炭化水素基であり、該飽
和炭化水素基に含まれる水素原子はフッ素原子又はヒドロキシ基に置換されていてもよく
、該２価の飽和炭化水素基に含まれる－ＣＨ２－は－Ｏ－又は－ＣＯ－に置き換わってい
てもよい。
Ｌｂ１で表される２価の飽和炭化水素基に含まれる－ＣＨ２－が－Ｏ－又は－ＣＯ－で
置き換わった基としては、式（ｂ１－１）又は式（ｂ１－３）で表される基が好ましい。
置き換わった基としては、式（ｂ１－１）又は式（ｂ１－３）で表される基が好ましい。
式（ｂ１－１）で表される基としては、式（ｂ１－４）～式（ｂ１－８）でそれぞれ表
される基が挙げられる。
［式（ｂ１－４）中、
Ｌｂ８は、単結合又は炭素数１～２２の２価の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素
基に含まれる水素原子は、フッ素原子又はヒドロキシ基に置換されていてもよい。
式（ｂ１－５）中、
Ｌｂ９は、炭素数１～２０の２価の飽和炭化水素基を表し、該２価の飽和炭化水素基に
含まれる－ＣＨ２－は－Ｏ－又は－ＣＯ－に置き換わっていてもよい。
Ｌｂ１０は、単結合又は炭素数１～１９の２価の飽和炭化水素基を表し、該２価の飽和
炭化水素基に含まれる水素原子は、フッ素原子又はヒドロキシ基に置換されていてもよい
。
ただし、Ｌｂ９及びＬｂ１０の合計炭素数は２０以下である。
式（ｂ１－６）中、
Ｌｂ１１は、炭素数１～２１の２価の飽和炭化水素基を表す。
Ｌｂ１２は、単結合又は炭素数１～２０の２価の飽和炭化水素基を表し、該２価の飽和
炭化水素基に含まれる水素原子は、フッ素原子又はヒドロキシ基に置換されていてもよい
。
ただし、Ｌｂ１１及びＬｂ１２の合計炭素数は２１以下である。
式（ｂ１－７）中、
Ｌｂ１３は、炭素数１～１９の２価の飽和炭化水素基を表す。
Ｌｂ１４は、単結合又は炭素数１～１８の２価の飽和炭化水素基を表し、該２価の飽和
炭化水素基に含まれる－ＣＨ２－は－Ｏ－又は－ＣＯ－に置き換わっていてもよい。
Ｌｂ１５は、単結合又は炭素数１～１８の２価の飽和炭化水素基を表し、該２価の飽和
炭化水素基に含まれる水素原子は、フッ素原子又はヒドロキシ基に置換されていてもよい
。
ただし、Ｌｂ１３～Ｌｂ１５の合計炭素数は１９以下である。
式（ｂ１－８）中、
Ｌｂ１６は、炭素数１～１８の２価の飽和炭化水素基を表し、該２価の飽和炭化水素基
に含まれる－ＣＨ２－は－Ｏ－又は－ＣＯ－に置き換わっていてもよい。
Ｌｂ１７は、炭素数１～１８の２価の飽和炭化水素基を表す。
Ｌｂ１８は、単結合又は炭素数１～１７の２価の飽和炭化水素基を表し、該２価の飽和
炭化水素基に含まれる水素原子は、フッ素原子又はヒドロキシ基に置換されていてもよい
。
ただし、Ｌｂ１６～Ｌｂ１８の合計炭素数は１９以下である。］
される基が挙げられる。
Ｌｂ８は、単結合又は炭素数１～２２の２価の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素
基に含まれる水素原子は、フッ素原子又はヒドロキシ基に置換されていてもよい。
式（ｂ１－５）中、
Ｌｂ９は、炭素数１～２０の２価の飽和炭化水素基を表し、該２価の飽和炭化水素基に
含まれる－ＣＨ２－は－Ｏ－又は－ＣＯ－に置き換わっていてもよい。
Ｌｂ１０は、単結合又は炭素数１～１９の２価の飽和炭化水素基を表し、該２価の飽和
炭化水素基に含まれる水素原子は、フッ素原子又はヒドロキシ基に置換されていてもよい
。
ただし、Ｌｂ９及びＬｂ１０の合計炭素数は２０以下である。
式（ｂ１－６）中、
Ｌｂ１１は、炭素数１～２１の２価の飽和炭化水素基を表す。
Ｌｂ１２は、単結合又は炭素数１～２０の２価の飽和炭化水素基を表し、該２価の飽和
炭化水素基に含まれる水素原子は、フッ素原子又はヒドロキシ基に置換されていてもよい
。
ただし、Ｌｂ１１及びＬｂ１２の合計炭素数は２１以下である。
式（ｂ１－７）中、
Ｌｂ１３は、炭素数１～１９の２価の飽和炭化水素基を表す。
Ｌｂ１４は、単結合又は炭素数１～１８の２価の飽和炭化水素基を表し、該２価の飽和
炭化水素基に含まれる－ＣＨ２－は－Ｏ－又は－ＣＯ－に置き換わっていてもよい。
Ｌｂ１５は、単結合又は炭素数１～１８の２価の飽和炭化水素基を表し、該２価の飽和
炭化水素基に含まれる水素原子は、フッ素原子又はヒドロキシ基に置換されていてもよい
。
ただし、Ｌｂ１３～Ｌｂ１５の合計炭素数は１９以下である。
式（ｂ１－８）中、
Ｌｂ１６は、炭素数１～１８の２価の飽和炭化水素基を表し、該２価の飽和炭化水素基
に含まれる－ＣＨ２－は－Ｏ－又は－ＣＯ－に置き換わっていてもよい。
Ｌｂ１７は、炭素数１～１８の２価の飽和炭化水素基を表す。
Ｌｂ１８は、単結合又は炭素数１～１７の２価の飽和炭化水素基を表し、該２価の飽和
炭化水素基に含まれる水素原子は、フッ素原子又はヒドロキシ基に置換されていてもよい
。
ただし、Ｌｂ１６～Ｌｂ１８の合計炭素数は１９以下である。］
Ｌｂ８は、好ましくは炭素数１～４の２価の飽和炭化水素基である。
Ｌｂ９は、好ましくは炭素数１～８の２価の飽和炭化水素基である。
Ｌｂ１０は、好ましくは単結合又は炭素数１～１９の２価の飽和炭化水素基であり、よ
り好ましくは単結合又は炭素数１～８の２価の飽和炭化水素基である。
Ｌｂ１１は、好ましくは炭素数１～８の２価の飽和炭化水素基である。
Ｌｂ１２は、好ましくは単結合又は炭素数１～８の２価の飽和炭化水素基である。
Ｌｂ１３は、好ましくは炭素数１～１２の２価の飽和炭化水素基である。
Ｌｂ１４は、好ましくは単結合又は炭素数１～６の２価の飽和炭化水素基である。
Ｌｂ１５は、好ましくは単結合又は炭素数１～１８の２価の飽和炭化水素基であり、よ
り好ましくは単結合又は炭素数１～８の２価の飽和炭化水素基である。
Ｌｂ１６は、好ましくは炭素数１～１２の２価の飽和炭化水素基である。
Ｌｂ１７は、好ましくは炭素数１～６の２価の飽和炭化水素基である。
Ｌｂ１８は、好ましくは単結合又は炭素数１～１７の２価の飽和炭化水素基であり、よ
り好ましくは単結合又は炭素数１～４の２価の飽和炭化水素基である。
Ｌｂ９は、好ましくは炭素数１～８の２価の飽和炭化水素基である。
Ｌｂ１０は、好ましくは単結合又は炭素数１～１９の２価の飽和炭化水素基であり、よ
り好ましくは単結合又は炭素数１～８の２価の飽和炭化水素基である。
Ｌｂ１１は、好ましくは炭素数１～８の２価の飽和炭化水素基である。
Ｌｂ１２は、好ましくは単結合又は炭素数１～８の２価の飽和炭化水素基である。
Ｌｂ１３は、好ましくは炭素数１～１２の２価の飽和炭化水素基である。
Ｌｂ１４は、好ましくは単結合又は炭素数１～６の２価の飽和炭化水素基である。
Ｌｂ１５は、好ましくは単結合又は炭素数１～１８の２価の飽和炭化水素基であり、よ
り好ましくは単結合又は炭素数１～８の２価の飽和炭化水素基である。
Ｌｂ１６は、好ましくは炭素数１～１２の２価の飽和炭化水素基である。
Ｌｂ１７は、好ましくは炭素数１～６の２価の飽和炭化水素基である。
Ｌｂ１８は、好ましくは単結合又は炭素数１～１７の２価の飽和炭化水素基であり、よ
り好ましくは単結合又は炭素数１～４の２価の飽和炭化水素基である。
式（ｂ１－３）で表される基としては、式（ｂ１－９）～式（ｂ１－１１）でそれぞれ
表される基が挙げられる。
式（ｂ１－９）中、
Ｌb19は、単結合又は炭素数１～２３の２価の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素
基に含まれる水素原子は、フッ素原子に置換されていてもよい。
Ｌb20は、単結合又は炭素数１～２３の２価の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素
基に含まれる水素原子は、フッ素原子、ヒドロキシ基又はアルキルカルボニルオキシ基に
置換されていてもよい。該アルキルカルボニルオキシ基に含まれる－ＣＨ2－は、－Ｏ－
又は－ＣＯ－に置き換わっていてもよく、該アルキルカルボニルオキシ基に含まれる水素
原子は、ヒドロキシ基に置換されていてもよい。
ただし、Ｌb19及びＬb20の合計炭素数は２３以下である。
式（ｂ１－１０）中、
Ｌb21は、単結合又は炭素数１～２１の２価の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素
基に含まれる水素原子は、フッ素原子に置換されていてもよい。
Ｌb22は、単結合又は炭素数１～２１の２価の飽和炭化水素基を表す。
Ｌb23は、単結合又は炭素数１～２１の２価の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素
基に含まれる水素原子は、フッ素原子、ヒドロキシ基又はアルキルカルボニルオキシ基に
置換されていてもよい。該アルキルカルボニルオキシ基に含まれる－ＣＨ2－は、－Ｏ－
又は－ＣＯ－に置き換わっていてもよく、該アルキルカルボニルオキシ基に含まれる水素
原子は、ヒドロキシ基に置換されていてもよい。
ただし、Ｌb21、Ｌb22及びＬb23の合計炭素数は２１以下である。
式（ｂ１－１１）中、
Ｌb24は、単結合又は炭素数１～２０の２価の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素
基に含まれる水素原子は、フッ素原子に置換されていてもよい。
Ｌb25は、炭素数１～２１の２価の飽和炭化水素基を表す。
Ｌb26は、単結合又は炭素数１～２０の２価の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素
基に含まれる水素原子は、フッ素原子、ヒドロキシ基又はアルキルカルボニルオキシ基に
置換されていてもよい。該アルキルカルボニルオキシ基に含まれる－ＣＨ2－は、－Ｏ－
又は－ＣＯ－に置き換わっていてもよく、該アルキルカルボニルオキシ基に含まれる水素
原子は、ヒドロキシ基に置換されていてもよい。
ただし、Ｌb24、Ｌb25及びＬb26の合計炭素数は２１以下である。
表される基が挙げられる。
Ｌb19は、単結合又は炭素数１～２３の２価の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素
基に含まれる水素原子は、フッ素原子に置換されていてもよい。
Ｌb20は、単結合又は炭素数１～２３の２価の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素
基に含まれる水素原子は、フッ素原子、ヒドロキシ基又はアルキルカルボニルオキシ基に
置換されていてもよい。該アルキルカルボニルオキシ基に含まれる－ＣＨ2－は、－Ｏ－
又は－ＣＯ－に置き換わっていてもよく、該アルキルカルボニルオキシ基に含まれる水素
原子は、ヒドロキシ基に置換されていてもよい。
ただし、Ｌb19及びＬb20の合計炭素数は２３以下である。
式（ｂ１－１０）中、
Ｌb21は、単結合又は炭素数１～２１の２価の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素
基に含まれる水素原子は、フッ素原子に置換されていてもよい。
Ｌb22は、単結合又は炭素数１～２１の２価の飽和炭化水素基を表す。
Ｌb23は、単結合又は炭素数１～２１の２価の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素
基に含まれる水素原子は、フッ素原子、ヒドロキシ基又はアルキルカルボニルオキシ基に
置換されていてもよい。該アルキルカルボニルオキシ基に含まれる－ＣＨ2－は、－Ｏ－
又は－ＣＯ－に置き換わっていてもよく、該アルキルカルボニルオキシ基に含まれる水素
原子は、ヒドロキシ基に置換されていてもよい。
ただし、Ｌb21、Ｌb22及びＬb23の合計炭素数は２１以下である。
式（ｂ１－１１）中、
Ｌb24は、単結合又は炭素数１～２０の２価の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素
基に含まれる水素原子は、フッ素原子に置換されていてもよい。
Ｌb25は、炭素数１～２１の２価の飽和炭化水素基を表す。
Ｌb26は、単結合又は炭素数１～２０の２価の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素
基に含まれる水素原子は、フッ素原子、ヒドロキシ基又はアルキルカルボニルオキシ基に
置換されていてもよい。該アルキルカルボニルオキシ基に含まれる－ＣＨ2－は、－Ｏ－
又は－ＣＯ－に置き換わっていてもよく、該アルキルカルボニルオキシ基に含まれる水素
原子は、ヒドロキシ基に置換されていてもよい。
ただし、Ｌb24、Ｌb25及びＬb26の合計炭素数は２１以下である。
なお、式（ｂ１－９）で表される基から式（ｂ１－１１）で表される基においては、飽
和炭化水素基に含まれる水素原子がアルキルカルボニルオキシ基に置換されている場合、
置き換わる前の炭素数を該飽和炭化水素基の炭素数とする。
和炭化水素基に含まれる水素原子がアルキルカルボニルオキシ基に置換されている場合、
置き換わる前の炭素数を該飽和炭化水素基の炭素数とする。
アルキルカルボニルオキシ基としては、アセチルオキシ基、プロピオニルオキシ基、ブ
チリルオキシ基、シクロヘキシルカルボニルオキシ基、アダマンチルカルボニルオキシ基
等が挙げられる。
チリルオキシ基、シクロヘキシルカルボニルオキシ基、アダマンチルカルボニルオキシ基
等が挙げられる。
式（ｂ１－４）で表される基としては、以下のものが挙げられる。
式（ｂ１－５）で表される基としては、以下のものが挙げられる。
式（ｂ１－６）で表される基としては、以下のものが挙げられる。
式（ｂ１－７）で表される基としては、以下のものが挙げられる。
式（ｂ１－８）で表される基としては、以下のものが挙げられる。
式（ｂ１－２）で表される基としては、以下のものが挙げられる。
式（ｂ１－９）で表される基としては、以下のものが挙げられる。
式（ｂ１－１０）で表される基としては、以下のものが挙げられる。
式（ｂ１－１１）で表される基としては、以下のものが挙げられる。
Ｙで表される脂環式炭化水素基としては、式（Ｙ１）～式（Ｙ１１）、式（Ｙ３６）～
式（Ｙ３８）で表される基が挙げられる。
Ｙで表される脂環式炭化水素基に含まれる－ＣＨ２－が－Ｏ－、－Ｓ（Ｏ）２－又は－
ＣＯ－で置き換わる場合、その数は１つでもよいし、２以上でもよい。そのような基とし
ては、式（Ｙ１２）～式（Ｙ３５）、式（Ｙ３９）～式（Ｙ４１）で表される基が挙げら
れる。
式（Ｙ３８）で表される基が挙げられる。
Ｙで表される脂環式炭化水素基に含まれる－ＣＨ２－が－Ｏ－、－Ｓ（Ｏ）２－又は－
ＣＯ－で置き換わる場合、その数は１つでもよいし、２以上でもよい。そのような基とし
ては、式（Ｙ１２）～式（Ｙ３５）、式（Ｙ３９）～式（Ｙ４１）で表される基が挙げら
れる。
Ｙ２６）、式（Ｙ２７）、式（Ｙ３０）、式（Ｙ３１）、式（Ｙ３９）～式（Ｙ４１）の
いずれかで表される基であり、より好ましくは式（Ｙ１１）、式（Ｙ１５）、式（Ｙ１６
）、式（Ｙ２０）、式（Ｙ２６）、式（Ｙ２７）、式（Ｙ３０）、式（Ｙ３１）、式（Ｙ
３９）又は式（Ｙ４０）で表される基であり、さらに好ましくは式（Ｙ１１）、式（Ｙ１
５）、式（Ｙ２０）、式（Ｙ２６）、式（Ｙ２７）、式（Ｙ３０）、式（Ｙ３１）、式（
Ｙ３９）又は式（Ｙ４０）で表される基である。
Ｙで表される脂環式炭化水素基が式（Ｙ２８）～式（Ｙ３５）、式（Ｙ３９）～式（Ｙ
４０）等の酸素原子を含むスピロ環である場合には、２つの酸素原子間のアルカンジイル
基は、１以上のフッ素原子を有することが好ましい。また、ケタール構造に含まれるアル
カンジイル基のうち、酸素原子に隣接するメチレン基には、フッ素原子が置換されていな
いのが好ましい。
Ｙで表されるメチル基の置換基としては、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、炭素数３～１
６の脂環式炭化水素基、炭素数６～１８の芳香族炭化水素基、グリシジルオキシ基、－（
ＣＨ２）ｊａ－ＣＯ－Ｏ－Ｒｂ１基又は－（ＣＨ２）ｊａ－Ｏ－ＣＯ－Ｒｂ１基（式中、
Ｒｂ１は、炭素数１～１６のアルキル基、炭素数３～１６の脂環式炭化水素基、炭素数６
～１８の芳香族炭化水素基又はこれらを組み合わせた基を表し、該アルキル基及び該脂環
式炭化水素基に含まれる－ＣＨ２－は、－Ｏ－、－ＳＯ２－又は－ＣＯ－に置き換わって
いてもよく、該アルキル基、該脂環式炭化水素基及び該芳香族炭化水素基に含まれる水素
原子は、ヒドロキシ基又はフッ素原子に置き換わっていてもよい。ｊａは、０～４のいず
れかの整数を表す。）等が挙げられる。
Ｙで表される脂環式炭化水素基の置換基としては、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、ヒド
ロキシ基で置換されていてもよい炭素数１～１２のアルキル基、炭素数３～１６の脂環式
炭化水素基、炭素数１～１２のアルコキシ基、炭素数６～１８の芳香族炭化水素基、炭素
数７～２１のアラルキル基、炭素数２～４のアルキルカルボニル基、グリシジルオキシ基
、－（ＣＨ２）ｊａ－ＣＯ－Ｏ－Ｒｂ１基又は－（ＣＨ２）ｊａ－Ｏ－ＣＯ－Ｒｂ１基（
式中、Ｒｂ１は、炭素数１～１６のアルキル基、炭素数３～１６の脂環式炭化水素基、炭
素数６～１８の芳香族炭化水素基又はこれらを組み合わせた基を表し、該アルキル基及び
該脂環式炭化水素基に含まれる－ＣＨ２－は、－Ｏ－、－ＳＯ２－又は－ＣＯ－に置き換
わっていてもよく、該アルキル基、該脂環式炭化水素基及び該芳香族炭化水素基に含まれ
る水素原子は、ヒドロキシ基又はフッ素原子に置き換わっていてもよい。ｊａは、０～４
のいずれかの整数を表す。）等が挙げられる。
６の脂環式炭化水素基、炭素数６～１８の芳香族炭化水素基、グリシジルオキシ基、－（
ＣＨ２）ｊａ－ＣＯ－Ｏ－Ｒｂ１基又は－（ＣＨ２）ｊａ－Ｏ－ＣＯ－Ｒｂ１基（式中、
Ｒｂ１は、炭素数１～１６のアルキル基、炭素数３～１６の脂環式炭化水素基、炭素数６
～１８の芳香族炭化水素基又はこれらを組み合わせた基を表し、該アルキル基及び該脂環
式炭化水素基に含まれる－ＣＨ２－は、－Ｏ－、－ＳＯ２－又は－ＣＯ－に置き換わって
いてもよく、該アルキル基、該脂環式炭化水素基及び該芳香族炭化水素基に含まれる水素
原子は、ヒドロキシ基又はフッ素原子に置き換わっていてもよい。ｊａは、０～４のいず
れかの整数を表す。）等が挙げられる。
Ｙで表される脂環式炭化水素基の置換基としては、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、ヒド
ロキシ基で置換されていてもよい炭素数１～１２のアルキル基、炭素数３～１６の脂環式
炭化水素基、炭素数１～１２のアルコキシ基、炭素数６～１８の芳香族炭化水素基、炭素
数７～２１のアラルキル基、炭素数２～４のアルキルカルボニル基、グリシジルオキシ基
、－（ＣＨ２）ｊａ－ＣＯ－Ｏ－Ｒｂ１基又は－（ＣＨ２）ｊａ－Ｏ－ＣＯ－Ｒｂ１基（
式中、Ｒｂ１は、炭素数１～１６のアルキル基、炭素数３～１６の脂環式炭化水素基、炭
素数６～１８の芳香族炭化水素基又はこれらを組み合わせた基を表し、該アルキル基及び
該脂環式炭化水素基に含まれる－ＣＨ２－は、－Ｏ－、－ＳＯ２－又は－ＣＯ－に置き換
わっていてもよく、該アルキル基、該脂環式炭化水素基及び該芳香族炭化水素基に含まれ
る水素原子は、ヒドロキシ基又はフッ素原子に置き換わっていてもよい。ｊａは、０～４
のいずれかの整数を表す。）等が挙げられる。
ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子及びヨウ素原子等が挙げられ
る。
脂環式炭化水素基としては、例えば、シクロペンチル基、シクロへキシル基、メチルシ
クロヘキシル基、ジメチルシクロへキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、ノ
ルボルニル基、アダマンチル基等が挙げられる。
芳香族炭化水素基としては、例えば、フェニル基、ナフチル基、アントリル基、ビフェ
ニル基、フェナントリル基等のアリール基等が挙げられる。芳香族炭化水素基は、鎖式炭
化水素基又は脂環式炭化水素基を有していてもよく、鎖式炭化水素基を有する芳香族炭化
水素基（トリル基、キシリル基、クメニル基、メシチル基、ｐ－エチルフェニル基、ｐ－
ｔｅｒｔ－ブチルフェニル基、２，６－ジエチルフェニル基、２－メチル－６－エチルフ
ェニル基等）及び脂環式炭化水素基を有する芳香族炭化水素基（ｐ－シクロへキシルフェ
ニル基、ｐ－アダマンチルフェニル基等）等が挙げられる。
アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブ
チル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基
、２－エチルヘキシル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基
等が挙げられる。
ヒドロキシ基で置換されているアルキル基としては、ヒドロキシメチル基、ヒドロキシ
エチル基等のヒドロキシアルキル基が挙げられる。
アルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、ペンチ
ルオキシ基、ヘキシルオキシ基、ヘプチルオキシ基、オクチルオキシ基、デシルオキシ基
及びドデシルオキシ基等が挙げられる。
アラルキル基としては、ベンジル基、フェネチル基、フェニルプロピル基、ナフチルメ
チル基及びナフチルエチル基等が挙げられる。
アルキルカルボニル基としては、例えば、アセチル基、プロピオニル基及びブチリル基
等が挙げられる。
る。
脂環式炭化水素基としては、例えば、シクロペンチル基、シクロへキシル基、メチルシ
クロヘキシル基、ジメチルシクロへキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、ノ
ルボルニル基、アダマンチル基等が挙げられる。
芳香族炭化水素基としては、例えば、フェニル基、ナフチル基、アントリル基、ビフェ
ニル基、フェナントリル基等のアリール基等が挙げられる。芳香族炭化水素基は、鎖式炭
化水素基又は脂環式炭化水素基を有していてもよく、鎖式炭化水素基を有する芳香族炭化
水素基（トリル基、キシリル基、クメニル基、メシチル基、ｐ－エチルフェニル基、ｐ－
ｔｅｒｔ－ブチルフェニル基、２，６－ジエチルフェニル基、２－メチル－６－エチルフ
ェニル基等）及び脂環式炭化水素基を有する芳香族炭化水素基（ｐ－シクロへキシルフェ
ニル基、ｐ－アダマンチルフェニル基等）等が挙げられる。
アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブ
チル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基
、２－エチルヘキシル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基
等が挙げられる。
ヒドロキシ基で置換されているアルキル基としては、ヒドロキシメチル基、ヒドロキシ
エチル基等のヒドロキシアルキル基が挙げられる。
アルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、ペンチ
ルオキシ基、ヘキシルオキシ基、ヘプチルオキシ基、オクチルオキシ基、デシルオキシ基
及びドデシルオキシ基等が挙げられる。
アラルキル基としては、ベンジル基、フェネチル基、フェニルプロピル基、ナフチルメ
チル基及びナフチルエチル基等が挙げられる。
アルキルカルボニル基としては、例えば、アセチル基、プロピオニル基及びブチリル基
等が挙げられる。
Ｙとしては、以下のものが挙げられる。
Ｙは、好ましくは置換基を有していてもよい炭素数３～１８の脂環式炭化水素基であり
、より好ましく置換基を有していてもよいアダマンチル基であり、該脂環式炭化水素基又
はアダマンチル基を構成する－ＣＨ２－は－ＣＯ－、－Ｓ（Ｏ）２－又は－ＣＯ－に置き
換わっていてもよい。Ｙは、さらに好ましくはアダマンチル基、ヒドロキシアダマンチル
基、オキソアダマンチル基又は下記で表される基である。
、より好ましく置換基を有していてもよいアダマンチル基であり、該脂環式炭化水素基又
はアダマンチル基を構成する－ＣＨ２－は－ＣＯ－、－Ｓ（Ｏ）２－又は－ＣＯ－に置き
換わっていてもよい。Ｙは、さらに好ましくはアダマンチル基、ヒドロキシアダマンチル
基、オキソアダマンチル基又は下記で表される基である。
式（Ｂ１）で表される塩におけるアニオンとしては、式（Ｂ１－Ａ－１）～式（Ｂ１－
Ａ－５５）で表されるアニオン〔以下、式番号に応じて「アニオン（Ｂ１－Ａ－１）」等
という場合がある。〕が好ましく、式（Ｂ１－Ａ－１）～式（Ｂ１－Ａ－４）、式（Ｂ１
－Ａ－９）、式（Ｂ１－Ａ－１０）、式（Ｂ１－Ａ－２４）～式（Ｂ１－Ａ－３３）、式
（Ｂ１－Ａ－３６）～式（Ｂ１－Ａ－４０）、式（Ｂ１－Ａ－４７）～式（Ｂ１－Ａ－５
５）のいずれかで表されるアニオンがより好ましい。
Ａ－５５）で表されるアニオン〔以下、式番号に応じて「アニオン（Ｂ１－Ａ－１）」等
という場合がある。〕が好ましく、式（Ｂ１－Ａ－１）～式（Ｂ１－Ａ－４）、式（Ｂ１
－Ａ－９）、式（Ｂ１－Ａ－１０）、式（Ｂ１－Ａ－２４）～式（Ｂ１－Ａ－３３）、式
（Ｂ１－Ａ－３６）～式（Ｂ１－Ａ－４０）、式（Ｂ１－Ａ－４７）～式（Ｂ１－Ａ－５
５）のいずれかで表されるアニオンがより好ましい。
しくはメチル基又はエチル基である。Ｒｉ８は、例えば、炭素数１～１２の鎖式炭化水素
基、好ましくは炭素数１～４のアルキル基、炭素数５～１２の脂環式炭化水素基又はこれ
らを組合せることにより形成される基、より好ましくはメチル基、エチル基、シクロヘキ
シル基又はアダマンチル基である。ＬＡ４１は、単結合又は炭素数１～４のアルカンジイ
ル基である。Ｑｂ１及びＱｂ２は、上記と同じ意味を表す。
式（Ｂ１）で表される塩におけるアニオンとしては、具体的には、特開２０１０－２０
４６４６号公報に記載されたアニオンが挙げられる。
式（Ｂ１）で表される塩におけるアニオンとして好ましくは、式（Ｂ１ａ－１）～式（
Ｂ１ａ－３４）でそれぞれ表されるアニオンが挙げられる。
Ｂ１ａ－３４）でそれぞれ表されるアニオンが挙げられる。
なかでも、式（Ｂ１ａ－１）～式（Ｂ１ａ－３）及び式（Ｂ１ａ－７）～式（Ｂ１ａ－
１６）、式（Ｂ１ａ－１８）、式（Ｂ１ａ－１９）、式（Ｂ１ａ－２２）～式（Ｂ１ａ－
３４）のいずれかで表されるアニオンが好ましい。
１６）、式（Ｂ１ａ－１８）、式（Ｂ１ａ－１９）、式（Ｂ１ａ－２２）～式（Ｂ１ａ－
３４）のいずれかで表されるアニオンが好ましい。
Ｚ１＋の有機カチオンとしては、有機オニウムカチオン、有機スルホニウムカチオン、
有機ヨードニウムカチオン、有機アンモニウムカチオン、ベンゾチアゾリウムカチオン及
び有機ホスホニウムカチオン等が挙げられる。これらの中でも、有機スルホニウムカチオ
ン及び有機ヨードニウムカチオンが好ましく、アリールスルホニウムカチオンがより好ま
しい。
式（Ｂ１）中のＺ１＋は、塩（Ｉ）におけるカチオン（Ｉ）と同様のものが挙げられる
。
有機ヨードニウムカチオン、有機アンモニウムカチオン、ベンゾチアゾリウムカチオン及
び有機ホスホニウムカチオン等が挙げられる。これらの中でも、有機スルホニウムカチオ
ン及び有機ヨードニウムカチオンが好ましく、アリールスルホニウムカチオンがより好ま
しい。
式（Ｂ１）中のＺ１＋は、塩（Ｉ）におけるカチオン（Ｉ）と同様のものが挙げられる
。
酸発生剤（Ｂ）は、上述のアニオン及び上述の有機カチオンの組合せであり、これらは
任意に組合せることができる。酸発生剤（Ｂ）としては、好ましくは式（Ｂ１ａ－１）～
式（Ｂ１ａ－３）、式（Ｂ１ａ－７）～式（Ｂ１ａ－１６）、式（Ｂ１ａ－１８）、式（
Ｂ１ａ－１９）、式（Ｂ１ａ－２２）～式（Ｂ１ａ－３４）のいずれかで表されるアニオ
ンと、カチオン（ｂ２－１）又はカチオン（ｂ２－３）との組合せが挙げられる。
任意に組合せることができる。酸発生剤（Ｂ）としては、好ましくは式（Ｂ１ａ－１）～
式（Ｂ１ａ－３）、式（Ｂ１ａ－７）～式（Ｂ１ａ－１６）、式（Ｂ１ａ－１８）、式（
Ｂ１ａ－１９）、式（Ｂ１ａ－２２）～式（Ｂ１ａ－３４）のいずれかで表されるアニオ
ンと、カチオン（ｂ２－１）又はカチオン（ｂ２－３）との組合せが挙げられる。
酸発生剤（Ｂ）としては、好ましくは式（Ｂ１－１）～式（Ｂ１－４８）でそれぞれ表
されるものが挙げられる、中でもアリールスルホニウムカチオンを含むものが好ましく、
式（Ｂ１－１）～式（Ｂ１－３）、式（Ｂ１－５）～式（Ｂ１－７）、式（Ｂ１－１１）
～式（Ｂ１－１４）、式（Ｂ１－２０）～式（Ｂ１－２６）、式（Ｂ１－２９）、式（Ｂ
１－３１）～式（Ｂ１－４８）で表されるものがとりわけ好ましい。
されるものが挙げられる、中でもアリールスルホニウムカチオンを含むものが好ましく、
式（Ｂ１－１）～式（Ｂ１－３）、式（Ｂ１－５）～式（Ｂ１－７）、式（Ｂ１－１１）
～式（Ｂ１－１４）、式（Ｂ１－２０）～式（Ｂ１－２６）、式（Ｂ１－２９）、式（Ｂ
１－３１）～式（Ｂ１－４８）で表されるものがとりわけ好ましい。
酸発生剤として塩（Ｉ）及び酸発生剤（Ｂ）を含有する場合、塩（Ｉ）と酸生剤（Ｂ）
