WO2023248799A1 - ガスセンサ - Google Patents

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WO2023248799A1
WO2023248799A1 PCT/JP2023/021170 JP2023021170W WO2023248799A1 WO 2023248799 A1 WO2023248799 A1 WO 2023248799A1 JP 2023021170 W JP2023021170 W JP 2023021170W WO 2023248799 A1 WO2023248799 A1 WO 2023248799A1
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WO
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oxygen
electrode
pump
gas chamber
reference gas
Prior art date
Application number
PCT/JP2023/021170
Other languages
English (en)
French (fr)
Inventor
悠介 渡邉
Original Assignee
日本碍子株式会社
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
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    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N27/00Investigating or analysing materials by the use of electric, electrochemical, or magnetic means
    • G01N27/26Investigating or analysing materials by the use of electric, electrochemical, or magnetic means by investigating electrochemical variables; by using electrolysis or electrophoresis
    • G01N27/416Systems

Definitions

  • the present invention relates to a gas sensor that detects a gas to be measured in a gas to be measured.
  • Gas sensors are used to detect and measure the concentration of target gas components (oxygen O2 , nitrogen oxides NOx, ammonia NH3 , hydrocarbons HC, carbon dioxide CO2 , etc.) in gases to be measured such as automobile exhaust gas. It is used.
  • a gas sensor equipped with a sensor element using an oxygen ion conductive solid electrolyte such as zirconia (ZrO 2 ) is known (for example, Japanese Patent Application Publication No. 2021-156647, WO2020/004356). Public bulletin).
  • Japanese Patent Laid-Open No. 2021-156647 discloses a measurement gas distribution section that introduces and distributes a measurement gas, and a measurement gas distribution section that stores a reference gas (for example, atmospheric air) that serves as a reference for detecting a specific gas concentration in the measurement gas.
  • a sensor element is disclosed that includes an element body provided with a reference gas chamber for storing the sensor, and a reference electrode disposed in the reference gas chamber. Further, it is disclosed that the reference gas chamber is independently provided inside the element body.
  • the oxygen concentration in the gas to be measured is known, for example, as described in Japanese Patent Application Laid-open No. 2021-156647, a reference electrode and an outer side of the sensor element provided at the part exposed to the gas to be measured are used. Due to the potential difference between the pump electrode and the pump electrode, the oxygen concentration in the reference gas can be checked and adjusted if necessary.
  • the gas to be measured is exhaust gas from an automobile or the like, the oxygen concentration is known since the gas to be measured is in the atmospheric atmosphere at the time of fuel cut.
  • the oxygen concentration in the reference gas chamber is checked using the method described above, except at specific times when the oxygen concentration is known, such as during the fuel cut. It is not possible. Therefore, even if the oxygen concentration in the reference gas changes, the change cannot be detected until the oxygen concentration reaches a known specific timing, and the detection accuracy of the target gas in the measured gas decreases. There is a risk that it will happen.
  • an object of the present invention is to provide a gas sensor that can suppress a decrease in detection accuracy of a gas to be measured in a gas to be measured and maintain high detection accuracy.
  • the present inventor has devised a method for correcting the deviation in the oxygen concentration in the reference gas at any timing during use of the gas sensor, not only when the oxygen concentration in the gas to be measured is known, but also regardless of the oxygen concentration. It was investigated.
  • WO2020/004356 discloses an oxygen pumping method in which oxygen is pumped around the reference electrode by passing a current between a reference electrode and a measured gas side electrode provided in a part exposed to the measured gas. It is disclosed to perform input control. In order to suppress a decrease in the detection accuracy of the gas to be measured in the gas to be measured, a first base is provided between the reference electrode and the gas-to-be-measured electrode when the oxygen pumping control is not executed. Correcting the specific gas concentration of the measured gas based on a difference between a voltage and a second base voltage between the reference electrode and the measured gas side electrode when the oxygen pumping control is executed. Disclosed. However, this correction is performed according to the amount of change in resistance of the reference electrode due to deterioration over time, and is not corrected by detecting a change in oxygen concentration in the reference gas around the reference electrode.
  • the inventor of the present invention has determined that the oxygen in the reference gas chamber is pumped out to substantially eliminate the oxygen in the reference gas chamber, and then the oxygen concentration in the reference gas in the reference gas chamber becomes a predetermined concentration. It has been found that the oxygen concentration in the reference gas can be brought to the predetermined concentration by performing a refresh process in which oxygen is pumped into the reference gas chamber. It has been found that by performing the refresh process, the oxygen concentration in the reference gas around the reference electrode can be brought back to the predetermined concentration at any timing during use of the gas sensor.
  • the present invention includes the following inventions.
  • a gas sensor including a sensor element and a control device that controls the sensor element
  • the sensor element is a long plate-shaped base including an oxygen ion conductive solid electrolyte layer; a gas distribution space to be measured, which is formed from one end in the longitudinal direction of the base portion, and through which the gas to be measured is introduced and circulated; a reference gas chamber formed inside the base body, separated from the gas flow space to be measured and closed inside the base body; a reference electrode disposed in the reference gas chamber; a pump electrode disposed at a position different from the reference gas chamber; including;
  • the control device includes: a storage unit that stores in advance a required amount of oxygen that should be present in the reference gas chamber when the oxygen concentration in the reference gas in the reference gas chamber is a predetermined concentration; A current is passed between the pump electrode and the reference electrode to pump out the oxygen present in the reference gas chamber from the reference gas chamber, and then the required amount of oxygen stored in advance in the storage section is pumped out.
  • a processing unit that performs a refresh process to
  • the storage unit stores information between the pump electrode and the reference electrode as the required amount of oxygen when passing a current between the pump electrode and the reference electrode to move the required amount of oxygen.
  • the processing unit pumps out oxygen present in the reference gas chamber from the reference gas chamber, and then, the integral value of the current flowing between the pump electrode and the reference electrode is set to the required current integral value.
  • the storage unit stores in advance, as the required amount of oxygen, the time required to transfer the required amount of oxygen by flowing a predetermined current between the pump electrode and the reference electrode, In the refresh process, the processing section pumps out oxygen present in the reference gas chamber from the reference gas chamber, and then causes the predetermined current to flow between the pump electrode and the reference electrode for the required time.
  • the storage unit stores in advance, as the required amount of oxygen, a required current value when a current is passed between the pump electrode and the reference electrode for a predetermined period of time to move the required amount of oxygen;
  • the processing section pumps out oxygen present in the reference gas chamber from the reference gas chamber, and then causes the required current value to flow between the pump electrode and the reference electrode for the predetermined time.
  • the processing unit applies a predetermined voltage between the pump electrode and the reference electrode to flow a current into the reference gas chamber until the current becomes equal to or less than a predetermined value.
  • the gas sensor according to any one of (1) to (4) above, wherein existing oxygen is pumped out from the reference gas chamber.
  • the processing unit applies a predetermined voltage between the pump electrode and the reference electrode to flow a current, and the amount of change in the current per time becomes equal to or less than a predetermined value.
  • the gas sensor according to any one of (1) to (4) above, wherein the oxygen present in the reference gas chamber is pumped out from the reference gas chamber.
  • a method for controlling a gas sensor including a sensor element and a control device that controls the sensor element
  • the sensor element is a long plate-shaped base including an oxygen ion conductive solid electrolyte layer; a gas-to-be-measured flow space formed from one end in the longitudinal direction of the base portion, through which the gas to be measured is introduced and circulated; a reference gas chamber formed inside the base body, separated from the gas flow space to be measured and closed inside the base body; a reference electrode disposed in the reference gas chamber; a pump electrode disposed at a position different from the reference gas chamber; including;
  • the control device includes: a storage unit that stores in advance a required amount of oxygen that should be present in the reference gas chamber when the oxygen concentration in the reference gas in the reference gas chamber is a predetermined concentration; A current is passed between the pump electrode and the reference electrode to pump out the oxygen present in the reference gas chamber from the reference gas chamber, and then pump out the required amount of oxygen stored in advance in the storage unit.
  • a processing unit that performs a refresh process to pump the reference gas into the reference gas chamber; including;
  • the control method includes: The processing section causes a current to flow between the pump electrode and the reference electrode to pump out oxygen present in the reference gas chamber from the reference gas chamber, and then the processing section causes the storage section to perform a process in which the storage section stores information in advance.
  • the amount of oxygen in the reference gas surrounding the reference electrode can be measured at any timing during use of the gas sensor, regardless of the oxygen concentration, not only when the oxygen concentration in the gas to be measured is known.
  • the oxygen concentration can be set to a predetermined concentration. As a result, it is possible to suppress a decrease in detection accuracy of the gas to be measured and maintain high detection accuracy.
  • FIG. 1 is a schematic vertical cross-sectional view showing an example of a schematic configuration of a gas sensor 100.
  • FIG. 1 is a vertical cross-sectional view in the longitudinal direction of a sensor element 101, showing an example of a schematic configuration of a gas sensor 100.
  • FIG. 7 is a block diagram showing an example of the electrical connection relationship between the control device 90 and each pump cell 21, 50, 41, 84 and each sensor cell 80, 81, 82, 83 of the sensor element 101.
  • FIG. FIG. 3 is a schematic diagram showing an example of a temporal change in pump current Ip3 when pumping oxygen from a reference gas chamber 43.
  • FIG. 3 is a flowchart illustrating an example of refresh processing.
  • FIG. 1 is a schematic vertical cross-sectional view showing an example of a schematic configuration of a gas sensor 100.
  • FIG. 1 is a vertical cross-sectional view in the longitudinal direction of a sensor element 101, showing an example of a schematic configuration of a gas sensor 100.
  • FIG. 6 is a schematic diagram showing an example of a temporal change in the pump current Ip3 during the oxygen pumping process (step S11 in FIG. 5) in the refresh process.
  • 3 is a flowchart showing a specific example of refresh processing.
  • 7 is a flowchart showing another specific example of refresh processing.
  • FIG. 7 is a schematic vertical cross-sectional view in the longitudinal direction of a sensor element 201 according to a modification.
  • FIG. 7 is a schematic vertical cross-sectional view in the longitudinal direction of a sensor element 301 according to a modified example.
  • 3 is a graph showing the results of a stability investigation of NOx output in Example 1 and Comparative Example 1.
  • the gas sensor of the present invention includes a sensor element and a control device that controls the sensor element.
  • the sensor element included in the gas sensor of the present invention is a long plate-shaped base including an oxygen ion conductive solid electrolyte layer; a gas-to-be-measured flow space formed from one end in the longitudinal direction of the base portion, through which the gas to be measured is introduced and circulated; a reference gas chamber formed inside the base body, separated from the gas flow space to be measured and closed inside the base body; a reference electrode disposed in the reference gas chamber; a pump electrode disposed at a position different from the reference gas chamber; including.
  • the control device included in the gas sensor of the present invention is a storage unit that stores in advance a required amount of oxygen that should be present in the reference gas chamber when the oxygen concentration in the reference gas in the reference gas chamber is a predetermined concentration; A current is passed between the pump electrode and the reference electrode to pump out the oxygen present in the reference gas chamber from the reference gas chamber, and then pump out the required amount of oxygen stored in advance in the storage unit.
  • a processing unit that performs a refresh process to pump the reference gas into the reference gas chamber; including.
  • FIG. 1 is a schematic vertical cross-sectional view showing an example of a schematic configuration of a gas sensor 100 that is an embodiment of the present invention.
  • FIG. 2 is a schematic vertical cross-sectional view of the sensor element 101 in the longitudinal direction, showing an example of a schematic configuration of the gas sensor 100.
  • FIG. 3 is a block diagram showing an example of the electrical connection relationship between the control device 90 and the sensor element 101.
  • the upper and lower sides refer to the upper side in FIG. 2 as the upper side, the lower side as the lower side, the left side in FIG. 2 as the leading end side, and the right side as the rear end side.
  • FIG. 2 the upper and lower sides refer to the upper side in FIG. 2 as the upper side, the lower side as the lower side, the left side in FIG. 2 as the leading end side, and the right side as the rear end side.
  • FIG. 1 in correspondence with FIG. 2, the left side of FIG. 1 is the top, the right side is the bottom, the bottom is the front end side, and the top side is the rear end side.
  • the structure of the gas sensor as shown in FIG. 1 is well known, and is described in, for example, Japanese Patent Application Publication No. 2021-156647 and WO2020/004356.
  • the gas sensor 100 includes a sensor element 101, a protective cover 130 that protects the tip side of the sensor element 101, and a sensor assembly 140 that includes a connector 150 that is electrically connected to the sensor element 101.
  • this gas sensor 100 is attached to a pipe 190 such as an exhaust gas pipe of a vehicle, and measures the concentration of target gases such as NOx, NH 3 and O 2 contained in exhaust gas as a target gas. used for In this embodiment, the gas sensor 100 measures NOx concentration as the gas to be measured.
  • the protective cover 130 includes a bottomed cylindrical inner protective cover 131 that covers the tip of the sensor element 101 and a bottomed cylindrical outer protective cover 132 that covers the inner protective cover 131.
  • a plurality of holes 134 are formed in the inner protective cover 131 and the outer protective cover 132 to allow the gas to be measured to flow into the protective cover 130.
  • a sensor element chamber 133 is formed as a space surrounded by the inner protective cover 131, and the tip of the sensor element 101 is disposed within this sensor element chamber 133.
  • the sensor assembly 140 includes an element sealing body 141 that encloses and fixes the sensor element 101, a nut 147 and an outer cylinder 148 attached to the element sealing body 141, and a rear end surface (upper and lower surface) of the sensor element 101. It is provided with a connector 150 that is in contact with and electrically connected to a formed connector electrode (not shown) (only a heater connector electrode 71 described later is shown in FIG. 2).
  • the element sealing body 141 includes a cylindrical metal shell 142, a cylindrical inner cylinder 143 coaxially fixed to the metal shell 142 by welding, and a through hole inside the metal shell 142 and the inner cylinder 143. It includes ceramic supporters 144a to 144c, powder compacts 145a and 145b, and a metal ring 146.
  • the sensor element 101 is located on the central axis of the element sealing body 141, and passes through the element sealing body 141 in the front-rear direction.
  • the inner cylinder 143 has a reduced diameter part 143a for pressing the powder compact 145b in the direction of the center axis of the inner cylinder 143, and a metal ring 146 that pushes the ceramic supports 144a to 144c and the powder compacts 145a and 145b forward.
  • a reduced diameter portion 143b for pressing is formed.
  • the powder compacts 145a, 145b are compressed between the metal shell 142, the inner cylinder 143, and the sensor element 101 due to the pressing force from the reduced diameter portions 143a, 143b, so that the compacts 145a, 145b are compressed by the protective cover 130.
  • the space between the inner sensor element chamber 133 and the space 149 in the outer cylinder 148 is sealed, and the sensor element 101 is fixed.
  • the nut 147 is fixed coaxially to the metal shell 142, and has a male threaded portion formed on its outer peripheral surface.
  • the male threaded portion of the nut 147 is inserted into a fixing member 191 that is welded to the pipe 190 and has a female threaded portion on its inner peripheral surface.
  • the outer cylinder 148 covers the inner cylinder 143, the sensor element 101, and the connector 150, and a plurality of lead wires 155 connected to the connector 150 are drawn out from the rear end.
  • This lead wire 155 is electrically connected to each electrode (described later) of the sensor element 101 via the connector 150.
  • a gap between the outer cylinder 148 and the lead wire 155 is sealed with a rubber stopper 157.
  • a space 149 within the outer cylinder 148 is filled with atmosphere. The rear end of the sensor element 101 is arranged within this space 149.
  • the sensor element 101 is an elongated plate-like element including a base portion 102 having a structure in which a plurality of oxygen ion conductive solid electrolyte layers are stacked.
  • the long plate shape is also referred to as a long plate shape or a band shape.
  • the base portion 102 includes a first substrate layer 1, a second substrate layer 2, a third substrate layer 3, and a first solid electrolyte layer 4, each of which is made of an oxygen ion conductive solid electrolyte layer such as zirconia (ZrO 2 ). It has a structure in which six layers, ie, a spacer layer 5, and a second solid electrolyte layer 6, are stacked in this order from the bottom in the drawing.
  • the solid electrolyte forming these six layers is dense and airtight.
  • the six layers may all have the same thickness, or each layer may have a different thickness.
  • Each layer is bonded via an adhesive layer made of a solid electrolyte, and the base portion 102 includes the adhesive layer.
  • FIG. 2 a layered structure consisting of the six layers is illustrated, but the layered structure in the present invention is not limited to this, and may have any number of layers and any layered structure.
  • Such a sensor element 101 is manufactured by, for example, performing predetermined processing and printing a circuit pattern on ceramic green sheets corresponding to each layer, laminating them, and then firing them to integrate them.
  • a gas inlet 10 is provided at one longitudinal end of the sensor element 101 (hereinafter referred to as the tip) between the lower surface of the second solid electrolyte layer 6 and the upper surface of the first solid electrolyte layer 4. It is formed.
  • the measured gas flow space 15, that is, the measured gas flow section includes, in the longitudinal direction from the gas inlet 10, a first diffusion-limiting section 11, a buffer space 12, a second diffusion-limiting section 13, and a first internal space.
  • the space 20, the third diffusion-limiting section 30, the second internal space 40, the fourth diffusion-limiting section 60, and the third internal space 61 are formed in such a manner that they communicate with each other in this order.
  • the gas inlet 10, the buffer space 12, the first internal cavity 20, the second internal cavity 40, and the third internal cavity 61 are formed by hollowing out the upper part of the spacer layer 5.
  • This is a space inside the sensor element 101 that is defined by the lower surface of the second solid electrolyte layer 6, the lower part by the upper surface of the first solid electrolyte layer 4, and the side parts by the side surfaces of the spacer layer 5.
  • the first diffusion-limiting section 11, the second diffusion-limiting section 13, and the third diffusion-limiting section 30 each have two horizontally long slits (in FIG. 2, the opening has a longitudinal direction in a direction perpendicular to the drawing). It is established as The first diffusion-limiting section 11, the second diffusion-limiting section 13, and the third diffusion-limiting section 30 may all have a form that provides a desired diffusion resistance, and the form is limited to the slit. isn't it.
  • the fourth diffusion-limiting section 60 is provided between the spacer layer 5 and the second solid electrolyte layer 6 as a horizontally long slit (the opening has a longitudinal direction in a direction perpendicular to the drawing in FIG. 2).
  • the fourth diffusion rate controlling section 60 may have any form as long as it provides a desired diffusion resistance, and its form is not limited to the slit.
  • a reference gas chamber 43 is provided between the lower surface of the spacer layer 5 and the upper surface of the third substrate layer 3.
  • the reference gas chamber 43 is a space inside the sensor element 101 provided by hollowing out the first solid electrolyte layer 4 .
  • the reference gas chamber 43 is formed inside the base portion 102 and separated from the gas flow space 15 to be measured.
  • the reference gas chamber 43 is a space closed inside the base portion 102.
  • the reference gas chamber 43 is an area for storing a reference gas that serves as a reference when measuring the NOx concentration.
  • the reference gas is a gas with a predetermined oxygen concentration, and in this embodiment, it is the atmosphere or a gas with the same oxygen concentration as the atmosphere (for example, a gas containing oxygen using nitrogen as a base gas).
  • a reference electrode 42 is provided in the reference gas chamber 43 .
  • the reference electrode 42 is an electrode disposed on the upper surface of the third substrate layer 3 within the reference gas chamber 43 . Further, as described later, the oxygen concentration (oxygen partial pressure) in the first internal space 20, the second internal space 40, and the third internal space 61 can be measured using the reference electrode 42. It is possible.
  • the reference electrode 42 is formed as a porous cermet electrode (for example, a cermet electrode of Pt and ZrO 2 ).
  • the gas introduction port 10 is a part that is open to the external space, and the measurement target gas is taken into the sensor element 101 from the external space through the gas introduction port 10. It has become.
  • the gas to be measured flow space 15 has a form in which the gas to be measured is introduced from the gas inlet 10 opened at the front end surface of the sensor element 101, but the present invention is limited to this form. It's not a thing.
  • the recess of the gas introduction port 10 may not exist in the gas flow space 15 to be measured.
  • the first diffusion rate controlling section 11 essentially becomes a gas introduction port.
  • the gas distribution space 15 to be measured has an opening on a side surface along the longitudinal direction of the base body 102 that communicates with the buffer space 12 or a position near the buffer space 12 of the first internal space 20. It may be a form. In this case, the gas to be measured is introduced from the longitudinal side of the base portion 102 through the opening.
  • the gas to be measured distribution space 15 may be configured such that the gas to be measured is introduced through a porous body.
  • the first diffusion rate controlling part 11 is a part that imparts a predetermined diffusion resistance to the gas to be measured taken in from the gas inlet 10.
  • the buffer space 12 is a space provided to guide the gas to be measured introduced from the first diffusion control section 11 to the second diffusion control section 13.
  • the second diffusion rate controlling part 13 is a part that imparts a predetermined diffusion resistance to the gas to be measured introduced from the buffer space 12 into the first internal space 20.
  • the amount of gas to be measured introduced into the first internal cavity 20 only needs to be within a predetermined range. That is, it is sufficient that a predetermined diffusion resistance is applied to the entire second diffusion rate controlling section 13 from the tip of the sensor element 101.
  • the first diffusion-limiting section 11 may directly communicate with the first internal space 20, that is, the buffer space 12 and the second diffusion-limiting section 13 may not exist.
  • the buffer space 12 is a space provided to alleviate the influence of the pressure fluctuation on the detected value when the pressure of the gas to be measured fluctuates.
