JP7414945B2 - 化合物 - Google Patents
化合物 Download PDFInfo
- Publication number
- JP7414945B2 JP7414945B2 JP2022205381A JP2022205381A JP7414945B2 JP 7414945 B2 JP7414945 B2 JP 7414945B2 JP 2022205381 A JP2022205381 A JP 2022205381A JP 2022205381 A JP2022205381 A JP 2022205381A JP 7414945 B2 JP7414945 B2 JP 7414945B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- carbon atoms
- formula
- hydrocarbon group
- examples
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 title claims description 76
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 327
- 229930195734 saturated hydrocarbon Natural products 0.000 claims description 214
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 83
- 125000002950 monocyclic group Chemical group 0.000 claims description 36
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 claims description 28
- 125000002023 trifluoromethyl group Chemical group FC(F)(F)* 0.000 claims description 15
- 125000001183 hydrocarbyl group Chemical group 0.000 claims 9
- -1 methylcyclohexyl group Chemical group 0.000 description 328
- 150000002430 hydrocarbons Chemical group 0.000 description 283
- 125000002723 alicyclic group Chemical group 0.000 description 121
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 117
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 97
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 86
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 86
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 description 79
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 78
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 67
- 239000012044 organic layer Substances 0.000 description 64
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 57
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 51
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 49
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 48
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 46
- 125000002029 aromatic hydrocarbon group Chemical group 0.000 description 44
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 40
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 34
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 34
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 32
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 30
- 125000003367 polycyclic group Chemical group 0.000 description 29
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 description 26
- 150000003839 salts Chemical group 0.000 description 26
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 24
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 24
- 125000001570 methylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])[*:2] 0.000 description 23
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 22
- WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N Acetonitrile Chemical compound CC#N WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 21
- 125000005196 alkyl carbonyloxy group Chemical group 0.000 description 20
- 125000000816 ethylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 20
- 125000005073 adamantyl group Chemical group C12(CC3CC(CC(C1)C3)C2)* 0.000 description 19
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 17
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 17
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 16
- 125000004051 hexyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 16
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 16
- 125000001147 pentyl group Chemical group C(CCCC)* 0.000 description 16
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 16
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 15
- 125000005010 perfluoroalkyl group Chemical group 0.000 description 15
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 14
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 13
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 description 13
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 13
- 125000004448 alkyl carbonyl group Chemical group 0.000 description 12
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 12
- 125000001511 cyclopentyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C1([H])[H] 0.000 description 12
- CATSNJVOTSVZJV-UHFFFAOYSA-N heptan-2-one Chemical compound CCCCCC(C)=O CATSNJVOTSVZJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 238000000034 method Methods 0.000 description 12
- 125000002868 norbornyl group Chemical group C12(CCC(CC1)C2)* 0.000 description 12
- NLKNQRATVPKPDG-UHFFFAOYSA-M potassium iodide Chemical compound [K+].[I-] NLKNQRATVPKPDG-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 12
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 12
- 125000002347 octyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 11
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 description 10
- 125000003187 heptyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 10
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 description 10
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 10
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 9
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 description 9
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 description 9
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 9
- 150000002892 organic cations Chemical class 0.000 description 9
- 125000005004 perfluoroethyl group Chemical group FC(F)(F)C(F)(F)* 0.000 description 9
- 125000005009 perfluoropropyl group Chemical group FC(C(C(F)(F)F)(F)F)(F)* 0.000 description 9
- 125000000383 tetramethylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 9
- 125000003258 trimethylene group Chemical group [H]C([H])([*:2])C([H])([H])C([H])([H])[*:1] 0.000 description 9
- YEJRWHAVMIAJKC-UHFFFAOYSA-N 4-Butyrolactone Chemical group O=C1CCCO1 YEJRWHAVMIAJKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical group [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 8
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 8
- 125000005003 perfluorobutyl group Chemical group FC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)* 0.000 description 8
- 125000005005 perfluorohexyl group Chemical group FC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)* 0.000 description 8
- 125000005008 perfluoropentyl group Chemical group FC(C(C(C(C(F)(F)F)(F)F)(F)F)(F)F)(F)* 0.000 description 8
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 8
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 8
- WGTYBPLFGIVFAS-UHFFFAOYSA-M tetramethylammonium hydroxide Chemical compound [OH-].C[N+](C)(C)C WGTYBPLFGIVFAS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 8
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical group 0.000 description 7
- 125000000640 cyclooctyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 7
- 125000001301 ethoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 7
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 7
- 125000002914 sec-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 7
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 7
- 125000004434 sulfur atom Chemical group 0.000 description 7
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical group [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 description 6
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 6
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 6
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 description 6
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 6
- 239000000741 silica gel Substances 0.000 description 6
- 229910002027 silica gel Inorganic materials 0.000 description 6
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 6
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 6
- JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N toluene-4-sulfonic acid Chemical compound CC1=CC=C(S(O)(=O)=O)C=C1 JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 125000003944 tolyl group Chemical group 0.000 description 6
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 6
- 125000004206 2,2,2-trifluoroethyl group Chemical group [H]C([H])(*)C(F)(F)F 0.000 description 5
- DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N Butyl acetate Natural products CCCCOC(C)=O DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 125000002777 acetyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)=O 0.000 description 5
- 125000004453 alkoxycarbonyl group Chemical group 0.000 description 5
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 5
- 125000004063 butyryl group Chemical group O=C([*])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 5
- 125000002915 carbonyl group Chemical group [*:2]C([*:1])=O 0.000 description 5
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 5
- 125000000582 cycloheptyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 5
- 125000002704 decyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 5
- 125000003438 dodecyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 5
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 5
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-M hexanoate Chemical compound CCCCCC([O-])=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 5
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 5
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 description 5
- 150000002891 organic anions Chemical class 0.000 description 5
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 5
- 125000005561 phenanthryl group Chemical group 0.000 description 5
- 125000001501 propionyl group Chemical group O=C([*])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 5
- LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N propylene glycol methyl ether acetate Chemical compound COCC(C)OC(C)=O LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 5
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 5
- 125000005023 xylyl group Chemical group 0.000 description 5
- OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 2-(2-cyanopropan-2-yldiazenyl)-2-methylpropanenitrile Chemical compound N#CC(C)(C)N=NC(C)(C)C#N OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 4
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000003668 acetyloxy group Chemical group [H]C([H])([H])C(=O)O[*] 0.000 description 4
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 150000001338 aliphatic hydrocarbons Chemical group 0.000 description 4
- 125000005428 anthryl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C2C([H])=C3C(*)=C([H])C([H])=C([H])C3=C([H])C2=C1[H] 0.000 description 4
- 125000004106 butoxy group Chemical group [*]OC([H])([H])C([H])([H])C(C([H])([H])[H])([H])[H] 0.000 description 4
- 150000001721 carbon Chemical group 0.000 description 4
- 125000002592 cumenyl group Chemical group C1(=C(C=CC=C1)*)C(C)C 0.000 description 4
- 125000004093 cyano group Chemical group *C#N 0.000 description 4
- 125000001559 cyclopropyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C1([H])* 0.000 description 4
- 125000001028 difluoromethyl group Chemical group [H]C(F)(F)* 0.000 description 4
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 4
- 150000002596 lactones Chemical group 0.000 description 4
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 4
- 125000002572 propoxy group Chemical group [*]OC([H])([H])C(C([H])([H])[H])([H])[H] 0.000 description 4
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 4
- ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 1-methoxypropan-2-ol Chemical compound COCC(C)O ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WKBALTUBRZPIPZ-UHFFFAOYSA-N 2,6-di(propan-2-yl)aniline Chemical compound CC(C)C1=CC=CC(C(C)C)=C1N WKBALTUBRZPIPZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ORILYTVJVMAKLC-UHFFFAOYSA-N Adamantane Natural products C1C(C2)CC3CC1CC2C3 ORILYTVJVMAKLC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000003647 acryloyl group Chemical group O=C([*])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 3
- 230000001476 alcoholic effect Effects 0.000 description 3
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 3
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 3
- 125000006267 biphenyl group Chemical group 0.000 description 3
- 150000007942 carboxylates Chemical group 0.000 description 3
- 125000001995 cyclobutyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])(*)C1([H])[H] 0.000 description 3
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical group O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000003759 ester based solvent Substances 0.000 description 3
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 description 3
- 125000003707 hexyloxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 3
- RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N imidazole Natural products C1=CNC=N1 RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 3
- 125000002960 margaryl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 3
- 239000012046 mixed solvent Substances 0.000 description 3
- 125000001400 nonyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 3
- 125000000913 palmityl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 3
- 125000002958 pentadecyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 3
- 125000004115 pentoxy group Chemical group [*]OC([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C(C([H])([H])[H])([H])[H] 0.000 description 3
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N phenol group Chemical group C1(=CC=CC=C1)O ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 3
- 125000004079 stearyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 3
- 125000001273 sulfonato group Chemical group [O-]S(*)(=O)=O 0.000 description 3
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 3
