JP2023096175A - 処理流体供給装置 - Google Patents
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Abstract
Description
まず、実施形態に係る基板処理装置1の構成について図1を参照して説明する。図1は、実施形態に係る基板処理装置1の構成例を示す図である。なお、以下では、位置関係を明確にするために、互いに直交するX軸、Y軸およびZ軸を規定し、Z軸正方向を鉛直上向き方向とする。
次に、液処理ユニット17の構成について、図2を参照しながら説明する。図2は、液処理ユニット17の構成例を示す図である。液処理ユニット17は、たとえば、スピン洗浄によりウェハWを1枚ずつ洗浄する枚葉式の洗浄装置として構成される。
つづいて、乾燥ユニット18の構成について、図3を参照しながら説明する。図3は、乾燥ユニット18の構成例を示す模式斜視図である。
つづいて、実施形態に係る基板処理システム100の構成について、図4を参照しながら説明する。図4は、実施形態に係る基板処理システム100のシステム全体の構成例を示す図である。なお、以下に示す基板処理システム100の各部は、制御部7によって制御可能である。
つづいて、実施形態に係る基板処理システム100における基板処理の詳細について、図5~図9を参照しながら説明する。図5は、実施形態に係る循環ライン62の循環圧および乾燥ユニット18の内圧の推移を示す図である。
つづいて、実施形態の変形例について、図10および図11を参照しながら説明する。図10は、実施形態の変形例に係る基板処理システム100の昇圧処理および保持処理を説明するための図である。
つづいて、図12を参照しながら、実施形態に係る処理流体供給装置60が実行する処理流体供給処理の詳細について説明する。図12は、実施形態に係る処理流体供給処理の処理手順を示すフローチャートである。
1 基板処理装置
18 乾燥ユニット(基板処理部の一例)
44 ヒータ(別の加熱部の一例)
60 処理流体供給装置
61 ガス供給ライン
62 循環ライン
63 分岐ライン
67 フィルタ
68 コンデンサ(冷却部の一例)
70 ポンプ
72 分岐部
74 スパイラルヒータ(加熱部の一例)
75 背圧弁(調圧部の一例)
100 基板処理システム
Claims (3)
- 基板を処理する処理流体を循環させる循環ラインと、
気体状態の前記処理流体を前記循環ラインに供給するガス供給ラインと、
前記循環ラインに設けられ、気体状態の前記処理流体を冷却して液体状態の前記処理流体を生成する冷却部と、
前記循環ラインにおける前記冷却部の下流側に設けられるポンプと、
前記循環ラインにおける前記ポンプの下流側に接続され、液体状態の前記処理流体を分岐部から分岐させる分岐ラインと、
前記分岐部の下流側に設けられ、液体状態の前記処理流体を加熱して超臨界状態の前記処理流体を生成する加熱部と、
前記循環ラインにおいて、前記加熱部の下流側、かつ前記循環ラインと前記ガス供給ラインとの接続部の上流側に設けられ、超臨界状態の前記処理流体を減圧して気体状態の前記処理流体を生成する調圧部と、
前記循環ラインにおける前記調圧部の下流側に設けられ、前記循環ラインの前記処理流体の流れのオン及びオフを切り替えるバルブと、
前記分岐ラインにおいて前記分岐部と前記バルブとの間に設けられる背圧弁と、
各部を制御する制御部と、
を備え、
前記制御部は、液体状態の前記処理流体を前記循環ラインから前記分岐ラインに分岐させる処理を、前記背圧弁の弁開度を全閉状態にして行う
処理流体供給装置。 - 前記制御部は、液体状態の前記処理流体を前記循環ラインから分岐ラインに分岐させる処理において、前記バルブを閉じるとともに前記背圧弁の弁開度を全閉状態にした後、所定の時間が経過した際に、前記バルブを開けるとともに前記背圧弁の弁開度を所定の固定開度に変更する
請求項1に記載の処理流体供給装置。 - 基板を処理する処理流体を循環させる循環ラインと、
気体状態の前記処理流体を前記循環ラインに供給するガス供給ラインと、
前記循環ラインに設けられ、気体状態の前記処理流体を冷却して液体状態の前記処理流体を生成する冷却部と、
前記循環ラインにおける前記冷却部の下流側に設けられるポンプと、
前記循環ラインにおける前記ポンプの下流側に接続され、液体状態の前記処理流体を分岐部から分岐させる分岐ラインと、
前記分岐部の下流側に設けられ、液体状態の前記処理流体を加熱して超臨界状態の前記処理流体を生成する加熱部と、
前記循環ラインにおいて、前記加熱部の下流側、かつ前記循環ラインと前記ガス供給ラインとの接続部の上流側に設けられ、超臨界状態の前記処理流体を減圧して気体状態の前記処理流体を生成する調圧部と、
前記循環ラインにおける前記調圧部の下流側に設けられ、前記循環ラインの前記処理流体の流れのオン及びオフを切り替えるバルブと、
各部を制御する制御部と、
を備え、
前記制御部は、前記循環ラインで液体状態の前記処理流体を加熱し、超臨界状態の前記処理流体を生成する処理を行う場合、前記バルブの開状態を維持し続ける
処理流体供給装置。
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