  • the gas to be measured When the gas to be measured is introduced from the outside of the sensor element 101 into the first internal space 20, the pressure fluctuation of the gas to be measured in the external space (if the gas to be measured is exhaust gas from a car, the pulsation of the exhaust pressure) ), the gas to be measured is rapidly taken into the sensor element 101 from the gas inlet 10, and is not directly introduced into the first internal space 20, but through the first diffusion-limiting section 11, the buffer space 12, and the second After the pressure fluctuations of the gas to be measured are canceled out through the diffusion control section 13, the gas is introduced into the first internal cavity 20. As a result, the pressure fluctuation of the gas to be measured introduced into the first internal space 20 becomes almost negligible.
  • the first internal cavity 20 is provided as a space for adjusting the partial pressure of oxygen in the gas to be measured introduced through the second diffusion controlling section 13.
  • the oxygen partial pressure is adjusted by operating the main pump cell 21.
  • the main pump cell 21 includes an inner main pump electrode 22 having a ceiling electrode portion 22a provided on almost the entire lower surface of the second solid electrolyte layer 6 facing the first internal cavity 20, and an upper surface of the second solid electrolyte layer 6. an outer pump electrode 23 provided in a region corresponding to the ceiling electrode portion 22a in a manner exposed to the external space (sensor element chamber 133 in FIG. 1); and a second solid electrolyte layer 6 sandwiched between these electrodes.
  • the inner main pump electrode 22 is arranged facing the first inner cavity 20. That is, the inner main pump electrode 22 straddles the upper and lower solid electrolyte layers (second solid electrolyte layer 6 and first solid electrolyte layer 4) that partition the first internal cavity 20 and the spacer layer 5 that provides the sidewall. It is formed. Specifically, a ceiling electrode portion 22a is formed on the lower surface of the second solid electrolyte layer 6 that provides the ceiling surface of the first internal space 20, and a bottom electrode portion 22a is formed on the upper surface of the first solid electrolyte layer 4 that provides the bottom surface.
  • the electrode portion 22b is formed, and the spacer layer has side electrode portions (not shown) forming both side walls of the first internal cavity 20 so as to connect the ceiling electrode portion 22a and the bottom electrode portion 22b. 5, and is arranged in a tunnel-shaped structure at the location where the side electrode portion is provided.
  • the inner main pump electrode 22 and the outer pump electrode 23 are formed as porous cermet electrodes (for example, cermet electrodes of Pt and ZrO 2 containing 1% Au). Note that the inner main pump electrode 22 that comes into contact with the gas to be measured is formed using a material that has a weakened ability to reduce NOx components in the gas to be measured.
  • a desired pump voltage Vp0 is applied between the inner main pump electrode 22 and the outer pump electrode 23 by the variable power supply 24, and the positive direction is applied between the inner main pump electrode 22 and the outer pump electrode 23.
  • the pump current Ip0 in the negative direction it is possible to pump the oxygen in the first internal space 20 to the external space, or to pump the oxygen in the external space into the first internal space 20. .
  • the inner main pump electrode 22 in order to detect the oxygen concentration (oxygen partial pressure) in the atmosphere in the first internal space 20, the inner main pump electrode 22, the second solid electrolyte layer 6, the spacer layer 5, and the first solid electrolyte layer 4, the third substrate layer 3, and the reference electrode 42 constitute an electrochemical sensor cell, that is, an oxygen partial pressure detection sensor cell 80 for controlling the main pump.
  • the oxygen concentration (oxygen partial pressure) in the first internal space 20 can be determined. Further, the pump current Ip0 is controlled by feedback controlling the pump voltage Vp0 so that the voltage V0 is constant. Thereby, the oxygen concentration within the first internal cavity 20 can be maintained at a predetermined constant value.
  • the third diffusion rate controlling section 30 applies a predetermined diffusion resistance to the gas to be measured, the oxygen concentration (oxygen partial pressure) of which is controlled by the operation of the main pump cell 21 in the first internal space 20, to control the gas to be measured. This is the part that leads to the second internal cavity 40.
  • the second internal cavity 40 is provided as a space for more precisely adjusting the oxygen partial pressure in the gas to be measured introduced through the third diffusion control section 30.
  • the oxygen partial pressure is adjusted by operating the auxiliary pump cell 50.
  • an auxiliary pump cell 50 In the second internal space 40, after the oxygen concentration (oxygen partial pressure) has been adjusted in advance in the first internal space 20, an auxiliary pump cell 50 The oxygen partial pressure is adjusted by Thereby, the oxygen concentration in the second internal cavity 40 can be kept constant with high precision, so that the gas sensor 100 can measure the NOx concentration with high precision.
  • the auxiliary pump cell 50 includes an auxiliary pump electrode 51 having a ceiling electrode portion 51a provided on substantially the entire lower surface of the second solid electrolyte layer 6 facing the second internal cavity 40, and an outer pump electrode 23 (outer pump electrode 23).
  • An auxiliary electrochemical device consisting of a second solid electrolyte layer 6 and a suitable electrode disposed at a position different from the gas flow space 15 to be measured is sufficient. This is a pump cell.
  • the auxiliary pump electrode 51 is located on the inner surface of the gas flow space 15 to be measured at a position farther from the one end (tip end) of the base portion 102 (sensor element 101) in the longitudinal direction than the inner main pump electrode 22. It is located in
  • the auxiliary pump electrode 51 is arranged in the second internal cavity 40 in a tunnel-shaped structure similar to the inner main pump electrode 22 provided in the first internal cavity 20 described above. That is, the ceiling electrode portion 51a is formed on the second solid electrolyte layer 6 that provides the ceiling surface of the second internal space 40, and the first solid electrolyte layer 4 that provides the bottom surface of the second internal space 40 is formed with the ceiling electrode portion 51a. , a bottom electrode portion 51b is formed, and a side electrode portion (not shown) connecting the ceiling electrode portion 51a and the bottom electrode portion 51b is formed on the spacer layer 5 that provides the side wall of the second internal cavity 40. It has a tunnel-like structure with separate walls formed on both sides.
  • the auxiliary pump electrode 51 is also formed using a material that has a weakened ability to reduce NOx components in the gas to be measured.
  • auxiliary pump cell 50 by applying a desired pump voltage Vp1 between the auxiliary pump electrode 51 and the outer pump electrode 23 by the variable power supply 52, oxygen in the atmosphere in the second internal space 40 is transferred to the external space. It is possible to pump it out or pump it into the second internal cavity 40 from the external space.
  • an auxiliary pump electrode 51, a reference electrode 42, a second solid electrolyte layer 6, a spacer layer 5, a first solid electrolyte constitute an electrochemical sensor cell, that is, an oxygen partial pressure detection sensor cell 81 for controlling the auxiliary pump.
  • the auxiliary pump cell 50 performs pumping using a variable power source 52 whose voltage is controlled based on the electromotive force (voltage V1) detected by the oxygen partial pressure detection sensor cell 81 for controlling the auxiliary pump.
  • V1 electromotive force
  • the pump current Ip1 is used to control the voltage V0 of the oxygen partial pressure detection sensor cell 80 for controlling the main pump. Specifically, the pump current Ip1 is input as a control signal to the oxygen partial pressure detection sensor cell 80 for controlling the main pump, and the voltage V0 is controlled, so that the pump current Ip1 is inputted as a control signal to the oxygen partial pressure detection sensor cell 80 for controlling the main pump.
  • the gradient of oxygen partial pressure in the gas to be measured introduced into the chamber is controlled to be always constant.
  • the main pump cell 21 and the auxiliary pump cell 50 work together to maintain the oxygen concentration within the second internal space 40 at a constant value of approximately 0.001 ppm.
  • the fourth diffusion rate controlling unit 60 imparts a predetermined diffusion resistance to the gas to be measured whose oxygen concentration (oxygen partial pressure) has been controlled to be lower by the operation of the auxiliary pump cell 50 in the second internal space 40. This is a part that guides gas to the third internal cavity 61.
  • the third internal space 61 is provided as a space for measuring the concentration of nitrogen oxides (NOx) in the gas to be measured introduced through the fourth diffusion control section 60.
  • the NOx concentration is measured by the operation of the measuring pump cell 41.
  • the measurement pump cell 41 measures the NOx concentration in the gas to be measured within the third internal space 61.
  • the measurement pump cell includes an inner measurement electrode (measurement electrode 44 in this embodiment) disposed within the measurement gas distribution space 15 (on the inner surface of the measurement gas distribution space 15), and the base portion. includes an outer measurement electrode (in this embodiment, the outer pump electrode 23) corresponding to the inner measurement electrode, which is disposed at a different position from the gas flow space 15 to be measured.
  • the measurement pump cell 41 includes a measurement electrode 44 provided on the upper surface of the first solid electrolyte layer 4 facing the third internal cavity 61, and an outer pump electrode 23 (limited to the outer pump electrode 23). (It is sufficient to use an appropriate electrode disposed at a position different from the gas flow space 15 to be measured.), the second solid electrolyte layer 6, the spacer layer 5, and the first solid electrolyte layer 4.
  • This is an electrochemical pump cell composed of
  • the measurement electrode 44 is located at one end of the inner surface of the gas distribution space 15 to be measured in the longitudinal direction of the base portion 102 (sensor element 101) than the inner main pump electrode 22 and the auxiliary pump electrode 51. (tip).
  • the measurement electrode 44 is a porous cermet electrode.
  • the measurement electrode 44 also functions as a NOx reduction catalyst that reduces NOx present in the atmosphere within the third internal cavity 61.
  • the measurement electrode 44 is a porous cermet electrode made of Pt, Rh, and ZrO 2 .
  • an electrochemical sensor cell is formed by the first solid electrolyte layer 4, the third substrate layer 3, the measurement electrode 44, and the reference electrode 42.
  • An oxygen partial pressure detection sensor cell 82 for controlling the measurement pump is configured.
  • the variable power supply 46 is controlled based on the electromotive force (voltage V2) detected by the oxygen partial pressure detection sensor cell 82 for controlling the measuring pump.
  • the gas to be measured guided into the second internal space 40 reaches the measurement electrode 44 within the third internal space 61 through the fourth diffusion control section 60 under a condition where the oxygen partial pressure is controlled.
  • Nitrogen oxides in the gas to be measured around the measurement electrode 44 are reduced (2NO ⁇ N 2 +O 2 ) to generate oxygen.
  • the generated oxygen is pumped by the measurement pump cell 41, but at this time, the variable power supply 46 is used to keep the voltage V2 detected by the measurement pump control oxygen partial pressure detection sensor cell 82 constant.
  • the pump voltage Vp2 of is controlled. Since the amount of oxygen generated around the measurement electrode 44 is proportional to the concentration of nitrogen oxides in the gas to be measured, the pump current Ip2 in the measurement pump cell 41 is used to measure the concentration of nitrogen oxides in the gas to be measured. The concentration will be calculated.
  • the oxygen partial pressure detection means is configured as an electrochemical sensor cell by combining the measurement electrode 44, the first solid electrolyte layer 4, the third substrate layer 3, and the reference electrode 42, the measurement electrode It is possible to detect the electromotive force corresponding to the difference between the amount of oxygen generated by the reduction of NOx components in the atmosphere around the 44 and the amount of oxygen contained in the reference atmosphere. It is also possible to determine the concentration of
  • an electrochemical sensor cell 83 is constituted by the second solid electrolyte layer 6 , the spacer layer 5 , the first solid electrolyte layer 4 , the third substrate layer 3 , the outer pump electrode 23 , and the reference electrode 42 .
  • the electromotive force (voltage Vref) obtained by this sensor cell 83 makes it possible to detect the oxygen partial pressure in the gas to be measured outside the sensor.
  • an electrochemical reference gas adjustment pump cell 84 is formed from the second solid electrolyte layer 6, the spacer layer 5, the first solid electrolyte layer 4, the third substrate layer 3, the outer pump electrode 23, and the reference electrode 42. is configured.
  • This reference gas adjustment pump cell 84 pumps oxygen by causing a pump current Ip3 to flow in response to a pump voltage Vp3 applied by a power supply circuit 85 connected between the outer pump electrode 23 and the reference electrode 42.
  • the reference gas adjustment pump cell 84 pumps oxygen from the space around the outer pump electrode 23 (sensor element chamber 133 in FIG. 1) to the space around the reference electrode 42, that is, the reference gas chamber 43, and Oxygen can be pumped from the gas chamber 43 into the space around the outer pump electrode 23.
  • the oxygen partial pressure is always maintained at a constant low value (a value that does not substantially affect the measurement of NOx) by operating the main pump cell 21 and the auxiliary pump cell 50.
  • a gas to be measured is supplied to the measurement pump cell 41 . Therefore, the NOx concentration in the gas to be measured is calculated based on the pump current Ip2 that flows when oxygen generated by reduction of NOx is pumped out of the measurement pump cell 41 in approximately proportion to the concentration of NOx in the gas to be measured. It is now possible to know.
  • the sensor element 101 includes a heater section 70 that plays the role of temperature adjustment to heat and keep the sensor element 101 warm in order to increase the oxygen ion conductivity of the solid electrolyte.
  • the heater section 70 includes a heater connector electrode 71, a heater 72, a heater lead 76, a through hole 73, and a heater insulating layer 74.
  • the heater connector electrode 71 is an electrode formed in such a manner as to be in contact with the lower surface of the first substrate layer 1. By connecting the heater connector electrode 71 to a heater power source that is an external power source, power can be supplied to the heater section 70 from the outside.
  • the heater 72 is an electrical resistor formed between the second substrate layer 2 and the third substrate layer 3 from above and below.
  • the heater 72 is connected to the heater connector electrode 71 via a through hole 73 and a heater lead 76 that is connected to the heater 72 and extends toward the rear end in the longitudinal direction of the sensor element 101.
  • the heater 72 is buried throughout the entire area from the first internal cavity 20 to the third internal cavity 61, and can adjust the temperature of the sensor element 101 to a temperature at which the solid electrolyte is activated. There is. It is sufficient that the temperature is adjusted so that the main pump cell 21, the auxiliary pump cell 50, and the measuring pump cell 41 can operate. It is not necessary that these areas are adjusted to the same temperature, and the sensor element 101 may have a temperature distribution.
  • the heater 72 is embedded in the base portion 102, but the embodiment is not limited to this embodiment.
  • the heater 72 may be disposed so as to heat the base portion 102. That is, the heater 72 may be any heater that can heat the sensor element 101 to the extent that it exhibits oxygen ion conductivity that allows the main pump cell 21, the auxiliary pump cell 50, and the measuring pump cell 41 described above to operate.
  • it may be embedded in the base portion 102 as in this embodiment.
  • the heater section 70 may be formed as a heater substrate separate from the base section 102 and disposed adjacent to the base section 102.
  • the sensor element 101 may be heated by a high temperature gas to be measured. In order to measure accurately, it is preferable that the temperature of the sensor element 101 is constant regardless of the temperature of the gas to be measured. Considering this point, it is preferable that the sensor element 101 includes the heater section 70 as in this embodiment.
  • the heater insulating layer 74 is an insulating layer formed of an insulator such as alumina on the upper and lower surfaces of the heater 72 and heater leads 76.
  • the heater insulating layer 74 provides electrical insulation between the second substrate layer 2 and the heaters 72 and heater leads 76, and between the third substrate layer 3 and the heaters 72 and heater leads 76. It is formed for the purpose of obtaining.
  • the gas sensor 100 of this embodiment includes the above-described sensor element 101 and a control device 90 that controls the sensor element 101.
  • each electrode 22, 23, 51, 44, 42 of the sensor element 101 is electrically connected to the control device 90 via a lead wire 155, respectively.
  • FIG. 3 is a block diagram showing the electrical connection relationship between the control device 90 and each pump cell 21, 50, 41, 84 and each sensor cell 80, 81, 82, 83 of the sensor element 101 in this embodiment.
  • the control device 90 includes the variable power supplies 24 , 46 , and 52 and the power supply circuit 85 described above, and a control section 91 .
  • the control section 91 includes a drive control section 92, a storage section 93, and a processing section 94.
  • the control unit 91 is realized by a general-purpose or dedicated computer, and functions as a drive control unit 92, a storage unit 93, and a processing unit 94 are realized by a CPU, memory, etc. installed in the computer. Note that when the gas sensor 100 measures NOx contained in exhaust gas from an automobile engine and the sensor element 101 is installed in the exhaust path, a part of the control device 90 (particularly the control section 91) or All functions may be realized by an ECU (Electronic Control Unit) installed in the vehicle.
  • ECU Electronic Control Unit
  • the control unit 91 controls the electromotive force (voltage V0, V1, V2, Vref) in each sensor cell 80, 81, 82, 83 of the sensor element 101 and the pump current (Ip0, Ip1, Ip2, Ip3). Further, the control unit 91 is configured to output a control signal to the variable power supplies 24 , 52 , 46 and the power supply circuit 85 .
  • the drive control unit 92 is configured to control the operations of the main pump cell 21, the auxiliary pump cell 50, and the measurement pump cell 41. Additionally, it may be configured to control the operation of the reference gas regulating pump cell 84.
  • the drive control unit 92 operates at least the measurement pump cell 41 including the inner measurement electrode (measurement electrode 44) disposed on the inner surface of the measurement gas distribution space 15 to measure the measurement target gas in the measurement gas. Perform normal control to detect.
  • the drive control unit 92 operates the main pump cell 21, the auxiliary pump cell 50, and the measurement pump cell 41 in normal control. More specifically, in this embodiment, normal control is performed as follows.
  • the drive control unit 92 controls the pump voltage Vp0 of the variable power supply 24 in the main pump cell 21 so that the voltage V0 in the main pump control oxygen partial pressure detection sensor cell 80 becomes a constant value (referred to as a set value V0 SET ).
  • V0 indicates the oxygen partial pressure near the inner main pump electrode 22
  • keeping the voltage V0 constant means keeping the oxygen partial pressure near the inner main pump electrode 22 constant.
  • the pump current Ip0 in the main pump cell 21 changes depending on the oxygen concentration in the gas to be measured.
  • oxygen partial pressure in the gas to be measured is higher than the oxygen partial pressure corresponding to the set value V0 SET , oxygen is discharged from the first internal space 20 in the main pump cell 21 .
  • the oxygen partial pressure in the gas to be measured is lower than the oxygen partial pressure corresponding to the set value V0 SET (for example, when hydrocarbons HC, etc. are included)
  • the sensor element 101 in the main pump cell 21 Oxygen is pumped into the first internal space 20 from the outside space. Therefore, pump current Ip0 can take either positive or negative values.
  • the drive control unit 92 feedback-controls the pump voltage Vp1 of the variable power supply 52 in the auxiliary pump cell 50 so that the voltage V1 in the oxygen partial pressure detection sensor cell 81 for controlling the auxiliary pump becomes a constant value (referred to as set value V1 SET ). . Since the voltage V1 indicates the oxygen partial pressure near the auxiliary pump electrode 51, keeping the voltage V1 constant means keeping the oxygen partial pressure near the auxiliary pump electrode 51 constant. Thereby, the oxygen partial pressure in the atmosphere within the second internal cavity 40 is controlled to a low partial pressure that does not substantially affect the measurement of NOx.
  • a set value V0 SET of the voltage V0 based on the pump current Ip1 so that the pump current Ip1 in the auxiliary pump cell 50 becomes a constant value (referred to as a set value Ip1 SET) .
  • the pump current Ip1 is input as a control signal to the main pump control oxygen partial pressure detection sensor cell 80, and the voltage V0 is controlled to a set value V0 SET based on the pump current Ip1.
  • the gradient of the oxygen partial pressure in the gas to be measured introduced from the third diffusion rate controlling section 30 into the second internal space 40 is controlled to be always constant.
  • the main pump cell 21 and the auxiliary pump cell 50 work together to maintain the oxygen concentration within the second internal space 40 at a constant value of approximately 0.001 ppm. That is, it is considered that the oxygen concentration in the gas to be measured introduced from the fourth diffusion-limiting section 60 into the third internal cavity 61 is maintained at a constant value of about 0.001 ppm.
  • the drive control unit 92 controls the pump of the variable power supply 46 in the measurement pump cell 41 so that the voltage V2 detected by the measurement pump control oxygen partial pressure detection sensor cell 82 becomes a constant value (referred to as a set value V2 SET ).
  • the voltage Vp2 is feedback-controlled.
  • nitrogen oxides in the gas to be measured are reduced (2NO ⁇ N 2 +O 2 ) to generate oxygen.
  • the generated oxygen is pumped out by the measuring pump cell 41 so that the voltage V2 becomes the set value V2 SET .
  • the set value V2 SET can be set to a value that substantially all of the NOx is decomposed at the measurement electrode 44.
  • the set value V2 SET can be set as a value at which the pump current Ip2 becomes a limit current.
  • the drive control unit 92 may further control applying the pump voltage Vp3 to the reference gas adjustment pump cell 84 by the power supply circuit 85 to cause the pump current Ip3 to flow.
  • oxygen may be pumped into the reference gas chamber 43 (oxygen pumping control) or oxygen may be pumped out from the reference gas chamber 43 (oxygen pumping control).
  • control may be performed to apply a predetermined pump voltage Vp3, or control may be performed to flow a predetermined pump current Ip3.
  • the pump current Ip3 may be caused to flow continuously or may be caused to flow intermittently. Pump current Ip3 may be constant or may be varied.
  • the drive control section 92 preferably stops the above-mentioned normal control of each pump cell 21, 50, 41, 84.