- RUFPHBVGCFYCNW-UHFFFAOYSA-N 1-naphthylamine Chemical compound C1=CC=C2C(N)=CC=CC2=C1 RUFPHBVGCFYCNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QQZOPKMRPOGIEB-UHFFFAOYSA-N 2-Oxohexane Chemical compound CCCCC(C)=O QQZOPKMRPOGIEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WYGWHHGCAGTUCH-UHFFFAOYSA-N 2-[(2-cyano-4-methylpentan-2-yl)diazenyl]-2,4-dimethylpentanenitrile Chemical compound CC(C)CC(C)(C#N)N=NC(C)(C#N)CC(C)C WYGWHHGCAGTUCH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XLLIQLLCWZCATF-UHFFFAOYSA-N 2-methoxyethyl acetate Chemical compound COCCOC(C)=O XLLIQLLCWZCATF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000094 2-phenylethyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- XLSZMDLNRCVEIJ-UHFFFAOYSA-N 4-methylimidazole Chemical compound CC1=CNC=N1 XLSZMDLNRCVEIJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000590 4-methylphenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(=C([H])C([H])=C1*)C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- FKNQCJSGGFJEIZ-UHFFFAOYSA-N 4-methylpyridine Chemical compound CC1=CC=NC=C1 FKNQCJSGGFJEIZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- PAYRUJLWNCNPSJ-UHFFFAOYSA-N Aniline Chemical compound NC1=CC=CC=C1 PAYRUJLWNCNPSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RGSFGYAAUTVSQA-UHFFFAOYSA-N Cyclopentane Chemical compound C1CCCC1 RGSFGYAAUTVSQA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Chemical compound CC(C)CC(C)=O NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Natural products CCC(C)C(C)=O UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JLTDJTHDQAWBAV-UHFFFAOYSA-N N,N-dimethylaniline Chemical compound CN(C)C1=CC=CC=C1 JLTDJTHDQAWBAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AFBPFSWMIHJQDM-UHFFFAOYSA-N N-methylaniline Chemical compound CNC1=CC=CC=C1 AFBPFSWMIHJQDM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N Naphthalene Chemical compound C1=CC=CC2=CC=CC=C21 UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000005074 adamantylmethyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000004183 alkoxy alkyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000000304 alkynyl group Chemical group 0.000 description 2
- 150000003863 ammonium salts Chemical class 0.000 description 2
- RDOXTESZEPMUJZ-UHFFFAOYSA-N anisole Chemical compound COC1=CC=CC=C1 RDOXTESZEPMUJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MWPLVEDNUUSJAV-UHFFFAOYSA-N anthracene Chemical compound C1=CC=CC2=CC3=CC=CC=C3C=C21 MWPLVEDNUUSJAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000004982 aromatic amines Chemical class 0.000 description 2
- 150000001793 charged compounds Chemical class 0.000 description 2
- OEYIOHPDSNJKLS-UHFFFAOYSA-N choline Chemical compound C[N+](C)(C)CCO OEYIOHPDSNJKLS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229960001231 choline Drugs 0.000 description 2
- RWGFKTVRMDUZSP-UHFFFAOYSA-N cumene Chemical compound CC(C)C1=CC=CC=C1 RWGFKTVRMDUZSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 2
- 125000001316 cycloalkyl alkyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000004186 cyclopropylmethyl group Chemical group [H]C([H])(*)C1([H])C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 2
- 125000006612 decyloxy group Chemical group 0.000 description 2
- JQVDAXLFBXTEQA-UHFFFAOYSA-N dibutylamine Chemical compound CCCCNCCCC JQVDAXLFBXTEQA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol Chemical class OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N diphenyl Chemical compound C1=CC=CC=C1C1=CC=CC=C1 ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DMBHHRLKUKUOEG-UHFFFAOYSA-N diphenylamine Chemical compound C=1C=CC=CC=1NC1=CC=CC=C1 DMBHHRLKUKUOEG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010494 dissociation reaction Methods 0.000 description 2
- 230000005593 dissociations Effects 0.000 description 2
- LZCLXQDLBQLTDK-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-hydroxypropanoate Chemical compound CCOC(=O)C(C)O LZCLXQDLBQLTDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004817 gas chromatography Methods 0.000 description 2
- 238000005227 gel permeation chromatography Methods 0.000 description 2
- 125000005446 heptyloxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 2
- NAQMVNRVTILPCV-UHFFFAOYSA-N hexane-1,6-diamine Chemical compound NCCCCCCN NAQMVNRVTILPCV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 2
- 125000005647 linker group Chemical group 0.000 description 2
- 238000004811 liquid chromatography Methods 0.000 description 2
- 125000004957 naphthylene group Chemical group 0.000 description 2
- 125000004998 naphthylethyl group Chemical group C1(=CC=CC2=CC=CC=C12)CC* 0.000 description 2
- 125000004923 naphthylmethyl group Chemical group C1(=CC=CC2=CC=CC=C12)C* 0.000 description 2
- 125000005447 octyloxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 2
- RNVCVTLRINQCPJ-UHFFFAOYSA-N ortho-methyl aniline Natural products CC1=CC=CC=C1N RNVCVTLRINQCPJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001820 oxy group Chemical group [*:1]O[*:2] 0.000 description 2
- RZXMPPFPUUCRFN-UHFFFAOYSA-N p-toluidine Chemical compound CC1=CC=C(N)C=C1 RZXMPPFPUUCRFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000005460 perfluorocycloalkyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000005459 perfluorocyclohexyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000005804 perfluoroheptyl group Chemical group FC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)* 0.000 description 2
- 125000005007 perfluorooctyl group Chemical group FC(C(C(C(C(C(C(C(F)(F)F)(F)F)(F)F)(F)F)(F)F)(F)F)(F)F)(F)* 0.000 description 2
- YNPNZTXNASCQKK-UHFFFAOYSA-N phenanthrene Chemical compound C1=CC=C2C3=CC=CC=C3C=CC2=C1 YNPNZTXNASCQKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004351 phenylcyclohexyl group Chemical group C1(=CC=CC=C1)C1(CCCCC1)* 0.000 description 2
- 125000000843 phenylene group Chemical group C1(=C(C=CC=C1)*)* 0.000 description 2
- 125000004344 phenylpropyl group Chemical group 0.000 description 2
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 2
- 230000000379 polymerizing effect Effects 0.000 description 2
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 2
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 2
- KIDHWZJUCRJVML-UHFFFAOYSA-N putrescine Chemical compound NCCCCN KIDHWZJUCRJVML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 2
- 238000010526 radical polymerization reaction Methods 0.000 description 2
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 2
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 2
- YTZKOQUCBOVLHL-UHFFFAOYSA-N tert-butylbenzene Chemical compound CC(C)(C)C1=CC=CC=C1 YTZKOQUCBOVLHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VDZOOKBUILJEDG-UHFFFAOYSA-M tetrabutylammonium hydroxide Chemical compound [OH-].CCCC[N+](CCCC)(CCCC)CCCC VDZOOKBUILJEDG-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- BFKJFAAPBSQJPD-UHFFFAOYSA-N tetrafluoroethene Chemical group FC(F)=C(F)F BFKJFAAPBSQJPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GETQZCLCWQTVFV-UHFFFAOYSA-N trimethylamine Chemical compound CN(C)C GETQZCLCWQTVFV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910021642 ultra pure water Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000012498 ultrapure water Substances 0.000 description 2
- 125000002948 undecyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- DTGKSKDOIYIVQL-WEDXCCLWSA-N (+)-borneol Chemical group C1C[C@@]2(C)[C@@H](O)C[C@@H]1C2(C)C DTGKSKDOIYIVQL-WEDXCCLWSA-N 0.000 description 1
- 125000006002 1,1-difluoroethyl group Chemical group 0.000 description 1
- OQZAQBGJENJMHT-UHFFFAOYSA-N 1,3-dibromo-5-methoxybenzene Chemical compound COC1=CC(Br)=CC(Br)=C1 OQZAQBGJENJMHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AFZZYIJIWUTJFO-UHFFFAOYSA-N 1,3-diethylbenzene Chemical compound CCC1=CC=CC(CC)=C1 AFZZYIJIWUTJFO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JBYHSSAVUBIJMK-UHFFFAOYSA-N 1,4-oxathiane Chemical group C1CSCCO1 JBYHSSAVUBIJMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YBFHILNBYXCJKD-UHFFFAOYSA-N 1-(6-methylpyridin-3-yl)-2-(4-methylsulfonylphenyl)ethanone Chemical compound C1=NC(C)=CC=C1C(=O)CC1=CC=C(S(C)(=O)=O)C=C1 YBFHILNBYXCJKD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BMVXCPBXGZKUPN-UHFFFAOYSA-N 1-hexanamine Chemical compound CCCCCCN BMVXCPBXGZKUPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KXZQYLBVMZGIKC-UHFFFAOYSA-N 1-pyridin-2-yl-n-(pyridin-2-ylmethyl)methanamine Chemical compound C=1C=CC=NC=1CNCC1=CC=CC=N1 KXZQYLBVMZGIKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004778 2,2-difluoroethyl group Chemical group [H]C([H])(*)C([H])(F)F 0.000 description 1
- OLPZCIDHOZATMA-UHFFFAOYSA-N 2,2-dioxooxathiiran-3-one Chemical compound O=C1OS1(=O)=O OLPZCIDHOZATMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XGLVDUUYFKXKPL-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxyethoxy)-n,n-bis[2-(2-methoxyethoxy)ethyl]ethanamine Chemical compound COCCOCCN(CCOCCOC)CCOCCOC XGLVDUUYFKXKPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WBIBUCGCVLAPQG-UHFFFAOYSA-N 2-(2-pyridin-2-ylethyl)pyridine Chemical compound C=1C=CC=NC=1CCC1=CC=CC=N1 WBIBUCGCVLAPQG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OHKOAJUTRVTYSW-UHFFFAOYSA-N 2-[(2-aminophenyl)methyl]aniline Chemical compound NC1=CC=CC=C1CC1=CC=CC=C1N OHKOAJUTRVTYSW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HKEOCEQLCZEBMK-BQYQJAHWSA-N 2-[(e)-2-pyridin-2-ylethenyl]pyridine Chemical compound C=1C=CC=NC=1/C=C/C1=CC=CC=N1 HKEOCEQLCZEBMK-BQYQJAHWSA-N 0.000 description 1
- ZWRWGKGPUFESNE-UHFFFAOYSA-M 2-carboxyphenolate;tetrabutylazanium Chemical compound OC1=CC=CC=C1C([O-])=O.CCCC[N+](CCCC)(CCCC)CCCC ZWRWGKGPUFESNE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- SVONRAPFKPVNKG-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethyl acetate Chemical compound CCOCCOC(C)=O SVONRAPFKPVNKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KIZQNNOULOCVDM-UHFFFAOYSA-M 2-hydroxyethyl(trimethyl)azanium;hydroxide Chemical compound [OH-].C[N+](C)(C)CCO KIZQNNOULOCVDM-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- JBIJLHTVPXGSAM-UHFFFAOYSA-N 2-naphthylamine Chemical compound C1=CC=CC2=CC(N)=CC=C21 JBIJLHTVPXGSAM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FMFHUEMLVAIBFI-UHFFFAOYSA-N 2-phenylethenyl acetate Chemical compound CC(=O)OC=CC1=CC=CC=C1 FMFHUEMLVAIBFI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FRKPCXYPIHAOFI-UHFFFAOYSA-N 3-methylaniline Chemical compound [CH2]C1=CC=CC(N)=C1 FRKPCXYPIHAOFI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WECDUOXQLAIPQW-UHFFFAOYSA-N 4,4'-Methylene bis(2-methylaniline) Chemical compound C1=C(N)C(C)=CC(CC=2C=C(C)C(N)=CC=2)=C1 WECDUOXQLAIPQW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UHBAPGWWRFVTFS-UHFFFAOYSA-N 4,4'-dipyridyl disulfide Chemical compound C=1C=NC=CC=1SSC1=CC=NC=C1 UHBAPGWWRFVTFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MGFJDEHFNMWYBD-UHFFFAOYSA-N 4-(2-pyridin-4-ylethenyl)pyridine Chemical compound C=1C=NC=CC=1C=CC1=CC=NC=C1 MGFJDEHFNMWYBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DQRKTVIJNCVZAX-UHFFFAOYSA-N 4-(2-pyridin-4-ylethyl)pyridine Chemical compound C=1C=NC=CC=1CCC1=CC=NC=C1 DQRKTVIJNCVZAX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RRCWJXNJBQORGX-UHFFFAOYSA-N 4-(2-pyridin-4-yloxyethoxy)pyridine Chemical compound C=1C=NC=CC=1OCCOC1=CC=NC=C1 RRCWJXNJBQORGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OGNCVVRIKNGJHQ-UHFFFAOYSA-N 4-(3-pyridin-4-ylpropyl)pyridine Chemical compound C=1C=NC=CC=1CCCC1=CC=NC=C1 OGNCVVRIKNGJHQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CBEVWPCAHIAUOD-UHFFFAOYSA-N 4-[(4-amino-3-ethylphenyl)methyl]-2-ethylaniline Chemical compound C1=C(N)C(CC)=CC(CC=2C=C(CC)C(N)=CC=2)=C1 CBEVWPCAHIAUOD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UHNUHZHQLCGZDA-UHFFFAOYSA-N 4-[2-(4-aminophenyl)ethyl]aniline Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1CCC1=CC=C(N)C=C1 UHNUHZHQLCGZDA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004172 4-methoxyphenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(OC([H])([H])[H])=C([H])C([H])=C1* 0.000 description 1
- TYMLOMAKGOJONV-UHFFFAOYSA-N 4-nitroaniline Chemical compound NC1=CC=C([N+]([O-])=O)C=C1 TYMLOMAKGOJONV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XGJOFCCBFCHEHK-UHFFFAOYSA-N 4-pyridin-4-ylsulfanylpyridine Chemical compound C=1C=NC=CC=1SC1=CC=NC=C1 XGJOFCCBFCHEHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OZJPLYNZGCXSJM-UHFFFAOYSA-N 5-valerolactone Chemical group O=C1CCCCO1 OZJPLYNZGCXSJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N Ammonium hydroxide Chemical compound [NH4+].[OH-] VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ROFVEXUMMXZLPA-UHFFFAOYSA-N Bipyridyl Chemical compound N1=CC=CC=C1C1=CC=CC=N1 ROFVEXUMMXZLPA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000219109 Citrullus Species 0.000 description 1
- 235000012828 Citrullus lanatus var citroides Nutrition 0.000 description 1
- PMPVIKIVABFJJI-UHFFFAOYSA-N Cyclobutane Chemical compound C1CCC1 PMPVIKIVABFJJI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MHZGKXUYDGKKIU-UHFFFAOYSA-N Decylamine Chemical compound CCCCCCCCCCN MHZGKXUYDGKKIU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N Dihydrogen sulfide Chemical class S RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XXRCUYVCPSWGCC-UHFFFAOYSA-N Ethyl pyruvate Chemical compound CCOC(=O)C(C)=O XXRCUYVCPSWGCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YNQLUTRBYVCPMQ-UHFFFAOYSA-N Ethylbenzene Chemical compound CCC1=CC=CC=C1 YNQLUTRBYVCPMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PIICEJLVQHRZGT-UHFFFAOYSA-N Ethylenediamine Chemical compound NCCN PIICEJLVQHRZGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WJYIASZWHGOTOU-UHFFFAOYSA-N Heptylamine Chemical compound CCCCCCCN WJYIASZWHGOTOU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M Methacrylate Chemical compound CC(=C)C([O-])=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylacetamide Chemical compound CN(C)C(C)=O FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GSCCALZHGUWNJW-UHFFFAOYSA-N N-Cyclohexyl-N-methylcyclohexanamine Chemical compound C1CCCCC1N(C)C1CCCCC1 GSCCALZHGUWNJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YJLYANLCNIKXMG-UHFFFAOYSA-N N-Methyldioctylamine Chemical compound CCCCCCCCN(C)CCCCCCCC YJLYANLCNIKXMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical group CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 1