との含有量の比（質量比；塩（Ｉ）：酸発生剤（Ｂ））は、通常、１：９９～９９：１で
あり、好ましくは２：９８～９８：２であり、より好ましくは５：９５～９５：５であり
、さらに好ましくは１０：９０～９０：１０であり、特に好ましくは１５：８５～８５：
１５である。
との含有量の比（質量比；塩（Ｉ）：酸発生剤（Ｂ））は、通常、１：９９～９９：１で
あり、好ましくは２：９８～９８：２であり、より好ましくは５：９５～９５：５であり
、さらに好ましくは１０：９０～９０：１０であり、特に好ましくは１５：８５～８５：
１５である。
＜レジスト組成物＞
本発明のレジスト組成物は、塩（Ｉ）を含む酸発生剤と、酸不安定基を有する樹脂（以
下「樹脂（Ａ）」という場合がある）とを含有する。ここで、「酸不安定基」とは、脱離
基を有し、酸との接触により脱離基が脱離して、構成単位が親水性基（例えば、ヒドロキ
シ基又はカルボキシ基）を有する構成単位に変換する基を意味する。
本発明のレジスト組成物は、酸発生剤から発生する酸よりも酸性度の弱い酸を発生する
塩等のクエンチャー（以下「クエンチャー（Ｃ）」という場合がある）を含有することが
好ましく、溶剤（以下「溶剤（Ｅ）」という場合がある）を含有することが好ましい。
本発明のレジスト組成物は、塩（Ｉ）を含む酸発生剤と、酸不安定基を有する樹脂（以
下「樹脂（Ａ）」という場合がある）とを含有する。ここで、「酸不安定基」とは、脱離
基を有し、酸との接触により脱離基が脱離して、構成単位が親水性基（例えば、ヒドロキ
シ基又はカルボキシ基）を有する構成単位に変換する基を意味する。
本発明のレジスト組成物は、酸発生剤から発生する酸よりも酸性度の弱い酸を発生する
塩等のクエンチャー（以下「クエンチャー（Ｃ）」という場合がある）を含有することが
好ましく、溶剤（以下「溶剤（Ｅ）」という場合がある）を含有することが好ましい。
＜樹脂（Ａ）＞
樹脂（Ａ）は、酸不安定基を有する構造単位（以下「構造単位（ａ１）」という場合が
ある）を有する。樹脂（Ａ）は、さらに、構造単位（ａ１）以外の構造単位を含むことが
好ましい。構造単位（ａ１）以外の構造単位としては、酸不安定基を有さない構造単位（
以下「構造単位（ｓ）」という場合がある）、構造単位（ａ１）及び構造単位（ｓ）以外
の構造単位（例えば、後述するハロゲン原子を有する構造単位（以下「構造単位（ａ４）
」という場合がある）、後述する非脱離炭化水素基を有する構造単位（以下「構造単位（
ａ５）という場合がある）及びその他の当該分野で公知のモノマーに由来する構造単位等
が挙げられる。
樹脂（Ａ）は、酸不安定基を有する構造単位（以下「構造単位（ａ１）」という場合が
ある）を有する。樹脂（Ａ）は、さらに、構造単位（ａ１）以外の構造単位を含むことが
好ましい。構造単位（ａ１）以外の構造単位としては、酸不安定基を有さない構造単位（
以下「構造単位（ｓ）」という場合がある）、構造単位（ａ１）及び構造単位（ｓ）以外
の構造単位（例えば、後述するハロゲン原子を有する構造単位（以下「構造単位（ａ４）
」という場合がある）、後述する非脱離炭化水素基を有する構造単位（以下「構造単位（
ａ５）という場合がある）及びその他の当該分野で公知のモノマーに由来する構造単位等
が挙げられる。
〈構造単位（ａ１）〉
構造単位（ａ１）は、酸不安定基を有するモノマー（以下「モノマー（ａ１）」という
場合がある）から導かれる。
樹脂（Ａ）に含まれる酸不安定基は、式（１）で表される基（以下、基（１）とも記す
）及び／又は式（２）で表される基（以下、基（２）とも記す）が好ましい。
［式（１）中、Ｒa1、Ｒa２及びＲa3は、それぞれ独立に、炭素数１～８のアルキル基
、炭素数３～２０の脂環式炭化水素基又はこれらを組み合わせた基を表すか、Ｒa1及びＲ
a2は互いに結合してそれらが結合する炭素原子とともに炭素数３～２０の脂環式炭化水素
基を形成する。
ｍａ及びｎａは、それぞれ独立して、０又は１を表し、ｍａ及びｎａの少なくとも一方
は１を表す。
＊は結合手を表す。］
［式（２）中、Ｒａ１’及びＲａ２’は、それぞれ独立に、水素原子又は炭素数１～１
２の炭化水素基を表し、Ｒａ３’は、炭素数１～２０の炭化水素基を表すか、Ｒａ２’及
びＲａ３’は互いに結合してそれらが結合する炭素原子及びＸとともに炭素数３～２０の
複素環基を形成し、該炭化水素基及び該複素環基に含まれる－ＣＨ２－は、－Ｏ－又は－
Ｓ－で置き換わってもよい。
Ｘは、酸素原子又は硫黄原子を表す。
ｎａ’は、０又は１を表す。
＊は結合手を表す。］
構造単位（ａ１）は、酸不安定基を有するモノマー（以下「モノマー（ａ１）」という
場合がある）から導かれる。
樹脂（Ａ）に含まれる酸不安定基は、式（１）で表される基（以下、基（１）とも記す
）及び／又は式（２）で表される基（以下、基（２）とも記す）が好ましい。
、炭素数３～２０の脂環式炭化水素基又はこれらを組み合わせた基を表すか、Ｒa1及びＲ
a2は互いに結合してそれらが結合する炭素原子とともに炭素数３～２０の脂環式炭化水素
基を形成する。
ｍａ及びｎａは、それぞれ独立して、０又は１を表し、ｍａ及びｎａの少なくとも一方
は１を表す。
＊は結合手を表す。］
２の炭化水素基を表し、Ｒａ３’は、炭素数１～２０の炭化水素基を表すか、Ｒａ２’及
びＲａ３’は互いに結合してそれらが結合する炭素原子及びＸとともに炭素数３～２０の
複素環基を形成し、該炭化水素基及び該複素環基に含まれる－ＣＨ２－は、－Ｏ－又は－
Ｓ－で置き換わってもよい。
Ｘは、酸素原子又は硫黄原子を表す。
ｎａ’は、０又は１を表す。
＊は結合手を表す。］
Ｒa1、Ｒa２及びＲa3におけるアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基
、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基等が挙げられる。
Ｒa1、Ｒa２及びＲa3における脂環式炭化水素基は、単環式及び多環式のいずれでもよ
い。単環式の脂環式炭化水素基としては、シクロペンチル基、シクロへキシル基、シクロ
ヘプチル基、シクロオクチル基等のシクロアルキル基が挙げられる。多環式の脂環式炭化
水素基としては、デカヒドロナフチル基、アダマンチル基、ノルボルニル基及び下記の基
（＊は結合手を表す。）等が挙げられる。Ｒa1、Ｒa２及びＲa3の脂環式炭化水素基の炭
素数は、好ましくは３～１６である。
アルキル基と脂環式炭化水素基とを組み合わせた基としては、例えば、メチルシクロヘ
キシル基、ジメチルシクロへキシル基、メチルノルボルニル基、シクロヘキシルメチル基
、アダマンチルメチル基、アダマンチルジメチル基、ノルボルニルエチル基等が挙げられ
る。
好ましくは、ｍａは０であり、ｎａは１である。
Ｒa1及びＲa2が互いに結合して脂環式炭化水素基を形成する場合の－Ｃ（Ｒa1）（Ｒa2
）（Ｒa3）としては、下記の基が挙げられる。脂環式炭化水素基は、好ましくは炭素数３
～１２である。＊は－Ｏ－との結合手を表す。
、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基等が挙げられる。
Ｒa1、Ｒa２及びＲa3における脂環式炭化水素基は、単環式及び多環式のいずれでもよ
い。単環式の脂環式炭化水素基としては、シクロペンチル基、シクロへキシル基、シクロ
ヘプチル基、シクロオクチル基等のシクロアルキル基が挙げられる。多環式の脂環式炭化
水素基としては、デカヒドロナフチル基、アダマンチル基、ノルボルニル基及び下記の基
（＊は結合手を表す。）等が挙げられる。Ｒa1、Ｒa２及びＲa3の脂環式炭化水素基の炭
素数は、好ましくは３～１６である。
キシル基、ジメチルシクロへキシル基、メチルノルボルニル基、シクロヘキシルメチル基
、アダマンチルメチル基、アダマンチルジメチル基、ノルボルニルエチル基等が挙げられ
る。
好ましくは、ｍａは０であり、ｎａは１である。
Ｒa1及びＲa2が互いに結合して脂環式炭化水素基を形成する場合の－Ｃ（Ｒa1）（Ｒa2
）（Ｒa3）としては、下記の基が挙げられる。脂環式炭化水素基は、好ましくは炭素数３
～１２である。＊は－Ｏ－との結合手を表す。
Ｒａ１’、Ｒａ２’及びＲａ３’における炭化水素基としては、アルキル基、脂環式炭
化水素基、芳香族炭化水素基及びこれらを組み合わせることにより形成される基等が挙げ
られる。
アルキル基及び脂環式炭化水素基は、Ｒa1、Ｒa２及びＲa3で挙げた基と同様のものが
挙げられる。
芳香族炭化水素基としては、フェニル基、ナフチル基、アントリル基、ビフェニル基、
フェナントリル基等のアリール基等が挙げられる。
組み合わせた基としては、上述したアルキル基と脂環式炭化水素基とを組み合わせた基
、ベンジル基等のアラルキル基、アルキル基を有する芳香族炭化水素基（ｐ－メチルフェ
ニル基、ｐ－ｔｅｒｔ－ブチルフェニル基、トリル基、キシリル基、クメニル基、メシチ
ル基、２，６－ジエチルフェニル基、２－メチル－６－エチルフェニル基等）、脂環式炭
化水素基を有する芳香族炭化水素基（ｐ－シクロヘキシルフェニル基、ｐ－アダマンチル
フェニル基等）、フェニルシクロヘキシル基等のアリール－シクロアルキル基等が挙げら
れる。
Ｒａ２’及びＲａ３’が互いに結合してそれらが結合する炭素原子及びＸとともに複素
環基を形成する場合、－Ｃ（Ｒa1’）（Ｒa3’）－Ｘ－Ｒa2’としては、下記の基が挙げ
られる。＊は、結合手を表す。
Ｒａ１’及びＲａ２’のうち、少なくとも１つは水素原子であることが好ましい。
ｎａ’は、好ましくは０である。
化水素基、芳香族炭化水素基及びこれらを組み合わせることにより形成される基等が挙げ
られる。
アルキル基及び脂環式炭化水素基は、Ｒa1、Ｒa２及びＲa3で挙げた基と同様のものが
挙げられる。
芳香族炭化水素基としては、フェニル基、ナフチル基、アントリル基、ビフェニル基、
フェナントリル基等のアリール基等が挙げられる。
組み合わせた基としては、上述したアルキル基と脂環式炭化水素基とを組み合わせた基
、ベンジル基等のアラルキル基、アルキル基を有する芳香族炭化水素基（ｐ－メチルフェ
ニル基、ｐ－ｔｅｒｔ－ブチルフェニル基、トリル基、キシリル基、クメニル基、メシチ
ル基、２，６－ジエチルフェニル基、２－メチル－６－エチルフェニル基等）、脂環式炭
化水素基を有する芳香族炭化水素基（ｐ－シクロヘキシルフェニル基、ｐ－アダマンチル
フェニル基等）、フェニルシクロヘキシル基等のアリール－シクロアルキル基等が挙げら
れる。
Ｒａ２’及びＲａ３’が互いに結合してそれらが結合する炭素原子及びＸとともに複素
環基を形成する場合、－Ｃ（Ｒa1’）（Ｒa3’）－Ｘ－Ｒa2’としては、下記の基が挙げ
られる。＊は、結合手を表す。
ｎａ’は、好ましくは０である。
基（１）としては、以下の基が挙げられる。
式（１）においてＲa1、Ｒa２及びＲa3がアルキル基であり、ｍａ＝０であり、ｎａ＝
１である基。当該基としては、ｔｅｒｔ－ブトキシカルボニル基が好ましい。
式（１）において、Ｒa1、Ｒa2が、これらが結合する炭素原子と一緒になってアダマン
チル基を形成し、Ｒa3がアルキル基であり、ｍａ＝０であり、ｎａ＝１である基。
式（１）において、Ｒa1及びＲa2がそれぞれ独立してアルキル基であり、Ｒa3がアダマ
ンチル基であり、ｍａ＝０であり、ｎａ＝１である基。
基（１）としては、具体的には以下の基が挙げられる。＊は結合手を表す。
式（１）においてＲa1、Ｒa２及びＲa3がアルキル基であり、ｍａ＝０であり、ｎａ＝
１である基。当該基としては、ｔｅｒｔ－ブトキシカルボニル基が好ましい。
式（１）において、Ｒa1、Ｒa2が、これらが結合する炭素原子と一緒になってアダマン
チル基を形成し、Ｒa3がアルキル基であり、ｍａ＝０であり、ｎａ＝１である基。
式（１）において、Ｒa1及びＲa2がそれぞれ独立してアルキル基であり、Ｒa3がアダマ
ンチル基であり、ｍａ＝０であり、ｎａ＝１である基。
基（１）としては、具体的には以下の基が挙げられる。＊は結合手を表す。
基（２）の具体例としては、以下の基が挙げられる。＊は結合手を表す。
モノマー（ａ１）は、好ましくは、酸不安定基とエチレン性不飽和結合とを有するモノ
マー、より好ましくは酸不安定基を有する（メタ）アクリル系モノマーである。
マー、より好ましくは酸不安定基を有する（メタ）アクリル系モノマーである。
酸不安定基を有する（メタ）アクリル系モノマーのうち、好ましくは、炭素数５～２０
の脂環式炭化水素基を有するものが挙げられる。脂環式炭化水素基のような嵩高い構造を
有するモノマー（ａ１）に由来する構造単位を有する樹脂（Ａ）をレジスト組成物に使用
すれば、レジストパターンの解像度を向上させることができる。
の脂環式炭化水素基を有するものが挙げられる。脂環式炭化水素基のような嵩高い構造を
有するモノマー（ａ１）に由来する構造単位を有する樹脂（Ａ）をレジスト組成物に使用
すれば、レジストパターンの解像度を向上させることができる。
基（１）を有する（メタ）アクリル系モノマーに由来する構造単位として、式（ａ１－
０）で表される構造単位（以下、構造単位（ａ１－０）という場合がある。）、式（ａ１
－１）で表される構造単位（以下、構造単位（ａ１－１）という場合がある。）又は式（
ａ１－２）で表される構造単位（以下、構造単位（ａ１－２）という場合がある。）が挙
げられる。好ましくは、構造単位（ａ１－１）及び構造単位（ａ１－２）からなる群から
選ばれる少なくとも１種の構造単位である。これらは単独で使用してもよく、２種以上を
併用してもよい。
［式（ａ１－０）、式（ａ１－１）及び式（ａ１－２）中、
Ｌa01、Ｌａ１及びＬａ２は、それぞれ独立に、－Ｏ－又は＊－Ｏ－（ＣＨ２）ｋ１－
ＣＯ－Ｏ－を表し、ｋ１は１～７のいずれかの整数を表し、＊は－ＣＯ－との結合手を表
す。
Ｒa01、Ｒａ４及びＲａ５は、それぞれ独立に、水素原子又はメチル基を表す。
Ｒa02、Ｒa03及びＲa04は、それぞれ独立に、炭素数１～８のアルキル基、炭素数３～
１８の脂環式炭化水素基又はこれらを組み合わせた基を表す。
Ｒａ６及びＲａ７は、それぞれ独立に、炭素数１～８のアルキル基、炭素数３～１８の
脂環式炭化水素基又はこれらを組合せることにより形成される基を表す。
ｍ１は０～１４のいずれかの整数を表す。
ｎ１は０～１０のいずれかの整数を表す。
ｎ１’は０～３のいずれかの整数を表す。］
０）で表される構造単位（以下、構造単位（ａ１－０）という場合がある。）、式（ａ１
－１）で表される構造単位（以下、構造単位（ａ１－１）という場合がある。）又は式（
ａ１－２）で表される構造単位（以下、構造単位（ａ１－２）という場合がある。）が挙
げられる。好ましくは、構造単位（ａ１－１）及び構造単位（ａ１－２）からなる群から
選ばれる少なくとも１種の構造単位である。これらは単独で使用してもよく、２種以上を
併用してもよい。
Ｌa01、Ｌａ１及びＬａ２は、それぞれ独立に、－Ｏ－又は＊－Ｏ－（ＣＨ２）ｋ１－
ＣＯ－Ｏ－を表し、ｋ１は１～７のいずれかの整数を表し、＊は－ＣＯ－との結合手を表
す。
Ｒa01、Ｒａ４及びＲａ５は、それぞれ独立に、水素原子又はメチル基を表す。
Ｒa02、Ｒa03及びＲa04は、それぞれ独立に、炭素数１～８のアルキル基、炭素数３～
１８の脂環式炭化水素基又はこれらを組み合わせた基を表す。
Ｒａ６及びＲａ７は、それぞれ独立に、炭素数１～８のアルキル基、炭素数３～１８の
脂環式炭化水素基又はこれらを組合せることにより形成される基を表す。
ｍ１は０～１４のいずれかの整数を表す。
ｎ１は０～１０のいずれかの整数を表す。
ｎ１’は０～３のいずれかの整数を表す。］
Ｒa01、Ｒa4及びＲa5は、好ましくはメチル基である。
Ｌa01、Ｌａ１及びＬａ２は、好ましくは酸素原子又は＊－Ｏ－（ＣＨ２）ｋ０１－Ｃ
Ｏ－Ｏ－であり（但し、ｋ０１は、好ましくは１～４のいずれかの整数、より好ましくは
１である。）、より好ましくは酸素原子である。
Ｒa02、Ｒa03、Ｒa04、Ｒａ６及びＲａ７におけるアルキル基、脂環式炭化水素基及び
これらを組合せた基としては、式（１）のＲａ１、Ｒa2及びＲａ３で挙げた基と同様の基
が挙げられる。
Ｒa02、Ｒa03、及びＲa04におけるアルキル基は、好ましくは炭素数１～６であり、よ
り好ましくはメチル基又はエチル基であり、さらに好ましくはメチル基である。
Ｒａ６及びＲａ７におけるアルキル基は、好ましくは炭素数１～６であり、より好まし
くはメチル基、エチル基又はイソプロピル基であり、さらに好ましくはエチル基又はイソ
プロピル基である。
Ｒa02、Ｒa03、Ｒa04、Ｒａ６及びＲａ７の脂環式炭化水素基の炭素数は、好ましくは
５～１２であり、より好ましくは５～１０である。
アルキル基と脂環式炭化水素基とを組合せた基は、これらアルキル基と脂環式炭化水素
基とを組合せた合計炭素数が、１８以下であることが好ましい。
Ｒa02及びＲa03は、好ましくは炭素数１～６のアルキル基であり、より好ましくはメチ
ル基又はエチル基である。
Ｒa04は、好ましくは炭素数１～６のアルキル基又は炭素数５～１２の脂環式炭化水素
基であり、より好ましくはメチル基、エチル基、シクロヘキシル基又はアダマンチル基で
ある。
Ｒａ６及びＲａ７は、好ましくは炭素数１～６のアルキル基であり、より好ましくはメ
チル基、エチル基又はイソプロピル基であり、さらに好ましくはエチル基又はイソプロピ
ル基である。
ｍ１は、好ましくは０～３のいずれかの整数であり、より好ましくは０又は１である。
ｎ１は、好ましくは０～３のいずれかの整数であり、より好ましくは０又は１である。
ｎ１’は好ましくは０又は１である。
Ｌa01、Ｌａ１及びＬａ２は、好ましくは酸素原子又は＊－Ｏ－（ＣＨ２）ｋ０１－Ｃ
Ｏ－Ｏ－であり（但し、ｋ０１は、好ましくは１～４のいずれかの整数、より好ましくは
１である。）、より好ましくは酸素原子である。
Ｒa02、Ｒa03、Ｒa04、Ｒａ６及びＲａ７におけるアルキル基、脂環式炭化水素基及び
これらを組合せた基としては、式（１）のＲａ１、Ｒa2及びＲａ３で挙げた基と同様の基
が挙げられる。
Ｒa02、Ｒa03、及びＲa04におけるアルキル基は、好ましくは炭素数１～６であり、よ
り好ましくはメチル基又はエチル基であり、さらに好ましくはメチル基である。
Ｒａ６及びＲａ７におけるアルキル基は、好ましくは炭素数１～６であり、より好まし
くはメチル基、エチル基又はイソプロピル基であり、さらに好ましくはエチル基又はイソ
プロピル基である。
Ｒa02、Ｒa03、Ｒa04、Ｒａ６及びＲａ７の脂環式炭化水素基の炭素数は、好ましくは
５～１２であり、より好ましくは５～１０である。
アルキル基と脂環式炭化水素基とを組合せた基は、これらアルキル基と脂環式炭化水素
基とを組合せた合計炭素数が、１８以下であることが好ましい。
Ｒa02及びＲa03は、好ましくは炭素数１～６のアルキル基であり、より好ましくはメチ
ル基又はエチル基である。
Ｒa04は、好ましくは炭素数１～６のアルキル基又は炭素数５～１２の脂環式炭化水素
基であり、より好ましくはメチル基、エチル基、シクロヘキシル基又はアダマンチル基で
ある。
Ｒａ６及びＲａ７は、好ましくは炭素数１～６のアルキル基であり、より好ましくはメ
チル基、エチル基又はイソプロピル基であり、さらに好ましくはエチル基又はイソプロピ
ル基である。
ｍ１は、好ましくは０～３のいずれかの整数であり、より好ましくは０又は１である。
ｎ１は、好ましくは０～３のいずれかの整数であり、より好ましくは０又は１である。
ｎ１’は好ましくは０又は１である。
構造単位（ａ１－０）としては、例えば、式（ａ１－０－１）～式（ａ１－０－１２）
のいずれかで表される構造単位及び構造単位（ａ１－０）におけるＲａ０１に相当するメ
チル基が水素原子に置き換わった構造単位が挙げられ、式（ａ１－０－１）～式（ａ１－
０－１０）のいずれかで表される構造単位が好ましい。
のいずれかで表される構造単位及び構造単位（ａ１－０）におけるＲａ０１に相当するメ
チル基が水素原子に置き換わった構造単位が挙げられ、式（ａ１－０－１）～式（ａ１－
０－１０）のいずれかで表される構造単位が好ましい。
構造単位（ａ１－１）としては、例えば、特開２０１０－２０４６４６号公報に記載さ
れたモノマーに由来する構造単位が挙げられる。中でも、式（ａ１－１－１）～式（ａ１
－１－４）のいずれかで表される構造単位及び構造単位（ａ１－１）におけるＲａ４に相
当するメチル基が水素原子に置き換わった構造単位が好ましく、式（ａ１－１－１）～式
（ａ１－１－４）のいずれかで表される構造単位がより好ましい。
れたモノマーに由来する構造単位が挙げられる。中でも、式（ａ１－１－１）～式（ａ１
－１－４）のいずれかで表される構造単位及び構造単位（ａ１－１）におけるＲａ４に相
当するメチル基が水素原子に置き換わった構造単位が好ましく、式（ａ１－１－１）～式
（ａ１－１－４）のいずれかで表される構造単位がより好ましい。
構造単位（ａ１－２）としては、式（ａ１－２－１）～式（ａ１－２－６）のいずれか
で表される構造単位及び構造単位（ａ１－２）におけるＲａ５に相当するメチル基が水素
原子に置き換わった構造単位が挙げられ、式（ａ１－２－２）、式（ａ１－２－５）及び
式（ａ１－２－６）で表される構造単位が好ましい。
で表される構造単位及び構造単位（ａ１－２）におけるＲａ５に相当するメチル基が水素
原子に置き換わった構造単位が挙げられ、式（ａ１－２－２）、式（ａ１－２－５）及び
式（ａ１－２－６）で表される構造単位が好ましい。
樹脂（Ａ）が構造単位（ａ１－０）及び／又は構造単位（ａ１－１）及び／又は構造単
位（ａ１－２）を含む場合、これらの合計含有率は、樹脂（Ａ）の全構造単位に対して、
通常１０～９５モル％であり、好ましくは１５～９０モル％であり、より好ましくは２０
～８５モル％であり、さらに好ましくは２５～８０モル％であり、さらにより好ましくは
３０～７５モル％である。
位（ａ１－２）を含む場合、これらの合計含有率は、樹脂（Ａ）の全構造単位に対して、
通常１０～９５モル％であり、好ましくは１５～９０モル％であり、より好ましくは２０
～８５モル％であり、さらに好ましくは２５～８０モル％であり、さらにより好ましくは
３０～７５モル％である。
構造単位（ａ１）において基（２）を有する構造単位としては、式（ａ１－４）で表さ
れる構造単位（以下、「構造単位（ａ１－４）」という場合がある。）が挙げられる。
［式（ａ１－４）中、
Ｒa32は、水素原子、ハロゲン原子、又は、ハロゲン原子を有してもよい炭素数１～６
のアルキル基を表す。
Ｒa33は、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、炭素数１～６のアルキル基、炭素数１～６の
アルコキシ基、炭素数２～４のアルキルカルボニル基、炭素数２～４のアルキルカルボニ
ルオキシ基、アクリロイルオキシ基又はメタクリロイルオキシ基を表す。
ｌａは０～４のいずれかの整数を表す。ｌａが２以上である場合、複数のＲa33は互い
に同一であっても異なってもよい。
Ｒa34及びＲa35はそれぞれ独立に、水素原子又は炭素数１～１２の炭化水素基を表し、
Ｒa36は、炭素数１～２０の炭化水素基を表すか、Ｒa35及びＲa36は互いに結合してそれ
らが結合する－Ｃ－Ｏ－とともに炭素数２～２０の２価の炭化水素基を形成し、該炭化水
素基及び該２価の炭化水素基に含まれる－ＣＨ2－は、－Ｏ－又は－Ｓ－で置き換わって
もよい。］
れる構造単位（以下、「構造単位（ａ１－４）」という場合がある。）が挙げられる。
Ｒa32は、水素原子、ハロゲン原子、又は、ハロゲン原子を有してもよい炭素数１～６
のアルキル基を表す。
Ｒa33は、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、炭素数１～６のアルキル基、炭素数１～６の
アルコキシ基、炭素数２～４のアルキルカルボニル基、炭素数２～４のアルキルカルボニ
ルオキシ基、アクリロイルオキシ基又はメタクリロイルオキシ基を表す。
ｌａは０～４のいずれかの整数を表す。ｌａが２以上である場合、複数のＲa33は互い
に同一であっても異なってもよい。
Ｒa34及びＲa35はそれぞれ独立に、水素原子又は炭素数１～１２の炭化水素基を表し、
Ｒa36は、炭素数１～２０の炭化水素基を表すか、Ｒa35及びＲa36は互いに結合してそれ
らが結合する－Ｃ－Ｏ－とともに炭素数２～２０の２価の炭化水素基を形成し、該炭化水
素基及び該２価の炭化水素基に含まれる－ＣＨ2－は、－Ｏ－又は－Ｓ－で置き換わって
もよい。］
Ｒa32及びＲa33におけるアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソ
プロピル基、ブチル基、ペンチル基及びヘキシル基等が挙げられる。該アルキル基は、炭
素数１～４のアルキル基が好ましく、メチル基又はエチル基がより好ましく、メチル基が
さらに好ましい。
Ｒa32及びＲa33におけるハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子及び臭素原子等
が挙げられる。
ハロゲン原子を有してもよい炭素数１～６のアルキル基としては、トリフルオロメチル
基、ジフルオロメチル基、メチル基、ペルフルオロエチル基、２，２，２－トリフルオロ
エチル基、１，１，２，２－テトラフルオロエチル基、エチル基、ペルフルオロプロピル
基、２，２，３，３，３－ペンタフルオロプロピル基、プロピル基、ペルフルオロブチル
基、１，１，２，２，３，３，４，４－オクタフルオロブチル基、ブチル基、ペルフルオ
ロペンチル基、２，２，３，３，４，４，５，５，５－ノナフルオロペンチル基、ペンチ
ル基、ヘキシル基、ペルフルオロヘキシル基等が挙げられる。
アルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、ペンチ
ルオキシ基及びヘキシルオキシ基等が挙げられる。なかでも、炭素数１～４のアルコキシ
基が好ましく、メトキシ基又はエトキシ基がより好ましく、メトキシ基がさらに好ましい
。
アルキルカルボニル基としては、アセチル基、プロピオニル基及びブチリル基が挙げら
れる。
アルキルカルボニルオキシ基としては、アセチルオキシ基、プロピオニルオキシ基、ブ
チリルオキシ基等が挙げられる。
Ｒa34、Ｒa35及びＲa36における炭化水素基としては、アルキル基、脂環式炭化水素基
、芳香族炭化水素基が挙げられ、式（２）のＲａ１’及びＲａ２’と同様の基が挙げられ
る。特に、Ｒa36としては、炭素数１～１８のアルキル基、炭素数３～１８の脂環式炭化
水素基、炭素数６～１８の芳香族炭化水素基又はこれらを組み合わせることにより形成さ
れる基が挙げられる。
プロピル基、ブチル基、ペンチル基及びヘキシル基等が挙げられる。該アルキル基は、炭
素数１～４のアルキル基が好ましく、メチル基又はエチル基がより好ましく、メチル基が
さらに好ましい。
Ｒa32及びＲa33におけるハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子及び臭素原子等
が挙げられる。
ハロゲン原子を有してもよい炭素数１～６のアルキル基としては、トリフルオロメチル
基、ジフルオロメチル基、メチル基、ペルフルオロエチル基、２，２，２－トリフルオロ
エチル基、１，１，２，２－テトラフルオロエチル基、エチル基、ペルフルオロプロピル
基、２，２，３，３，３－ペンタフルオロプロピル基、プロピル基、ペルフルオロブチル
基、１，１，２，２，３，３，４，４－オクタフルオロブチル基、ブチル基、ペルフルオ
ロペンチル基、２，２，３，３，４，４，５，５，５－ノナフルオロペンチル基、ペンチ
ル基、ヘキシル基、ペルフルオロヘキシル基等が挙げられる。
アルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、ペンチ
ルオキシ基及びヘキシルオキシ基等が挙げられる。なかでも、炭素数１～４のアルコキシ
基が好ましく、メトキシ基又はエトキシ基がより好ましく、メトキシ基がさらに好ましい
。
アルキルカルボニル基としては、アセチル基、プロピオニル基及びブチリル基が挙げら
れる。
アルキルカルボニルオキシ基としては、アセチルオキシ基、プロピオニルオキシ基、ブ
チリルオキシ基等が挙げられる。
Ｒa34、Ｒa35及びＲa36における炭化水素基としては、アルキル基、脂環式炭化水素基
、芳香族炭化水素基が挙げられ、式（２）のＲａ１’及びＲａ２’と同様の基が挙げられ
る。特に、Ｒa36としては、炭素数１～１８のアルキル基、炭素数３～１８の脂環式炭化
水素基、炭素数６～１８の芳香族炭化水素基又はこれらを組み合わせることにより形成さ
れる基が挙げられる。
式（ａ１－４）において、Ｒa32としては、水素原子が好ましい。
Ｒa33としては、炭素数１～４のアルコキシ基が好ましく、メトキシ基及びエトキシ基
がより好ましく、メトキシ基がさらに好ましい。
ｌａとしては、０又は１が好ましく、０がより好ましい。
Ｒa34は、好ましくは、水素原子である。
Ｒa35は、好ましくは、炭素数１～１２のアルキル基又は脂環式炭化水素基であり、よ
り好ましくはメチル基又はエチル基である。
Ｒa36の炭化水素基は、好ましくは、炭素数１～１８のアルキル基、炭素数３～１８の
