JP2023166492A - 回折光学素子、これを用いた投影装置、及び計測装置 - Google Patents
回折光学素子、これを用いた投影装置、及び計測装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2023166492A JP2023166492A JP2023141492A JP2023141492A JP2023166492A JP 2023166492 A JP2023166492 A JP 2023166492A JP 2023141492 A JP2023141492 A JP 2023141492A JP 2023141492 A JP2023141492 A JP 2023141492A JP 2023166492 A JP2023166492 A JP 2023166492A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- light
- diffraction
- doe
- optical element
- diffracted
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title claims abstract description 75
- 238000005259 measurement Methods 0.000 title description 10
- WXNXCEHXYPACJF-ZETCQYMHSA-N N-acetyl-L-leucine Chemical compound CC(C)C[C@@H](C(O)=O)NC(C)=O WXNXCEHXYPACJF-ZETCQYMHSA-N 0.000 claims abstract 4
- 238000012937 correction Methods 0.000 claims description 27
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 abstract description 9
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 abstract description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 55
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 39
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 34
- 238000013461 design Methods 0.000 description 33
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 12
- 238000000034 method Methods 0.000 description 8
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 5
- 238000004088 simulation Methods 0.000 description 5
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 3
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 description 3
- 240000006829 Ficus sundaica Species 0.000 description 2
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 2
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 2
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 230000000007 visual effect Effects 0.000 description 2
- 238000012935 Averaging Methods 0.000 description 1
- 238000003491 array Methods 0.000 description 1
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 description 1
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 1
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 1
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 1
- SYHGEUNFJIGTRX-UHFFFAOYSA-N methylenedioxypyrovalerone Chemical compound C=1C=C2OCOC2=CC=1C(=O)C(CCC)N1CCCC1 SYHGEUNFJIGTRX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010606 normalization Methods 0.000 description 1
- 238000005457 optimization Methods 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 230000001629 suppression Effects 0.000 description 1
- 230000001131 transforming effect Effects 0.000 description 1
- 238000009827 uniform distribution Methods 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B27/00—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