- YPWFISCTZQNZAU-UHFFFAOYSA-N Thiane Chemical group C1CCSCC1 YPWFISCTZQNZAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SLINHMUFWFWBMU-UHFFFAOYSA-N Triisopropanolamine Chemical compound CC(O)CN(CC(C)O)CC(C)O SLINHMUFWFWBMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 239000005456 alcohol based solvent Substances 0.000 description 1
- 150000001335 aliphatic alkanes Chemical class 0.000 description 1
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 1
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 1
- 239000000908 ammonium hydroxide Substances 0.000 description 1
- 229940072049 amyl acetate Drugs 0.000 description 1
- PGMYKACGEOXYJE-UHFFFAOYSA-N anhydrous amyl acetate Natural products CCCCCOC(C)=O PGMYKACGEOXYJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004653 anthracenylene group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004350 aryl cycloalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004104 aryloxy group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 1
- VEZXCJBBBCKRPI-UHFFFAOYSA-N beta-propiolactone Chemical group O=C1CCO1 VEZXCJBBBCKRPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZDZHCHYQNPQSGG-UHFFFAOYSA-N binaphthyl group Chemical group C1(=CC=CC2=CC=CC=C12)C1=CC=CC2=CC=CC=C12 ZDZHCHYQNPQSGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004305 biphenyl Substances 0.000 description 1
- 235000010290 biphenyl Nutrition 0.000 description 1
- 125000002529 biphenylenyl group Chemical group C1(=CC=CC=2C3=CC=CC=C3C12)* 0.000 description 1
- 125000004369 butenyl group Chemical group C(=CCC)* 0.000 description 1
- 229940043232 butyl acetate Drugs 0.000 description 1
- 125000004744 butyloxycarbonyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000480 butynyl group Chemical group [*]C#CC([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000005708 carbonyloxy group Chemical group [*:2]OC([*:1])=O 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 239000008199 coating composition Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 1
- 150000001924 cycloalkanes Chemical class 0.000 description 1
- 125000004850 cyclobutylmethyl group Chemical group C1(CCC1)C* 0.000 description 1
- 125000004210 cyclohexylmethyl group Chemical group [H]C([H])(*)C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000006547 cyclononyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- WJTCGQSWYFHTAC-UHFFFAOYSA-N cyclooctane Chemical compound C1CCCCCCC1 WJTCGQSWYFHTAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004914 cyclooctane Substances 0.000 description 1
- 238000010511 deprotection reaction Methods 0.000 description 1
- CSYSRRCOBYEGPI-UHFFFAOYSA-N diazo(sulfonyl)methane Chemical compound [N-]=[N+]=C=S(=O)=O CSYSRRCOBYEGPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- URQUNWYOBNUYJQ-UHFFFAOYSA-N diazonaphthoquinone Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C(=[N]=[N])C=CC2=C1 URQUNWYOBNUYJQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012954 diazonium Substances 0.000 description 1
- 150000001989 diazonium salts Chemical class 0.000 description 1
- QVQGTNFYPJQJNM-UHFFFAOYSA-N dicyclohexylmethanamine Chemical compound C1CCCCC1C(N)C1CCCCC1 QVQGTNFYPJQJNM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000014113 dietary fatty acids Nutrition 0.000 description 1
- LAWOZCWGWDVVSG-UHFFFAOYSA-N dioctylamine Chemical compound CCCCCCCCNCCCCCCCC LAWOZCWGWDVVSG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QPOWUYJWCJRLEE-UHFFFAOYSA-N dipyridin-2-ylmethanone Chemical compound C=1C=CC=NC=1C(=O)C1=CC=CC=N1 QPOWUYJWCJRLEE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 1
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 1
- 239000003480 eluent Substances 0.000 description 1
- 239000004210 ether based solvent Substances 0.000 description 1
- 125000003754 ethoxycarbonyl group Chemical group C(=O)(OCC)* 0.000 description 1
- 229940116333 ethyl lactate Drugs 0.000 description 1
- 229940117360 ethyl pyruvate Drugs 0.000 description 1
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N ethylene glycol Natural products OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002534 ethynyl group Chemical group [H]C#C* 0.000 description 1
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 1
- 239000000194 fatty acid Substances 0.000 description 1
- 229930195729 fatty acid Natural products 0.000 description 1
- 150000004665 fatty acids Chemical class 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 1
- 125000004216 fluoromethyl group Chemical group [H]C([H])(F)* 0.000 description 1
- 150000002334 glycols Chemical class 0.000 description 1
- DMEGYFMYUHOHGS-UHFFFAOYSA-N heptamethylene Natural products C1CCCCCC1 DMEGYFMYUHOHGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MNWFXJYAOYHMED-UHFFFAOYSA-M heptanoate Chemical compound CCCCCCC([O-])=O MNWFXJYAOYHMED-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 125000006038 hexenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005980 hexynyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N hydroxyacetaldehyde Natural products OCC=O WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002768 hydroxyalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004029 hydroxymethyl group Chemical group [H]OC([H])([H])* 0.000 description 1
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 1
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 1
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 1
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 1
- 125000000959 isobutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000000555 isopropenyl group Chemical group [H]\C([H])=C(\*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000003253 isopropoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(O*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000005453 ketone based solvent Substances 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- 238000004949 mass spectrometry Methods 0.000 description 1
- AUHZEENZYGFFBQ-UHFFFAOYSA-N mesitylene Substances CC1=CC(C)=CC(C)=C1 AUHZEENZYGFFBQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001827 mesitylenyl group Chemical group [H]C1=C(C(*)=C(C([H])=C1C([H])([H])[H])C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- JJYPMNFTHPTTDI-UHFFFAOYSA-N meta-toluidine Natural products CC1=CC=CC(N)=C1 JJYPMNFTHPTTDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UZKWTJUDCOPSNM-UHFFFAOYSA-N methoxybenzene Substances CCCCOC=C UZKWTJUDCOPSNM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001160 methoxycarbonyl group Chemical group [H]C([H])([H])OC(*)=O 0.000 description 1
- ZQJAONQEOXOVNR-UHFFFAOYSA-N n,n-di(nonyl)nonan-1-amine Chemical compound CCCCCCCCCN(CCCCCCCCC)CCCCCCCCC ZQJAONQEOXOVNR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CLZGJKHEVKJLLS-UHFFFAOYSA-N n,n-diheptylheptan-1-amine Chemical compound CCCCCCCN(CCCCCCC)CCCCCCC CLZGJKHEVKJLLS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DIAIBWNEUYXDNL-UHFFFAOYSA-N n,n-dihexylhexan-1-amine Chemical compound CCCCCCN(CCCCCC)CCCCCC DIAIBWNEUYXDNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XTAZYLNFDRKIHJ-UHFFFAOYSA-N n,n-dioctyloctan-1-amine Chemical compound CCCCCCCCN(CCCCCCCC)CCCCCCCC XTAZYLNFDRKIHJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OOHAUGDGCWURIT-UHFFFAOYSA-N n,n-dipentylpentan-1-amine Chemical compound CCCCCN(CCCCC)CCCCC OOHAUGDGCWURIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BBDGYADAMYMJNO-UHFFFAOYSA-N n-butyl-n-ethylbutan-1-amine Chemical compound CCCCN(CC)CCCC BBDGYADAMYMJNO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MTHFROHDIWGWFD-UHFFFAOYSA-N n-butyl-n-methylbutan-1-amine Chemical compound CCCCN(C)CCCC MTHFROHDIWGWFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YGNSGUIRANPPSW-UHFFFAOYSA-N n-decyl-n-ethyldecan-1-amine Chemical compound CCCCCCCCCCN(CC)CCCCCCCCCC YGNSGUIRANPPSW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ATBNMWWDBWBAHM-UHFFFAOYSA-N n-decyl-n-methyldecan-1-amine Chemical compound CCCCCCCCCCN(C)CCCCCCCCCC ATBNMWWDBWBAHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GMTCPFCMAHMEMT-UHFFFAOYSA-N n-decyldecan-1-amine Chemical compound CCCCCCCCCCNCCCCCCCCCC GMTCPFCMAHMEMT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PZAHTXZMBSBSFM-UHFFFAOYSA-N n-ethyl-n-heptylheptan-1-amine Chemical compound CCCCCCCN(CC)CCCCCCC PZAHTXZMBSBSFM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZBZSKMOKRUBBGC-UHFFFAOYSA-N n-ethyl-n-hexylhexan-1-amine Chemical compound CCCCCCN(CC)CCCCCC ZBZSKMOKRUBBGC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GESMBXUFPAHBOJ-UHFFFAOYSA-N n-ethyl-n-nonylnonan-1-amine Chemical compound CCCCCCCCCN(CC)CCCCCCCCC GESMBXUFPAHBOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KYSDFVPIAZIJAW-UHFFFAOYSA-N n-ethyl-n-octyloctan-1-amine Chemical compound CCCCCCCCN(CC)CCCCCCCC KYSDFVPIAZIJAW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PXAVTVNEDPAYJP-UHFFFAOYSA-N n-ethyl-n-pentylpentan-1-amine Chemical compound CCCCCN(CC)CCCCC PXAVTVNEDPAYJP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BXYHQXUPLKMYDE-UHFFFAOYSA-N n-heptyl-n-methylheptan-1-amine Chemical compound CCCCCCCN(C)CCCCCCC BXYHQXUPLKMYDE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NJWMENBYMFZACG-UHFFFAOYSA-N n-heptylheptan-1-amine Chemical compound CCCCCCCNCCCCCCC NJWMENBYMFZACG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- POMGZMHIXYRARC-UHFFFAOYSA-N n-hexyl-n-methylhexan-1-amine Chemical compound CCCCCCN(C)CCCCCC POMGZMHIXYRARC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PXSXRABJBXYMFT-UHFFFAOYSA-N n-hexylhexan-1-amine Chemical compound CCCCCCNCCCCCC PXSXRABJBXYMFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IITLRKXIQJEWFI-UHFFFAOYSA-N n-methyl-n-nonylnonan-1-amine Chemical compound CCCCCCCCCN(C)CCCCCCCCC IITLRKXIQJEWFI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JJRDPNRWFSHHKJ-UHFFFAOYSA-N n-methyl-n-pentylpentan-1-amine Chemical compound CCCCCN(C)CCCCC JJRDPNRWFSHHKJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MFHKEJIIHDNPQE-UHFFFAOYSA-N n-nonylnonan-1-amine Chemical compound CCCCCCCCCNCCCCCCCCC MFHKEJIIHDNPQE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JACMPVXHEARCBO-UHFFFAOYSA-N n-pentylpentan-1-amine Chemical compound CCCCCNCCCCC JACMPVXHEARCBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HMMPCBAWTWYFLR-UHFFFAOYSA-N n-pyridin-2-ylpyridin-2-amine Chemical compound C=1C=CC=NC=1NC1=CC=CC=N1 HMMPCBAWTWYFLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FJDUDHYHRVPMJZ-UHFFFAOYSA-N nonan-1-amine Chemical compound CCCCCCCCCN FJDUDHYHRVPMJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005187 nonenyl group Chemical group C(=CCCCCCCC)* 0.000 description 1
- 125000005071 nonynyl group Chemical group C(#CCCCCCCC)* 0.000 description 1
- UMRZSTCPUPJPOJ-KNVOCYPGSA-N norbornane Chemical compound C1C[C@H]2CC[C@@H]1C2 UMRZSTCPUPJPOJ-KNVOCYPGSA-N 0.000 description 1
- QYSGYZVSCZSLHT-UHFFFAOYSA-N octafluoropropane Chemical group FC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)F QYSGYZVSCZSLHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IOQPZZOEVPZRBK-UHFFFAOYSA-N octan-1-amine Chemical compound CCCCCCCCN IOQPZZOEVPZRBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004365 octenyl group Chemical group C(=CCCCCCC)* 0.000 description 1
- 125000005069 octynyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C#C* 0.000 description 1
- 125000002255 pentenyl group Chemical group C(=CCCC)* 0.000 description 1
- 125000001148 pentyloxycarbonyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005981 pentynyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005562 phenanthrylene group Chemical group 0.000 description 1
- 150000004714 phosphonium salts Chemical class 0.000 description 1
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 1
- 150000003141 primary amines Chemical class 0.000 description 1
- 125000004368 propenyl group Chemical group C(=CC)* 0.000 description 1
- 125000002568 propynyl group Chemical group [*]C#CC([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000005920 sec-butoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 150000003335 secondary amines Chemical class 0.000 description 1
- 150000003376 silicon Chemical class 0.000 description 1
- 125000003003 spiro group Chemical group 0.000 description 1
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 1
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 description 1
- BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-M sulfonate Chemical compound [O-]S(=O)=O BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 150000003871 sulfonates Chemical class 0.000 description 1
- 150000003457 sulfones Chemical class 0.000 description 1
- 238000010189 synthetic method Methods 0.000 description 1
- 125000004213 tert-butoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C(O*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000005931 tert-butyloxycarbonyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(OC(*)=O)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 150000003512 tertiary amines Chemical class 0.000 description 1
- CPOUUWYFNYIYLQ-UHFFFAOYSA-M tetra(propan-2-yl)azanium;hydroxide Chemical compound [OH-].CC(C)[N+](C(C)C)(C(C)C)C(C)C CPOUUWYFNYIYLQ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- RAOIDOHSFRTOEL-UHFFFAOYSA-N tetrahydrothiophene Chemical group C1CCSC1 RAOIDOHSFRTOEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DCFYRBLFVWYBIJ-UHFFFAOYSA-M tetraoctylazanium;hydroxide Chemical compound [OH-].CCCCCCCC[N+](CCCCCCCC)(CCCCCCCC)CCCCCCCC DCFYRBLFVWYBIJ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- RAOIDOHSFRTOEL-UHFFFAOYSA-O thiolan-1-ium Chemical group C1CC[SH+]C1 RAOIDOHSFRTOEL-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- IMFACGCPASFAPR-UHFFFAOYSA-N tributylamine Chemical compound CCCCN(CCCC)CCCC IMFACGCPASFAPR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003866 trichloromethyl group Chemical group ClC(Cl)(Cl)* 0.000 description 1