脂環式炭化水素基、炭素数６～１８の芳香族炭化水素基又はこれらを組み合わせることに
より形成される基であり、より好ましくは、炭素数１～１８のアルキル基、炭素数３～１
８の脂環式脂肪族炭化水素基又は炭素数７～１８のアラルキル基である。Ｒa36における
アルキル基及び脂環式炭化水素基は、無置換であることが好ましい。Ｒa36における芳香
族炭化水素基は、炭素数６～１０のアリールオキシ基を有する芳香環が好ましい。
Ｒa33としては、炭素数１～４のアルコキシ基が好ましく、メトキシ基及びエトキシ基
がより好ましく、メトキシ基がさらに好ましい。
ｌａとしては、０又は１が好ましく、０がより好ましい。
Ｒa34は、好ましくは、水素原子である。
Ｒa35は、好ましくは、炭素数１～１２のアルキル基又は脂環式炭化水素基であり、よ
り好ましくはメチル基又はエチル基である。
Ｒa36の炭化水素基は、好ましくは、炭素数１～１８のアルキル基、炭素数３～１８の
脂環式炭化水素基、炭素数６～１８の芳香族炭化水素基又はこれらを組み合わせることに
より形成される基であり、より好ましくは、炭素数１～１８のアルキル基、炭素数３～１
８の脂環式脂肪族炭化水素基又は炭素数７～１８のアラルキル基である。Ｒa36における
アルキル基及び脂環式炭化水素基は、無置換であることが好ましい。Ｒa36における芳香
族炭化水素基は、炭素数６～１０のアリールオキシ基を有する芳香環が好ましい。
構造単位（ａ１－４）における－ＯＣ（Ｒa34）（Ｒa35）－Ｏ－Ｒa36は、酸（例えば
ｐ－トルエンスルホン酸）と接触して脱離し、ヒドロキシ基を形成する。
ｐ－トルエンスルホン酸）と接触して脱離し、ヒドロキシ基を形成する。
構造単位（ａ１－４）としては、例えば、特開２０１０－２０４６４６号公報に記載さ
れたモノマー由来の構造単位が挙げられる。好ましくは、式（ａ１－４－１）～式（ａ１
－４－１２）でそれぞれ表される構造単位及びＲａ３２に相当する水素原子がメチル基に
置き換わった構造単位が挙げられ、より好ましくは、式（ａ１－４－１）～式（ａ１－４
－５）、式（ａ１－４－１０）でそれぞれ表される構造単位が挙げられる。
れたモノマー由来の構造単位が挙げられる。好ましくは、式（ａ１－４－１）～式（ａ１
－４－１２）でそれぞれ表される構造単位及びＲａ３２に相当する水素原子がメチル基に
置き換わった構造単位が挙げられ、より好ましくは、式（ａ１－４－１）～式（ａ１－４
－５）、式（ａ１－４－１０）でそれぞれ表される構造単位が挙げられる。
樹脂（Ａ）が、構造単位（ａ１－４）を有する場合、その含有率は、樹脂（Ａ）の全構
造単位の合計に対して、１０～９５モル％であることが好ましく、１５～９０モル％であ
ることがより好ましく、２０～８５モル％であることがさらに好ましく、２０～７０モル
％であることがさらにより好ましく、２０～６０モル％であることが特に好ましい。
造単位の合計に対して、１０～９５モル％であることが好ましく、１５～９０モル％であ
ることがより好ましく、２０～８５モル％であることがさらに好ましく、２０～７０モル
％であることがさらにより好ましく、２０～６０モル％であることが特に好ましい。
基（２）を有する（メタ）アクリル系モノマーに由来する構造単位としては、式（ａ１
－５）で表される構造単位（以下「構造単位（ａ１－５）」という場合がある）も挙げら
れる。
式（ａ１－５）中、
Ｒa8は、ハロゲン原子を有してもよい炭素数１～６のアルキル基、水素原子又はハロゲ
ン原子を表す。
Ｚa1は、単結合又は＊－（ＣＨ2）h3－ＣＯ－Ｌ54－を表し、ｈ３は１～４のいずれか
の整数を表し、＊は、Ｌ51との結合手を表す。
Ｌ51、Ｌ52、Ｌ53及びＬ54は、それぞれ独立に、－Ｏ－又は－Ｓ－を表す。
ｓ１は、１～３のいずれかの整数を表す。
ｓ１’は、０～３のいずれかの整数を表す。
－５）で表される構造単位（以下「構造単位（ａ１－５）」という場合がある）も挙げら
れる。
Ｒa8は、ハロゲン原子を有してもよい炭素数１～６のアルキル基、水素原子又はハロゲ
ン原子を表す。
Ｚa1は、単結合又は＊－（ＣＨ2）h3－ＣＯ－Ｌ54－を表し、ｈ３は１～４のいずれか
の整数を表し、＊は、Ｌ51との結合手を表す。
Ｌ51、Ｌ52、Ｌ53及びＬ54は、それぞれ独立に、－Ｏ－又は－Ｓ－を表す。
ｓ１は、１～３のいずれかの整数を表す。
ｓ１’は、０～３のいずれかの整数を表す。
ハロゲン原子としては、フッ素原子及び塩素原子が挙げられ、フッ素原子が好ましい。
ハロゲン原子を有してもよい炭素数１～６のアルキル基としては、メチル基、エチル基、
プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、フルオロメ
チル基及びトリフルオロメチル基が挙げられる。
式（ａ１－５）においては、Ｒa8は、水素原子、メチル基又はトリフルオロメチル基が
好ましい。
Ｌ51は、酸素原子が好ましい。
Ｌ52及びＬ53のうち、一方が－Ｏ－であり、他方が－Ｓ－であることが好ましい。
ｓ１は、１が好ましい。
ｓ１’は、０～２のいずれかの整数が好ましい。
Ｚa1は、単結合又は＊－ＣＨ2－ＣＯ－Ｏ－が好ましい。
ハロゲン原子を有してもよい炭素数１～６のアルキル基としては、メチル基、エチル基、
プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、フルオロメ
チル基及びトリフルオロメチル基が挙げられる。
式（ａ１－５）においては、Ｒa8は、水素原子、メチル基又はトリフルオロメチル基が
好ましい。
Ｌ51は、酸素原子が好ましい。
Ｌ52及びＬ53のうち、一方が－Ｏ－であり、他方が－Ｓ－であることが好ましい。
ｓ１は、１が好ましい。
ｓ１’は、０～２のいずれかの整数が好ましい。
Ｚa1は、単結合又は＊－ＣＨ2－ＣＯ－Ｏ－が好ましい。
構造単位（ａ１－５）としては、例えば、特開２０１０－６１１１７号公報に記載され
たモノマー由来の構造単位が挙げられる。中でも、式（ａ１－５－１）～式（ａ１－５－
４）でそれぞれ表される構造単位が好ましく、式（ａ１－５－１）又は式（ａ１－５－２
）で表される構造単位がより好ましい。
たモノマー由来の構造単位が挙げられる。中でも、式（ａ１－５－１）～式（ａ１－５－
４）でそれぞれ表される構造単位が好ましく、式（ａ１－５－１）又は式（ａ１－５－２
）で表される構造単位がより好ましい。
樹脂（Ａ）が、構造単位（ａ１－５）を有する場合、その含有率は、樹脂（Ａ）の全構
造単位に対して、１～５０モル％が好ましく、３～４５モル％がより好ましく、５～４０
モル％がさらに好ましく、５～３０モル％がさらにより好ましい。
造単位に対して、１～５０モル％が好ましく、３～４５モル％がより好ましく、５～４０
モル％がさらに好ましく、５～３０モル％がさらにより好ましい。
また、構造単位（ａ１）としては、以下の構造単位も挙げられる。
樹脂（Ａ）が上記、（ａ１－３－１）～（ａ１－３－７）のような構造単位を含む場合
、その含有率は、樹脂（Ａ）の全構造単位に対して、１０～９５モル％が好ましく、１５
～９０モル％がより好ましく、２０～８５モル％がさらに好ましく、２０～７０モル％が
さらにより好ましく、２０～６０モル％がより一層好ましく、１０～４０モル％が特に好
ましい。
、その含有率は、樹脂（Ａ）の全構造単位に対して、１０～９５モル％が好ましく、１５
～９０モル％がより好ましく、２０～８５モル％がさらに好ましく、２０～７０モル％が
さらにより好ましく、２０～６０モル％がより一層好ましく、１０～４０モル％が特に好
ましい。
〈構造単位（ｓ）〉
構造単位（ｓ）は、酸不安定基を有さないモノマー（以下「モノマー（ｓ）」という場
合がある）から導かれる。構造単位（ｓ）を導くモノマーは、レジスト分野で公知の酸不
安定基を有さないモノマーを使用できる。
構造単位（ｓ）としては、ヒドロキシ基又はラクトン環を有するのが好ましい。ヒドロ
キシ基を有し、かつ酸不安定基を有さない構造単位（以下「構造単位（ａ２）」という場
合がある）及び／又はラクトン環を有し、かつ酸不安定基を有さない構造単位（以下「構
造単位（ａ３）」という場合がある）を有する樹脂を本発明のレジスト組成物に使用すれ
ば、レジストパターンの解像度及び基板との密着性を向上させることができる。
構造単位（ｓ）は、酸不安定基を有さないモノマー（以下「モノマー（ｓ）」という場
合がある）から導かれる。構造単位（ｓ）を導くモノマーは、レジスト分野で公知の酸不
安定基を有さないモノマーを使用できる。
構造単位（ｓ）としては、ヒドロキシ基又はラクトン環を有するのが好ましい。ヒドロ
キシ基を有し、かつ酸不安定基を有さない構造単位（以下「構造単位（ａ２）」という場
合がある）及び／又はラクトン環を有し、かつ酸不安定基を有さない構造単位（以下「構
造単位（ａ３）」という場合がある）を有する樹脂を本発明のレジスト組成物に使用すれ
ば、レジストパターンの解像度及び基板との密着性を向上させることができる。
〈構造単位（ａ２）〉
構造単位（ａ２）が有するヒドロキシ基は、アルコール性ヒドロキシ基でも、フェノー
ル性ヒドロキシ基でもよい。
本発明のレジスト組成物からレジストパターンを製造するとき、露光光源としてＫｒＦ
エキシマレーザ（２４８ｎｍ）、電子線又はＥＵＶ（超紫外光）等の高エネルギー線を用
いる場合には、構造単位（ａ２）として、フェノール性ヒドロキシ基を有する構造単位（
ａ２）を用いることが好ましい。また、ＡｒＦエキシマレーザ（１９３ｎｍ）等を用いる
場合には、構造単位（ａ２）として、アルコール性ヒドロキシ基を有する構造単位（ａ２
）が好ましく、後述する構造単位（ａ２－１）を用いることがより好ましい。構造単位（
ａ２）としては、１種を単独で含んでいてもよく、２種以上を含んでいてもよい。
構造単位（ａ２）が有するヒドロキシ基は、アルコール性ヒドロキシ基でも、フェノー
ル性ヒドロキシ基でもよい。
本発明のレジスト組成物からレジストパターンを製造するとき、露光光源としてＫｒＦ
エキシマレーザ（２４８ｎｍ）、電子線又はＥＵＶ（超紫外光）等の高エネルギー線を用
いる場合には、構造単位（ａ２）として、フェノール性ヒドロキシ基を有する構造単位（
ａ２）を用いることが好ましい。また、ＡｒＦエキシマレーザ（１９３ｎｍ）等を用いる
場合には、構造単位（ａ２）として、アルコール性ヒドロキシ基を有する構造単位（ａ２
）が好ましく、後述する構造単位（ａ２－１）を用いることがより好ましい。構造単位（
ａ２）としては、１種を単独で含んでいてもよく、２種以上を含んでいてもよい。
構造単位（ａ２）においてフェノール性ヒドロキシ基有する構造単位としては式（ａ２
－Ａ）で表される構造単位（以下「構造単位（ａ２－Ａ）」という場合がある）が挙げら
れる。
［式（ａ２－Ａ）中、
Ｒa50は、水素原子、ハロゲン原子又はハロゲン原子を有してもよい炭素数１～６のア
ルキル基を表す。
Ｒa51は、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、炭素数１～６のアルキル基、炭素数１～６の
アルコキシ基、炭素数２～４のアルキルカルボニル基、炭素数２～４のアルキルカルボニ
ルオキシ基、アクリロイルオキシ基又はメタクリロイルオキシ基を表す。
Ａa50は、単結合又は＊－Ｘa51－（Ａa52－Ｘa52）nｂ－を表し、＊は－Ｒa50が結合す
る炭素原子との結合手を表す。
Ａa52は、炭素数１～６のアルカンジイル基を表す。
Ｘa51及びＸa52は、それぞれ独立に、－Ｏ－、－ＣＯ－Ｏ－又は－Ｏ－ＣＯ－を表す。
ｎｂは、０又は１を表す。
ｍｂは０～４のいずれかの整数を表す。ｍｂが２以上のいずれかの整数である場合、複
数のＲa51は互いに同一であっても異なってもよい。］
－Ａ）で表される構造単位（以下「構造単位（ａ２－Ａ）」という場合がある）が挙げら
れる。
Ｒa50は、水素原子、ハロゲン原子又はハロゲン原子を有してもよい炭素数１～６のア
ルキル基を表す。
Ｒa51は、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、炭素数１～６のアルキル基、炭素数１～６の
アルコキシ基、炭素数２～４のアルキルカルボニル基、炭素数２～４のアルキルカルボニ
ルオキシ基、アクリロイルオキシ基又はメタクリロイルオキシ基を表す。
Ａa50は、単結合又は＊－Ｘa51－（Ａa52－Ｘa52）nｂ－を表し、＊は－Ｒa50が結合す
る炭素原子との結合手を表す。
Ａa52は、炭素数１～６のアルカンジイル基を表す。
Ｘa51及びＸa52は、それぞれ独立に、－Ｏ－、－ＣＯ－Ｏ－又は－Ｏ－ＣＯ－を表す。
ｎｂは、０又は１を表す。
ｍｂは０～４のいずれかの整数を表す。ｍｂが２以上のいずれかの整数である場合、複
数のＲa51は互いに同一であっても異なってもよい。］
Ｒa50におけるハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子及び臭素原子等が挙げら
れる。
Ｒa50におけるハロゲン原子を有してもよい炭素数１～６のアルキル基としては、トリ
フルオロメチル基、ジフルオロメチル基、メチル基、ペルフルオロエチル基、２，２，２
－トリフルオロエチル基、１，１，２，２－テトラフルオロエチル基、エチル基、ペルフ
ルオロプロピル基、２，２，３，３，３－ペンタフルオロプロピル基、プロピル基、ペル
フルオロブチル基、１，１，２，２，３，３，４，４－オクタフルオロブチル基、ブチル
基、ペルフルオロペンチル基、２，２，３，３，４，４，５，５，５－ノナフルオロペン
チル基、ペンチル基、ヘキシル基及びペルフルオロヘキシル基が挙げられる。
Ｒa50は、水素原子又は炭素数１～４のアルキル基が好ましく、水素原子、メチル基又
はエチル基がより好ましく、水素原子又はメチル基がさらに好ましい。
Ｒa51におけるアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル
基、ブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基が挙げ
られる。
Ｒa51におけるアルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソ
プロポキシ基、ブトキシ基、ｓｅｃ－ブトキシ基、ｔｅｒｔ－ブトキシ基が挙げられる。
炭素数１～４のアルコキシ基が好ましく、メトキシ基又はエトキシ基がより好ましく、メ
トキシ基がさらに好ましい。
Ｒa51におけるアルキルカルボニル基としては、アセチル基、プロピオニル基及びブチ
リル基等が挙げられる。
Ｒa51におけるアルキルカルボニルオキシ基としては、アセチルオキシ基、プロピオニ
ルオキシ基及びブチリルオキシ基が挙げられる。
Ｒa51は、メチル基が好ましい。
れる。
Ｒa50におけるハロゲン原子を有してもよい炭素数１～６のアルキル基としては、トリ
フルオロメチル基、ジフルオロメチル基、メチル基、ペルフルオロエチル基、２，２，２
－トリフルオロエチル基、１，１，２，２－テトラフルオロエチル基、エチル基、ペルフ
ルオロプロピル基、２，２，３，３，３－ペンタフルオロプロピル基、プロピル基、ペル
フルオロブチル基、１，１，２，２，３，３，４，４－オクタフルオロブチル基、ブチル
基、ペルフルオロペンチル基、２，２，３，３，４，４，５，５，５－ノナフルオロペン
チル基、ペンチル基、ヘキシル基及びペルフルオロヘキシル基が挙げられる。
Ｒa50は、水素原子又は炭素数１～４のアルキル基が好ましく、水素原子、メチル基又
はエチル基がより好ましく、水素原子又はメチル基がさらに好ましい。
Ｒa51におけるアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル
基、ブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基が挙げ
られる。
Ｒa51におけるアルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソ
プロポキシ基、ブトキシ基、ｓｅｃ－ブトキシ基、ｔｅｒｔ－ブトキシ基が挙げられる。
炭素数１～４のアルコキシ基が好ましく、メトキシ基又はエトキシ基がより好ましく、メ
トキシ基がさらに好ましい。
Ｒa51におけるアルキルカルボニル基としては、アセチル基、プロピオニル基及びブチ
リル基等が挙げられる。
Ｒa51におけるアルキルカルボニルオキシ基としては、アセチルオキシ基、プロピオニ
ルオキシ基及びブチリルオキシ基が挙げられる。
Ｒa51は、メチル基が好ましい。
＊－Ｘa51－（Ａa52－Ｘa52）nb－としては、＊－Ｏ－、＊－ＣＯ－Ｏ－、＊－Ｏ－Ｃ
Ｏ－、＊－ＣＯ－Ｏ－Ａa52－ＣＯ－Ｏ－、＊－Ｏ－ＣＯ－Ａa52－Ｏ－、＊－Ｏ－Ａa52
－ＣＯ－Ｏ－、＊－ＣＯ－Ｏ－Ａa52－Ｏ－ＣＯ－、＊－Ｏ－ＣＯ－Ａa52－Ｏ－ＣＯ－、
が挙げられる。なかでも、＊－ＣＯ－Ｏ－、＊－ＣＯ－Ｏ－Ａa52－ＣＯ－Ｏ－又は＊－
Ｏ－Ａa52－ＣＯ－Ｏ－が好ましい。
Ｏ－、＊－ＣＯ－Ｏ－Ａa52－ＣＯ－Ｏ－、＊－Ｏ－ＣＯ－Ａa52－Ｏ－、＊－Ｏ－Ａa52
－ＣＯ－Ｏ－、＊－ＣＯ－Ｏ－Ａa52－Ｏ－ＣＯ－、＊－Ｏ－ＣＯ－Ａa52－Ｏ－ＣＯ－、
が挙げられる。なかでも、＊－ＣＯ－Ｏ－、＊－ＣＯ－Ｏ－Ａa52－ＣＯ－Ｏ－又は＊－
Ｏ－Ａa52－ＣＯ－Ｏ－が好ましい。
アルカンジイル基としては、メチレン基、エチレン基、プロパン－１，３－ジイル基、
プロパン－１，２－ジイル基、ブタン－１，４－ジイル基、ペンタン－１，５－ジイル基
、ヘキサン－１，６－ジイル基、ブタン－１，３－ジイル基、２－メチルプロパン－１，
３－ジイル基、２－メチルプロパン－１，２－ジイル基、ペンタン－１，４－ジイル基及
び２－メチルブタン－１，４－ジイル基等が挙げられる。
Ａa52は、メチレン基又はエチレン基であることが好ましい。
プロパン－１，２－ジイル基、ブタン－１，４－ジイル基、ペンタン－１，５－ジイル基
、ヘキサン－１，６－ジイル基、ブタン－１，３－ジイル基、２－メチルプロパン－１，
３－ジイル基、２－メチルプロパン－１，２－ジイル基、ペンタン－１，４－ジイル基及
び２－メチルブタン－１，４－ジイル基等が挙げられる。
Ａa52は、メチレン基又はエチレン基であることが好ましい。
Ａa50は、単結合、＊－ＣＯ－Ｏ－又は＊－ＣＯ－Ｏ－Ａa52－ＣＯ－Ｏ－であることが
好ましく、単結合、＊－ＣＯ－Ｏ－又は＊－ＣＯ－Ｏ－ＣＨ2－ＣＯ－Ｏ－であることが
より好ましく、単結合又は＊－ＣＯ－Ｏ－であることがさらに好ましい。
好ましく、単結合、＊－ＣＯ－Ｏ－又は＊－ＣＯ－Ｏ－ＣＨ2－ＣＯ－Ｏ－であることが
より好ましく、単結合又は＊－ＣＯ－Ｏ－であることがさらに好ましい。
ｍｂは０、１又は２が好ましく、０又は１がより好ましく、０が特に好ましい。
ヒドロキシ基は、ベンゼン環のオルト位又はパラ位に結合することが好ましく、パラ位
に結合することがより好ましい。
ヒドロキシ基は、ベンゼン環のオルト位又はパラ位に結合することが好ましく、パラ位
に結合することがより好ましい。
構造単位（ａ２－Ａ）としては、式（ａ２－２－１）～式（ａ２－２－６）で表される
構造単位及び、式（ａ２－２－１）～式（ａ２－２－６）で表される構造単位において構
造単位（ａ２－Ａ）におけるＲａ５０に相当するメチル基が水素原子に置き換わった構造
単位が挙げられる。構造単位（ａ２－Ａ）は、式（ａ２－２－１）で表される構造単位、
式（ａ２－２－３）で表される構造単位、式（ａ２－２－６）で表される構造単位及び式
（ａ２－２－１）で表される構造単位、式（ａ２－２－３）で表される構造単位又は式（
ａ２－２－６）で表される構造単位において、構造単位（ａ２－Ａ）におけるＲａ５０に
相当するメチル基が水素原子に置き換わった構造単位であることが好ましい。
構造単位及び、式（ａ２－２－１）～式（ａ２－２－６）で表される構造単位において構
造単位（ａ２－Ａ）におけるＲａ５０に相当するメチル基が水素原子に置き換わった構造
単位が挙げられる。構造単位（ａ２－Ａ）は、式（ａ２－２－１）で表される構造単位、
式（ａ２－２－３）で表される構造単位、式（ａ２－２－６）で表される構造単位及び式
（ａ２－２－１）で表される構造単位、式（ａ２－２－３）で表される構造単位又は式（
ａ２－２－６）で表される構造単位において、構造単位（ａ２－Ａ）におけるＲａ５０に
相当するメチル基が水素原子に置き換わった構造単位であることが好ましい。
樹脂（Ａ）中に構造単位（ａ２－Ａ）が含まれる場合の構造単位（ａ２－Ａ）の含有率
は、全構造単位に対して、好ましくは５～８０モル％であり、より好ましくは１０～７０
モル％であり、さらに好ましくは１５～６５モル％であり、さらにより好ましくは２０～
６５モル％であり、より一層好ましくは２０～５０モル％である。
構造単位（ａ２－Ａ）は、例えば構造単位（ａ１－４）を用いて重合した後、ｐ－トル
エンスルホン酸等の酸で処理することにより、樹脂（Ａ）に含ませることができる。また
、アセトキシスチレン等を用いて重合した後、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド等
のアルカリで処理することにより、構造単位（ａ２－Ａ）を樹脂（Ａ）に含ませることが
できる。
は、全構造単位に対して、好ましくは５～８０モル％であり、より好ましくは１０～７０
モル％であり、さらに好ましくは１５～６５モル％であり、さらにより好ましくは２０～
６５モル％であり、より一層好ましくは２０～５０モル％である。
構造単位（ａ２－Ａ）は、例えば構造単位（ａ１－４）を用いて重合した後、ｐ－トル
エンスルホン酸等の酸で処理することにより、樹脂（Ａ）に含ませることができる。また
、アセトキシスチレン等を用いて重合した後、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド等
のアルカリで処理することにより、構造単位（ａ２－Ａ）を樹脂（Ａ）に含ませることが
できる。
構造単位（ａ２）においてアルコール性ヒドロキシ基を有する構造単位としては、式（
ａ２－１）で表される構造単位（以下「構造単位（ａ２－１）」という場合がある。）が
挙げられる。
式（ａ２－１）中、
Ｌa3は、－Ｏ－又は＊－Ｏ－（ＣＨ2）k2－ＣＯ－Ｏ－を表し、
ｋ２は１～７のいずれかの整数を表す。＊は－ＣＯ－との結合手を表す。
Ｒa14は、水素原子又はメチル基を表す。
Ｒa15及びＲa16は、それぞれ独立に、水素原子、メチル基又はヒドロキシ基を表す。
ｏ１は、０～１０のいずれかの整数を表す。
ａ２－１）で表される構造単位（以下「構造単位（ａ２－１）」という場合がある。）が
挙げられる。
Ｌa3は、－Ｏ－又は＊－Ｏ－（ＣＨ2）k2－ＣＯ－Ｏ－を表し、
ｋ２は１～７のいずれかの整数を表す。＊は－ＣＯ－との結合手を表す。
Ｒa14は、水素原子又はメチル基を表す。
Ｒa15及びＲa16は、それぞれ独立に、水素原子、メチル基又はヒドロキシ基を表す。
ｏ１は、０～１０のいずれかの整数を表す。
式（ａ２－１）では、Ｌa3は、好ましくは、－Ｏ－、－Ｏ－（ＣＨ2）f1－ＣＯ－Ｏ－
であり（前記ｆ１は、１～４のいずれかの整数を表す）、より好ましくは－Ｏ－である。
Ｒa14は、好ましくはメチル基である。
Ｒa15は、好ましくは水素原子である。
Ｒa16は、好ましくは水素原子又はヒドロキシ基である。
ｏ１は、好ましくは０～３のいずれかの整数、より好ましくは０又は１である。
であり（前記ｆ１は、１～４のいずれかの整数を表す）、より好ましくは－Ｏ－である。
Ｒa14は、好ましくはメチル基である。
Ｒa15は、好ましくは水素原子である。
Ｒa16は、好ましくは水素原子又はヒドロキシ基である。
ｏ１は、好ましくは０～３のいずれかの整数、より好ましくは０又は１である。
構造単位（ａ２－１）としては、例えば、特開２０１０－２０４６４６号公報に記載さ
れたモノマーに由来する構造単位が挙げられる。式（ａ２－１－１）～式（ａ２－１－６
）のいずれかで表される構造単位が好ましく、式（ａ２－１－１）～式（ａ２－１－４）
のいずれかで表される構造単位がより好ましく、式（ａ２－１－１）又は式（ａ２－１－
３）で表される構造単位がさらに好ましい。
れたモノマーに由来する構造単位が挙げられる。式（ａ２－１－１）～式（ａ２－１－６
）のいずれかで表される構造単位が好ましく、式（ａ２－１－１）～式（ａ２－１－４）
のいずれかで表される構造単位がより好ましく、式（ａ２－１－１）又は式（ａ２－１－
３）で表される構造単位がさらに好ましい。
樹脂（Ａ）が構造単位（ａ２－１）を含む場合、その含有率は、樹脂（Ａ）の全構造単
位に対して、通常１～４５モル％であり、好ましくは１～４０モル％であり、より好まし
くは１～３５モル％であり、さらに好ましくは１～２０モル％であり、さらにより好まし
くは１～１０モル％である。
位に対して、通常１～４５モル％であり、好ましくは１～４０モル％であり、より好まし
くは１～３５モル％であり、さらに好ましくは１～２０モル％であり、さらにより好まし
くは１～１０モル％である。
〈構造単位（ａ３）〉
構造単位（ａ３）が有するラクトン環は、β－プロピオラクトン環、γ－ブチロラクト
ン環、δ－バレロラクトン環のような単環でもよく、単環式のラクトン環と他の環との縮
合環でもよい。好ましくは、γ－ブチロラクトン環、アダマンタンラクトン環、又は、γ
－ブチロラクトン環構造を含む橋かけ環（例えば下式（ａ３－２）で表される構造単位）
が挙げられる。
構造単位（ａ３）が有するラクトン環は、β－プロピオラクトン環、γ－ブチロラクト
ン環、δ－バレロラクトン環のような単環でもよく、単環式のラクトン環と他の環との縮
合環でもよい。好ましくは、γ－ブチロラクトン環、アダマンタンラクトン環、又は、γ
－ブチロラクトン環構造を含む橋かけ環（例えば下式（ａ３－２）で表される構造単位）
が挙げられる。
構造単位（ａ３）は、好ましくは、式（ａ３－１）、式（ａ３－２）、式（ａ３－３）
又は式（ａ３－４）で表される構造単位である。これらの１種を単独で含有してもよく、
２種以上を含有してもよい。
［式（ａ３－１）、式（ａ３－２）、式（ａ３－３）及び式（ａ３－４）中、
Ｌａ４、Ｌａ５及びＬａ６は、それぞれ独立に、－Ｏ－又は＊－Ｏ－（ＣＨ２）ｋ３－
ＣＯ－Ｏ－（ｋ３は１～７のいずれかの整数を表す。）で表される基を表す。
Ｌａ７は、－Ｏ－、＊－Ｏ－Ｌａ８－Ｏ－、＊－Ｏ－Ｌａ８－ＣＯ－Ｏ－、＊－Ｏ－Ｌ
ａ８－ＣＯ－Ｏ－Ｌａ９－ＣＯ－Ｏ－又は＊－Ｏ－Ｌａ８－Ｏ－ＣＯ－Ｌａ９－Ｏ－を表
す。
Ｌａ８及びＬａ９は、それぞれ独立に、炭素数１～６のアルカンジイル基を表す。
＊はカルボニル基との結合手を表す。
Ｒａ１８、Ｒａ１９及びＲａ２０は、それぞれ独立に、水素原子又はメチル基を表す。
Ｒａ２４は、ハロゲン原子を有してもよい炭素数１～６のアルキル基、水素原子又はハ
ロゲン原子を表す。
Ｘａ３は、－ＣＨ２－又は酸素原子を表す。
Ｒａ２１は炭素数１～４の脂肪族炭化水素基を表す。
Ｒａ２２、Ｒａ２３及びＲａ２５は、それぞれ独立に、カルボキシ基、シアノ基又は炭
素数１～４の脂肪族炭化水素基を表す。
ｐ１は０～５のいずれかの整数を表す。
ｑ１は、０～３のいずれかの整数を表す。
ｒ１は、０～３のいずれかの整数を表す。
ｗ１は、０～８のいずれかの整数を表す。
ｐ１、ｑ１、ｒ１及び／又はｗ１が２以上のとき、複数のＲａ２１、Ｒａ２２、Ｒａ２
３及び／又はＲａ２５は互いに同一であってもよく、異なっていてもよい。］
又は式（ａ３－４）で表される構造単位である。これらの１種を単独で含有してもよく、
２種以上を含有してもよい。
Ｌａ４、Ｌａ５及びＬａ６は、それぞれ独立に、－Ｏ－又は＊－Ｏ－（ＣＨ２）ｋ３－
ＣＯ－Ｏ－（ｋ３は１～７のいずれかの整数を表す。）で表される基を表す。
Ｌａ７は、－Ｏ－、＊－Ｏ－Ｌａ８－Ｏ－、＊－Ｏ－Ｌａ８－ＣＯ－Ｏ－、＊－Ｏ－Ｌ
ａ８－ＣＯ－Ｏ－Ｌａ９－ＣＯ－Ｏ－又は＊－Ｏ－Ｌａ８－Ｏ－ＣＯ－Ｌａ９－Ｏ－を表
す。
Ｌａ８及びＬａ９は、それぞれ独立に、炭素数１～６のアルカンジイル基を表す。
＊はカルボニル基との結合手を表す。
Ｒａ１８、Ｒａ１９及びＲａ２０は、それぞれ独立に、水素原子又はメチル基を表す。
Ｒａ２４は、ハロゲン原子を有してもよい炭素数１～６のアルキル基、水素原子又はハ
ロゲン原子を表す。
Ｘａ３は、－ＣＨ２－又は酸素原子を表す。
Ｒａ２１は炭素数１～４の脂肪族炭化水素基を表す。
Ｒａ２２、Ｒａ２３及びＲａ２５は、それぞれ独立に、カルボキシ基、シアノ基又は炭
素数１～４の脂肪族炭化水素基を表す。
ｐ１は０～５のいずれかの整数を表す。
ｑ１は、０～３のいずれかの整数を表す。
ｒ１は、０～３のいずれかの整数を表す。
ｗ１は、０～８のいずれかの整数を表す。
ｐ１、ｑ１、ｒ１及び／又はｗ１が２以上のとき、複数のＲａ２１、Ｒａ２２、Ｒａ２
３及び／又はＲａ２５は互いに同一であってもよく、異なっていてもよい。］
Ｒa21、Ｒa22、Ｒa23及びＲa25における脂肪族炭化水素基としては、メチル基、エチル
基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、ｓｅｃ－ブチル基及びｔｅｒｔ－ブチル基
等のアルキル基が挙げられる。
Ｒａ２４におけるハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子及びヨウ素
