JP2023104891A - セラミックガラスおよびこれを適用したクックトップ - Google Patents
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Abstract
【課題】微細組織を制御してカラー鮮明度を高め、ポリッシング工程を通じて清掃性を向上させたセラミックガラスおよびこれを適用したクックトップを提供する【解決手段】上部表面に凹凸層が形成されるガラス素材を含み、色差計Ｌ値が９０以上１００以下であり、前記ガラス素材は、Ｌｉ２Ｏ、Ａｌ２Ｏ３およびＳｉＯ２を含み、熱衝撃温度が５２５℃以上５７５℃以下であり、表面粗さがＲａ：０．１μｍ以下およびＲｚ：０．８μｍ以下であることを特徴とする。【選択図】図１
Description
特許法第３０条第２項適用申請有り セラミックガラスの製造会社へ送信した電子メール 公開日 令和４年６月１４日
本発明はセラミックガラスおよびこれを適用したクックトップに係り、より詳しくは、微細組織を制御してカラー鮮明度を高め、ポリッシング工程を通じて清掃性を向上させたセラミックガラスおよびこれを適用したクックトップに関する。
熱を発生させるための熱源としてインダクション装置（誘導加熱装置）が使われている。特に、インダクション装置を利用して飲食物を加熱するための調理機器としてクックトップ（またはホブ）が使われている。
一般的にクックトップの上部には耐熱性に優れるセラミックガラスが使われている。セラミックガラスは、熱衝撃破壊がほとんど発生せず、機械的強度および熱伝導度に優れている（例えば、特許文献１を参照）。
一般的にクックトップの上部には耐熱性に優れるセラミックガラスが使われている。セラミックガラスは、熱衝撃破壊がほとんど発生せず、機械的強度および熱伝導度に優れている（例えば、特許文献１を参照）。
セラミックガラスは色相によりホワイト、ブラックおよび透明セラミックガラスに分類される。このうち、ホワイトセラミックガラスはブラックおよび透明セラミックガラスに比べて審美感が劣位にあるという固有の問題がある。
また、ホワイトセラミックガラスの審美感を向上させるために、製造工程のうち結晶生成段階の時間を増やしクーリング段階の冷却速度を早くすると、表面に凹凸が多数発生して清掃性が低下するという問題が発生する。
また、ホワイトセラミックガラスの審美感を向上させるために、製造工程のうち結晶生成段階の時間を増やしクーリング段階の冷却速度を早くすると、表面に凹凸が多数発生して清掃性が低下するという問題が発生する。
前記の問題を解決するためになされた本発明の目的とするところは、微細組織を制御してカラー鮮明度を高め、ポリッシング工程を通じて清掃性を向上させたセラミックガラスおよびこれを適用したクックトップを提供することにある。
本発明のクックトップ用セラミックガラスは、上部表面に凹凸層が形成されるガラス素材を含み、色差計Ｌ値が８５以上１００以下であり、より好ましくは、色差計Ｌ値が９０以上１００以下である。前記ガラス素材は、Ｌｉ２Ｏ、Ａｌ２Ｏ３およびＳｉＯ２を含み、熱衝撃温度が５２５℃以上５７５℃以下であり、表面粗さがＲａ：０．１μｍ以下およびＲｚ：０．８μｍ以下であることを特徴とする。
本発明のセラミックガラスは、熱抵抗温度が８２５℃以上８７５℃以下であり、前記凹凸層の全体に塗布されるコーティング層をさらに含み、前記コーティング層はＺｒＯ２およびＴｉＯ２を含むことができる。
前記ガラス素材は、重量％で、Ｌｉ２Ｏ：５～１５％、Ａｌ２Ｏ３：１５～２５％、残りＳｉＯ２および不純物からなることがよい。
前記ガラス素材は、重量％で、Ｌｉ２Ｏ：５～１５％、Ａｌ２Ｏ３：１５～２５％、残りＳｉＯ２および不純物からなることがよい。
前記ガラス素材は、厚さが３～５ｍｍであることができる。
前記コーティング層は、重量％で、ＺｒＯ２：７０～９５％、残りＴｉＯ２および不純物からなり、厚さが３０ｎｍ以下であることがよい。
前記コーティング層は、重量％で、ＺｒＯ２：７０～９５％、残りＴｉＯ２および不純物からなり、厚さが３０ｎｍ以下であることがよい。
本発明のセラミックガラスは、ビッカース硬度（Ｈｖ）が９２０以上１０００以下であることがよい。
前記ガラス素材の上部に、火口の中央を表示するための硝子印刷層をさらに含むことができる。
本発明のセラミックガラスは、上部表面に凹凸層が形成されるガラス素材を含み、
色差計Ｌ値が９０以上１００以下であり、
前記ガラス素材は、Ｌｉ２Ｏ、Ａｌ２Ｏ３およびＳｉＯ２を含み、
表面粗さＲａ：０．１μｍ以下およびＲｚ：０．８μｍ以下であることが好ましい。
前記ガラス素材の上部に、火口の中央を表示するための硝子印刷層をさらに含むことができる。
本発明のセラミックガラスは、上部表面に凹凸層が形成されるガラス素材を含み、
色差計Ｌ値が９０以上１００以下であり、
前記ガラス素材は、Ｌｉ２Ｏ、Ａｌ２Ｏ３およびＳｉＯ２を含み、
表面粗さＲａ：０．１μｍ以下およびＲｚ：０．８μｍ以下であることが好ましい。
本発明のセラミックガラスの製造方法は、セラミックガラス前駆体（Ｐｒｅｃｕｒｓｏｒ）を製造する段階、前記セラミックガラス前駆体を加熱して結晶を生成する段階、前記結晶が生成されたセラミックガラスをクーリングする段階、前記クーリングしたセラミックガラスを成形する段階、および前記成形したセラミックガラスをポリッシング（Ｐｏｌｉｓｈｉｎｇ）する段階を含むことを特徴とする。
前記製造方法は、前記ポリッシングしたセラミックガラスをコーティングする段階をさらに含むことができる。
前記セラミックガラス前駆体を製造する段階は、セラミックガラスパウダーを１４００～１６００℃で溶融させた後、常温まで４０℃／ｍｉｎ以下の冷却速度で冷却させることがよい。
前記結晶を生成する段階は、６００～８００℃で１０～２０分間維持する１次加熱段階および８００～１０００℃で２０～３０分間維持する２次加熱段階を含むことが好ましい。
前記セラミックガラス前駆体を製造する段階は、セラミックガラスパウダーを１４００～１６００℃で溶融させた後、常温まで４０℃／ｍｉｎ以下の冷却速度で冷却させることがよい。
前記結晶を生成する段階は、６００～８００℃で１０～２０分間維持する１次加熱段階および８００～１０００℃で２０～３０分間維持する２次加熱段階を含むことが好ましい。
前記クーリングする段階は、常温まで２０℃／ｍｉｎ以上の冷却速度で冷却することがよい。
前記コーティングする段階は、コーティング液をセラミックガラス上部に塗布した後、６００～８００℃で５～１５分間乾燥することができる。
前記コーティングする段階は、コーティング液をセラミックガラス上部に塗布した後、６００～８００℃で５～１５分間乾燥することができる。
本発明のクックトップは、クックトップ本体、
および前記クックトップ本体の上部に設けられる第１ガラス、前記第１ガラスと同一線上に配置される第２ガラス、前記第１ガラスと前記第２ガラスが分離可能に結合されるように設けられる結合装置、前記第２ガラスの下部に配置される回路基板および前記ヒーターの下部に配置されて前記ヒーターを装着させるコイル装着板、を含み、前記クックトップ本体はヒーターを含み、前記第１ガラスはセラミックガラスを含み、前記セラミックガラスは上部表面に凹凸層が形成されるガラス素材を含み、色差計Ｌ値が９０以上１００以下であり、熱衝撃温度が５２５℃以上５７５℃以下であり、ポリッシングする段階を通じて表面粗さＲａ：０．１μｍ以下およびＲｚ：０．８μｍ以下とし、前記ガラス素材はＬｉ２Ｏ、Ａｌ２Ｏ３およびＳｉＯ２を含むことを特徴とする。
および前記クックトップ本体の上部に設けられる第１ガラス、前記第１ガラスと同一線上に配置される第２ガラス、前記第１ガラスと前記第２ガラスが分離可能に結合されるように設けられる結合装置、前記第２ガラスの下部に配置される回路基板および前記ヒーターの下部に配置されて前記ヒーターを装着させるコイル装着板、を含み、前記クックトップ本体はヒーターを含み、前記第１ガラスはセラミックガラスを含み、前記セラミックガラスは上部表面に凹凸層が形成されるガラス素材を含み、色差計Ｌ値が９０以上１００以下であり、熱衝撃温度が５２５℃以上５７５℃以下であり、ポリッシングする段階を通じて表面粗さＲａ：０．１μｍ以下およびＲｚ：０．８μｍ以下とし、前記ガラス素材はＬｉ２Ｏ、Ａｌ２Ｏ３およびＳｉＯ２を含むことを特徴とする。
前記セラミックガラスは、熱抵抗温度が８２５℃以上８７５℃以下であることができる。
前記ガラス素材は、重量％で、Ｌｉ２Ｏ：５～１５％、Ａｌ２Ｏ３：１５～２５％、残りはＳｉＯ２および不純物からなることができる。
前記ガラス素材は、重量％で、Ｌｉ２Ｏ：５～１５％、Ａｌ２Ｏ３：１５～２５％、残りはＳｉＯ２および不純物からなることができる。
本発明によると、本発明のセラミックガラスは、結晶生成段階の遂行時間を増やし、クーリング段階の冷却速度を速くすることによってカラー鮮明度を向上させ、ポリッシング工程を遂行することによって清掃性を向上させた、セラミックガラスおよびこれを適用したクックトップを提供することができる。
ただし、本発明の実施例に係るセラミックガラスおよびこれを適用したクックトップが達成できる効果は上記に言及したものに限定されず、言及していないさらに他の効果は下記の記載から本発明が属する技術分野で通常の知識を有する者に明確に理解されるであろう。
ただし、本発明の実施例に係るセラミックガラスおよびこれを適用したクックトップが達成できる効果は上記に言及したものに限定されず、言及していないさらに他の効果は下記の記載から本発明が属する技術分野で通常の知識を有する者に明確に理解されるであろう。
以下では、本発明の実施例について添付図面を参照して詳細に説明する。以下の実施例は本発明が属する技術分野で通常の知識を有する者に本発明の思想を十分に伝達するために提示するものである。本発明はここで提示した実施例だけに限定されず、他の形態で具体化されてもよい。図面は本発明を明確にするために説明にかかわらない部分の図示を省略し、理解を助けるために構成要素の大きさを多少誇張して表現することができる。
明細書全体で、或る部分が何らかの構成要素を「含む」とする時、これは特に反対の記載がない限り他の構成要素を除くものではなく、他の構成要素をさらに含み得ることを意味する。
単数の表現は文脈上明白に例外がない限り、複数の表現を含む。
明細書全体で、或る部分が何らかの構成要素を「含む」とする時、これは特に反対の記載がない限り他の構成要素を除くものではなく、他の構成要素をさらに含み得ることを意味する。
単数の表現は文脈上明白に例外がない限り、複数の表現を含む。
本発明の一実施例に係るセラミックガラスは、上部表面に凹凸層が形成されるガラス素材を含み、色差計Ｌ値が８５以上１００以下である。より好ましくは、色差計Ｌ値が９０以上１００以下である。
図１は、本発明の一例に係るセラミックガラスの模式図である。
図１を参照すると、本発明の一例に係るセラミックガラスは、上部表面に凹凸層が形成されるガラス素材を含むことができる。
また、本発明の一実施例に係るセラミックガラスは、色差計Ｌ値が８５以上１００以下であることがよい。より好ましくは、色差計Ｌ値が９０以上１００以下である。
図１は、本発明の一例に係るセラミックガラスの模式図である。
図１を参照すると、本発明の一例に係るセラミックガラスは、上部表面に凹凸層が形成されるガラス素材を含むことができる。
また、本発明の一実施例に係るセラミックガラスは、色差計Ｌ値が８５以上１００以下であることがよい。より好ましくは、色差計Ｌ値が９０以上１００以下である。
ホワイトセラミックガラスはブラックおよび透明セラミックガラスに比べて審美感が劣位であるという固有の問題がある。本発明では、ホワイトセラミックガラスの審美感を向上させるために、結晶生成段階の遂行時間を増やしクーリング段階の冷却速度を早くすることによって、微細組織を制御してカラー鮮明度を向上させた。
これにより、本発明のセラミックガラスは、ホワイトセラミックガラスであるにもかかわらず、色差計Ｌ値が８５以上１００以下の高いカラー鮮明度を確保することができる。
これにより、本発明のセラミックガラスは、ホワイトセラミックガラスであるにもかかわらず、色差計Ｌ値が８５以上１００以下の高いカラー鮮明度を確保することができる。
図２は、本発明の一例に係るセラミックガラスの断面を透過電子顕微鏡（ＴＥＭ、Ｔｒａｎｓｍｉｓｓｉｏｎ Ｅｌｅｃｔｒｏｎ Ｍｉｃｒｏｓｃｏｐｅ）で拡大撮影した写真である。
図２に示したとおり、微細組織として、セラミックガラス内部に六面体結晶を確認することができる。六面体結晶はセラミックガラスのカラー鮮明度に影響を及ぼすため、結晶の大きさおよび個数を適正水準に制御する必要がある。本発明では、ガラス素材成分および製造工程を通じて前記六面体結晶の大きさおよび個数の制御を行った。
本発明のセラミックガラスは、必要に応じて前記凹凸層全体に塗布されるコーティング層をさらに含むことができる。
図２に示したとおり、微細組織として、セラミックガラス内部に六面体結晶を確認することができる。六面体結晶はセラミックガラスのカラー鮮明度に影響を及ぼすため、結晶の大きさおよび個数を適正水準に制御する必要がある。本発明では、ガラス素材成分および製造工程を通じて前記六面体結晶の大きさおよび個数の制御を行った。
本発明のセラミックガラスは、必要に応じて前記凹凸層全体に塗布されるコーティング層をさらに含むことができる。
前記コーティング層はＺｒＯ２およびＴｉＯ２を含むことがよい。
ＺｒＯ２は強度を向上させる役割を有し、ＴｉＯ２はセラミックガラスの耐食性を向上させる役割を有する。その結果、本発明のセラミックガラスは、優秀な強度および耐食性を確保することができる。
本発明のセラミックガラスで、前記ガラス素材は、重量％で、Ｌｉ２Ｏ：５～１５％、Ａｌ２Ｏ３：１５～２５％、残りＳｉＯ２および不純物からなる。
Ｌｉ２Ｏはセラミックガラスの硬度を向上させる役割を有する。このため、Ｌｉ２Ｏの含量が少ない場合には、セラミックガラスの硬度を充分に確保することが難しくなる虞がある。しかし、Ｌｉ２Ｏの含量が過多の場合には、製造費用が上昇することになる。このため、Ｌｉ２Ｏは５～１５％含有することがよく、より好ましくは、Ｌｉ２Ｏの含量を５～１０％に制御することである。
ＺｒＯ２は強度を向上させる役割を有し、ＴｉＯ２はセラミックガラスの耐食性を向上させる役割を有する。その結果、本発明のセラミックガラスは、優秀な強度および耐食性を確保することができる。
本発明のセラミックガラスで、前記ガラス素材は、重量％で、Ｌｉ２Ｏ：５～１５％、Ａｌ２Ｏ３：１５～２５％、残りＳｉＯ２および不純物からなる。
Ｌｉ２Ｏはセラミックガラスの硬度を向上させる役割を有する。このため、Ｌｉ２Ｏの含量が少ない場合には、セラミックガラスの硬度を充分に確保することが難しくなる虞がある。しかし、Ｌｉ２Ｏの含量が過多の場合には、製造費用が上昇することになる。このため、Ｌｉ２Ｏは５～１５％含有することがよく、より好ましくは、Ｌｉ２Ｏの含量を５～１０％に制御することである。
Ａｌ２Ｏ３はセラミックガラスの耐食性および耐久性を向上させる役割を有する。このため、Ａｌ２Ｏ３の含量が少ない場合には、セラミックガラスの耐食性および耐久性が劣位となる。しかし、Ａｌ２Ｏ３の含量が過多の場合には、製造費用が上昇する。このため、Ａｌ２Ｏ３は１５～２５％含有することがよい。さらに好ましくは、Ａｌ２Ｏ３の含量を１７～２２％に制御することである。
ＳｉＯ２はセラミックガラス内の結晶核の生成剤の役割を有する。このため、ＳｉＯ２の含量が少ない場合には、セラミックガラス内の結晶が充分に生成されないため反射率が低下する虞がある。しかし、ＳｉＯ２の含量が過多の場合には、セラミックガラスの硬度および耐久性が低下することになる。
また、通常の製造過程で原料または周囲環境から意図しない不純物が不可避に混入する場合があるが、これを排除することはできない。これら不純物は通常の製造過程の技術者であれば誰でも分かるものであるため、そのすべての内容を特に本明細書で言及しない。
ＳｉＯ２はセラミックガラス内の結晶核の生成剤の役割を有する。このため、ＳｉＯ２の含量が少ない場合には、セラミックガラス内の結晶が充分に生成されないため反射率が低下する虞がある。しかし、ＳｉＯ２の含量が過多の場合には、セラミックガラスの硬度および耐久性が低下することになる。
また、通常の製造過程で原料または周囲環境から意図しない不純物が不可避に混入する場合があるが、これを排除することはできない。これら不純物は通常の製造過程の技術者であれば誰でも分かるものであるため、そのすべての内容を特に本明細書で言及しない。
本発明の一実施例に係るセラミックガラスで、前記ガラス素材は、厚さが３～５ｍｍである。しかし、これに限定されるものではなく、目的および形状により前記ガラス素材の厚さを変えることができる。
本発明の一実施例に係るセラミックガラスは、表面粗さＲａ値が０．２８μｍ以下であることがよい。より好ましくは、表面粗さＲａ値が０．１μｍ以下であることがよい。セラミックガラスの表面粗さは上部表面に形成される凹凸層に起因する。前記凹凸層はセラミックガラス製造方法のうち、クーリング段階の遂行時に形成される。本発明では、クーリング段階の遂行時間を短縮することによって、適正水準の結晶核を生成してセラミックガラスのカラー鮮明度を向上させたものである。ただし、クーリング段階遂行時間を短縮すると、ガラス素材の表面が非常に粗く製造される。このため、本発明では、後続工程にポリッシングする段階を追加した。これによって、表面粗さＲａ値が０．２８μｍ以下、より好ましくは、０．１μｍ以下の滑らかな表面を実現することができた。
本発明の一実施例に係るセラミックガラスは、表面粗さＲａ値が０．２８μｍ以下であることがよい。より好ましくは、表面粗さＲａ値が０．１μｍ以下であることがよい。セラミックガラスの表面粗さは上部表面に形成される凹凸層に起因する。前記凹凸層はセラミックガラス製造方法のうち、クーリング段階の遂行時に形成される。本発明では、クーリング段階の遂行時間を短縮することによって、適正水準の結晶核を生成してセラミックガラスのカラー鮮明度を向上させたものである。ただし、クーリング段階遂行時間を短縮すると、ガラス素材の表面が非常に粗く製造される。このため、本発明では、後続工程にポリッシングする段階を追加した。これによって、表面粗さＲａ値が０．２８μｍ以下、より好ましくは、０．１μｍ以下の滑らかな表面を実現することができた。
また、本発明のセラミックガラスで、前記コーティング層は、重量％で、ＺｒＯ２：７０～９５％、残りはＴｉＯ２および不純物からなることができる。
ＺｒＯ２は強度を向上させる役割を有する。このため、ＺｒＯ２の含量が少ない場合には、十分な硬度の確保が困難でとなる。一方、ＺｒＯ２の含量が過多の場合には、製造費用が上昇することになる。このため、ＺｒＯ２は７０～９５％含有することがよい。さらに好ましくは、ＺｒＯ２の含量を８０～８５％で制御することである。
ＴｉＯ２はセラミックガラスの耐食性を向上させる役割を有する。このため、ＴｉＯ２の含量が少ない場合には、セラミックガラスの耐食性が劣位となる。一方、ＴｉＯ２の含量が過多の場合には、強度が低下する。
また、通常の製造過程で原料または周囲環境から意図しない不純物が不可避に混入されるため、これを排除することはできない。これら不純物は通常の製造過程の技術者であれば誰でも分かるものであるため、そのすべての内容を特に本明細書で言及しはしない。
ＺｒＯ２は強度を向上させる役割を有する。このため、ＺｒＯ２の含量が少ない場合には、十分な硬度の確保が困難でとなる。一方、ＺｒＯ２の含量が過多の場合には、製造費用が上昇することになる。このため、ＺｒＯ２は７０～９５％含有することがよい。さらに好ましくは、ＺｒＯ２の含量を８０～８５％で制御することである。
ＴｉＯ２はセラミックガラスの耐食性を向上させる役割を有する。このため、ＴｉＯ２の含量が少ない場合には、セラミックガラスの耐食性が劣位となる。一方、ＴｉＯ２の含量が過多の場合には、強度が低下する。
また、通常の製造過程で原料または周囲環境から意図しない不純物が不可避に混入されるため、これを排除することはできない。これら不純物は通常の製造過程の技術者であれば誰でも分かるものであるため、そのすべての内容を特に本明細書で言及しはしない。
また、前記コーティング層は、厚さが４００ｎｍ以下である。好ましくは、厚さが１００ｎｍ以下であり、さらに好ましくは、厚さが３０ｎｍ以下である。
前記コーティング層の厚さが過度に薄い場合には、セラミックガラスの防汚性能および清掃性が低下する。しかし、前記コーティング層の厚さが過度に厚い場合には生産性が低下することになる。
一方、前記コーティング層の厚さは凹凸層全体にわたって均一にすることができるが、表面をさらに滑らかにするために、凹凸層の山部分より谷部分のコーティング層の厚さをさらに厚くしてもよい。
前記コーティング層の厚さが過度に薄い場合には、セラミックガラスの防汚性能および清掃性が低下する。しかし、前記コーティング層の厚さが過度に厚い場合には生産性が低下することになる。
一方、前記コーティング層の厚さは凹凸層全体にわたって均一にすることができるが、表面をさらに滑らかにするために、凹凸層の山部分より谷部分のコーティング層の厚さをさらに厚くしてもよい。
本発明の一実施例に係るセラミックガラスは、表面粗さＲｚ値が１．４８μm以下にすることができる。より好ましくは、表面粗さＲｚ値が１．２μm以下であることがよい。表面粗さＲａ値と同様に、本発明ではクーリング段階の遂行時間を短縮するため、ガラス素材の表面が非常に粗く製造される。このため、本発明では、後続工程としてポリッシング（Ｐｏｌｉｓｈｉｎｇ）する段階を追加することによって、表面粗さＲｚ値が１．４８μｍ以下、より好ましくは、１．２μｍ以下の滑らかな表面を実現することができる。より好ましくは、表面粗さＲｚ値が０．８μm以下にすることである。
また、本発明のセラミックガラスは、コーティング層を形成させることによって、ビッカース硬度（Ｈｖ）が９２０以上１０００以下となる。
また、本発明のセラミックガラスは、コーティング層を形成させることによって、ビッカース硬度（Ｈｖ）が９２０以上１０００以下となる。
本発明のセラミックガラスは、ガラス素材成分を制御することによって、熱衝撃温度が５００℃以上であり、望ましくは５２５℃以上であり、より好ましくは、５２５℃以上５７５℃以下であり、また、本発明のセラミックスガラスは、ガラス素材成分を制御することによって、熱抵抗温度が８００℃以上であり、望ましくは８２５℃以上であり、より好ましくは、８２５℃以上８７５℃以下となる。すなわち、本発明に係るセラミックガラスは、クックトップガラス素材として十分な耐熱性を有することができる。
本発明のセラミックガラスは、前記ガラス素材の上部に火口の中央を表示するための硝子印刷層をさらに含むことができる。前記硝子印刷層は、硝子インクを前記ガラス素材の上部に印刷して形成される。前記硝子印刷層は、火口の中央を表示するために、「－」または「＋」の印しを付けることができるが、これに限定されるものではない。
本発明のセラミックガラスは、前記ガラス素材の上部に火口の中央を表示するための硝子印刷層をさらに含むことができる。前記硝子印刷層は、硝子インクを前記ガラス素材の上部に印刷して形成される。前記硝子印刷層は、火口の中央を表示するために、「－」または「＋」の印しを付けることができるが、これに限定されるものではない。
次に、本発明のセラミックガラスの製造方法について説明する。
本発明の一実施例に係るセラミックガラスの製造方法は、セラミックガラス前駆体（Ｐｒｅｃｕｒｓｏｒ）を製造する段階、前記セラミックガラス前駆体を加熱して結晶を生成する段階、前記結晶が生成されたセラミックガラスをクーリングする段階、前記クーリングしたセラミックガラスを成形する段階、および前記成形したセラミックガラスをポリッシング（Ｐｏｌｉｓｈｉｎｇ）する段階を含む。
また、前記ポリッシングしたセラミックガラスをコーティングする段階をさらに含むことができる。
本発明の一実施例に係るセラミックガラスの製造方法は、セラミックガラス前駆体（Ｐｒｅｃｕｒｓｏｒ）を製造する段階、前記セラミックガラス前駆体を加熱して結晶を生成する段階、前記結晶が生成されたセラミックガラスをクーリングする段階、前記クーリングしたセラミックガラスを成形する段階、および前記成形したセラミックガラスをポリッシング（Ｐｏｌｉｓｈｉｎｇ）する段階を含む。
また、前記ポリッシングしたセラミックガラスをコーティングする段階をさらに含むことができる。
図３は、本発明の一例に係るセラミックガラス製造方法のフローチャートである。
図３に示したとおり、本発明の一例に係るセラミックガラス製造方法は、一連のセラミックガラス前駆体製造段階、結晶生成段階、クーリング段階、成形段階およびポリッシング段階を含む。
まず、セラミックガラスパウダーを準備した後、１４００～１６００℃で溶融させた後常温まで４０℃／ｍｉｎ以下の冷却速度で冷却してセラミックガラス前駆体を製造する。
次に、セラミックガラス内の結晶を生成させるための、結晶生成段階を遂行する。前記結晶生成段階は、６００～８００℃で１０～２０分間維持する１次加熱段階および８００～１０００℃で２０～３０分間維持する２次加熱段階を含む。
図３に示したとおり、本発明の一例に係るセラミックガラス製造方法は、一連のセラミックガラス前駆体製造段階、結晶生成段階、クーリング段階、成形段階およびポリッシング段階を含む。
まず、セラミックガラスパウダーを準備した後、１４００～１６００℃で溶融させた後常温まで４０℃／ｍｉｎ以下の冷却速度で冷却してセラミックガラス前駆体を製造する。
次に、セラミックガラス内の結晶を生成させるための、結晶生成段階を遂行する。前記結晶生成段階は、６００～８００℃で１０～２０分間維持する１次加熱段階および８００～１０００℃で２０～３０分間維持する２次加熱段階を含む。
１次加熱段階においてセラミックガラス内の結晶化のための核を生成させ、２次加熱段階では、前記核を基に結晶化を進めることができる。
結晶生成段階の温度が過度に低いか維持時間が短い場合には、結晶が充分に生成されないためカラー鮮明度および反射度が低下する。逆に、結晶生成段階の温度が過度に高いか維持時間が長い場合には、生産性が低下する。したがって、適正水準の結晶生成段階の温度および維持時間を設定することが好ましい。
前記クーリングする段階は、常温まで２０℃／ｍｉｎ以上の冷却速度で冷却することが好ましい。
一般的に、結晶生成段階の遂行時間が長くクーリング段階の遂行時間が短くなるほどセラミックガラスのカラー鮮明度が向上するが、セラミックガラス表面に凹凸が多く発生して清掃性が低下する。したがって、一般的にクーリング段階の遂行時間を短くすることは行われない。
結晶生成段階の温度が過度に低いか維持時間が短い場合には、結晶が充分に生成されないためカラー鮮明度および反射度が低下する。逆に、結晶生成段階の温度が過度に高いか維持時間が長い場合には、生産性が低下する。したがって、適正水準の結晶生成段階の温度および維持時間を設定することが好ましい。
前記クーリングする段階は、常温まで２０℃／ｍｉｎ以上の冷却速度で冷却することが好ましい。
一般的に、結晶生成段階の遂行時間が長くクーリング段階の遂行時間が短くなるほどセラミックガラスのカラー鮮明度が向上するが、セラミックガラス表面に凹凸が多く発生して清掃性が低下する。したがって、一般的にクーリング段階の遂行時間を短くすることは行われない。
しかし、本発明の一例に係るセラミックガラス製造方法では、２０℃／ｍｉｎ以上の早い冷却速度でクーリング段階を遂行することによって、クーリング段階の時間を短縮してカラー鮮明度を向上させ、ポリッシング段階を追加して清掃性を向上させることにした。
前記クーリングしたセラミックガラスを成形する段階では、目的に合う形状に切断およびエッジ加工をすることができる。
次に、前記成形したセラミックガラスをポリッシングする段階を実施する。
ポリッシング段階では、ポリッシングパッド（Ｓｏｆｔｂｕｆｆ（登録商標））に研磨材を塗布した後、前記成形したセラミックガラス表面を研磨する。ポリッシング段階を遂行することによって、セラミックガラス表面をさらに滑らかにして清掃性を最大化させることができる。
前記クーリングしたセラミックガラスを成形する段階では、目的に合う形状に切断およびエッジ加工をすることができる。
次に、前記成形したセラミックガラスをポリッシングする段階を実施する。
ポリッシング段階では、ポリッシングパッド（Ｓｏｆｔｂｕｆｆ（登録商標））に研磨材を塗布した後、前記成形したセラミックガラス表面を研磨する。ポリッシング段階を遂行することによって、セラミックガラス表面をさらに滑らかにして清掃性を最大化させることができる。
その後、必要に応じて前記ポリッシングしたセラミックガラス表面にコーティング層を形成させるために、コーティングする段階を追加で実施する。
前記コーティングする段階は、コーティング液をセラミックガラスの上部全体に塗布した後、６００～８００℃で５～１５分間乾燥する。
乾燥温度が低いか遂行時間が短い場合には、コーティング層が均一に形成されない虞がある。しかし、乾燥温度が過度に高いか遂行時間が長い場合には、コーティング層表面に亀裂が発生する虞がある。
前記コーティングする段階は、コーティング液をセラミックガラスの上部全体に塗布した後、６００～８００℃で５～１５分間乾燥する。
乾燥温度が低いか遂行時間が短い場合には、コーティング層が均一に形成されない虞がある。しかし、乾燥温度が過度に高いか遂行時間が長い場合には、コーティング層表面に亀裂が発生する虞がある。
次に、本発明のクックトップについて説明する。
本発明の一実施例に係るクックトップは、クックトップ本体、および前記クックトップ本体の上部に設けられる第１ガラスを含み、前記第１ガラスはセラミックガラスを含み、前記セラミックガラスは、上部表面に凹凸層が形成されるガラス素材を含み、色差計Ｌ値が８５以上１００以下である。より好ましくは、色差計Ｌ値が９０以上１００以下である。
また、本発明の一実施例に係るクックトップにおいて、前記クックトップ本体は、ヒーターを含み、前記クックトップは、前記第１ガラスと同一線上に配置される第２ガラス、前記第１ガラスと前記第２ガラスが分離可能に結合されるように設けられる結合装置、前記第２ガラスの下部に配置される回路基板、および前記ヒーターの下部に配置されて前記ヒーターを装着させるコイル装着板を含む。
また、前記ガラス素材は、重量％で、Ｌｉ２Ｏ：５～１５％、Ａｌ２Ｏ３：１５～２５％、残りはＳｉＯ２および不純物からなる。
本発明のクックトップにおいて、前記凹凸層は、ポリッシング工程によって、表面粗さをＲｚ値で１．４８μｍ以下、より好ましくは、１．２μｍ以下にすることができる。より好ましくは、表面粗さＲｚ値が０．８μｍ以下である。
本発明の一実施例に係るクックトップは、クックトップ本体、および前記クックトップ本体の上部に設けられる第１ガラスを含み、前記第１ガラスはセラミックガラスを含み、前記セラミックガラスは、上部表面に凹凸層が形成されるガラス素材を含み、色差計Ｌ値が８５以上１００以下である。より好ましくは、色差計Ｌ値が９０以上１００以下である。
また、本発明の一実施例に係るクックトップにおいて、前記クックトップ本体は、ヒーターを含み、前記クックトップは、前記第１ガラスと同一線上に配置される第２ガラス、前記第１ガラスと前記第２ガラスが分離可能に結合されるように設けられる結合装置、前記第２ガラスの下部に配置される回路基板、および前記ヒーターの下部に配置されて前記ヒーターを装着させるコイル装着板を含む。
また、前記ガラス素材は、重量％で、Ｌｉ２Ｏ：５～１５％、Ａｌ２Ｏ３：１５～２５％、残りはＳｉＯ２および不純物からなる。
本発明のクックトップにおいて、前記凹凸層は、ポリッシング工程によって、表面粗さをＲｚ値で１．４８μｍ以下、より好ましくは、１．２μｍ以下にすることができる。より好ましくは、表面粗さＲｚ値が０．８μｍ以下である。
前記ガラス素材の数値限定の理由は前記のとおりであり、以下、クックトップについてより詳細に説明する。
本発明の一実施例に係るクックトップは、クックトップ本体、および前記クックトップ本体の上部に設けられる第１ガラスを含み、前記第１ガラスはセラミックガラスを含むことができる。
また、前記クックトップ本体は、ヒーターを含み、前記クックトップは、前記第１ガラスと同一線上に配置される第２ガラス、前記第１ガラスと前記第２ガラスを分離可能に結合する結合装置、前記第２ガラスの下部に配置される回路基板、および前記ヒーターの下部に配置されて前記ヒーターを装着させるコイル装着板を含む。
本発明の一実施例に係るクックトップは、クックトップ本体、および前記クックトップ本体の上部に設けられる第１ガラスを含み、前記第１ガラスはセラミックガラスを含むことができる。
また、前記クックトップ本体は、ヒーターを含み、前記クックトップは、前記第１ガラスと同一線上に配置される第２ガラス、前記第１ガラスと前記第２ガラスを分離可能に結合する結合装置、前記第２ガラスの下部に配置される回路基板、および前記ヒーターの下部に配置されて前記ヒーターを装着させるコイル装着板を含む。
図４は本発明の一例に係るクックトップを図示した図面であり、図５は本発明の一例に係るクックトップの分解斜視図である。
図４および図５に示したとおり、本発明の一例によるクックトップ１はクックトップ本体１０および前記クックトップ本体１０の上部に設けられる第１ガラス１１０を含むことができる。
また、本発明の一例に係るクックトップ１は、ヒーター（以下、誘導加熱コイル１１）、第２ガラス１２０、結合装置２００、回路基板１２およびコイル装着板１５を含むことができる。
図４および図５に示したとおり、本発明の一例によるクックトップ１はクックトップ本体１０および前記クックトップ本体１０の上部に設けられる第１ガラス１１０を含むことができる。
また、本発明の一例に係るクックトップ１は、ヒーター（以下、誘導加熱コイル１１）、第２ガラス１２０、結合装置２００、回路基板１２およびコイル装着板１５を含むことができる。
本体１０は調理機器１の外観を形成することができる。誘導加熱コイル１１は本体１０の内部に収容され、調理容器２を誘導加熱するように磁場を発生させることができる。誘導加熱コイル１１は電線１１ａを通じて本体１０の内部に設けられたメイン基板（図示されず）と電気的に連結することができる。
ガラス１００は第１領域１０１を形成する第１ガラス１１０と、第２領域１０２を形成する第２ガラス１２０を含むことができる。
ガラス１００は第１領域１０１を形成する第１ガラス１１０と、第２領域１０２を形成する第２ガラス１２０を含むことができる。
回路基板１２は第２ガラス１２０の下に配置される。回路基板１２はディスプレイ部１３およびタッチ部１４を含むことができる。ディスプレイ部１３は第２領域１０２に形成される表示部１０２ａの下に配置される。ディスプレイ部１３では誘導加熱コイル１１により調理容器２が加熱するかどうかを表示する。したがって、使用者は表示部１０２ａを通じて調理容器２の加熱の有無を確認することができる。タッチ部１４は第２領域１０２に形成される入力部１０２ｂの下に配置される。タッチ部１４は入力部１０２ｂからタッチ信号の入力を受けることができる。例えば、タッチ部１４は静電式タッチ方式で入力を受けることができる。ただし、これに制限されるものではなく、タッチ部１４は減圧式タッチ方式で入力を受けてもよい。使用者は入力部１０２ｂを使って誘導加熱コイルに流れる電流を調節することができ、調理容器２が加熱する程度を決定することができる。
コイル装着板１５には誘導加熱コイル１１が装着される。コイル装着板１５には誘導加熱コイル１１を装着させるためのコイル装着ホール１５ａが設けられる。コイル装着ホール１５ａは複数で設けることができる。
本体１０はガラス１００が支持されるように設けられる第１フレーム１６をさらに含むことができる。第１フレーム１６は上部にガラス１００が支持されるように設けられる。第１フレーム１６はコイル装着板１５の四方の端部から上側に延びて形成される。第１フレーム１６はガラス１００が本体１０に装着および支持されるように設けられる。
本体１０はガラス１００が支持されるように設けられる第１フレーム１６をさらに含むことができる。第１フレーム１６は上部にガラス１００が支持されるように設けられる。第１フレーム１６はコイル装着板１５の四方の端部から上側に延びて形成される。第１フレーム１６はガラス１００が本体１０に装着および支持されるように設けられる。
第１ガラス１１０は硝子印刷層（ｈｅａｔｉｎｇ ａｒｅａ ｇｕｉｄｅ、１０１ａ、１０１ｂ、１０１ｃ）を含み、調理容器２を支持することができる。第１領域１０１には調理容器２が配置される。
第２ガラス１２０は第２領域１０２を含み、第２領域１０２は表示部１０２ａと入力部１０２ｂを含む。表示部１０２ａは調理機器１に関する各種情報を表示するために第２領域１０２に形成され、入力部１０２ｂは使用者から制御命令の入力を受けるように第２領域１０２に形成される。
第１ガラス１１０と第２ガラス１２０は物理的に分離されており、結合装置２００により分離可能に結合される。
第２ガラス１２０は第２領域１０２を含み、第２領域１０２は表示部１０２ａと入力部１０２ｂを含む。表示部１０２ａは調理機器１に関する各種情報を表示するために第２領域１０２に形成され、入力部１０２ｂは使用者から制御命令の入力を受けるように第２領域１０２に形成される。
第１ガラス１１０と第２ガラス１２０は物理的に分離されており、結合装置２００により分離可能に結合される。
第１ガラス１１０は第１領域１０１を形成し、第１領域１０１には調理容器２が配置される。第１ガラス１１０に配置された調理容器２は誘導加熱コイル１１により発生した磁場によって誘導加熱される。
第２ガラス１２０は第１領域１０１と分離された第２領域１０２を形成し、第２領域１０２には表示部１０２ａを通じて調理容器２の温度、調理経過時間および／または、日付／時間を含む調理機器１の調理情報が表示される。
また、第２領域１０２には調理機器１をオン／オフさせるか調理容器２の温度を制御するように使用者から制御命令の入力を受ける入力部１０２ｂが設けられる。入力部１０２ｂは使用者のタッチによって入力を受けることができる。
第２ガラス１２０は第１領域１０１と分離された第２領域１０２を形成し、第２領域１０２には表示部１０２ａを通じて調理容器２の温度、調理経過時間および／または、日付／時間を含む調理機器１の調理情報が表示される。
また、第２領域１０２には調理機器１をオン／オフさせるか調理容器２の温度を制御するように使用者から制御命令の入力を受ける入力部１０２ｂが設けられる。入力部１０２ｂは使用者のタッチによって入力を受けることができる。
第２ガラス１２０は強化ガラスである。第１ガラス１１０と第２ガラス１２０は互いに異なる材質で形成されることもできる。例えば、第１ガラス１１０は耐熱性が優秀なセラミックガラスからなり、第２ガラス１２０はタッチを通じて下側に設けられる回路基板１２に信号を伝達するようにタッチ信号を伝達できる特性を有することができる。
第１ガラス１１０と第２ガラス１２０は結合装置２００によって分離可能に結合される。具体的には、第２ガラス１２０は結合装置２００により第１ガラス１１０に分離可能に結合される。第２ガラス１２０は第１ガラス１１０の前方に結合される。第２ガラス１２０は第１ガラス１１０と結合時に第１ガラス１１０の一側をカバーすることができる。
また、第２領域１０２に位置する回路基板１２等の修理および故障時に第２領域１０２に該当する第２ガラス１２０の分離および取り替えが可能であるため、修復を容易にすることができる。
第１ガラス１１０と第２ガラス１２０は結合装置２００によって分離可能に結合される。具体的には、第２ガラス１２０は結合装置２００により第１ガラス１１０に分離可能に結合される。第２ガラス１２０は第１ガラス１１０の前方に結合される。第２ガラス１２０は第１ガラス１１０と結合時に第１ガラス１１０の一側をカバーすることができる。
また、第２領域１０２に位置する回路基板１２等の修理および故障時に第２領域１０２に該当する第２ガラス１２０の分離および取り替えが可能であるため、修復を容易にすることができる。
以下では、本発明に対する理解を助けるために実施例および比較例を記載する。ただし、下記の記載は本発明の内容および効果に関する一例に該当するだけであって、本発明の権利範囲および効果は必ずしもこれに限定されるものではない。
｛実施例｝
｛実施例｝
＜表面粗さ測定試験＞
表面粗さ測定試験は、常温（２５℃）で表面粗さ測定機を通じて、試片の測定面と垂直に動く触針の上下の動き量を測定して実施した。
下記の表１には、コーティングしていない一般のセラミックガラス（比較例）と本発明の一例に係るコーティングしたセラミックガラス（実施例）の表面粗さを示した。
表面粗さ測定試験は、常温（２５℃）で表面粗さ測定機を通じて、試片の測定面と垂直に動く触針の上下の動き量を測定して実施した。
下記の表１には、コーティングしていない一般のセラミックガラス（比較例）と本発明の一例に係るコーティングしたセラミックガラス（実施例）の表面粗さを示した。
＜ビッカース硬度測定試験＞
ビッカース硬度は、ダイヤモンド四角錐を有するピラミッド型の粒子を使って、０．０５ｋｇｆの荷重で試片を押圧して試片にできたピラミッド状の凹み部分の対角線を測定して硬度を求める方式で測定した。
コーティングしていない一般のセラミックガラス（比較例）の場合にはＨｖ８６０と測定され、本発明の一例に係るコーティングされたセラミックガラス（実施例）の場合にはＨｖ９２０と測定された。
すなわち、本発明の一例に係るコーティングされたセラミックガラスはコーティング層を形成することによって硬度が向上したことを確認することができた。
ビッカース硬度は、ダイヤモンド四角錐を有するピラミッド型の粒子を使って、０．０５ｋｇｆの荷重で試片を押圧して試片にできたピラミッド状の凹み部分の対角線を測定して硬度を求める方式で測定した。
コーティングしていない一般のセラミックガラス（比較例）の場合にはＨｖ８６０と測定され、本発明の一例に係るコーティングされたセラミックガラス（実施例）の場合にはＨｖ９２０と測定された。
すなわち、本発明の一例に係るコーティングされたセラミックガラスはコーティング層を形成することによって硬度が向上したことを確認することができた。
＜キムチ清掃性試験＞
キムチ清掃性試験は、ＣＪ第一製糖社の白菜の株キムチを本発明の一例に係るクックトップの上板全体に塗布した後、１５０℃で３０分加熱後３０分静置を１サイクルとして、６日間１サイクル／１日遂行した後、クックトップ専用洗剤で洗浄する方式で行った。
図５は本発明の一例に係るクックトップの上板にキムチ汚染源を塗布した後、洗浄する前の姿を撮影した写真であり、図６は本発明の一例に係るクックトップの上板にキムチ汚染源を塗布した後、洗浄した後の姿を撮影した写真である。
図５および図６に示したとおり、本発明の一例によってコーティング層が形成されたセラミックガラスを設置することによって、清掃性が向上したことを確認することができた。
キムチ清掃性試験は、ＣＪ第一製糖社の白菜の株キムチを本発明の一例に係るクックトップの上板全体に塗布した後、１５０℃で３０分加熱後３０分静置を１サイクルとして、６日間１サイクル／１日遂行した後、クックトップ専用洗剤で洗浄する方式で行った。
図５は本発明の一例に係るクックトップの上板にキムチ汚染源を塗布した後、洗浄する前の姿を撮影した写真であり、図６は本発明の一例に係るクックトップの上板にキムチ汚染源を塗布した後、洗浄した後の姿を撮影した写真である。
図５および図６に示したとおり、本発明の一例によってコーティング層が形成されたセラミックガラスを設置することによって、清掃性が向上したことを確認することができた。
＜食用油加熱清掃性試験＞
食用油加熱清掃性試験は、本発明の一例に係るクックトップの上板全体に食用油３ｇを塗布した後、各温度に３０分間維持した後、表面色差計値（ΔＥ）が変わる程度を測定した。
下記の表２には、温度による、食用油加熱清掃性試験前後のクックトップの上板の色差計値（ΔＥ）を示した。一般的に、色差計値（ΔＥ）が１．０以下である場合、清掃性が良好であると判断することができる。
食用油加熱清掃性試験は、本発明の一例に係るクックトップの上板全体に食用油３ｇを塗布した後、各温度に３０分間維持した後、表面色差計値（ΔＥ）が変わる程度を測定した。
下記の表２には、温度による、食用油加熱清掃性試験前後のクックトップの上板の色差計値（ΔＥ）を示した。一般的に、色差計値（ΔＥ）が１．０以下である場合、清掃性が良好であると判断することができる。
＜色差計測定試験＞
色差計測定試験は、コーティングしていないセラミックガラスを適用したクックトップ（比較例）と本発明の一例によりコーティングしたセラミックガラスを適用したクックトップ（実施例）の色差値を比較する方式で行った。
Ｌ＊ａ＊ｂ＊色差計は、分光色差計（ＳｐｅｃｔｒｏｐｈｏｔｏＭｅｔｅｒ）を使用して測定した。
比較例の場合には、Ｌ：８４．８、ａ：－０．５、ｂ：－０．５と測定されたが、実施例の場合には、Ｌ：９５、ａ：１．０、ｂ：２．０と測定された。
すなわち、本発明の一例によりコーティングしたセラミックガラスを適用する場合、ホワイトカラー鮮明度が増加し、審美感が優れたウオームホワイトを具現できることが分かった。
色差計測定試験は、コーティングしていないセラミックガラスを適用したクックトップ（比較例）と本発明の一例によりコーティングしたセラミックガラスを適用したクックトップ（実施例）の色差値を比較する方式で行った。
Ｌ＊ａ＊ｂ＊色差計は、分光色差計（ＳｐｅｃｔｒｏｐｈｏｔｏＭｅｔｅｒ）を使用して測定した。
比較例の場合には、Ｌ：８４．８、ａ：－０．５、ｂ：－０．５と測定されたが、実施例の場合には、Ｌ：９５、ａ：１．０、ｂ：２．０と測定された。
すなわち、本発明の一例によりコーティングしたセラミックガラスを適用する場合、ホワイトカラー鮮明度が増加し、審美感が優れたウオームホワイトを具現できることが分かった。
＜耐熱性試験＞
耐熱性試験は、熱衝撃温度および熱抵抗温度を測定する方法で行った。
熱衝撃温度は、ＵＬ８５８規格に基づいて測定した。
本発明の一例により製作したセラミックガラスは、平均熱衝撃温度が５５０℃と測定された。
熱抵抗温度は、破損なしに長時間耐え得る温度を意味する。本発明の一例により製作したセラミックガラス試片を一定の温度で加熱された熱抵抗試験用のチャンバーに入れた後、１０００時間の間維持した時、ガラス素材が破損する温度を測定した。この時、破損の有無は肉眼で傷が発生したかどうかで判断した。熱抵抗温度は３回測定後に平均値で表した。
耐熱性試験は、熱衝撃温度および熱抵抗温度を測定する方法で行った。
熱衝撃温度は、ＵＬ８５８規格に基づいて測定した。
本発明の一例により製作したセラミックガラスは、平均熱衝撃温度が５５０℃と測定された。
熱抵抗温度は、破損なしに長時間耐え得る温度を意味する。本発明の一例により製作したセラミックガラス試片を一定の温度で加熱された熱抵抗試験用のチャンバーに入れた後、１０００時間の間維持した時、ガラス素材が破損する温度を測定した。この時、破損の有無は肉眼で傷が発生したかどうかで判断した。熱抵抗温度は３回測定後に平均値で表した。
本発明の一例により製作したセラミックガラスは、平均熱抵抗温度が８５０℃と測定された。
したがって、本発明の一例に係るセラミックガラスは、クックトップ用セラミックガラスとして適切な耐熱性を備えていると判断することができた。
したがって、本発明の一例に係るセラミックガラスは、クックトップ用セラミックガラスとして適切な耐熱性を備えていると判断することができた。
１：クックトップ（調理機器）
２：調理容器
１０：クックトップ本体
１１：誘導加熱コイル（ヒーター）
１１ａ：電線
１２；回路基板
１３：ディスプレイ部
１４：タッチ部
１５：コイル装着板
１５ａ：コイル装着ホール
１６：第１フレーム １８：締結ホール
１００：ガラス
１０１：第１領域
１０１ａ、１０１ｂ、１０１ｃ：硝子印刷層
１０２：第２領域
１０２ａ：表示部
１０２ｂ：入力部
１１０：第１ガラス
１２０：第２ガラス
２００：結合装置
２：調理容器
１０：クックトップ本体
１１：誘導加熱コイル（ヒーター）
１１ａ：電線
１２；回路基板
１３：ディスプレイ部
１４：タッチ部
１５：コイル装着板
１５ａ：コイル装着ホール
１６：第１フレーム １８：締結ホール
１００：ガラス
１０１：第１領域
１０１ａ、１０１ｂ、１０１ｃ：硝子印刷層
１０２：第２領域
１０２ａ：表示部
１０２ｂ：入力部
１１０：第１ガラス
１２０：第２ガラス
２００：結合装置
Claims (20)
- 上部表面に凹凸層が形成されるガラス素材を含み、
色差計Ｌ値が９０以上１００以下であり、
前記ガラス素材は、Ｌｉ２Ｏ、Ａｌ２Ｏ３およびＳｉＯ２を含み、
熱衝撃温度が５２５℃以上５７５℃以下であり、
表面粗さがＲａ：０．１μｍ以下およびＲｚ：０．８μｍ以下であることを特徴とするクックトップ用セラミックガラス。 - 熱抵抗温度が８２５℃以上８７５℃以下であることを特徴とする請求項１に記載のクックトップ用セラミックガラス。
- 前記凹凸層の全体に塗布されるコーティング層をさらに含み、
前記コーティング層はＺｒＯ２およびＴｉＯ２を含むことを特徴とする請求項１に記載のクックトップ用セラミックガラス。 - 前記ガラス素材は、
重量％で、Ｌｉ２Ｏ：５～１５％、Ａｌ２Ｏ３：１５～２５％、残りはＳｉＯ２および不純物からなることを特徴とする請求項１に記載のクックトップ用セラミックガラス。 - 前記ガラス素材は、厚さが３～５ｍｍであることを特徴とする請求項１に記載のクックトップ用セラミックガラス。
- 前記コーティング層は、重量％で、ＺｒＯ２：７０～９５％、残りはＴｉＯ２および不純物からなることを特徴とする請求項３に記載のクックトップ用セラミックガラス。
- 前記コーティング層は、厚さが３０ｎｍ以下であることを特徴とする請求項１に記載のクックトップ用セラミックガラス。
- ビッカース硬度（Ｈｖ）が９２０以上１０００以下であることを特徴とする請求項３に記載のクックトップ用セラミックガラス。
- 前記ガラス素材の上部に、火口の中央を表示するための硝子印刷層をさらに含むことを特徴とする請求項１に記載のクックトップ用セラミックガラス。
- 上部表面に凹凸層が形成されるガラス素材を含み、
色差計Ｌ値が９０以上１００以下であり、
前記ガラス素材は、Ｌｉ２Ｏ、Ａｌ２Ｏ３およびＳｉＯ２を含み、
表面粗さＲａ：０．１μｍ以下およびＲｚ：０．８μｍ以下であることを特徴とするクックトップ用セラミックガラス。 - セラミックガラス前駆体（Ｐｒｅｃｕｒｓｏｒ）を製造する段階、
前記セラミックガラス前駆体を加熱して結晶を生成する段階、
前記結晶が生成されたセラミックガラスをクーリングする段階、
前記クーリングしたセラミックガラスを成形する段階、および
前記成形したセラミックガラスをポリッシング（Ｐｏｌｉｓｈｉｎｇ）する段階を含むことを特徴とするクックトップ用セラミックガラス製造方法。 - 前記ポリッシングしたセラミックガラスをコーティングする段階をさらに含むことを特徴とする請求項１１に記載のクックトップ用セラミックガラス製造方法。
- 前記セラミックガラス前駆体を製造する段階は、
セラミックガラスパウダーを１４００～１６００℃で溶融させた後、常温まで４０℃／ｍｉｎ以下の冷却速度で冷却させることを特徴とする請求項１１に記載のクックトップ用セラミックガラス製造方法。 - 前記結晶を生成する段階は、６００～８００℃で１０～２０分間維持する１次加熱段階および８００～１０００℃で２０～３０分間維持する２次加熱段階を含むことを特徴とする請求項１１に記載のクックトップ用セラミックガラス製造方法。
- 前記クーリングする段階は、常温まで２０℃／ｍｉｎ以上の冷却速度で冷却することを特徴とする請求項１１に記載のクックトップ用セラミックガラス製造方法。
- 前記コーティングする段階は、コーティング液をセラミックガラス上部に塗布した後、６００～８００℃で５～１５分間乾燥することを特徴とする請求項１２に記載のクックトップ用セラミックガラス製造方法。
- クックトップ本体、
前記クックトップ本体の上部に設けられる第１ガラス、
前記第１ガラスと同一線上に配置される第２ガラス、
前記第１ガラスと前記第２ガラスを分離可能に結合する結合装置、
前記第２ガラスの下部に配置される回路基板および
前記ヒーターの下部に配置されて前記ヒーターを装着させるコイル装着板、を含み、
前記クックトップ本体はヒーターを含み、
前記第１ガラスはセラミックガラスを含み、
前記セラミックガラスは上部表面に凹凸層が形成されるガラス素材を含み、色差計Ｌ値が９０以上１００以下であり、熱衝撃温度が５２５℃以上５７５℃以下であり、ポリッシングする段階を通じて表面粗さＲａ：０．１μｍ以下およびＲｚ：０．８μｍ以下とし、
前記ガラス素材はＬｉ２Ｏ、Ａｌ２Ｏ３およびＳｉＯ２を含むことを特徴とするクックトップ。 - 前記セラミックガラスは、
熱抵抗温度が８２５℃以上８７５℃以下であることを特徴とする請求項１７に記載のクックトップ。 - 前記ガラス素材は、
重量％で、Ｌｉ２Ｏ：５～１５％、Ａｌ２Ｏ３：１５～２５％、残りはＳｉＯ２および不純物からなることを特徴とする請求項１７に記載のクックトップ。 - クックトップ本体、
前記クックトップ本体の上部に設けられる第１ガラス、
前記第１ガラスと同一線上に配置される第２ガラス、
前記第１ガラスと前記第２ガラスを分離可能に結合する結合装置、
前記第２ガラスの下部に配置される回路基板、および
前記ヒーターの下部に配置されて前記ヒーターを装着させるコイル装着板を含み、
前記クックトップ本体はヒーターを含み、
前記第１ガラスはセラミックガラスを含み、
前記セラミックガラスは上部表面に凹凸層が形成されるガラス素材を含み、色差計Ｌ値が９０以上１００以下であり、ポリッシングする段階を通じて表面粗さはＲａ：０．１μｍ以下およびＲｚ：０．８μｍ以下とし、
前記ガラス素材は、Ｌｉ２Ｏ、Ａｌ２Ｏ３およびＳｉＯ２を含むことを特徴とするクックトップ。
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| JP2008267633A (ja) * | 2007-04-17 | 2008-11-06 | Narumi China Corp | 調理器用ガラストッププレート |
| JP4872803B2 (ja) * | 2007-05-25 | 2012-02-08 | 鳴海製陶株式会社 | 装飾層、それを設けた加熱調理器用ガラストッププレート、及び加熱調理器用ガラストッププレートの製造方法 |
| US8664130B2 (en) * | 2012-04-13 | 2014-03-04 | Corning Incorporated | White, opaque β-spodumene/rutile glass-ceramic articles and methods for making the same |
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| US9359243B2 (en) * | 2014-05-13 | 2016-06-07 | Corning Incorporated | Transparent glass-ceramic articles, glass-ceramic precursor glasses and methods for forming the same |
| DE102014226986B9 (de) * | 2014-12-23 | 2017-01-12 | Schott Ag | Glaskeramisches Substrat aus einer transparenten, eingefärbten LAS-Glaskeramik und Verfahren zu dessen Herstellung |
| KR101581272B1 (ko) * | 2015-06-18 | 2016-01-11 | 주식회사 알프테크 | 눈부심 방지 유리 제조방법 |
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