- ABVVEAHYODGCLZ-UHFFFAOYSA-N tridecan-1-amine Chemical compound CCCCCCCCCCCCCN ABVVEAHYODGCLZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HADKRTWCOYPCPH-UHFFFAOYSA-M trimethylphenylammonium hydroxide Chemical compound [OH-].C[N+](C)(C)C1=CC=CC=C1 HADKRTWCOYPCPH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- YFTHZRPMJXBUME-UHFFFAOYSA-N tripropylamine Chemical compound CCCN(CCC)CCC YFTHZRPMJXBUME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002221 trityl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C([H])C([H])=C1C([*])(C1=C(C(=C(C(=C1[H])[H])[H])[H])[H])C1=C([H])C([H])=C([H])C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 229930195735 unsaturated hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Chemical group 0.000 description 1
- 125000006839 xylylene group Chemical group 0.000 description 1
Landscapes
- Materials For Photolithography (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Description
カスマージン(DOF)のレジストパターンを製造することができるレジスト組成物及び
化合物を提供することを目的とする。
〔1〕酸不安定基を有する構造単位を含む樹脂と、フッ素原子を有する構造単位を含む
樹脂と、酸発生剤と、式(I)で表される化合物とを含有するレジスト組成物。
[式(I)中、
L1は、単結合又は炭素数1~18の2価の炭化水素基を表し、該炭化水素基に含まれ
る-CH2-は、-O-、-S-、-S(O)2-又は-CO-に置き換わっていてもよ
い。
W1は、炭素数3~24の炭化水素環を表し、該炭化水素環に含まれる-CH2-は、
-O-、-S-、-S(O)2-又は-CO-に置き換わっていてもよい。
nは、1~3のいずれかの整数を表す。
R1及びR2は、それぞれ独立に、炭素数1~6のフッ素化アルキル基を表す。
R3は、水素原子又は置換基を有していてもよい炭素数1~18の炭化水素基を表し、
該炭化水素基に含まれる-CH2-は、-O-、-S-、-S(O)2-又は-CO-に
置き換わっていてもよい。
nが2又は3の時、複数のR1、R2及びR3は、同じでも異なっていてもよい。]
〔2〕R1及びR2が、トリフルオロメチル基である〔1〕記載のレジスト組成物。
〔3〕R3が、水素原子又は置換基を有していてもよい炭素数1~18の炭化水素基を
表し、該炭化水素基に含まれる少なくとも1つの-CH2-は、-O-又は-CO-に置
き換わっている〔1〕又は〔2〕記載のレジスト組成物。
〔4〕W1が、単環式の飽和炭化水素環である〔1〕~〔3〕のいずれかに記載のレジ
スト組成物。
〔5〕酸発生剤が、式(B1)で表される塩である〔1〕~〔4〕のいずれかに記載の
レジスト組成物。
[式(B1)中、
Qb1及びQb2は、それぞれ独立に、フッ素原子又は炭素数1~6のペルフルオロア
ルキル基を表す。
Lb1は、炭素数1~24の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基に含まれる-C
H2-は、-O-又は-CO-に置き換わっていてもよく、該飽和炭化水素基に含まれる
水素原子は、フッ素原子又はヒドロキシ基で置換されていてもよい。
Yは、置換基を有していてもよいメチル基又は置換基を有していてもよい炭素数3~1
8の脂環式炭化水素基を表し、該脂環式炭化水素基に含まれる-CH2-は、-O-、-
S(O)2-又は-CO-に置き換わっていてもよい。
Z+は、有機カチオンを表す。]
〔6〕(1)〔1〕~〔5〕のいずれかに記載のレジスト組成物を基板上に塗布する工
程、
(2)塗布後の組成物を乾燥させて組成物層を形成する工程、
(3)組成物層に露光する工程、
(4)露光後の組成物層を加熱する工程、及び
(5)加熱後の組成物層を現像する工程を含むレジストパターンの製造方法。
〔7〕式(I)で表される化合物。
[式(I)中、
L1は、単結合又は炭素数1~18の2価の炭化水素基を表し、該炭化水素基に含まれ
る-CH2-は、-O-、-S-、-S(O)2-又は-CO-に置き換わっていてもよ
い。
W1は、炭素数3~24の炭化水素環を表し、該炭化水素環に含まれる-CH2-は、
-O-、-S-、-S(O)2-又は-CO-に置き換わっていてもよい。
nは、1~3のいずれかの整数を表す。
R1及びR2は、それぞれ独立に、炭素数1~6のフッ素化アルキル基を表す。
R3は、水素原子又は置換基を有していてもよい炭素数1~18の炭化水素基を表し、
該炭化水素基に含まれる-CH2-は、-O-、-S-、-S(O)2-又は-CO-に
置き換わっていてもよい。
nが2又は3の時、複数のR1、R2及びR3は、同じでも異なっていてもよい。]
できるレジスト組成物及び化合物を提供する。
リレートの少なくとも一種」を意味する。「(メタ)アクリル酸」や「(メタ)アクリロ
イル」等の表記も、同様の意味を有する。
また、特に断りのない限り、「脂肪族炭化水素基」のように直鎖、分岐及び/又は環を
とり得る基は、そのいずれをも含む。「芳香族炭化水素基」は芳香環に炭化水素基が結合
した基をも包含する。立体異性体が存在する場合は、全ての立体異性体を包含する。
本明細書において、「レジスト組成物の固形分」とは、レジスト組成物の総重量から、
後述する溶剤(E)を除いた成分の合計重量を意味する。
本発明のレジスト組成物は、酸不安定基を有する構造単位を含む樹脂(以下「樹脂(A
)」という場合がある)、フッ素原子を有する構造単位を含む樹脂(以下「樹脂(X)」
という場合がある)、酸発生剤(以下「酸発生剤(B)」という場合がある)及び式(I
)で表される化合物(以下「化合物(I)」という場合がある)を含有する。ここで「酸
不安定基」とは、脱離基を有し、酸との接触により脱離基が脱離して、親水性基(例えば
、ヒドロキシ基又はカルボキシ基)を形成する基を意味する。
本発明のレジスト組成物は、溶剤(以下「溶剤(E)」という場合がある)を含有する
ことが好ましい。
本発明のレジスト組成物は、さらに、クエンチャー(以下「クエンチャー(C)」とい
う場合がある)を含有してもよい。
樹脂(A)は、酸不安定基を有する構造単位(以下「構造単位(a1)」という場合が
ある)を有する。樹脂(A)は、さらに、構造単位(a1)以外の構造単位を含むことが
好ましい。構造単位(a1)以外の構造単位としては、酸不安定基を有さない構造単位(
以下「構造単位(s)」という場合がある)、構造単位(a1)及び構造単位(s)以外
の構造単位(例えば、後述するハロゲン原子を有する構造単位(以下「構造単位(a4)
」という場合がある)、後述する非脱離炭化水素基を有する構造単位(以下「構造単位(
a5)という場合がある)及びその他の当該分野で公知のモノマーに由来する構造単位等
が挙げられる。
構造単位(a1)は、酸不安定基を有するモノマー(以下「モノマー(a1)」という
場合がある)から導かれる。
樹脂(A)に含まれる酸不安定基は、式(1)で表される基(以下、基(1)とも記す
)及び/又は式(2)で表される基(以下、基(2)とも記す)が好ましい。
[式(1)中、Ra1、Ra2及びRa3は、それぞれ独立に、炭素数1~8のアルキ
ル基、炭素数3~20の脂環式炭化水素基又はこれらを組み合わせた基を表すか、Ra1及
びRa2は互いに結合してそれらが結合する炭素原子とともに炭素数3~20の非芳香族炭
化水素環を形成する。
ma及びnaは、それぞれ独立して、0又は1を表し、ma及びnaの少なくとも一方
は1を表す。
*は結合部位を表す。]
[式(2)中、Ra1’及びRa2’は、それぞれ独立に、水素原子又は炭素数1~1
2の炭化水素基を表し、Ra3’は、炭素数1~20の炭化水素基を表すか、Ra2’及
びRa3’は互いに結合してそれらが結合する炭素原子及びXとともに炭素数3~20の
複素環を形成し、該炭化水素基及び該複素環に含まれる-CH2-は、-O-又は-S-
で置き換わってもよい。
Xは、酸素原子又は硫黄原子を表す。
na’は、0又は1を表す。
*は結合部位を表す。]
ル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基等が挙げられる。
Ra1、Ra2及びRa3における脂環式炭化水素基は、単環式及び多環式のいずれで
もよい。単環式の脂環式炭化水素基としては、シクロペンチル基、シクロへキシル基、シ
クロヘプチル基、シクロオクチル基等のシクロアルキル基が挙げられる。多環式の脂環式
炭化水素基としては、デカヒドロナフチル基、アダマンチル基、ノルボルニル基及び下記
の基(*は結合部位を表す。)等が挙げられる。Ra1、Ra2及びRa3の脂環式炭化
水素基の炭素数は、好ましくは3~16である。
アルキル基と脂環式炭化水素基とを組み合わせた基としては、例えば、メチルシクロヘ
キシル基、ジメチルシクロへキシル基、メチルノルボルニル基、シクロヘキシルメチル基
、アダマンチルメチル基、アダマンチルジメチル基、ノルボルニルエチル基等が挙げられ
る。
好ましくは、maは0であり、naは1である。
Ra1及びRa2が互いに結合して非芳香族炭化水素環を形成する場合の-C(Ra1)(R
a2)(Ra3)としては、下記の環が挙げられる。非芳香族炭化水素環は、好ましくは炭素
数3~12である。*は-O-との結合部位を表す。
化水素基、芳香族炭化水素基及びこれらを組み合わせることにより形成される基等が挙げ
られる。
アルキル基及び脂環式炭化水素基は、Ra1、Ra2及びRa3で挙げた基と同様のも
のが挙げられる。
芳香族炭化水素基としては、フェニル基、ナフチル基、アントリル基、ビフェニル基、
フェナントリル基等のアリール基が挙げられる。
組み合わせた基としては、上述したアルキル基と脂環式炭化水素基とを組み合わせた基
(例えばシクロアルキルアルキル基)、ベンジル基等のアラルキル基、アルキル基を有す
る芳香族炭化水素基(p-メチルフェニル基、p-tert-ブチルフェニル基、トリル
基、キシリル基、クメニル基、メシチル基、2,6-ジエチルフェニル基、2-メチル-
6-エチルフェニル基等)、脂環式炭化水素基を有する芳香族炭化水素基(p-シクロヘ
キシルフェニル基、p-アダマンチルフェニル基等)、フェニルシクロヘキシル基等のア
リール-シクロアルキル基等が挙げられる。
Ra2’及びRa3’が互いに結合してそれらが結合する炭素原子及びXとともに複素
環を形成する場合、-C(Ra1’)(Ra3’)-X-Ra2’としては、下記の環が挙げら
れる。*は、結合部位を表す。
Ra1’及びRa2’のうち、少なくとも1つは水素原子であることが好ましい。
na’は、好ましくは0である。
式(1)においてRa1、Ra2及びRa3がアルキル基であり、ma=0であり、n
a=1である基。当該基としては、tert-ブトキシカルボニル基が好ましい。
式(1)において、Ra1、Ra2が、これらが結合する炭素原子と一緒になってアダマン
チル基を形成し、Ra3がアルキル基であり、ma=0であり、na=1である基。
式(1)において、Ra1及びRa2がそれぞれ独立してアルキル基であり、Ra3がアダマ
ンチル基であり、ma=0であり、na=1である基。
基(1)としては、具体的には以下の基が挙げられる。*は結合部位を表す。
マー、より好ましくは酸不安定基を有する(メタ)アクリル系モノマーである。
の脂環式炭化水素基を有するものが挙げられる。脂環式炭化水素基のような嵩高い構造を
有するモノマー(a1)に由来する構造単位を有する樹脂(A)をレジスト組成物に使用
すれば、レジストパターンの解像度を向上させることができる。
、式(a1-0)で表される構造単位(以下、構造単位(a1-0)という場合がある。
)、式(a1-1)で表される構造単位(以下、構造単位(a1-1)という場合がある
。)又は式(a1-2)で表される構造単位(以下、構造単位(a1-2)という場合が
ある。)が挙げられる。これらは単独で使用してもよく、2種以上を併用してもよい。
[式(a1-0)、式(a1-1)及び式(a1-2)中、
La01、La1及びLa2は、それぞれ独立に、-O-又は*-O-(CH2)k1-
CO-O-を表し、k1は1~7のいずれかの整数を表し、*は-CO-との結合部位を
表す。
Ra01、Ra4及びRa5は、それぞれ独立に、水素原子又はメチル基を表す。
Ra02、Ra03及びRa04は、それぞれ独立に、炭素数1~8のアルキル基、炭素数3~
18の脂環式炭化水素基又はこれらを組み合わせた基を表す。
Ra6及びRa7は、それぞれ独立に、炭素数1~8のアルキル基、炭素数3~18の
脂環式炭化水素基又はこれらを組合せることにより形成される基を表す。
m1は0~14のいずれかの整数を表す。
n1は0~10のいずれかの整数を表す。
n1’は0~3のいずれかの整数を表す。]
La01、La1及びLa2は、好ましくは酸素原子又は*-O-(CH2)k01-C
O-O-であり(但し、k01は、好ましくは1~4のいずれかの整数、より好ましくは
1である。)、より好ましくは酸素原子である。
Ra02、Ra03、Ra04、Ra6及びRa7におけるアルキル基、脂環式炭化水素基及び
これらを組合せた基としては、式(1)のRa1、Ra2及びRa3で挙げた基と同様の
基が挙げられる。
Ra02、Ra03、及びRa04におけるアルキル基の炭素数は、好ましくは1~6であり、
より好ましくはメチル基又はエチル基であり、さらに好ましくはメチル基である。
Ra6及びRa7におけるアルキル基の炭素数は、好ましくは1~6であり、より好ま
しくはメチル基、エチル基又はイソプロピル基であり、さらに好ましくはエチル基又はイ
ソプロピル基である。
Ra02、Ra03、Ra04、Ra6及びRa7の脂環式炭化水素基の炭素数は、好ましくは
5~12であり、より好ましくは5~10である。
アルキル基と脂環式炭化水素基とを組合せた基は、これらアルキル基と脂環式炭化水素
基とを組合せた合計炭素数が、18以下であることが好ましい。
Ra02及びRa03は、好ましくは炭素数1~6のアルキル基であり、より好ましくはメチ
ル基又はエチル基である。
Ra04は、好ましくは炭素数1~6のアルキル基又は炭素数5~12の脂環式炭化水素
基であり、より好ましくはメチル基、エチル基、シクロヘキシル基又はアダマンチル基で
ある。
Ra6及びRa7は、それぞれ独立に、好ましくは炭素数1~6のアルキル基であり、
より好ましくはメチル基、エチル基又はイソプロピル基であり、さらに好ましくはエチル
基又はイソプロピル基である。
m1は、好ましくは0~3のいずれかの整数であり、より好ましくは0又は1である。
n1は、好ましくは0~3のいずれかの整数であり、より好ましくは0又は1である。
n1’は好ましくは0又は1である。
のいずれかで表される構造単位及び構造単位(a1-0)におけるRa01に相当するメ
チル基が水素原子に置き換わった構造単位が挙げられ、式(a1-0-1)~式(a1-
0-10)のいずれかで表される構造単位が好ましい。
れたモノマーに由来する構造単位が挙げられる。中でも、式(a1-1-1)~式(a1
-1-4)のいずれかで表される構造単位及び構造単位(a1-1)におけるRa4に相
当するメチル基が水素原子に置き換わった構造単位が好ましく、式(a1-1-1)~式
(a1-1-4)のいずれかで表される構造単位がより好ましい。
で表される構造単位及び構造単位(a1-2)におけるRa5に相当するメチル基が水素
原子に置き換わった構造単位が挙げられ、式(a1-2-2)、式(a1-2-5)及び
式(a1-2-6)が好ましい。
位(a1-2)を含む場合、これらの合計含有率は、樹脂(A)の全構造単位に対して、
通常10~95モル%であり、好ましくは15~90モル%であり、より好ましくは20
~85モル%であり、さらに好ましくは30~70モル%であり、さらにより好ましくは
40~70モル%であり、一層好ましくは45~70モル%である。
れる構造単位(以下、「構造単位(a1-4)」という場合がある。)が挙げられる。
[式(a1-4)中、
Ra32は、水素原子、ハロゲン原子、又は、ハロゲン原子を有していてもよい炭素数1
~6のアルキル基を表す。
Ra33は、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、炭素数1~6のアルキル基、炭素数1~6の
アルコキシ基、炭素数2~4のアルキルカルボニル基、炭素数2~4のアルキルカルボニ
ルオキシ基、アクリロイルオキシ基又はメタクリロイルオキシ基を表す。
laは0~4のいずれかの整数を表す。laが2以上である場合、複数のRa33は互い
に同一であっても異なってもよい。
Ra34及びRa35はそれぞれ独立に、水素原子又は炭素数1~12の炭化水素基を表し、
Ra36は、炭素数1~20の炭化水素基を表すか、Ra35及びRa36は互いに結合してそれ
らが結合する-C-O-とともに炭素数2~20の2価の炭化水素基を形成し、該炭化水
素基及び該2価の炭化水素基に含まれる-CH2-は、-O-又は-S-で置き換わって
もよい。]
プロピル基、ブチル基、ペンチル基及びヘキシル基等が挙げられる。該アルキル基は、炭
素数1~4のアルキル基が好ましく、メチル基又はエチル基がより好ましく、メチル基が
さらに好ましい。
Ra32及びRa33におけるハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子及び臭素原子等
が挙げられる。
ハロゲン原子を有していてもよい炭素数1~6のアルキル基としては、トリフルオロメ
チル基、ジフルオロメチル基、メチル基、ペルフルオロエチル基、2,2,2-トリフル
オロエチル基、1,1,2,2-テトラフルオロエチル基、エチル基、ペルフルオロプロ
ピル基、2,2,3,3,3-ペンタフルオロプロピル基、プロピル基、ペルフルオロブ
チル基、1,1,2,2,3,3,4,4-オクタフルオロブチル基、ブチル基、ペルフ
ルオロペンチル基、2,2,3,3,4,4,5,5,5-ノナフルオロペンチル基、ペ
ンチル基、ヘキシル基、ペルフルオロヘキシル基等が挙げられる。
アルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、ペンチ
ルオキシ基及びヘキシルオキシ基等が挙げられる。なかでも、炭素数1~4のアルコキシ
基が好ましく、メトキシ基又はエトキシ基がより好ましく、メトキシ基がさらに好ましい
。
アルキルカルボニル基としては、アセチル基、プロピオニル基及びブチリル基が挙げら
れる。
アルキルカルボニルオキシ基としては、アセチルオキシ基、プロピオニルオキシ基、ブ
チリルオキシ基等が挙げられる。
Ra34、Ra35及びRa36における炭化水素基としては、アルキル基、脂環式炭化水素基
、芳香族炭化水素基、及びこれらを組み合わせた基が挙げられ、アルキル基及び脂環式炭
化水素基としては、Ra02、Ra03、Ra04、Ra6及びRa7におけるアルキル基及び脂
環式炭化水素基と同様の基が挙げられる。
芳香族炭化水素基としては、フェニル基、ナフチル基、アントリル基、ビフェニル基、
フェナントリル基等のアリール基が挙げられる。
組み合わせた基としては、上述したアルキル基と脂環式炭化水素基とを組み合わせた基
(例えばシクロアルキルアルキル基)、ベンジル基等のアラルキル基、アルキル基を有す
る芳香族炭化水素基(p-メチルフェニル基、p-tert-ブチルフェニル基、トリル
基、キシリル基、クメニル基、メシチル基、2,6-ジエチルフェニル基、2-メチル-
6-エチルフェニル基等)、脂環式炭化水素基を有する芳香族炭化水素基(p-シクロヘ
キシルフェニル基、p-アダマンチルフェニル基等)、フェニルシクロヘキシル基等のア
リール-シクロヘキシル基等が挙げられる。特に、Ra36としては、炭素数1~18のア
ルキル基、炭素数3~18の脂環式炭化水素基、炭素数6~18の芳香族炭化水素基又は
これらを組み合わせることにより形成される基が挙げられる。
Ra33としては、炭素数1~4のアルコキシ基が好ましく、メトキシ基及びエトキシ基
がより好ましく、メトキシ基がさらに好ましい。
laとしては、0又は1が好ましく、0がより好ましい。
Ra34は、好ましくは、水素原子である。
Ra35は、好ましくは、炭素数1~12のアルキル基又は脂環式炭化水素基であり、よ
り好ましくはメチル基又はエチル基である。
Ra36の炭化水素基は、好ましくは、炭素数1~18のアルキル基、炭素数3~18の
脂環式炭化水素基、炭素数6~18の芳香族炭化水素基又はこれらを組み合わせることに
より形成される基であり、より好ましくは、炭素数1~18のアルキル基、炭素数3~1
8の脂環式脂肪族炭化水素基又は炭素数7~18のアラルキル基である。Ra36における
アルキル基及び脂環式炭化水素基は、無置換であることが好ましい。Ra36における芳香
族炭化水素基は、炭素数6~10のアリールオキシ基を有する芳香環が好ましい。
構造単位(a1-4)における-OC(Ra34)(Ra35)-O-Ra36は、酸(例えば
p-トルエンスルホン酸)と接触して脱離し、ヒドロキシ基を形成する。
れたモノマー由来の構造単位が挙げられる。好ましくは、式(a1-4-1)~式(a1
-4-12)でそれぞれ表される構造単位及び構造単位(a1-4)におけるRa32に
相当する水素原子がメチル基に置き換わった構造単位が挙げられ、より好ましくは、式(
a1-4-1)~式(a1-4-5)、式(a1-4-10)でそれぞれ表される構造単
位が挙げられる。
単位の合計に対して、10~95モル%であることが好ましく、15~90モル%である
ことがより好ましく、20~85モル%であることがさらに好ましく、20~70モル%
であることがさらにより好ましく、20~60モル%であることが特に好ましい。
-5)で表される構造単位(以下「構造単位(a1-5)」という場合がある)も挙げら
れる。
式(a1-5)中、
Ra8は、ハロゲン原子を有していてもよい炭素数1~6のアルキル基、水素原子又はハ
ロゲン原子を表す。
Za1は、単結合又は*-(CH2)h3-CO-L54-を表し、h3は1~4のいずれか
の整数を表し、*は、L51との結合部位を表す。
L51、L52、L53及びL54は、それぞれ独立に、-O-又は-S-を表す。
s1は、1~3のいずれかの整数を表す。
s1’は、0~3のいずれかの整数を表す。
ハロゲン原子を有していてもよい炭素数1~6のアルキル基としては、メチル基、エチル
基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、フルオ
ロメチル基及びトリフルオロメチル基が挙げられる。
式(a1-5)においては、Ra8は、水素原子、メチル基又はトリフルオロメチル基が
好ましい。
L51は、酸素原子が好ましい。
L52及びL53は、一方が-O-であり、他方が-S-であることが好ましい。
s1は、1が好ましい。
s1’は、0~2のいずれかの整数が好ましい。
Za1は、単結合又は*-CH2-CO-O-が好ましい。
たモノマー由来の構造単位が挙げられる。中でも、式(a1-5-1)~式(a1-5-
4)でそれぞれ表される構造単位が好ましく、式(a1-5-1)又は式(a1-5-2
)で表される構造単位がより好ましい。
単位に対して、1~50モル%が好ましく、3~45モル%がより好ましく、5~40モ
ル%がさらに好ましく、5~30モル%がさらにより好ましい。
、その含有率は、樹脂(A)の全構造単位に対して、10~95モル%が好ましく、15
~90モル%がより好ましく、20~85モル%がさらに好ましく、20~70モル%が
さらにより好ましく、20~60モル%が特に好ましい。
構造単位(s)は、酸不安定基を有さないモノマー(以下「モノマー(s)」という場
合がある)から導かれる。構造単位(s)を導くモノマーは、レジスト分野で公知の酸不
安定基を有さないモノマーを使用できる。
構造単位(s)としては、ヒドロキシ基又はラクトン環を有するのが好ましい。ヒドロ
キシ基を有し、かつ酸不安定基を有さない構造単位(以下「構造単位(a2)」という場
合がある)及び/又はラクトン環を有し、かつ酸不安定基を有さない構造単位(以下「構
造単位(a3)」という場合がある)を有する樹脂を本発明のレジスト組成物に使用すれ
ば、レジストパターンの解像度及び基板との密着性を向上させることができる。
構造単位(a2)が有するヒドロキシ基は、アルコール性ヒドロキシ基でも、フェノー
ル性ヒドロキシ基でもよい。
本発明のレジスト組成物からレジストパターンを製造するとき、露光光源としてKrF
エキシマレーザ(248nm)、電子線又はEUV(超紫外光)等の高エネルギー線を用
いる場合には、構造単位(a2)として、フェノール性ヒドロキシ基を有する構造単位(
a2)を用いることが好ましい。また、ArFエキシマレーザ(193nm)等を用いる
場合には、構造単位(a2)として、アルコール性ヒドロキシ基を有する構造単位(a2
)が好ましく、後述する構造単位(a2-1)を用いることがより好ましい。構造単位(
a2)としては、1種を単独で含んでいてもよく、2種以上を含んでいてもよい。
-A)で表される構造単位(以下「構造単位(a2-A)」という場合がある)が挙げら
れる。
[式(a2-A)中、
Ra50は、水素原子、ハロゲン原子又はハロゲン原子を有していてもよい炭素数1~6
のアルキル基を表す。
Ra51は、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、炭素数1~6のアルキル基、炭素数1~6の
アルコキシ基、炭素数2~4のアルキルカルボニル基、炭素数2~4のアルキルカルボニ
ルオキシ基、アクリロイルオキシ基又はメタクリロイルオキシ基を表す。
Aa50は、単結合又は*-Xa51-(Aa52-Xa52)nb-を表し、*は-Ra50が結合す
る炭素原子との結合部位を表す。
Aa52は、それぞれ独立に、炭素数1~6のアルカンジイル基を表す。
Xa51及びXa52は、それぞれ独立に、-O-、-CO-O-又は-O-CO-を表す。
nbは、0又は1を表す。
mbは0~4のいずれかの整数を表す。mbが2以上のいずれかの整数である場合、複
数のRa51は互いに同一であっても異なってもよい。]
れる。
Ra50におけるハロゲン原子を有していてもよい炭素数1~6のアルキル基としては、
トリフルオロメチル基、ジフルオロメチル基、メチル基、ペルフルオロエチル基、2,2
,2-トリフルオロエチル基、1,1,2,2-テトラフルオロエチル基、エチル基、ペ
ルフルオロプロピル基、2,2,3,3,3-ペンタフルオロプロピル基、プロピル基、
ペルフルオロブチル基、1,1,2,2,3,3,4,4-オクタフルオロブチル基、ブ
チル基、ペルフルオロペンチル基、2,2,3,3,4,4,5,5,5-ノナフルオロ
ペンチル基、ペンチル基、ヘキシル基及びペルフルオロヘキシル基が挙げられる。
Ra50は、水素原子又は炭素数1~4のアルキル基が好ましく、水素原子、メチル基又
はエチル基がより好ましく、水素原子又はメチル基がさらに好ましい。
Ra51におけるアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル
基、ブチル基、sec-ブチル基、tert-ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基が挙げ
られる。
Ra51におけるアルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソ
プロポキシ基、ブトキシ基、sec-ブトキシ基、tert-ブトキシ基が挙げられる。
炭素数1~4のアルコキシ基が好ましく、メトキシ基又はエトキシ基がより好ましく、メ
トキシ基がさらに好ましい。
Ra51におけるアルキルカルボニル基としては、アセチル基、プロピオニル基及びブチ
リル基等が挙げられる。
Ra51におけるアルキルカルボニルオキシ基としては、アセチルオキシ基、プロピオニ
ルオキシ基及びブチリルオキシ基が挙げられる。
Ra51は、メチル基が好ましい。
O-、*-CO-O-Aa52-CO-O-、*-O-CO-Aa52-O-、*-O-Aa52
-CO-O-、*-CO-O-Aa52-O-CO-、*-O-CO-Aa52-O-CO-、
が挙げられる。なかでも、*-CO-O-、*-CO-O-Aa52-CO-O-又は*-
O-Aa52-CO-O-が好ましい。
プロパン-1,2-ジイル基、ブタン-1,4-ジイル基、ペンタン-1,5-ジイル基
、ヘキサン-1,6-ジイル基、ブタン-1,3-ジイル基、2-メチルプロパン-1,
3-ジイル基、2-メチルプロパン-1,2-ジイル基、ペンタン-1,4-ジイル基及
び2-メチルブタン-1,4-ジイル基等が挙げられる。
Aa52は、メチレン基又はエチレン基であることが好ましい。
好ましく、単結合、*-CO-O-又は*-CO-O-CH2-CO-O-であることが
より好ましく、単結合又は*-CO-O-であることがさらに好ましい。
ヒドロキシ基は、ベンゼン環のo-位又はp-位に結合することが好ましく、p-位に
結合することがより好ましい。
12577号公報に記載されているモノマー由来の構造単位が挙げられる。
構造単位及び、式(a2-2-1)~式(a2-2-6)で表される構造単位において構
造単位(a2-A)におけるRa50に相当するメチル基が水素原子に置き換わった構造
単位が挙げられる。構造単位(a2-A)は、式(a2-2-1)で表される構造単位、
式(a2-2-3)で表される構造単位、式(a2-2-6)で表される構造単位及び式
(a2-2-1)で表される構造単位、式(a2-2-3)で表される構造単位又は式(
a2-2-6)で表される構造単位において、構造単位(a2-A)におけるRa50に
相当するメチル基が水素原子に置き換わった構造単位であることが好ましい。
は、全構造単位に対して、好ましくは5~80モル%であり、より好ましくは10~70
モル%であり、さらに好ましくは15~65モル%であり、さらにより好ましくは20~
65モル%である。
構造単位(a2-A)は、例えば構造単位(a1-4)を用いて重合した後、p-トル
エンスルホン酸等の酸で処理することにより、樹脂(A)に含ませることができる。また