- G02B27/42—Diffraction optics, i.e. systems including a diffractive element being designed for providing a diffractive effect
- G02B27/4205—Diffraction optics, i.e. systems including a diffractive element being designed for providing a diffractive effect having a diffractive optical element [DOE] contributing to image formation, e.g. whereby modulation transfer function MTF or optical aberrations are relevant
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B27/00—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
- G02B27/09—Beam shaping, e.g. changing the cross-sectional area, not otherwise provided for
- G02B27/0916—Adapting the beam shape of a semiconductor light source such as a laser diode or an LED, e.g. for efficiently coupling into optical fibers
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01S—RADIO DIRECTION-FINDING; RADIO NAVIGATION; DETERMINING DISTANCE OR VELOCITY BY USE OF RADIO WAVES; LOCATING OR PRESENCE-DETECTING BY USE OF THE REFLECTION OR RERADIATION OF RADIO WAVES; ANALOGOUS ARRANGEMENTS USING OTHER WAVES
- G01S7/00—Details of systems according to groups G01S13/00, G01S15/00, G01S17/00
- G01S7/48—Details of systems according to groups G01S13/00, G01S15/00, G01S17/00 of systems according to group G01S17/00
- G01S7/481—Constructional features, e.g. arrangements of optical elements
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B27/00—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
- G02B27/09—Beam shaping, e.g. changing the cross-sectional area, not otherwise provided for
- G02B27/0927—Systems for changing the beam intensity distribution, e.g. Gaussian to top-hat
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B27/00—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
- G02B27/09—Beam shaping, e.g. changing the cross-sectional area, not otherwise provided for
- G02B27/0938—Using specific optical elements
- G02B27/0944—Diffractive optical elements, e.g. gratings, holograms
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/18—Diffraction gratings
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03B—APPARATUS OR ARRANGEMENTS FOR TAKING PHOTOGRAPHS OR FOR PROJECTING OR VIEWING THEM; APPARATUS OR ARRANGEMENTS EMPLOYING ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ACCESSORIES THEREFOR
- G03B21/00—Projectors or projection-type viewers; Accessories therefor
- G03B21/14—Details
- G03B21/20—Lamp housings
- G03B21/2006—Lamp housings characterised by the light source
- G03B21/2033—LED or laser light sources
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03B—APPARATUS OR ARRANGEMENTS FOR TAKING PHOTOGRAPHS OR FOR PROJECTING OR VIEWING THEM; APPARATUS OR ARRANGEMENTS EMPLOYING ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ACCESSORIES THEREFOR