原子が挙げられる。
Ｒａ２４におけるアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピ
ル基、ブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ペンチル基及びヘキシル基等
が挙げられ、好ましくは炭素数１～４のアルキル基が挙げられ、より好ましくはメチル基
又はエチル基が挙げられる。
Ｒａ２４におけるハロゲン原子を有するアルキル基としては、トリフルオロメチル基、
ペルフルオロエチル基、ペルフルオロプロピル基、ペルフルオロイソプロピル基、ペルフ
ルオロブチル基、ペルフルオロｓｅｃ－ブチル基、ペルフルオロｔｅｒｔ－ブチル基、ペ
ルフルオロペンチル基、ペルフルオロヘキシル基、トリクロロメチル基、トリブロモメチ
ル基、トリヨードメチル基等が挙げられる。
Ｌａ８及びＬａ９におけるアルカンジイル基としては、メチレン基、エチレン基、プロ
パン－１，３－ジイル基、プロパン－１，２－ジイル基、ブタン－１，４－ジイル基、ペ
ンタン－１，５－ジイル基、ヘキサン－１，６－ジイル基、ブタン－１，３－ジイル基、
２－メチルプロパン－１，３－ジイル基、２－メチルプロパン－１，２－ジイル基、ペン
タン－１，４－ジイル基及び２－メチルブタン－１，４－ジイル基等が挙げられる。
基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、ｓｅｃ－ブチル基及びｔｅｒｔ－ブチル基
等のアルキル基が挙げられる。
Ｒａ２４におけるハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子及びヨウ素
原子が挙げられる。
Ｒａ２４におけるアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピ
ル基、ブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ペンチル基及びヘキシル基等
が挙げられ、好ましくは炭素数１～４のアルキル基が挙げられ、より好ましくはメチル基
又はエチル基が挙げられる。
Ｒａ２４におけるハロゲン原子を有するアルキル基としては、トリフルオロメチル基、
ペルフルオロエチル基、ペルフルオロプロピル基、ペルフルオロイソプロピル基、ペルフ
ルオロブチル基、ペルフルオロｓｅｃ－ブチル基、ペルフルオロｔｅｒｔ－ブチル基、ペ
ルフルオロペンチル基、ペルフルオロヘキシル基、トリクロロメチル基、トリブロモメチ
ル基、トリヨードメチル基等が挙げられる。
Ｌａ８及びＬａ９におけるアルカンジイル基としては、メチレン基、エチレン基、プロ
パン－１，３－ジイル基、プロパン－１，２－ジイル基、ブタン－１，４－ジイル基、ペ
ンタン－１，５－ジイル基、ヘキサン－１，６－ジイル基、ブタン－１，３－ジイル基、
２－メチルプロパン－１，３－ジイル基、２－メチルプロパン－１，２－ジイル基、ペン
タン－１，４－ジイル基及び２－メチルブタン－１，４－ジイル基等が挙げられる。
式（ａ３－１）～式（ａ３－３）において、Ｌａ４～Ｌａ６は、それぞれ独立に、好ま
しくは－Ｏ－又は、＊－Ｏ－（ＣＨ２）ｋ３－ＣＯ－Ｏ－において、ｋ３が１～４のいず
れかの整数である基、より好ましくは－Ｏ－及び、＊－Ｏ－ＣＨ２－ＣＯ－Ｏ－、さらに
好ましくは酸素原子である。
Ｒａ１８～Ｒａ２１は、好ましくはメチル基である。
Ｒａ２２及びＲａ２３は、それぞれ独立に、好ましくはカルボキシ基、シアノ基又はメ
チル基である。
ｐ１、ｑ１及びｒ１は、それぞれ独立に、好ましくは０～２のいずれかの整数であり、
より好ましくは０又は１である。
しくは－Ｏ－又は、＊－Ｏ－（ＣＨ２）ｋ３－ＣＯ－Ｏ－において、ｋ３が１～４のいず
れかの整数である基、より好ましくは－Ｏ－及び、＊－Ｏ－ＣＨ２－ＣＯ－Ｏ－、さらに
好ましくは酸素原子である。
Ｒａ１８～Ｒａ２１は、好ましくはメチル基である。
Ｒａ２２及びＲａ２３は、それぞれ独立に、好ましくはカルボキシ基、シアノ基又はメ
チル基である。
ｐ１、ｑ１及びｒ１は、それぞれ独立に、好ましくは０～２のいずれかの整数であり、
より好ましくは０又は１である。
式（ａ３－４）において、Ｒａ２４は、好ましくは水素原子又は炭素数１～４のアルキ
ル基であり、より好ましくは水素原子、メチル基又はエチル基であり、さらに好ましくは
水素原子又はメチル基である。
Ｒａ２５は、好ましくはカルボキシ基、シアノ基又はメチル基である。
Ｌａ７は、好ましくは－Ｏ－又は＊－Ｏ－Ｌａ８－ＣＯ－Ｏ－であり、より好ましくは
－Ｏ－、－Ｏ－ＣＨ２－ＣＯ－Ｏ－又は－Ｏ－Ｃ２Ｈ４－ＣＯ－Ｏ－である。
ｗ１は、好ましくは０～２のいずれかの整数であり、より好ましくは０又は１である。
特に、式（ａ３－４）は、式（ａ３－４）’が好ましい。
（式中、Ｒａ２４、Ｌａ７は、上記と同じ意味を表す。）
ル基であり、より好ましくは水素原子、メチル基又はエチル基であり、さらに好ましくは
水素原子又はメチル基である。
Ｒａ２５は、好ましくはカルボキシ基、シアノ基又はメチル基である。
Ｌａ７は、好ましくは－Ｏ－又は＊－Ｏ－Ｌａ８－ＣＯ－Ｏ－であり、より好ましくは
－Ｏ－、－Ｏ－ＣＨ２－ＣＯ－Ｏ－又は－Ｏ－Ｃ２Ｈ４－ＣＯ－Ｏ－である。
ｗ１は、好ましくは０～２のいずれかの整数であり、より好ましくは０又は１である。
特に、式（ａ３－４）は、式（ａ３－４）’が好ましい。
構造単位（ａ３）としては、特開２０１０－２０４６４６号公報に記載されたモノマー
、特開２０００－１２２２９４号公報に記載されたモノマー、特開２０１２－４１２７４
号公報に記載されたモノマーに由来の構造単位が挙げられる。構造単位（ａ３）としては
、式（ａ３－１－１）、式（ａ３－１－２）、式（ａ３－２－１）、式（ａ３－２－２）
、式（ａ３－３－１）、式（ａ３－３－２）及び式（ａ３－４－１）～式（ａ３－４－１
２）のいずれかで表される構造単位及び、前記構造単位において、式（ａ３－１）～式（
ａ３－４）におけるＲａ１８、Ｒａ１９、Ｒａ２０及びＲa24に相当するメチル基が水素
原子に置き換わった構造単位が好ましい。
、特開２０００－１２２２９４号公報に記載されたモノマー、特開２０１２－４１２７４
号公報に記載されたモノマーに由来の構造単位が挙げられる。構造単位（ａ３）としては
、式（ａ３－１－１）、式（ａ３－１－２）、式（ａ３－２－１）、式（ａ３－２－２）
、式（ａ３－３－１）、式（ａ３－３－２）及び式（ａ３－４－１）～式（ａ３－４－１
２）のいずれかで表される構造単位及び、前記構造単位において、式（ａ３－１）～式（
ａ３－４）におけるＲａ１８、Ｒａ１９、Ｒａ２０及びＲa24に相当するメチル基が水素
原子に置き換わった構造単位が好ましい。
樹脂（Ａ）が構造単位（ａ３）を含む場合、その合計含有率は、樹脂（Ａ）の全構造単
位に対して、通常１～７０モル％であり、好ましくは１～６５モル％であり、より好まし
くは１～６０モル％である。
また、構造単位（ａ３－１）、構造単位（ａ３－２）、構造単位（ａ３－３）又は構造
単位（ａ３－４）の含有率は、それぞれ、樹脂（Ａ）の全構造単位に対して、１～６０モ
ル％が好ましく、１～５０モル％がより好ましく、１～５０モル％がさらに好ましい。
位に対して、通常１～７０モル％であり、好ましくは１～６５モル％であり、より好まし
くは１～６０モル％である。
また、構造単位（ａ３－１）、構造単位（ａ３－２）、構造単位（ａ３－３）又は構造
単位（ａ３－４）の含有率は、それぞれ、樹脂（Ａ）の全構造単位に対して、１～６０モ
ル％が好ましく、１～５０モル％がより好ましく、１～５０モル％がさらに好ましい。
〈構造単位（ａ４）〉
構造単位（ａ４）としては、以下の構造単位が挙げられる。
［式（ａ４）中、
Ｒ41は、水素原子又はメチル基を表す。
Ｒ42は、炭素数１～２４のフッ素原子を有する飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素
基に含まれる－ＣＨ2－は、－Ｏ－又は－ＣＯに置き換わっていてもよい。］
Ｒ42で表される飽和炭化水素基は、鎖式炭化水素基及び単環又は多環の脂環式炭化水素
基、並びに、これらを組み合わせることにより形成される基等が挙げられる。
構造単位（ａ４）としては、以下の構造単位が挙げられる。
Ｒ41は、水素原子又はメチル基を表す。
Ｒ42は、炭素数１～２４のフッ素原子を有する飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素
基に含まれる－ＣＨ2－は、－Ｏ－又は－ＣＯに置き換わっていてもよい。］
Ｒ42で表される飽和炭化水素基は、鎖式炭化水素基及び単環又は多環の脂環式炭化水素
基、並びに、これらを組み合わせることにより形成される基等が挙げられる。
鎖式炭化水素基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、
ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、デシル基、ドデシル基、ペンタデシル基、ヘキサ
デシル基、ヘプタデシル基及びオクタデシル基が挙げられる。単環又は多環の脂環式炭化
水素基としては、シクロペンチル基、シクロへキシル基、シクロヘプチル基、シクロオク
チル基等のシクロアルキル基；デカヒドロナフチル基、アダマンチル基、ノルボルニル基
及び下記の基（＊は結合手を表す。）等の多環式の脂環式炭化水素基が挙げられる。
組み合わせにより形成される基としては、１以上のアルキル基又は１以上のアルカンジ
イル基と、１以上の脂環式炭化水素基とを組み合わせることにより形成される基が挙げら
れ、－アルカンジイル基－脂環式炭化水素基、－脂環式炭化水素基－アルキル基、－アル
カンジイル基－脂環式炭化水素基－アルキル基等が挙げられる。
ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、デシル基、ドデシル基、ペンタデシル基、ヘキサ
デシル基、ヘプタデシル基及びオクタデシル基が挙げられる。単環又は多環の脂環式炭化
水素基としては、シクロペンチル基、シクロへキシル基、シクロヘプチル基、シクロオク
チル基等のシクロアルキル基；デカヒドロナフチル基、アダマンチル基、ノルボルニル基
及び下記の基（＊は結合手を表す。）等の多環式の脂環式炭化水素基が挙げられる。
イル基と、１以上の脂環式炭化水素基とを組み合わせることにより形成される基が挙げら
れ、－アルカンジイル基－脂環式炭化水素基、－脂環式炭化水素基－アルキル基、－アル
カンジイル基－脂環式炭化水素基－アルキル基等が挙げられる。
構造単位（ａ４）としては、式（ａ４－０）、式（ａ４－１）、式（ａ４－２）、式（
ａ４－３）及び式（ａ４－４）からなる群から選択される少なくとも１つで表される構造
単位が挙げられる。
［式（ａ４－０）中、
Ｒ5は、水素原子又はメチル基を表す。
Ｌ4ａは、単結合又は炭素数１～４の２価の脂肪族飽和炭化水素基を表す。
Ｌ3ａは、炭素数１～８のペルフルオロアルカンジイル基又は炭素数３～１２のペルフ
ルオロシクロアルカンジイル基を表す。
Ｒ6は、水素原子又はフッ素原子を表す。］
ａ４－３）及び式（ａ４－４）からなる群から選択される少なくとも１つで表される構造
単位が挙げられる。
Ｒ5は、水素原子又はメチル基を表す。
Ｌ4ａは、単結合又は炭素数１～４の２価の脂肪族飽和炭化水素基を表す。
Ｌ3ａは、炭素数１～８のペルフルオロアルカンジイル基又は炭素数３～１２のペルフ
ルオロシクロアルカンジイル基を表す。
Ｒ6は、水素原子又はフッ素原子を表す。］
Ｌ4ａにおける２価の脂肪族飽和炭化水素基としては、メチレン基、エチレン基、プロ
パン－１，３－ジイル基、ブタン－１，４－ジイル基等の直鎖状アルカンジイル基、エタ
ン－１，１－ジイル基、プロパン－１，２－ジイル基、ブタン－１，３－ジイル基、２－
メチルプロパン－１，３－ジイル基及び２－メチルプロパン－１，２－ジイル基等の分岐
状アルカンジイル基が挙げられる。
Ｌ3ａにおけるペルフルオロアルカンジイル基としては、ジフルオロメチレン基、ペル
フルオロエチレン基、ペルフルオロプロパン－１，１－ジイル基、ペルフルオロプロパン
－１，３－ジイル基、ペルフルオロプロパン－１，２－ジイル基、ペルフルオロプロパン
－２，２－ジイル基、ペルフルオロブタン－１，４－ジイル基、ペルフルオロブタン－２
，２－ジイル基、ペルフルオロブタン－１，２－ジイル基、ペルフルオロペンタン－１，
５－ジイル基、ペルフルオロペンタン－２，２－ジイル基、ペルフルオロペンタン－３，
３－ジイル基、ペルフルオロヘキサン－１，６－ジイル基、ペルフルオロヘキサン－２，
２－ジイル基、ペルフルオロヘキサン－３，３－ジイル基、ペルフルオロヘプタン－１，
７－ジイル基、ペルフルオロヘプタン－２，２－ジイル基、ペルフルオロヘプタン－３，
４－ジイル基、ペルフルオロヘプタン－４，４－ジイル基、ペルフルオロオクタン－１，
８－ジイル基、ペルフルオロオクタン－２，２－ジイル基、ペルフルオロオクタン－３，
３－ジイル基、ペルフルオロオクタン－４，４－ジイル基等が挙げられる。
Ｌ3ａにおけるペルフルオロシクロアルカンジイル基としては、ペルフルオロシクロヘ
キサンジイル基、ペルフルオロシクロペンタンジイル基、ペルフルオロシクロヘプタンジ
イル基、ペルフルオロアダマンタンジイル基等が挙げられる。
パン－１，３－ジイル基、ブタン－１，４－ジイル基等の直鎖状アルカンジイル基、エタ
ン－１，１－ジイル基、プロパン－１，２－ジイル基、ブタン－１，３－ジイル基、２－
メチルプロパン－１，３－ジイル基及び２－メチルプロパン－１，２－ジイル基等の分岐
状アルカンジイル基が挙げられる。
Ｌ3ａにおけるペルフルオロアルカンジイル基としては、ジフルオロメチレン基、ペル
フルオロエチレン基、ペルフルオロプロパン－１，１－ジイル基、ペルフルオロプロパン
－１，３－ジイル基、ペルフルオロプロパン－１，２－ジイル基、ペルフルオロプロパン
－２，２－ジイル基、ペルフルオロブタン－１，４－ジイル基、ペルフルオロブタン－２
，２－ジイル基、ペルフルオロブタン－１，２－ジイル基、ペルフルオロペンタン－１，
５－ジイル基、ペルフルオロペンタン－２，２－ジイル基、ペルフルオロペンタン－３，
３－ジイル基、ペルフルオロヘキサン－１，６－ジイル基、ペルフルオロヘキサン－２，
２－ジイル基、ペルフルオロヘキサン－３，３－ジイル基、ペルフルオロヘプタン－１，
７－ジイル基、ペルフルオロヘプタン－２，２－ジイル基、ペルフルオロヘプタン－３，
４－ジイル基、ペルフルオロヘプタン－４，４－ジイル基、ペルフルオロオクタン－１，
８－ジイル基、ペルフルオロオクタン－２，２－ジイル基、ペルフルオロオクタン－３，
３－ジイル基、ペルフルオロオクタン－４，４－ジイル基等が挙げられる。
Ｌ3ａにおけるペルフルオロシクロアルカンジイル基としては、ペルフルオロシクロヘ
キサンジイル基、ペルフルオロシクロペンタンジイル基、ペルフルオロシクロヘプタンジ
イル基、ペルフルオロアダマンタンジイル基等が挙げられる。
Ｌ4ａは、好ましくは単結合、メチレン基又はエチレン基であり、より好ましくは、単
結合、メチレン基である。
Ｌ3ａは、好ましくは炭素数１～６のペルフルオロアルカンジイル基であり、より好ま
しくは炭素数１～３のペルフルオロアルカンジイル基である。
結合、メチレン基である。
Ｌ3ａは、好ましくは炭素数１～６のペルフルオロアルカンジイル基であり、より好ま
しくは炭素数１～３のペルフルオロアルカンジイル基である。
構造単位（ａ４－０）としては、以下に示す構造単位及び下記構造単位中の構造単位（
ａ４－０）におけるＲ５に相当するメチル基が水素原子に置き換わった構造単位が挙げら
れる。
ａ４－０）におけるＲ５に相当するメチル基が水素原子に置き換わった構造単位が挙げら
れる。
Ｒa41は、水素原子又はメチル基を表す。
Ｒa42は、置換基を有していてもよい炭素数１～２０の飽和炭化水素基を表し、該飽和
炭化水素基に含まれる－ＣＨ２－は、－Ｏ－又は－ＣＯ－に置き換わっていてもよい。
Ａa41は、置換基を有していてもよい炭素数１～６のアルカンジイル基又は式（ａ－ｇ
１）で表される基を表す。ただし、Ａａ４１及びＲａ４２のうち少なくとも１つは、置換
基としてハロゲン原子（好ましくはフッ素原子）を有する。
ｓは０又は１を表す。
Ａa42及びＡa44は、それぞれ独立に、置換基を有していてもよい炭素数１～５の２価の
飽和炭化水素基を表す。
Ａa43は、単結合又は置換基を有していてもよい炭素数１～５の２価の脂肪族炭化水素
基を表す。
Ｘa41及びＸa42は、それぞれ独立に、－Ｏ－、－ＣＯ－、－ＣＯ－Ｏ－又は－Ｏ－ＣＯ
－を表す。
ただし、Ａa42、Ａa43、Ａa44、Ｘa41及びＸa42の炭素数の合計は７以下である。〕
＊は結合手であり、右側の＊が－Ｏ－ＣＯ－Ｒa42との結合手である。］
Ｒa42における飽和炭化水素基としては、鎖式飽和炭化水素基及び単環又は多環の脂環
式飽和炭化水素基、並びに、これらを組み合わせることにより形成される基等が挙げられ
る。
鎖式飽和炭化水素基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル
基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、デシル基、ドデシル基、ペンタデシル基、ヘ
キサデシル基、ヘプタデシル基及びオクタデシル基が挙げられる。
単環又は多環の脂環式飽和炭化水素基としては、シクロペンチル基、シクロへキシル基
、シクロヘプチル基、シクロオクチル基等のシクロアルキル基；デカヒドロナフチル基、
アダマンチル基、ノルボルニル基及び下記の基（＊は結合手を表す。）等の多環式の脂環
式飽和炭化水素基が挙げられる。
組み合わせにより形成される基としては、１以上のアルキル基又は１以上のアルカンジ
イル基と、１以上の脂環式飽和炭化水素基とを組み合わせることにより形成される基が挙
げられ、－アルカンジイル基－脂環式飽和炭化水素基、－脂環式飽和炭化水素基－アルキ
ル基、－アルカンジイル基－脂環式飽和炭化水素基－アルキル基等が挙げられる。
式飽和炭化水素基、並びに、これらを組み合わせることにより形成される基等が挙げられ
る。
鎖式飽和炭化水素基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル
基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、デシル基、ドデシル基、ペンタデシル基、ヘ
キサデシル基、ヘプタデシル基及びオクタデシル基が挙げられる。
単環又は多環の脂環式飽和炭化水素基としては、シクロペンチル基、シクロへキシル基
、シクロヘプチル基、シクロオクチル基等のシクロアルキル基；デカヒドロナフチル基、
アダマンチル基、ノルボルニル基及び下記の基（＊は結合手を表す。）等の多環式の脂環
式飽和炭化水素基が挙げられる。
イル基と、１以上の脂環式飽和炭化水素基とを組み合わせることにより形成される基が挙
げられ、－アルカンジイル基－脂環式飽和炭化水素基、－脂環式飽和炭化水素基－アルキ
ル基、－アルカンジイル基－脂環式飽和炭化水素基－アルキル基等が挙げられる。
Ｒa42が有していてもよい置換基として、ハロゲン原子及び式（ａ－ｇ３）で表される
基からなる群から選択される少なくとも１種が挙げられる。ハロゲン原子としては、フッ
素原子、塩素原子、臭素原子及びヨウ素原子が挙げられ、好ましくはフッ素原子である。
［式（ａ－ｇ３）中、
Ｘa43は、酸素原子、カルボニル基、＊＊－Ｏ－ＣＯ－又は＊＊－ＣＯ－Ｏ－を表す（
＊＊はＲa42との結合手を表す）。
Ａa45は、ハロゲン原子を有していてもよい炭素数１～１７の脂肪族炭化水素基を表す
。
＊は結合手を表す。］
ただし、Ｒa42－Ｘa43－Ａa45において、Ｒa42がハロゲン原子を有しない場合は、Ａa4
5は、少なくとも１つのハロゲン原子を有する炭素数１～１７の脂肪族炭化水素基を表す
。
基からなる群から選択される少なくとも１種が挙げられる。ハロゲン原子としては、フッ
素原子、塩素原子、臭素原子及びヨウ素原子が挙げられ、好ましくはフッ素原子である。
Ｘa43は、酸素原子、カルボニル基、＊＊－Ｏ－ＣＯ－又は＊＊－ＣＯ－Ｏ－を表す（
＊＊はＲa42との結合手を表す）。
Ａa45は、ハロゲン原子を有していてもよい炭素数１～１７の脂肪族炭化水素基を表す
。
＊は結合手を表す。］
ただし、Ｒa42－Ｘa43－Ａa45において、Ｒa42がハロゲン原子を有しない場合は、Ａa4
5は、少なくとも１つのハロゲン原子を有する炭素数１～１７の脂肪族炭化水素基を表す
。
Ａa45における脂肪族炭化水素基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル
基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、デシル基、ドデシル基、ペンタ
デシル基、ヘキサデシル基、ヘプタデシル基及びオクタデシル基等のアルキル基；
シクロペンチル基、シクロへキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基等の単環
式の脂環式炭化水素基；並びにデカヒドロナフチル基、アダマンチル基、ノルボルニル基
及び下記の基（＊は結合手を表す。）等の多環式の脂環式炭化水素基が挙げられる。
組み合わせにより形成される基としては、１以上のアルキル基又は１以上のアルカンジ
イル基と、１以上の脂環式炭化水素基とを組み合わせることにより形成される基が挙げら
れ、－アルカンジイル基－脂環式炭化水素基、－脂環式炭化水素基－アルキル基、－アル
カンジイル基－脂環式炭化水素基－アルキル基等が挙げられる。
基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、デシル基、ドデシル基、ペンタ
デシル基、ヘキサデシル基、ヘプタデシル基及びオクタデシル基等のアルキル基；
シクロペンチル基、シクロへキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基等の単環
式の脂環式炭化水素基；並びにデカヒドロナフチル基、アダマンチル基、ノルボルニル基
及び下記の基（＊は結合手を表す。）等の多環式の脂環式炭化水素基が挙げられる。
イル基と、１以上の脂環式炭化水素基とを組み合わせることにより形成される基が挙げら
れ、－アルカンジイル基－脂環式炭化水素基、－脂環式炭化水素基－アルキル基、－アル
カンジイル基－脂環式炭化水素基－アルキル基等が挙げられる。
Ｒa42は、ハロゲン原子を有してもよい脂肪族炭化水素基が好ましく、ハロゲン原子を
有するアルキル基及び／又は式（ａ－ｇ３）で表される基を有する脂肪族炭化水素基がよ
り好ましい。
Ｒa42がハロゲン原子を有する脂肪族炭化水素基である場合、好ましくはフッ素原子を
有する脂肪族炭化水素基であり、より好ましくはペルフルオロアルキル基又はペルフルオ
ロシクロアルキル基であり、さらに好ましくは炭素数が１～６のペルフルオロアルキル基
であり、特に好ましくは炭素数１～３のペルフルオロアルキル基である。ペルフルオロア
ルキル基としては、ペルフルオロメチル基、ペルフルオロエチル基、ペルフルオロプロピ
ル基、ペルフルオロブチル基、ペルフルオロペンチル基、ペルフルオロヘキシル基、ペル
フルオロヘプチル基及びペルフルオロオクチル基等が挙げられる。ペルフルオロシクロア
ルキル基としては、ペルフルオロシクロヘキシル基等が挙げられる。
Ｒa42が、式（ａ－ｇ３）で表される基を有する脂肪族炭化水素基である場合、式（ａ
－ｇ３）で表される基に含まれる炭素数を含めて、Ｒa42の総炭素数は、１５以下が好ま
しく、１２以下がより好ましい。式（ａ－ｇ３）で表される基を置換基として有する場合
、その数は１個が好ましい。
有するアルキル基及び／又は式（ａ－ｇ３）で表される基を有する脂肪族炭化水素基がよ
り好ましい。
Ｒa42がハロゲン原子を有する脂肪族炭化水素基である場合、好ましくはフッ素原子を
有する脂肪族炭化水素基であり、より好ましくはペルフルオロアルキル基又はペルフルオ
ロシクロアルキル基であり、さらに好ましくは炭素数が１～６のペルフルオロアルキル基
であり、特に好ましくは炭素数１～３のペルフルオロアルキル基である。ペルフルオロア
ルキル基としては、ペルフルオロメチル基、ペルフルオロエチル基、ペルフルオロプロピ
ル基、ペルフルオロブチル基、ペルフルオロペンチル基、ペルフルオロヘキシル基、ペル
フルオロヘプチル基及びペルフルオロオクチル基等が挙げられる。ペルフルオロシクロア
ルキル基としては、ペルフルオロシクロヘキシル基等が挙げられる。
Ｒa42が、式（ａ－ｇ３）で表される基を有する脂肪族炭化水素基である場合、式（ａ
－ｇ３）で表される基に含まれる炭素数を含めて、Ｒa42の総炭素数は、１５以下が好ま
しく、１２以下がより好ましい。式（ａ－ｇ３）で表される基を置換基として有する場合
、その数は１個が好ましい。
Ｒa42が式（ａ－ｇ３）で表される基を有する脂肪族炭化水素である場合、Ｒa42は、さ
らに好ましくは式（ａ－ｇ２）で表される基である。
［式（ａ－ｇ２）中、
Ａa46は、ハロゲン原子を有していてもよい炭素数１～１７の２価の脂肪族炭化水素基
を表す。
Ｘa44は、＊＊－Ｏ－ＣＯ－又は＊＊－ＣＯ－Ｏ－を表す（＊＊はＡa46との結合手を表
す）。
Ａa47は、ハロゲン原子を有していてもよい炭素数１～１７の脂肪族炭化水素基を表す
。
ただし、Ａa46、Ａa47及びＸa44の炭素数の合計は１８以下であり、Ａa46及びＡa47の
うち、少なくとも一方は、少なくとも１つのハロゲン原子を有する。
＊はカルボニル基との結合手を表す。］
らに好ましくは式（ａ－ｇ２）で表される基である。
Ａa46は、ハロゲン原子を有していてもよい炭素数１～１７の２価の脂肪族炭化水素基
を表す。
Ｘa44は、＊＊－Ｏ－ＣＯ－又は＊＊－ＣＯ－Ｏ－を表す（＊＊はＡa46との結合手を表
す）。
Ａa47は、ハロゲン原子を有していてもよい炭素数１～１７の脂肪族炭化水素基を表す
。
ただし、Ａa46、Ａa47及びＸa44の炭素数の合計は１８以下であり、Ａa46及びＡa47の
うち、少なくとも一方は、少なくとも１つのハロゲン原子を有する。
＊はカルボニル基との結合手を表す。］
Ａa46の脂肪族炭化水素基の炭素数は１～６が好ましく、１～３がより好ましい。
Ａa47の脂肪族炭化水素基の炭素数は４～１５が好ましく、５～１２がより好ましく、
Ａa47は、シクロヘキシル基又はアダマンチル基がさらに好ましい。
Ａa47の脂肪族炭化水素基の炭素数は４～１５が好ましく、５～１２がより好ましく、
Ａa47は、シクロヘキシル基又はアダマンチル基がさらに好ましい。
式（ａ－ｇ２）で表される基の好ましい構造は、以下の構造である（＊はカルボニル基
との結合手である）。
との結合手である）。
Ａa41におけるアルカンジイル基としては、メチレン基、エチレン基、プロパン－１，
３－ジイル基、ブタン－１，４－ジイル基、ペンタン－１，５－ジイル基、ヘキサン－１
，６－ジイル基等の直鎖状アルカンジイル基；プロパン－１，２－ジイル基、ブタン－１
，３－ジイル基、２－メチルプロパン－１，２－ジイル基、１－メチルブタン－１，４－
ジイル基、２－メチルブタン－１，４－ジイル基等の分岐状アルカンジイル基が挙げられ
る。
Ａa41のアルカンジイル基における置換基としては、ヒドロキシ基及び炭素数１～６の
アルコキシ基等が挙げられる。
Ａa41は、好ましくは炭素数１～４のアルカンジイル基であり、より好ましくは炭素数
２～４のアルカンジイル基であり、さらに好ましくはエチレン基である。
３－ジイル基、ブタン－１，４－ジイル基、ペンタン－１，５－ジイル基、ヘキサン－１
，６－ジイル基等の直鎖状アルカンジイル基；プロパン－１，２－ジイル基、ブタン－１
，３－ジイル基、２－メチルプロパン－１，２－ジイル基、１－メチルブタン－１，４－
ジイル基、２－メチルブタン－１，４－ジイル基等の分岐状アルカンジイル基が挙げられ
る。
Ａa41のアルカンジイル基における置換基としては、ヒドロキシ基及び炭素数１～６の
アルコキシ基等が挙げられる。
Ａa41は、好ましくは炭素数１～４のアルカンジイル基であり、より好ましくは炭素数
２～４のアルカンジイル基であり、さらに好ましくはエチレン基である。
式（ａ－ｇ１）で表される基におけるＡa42、Ａa43及びＡa44の表す２価の飽和炭化水
素基としては、直鎖又は分岐のアルカンジイル基及び単環の２価の脂環式炭化水素基、並
びに、アルカンジイル基及び２価の脂環式炭化水素基を組合せることにより形成される基
等が挙げられる。具体的には、メチレン基、エチレン基、プロパン－１，３－ジイル基、
プロパン－１，２－ジイル基、ブタン－１，４－ジイル基、１－メチルプロパン－１，３
－ジイル基、２－メチルプロパン－１，３－ジイル基、２－メチルプロパン－１，２－ジ
イル基等が挙げられる。
Ａa42、Ａa43及びＡa44の表す２価の飽和炭化水素基の置換基としては、ヒドロキシ基
及び炭素数１～６のアルコキシ基等が挙げられる。
ｓは、０であることが好ましい。
素基としては、直鎖又は分岐のアルカンジイル基及び単環の２価の脂環式炭化水素基、並
びに、アルカンジイル基及び２価の脂環式炭化水素基を組合せることにより形成される基