  • the storage unit 93 stores in advance the required amount of oxygen that should be present in the reference gas chamber 43 when the oxygen concentration in the reference gas in the reference gas chamber 43 is a predetermined concentration.
  • the predetermined concentration may be appropriately set by a person skilled in the art, and may be, for example, an oxygen concentration equivalent to that of the atmosphere.
  • the storage unit 93 stores, for example, the required amount of oxygen that flows between the pump electrode and the reference electrode 42 when a current is passed between the pump electrode and the reference electrode 42 to move the required amount of oxygen.
  • the required current integral value of the current may be stored in advance.
  • the pump electrode is an electrode that is disposed at a different position from the inside of the reference gas chamber 43 and has an oxygen pump function.
  • the pump electrode is usually placed at a position exposed to the gas to be measured.
  • the pump electrode may be disposed on the outside of the base portion 102, or may be disposed within the gas flow space 15 (inner surface) to be measured.
  • the pump electrode may be the outer pump electrode 23, the inner pump electrode 22, the auxiliary pump electrode 51 or the measurement electrode 44. In this embodiment, a case where a current is caused to flow between the outer pump electrode 23 and the reference electrode 42 will be described as an example.
  • FIG. 4 is a schematic diagram showing an example of a temporal change in the pump current Ip3 when pumping oxygen from the reference gas chamber 43.
  • the horizontal axis is time (seconds)
  • the vertical axis is pump current Ip3 ( ⁇ A).
  • a predetermined pump voltage Vp3 is applied to the reference gas adjustment pump cell 84 (between the outer pump electrode 23 and the reference electrode 42), a pump current Ip3 is caused to flow, and oxygen is pumped out from the reference gas chamber 43.
  • the behavior of the pump current Ip3 in this case will be explained.
  • a predetermined pump voltage Vp3 is applied to the reference gas adjustment pump cell 84, a pump current Ip3 flows, and oxygen is pumped out from the reference gas chamber 43.
  • the amount of oxygen present in the reference gas chamber 43 decreases.
  • the current value of the pump current Ip3 decreases.
  • the area S of the shaded portion in FIG. 4 is a value obtained by time-integrating the pump current Ip3. This integrated value is called a current integrated value (current integrated value). Since the pump current Ip3 is the amount of charge that moves per unit time, the current integral value (area S in FIG. 4) corresponds to the amount of charge of oxygen ions O 2- that moved from the reference electrode 42 to the outer pump electrode 23. . The amount of charge of the oxygen ions O 2 ⁇ corresponds to the amount of oxygen that was present in the reference gas chamber 43 before the pump current Ip3 started flowing. That is, the current integral value (area S in FIG. 4) can be an index indicating the amount of oxygen existing in the reference gas chamber 43.
  • the current integral value of the pump current Ip3 corresponding to the required amount of oxygen to be present in the reference gas chamber 43 is acquired, and may store its current integral value (referred to as required current integral value).
  • the required current integral value is approximately determined by the predetermined concentration of oxygen in the reference gas and the volume of the reference gas chamber 43.
  • the required current integral value can be determined, for example, as follows. First, it is confirmed that the oxygen concentration in the reference gas in the reference gas chamber 43 is a predetermined concentration through an oxygen concentration confirmation process during manufacturing of the gas sensor 100, which will be described later. Note that the oxygen concentration in the reference gas is checked with the outer pump electrode 23 of the sensor element 101 in contact with a gas (for example, the atmosphere) having a known oxygen concentration. Then, when the oxygen concentration in the reference gas in the reference gas chamber 43 is a predetermined concentration, a predetermined pump voltage Vp3 is applied to the reference gas adjustment pump cell 84 (between the outer pump electrode 23 and the reference electrode 42) by the power supply circuit 85.
  • a pump current Ip3 is applied to pump the oxygen present in the reference gas chamber 43 from the reference electrode 42 to the outer pump electrode 23. While acquiring the flowing pump current Ip3 and time, a predetermined pump voltage Vp3 is continued to be applied until the pump current Ip3 becomes substantially zero. Then, a time integral value (required current integral value) of the pump current Ip3 corresponding to the area S in FIG. 4 is calculated.
  • the storage unit 93 also stores, for example, the required amount of oxygen when a predetermined current is passed between the pump electrode (for example, the outer pump electrode 23) and the reference electrode 42 to move the required amount of oxygen.
  • the required time may be stored in advance. That is, the time required for a predetermined current to flow until the current integral value reaches the above-mentioned required current integral value may be stored.
  • the storage unit 93 also stores, for example, the required amount of oxygen when a current is passed between the pump electrode (for example, the outer pump electrode 23) and the reference electrode 42 for a predetermined period of time to move the required amount of oxygen.
  • the required current value may be stored in advance. That is, the required current value required for the current integral value to reach the above-mentioned required current integral value when the current flows for a predetermined period of time may be stored.
  • the processing unit 94 causes a current to flow between the pump electrode and the reference electrode 42 to pump out the oxygen present in the reference gas chamber 43 from the reference gas chamber 43. After setting it to substantially zero, a refresh process is performed in which the required amount of oxygen, which is stored in advance in the storage section 93, is pumped into the reference gas chamber 43.
  • the pump electrode is an electrode disposed at a different position from the inside of the reference gas chamber 43. For example, it may be the outer pump electrode 23, the inner pump electrode 22, the auxiliary pump electrode 51, or the measurement electrode 44. Details of the refresh process will be described later.
  • a known screen printing technique can be used to print the pattern.
  • known drying means can be used for the drying process.
  • a crimping process is performed to form a laminate by crimping under temperature and pressure conditions.
  • the crimping process is performed by heating and pressurizing with a laminating machine such as a known hydraulic press machine.
  • the temperature, pressure and time for heating and pressurizing depend on the laminating machine used, but can be determined as appropriate so as to achieve good lamination.
  • the obtained laminate includes a plurality of sensor elements 101.
  • the laminate is cut into units of sensor elements 101.
  • the cut laminate is fired at a predetermined firing temperature to obtain the sensor element 101.
  • the firing temperature may be a temperature at which the solid electrolyte constituting the base portion 102 of the sensor element 101 is sintered to become a dense body, and at which the electrodes and the like maintain a desired porosity. For example, it is fired at a firing temperature of about 1300 to 1500°C.
  • a gas sensor 100 incorporating the sensor element 101 is manufactured.
  • the element sealing body 141 is attached and sealed to the sensor element 101, and the connector 150 and lead wire 155 are attached to the rear end side of the sensor element 101 so as to be electrically connected to the connector electrode such as the heater connector electrode 71.
  • a protective cover 130 is attached to the tip side of the sensor element 101 in the element sealing body 141.
  • an outer cylinder 148 is attached to the rear end side of the sensor element 101 in the element sealing body 141, and a lead wire 155 is drawn out from the outer cylinder 148. Then, the control device 90 and the sensor element 101 are connected via the lead wire 155. Thereby, the gas sensor 100 is obtained.
  • the oxygen concentration in the reference gas chamber 43 is checked and the oxygen concentration in the reference gas chamber 43 is adjusted as necessary. It is preferable to perform a confirmation step. This step is performed, for example, as follows. First, the sensor element 101 is held at a predetermined driving temperature (e.g., 800° C.) with the outer pump electrode 23 of the sensor element 101 in contact with a gas having a known oxygen concentration (e.g., the atmosphere), and the voltage Vref of the sensor cell 83 is Measure. Then, based on the known oxygen concentration and voltage Vref, the oxygen concentration in the reference gas chamber 43 is derived.
  • a predetermined driving temperature e.g. 800° C.
  • a gas having a known oxygen concentration e.g., the atmosphere
  • the oxygen concentration in the reference gas chamber 43 is within a predetermined oxygen concentration range that can be considered to be the same as the oxygen concentration of the reference gas.
  • the pump voltage Vp3 is applied from the power supply circuit 85 to the reference gas adjustment pump cell 84 to flow the pump current Ip3, and the reference gas chamber 43 is Oxygen is pumped into the reference gas chamber 43 or pumped out from the reference gas chamber 43.
  • the measurement of the voltage Vref and the adjustment of the oxygen concentration in the reference gas chamber 43 may be performed by the control device 90 of the gas sensor 100, or may be performed by a device other than the control device 90 connected to the sensor element 101. Good too.
  • the pump voltage Vp3 is not applied to the reference gas adjustment pump cell 84. Furthermore, when measuring the voltage Vref, in order to reduce measurement errors due to voltage drops between the outer pump electrode 23 and the reference electrode 42, it is preferable not to control the sensor element 101 such that current flows through the outer pump electrode 23. preferable. Specifically, it is preferable to stop the operation of the main pump cell 21, the auxiliary pump cell 50, and the measurement pump cell 41 (so that the variable power supplies 24, 52, and 46 do not apply the pump voltages Vp0, Vp1, and Vp2). In particular, since the pump current Ip0 flowing through the main pump cell 21 is relatively larger than the pump currents Ip1 and Ip2, the voltage drop across the outer pump electrode 23 is large. It is preferable to stop the operation of at least the main pump cell 21.
  • the storage unit 93 further stores information such as the following information in the reference gas chamber 43 when the oxygen concentration in the reference gas in the reference gas chamber 43 is a predetermined concentration. It is preferable to perform a required oxygen amount storage step of storing in advance the required amount of oxygen that should be present. This step is performed, for example, as follows. First, the sensor element 101 is maintained at a predetermined driving temperature (for example, 800° C.), and the operations of the main pump cell 21, auxiliary pump cell 50, measurement pump cell 41, and reference gas adjustment pump cell 84 in normal control are stopped.
  • a predetermined driving temperature for example, 800° C.
  • a predetermined pump voltage Vp3 is applied by the power supply circuit 85 to the reference gas adjustment pump cell 84 (between the outer pump electrode 23 and the reference electrode 42), and a pump current Ip3 is caused to flow, thereby adjusting the oxygen present in the reference gas chamber 43 to the reference gas chamber 43. It pumps from electrode 42 to outer pump electrode 23. While acquiring the flowing pump current Ip3 and time, a predetermined pump voltage Vp3 is continued to be applied until the pump current Ip3 becomes almost zero. Then, a time integral value (required current integral value) of the pump current Ip3 corresponding to the area S in FIG. 4 is calculated.
  • the acquisition of the required oxygen amount (for example, the required current integral value) described above is not affected by the gas atmosphere with which the outer pump electrode 23 is in contact, unlike the oxygen concentration confirmation process described above. Therefore, it may be performed in the same gas atmosphere (for example, the atmosphere) as the oxygen concentration confirmation step described above, or it may be performed in a different gas atmosphere.
  • the required oxygen amount (for example, the required current integral value) may be individually acquired as described above and stored in the storage unit 93 of the gas sensor 100.
  • a typical required amount of oxygen (for example, a required current integral value) may be obtained in advance, and the required amount of oxygen may be stored in the storage section 93 of the plurality of gas sensors 100.
  • the same required amount of oxygen (eg, required current integral value) may be stored in gas sensors 100 having the same configuration and gas sensors 100 manufactured in the same manufacturing batch.
  • the relationship between the volume of the reference gas chamber 43 and the required current integral value is obtained or calculated in advance, and the corresponding required current integral value is stored in the storage unit according to the volume of the reference gas chamber 43 of each gas sensor 100.
  • a required oxygen amount storage step may be performed before the oxygen concentration confirmation step.
  • the control device 90 may perform the above-described oxygen concentration confirmation step while the gas sensor 100 is in use and the oxygen concentration of the gas to be measured is known.
  • the gas to be measured is exhaust gas from an internal combustion engine such as a car
  • the oxygen concentration of the gas to be measured can be considered to be the same as the atmosphere if the internal combustion engine is cutting fuel, so the same oxygen concentration confirmation process as above is performed. You can.
  • the required oxygen amount (for example, the required current integral value) may be acquired as described above, and the required oxygen amount storage step may be performed. It is more preferable to carry out the required oxygen amount storage process in the manufacturing process, that is, before shipping, because the refresh process described below can be performed at any timing from the time the gas sensor starts to be used.
  • the reference gas chamber 43 is a substantially closed space inside the base portion 102. Therefore, both the inflow of gas from the outside of the sensor element 101 into the reference gas chamber 43 and the outflow of gas from the reference gas chamber 43 are suppressed.
  • the voltages V0, V1, V2, and Vref in each sensor cell 80, 81, 82, and 83 are detected in the normal control.
  • a voltage measuring circuit such as an electrometer. It is conceivable that oxygen is electrochemically pumped into the reference gas chamber 43 or oxygen is pumped out from the reference gas chamber 43 by these currents. As a result, the oxygen concentration in the reference gas within the reference gas chamber 43 may change.
  • the gas sensor of the present invention can return the oxygen concentration in the reference gas to a predetermined concentration by performing a refresh process. . Therefore, it is possible to suppress a decrease in the detection accuracy of the NOx concentration in the gas to be measured and maintain high measurement accuracy.
  • the refresh process performed by the gas sensor of the present invention will be described in detail below.
  • the processing unit 94 performs a refresh process to set (return) the oxygen concentration in the reference gas to a predetermined concentration.
  • the refresh process maintains the oxygen concentration in the reference gas at a predetermined concentration.
  • the processing unit 94 causes a current to flow between the pump electrode and the reference electrode 42 to pump out oxygen present in the reference gas chamber 43 from the reference gas chamber 43, zero or substantially zero oxygen present in the Thereafter, the processing section 94 pumps the required amount of oxygen, which is stored in advance in the storage section 93, into the reference gas chamber 43.
  • the oxygen concentration in the reference gas chamber 43 that is, the oxygen concentration in the reference gas, can be brought back to a predetermined concentration.
  • the refresh process includes an oxygen pumping process that pumps out the oxygen in the reference gas chamber 43 to reduce the oxygen present in the reference gas chamber 43 to zero or substantially zero, and then fills the reference gas chamber 43 with the required amount of oxygen.
  • An oxygen pumping process is performed in which a certain amount of oxygen is pumped in and the oxygen concentration in the reference gas chamber 43 is returned to a predetermined concentration.
  • the oxygen present in the reference gas chamber 43 is substantially zero, for example, when the oxygen concentration in the reference gas chamber 43 is 2% or less of the predetermined concentration of the reference gas, 1% or less of the predetermined concentration of the reference gas. % or less, 0.5%, or 0.1% or less, meaning a concentration close to zero.
  • the amount of oxygen present in the reference gas chamber 43 may be zero, such as 2% or less, 1% or less, 0.5%, or 0.1% or less of the required oxygen amount. This means that the concentrations are close to each other.
  • FIG. 5 is a flowchart illustrating an example of refresh processing.
  • the drive control unit 92 stops normal control (step S10). Specifically, control to feed back the pump voltage Vp0 of the main pump cell 21 so that the voltage V0 becomes the set value V0 SET , and control to feed back the pump voltage Vp1 of the auxiliary pump cell 50 so that the voltage V1 becomes the set value V1 SET . , and all pump controls including feedback control of the pump voltage Vp2 of the measurement pump cell 41 so that the voltage V2 becomes the set value V2 SET are stopped. That is, the temperature of the sensor element 101 is maintained at a predetermined temperature by the heater 72, and no other control is performed. Therefore, while the refresh process is being executed, the measurement of the NOx concentration in the gas to be measured is interrupted.
  • the processing unit 94 pumps out oxygen from the reference gas chamber 43 (step S11).
  • the pump voltage Vp3 is applied to the reference gas adjustment pump cell 84 (between the outer pump electrode 23 and the reference electrode 42) by the power supply circuit 84, and the pump current Ip3 is caused to flow.
  • the applied pump voltage Vp3 may be constant or may be varied continuously or stepwise.
  • the processing unit 94 determines whether the oxygen concentration in the reference gas in the reference gas chamber 43 is below a threshold value (step S12).
  • the threshold value may be appropriately determined by a person skilled in the art, and it is preferable to determine the threshold value of the oxygen concentration in the reference gas chamber 43 so that the oxygen present in the reference gas chamber 43 is zero or substantially zero. Alternatively, a threshold value may be set for the amount of oxygen present in the reference gas chamber 43.
  • step S12 if the oxygen concentration in the reference gas is higher than the threshold value, step S11 is performed. That is, oxygen is continuously pumped out from the reference gas chamber 43.
  • step S13 the pumping of oxygen from the reference gas chamber 43 is ended and oxygen is pumped into the reference gas chamber 43 (step S13). That is, the oxygen pumping process is ended and the oxygen pumping process is started.
  • the reference gas adjustment pump cell 84 (between the outer pump electrode 23 and the reference electrode 42) is applied with a pump voltage Vp3 whose polarity is opposite to that in step S11. Pump current Ip3 is caused to flow in the direction of pumping oxygen into.
  • the pump voltage Vp3 applied in step S13 may be constant or may be varied continuously or stepwise. Further, the pump voltage Vp3 applied in step S13 may have the same absolute value as the pump voltage Vp3 applied in step S11, or may have a different absolute value.
  • the processing unit 94 reads the required amount of oxygen from the storage unit 93. Then, it is determined whether the amount of oxygen pumped in step S13 has reached the required amount of oxygen (step S14).
  • the amount of oxygen pumped here is the total amount (integral amount, cumulative amount) of oxygen pumped from the time when pumping oxygen into the reference gas chamber 43 is started until the time when the determination in step S14 is made. be.
  • step S13 is performed. That is, oxygen is continuously pumped into the reference gas chamber 43.
  • step S15 normal control is restarted. Then, the refresh process ends.
  • FIG. 6 is a schematic diagram showing an example of a temporal change in the pump current Ip3 during the oxygen pumping process (step S11 in FIG. 5).
  • the horizontal axis is time (sec)
  • the vertical axis is pump current Ip3 ( ⁇ A).
  • the pump current Ip3 becomes smaller as time passes (Ip3a>Ip3b>Ip3c). Then, when the amount of oxygen in the reference gas chamber 43 becomes zero or near zero (substantially zero), the pump current Ip3 becomes zero or a sufficiently small value near zero.
  • the processing unit 94 applies a predetermined voltage (pump voltage Vp3 in this embodiment) between the pump electrode (outer pump electrode 23 in this embodiment) and the reference electrode 42 to generate a current (in this embodiment A pump current Ip3) may be applied to pump the oxygen present in the reference gas chamber 43 from the reference gas chamber 43 until the current becomes equal to or less than a predetermined value.
  • the predetermined value (threshold value A) of the current may be appropriately set by a person skilled in the art, and may be set to zero or a value close to zero, for example. If the predetermined value (threshold value A) is set in this way, oxygen can be pumped out from the reference gas chamber 43 until the oxygen in the reference gas chamber 43 becomes substantially zero.
  • the predetermined value (threshold A) may be, for example, 1.0 ⁇ A or less, 0.5 ⁇ A or less, 0.25 ⁇ A or less, or 0.1 ⁇ A or less.
  • the processing unit 94 applies a predetermined voltage (pump voltage Vp3 in this embodiment) between the pump electrode (outer pump electrode 23 in this embodiment) and the reference electrode 42 to generate a current (main voltage Vp3 in this embodiment).
  • a pump current Ip3 may be applied to pump out the oxygen present in the reference gas chamber 43 from the reference gas chamber 43 until the amount of change per time (amount of change over time) of the current reaches a predetermined value. good.
  • the predetermined value (threshold value B) of the amount of change in the current over time may be appropriately set by a person skilled in the art, and may be set to zero or a value close to zero, for example. If the predetermined value (threshold value B) is set in this manner, oxygen can be pumped out from the reference gas chamber 43 until the oxygen in the reference gas chamber 43 becomes substantially zero. As a result, the oxygen concentration in the reference gas in the reference gas chamber 43 can be made (returned) to a predetermined concentration with higher accuracy by the refresh process.
  • the predetermined value (threshold value B) of the amount of time change in the current is, for example, 0.1 ⁇ A/s or less, 0.05 ⁇ A/s or less, 0.02 ⁇ A/s or less, or 0.01 ⁇ A/s or less. It's fine.
  • FIG. 7 is a flowchart of a refresh process showing a specific example of the oxygen pumping process and the oxygen pumping process.
  • steps that are the same as those in FIG. 5 are given the same reference numerals, so their explanation will be omitted. Note that a specific example of the oxygen pumping process (steps S14a and S14b) will be described later.
  • the processing unit 94 applies a predetermined pump voltage Vp3 between the outer pump electrode 23 and the reference electrode 42 to flow the pump current Ip3, and the pump current Ip3 Oxygen present in the reference gas chamber 43 is pumped out from the reference gas chamber 43 until becomes equal to or less than a predetermined value (threshold value A).
  • the processing unit 94 determines whether the current value of the pump current Ip3 that pumps out oxygen from the reference gas chamber 43 is less than or equal to a predetermined value (threshold value A) (step S12a). In step S12a, if the current value of the pump current Ip3 is larger than the threshold value A, step S11 is performed. That is, oxygen is continuously pumped out from the reference gas chamber 43. On the other hand, if the current value of the pump current Ip3 is equal to or less than the threshold value A, the pumping of oxygen from the reference gas chamber 43 is ended, and oxygen is pumped into the reference gas chamber 43 (step S13).
  • FIG. 8 is a flowchart of a refresh process showing a specific example in which the oxygen pumping process is different from the case of FIG.
  • the same steps as in FIG. 7 are given the same reference numerals.
  • the processing unit 94 applies a predetermined pump voltage Vp3 between the outer pump electrode 23 and the reference electrode 42 to flow the pump current Ip3, and the pump current Ip3
  • Vp3 the pump voltage between the outer pump electrode 23 and the reference electrode 42
  • the oxygen present in the reference gas chamber 43 is pumped out from the reference gas chamber 43 until the amount of change per hour (time change amount) reaches a predetermined value (threshold value B).