- G03B21/00—Projectors or projection-type viewers; Accessories therefor
- G03B21/14—Details
- G03B21/20—Lamp housings
- G03B21/2053—Intensity control of illuminating light
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Multimedia (AREA)
- Signal Processing (AREA)
- Computer Networks & Wireless Communication (AREA)
- Radar, Positioning & Navigation (AREA)
- Remote Sensing (AREA)
- Diffracting Gratings Or Hologram Optical Elements (AREA)
- Optical Radar Systems And Details Thereof (AREA)
- Projection Apparatus (AREA)
Abstract
Description
前記回折光学素子は、前記第1の方向に回折された回折光のうち最も外側の回折光と、外側から2番目の回折光との間の分離角が、前記入射光の発散角よりも小さくなるように設計された位相パターンを有する。
前記二次元方向に回折される回折光のうち、中心から最も遠いコーナー部で互いに隣接する4つの回折光の中央の角度座標を(ax、ay)、第1の方向で最も外側の回折光の回折角をθx(MHx)、前記第1の方向と直交する第2の方向で最も外側の回折光の回折角をθy(MHy)、前記二次元方向に回折される回折光の前記第1の方向の発散角をδx、前記二次元方向に回折される回折光の前記第2の方向の発散角をδyとすると、前記回折光学素子は、
[(ax-θx(MHx))/δx]2+[(ay-θy(MHy))/δy]2<1
を満たす位相パターンを有する。
前記入射光のビーム径をFWHM、投影面までの距離をZ、前記第1の方向へ回折される回折光のうち最も外側の回折光の回折角をθ(MH)、外側から2番目の回折光の回折角をθ(MH-1)とすると、前記回折光学素子は、
tanθ(MH)-tanθ(MH-1)<(FWHM/2Z)[1/cosθ(MH)+1/cosθ(MH-1)]
を満たす位相パターンを有する。
前記入射光の波長をλ、前記入射光のビーム径をFWHM、投影面までの距離をZ、前記回折光学素子の周期長をPとすると、前記周期長は、
λ×Z/(α×FWHM)<P<FWHM
を満たし、
前記回折光学素子は、当該回折光学素子によって形成される視野角が30°より小さいときはαの値が一定値となり、前記視野角が30°以上のときは前記αの値が前記視野角の関数として単調減少するように設計された位相パターンを有する。
m×λ=P×sinθ (1)
で表される。DOE20の周期長とは、DOE20を構成する複数の単位パターン(またはユニット構造)のサイズまたは繰り返し周期をいう。
図7は、等距離面への一次元の投影を説明する図である。ここでは、30°以上の視野角、好ましくは60°以上の視野角、より好ましくは120°以上の視野角を想定している。このような広い視野は測距、投影で有用であること、および、図3で示したように視野角が30°よりも小さいときは、分離角の変化が無視できる程度に小さいが、30°以上になると分離角の変化が顕著になるからである。
θ(MH)-θ(MH-1)<θdiv (2)
の条件が満たされればよい。図7を参照すると、発散角θdivは、投影面でのビーム径FWHMの半径と距離Zscを用いて、
図8は、平坦なスクリーン面に投射された回折光の重なりを示す。比較的短い距離でスクリーン面に投影する場合も、図7を参照して説明したのと同じ理由で、30°以上の視野角、好ましくは60°以上、より好ましくは120°以上の視野角を前提とする。
が満たされれば2つの回折光は重なり合うので、これを変形して式(3)が得られる。
θ(m)=arcsin(mλ/P) (4)
である。
図10は、等距離面での二次元方向への回折光の重なりを説明する図である。発散光を用いて遠方まで投射する場合を想定する。
ay=[θy(MHy)+θy(MHy-1)]/2
上記のエリアの中央の角度座標(ax,ay)が4つの楕円のすべてに含まれるための条件は、式(6)で表される。
図11は、平行光を用いた短距離投影の二次元方向への回折を説明する図である。等距離面への2次元照射の場合、図10のように式(6)の条件が導かれる。
(1/FWHMi)<(1/Pi) (7)
で表現される。
(λ/P)<α×(FWHMi/Zsc) (8)
という条件が導かれる。周期長Pの下限は、λ×(Zsc/FWHMi)となり、光源の設計とスクリーンまでの距離によって決まる。式(7)と式(8)から、周期長Pの範囲を、λ×Zsc/(α×FWHM)<P<FWHMと記載してもよい。
ここで、FOV=max[xFOV、yFOV]であり、xFOVとyFOVが異なる場合はいずれか大きい方を選択する。
上述した基本設計により、投影面における回折光を隙間なく並べることができる。以下では、広角化した場合にも、投影面でより均一な強度分布を維持するための構成を説明する。
図15は、視野角を広くする場合に均一な強度分布を維持するための第1の構成を示す図である。第1の構成では、回折次数を間引くことで、広角の投影面で回折スポット間の分離角を平均化する。
波長λ=940nm
DOEの周期長P=200μm
ビーム径FWHM=0.4°
である。回折次数を間引くときの設計値は、
波長λ=940nm
DOEの周期長P=2000μm
ビーム径FWHM=0.4°
である。光源の設計を変えずにDOEの周期長を調整することで、回折次数を間引いて広い視野にわたって分離角を平均化することができる。
図22は、広角化したときにより均一な強度分布を維持するための第2の構成を示す。第2の構成では、あらかじめ回折光の重なりを考慮して、ユニット構造のパターンを一次元方向に強度補正する。換言すると、投影面での回折スポットの強度を調整する。
光源波長λ=940nm
DOEの周期長P=200μm
ビーム径FWHM=1°
である。
H(θ)=1/cosθ (10)
を用いる。
H(θ)=1/cosθx・cosθy (11)
を用いる。
H(θ)(1/cosθ)2 (12)
を用いる。スクリーン面への投影で、回折角の関数としての補正割合を大きくするのは、視野の端部に向かうほど分離角が大きくなるだけではなく、回折点からスポット位置までの距離も長くなりビームピロファイルが歪むからである。
H(θ)=(1/cosθ)3 (13)
を用いる。直交方向へ補正の次元が増加するからである。
0.4×H(θ)<I(θ)<1.6×H(θ) (14)
を満たせばよい。ここで、θ=0近傍の値が1に規格化されている。
0.8×H(θ)<I(θ)<1.2×H(θ) (15)
の範囲に絞ってもよい。
次に、0次光の低減について説明する。
mi=(Pi/λ)sin(FOVi/2)とすることができる。
N-1→A-1:DOEユニット構造に含まれるU=-1となる総面積
NxNy→ADOE:DOEユニット構造の総面積
これにより、ゼロ次光抑制のための式(16)が導かれる。
m×λ=P×(sinθ-sinθin) (1)'
となる。
図31は、投影装置における光学素子の多段構成を示す図である。投影装置10Aは、光源30と、複数の光学素子20-1~20-3を光軸に沿って配置した光学系25を有する。多段構成の光学系25で、光学素子20-1~20-3の少なくともひとつは、実施形態のDOEである。この多段構成は、FOVの広角化と0次光低減の少なくとも一方を実現するために有効な構成である。
図37は、目標投影像を得るためのDOE設計の概念を説明する図である。投影像はDOE位相情報のフーリエ変換(FFT:Fast Fourier Transform)像であるから、理想的には、投影像の逆フーリエ変換(IFFT:Inverse Fast Fourier Transform)の結果が所望のDOE位相情報となる。投影像を逆フーリエ変換することで、DOE20の位相パターンを知ることができる。
20 回折光学素子(DOE)
25、25A~25E 光学系
30 光源
31 入射ビーム
32 発散光
33 平行光
40 投影面
41 回折スポット
42、52 回折光
50 検出器
51 0次光
100 計測装置
S スクリーン面
E 等距離面
Claims (6)
- 基本ユニットが第1の方向に周期的に配列されており、入射光を前記第1の方向に回折させる回折光学素子であって、
前記入射光のビーム径をFWHM、投影面までの距離をZ、前記第1の方向へ回折される回折光のうち最も外側の回折光の回折角をθ(MH)、外側から2番目の回折光の回折角をθ(MH-1)とすると、前記回折光学素子は、
tanθ(MH)-tanθ(MH-1)<(FWHM/2Z)[1/cosθ(MH)+1/cosθ(MH-1)]
を満たす位相パターンを有し、かつ
[(A+1-A-1)/ADOE]2 <1/NALL
を満たすように設計された位相パターンを有し、
A+1は二値化された前記基本ユニットの中で+1.0の値をもつ領域の面積、A-1は-1.0の値をもつ領域の面積、ADOEは前記回折光学素子の前記基本ユニットの面積であり、NALLは総スポット数であることを特徴とする回折光学素子。 - 前記位相パターンは、前記第1の方向に回折される回折光の回折角をθとすると、(1/cosθ)2の割合で強度が強くなるように補正されている請求項1に記載の回折光学素子。
- 前記位相パターンの補正関数をH(θ)=(1/cosθ)2とし、θ=0近傍の値が1に規格化された補正後の回折スポット強度をI(θ)とすると、前記位相パターンは、
0.4×H(θ)<I(θ)<1.6×H(θ)
の範囲で補正されている請求項1または2に記載の回折光学素子。 - 平行光を出射する光源と、
前記光源の出射側に配置される回折光学素子と、
を有し、
前記回折光学素子は、第1の方向に周期的に配列された基本ユニットを有し、
前記平行光のビーム径をFWHM、前記回折光学素子から投影面までの距離をZ、前記回折光学素子によって第1の方向へ回折される回折光のうち最も外側の回折光の回折角をθ(MH)、外側から2番目の回折光の回折角をθ(MH-1)とすると、前記回折光学素子は
tanθ(MH)-tanθ(MH-1)<(FWHM/2Z)[1/cosθ(MH)+1/cosθ(MH-1)]
を満たすように設計された位相パターンを有し、かつ
[(A+1-A-1)/ADOE]2 <1/NALL
を満たすように設計された位相パターンを有し、
A+1は二値化された前記基本ユニットの中で+1.0の値をもつ領域の面積、A-1は-1.0の値をもつ領域の面積、ADOEは前記回折光学素子の前記基本ユニットの面積であり、NALLは総スポット数であることを特徴とする投影装置。 - 前記回折光学素子と同軸上に配置される第2光学素子、
をさらに有し、
前記第2光学素子は、回折機能を有する光学素子または回折機能を有さない拡散光学素子である請求項4に記載の投影装置。 - 請求項4または5に記載の投影装置と、
前記投影装置の視野角内に存在する物体からの反射光を検知する検出器と、
を有する計測装置。
Applications Claiming Priority (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2019016124 | 2019-01-31 | ||
JP2019016124 | 2019-01-31 | ||
PCT/JP2020/001300 WO2020158419A1 (ja) | 2019-01-31 | 2020-01-16 | 回折光学素子、これを用いた投影装置、及び計測装置 |
JP2020569499A JP7351316B2 (ja) | 2019-01-31 | 2020-01-16 | 回折光学素子、これを用いた投影装置、及び計測装置 |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2020569499A Division JP7351316B2 (ja) | 2019-01-31 | 2020-01-16 | 回折光学素子、これを用いた投影装置、及び計測装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2023166492A true JP2023166492A (ja) | 2023-11-21 |