等が挙げられる。具体的には、メチレン基、エチレン基、プロパン－１，３－ジイル基、
プロパン－１，２－ジイル基、ブタン－１，４－ジイル基、１－メチルプロパン－１，３
－ジイル基、２－メチルプロパン－１，３－ジイル基、２－メチルプロパン－１，２－ジ
イル基等が挙げられる。
Ａa42、Ａa43及びＡa44の表す２価の飽和炭化水素基の置換基としては、ヒドロキシ基
及び炭素数１～６のアルコキシ基等が挙げられる。
ｓは、０であることが好ましい。
式（ａ－ｇ１）で表される基において、Ｘa42が－Ｏ－、－ＣＯ－、－ＣＯ－Ｏ－又は
－Ｏ－ＣＯ－である基としては、以下の基等が挙げられる。以下の例示において、＊及び
＊＊はそれぞれ結合手を表わし、＊＊が－Ｏ－ＣＯ－Ｒa42との結合手である。
－Ｏ－ＣＯ－である基としては、以下の基等が挙げられる。以下の例示において、＊及び
＊＊はそれぞれ結合手を表わし、＊＊が－Ｏ－ＣＯ－Ｒa42との結合手である。
式（ａ４－１）で表される構造単位としては、以下に示す構造単位及び下記構造単位中
の式（ａ４－１）で表される構造単位におけるＲa41に相当するメチル基が水素原子に置
き換わった構造単位が挙げられる。
の式（ａ４－１）で表される構造単位におけるＲa41に相当するメチル基が水素原子に置
き換わった構造単位が挙げられる。
式（ａ４－１）で表される構造単位としては、式（ａ４－２）で表される構造単位が好
ましい。
［式（ａ４－２）中、
Ｒf5は、水素原子又はメチル基を表す。
Ｌ44は、炭素数１～６のアルカンジイル基を表し、該アルカンジイル基に含まれる－Ｃ
Ｈ2－は、－Ｏ－又は－ＣＯ－に置き換わっていてもよい。
Ｒf6は、炭素数１～２０のフッ素原子を有する飽和炭化水素基を表す。
ただし、Ｌ44及びＲf6の合計炭素数の上限は２１である。］
ましい。
Ｒf5は、水素原子又はメチル基を表す。
Ｌ44は、炭素数１～６のアルカンジイル基を表し、該アルカンジイル基に含まれる－Ｃ
Ｈ2－は、－Ｏ－又は－ＣＯ－に置き換わっていてもよい。
Ｒf6は、炭素数１～２０のフッ素原子を有する飽和炭化水素基を表す。
ただし、Ｌ44及びＲf6の合計炭素数の上限は２１である。］
Ｌ44の炭素数１～６のアルカンジイル基は、Ａａ4１におけるアルカンジイル基で例示
したものと同様の基が挙げられる。
Ｒf6の飽和炭化水素基は、Ｒa42で例示したものと同様の基が挙げられる。
Ｌ44における炭素数１～６のアルカンジイル基としては、炭素数２～４のアルカンジイ
ル基が好ましく、エチレン基がより好ましい。
したものと同様の基が挙げられる。
Ｒf6の飽和炭化水素基は、Ｒa42で例示したものと同様の基が挙げられる。
Ｌ44における炭素数１～６のアルカンジイル基としては、炭素数２～４のアルカンジイ
ル基が好ましく、エチレン基がより好ましい。
式（ａ４－２）で表される構造単位としては、例えば、式（ａ４－１－１）～式（ａ４
－１－１１）でそれぞれ表される構造単位が挙げられる。構造単位（ａ４－２）における
Ｒf５に相当するメチル基が水素原子に置き換わった構造単位も式（ａ４－２）で表され
る構造単位として挙げられる。
－１－１１）でそれぞれ表される構造単位が挙げられる。構造単位（ａ４－２）における
Ｒf５に相当するメチル基が水素原子に置き換わった構造単位も式（ａ４－２）で表され
る構造単位として挙げられる。
構造単位（ａ４）としては、式（ａ４－３）で表される構造単位が挙げられる。
［式（ａ４－３）中、
Ｒf7は、水素原子又はメチル基を表す。
Ｌ5は、炭素数１～６のアルカンジイル基を表す。
Ａf13は、フッ素原子を有していてもよい炭素数１～１８の２価の飽和炭化水素基を表
す。
Ｘf12は、＊－Ｏ－ＣＯ－又は＊－ＣＯ－Ｏ－を表す（＊はＡf13との結合手を表す。）
。
Ａf14は、フッ素原子を有していてもよい炭素数１～１７の飽和炭化水素基を表す。
但し、Ａf13及びＡf14の少なくとも１つは、フッ素原子を有し、Ｌ5、Ａf13及びＡf14
の合計炭素数の上限は２０である。］
Ｒf7は、水素原子又はメチル基を表す。
Ｌ5は、炭素数１～６のアルカンジイル基を表す。
Ａf13は、フッ素原子を有していてもよい炭素数１～１８の２価の飽和炭化水素基を表
す。
Ｘf12は、＊－Ｏ－ＣＯ－又は＊－ＣＯ－Ｏ－を表す（＊はＡf13との結合手を表す。）
。
Ａf14は、フッ素原子を有していてもよい炭素数１～１７の飽和炭化水素基を表す。
但し、Ａf13及びＡf14の少なくとも１つは、フッ素原子を有し、Ｌ5、Ａf13及びＡf14
の合計炭素数の上限は２０である。］
Ｌ5におけるアルカンジイル基としては、Ａａ4１におけるアルカンジイル基で例示した
ものと同様の基が挙げられる。
Ａf13におけるフッ素原子を有していてもよい２価の飽和炭化水素基としては、好まし
くはフッ素原子を有していてもよい２価の脂肪族飽和炭化水素基及びフッ素原子を有して
いてもよい２価の脂環式飽和炭化水素基であり、より好ましくはペルフルオロアルカンジ
イル基である。
フッ素原子を有していてもよい２価の脂肪族炭化水素基としては、メチレン基、エチレ
ン基、プロパンジイル基、ブタンジイル基及びペンタンジイル基等のアルカンジイル基；
ジフルオロメチレン基、ペルフルオロエチレン基、ペルフルオロプロパンジイル基、ペル
フルオロブタンジイル基及びペルフルオロペンタンジイル基等のペルフルオロアルカンジ
イル基等が挙げられる。
フッ素原子を有していてもよい２価の脂環式炭化水素基は、単環式及び多環式のいずれ
でもよい。単環式の基としては、シクロヘキサンジイル基及びペルフルオロシクロヘキサ
ンジイル基等が挙げられる。多環式の基としては、アダマンタンジイル基、ノルボルナン
ジイル基、ペルフルオロアダマンタンジイル基等が挙げられる。
Ａf14の飽和炭化水素基及びフッ素原子を有していてもよい飽和炭化水素基は、Ｒa42で
例示したものと同様の基が挙げられる。なかでも、トリフルオロメチル基、ジフルオロメ
チル基、メチル基、ペルフルオロエチル基、２，２，２－トリフルオロエチル基、１，１
，２，２－テトラフルオロエチル基、エチル基、ペルフルオロプロピル基、２，２，３，
３，３－ペンタフルオロプロピル基、プロピル基、ペルフルオロブチル基、１，１，２，
２，３，３，４，４－オクタフルオロブチル基、ブチル基、ペルフルオロペンチル基、２
，２，３，３，４，４，５，５，５－ノナフルオロペンチル基、ペンチル基、ヘキシル基
、ペルフルオロヘキシル基、ヘプチル基、ペルフルオロヘプチル基、オクチル基及びペル
フルオロオクチル基等のフッ化アルキル基、シクロプロピルメチル基、シクロプロピル基
、シクロブチルメチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、ペルフルオロシクロヘ
キシル基、アダマンチル基、アダマンチルメチル基、アダマンチルジメチル基、ノルボル
ニル基、ノルボルニルメチル基、ペルフルオロアダマンチル基、ペルフルオロアダマンチ
ルメチル基等が好ましい。
ものと同様の基が挙げられる。
Ａf13におけるフッ素原子を有していてもよい２価の飽和炭化水素基としては、好まし
くはフッ素原子を有していてもよい２価の脂肪族飽和炭化水素基及びフッ素原子を有して
いてもよい２価の脂環式飽和炭化水素基であり、より好ましくはペルフルオロアルカンジ
イル基である。
フッ素原子を有していてもよい２価の脂肪族炭化水素基としては、メチレン基、エチレ
ン基、プロパンジイル基、ブタンジイル基及びペンタンジイル基等のアルカンジイル基；
ジフルオロメチレン基、ペルフルオロエチレン基、ペルフルオロプロパンジイル基、ペル
フルオロブタンジイル基及びペルフルオロペンタンジイル基等のペルフルオロアルカンジ
イル基等が挙げられる。
フッ素原子を有していてもよい２価の脂環式炭化水素基は、単環式及び多環式のいずれ
でもよい。単環式の基としては、シクロヘキサンジイル基及びペルフルオロシクロヘキサ
ンジイル基等が挙げられる。多環式の基としては、アダマンタンジイル基、ノルボルナン
ジイル基、ペルフルオロアダマンタンジイル基等が挙げられる。
Ａf14の飽和炭化水素基及びフッ素原子を有していてもよい飽和炭化水素基は、Ｒa42で
例示したものと同様の基が挙げられる。なかでも、トリフルオロメチル基、ジフルオロメ
チル基、メチル基、ペルフルオロエチル基、２，２，２－トリフルオロエチル基、１，１
，２，２－テトラフルオロエチル基、エチル基、ペルフルオロプロピル基、２，２，３，
３，３－ペンタフルオロプロピル基、プロピル基、ペルフルオロブチル基、１，１，２，
２，３，３，４，４－オクタフルオロブチル基、ブチル基、ペルフルオロペンチル基、２
，２，３，３，４，４，５，５，５－ノナフルオロペンチル基、ペンチル基、ヘキシル基
、ペルフルオロヘキシル基、ヘプチル基、ペルフルオロヘプチル基、オクチル基及びペル
フルオロオクチル基等のフッ化アルキル基、シクロプロピルメチル基、シクロプロピル基
、シクロブチルメチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、ペルフルオロシクロヘ
キシル基、アダマンチル基、アダマンチルメチル基、アダマンチルジメチル基、ノルボル
ニル基、ノルボルニルメチル基、ペルフルオロアダマンチル基、ペルフルオロアダマンチ
ルメチル基等が好ましい。
式（ａ４－３）において、Ｌ5は、エチレン基が好ましい。
Ａf13の２価の飽和炭化水素基は、炭素数１～６の２価の鎖式炭化水素基及び炭素数３
～１２の２価の脂環式炭化水素基を含む基が好ましく、炭素数２～３の２価の鎖式炭化水
素基がさらに好ましい。
Ａf14の飽和炭化水素基は、炭素数３～１２の鎖式炭化水素基及び炭素数３～１２の脂
環式炭化水素基を含む基が好ましく、炭素数３～１０の鎖式炭化水素基及び炭素数３～１
０の脂環式炭化水素基を含む基がさらに好ましい。なかでも、Ａf14は、好ましくは炭素
数３～１２の脂環式炭化水素基を含む基であり、より好ましくは、シクロプロピルメチル
基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、ノルボルニル基及びアダマンチル基である。
Ａf13の２価の飽和炭化水素基は、炭素数１～６の２価の鎖式炭化水素基及び炭素数３
～１２の２価の脂環式炭化水素基を含む基が好ましく、炭素数２～３の２価の鎖式炭化水
素基がさらに好ましい。
Ａf14の飽和炭化水素基は、炭素数３～１２の鎖式炭化水素基及び炭素数３～１２の脂
環式炭化水素基を含む基が好ましく、炭素数３～１０の鎖式炭化水素基及び炭素数３～１
０の脂環式炭化水素基を含む基がさらに好ましい。なかでも、Ａf14は、好ましくは炭素
数３～１２の脂環式炭化水素基を含む基であり、より好ましくは、シクロプロピルメチル
基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、ノルボルニル基及びアダマンチル基である。
式（ａ４－３）で表される構造単位としては、例えば、式（ａ４－１’－１）～式（ａ
４－１’－１１）でそれぞれ表される構造単位が挙げられる。構造単位（ａ４－３）にお
けるＲf７に相当するメチル基が水素原子に置き換わった構造単位も式（ａ４－３）で表
される構造単位として挙げられる。
４－１’－１１）でそれぞれ表される構造単位が挙げられる。構造単位（ａ４－３）にお
けるＲf７に相当するメチル基が水素原子に置き換わった構造単位も式（ａ４－３）で表
される構造単位として挙げられる。
構造単位（ａ４）としては、式（ａ４－４）で表される構造単位も挙げられる。
［式（ａ４－４）中、
Ｒf21は、水素原子又はメチル基を表す。
Ａf21は、－（ＣＨ2）j1－、－（ＣＨ2）j2－Ｏ－（ＣＨ2）j3－又は－（ＣＨ2）j4－
ＣＯ－Ｏ－（ＣＨ2）j5－を表す。
ｊ１～ｊ５は、それぞれ独立に、１～６のいずれかの整数を表す。
Ｒf22は、フッ素原子を有する炭素数１～１０の飽和炭化水素基を表す。］
Ｒf21は、水素原子又はメチル基を表す。
Ａf21は、－（ＣＨ2）j1－、－（ＣＨ2）j2－Ｏ－（ＣＨ2）j3－又は－（ＣＨ2）j4－
ＣＯ－Ｏ－（ＣＨ2）j5－を表す。
ｊ１～ｊ５は、それぞれ独立に、１～６のいずれかの整数を表す。
Ｒf22は、フッ素原子を有する炭素数１～１０の飽和炭化水素基を表す。］
Ｒf22の飽和炭化水素基は、Ｒa42で表される飽和炭化水素基と同じものが挙げられる。
Ｒf22は、フッ素原子を有する炭素数１～１０のアルキル基又はフッ素原子を有する炭素
数１～１０の脂環式炭化水素基が好ましく、フッ素原子を有する炭素数１～１０のアルキ
ル基がより好ましく、フッ素原子を有する炭素数１～６のアルキル基がさらに好ましい。
Ｒf22は、フッ素原子を有する炭素数１～１０のアルキル基又はフッ素原子を有する炭素
数１～１０の脂環式炭化水素基が好ましく、フッ素原子を有する炭素数１～１０のアルキ
ル基がより好ましく、フッ素原子を有する炭素数１～６のアルキル基がさらに好ましい。
式（ａ４－４）においては、Ａf21としては、－（ＣＨ2）ｊ1－が好ましく、エチレン
基又はメチレン基がより好ましく、メチレン基がさらに好ましい。
基又はメチレン基がより好ましく、メチレン基がさらに好ましい。
式（ａ４－４）で表される構造単位としては、例えば、以下の構造単位及び以下の式で
表される構造単位において、構造単位（ａ４－４）におけるＲf21に相当するメチル基が
水素原子に置き換わった構造単位が挙げられる。
表される構造単位において、構造単位（ａ４－４）におけるＲf21に相当するメチル基が
水素原子に置き換わった構造単位が挙げられる。
樹脂（Ａ）が、構造単位（ａ４）を有する場合、その含有率は、樹脂（Ａ）の全構造単
位に対して、１～２０モル％が好ましく、２～１５モル％がより好ましく、３～１０モル
％がさらに好ましい。
位に対して、１～２０モル％が好ましく、２～１５モル％がより好ましく、３～１０モル
％がさらに好ましい。
〈構造単位（ａ５）〉
構造単位（ａ５）が有する非脱離炭化水素基としては、直鎖、分岐又は環状の炭化水素
基を有する基が挙げられる。なかでも、構造単位（ａ５）は、脂環式炭化水素基を有する
基が好ましい。
構造単位（ａ５）としては、例えば、式（ａ５－１）で表される構造単位が挙げられる
。
［式（ａ５－１）中、
Ｒ51は、水素原子又はメチル基を表す。
Ｒ52は、炭素数３～１８の脂環式炭化水素基を表し、該脂環式炭化水素基に含まれる水
素原子は炭素数１～８の脂肪族炭化水素基で置換されていてもよい。
Ｌ55は、単結合又は炭素数１～１８の２価の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基
に含まれる－ＣＨ２－は、－Ｏ－又は－ＣＯ－に置き換わっていてもよい。］
構造単位（ａ５）が有する非脱離炭化水素基としては、直鎖、分岐又は環状の炭化水素
基を有する基が挙げられる。なかでも、構造単位（ａ５）は、脂環式炭化水素基を有する
基が好ましい。
構造単位（ａ５）としては、例えば、式（ａ５－１）で表される構造単位が挙げられる
。
Ｒ51は、水素原子又はメチル基を表す。
Ｒ52は、炭素数３～１８の脂環式炭化水素基を表し、該脂環式炭化水素基に含まれる水
素原子は炭素数１～８の脂肪族炭化水素基で置換されていてもよい。
Ｌ55は、単結合又は炭素数１～１８の２価の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基
に含まれる－ＣＨ２－は、－Ｏ－又は－ＣＯ－に置き換わっていてもよい。］
Ｒ52における脂環式炭化水素基としては、単環式及び多環式のいずれでもよい。単環式
の脂環式炭化水素基としては、例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペン
チル基及びシクロヘキシル基が挙げられる。多環式の脂環式炭化水素基としては、例えば
、アダマンチル基及びノルボルニル基等が挙げられる。
炭素数１～８の脂肪族炭化水素基は、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソ
プロピル基、ブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ペンチル基、ヘキシル
基、オクチル基及び２－エチルヘキシル基等のアルキル基が挙げられる。
置換基を有する脂環式炭化水素基としては、３－メチルアダマンチル基などが挙げられ
る。
Ｒ52は、好ましくは、無置換の炭素数３～１８の脂環式炭化水素基であり、より好まし
くは、アダマンチル基、ノルボルニル基又はシクロヘキシル基である。
Ｌ55における２価の飽和炭化水素基としては、２価の鎖式飽和炭化水素基及び２価の脂
環式飽和炭化水素基が挙げられ、好ましくは２価の鎖式飽和炭化水素基である。
２価の鎖式飽和炭化水素基としては、例えば、メチレン基、エチレン基、プロパンジイ
ル基、ブタンジイル基及びペンタンジイル基等のアルカンジイル基が挙げられる。
２価の脂環式飽和炭化水素基は、単環式及び多環式のいずれでもよい。単環式の脂環式
飽和炭化水素基としては、シクロペンタンジイル基及びシクロヘキサンジイル基等のシク
ロアルカンジイル基が挙げられる。多環式の２価の脂環式飽和炭化水素基としては、アダ
マンタンジイル基及びノルボルナンジイル基等が挙げられる。
の脂環式炭化水素基としては、例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペン
チル基及びシクロヘキシル基が挙げられる。多環式の脂環式炭化水素基としては、例えば
、アダマンチル基及びノルボルニル基等が挙げられる。
炭素数１～８の脂肪族炭化水素基は、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソ
プロピル基、ブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ペンチル基、ヘキシル
基、オクチル基及び２－エチルヘキシル基等のアルキル基が挙げられる。
置換基を有する脂環式炭化水素基としては、３－メチルアダマンチル基などが挙げられ
る。
Ｒ52は、好ましくは、無置換の炭素数３～１８の脂環式炭化水素基であり、より好まし
くは、アダマンチル基、ノルボルニル基又はシクロヘキシル基である。
Ｌ55における２価の飽和炭化水素基としては、２価の鎖式飽和炭化水素基及び２価の脂
環式飽和炭化水素基が挙げられ、好ましくは２価の鎖式飽和炭化水素基である。
２価の鎖式飽和炭化水素基としては、例えば、メチレン基、エチレン基、プロパンジイ
ル基、ブタンジイル基及びペンタンジイル基等のアルカンジイル基が挙げられる。
２価の脂環式飽和炭化水素基は、単環式及び多環式のいずれでもよい。単環式の脂環式
飽和炭化水素基としては、シクロペンタンジイル基及びシクロヘキサンジイル基等のシク
ロアルカンジイル基が挙げられる。多環式の２価の脂環式飽和炭化水素基としては、アダ
マンタンジイル基及びノルボルナンジイル基等が挙げられる。
Ｌ55の表す２価の飽和炭化水素基に含まれる－ＣＨ２－が、－Ｏ－又は－ＣＯ－で置き
換わった基としては、例えば、式（Ｌ１－１）～式（Ｌ１－４）で表される基が挙げられ
る。下記式中、＊及び＊＊は各々結合手を表し、＊は酸素原子との結合手を表す。
式（Ｌ１－１）中、
Ｘx1は、＊－Ｏ－ＣＯ－又は＊－ＣＯ－Ｏ－を表す（＊はＬx1との結合手を表す。）。
Ｌx1は、炭素数１～１６の２価の脂肪族飽和炭化水素基を表す。
Ｌx2は、単結合又は炭素数１～１５の２価の脂肪族飽和炭化水素基を表す。
ただし、Ｌx1及びＬx2の合計炭素数は、１６以下である。
式（Ｌ１－２）中、
Ｌx3は、炭素数１～１７の２価の脂肪族飽和炭化水素基を表す。
Ｌx4は、単結合又は炭素数１～１６の２価の脂肪族飽和炭化水素基を表す。
ただし、Ｌx3及びＬx4の合計炭素数は、１７以下である。
式（Ｌ１－３）中、
Ｌx5は、炭素数１～１５の２価の脂肪族飽和炭化水素基を表す。
Ｌx6及びＬx7は、それぞれ独立に、単結合又は炭素数１～１４の２価の脂肪族飽和炭化
水素基を表す。
ただし、Ｌx5、Ｌx6及びＬx7の合計炭素数は、１５以下である。
式（Ｌ１－４）中、
Ｌx8及びＬx9は、単結合又は炭素数１～１２の２価の脂肪族飽和炭化水素基を表す。
Ｗx1は、炭素数３～１５の２価の脂環式飽和炭化水素基を表す。
ただし、Ｌx8、Ｌx9及びＷx1の合計炭素数は、１５以下である。
換わった基としては、例えば、式（Ｌ１－１）～式（Ｌ１－４）で表される基が挙げられ
る。下記式中、＊及び＊＊は各々結合手を表し、＊は酸素原子との結合手を表す。
Ｘx1は、＊－Ｏ－ＣＯ－又は＊－ＣＯ－Ｏ－を表す（＊はＬx1との結合手を表す。）。
Ｌx1は、炭素数１～１６の２価の脂肪族飽和炭化水素基を表す。
Ｌx2は、単結合又は炭素数１～１５の２価の脂肪族飽和炭化水素基を表す。
ただし、Ｌx1及びＬx2の合計炭素数は、１６以下である。
式（Ｌ１－２）中、
Ｌx3は、炭素数１～１７の２価の脂肪族飽和炭化水素基を表す。
Ｌx4は、単結合又は炭素数１～１６の２価の脂肪族飽和炭化水素基を表す。
ただし、Ｌx3及びＬx4の合計炭素数は、１７以下である。
式（Ｌ１－３）中、
Ｌx5は、炭素数１～１５の２価の脂肪族飽和炭化水素基を表す。
Ｌx6及びＬx7は、それぞれ独立に、単結合又は炭素数１～１４の２価の脂肪族飽和炭化
水素基を表す。
ただし、Ｌx5、Ｌx6及びＬx7の合計炭素数は、１５以下である。
式（Ｌ１－４）中、
Ｌx8及びＬx9は、単結合又は炭素数１～１２の２価の脂肪族飽和炭化水素基を表す。
Ｗx1は、炭素数３～１５の２価の脂環式飽和炭化水素基を表す。
ただし、Ｌx8、Ｌx9及びＷx1の合計炭素数は、１５以下である。
Ｌx1は、好ましくは、炭素数１～８の２価の脂肪族飽和炭化水素基、より好ましくは、
メチレン基又はエチレン基である。
Ｌx2は、好ましくは、単結合又は炭素数１～８の２価の脂肪族飽和炭化水素基、より好
ましくは、単結合である。
Ｌx3は、好ましくは、炭素数１～８の２価の脂肪族飽和炭化水素基である。
Ｌx4は、好ましくは、単結合又は炭素数１～８の２価の脂肪族飽和炭化水素基である。
Ｌx5は、好ましくは、炭素数１～８の２価の脂肪族飽和炭化水素基、より好ましくは、
メチレン基又はエチレン基である。
Ｌx6は、好ましくは、単結合又は炭素数１～８の２価の脂肪族飽和炭化水素基、より好
ましくは、メチレン基又はエチレン基である。
Ｌx7は、好ましくは、単結合又は炭素数１～８の２価の脂肪族飽和炭化水素基である。
Ｌx8は、好ましくは、単結合又は炭素数１～８の２価の脂肪族飽和炭化水素基、より好
ましくは、単結合又はメチレン基である。
Ｌx9は、好ましくは、単結合又は炭素数１～８の２価の脂肪族飽和炭化水素基、より好
ましくは、単結合又はメチレン基である。
Ｗx1は、好ましくは、炭素数３～１０の２価の脂環式飽和炭化水素基、より好ましくは
、シクロヘキサンジイル基又はアダマンタンジイル基である。
メチレン基又はエチレン基である。
Ｌx2は、好ましくは、単結合又は炭素数１～８の２価の脂肪族飽和炭化水素基、より好
ましくは、単結合である。
Ｌx3は、好ましくは、炭素数１～８の２価の脂肪族飽和炭化水素基である。
Ｌx4は、好ましくは、単結合又は炭素数１～８の２価の脂肪族飽和炭化水素基である。
Ｌx5は、好ましくは、炭素数１～８の２価の脂肪族飽和炭化水素基、より好ましくは、
メチレン基又はエチレン基である。
Ｌx6は、好ましくは、単結合又は炭素数１～８の２価の脂肪族飽和炭化水素基、より好
ましくは、メチレン基又はエチレン基である。
Ｌx7は、好ましくは、単結合又は炭素数１～８の２価の脂肪族飽和炭化水素基である。
Ｌx8は、好ましくは、単結合又は炭素数１～８の２価の脂肪族飽和炭化水素基、より好
ましくは、単結合又はメチレン基である。
Ｌx9は、好ましくは、単結合又は炭素数１～８の２価の脂肪族飽和炭化水素基、より好
ましくは、単結合又はメチレン基である。
Ｗx1は、好ましくは、炭素数３～１０の２価の脂環式飽和炭化水素基、より好ましくは
、シクロヘキサンジイル基又はアダマンタンジイル基である。
式（Ｌ１－１）で表される基としては、例えば、以下に示す２価の基が挙げられる。
式（Ｌ１－２）で表される基としては、例えば、以下に示す２価の基が挙げられる。
式（Ｌ１－３）で表される基としては、例えば、以下に示す２価の基が挙げられる。
式（Ｌ１－４）で表される基としては、例えば、以下に示す２価の基が挙げられる。
Ｌ55は、好ましくは、単結合又は式（Ｌ１－１）で表される基である。
構造単位（ａ５－１）としては、以下に示す構造単位及び下記構造単位中の構造単位（
ａ５－１）におけるＲ51に相当するメチル基が水素原子に置き換わった構造単位が挙げら
れる。
ａ５－１）におけるＲ51に相当するメチル基が水素原子に置き換わった構造単位が挙げら
れる。
位に対して、１～３０モル％が好ましく、２～２０モル％がより好ましく、３～１５モル
％がさらに好ましい。
＜構造単位（ＩＩ）＞
樹脂（Ａ）は、さらに、露光により分解して酸を発生する構造単位（以下、「構造単位
（ＩＩ）」という場合がある）を含有してもよい。構造単位（ＩＩ）としては、具体的に
は特開２０１６－７９２３５号公報に記載の構造単位が挙げられ、側鎖にスルホナート基
若しくはカルボキシレート基と有機カチオンとを有する構造単位又は側鎖にスルホニオ基
と有機アニオンとを有する構造単位であることが好ましい。
樹脂（Ａ）は、さらに、露光により分解して酸を発生する構造単位（以下、「構造単位
（ＩＩ）」という場合がある）を含有してもよい。構造単位（ＩＩ）としては、具体的に
は特開２０１６－７９２３５号公報に記載の構造単位が挙げられ、側鎖にスルホナート基
若しくはカルボキシレート基と有機カチオンとを有する構造単位又は側鎖にスルホニオ基
と有機アニオンとを有する構造単位であることが好ましい。
側鎖にスルホナート基若しくはカルボキシレート基を有する構造単位は、式（ＩＩ－２
－Ａ’）で表される構造単位であることが好ましい。
［式（ＩＩ－２－Ａ’）中、
ＸＩＩＩ３は、炭素数１～１８の２価の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基に含
まれる－ＣＨ２－は、－Ｏ－、－Ｓ－又は－ＣＯ－に置き換わっていてもよく、該飽和炭
化水素基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子、ハロゲン原子を有していてもよい炭素数
１～６のアルキル基又はヒドロキシ基で置き換わっていてもよい。
Ａｘ１は、炭素数１～８のアルカンジイル基を表し、該アルカンジイル基に含まれる水
素原子は、フッ素原子又は炭素数１～６のペルフルオロアルキル基で置換されていてもよ
い。
ＲＡ－は、スルホナート基又はカルボキシレート基を表す。
ＲＩＩＩ３は、水素原子、ハロゲン原子又はハロゲン原子を有していてもよい炭素数１
～６のアルキル基を表す。
ＺＡ＋は、有機カチオンを表す。］
－Ａ’）で表される構造単位であることが好ましい。
ＸＩＩＩ３は、炭素数１～１８の２価の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基に含
まれる－ＣＨ２－は、－Ｏ－、－Ｓ－又は－ＣＯ－に置き換わっていてもよく、該飽和炭
化水素基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子、ハロゲン原子を有していてもよい炭素数
１～６のアルキル基又はヒドロキシ基で置き換わっていてもよい。
Ａｘ１は、炭素数１～８のアルカンジイル基を表し、該アルカンジイル基に含まれる水
素原子は、フッ素原子又は炭素数１～６のペルフルオロアルキル基で置換されていてもよ
い。
ＲＡ－は、スルホナート基又はカルボキシレート基を表す。
ＲＩＩＩ３は、水素原子、ハロゲン原子又はハロゲン原子を有していてもよい炭素数１
～６のアルキル基を表す。
ＺＡ＋は、有機カチオンを表す。］
ＲＩＩＩ３で表されるハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子及びヨ
ウ素原子等が挙げられる。
ＲＩＩＩ３で表されるハロゲン原子を有していてもよい炭素数１～６のアルキル基とし
ては、Ｒａ８で表されるハロゲン原子を有していてもよい炭素数１～６のアルキル基と同
じものが挙げられる。
Ａｘ１で表される炭素数１～８のアルカンジイル基としては、メチレン基、エチレン基
、プロパン－１，３－ジイル基、ブタン－１，４－ジイル基、ペンタン－１，５－ジイル
基、ヘキサン－１，６－ジイル基、エタン－１，１－ジイル基、プロパン－１，１－ジイ
ル基、プロパン－１，２－ジイル基、プロパン－２，２－ジイル基、ペンタン－２，４－
ジイル基、２－メチルプロパン－１，３－ジイル基、２－メチルプロパン－１，２－ジイ
ル基、ペンタン－１，４－ジイル基、２－メチルブタン－１，４－ジイル基等が挙げられ
る。
Ａｘ１に置換されていてもよい炭素数１～６のペルフルオロアルキル基としては、トリ
フルオロメチル基、ペルフルオロエチル基、ペルフルオロプロピル基、ペルフルオロイソ
プロピル基、ペルフルオロブチル基、ペルフルオロsec-ブチル基、ペルフルオロtert-ブ
チル基、ペルフルオロペンチル基、ペルフルオロヘキシル基等が挙げられる。