  • the processing unit 94 determines whether the amount of time change in the current value of the pump current Ip3 that pumps oxygen from the reference gas chamber 43 is equal to or less than a predetermined value (threshold value B) (step S12b). In step S12b, if the amount of time change in the current value of pump current Ip3 is larger than threshold B, step S11 is performed. That is, oxygen is continuously pumped out from the reference gas chamber 43. On the other hand, if the amount of time change in the current value of the pump current Ip3 is equal to or less than the threshold value B, the pumping of oxygen from the reference gas chamber 43 is ended and oxygen is pumped into the reference gas chamber 43 (step S13).
  • the storage unit 93 stores the above-mentioned required current integral value in advance.
  • the required current integral value is, for example, the amount of current flowing between the outer pump electrode 23 and the reference electrode 42 when the pump current Ip3 is caused to flow between the outer pump electrode 23 and the reference electrode 42 to transfer the required amount of oxygen. It is an integral value of pump current Ip3.
  • the processing unit 94 flows a current until the integral value of the pump current Ip3 flowing between the outer pump electrode 23 and the reference electrode 42 reaches the required current integral value, and An amount of oxygen is pumped into the reference gas chamber 43.
  • the processing unit 94 counts the current value and time of the pump current Ip3 for pumping oxygen into the reference gas chamber 43, and calculates the current integral value from the time when the pump current Ip3 starts flowing until the present time (step S14a). .
  • the pump current Ip3 at the time of measurement multiplied by the measurement period T may be sequentially added to calculate the current integral value.
  • the processing unit 94 reads the required current integral value from the storage unit 93. Then, it is determined whether the calculated current integral value has reached the required current integral value (step S14b).
  • step S13 is performed. That is, oxygen is continuously pumped into the reference gas chamber 43.
  • step S15 pumping of oxygen into the reference gas chamber 43 is finished and normal control is restarted.
  • the oxygen pumping process is performed to reduce the oxygen present in the reference gas chamber 43 to zero or substantially zero. Thereafter, the required amount of oxygen stored in advance in the storage section 93 is pumped into the reference gas chamber 43. For example, the pump current Ip3 is caused to flow until the required current integral value is reached.
  • Such refresh processing is not affected by the composition of the gas to be measured (oxygen concentration, NOx concentration, etc.). Therefore, the measurement can be performed regardless of the oxygen concentration or NOx concentration in the gas to be measured. Furthermore, it is not necessary that the oxygen concentration and NOx concentration in the gas to be measured be known.
  • the refresh process may be performed at any timing. For example, it may be performed every predetermined time (every 50 hours, every 100 hours, etc.). Alternatively, for example, it may be performed when the operator inputs a command to start refresh processing. Further, for example, it may be performed at a predetermined event such as when the gas sensor 100 is activated.
  • the volume of the reference gas chamber 43 corresponds to the volume of the reference gas that may exist within the reference gas chamber 43. Therefore, if the amount of oxygen in the reference gas chamber 43 changes during use of the gas sensor 100, the larger the volume of the reference gas chamber 43, the more oxygen in the reference gas will be affected by the change in the amount of oxygen in the reference gas chamber 43. Changes in concentration will be relatively small. The smaller the volume of the reference gas chamber 43, the greater the change in the oxygen concentration in the reference gas due to the change in the amount of oxygen in the reference gas chamber 43. Therefore, for example, the period for performing the refresh process may be determined based on the volume of the reference gas chamber 43.
  • the period for performing the refresh process may be determined based on the cumulative amount of time the gas sensor 100 is driven (cumulative driving time). For example, if the volume of the reference gas chamber 43 is large, the refresh process may be performed at a longer period (the refresh process is performed at longer intervals). If the volume of the reference gas chamber 43 is small, the refresh processing period may be shortened (the refresh processing interval may be shortened).
  • the period for performing the refresh process may be determined as appropriate depending on the purpose of use of the gas sensor 100, the required accuracy, the configuration of the sensor element 101, and the like.
  • the period of the refresh process may be set to a value that is approximately proportional to the volume of the reference gas chamber 43. for example, When the volume of the reference gas chamber 43 is 0.036 mm 3 , for every 100 hours of cumulative driving time, When the volume of the reference gas chamber 43 is 0.06 mm 3 , for every 200 hours of cumulative driving time, When the volume of the reference gas chamber 43 is 0.26 mm 3 , for every 800 hours of cumulative driving time, When the volume of the reference gas chamber 43 is 0.50 mm 3 , the cycle may be determined so that the refresh process is performed every 1500 hours of cumulative driving time.
  • the gas sensor 100 of this embodiment can perform the refresh process to bring the oxygen concentration in the reference gas in the reference gas chamber 43 to a predetermined concentration (return).
  • This refresh process is not affected by the composition of the gas to be measured (oxygen concentration, NOx concentration, etc.). Therefore, unlike the oxygen concentration confirmation step in the manufacturing process described above, the oxygen concentration in the gas to be measured does not need to be known. Therefore, not only when the oxygen concentration and NOx concentration in the gas to be measured are known, but also regardless of these concentrations, the reference gas in the reference gas chamber 43 can be detected at any timing while the gas sensor 100 is in use.
  • the oxygen concentration can be made (returned) to a predetermined concentration. As a result, it is possible to suppress a decrease in the detection accuracy of the NOx concentration in the gas to be measured and maintain high measurement accuracy.
  • the present invention is not limited to this embodiment.
  • the present invention may include various types of gas sensors as long as they achieve the objective of the present invention, which is to suppress a decrease in the detection accuracy of the gas to be measured in the gas to be measured and maintain high detection accuracy. .
  • the reference gas adjustment pump cell 84 (outer pump
  • the required current integral value was obtained by flowing the pump current Ip3 between the electrode 23 and the reference electrode 42
  • the present invention is not limited thereto.
  • a current may be passed between the pump electrode and the reference electrode 43, which are disposed at a position different from the inside of the reference gas chamber 43.
  • the required current integral value may be obtained by passing a current between the inner main pump electrode 22 and the reference electrode 42. It may also be acquired by passing a current between the auxiliary pump electrode 51 and the reference electrode 42. It may also be acquired by passing a current between the measurement electrode 44 and the reference electrode 42. Since the required current integral value corresponds to the amount of oxygen that should be present in the reference gas chamber 43, the required current integral value obtained is approximately the same regardless of which pump electrode is used.
  • the required current integral value can also be determined as follows, for example. First, a pump voltage is applied between the pump electrode (outer pump electrode 23, inner main pump electrode 22, auxiliary pump electrode 51, or measurement electrode 44) and the reference electrode 42 in the direction to pump out oxygen in the reference gas chamber 43. Then, a pump current is applied, and the oxygen in the reference gas chamber 43 is pumped out until the pump current becomes zero or almost zero. Thereafter, oxygen is pumped into the reference gas chamber 43 while the outer pump electrode 23 of the sensor element 101 is in contact with a gas having a known oxygen concentration (for example, the atmosphere). That is, a predetermined pump voltage is applied between the pump electrode and the reference electrode 42 in a direction to draw oxygen into the reference gas chamber 43, thereby causing a pump current to flow.
  • a pump voltage is applied between the pump electrode (outer pump electrode 23, inner main pump electrode 22, auxiliary pump electrode 51, or measurement electrode 44) and the reference electrode 42 in the direction to pump out oxygen in the reference gas chamber 43. Then, a pump current is applied, and
  • the voltage Vref of the sensor cell 83 (between the outer pump electrode 23 and the reference electrode 42) is measured, and the pump is operated until the oxygen concentration in the reference gas chamber 43 reaches a predetermined concentration based on the known oxygen concentration and voltage Vref.
  • Oxygen is pumped into the reference gas chamber 43 by passing an electric current.
  • the required current integral value may be obtained by calculating the integral value of the pump current at this time. In this way, when pumping oxygen into the reference gas chamber 43 while measuring the voltage Vref of the sensor cell 83, it is possible to use the inner main pump electrode 22, the auxiliary pump electrode 51, or the measurement electrode 44 as the pump electrode. preferable.
  • the outer pump electrode 23 is used as the pump electrode in each step of obtaining the required current integral value, pumping out oxygen in the refresh process, and pumping in oxygen in the refresh process. Not limited. In any one or more of these steps, a current may be passed between the pump electrode and the reference electrode 42, which is different from that in the other steps.
  • the electrodes used as pump electrodes may be different in all steps.
  • step S10 of the refresh process all pump control is stopped in step S10 of the refresh process, but the present invention is not limited to this.
  • the drive control unit 92 stops at least one or more of the main pump cell 21, the auxiliary pump cell 50, and the measurement pump cell 41. Since the refresh process includes a step of pumping out oxygen from the reference gas chamber 43 so that the oxygen in the reference gas chamber 43 becomes substantially zero, the pump control that refers to the reference potential of the reference electrode 42 must be stopped. is preferred. Preferably, all pump controls are stopped as in the embodiments described above.
  • step S11 or step S13 of the refresh process the pump voltage Vp3 is applied to the reference gas adjustment pump cell 84 and the pump current Ip3 is caused to flow, but the present invention is not limited to this.
  • the processing unit 94 may cause the pump current Ip3 to flow using a current source.
  • control is performed in which a pump voltage is applied to each pump cell 21, 50, 41 (, 84) to flow a pump current, but the control is not limited to this.
  • a current source may be used to control the flow of current in one or more of these pump cells 21, 50, 41 (, 84).
  • the reference gas chamber 43 is a space closed inside the base portion 102, but the reference gas chamber 43 is not limited to this.
  • the interior of the reference gas chamber 43 may be entirely or partially filled with a porous material such as alumina.
  • FIG. 9 is a schematic vertical cross-sectional view in the longitudinal direction of a sensor element 201 of a modified example in which the reference gas chamber is filled with a porous material.
  • a reference gas chamber 243 is provided between the upper surface of the third substrate layer 3 and the lower surface of the first solid electrolyte layer 4 so as to cover the reference electrode 42 .
  • the reference gas chamber 243 is closed inside the base portion 102 and filled with a porous material.
  • the volume of the reference gas chamber 43 means the volume of the reference gas that can exist within the reference gas chamber 43.
  • the volume of the reference gas chamber 243 is a value that takes into account the size of the reference gas chamber 243 and the porosity of the porous body filled inside.
  • the volume of the reference gas chamber 243 is approximately the total volume of the pores within the reference gas chamber 243.
  • the other configuration of the sensor element 201 in FIG. 9 is approximately the same as that described in FIG. 2.
  • FIG. 10 is a schematic vertical cross-sectional view in the longitudinal direction of a modified sensor element 301 having pressure dissipation holes.
  • a pressure dissipation space 75b that opens to the rear end surface of the sensor element 301 is formed in the first solid electrolyte layer 4 behind the reference gas chamber 43.
  • a pressure dissipation hole 75a is formed so as to communicate between the upper surface of the heater insulating layer 74 and the pressure dissipation space 75b.
  • the pressure dissipation hole 75a is formed as a hole that penetrates the third substrate layer 3.
  • the pressure dissipation hole 75a plays a role of alleviating an increase in internal pressure associated with a rise in temperature within the heater insulating layer 74.
  • the pressure dissipation space 75b and the pressure dissipation hole 75a are not in communication with the reference gas chamber 43.
  • the other configuration of the sensor element 301 in FIG. 10 is approximately the same as that described in FIG. 2.
  • the sensor element 101 has three internal spaces: the first internal space 20, the second internal space 40, and the third internal space 61, as shown in FIG.
  • the inner main pump electrode 22, the auxiliary pump electrode 51, and the measurement electrode 44 are arranged in each internal space, the structure is not limited to this.
  • two internal cavities, a first internal cavity 20 and a second internal cavity 40 are provided, the first internal cavity 20 has an internal main pump electrode 22, and the second internal cavity 40 has an auxiliary pump electrode.
  • 51 and the measurement electrode 44 may be arranged respectively.
  • a porous protective layer covering the measurement electrode 44 may be formed as a diffusion-limiting portion between the auxiliary pump electrode 51 and the measurement electrode 44.
  • the gas sensor 100 detects the NOx concentration in the gas to be measured, but the gas to be measured is not limited to NOx.
  • the sensor element of the gas sensor 100 may have a configuration using an oxygen ion conductive solid electrolyte.
  • the gas to be measured may be, for example, oxygen O 2 or an oxide gas other than NOx (eg, carbon dioxide CO 2 , water H 2 O, etc.).
  • a non-oxide gas such as ammonia NH 3 may be used.
  • the non-oxide gas is converted to an oxide gas (for example, converted to NO in the case of ammonia NH3 ), and the gas to be measured containing the converted oxide gas is is introduced into the third internal space 61.
  • the converted oxide gas in the gas to be measured is reduced to generate oxygen.
  • the gas to be measured can be detected by acquiring the generated oxygen as the pump current Ip2 in the measurement pump cell 41.
  • the conversion of non-oxide gas to oxide gas can be performed by at least one of the inner main pump electrode 22 and the auxiliary pump electrode 51 functioning as a catalyst.
  • Example 1 The gas sensor 100 shown in FIGS. 1 to 3 was manufactured according to the method for manufacturing the gas sensor 100 described above, and was designated as Example 1.
  • the control device 90 is set to perform the refresh process according to the flowchart in FIG.
  • the refresh process was performed after 200 hours of driving time had elapsed from the start of driving the gas sensor 100.
  • the threshold value B for pumping out oxygen was set to 0.05 ⁇ A/s.
  • the required current integral value for pumping in oxygen was 30 ⁇ A ⁇ s.
  • Example 1 and Comparative Example 1 were attached to a gas chamber. Then, while maintaining the model gas atmosphere inside the gas chamber, each gas sensor was driven to continuously measure the NOx output over a long period of time.
  • FIG. 11 is a graph showing the results of a NOx output stability investigation.
  • the horizontal axis is the measurement time (time; H), and the vertical axis is the amount of change in NOx output (ppm).
  • the NOx output change amount indicates the deviation of the NOx output from the value that should be output according to the NOx concentration.
  • the value of the NOx output that should be output according to the NOx concentration is 0 ppm. Therefore, the value of the NOx output and the amount of change in the NOx output are ultimately the same numerical value.
  • Example 1 As shown in FIG. 11, in both Example 1 and Comparative Example 1, the NOx output gradually changed over time. In Example 1, it was confirmed that when the refresh process was executed, the amount of change in NOx output became almost zero. As a result, it was confirmed that compared to Comparative Example 1, the amount of change in NOx output could be kept small over a long period of time. In this way, each time the refresh process is performed, the amount of change in NOx output can be returned to approximately zero. As a result, it is considered possible to suppress a decrease in detection accuracy of the gas to be measured and maintain high detection accuracy.
  • the reference electrode around the reference electrode can be used at any timing during use of the gas sensor, regardless of the oxygen concentration or when the oxygen concentration in the gas to be measured is known.
  • the oxygen concentration in the gas can be brought back to a predetermined concentration. As a result, it is possible to suppress a decrease in detection accuracy of the gas to be measured and maintain high detection accuracy.
  • Second diffusion controlling section 15 Gas distribution space to be measured 20 First internal space 21 Main pump cell 22 Inner main pump electrode 22a (of the inner main pump electrode) Ceiling electrode part 22b (of the inner main pump electrode) Bottom electrode part 23 Outer pump electrode 24 (main pump cell) ) Variable power supply 30 Third diffusion-limiting section 40 Second internal cavity 41 Pump cell for measurement 42 Reference electrodes 43, 243 Reference gas chamber 44 Measurement electrode 46 Variable power supply (of the pump cell for measurement) 50 Auxiliary pump cell 51 Auxiliary pump electrode 51a ( Ceiling electrode part 51b (of the auxiliary pump electrode) Bottom electrode part 52 (of the auxiliary pump electrode) Variable power supply 60 (of the auxiliary pump cell) Fourth diffusion control part 61 Third internal space 70 Heater part 71 Heater connector electrode 72 Heater 73 Through hole 74 Heater insulator 75a Pressure dissipation hole 75b

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Abstract

被測定ガス中の測定対象ガスの検出精度を高く維持できるガスセンサを提供する。センサ素子101と、前記センサ素子101を制御する制御装置と、を含み、前記制御装置は、基準ガス室43内の基準ガス中の酸素濃度が所定濃度である時に、前記基準ガス室43内に存在すべき所要酸素量を予め記憶する記憶部と、前記基準ガス室43内とは異なる位置に配設されたポンプ電極23と前記基準ガス室43内に配設された基準電極42との間に電流を流して、前記基準ガス室43内に存在する酸素を前記基準ガス室43から汲み出し、その後、前記記憶部が予め記憶している前記所要酸素量の酸素を前記基準ガス室43へ汲み入れるリフレッシュ処理を行う処理部と、を含む、被測定ガス中の測定対象ガスを検出するガスセンサ100。

Description

ガスセンサ
 本発明は、被測定ガス中の測定対象ガスを検出するガスセンサに関する。本願は、2022年6月22日に日本国に出願された特願2022-100113に基づく優先権を主張し、その内容は、参照により本願に組み込まれる。
 ガスセンサは、自動車の排気ガス等の被測定ガス中の対象とするガス成分(酸素O、窒素酸化物NOx、アンモニアNH、炭化水素HC、二酸化炭素CO等)の検出や濃度の測定に使用されている。このようなガスセンサとしては、ジルコニア(ZrO)等の酸素イオン伝導性の固体電解質を用いたセンサ素子を備えたガスセンサが知られている(例えば、特開2021-156647号公報、WO2020/004356号公報)。
 例えば、特開2021-156647号公報には、被測定ガスを導入して流通させる被測定ガス流通部と、被測定ガス中の特定ガス濃度の検出の基準となる基準ガス(例えば大気)を溜めておくための基準ガス室とが設けられた素子本体と、前記基準ガス室に配設された基準電極とを備えるセンサ素子が開示されている。また、前記基準ガス室が前記素子本体の内部に独立して設けられていることが開示されている。
特開2021-156647号公報 WO2020/004356号公報
 このようなガスセンサにおいて、基準電極の周囲の基準ガス中の酸素濃度が何らかの要因で変化すると、被測定ガス中の測定対象ガスの検出精度が低下する場合があった。
 被測定ガス中の酸素濃度が既知の場合には、例えば特開2021-156647号公報に記載されているように、基準電極と、センサ素子の被測定ガスに晒される部分に配設された外側ポンプ電極との間の電位差によって、基準ガス中の酸素濃度を確認し必要に応じて調整することができる。例えば、被測定ガスが自動車等の排気ガスである場合には、燃料カット時には被測定ガスは大気雰囲気であるため、酸素濃度は既知である。
 しかしながら、通常、被測定ガス中の酸素濃度は刻々と変化するため、前記燃料カット時のような酸素濃度が既知の特定のタイミング以外においては、上述の方法で基準ガス室の酸素濃度を確認することはできない。したがって、酸素濃度が既知の特定のタイミングにならない間は、基準ガス中の酸素濃度が変化したとしても、その変化を検知することができず、被測定ガス中の測定対象ガスの検出精度が低下してしまう恐れがある。
 そこで、本発明は、被測定ガス中の測定対象ガスの検出精度の低下を抑制し、高い検出精度を維持できるガスセンサを提供することを目的とする。
 本発明者は、ガスセンサの使用中において、被測定ガス中の酸素濃度が既知の場合に限らず、また、酸素濃度にかかわらず、任意のタイミングで基準ガス中の酸素濃度のずれを補正することを検討した。
 例えば、WO2020/004356号公報には、基準電極と被測定ガスに晒される部分に設けられた被測定ガス側電極との間に電流を流して、前記基準電極の周囲に酸素の汲み入れる酸素汲み入れ制御を行うことが開示されている。そして、被測定ガス中の測定対象ガスの検出精度の低下を抑制するために、前記酸素汲み入れ制御を実行しなかったときの前記基準電極と前記被測定ガス側電極との間の第1ベース電圧と前記酸素汲み入れ制御を実行したときの前記基準電極と前記被測定ガス側電極との間の第2ベース電圧との差に基づいて、前記被測定ガスの特定ガス濃度を補正することが開示されている。しかしながら、この補正は、経時劣化による基準電極の抵抗変化量に応じて行うものであり、基準電極の周囲の基準ガス中の酸素濃度の変化を検知して補正するものではない。
 本発明者は、鋭意検討の結果、基準ガス室内の酸素を汲み出して基準ガス室内の酸素を実質的にゼロし、その後、基準ガス室内の基準ガス中の酸素濃度が所定濃度になるように、基準ガス室に酸素を汲み入れるリフレッシュ処理を行うことにより、基準ガス中の酸素濃度を前記所定濃度にすることができることを見出した。リフレッシュ処理を行えば、ガスセンサの使用中の任意のタイミングにおいて、基準電極の周囲の基準ガス中の酸素濃度を、前記所定濃度にする(戻す)ことができることを見出した。
 本発明には、以下の発明が含まれる。
(1) センサ素子と、前記センサ素子を制御する制御装置と、を含むガスセンサであって、
 前記センサ素子は、
  酸素イオン伝導性の固体電解質層を含む長尺板状の基体部と、
  前記基体部の長手方向の一方の端部から形成され、被測定ガスを導入して流通させる被測定ガス流通空所と、
  前記基体部の内部に、前記被測定ガス流通空所とは離隔して且つ前記基体部の内部に閉じられて形成された基準ガス室と、
   前記基準ガス室内に配設された基準電極と、
  前記基準ガス室内とは異なる位置に配設されたポンプ電極と、
を含み、
 前記制御装置は、
  前記基準ガス室内の基準ガス中の酸素濃度が所定濃度である時に、前記基準ガス室内に存在すべき所要酸素量を予め記憶する記憶部と、
  前記ポンプ電極と前記基準電極との間に電流を流して、前記基準ガス室内に存在する酸素を前記基準ガス室から汲み出し、その後、前記記憶部が予め記憶している前記所要酸素量の酸素を前記基準ガス室へ汲み入れるリフレッシュ処理を行う処理部と、
を含む、被測定ガス中の測定対象ガスを検出するガスセンサ。
(2) 前記記憶部は、前記所要酸素量として、前記ポンプ電極と前記基準電極との間に電流を流して前記所要酸素量の酸素を移動させる場合に前記ポンプ電極と前記基準電極との間に流れる電流の所要電流積分値を予め記憶し、
 前記処理部は、前記リフレッシュ処理において、前記基準ガス室内に存在する酸素を前記基準ガス室から汲み出し、その後、前記ポンプ電極と前記基準電極との間に流れる電流の積分値が前記所要電流積分値に達するまで電流を流して、前記所要酸素量の酸素を前記基準ガス室へ汲み入れる、上記(1)に記載のガスセンサ。
(3) 前記記憶部は、前記所要酸素量として、前記ポンプ電極と前記基準電極との間に所定の電流を流して前記所要酸素量の酸素を移動させる場合の所要時間を予め記憶し、
 前記処理部は、前記リフレッシュ処理において、前記基準ガス室内に存在する酸素を前記基準ガス室から汲み出し、その後、前記ポンプ電極と前記基準電極との間に前記所定の電流を前記所要時間のあいだ流して、前記所要酸素量の酸素を前記基準ガス室へ汲み入れる、上記(1)に記載のガスセンサ。
(4) 前記記憶部は、前記所要酸素量として、前記ポンプ電極と前記基準電極との間に電流を所定時間流して前記所要酸素量の酸素を移動させる場合の所要電流値を予め記憶し、
 前記処理部は、前記リフレッシュ処理において、前記基準ガス室内に存在する酸素を前記基準ガス室から汲み出し、その後、前記ポンプ電極と前記基準電極との間に前記所要電流値を前記所定時間のあいだ流して、前記所要酸素量の酸素を前記基準ガス室へ汲み入れる、上記(1)に記載のガスセンサ。
(5) 前記処理部は、前記リフレッシュ処理において、前記ポンプ電極と前記基準電極との間に所定の電圧を印加して電流を流し、前記電流が所定の値以下になるまで前記基準ガス室内に存在する酸素を前記基準ガス室から汲み出す、上記(1)~(4)のいずれかに記載のガスセンサ。
(6) 前記処理部は、前記リフレッシュ処理において、前記ポンプ電極と前記基準電極との間に所定の電圧を印加して電流を流し、前記電流の時間あたりの変化量が所定の値以下になるまで前記基準ガス室内に存在する酸素を前記基準ガス室から汲み出す、上記(1)~(4)のいずれかに記載のガスセンサ。
(7) 前記リフレッシュ処理を行う周期は、前記基準ガス室の体積に基づいて決定される、上記(1)~(6)のいずれかに記載のガスセンサ。
(8) センサ素子と、前記センサ素子を制御する制御装置と、を含むガスセンサの制御方法であって、
 前記センサ素子は、
  酸素イオン伝導性の固体電解質層を含む長尺板状の基体部と、
  前記基体部の長手方向の一方の端部から形成され、被測定ガスを導入して流通させる被測定ガス流通空所と、
  前記基体部の内部に、前記被測定ガス流通空所とは離隔して且つ前記基体部の内部に閉じられて形成された基準ガス室と、
   前記基準ガス室内に配設された基準電極と、
  前記基準ガス室内とは異なる位置に配設されたポンプ電極と、
を含み、
 前記制御装置は、
  前記基準ガス室内の基準ガス中の酸素濃度が所定濃度である時に、前記基準ガス室内に存在すべき所要酸素量を予め記憶する記憶部と、
  前記ポンプ電極と前記基準電極との間に電流を流して、前記基準ガス室内に存在する酸素を前記基準ガス室から汲み出し、その後、前記記憶部が予め記憶している前記所要酸素量の酸素を前記基準ガス室へ汲み入れるリフレッシュ処理を行う処理部と、
を含み、
 前記制御方法は、
 前記処理部が、前記ポンプ電極と前記基準電極との間に電流を流して、前記基準ガス室内に存在する酸素を前記基準ガス室から汲み出し、その後、前記処理部が、前記記憶部が予め記憶している前記所要酸素量の酸素を前記基準ガス室へ汲み入れるリフレッシュ処理ステップを含む、被測定ガス中の測定対象ガスを検出するガスセンサの制御方法。
 本発明のガスセンサを用いれば、被測定ガス中の酸素濃度が既知の場合に限らず、また、酸素濃度にかかわらず、ガスセンサの使用中の任意のタイミングにおいて、基準電極の周囲の基準ガス中の酸素濃度を所定の濃度にすることができる。その結果、測定対象ガスの検出精度の低下を抑制して、高い検出精度を維持することができる。
ガスセンサ100の概略構成の一例を示す縦断面模式図である。 ガスセンサ100の概略構成の一例を示す、センサ素子101の長手方向の垂直断面模式図である。 制御装置90と、センサ素子101の各ポンプセル21、50、41、84及び各センサセル80、81、82、83との電気的な接続関係の一例を示すブロック図である。 基準ガス室43から酸素を汲み出す場合におけるポンプ電流Ip3の時間変化の一例を示す模式図である。 リフレッシュ処理の一例を示す、フローチャートである。 リフレッシュ処理における酸素汲み出し処理(図5におけるステップS11)の時のポンプ電流Ip3の時間変化の一例を示す模式図である。 リフレッシュ処理の具体例を示す、フローチャートである。 リフレッシュ処理の他の具体例を示す、フローチャートである。 変形例のセンサ素子201の長手方向の垂直断面模式図である。 変形例のセンサ素子301の長手方向の垂直断面模式図である。 実施例1及び比較例1のNOx出力の安定性調査結果を示すグラフである。
 本発明のガスセンサは、センサ素子と、前記センサ素子を制御する制御装置と、を含んでいる。
 本発明のガスセンサに含まれるセンサ素子は、
 酸素イオン伝導性の固体電解質層を含む長尺板状の基体部と、
 前記基体部の長手方向の一方の端部から形成され、被測定ガスを導入して流通させる被測定ガス流通空所と、
 前記基体部の内部に、前記被測定ガス流通空所とは離隔して且つ前記基体部の内部に閉じられて形成された基準ガス室と、
  前記基準ガス室内に配設された基準電極と、
 前記基準ガス室内とは異なる位置に配設されたポンプ電極と、
を含む。
 本発明のガスセンサに含まれる制御装置は、
 前記基準ガス室内の基準ガス中の酸素濃度が所定濃度である時に、前記基準ガス室内に存在すべき所要酸素量を予め記憶する記憶部と、
 前記ポンプ電極と前記基準電極との間に電流を流して、前記基準ガス室内に存在する酸素を前記基準ガス室から汲み出し、その後、前記記憶部が予め記憶している前記所要酸素量の酸素を前記基準ガス室へ汲み入れるリフレッシュ処理を行う処理部と、
を含む。
[ガスセンサの概略構成]
 本発明のガスセンサについて、図面を参照して以下に説明する。図1は、本発明の一実施形態であるガスセンサ100の概略構成の一例を示す縦断面模式図である。図2は、ガスセンサ100の概略構成の一例を示す、センサ素子101の長手方向の垂直断面模式図である。図3は、制御装置90と、センサ素子101との電気的な接続関係の一例を示すブロック図である。以下においては、図2を基準として、上下とは、図2の上側を上、下側を下とし、図2の左側を先端側、右側を後端側とする。図1においては、図2と対応させると、図1の左側が上、右側が下、下側が先端側、上側が後端側である。なお、図1に示したようなガスセンサの構造は周知であり、例えば特開2021-156647号公報、WO2020/004356号公報に記載されている。
 図1に示すように、ガスセンサ100は、センサ素子101と、センサ素子101の先端側を保護する保護カバー130と、センサ素子101と導通するコネクタ150を含むセンサ組立体140とを備えている。このガスセンサ100は、図示するように例えば車両の排ガス管などの配管190に取り付けられて、被測定ガスとしての排気ガスに含まれるNOx、NH、O等の測定対象ガスの濃度を測定するために用いられる。本実施形態では、ガスセンサ100は測定対象ガスとしてNOx濃度を測定するものとした。
 保護カバー130は、センサ素子101の先端を覆う有底筒状の内側保護カバー131と、この内側保護カバー131を覆う有底筒状の外側保護カバー132とを備えている。内側保護カバー131及び外側保護カバー132には、被測定ガスを保護カバー130内に流通させるための複数の孔134が形成されている。内側保護カバー131で囲まれた空間としてセンサ素子室133が形成されており、センサ素子101の先端はこのセンサ素子室133内に配置されている。
 センサ組立体140は、センサ素子101を封入固定する素子封止体141と、素子封止体141に取り付けられたナット147,外筒148と、センサ素子101の後端の表面(上下面)に形成された図示しないコネクタ電極(後述するヒータコネクタ電極71のみ図2に図示した)に接触してこれらと電気的に接続されたコネクタ150と、を備えている。
 素子封止体141は、筒状の主体金具142と、主体金具142と同軸に溶接固定された筒状の内筒143と、主体金具142及び内筒143の内側の貫通孔内に封入されたセラミックスサポーター144a~144c,圧粉体145a,145b,メタルリング146と、を備えている。センサ素子101は素子封止体141の中心軸上に位置しており、素子封止体141を前後方向に貫通している。内筒143には、圧粉体145bを内筒143の中心軸方向に押圧するための縮径部143aと、メタルリング146を介してセラミックスサポーター144a~144c,圧粉体145a,145bを前方に押圧するための縮径部143bとが形成されている。縮径部143a,143bからの押圧力により、圧粉体145a,145bが主体金具142及び内筒143とセンサ素子101との間で圧縮されることで、圧粉体145a,145bが保護カバー130内のセンサ素子室133と外筒148内の空間149との間を封止すると共に、センサ素子101を固定している。
 ナット147は、主体金具142と同軸に固定されており、外周面に雄ネジ部が形成されている。ナット147の雄ネジ部は、配管190に溶接され内周面に雌ネジ部が設けられた固定用部材191内に挿入されている。これにより、ガスセンサ100のうちセンサ素子101の先端や保護カバー130の部分が配管190内に突出した状態で、ガスセンサ100が配管190に固定されている。
 外筒148は、内筒143,センサ素子101,コネクタ150の周囲を覆っており、コネクタ150に接続された複数のリード線155が後端から外部に引き出されている。このリード線155は、コネクタ150を介してセンサ素子101の各電極(後述)と導通している。外筒148とリード線155との隙間はゴム栓157によって封止されている。外筒148内の空間149は大気で満たされている。センサ素子101の後端はこの空間149内に配置されている。
(センサ素子)
 図2に示すように、センサ素子101は、複数の酸素イオン伝導性の固体電解質層が積層された構造を有する基体部102を含む、長尺板状の素子である。長尺板状とは、長板状、あるいは、帯状ともいう。基体部102は、それぞれがジルコニア(ZrO)等の酸素イオン伝導性固体電解質層からなる第1基板層1と、第2基板層2と、第3基板層3と、第1固体電解質層4と、スペーサ層5と、第2固体電解質層6との6つの層が、図面視で下側からこの順に積層された構造を有する。これら6つの層を形成する固体電解質は緻密な気密のものである。前記6つの層は全て同じ厚みであってもよいし、各層毎に異なる厚みであってもよい。各層の間は、固体電解質からなる接着層を介して接着されており、基体部102には前記接着層を含む。図2においては、前記6つの層からなる層構成を例示したが、本発明における層構成はこれに限られるものではなく、任意の層の数及び層構成としてよい。
 係るセンサ素子101は、例えば、各層に対応するセラミックスグリーンシートに所定の加工および回路パターンの印刷などを行った後にそれらを積層し、さらに、焼成して一体化させることによって製造される。
 センサ素子101の長手方向の一方の端部(以下、先端部という)であって、第2固体電解質層6の下面と第1固体電解質層4の上面との間には、ガス導入口10が形成されている。被測定ガス流通空所15、すなわち被測定ガス流通部は、ガス導入口10から長手方向に、第1拡散律速部11と、緩衝空間12と、第2拡散律速部13と、第1内部空所20と、第3拡散律速部30と、第2内部空所40と、第4拡散律速部60と、第3内部空所61とが、この順に連通する態様にて形成されている。
 ガス導入口10と、緩衝空間12と、第1内部空所20と、第2内部空所40と、第3内部空所61とは、スペーサ層5をくり抜いた態様にて設けられた上部を第2固体電解質層6の下面で、下部を第1固体電解質層4の上面で、側部をスペーサ層5の側面で区画されたセンサ素子101内部の空間である。
 第1拡散律速部11と、第2拡散律速部13と、第3拡散律速部30とはいずれも、2本の横長の(図2において図面に垂直な方向に開口が長手方向を有する)スリットとして設けられる。第1拡散律速部11と、第2拡散律速部13と、第3拡散律速部30とはいずれも、所望の拡散抵抗を付与する形態であればよく、その形態は前記スリットに限定されるものではない。
 第4拡散律速部60は、1本の横長の(図2において図面に垂直な方向に開口が長手方向を有する)スリットとして、スペーサ層5と第2固体電解質層6との間に設けられる。第4拡散律速部60は、所望の拡散抵抗を付与する形態であればよく、その形態は前記スリットに限定されるものではない。
 スペーサ層5の下面と第3基板層3の上面との間には、基準ガス室43が設けられている。基準ガス室43は、第1固体電解質層4をくり抜いて設けられたセンサ素子101の内部の空間である。基準ガス室43は、前記基体部102の内部に、前記被測定ガス流通空所15とは離隔して形成されている。基準ガス室43は、基体部102の内部に閉じられた空間である。基準ガス室43は、NOx濃度の測定を行う際の基準となる基準ガスを溜めておくための領域である。基準ガスは、所定の酸素濃度のガスであり、本実施形態では大気又は大気と同じ酸素濃度のガス(例えば窒素をベースガスとして酸素を含むガス)とした。基準ガス室43には、基準電極42が配設されている。
 基準電極42は、基準ガス室43内の第3基板層3の上面に配設された電極である。また、後述するように、基準電極42を用いて第1内部空所20内、第2内部空所40内、及び第3内部空所61内の酸素濃度(酸素分圧)を測定することが可能となっている。基準電極42は、多孔質サーメット電極(例えば、PtとZrOとのサーメット電極)として形成される。
 被測定ガス流通空所15において、ガス導入口10は、外部空間に対して開口してなる部位であり、該ガス導入口10を通じて外部空間からセンサ素子101内に被測定ガスが取り込まれるようになっている。
 本実施形態においては、被測定ガス流通空所15は、センサ素子101の先端面に開口したガス導入口10から被測定ガスが導入される形態であるが、本発明はこの形態に限定されるものではない。例えば、被測定ガス流通空所15には、ガス導入口10の凹所が存在しなくてもよい。この場合は、第1拡散律速部11が実質的にガス導入口となる。
