JP2023089944A - ガスセンサ及びガスセンサの制御方法 - Google Patents

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凌 橋川
Ryo Hashikawa
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【課題】基準電極周辺の水分に起因する特定ガス濃度の検出精度の低下を抑制する。【解決手段】ガスセンサ100は、センサ素子101と制御部とを備える。センサ素子101は、被測定ガス流通部が内部に設けられた素子本体(層1~6)と、被測定ガス流通部に配設された測定電極44と、被測定ガスと接触するように素子本体に設けられた外側ポンプ電極23と、素子本体の内部に配設された基準電極42と、基準ガスを素子本体の外部から基準電極42まで流通させる基準ガス導入部49と、外側ポンプ電極23と基準電極42とを含んで構成される基準ガス調整ポンプセル90と、を備える。制御部は、基準電極42の周囲から外側ポンプ電極23の周囲に酸素を汲み出して基準電極42の周囲の水分濃度を低下させるように基準ガス調整ポンプセル90を制御する水分濃度低下処理を行う。【選択図】図2

Description

本発明は、ガスセンサ及びガスセンサの制御方法に関する。
従来、自動車の排気ガスなどの被測定ガスにおけるNOxなどの特定ガスの濃度を検出するガスセンサに用いられるセンサ素子が知られている。例えば、特許文献1には、酸素イオン伝導性の固体電解質層を有し被測定ガスを導入して流通させる被測定ガス流通部が内部に設けられた素子本体と、被測定ガス流通部の内周面上に配設された測定電極と、素子本体の内部に配設された基準電極と、被測定ガスの特定ガス濃度の検出の基準となる基準ガス(例えば大気)を導入して基準電極まで流通させる基準ガス導入部と、を備えたセンサ素子が記載されている。基準ガス導入部は、多孔質の基準ガス導入層を有している。このセンサ素子の基準電極と測定電極との間に生じる起電力に基づいて被測定ガス中の特定ガス濃度を検出することができる。
特開2020-094899号公報
ところで、例えばセンサ素子を駆動していない期間に、基準ガス導入部が外部の水を吸着してしまう場合があった。駆動開始するとセンサ素子が加熱されるため基準ガス導入部内の水は気体となって基準ガス導入部から外部に抜けていくが、水が抜けるまでの間は気体の水が存在することで基準電極周りの酸素濃度が低下してしまう。これにより、水が抜けるまでの間は特定ガス濃度の検出精度が低下する場合があった。
本発明はこのような課題を解決するためになされたものであり、基準電極周辺の水分に起因する特定ガス濃度の検出精度の低下を抑制することを主目的とする。
本発明は、上述した主目的を達成するために以下の手段を採った。
本発明の第1のガスセンサは、
被測定ガス中の特定ガス濃度を検出するガスセンサであって、
酸素イオン伝導性の固体電解質層を含み、前記被測定ガスを導入して流通させる被測定ガス流通部が内部に設けられた素子本体と、
前記被測定ガス流通部に配設された測定電極と、
前記被測定ガスと接触するように前記素子本体に設けられた被測定ガス側電極と、
前記素子本体の内部に配設された基準電極と、
前記被測定ガス中の前記特定ガス濃度の検出の基準となる基準ガスを前記素子本体の外部から前記基準電極まで流通させる基準ガス導入部と、
前記被測定ガス側電極と、前記基準電極と、を含んで構成される基準ガス調整ポンプセルと、
を有するセンサ素子と、
前記基準電極の周囲から前記被測定ガス側電極の周囲に酸素を汲み出して前記基準電極の周囲の水分濃度を低下させるように前記基準ガス調整ポンプセルを制御する水分濃度低下処理を行う制御部と、
を備えたものである。
この第1のガスセンサでは、水分濃度低下処理において、基準電極の周囲から被測定ガス側電極の周囲に酸素の汲み出しが行われる。これにより、基準電極の周囲の酸素が汲み出されるだけでなく、基準電極の周囲の水分が分解されて分解により生じた酸素も汲み出すことができる。したがって、基準電極の周囲の水分濃度を速やかに低下させることができるから、基準電極周辺の水分に起因する特定ガス濃度の検出精度の低下を抑制できる。
本発明の第1のガスセンサにおいて、前記制御部は、前記水分濃度低下処理において、前記基準電極の周囲から前記被測定ガス側電極の周囲への酸素の汲み出しと、前記被測定ガス側電極の周囲から前記基準電極の周囲への酸素の汲み入れと、を交互に行うように前記基準ガス調整ポンプセルを制御してもよい。ここで、基準電極の周囲から酸素の汲み出しを行うと、水が分解されると共に基準電極の周囲の酸素も汲み出されるから、一時的に基準電極の周囲の酸素濃度は低下する。汲み出しと汲み入れとを交互に行うことで、汲み出しにより減少した酸素を汲み入れによって早期に補うことができる。
本発明の第2のガスセンサは、
被測定ガス中の特定ガス濃度を検出するガスセンサであって、
酸素イオン伝導性の固体電解質層を含み、前記被測定ガスを導入して流通させる被測定ガス流通部が内部に設けられた素子本体と、
前記被測定ガス流通部に配設された測定電極と、
前記被測定ガスと接触するように前記素子本体に設けられた被測定ガス側電極と、
前記素子本体の内部に配設された基準電極と、
前記被測定ガス中の前記特定ガス濃度の検出の基準となる基準ガスを前記素子本体の外部から前記基準電極まで流通させる基準ガス導入部と、
前記被測定ガス側電極と、前記基準電極と、を含んで構成される基準ガス調整ポンプセルと、
を有するセンサ素子と、
前記被測定ガス側電極の周囲から前記基準電極の周囲に酸素を汲み入れて前記基準電極の周囲の酸素濃度を調整するように前記基準ガス調整ポンプセルを制御する基準ガス調整処理と、前記基準ガス調整処理と比べて一時的により多くの酸素を前記基準電極の周囲に汲み入れて前記基準電極の周囲の水分濃度を低下させるように前記基準ガス調整ポンプセルを制御する水分濃度低下処理と、を行う制御部と、
を備えたものである。
この第2のガスセンサでは、基準ガス調整処理により基準電極の周囲に酸素を汲み入れることで、基準電極の周囲の酸素濃度の低下を補うことができる。また、水分濃度低下処理において、基準ガス調整処理と比べて一時的により多くの酸素を基準電極に汲み入れるため、この処理によって基準電極の周囲の水分に起因する酸素濃度の低下も補うことができる。したがって、例えば基準ガス調整処理は行うが水分濃度低下処理を行わない場合と比較して、基準電極周辺の水分に起因する特定ガス濃度の検出精度の低下を抑制できる。
本発明の第1又は第2のガスセンサにおいて、前記制御部は、前記水分濃度低下処理において基準ガス調整ポンプセルに0.3V以上1.5V以下の制御電圧を印加して該基準ガス調整ポンプセルを動作させてもよい。制御電圧が0.3V以上では、基準ガス調整ポンプセルをより確実に動作させることができる。制御電圧が1.5V以下では、センサ素子の黒化を抑制できる。
本発明の第1又は第2のガスセンサにおいて、前記水分濃度低下処理の実行時間は5秒以上300秒以下としてもよい。実行時間が5秒以上では、基準電極の周囲の水分濃度をより確実に低下させることができる。また、水分濃度低下処理の実行中は基準電極に電流が流れることで基準電極の電位が変化するため、実行時間は300秒以下が好ましい。
本発明の第1又は第2のガスセンサにおいて、前記素子本体を加熱するヒータ、を備え、前記制御部は、前記ヒータに通電して該ヒータの温度が所定温度以上に到達した後に、前記水分濃度低下処理を行ってもよい。こうすれば、ヒータの温度が上昇してから水分濃度低下処理が行われるため、固体電解質層が活性化して酸素イオン伝導性が発揮される状態で基準ガス調整ポンプセルを動作させることができる。したがって、水分濃度低下処理を適切なタイミングで実行できる。
本発明の第1又は第2のガスセンサにおいて、前記制御部は、前記基準電極の周囲から前記被測定ガス側電極の周囲に酸素を汲み出すよう前記基準ガス調整ポンプセルを制御したときに該基準ガス調整ポンプセルに流れるポンプ電流に基づいて前記基準電極の周囲の水分が多いか否かを判定する水分判定処理を行い、水分が多いと判定した場合に前記水分濃度低下処理を行ってもよい。ここで、基準ガス調整ポンプセルが基準電極の周囲から被測定ガス側電極の周囲に酸素を汲み出すときに流れるポンプ電流は、基準電極の周囲の水分の多寡によって変化する。そのため、このポンプ電流に基づいて基準電極の周囲の水分が多いか否かを判定することができる。そして、水分が多いと判定した場合に水分濃度低下処理を行うから、水分濃度低下処理を適切に行うことができる。
本発明の第1又は第2のガスセンサにおいて、前記制御部は、前記水分判定処理において、前記基準ガス調整ポンプセルの限界電流領域の電圧よりも高い所定の制御電圧を前記被測定ガス側電極と前記基準電極との間に印加したときの前記ポンプ電流に基づいて、前記基準電極の周囲の水分が多いか否かを判定してもよい。限界電流領域の電圧よりも高い電圧を印加すると、基準電極の周囲の水分が分解されやすいから、基準電極の周囲の水分の多寡がポンプ電流に影響しやすい。そのため、このような電圧を印加したときのポンプ電流に基づいて判定を行うことで、基準電極の周囲の水分が多いか否かをより適切に判定できる。
本発明の第1又は第2のガスセンサにおいて、前記制御部は、前記水分判定処理において、前記ポンプ電流と前記基準ガス調整ポンプセルの限界電流との比較に基づいて、前記基準電極の周囲の水分が多いか否かを判定してもよい。基準電極の周囲の水分が多いほどポンプ電流と限界電流との相違が大きくなるから、これらを比較することで、基準電極の周囲の水分が多いか否かをより適切に判定できる。この場合において、前記制御部は、前記限界電流と前記ポンプ電流との差又は比に基づいて前記判定を行ってもよい。
本発明の第1又は第2のガスセンサにおいて、前記制御部は、前記限界電流の値を記憶する記憶部を備え、前記制御部は、前記水分判定処理において、前記ポンプ電流と前記記憶部に記憶された限界電流とを比較してもよい。こうすれば、水分判定処理において限界電流を測定する必要がない。
本発明の第1又は第2のガスセンサにおいて、前記制御部は、前記水分判定処理において、前記ポンプ電流と前記基準ガス調整ポンプセルに前記限界電流領域の電圧を印加して測定した前記限界電流とを比較してもよい。こうすれば、水分判定処理においてポンプ電流だけでなく限界電流も測定するため、より精度良く判定を行うことができる。
本発明の第1又は第2のガスセンサにおいて、前記所定の制御電圧は、0.8V以上1.5V以下の電圧としてもよい。制御電圧が0.8V以上の値であれば、この範囲の電圧を印加したときのポンプ電流が基準電極の周囲の水分の多寡によって変化しやすいため、水分判定処理を行うのに適している。制御電圧が1.5V以下では、センサ素子の黒化を抑制できる。
本発明の第1のガスセンサの制御方法は、
被測定ガス中の特定ガス濃度を検出するガスセンサの制御方法であって、
前記ガスセンサは、
酸素イオン伝導性の固体電解質層を含み、前記被測定ガスを導入して流通させる被測定ガス流通部が内部に設けられた素子本体と、
前記被測定ガス流通部に配設された測定電極と、
前記被測定ガスと接触するように前記素子本体に設けられた被測定ガス側電極と、
前記素子本体の内部に配設された基準電極と、
前記被測定ガス中の前記特定ガス濃度の検出の基準となる基準ガスを前記素子本体の外部から前記基準電極まで流通させる基準ガス導入部と、
前記被測定ガス側電極と、前記基準電極と、を含んで構成される基準ガス調整ポンプセルと、
を有するセンサ素子、を備え、
前記基準電極の周囲から前記被測定ガス側電極の周囲に酸素を汲み出して前記基準電極の周囲の水分濃度を低下させるように前記基準ガス調整ポンプセルを制御する水分濃度低下処理、
を含むものである。
この第1のガスセンサの制御方法では、上述した第1のガスセンサと同様に、基準電極周辺の水分に起因する特定ガス濃度の検出精度の低下を抑制できる。なお、この第1のガスセンサの制御方法において、上述した第1又は第2のガスセンサの種々の態様を採用してもよいし、また、上述した第1又は第2のガスセンサの各機能を実現するような処理を追加してもよい。
本発明の第2のガスセンサの制御方法は、
被測定ガス中の特定ガス濃度を検出するガスセンサの制御方法であって、
前記ガスセンサは、
酸素イオン伝導性の固体電解質層を含み、前記被測定ガスを導入して流通させる被測定ガス流通部が内部に設けられた素子本体と、
前記被測定ガス流通部に配設された測定電極と、
前記被測定ガスと接触するように前記素子本体に設けられた被測定ガス側電極と、
前記素子本体の内部に配設された基準電極と、
前記被測定ガス中の前記特定ガス濃度の検出の基準となる基準ガスを前記素子本体の外部から前記基準電極まで流通させる基準ガス導入部と、
前記被測定ガス側電極と、前記基準電極と、を含んで構成される基準ガス調整ポンプセルと、
を有するセンサ素子、を備え、
前記被測定ガス側電極の周囲から前記基準電極の周囲に酸素を汲み入れて前記基準電極の周囲の酸素濃度を調整するように前記基準ガス調整ポンプセルを制御する基準ガス調整処理と、
前記基準ガス調整処理と比べて一時的により多くの酸素を前記基準電極の周囲に汲み入れて前記基準電極の周囲の水分濃度を低下させるように前記基準ガス調整ポンプセルを制御する水分濃度低下処理と、
を含むものである。
この第2のガスセンサの制御方法では、上述した第2のガスセンサと同様に、基準電極周辺の水分に起因する特定ガス濃度の検出精度の低下を抑制できる。なお、この第2のガスセンサの制御方法において、上述した第1又は第2のガスセンサの種々の態様を採用してもよいし、また、上述した第1又は第2のガスセンサの各機能を実現するような処理を追加してもよい。
ガスセンサ100の縦断面図。 センサ素子101の構成の一例を概略的に示した断面模式図。 制御装置95と各セルとの電気的な接続関係を示すブロック図。 基準ガス調整ポンプセル90の電圧Vp3とポンプ電流Ip3との関係を示すグラフ。 制御ルーチンの一例を示すフローチャート。 時刻tと電圧V2openとの関係を示すグラフ。 変形例の基準ガス導入部249の周辺の構成を示した断面模式図。 変形例のセンサ素子201の断面模式図。
次に、本発明の実施形態について、図面を用いて説明する。図1は、本発明の一実施形態であるガスセンサ100の縦断面図である。図2は、ガスセンサ100が備えるセンサ素子101の構成の一例を概略的に示した断面模式図である。図3は、制御装置95と各セルとの電気的な接続関係を示すブロック図である。なお、センサ素子101は長尺な直方体形状をしており、このセンサ素子101の長手方向(図2の左右方向)を前後方向とし、センサ素子101の厚み方向(図2の上下方向)を上下方向とする。また、センサ素子101の幅方向(前後方向及び上下方向に垂直な方向)を左右方向とする。
図1に示すように、ガスセンサ100は、センサ素子101と、センサ素子101の前端側を保護する保護カバー130と、センサ素子101と導通するコネクタ150を含むセンサ組立体140とを備えている。このガスセンサ100は、図示するように例えば車両の排ガス管などの配管190に取り付けられて、被測定ガスとしての排気ガスに含まれるNOxやO2等の特定ガスの濃度を測定するために用いられる。本実施形態では、ガスセンサ100は特定ガス濃度としてNOx濃度を測定するものとした。
保護カバー130は、センサ素子101の前端を覆う有底筒状の内側保護カバー131と、この内側保護カバー131を覆う有底筒状の外側保護カバー132とを備えている。内側保護カバー131及び外側保護カバー132には、被測定ガスを保護カバー130内に流通させるための複数の孔が形成されている。内側保護カバー131で囲まれた空間としてセンサ素子室133が形成されており、センサ素子101の前端はこのセンサ素子室133内に配置されている。
センサ組立体140は、センサ素子101を封入固定する素子封止体141と、素子封止体141に取り付けられたボルト147,外筒148と、センサ素子101の後端の表面(上下面)に形成された図示しないコネクタ電極(後述するヒータコネクタ電極71のみ図2に図示した)に接触してこれらと電気的に接続されたコネクタ150と、を備えている。
素子封止体141は、筒状の主体金具142と、主体金具142と同軸に溶接固定された筒状の内筒143と、主体金具142及び内筒143の内側の貫通孔内に封入されたセラミックスサポーター144a~144c,圧粉体145a,145b,メタルリング146と、を備えている。センサ素子101は素子封止体141の中心軸上に位置しており、素子封止体141を前後方向に貫通している。内筒143には、圧粉体145bを内筒143の中心軸方向に押圧するための縮径部143aと、メタルリング146を介してセラミックスサポーター144a~144c,圧粉体145a,145bを前方に押圧するための縮径部143bとが形成されている。縮径部143a,143bからの押圧力により、圧粉体145a,145bが主体金具142及び内筒143とセンサ素子101との間で圧縮されることで、圧粉体145a,145bが保護カバー130内のセンサ素子室133と外筒148内の空間149との間を封止すると共に、センサ素子101を固定している。
ボルト147は、主体金具142と同軸に固定されており、外周面に雄ネジ部が形成されている。ボルト147の雄ネジ部は、配管190に溶接され内周面に雌ネジ部が設けられた固定用部材191内に挿入されている。これにより、ガスセンサ100のうちセンサ素子101の前端や保護カバー130の部分が配管190内に突出した状態で、ガスセンサ100が配管190に固定されている。
外筒148は、内筒143,センサ素子101,コネクタ150の周囲を覆っており、コネクタ150に接続された複数のリード線155が後端から外部に引き出されている。このリード線155は、コネクタ150を介してセンサ素子101の各電極(後述)と導通している。外筒148とリード線155との隙間はゴム栓157によって封止されている。外筒148内の空間149は基準ガス(本実施形態では大気)で満たされている。センサ素子101の後端はこの空間149内に配置されている。
図2に示すように、センサ素子101は、それぞれがジルコニア(ZrO2)等の酸素イオン伝導性固体電解質層からなる第1基板層1と、第2基板層2と、第3基板層3と、第1固体電解質層4と、スペーサ層5と、第2固体電解質層6との6つの層が、図面視で下側からこの順に積層された積層体を有する素子である。また、これら6つの層を形成する固体電解質は緻密な気密のものである。係るセンサ素子101は、例えば、各層に対応するセラミックスグリーンシートに所定の加工および回路パターンの印刷などを行った後にそれらを積層し、さらに、焼成して一体化させることによって製造される。
センサ素子101の一端(図2の左側)であって、第2固体電解質層6の下面と第1固体電解質層4の上面との間には、ガス導入口10と、第1拡散律速部11と、緩衝空間12と、第2拡散律速部13と、第1内部空所20と、第3拡散律速部30と、第2内部空所40と、第4拡散律速部60と、第3内部空所61とが、この順に連通する態様にて隣接形成されてなる。
ガス導入口10と、緩衝空間12と、第1内部空所20と、第2内部空所40と、第3内部空所61とは、スペーサ層5をくり抜いた態様にて設けられた上部を第2固体電解質層6の下面で、下部を第1固体電解質層4の上面で、側部をスペーサ層5の側面で区画されたセンサ素子101内部の空間である。
第1拡散律速部11と、第2拡散律速部13と、第3拡散律速部30とはいずれも、2本の横長の(図面に垂直な方向に開口が長手方向を有する)スリットとして設けられる。また、第4拡散律速部60は、第2固体電解質層6の下面との隙間として形成された1本の横長の(図面に垂直な方向に開口が長手方向を有する)スリットとして設けられる。なお、ガス導入口10から第3内部空所61に至る部位を被測定ガス流通部とも称する。
センサ素子101は、センサ素子101の外部から基準電極42にNOx濃度の測定を行う際の基準ガスを流通させる基準ガス導入部49を備えている。基準ガス導入部49は、基準ガス導入空間43と、基準ガス導入層48とを有する。基準ガス導入空間43は、センサ素子101の後端面から内方向に設けられた空間である。基準ガス導入空間43は、第3基板層3の上面と、スペーサ層5の下面との間であって、側部を第1固体電解質層4の側面で区画される位置に設けられている。基準ガス導入空間43は、センサ素子101の後端面に開口しており、この開口が基準ガス導入部49の入口部49aとして機能する。入口部49aは、空間149内に露出している(図1参照)。この入口部49aから基準ガス導入空間43内に基準ガスが導入される。基準ガス導入部49は、入口部49aから導入された基準ガスに対して所定の拡散抵抗を付与しつつこれを基準電極42に導入する。基準ガスは、本実施形態では大気(図1の空間149内の雰囲気)とした。
基準ガス導入層48は、第3基板層3の上面と第1固体電解質層4の下面との間に設けられている。基準ガス導入層48は、例えばアルミナなどのセラミックスからなる多孔質体である。基準ガス導入層48の上面の一部は、基準ガス導入空間43内に露出している。基準ガス導入層48は、基準電極42を被覆するように形成されている。基準ガス導入層48は、基準ガスを基準ガス導入空間43から基準電極42まで流通させる。
基準電極42は、第3基板層3の上面と第1固体電解質層4とに挟まれる態様にて形成される電極であり、上述のように、その周囲には、基準ガス導入空間43につながる基準ガス導入層48が設けられている。また、後述するように、基準電極42を用いて第1内部空所20内,第2内部空所40内,及び第3内部空所61内の酸素濃度(酸素分圧)を測定することが可能となっている。基準電極42は、多孔質サーメット電極(例えば、PtとZrO2とのサーメット電極)として形成される。
被測定ガス流通部において、ガス導入口10は、外部空間に対して開口してなる部位であり、該ガス導入口10を通じて外部空間からセンサ素子101内に被測定ガスが取り込まれるようになっている。第1拡散律速部11は、ガス導入口10から取り込まれた被測定ガスに対して、所定の拡散抵抗を付与する部位である。緩衝空間12は、第1拡散律速部11より導入された被測定ガスを第2拡散律速部13へと導くために設けられた空間である。第2拡散律速部13は、緩衝空間12から第1内部空所20に導入される被測定ガスに対して、所定の拡散抵抗を付与する部位である。被測定ガスが、センサ素子101外部から第1内部空所20内まで導入されるにあたって、外部空間における被測定ガスの圧力変動(被測定ガスが自動車の排気ガスの場合であれば排気圧の脈動)によってガス導入口10からセンサ素子101内部に急激に取り込まれた被測定ガスは、直接第1内部空所20へ導入されるのではなく、第1拡散律速部11、緩衝空間12、第2拡散律速部13を通じて被測定ガスの圧力変動が打ち消された後、第1内部空所20へ導入されるようになっている。これによって、第1内部空所20へ導入される被測定ガスの圧力変動はほとんど無視できる程度のものとなる。第1内部空所20は、第2拡散律速部13を通じて導入された被測定ガス中の酸素分圧を調整するための空間として設けられている。係る酸素分圧は、主ポンプセル21が作動することによって調整される。
主ポンプセル21は、第1内部空所20に面する第2固体電解質層6の下面のほぼ全面に設けられた天井電極部22aを有する内側ポンプ電極22と、第2固体電解質層6の上面の天井電極部22aと対応する領域に外部空間(図1のセンサ素子室133)に露出する態様にて設けられた外側ポンプ電極23と、これらの電極に挟まれた第2固体電解質層6とによって構成されてなる電気化学的ポンプセルである。
内側ポンプ電極22は、第1内部空所20を区画する上下の固体電解質層(第2固体電解質層6および第1固体電解質層4)、および、側壁を与えるスペーサ層5にまたがって形成されている。具体的には、第1内部空所20の天井面を与える第2固体電解質層6の下面には天井電極部22aが形成され、また、底面を与える第1固体電解質層4の上面には底部電極部22bが形成され、そして、それら天井電極部22aと底部電極部22bとを接続するように、側部電極部(図示省略)が第1内部空所20の両側壁部を構成するスペーサ層5の側壁面(内面)に形成されて、該側部電極部の配設部位においてトンネル形態とされた構造において配設されている。
内側ポンプ電極22と外側ポンプ電極23とは、多孔質サーメット電極(例えば、Auを1%含むPtとZrO2とのサーメット電極)として形成される。なお、被測定ガスに接触する内側ポンプ電極22は、被測定ガス中のNOx成分に対する還元能力を弱めた材料を用いて形成される。
主ポンプセル21においては、内側ポンプ電極22と外側ポンプ電極23との間に所望の電圧Vp0を印加して、内側ポンプ電極22と外側ポンプ電極23との間に正方向あるいは負方向にポンプ電流Ip0を流すことにより、第1内部空所20内の酸素を外部空間に汲み出し、あるいは、外部空間の酸素を第1内部空所20に汲み入れることが可能となっている。
また、第1内部空所20における雰囲気中の酸素濃度(酸素分圧)を検出するために、内側ポンプ電極22と、第2固体電解質層6と、スペーサ層5と、第1固体電解質層4と、第3基板層3と、基準電極42とによって、電気化学的なセンサセル、すなわち、主ポンプ制御用酸素分圧検出センサセル80が構成されている。
主ポンプ制御用酸素分圧検出センサセル80における起電力(電圧V0)を測定することで第1内部空所20内の酸素濃度(酸素分圧)がわかるようになっている。さらに、電圧V0が目標値となるように可変電源24の電圧Vp0をフィードバック制御することでポンプ電流Ip0が制御されている。これによって、第1内部空所20内の酸素濃度は所定の一定値に保つことができる。
第3拡散律速部30は、第1内部空所20で主ポンプセル21の動作により酸素濃度(酸素分圧)が制御された被測定ガスに所定の拡散抵抗を付与して、該被測定ガスを第2内部空所40に導く部位である。
第2内部空所40は、あらかじめ第1内部空所20において酸素濃度(酸素分圧)が調整された後、第3拡散律速部30を通じて導入された被測定ガスに対して、さらに補助ポンプセル50による酸素分圧の調整を行うための空間として設けられている。これにより、第2内部空所40内の酸素濃度を高精度に一定に保つことができるため、係るガスセンサ100においては精度の高いNOx濃度測定が可能となる。
補助ポンプセル50は、第2内部空所40に面する第2固体電解質層6の下面の略全体に設けられた天井電極部51aを有する補助ポンプ電極51と、外側ポンプ電極23(外側ポンプ電極23に限られるものではなく、センサ素子101の外側の適当な電極であれば足りる)と、第2固体電解質層6とによって構成される、補助的な電気化学的ポンプセルである。
係る補助ポンプ電極51は、先の第1内部空所20内に設けられた内側ポンプ電極22と同様なトンネル形態とされた構造において、第2内部空所40内に配設されている。つまり、第2内部空所40の天井面を与える第2固体電解質層6に対して天井電極部51aが形成され、また、第2内部空所40の底面を与える第1固体電解質層4には、底部電極部51bが形成され、そして、それらの天井電極部51aと底部電極部51bとを連結する側部電極部(図示省略)が、第2内部空所40の側壁を与えるスペーサ層5の両壁面にそれぞれ形成されたトンネル形態の構造となっている。なお、補助ポンプ電極51についても、内側ポンプ電極22と同様に、被測定ガス中のNOx成分に対する還元能力を弱めた材料を用いて形成される。
補助ポンプセル50においては、補助ポンプ電極51と外側ポンプ電極23との間に所望の電圧Vp1を印加することにより、第2内部空所40内の雰囲気中の酸素を外部空間に汲み出し、あるいは、外部空間から第2内部空所40内に汲み入れることが可能となっている。
また、第2内部空所40内における雰囲気中の酸素分圧を制御するために、補助ポンプ電極51と、基準電極42と、第2固体電解質層6と、スペーサ層5と、第1固体電解質層4と、第3基板層3とによって電気化学的なセンサセル、すなわち、補助ポンプ制御用酸素分圧検出センサセル81が構成されている。
なお、この補助ポンプ制御用酸素分圧検出センサセル81にて検出される起電力(電圧V1)に基づいて電圧制御される可変電源52にて、補助ポンプセル50がポンピングを行う。これにより第2内部空所40内の雰囲気中の酸素分圧は、NOxの測定に実質的に影響がない低い分圧にまで制御されるようになっている。
また、これとともに、そのポンプ電流Ip1が、主ポンプ制御用酸素分圧検出センサセル80の起電力の制御に用いられるようになっている。具体的には、ポンプ電流Ip1は、制御信号として主ポンプ制御用酸素分圧検出センサセル80に入力され、その電圧V0の上述した目標値が制御されることにより、第3拡散律速部30から第2内部空所40内に導入される被測定ガス中の酸素分圧の勾配が常に一定となるように制御されている。NOxセンサとして使用する際は、主ポンプセル21と補助ポンプセル50との働きによって、第2内部空所40内での酸素濃度は約0.001ppm程度の一定の値に保たれる。
第4拡散律速部60は、第2内部空所40で補助ポンプセル50の動作により酸素濃度(酸素分圧)が制御された被測定ガスに所定の拡散抵抗を付与して、該被測定ガスを第3内部空所61に導く部位である。第4拡散律速部60は、第3内部空所61に流入するNOxの量を制限する役割を担う。
第3内部空所61は、あらかじめ第2内部空所40において酸素濃度(酸素分圧)が調整された後、第4拡散律速部60を通じて導入された被測定ガスに対して、被測定ガス中の窒素酸化物(NOx)濃度の測定に係る処理を行うための空間として設けられている。NOx濃度の測定は、主として、第3内部空所61において、測定用ポンプセル41の動作により行われる。
測定用ポンプセル41は、第3内部空所61内において、被測定ガス中のNOx濃度の測定を行う。測定用ポンプセル41は、第3内部空所61に面する第1固体電解質層4の上面に設けられた測定電極44と、外側ポンプ電極23と、第2固体電解質層6と、スペーサ層5と、第1固体電解質層4とによって構成された電気化学的ポンプセルである。測定電極44は、被測定ガス中のNOx成分に対する還元能力を、内側ポンプ電極22よりも高めた材料にて構成された多孔質サーメット電極である。測定電極44は、第3内部空所61内の雰囲気中に存在するNOxを還元するNOx還元触媒としても機能する。
測定用ポンプセル41においては、測定電極44の周囲の雰囲気中における窒素酸化物の分解によって生じた酸素を汲み出して、その発生量をポンプ電流Ip2として検出することができる。
また、測定電極44の周囲の酸素分圧を検出するために、第1固体電解質層4と、第3基板層3と、測定電極44と、基準電極42とによって電気化学的なセンサセル、すなわち、測定用ポンプ制御用酸素分圧検出センサセル82が構成されている。測定用ポンプ制御用酸素分圧検出センサセル82にて検出された起電力(電圧V2)に基づいて可変電源46が制御される。
第2内部空所40内に導かれた被測定ガスは、酸素分圧が制御された状況下で第4拡散律速部60を通じて第3内部空所61内の測定電極44に到達することとなる。測定電極44の周囲の被測定ガス中の窒素酸化物は還元されて(2NO→N2+O2)酸素を発生する。そして、この発生した酸素は測定用ポンプセル41によってポンピングされることとなるが、その際、測定用ポンプ制御用酸素分圧検出センサセル82にて検出された電圧V2が一定(目標値)となるように可変電源46の電圧Vp2が制御される。測定電極44の周囲において発生する酸素の量は、被測定ガス中の窒素酸化物の濃度に比例するものであるから、測定用ポンプセル41におけるポンプ電流Ip2を用いて被測定ガス中の窒素酸化物濃度が算出されることとなる。
また、第2固体電解質層6と、スペーサ層5と、第1固体電解質層4と、第3基板層3と、外側ポンプ電極23と、基準電極42とから電気化学的なセンサセル83が構成されており、このセンサセル83によって得られる起電力(電圧Vref)によりセンサ外部の被測定ガス中の酸素分圧を検出可能となっている。
さらに、第2固体電解質層6と、スペーサ層5と、第1固体電解質層4と、第3基板層3と、外側ポンプ電極23と、基準電極42とから電気化学的な基準ガス調整ポンプセル90が構成されている。この基準ガス調整ポンプセル90は、外側ポンプ電極23と基準電極42との間に接続された電源回路92が印加する制御電圧(電圧Vp3)により制御電流(ポンプ電流Ip3)が流れることで、酸素のポンピングを行う。これにより、基準ガス調整ポンプセル90は、外側ポンプ電極23の周囲の空間(図1のセンサ素子室133)から基準電極42の周囲に酸素の汲み入れを行うことや、基準電極42の周囲から外側ポンプ電極23の周囲に酸素を汲み出すことが可能になっている。
このような構成を有するガスセンサ100においては、主ポンプセル21と補助ポンプセル50とを作動させることによって酸素分圧が常に一定の低い値(NOxの測定に実質的に影響がない値)に保たれた被測定ガスが測定用ポンプセル41に与えられる。したがって、被測定ガス中のNOxの濃度に略比例して、NOxの還元によって発生する酸素が測定用ポンプセル41より汲み出されることによって流れるポンプ電流Ip2に基づいて、被測定ガス中のNOx濃度を知ることができるようになっている。
さらに、センサ素子101は、固体電解質の酸素イオン伝導性を高めるために、センサ素子101を加熱して保温する温度調整の役割を担うヒータ部70を備えている。ヒータ部70は、ヒータコネクタ電極71と、ヒータ72と、スルーホール73と、ヒータ絶縁層74と、圧力放散孔75と、リード線76とを備えている。
ヒータコネクタ電極71は、第1基板層1の下面に接する態様にて形成されてなる電極である。ヒータコネクタ電極71を外部電源と接続することによって、外部からヒータ部70へ給電することができるようになっている。
ヒータ72は、第2基板層2と第3基板層3とに上下から挟まれた態様にて形成される電気抵抗体である。ヒータ72は、リード線76及びスルーホール73を介してヒータコネクタ電極71と接続されており、該ヒータコネクタ電極71を通して外部より給電されることにより発熱し、センサ素子101を形成する固体電解質の加熱と保温を行う。
また、ヒータ72は、第1内部空所20から第3内部空所61の全域に渡って埋設されており、センサ素子101全体を上記固体電解質が活性化する温度に調整することが可能となっている。
ヒータ絶縁層74は、ヒータ72の上下面に、アルミナ等の絶縁体によって形成された多孔質アルミナからなる絶縁層である。ヒータ絶縁層74は、第2基板層2とヒータ72との間の電気的絶縁性、および、第3基板層3とヒータ72との間の電気的絶縁性を得る目的で形成されている。
圧力放散孔75は、第3基板層3及び基準ガス導入層48を貫通するように設けられてなる部位であり、ヒータ絶縁層74内の温度上昇に伴う内圧上昇を緩和する目的で形成されてなる。
制御装置95は、図3に示すように、上述した可変電源24,46,52と、ヒータ電源78と、上述した電源回路92と、制御部96と、を備えている。制御部96は、CPU97,図示しないRAM,及び記憶部98などを備えたマイクロプロセッサである。記憶部98は、不揮発性メモリであり、例えば各種プログラムや各種データを記憶する装置である。制御部96は、各センサセル80~83の電圧V0~V2及び電圧Vrefを入力する。制御部96は、各ポンプセル21,50,41,90を流れるポンプ電流Ip0~Ip2及びポンプ電流Ip3を入力する。制御部96は、可変電源24,46,52及び電源回路92へ制御信号を出力することで可変電源24,46,52及び電源回路92が出力する電圧Vp0~Vp3を制御し、これにより、各ポンプセル21,41,50,90を制御する。制御部96は、ヒータ電源78に制御信号を出力することでヒータ電源78がヒータ72に供給する電力を制御し、これにより、センサ素子101の温度を調整する。記憶部98には、後述する目標値V0*,V1*,V2*,及び目標電流Ip1*などが記憶されている。制御部96のCPU97は、これらの目標値V0*,V1*,V2*,及び目標電流Ip1*を参照して、各セル21,41,50の制御を行う。
制御部96は、第2内部空所40の酸素濃度が目標濃度となるように補助ポンプセル50を制御する補助ポンプ制御処理を行う。具体的には、制御部96は、電圧V1が一定値(目標値V1*と称する)となるように可変電源52の電圧Vp1をフィードバック制御することで、補助ポンプセル50を制御する。目標値V1*は、第2内部空所40の酸素濃度がNOxの測定に実質的に影響がない所定の低濃度となるような値として定められている。
制御部96は、補助ポンプ制御処理によって補助ポンプセル50が第2内部空所40の酸素濃度を調整するときに流れるポンプ電流Ip1が目標電流(目標電流Ip1*と称する)になるように主ポンプセル21を制御する主ポンプ制御処理を行う。具体的には、制御部96は、電圧Vp1によって流れるポンプ電流Ip1が一定の目標電流Ip1*となるように、ポンプ電流Ip1に基づいて電圧V0の目標値(目標値V0*と称する)を設定(フィードバック制御)する。そして、制御部96は、電圧V0が目標値V0*となるように(つまり第1内部空所20の酸素濃度が目標濃度となるように)可変電源24の電圧Vp0をフィードバック制御する。この主ポンプ制御処理により、第3拡散律速部30から第2内部空所40内に導入される被測定ガス中の酸素分圧の勾配が常に一定となる。目標値V0*は、第1内部空所20の酸素濃度が0%よりは高く且つ低酸素濃度となるような値に設定される。また、この主ポンプ制御処理中に流れるポンプ電流Ip0は、ガス導入口10から被測定ガス流通部内に流入する被測定ガス(すなわちセンサ素子101の周囲の被測定ガス)の酸素濃度に応じて変化する。そのため、制御部96は、ポンプ電流Ip0に基づいて被測定ガス中の酸素濃度を検出することもできる。
上述した主ポンプ制御処理及び補助ポンプ制御処理をまとめて調整用ポンプ制御処理とも称する。また、第1内部空所20及び第2内部空所40をまとめて酸素濃度調整室とも称する。主ポンプセル21及び補助ポンプセル50をまとめて調整用ポンプセルとも称する。制御部96が調整用ポンプ制御処理を行うことで、調整用ポンプセルが酸素濃度調整室の酸素濃度を調整する。
さらに、制御部96は、電圧V2が一定値(目標値)となるように(つまり第3内部空所61内の酸素濃度が所定の低濃度になるように)測定用ポンプセル41を制御する測定用ポンプ制御処理を行う。具体的には、制御部96は、電圧V2が目標値V2*となるように可変電源46の電圧Vp2をフィードバック制御することで、測定用ポンプセル41を制御する。この測定用ポンプ制御処理により、第3内部空所61内から酸素が汲み出される。
測定用ポンプ制御処理が行われることで、被測定ガス中のNOxが第3内部空所61で還元されることにより発生した酸素が実質的にゼロとなるように、第3内部空所61内から酸素が汲み出される。そして、制御部96は、特定ガス(ここではNOx)に由来して第3内部空所61で発生する酸素に応じた検出値としてポンプ電流Ip2を取得し、このポンプ電流Ip2に基づいて被測定ガス中のNOx濃度を算出する。
記憶部98には、ポンプ電流Ip2とNOx濃度との対応関係として、関係式(例えば一次関数又は二次関数の式)やマップなどが記憶されている。このような関係式又はマップは、予め実験により求めておくことができる。
制御部96は、電圧Vp3が基準ガス調整ポンプセル90に印加されるように電源回路92を制御して、基準ガス調整ポンプセル90にポンプ電流Ip3を流す。制御部96は、電圧Vp3の大きさや正負を変更することで、ポンプ電流Ip3の大きさや流れる向きを制御する。これにより、制御部96は基準電極42と外側ポンプ電極23との間の酸素の移動方向(基準電極42の周囲への酸素の汲み入れ又は基準電極42の周囲からの酸素の汲み出し)を制御したり、酸素の移動量を制御したりすることができる。本実施形態では、電圧Vp3はポンプ電流Ip3が所定の値(一定値の直流電流)となるような直流電圧とした。
制御部96は、外側ポンプ電極23の周囲から基準電極42の周囲に酸素を汲み入れて基準電極42の周囲の酸素濃度を調整するように基準ガス調整ポンプセル90を制御する基準ガス調整処理を行う。ここで、センサ素子101のうちガス導入口10などの被測定ガス流通部には、図1に示したセンサ素子室133から被測定ガスが導入される。一方、センサ素子101のうち基準ガス導入部49には、図1に示した空間149内の基準ガス(大気)が導入される。そして、このセンサ素子室133と空間149とは、センサ組立体140(特に、圧粉体145a,145b)によって区画され、互いにガスが流通しないように封止されている。しかし、被測定ガス側の圧力が高い場合などにおいて、被測定ガスがわずかに空間149内に侵入してしまい、空間149内の酸素濃度が低下する場合がある。このとき、基準電極42の周囲の酸素濃度まで低下してしまうと、基準電極42の電位である基準電位が変化してしまう。基準ガス調整処理を行うことで、このような基準電極42の周囲の酸素濃度の低下を補うことができる。
なお、図2に示した可変電源24,46,52及び電源回路92などを含めて、制御装置95は、実際にはセンサ素子101内に形成された図示しないリード線,図1のコネクタ150及びリード線155を介して、センサ素子101内部の各電極と接続されている。
ところで、センサ素子101を駆動していない期間に、基準ガス導入部49がセンサ素子101の外部(ここでは空間149内)の水を吸着してしまう場合がある。これに関して、本発明者らは、基準ガス導入部49の吸湿状態と、基準ガス調整ポンプセル90に流れるポンプ電流Ip3との関係を調べた。まず、制御装置95によりセンサ素子101を駆動させた。具体的には、ガスセンサ100を大気雰囲気中に配置した状態で、ヒータ電源78からヒータ72に通電してセンサ素子101を加熱し、センサ素子101の温度を800℃で維持した。この状態で0.5時間が経過するまで待ち、基準ガス導入部49の吸湿量の少ない状態のガスセンサ100とした。続いて、ガスセンサ100を大気雰囲気中に配置した状態で電源回路92が基準ガス調整ポンプセル90に印加する電圧Vp3を0mVから1000mVまで徐々に変化させたときのポンプ電流Ip3の値を測定した。電圧Vp3は、基準ガス調整ポンプセル90が基準電極42の周囲から外側ポンプ電極23の周囲に酸素を汲み出す方向に印加した。こうして測定された、吸湿量の少ない状態のガスセンサ100における電圧Vp3とポンプ電流Ip3との関係を、図4に実線のグラフL1として示す。次に、ガスセンサ100を温度40℃,湿度85%の恒温恒湿槽に1週間保管して基準ガス導入部49に水を吸着させることで、吸湿量の多い状態のガスセンサ100とした。このガスセンサ100を大気雰囲気中に配置し、ヒータ72によりセンサ素子101の温度を800℃で維持した。この状態で上記と同様に電圧Vp3を0mVから1000mVまで徐々に変化させたときのポンプ電流Ip3の値を測定した。こうして測定された、吸湿量の多い状態のガスセンサ100における電圧Vp3とポンプ電流Ip3との関係を、図4に破線のグラフL2として示す。
図4に示すように、グラフL1及びグラフL2のいずれも、電圧Vp3が100mV~700mVの領域では、電圧Vp3が増加してもポンプ電流Ip3はほぼ一定の値になっていた。すなわちポンプ電流Ip3が限界電流になっていた。限界電流の値は、例えば基準ガス導入部49の拡散抵抗などによって定まる。このような電圧Vp3が変化してもポンプ電流Ip3がほとんど変化しない領域(図4では例えば電圧Vp3が100mV~700mVの領域)を、限界電流領域と称する。また、グラフL1及びグラフL2のいずれも、限界電流領域よりも電圧Vp3が高い領域では、電圧Vp3の増加に伴ってポンプ電流Ip3も増加する傾向が見られた。これは、電圧Vp3が高くなるほど基準ガス導入部49内、特に基準電極42の周辺の水分が分解されて酸素が発生しており、この酸素も基準電極42の周囲から汲み出されているためと考えられる。また、限界電流領域及びそれよりも電圧Vp3が高い領域のいずれにおいても、グラフL2の方がグラフL1よりもポンプ電流Ip3の値が大きかった。すなわち、基準ガス導入部49の吸湿量の多い状態のガスセンサ100の方が、ポンプ電流Ip3の値が大きくなる傾向が確認された。そのため、限界電流領域の電圧Vp3を印加した場合でも、基準電極42の周辺の水分の分解は生じていると考えられる。特に、限界電流領域よりも電圧Vp3が高い領域(例えば図4の電圧Vp3が800mV以上の領域)では、グラフL2とグラフL1とのポンプ電流Ip3の値の相違がより顕著に見られた。例えば電圧Vp3が限界電流領域内の400mVである場合のグラフL1のポンプ電流Ip3の値A1とグラフL2のポンプ電流Ip3の値A2との差(=A2-A1)よりも、電圧Vp3が1000mVである場合のグラフL1のポンプ電流Ip3の値B1とグラフL2のポンプ電流Ip3の値B2との差(=B2-B1)の方が値が大きかった。
このように、基準ガス調整ポンプセル90が基準電極42の周囲から外側ポンプ電極23の周囲に酸素を汲み出すときに流れるポンプ電流Ip3は、基準電極42の周囲の水分の多寡によって変化する。具体的には基準電極42の周囲の水分が多いほど、ポンプ電流Ip3が大きくなる。そこで、本実施形態の制御部96は、このポンプ電流Ip3に基づいて基準電極42の周囲の吸湿状態を診断する吸湿状態診断処理を行う。より具体的には、本実施形態の制御部96は、吸湿状態診断処理の一例として、ポンプ電流Ip3に基づいて基準電極42の周囲の水分が多いか否かを判定する水分判定処理を行う。水分判定処理の詳細については後述する。
次に、ガスセンサ100の制御部96がNOx濃度の測定を行う処理の一例について説明する。図5は、制御部96が実行する制御ルーチンの一例を示すフローチャートである。制御部96は、このルーチンを例えば記憶部98に記憶している。制御部96は、例えば図示しないエンジンECUから起動指令を入力すると、この制御ルーチンを開始する。
制御部96のCPU97は、制御ルーチンが開始されると、まず、ヒータ電源78に制御信号を出力して、ヒータ72の温度が目標温度(例えば800℃など)になるように制御するヒータ制御処理を開始する(ステップS100)。ここで、ヒータ72の温度はヒータ72の抵抗値の一次関数の式で表すことができる。そこで、本実施形態のヒータ制御処理では、CPU97はヒータ72の温度とみなせる値(温度に換算可能な値)としてヒータ72の抵抗値を算出して、算出した抵抗値が目標抵抗値(目標温度に対応する抵抗値)になるようにヒータ電源78をフィードバック制御する。CPU97は、例えばヒータ72の電圧及びヒータ72を流れる電流を取得して、取得した電圧及び電流に基づいてヒータ72の抵抗値を算出することができる。CPU97は、例えば3端子法又は4端子法によりヒータ72の抵抗値を算出してもよい。CPU97は、算出したヒータ72の抵抗値が目標抵抗値になるようにヒータ電源78に制御信号を出力して、ヒータ電源78が供給する電力をフィードバック制御する。ヒータ電源78は、ヒータ72に通電するにあたり、例えばヒータ72に印加する電圧の値を変化させることで、ヒータ72に供給する電力を調整する。
続いて、CPU97は、ヒータ制御処理によってヒータ温度が所定温度以上に到達したか否かを判定する(ステップS110)。この所定温度は、上述したヒータ制御処理の目標温度以下の値として予め定められて記憶部98に記憶されている。所定温度は、センサ素子101の固体電解質が活性化して基準ガス調整ポンプセル90による酸素のポンピングが可能になるような温度として予め定めておく。所定温度は目標温度未満の値としてもよい。所定温度は目標温度の80%以上の値や90%以上の値としてもいい。本実施形態では、所定温度は目標温度の90%の値とした。本実施形態では、CPU97は上述したようにヒータ72の温度を表す値として抵抗値を用いるため、ステップS110の判定もヒータ72の抵抗値を用いて行う。
CPU97は、ステップS110で否定判定だった場合には、ステップS110を繰り返し実行して、肯定判定になるまで待つ。すなわちヒータ72の温度が所定温度以上に到達するまで待つ。ステップS110で肯定判定だった場合には、CPU97は、水分判定処理として、以下のステップS120,S130を行う。
水分判定処理では、CPU97は、まず、基準ガス調整ポンプセル90に電圧Vp3を印加して、そのときに流れるポンプ電流Ip3を取得する(ステップS120)。このとき印加する電圧Vp3の値を電圧Vhaと表記し、取得したポンプ電流Ip3の値をポンプ電流Iphと表記する。電圧Vhaは、基準ガス調整ポンプセル90が基準電極42の周囲から外側ポンプ電極23の周囲に酸素を汲み出す方向に印加する。電圧Vhaの値は、図4で説明した限界電流領域の範囲の値としてもよいが、限界電流領域よりも高い電圧とすることが好ましい。電圧Vhaは、例えば0.8V以上とすることが好ましい。電圧Vhaは、1.5V以下としてもよい。本実施形態では、電圧Vhaは1.0Vとした。
続いて、CPU97は、取得したポンプ電流Iphに基づいて、基準電極42の周囲の吸湿状態の判定、具体的には基準電極42の周囲の水分が多いか否かの判定を行う(ステップS130)。本実施形態では、CPU97は、ポンプ電流Iphと基準ガス調整ポンプセル90の限界電流Iplimとの比較に基づいて、この判定を行う。より具体的には、CPU97は、ポンプ電流Iphと限界電流Iplimとの差ΔIが閾値Irefより大きいか否かによって、基準電極42の水分が多いか否かを判定する。基準ガス調整ポンプセル90の限界電流Iplimは、図4で説明した限界電流と同じく、基準ガス調整ポンプセル90が基準電極42の周囲から外側ポンプ電極23の周囲に酸素を汲み出す方向に電圧Vp3を印加したときの限界電流である。本実施形態では、予め実験により測定された基準ガス導入部49の吸湿量が少ない状態のセンサ素子101における限界電流の値(例えば図4の値A1)が、限界電流Iplimとして記憶部98に記憶されているものとした。そのため、CPU97は、ステップS120で取得したポンプ電流Iphと記憶部98に記憶された限界電流Iplimとの差ΔIを算出して、差ΔIが閾値Iref以上か否かを判定する。上述したように基準電極42の周囲の水分が多いほどポンプ電流Iphは大きくなるから、差ΔIも大きくなる。そこで、例えば基準電極42の周囲の水分の量がNOx濃度の検出精度に影響がないとみなせる上限の量である場合の差ΔIの値として閾値Irefを定めておく。例えば図4の例では基準電極42の周囲の水分が多い場合には差ΔI=B2-A1となり、基準電極42の周囲の水分が少ない場合には差ΔI=B1-A1となるから、両者の間の値になるような閾値Irefを定めておく。
ステップS130で肯定判定だった場合、CPU97は、基準電極42の周囲の水分濃度を低下させるように基準ガス調整ポンプセル90を制御する水分濃度低下処理を実行する(ステップS140)。本実施形態の水分濃度低下処理では、CPU97は、基準電極42の周囲から外側ポンプ電極23の周囲に酸素を汲み出す方向の電圧Vp3を基準ガス調整ポンプセル90に印加する。このときの電圧Vp3の値を電圧Vhcと表記する。上述したように、基準電極42の周囲の酸素を汲み出すように電圧Vp3を基準ガス調整ポンプセル90に印加することで、基準電極42の周辺の水分を分解することができるから、これにより基準電極42の周囲の水分濃度を低下させることができる。電圧Vhcの値は、限界電流領域の範囲の値としてもよいし、限界電流領域よりも高い電圧としてもよい。例えば、電圧Vhcは0.3V以上1.5V以下としてもよい。電圧Vhcは、0.8V以上としてもよい。電圧Vhcは、1.0V以下としてもよい。電圧Vhcは、上述した水分判定処理における電圧Vhaと同じ値としてもよい。本実施形態では、電圧Vhcは1.0Vとした。水分濃度低下処理の実行時間は、5秒以上300秒以下とすることが好ましい。
ステップS130で否定判定だった場合、又はステップS140の水分濃度低下処理を実行した後、CPU97は、通常時すなわちNOx濃度を測定する際の制御処理である通常時制御処理を開始する(ステップS150)。具体的には、CPU97は、上述した主ポンプ制御処理,補助ポンプ制御処理,測定用ポンプ制御処理,及び基準ガス調整処理を開始して、本ルーチンを終了する。通常時制御処理を開始した後、CPU97は、例えば所定時間毎にポンプ電流Ip2の値を取得し、取得したポンプ電流Ip2と記憶部98に記憶された対応関係とに基づいて、被測定ガス中のNOx濃度を導出する。CPU97は、導出したNOx濃度の値をエンジンECUに出力したり、記憶部98に記憶したりする。
大気雰囲気中でステップS140の水分濃度低下処理を行った場合の例について、図6を用いて説明する。図6は、ヒータ72の温度がステップS110の所定温度に到達した時を時刻t=0秒とした場合の、時刻tと電圧V2openとの関係を示すグラフである。電圧V2openは、測定電極44及び基準電極42に電流を流す制御を行わない状態すなわち開放状態における電圧V2の値である。図6の実線で示す実施例のグラフは、以下のようにして得た。まず、図4のグラフL2の測定と同様に、基準ガス導入部49の吸湿量の多い状態のガスセンサ100を用意して大気雰囲気中に配置した。そして、ヒータ制御処理を開始し、ヒータ72の温度がステップS110の所定温度に到達したタイミング(時刻t=0)から水分濃度低下処理を開始して図6の時刻t=t1まで実行した。時刻t=0から時刻t=t1までの期間すなわち水分濃度低下処理の実行時間は、5秒以上300秒以下の所定の時間とした。電圧Vhcは1.0Vとした。時刻t=t1以降は、基準ガス調整ポンプセル90を動作させず測定電極44と基準電極42との間は開放状態とした。そして、時刻t=0から0.1秒経過毎に電圧V2openを測定して、図6の実線で示す実施例のグラフを得た。時刻t=0から時刻t=t1の間は、瞬間的に水分濃度低下処理を停止して電圧V2openを測定した。また、基準ガス調整ポンプセル90を全く動作させず測定電極44と基準電極42との間を開放状態にし続けた点以外は実施例と同様の測定を行って、図6の破線で示す比較例のグラフを得た。
図6からわかるように、実施例及び比較例のいずれにおいても、時刻t=0から時間が経過するほど電圧V2openが低下していき、その後に電圧V2openが安定する傾向が確認された。しかし、水分濃度低下処理を行っていない比較例では、実施例と比べて電圧V2openが安定するのが遅かった。また、比較例では電圧V2openが一時的に負の値になっていた。これらは、基準電極42の周囲の水分がヒータ72に加熱されて気体となることで、一時的に基準電極42の周囲の酸素濃度が大気雰囲気の酸素濃度よりも低下しているためと考えられる。このような状態では、基準電極42の電位(基準電位)が不安定であるため、基準電位を基準として測定される電圧V0,V1,V2の値に誤差が生じるから、NOx濃度の検出精度が低下する。これに対し、水分濃度低下処理を行った実施例では、比較例と比べて早期に電圧V2openが安定していた。これは、時刻t=0から時刻t=t1までの間の水分濃度低下処理によって基準電極42の周囲の水分が分解されることで、水分の気化による基準電極42の周囲の酸素濃度の低下が抑制されているためと考えられる。この場合は、基準電位が速やかに安定するため、比較例と比べてNOx濃度の検出精度の低下が抑制される。なお、実施例及び比較例のいずれにおいても、時刻t=0から時間が経過するほど電圧V2openが低下していくのは、電圧V2openに基準電極42と測定電極44との間の熱起電力が含まれており、この熱起電力が時間の経過と共に小さくなっていくためと考えられる。例えば基準電極42及び測定電極44の各々の電極内に温度ばらつきがあると、基準電極42と測定電極44との間の熱起電力が大きくなる。時間の経過と共に各々の電極内の温度が均一化されていくと、熱起電力は小さくなっていく。
ここで、本実施形態の構成要素と本発明の構成要素との対応関係を明らかにする。本実施形態の第1基板層1,第2基板層2,第3基板層3,第1固体電解質層4,スペーサ層5及び第2固体電解質層6が本発明の素子本体に相当し、測定電極44が測定電極に相当し、外側ポンプ電極23が被測定ガス側電極に相当し、基準電極42が基準電極に相当し、基準ガス導入部49が基準ガス導入部に相当し、基準ガス調整ポンプセル90が基準ガス調整ポンプセルに相当し、センサ素子101がセンサ素子に相当し、制御部96が制御部に相当する。また、ヒータ72がヒータに相当し、記憶部98が記憶部に相当する。なお、本実施形態では、制御装置95の動作を説明することにより本発明のガスセンサの制御方法の一例も明らかにしている。
以上詳述した本実施形態のガスセンサ100によれば、水分濃度低下処理において、基準電極42の周囲から外側ポンプ電極23の周囲に酸素の汲み出しが行われる。これにより、基準電極42の周囲の酸素が汲み出されるだけでなく、基準電極42の周囲の水分が分解されて分解により生じた酸素も汲み出される。したがって、基準電極42の周囲の水分濃度を速やかに低下させることができるから、基準電極42の周辺の水分に起因する特定ガス濃度の検出精度の低下を抑制できる。
また、制御装置95は、水分濃度低下処理において基準ガス調整ポンプセル90に0.3V以上1.5V以下の制御電圧(電圧Vhc)を印加して基準ガス調整ポンプセル90を動作させる。電圧Vhcが0.3V以上では、基準ガス調整ポンプセル90をより確実に動作させることができる。電圧Vhcが1.5Vより大きい場合は、センサ素子101の固体電解質内の酸素イオンが欠乏して、固体電解質の電子伝導が発現し、センサ素子101が黒化して使用できなくなる可能性があるが、電圧Vhcが1.5V以下では、センサ素子101の黒化を抑制できる。
さらに、水分濃度低下処理の実行時間を5秒以上とすることで、基準電極42の周囲の水分濃度をより確実に低下させることができる。また、水分濃度低下処理の実行中はポンプ電流Ip3が流れることで基準電極42の電位(基準電位)が変化するため、実行時間は300秒以下が好ましい。
さらにまた、制御装置95は、ヒータ72に通電してヒータ72の温度が所定温度以上に到達した後に、水分濃度低下処理を行う。こうすれば、ヒータ72の温度が上昇してから水分濃度低下処理が行われるため、固体電解質層が活性化して酸素イオン伝導性が発揮される状態で基準ガス調整ポンプセル90を動作させることができる。したがって、水分濃度低下処理を適切なタイミングで実行できる。
そして、制御装置95は、基準電極42の周囲から外側ポンプ電極23の周囲に酸素を汲み出すよう基準ガス調整ポンプセル90を制御したときに基準ガス調整ポンプセル90に流れるポンプ電流Iphに基づいて基準電極42の周囲の水分が多いか否かを判定する水分判定処理を行い、水分が多いと判定した場合に水分濃度低下処理を行う。こうすれば、基準電極42の周囲の水分が多いと判定した場合に水分濃度低下処理を行うから、水分濃度低下処理を適切に行うことができる。
そしてまた、制御装置95は、水分判定処理において、基準ガス調整ポンプセル90の限界電流領域の電圧よりも高い所定の制御電圧(電圧Vha)を外側ポンプ電極23と基準電極42との間に印加したときのポンプ電流Iphに基づいて、基準電極42の周囲の水分が多いか否かを判定する。限界電流領域の電圧よりも高い電圧Vhaを基準ガス調整ポンプセル90に印加すると、基準電極42の周囲の水分が分解されやすいから、基準電極42の周囲の水分の多寡がポンプ電流Iphに影響しやすい。そのため、このような電圧Vhaを印加したときのポンプ電流Iphに基づいて判定を行うことで、基準電極42の周囲の水分が多いか否かをより適切に判定できる。
そしてまた、制御装置95は、水分判定処理において、ポンプ電流Iphと基準ガス調整ポンプセル90の限界電流Iplimとの比較に基づいて、基準電極42の周囲の水分が多いか否かを判定する。限界電流領域の電圧よりも高い電圧Vhaを基準ガス調整ポンプセル90に印加する場合、基準電極42の周囲の水分が多いほどポンプ電流Iphと限界電流Iplimとの相違が大きくなるから、これらを比較することで、基準電極42の周囲の水分が多いか否かをより適切に判定できる。
そしてまた、制御装置95は、水分判定処理において、ポンプ電流Iphと記憶部98に記憶された限界電流Iplimとを比較する。こうすれば、水分判定処理において限界電流Iplimを測定する必要がない。
そしてまた、電圧Vhaが0.8V以上の値であれば、この範囲の電圧を印加したときのポンプ電流Iphが基準電極42の周囲の水分の多寡によって変化しやすいため、水分判定処理を行うのに適している。電圧Vhaが1.5V以下では、センサ素子101の黒化を抑制できる。
なお、本発明は上述した実施形態に何ら限定されることはなく、本発明の技術的範囲に属する限り種々の態様で実施し得ることはいうまでもない。
例えば、上述した実施形態では、水分判定処理において予め記憶部98に記憶された限界電流Iplimを用いたが、これに限られない。例えば、制御装置95は、水分判定処理において、基準ガス調整ポンプセル90に限界電流領域の電圧Vp3を印加して、このとき流れるポンプ電流Ip3を限界電流Iplimとして測定してもよい。このとき印加する電圧Vp3の値を電圧Vhbと表記する。電圧Vhbは、限界電流領域の範囲内の値(例えば図4の例であれば100mV~700mVの範囲内の値)として予め定められていてもよい。あるいは、制御装置95は、水分判定処理において、電圧Vhbの値を徐々に変化させながらポンプ電流Ip3の値を測定し、ポンプ電流Ip3が変化しなくなったとみなせる時の値を限界電流Iplimとして測定してもよい。このように水分判定処理においてポンプ電流Iphだけでなく限界電流Iplimも測定すれば、より精度良く判定を行うことができる。
上述した実施形態では、ポンプ電流Iphと限界電流Iplimとの差に基づいて基準電極42の周囲の水分が多いか否かを判定したが、これに限られない。ポンプ電流Iphと限界電流Iplimとを比較して判定を行えばよく、例えばポンプ電流Iphと限界電流Iplimとの比に基づいて判定してもよい。また、ポンプ電流Iphに基づいて判定を行えばよく、限界電流Iplimは判定に用いなくてもよい。例えば、ポンプ電流Iphと所定の閾値とを比較して、ポンプ電流Iphが閾値を超えていたら基準電極42の周囲の水分が多いと判定してもよい。
上述した実施形態において、水分判定処理を省略してもよい。この場合、例えばステップS110でヒータ72の温度が所定温度以上に到達したら、ステップS140の水分濃度低下処理を実行してもよい。この場合、ヒータ72の温度が所定温度以上に到達した直後に水分濃度低下処理を実行してもよいし、ヒータ72の温度が所定温度以上に到達してから所定時間経過後に水分濃度低下処理を実行してもよい。あるいは、ヒータ72への通電を開始してから所定時間経過後に水分濃度低下処理を実行してもよい。
上述した実施形態の水分濃度低下処理では、制御装置95は基準電極42の周囲から酸素を汲み出すように基準ガス調整ポンプセル90を制御したが、これとは逆に外側ポンプ電極23の周囲から基準電極42の周囲に酸素を汲み入れるように基準ガス調整ポンプセル90を制御してもよい。すなわち、水分濃度低下処理において、水を分解するのではなく、気化した水による酸素濃度の低下を補うように酸素を基準電極42の周囲に汲み入れてもよい。この場合、制御装置95は、水分濃度低下処理において基準ガス調整処理と比べて一時的により多くの酸素を基準電極42の周囲に汲み入れるように基準ガス調整ポンプセル90を制御する。例えば、制御装置95は、図5のS140において基準ガス調整ポンプセル90に印加する電圧Vp3を、S150で開始する基準ガス調整処理において基準ガス調整ポンプセル90に印加する電圧Vp3よりも高い値にする。このように水分濃度低下処理を行うことで、基準電極42の周囲の水分が基準ガス導入部49から外部に抜けるまでの間により多くの酸素を基準電極42の周囲に汲み入れることができるから、基準電極42の周囲の水分に起因する酸素濃度の低下を補うことができる。したがって、例えばステップS110の後に基準ガス調整処理は行うが水分濃度低下処理を行わない場合と比較して、基準電極42の周辺の水分に起因する特定ガス濃度の検出精度の低下を抑制できる。この場合の水分濃度低下処理における電圧Vp3は、0.3V以上1.5V以下としてもよい。また、この場合の水分濃度低下処理における酸素の汲み入れ量は、基準ガス調整処理における酸素の汲み入れ量の2倍以上としてもよく、50倍以下としてもよい。例えば、水分濃度低下処理における電圧Vp3の値を基準ガス調整処理における電圧Vp3の2倍にすることで、汲み入れ量を2倍にすることができる。また、後述するように電圧Vp3が繰り返しオンオフされる電圧である場合は、繰り返しの周期Tとオン時間Tonとの比であるデューティ比(Ton/T)によって汲み入れ量を調整することもできる。例えばデューティ比を2倍にすることで、汲み入れ量を2倍にすることができる。
上述した実施形態の水分濃度低下処理において、制御装置95は、基準電極42の周囲から外側ポンプ電極23の周囲への酸素の汲み出しと、外側ポンプ電極23の周囲から基準電極42の周囲への酸素の汲み入れと、を交互に行うように基準ガス調整ポンプセル90を制御してもよい。基準電極42の周囲から酸素の汲み出しを行うと、水が分解されると共に基準電極42の周囲の酸素も汲み出されるから、一時的に基準電極42の周囲の酸素濃度は低下する。汲み出しと汲み入れとを交互に行うことで、汲み出しにより減少した酸素を汲み入れによって早期に補うことができる。汲み出しと汲み入れとを交互に行う回数は1回としてもよいし、複数回としてもよい。交互に行う回数が1回の場合、すなわち汲み出しと汲み入れとをそれぞれ1回のみ行う場合は、汲み出しを先に行うことが好ましい。汲み入れを行う場合の電圧Vp3は、基準ガス調整処理において基準ガス調整ポンプセル90に印加する電圧Vp3よりも高い値としてもよい。電圧Vp3が直流電圧である場合、電圧の正負を切り替えることで汲み出しと汲み入れとを交互に行ってもよい。電圧Vp3を交流電圧とすることで、汲み出しと汲み入れとが交互に行われるようにしてもよい。
上述した実施形態では、制御装置95はS140の水分濃度低下処理を実行してからS150の通常時制御処理を開始したが、これに限られない。制御装置95は、通常時制御処理を開始した後に、水分濃度低下処理を実行してもよい。この場合、水分濃度低下処理の実行中は一時的に通常時制御処理を停止してもよい。一時的に通常時制御処理を停止する場合は、水分濃度低下処理の実行時間を300秒以下とする意義が高い。また、通常時制御処理を開始した後に水分濃度低下処理を実行する場合であっても、水分濃度低下処理の実行タイミングはセンサ素子101の駆動開始(例えばヒータ72の通電開始)からの経過時間が短いタイミングであるほど好ましい。センサ素子101の駆動が開始されると、ヒータ72の熱により水分が気体となってセンサ素子101の外部に放出され、このときに基準電極42の周囲の酸素濃度が低下する。そのため、このように水分が気体となっていく間に水分濃度低下処理を実行することが好ましい。例えば、センサ素子101の駆動開始から1時間以内に水分濃度低下処理を開始することが好ましい。
上述した実施形態では、電圧Vp3は直流電圧としたが、これに限らずパルス電圧などの繰り返しオンオフされる電圧としてもよい。こうしても、制御装置95が吸湿状態診断処理,水分濃度低下処理,及び基準ガス調整処理を行うことはできる。電圧Vp3が繰り返しオンオフされる電圧である場合、制御装置95は電圧Vp3がオフである期間中(言い換えるとポンプ電流Ip3が流れていない期間中)の電圧V0,V1,V2を測定して通常時制御処理に用いてもよい。こうすることで、水分濃度低下処理の実行中に一時的に通常時制御処理を停止することなく、水分濃度低下処理と通常時制御処理とを並行して行うことができる。
上述した実施形態において、制御装置95は、基準ガス調整処理を行わなくてもよい。
上述した実施形態において、基準ガス導入部49は基準ガス導入空間43と基準ガス導入層48とを備えていたが、基準ガス導入空間43と基準ガス導入層48との少なくとも一方を備えていればよい。基準ガス導入層48は水分を吸着しやすいため、基準ガス導入部49が基準ガス導入層48を備えている場合は本発明の水分濃度低下処理を行う意義が高い。例えば、上述した実施形態において、基準ガス導入部49の代わりに、図7に示す基準ガス導入部249を採用してもよい。基準ガス導入部249は、基準ガス導入空間43を備えておらず、基準ガス導入層48を備えている。図7の基準ガス導入層48は、基準電極42の周囲からセンサ素子101の素子本体の後端面までにわたって配設されている。図7の基準ガス導入層48のうちセンサ素子101の素子本体の後端面に露出する部分が基準ガス導入部249の入口部49aとして機能する。入口部49aは、センサ素子101の外側の空間149内に露出している。
上述した実施形態では、ガスセンサ100のセンサ素子101は第1内部空所20,第2内部空所40,第3内部空所61を備えるものとしたが、これに限られない。例えば、図8に示した変形例のセンサ素子201のように、第3内部空所61を備えないものとしてもよい。図8に示した変形例のセンサ素子201では、第2固体電解質層6の下面と第1固体電解質層4の上面との間には、ガス導入口10と、第1拡散律速部11と、緩衝空間12と、第2拡散律速部13と、第1内部空所20と、第3拡散律速部30と、第2内部空所40とが、この順に連通する態様にて隣接形成されてなる。また、測定電極44は、第2内部空所40内の第1固体電解質層4の上面に配設されている。測定電極44は、第4拡散律速部45によって被覆されてなる。第4拡散律速部45は、アルミナ(Al23)などのセラミックス多孔体にて構成される膜である。第4拡散律速部45は、上述した実施形態の第4拡散律速部60と同様に、測定電極44に流入するNOxの量を制限する役割を担う。また、第4拡散律速部45は、測定電極44の保護膜としても機能する。補助ポンプ電極51の天井電極部51aは、測定電極44の直上まで形成されている。このような構成のセンサ素子201であっても、上述した実施形態と同様に、測定用ポンプセル41によりNOx濃度を検出できる。図8のセンサ素子201では、測定電極44の周囲が測定室として機能することになる。すなわち、測定電極44の周囲が第3内部空所61と同様の役割を果たすことになる。
上述した実施形態において、外側ポンプ電極23を含むセンサ素子101の前側(センサ素子室133に露出する部分)の表面が、アルミナなどのセラミックスからなる多孔質保護層で被覆されていてもよい。
上述した実施形態では、センサ素子101は被測定ガス中のNOx濃度を検出するものとしたが、被測定ガス中の特定ガスの濃度を検出するものであれば、これに限られない。例えば、NOxに限らず他の酸化物濃度を特定ガス濃度としてもよい。特定ガスが酸化物の場合には、上述した実施形態と同様に特定ガスそのものを第3内部空所61で還元したときに酸素が発生するから、測定用ポンプセル41はこの酸素に応じた検出値(例えばポンプ電流Ip2)を取得して特定ガス濃度を検出できる。また、特定ガスがアンモニアなどの非酸化物であってもよい。特定ガスが非酸化物の場合には、特定ガスを酸化物に変換(例えばアンモニアであればNOに変換)することで、変換後のガスが第3内部空所61で還元したときに酸素が発生するから、測定用ポンプセル41はこの酸素に応じた検出値(例えばポンプ電流Ip2)を取得して特定ガス濃度を検出できる。例えば、第1内部空所20の内側ポンプ電極22が触媒として機能することにより、第1内部空所20においてアンモニアをNOに変換できる。
上述した実施形態では、センサ素子101の素子本体は複数の固体電解質層(層1~6)を有する積層体としたが、これに限られない。センサ素子101の素子本体は、酸素イオン伝導性の固体電解質層を少なくとも1つ含んでいればよい。例えば、図2において第2固体電解質層6以外の層1~5は固体電解質層以外の材質からなる構造層(例えばアルミナからなる層)としてもよい。この場合、センサ素子101が有する各電極は第2固体電解質層6に配設されるようにすればよい。例えば、図2の測定電極44は第2固体電解質層6の下面に配設すればよい。また、基準ガス導入空間43を第1固体電解質層4の代わりにスペーサ層5に設け、基準ガス導入層48を第1固体電解質層4と第3基板層3との間に設ける代わりに第2固体電解質層6とスペーサ層5との間に設け、基準電極42を第3内部空所61よりも後方且つ第2固体電解質層6の下面に設ければよい。
上述した実施形態では、外側ポンプ電極23は、主ポンプセル21の一部でありセンサ素子101の外側の被測定ガスに晒される部分に配設された外側主ポンプ電極と、補助ポンプセル50の一部でありセンサ素子101の外側の被測定ガスに晒される部分に配設された外側補助ポンプ電極と、測定用ポンプセル41の一部でありセンサ素子101の外側の被測定ガスに晒される部分に配設された外側測定電極と、基準ガス調整ポンプセル90の一部でありセンサ素子101の外側の被測定ガスに晒される部分に配設された被測定ガス側電極と、を兼ねていたが、これに限られない。外側主ポンプ電極,外側補助ポンプ電極,外側測定電極,及び被測定ガス側電極のうちのいずれか1以上を、外側ポンプ電極23とは別にセンサ素子101の外側に設けてもよい。また、基準ガス調整ポンプセル90の被測定ガス側電極は、被測定ガスと接触するようにセンサ素子101に設けられていればよく、例えばセンサ素子101の外側に限らず内側に配設されていてもよく、より具体的にはセンサ素子101の被測定ガス流通部に配設されていてもよい。例えば、内側ポンプ電極22が主ポンプセル21の電極(内側主ポンプ電極)と基準ガス調整ポンプセル90の被測定ガス側電極とを兼ねており、基準ガス調整ポンプセル90は内側ポンプ電極22の周囲と基準電極42の周囲との間で酸素の汲み入れ又は汲み出しを行ってもよい。
本発明者らは、水分濃度低下処理の電圧Vhc及び実行時間と基準電位が安定するまでの時間との関係を以下のようにして調べた。まず、図1~3を用いて説明した上述した実施形態のセンサ素子101及びガスセンサ100を用意した。このガスセンサ100を温度40℃,湿度85%の恒温恒湿槽に1週間保管して、基準ガス導入層48に水を吸着させた。次に、ガスセンサ100を配管に取り付けた。ベースガスを窒素とし、酸素濃度0%、NO濃度を1500ppmとしたモデルガスを用意し、これを被測定ガスとして配管に流した。この状態で制御装置95によりセンサ素子101を駆動させてヒータ制御処理及び水分濃度低下処理を実行した。水分濃度低下処理は、ヒータ制御処理を開始し、ヒータ72の温度が所定温度に到達したタイミング(時刻t=0)から時刻t=t1まで実行した。水分濃度低下処理は、基準電極42の周囲から酸素を汲み出すように基準ガス調整ポンプセル90を制御することで行った。水分濃度低下処理の終了後は、制御装置95が通常時制御処理を実行して、各ポンプセルの制御や、各センサセルからの各電圧V0,V1,V2,Vrefの取得を継続して行っている状態とした。その後はセンサ素子101の駆動開始(加熱開始)から60分経過後の時刻まで通常時制御処理を継続して、その間のポンプ電流Ip2を継続して測定した。センサ素子101の駆動開始から60分経過後のポンプ電流Ip2の値を基準値(100%)として、センサ素子101の駆動開始から10分経過後のポンプ電流Ip2の値の基準値に対する変化率を算出した。以上の手順での変化率の算出を、水分濃度低下処理の電圧Vhc及び実行時間を表1に示すように種々変更して行い、実験例1~14とした。電圧Vhcは、0.3V~1.5Vの範囲で種々変更した。水分濃度低下処理の実行時間(時刻t=0から時刻t=t1までの時間)は、5秒以上300秒以下の範囲で種々変更した。また、水分濃度低下処理を実行せずに時刻t=0から通常時制御処理を開始した点以外は実験例1~14と同様にしてポンプ電流Ip2の変化率を算出し、実験例15とした。なお、実験例1~15のいずれにおいても、通常時制御処理中は基準ガス調整ポンプセル90については動作させない、すなわち基準ガス調整処理は実行しないようにした。ここで、上述したように基準電極42の周囲に水分が存在するとその水分がヒータ72に加熱されて気体となることで一時的に基準電極42の電位が不安定になる。そのため、基準電極42の電位が安定するまでは、被測定ガスのNOx濃度が一定であってもポンプ電流Ip2が安定しない。そして、ポンプ電流Ip2の変化率が小さいほど、駆動開始から10分経過した時点で基準電極42の周囲の水分が少なくなっており基準電極42の電位が安定していると考えられる。したがって、ポンプ電流Ip2の変化率の大小によってセンサ素子101の駆動開始から基準電極42の電位が安定するまでの時間である安定時間の長短を評価できる。安定時間は短いほど好ましい。そこで、実験例1~15の各々について、算出された変化率が3%以下であった場合には安定時間が非常に短い(「A」)と判定した。算出された変化率が3%超過5%以下であった場合には安定時間が短い(「B」)と判定した。算出された変化率が5%超過であった場合には安定時間が長い(「F」)と判定した。表1に実験例1~15の各々の電圧Vhcと実行時間と安定時間の評価結果とを示す。表1に示すように、水分濃度低下処理を実行した実験例1~14は、水分濃度低下処理を実行しなかった実験例15と比べて安定時間を短くできることが確認された。また、実験例1~14の結果から、水分濃度低下処理の電圧Vhcが大きく実行時間が長いほど安定時間を短くできることが確認された。
Figure 2023089944000002
実験例1~14が本発明の第1のガスセンサの実施例及び本発明の第1のガスセンサの制御方法の実施例に相当し、実験例15が比較例に相当する。なお、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。
本明細書では、出願当初の請求項5において「請求項1~3のいずれか1項に記載のガスセンサ」を「請求項1~4のいずれか1項に記載のガスセンサ」に変更した技術思想や、出願当初の請求項6において「請求項1~3のいずれか1項に記載のガスセンサ」を「請求項1~5のいずれか1項に記載のガスセンサ」に変更した技術思想や、出願当初の請求項7において「請求項1~3のいずれか1項に記載のガスセンサ」を「請求項1~6のいずれか1項に記載のガスセンサ」に変更した技術思想や、出願当初の請求項12において「請求項8に記載のガスセンサ」を「請求項8~11のいずれか1項に記載のガスセンサ」に変更した技術思想や、出願当初の請求項17において「請求項13~15のいずれか1項に記載のガスセンサの制御方法」を「請求項13~16のいずれか1項に記載のガスセンサの制御方法」に変更した技術思想も開示されている。
本発明は、自動車の排気ガスなどの被測定ガスにおけるNOxなどの特定ガスの濃度を検出するガスセンサに利用可能である。
1 第1基板層、2 第2基板層、3 第3基板層、4 第1固体電解質層、5 スペーサ層、6 第2固体電解質層、10 ガス導入口、11 第1拡散律速部、12 緩衝空間、13 第2拡散律速部、20 第1内部空所、21 主ポンプセル、22 内側ポンプ電極、22a 天井電極部、22b 底部電極部、23 外側ポンプ電極、24 可変電源、30 第3拡散律速部、40 第2内部空所、41 測定用ポンプセル、42 基準電極、43 基準ガス導入空間、44 測定電極、45 第4拡散律速部、46 可変電源、48 基準ガス導入層、49,249 基準ガス導入部、49a 入口部、50 補助ポンプセル、51 補助ポンプ電極、51a 天井電極部、51b 底部電極部、52 可変電源、60 第4拡散律速部、61 第3内部空所、70 ヒータ部、71 ヒータコネクタ電極、72 ヒータ、73 スルーホール、74 ヒータ絶縁層、75 圧力放散孔、76 リード線、78 ヒータ電源、80 主ポンプ制御用酸素分圧検出センサセル、81 補助ポンプ制御用酸素分圧検出センサセル、82 測定用ポンプ制御用酸素分圧検出センサセル、83 センサセル、90 基準ガス調整ポンプセル、92 電源回路、95 制御装置、96 制御部、97 CPU、98 記憶部、100 ガスセンサ、101,201 センサ素子、130 保護カバー、131 内側保護カバー、132 外側保護カバー、133 センサ素子室、140 センサ組立体、141 素子封止体、142 主体金具、143 内筒、143a,143b 縮径部、144a~144c セラミックスサポーター、145a,145b 圧粉体、146 メタルリング、147 ボルト、148 外筒、149 空間、150 コネクタ、155 リード線、157 ゴム栓、190 配管、191 固定用部材。

Claims (20)

  1. 被測定ガス中の特定ガス濃度を検出するガスセンサであって、
    酸素イオン伝導性の固体電解質層を含み、前記被測定ガスを導入して流通させる被測定ガス流通部が内部に設けられた素子本体と、
    前記被測定ガス流通部に配設された測定電極と、
    前記被測定ガスと接触するように前記素子本体に設けられた被測定ガス側電極と、
    前記素子本体の内部に配設された基準電極と、
    前記被測定ガス中の前記特定ガス濃度の検出の基準となる基準ガスを前記素子本体の外部から前記基準電極まで流通させる基準ガス導入部と、
    前記被測定ガス側電極と、前記基準電極と、を含んで構成される基準ガス調整ポンプセルと、
    を有するセンサ素子と、
    前記基準電極の周囲から前記被測定ガス側電極の周囲に酸素を汲み出して前記基準電極の周囲の水分濃度を低下させるように前記基準ガス調整ポンプセルを制御する水分濃度低下処理を行う制御部と、
    を備えたガスセンサ。
  2. 前記制御部は、前記水分濃度低下処理において、前記基準電極の周囲から前記被測定ガス側電極の周囲への酸素の汲み出しと、前記被測定ガス側電極の周囲から前記基準電極の周囲への酸素の汲み入れと、を交互に行うように前記基準ガス調整ポンプセルを制御する、
    請求項1に記載のガスセンサ。
  3. 被測定ガス中の特定ガス濃度を検出するガスセンサであって、
    酸素イオン伝導性の固体電解質層を含み、前記被測定ガスを導入して流通させる被測定ガス流通部が内部に設けられた素子本体と、
    前記被測定ガス流通部に配設された測定電極と、
    前記被測定ガスと接触するように前記素子本体に設けられた被測定ガス側電極と、
    前記素子本体の内部に配設された基準電極と、
    前記被測定ガス中の前記特定ガス濃度の検出の基準となる基準ガスを前記素子本体の外部から前記基準電極まで流通させる基準ガス導入部と、
    前記被測定ガス側電極と、前記基準電極と、を含んで構成される基準ガス調整ポンプセルと、
    を有するセンサ素子と、
    前記被測定ガス側電極の周囲から前記基準電極の周囲に酸素を汲み入れて前記基準電極の周囲の酸素濃度を調整するように前記基準ガス調整ポンプセルを制御する基準ガス調整処理と、前記基準ガス調整処理と比べて一時的により多くの酸素を前記基準電極の周囲に汲み入れて前記基準電極の周囲の水分濃度を低下させるように前記基準ガス調整ポンプセルを制御する水分濃度低下処理と、を行う制御部と、
    を備えたガスセンサ。
  4. 前記制御部は、前記水分濃度低下処理において基準ガス調整ポンプセルに0.3V以上1.5V以下の制御電圧を印加して該基準ガス調整ポンプセルを動作させる、
    請求項1~3のいずれか1項に記載のガスセンサ。
  5. 前記水分濃度低下処理の実行時間は5秒以上300秒以下である、
    請求項1~3のいずれか1項に記載のガスセンサ。
  6. 請求項1~3のいずれか1項に記載のガスセンサであって、
    前記素子本体を加熱するヒータ、
    を備え、
    前記制御部は、前記ヒータに通電して該ヒータの温度が所定温度以上に到達した後に、前記水分濃度低下処理を行う、
    ガスセンサ。
  7. 前記制御部は、前記基準電極の周囲から前記被測定ガス側電極の周囲に酸素を汲み出すよう前記基準ガス調整ポンプセルを制御したときに該基準ガス調整ポンプセルに流れるポンプ電流に基づいて前記基準電極の周囲の水分が多いか否かを判定する水分判定処理を行い、水分が多いと判定した場合に前記水分濃度低下処理を行う、
    請求項1~3のいずれか1項に記載のガスセンサ。
  8. 前記制御部は、前記水分判定処理において、前記基準ガス調整ポンプセルの限界電流領域の電圧よりも高い所定の制御電圧を前記被測定ガス側電極と前記基準電極との間に印加したときの前記ポンプ電流に基づいて、前記基準電極の周囲の水分が多いか否かを判定する、
    請求項7に記載のガスセンサ。
  9. 前記制御部は、前記水分判定処理において、前記ポンプ電流と前記基準ガス調整ポンプセルの限界電流との比較に基づいて、前記基準電極の周囲の水分が多いか否かを判定する、
    請求項8に記載のガスセンサ。
  10. 前記制御部は、前記限界電流の値を記憶する記憶部を備え、
    前記制御部は、前記水分判定処理において、前記ポンプ電流と前記記憶部に記憶された限界電流とを比較する、
    請求項9に記載のガスセンサ。
  11. 前記制御部は、前記水分判定処理において、前記ポンプ電流と前記基準ガス調整ポンプセルに前記限界電流領域の電圧を印加して測定した前記限界電流とを比較する、
    請求項9に記載のガスセンサ。
  12. 前記所定の制御電圧は、0.8V以上1.5V以下の電圧である、
    請求項8に記載のガスセンサ。
  13. 被測定ガス中の特定ガス濃度を検出するガスセンサの制御方法であって、
    前記ガスセンサは、
    酸素イオン伝導性の固体電解質層を含み、前記被測定ガスを導入して流通させる被測定ガス流通部が内部に設けられた素子本体と、
    前記被測定ガス流通部に配設された測定電極と、
    前記被測定ガスと接触するように前記素子本体に設けられた被測定ガス側電極と、
    前記素子本体の内部に配設された基準電極と、
    前記被測定ガス中の前記特定ガス濃度の検出の基準となる基準ガスを前記素子本体の外部から前記基準電極まで流通させる基準ガス導入部と、
    前記被測定ガス側電極と、前記基準電極と、を含んで構成される基準ガス調整ポンプセルと、
    を有するセンサ素子、を備え、
    前記基準電極の周囲から前記被測定ガス側電極の周囲に酸素を汲み出して前記基準電極の周囲の水分濃度を低下させるように前記基準ガス調整ポンプセルを制御する水分濃度低下処理、
    を含むガスセンサの制御方法。
  14. 前記水分濃度低下処理において、前記基準電極の周囲から前記被測定ガス側電極の周囲への酸素の汲み出しと、前記被測定ガス側電極の周囲から前記基準電極の周囲への酸素の汲み入れと、を交互に行うように前記基準ガス調整ポンプセルを制御する、
    請求項13に記載のガスセンサの制御方法。
  15. 被測定ガス中の特定ガス濃度を検出するガスセンサの制御方法であって、
    前記ガスセンサは、
    酸素イオン伝導性の固体電解質層を含み、前記被測定ガスを導入して流通させる被測定ガス流通部が内部に設けられた素子本体と、
    前記被測定ガス流通部に配設された測定電極と、
    前記被測定ガスと接触するように前記素子本体に設けられた被測定ガス側電極と、
    前記素子本体の内部に配設された基準電極と、
    前記被測定ガス中の前記特定ガス濃度の検出の基準となる基準ガスを前記素子本体の外部から前記基準電極まで流通させる基準ガス導入部と、
    前記被測定ガス側電極と、前記基準電極と、を含んで構成される基準ガス調整ポンプセルと、
    を有するセンサ素子、を備え、
    前記被測定ガス側電極の周囲から前記基準電極の周囲に酸素を汲み入れて前記基準電極の周囲の酸素濃度を調整するように前記基準ガス調整ポンプセルを制御する基準ガス調整処理と、
    前記基準ガス調整処理と比べて一時的により多くの酸素を前記基準電極の周囲に汲み入れて前記基準電極の周囲の水分濃度を低下させるように前記基準ガス調整ポンプセルを制御する水分濃度低下処理と、
    を含むガスセンサの制御方法。
  16. 請求項13~15のいずれか1項に記載のガスセンサの制御方法であって、
    前記ガスセンサは、前記素子本体を加熱するヒータを備え、
    前記ヒータに通電して該ヒータの温度が所定温度以上に到達した後に、前記水分濃度低下処理を行う、
    ガスセンサの制御方法。
  17. 請求項13~15のいずれか1項に記載のガスセンサの制御方法であって、
    前記基準電極の周囲から前記被測定ガス側電極の周囲に酸素を汲み出すよう前記基準ガス調整ポンプセルを制御したときに該基準ガス調整ポンプセルに流れるポンプ電流に基づいて前記基準電極の周囲の水分が多いか否かを判定する水分判定処理、
    を含み、
    前記水分判定処理で水分が多いと判定された場合に前記水分濃度低下処理を行う、
    ガスセンサの制御方法。
  18. 前記水分判定処理において、前記基準ガス調整ポンプセルの限界電流領域の電圧よりも高い所定の制御電圧を前記被測定ガス側電極と前記基準電極との間に印加したときの前記ポンプ電流に基づいて、前記基準電極の周囲の水分が多いか否かを判定する、
    請求項17に記載のガスセンサの制御方法。
  19. 前記水分判定処理において、前記ポンプ電流と前記基準ガス調整ポンプセルの限界電流との比較に基づいて、前記基準電極の周囲の水分が多いか否かを判定する、
    請求項18に記載のガスセンサの制御方法。
  20. 請求項19に記載のガスセンサの制御方法であって、
    前記ガスセンサは、前記限界電流の値を記憶する記憶部を備え、
    前記水分判定処理において、前記ポンプ電流と前記記憶部に記憶された限界電流とを比較する、
    ガスセンサの制御方法。
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