ＸＩＩＩ３で表される炭素数１～１８の２価の飽和炭化水素基としては、直鎖又は分岐
状アルカンジイル基、単環式又は多環式の２価の脂環飽和炭化水素基が挙げられ、これら
の組み合わせてあってもよい。
具体的には、メチレン基、エチレン基、プロパン－１，３－ジイル基、プロパン－１，
２－ジイル基、ブタン－１，４－ジイル基、ペンタン－１，５－ジイル基、ヘキサン－１
，６－ジイル基、ヘプタン－１，７－ジイル基、オクタン－１，８－ジイル基、ノナン－
１，９－ジイル基、デカン－１，１０－ジイル基、ウンデカン－１，１１－ジイル基、ド
デカン－１，１２－ジイル基等の直鎖状アルカンジイル基；ブタン－１，３－ジイル基、
２－メチルプロパン－１，３－ジイル基、２－メチルプロパン－１，２－ジイル基、ペン
タン－１，４－ジイル基、２－メチルブタン－１，４－ジイル基等の分岐状アルカンジイ
ル基；シクロブタン－１，３－ジイル基、シクロペンタン－１，３－ジイル基、シクロヘ
キサン－１，４－ジイル基、シクロオクタン－１，５－ジイル基等のシクロアルカンジイ
ル基；ノルボルナン－１，４－ジイル基、ノルボルナン－２，５－ジイル基、アダマンタ
ン－１，５－ジイル基、アダマンタン－２，６－ジイル基等の２価の多環式脂環式飽和炭
化水素基等が挙げられる。
飽和炭化水素基に含まれる－ＣＨ２－が、－Ｏ－、－Ｓ－又は－ＣＯ－で置き換わった
ものとしては、例えば式（Ｘ１）～式（Ｘ５３）で表される２価の基が挙げられる。ただ
し、飽和炭化水素基に含まれる－ＣＨ２－が、－Ｏ－、－Ｓ－又は－ＣＯ－で置き換わる
前の炭素数はそれぞれ１７以下である。下記式において、＊及び＊＊は結合部位を表し、
＊はＡｘ１との結合手を表す。
ウ素原子等が挙げられる。
ＲＩＩＩ３で表されるハロゲン原子を有していてもよい炭素数１～６のアルキル基とし
ては、Ｒａ８で表されるハロゲン原子を有していてもよい炭素数１～６のアルキル基と同
じものが挙げられる。
Ａｘ１で表される炭素数１～８のアルカンジイル基としては、メチレン基、エチレン基
、プロパン－１，３－ジイル基、ブタン－１，４－ジイル基、ペンタン－１，５－ジイル
基、ヘキサン－１，６－ジイル基、エタン－１，１－ジイル基、プロパン－１，１－ジイ
ル基、プロパン－１，２－ジイル基、プロパン－２，２－ジイル基、ペンタン－２，４－
ジイル基、２－メチルプロパン－１，３－ジイル基、２－メチルプロパン－１，２－ジイ
ル基、ペンタン－１，４－ジイル基、２－メチルブタン－１，４－ジイル基等が挙げられ
る。
Ａｘ１に置換されていてもよい炭素数１～６のペルフルオロアルキル基としては、トリ
フルオロメチル基、ペルフルオロエチル基、ペルフルオロプロピル基、ペルフルオロイソ
プロピル基、ペルフルオロブチル基、ペルフルオロsec-ブチル基、ペルフルオロtert-ブ
チル基、ペルフルオロペンチル基、ペルフルオロヘキシル基等が挙げられる。
ＸＩＩＩ３で表される炭素数１～１８の２価の飽和炭化水素基としては、直鎖又は分岐
状アルカンジイル基、単環式又は多環式の２価の脂環飽和炭化水素基が挙げられ、これら
の組み合わせてあってもよい。
具体的には、メチレン基、エチレン基、プロパン－１，３－ジイル基、プロパン－１，
２－ジイル基、ブタン－１，４－ジイル基、ペンタン－１，５－ジイル基、ヘキサン－１
，６－ジイル基、ヘプタン－１，７－ジイル基、オクタン－１，８－ジイル基、ノナン－
１，９－ジイル基、デカン－１，１０－ジイル基、ウンデカン－１，１１－ジイル基、ド
デカン－１，１２－ジイル基等の直鎖状アルカンジイル基；ブタン－１，３－ジイル基、
２－メチルプロパン－１，３－ジイル基、２－メチルプロパン－１，２－ジイル基、ペン
タン－１，４－ジイル基、２－メチルブタン－１，４－ジイル基等の分岐状アルカンジイ
ル基；シクロブタン－１，３－ジイル基、シクロペンタン－１，３－ジイル基、シクロヘ
キサン－１，４－ジイル基、シクロオクタン－１，５－ジイル基等のシクロアルカンジイ
ル基；ノルボルナン－１，４－ジイル基、ノルボルナン－２，５－ジイル基、アダマンタ
ン－１，５－ジイル基、アダマンタン－２，６－ジイル基等の２価の多環式脂環式飽和炭
化水素基等が挙げられる。
飽和炭化水素基に含まれる－ＣＨ２－が、－Ｏ－、－Ｓ－又は－ＣＯ－で置き換わった
ものとしては、例えば式（Ｘ１）～式（Ｘ５３）で表される２価の基が挙げられる。ただ
し、飽和炭化水素基に含まれる－ＣＨ２－が、－Ｏ－、－Ｓ－又は－ＣＯ－で置き換わる
前の炭素数はそれぞれ１７以下である。下記式において、＊及び＊＊は結合部位を表し、
＊はＡｘ１との結合手を表す。
Ｘ3は、２価の炭素数１～１６の飽和炭化水素基を表す。
Ｘ4は、２価の炭素数１～１５の飽和炭化水素基を表す。
Ｘ5は、２価の炭素数１～１３の飽和炭化水素基を表す。
Ｘ6は、２価の炭素数１～１４の飽和炭化水素基を表す。
Ｘ7は、３価の炭素数１～１４の飽和炭化水素基を表す。
Ｘ8は、２価の炭素数１～１３の飽和炭化水素基を表す。
Ｘ4は、２価の炭素数１～１５の飽和炭化水素基を表す。
Ｘ5は、２価の炭素数１～１３の飽和炭化水素基を表す。
Ｘ6は、２価の炭素数１～１４の飽和炭化水素基を表す。
Ｘ7は、３価の炭素数１～１４の飽和炭化水素基を表す。
Ｘ8は、２価の炭素数１～１３の飽和炭化水素基を表す。
式（ＩＩ－２－Ａ’）中のＺＡ＋は、塩（Ｉ）におけるカチオンＺ＋と同様のものが挙
げられる。
げられる。
式（ＩＩ－２－Ａ’）で表される構造単位は、式（ＩＩ－２－Ａ）で表される構造単位
であることが好ましい。
［式（ＩＩ－２－Ａ）中、ＲＩＩＩ３、ＸＩＩＩ３及びＺＡ＋は、上記と同じ意味を表
す。
ｚ２Ａは、０～６のいずれかの整数を表す。
ＲＩＩＩ２及びＲＩＩＩ４は、それぞれ独立して、水素原子、フッ素原子又は炭素数１
～６のペルフルオロアルキル基を表し、ｚ２Ａが２以上のとき、複数のＲＩＩＩ２及びＲ
ＩＩＩ４は互いに同一であってもよいし、異なっていてもよい。
Ｑａ及びＱｂは、それぞれ独立して、フッ素原子又は炭素数１～６のペルフルオロアル
キル基を表す。］
ＲＩＩＩ２、ＲＩＩＩ４、Ｑａ及びＱｂで表される炭素数１～６のペルフルオロアルキ
ル基としては、前述のＱｂ１で表される炭素数１～６のペルフルオロアルキル基と同じも
のが挙げられる。
であることが好ましい。
す。
ｚ２Ａは、０～６のいずれかの整数を表す。
ＲＩＩＩ２及びＲＩＩＩ４は、それぞれ独立して、水素原子、フッ素原子又は炭素数１
～６のペルフルオロアルキル基を表し、ｚ２Ａが２以上のとき、複数のＲＩＩＩ２及びＲ
ＩＩＩ４は互いに同一であってもよいし、異なっていてもよい。
Ｑａ及びＱｂは、それぞれ独立して、フッ素原子又は炭素数１～６のペルフルオロアル
キル基を表す。］
ＲＩＩＩ２、ＲＩＩＩ４、Ｑａ及びＱｂで表される炭素数１～６のペルフルオロアルキ
ル基としては、前述のＱｂ１で表される炭素数１～６のペルフルオロアルキル基と同じも
のが挙げられる。
式（ＩＩ－２－Ａ）で表される構造単位は、式（ＩＩ－２－Ａ－１）で表される構造単
位であることが好ましい。
［式（ＩＩ－２－Ａ－１）中、
ＲＩＩＩ２、ＲＩＩＩ３、ＲＩＩＩ４、Ｑa、Ｑb及びＺＡ＋は、上記と同じ意味を表す
。
ＲＩＩＩ５は、炭素数１～１２の飽和炭化水素基を表す。
ｚ２Ａ１は、０～６のいずれかの整数を表す。
ＸＩ2は、炭素数１～１１の２価の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基に含まれ
る－ＣＨ２－は、－Ｏ－、－Ｓ－又は－ＣＯ－に置き換わっていてもよく、該飽和炭化水
素基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子又はヒドロキシ基で置換されていてもよい。］
ＲＩＩＩ５で表される炭素数１～１２の飽和炭化水素基としては、メチル基、エチル基
、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ペ
ンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基及
びドデシル基等の直鎖又は分岐のアルキル基が挙げられる。
ＸＩ２で表される２価の飽和炭化水素基としては、ＸＩＩＩ３で表される２価の飽和炭
化水素基と同様のものが挙げられる。
位であることが好ましい。
ＲＩＩＩ２、ＲＩＩＩ３、ＲＩＩＩ４、Ｑa、Ｑb及びＺＡ＋は、上記と同じ意味を表す
。
ＲＩＩＩ５は、炭素数１～１２の飽和炭化水素基を表す。
ｚ２Ａ１は、０～６のいずれかの整数を表す。
ＸＩ2は、炭素数１～１１の２価の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基に含まれ
る－ＣＨ２－は、－Ｏ－、－Ｓ－又は－ＣＯ－に置き換わっていてもよく、該飽和炭化水
素基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子又はヒドロキシ基で置換されていてもよい。］
ＲＩＩＩ５で表される炭素数１～１２の飽和炭化水素基としては、メチル基、エチル基
、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ペ
ンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基及
びドデシル基等の直鎖又は分岐のアルキル基が挙げられる。
ＸＩ２で表される２価の飽和炭化水素基としては、ＸＩＩＩ３で表される２価の飽和炭
化水素基と同様のものが挙げられる。
式（ＩＩ－２－Ａ－１）で表される構造単位としては、式（ＩＩ－２－Ａ－２）で表さ
れる構造単位がさらに好ましい。
［式（ＩＩ－２－Ａ－２）中、ＲＩＩＩ３、ＲＩＩＩ５及びＺＡ＋は、上記と同じ意味
を表す。
ｍ及びｎは、それぞれ独立に、１又は２を表す。］
れる構造単位がさらに好ましい。
を表す。
ｍ及びｎは、それぞれ独立に、１又は２を表す。］
式（ＩＩ－２－Ａ’）で表される構造単位としては、例えば、以下の構造単位及び国際
公開第２０１２／０５００１５号記載の構造単位が挙げられる。ＺＡ＋は、有機カチオン
を表す。
公開第２０１２／０５００１５号記載の構造単位が挙げられる。ＺＡ＋は、有機カチオン
を表す。
側鎖にスルホニオ基と有機アニオンとを有する構造単位は、式（ＩＩ－１－１）で表さ
れる構造単位であることが好ましい。
［式（ＩＩ－１－１）中、
ＡＩＩ１は、単結合又は２価の連結基を表す。
ＲＩＩ１は、炭素数６～１８の２価の芳香族炭化水素基を表す。
ＲＩＩ２及びＲＩＩ３は、それぞれ独立して、炭素数１～１８の炭化水素基を表し、Ｒ
ＩＩ２及びＲＩＩ３は互いに結合してそれらが結合する硫黄原子とともに環を形成してい
てもよい。
ＲII4は、水素原子、ハロゲン原子又はハロゲン原子を有してもよい炭素数１～６のア
ルキル基を表す。
Ａ－は、有機アニオンを表す。］
ＲＩＩ１で表される炭素数６～１８の２価の芳香族炭化水素基としては、フェニレン基
及びナフチレン基等が挙げられる。
ＲＩＩ２及びＲＩＩ３で表される炭化水素基としては、アルキル基、脂環式炭化水素基
、芳香族炭化水素基及びこれらを組み合わせることにより形成される基等が挙げられる。
具体的には、Ｒa1’、Ｒa2’及びＲa3’における炭化水素基と同じものが挙げられる。
ＲＩＩ４で表されるハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子及びヨウ
素原子等が挙げられる。
ＲＩＩ４で表されるハロゲン原子を有していてもよい炭素数１～６のアルキル基として
は、Ｒａ８で表されるハロゲン原子を有していてもよい炭素数１～６のアルキル基と同じ
ものが挙げられる。
ＡＩＩ１で表される２価の連結基としては、例えば、炭素数１～１８の２価の飽和炭化
水素基が挙げられ、該２価の飽和炭化水素基に含まれる－ＣＨ２－は、－Ｏ－、－Ｓ－又
は－ＣＯ－で置き換わっていてもよい。具体的には、ＸＩＩＩ３で表される炭素数１～１
８の２価の飽和炭化水素基と同じものが挙げられる。
れる構造単位であることが好ましい。
ＡＩＩ１は、単結合又は２価の連結基を表す。
ＲＩＩ１は、炭素数６～１８の２価の芳香族炭化水素基を表す。
ＲＩＩ２及びＲＩＩ３は、それぞれ独立して、炭素数１～１８の炭化水素基を表し、Ｒ
ＩＩ２及びＲＩＩ３は互いに結合してそれらが結合する硫黄原子とともに環を形成してい
てもよい。
ＲII4は、水素原子、ハロゲン原子又はハロゲン原子を有してもよい炭素数１～６のア
ルキル基を表す。
Ａ－は、有機アニオンを表す。］
ＲＩＩ１で表される炭素数６～１８の２価の芳香族炭化水素基としては、フェニレン基
及びナフチレン基等が挙げられる。
ＲＩＩ２及びＲＩＩ３で表される炭化水素基としては、アルキル基、脂環式炭化水素基
、芳香族炭化水素基及びこれらを組み合わせることにより形成される基等が挙げられる。
具体的には、Ｒa1’、Ｒa2’及びＲa3’における炭化水素基と同じものが挙げられる。
ＲＩＩ４で表されるハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子及びヨウ
素原子等が挙げられる。
ＲＩＩ４で表されるハロゲン原子を有していてもよい炭素数１～６のアルキル基として
は、Ｒａ８で表されるハロゲン原子を有していてもよい炭素数１～６のアルキル基と同じ
ものが挙げられる。
ＡＩＩ１で表される２価の連結基としては、例えば、炭素数１～１８の２価の飽和炭化
水素基が挙げられ、該２価の飽和炭化水素基に含まれる－ＣＨ２－は、－Ｏ－、－Ｓ－又
は－ＣＯ－で置き換わっていてもよい。具体的には、ＸＩＩＩ３で表される炭素数１～１
８の２価の飽和炭化水素基と同じものが挙げられる。
式（ＩＩ－１－１）中のカチオンを含む構造単位としては、以下で表される構造単位な
どが挙げられる。
どが挙げられる。
Ａ－で表される有機アニオンとしては、スルホン酸アニオン、スルホニルイミドアニオ
ン、スルホニルメチドアニオン及びカルボン酸アニオン等が挙げられる。Ａ－で表される
有機アニオンは、スルホン酸アニオンが好ましく、スルホン酸アニオンとしては、前述の
式（Ｂ１）で表される塩に含まれるアニオンであることがより好ましい。
ン、スルホニルメチドアニオン及びカルボン酸アニオン等が挙げられる。Ａ－で表される
有機アニオンは、スルホン酸アニオンが好ましく、スルホン酸アニオンとしては、前述の
式（Ｂ１）で表される塩に含まれるアニオンであることがより好ましい。
Ａ－で表されるスルホニルイミドアニオンとしては、以下のものが挙げられる。
スルホニルメチドアニオンとしては、以下のものが挙げられる。
カルボン酸アニオンとしては、以下のものが挙げられる。
式（ＩＩ－１－１）で表される構造単位としては、以下で表される構造単位などが挙げ
られる。
られる。
樹脂（Ａ）中に、構造単位（ＩＩ）を含有する場合の構造単位（ＩＩ）の含有率は、樹
脂（Ａ）の全構造単位に対して、好ましくは１～２０モル％であり、より好ましくは２～
１５モル％であり、さらに好ましくは３～１０モル％である。
脂（Ａ）の全構造単位に対して、好ましくは１～２０モル％であり、より好ましくは２～
１５モル％であり、さらに好ましくは３～１０モル％である。
樹脂（Ａ）は、上述の構造単位以外の構造単位を有していてもよく、このような構造単
位としては、当技術分野で周知の構造単位が挙げられる。
位としては、当技術分野で周知の構造単位が挙げられる。
樹脂（Ａ）は、好ましくは、構造単位（ａ１）と構造単位（ｓ）とからなる樹脂、すな
わち、モノマー（ａ１）とモノマー（ｓ）との共重合体である。
構造単位（ａ１）は、好ましくは構造単位（ａ１－０）、構造単位（ａ１－１）及び構
造単位（ａ１－２）（好ましくはシクロヘキシル基、及びシクロペンチル基を有する該構
造単位）及び構造単位（ａ１－４）からなる群から選ばれる少なくとも一種であり、より
好ましくは少なくとも二種であり、さらに好ましくは、構造単位（ａ１－１）及び構造単
位（ａ１－２）からなる群から選ばれる少なくとも二種である。
構造単位（ｓ）は、好ましくは構造単位（ａ２）及び構造単位（ａ３）からなる群から
選ばれる少なくとも一種である。構造単位（ａ２）は、好ましくは構造単位（ａ２－１）
又は構造単位（ａ２－Ａ）である。構造単位（ａ３）は、好ましくは式（ａ３－１）で表
される構造単位、式（ａ３－２）で表される構造単位及び式（ａ３－４）で表される構造
単位からなる群から選ばれる少なくとも一種である。
樹脂（Ａ）を構成する各構造単位は、１種のみ又は２種以上を組み合わせて用いてもよ
く、これら構造単位を導くモノマーを用いて、公知の重合法（例えばラジカル重合法）に
よって製造することができる。樹脂（Ａ）が有する各構造単位の含有率は、重合に用いる
モノマーの使用量で調整できる。
樹脂（Ａ）の重量平均分子量は、好ましくは、２，０００以上（より好ましくは２，５
００以上、さらに好ましくは３，０００以上）、５０，０００以下（より好ましくは３０
，０００以下、さらに好ましくは１５，０００以下）である。本明細書では、重量平均分
子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーで実施例に記載の条件により求めた値
である。
わち、モノマー（ａ１）とモノマー（ｓ）との共重合体である。
構造単位（ａ１）は、好ましくは構造単位（ａ１－０）、構造単位（ａ１－１）及び構
造単位（ａ１－２）（好ましくはシクロヘキシル基、及びシクロペンチル基を有する該構
造単位）及び構造単位（ａ１－４）からなる群から選ばれる少なくとも一種であり、より
好ましくは少なくとも二種であり、さらに好ましくは、構造単位（ａ１－１）及び構造単
位（ａ１－２）からなる群から選ばれる少なくとも二種である。
構造単位（ｓ）は、好ましくは構造単位（ａ２）及び構造単位（ａ３）からなる群から
選ばれる少なくとも一種である。構造単位（ａ２）は、好ましくは構造単位（ａ２－１）
又は構造単位（ａ２－Ａ）である。構造単位（ａ３）は、好ましくは式（ａ３－１）で表
される構造単位、式（ａ３－２）で表される構造単位及び式（ａ３－４）で表される構造
単位からなる群から選ばれる少なくとも一種である。
樹脂（Ａ）を構成する各構造単位は、１種のみ又は２種以上を組み合わせて用いてもよ
く、これら構造単位を導くモノマーを用いて、公知の重合法（例えばラジカル重合法）に
よって製造することができる。樹脂（Ａ）が有する各構造単位の含有率は、重合に用いる
モノマーの使用量で調整できる。
樹脂（Ａ）の重量平均分子量は、好ましくは、２，０００以上（より好ましくは２，５
００以上、さらに好ましくは３，０００以上）、５０，０００以下（より好ましくは３０
，０００以下、さらに好ましくは１５，０００以下）である。本明細書では、重量平均分
子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーで実施例に記載の条件により求めた値
である。
＜樹脂（Ａ）以外の樹脂＞
本発明のレジスト組成物は、樹脂（Ａ）以外の樹脂をさらに含んでいてもよい。
樹脂（Ａ）以外の樹脂としては、例えば、構造単位（ａ４）又は構造単位（ａ５）を含
有する樹脂（以下、樹脂（Ｘ）という場合がある）等が挙げられる。
樹脂（Ｘ）としては、なかでも、構造単位（ａ４）を含む樹脂が好ましい。つまり、フ
ッ素原子を有する構造単位を含む樹脂であることが好ましい。
樹脂（Ｘ）において、構造単位（ａ４）の含有率は、樹脂（Ｘ）の全構造単位の合計に
対して、３０モル％以上であることが好ましく、４０モル％以上であることがより好まし
く、４５モル％以上であることがさらに好ましい。
樹脂（Ｘ）がさらに有していてもよい構造単位としては、構造単位（ａ１）、構造単位
（ａ２）、構造単位（ａ３）及びその他の公知のモノマーに由来する構造単位が挙げられ
る。中でも、樹脂（Ｘ）は、構造単位（ａ４）及び／又は構造単位（ａ５）のみからなる
樹脂であることが好ましい。
樹脂（Ｘ）を構成する各構造単位は、１種のみ又は２種以上を組合せて用いてもよく、
これら構造単位を誘導するモノマーを用いて、公知の重合法（例えばラジカル重合法）に
よって製造することができる。樹脂（Ｘ）が有する各構造単位の含有率は、重合に用いる
モノマーの使用量で調整できる。
樹脂（Ｘ）の重量平均分子量は、好ましくは６，０００以上（より好ましくは７，００
０以上）、８０，０００以下（より好ましくは６０，０００以下）である。樹脂（Ｘ）の
重量平均分子量の測定手段は、樹脂（Ａ）の場合と同様である。
本発明のレジスト組成物は、樹脂（Ａ）以外の樹脂をさらに含んでいてもよい。
樹脂（Ａ）以外の樹脂としては、例えば、構造単位（ａ４）又は構造単位（ａ５）を含
有する樹脂（以下、樹脂（Ｘ）という場合がある）等が挙げられる。
樹脂（Ｘ）としては、なかでも、構造単位（ａ４）を含む樹脂が好ましい。つまり、フ
ッ素原子を有する構造単位を含む樹脂であることが好ましい。
樹脂（Ｘ）において、構造単位（ａ４）の含有率は、樹脂（Ｘ）の全構造単位の合計に
対して、３０モル％以上であることが好ましく、４０モル％以上であることがより好まし
く、４５モル％以上であることがさらに好ましい。
樹脂（Ｘ）がさらに有していてもよい構造単位としては、構造単位（ａ１）、構造単位
（ａ２）、構造単位（ａ３）及びその他の公知のモノマーに由来する構造単位が挙げられ
る。中でも、樹脂（Ｘ）は、構造単位（ａ４）及び／又は構造単位（ａ５）のみからなる
樹脂であることが好ましい。
樹脂（Ｘ）を構成する各構造単位は、１種のみ又は２種以上を組合せて用いてもよく、
これら構造単位を誘導するモノマーを用いて、公知の重合法（例えばラジカル重合法）に
よって製造することができる。樹脂（Ｘ）が有する各構造単位の含有率は、重合に用いる
モノマーの使用量で調整できる。
樹脂（Ｘ）の重量平均分子量は、好ましくは６，０００以上（より好ましくは７，００
０以上）、８０，０００以下（より好ましくは６０，０００以下）である。樹脂（Ｘ）の
重量平均分子量の測定手段は、樹脂（Ａ）の場合と同様である。
本発明のレジスト組成物が、樹脂（Ｘ）を含む場合、その含有量は、樹脂（Ａ）１００
質量部に対して、好ましくは１～６０質量部であり、より好ましくは１～５０質量部であ
り、さらに好ましくは１～４０質量部であり、特に好ましくは１～３０質量部であり、特
に好ましくは１～８質量部である。
質量部に対して、好ましくは１～６０質量部であり、より好ましくは１～５０質量部であ
り、さらに好ましくは１～４０質量部であり、特に好ましくは１～３０質量部であり、特
に好ましくは１～８質量部である。
レジスト組成物における樹脂（Ａ）の含有率は、レジスト組成物の固形分に対して、７
５質量％以上９９質量％以下であることが好ましく、８０質量％以上９５質量％以下がよ
り好ましい。また、樹脂（Ａ）以外の樹脂を含む場合は、樹脂（Ａ）と樹脂（Ａ）以外の
樹脂との合計含有率は、レジスト組成物の固形分に対して、７５質量％以上９９質量％以
下であることが好ましく、８０質量％以上９５質量％以下がより好ましい。レジスト組成
物の固形分及びこれに対する樹脂の含有率は、液体クロマトグラフィー又はガスクロマト
グラフィー等の公知の分析手段で測定することができる。
５質量％以上９９質量％以下であることが好ましく、８０質量％以上９５質量％以下がよ
り好ましい。また、樹脂（Ａ）以外の樹脂を含む場合は、樹脂（Ａ）と樹脂（Ａ）以外の
樹脂との合計含有率は、レジスト組成物の固形分に対して、７５質量％以上９９質量％以
下であることが好ましく、８０質量％以上９５質量％以下がより好ましい。レジスト組成
物の固形分及びこれに対する樹脂の含有率は、液体クロマトグラフィー又はガスクロマト
グラフィー等の公知の分析手段で測定することができる。
＜溶剤（Ｅ）＞
溶剤（Ｅ）の含有率は、レジスト組成物中、通常９０質量％以上９９．９質量％以下で
あり、好ましくは９２質量％以上９９質量％以下であり、より好ましくは９４質量％以上
９９質量％以下である。溶剤（Ｅ）の含有率は、例えば液体クロマトグラフィー又はガス
クロマトグラフィー等の公知の分析手段で測定できる。
溶剤（Ｅ）としては、エチルセロソルブアセテート、メチルセロソルブアセテート及び
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等のグリコールエーテルエステル類
；プロピレングリコールモノメチルエーテル等のグリコールエーテル類；乳酸エチル、酢
酸ブチル、酢酸アミル及びピルビン酸エチル等のエステル類；アセトン、メチルイソブチ
ルケトン、２－ヘプタノン及びシクロヘキサノン等のケトン類；γ－ブチロラクトン等の
環状エステル類；等を挙げることができる。溶剤（Ｅ）の１種を単独で使用してもよく、
２種以上を使用してもよい。
溶剤（Ｅ）の含有率は、レジスト組成物中、通常９０質量％以上９９．９質量％以下で
あり、好ましくは９２質量％以上９９質量％以下であり、より好ましくは９４質量％以上
９９質量％以下である。溶剤（Ｅ）の含有率は、例えば液体クロマトグラフィー又はガス
クロマトグラフィー等の公知の分析手段で測定できる。
溶剤（Ｅ）としては、エチルセロソルブアセテート、メチルセロソルブアセテート及び
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等のグリコールエーテルエステル類
；プロピレングリコールモノメチルエーテル等のグリコールエーテル類；乳酸エチル、酢
酸ブチル、酢酸アミル及びピルビン酸エチル等のエステル類；アセトン、メチルイソブチ
ルケトン、２－ヘプタノン及びシクロヘキサノン等のケトン類；γ－ブチロラクトン等の
環状エステル類；等を挙げることができる。溶剤（Ｅ）の１種を単独で使用してもよく、
２種以上を使用してもよい。
＜クエンチャー（Ｃ）＞
クエンチャー（Ｃ）としては、塩基性の含窒素有機化合物及び酸発生剤（Ｂ）から発生
する酸よりも酸性度の弱い酸を発生する塩が挙げられる。クエンチャー（Ｃ）の含有量は
、レジスト組成物の固形分量を基準に、０．０１～５質量％程度であることが好ましく、
０．０１～３質量％程度であることが好ましい。
塩基性の含窒素有機化合物としては、アミン及びアンモニウム塩が挙げられる。アミン
としては、脂肪族アミン及び芳香族アミンが挙げられる。脂肪族アミンとしては、第一級
アミン、第二級アミン及び第三級アミンが挙げられる。
アミンとしては、１－ナフチルアミン、２－ナフチルアミン、アニリン、ジイソプロピ
ルアニリン、２－，３－又は４－メチルアニリン、４－ニトロアニリン、Ｎ－メチルアニ
リン、Ｎ，Ｎ－ジメチルアニリン、ジフェニルアミン、ヘキシルアミン、ヘプチルアミン
、オクチルアミン、ノニルアミン、デシルアミン、ジブチルアミン、ジペンチルアミン、
ジヘキシルアミン、ジヘプチルアミン、ジオクチルアミン、ジノニルアミン、ジデシルア
ミン、トリエチルアミン、トリメチルアミン、トリプロピルアミン、トリブチルアミン、
トリペンチルアミン、トリヘキシルアミン、トリヘプチルアミン、トリオクチルアミン、
トリノニルアミン、トリデシルアミン、メチルジブチルアミン、メチルジペンチルアミン
、メチルジヘキシルアミン、メチルジシクロヘキシルアミン、メチルジヘプチルアミン、
メチルジオクチルアミン、メチルジノニルアミン、メチルジデシルアミン、エチルジブチ
ルアミン、エチルジペンチルアミン、エチルジヘキシルアミン、エチルジヘプチルアミン
、エチルジオクチルアミン、エチルジノニルアミン、エチルジデシルアミン、ジシクロヘ
キシルメチルアミン、トリス〔２－（２－メトキシエトキシ）エチル〕アミン、トリイソ
プロパノールアミン、エチレンジアミン、テトラメチレンジアミン、ヘキサメチレンジア
ミン、４，４’－ジアミノ－１，２－ジフェニルエタン、４，４’－ジアミノ－３，３’
－ジメチルジフェニルメタン、４，４’－ジアミノ－３，３’－ジエチルジフェニルメタ
ン、２，２’－メチレンビスアニリン、イミダゾール、４－メチルイミダゾール、ピリジ
ン、４－メチルピリジン、１，２－ジ（２－ピリジル）エタン、１，２－ジ（４－ピリジ
ル）エタン、１，２－ジ（２－ピリジル）エテン、１，２－ジ（４－ピリジル）エテン、
１，３－ジ（４－ピリジル）プロパン、１，２－ジ（４－ピリジルオキシ）エタン、ジ（
２－ピリジル）ケトン、４，４’－ジピリジルスルフィド、４，４’－ジピリジルジスル
フィド、２，２’－ジピリジルアミン、２，２’－ジピコリルアミン、ビピリジン等が挙
げられ、好ましくはジイソプロピルアニリン等の芳香族アミンが挙げられ、より好ましく
は２，６－ジイソプロピルアニリンが挙げられる。
アンモニウム塩としては、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトライソプロピ
ルアンモニウムヒドロキシド、テトラブチルアンモニウムヒドロキシド、テトラヘキシル
アンモニウムヒドロキシド、テトラオクチルアンモニウムヒドロキシド、フェニルトリメ
チルアンモニウムヒドロキシド、３－（トリフルオロメチル）フェニルトリメチルアンモ
ニウムヒドロキシド、テトラ－ｎ－ブチルアンモニウムサリチラート及びコリン等が挙げ
られる。
クエンチャー（Ｃ）としては、塩基性の含窒素有機化合物及び酸発生剤（Ｂ）から発生
する酸よりも酸性度の弱い酸を発生する塩が挙げられる。クエンチャー（Ｃ）の含有量は
、レジスト組成物の固形分量を基準に、０．０１～５質量％程度であることが好ましく、