 また、例えば、被測定ガス流通空所15は、基体部102の長手方向に沿う側面に、緩衝空間12あるいは第1内部空所20の緩衝空間12近傍の位置と連通する開口を有している形態であってもよい。この場合は、前記開口を通じて、基体部102の長手方向に沿う側面から被測定ガスが導入される。
 また、例えば、被測定ガス流通空所15は、多孔体を通じて被測定ガスが導入される構成になっていてもよい。
 第1拡散律速部11は、ガス導入口10から取り込まれた被測定ガスに対して、所定の拡散抵抗を付与する部位である。
 緩衝空間12は、第1拡散律速部11より導入された被測定ガスを第2拡散律速部13へと導くために設けられた空間である。
 第2拡散律速部13は、緩衝空間12から第1内部空所20に導入される被測定ガスに対して、所定の拡散抵抗を付与する部位である。
 結果として、第1内部空所20に導入される被測定ガスの量が所定の範囲になっていればよい。すなわち、センサ素子101の先端部から第2拡散律速部13の全体として、所定の拡散抵抗を付与されていればよい。例えば、第1拡散律速部11が直接第1内部空所20と連通する、すなわち、緩衝空間12と、第2拡散律速部13とが存在しない態様としてもよい。
 緩衝空間12は、被測定ガスの圧力が変動する場合に、その圧力変動が検出値に与える影響を緩和するために設けられた空間である。
 被測定ガスが、センサ素子101外部から第1内部空所20内まで導入されるにあたって、外部空間における被測定ガスの圧力変動(被測定ガスが自動車の排気ガスの場合であれば排気圧の脈動)によってガス導入口10からセンサ素子101内部に急激に取り込まれた被測定ガスは、直接第1内部空所20へ導入されるのではなく、第1拡散律速部11、緩衝空間12、第2拡散律速部13を通じて被測定ガスの圧力変動が打ち消された後、第1内部空所20へ導入されるようになっている。これによって、第1内部空所20へ導入される被測定ガスの圧力変動はほとんど無視できる程度のものとなる。
 第1内部空所20は、第2拡散律速部13を通じて導入された被測定ガス中の酸素分圧を調整するための空間として設けられている。係る酸素分圧は、主ポンプセル21が作動することによって調整される。
 主ポンプセル21は、第1内部空所20に面する第2固体電解質層6の下面のほぼ全面に設けられた天井電極部22aを有する内側主ポンプ電極22と、第2固体電解質層6の上面の天井電極部22aと対応する領域に外部空間(図1のセンサ素子室133)に露出する態様にて設けられた外側ポンプ電極23と、これらの電極に挟まれた第2固体電解質層6とによって構成されてなる電気化学的ポンプセルである。
 内側主ポンプ電極22は、第1内部空所20に面して配設されている。すなわち、内側主ポンプ電極22は、第1内部空所20を区画する上下の固体電解質層(第2固体電解質層6および第1固体電解質層4)、および、側壁を与えるスペーサ層5にまたがって形成されている。具体的には、第1内部空所20の天井面を与える第2固体電解質層6の下面には天井電極部22aが形成され、また、底面を与える第1固体電解質層4の上面には底部電極部22bが形成され、そして、それら天井電極部22aと底部電極部22bとを接続するように、側部電極部(図示省略)が第1内部空所20の両側壁部を構成するスペーサ層5の側壁面(内面)に形成されて、該側部電極部の配設部位においてトンネル形態とされた構造において配設されている。
 内側主ポンプ電極22と外側ポンプ電極23とは、多孔質サーメット電極(例えば、Auを1%含むPtとZrOとのサーメット電極)として形成される。なお、被測定ガスに接触する内側主ポンプ電極22は、被測定ガス中のNOx成分に対する還元能力を弱めた材料を用いて形成される。
 主ポンプセル21においては、内側主ポンプ電極22と外側ポンプ電極23との間に所望のポンプ電圧Vp0を可変電源24により印加して、内側主ポンプ電極22と外側ポンプ電極23との間に正方向あるいは負方向にポンプ電流Ip0を流すことにより、第1内部空所20内の酸素を外部空間に汲み出し、あるいは、外部空間の酸素を第1内部空所20に汲み入れることが可能となっている。
 また、第1内部空所20における雰囲気中の酸素濃度(酸素分圧)を検出するために、内側主ポンプ電極22と、第2固体電解質層6と、スペーサ層5と、第1固体電解質層4と、第3基板層3と、基準電極42によって、電気化学的なセンサセル、すなわち、主ポンプ制御用酸素分圧検出センサセル80が構成されている。
 主ポンプ制御用酸素分圧検出センサセル80における起電力(電圧V0)を測定することで第1内部空所20内の酸素濃度(酸素分圧)がわかるようになっている。さらに、電圧V0が一定となるようにポンプ電圧Vp0をフィードバック制御することでポンプ電流Ip0が制御されている。これによって、第1内部空所20内の酸素濃度を所定の一定値に保つことができる。
 第3拡散律速部30は、第1内部空所20で主ポンプセル21の動作により酸素濃度(酸素分圧)が制御された被測定ガスに所定の拡散抵抗を付与して、該被測定ガスを第2内部空所40に導く部位である。
 第2内部空所40は、第3拡散律速部30を通じて導入された被測定ガス中の酸素分圧をより高精度に調整するための空間として設けられている。係る酸素分圧は、補助ポンプセル50が作動することによって調整される。
 第2内部空所40では、あらかじめ第1内部空所20において酸素濃度(酸素分圧)が調整された後、第3拡散律速部30を通じて導入された被測定ガスに対して、さらに補助ポンプセル50による酸素分圧の調整が行われるようになっている。これにより、第2内部空所40内の酸素濃度を高精度に一定に保つことができるため、係るガスセンサ100においては精度の高いNOx濃度測定が可能となる。
 補助ポンプセル50は、第2内部空所40に面する第2固体電解質層6の下面の略全体に設けられた天井電極部51aを有する補助ポンプ電極51と、外側ポンプ電極23(外側ポンプ電極23に限られるものではなく、被測定ガス流通空所15とは異なる位置に配設された適当な電極であれば足りる)と、第2固体電解質層6とによって構成される、補助的な電気化学的ポンプセルである。
 補助ポンプ電極51は、被測定ガス流通空所15の内表面の、内側主ポンプ電極22よりも前記基体部102(センサ素子101)の長手方向の前記一方の端部(先端部)から遠い位置に配設されている。
 係る補助ポンプ電極51は、先の第1内部空所20内に設けられた内側主ポンプ電極22と同様なトンネル形態とされた構造において、第2内部空所40内に配設されている。つまり、第2内部空所40の天井面を与える第2固体電解質層6に対して天井電極部51aが形成され、また、第2内部空所40の底面を与える第1固体電解質層4には、底部電極部51bが形成され、そして、それらの天井電極部51aと底部電極部51bとを連結する側部電極部(図示省略)が、第2内部空所40の側壁を与えるスペーサ層5の両壁面にそれぞれ形成されたトンネル形態の構造となっている。
 なお、補助ポンプ電極51についても、内側主ポンプ電極22と同様に、被測定ガス中のNOx成分に対する還元能力を弱めた材料を用いて形成される。
 補助ポンプセル50においては、補助ポンプ電極51と外側ポンプ電極23との間に所望のポンプ電圧Vp1を可変電源52により印加することにより、第2内部空所40内の雰囲気中の酸素を外部空間に汲み出し、あるいは、外部空間から第2内部空所40内に汲み入れることが可能となっている。
 また、第2内部空所40内における雰囲気中の酸素分圧を制御するために、補助ポンプ電極51と、基準電極42と、第2固体電解質層6と、スペーサ層5と、第1固体電解質層4と、第3基板層3とによって電気化学的なセンサセル、すなわち、補助ポンプ制御用酸素分圧検出センサセル81が構成されている。
 なお、この補助ポンプ制御用酸素分圧検出センサセル81にて検出される起電力(電圧V1)に基づいて電圧制御される可変電源52にて、補助ポンプセル50がポンピングを行う。これにより第2内部空所40内の雰囲気中の酸素分圧は、NOxの測定に実質的に影響がない低い分圧にまで制御されるようになっている。
 また、これとともに、そのポンプ電流Ip1が、主ポンプ制御用酸素分圧検出センサセル80の電圧V0の制御に用いられるようになっている。具体的には、ポンプ電流Ip1は、制御信号として主ポンプ制御用酸素分圧検出センサセル80に入力され、その電圧V0が制御されることにより、第3拡散律速部30から第2内部空所40内に導入される被測定ガス中の酸素分圧の勾配が常に一定となるように制御されている。NOxセンサとして使用する際は、主ポンプセル21と補助ポンプセル50との働きによって、第2内部空所40内での酸素濃度は約0.001ppm程度の一定の値に保たれる。
 第4拡散律速部60は、第2内部空所40で補助ポンプセル50の動作により酸素濃度(酸素分圧)がさらに低く制御された被測定ガスに所定の拡散抵抗を付与して、該被測定ガスを第3内部空所61に導く部位である。
 第3内部空所61は、第4拡散律速部60を通じて導入された被測定ガス中の窒素酸化物(NOx)濃度を測定するための空間として設けられている。測定用ポンプセル41の動作によりNOx濃度が測定される。
 測定用ポンプセル41は、第3内部空所61内において、被測定ガス中のNOx濃度の測定を行う。測定用ポンプセルは、前記被測定ガス流通空所15内(前記被測定ガス流通空所15の内表面)に配設された内側測定電極(本実施形態においては測定電極44)と、前記基体部の前記被測定ガス流通空所15とは異なる位置に配設された、前記内側測定電極と対応している外側測定電極(本実施形態においては外側ポンプ電極23)とを含む。
 すなわち、本実施形態において、測定用ポンプセル41は、第3内部空所61に面する第1固体電解質層4の上面に設けられた測定電極44と、外側ポンプ電極23(外側ポンプ電極23に限られるものではなく、被測定ガス流通空所15とは異なる位置に配設された適当な電極であれば足りる)と、第2固体電解質層6と、スペーサ層5と、第1固体電解質層4とによって構成された電気化学的ポンプセルである。
 測定電極44は、前記被測定ガス流通空所15の内表面の、前記内側主ポンプ電極22及び前記補助ポンプ電極51よりも前記基体部102(センサ素子101)の長手方向の前記一方の端部(先端部)から遠い位置に配設されている。
 測定電極44は、多孔質サーメット電極である。測定電極44は、第3内部空所61内の雰囲気中に存在するNOxを還元するNOx還元触媒としても機能する。例えば、本実施形態においては、測定電極44は、Pt及びRhとZrOとの多孔質サーメット電極とした。
 測定用ポンプセル41においては、測定電極44の周囲の雰囲気中における窒素酸化物の分解によって生じた酸素を汲み出して、その発生量をポンプ電流Ip2として検出することができる。
 また、測定電極44の周囲の酸素分圧を検出するために、第1固体電解質層4と、第3基板層3と、測定電極44と、基準電極42とによって電気化学的なセンサセル、すなわち、測定用ポンプ制御用酸素分圧検出センサセル82が構成されている。測定用ポンプ制御用酸素分圧検出センサセル82にて検出された起電力(電圧V2)に基づいて可変電源46が制御される。
 第2内部空所40内に導かれた被測定ガスは、酸素分圧が制御された状況下で第4拡散律速部60を通じて第3内部空所61内の測定電極44に到達することとなる。測定電極44の周囲の被測定ガス中の窒素酸化物は還元されて(2NO→N+O)酸素を発生する。そして、この発生した酸素は測定用ポンプセル41によってポンピングされることとなるが、その際、測定用ポンプ制御用酸素分圧検出センサセル82にて検出された電圧V2が一定となるように可変電源46のポンプ電圧Vp2が制御される。測定電極44の周囲において発生する酸素の量は、被測定ガス中の窒素酸化物の濃度に比例するものであるから、測定用ポンプセル41におけるポンプ電流Ip2を用いて被測定ガス中の窒素酸化物濃度が算出されることとなる。
 また、測定電極44と、第1固体電解質層4と、第3基板層3と、基準電極42とを組み合わせて、電気化学的センサセルとして酸素分圧検出手段を構成するようにすれば、測定電極44の周りの雰囲気中のNOx成分の還元によって発生した酸素の量と基準大気に含まれる酸素の量との差に応じた起電力を検出することができ、これによって被測定ガス中のNOx成分の濃度を求めることも可能である。
 また、第2固体電解質層6と、スペーサ層5と、第1固体電解質層4と、第3基板層3と、外側ポンプ電極23と、基準電極42とから電気化学的なセンサセル83が構成されており、このセンサセル83によって得られる起電力(電圧Vref)によりセンサ外部の被測定ガス中の酸素分圧を検出可能となっている。
 さらに、第2固体電解質層6と、スペーサ層5と、第1固体電解質層4と、第3基板層3と、外側ポンプ電極23と、基準電極42とから電気化学的な基準ガス調整ポンプセル84が構成されている。この基準ガス調整ポンプセル84は、外側ポンプ電極23と基準電極42との間に接続された電源回路85が印加するポンプ電圧Vp3によりポンプ電流Ip3が流れることで、酸素のポンピングを行う。これにより、基準ガス調整ポンプセル84は、外側ポンプ電極23の周囲の空間(図1のセンサ素子室133)から基準電極42の周囲の空間すなわち基準ガス室43に酸素の汲み入れを行ったり、基準ガス室43から外側ポンプ電極23の周囲の空間に酸素の汲み出しを行ったりすることができる。
 このような構成を有するガスセンサ100においては、主ポンプセル21と補助ポンプセル50とを作動させることによって酸素分圧が常に一定の低い値(NOxの測定に実質的に影響がない値)に保たれた被測定ガスが測定用ポンプセル41に与えられる。したがって、被測定ガス中のNOxの濃度に略比例して、NOxの還元によって発生する酸素が測定用ポンプセル41より汲み出されることによって流れるポンプ電流Ip2に基づいて、被測定ガス中のNOx濃度を知ることができるようになっている。
 さらに、センサ素子101は、固体電解質の酸素イオン伝導性を高めるために、センサ素子101を加熱して保温する温度調整の役割を担うヒータ部70を備えている。ヒータ部70は、ヒータコネクタ電極71と、ヒータ72と、ヒータリード76と、スルーホール73と、ヒータ絶縁層74とを備えている。
 ヒータコネクタ電極71は、第1基板層1の下面に接する態様にて形成されてなる電極である。ヒータコネクタ電極71を外部電源であるヒータ電源と接続することによって、外部からヒータ部70へ給電することができるようになっている。
 ヒータ72は、第2基板層2と第3基板層3とに上下から挟まれた態様にて形成される電気抵抗体である。ヒータ72は、ヒータ72に接続していて且つセンサ素子101の長手方向後端側に延びているヒータリード76と、スルーホール73とを介してヒータコネクタ電極71と接続されており、該ヒータコネクタ電極71を通して外部より給電されることにより発熱し、センサ素子101を形成する固体電解質の加熱と保温を行う。
 また、ヒータ72は、第1内部空所20から第3内部空所61の全域に渡って埋設されており、センサ素子101を上記固体電解質が活性化する温度に調整することが可能となっている。主ポンプセル21、補助ポンプセル50、及び測定用ポンプセル41が作動できるように温度が調整されていればよい。これらの全域が同じ温度に調整される必要はなく、センサ素子101に温度分布があってもよい。
 本実施形態のセンサ素子101においては、ヒータ72が基体部102に埋設された態様であるが、この態様に限定されるものでない。ヒータ72は、基体部102を加熱するように配設されていればよい。すなわち、ヒータ72は、上述の主ポンプセル21、補助ポンプセル50、及び測定用ポンプセル41が作動できる酸素イオン伝導性を発現させる程度に、センサ素子101を加熱できるものであればよい。例えば、本実施形態のように基体部102に埋設されていてもよい。あるいは、例えば、ヒータ部70が基体部102とは別のヒータ基板として形成され、基体部102の隣接位置に配設されていてもよい。あるいは、センサ素子101は高温の被測定ガスにより加熱されてもよい。精度よく測定するためには、被測定ガスの温度によらず、センサ素子101の温度が一定であることが好ましい。この点を考慮すると、本実施形態のように、センサ素子101がヒータ部70を備えていることが好ましい。
 ヒータ絶縁層74は、ヒータ72及びヒータリード76の上下面に、アルミナ等の絶縁体によって形成されてなる絶縁層である。ヒータ絶縁層74は、第2基板層2とヒータ72及びヒータリード76との間の電気的絶縁性、および、第3基板層3とヒータ72及びヒータリード76との間の電気的絶縁性を得る目的で形成されている。
(制御装置)
 本実施形態のガスセンサ100は、上述のセンサ素子101と、センサ素子101を制御する制御装置90とを含む。ガスセンサ100において、センサ素子101の各電極22,23,51,44,42は、それぞれリード線155を介して、制御装置90と電気的に接続されている。図3は、本実施形態における、制御装置90と、センサ素子101の各ポンプセル21、50、41、84、及び各センサセル80、81、82、83との電気的接続関係を示すブロック図である。制御装置90は、上述した可変電源24,46、52及び電源回路85と、制御部91とを含む。制御部91は、駆動制御部92、記憶部93、及び処理部94を含む。
 制御部91は、汎用又は専用のコンピュータにより実現されるものであり、コンピュータに搭載されたCPUやメモリ等により駆動制御部92、記憶部93、及び処理部94としての機能が実現される。なお、ガスセンサ100が自動車のエンジンからの排気ガス中に含まれるNOxを測定対象ガスとし、センサ素子101が排気経路に取り付けられるものである場合、制御装置90(特に制御部91)の一部あるいは全部の機能が、該自動車に搭載されているECU(Electronic Control Unit;電子制御装置)により実現されてもよい。
 制御部91は、センサ素子101の各センサセル80、81、82、83における起電力(電圧V0、V1、V2、Vref)、及び各ポンプセル21、50、41、84におけるポンプ電流(Ip0、Ip1、Ip2、Ip3)を取得するように構成されている。また、制御部91は、可変電源24、52、46、及び電源回路85に制御信号を出力するように構成されている。
 駆動制御部92は、主ポンプセル21、補助ポンプセル50、及び測定用ポンプセル41の動作を制御するように構成されている。さらに、基準ガス調整ポンプセル84の動作を制御するように構成されていてもよい。
 駆動制御部92は、前記被測定ガス流通空所15の内表面に配設された内側測定電極(測定電極44)を含む測定用ポンプセル41を少なくとも動作させて被測定ガス中の測定対象ガスを検出する通常制御を行う。
 駆動制御部92は、本実施形態においては、通常制御において、主ポンプセル21、補助ポンプセル50、及び測定用ポンプセル41を動作させるものとした。より具体的には、本実施形態においては、以下のように通常制御を行う。
 通常制御において、駆動制御部92は、主ポンプ制御用酸素分圧検出センサセル80における電圧V0が一定値(設定値V0SETと称する)となるように、主ポンプセル21における可変電源24のポンプ電圧Vp0をフィードバック制御する。電圧V0は内側主ポンプ電極22近傍の酸素分圧を示しているので、電圧V0を一定にすることは、内側主ポンプ電極22近傍の酸素分圧を一定にすることを意味する。結果として、主ポンプセル21におけるポンプ電流Ip0は、被測定ガス中の酸素濃度に応じて変化する。
 被測定ガス中の酸素分圧が、設定値V0SETに相当する酸素分圧より高い場合には、主ポンプセル21において、第1内部空所20から酸素を排出する。一方、被測定ガス中の酸素分圧が、設定値V0SETに相当する酸素分圧より低い場合(例えば、炭化水素HC等が含まれている場合)には、主ポンプセル21において、センサ素子101の外の空間から、第1内部空所20に酸素を汲み入れる。従って、ポンプ電流Ip0は、正負のどちらの値も取り得る。
 駆動制御部92は、補助ポンプ制御用酸素分圧検出センサセル81における電圧V1が一定値(設定値V1SETと称する)となるように、補助ポンプセル50における可変電源52のポンプ電圧Vp1をフィードバック制御する。電圧V1は補助ポンプ電極51近傍の酸素分圧を示しているので、電圧V1を一定にすることは、補助ポンプ電極51近傍の酸素分圧を一定にすることを意味する。これにより第2内部空所40内の雰囲気中の酸素分圧は、NOxの測定に実質的に影響がない低い分圧にまで制御されるようになっている。
 また、これとともに、補助ポンプセル50におけるポンプ電流Ip1が一定値(設定値Ip1SETと称する)となるように、ポンプ電流Ip1に基づいて電圧V0の設定値V0SETを設定するフィードバック制御を行う。具体的には、ポンプ電流Ip1は、制御信号として主ポンプ制御用酸素分圧検出センサセル80に入力され、その電圧V0がポンプ電流Ip1に基づいて設定された設定値V0SETに制御されることにより、第3拡散律速部30から第2内部空所40内に導入される被測定ガス中の酸素分圧の勾配が常に一定となるように制御されている。NOxセンサとして使用する際は、主ポンプセル21と補助ポンプセル50との働きによって、第2内部空所40内での酸素濃度は約0.001ppm程度の一定の値に保たれる。すなわち、第4拡散律速部60から第3内部空所61に導入される被測定ガス中の酸素濃度が約0.001ppm程度の一定の値に保たれると考えられる。
 駆動制御部92は、測定用ポンプ制御用酸素分圧検出センサセル82にて検出される電圧V2が一定値(設定値V2SETと称する)となるように、測定用ポンプセル41における可変電源46のポンプ電圧Vp2をフィードバック制御する。測定電極44において、被測定ガス中の窒素酸化物は還元されて(2NO→N+O)酸素を発生する。発生した酸素は、電圧V2が設定値V2SETとなるように、測定用ポンプセル41によりポンプアウトされる。設定値V2SETは、測定電極44においてNOxを実質的に全て分解する値として設定することができる。設定値V2SETは、ポンプ電流Ip2が限界電流になる値として設定することができる。
 駆動制御部92は、さらに、基準ガス調整ポンプセル84に電源回路85によりポンプ電圧Vp3を印加してポンプ電流Ip3を流す制御を行ってもよい。ポンプ電流Ip3を流すことにより、基準ガス室43に酸素を汲み入れたり(酸素汲み入れ制御)、基準ガス室43から酸素を汲み出したり(酸素汲み出し制御)してもよい。通常制御において、例えば、所定のポンプ電圧Vp3を印加する制御を行ってもよいし、所定のポンプ電流Ip3を流す制御を行ってもよい。通常制御においてこの制御を行う場合、例えば、連続的にポンプ電流Ip3を流していてもよいし、断続的に流してもよい。ポンプ電流Ip3は一定であっても変動させてもよい。通常制御において前記酸素汲み入れ制御や前記酸素汲み出し制御を行う場合には、測定精度に実質的に影響しない範囲で行うように留意すべきである。
 後述のように、処理部94がリフレッシュ処理を行う時には、駆動制御部92は、各ポンプセル21,50,41,84の上述の通常制御を停止するとよい。
 記憶部93は、前記基準ガス室43内の基準ガス中の酸素濃度が所定濃度である時に、基準ガス室43内に存在すべき所要酸素量を予め記憶する。前記所定濃度は、当業者が適宜設定してよく、例えば、大気と同等の酸素濃度であってもよい。
 記憶部93は、例えば、所要酸素量として、ポンプ電極と基準電極42との間に電流を流して前記所要酸素量の酸素を移動させる場合に前記ポンプ電極と前記基準電極42との間に流れる電流の所要電流積分値を予め記憶しておいてもよい。前記ポンプ電極は、基準ガス室43内とは異なる位置に配設された、酸素ポンプ機能を有する電極である。前記ポンプ電極は、通常被測定ガスに晒される位置に配設される。例えば、前記ポンプ電極は、基体部102の外側に配設されていてもよいし、被測定ガス流通空所15内(内表面)に配設されていてもよい。例えば、前記ポンプ電極は、外側ポンプ電極23、内側ポンプ電極22、補助ポンプ電極51、又は測定電極44であってよい。本実施形態においては、外側ポンプ電極23と基準電極42との間に電流を流す場合を例として、説明する。
 ここで、基準ガス室43内から酸素を汲み出す場合の、電流の挙動を説明する。図4は、基準ガス室43から酸素を汲み出す場合におけるポンプ電流Ip3の時間変化の一例を示す模式図である。図4において、横軸は時間(秒)、縦軸はポンプ電流Ip3(μA)である。
 図4を参照して、基準ガス調整ポンプセル84(外側ポンプ電極23と基準電極42との間)に所定のポンプ電圧Vp3を印加してポンプ電流Ip3を流し、基準ガス室43から酸素を汲み出す場合の、ポンプ電流Ip3の挙動を説明する。基準ガス調整ポンプセル84に所定のポンプ電圧Vp3を印加するとポンプ電流Ip3が流れ、基準ガス室43から酸素が汲み出される。基準ガス室43から酸素が汲み出されるに従って、基準ガス室43内に存在する酸素量は減少する。基準ガス室43内の酸素量が減少するに従って、ポンプ電流Ip3の電流値は小さくなる。そして、基準ガス室43内の酸素がゼロ又はゼロ近傍の量(実質的にゼロ)になると、ポンプ電流Ip3はゼロ又はほぼゼロになる。図4に斜線で示した部分の面積Sは、ポンプ電流Ip3を時間積分した値である。この積分値を電流積分値(電流積算値)と称する。ポンプ電流Ip3は単位時間当たりに移動する電荷量であるため、電流積分値(図4における面積S)は、基準電極42から外側ポンプ電極23に移動した酸素イオンO2-の電荷量に相当する。酸素イオンO2-の電荷量は、ポンプ電流Ip3を流し始める前に基準ガス室43内に存在していた酸素の量に対応する。つまり、電流積分値(図4における面積S)は、基準ガス室43内に存在していた酸素量を示す指標となり得る。
 従って、基準ガス室43内の基準ガス中の酸素濃度が所定濃度である時に、基準ガス室43内に存在すべき所要酸素量に対応するポンプ電流Ip3の電流積分値を取得し、記憶部93がその電流積分値(所要電流積分値と称する)を記憶してもよい。所要電流積分値は、基準ガス中の酸素の前記所定濃度と、基準ガス室43の体積とによって概ね決まる。
 前記所要電流積分値は、例えば、以下のように求めることができる。まず、後述するガスセンサ100の製造時における酸素濃度確認工程などにより、基準ガス室43内の基準ガス中の酸素濃度が所定濃度であることを確認する。なお、基準ガス中の酸素濃度の確認は、センサ素子101の外側ポンプ電極23を既知の酸素濃度のガス(例えば大気)に接触させた状態で行う。そして、基準ガス室43内の基準ガス中の酸素濃度が所定濃度である時に、基準ガス調整ポンプセル84(外側ポンプ電極23と基準電極42との間)に電源回路85により所定のポンプ電圧Vp3を印加してポンプ電流Ip3を流し、基準ガス室43内に存在する酸素を、基準電極42から外側ポンプ電極23へと汲み出す。流れるポンプ電流Ip3と時間を取得しつつ、ポンプ電流Ip3が実質的にゼロとなるまで所定のポンプ電圧Vp3を印加し続ける。そして、図4における面積Sに相当する、ポンプ電流Ip3の時間積分値(所要電流積分値)を算出する。
 また、記憶部93は、例えば、所要酸素量として、前記ポンプ電極(例えば外側ポンプ電極23)と前記基準電極42との間に所定の電流を流して前記所要酸素量の酸素を移動させる場合の所要時間を予め記憶してもよい。すなわち、所定の電流を流してその電流積分値が上述の所要電流積分値に達するまでの所要時間を記憶しておいてもよい。
 また、記憶部93は、例えば、所要酸素量として、前記ポンプ電極(例えば外側ポンプ電極23)と前記基準電極42との間に電流を所定時間流して前記所要酸素量の酸素を移動させる場合の所要電流値を予め記憶してもよい。すなわち、電流を所定時間流した時にその電流積分値が上述の所要電流積分値に達するのに要する所要電流値を記憶しておいてもよい。
 処理部94は、前記ポンプ電極と基準電極42との間に電流を流して、前記基準ガス室43内に存在する酸素を前記基準ガス室43から汲み出し、基準ガス室43内に存在する酸素を実質的にゼロにして、その後、前記記憶部93が予め記憶している前記所要酸素量の酸素を前記基準ガス室43へ汲み入れるリフレッシュ処理を行う。上述のとおり、ポンプ電極は、基準ガス室43内とは異なる位置に配設された電極である。例えば、外側ポンプ電極23、内側ポンプ電極22、補助ポンプ電極51、又は測定電極44であってよい。リフレッシュ処理の詳細は、後述する。
[ガスセンサの製造]
 次に、上述のようなガスセンサ100の製造方法の一例を説明する。ジルコニア(ZrO)等の酸素イオン伝導性固体電解質をセラミックス成分として含む複数の未焼成のシート状成形物(いわゆるグリーンシート)に所定の加工および回路パターンの印刷などを行った後に、当該複数のシートを積層し、その積層体を切断した後、焼成することによってセンサ素子101を作製することができる。その後、センサ素子101を組み込んだガスセンサ100を作製する。
 以下においては、図2に示した6つの層からなるセンサ素子101を作製する場合を例として説明する。
 まず、ジルコニア(ZrO)等の酸素イオン伝導性固体電解質をセラミックス成分として含む6枚のグリーンシートを準備する。グリーンシートの作製には、公知の成形方法を用いることができる。6枚のグリーンシートは全て同じ厚みでもよいし、形成する層によって厚みが異なってもよい。6枚のグリーンシートそれぞれに、印刷時や積層時の位置決めに用いるシート穴等を、パンチング装置による打ち抜き処理などの公知の方法で、予め形成する(ブランクシート)。スペーサ層5に用いるブランクシートには、内部空所等の貫通部も同様の方法で形成する。第1固体電解質層4に用いるブランクシートには、基準ガス室43の貫通部も同様の方法で形成する。その他の層にも必要な貫通部を予め形成する。
 第1基板層1と、第2基板層2と、第3基板層3と、第1固体電解質層4と、スペーサ層5と、第2固体電解質層6との6つの層に用いるブランクシートに、各層毎に必要な種々のパターンの印刷・乾燥処理を行う。パターンの印刷には、公知のスクリーン印刷技術を用いることができる。乾燥処理についても、公知の乾燥手段を用いることができる。
 このような工程を繰り返し、6枚のブランクシートそれぞれに対する種々のパターンの印刷・乾燥が終わると、6枚の印刷済みブランクシートを、シート穴等で位置決めしつつ所定の順序で積み重ねて、所定の温度・圧力条件で圧着させて積層体とする圧着処理を行う。圧着処理は、公知の油圧プレス機等の積層機で加熱・加圧することにより行う。加熱・加圧する温度、圧力及び時間は、用いる積層機に依存するものであるが、良好な積層が実現できるように、適宜定めることができる。
 得られた積層体は、複数個のセンサ素子101を包含している。その積層体を切断してセンサ素子101の単位に切り分ける。切り分けられた積層体を所定の焼成温度で焼成し、センサ素子101を得る。焼成温度は、センサ素子101の基体部102を構成する固体電解質が焼結して緻密体となり、かつ、電極等が所望の気孔率を保持する温度であればよい。例えば、1300~1500℃程度の焼成温度で焼成される。
 その後、センサ素子101を組み込んだガスセンサ100を製造する。例えば、センサ素子101に素子封止体141を取り付けて封止固定し、ヒータコネクタ電極71等のコネクタ電極と導通するようにセンサ素子101の後端側にコネクタ150及びリード線155を取り付ける。また、素子封止体141のうちセンサ素子101の先端側に保護カバー130を取り付ける。また、素子封止体141のうちセンサ素子101の後端側に外筒148を取り付けると共に、外筒148からリード線155を外部に引き出す。そして、制御装置90とセンサ素子101とを、リード線155を介して接続する。これにより、ガスセンサ100が得られる。
 ガスセンサ100の製造工程において、センサ素子101を得た後又はガスセンサ100を得た後に、基準ガス室43の酸素濃度の確認と必要に応じた基準ガス室43の酸素濃度の調整とを行う酸素濃度確認工程を行うことが好ましい。この工程は、例えば以下のように行う。まず、センサ素子101の外側ポンプ電極23を既知の酸素濃度のガス(例えば大気)に接触させた状態で、センサ素子101を所定の駆動温度(例えば800℃)に保持し、センサセル83の電圧Vrefを測定する。そして、既知の酸素濃度と電圧Vrefとに基づいて、基準ガス室43内の酸素濃度を導出する。そして、基準ガス室43内の酸素濃度が基準ガスの酸素濃度と同じとみなせる所定の酸素濃度範囲にあることを確認する。基準ガス室43内の酸素濃度が所定の酸素濃度範囲から外れていた場合には、基準ガス調整ポンプセル84に電源回路85からポンプ電圧Vp3を印加してポンプ電流Ip3を流して、基準ガス室43内への酸素の汲み入れ又は基準ガス室43からの酸素の汲み出しを行う。これにより、基準ガス室43の酸素濃度が所定の酸素濃度範囲になるように調整する。電圧Vrefの測定及び基準ガス室43の酸素濃度の調整は、ガスセンサ100の制御装置90が行ってもよいし、制御装置90とは別の装置をセンサ素子101に接続してその装置が行ってもよい。
 酸素濃度確認工程における電圧Vrefの測定時には、基準ガス調整ポンプセル84にポンプ電圧Vp3を印加しないようにする。さらに、電圧Vrefの測定時には、外側ポンプ電極23及び基準電極42の電圧降下による測定誤差を少なくするべく、外側ポンプ電極23に電流を流すようなセンサ素子101の制御を行わないようにすることが好ましい。具体的には、主ポンプセル21,補助ポンプセル50,及び測定用ポンプセル41の動作を停止する(可変電源24,52,46がポンプ電圧Vp0,Vp1,Vp2を印加しないようにする)ことが好ましい。特に、主ポンプセル21に流れるポンプ電流Ip0はポンプ電流Ip1,Ip2よりも値が比較的大きいことで外側ポンプ電極23の電圧降下が大きいから、主ポンプセル21,補助ポンプセル50,及び測定用ポンプセル41のうち少なくとも主ポンプセル21の動作を停止することが好ましい。
 ガスセンサ100の製造工程において、前記酸素濃度確認工程を行った後に、さらに、記憶部93に、前記基準ガス室43内の基準ガス中の酸素濃度が所定濃度である時に、基準ガス室43内に存在すべき所要酸素量を予め記憶させる所要酸素量記憶工程を行うことが好ましい。この工程は、例えば以下のように行う。まず、センサ素子101を所定の駆動温度(例えば800℃)に保持し、通常制御における主ポンプセル21,補助ポンプセル50,測定用ポンプセル41,及び基準ガス調整ポンプセル84の動作を停止した状態にする。基準ガス調整ポンプセル84(外側ポンプ電極23と基準電極42との間)に電源回路85により所定のポンプ電圧Vp3を印加してポンプ電流Ip3を流し、基準ガス室43内に存在する酸素を、基準電極42から外側ポンプ電極23へと汲み出す。流れるポンプ電流Ip3と時間を取得しつつ、ポンプ電流Ip3がほぼゼロとなるまで所定のポンプ電圧Vp3を印加し続ける。そして、図4における面積Sに相当する、ポンプ電流Ip3の時間積分値(所要電流積分値)を算出する。
 なお、上述の所要酸素量(例えば所要電流積分値)の取得は、上述の酸素濃度確認工程とは異なり、外側ポンプ電極23が接するガス雰囲気の影響を受けない。従って、上述の酸素濃度確認工程と同じガス雰囲気(例えば大気)において行ってもよいし、異なるガス雰囲気において行ってもよい。
 製造したガスセンサ100の各々について、上述のように個別に所要酸素量(例えば所要電流積分値)を取得して、当該ガスセンサ100の記憶部93に記憶させてもよい。あるいは、予め代表的な所要酸素量(例えば所要電流積分値)を取得しておき、その所要酸素量を複数のガスセンサ100の記憶部93に記憶させてもよい。例えば、同じ構成のガスセンサ100、同じ製造バッチのガスセンサ100に同じ所要酸素量(例えば所要電流積分値)を記憶させてもよい。例えば、基準ガス室43の体積と所要電流積分値との関係を予め取得あるいは算出しておき、それぞれのガスセンサ100の基準ガス室43の体積に応じて、それぞれ対応する所要電流積分値を記憶部93に記憶させてもよい。この場合には、酸素濃度確認工程の前に、所要酸素量記憶工程を行ってもよい。
 制御装置90が、上述の酸素濃度確認工程を、ガスセンサ100の使用中において、被測定ガスの酸素濃度が既知の状態で行ってもよい。例えば、被測定ガスが自動車等の内燃機関の排気ガスの場合、内燃機関の燃料カット時であれば被測定ガスの酸素濃度は大気と同じとみなせるため、上記と同様の酸素濃度確認工程を行ってもよい。そして、その後、上述のように所要酸素量(例えば所要電流積分値)を取得し、所要酸素量記憶工程を行ってもよい。製造工程において、すなわち、出荷前に所要酸素量記憶工程を行っておけば、ガスセンサの使用開始の時から、任意のタイミングで後述のリフレッシュ処理を行うことができるため、より好ましい。
[リフレッシュ処理]
 ガスセンサ100において、何らかの理由で、基準ガス中の酸素濃度が変化すると、その変化に応じて基準電極42の電位(基準電位)も変化してしまう。その結果、基準電極42を基準として検出する各センサセル80,81,82,83における電圧V0,V1,V2,Vrefが変化してしまう。すると、被測定ガス中のNOx濃度の検出精度の低下が起こり得る。
 例えば、本実施形態においては、基準ガス室43は、基体部102の内部にほぼ閉じられた空間である。従って、センサ素子101の外部から基準ガス室43へのガスの流入、及び基準ガス室43からのガスの流出はいずれも抑制されている。しかしながら、上述のように、通常制御において各センサセル80,81,82,83における電圧V0,V1,V2,Vrefを検出する。その電圧測定時に電位計等の電圧測定回路により各センサセル80,81,82,83には微小に電流が流れる。それら電流により、電気化学的に基準ガス室43に酸素が汲み入れられたり、基準ガス室43から酸素が汲み出されたりすることが考えられる。その結果、基準ガス室43内の基準ガス中の酸素濃度が変化し得る。
 本発明のガスセンサは、そのような基準ガス中の酸素濃度の変化が起こった場合であっても、リフレッシュ処理を行うことにより、基準ガス中の酸素濃度を所定濃度にする(戻す)ことができる。従って、被測定ガス中のNOx濃度の検出精度の低下を抑制し、高い測定精度を維持することができる。本発明のガスセンサが行うリフレッシュ処理について、以下に詳しく説明する。
 ガスセンサ100において、処理部94は、基準ガス中の酸素濃度を所定濃度にする(戻す)リフレッシュ処理を行う。リフレッシュ処理により、基準ガス中の酸素濃度が所定濃度に維持される。
 リフレッシュ処理において、処理部94は、前記ポンプ電極と前記基準電極42との間に電流を流して、前記基準ガス室43内に存在する酸素を前記基準ガス室43から汲み出し、基準ガス室43内に存在する酸素をゼロ又は実質的にゼロする。その後、処理部94は、前記記憶部93が予め記憶している前記所要酸素量の酸素を前記基準ガス室43へ汲み入れる。この処理により、基準ガス室43内の酸素濃度、すなわち、基準ガス中の酸素濃度を所定濃度にする(戻す)ことができる。
 つまり、リフレッシュ処理は、基準ガス室43内の酸素を汲み出して、基準ガス室43内に存在する酸素をゼロ又は実質的にゼロにする酸素汲み出し処理と、その後、基準ガス室43内に所要酸素量の酸素を汲み入れて、基準ガス室43内の酸素濃度を所定濃度に戻す酸素汲み入れ処理とを行う。
 基準ガス室43内に存在する酸素が実質的にゼロであるとは、例えば、基準ガスの前記所定濃度を基準として、基準ガス室43内の酸素濃度が、前記所定濃度の2%以下、1%以下、0.5%、あるいは0.1%以下等のゼロに近い濃度であることを意味する。あるいは、前記所要酸素量を基準として、基準ガス室43内に存在する酸素の量が、所要酸素量の2%以下、1%以下、0.5%、あるいは0.1%以下等のゼロに近い濃度であることを意味する。
 本実施形態においては、基準ガス調整ポンプセル84(外側ポンプ電極23と基準電極42との間)にポンプ電流Ip3を流して、基準ガス室43からの酸素の汲み出し、及び基準ガス室43への酸素の汲み入れを行うものとする。図5は、リフレッシュ処理の一例を示すフローチャートである。
 リフレッシュ処理が開始されると、駆動制御部92は、通常制御を停止する(ステップS10)。具体的には、電圧V0が設定値V0SETとなるように主ポンプセル21のポンプ電圧Vp0をフィードバックする制御、電圧V1が設定値V1SETとなるように補助ポンプセル50のポンプ電圧Vp1をフィードバックする制御、及び電圧V2が設定値V2SETとなるように測定用ポンプセル41のポンプ電圧Vp2をフィードバックする制御などの全てのポンプ制御を停止する。すなわち、ヒータ72によりセンサ素子101の温度が所定の温度に保持されており、それ以外の制御は行われていない状態にする。従って、リフレッシュ処理の実行中は、被測定ガス中のNOx濃度の測定は中断される。
 次に、処理部94は、基準ガス室43から酸素を汲み出す(ステップS11)。具体的には、例えば、基準ガス調整ポンプセル84(外側ポンプ電極23と基準電極42との間)に電源回路84によりポンプ電圧Vp3を印加してポンプ電流Ip3を流す。印加するポンプ電圧Vp3は、一定であってもよいし、連続的又は段階的に変動させてもよい。
 次に、処理部94は、基準ガス室43内の基準ガス中の酸素濃度が閾値以下であるか否かを判定する(ステップS12)。閾値は当業者が適宜決定してよく、基準ガス室43内に存在する酸素がゼロ又は実質的にゼロになるように、基準ガス室43内の酸素濃度の前記閾値を決定するとよい。あるいは、基準ガス室43内に存在する酸素量に対して閾値を設定してもよい。
 ステップS12において、基準ガス中の酸素濃度が閾値より高い場合には、ステップS11を行う。すなわち、引き続き、基準ガス室43から酸素を汲み出す。一方、基準ガス中の酸素濃度が閾値以下の場合には、基準ガス室43からの酸素の汲み出しを終了し、基準ガス室43へ酸素を汲み入れる(ステップS13)。つまり、酸素汲み出し処理を終了し、酸素汲み入れ処理を開始する。具体的には、例えば、基準ガス調整ポンプセル84(外側ポンプ電極23と基準電極42との間)に、前記ステップS11の場合とは正負が逆のポンプ電圧Vp3を印加して、基準ガス室43へ酸素を汲み入れる向きにポンプ電流Ip3を流す。ステップS13において印加するポンプ電圧Vp3は、一定であってもよいし、連続的又は段階的に変動させてもよい。また、ステップS13において印加するポンプ電圧Vp3は、ステップS11において印加するポンプ電圧Vp3と絶対値が同じであってもよいし、異なっていてもよい。
 処理部94は、記憶部93から所要酸素量を読み出す。そして、ステップS13において汲み入れた酸素量が所要酸素量に到達したか否かを判定する(ステップS14)。ここで汲み入れた酸素量とは、基準ガス室43への酸素の汲み入れを開始した時からステップS14の判定を行う時までの間に汲み入れた酸素の総量(積分量、積算量)である。
 ステップS14の判定時において、汲み入れた酸素量(総量)が所要酸素量に到達していない、すなわち、所要酸素量未満である場合には、ステップS13を行う。すなわち、引き続き、基準ガス室43へ酸素を汲み入れる。一方、汲み入れた酸素量(総量)が所要酸素量に到達した場合には、基準ガス室43へ酸素の汲み入れを終了し、通常制御を再開する(ステップS15)。そして、リフレッシュ処理は終了する。
 リフレッシュ処理における酸素汲み出し処理についてより具体的に説明する。図6は、前記酸素汲み出し処理(図5におけるステップS11)の時のポンプ電流Ip3の時間変化の一例を示す模式図である。図6において、横軸は時間(秒;sec)、縦軸はポンプ電流Ip3(μA)である。前記酸素汲み出し処理においては、上述の図4についての説明のように、基準ガス室43内の酸素量が減少するに従って、ポンプ電流Ip3の電流値は小さくなる。図6において、時間が経過するほどポンプ電流Ip3が小さくなる(Ip3a>Ip3b>Ip3c)ことが示されている。そして、基準ガス室43内の酸素がゼロ又はゼロ近傍の量(実質的にゼロ)になると、ポンプ電流Ip3はゼロ又はゼロ近傍の十分小さな値になる。
 処理部94は、例えば、前記ポンプ電極(本実施形態において外側ポンプ電極23)と前記基準電極42との間に所定の電圧(本実施形態においてポンプ電圧Vp3)を印加して電流(本実施形態においてポンプ電流Ip3)を流し、前記電流が所定の値以下になるまで前記基準ガス室43内に存在する酸素を前記基準ガス室43から汲み出してもよい。前記電流の前記所定の値(閾値A)は、当業者が適宜設定してよく、例えば、ゼロ又はゼロに近い値に設定してよい。そのように前記所定の値(閾値A)を設定すれば、基準ガス室43内の酸素が実質的にゼロとなるまで基準ガス室43から酸素を汲み出すことができる。その結果、リフレッシュ処理によって基準ガス室43内の基準ガス中の酸素濃度をより高精度に所定濃度にする(戻す)ことができる。前記所定の値(閾値A)は、例えば、1.0μA以下、0.5μA以下、0.25μA以下、あるいは、0.1μA以下であってよい。
 また、図6に示されるように、時間が経過するほど、ポンプ電流Ip3の時間あたりの変化量(時間変化量)は小さくなる。図6におけるグラフの傾きが小さくなる。図6において、ΔIp3a>ΔIp3b>ΔIp3c。従って、処理部94は、例えば、前記ポンプ電極(本実施形態において外側ポンプ電極23)と前記基準電極42との間に所定の電圧(本実施形態においてポンプ電圧Vp3)を印加して電流(本実施形態においてポンプ電流Ip3)を流し、前記電流の時間あたりの変化量(時間変化量)が所定の値になるまで前記基準ガス室43内に存在する酸素を前記基準ガス室43から汲み出してもよい。前記電流の時間変化量の前記所定の値(閾値B)は、当業者が適宜設定してよく、例えば、ゼロ又はゼロに近い値に設定してよい。そのように前記所定の値(閾値B)を設定すれば、基準ガス室43内の酸素が実質的にゼロとなるまで基準ガス室43から酸素を汲み出すことができる。その結果、リフレッシュ処理によって基準ガス室43内の基準ガス中の酸素濃度をより高精度に所定濃度にする(戻す)ことができる。前記電流の時間変化量の前記所定の値(閾値B)は、例えば、0.1μA/s以下、0.05μA/s以下、0.02μA/s以下、あるいは、0.01μA/s以下であってよい。
 図7は、前記酸素汲み出し処理と前記酸素汲み入れ処理の具体例を示すリフレッシュ処理のフローチャートである。図7において、図5と同じステップには同じ符号を付しているため、説明を省略する。なお、前記酸素汲み入れ処理の具体例(ステップS14a及びS14b)については、後述する。
 図7の例においては、前記酸素汲み出し処理として、処理部94は、外側ポンプ電極23と前記基準電極42との間に所定のポンプ電圧Vp3を印加してポンプ電流Ip3を流し、前記ポンプ電流Ip3が所定の値(閾値A)以下になるまで前記基準ガス室43内に存在する酸素を前記基準ガス室43から汲み出す。
 この場合、処理部94は、基準ガス室43から酸素を汲み出すポンプ電流Ip3の電流値が所定の値(閾値A)以下であるか否かを判定する(ステップS12a)。ステップS12aにおいて、ポンプ電流Ip3の電流値が閾値Aより大きい場合には、ステップS11を行う。すなわち、引き続き、基準ガス室43から酸素を汲み出す。一方、ポンプ電流Ip3の電流値が閾値A以下の場合には、基準ガス室43からの酸素の汲み出しを終了し、基準ガス室43へ酸素を汲み入れる(ステップS13)。
 また、図8は、前記酸素汲み入れ処理が図7の場合とは異なる具体例を示すリフレッシュ処理のフローチャートである。図8において、図7と同じステップには同じ符号を付している。
 図8の例においては、前記酸素汲み出し処理として、処理部94は、外側ポンプ電極23と前記基準電極42との間に所定のポンプ電圧Vp3を印加してポンプ電流Ip3を流し、前記ポンプ電流Ip3の時間あたりの変化量(時間変化量)が所定の値(閾値B)になるまで前記基準ガス室43内に存在する酸素を前記基準ガス室43から汲み出す。
 この場合、処理部94は、基準ガス室43から酸素を汲み出すポンプ電流Ip3の電流値の時間変化量が所定の値(閾値B)以下であるか否かを判定する(ステップS12b)。ステップS12bにおいて、ポンプ電流Ip3の電流値の時間変化量が閾値Bより大きい場合には、ステップS11を行う。すなわち、引き続き、基準ガス室43から酸素を汲み出す。一方、ポンプ電流Ip3の電流値の時間変化量が閾値B以下の場合には、基準ガス室43からの酸素の汲み出しを終了し、基準ガス室43へ酸素を汲み入れる(ステップS13)。
 次に、図7及び図8の例における前記酸素汲み入れ処理について説明する。この場合において、記憶部93は、上述の所要電流積分値を予め記憶する。所要電流積分値は、例えば、外側ポンプ電極23と基準電極42との間にポンプ電流Ip3を流して前記所要酸素量の酸素を移動させる場合に外側ポンプ電極23と基準電極42との間に流れるポンプ電流Ip3の積分値である。そして、前記酸素汲み入れ処理として、処理部94は、外側ポンプ電極23と前記基準電極42との間に流れるポンプ電流Ip3の積分値が前記所要電流積分値に達するまで電流を流して、前記所要酸素量の酸素を前記基準ガス室43へ汲み入れる。
 この場合、処理部94は、基準ガス室43へ酸素を汲み入れるポンプ電流Ip3の電流値及びその時間をカウントし、ポンプ電流Ip3を流し始めてから現時点までの電流積分値を算出する(ステップS14a)。例えば、ポンプ電流Ip3を周期的に測定する場合には、測定時におけるポンプ電流Ip3に測定周期Tを乗じたものを順次加算していき、電流積分値を算出してもよい。処理部94は、記憶部93から前記所要電流積分値を読み出す。そして、算出した前記電流積分値が前記所要電流積分値に到達したか否かを判定する(ステップS14b)。ステップS14bの判定時において、電流積分値が前記所要電流積分値に到達していない、すなわち、前記所要電流積分値未満である場合には、ステップS13を行う。すなわち、引き続き、基準ガス室43へ酸素を汲み入れる。一方、電流積分値が前記所要電流積分値に到達した場合には、基準ガス室43へ酸素の汲み入れを終了し、通常制御を再開する(ステップS15)。
 上述のように、リフレッシュ処理において、まず、酸素汲み出し処理を行い、基準ガス室43内に存在する酸素をゼロ又は実質的にゼロにする。そして、その後、記憶部93が予め記憶している所要酸素量を、基準ガス室43内に汲み入れる。例えば、所要電流積分値に達するまでポンプ電流Ip3を流す。このようなリフレッシュ処理は、被測定ガスの組成(酸素濃度やNOx濃度など)に影響されない。従って、被測定ガス中の酸素濃度やNOx濃度にかかわらず行うことができる。また、被測定ガス中の酸素濃度やNOx濃度が既知であることを要しない。
 リフレッシュ処理は、任意のタイミングで行ってよい。例えば、所定時間毎(50時間毎、100時間毎など)に行ってもよい。また、例えば、オペレーターがリフレッシュ処理の開始指令を入力した時に行ってもよい。また、例えば、ガスセンサ100の起動時等の所定のイベント時に行うようにしてもよい。
 また、基準ガス室43の体積は、基準ガス室43内に存在し得る基準ガスの体積に相当する。従って、ガスセンサ100の使用中に、基準ガス室43内の酸素量が変化してしまう場合、基準ガス室43の体積が大きいほど、基準ガス室43内の酸素量の変化による基準ガス中の酸素濃度の変化は相対的に小さくなる。基準ガス室43の体積が小さいほど、基準ガス室43内の酸素量の変化による基準ガス中の酸素濃度の変化は大きくなる。従って、例えば、リフレッシュ処理を行う周期は、基準ガス室43の体積に基づいて決定されてもよい。リフレッシュ処理を行う周期は、ガスセンサ100が駆動している時間の累積(累積駆動時間)に対して決定するとよい。例えば、基準ガス室43の体積が大きい場合は、リフレッシュ処理を行う周期を長く(リフレッシュ処理を実施する間隔を長く)してもよい。基準ガス室43の体積が小さい場合は、リフレッシュ処理を行う周期を短く(リフレッシュ処理を実施する間隔を短く)してもよい。
 リフレッシュ処理を行う周期は、ガスセンサ100の使用目的や要求精度、センサ素子101の構成等によって適宜決定するとよい。例えば、リフレッシュ処理の周期を、基準ガス室43の体積と概ね比例するような値に設定してもよい。例えば、
 基準ガス室43の体積が0.036mmの場合には、累積駆動時間100時間毎に、
 基準ガス室43の体積が0.06mmの場合には、累積駆動時間200時間毎に、
 基準ガス室43の体積が0.26mmの場合には、累積駆動時間800時間毎に、
 基準ガス室43の体積が0.50mmの場合には、累積駆動時間1500時間毎にリフレッシュ処理を行うように周期を決定してもよい。
 本実施形態のガスセンサ100は、上述のように、リフレッシュ処理を行い、基準ガス室43内の基準ガス中の酸素濃度を所定濃度にする(戻す)ことができる。このリフレッシュ処理は、被測定ガスの組成(酸素濃度やNOx濃度など)に影響されない。よって、上述の製造工程における酸素濃度確認工程とは異なり、被測定ガス中の酸素濃度が既知であることを要しない。従って、被測定ガス中の酸素濃度やNOx濃度が既知の場合に限らず、また、それらの濃度にかかわらず、ガスセンサ100の使用中の任意のタイミングで、基準ガス室43内の基準ガス中の酸素濃度を所定濃度にする(戻す)ことができる。その結果、被測定ガス中のNOx濃度の検出精度の低下を抑制し、高い測定精度を維持することができる。
 上記に、本発明の実施形態の例として、被測定ガス中のNOx濃度を検出するガスセンサ100を示したが、本発明はこの形態に限られない。本発明には、被測定ガス中の測定対象ガスの検出精度の低下を抑制し、高い検出精度を維持するという本発明の目的を達成する範囲であれば、種々の形態のガスセンサが含まれ得る。
 上述の実施形態においては、基準ガス室43内の基準ガス中の酸素濃度が所定濃度である時に、基準ガス室43内の酸素を実質的にゼロにするように基準ガス調整ポンプセル84(外側ポンプ電極23と基準電極42との間)にポンプ電流Ip3を流すことによって、所要電流積分値を取得したが、これに限られない。所要電流積分値を取得する際には、基準ガス室43内とは異なる位置に配設されたポンプ電極と基準電極43との間に電流を流せばよい。例えば、所要電流積分値は、内側主ポンプ電極22と基準電極42との間に電流を流すことにより取得してもよい。補助ポンプ電極51と基準電極42との間に電流を流すことにより取得してもよい。測定電極44と基準電極42との間に電流を流すことにより取得してもよい。所要電流積分値は、基準ガス室43内に存在すべき酸素量に相当するのであるから、いずれのポンプ電極を用いた場合であっても、得られる所要電流積分値は概ね同じである。
 また、所要電流積分値は、例えば、以下のように求めることもできる。まず、基準ガス室43内の酸素を汲み出す方向にポンプ電極(外側ポンプ電極23、内側主ポンプ電極22、補助ポンプ電極51、あるいは測定電極44)と基準電極42との間にポンプ電圧を印加してポンプ電流を流し、そのポンプ電流がゼロ又はほぼゼロになるまで基準ガス室43内の酸素を汲み出す。その後、センサ素子101の外側ポンプ電極23を既知の酸素濃度のガス(例えば大気)に接触させた状態で、基準ガス室43内へ酸素を汲み入れる。すなわち、基準ガス室43内へ酸素を汲み入れる向きに前記ポンプ電極と基準電極42との間に所定のポンプ電圧を印加してポンプ電流を流す。センサセル83(外側ポンプ電極23と基準電極42との間)の電圧Vrefを測定し、既知の酸素濃度と電圧Vrefとに基づいて、基準ガス室43内の酸素濃度が所定濃度になるまで、ポンプ電流を流して基準ガス室43内へ酸素を汲み入れる。この時のポンプ電流の積分値を算出することにより、所要電流積分値を取得してもよい。このように、センサセル83の電圧Vrefを測定しながら基準ガス室43内へ酸素を汲み入れる場合には、ポンプ電極として、内側主ポンプ電極22、補助ポンプ電極51、あるいは測定電極44を用いることが好ましい。
 上述の実施形態においては、所要電流積分値の取得、リフレッシュ処理における酸素汲み出し処理、及びリフレッシュ処理における酸素汲み入れ処理の各工程において、いずれもポンプ電極として外側ポンプ電極23を用いたが、これに限られない。これらの各工程のいずれか1つ以上の工程において、他の工程とは異なるポンプ電極と基準電極42との間に電流を流して行ってもよい。ポンプ電極として用いる電極は、全ての工程において、異なっていてもよい。
 上述の実施形態においては、リフレッシュ処理のステップS10において、全てのポンプ制御を停止したが、これに限られない。駆動制御部92は、主ポンプセル21、補助ポンプセル50、及び測定用ポンプセル41のうちいずれか1つ以上のポンプセルを少なくとも停止する。リフレッシュ処理においては、基準ガス室43内の酸素が実質的にゼロになるように基準ガス室43から酸素を汲み出す工程を含むため、基準電極42の基準電位を参照するポンプ制御を停止することが好ましい。上述の実施形態のように全てのポンプ制御を停止することが好ましい。
 また、上述の実施形態においては、リフレッシュ処理のステップS11あるいはステップS13において、基準ガス調整ポンプセル84にポンプ電圧Vp3を印加してポンプ電流Ip3を流しているが、これに限られない。例えば、処理部94は、電流源によりポンプ電流Ip3を流してもよい。また、通常制御において、各ポンプセル21,50,41(,84)にそれぞれポンプ電圧を印加してポンプ電流を流す制御を行っているが、これに限られない。これらポンプセル21,50,41(,84)の1つ以上において、電流源を用いて電流を流す制御を行ってもよい。
 上述の実施形態においては、基準ガス室43は、前記基体部102の内部に閉じられた空間であったが、これに限られない。例えば、基準ガス室43の内部の全体又は一部がアルミナなどの多孔質体で満たされた構成であってもよい。
 図9は、基準ガス室が多孔体で満たされている変形例のセンサ素子201の長手方向の垂直断面模式図である。センサ素子201において、第3基板層3の上面と第1固体電解質層4の下面との間に、基準電極42を被覆するように、基準ガス室243が設けられている。基準ガス室243は、基体部102の内部に閉じられ且つ多孔質体で満たされている。上述のように、基準ガス室43の体積は、基準ガス室43内に存在し得る基準ガスの体積を意味する。従って、このような基準ガス室243の場合には、基準ガス室243の体積は、基準ガス室243の大きさと、内部に満たされた多孔質体の気孔率とを考慮した値になる。センサ素子201においては、基準ガス室243の体積は、概ね基準ガス室243内の気孔の総体積である。図9のセンサ素子201のその他の構成は、図2において説明したものと概略同じである。
 また、センサ素子はさらに圧力放散孔を備えていてもよい。図10は、圧力放散孔を備える変形例のセンサ素子301の長手方向の垂直断面模式図である。センサ素子301において、第1固体電解質層4のうち基準ガス室43よりも後方に、センサ素子301の後端面に開口する圧力放散空間75bが形成されている。また、ヒータ絶縁層74の上面と圧力放散空間75bとの間を連通するように圧力放散孔75aが形成されている。圧力放散孔75aは、第3基板層3を貫通する孔として形成されている。圧力放散孔75aは、ヒータ絶縁層74内の温度上昇に伴う内圧上昇を緩和する役割を果たす。圧力放散空間75b及び圧力放散孔75aと基準ガス室43とは連通していない。図10のセンサ素子301のその他の構成は、図2において説明したものと概略同じである。
 上述の実施形態のガスセンサ100においては、センサ素子101は、図2に示すように、第1内部空所20、第2内部空所40、及び第3内部空所61の3つの内部空所を備え、各内部空所には、内側主ポンプ電極22、補助ポンプ電極51、及び測定電極44がそれぞれ配置されている構造であったが、これに限られない。例えば、第1内部空所20及び第2内部空所40の2つの内部空所を備え、第1内部空所20には内側主ポンプ電極22が、第2内部空所40には補助ポンプ電極51及び測定電極44がそれぞれ配置されている構造としてもよい。この場合、例えば、補助ポンプ電極51と測定電極44との間の拡散律速部として、測定電極44を覆う多孔体保護層を形成してもよい。
 上述の実施形態においては、ガスセンサ100は被測定ガス中のNOx濃度を検出したが、測定対象ガスはNOxに限られない。ガスセンサ100のセンサ素子は、酸素イオン伝導性の固体電解質を用いた構成であればよい。測定対象ガスは、例えば、酸素O又はNOx以外の他の酸化物ガス(例えば、二酸化炭素CO、水HO等)であってもよい。あるいは、アンモニアNH等の非酸化物ガスであってもよい。測定対象ガスが非酸化物ガスの場合には、非酸化物ガスを酸化物ガスに変換(例えば、アンモニアNHの場合にはNOに変換)し、変換された酸化物ガスを含む被測定ガスが第3内部空所61に導入される。測定電極44において被測定ガス中の変換された酸化物ガスが還元されて酸素が発生する。発生した酸素を測定用ポンプセル41におけるポンプ電流Ip2として取得して測定対象ガスを検出することができる。非酸化物ガスの酸化物ガスへの変換は、内側主ポンプ電極22及び補助ポンプ電極51の少なくともいずれか一方が触媒として機能することによって行うことができる。
 以下に、実施例を用いてさらに説明する。なお、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。
[実施例1]
 上述したガスセンサ100の製造方法に従って図1~3に示したガスセンサ100を作製し、実施例1とした。実施例1においては、制御装置90が、図8のフローチャートに沿ってリフレッシュ処理を行うように設定した。リフレッシュ処理はガスセンサ100の駆動開始から駆動時間200時間経過後に行うこととした。リフレッシュ処理において、酸素の汲み出しの閾値Bは0.05μA/sとした。また、酸素の汲み入れの所要電流積分値は30μA・sであった。
[比較例1]
 制御装置90がリフレッシュ処理を行わないように設定した以外は、実施例1と同様に作製した。
[NOx出力の安定性調査]
 作製した実施例1及び比較例1のガスセンサについて、以下のようにNOx出力の安定性調査を行った。
 まず、実施例1及び比較例1のガスセンサをガスチャンバーに取り付けた。そして、ガスチャンバー内をモデルガス雰囲気に維持した状態で、それぞれのガスセンサを駆動して、NOx出力を長時間連続測定した。モデルガスのガス雰囲気は、NO=0ppm、O=0%、HO=3%、及びN(残部)とした。濃度の単位はいずれも体積基準である。測定は400時間継続した。
 図11は、NOx出力の安定性調査結果を示すグラフである。図11において、横軸は測定時間(時間;H)、縦軸はNOx出力変化量(ppm)である。NOx出力変化量は、NOx出力の、NOx濃度に応じて出力されるべき値からのずれを示している。なお、上述のNOx出力の安定性調査において、モデルガス中のNO濃度は0ppmであるため、NOx出力の、NOx濃度に応じて出力されるべき値は0ppmである。従って、NOx出力の値とNOx出力変化量とは、結果的に同じ数値である。
 図11に示されるように、実施例1及び比較例1のいずれにおいても、NOx出力は時間と共に徐々に変化した。実施例1において、リフレッシュ処理が実行されると、NOx出力変化量がほぼゼロになることが確認できた。その結果、比較例1と比較して、長時間にわたってNOx出力変化量を小さく抑えることができることが確認できた。このように、リフレッシュ処理を行う毎に、NOx出力変化量をほぼゼロに戻すことができる。その結果、測定対象ガスの検出精度の低下を抑制して、高い検出精度を維持することができると考えられる。
 以上のように、本発明によれば、被測定ガス中の酸素濃度が既知の場合に限らず、また、酸素濃度にかかわらず、ガスセンサの使用中の任意のタイミングにおいて、基準電極の周囲の基準ガス中の酸素濃度を所定濃度にする(戻す)ことができる。その結果、測定対象ガスの検出精度の低下を抑制して、高い検出精度を維持することができる。
1 第1基板層
2 第2基板層
3 第3基板層
4 第1固体電解質層
5 スペーサ層
6 第2固体電解質層
10 ガス導入口
11 第1拡散律速部
12 緩衝空間
13 第2拡散律速部
15 被測定ガス流通空所
20 第1内部空所
21 主ポンプセル
22 内側主ポンプ電極
22a (内側主ポンプ電極の)天井電極部
22b (内側主ポンプ電極の)底部電極部
23 外側ポンプ電極
24 (主ポンプセルの)可変電源
30 第3拡散律速部
40 第2内部空所
41 測定用ポンプセル
42 基準電極
43、243 基準ガス室
44 測定電極
46 (測定用ポンプセルの)可変電源
50 補助ポンプセル
51 補助ポンプ電極
51a (補助ポンプ電極の)天井電極部
51b (補助ポンプ電極の)底部電極部
52 (補助ポンプセルの)可変電源
60 第4拡散律速部
61 第3内部空所
70 ヒータ部
71 ヒータコネクタ電極
72 ヒータ
73 スルーホール
74 ヒータ絶縁体
75a 圧力放散孔
75b 圧力放散空間
76 ヒータリード
80 主ポンプ制御用酸素分圧検出センサセル
81 補助ポンプ制御用酸素分圧検出センサセル
82 測定用ポンプ制御用酸素分圧検出センサセル
83 センサセル
84 基準ガス調整ポンプセル
85 電源回路
90 制御装置
91 制御部
92 駆動制御部
93 記憶部
94 処理部
100 ガスセンサ
101、201、301 センサ素子
102 基体部
 

Claims (7)

  1.  センサ素子と、前記センサ素子を制御する制御装置と、を含むガスセンサであって、
     前記センサ素子は、
      酸素イオン伝導性の固体電解質層を含む長尺板状の基体部と、
      前記基体部の長手方向の一方の端部から形成され、被測定ガスを導入して流通させる被測定ガス流通空所と、
      前記基体部の内部に、前記被測定ガス流通空所とは離隔して且つ前記基体部の内部に閉じられて形成された基準ガス室と、
      前記基準ガス室内に配設された基準電極と、
      前記基準ガス室内とは異なる位置に配設されたポンプ電極と、
    を含み、
     前記制御装置は、
      前記基準ガス室内の基準ガス中の酸素濃度が所定濃度である時に、前記基準ガス室内に存在すべき所要酸素量を予め記憶する記憶部と、
      前記ポンプ電極と前記基準電極との間に電流を流して、前記基準ガス室内に存在する酸素を前記基準ガス室から汲み出し、その後、前記記憶部が予め記憶している前記所要酸素量の酸素を前記基準ガス室へ汲み入れるリフレッシュ処理を行う処理部と、
    を含む、被測定ガス中の測定対象ガスを検出するガスセンサ。
  2.  前記記憶部は、前記所要酸素量として、前記ポンプ電極と前記基準電極との間に電流を流して前記所要酸素量の酸素を移動させる場合に前記ポンプ電極と前記基準電極との間に流れる電流の所要電流積分値を予め記憶し、
     前記処理部は、前記リフレッシュ処理において、前記基準ガス室内に存在する酸素を前記基準ガス室から汲み出し、その後、前記ポンプ電極と前記基準電極との間に流れる電流の積分値が前記所要電流積分値に達するまで電流を流して、前記所要酸素量の酸素を前記基準ガス室へ汲み入れる、請求項1に記載のガスセンサ。
  3.  前記記憶部は、前記所要酸素量として、前記ポンプ電極と前記基準電極との間に所定の電流を流して前記所要酸素量の酸素を移動させる場合の所要時間を予め記憶し、
     前記処理部は、前記リフレッシュ処理において、前記基準ガス室内に存在する酸素を前記基準ガス室から汲み出し、その後、前記ポンプ電極と前記基準電極との間に前記所定の電流を前記所要時間のあいだ流して、前記所要酸素量の酸素を前記基準ガス室へ汲み入れる、請求項1に記載のガスセンサ。
  4.  前記記憶部は、前記所要酸素量として、前記ポンプ電極と前記基準電極との間に電流を所定時間流して前記所要酸素量の酸素を移動させる場合の所要電流値を予め記憶し、
     前記処理部は、前記リフレッシュ処理において、前記基準ガス室内に存在する酸素を前記基準ガス室から汲み出し、その後、前記ポンプ電極と前記基準電極との間に前記所要電流値を前記所定時間のあいだ流して、前記所要酸素量の酸素を前記基準ガス室へ汲み入れる、請求項1に記載のガスセンサ。
  5.  前記処理部は、前記リフレッシュ処理において、前記ポンプ電極と前記基準電極との間に所定の電圧を印加して電流を流し、前記電流が所定の値以下になるまで前記基準ガス室内に存在する酸素を前記基準ガス室から汲み出す、請求項1に記載のガスセンサ。
  6.  前記処理部は、前記リフレッシュ処理において、前記ポンプ電極と前記基準電極との間に所定の電圧を印加して電流を流し、前記電流の時間あたりの変化量が所定の値以下になるまで前記基準ガス室内に存在する酸素を前記基準ガス室から汲み出す、請求項1に記載のガスセンサ。
  7.  前記リフレッシュ処理を行う周期は、前記基準ガス室の体積に基づいて決定される、請求項1に記載のガスセンサ。
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