JP7496052B2 JP7496052B2 (ja) | 2024-06-06 |
Family
ID=71841754
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2020569499A Active JP7351316B2 (ja) | 2019-01-31 | 2020-01-16 | 回折光学素子、これを用いた投影装置、及び計測装置 |
JP2023141492A Active JP7496052B2 (ja) | 2019-01-31 | 2023-08-31 | 回折光学素子、これを用いた投影装置、及び計測装置 |
Family Applications Before (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2020569499A Active JP7351316B2 (ja) | 2019-01-31 | 2020-01-16 | 回折光学素子、これを用いた投影装置、及び計測装置 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20210356755A1 (ja) |
JP (2) | JP7351316B2 (ja) |
CN (1) | CN113330339B (ja) |
WO (1) | WO2020158419A1 (ja) |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US11460576B2 (en) * | 2019-04-18 | 2022-10-04 | Beijing Voyager Technology Co., Ltd. | Transmitter having beam shifter for light detection and ranging (LIDAR) |
US20220412729A1 (en) * | 2021-06-25 | 2022-12-29 | Himax Technologies Limited | Dot pattern projector for use in three-dimensional distance measurement system |
CN113791397B (zh) * | 2021-08-06 | 2024-04-26 | Oppo广东移动通信有限公司 | 光发射模组、深度相机及终端 |
CN114137645B (zh) * | 2021-12-03 | 2023-10-24 | 浙江水晶光电科技股份有限公司 | 衍射光学元件及其制备方法、母版衍射图案的设计方法 |
US11979548B2 (en) * | 2022-04-08 | 2024-05-07 | Himax Technologies Limited | Structured light projector and three-dimensional image sensing apparatus |
CN115469451A (zh) * | 2022-09-22 | 2022-12-13 | 嘉兴驭光光电科技有限公司 | 一种高均匀性点阵的衍射光学元件及其设计方法、投射器 |
Family Cites Families (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000275441A (ja) * | 1999-03-23 | 2000-10-06 | Dainippon Printing Co Ltd | ホログラムカラーフィルターとそれを用いたカラー画像表示装置 |
JP4623723B2 (ja) * | 2004-06-18 | 2011-02-02 | 大日本印刷株式会社 | 回折光学素子及びこれを利用した光学ローパスフィルター |
DE102004035489A1 (de) * | 2004-07-19 | 2006-02-16 | Jenoptik Laser, Optik, Systeme Gmbh | Optisches System zur Umwandlung einer primären Intensitätsverteilung in eine vorgegebene, raumwinkelabhängige Intensitätsverteilung |
JP2007189168A (ja) * | 2006-01-16 | 2007-07-26 | Toyota Central Res & Dev Lab Inc | レーザー照射光学系 |
US8384997B2 (en) * | 2008-01-21 | 2013-02-26 | Primesense Ltd | Optical pattern projection |
JP5849954B2 (ja) | 2010-08-06 | 2016-02-03 | 旭硝子株式会社 | 回折光学素子及び計測装置 |
JP5834602B2 (ja) * | 2010-08-10 | 2015-12-24 | 旭硝子株式会社 | 回折光学素子及び計測装置 |
JP5948948B2 (ja) * | 2011-03-03 | 2016-07-06 | 旭硝子株式会社 | 回折光学素子及び計測装置 |
JP6186679B2 (ja) | 2012-08-09 | 2017-08-30 | 旭硝子株式会社 | 照明光学系、計測装置及びそれに用いられる回折光学素子 |
US9625637B2 (en) | 2012-08-13 | 2017-04-18 | 3M Innovative Properties Company | Diffractive lighting devices with 3-dimensional appearance |
JP6070274B2 (ja) * | 2013-02-28 | 2017-02-01 | 旭硝子株式会社 | 拡散素子、照明光学系および計測装置 |
JP6387964B2 (ja) | 2013-09-02 | 2018-09-12 | Agc株式会社 | 計測装置 |
CN104111488A (zh) * | 2013-10-22 | 2014-10-22 | 中国工程物理研究院激光聚变研究中心 | 一种具有单级衍射特性的反射式波带片设计及制造方法 |
CN106842606B (zh) * | 2017-04-06 | 2019-04-05 | 苏州苏大维格光电科技股份有限公司 | 一种光衍射器件及其制备方法和三维显示装置 |
-
2020
- 2020-01-16 JP JP2020569499A patent/JP7351316B2/ja active Active
- 2020-01-16 CN CN202080010401.9A patent/CN113330339B/zh active Active
- 2020-01-16 WO PCT/JP2020/001300 patent/WO2020158419A1/ja active Application Filing
-
2021
- 2021-07-29 US US17/443,997 patent/US20210356755A1/en active Pending
-
2023
- 2023-08-31 JP JP2023141492A patent/JP7496052B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPWO2020158419A1 (ja) | 2021-12-09 |
JP7351316B2 (ja) | 2023-09-27 |
WO2020158419A1 (ja) | 2020-08-06 |
US20210356755A1 (en) | 2021-11-18 |
CN113330339A (zh) | 2021-08-31 |
JP7496052B2 (ja) | 2024-06-06 |
CN113330339B (zh) | 2023-10-20 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP7351316B2 (ja) | 回折光学素子、これを用いた投影装置、及び計測装置 | |
JP6387964B2 (ja) | 計測装置 | |
JP6186679B2 (ja) | 照明光学系、計測装置及びそれに用いられる回折光学素子 | |
JP6070274B2 (ja) | 拡散素子、照明光学系および計測装置 | |
CN108369367B (zh) | 包括光学自由形态表面的投影设备和投影方法 | |
US11442282B2 (en) | Optical element including a plurality of regions | |
KR101236586B1 (ko) | 웨지를 이용한 회절형 빔 호모지나이저 광학계 | |
JP2014209237A (ja) | 0次低減のための光学設計 | |
US9874759B2 (en) | Method for scaling structured light pattern and optical device using the same | |
JP2014038314A (ja) | 光学素子、投影装置および計測装置並びに製造方法 | |
US10948731B2 (en) | Diffractive optical element and method for the design of a diffractive optical element | |
US20160047951A1 (en) | Electromagnetic radiation-scattering element and method of manufacturing same | |
CN110658573A (zh) | 提供结构光的衍射光学设备 | |
JP2008506995A (ja) | 一次的な強度分布を予め設定された立体角依存性の強度分布に変換する為の光学系 | |
CN105182546A (zh) | 匀光元件及光源系统 | |
EP4063935B1 (en) | Diffractive optical element capable of being used for projecting oblique line, projection apparatus, and design method therefor | |
CN105301790B (zh) | 可消除中心亮点的光学系统及其光照发散角调节方法 | |
US20230244080A1 (en) | Moire interference resistant diffuser for heads up displays | |
JP7030757B2 (ja) | 複数の領域を含む光学素子、該光学素子を備えた光学系、及び該光学系を使用する方法 | |
WO2022209554A1 (ja) | 発光デバイス及び光源装置 | |
Lunazzi et al. | Pseudoscopic white-light imaging by means of two bi-dimensional diffracting elements and a pinhole | |
JP6174355B2 (ja) | 回折光学素子、回折光学素子の製造方法、回折光学素子の設計装置および物体の検出装置 | |
CN117031740A (zh) | 减少失真的光学器件 | |
WO2024073296A2 (en) | Improved flat top diffuser for laser applications and other applications | |
Michaelis et al. | Freeform array projection |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20230831 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20240329 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20240416 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20240429 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 7496052 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |