JP2023159324A - エアロゾル発生装置及びそのための加熱チャンバ - Google Patents
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Abstract
【解決手段】エアロゾル発生装置100は、エアロゾル基質128を含有する基質担体114を収容するための加熱チャンバ108を有する。加熱チャンバ108は開放端110を備え、それを通して、基質担体114を加熱チャンバ108の長さに沿った方向に挿入可能である。管状壁が加熱チャンバ108の内部容積を規定し、複数の係合要素140は各々が、管状壁の一部から形成される。複数の係合要素140の各々は、加熱チャンバ108の内部容積の断面積が、加熱チャンバ108の長さの少なくとも一部に対して低減されるように、管状壁の周囲の異なる位置において管状壁の内面から延びるように構成されている。これらの係合要素140は、加熱チャンバ108内の基質担体114を把持又は圧縮する役割を担う。
【選択図】図4
Description
開放端であって、そこを通して、エアロゾル基質を含む基質担体を加熱チャンバの長さに沿った方向に挿入可能である、開放端と、
加熱チャンバの内部容積を規定する管状壁と、
各々が管状壁の一部から形成されている複数の係合要素と、を備え、
複数の係合要素の各々は、加熱チャンバの内部容積の断面積が、加熱チャンバの長さの少なくとも一部に対して低減されるように、管状壁の周囲の異なる位置において管状壁の内面から延びるように構成されている。
上述したような加熱チャンバと、
加熱チャンバに熱を供給するように構成されているヒーターと、
電源からヒーターへの電力の供給を制御するように構成されている制御回路と、を備える。
図1及び図2を参照すると、本開示の第1の実施形態によれば、エアロゾル発生装置100は、エアロゾル発生装置100の様々な構成要素を収容する外部ケーシング102を備える。第1の実施形態では、外部ケーシング102は管状である。より具体的には、外部ケーシングは円筒形である。外部ケーシング102は、管状又は円筒状の形状を有する必要はないが、本明細書で述べる様々な実施形態に記載される構成要素に嵌まるようにサイズ決めされている限り、任意の形状であり得ることに留意されたい。外部ケーシング102は、任意の好適な材料、又は実際には材料の層で形成することができる。例えば、金属の内層をプラスチックの外層で取り囲むことができる。これにより、外部ケーシング102は、ユーザが快適に保持できるようになる。エアロゾル発生装置100から漏れるいかなる熱も、金属層によって外部ケーシング102の周囲に分配されるので、ホットスポットが防止される一方で、プラスチックの層は、外部ケーシング102の感触を和らげる。加えて、プラスチック層は、金属層を変色又は引っ掻き傷から保護することを手助けできるので、エアロゾル発生装置100の長期的な外観を改善する。
熱チャンバ108は、ワッシャ107a、107bの中央開口部を通して嵌めることにより、外部ケーシング102の内部表面から間隔を空けて保持される。この構成では、加熱チャンバ108は、外部ケーシング102と概ね同軸の構成で保持される。加熱チャンバ108は、加熱チャンバ108の開放端110に位置し一対のワッシャ107a、107bの間に把持されている、加熱チャンバ108のフランジ138によって吊り下げられている。このことは、加熱チャンバ108から外部ケーシング102への熱伝導は、一般にワッシャ107a、107bを通過し、それにより、ワッシャ107a、107bの断熱特性によって制限されることを意味する。それ以外の場所では、加熱チャンバ108を取り囲むエアギャップがあるので、ワッシャ107a、107bを介する以外の、加熱チャンバ108から外部ケーシング102への熱伝達もまた低減される。図示した実施形態では、フランジ138は、加熱チャンバ108の側壁126から約1mmの距離だけ外向きに延び、環状構造体を形成している。
露され、したがって最も速く冷却されるので、加熱チャンバ108を開放端110の近くの外部ケーシング102に取り付けることにより、熱が環境に迅速に放散されること、及び堅固な嵌合を確保することが可能になり得る。
、フランジ138及び基部112も、一定程度の構造的支持を提供することに留意されたい。最初に基部112を考慮すると、両端が開口している管は一般につぶれやすいが、本開示の加熱チャンバ108に基部112を設けることは支持を追加することに留意されたい。図示した実施形態では、基部112は側壁126よりも厚く、例えば、側壁126の2倍~10倍の厚さであることに留意されたい。場合によっては、この結果、200μm~500μmの厚さ、例えば約400μmの厚さの基部112が得られる場合がある。基部112はまた、基質担体114がエアロゾル発生装置100の中に過度に挿入されることを防止するという更なる目的を有する。基部112の厚さを増加させることは、ユーザが基質担体114を挿入する場合に不注意で力を入れ過ぎた場合に、加熱チャンバ108に損傷が生じることを防止するのに役立つ。同様に、ユーザが加熱チャンバ108をクリーニングする場合、ユーザは、典型的には、加熱チャンバ108の開放端110を通して細長いブラシなどの物体を挿入する場合がある。これは、細長い物体が基部112に当たる際に、ユーザは、加熱チャンバ108の側壁126に対するよりも、基部112に対して、より強い力を及ぼす可能性が高いことを意味する。したがって、側壁126に対する基部112の厚さは、クリーニング中の加熱チャンバ108への損傷を防止するのに役立ち得る。他の実施形態では、基部112は側壁126と同じ厚さを有し、これは、上述した有利な効果のいくつかをもたらす。
基質担体の第1の端部134に入るためには、基質担体114の側面を下に流れなければならないことを意味する。上述したように、突出部140は、加熱チャンバ108内へと十分な距離を延びて、少なくとも基質担体114の外部表面に接触し、典型的には、基質担体の少なくともある程度の圧縮を引き起こす。その結果、図6(a)の断面図は、図の左と右にある突出部140を貫通しているので、図の平面内では、加熱チャンバ108に沿って全体にわたってエアギャップはない。代わりに、空気流路(矢印B)が、突出部140の領域に破線として示され、これは、空気流路が突出部140の前方と後方に位置することを示している。実際、図2(a)と比較すると、空気流路は、4つの突出部140の間の4つの等間隔に配置されたギャップ領域を占めることを示す。もちろん、状況によっては突出部140が4つよりも多い又は少ないこともあり、その場合、空気流路が突出部の間のギャップ内に存在するという一般的な点は真実のままである。
続トラック150は、加熱要素164から垂直に下向きに延びるように示されている。ヒーター124が所定位置にある状態で、電気接続部150は、加熱チャンバ108の基部112を越えて、絶縁部材152の基部156を通って延びて、制御回路122と接続する。
0μm、又は10μm~30μm、例えば、約20μmであり得る。ストライク層が使用される場合、これは金属層144よりも更に薄く、例えば、10μm、又は5μmでさえある。以下でより詳細に説明するように、金属層144の目的は、ヒーター124によって発生した熱を、ヒーター124が占める領域よりも広い領域に分配させることである。いったんこの効果が十分に達成されたら、金属層144を更に厚くすることには殆ど利点がない。なぜなら、これはただ単に熱質量を増加させ、エアロゾル発生装置100の効率を低下させるからである。
置100の上方に示されているが、エアロゾル発生装置100内には装填されていない。図5及び図6では、エアロゾル発生装置100に装填されている基質担体114が示されている。
アロゾル基質128の近傍から流れることが理解されるであろう。この動作により、周囲空気が、エアロゾル発生装置100を取り囲む環境から(図6の矢印Bによって示され、図6(a)により詳細に示される流路を介して)加熱チャンバ108内へと引き込まれる。次いで、この周囲空気はヒーター124によって加熱され、この周囲空気は次にエアロゾル基質128を加熱してエアロゾルを発生させる。より具体的には、第1の実施形態では、空気は、加熱チャンバ108の側壁126と基質担体114の外層132との間に設けられた空間を通って加熱チャンバ108に入る。この目的のために、基質担体114の外径は、加熱チャンバ108の内径よりも小さい。より具体的には、第1の実施形態では、加熱チャンバ108は、10mm以下、好ましくは8mm以下、最も好ましくは約7.6mmの内径(突出部が設けられていない場所で、例えば、突出部140が存在しない場合、又は突出部140の間で)を有する。これにより、基質担体114は、約7.0mm(±0.1mm)の直径を有することが可能になる(突出部140によって圧縮されていない所で)。これは、21mm~22mm、又はより好ましくは21.75mmの外周に対応する。換言すれば、基質担体114と加熱チャンバ108の側壁126との間の間隔は、最も好ましくは約0.1mmである。他の変形形態では、間隔は少なくとも0.2mmであり、いくつかの例では最大で0.3mmである。図6の矢印Bは、空気が加熱チャンバ108内へと引き込まれる方向を示す。
間に発生したエアロゾル又は蒸気は、それをユーザが吸引することによって、依然としてエアロゾル発生装置100から引き出すことができる。したがって、ヒーター124がオフにされている時でさえ、エアロゾル吸入セッションの終了に備えてヒーター124が既にオフにされているにもかかわらず、視覚的指標がオンのままであることによって、この状況がユーザに警告され得る。いくつかの実施形態では、この設定期間は20秒であってもよい。加熱サイクルの合計持続時間は、いくつかの実施形態では、約4分であってもよい。
ここで、第2の実施形態を、図8を参照して説明する。第2の実施形態のエアロゾル発生装置100は、以下に説明するものを除いて、図1~図6を参照して説明した第1の実施形態のエアロゾル発生装置100と同一であり、同様の特徴を指すために同じ参照番号が使用されている。第2の実施形態のエアロゾル発生装置100は、使用中に空気を加熱
チャンバ108内へと引き込むことを可能にする構成を有し、これは第1の実施形態とは異なる。
ここで、第3の実施形態を、図9、図9(a)、及び図9(b)を参照して説明する。第3の実施形態の加熱チャンバ108は、以下に説明するものを除いて、図1~図6を参照して説明した第1の実施形態の加熱チャンバ108と同一であり、同様の特徴を指すために同じ参照番号が使用されている。第3の実施形態の加熱チャンバ108が、例えば、
加熱チャンバ108の基部112にチャネル113が設けられた第2の実施形態の加熱チャンバ108に対応することも可能であるが、以下に記載されるようなことを除くものであり、これが本開示の更なる実施形態を形成する。
ここで、第4の実施形態を、図10、図10(a)、及び図10(b)を参照して説明する。第4の実施形態の加熱チャンバ108は、以下に説明するものを除いて、図1~図6を参照して説明した第1の実施形態の加熱チャンバ108と同一であり、同様の特徴を指すために同じ参照番号が使用されている。第4の実施形態の加熱チャンバ108が、例えば、加熱チャンバ108の基部112にチャネル113が設けられた第2の実施形態の加熱チャンバ108に対応することも可能であるが、以下に記載されるようなことを除くものであり、これは本開示の更なる実施形態を形成する。
ここで、第5の実施形態を、図11、図11(a)、及び図11(b)を参照して説明する。第5の実施形態の加熱チャンバ108は、以下に説明するものを除いて、図1~図
6を参照して説明した第1の実施形態の加熱チャンバ108と同一であり、同様の特徴を指すために同じ参照番号が使用されている。第5の実施形態の加熱チャンバ108が、例えば、加熱チャンバ108の基部112にチャネル113が設けられた第2の実施形態の加熱チャンバ108に対応することも可能であるが、以下に記載されるようなことを除くものであり、これは本開示の更なる実施形態を形成する。
ここで、第6の実施形態を、図12(a)及び図12(b)を参照して説明する。第6の実施形態の加熱チャンバ108は、以下に説明するものを除いて、図1~図6を参照して説明した第1の実施形態の加熱チャンバ108と同一であり、同様の特徴を指すために同じ参照番号が使用されている。第6の実施形態の加熱チャンバ108が、例えば、加熱チャンバ108の基部112にチャネル113が設けられた第2の実施形態の加熱チャンバ108に対応することも可能であるが、以下に記載されるようなことを除くものであり、これは本開示の更なる実施形態を形成する。
ここで、第7の実施形態を、図13、図13(a)、及び図13(b)を参照して説明する。第7の実施形態の加熱チャンバ108は、以下に説明するものを除いて、図1~図6を参照して説明した第1の実施形態の加熱チャンバ108と同一であり、同様の特徴を
指すために同じ参照番号が使用されている。第7の実施形態の加熱チャンバ108が、例えば、加熱チャンバ108の基部112にチャネル113が設けられた第2の実施形態の加熱チャンバ108に対応することも可能であるが、以下に記載されるようなことを除くものであり、これは本開示の更なる実施形態を形成する。
ここで、第8の実施形態を、図14を参照して説明する。第8の実施形態の加熱チャンバ108は、以下に説明するものを除いて、図1~図6を参照して説明した第1の実施形態の加熱チャンバ108と同一であり、同様の特徴を指すために同じ参照番号が使用されている。第8の実施形態の加熱チャンバ108が、例えば、加熱チャンバ108の基部112にチャネル113が設けられた第2の実施形態の加熱チャンバ108に対応することも可能であるが、以下に記載されるようなことを除くものであり、これは本開示の更なる実施形態を形成する。
度センサ170を窪み内に嵌めることができる。これにより、窪みの側面が温度センサ170の側面に接触するので、温度センサ170は、そうでない場合よりも、側壁126の外部表面の、より大きな部分と密接に接触される。加えて、窪み内に温度センサ170を配置することは、温度センサ170が加熱チャンバから外向きに突出すること防止することにより、温度センサ170を保護することに役立ち得る。温度センサ170が窪み内にぴったりと嵌まるようにするために、いくつかの例では、窪みは、少なくともある領域で拡大されるか又は異なる形状をしている。他の例では、基質担体114に接触するための窪みとは別に、別個の窪みが形成されてもよい。別個の窪みを設けることにより、窪みの形状及び場所を、温度センサ170に適合するように選択することが可能になる。いくつかの例では、温度センサ170にとって、抵抗性トラック164a、164bがヒーター124の領域を避けて通ることは必要ない。代わりに、温度センサ170を、略矩形のヒーター124領域の外側に配置することができる。
ここで、図15を参照して第9の実施形態について説明する。第9の実施形態の加熱チャンバ108は、以下に説明するものを除いて、図14を参照して説明した第8の実施形態の加熱チャンバ108と同一であり、同様の特徴を指すために同じ参照番号が使用されている。加熱チャンバ108は、管状壁126の外部表面上に1セットの窪みを有し、これは、加熱チャンバ108の内部容積内の1セットの突出部又は係合要素140に対応する。第9の実施形態の係合要素140に対応する、側壁126の外部表面上の窪みの各々は、加熱要素164のごく僅かが窪みと重なるように側壁を覆って巻き付けられたヒーター124を有する。金属層144は、ヒーター124と側壁126との間に位置する。
上述した説明から、様々な実施形態の多くの特徴が互いに交換可能であることが理解されるであろう。本開示は、様々な実施形態からの特徴を、具体的に言及されていない形態で一緒に組み合わせた特徴を含む、更なる実施形態に及ぶ。例えば、第3~第5の実施形態は、図1~図6に示すプラットフォーム148を持たない。このプラットフォーム148が、第3~第5の実施形態に含まれることにより、それらの図に関連して説明されたプラットフォーム148の利点がもたらされてもよい。
吸入装置100の他の特徴とは独立していることが強調される。特に、加熱チャンバ108の用途は多く、その全てが、本明細書に記載される蒸気吸入装置100に結び付けられているわけではない。そのような設計は、エアロゾル基質に熱を伝導し且つ/又はエアロゾル基質を圧縮するために、及び/又は、そのような加熱チャンバの側壁126に強度をもたらすために、突出部から恩恵を受けることができる。そのような用途には、有利には、本明細書に記載される加熱チャンバが提供される。
ロゾル基質128は、気化剤で処理されてもよい。気化剤は、エアロゾル基質からの蒸気の発生を改善し得る。気化剤は、例えば、グリセロールなどのポリオール、又はプロピレングリコールなどのグリコールを含んでもよい。場合によっては、エアロゾル基質はタバコ又はニコチンさえも含まなくてもよいが、代わりに、風味付け、揮発性、滑らかさの改善、及び/又は他の満足を与える効果を提供するための天然の又は人工由来の成分を含んでもよい。エアロゾル基質128は、細断された、ペレット状の、粉末状の、粒状の、ストリップ又はシート形態、任意選択でこれらの組み合わせの固体又はペーストタイプの材料として提供されてもよい。同様に、エアロゾル基質128は、液体又はゲルであってもよい。実際、いくつかの例では、固体部分と液体/ゲル部分の両方が含まれる場合がある。
mize)」)という用語は、以下を意味するものとする:(i)(物質、特に液体を)非常に小さな粒子又は液滴へと変えること、及び(ii)粒子が、噴霧前と同じ物理状態(液体又は固体)のままである場合。
Claims (24)
- エアロゾル発生装置(100)用の加熱チャンバ(108)であって、前記加熱チャンバ(108)は、
開放端(110)であって、前記開放端(110)を通して、エアロゾル基質(128)を含む基質担体(114)を前記加熱チャンバ(108)の長さに沿った方向に挿入可能である、開放端(110)と、
前記加熱チャンバ(108)の内部容積を規定する管状壁(126)と、
各々が前記管状壁(126)の一部から形成されている複数の係合要素(140)と、を備え、
前記複数の係合要素(140)の各々は、前記加熱チャンバ(108)の前記内部容積の断面積が前記加熱チャンバ(108)の前記長さの少なくとも一部に対して低減されるように、前記管状壁(126)の周囲の異なる場所において前記管状壁(126)の内面から延びるように構成されている、加熱チャンバ(108)。 - 前記開放端(110)の反対側の、前記加熱チャンバ(108)の端部に、基部(112)を更に備え、好ましくは前記基部(112)は閉じられている、請求項1に記載の加熱チャンバ(108)。
- 前記基部(112)から内向きに延びるプラットフォーム(148)を更に備える、請求項2に記載の加熱チャンバ(108)。
- 前記複数の係合要素(140)は第1の係合要素(140)及び第2の係合要素(140)を含み、前記第1の係合要素(140)及び前記第2の係合要素(140)は互いに対向して前記管状壁(126)の前記内面から延びるように構成されている、請求項1~3のいずれか一項に記載の加熱チャンバ(108)。
- 前記複数の係合要素(140)の各々は前記管状壁(126)の変形を含む、請求項1~4のいずれか一項に記載の加熱チャンバ(108)。
- 前記管状壁(126)の厚さは、円周方向及び/又は軸方向に実質的に一定である、請求項1~5のいずれか一項に記載の加熱チャンバ(108)。
- 前記複数の係合要素(140)のうちの少なくとも1つは、前記加熱チャンバ(108)の長さに沿った方向に細長く、好ましくは、前記係合要素(140)、又は前記係合要素(140)の各々は、長さ及び幅を有し、前記係合要素(140)の前記長さ、又は前記係合要素(140)の各々の前記長さは、その幅の少なくとも5倍である、請求項1~6のいずれか一項に記載の加熱チャンバ(108)。
- 前記複数の係合要素(140)のうちの少なくとも1つは、前記加熱チャンバ(108)の前記長さに平行な平面内において、前記内部容積に向かって凸状に湾曲した輪郭を有し、好ましくは前記輪郭は円弧である、請求項1~7のいずれか一項に記載の加熱チャンバ(108)。
- 前記複数の係合要素(140)のうちの少なくとも1つは、前記加熱チャンバ(108)の前記長さに平行な平面内において、前記内部容積内へと面する少なくとも1つの直線状の辺を有する輪郭を有し、好ましくは前記輪郭は多角形であり、更により好ましくは前記輪郭は台形である、請求項1~8のいずれか一項に記載の加熱チャンバ(108)。
- 前記係合要素(140)のうちの少なくとも1つは、前記内部容積内で、前記加熱チャ
ンバ(108)の前記開放端(110)に最も接近して位置する上側端部(142a)を有し、第1の端部(142a)は前記開放端(110)から間隔を空けて配置され、及び/又は前記係合要素(140)のうちの少なくとも1つは、前記加熱チャンバ(108)の基部(112)に最も接近して位置する下側端部(142b)を有し、前記下側端部(142b)は前記基部(112)から間隔を空けて配置されている、請求項1~9のいずれか一項に記載の加熱チャンバ(108)。 - 前記管状壁(126)の外部表面上にヒーター(124)を備え、前記ヒーター(124)は、前記複数の係合要素(140)のうちの前記少なくとも1つに少なくとも部分的に、及び好ましくは完全に重なるように、前記加熱チャンバ(108)の前記長さに沿って延びている、請求項1~10のいずれか一項に記載の加熱チャンバ(108)。
- 前記ヒーター(124)は、前記加熱チャンバ(108)の前記長さに沿って延びる第1の部分(164a)を有する抵抗経路(164)を備え、前記第1の部分(164a)は、前記管状壁(126)の前記外部表面上で、前記複数の係合要素(140)の場所に対応する場所以外の場所に位置している、請求項11に記載の加熱チャンバ(108)。
- 前記ヒーター(124)は、前記加熱チャンバ(108)の前記長さを横断して延びる第2の部分(164b)を有する抵抗経路(164)を備え、前記第2の部分(164b)は、前記管状壁(126)の前記外部表面上で、前記複数の係合要素(140)の場所に対応する場所に位置している、請求項11又は12に記載の加熱チャンバ(108)。
- 前記ヒーター(124)と前記管状壁(126)の前記外部表面との間に層(144)を更に備え、前記層(144)は、前記管状壁(126)よりも高い熱伝導率を有し、好ましくは、前記層(144)は金属である、請求項11~13のいずれか一項に記載の加熱チャンバ(108)。
- 前記層(144)は、ヒーター(124)が延びている範囲よりも長く、前記加熱チャンバ(108)の前記長さに沿って延び、好ましくは、前記層(144)は、前記ヒーター(124)の場所に対応する、前記管状壁(126)の前記外部表面を完全に覆い、好ましくは、前記層(144)は少なくとも150W/mKの熱伝導率を有し、より好ましくは、前記層(144)は銅層である、請求項14に記載の加熱チャンバ。
- 前記管状壁(126)の外部表面/前記外部表面上に位置する温度センサ(170)を、好ましくは、前記複数の係合要素(140)のうちの1つの前記場所に対応する場所に、更に備える、請求項1~15のいずれか一項に記載の加熱チャンバ(108)。
- 前記複数の係合要素(140)のうちの1つ以上が、前記管状壁(126)を前記外部表面から窪ませることによって形成され、前記温度センサ(170)は前記管状壁(126)の前記外部表面上の前記窪み内に位置している、請求項16に記載の加熱チャンバ(108)。
- エアロゾル発生装置(100)であって、
電源(120)と、
請求項1~17のいずれか一項に記載の加熱チャンバ(108)と、
前記加熱チャンバ(108)に熱を供給するように構成されているヒーター(124)/前記ヒーター(124)と、
前記電源(120)から前記ヒーター(124)への電力の前記供給を制御するように構成されている制御回路(122)と、を備える、エアロゾル発生装置(100)。 - 前記加熱チャンバ(108)は前記エアロゾル発生装置(100)から取り外し可能である、請求項18に記載のエアロゾル発生装置(100)。
- 請求項1~17のいずれか一項に記載の加熱チャンバ(108)、又は請求項15又は16に記載のエアロゾル発生装置(100)を、前記基質担体(114)と組み合わせて備えるシステムであって、前記基質担体(114)は、前記基質担体(114)の第1の端部にある、エアロゾル基質(128)を含有する第1の部分と、エアロゾル収集のための第2の部分(130)とを備え、前記加熱チャンバ(108)の前記内部容積は、前記基質担体(114)の幅よりも大きい幅を有するが、前記加熱チャンバ(108)の前記内部容積の前記断面積が減少している所においては、前記加熱チャンバ(108)の前記内部容積の半径は、前記基質担体(114)の半径よりも小さい、システム。
- 前記複数の係合要素(140)のうちの少なくとも1つは、前記基質担体(114)との摩擦嵌めを形成するのに十分な距離だけ内向きに延びている、請求項20に記載のシステム。
- 前記複数の係合要素(140)のうちの少なくとも1つは、前記基質担体(114)内の前記エアロゾル基質(128)を圧縮するのに十分な距離だけ内向きに延びている、請求項20又は21に記載のシステム。
- 前記基質担体(114)は、少なくとも前記エアロゾル基質(128)を取り囲む管状外層を備え、前記基質担体(114)が前記加熱チャンバ(108)内へと挿入された場合に、前記管状外層は、前記複数の係合要素(140)の前記場所において、前記複数の係合要素(140)によって内向きに変形され、前記複数の係合要素(140)の前記場所から離れた場所では実質的に変形されず、その結果、前記複数の係合要素(140)から離れた場所において、前記管状外層と前記加熱チャンバ(108)との間にエアギャップが提供される、請求項20~22のいずれか一項に記載のシステム。
- 前記基質担体(114)が前記加熱チャンバ(108)内へと完全に挿入された場合に、前記開放端(110)に最も接近した、前記係合要素(140)の部分が、エアロゾル基質(128)を含有する前記基質担体(114)の前記第1の部分と、エアロゾル収集のための前記第2の部分(130)との間の境界に、実質的に整列するように、前記複数の係合要素(140)のうちの少なくとも1つが成形及びサイズ決めされている、請求項20~23のいずれか一項に記載のシステム。
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