０．０１～３質量％程度であることが好ましい。
塩基性の含窒素有機化合物としては、アミン及びアンモニウム塩が挙げられる。アミン
としては、脂肪族アミン及び芳香族アミンが挙げられる。脂肪族アミンとしては、第一級
アミン、第二級アミン及び第三級アミンが挙げられる。
アミンとしては、１－ナフチルアミン、２－ナフチルアミン、アニリン、ジイソプロピ
ルアニリン、２－，３－又は４－メチルアニリン、４－ニトロアニリン、Ｎ－メチルアニ
リン、Ｎ，Ｎ－ジメチルアニリン、ジフェニルアミン、ヘキシルアミン、ヘプチルアミン
、オクチルアミン、ノニルアミン、デシルアミン、ジブチルアミン、ジペンチルアミン、
ジヘキシルアミン、ジヘプチルアミン、ジオクチルアミン、ジノニルアミン、ジデシルア
ミン、トリエチルアミン、トリメチルアミン、トリプロピルアミン、トリブチルアミン、
トリペンチルアミン、トリヘキシルアミン、トリヘプチルアミン、トリオクチルアミン、
トリノニルアミン、トリデシルアミン、メチルジブチルアミン、メチルジペンチルアミン
、メチルジヘキシルアミン、メチルジシクロヘキシルアミン、メチルジヘプチルアミン、
メチルジオクチルアミン、メチルジノニルアミン、メチルジデシルアミン、エチルジブチ
ルアミン、エチルジペンチルアミン、エチルジヘキシルアミン、エチルジヘプチルアミン
、エチルジオクチルアミン、エチルジノニルアミン、エチルジデシルアミン、ジシクロヘ
キシルメチルアミン、トリス〔２－（２－メトキシエトキシ）エチル〕アミン、トリイソ
プロパノールアミン、エチレンジアミン、テトラメチレンジアミン、ヘキサメチレンジア
ミン、４，４’－ジアミノ－１，２－ジフェニルエタン、４，４’－ジアミノ－３，３’
－ジメチルジフェニルメタン、４，４’－ジアミノ－３，３’－ジエチルジフェニルメタ
ン、２，２’－メチレンビスアニリン、イミダゾール、４－メチルイミダゾール、ピリジ
ン、４－メチルピリジン、１，２－ジ（２－ピリジル）エタン、１，２－ジ（４－ピリジ
ル）エタン、１，２－ジ（２－ピリジル）エテン、１，２－ジ（４－ピリジル）エテン、
１，３－ジ（４－ピリジル）プロパン、１，２－ジ（４－ピリジルオキシ）エタン、ジ（
２－ピリジル）ケトン、４，４’－ジピリジルスルフィド、４，４’－ジピリジルジスル
フィド、２，２’－ジピリジルアミン、２，２’－ジピコリルアミン、ビピリジン等が挙
げられ、好ましくはジイソプロピルアニリン等の芳香族アミンが挙げられ、より好ましく
は２，６－ジイソプロピルアニリンが挙げられる。
アンモニウム塩としては、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトライソプロピ
ルアンモニウムヒドロキシド、テトラブチルアンモニウムヒドロキシド、テトラヘキシル
アンモニウムヒドロキシド、テトラオクチルアンモニウムヒドロキシド、フェニルトリメ
チルアンモニウムヒドロキシド、３－（トリフルオロメチル）フェニルトリメチルアンモ
ニウムヒドロキシド、テトラ－ｎ－ブチルアンモニウムサリチラート及びコリン等が挙げ
られる。
酸発生剤（Ｂ）から発生する酸よりも酸性度の弱い酸を発生する塩における酸性度は、
酸解離定数（ｐＫａ）で示される。酸発生剤（Ｂ）から発生する酸よりも酸性度の弱い酸
を発生する塩は、該塩から発生する酸の酸解離定数が、通常－３＜ｐＫａの塩であり、好
ましくは－１＜ｐＫａ＜７の塩であり、より好ましくは０＜ｐＫａ＜５の塩である。
酸発生剤（Ｂ）から発生する酸よりも酸性度の弱い酸を発生する塩としては、下記式で
表される塩、特開２０１５－１４７９２６号公報記載の式（Ｄ）で表される塩（以下、「
弱酸分子内塩（Ｄ）」という場合がある。）、並びに特開２０１２－２２９２０６号公報
、特開２０１２－６９０８号公報、特開２０１２－７２１０９号公報、特開２０１１－３
９５０２号公報及び特開２０１１－１９１７４５号公報記載の塩が挙げられる。酸発生剤
（Ｂ）から発生する酸よりも酸性度の弱い酸を発生する塩として好ましくは、弱酸分子内
塩（Ｄ）である。
酸解離定数（ｐＫａ）で示される。酸発生剤（Ｂ）から発生する酸よりも酸性度の弱い酸
を発生する塩は、該塩から発生する酸の酸解離定数が、通常－３＜ｐＫａの塩であり、好
ましくは－１＜ｐＫａ＜７の塩であり、より好ましくは０＜ｐＫａ＜５の塩である。
酸発生剤（Ｂ）から発生する酸よりも酸性度の弱い酸を発生する塩としては、下記式で
表される塩、特開２０１５－１４７９２６号公報記載の式（Ｄ）で表される塩（以下、「
弱酸分子内塩（Ｄ）」という場合がある。）、並びに特開２０１２－２２９２０６号公報
、特開２０１２－６９０８号公報、特開２０１２－７２１０９号公報、特開２０１１－３
９５０２号公報及び特開２０１１－１９１７４５号公報記載の塩が挙げられる。酸発生剤
（Ｂ）から発生する酸よりも酸性度の弱い酸を発生する塩として好ましくは、弱酸分子内
塩（Ｄ）である。
弱酸分子内塩（Ｄ）としては、以下の塩が挙げられる。
〈その他の成分〉
本発明のレジスト組成物は、必要に応じて、上述の成分以外の成分（以下「その他の成
分（Ｆ）」という場合がある。）を含有していてもよい。その他の成分（Ｆ）に特に限定
はなく、レジスト分野で公知の添加剤、例えば、増感剤、溶解抑止剤、界面活性剤、安定
剤、染料等を利用できる。
本発明のレジスト組成物は、必要に応じて、上述の成分以外の成分（以下「その他の成
分（Ｆ）」という場合がある。）を含有していてもよい。その他の成分（Ｆ）に特に限定
はなく、レジスト分野で公知の添加剤、例えば、増感剤、溶解抑止剤、界面活性剤、安定
剤、染料等を利用できる。
〈レジスト組成物の調製〉
本発明のレジスト組成物は、塩（Ｉ）及び樹脂（Ａ）並びに、必要に応じて、酸発生剤
（Ｂ）、樹脂（Ａ）以外の樹脂、溶剤（Ｅ）、クエンチャー（Ｃ）及びその他の成分（Ｆ
）を混合することにより調製することができる。混合順は任意であり、特に限定されるも
のではない。混合する際の温度は、１０～４０℃から、樹脂等の種類や樹脂等の溶剤（Ｅ
）に対する溶解度等に応じて適切な温度を選ぶことができる。混合時間は、混合温度に応
じて、０．５～２４時間の中から適切な時間を選ぶことができる。なお、混合手段も特に
制限はなく、攪拌混合等を用いることができる。
各成分を混合した後は、孔径０．００３～０．２μｍ程度のフィルターを用いてろ過す
ることが好ましい。
本発明のレジスト組成物は、塩（Ｉ）及び樹脂（Ａ）並びに、必要に応じて、酸発生剤
（Ｂ）、樹脂（Ａ）以外の樹脂、溶剤（Ｅ）、クエンチャー（Ｃ）及びその他の成分（Ｆ
）を混合することにより調製することができる。混合順は任意であり、特に限定されるも
のではない。混合する際の温度は、１０～４０℃から、樹脂等の種類や樹脂等の溶剤（Ｅ
）に対する溶解度等に応じて適切な温度を選ぶことができる。混合時間は、混合温度に応
じて、０．５～２４時間の中から適切な時間を選ぶことができる。なお、混合手段も特に
制限はなく、攪拌混合等を用いることができる。
各成分を混合した後は、孔径０．００３～０．２μｍ程度のフィルターを用いてろ過す
ることが好ましい。
〈レジストパターンの製造方法〉
本発明のレジストパターンの製造方法は、
（１）本発明のレジスト組成物を基板上に塗布する工程、
（２）塗布後の組成物を乾燥させて組成物層を形成する工程、
（３）組成物層に露光する工程、
（４）露光後の組成物層を加熱する工程、及び
（５）加熱後の組成物層を現像する工程を含む。
レジスト組成物を基板上に塗布するには、スピンコーター等、通常、用いられる装置に
よって行うことができる。基板としては、シリコンウェハ等の無機基板が挙げられる。レ
ジスト組成物を塗布する前に、基板を洗浄してもよく、基板上に反射防止膜等が形成され
ていてもよい。
塗布後の組成物を乾燥することにより、溶剤を除去し、組成物層を形成する。乾燥は、
例えば、ホットプレート等の加熱装置を用いて溶剤を蒸発させること（いわゆるプリベー
ク）により行うか、あるいは減圧装置を用いて行う。加熱温度は、５０～２００℃である
ことが好ましく、加熱時間は、１０～１８０秒間であることが好ましい。また、減圧乾燥
する際の圧力は、１～１．０×１０5Ｐａ程度であることが好ましい。
得られた組成物層に、通常、露光機を用いて露光する。露光機は、液浸露光機であって
もよい。露光光源としては、ＫｒＦエキシマレーザ（波長２４８ｎｍ）、ＡｒＦエキシマ
レーザ（波長１９３ｎｍ）、Ｆ2エキシマレーザ（波長１５７ｎｍ）のような紫外域のレ
ーザ光を放射するもの、固体レーザ光源（ＹＡＧ又は半導体レーザ等）からのレーザ光を
波長変換して遠紫外域または真空紫外域の高調波レーザ光を放射するもの、電子線や、超
紫外光（ＥＵＶ）を照射するもの等、種々のものを用いることができる。尚、本明細書に
おいて、これらの放射線を照射することを総称して「露光」という場合がある。露光の際
、通常、求められるパターンに相当するマスクを介して露光が行われる。露光光源が電子
線の場合は、マスクを用いずに直接描画により露光してもよい。
露光後の組成物層を、酸不安定基における脱保護反応を促進するために加熱処理（いわ
ゆるポストエキスポジャーベーク）を行う。加熱温度は、通常５０～２００℃程度、好ま
しくは７０～１５０℃程度である。
加熱後の組成物層を、通常、現像装置を用いて、現像液を利用して現像する。現像方法
としては、ディップ法、パドル法、スプレー法、ダイナミックディスペンス法等が挙げら
れる。現像温度は、例えば、５～６０℃であることが好ましく、現像時間は、例えば、５
～３００秒間であることが好ましい。現像液の種類を以下のとおりに選択することにより
、ポジ型レジストパターン又はネガ型レジストパターンを製造できる。
本発明のレジスト組成物からポジ型レジストパターンを製造する場合は、現像液として
アルカリ現像液を用いる。アルカリ現像液は、この分野で用いられる各種のアルカリ性水
溶液であればよい。例えば、テトラメチルアンモニウムヒドロキシドや（２－ヒドロキシ
エチル）トリメチルアンモニウムヒドロキシド（通称コリン）の水溶液等が挙げられる。
アルカリ現像液には、界面活性剤が含まれていてもよい。
現像後レジストパターンを超純水で洗浄し、次いで、基板及びパターン上に残った水を
除去することが好ましい。
本発明のレジスト組成物からネガ型レジストパターンを製造する場合は、現像液として
有機溶剤を含む現像液（以下「有機系現像液」という場合がある）を用いる。
有機系現像液に含まれる有機溶剤としては、２－ヘキサノン、２－ヘプタノン等のケト
ン溶剤；プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等のグリコールエーテルエ
ステル溶剤；酢酸ブチル等のエステル溶剤；プロピレングリコールモノメチルエーテル等
のグリコールエーテル溶剤；Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド等のアミド溶剤；アニソール
等の芳香族炭化水素溶剤等が挙げられる。
有機系現像液中、有機溶剤の含有率は、９０質量％以上１００質量％以下が好ましく、
９５質量％以上１００質量％以下がより好ましく、実質的に有機溶剤のみであることがさ
らに好ましい。
中でも、有機系現像液としては、酢酸ブチル及び／又は２－ヘプタノンを含む現像液が
好ましい。有機系現像液中、酢酸ブチル及び２－ヘプタノンの合計含有率は、５０質量％
以上１００質量％以下が好ましく、９０質量％以上１００質量％以下がより好ましく、実
質的に酢酸ブチル及び／又は２－ヘプタノンのみであることがさらに好ましい。
有機系現像液には、界面活性剤が含まれていてもよい。また、有機系現像液には、微量
の水分が含まれていてもよい。
現像の際、有機系現像液とは異なる種類の溶剤に置換することにより、現像を停止して
もよい。
現像後のレジストパターンをリンス液で洗浄することが好ましい。リンス液としては、
レジストパターンを溶解しないものであれば特に制限はなく、一般的な有機溶剤を含む溶
液を使用することができ、好ましくはアルコール溶剤又はエステル溶剤である。
洗浄後は、基板及びパターン上に残ったリンス液を除去することが好ましい。
本発明のレジストパターンの製造方法は、
（１）本発明のレジスト組成物を基板上に塗布する工程、
（２）塗布後の組成物を乾燥させて組成物層を形成する工程、
（３）組成物層に露光する工程、
（４）露光後の組成物層を加熱する工程、及び
（５）加熱後の組成物層を現像する工程を含む。
レジスト組成物を基板上に塗布するには、スピンコーター等、通常、用いられる装置に
よって行うことができる。基板としては、シリコンウェハ等の無機基板が挙げられる。レ
ジスト組成物を塗布する前に、基板を洗浄してもよく、基板上に反射防止膜等が形成され
ていてもよい。
塗布後の組成物を乾燥することにより、溶剤を除去し、組成物層を形成する。乾燥は、
例えば、ホットプレート等の加熱装置を用いて溶剤を蒸発させること（いわゆるプリベー
ク）により行うか、あるいは減圧装置を用いて行う。加熱温度は、５０～２００℃である
ことが好ましく、加熱時間は、１０～１８０秒間であることが好ましい。また、減圧乾燥
する際の圧力は、１～１．０×１０5Ｐａ程度であることが好ましい。
得られた組成物層に、通常、露光機を用いて露光する。露光機は、液浸露光機であって
もよい。露光光源としては、ＫｒＦエキシマレーザ（波長２４８ｎｍ）、ＡｒＦエキシマ
レーザ（波長１９３ｎｍ）、Ｆ2エキシマレーザ（波長１５７ｎｍ）のような紫外域のレ
ーザ光を放射するもの、固体レーザ光源（ＹＡＧ又は半導体レーザ等）からのレーザ光を
波長変換して遠紫外域または真空紫外域の高調波レーザ光を放射するもの、電子線や、超
紫外光（ＥＵＶ）を照射するもの等、種々のものを用いることができる。尚、本明細書に
おいて、これらの放射線を照射することを総称して「露光」という場合がある。露光の際
、通常、求められるパターンに相当するマスクを介して露光が行われる。露光光源が電子
線の場合は、マスクを用いずに直接描画により露光してもよい。
露光後の組成物層を、酸不安定基における脱保護反応を促進するために加熱処理（いわ
ゆるポストエキスポジャーベーク）を行う。加熱温度は、通常５０～２００℃程度、好ま
しくは７０～１５０℃程度である。
加熱後の組成物層を、通常、現像装置を用いて、現像液を利用して現像する。現像方法
としては、ディップ法、パドル法、スプレー法、ダイナミックディスペンス法等が挙げら
れる。現像温度は、例えば、５～６０℃であることが好ましく、現像時間は、例えば、５
～３００秒間であることが好ましい。現像液の種類を以下のとおりに選択することにより
、ポジ型レジストパターン又はネガ型レジストパターンを製造できる。
本発明のレジスト組成物からポジ型レジストパターンを製造する場合は、現像液として
アルカリ現像液を用いる。アルカリ現像液は、この分野で用いられる各種のアルカリ性水
溶液であればよい。例えば、テトラメチルアンモニウムヒドロキシドや（２－ヒドロキシ
エチル）トリメチルアンモニウムヒドロキシド（通称コリン）の水溶液等が挙げられる。
アルカリ現像液には、界面活性剤が含まれていてもよい。
現像後レジストパターンを超純水で洗浄し、次いで、基板及びパターン上に残った水を
除去することが好ましい。
本発明のレジスト組成物からネガ型レジストパターンを製造する場合は、現像液として
有機溶剤を含む現像液（以下「有機系現像液」という場合がある）を用いる。
有機系現像液に含まれる有機溶剤としては、２－ヘキサノン、２－ヘプタノン等のケト
ン溶剤；プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等のグリコールエーテルエ
ステル溶剤；酢酸ブチル等のエステル溶剤；プロピレングリコールモノメチルエーテル等
のグリコールエーテル溶剤；Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド等のアミド溶剤；アニソール
等の芳香族炭化水素溶剤等が挙げられる。
有機系現像液中、有機溶剤の含有率は、９０質量％以上１００質量％以下が好ましく、
９５質量％以上１００質量％以下がより好ましく、実質的に有機溶剤のみであることがさ
らに好ましい。
中でも、有機系現像液としては、酢酸ブチル及び／又は２－ヘプタノンを含む現像液が
好ましい。有機系現像液中、酢酸ブチル及び２－ヘプタノンの合計含有率は、５０質量％
以上１００質量％以下が好ましく、９０質量％以上１００質量％以下がより好ましく、実
質的に酢酸ブチル及び／又は２－ヘプタノンのみであることがさらに好ましい。
有機系現像液には、界面活性剤が含まれていてもよい。また、有機系現像液には、微量
の水分が含まれていてもよい。
現像の際、有機系現像液とは異なる種類の溶剤に置換することにより、現像を停止して
もよい。
現像後のレジストパターンをリンス液で洗浄することが好ましい。リンス液としては、
レジストパターンを溶解しないものであれば特に制限はなく、一般的な有機溶剤を含む溶
液を使用することができ、好ましくはアルコール溶剤又はエステル溶剤である。
洗浄後は、基板及びパターン上に残ったリンス液を除去することが好ましい。
〈用途〉
本発明のレジスト組成物は、ＫｒＦエキシマレーザ露光用のレジスト組成物、ＡｒＦエ
キシマレーザ露光用のレジスト組成物、電子線（ＥＢ）露光用のレジスト組成物又はＥＵ
Ｖ露光用のレジスト組成物、特に、ＡｒＦエキシマレーザ露光用のレジスト組成物、電子
線（ＥＢ）露光用のレジスト組成物又はＥＵＶ露光用のレジスト組成物として好適であり
、半導体の微細加工に有用である。
本発明のレジスト組成物は、ＫｒＦエキシマレーザ露光用のレジスト組成物、ＡｒＦエ
キシマレーザ露光用のレジスト組成物、電子線（ＥＢ）露光用のレジスト組成物又はＥＵ
Ｖ露光用のレジスト組成物、特に、ＡｒＦエキシマレーザ露光用のレジスト組成物、電子
線（ＥＢ）露光用のレジスト組成物又はＥＵＶ露光用のレジスト組成物として好適であり
、半導体の微細加工に有用である。
実施例を挙げて、本発明をさらに具体的に説明する。例中、含有量ないし使用量を表す
「％」及び「部」は、特記しないかぎり質量基準である。
重量平均分子量は、ゲルパーミュエーションクロマトグラフィーにより求めた値である
。なお、ゲルパーミュエーションクロマトグラフィーの分析条件は下記のとおりである。
カラム：TSKgel Multipore HXL-M x 3+guardcolumn（東ソー社製）
溶離液：テトラヒドロフラン
流量：1.0mL／min
検出器：RI検出器
カラム温度：40℃
注入量：100μl
分子量標準：標準ポリスチレン（東ソー社製）
化合物の構造は、質量分析（ＬＣはＡｇｉｌｅｎｔ製１１００型、ＭＡＳＳはＡｇｉｌ
ｅｎｔ製ＬＣ／ＭＳＤ型）を用い、分子イオンピークを測定することで確認した。以下の
実施例ではこの分子イオンピークの値を「ＭＡＳＳ」で示す。
「％」及び「部」は、特記しないかぎり質量基準である。
重量平均分子量は、ゲルパーミュエーションクロマトグラフィーにより求めた値である
。なお、ゲルパーミュエーションクロマトグラフィーの分析条件は下記のとおりである。
カラム：TSKgel Multipore HXL-M x 3+guardcolumn（東ソー社製）
溶離液：テトラヒドロフラン
流量：1.0mL／min
検出器：RI検出器
カラム温度：40℃
注入量：100μl
分子量標準：標準ポリスチレン（東ソー社製）
化合物の構造は、質量分析（ＬＣはＡｇｉｌｅｎｔ製１１００型、ＭＡＳＳはＡｇｉｌ
ｅｎｔ製ＬＣ／ＭＳＤ型）を用い、分子イオンピークを測定することで確認した。以下の
実施例ではこの分子イオンピークの値を「ＭＡＳＳ」で示す。
実施例１：式（Ｉ－１）で表される塩の合成
式（Ｉ－１－ａ）で表される塩４．８８部及びジメチルホルムアミド２５部を混合し、
２３℃で３０分間攪拌した。得られた混合溶液に、式（Ｉ－１－ｂ）で表される化合物３
．８８部を添加し、さらに、５０℃で２時間攪拌した。得られた混合溶液に、式（Ｉ－１
－ｃ）で表される化合物３．６２部を添加し、さらに、５０℃で３時間攪拌した後、２３
℃まで冷却することにより、式（Ｉ－１－ｄ）で表される塩を含む溶液を得た。
式（Ｉ－１－ｄ）で表される塩を含む溶液に、式（Ｉ－１－ｅ）で表される塩５．８８
部及びクロロホルム６０部を添加し、２３℃で２時間攪拌した後、分液して有機層を取り
出した。得られた有機層に、イオン交換水６０部を加えて２３℃で３０分間攪拌した後、
分液して有機層を取り出した。この水洗操作を５回繰り返した。得られた有機層をろ過し
た後、回収されたろ液を濃縮した。得られた濃縮残渣に、ｔｅｒｔ－ブチルメチルエーテ
ル４０部を加えて、２３℃で３０分間攪拌した後、上澄み液を除去し、濃縮することによ
り、式（Ｉ－１）で表される塩５．３６部を得た。
ＭＡＳＳ（ＥＳＩ（＋）Ｓｐｅｃｔｒｕｍ）：Ｍ＋ ２６３．１
ＭＡＳＳ（ＥＳＩ（－）Ｓｐｅｃｔｒｕｍ）：Ｍ－ ３４９．１
２３℃で３０分間攪拌した。得られた混合溶液に、式（Ｉ－１－ｂ）で表される化合物３
．８８部を添加し、さらに、５０℃で２時間攪拌した。得られた混合溶液に、式（Ｉ－１
－ｃ）で表される化合物３．６２部を添加し、さらに、５０℃で３時間攪拌した後、２３
℃まで冷却することにより、式（Ｉ－１－ｄ）で表される塩を含む溶液を得た。
部及びクロロホルム６０部を添加し、２３℃で２時間攪拌した後、分液して有機層を取り
出した。得られた有機層に、イオン交換水６０部を加えて２３℃で３０分間攪拌した後、
分液して有機層を取り出した。この水洗操作を５回繰り返した。得られた有機層をろ過し
た後、回収されたろ液を濃縮した。得られた濃縮残渣に、ｔｅｒｔ－ブチルメチルエーテ
ル４０部を加えて、２３℃で３０分間攪拌した後、上澄み液を除去し、濃縮することによ
り、式（Ｉ－１）で表される塩５．３６部を得た。
ＭＡＳＳ（ＥＳＩ（＋）Ｓｐｅｃｔｒｕｍ）：Ｍ＋ ２６３．１
ＭＡＳＳ（ＥＳＩ（－）Ｓｐｅｃｔｒｕｍ）：Ｍ－ ３４９．１
実施例２：式（Ｉ－１４１）で表される塩の合成
式（Ｉ－１－ａ）で表される塩４．８８部及びジメチルホルムアミド２５部を混合し、
２３℃で３０分間攪拌した。得られた混合溶液に、式（Ｉ－１－ｂ）で表される化合物３
．８８部を添加し、さらに、５０℃で２時間攪拌した。得られた混合溶液に、式（Ｉ－１
－ｃ）で表される化合物３．６２部を添加し、さらに、５０℃で３時間攪拌した後、２３
℃まで冷却することにより、式（Ｉ－１－ｄ）で表される塩を含む溶液を得た。
式（Ｉ－１－ｄ）で表される塩を含む溶液に、式（Ｉ－１４１－ｅ）で表される塩６．
８５部及びクロロホルム６０部を添加し、２３℃で２時間攪拌した。得られた混合物に、
５％シュウ酸水溶液６０部を加えて２３℃で３０分間攪拌した後、分液して有機層を取り
出した。得られた有機層に、イオン交換水６０部を加えて２３℃で３０分間攪拌した後、
分液して有機層を取り出した。この水洗操作を５回繰り返した。得られた有機層をろ過し
た後、回収されたろ液を濃縮した。得られた濃縮残渣に、ｔｅｒｔ－ブチルメチルエーテ
ル４０部を加えて、２３℃で３０分間攪拌した後、ろ過することにより、式（Ｉ－１４１
）で表される塩４．９９部を得た。
ＭＡＳＳ（ＥＳＩ（＋）Ｓｐｅｃｔｒｕｍ）：Ｍ＋ ２３７．１
ＭＡＳＳ（ＥＳＩ（－）Ｓｐｅｃｔｒｕｍ）：Ｍ－ ３４９．１
２３℃で３０分間攪拌した。得られた混合溶液に、式（Ｉ－１－ｂ）で表される化合物３
．８８部を添加し、さらに、５０℃で２時間攪拌した。得られた混合溶液に、式（Ｉ－１
－ｃ）で表される化合物３．６２部を添加し、さらに、５０℃で３時間攪拌した後、２３
℃まで冷却することにより、式（Ｉ－１－ｄ）で表される塩を含む溶液を得た。
８５部及びクロロホルム６０部を添加し、２３℃で２時間攪拌した。得られた混合物に、
５％シュウ酸水溶液６０部を加えて２３℃で３０分間攪拌した後、分液して有機層を取り
出した。得られた有機層に、イオン交換水６０部を加えて２３℃で３０分間攪拌した後、
分液して有機層を取り出した。この水洗操作を５回繰り返した。得られた有機層をろ過し
た後、回収されたろ液を濃縮した。得られた濃縮残渣に、ｔｅｒｔ－ブチルメチルエーテ
ル４０部を加えて、２３℃で３０分間攪拌した後、ろ過することにより、式（Ｉ－１４１
）で表される塩４．９９部を得た。
ＭＡＳＳ（ＥＳＩ（＋）Ｓｐｅｃｔｒｕｍ）：Ｍ＋ ２３７．１
ＭＡＳＳ（ＥＳＩ（－）Ｓｐｅｃｔｒｕｍ）：Ｍ－ ３４９．１
実施例３：式（Ｉ－２）で表される塩の合成
式（Ｉ－１－ａ）で表される塩４．８８部及びジメチルホルムアミド２５部を混合し、
２３℃で３０分間攪拌した。得られた混合溶液に、式（Ｉ－１－ｂ）で表される化合物３
．８８部を添加し、さらに、５０℃で２時間攪拌した。得られた混合溶液に、式（Ｉ－２
－ｃ）で表される化合物３．６２部を添加し、さらに、５０℃で３時間攪拌した後、２３
℃まで冷却することにより、式（Ｉ－２－ｄ）で表される塩を含む溶液を得た。
式（Ｉ－２－ｄ）で表される塩を含む溶液に、式（Ｉ－１－ｅ）で表される塩５．８８
部及びクロロホルム６０部を添加し、２３℃で２時間攪拌した後、分液して有機層を取り
出した。得られた有機層に、イオン交換水６０部を加えて２３℃で３０分間攪拌した後、
分液して有機層を取り出した。この水洗操作を５回繰り返した。得られた有機層をろ過し
た後、回収されたろ液を濃縮した。得られた濃縮残渣に、ｔｅｒｔ－ブチルメチルエーテ
ル４０部を加えて、２３℃で３０分間攪拌した後、上澄み液を除去し、濃縮することによ
り、式（Ｉ－２）で表される塩４．１２部を得た。
ＭＡＳＳ（ＥＳＩ（＋）Ｓｐｅｃｔｒｕｍ）：Ｍ＋ ２６３．１
ＭＡＳＳ（ＥＳＩ（－）Ｓｐｅｃｔｒｕｍ）：Ｍ－ ３４９．１
２３℃で３０分間攪拌した。得られた混合溶液に、式（Ｉ－１－ｂ）で表される化合物３
．８８部を添加し、さらに、５０℃で２時間攪拌した。得られた混合溶液に、式（Ｉ－２
－ｃ）で表される化合物３．６２部を添加し、さらに、５０℃で３時間攪拌した後、２３
℃まで冷却することにより、式（Ｉ－２－ｄ）で表される塩を含む溶液を得た。
部及びクロロホルム６０部を添加し、２３℃で２時間攪拌した後、分液して有機層を取り
出した。得られた有機層に、イオン交換水６０部を加えて２３℃で３０分間攪拌した後、
分液して有機層を取り出した。この水洗操作を５回繰り返した。得られた有機層をろ過し
た後、回収されたろ液を濃縮した。得られた濃縮残渣に、ｔｅｒｔ－ブチルメチルエーテ
ル４０部を加えて、２３℃で３０分間攪拌した後、上澄み液を除去し、濃縮することによ
り、式（Ｉ－２）で表される塩４．１２部を得た。
ＭＡＳＳ（ＥＳＩ（＋）Ｓｐｅｃｔｒｕｍ）：Ｍ＋ ２６３．１
ＭＡＳＳ（ＥＳＩ（－）Ｓｐｅｃｔｒｕｍ）：Ｍ－ ３４９．１
実施例４：式（Ｉ－１６）で表される塩の合成
式（Ｉ－１６－ａ）で表される塩５．２７部及びジメチルホルムアミド２５部を混合し
、２３℃で３０分間攪拌した。得られた混合溶液に、式（Ｉ－１－ｂ）で表される化合物
３．８８部を添加し、さらに、５０℃で２時間攪拌した。得られた混合溶液に、式（Ｉ－
２－ｃ）で表される化合物３．６２部を添加し、さらに、５０℃で３時間攪拌した後、２
３℃まで冷却することにより、式（Ｉ－１６－ｄ）で表される塩を含む溶液を得た。
式（Ｉ－１６－ｄ）で表される塩を含む溶液に、式（Ｉ－１－ｅ）で表される塩５．８
８部及びクロロホルム６０部を添加し、２３℃で２時間攪拌した後、分液して有機層を取
り出した。得られた有機層に、イオン交換水６０部を加えて２３℃で３０分間攪拌した後
、分液して有機層を取り出した。この水洗操作を５回繰り返した。得られた有機層をろ過
した後、回収されたろ液を濃縮した。得られた濃縮残渣に、ｔｅｒｔ－ブチルメチルエー
テル４０部を加えて、２３℃で３０分間攪拌した後、上澄み液を除去し、濃縮することに
より、式（Ｉ－１６）で表される塩３．９８部を得た。
ＭＡＳＳ（ＥＳＩ（＋）Ｓｐｅｃｔｒｕｍ）：Ｍ＋ ２６３．１
ＭＡＳＳ（ＥＳＩ（－）Ｓｐｅｃｔｒｕｍ）：Ｍ－ ３６７．１
、２３℃で３０分間攪拌した。得られた混合溶液に、式（Ｉ－１－ｂ）で表される化合物
３．８８部を添加し、さらに、５０℃で２時間攪拌した。得られた混合溶液に、式（Ｉ－
２－ｃ）で表される化合物３．６２部を添加し、さらに、５０℃で３時間攪拌した後、２
３℃まで冷却することにより、式（Ｉ－１６－ｄ）で表される塩を含む溶液を得た。
８部及びクロロホルム６０部を添加し、２３℃で２時間攪拌した後、分液して有機層を取
り出した。得られた有機層に、イオン交換水６０部を加えて２３℃で３０分間攪拌した後
、分液して有機層を取り出した。この水洗操作を５回繰り返した。得られた有機層をろ過
した後、回収されたろ液を濃縮した。得られた濃縮残渣に、ｔｅｒｔ－ブチルメチルエー
テル４０部を加えて、２３℃で３０分間攪拌した後、上澄み液を除去し、濃縮することに
より、式（Ｉ－１６）で表される塩３．９８部を得た。
ＭＡＳＳ（ＥＳＩ（＋）Ｓｐｅｃｔｒｕｍ）：Ｍ＋ ２６３．１
ＭＡＳＳ（ＥＳＩ（－）Ｓｐｅｃｔｒｕｍ）：Ｍ－ ３６７．１
実施例５：式（Ｉ－３）で表される塩の合成
式（Ｉ－１－ａ）で表される塩４．８８部及びジメチルホルムアミド２５部を混合し、
２３℃で３０分間攪拌した。得られた混合溶液に、式（Ｉ－１－ｂ）で表される化合物３
．８８部を添加し、さらに、５０℃で２時間攪拌した。得られた混合溶液に、式（Ｉ－３
－ｃ）で表される化合物３．９３部を添加し、さらに、５０℃で３時間攪拌した後、２３
℃まで冷却することにより、式（Ｉ－３－ｄ）で表される塩を含む溶液を得た。
式（Ｉ－３－ｄ）で表される塩を含む溶液に、式（Ｉ－１－ｅ）で表される塩５．８８
部及びクロロホルム６０部を添加し、２３℃で２時間攪拌した後、分液して有機層を取り
出した。得られた有機層に、イオン交換水６０部を加えて２３℃で３０分間攪拌した後、
分液して有機層を取り出した。この水洗操作を５回繰り返した。得られた有機層をろ過し
た後、回収されたろ液を濃縮した。得られた濃縮残渣に、ｔｅｒｔ－ブチルメチルエーテ
ル４０部を加えて、２３℃で３０分間攪拌した後、上澄み液を除去し、濃縮することによ
り、式（Ｉ－３）で表される塩３．９８部を得た。
ＭＡＳＳ（ＥＳＩ（＋）Ｓｐｅｃｔｒｕｍ）：Ｍ＋ ２６３．１
ＭＡＳＳ（ＥＳＩ（－）Ｓｐｅｃｔｒｕｍ）：Ｍ－ ３６３．１
２３℃で３０分間攪拌した。得られた混合溶液に、式（Ｉ－１－ｂ）で表される化合物３
．８８部を添加し、さらに、５０℃で２時間攪拌した。得られた混合溶液に、式（Ｉ－３
－ｃ）で表される化合物３．９３部を添加し、さらに、５０℃で３時間攪拌した後、２３
℃まで冷却することにより、式（Ｉ－３－ｄ）で表される塩を含む溶液を得た。
部及びクロロホルム６０部を添加し、２３℃で２時間攪拌した後、分液して有機層を取り
出した。得られた有機層に、イオン交換水６０部を加えて２３℃で３０分間攪拌した後、
分液して有機層を取り出した。この水洗操作を５回繰り返した。得られた有機層をろ過し
た後、回収されたろ液を濃縮した。得られた濃縮残渣に、ｔｅｒｔ－ブチルメチルエーテ
ル４０部を加えて、２３℃で３０分間攪拌した後、上澄み液を除去し、濃縮することによ
り、式（Ｉ－３）で表される塩３．９８部を得た。
ＭＡＳＳ（ＥＳＩ（＋）Ｓｐｅｃｔｒｕｍ）：Ｍ＋ ２６３．１
ＭＡＳＳ（ＥＳＩ（－）Ｓｐｅｃｔｒｕｍ）：Ｍ－ ３６３．１
実施例６：式（Ｉ－２０１）で表される塩の合成
式（Ｉ－１６－ａ）で表される塩５．２７部及びジメチルホルムアミド２５部を混合し
、２３℃で３０分間攪拌した。得られた混合溶液に、式（Ｉ－１－ｂ）で表される化合物
３．８８部を添加し、さらに、５０℃で２時間攪拌した。得られた混合溶液に、式（Ｉ－
３－ｃ）で表される化合物３．９３部を添加し、さらに、５０℃で３時間攪拌した後、２
３℃まで冷却することにより、式（Ｉ－２０１－ｄ）で表される塩を含む溶液を得た。
式（Ｉ－２０１－ｄ）で表される塩を含む溶液に、式（Ｉ－１－ｅ）で表される塩５．
８８部及びクロロホルム６０部を添加し、２３℃で２時間攪拌した後、分液して有機層を
取り出した。得られた有機層に、イオン交換水６０部を加えて２３℃で３０分間攪拌した
後、分液して有機層を取り出した。この水洗操作を５回繰り返した。得られた有機層をろ
過した後、回収されたろ液を濃縮した。得られた濃縮残渣に、ｔｅｒｔ－ブチルメチルエ
ーテル４０部を加えて、２３℃で３０分間攪拌した後、上澄み液を除去し、濃縮すること
により、式（Ｉ－２０１）で表される塩３．１１部を得た。
ＭＡＳＳ（ＥＳＩ（＋）Ｓｐｅｃｔｒｕｍ）：Ｍ＋ ２６３．１
ＭＡＳＳ（ＥＳＩ（－）Ｓｐｅｃｔｒｕｍ）：Ｍ－ ３８１．１
、２３℃で３０分間攪拌した。得られた混合溶液に、式（Ｉ－１－ｂ）で表される化合物
３．８８部を添加し、さらに、５０℃で２時間攪拌した。得られた混合溶液に、式（Ｉ－
３－ｃ）で表される化合物３．９３部を添加し、さらに、５０℃で３時間攪拌した後、２
３℃まで冷却することにより、式（Ｉ－２０１－ｄ）で表される塩を含む溶液を得た。
８８部及びクロロホルム６０部を添加し、２３℃で２時間攪拌した後、分液して有機層を
取り出した。得られた有機層に、イオン交換水６０部を加えて２３℃で３０分間攪拌した
後、分液して有機層を取り出した。この水洗操作を５回繰り返した。得られた有機層をろ
過した後、回収されたろ液を濃縮した。得られた濃縮残渣に、ｔｅｒｔ－ブチルメチルエ
ーテル４０部を加えて、２３℃で３０分間攪拌した後、上澄み液を除去し、濃縮すること
により、式（Ｉ－２０１）で表される塩３．１１部を得た。
ＭＡＳＳ（ＥＳＩ（＋）Ｓｐｅｃｔｒｕｍ）：Ｍ＋ ２６３．１
ＭＡＳＳ（ＥＳＩ（－）Ｓｐｅｃｔｒｕｍ）：Ｍ－ ３８１．１
実施例７：式（Ｉ－２３１）で表される塩の合成
式（Ｉ－１６－ａ）で表される塩５．２７部及びジメチルホルムアミド２５部を混合し
、２３℃で３０分間攪拌した。得られた混合溶液に、式（Ｉ－１－ｂ）で表される化合物
３．８８部を添加し、さらに、５０℃で２時間攪拌した。得られた混合溶液に、式（Ｉ－
２３１－ｃ）で表される化合物２．４９部を添加し、さらに、５０℃で３時間攪拌した後
、２３℃まで冷却することにより、式（Ｉ－２３１－ｄ）で表される塩を含む溶液を得た
。
式（Ｉ－２３１－ｄ）で表される塩を含む溶液に、式（Ｉ－１－ｅ）で表される塩５．
８８部及びクロロホルム６０部を添加し、２３℃で２時間攪拌した後、分液して有機層を
取り出した。得られた有機層に、イオン交換水６０部を加えて２３℃で３０分間攪拌した
後、分液して有機層を取り出した。この水洗操作を５回繰り返した。得られた有機層をろ
過した後、回収されたろ液を濃縮した。得られた濃縮残渣に、ｔｅｒｔ－ブチルメチルエ
ーテル４０部を加えて、２３℃で３０分間攪拌した後、上澄み液を除去し、濃縮すること
により、式（Ｉ－２３１）で表される塩７．８９部を得た。
ＭＡＳＳ（ＥＳＩ（＋）Ｓｐｅｃｔｒｕｍ）：Ｍ＋ ２６３．１
ＭＡＳＳ（ＥＳＩ（－）Ｓｐｅｃｔｒｕｍ）：Ｍ－ ３１５．１
、２３℃で３０分間攪拌した。得られた混合溶液に、式（Ｉ－１－ｂ）で表される化合物
３．８８部を添加し、さらに、５０℃で２時間攪拌した。得られた混合溶液に、式（Ｉ－
２３１－ｃ）で表される化合物２．４９部を添加し、さらに、５０℃で３時間攪拌した後
、２３℃まで冷却することにより、式（Ｉ－２３１－ｄ）で表される塩を含む溶液を得た
。
８８部及びクロロホルム６０部を添加し、２３℃で２時間攪拌した後、分液して有機層を
取り出した。得られた有機層に、イオン交換水６０部を加えて２３℃で３０分間攪拌した
後、分液して有機層を取り出した。この水洗操作を５回繰り返した。得られた有機層をろ
過した後、回収されたろ液を濃縮した。得られた濃縮残渣に、ｔｅｒｔ－ブチルメチルエ
ーテル４０部を加えて、２３℃で３０分間攪拌した後、上澄み液を除去し、濃縮すること
により、式（Ｉ－２３１）で表される塩７．８９部を得た。
ＭＡＳＳ（ＥＳＩ（＋）Ｓｐｅｃｔｒｕｍ）：Ｍ＋ ２６３．１
ＭＡＳＳ（ＥＳＩ（－）Ｓｐｅｃｔｒｕｍ）：Ｍ－ ３１５．１
実施例８：式（Ｉ－２３２）で表される塩の合成
式（Ｉ－１６－ａ）で表される塩５．２７部及びジメチルホルムアミド２５部を混合し
、２３℃で３０分間攪拌した。得られた混合溶液に、式（Ｉ－１－ｂ）で表される化合物
３．８８部を添加し、さらに、５０℃で２時間攪拌した。得られた混合溶液に、式（Ｉ－
２３２－ｃ）で表される化合物２．８０部を添加し、さらに、５０℃で３時間攪拌した後
、２３℃まで冷却することにより、式（Ｉ－２３２－ｄ）で表される塩を含む溶液を得た
。
式（Ｉ－２３２－ｄ）で表される塩を含む溶液に、式（Ｉ－１－ｅ）で表される塩５．
８８部及びクロロホルム６０部を添加し、２３℃で２時間攪拌した後、分液して有機層を
取り出した。得られた有機層に、イオン交換水６０部を加えて２３℃で３０分間攪拌した
後、分液して有機層を取り出した。この水洗操作を５回繰り返した。得られた有機層をろ
過した後、回収されたろ液を濃縮した。得られた濃縮残渣に、ｔｅｒｔ－ブチルメチルエ
ーテル４０部を加えて、２３℃で３０分間攪拌した後、上澄み液を除去し、濃縮すること
により、式（Ｉ－２３２）で表される塩７．１６部を得た。
ＭＡＳＳ（ＥＳＩ（＋）Ｓｐｅｃｔｒｕｍ）：Ｍ＋ ２６３．１
ＭＡＳＳ（ＥＳＩ（－）Ｓｐｅｃｔｒｕｍ）：Ｍ－ ３２９．１
、２３℃で３０分間攪拌した。得られた混合溶液に、式（Ｉ－１－ｂ）で表される化合物
３．８８部を添加し、さらに、５０℃で２時間攪拌した。得られた混合溶液に、式（Ｉ－
２３２－ｃ）で表される化合物２．８０部を添加し、さらに、５０℃で３時間攪拌した後
、２３℃まで冷却することにより、式（Ｉ－２３２－ｄ）で表される塩を含む溶液を得た
。
８８部及びクロロホルム６０部を添加し、２３℃で２時間攪拌した後、分液して有機層を
取り出した。得られた有機層に、イオン交換水６０部を加えて２３℃で３０分間攪拌した
後、分液して有機層を取り出した。この水洗操作を５回繰り返した。得られた有機層をろ
過した後、回収されたろ液を濃縮した。得られた濃縮残渣に、ｔｅｒｔ－ブチルメチルエ
ーテル４０部を加えて、２３℃で３０分間攪拌した後、上澄み液を除去し、濃縮すること
により、式（Ｉ－２３２）で表される塩７．１６部を得た。
ＭＡＳＳ（ＥＳＩ（＋）Ｓｐｅｃｔｒｕｍ）：Ｍ＋ ２６３．１
ＭＡＳＳ（ＥＳＩ（－）Ｓｐｅｃｔｒｕｍ）：Ｍ－ ３２９．１
実施例９：式（Ｉ－２４６）で表される塩の合成
式（Ｉ－１６－ａ）で表される塩５．２７部及びジメチルホルムアミド２５部を混合し
、２３℃で３０分間攪拌した。得られた混合溶液に、式（Ｉ－１－ｂ）で表される化合物
３．８８部を添加し、さらに、５０℃で２時間攪拌した。得られた混合溶液に、式（Ｉ－
２３１－ｃ）で表される化合物２．４９部を添加し、さらに、５０℃で３時間攪拌した後
、２３℃まで冷却することにより、式（Ｉ－２３１－ｄ）で表される塩を含む溶液を得た
。
式（Ｉ－２３１－ｄ）で表される塩を含む溶液に、式（Ｉ－２４６－ｅ）で表される塩
６．２３部及びクロロホルム６０部を添加し、２３℃で２時間攪拌した後、分液して有機
層を取り出した。得られた有機層に、イオン交換水６０部を加えて２３℃で３０分間攪拌
した後、分液して有機層を取り出した。この水洗操作を５回繰り返した。得られた有機層
をろ過した後、回収されたろ液を濃縮した。得られた濃縮残渣に、ｔｅｒｔ－ブチルメチ
ルエーテル４０部を加えて、２３℃で３０分間攪拌した後、上澄み液を除去し、濃縮する
ことにより、式（Ｉ－２４６）で表される塩７．９９部を得た。
ＭＡＳＳ（ＥＳＩ（＋）Ｓｐｅｃｔｒｕｍ）：Ｍ＋ ２８１．１
ＭＡＳＳ（ＥＳＩ（－）Ｓｐｅｃｔｒｕｍ）：Ｍ－ ３１５．１
、２３℃で３０分間攪拌した。得られた混合溶液に、式（Ｉ－１－ｂ）で表される化合物
３．８８部を添加し、さらに、５０℃で２時間攪拌した。得られた混合溶液に、式（Ｉ－
２３１－ｃ）で表される化合物２．４９部を添加し、さらに、５０℃で３時間攪拌した後
、２３℃まで冷却することにより、式（Ｉ－２３１－ｄ）で表される塩を含む溶液を得た
。
６．２３部及びクロロホルム６０部を添加し、２３℃で２時間攪拌した後、分液して有機
層を取り出した。得られた有機層に、イオン交換水６０部を加えて２３℃で３０分間攪拌
した後、分液して有機層を取り出した。この水洗操作を５回繰り返した。得られた有機層
をろ過した後、回収されたろ液を濃縮した。得られた濃縮残渣に、ｔｅｒｔ－ブチルメチ
ルエーテル４０部を加えて、２３℃で３０分間攪拌した後、上澄み液を除去し、濃縮する
ことにより、式（Ｉ－２４６）で表される塩７．９９部を得た。
ＭＡＳＳ（ＥＳＩ（＋）Ｓｐｅｃｔｒｕｍ）：Ｍ＋ ２８１．１
ＭＡＳＳ（ＥＳＩ（－）Ｓｐｅｃｔｒｕｍ）：Ｍ－ ３１５．１
実施例１０：式（Ｉ－２４９）で表される塩の合成
式（Ｉ－１６－ａ）で表される塩５．２７部及びジメチルホルムアミド２５部を混合し
、２３℃で３０分間攪拌した。得られた混合溶液に、式（Ｉ－１－ｂ）で表される化合物
３．８８部を添加し、さらに、５０℃で２時間攪拌した。得られた混合溶液に、式（Ｉ－
２３１－ｃ）で表される化合物２．４９部を添加し、さらに、５０℃で３時間攪拌した後
、２３℃まで冷却することにより、式（Ｉ－２３１－ｄ）で表される塩を含む溶液を得た
。
式（Ｉ－２３１－ｄ）で表される塩を含む溶液に、式（Ｉ－２４９－ｅ）で表される塩
６．９４部及びクロロホルム６０部を添加し、２３℃で２時間攪拌した後、分液して有機
層を取り出した。得られた有機層に、イオン交換水６０部を加えて２３℃で３０分間攪拌
した後、分液して有機層を取り出した。この水洗操作を５回繰り返した。得られた有機層
をろ過した後、回収されたろ液を濃縮した。得られた濃縮残渣に、ｔｅｒｔ－ブチルメチ
ルエーテル４０部を加えて、２３℃で３０分間攪拌した後、上澄み液を除去し、濃縮する
ことにより、式（Ｉ－２４９）で表される塩６．１２部を得た。
ＭＡＳＳ（ＥＳＩ（＋）Ｓｐｅｃｔｒｕｍ）：Ｍ＋ ３１７．１
ＭＡＳＳ（ＥＳＩ（－）Ｓｐｅｃｔｒｕｍ）：Ｍ－ ３１５．１
、２３℃で３０分間攪拌した。得られた混合溶液に、式（Ｉ－１－ｂ）で表される化合物
３．８８部を添加し、さらに、５０℃で２時間攪拌した。得られた混合溶液に、式（Ｉ－
２３１－ｃ）で表される化合物２．４９部を添加し、さらに、５０℃で３時間攪拌した後
、２３℃まで冷却することにより、式（Ｉ－２３１－ｄ）で表される塩を含む溶液を得た
。
６．９４部及びクロロホルム６０部を添加し、２３℃で２時間攪拌した後、分液して有機
層を取り出した。得られた有機層に、イオン交換水６０部を加えて２３℃で３０分間攪拌
した後、分液して有機層を取り出した。この水洗操作を５回繰り返した。得られた有機層
をろ過した後、回収されたろ液を濃縮した。得られた濃縮残渣に、ｔｅｒｔ－ブチルメチ
ルエーテル４０部を加えて、２３℃で３０分間攪拌した後、上澄み液を除去し、濃縮する
ことにより、式（Ｉ－２４９）で表される塩６．１２部を得た。
ＭＡＳＳ（ＥＳＩ（＋）Ｓｐｅｃｔｒｕｍ）：Ｍ＋ ３１７．１
ＭＡＳＳ（ＥＳＩ（－）Ｓｐｅｃｔｒｕｍ）：Ｍ－ ３１５．１
樹脂の合成
樹脂（Ａ）の合成に使用した化合物（モノマー）を下記に示す。以下、これらの化合物
をその式番号に応じて、「モノマー（ａ１－１－３）」等という。
樹脂（Ａ）の合成に使用した化合物（モノマー）を下記に示す。以下、これらの化合物
をその式番号に応じて、「モノマー（ａ１－１－３）」等という。
合成例１〔樹脂Ａ１の合成〕
モノマーとして、モノマー（ａ１－４－２）、モノマー（ａ１－１－３）及びモノマー
（ａ１－２－６）を用い、そのモル比〔モノマー（ａ１－４－２）：モノマー（ａ１－１
－３）：モノマー（ａ１－２－６）〕が、３８：２４：３８の割合となるように混合し、
さらに、このモノマー混合物に、全モノマーの合計質量に対して、１．５質量倍のメチル
イソブチルケトンを混合した。得られた混合物に、開始剤としてアゾビスイソチロニトリ
ルを全モノマーの合計モル数に対して、７ｍｏｌ％となるように添加し、これを８５℃で
約５時間加熱することで重合を行った。その後、重合反応液に、ｐ－トルエンスルホン酸
水溶液を加え、６時間攪拌した後、分液した。回収された有機層を、大量のｎ－ヘプタン
に注ぎ樹脂を析出させ、ろ過・回収することにより、重量平均分子量が約５．３×１０３
である樹脂Ａ１（共重合体）を収率７８％で得た。この樹脂Ａ１は、以下の構造単位を有
するものである。
モノマーとして、モノマー（ａ１－４－２）、モノマー（ａ１－１－３）及びモノマー
（ａ１－２－６）を用い、そのモル比〔モノマー（ａ１－４－２）：モノマー（ａ１－１
－３）：モノマー（ａ１－２－６）〕が、３８：２４：３８の割合となるように混合し、
さらに、このモノマー混合物に、全モノマーの合計質量に対して、１．５質量倍のメチル
イソブチルケトンを混合した。得られた混合物に、開始剤としてアゾビスイソチロニトリ
ルを全モノマーの合計モル数に対して、７ｍｏｌ％となるように添加し、これを８５℃で
約５時間加熱することで重合を行った。その後、重合反応液に、ｐ－トルエンスルホン酸
水溶液を加え、６時間攪拌した後、分液した。回収された有機層を、大量のｎ－ヘプタン
に注ぎ樹脂を析出させ、ろ過・回収することにより、重量平均分子量が約５．３×１０３
である樹脂Ａ１（共重合体）を収率７８％で得た。この樹脂Ａ１は、以下の構造単位を有
するものである。
＜レジスト組成物の調製＞
表２に示すように、以下の各成分を混合し、得られた混合を孔径０．２μｍのフッ素樹
脂製フィルターで濾過することにより、レジスト組成物を調製した。
表２に示すように、以下の各成分を混合し、得られた混合を孔径０．２μｍのフッ素樹
脂製フィルターで濾過することにより、レジスト組成物を調製した。
＜樹脂＞
Ａ１：樹脂Ａ１
＜塩（Ｉ）＞
Ｉ－１：式（Ｉ－１）で表される塩
Ｉ－２：式（Ｉ－２）で表される塩
Ｉ－３：式（Ｉ－３）で表される塩
Ｉ－１６：式（Ｉ－１６）で表される塩
Ｉ－１４１：式（Ｉ－１４１）で表される塩
Ｉ－２０１：式（Ｉ－２０１）で表される塩
Ｉ－２３１：式（Ｉ－２３１）で表される塩
Ｉ－２３２：式（Ｉ－２３２）で表される塩
Ｉ－２４６：式（Ｉ－２４６）で表される塩
Ｉ－２４９：式（Ｉ－２４９）で表される塩
＜酸発生剤＞
ＩＸ－１：式（ＩＸ－１）で表される塩（特開２００４－２０３８５８号公報の実施例
に従って合成）
ＩＸ－２：式（ＩＸ－２）で表される塩（特開２００５－０９７２５４号公報の実施例
に従って合成）
ＩＸ－３：式（ＩＸ－３）で表される塩（特開２００５－０９７２５４号公報の実施例
に従って合成）
ＩＸ－４：式（ＩＸ－４）で表される塩（特開平０９－２４４２３４号公報の実施例を
参考に合成）
＜クエンチャー（Ｃ）＞
Ｃ１：特開２０１１－３９５０２号公報記載の方法で合成
＜溶剤（Ｅ）＞
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート ４００部
プロピレングリコールモノメチルエーテル １００部
γ－ブチロラクトン ５部
Ａ１：樹脂Ａ１
＜塩（Ｉ）＞
Ｉ－１：式（Ｉ－１）で表される塩
Ｉ－２：式（Ｉ－２）で表される塩
Ｉ－３：式（Ｉ－３）で表される塩
Ｉ－１６：式（Ｉ－１６）で表される塩
Ｉ－１４１：式（Ｉ－１４１）で表される塩
Ｉ－２０１：式（Ｉ－２０１）で表される塩
Ｉ－２３１：式（Ｉ－２３１）で表される塩
Ｉ－２３２：式（Ｉ－２３２）で表される塩
Ｉ－２４６：式（Ｉ－２４６）で表される塩
Ｉ－２４９：式（Ｉ－２４９）で表される塩
＜酸発生剤＞
ＩＸ－１：式（ＩＸ－１）で表される塩（特開２００４－２０３８５８号公報の実施例
に従って合成）
に従って合成）
に従って合成）
参考に合成）
Ｃ１：特開２０１１－３９５０２号公報記載の方法で合成
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート ４００部
プロピレングリコールモノメチルエーテル １００部
γ－ブチロラクトン ５部
（レジスト組成物の電子線露光評価）
６インチのシリコンウェハを、ダイレクトホットプレート上で、ヘキサメチルジシラザ
ンを用いて９０℃で６０秒処理した。このシリコンウェハに、レジスト組成物を、組成物
層の膜厚が０．０４μｍとなるようにスピンコートした。その後、ダイレクトホットプレ
ート上で、表２の「PB」欄に示す温度で６０秒間プリベークして組成物層を形成した。ウ
ェハ上に形成された組成物層に、電子線描画機〔（株）エリオニクス製の「ＥＬＳ－Ｆ１
２５ １２５ｋｅＶ」〕を用い、露光量を段階的に変化させてラインアンドスペースパタ
ーン（ピッチ６０ｎｍ／ライン幅３０ｎｍ）を直接描画した。
露光後、ホットプレート上にて表２の「PEB」欄に示す温度で６０秒間ポストエキスポ
ジャーベークを行い、さらに２．３８質量％テトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶
液で６０秒間のパドル現像を行うことにより、レジストパターンを得た。
得られたレジストパターン（ラインアンドスペースパターン）を走査型電子顕微鏡で観
察し、ピッチ６０ｎｍのラインアンドスペースパターンのライン幅とスペース幅とが１：
１となる露光量を実効感度とした。
６インチのシリコンウェハを、ダイレクトホットプレート上で、ヘキサメチルジシラザ
ンを用いて９０℃で６０秒処理した。このシリコンウェハに、レジスト組成物を、組成物
層の膜厚が０．０４μｍとなるようにスピンコートした。その後、ダイレクトホットプレ
ート上で、表２の「PB」欄に示す温度で６０秒間プリベークして組成物層を形成した。ウ
ェハ上に形成された組成物層に、電子線描画機〔（株）エリオニクス製の「ＥＬＳ－Ｆ１
２５ １２５ｋｅＶ」〕を用い、露光量を段階的に変化させてラインアンドスペースパタ
ーン（ピッチ６０ｎｍ／ライン幅３０ｎｍ）を直接描画した。
露光後、ホットプレート上にて表２の「PEB」欄に示す温度で６０秒間ポストエキスポ
ジャーベークを行い、さらに２．３８質量％テトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶
液で６０秒間のパドル現像を行うことにより、レジストパターンを得た。
得られたレジストパターン（ラインアンドスペースパターン）を走査型電子顕微鏡で観
察し、ピッチ６０ｎｍのラインアンドスペースパターンのライン幅とスペース幅とが１：
１となる露光量を実効感度とした。
ラインエッジラフネス評価（ＬＥＲ）：実効感度で製造されたレジストパターンの側壁
面の凹凸の振れ幅を走査型電子顕微鏡で測定し、ラインエッジラフネスを求めた。その結
果を表３に示す。
面の凹凸の振れ幅を走査型電子顕微鏡で測定し、ラインエッジラフネスを求めた。その結
果を表３に示す。
比較組成物１～４と比較して、組成物１～１０でのレジストパターンの側壁面の凹凸の
振れ幅が小さく、ラインエッジラフネス評価が良好であった。
本発明の塩及び該塩を含むレジスト組成物は、ラインエッジラフネスが良好であり、半
導体の微細加工に有用である。
導体の微細加工に有用である。
Claims (4)
- 式（Ｉ）で表される塩を含有する酸発生剤と、酸不安定基を有する構造単位及び式（ａ２－Ａ）で表される構造単位を含む樹脂とを含有するレジスト組成物。
［式（Ｉ）中、
Ｒ1は、置換基を有してもよい炭素数３～１８の脂環式炭化水素基（該脂環式炭化水素基に含まれる－ＣＨ２－は、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＳＯ２－又は－ＣＯ－に置き換わっていてもよい。）、
置換基を有してもよい炭素数６～１８の芳香族炭化水素基、
置換基を有してもよい炭素数３～１８の脂環式炭化水素基と炭素数１～６の鎖式炭化水素基とを組み合わせた基（該脂環式炭化水素基に含まれる－ＣＨ２－は、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＳＯ２－又は－ＣＯ－に置き換わっていてもよく、該鎖式炭化水素基に含まれる－ＣＨ２－は、－Ｏ－又は－ＣＯ－に置き換わっていてもよい。）、又は、
置換基を有してもよい炭素数６～１８の芳香族炭化水素基と炭素数１～６の鎖式炭化水素基とを組み合わせた基（該鎖式炭化水素基に含まれる－ＣＨ2－は、－Ｏ－又は－ＣＯ－に置き換わっていてもよい。）を表す。
Ｒ２は、ハロゲン原子又は炭素数１～６のアルキル基を表す。
ｍ２は、０～４のいずれかの整数を表し、ｍ２が２以上のとき、複数のＲ２は互いに同一であっても異なってもよい。
Ｚ+は式（ｂ２－１）、式（ｂ２－２）、式（ｂ２－３）又は式（ｂ２－４）で表されるカチオンを表す。］
［式（ｂ２－１）～式（ｂ２－４）中、
Ｒb4～Ｒb6は、それぞれ独立に、炭素数１～３０の鎖式炭化水素基、炭素数３～３６の脂環式炭化水素基又は炭素数６～３６の芳香族炭化水素基を表し、該鎖式炭化水素基に含まれる水素原子は、ヒドロキシ基、炭素数１～１２のアルコキシ基、炭素数３～１２の脂環式炭化水素基又は炭素数６～１８の芳香族炭化水素基で置換されていてもよく、該脂環式炭化水素基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子、炭素数１～１８の脂肪族炭化水素基、炭素数２～４のアルキルカルボニル基又はグリシジルオキシ基で置換されていてもよく、該芳香族炭化水素基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子、ヒドロキシ基又は炭素数１～１２のアルコキシ基で置換されていてもよい。
Ｒb4とＲb5とは、互いに結合してそれらが結合する硫黄原子と一緒になって環を形成してもよく、該環に含まれる－ＣＨ2－は、－Ｏ－、－Ｓ－又は－ＣＯ－に置き換わってもよい。
Ｒb7及びＲb8は、それぞれ独立に、ヒドロキシ基、炭素数１～１２の脂肪族炭化水素基又は炭素数１～１２のアルコキシ基を表す。
ｍ２及びｎ２は、それぞれ独立に０～５のいずれかの整数を表す。
ｍ２が２以上のとき、複数のＲb7は同一でも異なってもよく、ｎ２が２以上のとき、複数のＲb8は同一でも異なってもよい。
Ｒb9及びＲb10は、それぞれ独立に、炭素数１～３６の鎖式炭化水素基又は炭素数３～３６の脂環式炭化水素基を表す。
Ｒb9とＲb10とは、互いに結合してそれらが結合する硫黄原子と一緒になって環を形成してもよく、該環に含まれる－ＣＨ2－は、－Ｏ－、－Ｓ－又は－ＣＯ－に置き換わってもよい。
Ｒb11は、水素原子、炭素数１～３６の鎖式炭化水素基、炭素数３～３６の脂環式炭化水素基又は炭素数６～１８の芳香族炭化水素基を表す。
Ｒb12は、炭素数１～１２の鎖式炭化水素基、炭素数３～１８の脂環式炭化水素基又は炭素数６～１８の芳香族炭化水素基を表し、該鎖式炭化水素に含まれる水素原子は、炭素数６～１８の芳香族炭化水素基で置換されていてもよく、該芳香族炭化水素基に含まれる水素原子は、炭素数１～１２のアルコキシ基又は炭素数１～１２のアルキルカルボニルオキシ基で置換されていてもよい。
Ｒb11とＲb12とは、互いに結合してそれらが結合する－ＣＨ－ＣＯ－を含めて環を形成していてもよく、該環に含まれる－ＣＨ2－は、－Ｏ－、－Ｓ－又は－ＣＯ－に置き換わってもよい。
Ｒb13～Ｒb18は、それぞれ独立に、ヒドロキシ基、炭素数１～１２の脂肪族炭化水素基又は炭素数１～１２のアルコキシ基を表す。
Ｌb31は、硫黄原子又は酸素原子を表す。
ｏ２、ｐ２、ｓ２、及びｔ２は、それぞれ独立に、０～５のいずれかの整数を表す。
ｑ２及びｒ２は、それぞれ独立に、０～４のいずれかの整数を表す。
ｕ２は０又は１を表す。
ｏ２が２以上のとき、複数のＲb13は同一又は相異なり、ｐ２が２以上のとき、複数のＲb14は同一又は相異なり、ｑ２が２以上のとき、複数のＲb15は同一又は相異なり、ｒ２が２以上のとき、複数のＲb16は同一又は相異なり、ｓ２が２以上のとき、複数のＲb17は同一又は相異なり、ｔ２が２以上のとき、複数のＲb18は同一又は相異なる。］
［式（ａ２－Ａ）中、
Ｒa50は、水素原子、ハロゲン原子又はハロゲン原子を有していてもよい炭素数１～６のアルキル基を表す。
Ｒa51は、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、炭素数１～６のアルキル基、炭素数１～６のアルコキシ基、炭素数２～４のアルキルカルボニル基、炭素数２～４のアルキルカルボニルオキシ基、アクリロイルオキシ基又はメタクリロイルオキシ基を表す。
Ａa50は、単結合又は＊－Ｘa51－（Ａa52－Ｘa52）nb－を表し、＊は－Ｒa50が結合する炭素原子との結合部位を表す。
Ａa52は、炭素数１～６のアルカンジイル基を表す。
Ｘa51及びＸa52は、それぞれ独立に、－Ｏ－、－ＣＯ－Ｏ－又は－Ｏ－ＣＯ－を表す。
ｎｂは、０又は１を表す。
ｍｂは０～４のいずれかの整数を表す。ｍｂが２以上のいずれかの整数である場合、複数のＲa51は互いに同一であっても異なってもよい。］ - 酸不安定基を有する構造単位が、式（ａ１－１）で表される構造単位及び式（ａ１－２）で表される構造単位の少なくとも１種を含む請求項１に記載のレジスト組成物。
［式（ａ１－１）及び式（ａ１－２）中、
Ｌａ１及びＬａ２は、それぞれ独立に、－Ｏ－又は＊－Ｏ－（ＣＨ２）ｋ１－ＣＯ－Ｏ－を表し、ｋ１は１～７の整数を表し、＊は－ＣＯ－との結合手を表す。
Ｒａ４及びＲａ５は、それぞれ独立に、水素原子又はメチル基を表す。
Ｒａ６及びＲａ７は、それぞれ独立に、炭素数１～８のアルキル基、炭素数３～１８の脂環式炭化水素基又はこれらを組合せた基を表す。
ｍ１は、０～１４のいずれかの整数を表す。
ｎ１は、０～１０のいずれかの整数を表す。
ｎ１’は、０～３のいずれかの整数を表す。］ - 酸発生剤から発生する酸よりも酸性度の弱い酸を発生する塩をさらに含有する請求項１に記載のレジスト組成物。
- （１）請求項１～３のいずれかに記載のレジスト組成物を基板上に塗布する工程、
（２）塗布後の組成物を乾燥させて組成物層を形成する工程、
（３）組成物層に露光する工程、
（４）露光後の組成物層を加熱する工程、及び
（５）加熱後の組成物層を現像する工程、
を含むレジストパターンの製造方法。
Applications Claiming Priority (3)
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- 2023-09-06 JP JP2023144144A patent/JP2023169223A/ja active Pending
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