、アセトキシスチレン等を用いて重合した後、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド等
のアルカリで処理することにより、構造単位(a2-A)を樹脂(A)に含ませることが
できる。
a2-1)で表される構造単位(以下「構造単位(a2-1)」という場合がある。)が
挙げられる。
式(a2-1)中、
La3は、-O-又は*-O-(CH2)k2-CO-O-を表し、
k2は1~7のいずれかの整数を表す。*は-CO-との結合部位を表す。
Ra14は、水素原子又はメチル基を表す。
Ra15及びRa16は、それぞれ独立に、水素原子、メチル基又はヒドロキシ基を表す。
o1は、0~10のいずれかの整数を表す。
であり(前記f1は、1~4のいずれかの整数を表す)、より好ましくは-O-である。
Ra14は、好ましくはメチル基である。
Ra15は、好ましくは水素原子である。
Ra16は、好ましくは水素原子又はヒドロキシ基である。
o1は、好ましくは0~3のいずれかの整数、より好ましくは0又は1である。
れたモノマーに由来する構造単位が挙げられる。式(a2-1-1)~式(a2-1-6
)のいずれかで表される構造単位が好ましく、式(a2-1-1)~式(a2-1-4)
のいずれかで表される構造単位がより好ましく、式(a2-1-1)又は式(a2-1-
3)で表される構造単位がさらに好ましい。
位に対して、通常1~45モル%であり、好ましくは1~40モル%であり、より好まし
くは1~35モル%であり、さらに好ましくは1~20モル%であり、さらにより好まし
くは1~10モル%であり、一層好ましくは1.5~5モル%である。
構造単位(a3)が有するラクトン環は、β-プロピオラクトン環、γ-ブチロラクト
ン環、δ-バレロラクトン環のような単環でもよく、単環式のラクトン環と他の環との縮
合環でもよい。好ましくは、γ-ブチロラクトン環、アダマンタンラクトン環、又は、γ
-ブチロラクトン環構造を含む橋かけ環(例えば下式(a3-2)で表される構造単位)
が挙げられる。
又は式(a3-4)で表される構造単位である。これらの1種を単独で含有してもよく、
2種以上を含有していてもよい。
[式(a3-1)、式(a3-2)、式(a3-3)及び式(a3-4)中、
La4、La5及びLa6は、それぞれ独立に、-O-又は*-O-(CH2)k3-
CO-O-(k3は1~7のいずれかの整数を表す。)で表される基を表す。
La7は、-O-、*-O-La8-O-、*-O-La8-CO-O-、*-O-L
a8-CO-O-La9-CO-O-又は*-O-La8-O-CO-La9-O-を表
す。
La8及びLa9は、それぞれ独立に、炭素数1~6のアルカンジイル基を表す。
*はカルボニル基との結合部位を表す。
Ra18、Ra19及びRa20は、それぞれ独立に、水素原子又はメチル基を表す。
Ra24は、ハロゲン原子を有していてもよい炭素数1~6のアルキル基、水素原子又
はハロゲン原子を表す。
Xa3は、-CH2-又は酸素原子を表す。
Ra21は炭素数1~4の脂肪族炭化水素基を表す。
Ra22、Ra23及びRa25は、それぞれ独立に、カルボキシ基、シアノ基又は炭
素数1~4の脂肪族炭化水素基を表す。
p1は0~5のいずれかの整数を表す。
q1は、0~3のいずれかの整数を表す。
r1は、0~3のいずれかの整数を表す。
w1は、0~8のいずれかの整数を表す。
p1、q1、r1及び/又はw1が2以上のとき、複数のRa21、Ra22、Ra2
3及び/又はRa25は互いに同一であってもよく、異なっていてもよい。]
基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、sec-ブチル基及びtert-ブチル基
等のアルキル基が挙げられる。
Ra24におけるハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子及びヨウ素
原子が挙げられる。
Ra24におけるアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピ
ル基、ブチル基、sec-ブチル基、tert-ブチル基、ペンチル基及びヘキシル基等
が挙げられ、好ましくは炭素数1~4のアルキル基が挙げられ、より好ましくはメチル基
又はエチル基が挙げられる。
Ra24におけるハロゲン原子を有するアルキル基としては、トリフルオロメチル基、
ペルフルオロエチル基、ペルフルオロプロピル基、ペルフルオロイソプロピル基、ペルフ
ルオロブチル基、ペルフルオロsec-ブチル基、ペルフルオロtert-ブチル基、ペ
ルフルオロペンチル基、ペルフルオロヘキシル基、トリクロロメチル基、トリブロモメチ
ル基、トリヨードメチル基等が挙げられる。
パン-1,3-ジイル基、プロパン-1,2-ジイル基、ブタン-1,4-ジイル基、ペ
ンタン-1,5-ジイル基、ヘキサン-1,6-ジイル基、ブタン-1,3-ジイル基、
2-メチルプロパン-1,3-ジイル基、2-メチルプロパン-1,2-ジイル基、ペン
タン-1,4-ジイル基及び2-メチルブタン-1,4-ジイル基等が挙げられる。
しくは-O-又は、*-O-(CH2)k3-CO-O-において、k3が1~4のいず
れかの整数である基、より好ましくは-O-及び、*-O-CH2-CO-O-、さらに
好ましくは酸素原子である。
Ra18~Ra21は、好ましくはメチル基である。
Ra22及びRa23は、それぞれ独立に、好ましくはカルボキシ基、シアノ基又はメ
チル基である。
p1、q1及びr1は、それぞれ独立に、好ましくは0~2のいずれかの整数であり、
より好ましくは0又は1である。
ル基であり、より好ましくは水素原子、メチル基又はエチル基であり、さらに好ましくは
水素原子又はメチル基である。
Ra25は、好ましくはカルボキシ基、シアノ基又はメチル基である。
La7は、好ましくは-O-又は*-O-La8-CO-O-であり、より好ましくは
-O-、-O-CH2-CO-O-又は-O-C2H4-CO-O-である。
w1は、好ましくは0~2のいずれかの整数であり、より好ましくは0又は1である。
特に、式(a3-4)は、式(a3-4)’が好ましい。
(式中、Ra24、La7は、上記と同じ意味を表す。)
、特開2000-122294号公報に記載されたモノマー、特開2012-41274
号公報に記載されたモノマーに由来の構造単位が挙げられる。構造単位(a3)としては
、式(a3-1-1)、式(a3-1-2)、式(a3-2-1)、式(a3-2-2)
、式(a3-3-1)、式(a3-3-2)及び式(a3-4-1)~式(a3-4-1
2)のいずれかで表される構造単位及び、前記構造単位において、式(a3-1)~式(
a3-4)におけるRa18、Ra19、Ra20及びRa24に相当するメチル基が水素
原子に置き換わった構造単位が好ましい。
位に対して、通常5~70モル%であり、好ましくは10~65モル%であり、より好ま
しくは10~60モル%であり、さらにより好ましくは20~55モル%であり、一層好
ましくは30~50モル%である。
また、構造単位(a3-1)、構造単位(a3-2)、構造単位(a3-3)又は構造
単位(a3-4)の含有率は、それぞれ、樹脂(A)の全構造単位に対して、5~60モ
ル%が好ましく、15~60モル%がより好ましく、20~60モル%がさらに好ましい
。
構造単位(a4)としては、以下の構造単位が挙げられる。
[式(a4)中、
R41は、水素原子又はメチル基を表す。
R42は、炭素数1~24のフッ素原子を有する飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素
基に含まれる-CH2-は、-O-又は-COに置き換わっていてもよい。]
R42で表される飽和炭化水素基は、鎖式飽和炭化水素基及び単環又は多環の脂環式飽和
炭化水素基、並びに、これらを組み合わせることにより形成される基等が挙げられる。
基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、デシル基、ドデシル基、ペンタデシル基、ヘ
キサデシル基、ヘプタデシル基及びオクタデシル基が挙げられる。単環又は多環の脂環式
飽和炭化水素基としては、シクロペンチル基、シクロへキシル基、シクロヘプチル基、シ
クロオクチル基等のシクロアルキル基;デカヒドロナフチル基、アダマンチル基、ノルボ
ルニル基及び下記の基(*は結合部位を表す。)等の多環式の脂環式飽和炭化水素基が挙
げられる。
組み合わせにより形成される基としては、1以上のアルキル基又は1以上のアルカンジ
イル基と、1以上の脂環式飽和炭化水素基とを組み合わせることにより形成される基が挙
げられ、-アルカンジイル基-脂環式飽和炭化水素基、-脂環式飽和炭化水素基-アルキ
ル基、-アルカンジイル基-脂環式飽和炭化水素基-アルキル基等が挙げられる。
a4-3)及び式(a4-4)からなる群から選択される少なくとも1つで表される構造
単位が挙げられる。
[式(a4-0)中、
R54は、水素原子又はメチル基を表す。
L4aは、単結合又は炭素数1~4のアルカンジイル基を表す。
L3aは、炭素数1~8のペルフルオロアルカンジイル基又は炭素数3~12のペルフ
ルオロシクロアルカンジイル基を表す。
R64は、水素原子又はフッ素原子を表す。]
3-ジイル基、ブタン-1,4-ジイル基等の直鎖状アルカンジイル基、エタン-1,1
-ジイル基、プロパン-1,2-ジイル基、ブタン-1,3-ジイル基、2-メチルプロ
パン-1,3-ジイル基及び2-メチルプロパン-1,2-ジイル基等の分岐状アルカン
ジイル基が挙げられる。
フルオロエチレン基、ペルフルオロエチルフルオロメチレン基、ペルフルオロプロパン-
1,3-ジイル基、ペルフルオロプロパン-1,2-ジイル基、ペルフルオロプロパン-
2,2-ジイル基、ペルフルオロブタン-1,4-ジイル基、ペルフルオロブタン-2,
2-ジイル基、ペルフルオロブタン-1,2-ジイル基、ペルフルオロペンタン-1,5
-ジイル基、ペルフルオロペンタン-2,2-ジイル基、ペルフルオロペンタン-3,3
-ジイル基、ペルフルオロヘキサン-1,6-ジイル基、ペルフルオロヘキサン-2,2
-ジイル基、ペルフルオロヘキサン-3,3-ジイル基、ペルフルオロヘプタン-1,7
-ジイル基、ペルフルオロヘプタン-2,2-ジイル基、ペルフルオロヘプタン-3,4
-ジイル基、ペルフルオロヘプタン-4,4-ジイル基、ペルフルオロオクタン-1,8
-ジイル基、ペルフルオロオクタン-2,2-ジイル基、ペルフルオロオクタン-3,3
-ジイル基、ペルフルオロオクタン-4,4-ジイル基等が挙げられる。
L3aにおけるペルフルオロシクロアルカンジイル基としては、ペルフルオロシクロヘ
キサンジイル基、ペルフルオロシクロペンタンジイル基、ペルフルオロシクロヘプタンジ
イル基、ペルフルオロアダマンタンジイル基等が挙げられる。
結合、メチレン基である。
L3aは、好ましくは炭素数1~6のペルフルオロアルカンジイル基であり、より好ま
しくは炭素数1~3のペルフルオロアルカンジイル基である。
Ra41は、水素原子又はメチル基を表す。
Ra42は、置換基を有していてもよい炭素数1~20の飽和炭化水素基を表し、該飽和
炭化水素基に含まれる-CH2-は、-O-又は-CO-に置き換わっていてもよい。
Aa41は、置換基を有していてもよい炭素数1~6のアルカンジイル基又は式(a-g
1)で表される基を表す。ただし、Aa41及びRa42のうち少なくとも1つは、置換
基としてフッ素原子を有する。
〔式(a-g1)中、
sは0又は1を表す。
Aa42及びAa44は、それぞれ独立に、置換基を有していてもよい炭素数1~5の2価の
飽和炭化水素基を表す。
Aa43は、単結合又は置換基を有していてもよい炭素数1~5の2価の飽和炭化水素基
を表す。
Xa41及びXa42は、それぞれ独立に、-O-、-CO-、-CO-O-又は-O-CO
-を表す。
ただし、Aa42、Aa43、Aa44、Xa41及びXa42の炭素数の合計は7以下である。〕
*は結合部位であり、右側の*が-O-CO-Ra42との結合部位である。]
化水素基、並びに、これらを組み合わせることにより形成される基等が挙げられる。
ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、デシル基、ドデシル基、ペンタデシル基、ヘキサ
デシル基、ヘプタデシル基及びオクタデシル基が挙げられる。単環又は多環の脂環式炭化
水素基としては、シクロペンチル基、シクロへキシル基、シクロヘプチル基、シクロオク
チル基等のシクロアルキル基;デカヒドロナフチル基、アダマンチル基、ノルボルニル基
及び下記の基(*は結合手を表す。)等の多環式の脂環式炭化水素基が挙げられる。
組み合わせにより形成される基としては、1以上のアルキル基又は1以上のアルカンジ
イル基と、1以上の脂環式炭化水素基とを組み合わせることにより形成される基が挙げら
れ、-アルカンジイル基-脂環式炭化水素基、-脂環式炭化水素基-アルキル基、-アル
カンジイル基-脂環式炭化水素基-アルキル基等が挙げられる。
からなる群から選択される少なくとも1種が挙げられる。
[式(a-g3)中、
Xa43は、酸素原子、カルボニル基、*-O-CO-又は*-CO-O-を表す(*は
Ra42との結合部位を表す。)。
Aa45は、フッ素原子を有していてもよい炭素数1~17の飽和炭化水素基を表す。
*は結合部位を表す。]
ただし、Ra42-Xa43-Aa45において、Ra42がフッ素原子を有しない場合は、Aa45
は、少なくとも1つのフッ素原子を有する炭素数1~17の飽和炭化水素基を表す。
、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、デシル基、ドデシル基、ペンタデ
シル基、ヘキサデシル基、ヘプタデシル基及びオクタデシル基等のアルキル基;シクロペ
ンチル基、シクロへキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基等の単環式の脂環式
炭化水素基;並びにデカヒドロナフチル基、アダマンチル基、ノルボルニル基及び下記の
基(*は結合手を表す。)等の多環式の脂環式炭化水素基が挙げられる。
するアルキル基及び/又は式(a-g3)で表される基を有する飽和炭化水素基がより好
ましい。
Ra42がフッ素原子を有する飽和炭化水素基である場合、好ましくはペルフルオロアル
キル基又はペルフルオロシクロアルキル基であり、より好ましくは炭素数が1~6のペル
フルオロアルキル基であり、さらに好ましくは炭素数1~3のペルフルオロアルキル基で
ある。ペルフルオロアルキル基としては、ペルフルオロメチル基、ペルフルオロエチル基
、ペルフルオロプロピル基、ペルフルオロブチル基、ペルフルオロペンチル基、ペルフル
オロヘキシル基、ペルフルオロヘプチル基及びペルフルオロオクチル基等が挙げられる。
ペルフルオロシクロアルキル基としては、ペルフルオロシクロヘキシル基等が挙げられる
。
Ra42が、式(a-g3)で表される基を有する飽和炭化水素基である場合、式(a-
g3)で表される基に含まれる炭素数を含めて、Ra42の総炭素数は、15以下が好まし
く、12以下がより好ましい。式(a-g3)で表される基を置換基として有する場合、
その数は1個が好ましい。
らに好ましくは式(a-g2)で表される基である。
[式(a-g2)中、
Aa46は、フッ素原子を有していてもよい炭素数1~17の2価の飽和炭化水素基を表
す。
Xa44は、*-O-CO-又は*-CO-O-を表す(*はAa46との結合部位を表す。
)。
Aa47は、フッ素原子を有していてもよい炭素数1~17の飽和炭化水素基を表す。
ただし、Aa46、Aa47及びXa44の炭素数の合計は18以下であり、Aa46及びAa47の
うち、少なくとも一方は、少なくとも1つのフッ素原子を有する。
*はカルボニル基との結合部位を表す。]
Aa47の飽和炭化水素基の炭素数は4~15が好ましく、5~12がより好ましく、Aa
47は、シクロヘキシル基又はアダマンチル基がさらに好ましい。
3-ジイル基、ブタン-1,4-ジイル基、ペンタン-1,5-ジイル基、ヘキサン-1
,6-ジイル基等の直鎖状アルカンジイル基;プロパン-1,2-ジイル基、ブタン-1
,3-ジイル基、2-メチルプロパン-1,2-ジイル基、1-メチルブタン-1,4-
ジイル基、2-メチルブタン-1,4-ジイル基等の分岐状アルカンジイル基が挙げられ
る。
Aa41の表すアルカンジイル基における置換基としては、ヒドロキシ基及び炭素数1~
6のアルコキシ基等が挙げられる。
Aa41は、好ましくは炭素数1~4のアルカンジイル基であり、より好ましくは炭素数
2~4のアルカンジイル基であり、さらに好ましくはエチレン基である。
和炭化水素基としては、直鎖又は分岐のアルカンジイル基及び単環の2価の脂環式飽和炭
化水素基、並びに、アルカンジイル基及び2価の脂環式飽和炭化水素基を組合せることに
より形成される飽和炭化水素基等が挙げられる。具体的には、メチレン基、エチレン基、
プロパン-1,3-ジイル基、プロパン-1,2-ジイル基、ブタン-1,4-ジイル基
、1-メチルプロパン-1,3-ジイル基、2-メチルプロパン-1,3-ジイル基、2
-メチルプロパン-1,2-ジイル基等が挙げられる。
Aa42、Aa43及びAa44の表す2価の飽和炭化水素基の置換基としては、ヒド
ロキシ基及び炭素数1~6のアルコキシ基等が挙げられる。
sは、0であることが好ましい。
-O-CO-である基としては、以下の基等が挙げられる。以下の例示において、*及び
**はそれぞれ結合部位を表わし、**が-O-CO-Ra42との結合部位である。
ましい。
[式(a4-2)中、
Rf5は、水素原子又はメチル基を表す。
L44は、炭素数1~6のアルカンジイル基を表し、該アルカンジイル基に含まれる-C
H2-は、-O-又は-CO-に置き換わっていてもよい。
Rf6は、炭素数1~20のフッ素原子を有する飽和炭化水素基を表す。
ただし、L44及びRf6の合計炭素数の上限は21である。]
れる。
Rf6の飽和炭化水素基は、Ra42で例示したものと同様の基が挙げられる。
L44における炭素数1~6のアルカンジイル基としては、炭素数2~4のアルカンジ
イル基が好ましく、エチレン基がより好ましい。
-1-11)でそれぞれ表される構造単位が挙げられる。構造単位(a4-2)における
Rf5に相当するメチル基が水素原子に置き換わった構造単位も式(a4-2)で表され
る構造単位として挙げられる。
[式(a4-3)中、
Rf7は、水素原子又はメチル基を表す。
L5は、炭素数1~6のアルカンジイル基を表す。
Af13は、フッ素原子を有していてもよい炭素数1~18の2価の飽和炭化水素基を表
す。
Xf12は、*-O-CO-又は*-CO-O-を表す(*はAf13との結合部位を表す。
)。
Af14は、フッ素原子を有していてもよい炭素数1~17の飽和炭化水素基を表す。
但し、Af13及びAf14の少なくとも1つは、フッ素原子を有し、L5、Af13及びAf14
の合計炭素数の上限は20である。]
様の基が挙げられる。
くはフッ素原子を有していてもよい2価の鎖式飽和炭化水素基及びフッ素原子を有してい
てもよい2価の脂環式飽和炭化水素基であり、より好ましくはペルフルオロアルカンジイ
ル基である。
フッ素原子を有していてもよい2価の鎖式飽和炭化水素基としては、メチレン基、エチ
レン基、プロパンジイル基、ブタンジイル基及びペンタンジイル基等のアルカンジイル基
;ジフルオロメチレン基、ペルフルオロエチレン基、ペルフルオロプロパンジイル基、ペ
ルフルオロブタンジイル基及びペルフルオロペンタンジイル基等のペルフルオロアルカン
ジイル基等が挙げられる。
フッ素原子を有していてもよい2価の脂環式飽和炭化水素基は、単環式及び多環式のい
ずれでもよい。単環式の基としては、シクロヘキサンジイル基及びペルフルオロシクロヘ
キサンジイル基等が挙げられる。多環式の基としては、アダマンタンジイル基、ノルボル
ナンジイル基、ペルフルオロアダマンタンジイル基等が挙げられる。
例示したものと同様の基が挙げられる。なかでも、トリフルオロメチル基、ジフルオロメ
チル基、メチル基、ペルフルオロエチル基、2,2,2-トリフルオロエチル基、1,1
,2,2-テトラフルオロエチル基、エチル基、ペルフルオロプロピル基、2,2,3,
3,3-ペンタフルオロプロピル基、プロピル基、ペルフルオロブチル基、1,1,2,
2,3,3,4,4-オクタフルオロブチル基、ブチル基、ペルフルオロペンチル基、2
,2,3,3,4,4,5,5,5-ノナフルオロペンチル基、ペンチル基、ヘキシル基
、ペルフルオロヘキシル基、ヘプチル基、ペルフルオロヘプチル基、オクチル基及びペル
フルオロオクチル基等のフッ化アルキル基、シクロプロピルメチル基、シクロプロピル基
、シクロブチルメチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、ペルフルオロシクロヘ
キシル基、アダマンチル基、アダマンチルメチル基、アダマンチルジメチル基、ノルボル
ニル基、ノルボルニルメチル基、ペルフルオロアダマンチル基、ペルフルオロアダマンチ
ルメチル基等が好ましい。
Af13の2価の飽和炭化水素基は、炭素数1~6の鎖式飽和炭化水素基及び炭素数3~
12の脂環式飽和炭化水素基を含む基が好ましく、炭素数2~3の鎖式飽和炭化水素基が
さらに好ましい。
Af14の飽和炭化水素基は、炭素数3~12の鎖式飽和炭化水素基及び炭素数3~12
の脂環式飽和炭化水素基を含む基が好ましく、炭素数3~10の鎖式飽和炭化水素基及び
炭素数3~10の脂環式飽和炭化水素基を含む基がさらに好ましい。なかでも、Af14は
、好ましくは炭素数3~12の脂環式飽和炭化水素基を含む基であり、より好ましくは、
シクロプロピルメチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、ノルボルニル基及びア
ダマンチル基である。
4-1’-11)でそれぞれ表される構造単位が挙げられる。構造単位(a4-3)にお
けるRf7に相当するメチル基が水素原子に置き換わった構造単位も式(a4-3)で表
される構造単位として挙げられる。
[式(a4-4)中、
Rf21は、水素原子又はメチル基を表す。
Af21は、-(CH2)j1-、-(CH2)j2-O-(CH2)j3-又は-(CH2)j4-
CO-O-(CH2)j5-を表す。
j1~j5は、それぞれ独立に、1~6のいずれかの整数を表す。
Rf22は、フッ素原子を有する炭素数1~10の飽和炭化水素基を表す。]
Rf22は、フッ素原子を有する炭素数1~10のアルキル基又はフッ素原子を有する炭素
数1~10の脂環式飽和炭化水素基が好ましく、フッ素原子を有する炭素数1~10のア
ルキル基がより好ましく、フッ素原子を有する炭素数1~6のアルキル基がさらに好まし
い。
基又はメチレン基がより好ましく、メチレン基がさらに好ましい。
表される構造単位において、構造単位(a4-4)におけるRf21に相当するメチル基が
水素原子に置き換わった構造単位が挙げられる。
位に対して、1~20モル%が好ましく、2~15モル%がより好ましく、3~10モル
%がさらに好ましい。
構造単位(a5)が有する非脱離炭化水素基としては、直鎖、分岐又は環状の炭化水素
基を有する基が挙げられる。なかでも、構造単位(a5)は、脂環式炭化水素基を有する
基が好ましい。
構造単位(a5)としては、例えば、式(a5-1)で表される構造単位が挙げられる
。
[式(a5-1)中、
R51は、水素原子又はメチル基を表す。
R52は、炭素数3~18の脂環式炭化水素基を表し、該脂環式炭化水素基に含まれる水
素原子は炭素数1~8の脂肪族炭化水素基で置換されていてもよい。
L55は、単結合又は炭素数1~18の2価の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基
に含まれる-CH2-は、-O-又は-CO-に置き換わっていてもよい。]
の脂環式炭化水素基としては、例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペン
チル基及びシクロヘキシル基が挙げられる。多環式の脂環式炭化水素基としては、例えば
、アダマンチル基及びノルボルニル基等が挙げられる。
炭素数1~8の脂肪族炭化水素基は、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソ
プロピル基、ブチル基、sec-ブチル基、tert-ブチル基、ペンチル基、ヘキシル
基、オクチル基及び2-エチルヘキシル基等のアルキル基が挙げられる。
置換基を有する脂環式炭化水素基としては、3-ヒドロキシアダマンチル基、3-メチ
ルアダマンチル基などが挙げられる。
R52は、好ましくは、無置換の炭素数3~18の脂環式炭化水素基であり、より好まし
くは、アダマンチル基、ノルボルニル基又はシクロヘキシル基である。
環式飽和炭化水素基が挙げられ、好ましくは2価の鎖式飽和炭化水素基である。
2価の鎖式飽和炭化水素基としては、例えば、メチレン基、エチレン基、プロパンジイ
ル基、ブタンジイル基及びペンタンジイル基等のアルカンジイル基が挙げられる。
2価の脂環式飽和炭化水素基は、単環式及び多環式のいずれでもよい。単環式の2価の
脂環式飽和炭化水素基としては、シクロペンタンジイル基及びシクロヘキサンジイル基等
のシクロアルカンジイル基が挙げられる。多環式の2価の脂環式飽和炭化水素基としては
、アダマンタンジイル基及びノルボルナンジイル基等が挙げられる。
換わった基としては、例えば、式(L1-1)~式(L1-4)で表される基が挙げられ
る。下記式中、*及び**は各々結合手を表し、*は酸素原子との結合部位を表す。
式(L1-1)中、
Xx1は、*-O-CO-又は*-CO-O-を表す(*はLx1との結合部位を表す。
)。
Lx1は、炭素数1~16の2価の脂肪族飽和炭化水素基を表す。
Lx2は、単結合又は炭素数1~15の2価の脂肪族飽和炭化水素基を表す。
ただし、Lx1及びLx2の合計炭素数は、16以下である。
式(L1-2)中、
Lx3は、炭素数1~17の2価の脂肪族飽和炭化水素基を表す。
Lx4は、単結合又は炭素数1~16の2価の脂肪族飽和炭化水素基を表す。
ただし、Lx3及びLx4の合計炭素数は、17以下である。
式(L1-3)中、
Lx5は、炭素数1~15の2価の脂肪族飽和炭化水素基を表す。
Lx6及びLx7は、それぞれ独立に、単結合又は炭素数1~14の2価の脂肪族飽和炭化
水素基を表す。
ただし、Lx5、Lx6及びLx7の合計炭素数は、15以下である。
式(L1-4)中、
Lx8及びLx9は、単結合又は炭素数1~12の2価の脂肪族飽和炭化水素基を表す。
Wx1は、炭素数3~15の2価の脂環式飽和炭化水素基を表す。
ただし、Lx8、Lx9及びWx1の合計炭素数は、15以下である。
メチレン基又はエチレン基である。
Lx2は、好ましくは、単結合又は炭素数1~8の2価の脂肪族飽和炭化水素基、より好
ましくは、単結合である。
Lx3は、好ましくは、炭素数1~8の2価の脂肪族飽和炭化水素基である。
Lx4は、好ましくは、単結合又は炭素数1~8の2価の脂肪族飽和炭化水素基である。
Lx5は、好ましくは、炭素数1~8の2価の脂肪族飽和炭化水素基、より好ましくは、
メチレン基又はエチレン基である。
Lx6は、好ましくは、単結合又は炭素数1~8の2価の脂肪族飽和炭化水素基、より好
ましくは、メチレン基又はエチレン基である。
Lx7は、好ましくは、単結合又は炭素数1~8の2価の脂肪族飽和炭化水素基である。
Lx8は、好ましくは、単結合又は炭素数1~8の2価の脂肪族飽和炭化水素基、より好
ましくは、単結合又はメチレン基である。
Lx9は、好ましくは、単結合又は炭素数1~8の2価の脂肪族飽和炭化水素基、より好
ましくは、単結合又はメチレン基である。
Wx1は、好ましくは、炭素数3~10の2価の脂環式飽和炭化水素基、より好ましくは
、シクロヘキサンジイル基又はアダマンタンジイル基である。
a5-1)におけるR51に相当するメチル基が水素原子に置き換わった構造単位が挙げら
れる。
樹脂(A)が、構造単位(a5)を有する場合、その含有率は、樹脂(A)の全構造単
位に対して、1~30モル%が好ましく、2~20モル%がより好ましく、3~15モル
%がさらに好ましい。
樹脂(A)は、さらに、露光により分解して酸を発生する構造単位(以下、「構造単位
(II)という場合がある)を含有してもよい。構造単位(II)としては、具体的には
特開2016-79235号公報に記載の構造単位が挙げられ、側鎖にスルホナート基若
しくはカルボキシレート基と有機カチオンとを有する構造単位又は側鎖にスルホニオ基と
有機アニオンとを有する構造単位であることが好ましい。
は、式(II-2-A’)で表される構造単位であることが好ましい。
[式(II-2-A’)中、
XIII3は、炭素数1~18の2価の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基に含
まれる-CH2-は、-O-、-S-又は-CO-に置き換わっていてもよく、該飽和炭
化水素基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子、ハロゲン原子を有していてもよい炭素数
1~6のアルキル基又はヒドロキシ基で置き換わっていてもよい。
Ax1は、炭素数1~8のアルカンジイル基を表し、該アルカンジイル基に含まれる水
素原子は、フッ素原子又は炭素数1~6のペルフルオロアルキル基で置換されていてもよ
い。
RA-は、スルホナート基又はカルボキシレート基を表す。
RIII3は、水素原子、ハロゲン原子又はハロゲン原子を有していてもよい炭素数1
~6のアルキル基を表す。
ZA+は、有機カチオンを表す。]
ウ素原子等が挙げられる。
RIII3で表されるハロゲン原子を有していてもよい炭素数1~6のアルキル基とし
ては、Ra8で表されるハロゲン原子を有していてもよい炭素数1~6のアルキル基と同
じものが挙げられる。
Ax1で表される炭素数1~8のアルカンジイル基としては、メチレン基、エチレン基
、プロパン-1,3-ジイル基、ブタン-1,4-ジイル基、ペンタン-1,5-ジイル
基、ヘキサン-1,6-ジイル基、エタン-1,1-ジイル基、プロパン-1,1-ジイ
ル基、プロパン-1,2-ジイル基、プロパン-2,2-ジイル基、ペンタン-2,4-
ジイル基、2-メチルプロパン-1,3-ジイル基、2-メチルプロパン-1,2-ジイ
ル基、ペンタン-1,4-ジイル基、2-メチルブタン-1,4-ジイル基等が挙げられ
る。
Ax1に置換されていてもよい炭素数1~6のペルフルオロアルキル基としては、トリ
フルオロメチル基、ペルフルオロエチル基、ペルフルオロプロピル基、ペルフルオロイソ
プロピル基、ペルフルオロブチル基、ペルフルオロsec-ブチル基、ペルフルオロte
rt-ブチル基、ペルフルオロペンチル基、ペルフルオロヘキシル基などが挙げられる。
状アルカンジイル基、単環式又は多環式の2価の脂環飽和炭化水素基が挙げられ、これら
の組み合わせてもよい。
具体的には、メチレン基、エチレン基、プロパン-1,3-ジイル基、プロパン-1,
2-ジイル基、ブタン-1,4-ジイル基、ペンタン-1,5-ジイル基、ヘキサン-1
,6-ジイル基、ヘプタン-1,7-ジイル基、オクタン-1,8-ジイル基、ノナン-
1,9-ジイル基、デカン-1,10-ジイル基、ウンデカン-1,11-ジイル基、ド
デカン-1,12-ジイル基等の直鎖状アルカンジイル基;ブタン-1,3-ジイル基、
2-メチルプロパン-1,3-ジイル基、2-メチルプロパン-1,2-ジイル基、ペン
タン-1,4-ジイル基、2-メチルブタン-1,4-ジイル基等の分岐状アルカンジイ
ル基;シクロブタン-1,3-ジイル基、シクロペンタン-1,3-ジイル基、シクロヘ
キサン-1,4-ジイル基、シクロオクタン-1,5-ジイル基等のシクロアルカンジイ
