JP2023147648A - 排ガス処理設備の洗浄方法、洗浄液及び洗浄剤 - Google Patents
排ガス処理設備の洗浄方法、洗浄液及び洗浄剤 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2023147648A JP2023147648A JP2022055285A JP2022055285A JP2023147648A JP 2023147648 A JP2023147648 A JP 2023147648A JP 2022055285 A JP2022055285 A JP 2022055285A JP 2022055285 A JP2022055285 A JP 2022055285A JP 2023147648 A JP2023147648 A JP 2023147648A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- cleaning
- exhaust gas
- gas treatment
- treatment equipment
- water
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 title claims abstract description 76
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 29
- 239000007788 liquid Substances 0.000 title claims abstract description 23
- 239000012459 cleaning agent Substances 0.000 title claims abstract description 21
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 80
- 239000000243 solution Substances 0.000 claims abstract description 16
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 claims abstract description 13
- 239000003595 mist Substances 0.000 claims abstract description 13
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 18
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 15
- OEYIOHPDSNJKLS-UHFFFAOYSA-N choline Chemical compound C[N+](C)(C)CCO OEYIOHPDSNJKLS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 14
- 229960001231 choline Drugs 0.000 claims description 14
- 239000003513 alkali Substances 0.000 claims description 10
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 claims description 9
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 claims description 8
- 239000012670 alkaline solution Substances 0.000 claims description 6
- 239000000470 constituent Substances 0.000 claims description 2
- 238000002485 combustion reaction Methods 0.000 abstract description 27
- 239000000779 smoke Substances 0.000 abstract description 14
- 239000000126 substance Substances 0.000 abstract description 13
- 238000002347 injection Methods 0.000 abstract description 8
- 239000007924 injection Substances 0.000 abstract description 8
- 238000005406 washing Methods 0.000 abstract description 6
- 239000011343 solid material Substances 0.000 abstract description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 abstract 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 48
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 32
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 10
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 9
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 9
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 6
- 238000010998 test method Methods 0.000 description 4
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 3
- 239000013049 sediment Substances 0.000 description 3
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N Tetraethyl orthosilicate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)OCC BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 2
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 2
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 238000007922 dissolution test Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000005485 electric heating Methods 0.000 description 2
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- WGTYBPLFGIVFAS-UHFFFAOYSA-M tetramethylammonium hydroxide Chemical compound [OH-].C[N+](C)(C)C WGTYBPLFGIVFAS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- QQQSFSZALRVCSZ-UHFFFAOYSA-N triethoxysilane Chemical compound CCO[SiH](OCC)OCC QQQSFSZALRVCSZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910021642 ultra pure water Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000012498 ultrapure water Substances 0.000 description 2
- KTQVJAPIQPIIPF-IOBHVTPZSA-N (1Z,2Z)-N,N'-dihydroxyethanediimidoyl dichloride Chemical compound O\N=C(/Cl)\C(\Cl)=N\O KTQVJAPIQPIIPF-IOBHVTPZSA-N 0.000 description 1
- UUIVKBHZENILKB-UHFFFAOYSA-N 2,2-dibromo-2-cyanoacetamide Chemical compound NC(=O)C(Br)(Br)C#N UUIVKBHZENILKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FMNZAHDAULEOSO-UHFFFAOYSA-N 2,2-dibromo-2-nitroethanol Chemical compound OCC(Br)(Br)[N+]([O-])=O FMNZAHDAULEOSO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940100484 5-chloro-2-methyl-4-isothiazolin-3-one Drugs 0.000 description 1
- OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N Calcium Chemical compound [Ca] OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910020323 ClF3 Inorganic materials 0.000 description 1
- 101100441092 Danio rerio crlf3 gene Proteins 0.000 description 1
- KCXVZYZYPLLWCC-UHFFFAOYSA-N EDTA Chemical compound OC(=O)CN(CC(O)=O)CCN(CC(O)=O)CC(O)=O KCXVZYZYPLLWCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XPDWGBQVDMORPB-UHFFFAOYSA-N Fluoroform Chemical compound FC(F)F XPDWGBQVDMORPB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004115 Sodium Silicate Substances 0.000 description 1
- RQVYBGPQFYCBGX-UHFFFAOYSA-N ametryn Chemical compound CCNC1=NC(NC(C)C)=NC(SC)=N1 RQVYBGPQFYCBGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RBFQJDQYXXHULB-UHFFFAOYSA-N arsane Chemical compound [AsH3] RBFQJDQYXXHULB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000070 arsenic hydride Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011575 calcium Substances 0.000 description 1
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002738 chelating agent Substances 0.000 description 1
- DHNRXBZYEKSXIM-UHFFFAOYSA-N chloromethylisothiazolinone Chemical compound CN1SC(Cl)=CC1=O DHNRXBZYEKSXIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OGQPUOLFKIMRMF-UHFFFAOYSA-N chlorosulfamic acid Chemical compound OS(=O)(=O)NCl OGQPUOLFKIMRMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000567 combustion gas Substances 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 1
- 239000003599 detergent Substances 0.000 description 1
- 238000001784 detoxification Methods 0.000 description 1
- RWRIWBAIICGTTQ-UHFFFAOYSA-N difluoromethane Chemical compound FCF RWRIWBAIICGTTQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004088 foaming agent Substances 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 description 1
- GVGCUCJTUSOZKP-UHFFFAOYSA-N nitrogen trifluoride Chemical compound FN(F)F GVGCUCJTUSOZKP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- VVRQVWSVLMGPRN-UHFFFAOYSA-N oxotungsten Chemical class [W]=O VVRQVWSVLMGPRN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002978 peroxides Chemical class 0.000 description 1
- 229920000137 polyphosphoric acid Polymers 0.000 description 1
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 1
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 1
- 230000000630 rising effect Effects 0.000 description 1
- 239000002455 scale inhibitor Substances 0.000 description 1
- 238000000550 scanning electron microscopy energy dispersive X-ray spectroscopy Methods 0.000 description 1
- 238000004904 shortening Methods 0.000 description 1
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004756 silanes Chemical class 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 235000019795 sodium metasilicate Nutrition 0.000 description 1
- NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N sodium silicate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-][Si]([O-])=O NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052911 sodium silicate Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 1
- 239000008400 supply water Substances 0.000 description 1
- 238000005979 thermal decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- JOHWNGGYGAVMGU-UHFFFAOYSA-N trifluorochlorine Chemical compound FCl(F)F JOHWNGGYGAVMGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 1
- 229910001930 tungsten oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 1
- 238000004065 wastewater treatment Methods 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D47/00—Separating dispersed particles from gases, air or vapours by liquid as separating agent
- B01D47/06—Spray cleaning
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D53/00—Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols
- B01D53/34—Chemical or biological purification of waste gases
- B01D53/46—Removing components of defined structure
- B01D53/68—Halogens or halogen compounds
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D53/00—Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols
- B01D53/34—Chemical or biological purification of waste gases
- B01D53/74—General processes for purification of waste gases; Apparatus or devices specially adapted therefor
- B01D53/77—Liquid phase processes
- B01D53/78—Liquid phase processes with gas-liquid contact
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F23—COMBUSTION APPARATUS; COMBUSTION PROCESSES
- F23G—CREMATION FURNACES; CONSUMING WASTE PRODUCTS BY COMBUSTION
- F23G7/00—Incinerators or other apparatus for consuming industrial waste, e.g. chemicals
- F23G7/06—Incinerators or other apparatus for consuming industrial waste, e.g. chemicals of waste gases or noxious gases, e.g. exhaust gases
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F23—COMBUSTION APPARATUS; COMBUSTION PROCESSES
- F23J—REMOVAL OR TREATMENT OF COMBUSTION PRODUCTS OR COMBUSTION RESIDUES; FLUES
- F23J15/00—Arrangements of devices for treating smoke or fumes
- F23J15/02—Arrangements of devices for treating smoke or fumes of purifiers, e.g. for removing noxious material
- F23J15/04—Arrangements of devices for treating smoke or fumes of purifiers, e.g. for removing noxious material using washing fluids
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F28—HEAT EXCHANGE IN GENERAL
- F28G—CLEANING OF INTERNAL OR EXTERNAL SURFACES OF HEAT-EXCHANGE OR HEAT-TRANSFER CONDUITS, e.g. WATER TUBES OR BOILERS
- F28G9/00—Cleaning by flushing or washing, e.g. with chemical solvents
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Environmental & Geological Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Engineering & Computer Science (AREA)
- Biomedical Technology (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Oil, Petroleum & Natural Gas (AREA)
- Combustion & Propulsion (AREA)
- Treating Waste Gases (AREA)
- Separation Of Particles Using Liquids (AREA)
Abstract
Description
各種アルカリ水溶液による固形物の溶解試験を行った。なお、参考例として、超純水(UPW)に対する溶解性も試験した。
≪サンプル固形物≫
半導体製造プロセスの除害装置後段に設置されたスクラバーから採取した堆積物をサンプルとした。成分を分析したところ、W含有率がドライベースで約55wt%、Siがドライベースで約10wt%であった。
アルカリとしてNaOH、コリン、及びアンモニアの水溶液を用いた。濃度は、重量%(wt%)として0.01、0.1、1wt%とした。
試験手順は以下の通りとした。
i) 固形物を0.3g(初期量y)とり、300mlのアルカリ水溶液に加える。
ii) スターラーで10分間撹拌する。
iii) 上記ii)の溶液を1μmのガラスフィルターで吸引濾過し、フィルター上の残渣の乾燥重量を測定する。
iv) 固形物の初期量のうち、ガラスフィルターを透過した量(x)の割合を、溶解率として算出する。
すなわち、
溶解率=(1-x/y)×100%
である。
v) 残渣のSEM EDXを測定する。
各アルカリ水溶液に対する固形物の溶解性を調べた。結果を表1及び図3に示した。
また、アルカリの濃度が高くなるほど、溶解率が高くなることが示唆された。
一方で、NaOHでは、濃度が増加しても、溶解率が高くなっていない場合があった。
固形物の溶解に必要な濃度及び撹拌時間の検討を行った。結果を表2及び図4に示す。
コリン1wt%の場合、アルカリの濃度が固形物濃度に対して十分に高いと、反応時間が短くても溶解することが認められた。
図4の結果を見ると、1wt%のコリンとアンモニアが高い溶解率を示した。
これらのことから、高濃度のコリンとアンモニアは、本固形物の溶解能が高いことが認められた。
コリン水溶液に対する固形物(スクラバーから採取した堆積物)の添加量を異ならせた場合の溶解試験を行った。
100mLのコリン1wt%水溶液に対し、0.5,1,2,3又は5wt%となるように固形物(半導体製造プロセスの除害装置後段に設置されたスクラバーから採取した堆積物)を加えてサンプルNo.1~5とした。各溶液をスターラーで撹拌し、pH及び外観(ビーカーの底部から写真を撮影)の経時変化を測定及び観察した。表3に、各サンプルの試験条件を示す。溶液量はすべて100mLであるため、固形物の添加量がそのままwt%濃度となる。
各サンプルについて、撹拌し、経時的にpHを測定した結果を表4に示す。また、この結果をグラフ化したものを図5に示す。
試験結果から、以下の3点の知見が得られた。
・固形物の溶解に伴い、pHが減少する。
・固形物が残存している場合、pHが中性域で安定する。
・pHが高いほど、固形物を溶解させる効果が高い。
2 バーナ
4 ポンプ
11 1次洗煙室
20 スクラバー
21 ノズル
23 循環ポンプ
40 ミストキャッチャー
44 下部水槽
46 中継タンク
50 薬注装置
52,53 pH計
Claims (10)
- 電子部品製造プロセスからの排ガスを処理する排ガス処理設備の洗浄方法であって、
前記排ガス処理設備の洗浄対象をpH8~14のアルカリ洗浄液で洗浄する排ガス処理設備の洗浄方法。 - 前記排ガス処理設備は、熱により排ガスを分解処理する除害装置と、該除害装置からのガスが導入される湿式スクラバーとを有しており、
前記排ガス処理設備の洗浄方法は、該湿式スクラバー又はその構成部材を洗浄する方法である、請求項1の排ガス処理設備の洗浄方法。 - 前記湿式スクラバーは、下部水槽と、該下部水槽から水が循環ポンプによって循環供給される散水手段とを有しており、
前記排ガス処理設備の洗浄方法は、該下部水槽に洗浄剤水溶液を添加する工程と、洗浄剤水溶液が添加された下部水槽内の水を前記散水手段に供給する工程とを有している、請求項2の排ガス処理設備の洗浄方法。 - 前記湿式スクラバーはミストキャッチャーを備えており、
該ミストキャッチャーの上側に散水器を配置し、
該散水器にpH8~14のアルカリ洗浄液を供給してミストキャッチャー及びそれよりも下側の湿式スクラバー内部の洗浄を行う、請求項2の排ガス処理設備の洗浄方法。 - 前記湿式スクラバーから一部の構成部材を取り外し、pH8~14のアルカリ洗浄液に浸漬して洗浄する、請求項2の排ガス処理設備の洗浄方法。
- 前記アルカリは、コリン又はアンモニアである、請求項1~5のいずれかの排ガス処理設備の洗浄方法。
- 電子部品製造プロセスからの排ガスを処理する排ガス処理設備の洗浄液であって、
pH8~14のアルカリ溶液よりなる湿式排ガス処理設備の洗浄液。 - 前記アルカリは、コリン又はアンモニアである、請求項7の排ガス処理設備の洗浄液。
- 電子部品製造プロセスからの排ガスを処理する排ガス処理設備の洗浄液を調製するための洗浄剤であって、
該洗浄液をpH8~14のアルカリ溶液とするためのアルカリ剤よりなる、排ガス処理設備用洗浄剤。 - 前記アルカリ剤は、コリン又はアンモニアである、請求項9の排ガス処理設備の洗浄剤。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2022055285A JP2023147648A (ja) | 2022-03-30 | 2022-03-30 | 排ガス処理設備の洗浄方法、洗浄液及び洗浄剤 |
PCT/JP2023/008698 WO2023189306A1 (ja) | 2022-03-30 | 2023-03-08 | 排ガス処理設備の洗浄方法、洗浄液及び洗浄剤 |
TW112110516A TW202340443A (zh) | 2022-03-30 | 2023-03-21 | 排氣處理設備的清洗方法、清洗液及清洗劑 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2022055285A JP2023147648A (ja) | 2022-03-30 | 2022-03-30 | 排ガス処理設備の洗浄方法、洗浄液及び洗浄剤 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2023147648A true JP2023147648A (ja) | 2023-10-13 |
Family
ID=88203717
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2022055285A Pending JP2023147648A (ja) | 2022-03-30 | 2022-03-30 | 排ガス処理設備の洗浄方法、洗浄液及び洗浄剤 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2023147648A (ja) |
TW (1) | TW202340443A (ja) |
WO (1) | WO2023189306A1 (ja) |
Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6359337A (ja) * | 1986-08-30 | 1988-03-15 | Furukawa Electric Co Ltd:The | 排ガス処理方法とその装置 |
JPH0557246A (ja) * | 1991-09-03 | 1993-03-09 | Hoei Shokai:Kk | 回転式分級装置 |
JP3129945B2 (ja) * | 1995-08-01 | 2001-01-31 | 株式会社荏原製作所 | 半導体製造排ガスの処理方法 |
JPH09192446A (ja) * | 1996-01-22 | 1997-07-29 | Mitsubishi Corp | 水スクラバ式廃ガス処理装置 |
JP2001149755A (ja) * | 1999-11-30 | 2001-06-05 | Japan Organo Co Ltd | 揮発性有機物質を含む排ガスの処理装置および処理方法 |
JP4440754B2 (ja) * | 2004-11-30 | 2010-03-24 | カンケンテクノ株式会社 | 半導体製造装置の排ガス除害装置 |
JPWO2008072392A1 (ja) * | 2006-12-15 | 2010-03-25 | カンケンテクノ株式会社 | 排ガス処理方法およびその装置 |
CN116324277A (zh) * | 2020-10-30 | 2023-06-23 | 栗田工业株式会社 | 排气处理设备 |
-
2022
- 2022-03-30 JP JP2022055285A patent/JP2023147648A/ja active Pending
-
2023
- 2023-03-08 WO PCT/JP2023/008698 patent/WO2023189306A1/ja unknown
- 2023-03-21 TW TW112110516A patent/TW202340443A/zh unknown
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
WO2023189306A1 (ja) | 2023-10-05 |
TW202340443A (zh) | 2023-10-16 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US20110030722A1 (en) | Cleaning water for electronic material, method for cleaning electronic material and system for supplying water containing dissolved gas | |
KR100319119B1 (ko) | 전자재료용세정수 | |
CN102782184A (zh) | 用于金属化合物的清洁溶剂和清洁方法 | |
JPH08281039A (ja) | 空気清浄機 | |
WO2023189306A1 (ja) | 排ガス処理設備の洗浄方法、洗浄液及び洗浄剤 | |
JP3722846B2 (ja) | 湿式排ガス処理装置内のスケール生成防止方法 | |
JP3893023B2 (ja) | 半導体製造排ガスの処理方法及び装置 | |
JP6311956B2 (ja) | レジスト剥離液ろ過フィルタの洗浄液、洗浄装置および洗浄方法 | |
JP7380738B2 (ja) | 排ガス処理設備の洗浄方法 | |
WO2022092086A1 (ja) | 排ガス処理設備 | |
JP2020138191A (ja) | 湿式スクラバー | |
US10059911B2 (en) | Washing hydrogen water producing method and producing apparatus | |
JP7435660B2 (ja) | 排ガス処理設備の運転方法 | |
JP2008104919A (ja) | 湿式空気清浄装置 | |
KR102346707B1 (ko) | 가스 스크러버 기반의 흄제거 장치 | |
CN106391311B (zh) | 锅炉除尘输灰系统 | |
JP7230940B2 (ja) | 排ガス処理設備 | |
KR100412579B1 (ko) | 액상을 이용한 폐 가스 스크러버장치 | |
JP3067543B2 (ja) | 有煙ガスのサンプリング装置 | |
JP6020626B2 (ja) | デバイス用Ge基板の洗浄方法、洗浄水供給装置及び洗浄装置 | |
CN212068182U (zh) | 尾气洗涤塔及半导体刻蚀设备 | |
KR101079323B1 (ko) | 오존을 이용한 웨이퍼 세정 시스템 | |
JP5402297B2 (ja) | 伝熱管群の洗浄方法 | |
JP2007033020A (ja) | 風呂釜洗浄剤及び風呂釜洗浄方法 | |
KR20090010353A (ko) | 엘리미네이터를 용이하게 청소할 수 있는 배출가스습식정화장치 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20230308 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20230523 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20230714 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20230905 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20240305 |