JP7380738B2 - 排ガス処理設備の洗浄方法 - Google Patents
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Description
100mLのコリン1wt%の溶液に対し、0.5,1,2,3又は5wt%となるように固形物(半導体製造プロセスの除害装置後段に設置されたスクラバーから採取した堆積物)を加えてサンプルNo.1~5とした。各溶液をスターラーで撹拌し、pH及び外観(ビーカーの底部から写真を撮影)の経時変化を測定及び観察した。表1に、各サンプルの試験条件を示す。溶液量はすべて100mLであるため、固形物の添加量がそのままwt%濃度となる。
各サンプルについて、撹拌し、経時的にpHを測定した結果を表2に示す。また、この結果をグラフ化したものを図3に示す。
試験結果から、以下の3点の知見が得られた。
・固形物の溶解に伴い、pHが減少する。
・固形物が残存している場合、pHが中性域で安定する。
・pHが高いほど、固形物を溶解させる効果が高い。
2 バーナ
4 ポンプ
11 1次洗煙室
20 湿式スクラバー
21 ノズル
23 循環ポンプ
40 ミストキャッチャー
44 下部水槽
46 中継タンク
50 薬注装置
52,53 pH計
Claims (7)
- 熱により電子部品製造プロセスからの排ガスを分解処理する除害装置と、該除害装置からのガスが導入される湿式スクラバーとを有する排ガス処理設備の洗浄方法であって、
前記湿式スクラバーは、下部水槽と、該下部水槽から水が循環ポンプによって循環供給される散水手段とを有しており、
該下部水槽内の水、下部水槽から散水手段に送水される水、及び下部水槽から流出する水の少なくとも1つのpH測定値が規定値以上となるように該湿式スクラバーにアルカリ剤含有洗浄液を添加し、アルカリ剤含有洗浄液が添加された下部水槽内の水を前記散水手段に供給して散水し、該湿式スクラバーの洗浄を行う方法であって、
該pH測定値が規定値以上となった場合に該アルカリ剤含有洗浄液の添加を停止し、
このアルカリ剤含有洗浄液の添加停止後、所定時間以上にわたってpH測定値が前記規定値以上である場合に洗浄を終了する
湿式排ガス処理設備の洗浄方法。 - 前記所定時間は、1~24時間の間から選定された時間である請求項1の排ガス処理設備の洗浄方法。
- 前記所定時間は、1~6時間の間から選定された時間である請求項1の排ガス処理設備の洗浄方法。
- 前記湿式スクラバーはミストキャッチャーを備えており、
前記下部水槽内に水中ポンプを配置すると共に該ミストキャッチャーの上側に散水器を配置し、
該水中ポンプによって該散水器に下部水槽内の水を供給してミストキャッチャー及びそれよりも下側の湿式スクラバー内部の洗浄を行う、請求項1~3のいずれかの排ガス処理設備の洗浄方法。 - 熱により電子部品製造プロセスからの排ガスを分解処理する除害装置と、該除害装置からのガスが導入される湿式スクラバーとを有する排ガス処理設備の洗浄方法であって、
前記除害装置は、
前記排ガスと空気とが供給され、該排ガスが燃焼処理される燃焼室(1)と、
該燃焼室(1)からガスが導入される1次洗煙室(11)と
を有しており、
該1次洗煙室(11)は、底部のピット(11a)の水がポンプ(14)及び配管(15)によって上部の散水器(16)に循環供給され、該散水器(16)から散水されるよう構成されており、
該1次洗煙室(11)の洗浄を行う場合、アルカリ剤含有洗浄液を該1次洗煙室(11)内の水に供給して洗浄水を該ピット(11a)と散水器(16)とを循環させ、この洗浄水のpHを測定し、このpH測定値が規定値よりも低下したときには該アルカリ剤含有洗浄液を追加供給し、該pH測定値が所定時間以上にわたって該規定値以上であるときには該1次洗煙室(11)の洗浄を終了する
排ガス処理設備の洗浄方法。 - 前記所定時間は、1~24時間の間から選定された時間である請求項5の排ガス処理設備の洗浄方法。
- 前記所定時間は、1~6時間の間から選定された時間である請求項5の排ガス処理設備の洗浄方法。
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