ル基;ノルボルナン-1,4-ジイル基、ノルボルナン-2,5-ジイル基、アダマンタ
ン-1,5-ジイル基、アダマンタン-2,6-ジイル基等の2価の多環式脂環式飽和炭
化水素基等が挙げられる。
ものとしては、例えば式(X1)~式(X53)で表される2価の基が挙げられる。ただ
し、飽和炭化水素基に含まれる-CH2-が、-O-、-S-又は-CO-で置き換わる
前の炭素数はそれぞれ17以下である。下記式において、*及び**は結合部位を表し、
*はAx1との結合部位を表す。
X4は、炭素数1~15の飽和炭化水素基を表す。
X5は、炭素数1~13の飽和炭化水素基を表す。
X6は、炭素数1~14の飽和炭化水素基を表す。
X7は、炭素数1~14の飽和炭化水素基を表す。
X8は、炭素数1~13の飽和炭化水素基を表す。
チオン、有機ヨードニウムカチオン、有機アンモニウムカチオン、ベンゾチアゾリウムカ
チオン及び有機ホスホニウムカチオン等が挙げられる。これらの中でも、有機スルホニウ
ムカチオン及び有機ヨードニウムカチオンが好ましく、アリールスルホニウムカチオンが
より好ましい。具体的には、式(b2-1)~式(b2-4)のいずれかで表されるカチ
オン(以下、式番号に応じて「カチオン(b2-1)」等という場合がある。)が挙げら
れる。
Rb4~Rb6は、それぞれ独立に、炭素数1~30の鎖式炭化水素基、炭素数3~36の
脂環式炭化水素基又は炭素数6~36の芳香族炭化水素基を表し、該鎖式炭化水素基に含
まれる水素原子は、ヒドロキシ基、炭素数1~12のアルコキシ基、炭素数3~12の脂
環式炭化水素基又は炭素数6~18の芳香族炭化水素基で置換されていてもよく、該脂環
式炭化水素基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子、炭素数1~18の脂肪族炭化水素基
、炭素数2~4のアルキルカルボニル基又はグリシジルオキシ基で置換されていてもよく
、該芳香族炭化水素基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子、ヒドロキシ基又は炭素数1
~12のアルコキシ基で置換されていてもよい。
Rb4とRb5とは、互いに結合してそれらが結合する硫黄原子と一緒になって環を形成し
てもよく、該環に含まれる-CH2-は、-O-、-S-又は-CO-に置き換わっても
よい。
Rb7及びRb8は、それぞれ独立に、ヒドロキシ基、炭素数1~12の脂肪族炭化水素基
又は炭素数1~12のアルコキシ基を表す。
m2及びn2は、それぞれ独立に0~5のいずれかの整数を表す。
m2が2以上のとき、複数のRb7は同一でも異なってもよく、n2が2以上のとき、複
数のRb8は同一でも異なってもよい。
Rb9及びRb10は、それぞれ独立に、炭素数1~36の鎖式炭化水素基又は炭素数3~
36の脂環式炭化水素基を表す。
Rb9とRb10とは、互いに結合してそれらが結合する硫黄原子と一緒になって環を形成
してもよく、該環に含まれる-CH2-は、-O-、-S-又は-CO-に置き換わって
もよい。
Rb11は、水素原子、炭素数1~36の鎖式炭化水素基、炭素数3~36の脂環式炭化
水素基又は炭素数6~18の芳香族炭化水素基を表す。
Rb12は、炭素数1~12の鎖式炭化水素基、炭素数3~18の脂環式炭化水素基又は
炭素数6~18の芳香族炭化水素基を表し、該鎖式炭化水素に含まれる水素原子は、炭素
数6~18の芳香族炭化水素基で置換されていてもよく、該芳香族炭化水素基に含まれる
水素原子は、炭素数1~12のアルコキシ基又は炭素数1~12のアルキルカルボニルオ
キシ基で置換されていてもよい。
Rb11とRb12とは、互いに結合してそれらが結合する-CH-CO-を含めて環を形成
していてもよく、該環に含まれる-CH2-は、-O-、-S-又は-CO-に置き換わ
ってもよい。
Rb13~Rb18は、それぞれ独立に、ヒドロキシ基、炭素数1~12の脂肪族炭化水素基
又は炭素数1~12のアルコキシ基を表す。
Lb31は、硫黄原子又は酸素原子を表す。
o2、p2、s2、及びt2は、それぞれ独立に、0~5のいずれかの整数を表す。
q2及びr2は、それぞれ独立に、0~4のいずれかの整数を表す。
u2は0又は1を表す。
o2が2以上のとき、複数のRb13は同一又は相異なり、p2が2以上のとき、複数の
Rb14は同一又は相異なり、q2が2以上のとき、複数のRb15は同一又は相異なり、r2
が2以上のとき、複数のRb16は同一又は相異なり、s2が2以上のとき、複数のRb17は
同一又は相異なり、t2が2以上のとき、複数のRb18は同一又は相異なる。
脂肪族炭化水素基とは、鎖式炭化水素基及び脂環式炭化水素基を表す。
鎖式炭化水素基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル
基、sec-ブチル基、tert-ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基及び
2-エチルヘキシル基のアルキル基が挙げられる。
特に、Rb9~Rb12の鎖式炭化水素基は、好ましくは炭素数1~12である。
脂環式炭化水素基としては、単環式又は多環式のいずれでもよく、単環式の脂環式炭化
水素基としては、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロへキシ
ル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、シクロデシル基等のシクロアルキル基が挙
げられる。多環式の脂環式炭化水素基としては、デカヒドロナフチル基、アダマンチル基
、ノルボルニル基及び下記の基等が挙げられる。
特に、Rb9~Rb12の脂環式炭化水素基は、好ましくは炭素数3~18、より好ましく
は炭素数4~12である。
水素原子が脂肪族炭化水素基で置換された脂環式炭化水素基としては、メチルシクロヘ
キシル基、ジメチルシクロへキシル基、2-メチルアダマンタン-2-イル基、2-エチ
ルアダマンタン-2-イル基、2-イソプロピルアダマンタン-2-イル基、メチルノル
ボルニル基、イソボルニル基等が挙げられる。水素原子が脂肪族炭化水素基で置換された
脂環式炭化水素基においては、脂環式炭化水素基と脂肪族炭化水素基との合計炭素数が好
ましくは20以下である。
芳香族炭化水素基としては、フェニル基、ビフェニリル基、ナフチル基、フェナントリ
ル基等のアリール基が挙げられる。
なお、芳香族炭化水素基は、鎖式炭化水素基又は脂環式炭化水素基を有していてもよく
、炭素数1~18の鎖式炭化水素基を有する芳香族炭化水素基(トリル基、キシリル基、
クメニル基、メシチル基、p-エチルフェニル基、p-tert-ブチルフェニル基、2
,6-ジエチルフェニル基、2-メチル-6-エチルフェニル基等)、及び炭素数3~1
8の脂環式炭化水素基を有する芳香族炭化水素基(p-シクロへキシルフェニル基、p-
アダマンチルフェニル基等)等が挙げられる。
水素原子がアルコキシ基で置換された芳香族炭化水素基としては、p-メトキシフェニ
ル基等が挙げられる。
水素原子が芳香族炭化水素基で置換された鎖式炭化水素基としては、ベンジル基、フェ
ネチル基、フェニルプロピル基、トリチル基、ナフチルメチル基、ナフチルエチル基等の
アラルキル基が挙げられる。
アルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、ペンチ
ルオキシ基、ヘキシルオキシ基、ヘプチルオキシ基、オクチルオキシ基、デシルオキシ基
及びドデシルオキシ基等が挙げられる。
アルキルカルボニル基としては、アセチル基、プロピオニル基及びブチリル基等が挙げ
られる。
ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子及びヨウ素原子等が挙げられ
る。
アルキルカルボニルオキシ基としては、メチルカルボニルオキシ基、エチルカルボニル
オキシ基、プロピルカルボニルオキシ基、イソプロピルカルボニルオキシ基、ブチルカル
ボニルオキシ基、sec-ブチルカルボニルオキシ基、tert-ブチルカルボニルオキ
シ基、ペンチルカルボニルオキシ基、ヘキシルカルボニルオキシ基、オクチルカルボニル
オキシ基及び2-エチルヘキシルカルボニルオキシ基等が挙げられる。
Rb4とRb5とが互いに結合してそれらが結合する硫黄原子と一緒になって形成する環は
、単環式、多環式、芳香族性、非芳香族性、飽和及び不飽和のいずれの環であってもよい
。この環は、炭素数3~18の環が挙げられ、好ましくは炭素数4~18の環である。ま
た、硫黄原子を含む環は、3員環~12員環が挙げられ、好ましくは3員環~7員環であ
り、例えば下記の環が挙げられる。
Rb9とRb10とが一緒になって形成する環は、単環式、多環式、芳香族性、非芳香族性
、飽和及び不飽和のいずれの環であってもよい。この環は、3員環~12員環が挙げられ
、好ましくは3員環~7員環である。例えば、チオラン-1-イウム環(テトラヒドロチ
オフェニウム環)、チアン-1-イウム環、1,4-オキサチアン-4-イウム環等が挙
げられる。
Rb11とRb12とが一緒になって形成する環は、単環式、多環式、芳香族性、非芳香族性
、飽和及び不飽和のいずれの環であってもよい。この環は、3員環~12員環が挙げられ
、好ましくは3員環~7員環である。オキソシクロヘプタン環、オキソシクロヘキサン環
、オキソノルボルナン環、オキソアダマンタン環等が挙げられる。
-1)である。
カチオン(b2-1)としては、以下のカチオンが挙げられる。
であることが好ましい。
[式(II-2-A)中、RIII3、XIII3及びZA+は、上記と同じ意味を表
す。
zは、0~6のいずれかの整数を表す。
RIII2及びRIII4は、それぞれ独立して、水素原子、フッ素原子又は炭素数1
~6のペルフルオロアルキル基を表し、zが2以上のとき、複数のRIII2及びRII
I4は互いに同一であってもよいし、異なっていてもよい。
Qa及びQbは、それぞれ独立して、フッ素原子又は炭素数1~6のペルフルオロアル
キル基を表す。]
RIII2、RIII4、Qa及びQbで表される炭素数1~6のペルフルオロアルキ
ル基としては、前述のAx1の置換基である炭素数1~6のペルフルオロアルキル基と同
じものが挙げられる。
位であることが好ましい。
[式(II-2-A-1)中、
RIII2、RIII3、RIII4、Qa、Qb、z及びZA+は、上記と同じ意味を
表す。
RIII5は、炭素数1~12の飽和炭化水素基を表す。
XI2は、炭素数1~11の2価の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基に含まれ
る-CH2-は、-O-、-S-又は-CO-に置き換わっていてもよく、該飽和炭化水
素基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子又はヒドロキシ基で置換されていてもよい。]
RIII5で表される炭素数1~12の飽和炭化水素基としては、メチル基、エチル基
、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、sec-ブチル基、tert-ブチル基、ペ
ンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基及
びドデシル基等の直鎖又は分岐のアルキル基が挙げられる。
XI2で表される2価の飽和炭化水素基としては、XIII3で表される2価の飽和炭
化水素基と同様のものが挙げられる。
れる構造単位がさらに好ましい。
[式(II-2-A-2)中、RIII3、RIII5及びZA+は、上記と同じ意味
を表す。
m及びnは、それぞれ独立に、1又は2を表す。]
れる構造単位であることが好ましい。
[式(II-1-1)中、
AII1は、単結合又は2価の連結基を表す。
RII1は、炭素数6~18の2価の芳香族炭化水素基を表す。
RII2及びRII3は、それぞれ独立して、炭素数1~18の炭化水素基を表し、R
II2及びRII3は互いに結合してそれらが結合する硫黄原子とともに環を形成してい
てもよい。
RII4は、水素原子、ハロゲン原子又はハロゲン原子を有していてもよい炭素数1~6
のアルキル基を表す。
A-は、有機アニオンを表す。]
RII1で表される炭素数6~18の2価の芳香族炭化水素基としては、フェニレン基
及びナフチレン基等が挙げられる。
RII2及びRII3で表される炭化水素基としては、Ra3’で表される炭化水素基
と同じものが挙げられる。
RII4で表されるハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子及びヨウ
素原子等が挙げられる。
RII4で表されるハロゲン原子を有していてもよい炭素数1~6のアルキル基として
は、Ra8で表されるハロゲン原子を有していてもよい炭素数1~6のアルキル基と同じ
ものが挙げられる。
AII1で表される2価の連結基としては、例えば、炭素数1~18の2価の飽和炭化
水素基が挙げられ、該2価の飽和炭化水素基に含まれる-CH2-は、-O-、-S-又
は-CO-で置き換わっていてもよい。具体的には、XIII3で表される炭素数1~1
8の2価の飽和炭化水素基と同じものが挙げられる。
どが挙げられる。
ン、スルホニルメチドアニオン及びカルボン酸アニオン等が挙げられる。A-で表される
有機アニオンは、スルホン酸アニオンが好ましく、スルホン酸アニオンとしては、後述す
る式(B1)で表される塩に含まれるアニオンであることがより好ましい。
られる。
脂(A)の全構造単位に対して、好ましくは1~20モル%であり、より好ましくは2~
15モル%であり、さらに好ましくは3~10モル%である。
位としては、当技術分野で周知の構造単位が挙げられる。
樹脂(A)は、好ましくは、構造単位(a1)と構造単位(s)とからなる樹脂、すな
わち、モノマー(a1)とモノマー(s)との共重合体である。
構造単位(a1)は、好ましくは構造単位(a1-0)、構造単位(a1-1)及び構
造単位(a1-2)(好ましくはシクロヘキシル基、及びシクロペンチル基を有する該構
造単位)からなる群から選ばれる少なくとも一種であり、より好ましくは構造単位(a1
-0)、構造単位(a1-1)及び構造単位(a1-2)(好ましくはシクロヘキシル基
、又はシクロペンチル基を有する該構造単位)からなる群から選ばれる少なくとも二種で
あり、さらに好ましくは、構造単位(a1-1)及び構造単位(a1-2)からなる群か
ら選ばれる少なくとも二種である。
構造単位(s)は、好ましくは構造単位(a2)及び構造単位(a3)からなる群から
選ばれる少なくとも一種である。構造単位(a2)は、好ましくは式(a2-1)で表さ
れる構造単位又は式(a2-A)で表される構造単位である。構造単位(a3)は、好ま
しくは式(a3-1)で表される構造単位、式(a3-2)で表される構造単位及び式(
a3-4)で表される構造単位からなる群から選ばれる少なくとも一種である。
く、これら構造単位を誘導するモノマーを用いて、公知の重合法(例えばラジカル重合法
)によって製造することができる。樹脂(A)が有する各構造単位の含有率は、重合に用
いるモノマーの使用量で調整できる。
樹脂(A)の重量平均分子量は、好ましくは、2,000以上(より好ましくは2,5
00以上、さらに好ましくは3,000以上)、50,000以下(より好ましくは30
,000以下、さらに好ましくは15,000以下)である。本明細書では、重量平均分
子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーで実施例に記載の条件により求めた値
である。
樹脂(X)はフッ素原子を有する構造単位を含む樹脂である。樹脂(X)としては、例
えば、構造単位(a4)のみからなる樹脂、及び構造単位(a4)と構造単位(a5)と
からなる樹脂等が挙げられる。
樹脂(X)において、構造単位(a4)の含有率は、樹脂(X)の全構造単位の合計に
対して、30モル%以上であることが好ましく、40モル%以上であることがより好まし
く、45モル%以上であることがさらに好ましい。
樹脂(X)がさらに有していてもよい構造単位としては、構造単位(a1)、構造単位
(a2)、構造単位(a3)及びその他の公知のモノマーに由来する構造単位が挙げられ
る。中でも、樹脂(X)は、構造単位(a4)及び/又は構造単位(a5)のみからなる
樹脂であることが好ましく、構造単位(a4)のみからなる樹脂であることがより好まし
い。
樹脂(X)を構成する各構造単位は、1種のみ又は2種以上を組合せて用いてもよく、
これら構造単位を誘導するモノマーを用いて、公知の重合法(例えばラジカル重合法)に
よって製造することができる。樹脂(X)が有する各構造単位の含有率は、重合に用いる
モノマーの使用量で調整できる。
樹脂(X)の重量平均分子量は、好ましくは6,000以上(より好ましくは7,00
0以上)、80,000以下(より好ましくは60,000以下)である。樹脂(X)の
重量平均分子量の測定手段は、樹脂(A)の場合と同様である。
レジスト組成物が樹脂(X)を含む場合、その含有量は、樹脂(A)100質量部に対
して、好ましくは1~60質量部であり、より好ましくは1~50質量部であり、さらに
好ましくは1~40質量部であり、特に好ましくは1~30質量部であり、特に好ましく
は1~8質量部である。
固形分に対して、80質量%以上99質量%以下であることが好ましく、90~99質量
%がより好ましい。レジスト組成物の固形分及びこれに対する樹脂の含有率は、液体クロ
マトグラフィー又はガスクロマトグラフィー等の公知の分析手段で測定することができる
。
酸発生剤(B)は、非イオン系又はイオン系のいずれを用いてもよい。非イオン系酸発
生剤としては、スルホネートエステル類(例えば2-ニトロベンジルエステル、芳香族ス
ルホネート、オキシムスルホネート、N-スルホニルオキシイミド、スルホニルオキシケ
トン、ジアゾナフトキノン 4-スルホネート)、スルホン類(例えばジスルホン、ケト
スルホン、スルホニルジアゾメタン)等が挙げられる。イオン系酸発生剤としては、オニ
ウムカチオンを含むオニウム塩(例えばジアゾニウム塩、ホスホニウム塩、スルホニウム
塩、ヨードニウム塩)が代表的である。オニウム塩のアニオンとしては、スルホン酸アニ
オン、スルホニルイミドアニオン、スルホニルメチドアニオン等が挙げられる。
酸発生剤(B)としては、特開昭63-26653号、特開昭55-164824号、
特開昭62-69263号、特開昭63-146038号、特開昭63-163452号
、特開昭62-153853号、特開昭63-146029号、米国特許第3,779,
778号、米国特許第3,849,137号、独国特許第3914407号、欧州特許第
126,712号等に記載の放射線によって酸を発生する化合物を使用することができる
。また、公知の方法で製造した化合物を使用してもよい。酸発生剤(B)は、2種以上を
組み合わせて用いてもよい。
で表される塩(以下「酸発生剤(B1)」という場合がある。)である。
[式(B1)中、
Qb1及びQb2は、それぞれ独立に、フッ素原子又は炭素数1~6のペルフルオロア
ルキル基を表す。
Lb1は、炭素数1~24の2価の飽和炭化水素基を表し、該2価の飽和炭化水素基に
含まれる-CH2-は、-O-又は-CO-に置き換わっていてもよく、該2価の飽和炭
化水素基に含まれる水素原子は、フッ素原子又はヒドロキシ基で置換されていてもよい。
Yは、置換基を有していてもよいメチル基又は置換基を有していてもよい炭素数3~1
8の脂環式炭化水素基を表し、該脂環式炭化水素基に含まれる-CH2-は、-O-、-
S(O)2-又は-CO-に置き換わっていてもよい。
Z+は、有機カチオンを表す。]
ルフルオロエチル基、ペルフルオロプロピル基、ペルフルオロイソプロピル基、ペルフル
オロブチル基、ペルフルオロsec-ブチル基、ペルフルオロtert-ブチル基、ペル
フルオロペンチル基及びペルフルオロヘキシル基等が挙げられる。
Qb1及びQb2は、それぞれ独立に、フッ素原子又はトリフルオロメチル基であるこ
とが好ましく、ともにフッ素原子であることがより好ましい。
カンジイル基、単環式又は多環式の2価の脂環式飽和炭化水素基が挙げられ、これらの基
のうち2種以上を組合せることにより形成される基でもよい。
具体的には、メチレン基、エチレン基、プロパン-1,3-ジイル基、ブタン-1,4
-ジイル基、ペンタン-1,5-ジイル基、ヘキサン-1,6-ジイル基、ヘプタン-1
,7-ジイル基、オクタン-1,8-ジイル基、ノナン-1,9-ジイル基、デカン-1
,10-ジイル基、ウンデカン-1,11-ジイル基、ドデカン-1,12-ジイル基、
トリデカン-1,13-ジイル基、テトラデカン-1,14-ジイル基、ペンタデカン-
1,15-ジイル基、ヘキサデカン-1,16-ジイル基及びヘプタデカン-1,17-
ジイル基等の直鎖状アルカンジイル基;
エタン-1,1-ジイル基、プロパン-1,1-ジイル基、プロパン-1,2-ジイル
基、プロパン-2,2-ジイル基、ペンタン-2,4-ジイル基、2-メチルプロパン-
1,3-ジイル基、2-メチルプロパン-1,2-ジイル基、ペンタン-1,4-ジイル
基、2-メチルブタン-1,4-ジイル基等の分岐状アルカンジイル基;
シクロブタン-1,3-ジイル基、シクロペンタン-1,3-ジイル基、シクロヘキサ
ン-1,4-ジイル基、シクロオクタン-1,5-ジイル基等のシクロアルカンジイル基
である単環式の2価の脂環式飽和炭化水素基;
ノルボルナン-1,4-ジイル基、ノルボルナン-2,5-ジイル基、アダマンタン-
1,5-ジイル基、アダマンタン-2,6-ジイル基等の多環式の2価の脂環式飽和炭化
水素基等が挙げられる。
置き換わった基としては、例えば、式(b1-1)~式(b1-3)のいずれかで表され
る基が挙げられる。なお、式(b1-1)~式(b1-3)で表される基及びそれらの具
体例である式(b1-4)~式(b1-11)で表される基において、*及び**は結合
部位を表し、*は-Yとの結合部位を表す。
Lb2は、単結合又は炭素数1~22の2価の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素
基に含まれる水素原子は、フッ素原子に置換されていてもよい。
Lb3は、単結合又は炭素数1~22の2価の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素
基に含まれる水素原子は、フッ素原子又はヒドロキシ基に置換されていてもよく、該飽和
炭化水素基に含まれる-CH2-は、-O-又は-CO-に置き換わっていてもよい。
ただし、Lb2とLb3との炭素数合計は、22以下である。
式(b1-2)中、
Lb4は、単結合又は炭素数1~22の2価の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素
基に含まれる水素原子は、フッ素原子に置換されていてもよい。
Lb5は、単結合又は炭素数1~22の2価の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素
基に含まれる水素原子は、フッ素原子又はヒドロキシ基に置換されていてもよく、該飽和
炭化水素基に含まれる-CH2-は、-O-又は-CO-に置き換わっていてもよい。
ただし、Lb4とLb5との炭素数合計は、22以下である。
式(b1-3)中、
Lb6は、単結合又は炭素数1~23の2価の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素
基に含まれる水素原子は、フッ素原子又はヒドロキシ基に置換されていてもよい。
Lb7は、単結合又は炭素数1~23の2価の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素
基に含まれる水素原子は、フッ素原子又はヒドロキシ基に置換されていてもよく、該飽和
炭化水素基に含まれる-CH2-は、-O-又は-CO-に置き換わっていてもよい。
ただし、Lb6とLb7との炭素数合計は、23以下である。]
-CH2-が-O-又は-CO-に置き換わっている場合、置き換わる前の炭素数を該飽
和炭化水素基の炭素数とする。
2価の飽和炭化水素基としては、Lb1の飽和炭化水素基と同様のものが挙げられる。
Lb3は、好ましくは炭素数1~4の2価の飽和炭化水素基である。
Lb4は、好ましくは炭素数1~8の2価の飽和炭化水素基であり、該飽和炭化水素基
に含まれる水素原子はフッ素原子に置換されていてもよい。
Lb5は、好ましくは単結合又は炭素数1~8の2価の飽和炭化水素基である。
Lb6は、好ましくは単結合又は炭素数1~4の2価の飽和炭化水素基であり、該飽和
炭化水素基に含まれる水素原子はフッ素原子に置換されていてもよい。
Lb7は、好ましくは単結合又は炭素数1~18の2価の飽和炭化水素基であり、該飽
和炭化水素基に含まれる水素原子はフッ素原子又はヒドロキシ基に置換されていてもよく
、該飽和炭化水素基に含まれる-CH2-は-O-又は-CO-に置き換わっていてもよ
い。
Lb1で表される2価の飽和炭化水素基に含まれる-CH2-が-O-又は-CO-で
置き換わった基としては、式(b1-1)又は式(b1-3)で表される基が好ましい。
げられる。
[式(b1-4)中、
Lb8は、単結合又は炭素数1~22の2価の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素
基に含まれる水素原子は、フッ素原子又はヒドロキシ基に置換されていてもよい。
式(b1-5)中、
Lb9は、炭素数1~20の2価の飽和炭化水素基を表し、該2価の飽和炭化水素基に
含まれる-CH2-は-O-又は-CO-に置き換わっていてもよい。
Lb10は、単結合又は炭素数1~19の2価の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水
素基に含まれる水素原子は、フッ素原子又はヒドロキシ基に置換されていてもよい。
ただし、Lb9及びLb10の合計炭素数は20以下である。
式(b1-6)中、
Lb11は、炭素数1~21の2価の飽和炭化水素基を表す。
Lb12は、単結合又は炭素数1~20の2価の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水
素基に含まれる水素原子は、フッ素原子又はヒドロキシ基に置換されていてもよい。
ただし、Lb11及びLb12の合計炭素数は21以下である。
式(b1-7)中、
Lb13は、炭素数1~19の2価の飽和炭化水素基を表す。
Lb14は、単結合又は炭素数1~18の2価の飽和炭化水素基を表し、該2価の飽和
炭化水素基に含まれる-CH2-は-O-又は-CO-に置き換わっていてもよい。
Lb15は、単結合又は炭素数1~18の2価の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水
素基に含まれる水素原子は、フッ素原子又はヒドロキシ基に置換されていてもよい。
ただし、Lb13~Lb15の合計炭素数は19以下である。
式(b1-8)中、
Lb16は、炭素数1~18の2価の飽和炭化水素基を表し、該2価の飽和炭化水素基
に含まれる-CH2-は-O-又は-CO-に置き換わっていてもよい。
Lb17は、炭素数1~18の2価の飽和炭化水素基を表す。
Lb18は、単結合又は炭素数1~17の2価の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水
素基に含まれる水素原子は、フッ素原子又はヒドロキシ基に置換されていてもよい。
ただし、Lb16~Lb18の合計炭素数は19以下である。]
Lb9は、好ましくは炭素数1~8の2価の飽和炭化水素基である。
Lb10は、好ましくは単結合又は炭素数1~19の2価の飽和炭化水素基であり、よ
り好ましくは単結合又は炭素数1~8の飽和炭化水素基である。
Lb11は、好ましくは炭素数1~8の2価の飽和炭化水素基である。
Lb12は、好ましくは単結合又は炭素数1~8の2価の飽和炭化水素基である。
Lb13は、好ましくは炭素数1~12の2価の飽和炭化水素基である。
Lb14は、好ましくは単結合又は炭素数1~6の2価の飽和炭化水素基である。
Lb15は、好ましくは単結合又は炭素数1~18の2価の飽和炭化水素基であり、よ
り好ましくは単結合又は炭素数1~8の2価の飽和炭化水素基である。
Lb16は、好ましくは炭素数1~12の2価の飽和炭化水素基である。
Lb17は、好ましくは炭素数1~6の2価の飽和炭化水素基である。
Lb18は、好ましくは単結合又は炭素数1~17の2価の飽和炭化水素基であり、よ
り好ましくは単結合又は炭素数1~4の2価の飽和炭化水素基である。
表される基が挙げられる。
式(b1-9)中、
Lb19は、単結合又は炭素数1~23の2価の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素
基に含まれる水素原子は、フッ素原子に置換されていてもよい。
Lb20は、単結合又は炭素数1~23の2価の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素
基に含まれる水素原子は、フッ素原子、ヒドロキシ基又はアルキルカルボニルオキシ基に
置換されていてもよい。該アルキルカルボニルオキシ基に含まれる-CH2-は、-O-
又は-CO-に置き換わっていてもよく、該アルキルカルボニルオキシ基に含まれる水素
原子は、ヒドロキシ基に置換されていてもよい。
ただし、Lb19及びLb20の合計炭素数は23以下である。
式(b1-10)中、
Lb21は、単結合又は炭素数1~21の2価の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素
基に含まれる水素原子は、フッ素原子に置換されていてもよい。
Lb22は、単結合又は炭素数1~21の2価の飽和炭化水素基を表す。
Lb23は、単結合又は炭素数1~21の2価の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素
基に含まれる水素原子は、フッ素原子、ヒドロキシ基又はアルキルカルボニルオキシ基に
置換されていてもよい。該アルキルカルボニルオキシ基に含まれる-CH2-は、-O-
又は-CO-に置き換わっていてもよく、該アルキルカルボニルオキシ基に含まれる水素
原子は、ヒドロキシ基に置換されていてもよい。
ただし、Lb21、Lb22及びLb23の合計炭素数は21以下である。
式(b1-11)中、
Lb24は、単結合又は炭素数1~20の2価の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素
基に含まれる水素原子は、フッ素原子に置換されていてもよい。
Lb25は、炭素数1~21の2価の飽和炭化水素基を表す。
Lb26は、単結合又は炭素数1~20の2価の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素
基に含まれる水素原子は、フッ素原子、ヒドロキシ基又はアルキルカルボニルオキシ基に
置換されていてもよい。該アルキルカルボニルオキシ基に含まれる-CH2-は、-O-
又は-CO-に置き換わっていてもよく、該アルキルカルボニルオキシ基に含まれる水素
原子は、ヒドロキシ基に置換されていてもよい。
ただし、Lb24、Lb25及びLb26の合計炭素数は21以下である。
和炭化水素基に含まれる水素原子がアルキルカルボニルオキシ基に置換されている場合、
置き換わる前の炭素数を該飽和炭化水素基の炭素数とする。
チリルオキシ基、シクロヘキシルカルボニルオキシ基、アダマンチルカルボニルオキシ基
等が挙げられる。
式(Y38)で表される基が挙げられる。
Yで表される脂環式炭化水素基に含まれる-CH2-が-O-、-S(O)2-又は-
CO-で置き換わる場合、その数は1つでもよいし、2以上でもよい。そのような基とし
ては、式(Y12)~式(Y35)、式(Y39)~式(Y41)で表される基が挙げら
れる。
Yで表される脂環式炭化水素基としては、好ましくは式(Y1)~式(Y20)、式(
Y26)、式(Y27)、式(Y30)、式(Y31)、式(Y39)~式(Y41)の
いずれかで表される基であり、より好ましくは式(Y11)、式(Y15)、式(Y16
)、式(Y20)、式(Y26)、式(Y27)、式(Y30)~式(Y31)又は式(
Y39)~式(Y40)で表される基であり、さらに好ましくは式(Y11)、式(Y1
5)、式(Y20)、式(Y30)、式(Y39)又は式(Y40)で表される基である
。
Yで表される脂環式炭化水素基が式(Y28)~式(Y35)、式(Y39)又は式(
Y40)等の、酸素原子を含むスピロ環である場合には、2つの酸素原子間のアルカンジ
イル基は、1以上のフッ素原子を有することが好ましい。また、ケタール構造に含まれる
アルカンジイル基のうち、酸素原子に隣接するメチレン基には、フッ素原子が置換されて
いないのが好ましい。
6の脂環式炭化水素基、炭素数6~18の芳香族炭化水素基、グリシジルオキシ基、-(
CH2)ja-CO-O-Rb1基又は-(CH2)ja-O-CO-Rb1基(式中、
Rb1は、炭素数1~16のアルキル基、炭素数3~16の脂環式炭化水素基,炭素数6
~18の芳香族炭化水素基又はこれらを組み合わせた基を表す。jaは、0~4のいずれ
かの整数を表す。炭素数1~16のアルキル基、及び炭素数3~16の脂環式炭化水素基
に含まれる-CH2-は、-O-、-S(O)2-又は-CO-で置き換わっていてもよ
い。)等が挙げられる。
Yで表される脂環式炭化水素基の置換基としては、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、ヒド
ロキシ基で置換されていてもよい炭素数1~12のアルキル基、炭素数3~16の脂環式
炭化水素基、炭素数1~12のアルコキシ基、炭素数6~18の芳香族炭化水素基、炭素
数7~21のアラルキル基、炭素数2~4のアルキルカルボニル基、グリシジルオキシ基
、-(CH2)ja-CO-O-Rb1基又は-(CH2)ja-O-CO-Rb1基(
式中、Rb1は、炭素数1~16のアルキル基、炭素数3~16の脂環式炭化水素基、炭
素数6~18の芳香族炭化水素基又はこれらを組み合わせた基を表す。jaは、0~4の
いずれかの整数を表す。炭素数1~16のアルキル基、及び炭素数3~16の脂環式炭化
水素基に含まれる-CH2-は、-O-、-S(O)2-又は-CO-で置き換わってい
てもよい。)等が挙げられる。
る。
脂環式炭化水素基としては、例えば、シクロペンチル基、シクロへキシル基、シクロヘ
プチル基、シクロオクチル基、ノルボルニル基、アダマンチル基等が挙げられる。
なお、脂環式炭化水素基は鎖式炭化水素基を有していてもよく、メチルシクロヘキシル
基、ジメチルシクロへキシル基等が挙げられる。
芳香族炭化水素基としては、例えば、フェニル基、ビフェニリル基、ナフチル基、アン
トリル基、フェナントリル基等のアリール基が挙げられる。
芳香族炭化水素基は、鎖式炭化水素基又は脂環式炭化水素基を有していてもよく、炭素
数1~18の鎖式炭化水素基を有する芳香族炭化水素基(トリル基、キシリル基、クメニ
ル基、メシチル基、p-エチルフェニル基、p-tert-ブチルフェニル基、2,6-
ジエチルフェニル基、2-メチル-6-エチルフェニル基等)、及び炭素数3~18の脂
環式炭化水素基を有する芳香族炭化水素基(p-シクロへキシルフェニル基、p-アダマ
ンチルフェニル基等)等が挙げられる。
アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブ
チル基、sec-ブチル基、tert-ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基
、2-エチルヘキシル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基
等が挙げられる。
ヒドロキシ基で置換されているアルキル基としては、ヒドロキシメチル基、ヒドロキシ
エチル基等のヒドロキシアルキル基が挙げられる。
アルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、ペンチ
ルオキシ基、ヘキシルオキシ基、ヘプチルオキシ基、オクチルオキシ基、デシルオキシ基
及びドデシルオキシ基等が挙げられる。
アラルキル基としては、ベンジル基、フェネチル基、フェニルプロピル基、ナフチルメ
チル基及びナフチルエチル基等が挙げられる。
アルキルカルボニル基としては、例えば、アセチル基、プロピオニル基及びブチリル基
等が挙げられる。
、より好ましく置換基を有していてもよいアダマンチル基であり、該脂環式炭化水素基又
はアダマンチル基を構成する-CH2-は-CO-、-S(O)2-又は-CO-に置き
換わっていてもよい。Yは、さらに好ましくはアダマンチル基、ヒドロキシアダマンチル
基、オキソアダマンチル基又は下記で表される基である。
式(B1-A-55)で表されるアニオン〔以下、式番号に応じて「アニオン(B1-A
-1)」等という場合がある。〕が好ましく、式(B1-A-1)~式(B1-A-4)
、式(B1-A-9)、式(B1-A-10)、式(B1-A-24)~式(B1-A-
33)、式(B1-A-36)~式(B1-A-40)、式(B1-A-47)~式(B
1-A-55)のいずれかで表されるアニオンがより好ましい。
ましくはメチル基又はエチル基である。Ri8は、例えば、炭素数1~12の脂肪族炭化
水素基、好ましくは炭素数1~4のアルキル基、炭素数5~12の脂環式炭化水素基又は
これらを組合せることにより形成される基、より好ましくはメチル基、エチル基、シクロ
ヘキシル基又はアダマンチル基である。LA41は、単結合又は炭素数1~4のアルカン
ジイル基である。
Qb1及びQb2は、上記と同じ意味を表す。
式(B1)で表される塩におけるスルホン酸アニオンとしては、具体的には、特開20
10-204646号公報に記載されたアニオンが挙げられる。
16)、式(B1a-18)、式(B1a-19)、式(B1a-22)~式(B1a-
30)のいずれかで表されるアニオンが好ましい。
+と同じものが挙げられる。
、これらは任意に組合せることができる。酸発生剤(B)としては、好ましくは式(B1
a-1)~式(B1a-3)及び式(B1a-7)~式(B1a-16)、式(B1a-
18)、式(B1a-19)、式(B1a-22)~式(B1a-34)のいずれかで表
されるアニオンと、カチオン(b2-1)又はカチオン(b2-3)との組合せが挙げら
れる。
されるものが挙げられる、中でもアリールスルホニウムカチオンを含むものが好ましく、
式(B1-1)~式(B1-3)、式(B1-5)~式(B1-7)、式(B1-11)
~式(B1-14)、式(B1-20)~式(B1-26)、式(B1-29)、式(B
1-31)~式(B1-48)で表されるものがとりわけ好ましい。
対して、好ましくは1質量部以上40質量部以下、より好ましくは3質量部以上35質量
部以下である。本発明のレジスト組成物は、酸発生剤(B)の1種を単独で含有してもよ
く、複数種を含有していてもよい。
式(I)において、L1で表される2価の炭化水素基としては、アルカンジイル基、単
環式又は多環式の2価の脂環式飽和炭化水素基、2価の芳香族炭化水素基等が挙げられ、
これらの基のうち2種以上を組み合わせた2価の炭化水素基であってもよい。
ブタン-1,4-ジイル基、ペンタン-1,5-ジイル基、ヘキサン-1,6-ジイル基
、ヘプタン-1,7-ジイル基、オクタン-1,8-ジイル基、ノナン-1,9-ジイル
基、デカン-1,10-ジイル基、ウンデカン-1,11-ジイル基、ドデカン-1,1
2-ジイル基等の直鎖状アルカンジイル基;
エタン-1,1-ジイル基、プロパン-1,1-ジイル基、プロパン-1,2-ジイル
基、プロパン-2,2-ジイル基、ペンタン-2,4-ジイル基、2-メチルプロパン-
1,3-ジイル基、2-メチルプロパン-1,2-ジイル基、ペンタン-1,4-ジイル
基、2-メチルブタン-1,4-ジイル基等の分岐状アルカンジイル基が挙げられる。
単環式の脂環式飽和炭化水素基としては、シクロブタン-1,3-ジイル基、シクロペ
ンタン-1,3-ジイル基、シクロヘキサン-1,4-ジイル基、シクロオクタン-1,
5-ジイル基等の単環式シクロアルカンジイル基が挙げられる。
多環式の脂環式飽和炭化水素基としては、ノルボルナン-1,4-ジイル基、ノルボル
ナン-2,5-ジイル基、アダマンタン-1,5-ジイル基、アダマンタン-2,6-ジ
イル基等の多環式シクロアルカンジイル基が挙げられる。
芳香族炭化水素基としては、フェニレン基、ナフチレン基、アントリレン基、メチルフ
ェニレン基、イソプロピルフェニレン基、tert-ブチルフェニレン基、アダマンチル
フェニレン基、キシリレン基、イソプロピルフェニレン基、トリメチルフェニレン基、ビ
フェニレン基、フェナントリレン基、2,6-ジエチルフェニレン基、2-メチル-6-
エチルフェニレン基等の2価の芳香族炭化水素基等が挙げられる。
2種以上を組み合わせた2価の炭化水素基としては、-シクロアルカンジイル基-アル
カンジイル基-、-アルカンジイル基-シクロアルカンジイル基-アルカンジイル基-、
-アルカンジイル基-芳香族炭化水素基-等が挙げられる。
-S-、-CO-又は-S(O)2-に置き換わっていてもよい。
L1で表される炭素数1~18の2価の炭化水素基に含まれる-CH2-が-O-、-
S-、-CO-又は-S(O)2-に置き換わっている場合、置き換わる前の炭素数を該
炭化水素基の炭素数とする。
ル基(該アルカンジイル基に含まれる-CH2-は、-O-又は-CO-に置き換わって
いてもよい。)、炭素数3~12の2価の脂環式炭化水素基(該脂環式炭化水素基に含ま
れる-CH2-は、-O-、-S-、-CO-又は-S(O)2-に置き換わっていても
よい。)、炭素数3~12の脂環式炭化水素基(該脂環式炭化水素基に含まれる-CH2
-は、-O-、-S-、-CO-又は-S(O)2-に置き換わっていてもよい。)と炭
素数1~6のアルカンジイル基(該アルカンジイル基に含まれる-CH2-は、-O-又
は-CO-に置き換わっていてもよい。)とから形成される炭化水素基であることが好ま
しい。
L1としては、単結合、炭素数1~12のアルカンジイル基(該アルカンジイル基に含
まれる-CH2-は、-O-又は-CO-に置き換わっていてもよい。)又は炭素数3~
12の脂環式炭化水素基(該脂環式炭化水素基に含まれる-CH2-は、-O-、-S-
、-CO-又は-S(O)2-に置き換わっていてもよい。)と炭素数1~6のアルカン
ジイル基(該アルカンジイル基に含まれる-CH2-は、-O-又は-CO-に置き換わ
っていてもよい。)とから形成される炭化水素基であることが好ましく、単結合又は炭素
数1~6のアルカンジイル基であることがより好ましく、単結合又はメチレン基であるこ
とがさらに好ましく、単結合であることがさらにより好ましい。
多環式の不飽和炭化水素環、芳香族炭化水素環が挙げられる。
単環式の飽和炭化水素環としては、シクロブタン、シクロペンタン、シクロヘキサン、
シクロオクタン等のシクロアルカンが挙げられる。
多環式の飽和炭化水素環としては、ノルボルナン、アダマンタン等が挙げられる。
芳香族炭化水素環としては、ベンゼン、ナフタレン、アントラセン、メチルベンゼン、
tert-ブチルベンゼン、アダマンチルベンゼン基、トルエン基、キシレン基、クメン
、メシチレン、ビフェニル、フェナントレン、2,6-ジエチルベンゼン、2-メチル-
6-エチルベンゼン等が挙げられる。
W1で表される炭素数3~24の炭化水素環に含まれる-CH2-は、-O-、-S-
、-S(O)2-又は-CO-に置き換わっていてもよい。
W1で表される炭素数3~24の炭化水素環に含まれる-CH2-が-O-、-S-、
-S(O)2-又は-CO-に置き換わっている場合、置き換わる前の炭素数を該炭化水
素環の炭素数とする。
W1としては、単環式又は多環式の飽和炭化水素環、芳香族炭化水素環であることが好
ましく(但し、該飽和炭化水素環及び芳香族炭化水素環に含まれる-CH2-は、-O-
、-S-、-S(O)2-又は-CO-に置き換わっていてもよい。)、単環式又は多環
式の飽和炭化水素環であることがより好ましく、単環式の飽和炭化水素環であることがさ
らに好ましく、シクロヘキサンであることがさらにより好ましい。
ロメチル基、1,1-ジフルオロエチル基、2,2-ジフルオロエチル基、2,2,2-
トリフルオロエチル基、2,2,2-トリフルオロエチル基、ペルフルオロエチル基、1
,1,2,2-テトラフルオロプロピル基、2,2,3,3,3-ペンタフルオロプロピ
ル基、1,1,2,2,3,3-ヘキサフルオロプロピル基、ペルフルオロプロピル基、
ペルフルオロエチルメチル基、1-(トリフルオロメチル)-1,2,2,2-テトラフ
ルオロエチル基、ペルフルオロプロピル基、1,1,2,2-テトラフルオロブチル基、
1,1,2,2,3,3-ヘキサフルオロブチル基、2,2,3,3,4,4,4-ヘプ
タフルオロブチル基、1,1,2,2,3,3,4,4-オクタフルオロブチル基、ペル
フルオロブチル基、1,1-ビス(トリフルオロ)メチル-2,2,2-トリフルオロエ
チル基、2-(ペルフルオロプロピル)エチル基、1,1,2,2,3,3,4,4-オ
クタフルオロペンチル基、ペルフルオロペンチル基、1,1,2,2,3,3,4,4,
5,5-デカフルオロペンチル基、1,1-ビス(トリフルオロメチル)-2,2,3,
3,3-ペンタフルオロプロピル基、2-(ペルフルオロブチル)エチル基、2,2,3
,3,4,4,5,5,5-ノナフルオロペンチル基、1,1,2,2,3,3,4,4
,5,5-デカフルオロヘキシル基、1,1,2,2,3,3,4,4,5,5,6,6
-ドデカフルオロヘキシル基、ペルフルオロヘキシル基等が挙げられる。
なかでも、R1及びR2は、炭素数1~4のペルフルオロアルキル基であることが好ま
しく、トリフルオロメチル基、ペルフルオロエチル基であることがより好ましく、トリフ
ルオロメチル基であることがさらに好ましい。
はアルキニル基等の(直鎖状又は分岐状)鎖式脂肪族炭化水素基及び脂環式炭化水素基)
及び芳香族炭化水素基並びにこれらを組み合わせた基等が挙げられる。
アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、
イソブチル基、tert-ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基
、ノニル基等のアルキル基が挙げられる。アルキル基の炭素数は、好ましくは1~9であ
り、より好ましくは1~6であり、さらに好ましくは1~4である。
アルケニル基としては、エテニル基、プロペニル基、イソプロペニル基、ブテニル基、
イソブテニル基、tert-ブテニル基、ペンテニル基、ヘキセニル基、ヘプテニル基、
オクテニル基、イソオクテニル基、ノネニル基が挙げられる。
アルキニル基としては、エチニル基、プロピニル基、イソプロピニル基、ブチニル基、
イソブチニル基、tert-ブチニル基、ペンチニル基、ヘキシニル基、オクチニル基、
ノニニル基等が挙げられる。
脂環式炭化水素基は、単環式、多環式及びスピロ環のいずれでもよく、飽和及び不飽和
のいずれでもよい。脂環式炭化水素基としては、シクロプロピル基、シクロブチル基、シ
クロペンチル基、シクロへキシル基、シクロオクチル基、シクロノニル基、シクロデシル
基、シクロドデシル基等の単環式シクロアルキル基、ノルボルニル基、アダマンチル基等
の多環式シクロアルキル基が挙げられる。
R3で表される脂環式炭化水素基としては、式(Y1)~(Y41)で表される基(*
は結合部位を表す。)が好ましく、式(Y1)~式(Y20)、式(Y26)、式(Y2
7)、式(Y30)、式(Y31)、式(Y39)又は式(Y40)のいずれかで表され
る基であることがより好ましく、式(Y3)、(Y4)、式(Y9)、式(Y11)、式
(Y14)、式(Y15)、式(Y20)、式(Y30)、式(Y39)又は式(Y40
)で表される基であることがさらに好ましい。脂環式炭化水素基の炭素数は、好ましくは
3~18であり、より好ましくは3~16であり、さらに好ましくは3~12である。
フェナントリル基、ビナフチル基等のアリール基等が挙げられる。芳香族炭化水素基の炭
素数は、好ましくは6~14であり、より好ましくは6~10である。
組み合わせた基としては、アダマンチルメチル基、アダマンチルエチル基、アダマンチ
ルプロピル基、シクロヘキシルメチル基、シクロヘキシルエチル基、シクロヘキシルプロ
ピル基等の脂環式炭化水素基-鎖式脂肪族炭化水素基-*、メチルアダマンチル基等の鎖
式脂肪族炭化水素基-脂環式炭化水素基-*、トリル基、キシリル基等の鎖式脂肪族炭化
水素基-芳香族炭化水素基-*、メチルシクロヘキシルメチル基等の鎖式脂肪族炭化水素
基-脂環式炭化水素基-鎖式脂肪族炭化水素基-*、ベンジル基等の芳香族炭化水素基-
鎖式脂肪族炭化水素基-*、トリルメチル基等の鎖式脂肪族炭化水素基-芳香族炭化水素
基-鎖式脂肪族炭化水素基-*等が挙げられる。ここで、*は酸素原子との結合部位を表
す。
なかでも、脂環式炭化水素基-鎖式脂肪族炭化水素基-*及び鎖式脂肪族炭化水素基-
脂環式炭化水素基-鎖式脂肪族炭化水素基-*が好ましく、脂環式炭化水素基-鎖式脂肪
族炭化水素基-*がより好ましい。
S(O)2-に置き換わっている場合、置き換わる前の炭素数を該炭化水素基の総炭素数
とする。また、R3で表される炭化水素基に置換基が結合する場合、置換する前の炭素数
を該炭化水素基の総炭素数とする。
R3で表される炭化水素基は、1又は複数の置換基を有していてもよい。
置換基としては、ヒドロキシ基、カルボキシ基、ハロゲン原子、シアノ基、炭素数1~
12のアルコキシ基、炭素数2~13のアルコキシカルボニル基、炭素数2~13のアル
キルカルボニル基、炭素数2~13のアルキルカルボニルオキシ基又はこれらを組み合わ
せた基などが挙げられる。
ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子及びヨウ素原子等が挙げられ
る。
炭素数1~12のアルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブ
トキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、オクチルオキシ基、2-エチルヘキシ
ルオキシ基、ノニルオキシ基、デシルオキシ基、ウンデシルオキシ基、ドデシルオキシ基
等が挙げられる。
炭素数2~13のアルコキシカルボニル基、炭素数2~13のアルキルカルボニル基及
び炭素数2~13のアルキルカルボニルオキシ基は、上述したアルキル基又はアルコキシ
基にカルボニル基又はカルボニルオキシ基が結合した基を表す。炭素数2~13のアルコ
キシカルボニル基としては、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ブトキシカ
ルボニル基等が挙げられ、炭素数2~13のアルキルカルボニル基としては、アセチル基
、プロピオニル基及びブチリル基等が挙げられ、炭素数2~13のアルキルカルボニルオ
キシ基としては、アセチルオキシ基、プロピオニルオキシ基、ブチリルオキシ基等が挙げ
られる。
R3が有する置換基は、フッ素原子又はヒドロキシ基であることが好ましい。
もよい炭素数1~18の鎖式脂肪族炭化水素基(但し、該鎖式脂肪族炭化水素基に含まれ
る-CH2-は、-O-、-S-、-CO-又は-S(O)2-に置き換わっていてもよ
い。)、フッ素原子もしくはヒドロキシ基を有していてもよい炭素数3~18の脂環式炭
化水素基(但し、該脂環式炭化水素基に含まれる-CH2-は、-O-、-CO-又は-
S(O)2-に置き換わっていてもよい。)又はフッ素原子もしくはヒドロキシ基を有し
ていてもよい炭素数1~6の鎖式脂肪族炭化水素基と炭素数3~12の脂環式炭化水素基
とを組み合わせた基(但し、該鎖式脂肪族炭化水素基に含まれる-CH2-は、-O-又
は-CO-に置き換わっていてもよく、該脂環式炭化水素基に含まれる-CH2-は、-
O-、-CO-又は-S(O)2-に置き換わっていてもよい。)であり、より好ましく
は、水素原子、フッ素原子を有していてもよい炭素数1~18の鎖式脂肪族炭化水素基(
但し、該鎖式脂肪族炭化水素基に含まれる-CH2-は、-O-又は-CO-に置き換わ
っていてもよい。)又はフッ素原子を有していてもよい炭素数1~6の鎖式脂肪族炭化水
素基と炭素数3~12の脂環式炭化水素基とを組み合わせた基(但し、該鎖式脂肪族炭化
水素基に含まれる-CH2-は、-O-又は-CO-に置き換わっていてもよく、該脂環
式炭化水素基に含まれる-CH2-は、-O-、-CO-又は-S(O)2-に置き換わ
っていてもよい。)であり、さらに好ましくは、水素原子、フッ素原子を有していてもよ
い炭素数1~18の鎖式脂肪族炭化水素基(但し、該脂肪族炭化水素基に含まれる少なく
とも1つの-CH2-は、-O-又は-CO-に置き換わっている。)又はフッ素原子を
有していてもよい炭素数1~6の鎖式脂肪族炭化水素基と炭素数3~12の脂環式炭化水
素基とを組み合わせた基(但し、該鎖式脂肪族炭化水素基に含まれる少なくとも1つの-
CH2-は、-O-又は-CO-に置き換わっており、該脂環式炭化水素基に含まれる-
CH2-は、-O-又は-CO-に置き換わっていてもよい。)であり、さらにより好ま
しくは、水素原子、アルコキシアルキル基、3級アルキル基、アルコキシカルボニル基(
t-ブトキシカルボニル基、ペントキシカルボニル基等)、フッ素化アルキルカルボニル
基、シクロアルキル基-オキシカルボニル-アルキル基(該シクロアルキル基に含まれる
-CH2-は、-O-又は-CO-に置き換わっていてもよい)であり、さらにより一層
好ましくは、水素原子、アルコキシアルキル基又はアルコキシカルボニル基であり、特に
好ましくは、水素原子である。
化合物(I)は、式(I-a)で表される化合物と式(I-b)で表される化合物とを
、溶媒中で、反応させることにより得ることができる。
(式中、全ての符号は、それぞれ前記と同じ意味を表す。)
溶媒としては、クロロホルム、アセトニトリル、テトラヒドロフラン、ジメチルホルム
アミド等が挙げられる。
反応は、通常15~80℃の温度範囲で、0.5~24時間行われる。
式(I-b)で表される化合物としては、下記式で表される化合物等が挙げられ、市場
より容易に入手することができ、また、公知の合成方法により容易に製造できる。
質量%、好ましくは0.005~15質量%、より好ましくは0.01~10質量%であ
る。
化合物(I)は、レジスト組成物中でクエンチャーとしての機能を有する。
溶剤(E)の含有率は、レジスト組成物中、通常90質量%以上99.9質量%以下で
あり、好ましくは92質量%以上99質量%以下であり、より好ましくは94質量%以上
99質量%以下である。溶剤(E)の含有率は、例えば液体クロマトグラフィー又はガス
クロマトグラフィー等の公知の分析手段で測定できる。
溶剤(E)としては、エチルセロソルブアセテート、メチルセロソルブアセテート及び
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等のグリコールエーテルエステル類
;プロピレングリコールモノメチルエーテル等のグリコールエーテル類;乳酸エチル、酢
酸ブチル、酢酸アミル及びピルビン酸エチル等のエステル類;アセトン、メチルイソブチ
ルケトン、2-ヘプタノン及びシクロヘキサノン等のケトン類;γ-ブチロラクトン等の
環状エステル類;等を挙げることができる。溶剤(E)の1種を単独で使用してもよく、
2種以上を使用してもよい。
クエンチャー(C)としては、塩基性の含窒素有機化合物(但し、化合物(I)を除く
。)、及び酸発生剤(B)から発生する酸よりも酸性度の弱い酸を発生する塩が挙げられ
る。クエンチャー(C)の含有量は、レジスト組成物の固形分量を基準に、0.01~5
質量%程度であることが好ましい。
塩基性の含窒素有機化合物としては、アミン及びアンモニウム塩が挙げられる。アミン
としては、脂肪族アミン及び芳香族アミンが挙げられる。脂肪族アミンとしては、第一級
アミン、第二級アミン及び第三級アミンが挙げられる。
アミンとしては、1-ナフチルアミン、2-ナフチルアミン、アニリン、ジイソプロピ
ルアニリン、2-,3-又は4-メチルアニリン、4-ニトロアニリン、N-メチルアニ
リン、N,N-ジメチルアニリン、ジフェニルアミン、ヘキシルアミン、ヘプチルアミン
、オクチルアミン、ノニルアミン、デシルアミン、ジブチルアミン、ジペンチルアミン、
ジヘキシルアミン、ジヘプチルアミン、ジオクチルアミン、ジノニルアミン、ジデシルア
ミン、トリエチルアミン、トリメチルアミン、トリプロピルアミン、トリブチルアミン、
トリペンチルアミン、トリヘキシルアミン、トリヘプチルアミン、トリオクチルアミン、
トリノニルアミン、トリデシルアミン、メチルジブチルアミン、メチルジペンチルアミン
、メチルジヘキシルアミン、メチルジシクロヘキシルアミン、メチルジヘプチルアミン、
メチルジオクチルアミン、メチルジノニルアミン、メチルジデシルアミン、エチルジブチ
ルアミン、エチルジペンチルアミン、エチルジヘキシルアミン、エチルジヘプチルアミン
、エチルジオクチルアミン、エチルジノニルアミン、エチルジデシルアミン、ジシクロヘ
キシルメチルアミン、トリス〔2-(2-メトキシエトキシ)エチル〕アミン、トリイソ
プロパノールアミン、エチレンジアミン、テトラメチレンジアミン、ヘキサメチレンジア
ミン、4,4’-ジアミノ-1,2-ジフェニルエタン、4,4’-ジアミノ-3,3’
-ジメチルジフェニルメタン、4,4’-ジアミノ-3,3’-ジエチルジフェニルメタ
ン、2,2’-メチレンビスアニリン、イミダゾール、4-メチルイミダゾール、ピリジ
ン、4-メチルピリジン、1,2-ジ(2-ピリジル)エタン、1,2-ジ(4-ピリジ
ル)エタン、1,2-ジ(2-ピリジル)エテン、1,2-ジ(4-ピリジル)エテン、
1,3-ジ(4-ピリジル)プロパン、1,2-ジ(4-ピリジルオキシ)エタン、ジ(
2-ピリジル)ケトン、4,4’-ジピリジルスルフィド、4,4’-ジピリジルジスル
フィド、2,2’-ジピリジルアミン、2,2’-ジピコリルアミン、ビピリジン等が挙
げられ、好ましくはジイソプロピルアニリン等の芳香族アミンが挙げられ、より好ましく
は2,6-ジイソプロピルアニリンが挙げられる。
アンモニウム塩としては、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトライソプロピ
ルアンモニウムヒドロキシド、テトラブチルアンモニウムヒドロキシド、テトラヘキシル
アンモニウムヒドロキシド、テトラオクチルアンモニウムヒドロキシド、フェニルトリメ
チルアンモニウムヒドロキシド、3-(トリフルオロメチル)フェニルトリメチルアンモ
ニウムヒドロキシド、テトラ-n-ブチルアンモニウムサリチラート及びコリン等が挙げ
られる。
酸解離定数(pKa)で示される。酸発生剤(B)から発生する酸よりも酸性度の弱い酸
を発生する塩は、該塩から発生する酸の酸解離定数が、通常-3<pKaの塩であり、好
ましくは-1<pKa<7の塩であり、より好ましくは0<pKa<5の塩である。
酸発生剤(B)から発生する酸よりも酸性度の弱い酸を発生する塩としては、下記式で
表される塩、特開2015-147926号公報記載の式(D)で表される塩(以下、「
弱酸分子内塩(D)」という場合がある。)、並びに特開2012-229206号公報
、特開2012-6908号公報、特開2012-72109号公報、特開2011-3
9502号公報及び特開2011-191745号公報記載の塩が挙げられる。酸発生剤
(B)から発生する酸よりも酸性度の弱い酸を発生する塩として好ましくは、弱酸分子内
塩(D)である。
、レジスト組成物の固形分中、通常、0.01~5質量%であり、好ましくは0.01~
3質量%である。
本発明のレジスト組成物は、必要に応じて、上述の成分以外の成分(以下「その他の成
分(F)」という場合がある。)を含有していてもよい。その他の成分(F)に特に限定
はなく、レジスト分野で公知の添加剤、例えば、増感剤、溶解抑止剤、界面活性剤、安定
剤、染料等を利用できる。
本発明のレジスト組成物は、化合物(I)、樹脂(A),樹脂(X)及び酸発生剤(B
)、並びに、必要に応じて、用いられる溶剤(E)、クエンチャー(C)及びその他の成
分(F)を混合することにより調製することができる。混合順は任意であり、特に限定さ
れるものではない。混合する際の温度は、10~40℃から、樹脂等の種類や樹脂等の溶
剤(E)に対する溶解度等に応じて適切な温度を選ぶことができる。混合時間は、混合温
度に応じて、0.5~24時間の中から適切な時間を選ぶことができる。なお、混合手段
も特に制限はなく、攪拌混合等を用いることができる。
各成分を混合した後は、孔径0.003~0.2μm程度のフィルターを用いてろ過す
ることが好ましい。
本発明のレジストパターンの製造方法は、
(1)本発明のレジスト組成物を基板上に塗布する工程、
(2)塗布後の組成物を乾燥させて組成物層を形成する工程、
(3)組成物層に露光する工程、
(4)露光後の組成物層を加熱する工程、及び
(5)加熱後の組成物層を現像する工程を含む。
レジスト組成物を基板上に塗布するには、スピンコーター等、通常、用いられる装置に
よって行うことができる。基板としては、シリコンウェハ等の無機基板が挙げられる。レ
ジスト組成物を塗布する前に、基板を洗浄してもよく、基板上に反射防止膜等が形成され
ていてもよい。
塗布後の組成物を乾燥することにより、溶剤を除去し、組成物層を形成する。乾燥は、
例えば、ホットプレート等の加熱装置を用いて溶剤を蒸発させること(いわゆるプリベー
ク)により行うか、あるいは減圧装置を用いて行う。加熱温度は、50~200℃である
ことが好ましく、加熱時間は、10~180秒間であることが好ましい。また、減圧乾燥
する際の圧力は、1~1.0×105Pa程度であることが好ましい。
得られた組成物層に、通常、露光機を用いて露光する。露光機は、液浸露光機であって
もよい。露光光源としては、KrFエキシマレーザ(波長248nm)、ArFエキシマ
レーザ(波長193nm)、F2エキシマレーザ(波長157nm)のような紫外域のレ
ーザ光を放射するもの、固体レーザ光源(YAG又は半導体レーザ等)からのレーザ光を
波長変換して遠紫外域または真空紫外域の高調波レーザ光を放射するもの、電子線や、超
紫外光(EUV)を照射するもの等、種々のものを用いることができる。尚、本明細書に
おいて、これらの放射線を照射することを総称して「露光」という場合がある。露光の際
、通常、求められるパターンに相当するマスクを介して露光が行われる。露光光源が電子
線の場合は、マスクを用いずに直接描画により露光してもよい。
露光後の組成物層を、酸不安定基における脱保護反応を促進するために加熱処理(いわ
ゆるポストエキスポジャーベーク)を行う。加熱温度は、通常50~200℃程度、好ま
しくは70~150℃程度である。
加熱後の組成物層を、通常、現像装置を用いて、現像液を利用して現像する。現像方法
としては、ディップ法、パドル法、スプレー法、ダイナミックディスペンス法等が挙げら
れる。現像温度は、例えば、5~60℃であることが好ましく、現像時間は、例えば、5
~300秒間であることが好ましい。現像液の種類を以下のとおりに選択することにより
、ポジ型レジストパターン又はネガ型レジストパターンを製造できる。
本発明のレジスト組成物からポジ型レジストパターンを製造する場合は、現像液として
アルカリ現像液を用いる。アルカリ現像液は、この分野で用いられる各種のアルカリ性水
溶液であればよい。例えば、テトラメチルアンモニウムヒドロキシドや(2-ヒドロキシ
エチル)トリメチルアンモニウムヒドロキシド(通称コリン)の水溶液等が挙げられる。
アルカリ現像液には、界面活性剤が含まれていてもよい。
現像後レジストパターンを超純水で洗浄し、次いで、基板及びパターン上に残った水を
除去することが好ましい。
本発明のレジスト組成物からネガ型レジストパターンを製造する場合は、現像液として
有機溶剤を含む現像液(以下「有機系現像液」という場合がある)を用いる。
有機系現像液に含まれる有機溶剤としては、2-ヘキサノン、2-ヘプタノン等のケト
ン溶剤;プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等のグリコールエーテルエ
ステル溶剤;酢酸ブチル等のエステル溶剤;プロピレングリコールモノメチルエーテル等
のグリコールエーテル溶剤;N,N-ジメチルアセトアミド等のアミド溶剤;アニソール
等の芳香族炭化水素溶剤等が挙げられる。
有機系現像液中、有機溶剤の含有率は、90質量%以上100質量%以下が好ましく、
95質量%以上100質量%以下がより好ましく、実質的に有機溶剤のみであることがさ
らに好ましい。
中でも、有機系現像液としては、酢酸ブチル及び/又は2-ヘプタノンを含む現像液が
好ましい。有機系現像液中、酢酸ブチル及び2-ヘプタノンの合計含有率は、50質量%
以上100質量%以下が好ましく、90質量%以上100質量%以下がより好ましく、実
質的に酢酸ブチル及び/又は2-ヘプタノンのみであることがさらに好ましい。
有機系現像液には、界面活性剤が含まれていてもよい。また、有機系現像液には、微量
の水分が含まれていてもよい。
現像の際、有機系現像液とは異なる種類の溶剤に置換することにより、現像を停止して
もよい。
現像後のレジストパターンをリンス液で洗浄することが好ましい。リンス液としては、
レジストパターンを溶解しないものであれば特に制限はなく、一般的な有機溶剤を含む溶
液を使用することができ、好ましくはアルコール溶剤又はエステル溶剤である。
洗浄後は、基板及びパターン上に残ったリンス液を除去することが好ましい。
本発明のレジスト組成物は、KrFエキシマレーザ露光用のレジスト組成物、ArFエ
キシマレーザ露光用のレジスト組成物、電子線(EB)露光用のレジスト組成物又はEU
V露光用のレジスト組成物、特にArFエキシマレーザ露光用の厚膜(膜厚150nm~
1000nm)用レジスト組成物として好適であり、半導体の微細加工に有用である。
「%」及び「部」は、特記しないかぎり質量基準である。
重量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーで下記条件により求めた
値である。
装置:HLC-8120GPC型(東ソー社製)
カラム:TSKgel Multipore HXL-M x 3 + guardcolumn(東ソー社製)
溶離液:テトラヒドロフラン
流量:1.0mL/min
検出器:RI検出器
カラム温度:40℃
注入量:100μl
分子量標準:標準ポリスチレン(東ソー社製)
また、化合物の構造は、質量分析(LCはAgilent製1100型、MASSはA
gilent製LC/MSD型)を用い、分子イオンピークを測定することで確認した。
以下の実施例ではこの分子イオンピークの値を「MASS」で示す。
式(I-1-a)で表される化合物10部、メタノール80部及び10%水酸化ナトリ
ウム水溶液8.00部を混合し、23℃で18時間攪拌した。得られた混合物に、クロロ
ホルム100部及びイオン交換水50部を加え、23℃で30分間攪拌し、分液すること
により有機層を得た。得られた有機層に、イオン交換水50部を加え、23℃で30分間
攪拌し、分液することにより有機層を得た。この水洗の操作を5回行った。得られた有機
層を濃縮し、濃縮マスをカラム(シリカゲル60N(球状、中性)100-210μm;
関東化学(株)製、展開溶媒:酢酸エチル)分取することにより、式(I-1-b)で表
される化合物4.28部を得た。
式(I-1-b)で表される化合物4.28部、アセトニトリル35部及び式(I-1
-c)で表される化合物1.88部を混合し、23℃で18時間攪拌した。得られた混合
物に、クロロホルム80部及びイオン交換水40部を加え、23℃で30分間攪拌し、分
液することにより有機層を得た。得られた有機層に、イオン交換水40部を加え、23℃
で30分間攪拌し、分液することにより有機層を得た。この水洗の操作を5回行った。得
られた有機層を濃縮することにより、式(I-1)で表される化合物3.67部を得た。
MASS(ESI(+)Spectrum):527.1 [M+H]+
式(I-1-a)で表される化合物5.00部、ジメチルホルムアミド30部、トリエ
チルアミン2.22部及びヨウ化カリウム1.00部を混合し、23℃で30分間攪拌し
た後、5℃まで冷却した。得られた混合物に、式(I-3-a)で表される化合物2.8
4部を加え、5℃で30分間攪拌した後、さらに、23℃で8時間撹拌した。得られた混
合物に、クロロホルム80部及びイオン交換水40部を加え、23℃で30分間攪拌し、
分液することにより有機層を得た。得られた有機層に、イオン交換水40部を加え、23
℃で30分間攪拌し、分液することにより有機層を得た。この水洗の操作を5回行った。
得られた有機層を濃縮した後、濃縮残渣に、メタノール40部及び10%水酸化ナトリウ
ム水溶液4.00部を混合し、23℃で18時間攪拌した。得られた混合物に、クロロホ
ルム50部及びイオン交換水25部を加え、23℃で30分間攪拌し、分液することによ
り有機層を得た。得られた有機層に、イオン交換水25部を加え、23℃で30分間攪拌
し、分液することにより有機層を得た。この水洗の操作を5回行った。得られた有機層を
濃縮し、濃縮マスをカラム(シリカゲル60N(球状、中性)100-210μm;関東
化学(株)製、展開溶媒:酢酸エチル)分取することにより、式(I-3-c)で表され
る化合物2.61部を得た。
式(I-3-c)で表される化合物2.61部、アセトニトリル35部及び式(I-1
-c)で表される化合物0.89部を混合し、23℃で18時間攪拌した。得られた混合
物に、クロロホルム80部及びイオン交換水40部を加え、23℃で30分間攪拌し、分
液することにより有機層を得た。得られた有機層に、イオン交換水40部を加え、23℃
で30分間攪拌し、分液することにより有機層を得た。この水洗の操作を5回行った。得
られた有機層を濃縮することにより、式(I-3)で表される化合物3.67部を得た。
MASS(ESI(+)Spectrum):615.1 [M+H]+
式(I-1-b)で表される化合物4.32部、ジメチルホルムアミド30部及びトリ
エチルアミン1.11部を混合し、23℃で30分間攪拌した後、5℃まで冷却した。得
られた混合物に、式(I-3-a)で表される化合物1.42部を加え、5℃で30分間
攪拌した後、さらに、23℃で2時間撹拌することにより、式(I-7-a)で表される
化合物を含む溶液を得た。式(I-7-a)で表される化合物を含む溶液に、ピリジン1
.90部及び式(I-7-b)で表される化合物5.46部を加え、40℃で2時間撹拌
した後、23℃まで冷却した。得られた混合物に、p-トルエンスルホン酸6.88部を
添加した後、23℃で4時間撹拌した。得られた混合物に、クロロホルム80部及びイオ
ン交換水40部を加え、23℃で30分間攪拌し、分液することにより有機層を得た。得
られた有機層に、イオン交換水40部を加え、23℃で30分間攪拌し、分液することに
より有機層を得た。この水洗の操作を5回行った。得られた有機層を濃縮し、濃縮マスを
カラム(シリカゲル60N(球状、中性)100-210μm;関東化学(株)製、展開
溶媒:酢酸エチル)分取することにより、式(I-7-c)で表される化合物1.62部
を得た。
式(I-7-c)で表される化合物1.03部、アセトニトリル20部及び式(I-1
-c)で表される化合物0.25部を混合し、23℃で18時間攪拌した。得られた混合
物に、クロロホルム50部及びイオン交換水25部を加え、23℃で30分間攪拌し、分
液することにより有機層を得た。得られた有機層に、イオン交換水25部を加え、23℃
で30分間攪拌し、分液することにより有機層を得た。この水洗の操作を5回行った。得
られた有機層を濃縮することにより、式(I-7)で表される化合物1.01部を得た。
MASS(ESI(+)Spectrum):819.0 [M+H]+
式(I-1-a)で表される化合物5.00部、ジメチルホルムアミド30部、トリエ
チルアミン2.22部及びヨウ化カリウム1.00部を混合し、23℃で30分間攪拌し
た後、5℃まで冷却した。得られた混合物に、式(I-5-a)で表される化合物6.5
6部を加え、5℃で30分間攪拌した後、さらに、23℃で8時間撹拌した。得られた混
合物に、クロロホルム80部及びイオン交換水40部を加え、23℃で30分間攪拌し、
分液することにより有機層を得た。得られた有機層に、イオン交換水40部を加え、23
℃で30分間攪拌し、分液することにより有機層を得た。この水洗の操作を5回行った。
得られた有機層を濃縮した後、濃縮残渣に、メタノール40部及び10%水酸化ナトリウ
ム水溶液4.00部を混合し、23℃で18時間攪拌した。得られた混合物に、クロロホ
ルム50部及びイオン交換水25部を加え、23℃で30分間攪拌し、分液することによ
り有機層を得た。得られた有機層に、イオン交換水25部を加え、23℃で30分間攪拌
し、分液することにより有機層を得た。この水洗の操作を5回行った。得られた有機層を
濃縮し、濃縮マスをカラム(シリカゲル60N(球状、中性)100-210μm;関東
化学(株)製、展開溶媒:酢酸エチル)分取することにより、式(I-5-c)で表され
る化合物3.29部を得た。
式(I-5-c)で表される化合物3.17部、アセトニトリル35部及び式(I-1
-c)で表される化合物0.89部を混合し、23℃で18時間攪拌した。得られた混合
物に、クロロホルム80部及びイオン交換水40部を加え、23℃で30分間攪拌し、分
液することにより有機層を得た。得られた有機層に、イオン交換水40部を加え、23℃
で30分間攪拌し、分液することにより有機層を得た。この水洗の操作を5回行った。得
られた有機層を濃縮することにより、式(I-5)で表される化合物3.88部を得た。
MASS(ESI(+)Spectrum):727.2 [M+H]+
式(I-1-a)で表される化合物5.00部、ジメチルホルムアミド30部、トリエ
チルアミン2.22部及びヨウ化カリウム1.00部を混合し、23℃で30分間攪拌し
た後、5℃まで冷却した。得られた混合物に、式(I-27-a)で表される化合物7.
40部を加え、5℃で30分間攪拌した後、さらに、23℃で8時間撹拌した。得られた
混合物に、クロロホルム80部及びイオン交換水40部を加え、23℃で30分間攪拌し
、分液することにより有機層を得た。得られた有機層に、イオン交換水40部を加え、2
3℃で30分間攪拌し、分液することにより有機層を得た。この水洗の操作を5回行った
。得られた有機層を濃縮した後、濃縮残渣に、メタノール40部及び10%水酸化ナトリ
ウム水溶液4.00部を混合し、23℃で18時間攪拌した。得られた混合物に、クロロ
ホルム50部及びイオン交換水25部を加え、23℃で30分間攪拌し、分液することに
より有機層を得た。得られた有機層に、イオン交換水25部を加え、23℃で30分間攪
拌し、分液することにより有機層を得た。この水洗の操作を5回行った。得られた有機層
を濃縮し、濃縮マスをカラム(シリカゲル60N(球状、中性)100-210μm;関
東化学(株)製、展開溶媒:酢酸エチル)分取することにより、式(I-27-c)で表
される化合物3.40部を得た。
式(I-27-c)で表される化合物3.31部、アセトニトリル35部及び式(I-
1-c)で表される化合物0.89部を混合し、23℃で18時間攪拌した。得られた混
合物に、クロロホルム80部及びイオン交換水40部を加え、23℃で30分間攪拌し、
分液することにより有機層を得た。得られた有機層に、イオン交換水40部を加え、23
℃で30分間攪拌し、分液することにより有機層を得た。この水洗の操作を5回行った。
得られた有機層を濃縮することにより、式(I-27)で表される化合物3.69部を得
た。
MASS(ESI(+)Spectrum):755.2 [M+H]+
式(I-1-a)で表される化合物5.00部、ジメチルホルムアミド30部、トリエ
チルアミン2.22部及びヨウ化カリウム1.00部を混合し、23℃で30分間攪拌し
た後、5℃まで冷却した。得られた混合物に、式(I-18-a)で表される化合物7.
29部を加え、5℃で30分間攪拌した後、さらに、23℃で8時間撹拌した。得られた
混合物に、クロロホルム80部及びイオン交換水40部を加え、23℃で30分間攪拌し
、分液することにより有機層を得た。得られた有機層に、イオン交換水40部を加え、2
3℃で30分間攪拌し、分液することにより有機層を得た。この水洗の操作を5回行った
。得られた有機層を濃縮した後、濃縮残渣に、メタノール40部及び10%水酸化ナトリ
ウム水溶液4.00部を混合し、23℃で18時間攪拌した。得られた混合物に、クロロ
ホルム50部及びイオン交換水25部を加え、23℃で30分間攪拌し、分液することに
より有機層を得た。得られた有機層に、イオン交換水25部を加え、23℃で30分間攪
拌し、分液することにより有機層を得た。この水洗の操作を5回行った。得られた有機層
を濃縮し、濃縮マスをカラム(シリカゲル60N(球状、中性)100-210μm;関
東化学(株)製、展開溶媒:酢酸エチル)分取することにより、式(I-18-c)で表
される化合物4.29部を得た。
式(I-18-c)で表される化合物4.23部、アセトニトリル35部及び式(I-
1-c)で表される化合物0.89部を混合し、23℃で18時間攪拌した。得られた混
合物に、クロロホルム80部及びイオン交換水40部を加え、23℃で30分間攪拌し、
分液することにより有機層を得た。得られた有機層に、イオン交換水40部を加え、23
℃で30分間攪拌し、分液することにより有機層を得た。この水洗の操作を5回行った。
得られた有機層を濃縮することにより、式(I-18)で表される化合物4.13部を得
た。
MASS(ESI(+)Spectrum):939.3 [M+H]+
モノマーとして、モノマー(a1-1-3)、モノマー(a1-2-5)、モノマー(
a2-1-1)及びモノマー(a3-1-1)を用い、そのモル比〔モノマー(a1-1
-3):モノマー(a1-2-9):モノマー(a2-1-1):モノマー(a3-1-
1)〕が14:45:2.5:38.5となるように混合し、全モノマー量の1.5質量
倍のプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートを加えて溶液とした。この溶液
に、開始剤としてアゾビスイソブチロニトリル及びアゾビス(2,4-ジメチルバレロニ
トリル)を全モノマー量に対して各々、1mol%及び3mol%添加し、これらを73
℃で約5時間加熱した。得られた反応混合物を、大量のメタノール/水混合溶媒に注いで
樹脂を沈殿させ、この樹脂をろ過した。得られた樹脂を再び、プロピレングリコールモノ
メチルエーテルアセテートに溶解させて得られる溶解液をメタノール/水混合溶媒に注い
で樹脂を沈殿させ、この樹脂をろ過するという再沈殿操作を2回行い、重量平均分子量7
.9×103の樹脂A1を収率88%で得た。この樹脂A1は、以下の構造単位を有する
ものである。
モノマーとして、モノマー(a4-1-4)を用い、全モノマー量の1.5質量倍のメ
チルイソブチルケトンを加えて溶液とした。この溶液に、開始剤としてアゾビスイソブチ
ロニトリル及びアゾビス(2,4-ジメチルバレロニトリル)を全モノマー量に対して各
々、0.7mol%及び2.1mol%添加し、これらを75℃で約5時間加熱した。得
られた反応混合物を、大量のメタノール/水混合溶媒に注いで樹脂を沈殿させ、この樹脂
をろ過し、重量平均分子量1.7×104の樹脂X1を収率77%で得た。この樹脂X1
は、以下の構造単位を有するものである。
表1に示すように、以下の各成分を混合し、得られた混合物を孔径0.2μmのフッ素
樹脂製フィルターで濾過することにより、レジスト組成物を調製した。
A1、X1:樹脂A1、樹脂X1
<酸発生剤>
B1-21:式(B1-21)で表される塩(特開2012-224611号公報の実
施例に従って合成)
B1-22:式(B1-22)で表される塩(特開2012-224611号公報の実
施例に従って合成)
<クエンチャー(C)>
クエンチャーC1:(特開2012-8553号公報の実施例に従って合成)
クエンチャーC2:(特開2012-8553号公報の実施例に従って合成)
<溶剤>
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート 265部
プロピレングリコールモノメチルエーテル 20部
2-ヘプタノン 20部
γ-ブチロラクトン 3.5部
12インチのシリコンウェハ上に、有機反射防止膜用組成物[ARC-29;日産化学
(株)製]を塗布して、205℃、60秒の条件でベークすることによって、厚さ78n
mの有機反射防止膜を形成した。次いで、前記の有機反射防止膜の上に、上記のレジスト
組成物を乾燥(プリベーク)後の組成物層の膜厚が170nmとなるようにスピンコート
した。塗布後、このシリコンウェハをダイレクトホットプレート上にて、表1の「PB」
欄に記載された温度で60秒間プリベークして、シリコンウェハ上に組成物層を形成した
。
シリコンウェハ上に形成された組成物層に、液浸露光用ArFエキシマレーザステッパ
ー[XT:1900Gi;ASML社製、NA=0.93、Conventional
σ=0.5]で、スペースパターン(ピッチ240nm/スペース幅90nm)を形成す
るためのマスクを用いて、露光量を段階的に変化させて露光した。なお、液浸媒体として
は超純水を使用した。
露光後、ホットプレート上にて、表1の「PEB」欄に記載された温度で60秒間ポス
トエキスポジャーベークを行った。次いで、このシリコンウェハ上の組成物層を、現像液
として2.38%テトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液を用いて、23℃で60
秒間のパドル現像を行うことにより、レジストパターンを製造した。
実効感度とした。
実効感度において、フォーカスを段階的に変化させて露光する以外は上記と同様の操作
を行ってレジストパターンを製造した。得られたレジストパターンにおいて、スペースパ
ターンの幅が90nm±5%(85.5~94.5nm)となるフォーカス範囲をDOF
(nm)とした。結果を表2に示す。
F)で、膜厚150~1000nmの厚膜のレジストパターンを製造できることがわかる
。
造できるため、半導体の微細加工に有用である。
Claims (4)
- 式(I)で表される化合物。
[式(I)中、
L1は、単結合又は炭素数1~18の2価の炭化水素基を表し、該炭化水素基に含まれる-CH2-は、-O-、-S-、-S(O)2-又は-CO-に置き換わっていてもよい。
W1は、炭素数3~24の炭化水素環を表し、該炭化水素環に含まれる-CH2-は、-O-、-S-、-S(O)2-又は-CO-に置き換わっていてもよい。
nは、1~3のいずれかの整数を表す。
R1及びR2は、それぞれ独立に、炭素数1~6のフッ素化アルキル基を表す。
R3は、置換基を有していてもよい炭素数1~18の炭化水素基を表し、該炭化水素基に含まれる-CH2-は、-O-、-S-、-S(O)2-又は-CO-に置き換わっていてもよい。
nが2又は3の時、複数のR1、R2及びR3は、同じでも異なっていてもよい。] - R1及びR2が、トリフルオロメチル基である請求項1記載の化合物。
- R3が、置換基を有していてもよい炭素数1~18の炭化水素基を表し、該炭化水素基に含まれる少なくとも1つの-CH2-は、-O-又は-CO-に置き換わっている請求項1又は2記載の化合物。
- W1が、単環式の飽和炭化水素環である請求項1~3のいずれかに記載の化合物。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2018006203 | 2018-01-18 | ||
JP2018006203 | 2018-01-18 | ||
JP2019005336A JP7217154B2 (ja) | 2018-01-18 | 2019-01-16 | レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2019005336A Division JP7217154B2 (ja) | 2018-01-18 | 2019-01-16 | レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2023033318A JP2023033318A (ja) | 2023-03-10 |
JP7414945B2 true JP7414945B2 (ja) | 2024-01-16 |
Family
ID=67398811
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2019005336A Active JP7217154B2 (ja) | 2018-01-18 | 2019-01-16 | レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 |
JP2022205381A Active JP7414945B2 (ja) | 2018-01-18 | 2022-12-22 | 化合物 |
Family Applications Before (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2019005336A Active JP7217154B2 (ja) | 2018-01-18 | 2019-01-16 | レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (2) | JP7217154B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US11809077B2 (en) | 2020-07-30 | 2023-11-07 | Rohm And Haas Electronic Materials Llc | Photoresist compositions and pattern formation methods |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2013242397A (ja) | 2012-05-18 | 2013-12-05 | Fujifilm Corp | ネガ型パターン形成方法、電子デバイスの製造方法、電子デバイス及び感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物 |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3945200B2 (ja) * | 2001-09-27 | 2007-07-18 | 信越化学工業株式会社 | 化学増幅レジスト材料及びパターン形成方法 |
JP5686669B2 (ja) * | 2010-05-27 | 2015-03-18 | 住友化学株式会社 | レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 |
JP5609815B2 (ja) * | 2010-08-26 | 2014-10-22 | 信越化学工業株式会社 | ポジ型化学増幅レジスト材料及びパターン形成方法 |
JP5990021B2 (ja) * | 2011-04-07 | 2016-09-07 | 住友化学株式会社 | レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 |
JP6306853B2 (ja) * | 2012-11-15 | 2018-04-04 | 住友化学株式会社 | レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 |
JP7066567B2 (ja) * | 2017-08-18 | 2022-05-13 | 住友化学株式会社 | 化合物、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 |
-
2019
- 2019-01-16 JP JP2019005336A patent/JP7217154B2/ja active Active
-
2022
- 2022-12-22 JP JP2022205381A patent/JP7414945B2/ja active Active
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2013242397A (ja) | 2012-05-18 | 2013-12-05 | Fujifilm Corp | ネガ型パターン形成方法、電子デバイスの製造方法、電子デバイス及び感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物 |
Non-Patent Citations (1)
Title |
---|
Macromolecular Rapid Communications,2010年,Vol. 31, No. 16,p. 1449-1455 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2019124941A (ja) | 2019-07-25 |
JP2023033318A (ja) | 2023-03-10 |
JP7217154B2 (ja) | 2023-02-02 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP7204343B2 (ja) | レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 | |
JP2023169194A (ja) | レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 | |
JP2023175801A (ja) | レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 | |
JP2023182628A (ja) | レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 | |
JP7389622B2 (ja) | 塩、クエンチャー、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 | |
JP2023145501A (ja) | 酸発生剤、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 | |
JP7269750B2 (ja) | 化合物、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 | |
JP7115914B2 (ja) | レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 | |
JP7414945B2 (ja) | 化合物 | |
JP7409844B2 (ja) | カルボン酸塩、カルボン酸発生剤、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 | |
JP7373354B2 (ja) | 塩、酸発生剤、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 | |
JP7389589B2 (ja) | 酸発生剤、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 | |
JP2023171386A (ja) | 塩、酸発生剤、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 | |
JP7240068B2 (ja) | カルボン酸塩、カルボン酸発生剤、樹脂、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 | |
JP7114394B2 (ja) | 化合物、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 | |
JP7129272B2 (ja) | 化合物、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 | |
JP7233871B2 (ja) | 化合物、樹脂、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 | |
JP7193021B2 (ja) | レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 | |
JP7449064B2 (ja) | 塩、酸発生剤、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 | |
JP7234059B2 (ja) | 化合物、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 | |
JP7167539B2 (ja) | 化合物、樹脂、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 | |
JP7133391B2 (ja) | 化合物、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 | |
JP7441663B2 (ja) | 化合物、樹脂、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 | |
JP7438782B2 (ja) | 化合物、樹脂、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 | |
JP7353120B2 (ja) | 化合物、樹脂、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20230106 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20231205 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20231207 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20231228 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 7414945 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |