JP2023047491A - 位相差層付偏光板およびそれを用いた画像表示装置、ならびに、位相差層付偏光板の評価方法 - Google Patents

位相差層付偏光板およびそれを用いた画像表示装置、ならびに、位相差層付偏光板の評価方法 Download PDF

Info

Publication number
JP2023047491A
JP2023047491A JP2021156434A JP2021156434A JP2023047491A JP 2023047491 A JP2023047491 A JP 2023047491A JP 2021156434 A JP2021156434 A JP 2021156434A JP 2021156434 A JP2021156434 A JP 2021156434A JP 2023047491 A JP2023047491 A JP 2023047491A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
retardation layer
polarizing plate
retardation
layer
polarizer
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2021156434A
Other languages
English (en)
Inventor
洋毅 千田
Hiroki Senda
大輔 林
Daisuke Hayashi
克己 塚本
Katsumi Tsukamoto
周作 後藤
Shusaku Goto
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nitto Denko Corp
Original Assignee
Nitto Denko Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nitto Denko Corp filed Critical Nitto Denko Corp
Priority to JP2021156434A priority Critical patent/JP2023047491A/ja
Priority to PCT/JP2022/025957 priority patent/WO2023047748A1/ja
Priority to CN202280065349.6A priority patent/CN118056144A/zh
Priority to KR1020247009582A priority patent/KR20240063911A/ko
Priority to TW111128879A priority patent/TW202313323A/zh
Publication of JP2023047491A publication Critical patent/JP2023047491A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/30—Polarising elements
    • G02B5/3083—Birefringent or phase retarding elements
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B7/00—Layered products characterised by the relation between layers; Layered products characterised by the relative orientation of features between layers, or by the relative values of a measurable parameter between layers, i.e. products comprising layers having different physical, chemical or physicochemical properties; Layered products characterised by the interconnection of layers
    • B32B7/02—Physical, chemical or physicochemical properties
    • B32B7/023—Optical properties
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/30—Polarising elements
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/30—Polarising elements
    • G02B5/3016—Polarising elements involving passive liquid crystal elements
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
    • G02F1/133528—Polarisers
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
    • G02F1/13363—Birefringent elements, e.g. for optical compensation
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1337—Surface-induced orientation of the liquid crystal molecules, e.g. by alignment layers
    • G—PHYSICS
    • G09—EDUCATION; CRYPTOGRAPHY; DISPLAY; ADVERTISING; SEALS
    • G09F—DISPLAYING; ADVERTISING; SIGNS; LABELS OR NAME-PLATES; SEALS
    • G09F9/00—Indicating arrangements for variable information in which the information is built-up on a support by selection or combination of individual elements
    • H—ELECTRICITY
    • H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05B—ELECTRIC HEATING; ELECTRIC LIGHT SOURCES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; CIRCUIT ARRANGEMENTS FOR ELECTRIC LIGHT SOURCES, IN GENERAL
    • H05B33/00—Electroluminescent light sources
    • H05B33/02—Details
    • H—ELECTRICITY
    • H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05B—ELECTRIC HEATING; ELECTRIC LIGHT SOURCES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; CIRCUIT ARRANGEMENTS FOR ELECTRIC LIGHT SOURCES, IN GENERAL
    • H05B33/00—Electroluminescent light sources
    • H05B33/12—Light sources with substantially two-dimensional radiating surfaces
    • H05B33/14—Light sources with substantially two-dimensional radiating surfaces characterised by the chemical or physical composition or the arrangement of the electroluminescent material, or by the simultaneous addition of the electroluminescent material in or onto the light source
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K50/00—Organic light-emitting devices
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K59/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K59/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
    • H10K59/80—Constructional details
    • H10K59/875—Arrangements for extracting light from the devices
    • H10K59/879—Arrangements for extracting light from the devices comprising refractive means, e.g. lenses
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K59/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
    • H10K59/80—Constructional details
    • H10K59/8793—Arrangements for polarized light emission
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2309/00—Parameters for the laminating or treatment process; Apparatus details
    • B32B2309/08—Dimensions, e.g. volume
    • B32B2309/10—Dimensions, e.g. volume linear, e.g. length, distance, width
    • B32B2309/105—Thickness

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Nonlinear Science (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Mathematical Physics (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Theoretical Computer Science (AREA)
  • Polarising Elements (AREA)
  • Electroluminescent Light Sources (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)
  • Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)

Abstract

【課題】高温耐久性に優れた位相差層付偏光板を提供すること。【解決手段】本発明の実施形態の位相差層付偏光板は、偏光子を含む偏光板と、位相差層と、を有し、該偏光子の吸収軸と位相差層の遅相軸とがなす角度が４０°～５０°である、位相差層付偏光板であって、該位相差層付偏光板の中心部分に規定された評価用正方形の、８０℃で５００時間加熱条件下に置いた後の位相差層の遅相軸方向の収縮寸法ｘと位相差層の進相軸方向の収縮寸法ｙとの比ｘ／ｙが０．９９４～１．００４である。【選択図】図１

Description

本発明は、位相差層付偏光板およびそれを用いた画像表示装置、ならびに、位相差層付偏光板の評価方法に関する。
近年、液晶表示装置およびエレクトロルミネセンス（ＥＬ）表示装置（例えば、有機ＥＬ表示装置、無機ＥＬ表示装置）に代表される画像表示装置が急速に普及している。画像表示装置には、代表的には偏光板および位相差板が用いられている。実用的には、偏光板と位相差板とを一体化した位相差層付偏光板が広く用いられている（例えば、特許文献１）。画像表示装置の薄型化への要望が強くなるに伴い、位相差層付偏光板についても薄型化の要望が強まっている。位相差層付偏光板の薄型化を目的として、位相差フィルムの薄型化が進んでいる。薄型の位相差フィルムとしては液晶系の材料を用いて作製された位相差板が用いられている。薄型の位相差フィルムは加熱条件下において偏光板の寸法収縮の影響を受けやすく、位相差が変化し得る。その結果、反射色相が変化する場合がある。
特許第３３２５５６０号公報
本発明は上記従来の課題を解決するためになされたものであり、その主たる目的は高温耐久性に優れた位相差層付偏光板を提供することにある。
本発明の実施形態の位相差層付偏光板は、偏光子を含む偏光板と、位相差層と、を有し、該偏光子の吸収軸と位相差層の遅相軸とがなす角度が４０°～５０°である。この位相差層付偏光板は、位相差層付偏光板の中心部分に規定された評価用正方形の、８０℃で５００時間加熱条件下に置いた後の位相差層の遅相軸方向の収縮寸法ｘと位相差層の進相軸方向の収縮寸法ｙとの比ｘ／ｙが０．９９４～１．００４である。
１つの実施形態において、上記位相差層付偏光板のアスペクト比は０．１５～３．０である。
１つの実施形態において、上記位相差層は液晶化合物の配向固化層である。
１つの実施形態において、上記位相差層の面内位相差は、１００ｎｍ＜Ｒｅ（５５０）＜１６０ｎｍであり、かつ、Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）＜１、および、Ｒｅ（６５０）／Ｒｅ（５５０）＞１を満たす。
１つの実施形態において、上記偏光子の厚みが７μｍ以上である。
１つの実施形態において、上記偏光子のホウ酸含有量は２０重量％以下である。
本発明の別の局面においては画像表示装置が提供される。この画像表示装置は上記位相差層付偏光板を備える。
１つの実施形態において、上記画像表示装置は有機エレクトロルミネセンス表示装置または無機エレクトロルミネセンス表示装置である。
本発明のさらに別の局面においては、偏光子を含む偏光板と、位相差層と、を有する位相差層付偏光板の評価方法が提供される。この評価方法は、位相差層付偏光板の中心部に評価用正方形を規定すること、評価用正方形が規定された位相差層付偏光板を８０℃に５００時間置くこと、評価用正方形の位相差層の遅相軸方向の収縮寸法ｘと位相差層の進相軸方向の収縮寸法ｙを測定すること、および、該収縮寸法ｘおよび収縮寸法ｙから収縮寸法比ｘ／ｙを算出すること、を含む。
本発明の実施形態によれば、高温耐久性に優れた薄型の位相差層付偏光板を提供することができる。本発明の実施形態によれば、加熱された場合であっても寸法収縮による位相差変化が抑制され、反射色相の変化も抑制され得る。その結果、優れた高温耐久性、および、反射色相を有する位相差層付偏光板を提供し得る。
本発明の１つの実施形態による位相差層付偏光板の概略断面図である。 本発明の実施形態における収縮寸法比ｘ／ｙの測定法方法を説明するための加熱前の位相差層付偏光板の平面図である。 実施例および比較例の位相差層付偏光板の収縮寸法比ｘ／ｙと位相差変化ΔＲｅとの関係を示すグラフである。
以下、本発明の実施形態について説明するが、本発明はこれらの実施形態には限定されない。
（用語および記号の定義）
本明細書における用語および記号の定義は下記の通りである。
（１）屈折率（ｎｘ、ｎｙ、ｎｚ）
「ｎｘ」は面内の屈折率が最大になる方向（すなわち、遅相軸方向）の屈折率であり、「ｎｙ」は面内で遅相軸と直交する方向（すなわち、進相軸方向）の屈折率であり、「ｎｚ」は厚み方向の屈折率である。
（２）面内位相差（Ｒｅ）
「Ｒｅ（λ）」は、２３℃における波長λｎｍの光で測定した面内位相差である。例えば、「Ｒｅ（５５０）」は、２３℃における波長５５０ｎｍの光で測定した面内位相差である。Ｒｅ（λ）は、層（フィルム）の厚みをｄ（ｎｍ）としたとき、式：Ｒｅ（λ）＝（ｎｘ－ｎｙ）×ｄによって求められる。
（３）厚み方向の位相差（Ｒｔｈ）
「Ｒｔｈ（λ）」は、２３℃における波長λｎｍの光で測定した厚み方向の位相差である。例えば、「Ｒｔｈ（５５０）」は、２３℃における波長５５０ｎｍの光で測定した厚み方向の位相差である。Ｒｔｈ（λ）は、層（フィルム）の厚みをｄ（ｎｍ）としたとき、式：Ｒｔｈ（λ）＝（ｎｘ－ｎｚ）×ｄによって求められる。
（４）Ｎｚ係数
Ｎｚ係数は、Ｎｚ＝Ｒｔｈ／Ｒｅによって求められる。
（５）角度
本明細書において角度に言及するときは、当該角度は基準方向に対して時計回りおよび反時計回りの両方を包含する。したがって、例えば「４５°」は±４５°を意味する。
Ａ．位相差層付偏光板の全体構成
図１は、本発明の１つの実施形態による位相差層付偏光板の概略断面図である。図示例の位相差層付偏光板１００は、偏光板１０と位相差層２０と粘着剤層３０とを視認側からこの順に有する。偏光板１０は、代表的には、偏光子１１と、偏光子１１の視認側に配置された保護層１２と、を含む。目的に応じて、偏光子１１の視認側と反対側（偏光子１１の保護層１２が積層されていない面）に別の保護層（図示せず）が設けられてもよい。１つの実施形態において、位相差層２０は、液晶化合物の配向固化層（以下、単に液晶配向固化層と称する場合がある）である。位相差層付偏光板は粘着剤層３０が最外層として設けられ、画像表示装置（実質的には、画像表示セル）に貼り付け可能とされている。実用的には、粘着剤層３０の表面には、偏光板が使用に供されるまで、剥離フィルムが仮着されていることが好ましい。剥離フィルムを仮着することにより、粘着剤層を適切に保護することができる。
１つの実施形態において、偏光子１１の吸収軸と位相差層２０の遅相軸とがなす角度は４０°～５０°であり、好ましくは４２°～４８°であり、さらに好ましくは約４５°である。偏光子１１の吸収軸と位相差層２０の遅相軸とがなす角度がこのような範囲であれば、非常に優れた反射防止特性を有する位相差層付偏光板が得られ得る。
１つの実施形態において、位相差層付偏光板の中心部に規定された評価用正方形の、８０℃で５００時間加熱条件下に置いた後の位相差層の遅相軸方向の収縮寸法ｘと位相差層の進相軸方向の収縮寸法ｙとの比（収縮寸法比）ｘ／ｙが０．９９４～１．００４である。位相差層付偏光板の中心部の寸法収縮は位相差層付偏光板の位相差変化（ΔＲｅ）と相関し得る。収縮寸法比ｘ／ｙを上記範囲とすることにより、加熱された場合であっても寸法収縮による位相差変化が抑制され、反射色相の変化も抑制され得る。その結果、優れた高温耐久性、および、反射色相を有する位相差層付偏光板を提供し得る。収縮寸法比ｘ／ｙは、好ましくは０．９９５～１．００３であり、より好ましくは０．９９６～１．００２であり、さらに好ましくは０．９９７～１．００１である。収縮寸法比ｘ／ｙは１に近いほど好ましい。
位相差付偏光板は用途等に応じて任意の適切な形状に設計され得る。代表的には、位相差層付偏光板は矩形である。以下、矩形の位相差層付偏光板を例として、本発明の実施形態について説明する。図２は本発明の実施形態における収縮寸法比ｘ／ｙの測定法方法を説明するための加熱前の位相差層付偏光板の平面図である。図示例において、位相差層付偏光板１００は実線方向が位相差層の遅相軸方向、破線方向が位相差層の進相軸方向にそれぞれ対応する。なお、図示例では長辺方向に遅相軸がある位相差層付偏光板を示しているが、短辺方向が遅相軸であってもよい。まず、位相差層付偏光板１００の中心部Ｏに評価用正方形を規定する。中心部Ｏは位相差層付偏光板の重心を含む部分である。１つの実施形態において、中心部Ｏに一辺が１ｃｍの正方形を評価用正方形２００として規定する。評価用正方形２００は位相差層付偏光板の重心と、評価用正方形２００の重心とが対応するように規定する。規定方法としては任意の適切な方法を用いることができる。例えば、位相差層付偏光板に直接描画してもよく、任意の適切なマークを貼付してもよい。描画は任意の適切な方法で行うことができる。例えば、カッター等の任意の適切な手段を用いて偏光板の最表面にキズをつけて描画する方法、および、油性ペン等の筆記具を用いて偏光板の最表面に描画する方法等が挙げられる。好ましくはカッター等の任意の適切な手段を用いて偏光板の最表面にキズをつけて描画する方法が用いられる。評価用正方形のサイズは位相差層付偏光板のサイズに応じて任意の適切な大きさに設定され得る。上記のとおり、例えば、一辺が１ｃｍの正方形が評価用正方形として採用される。評価用正方形２００が規定された位相差層付偏光板は８０℃の環境に５００時間置かれる。加熱後、室温に戻された位相差層付偏光板１００において評価用正方形２００の遅相軸方向と平行な辺の長さｘ２および進相軸方向と平行な辺の長さｙ２をそれぞれ測定する。次いで、評価用正方形２００の遅相軸方向の辺の長さの初期値ｘ１と加熱後の遅相軸方向に平行な辺の長さｘ２から遅相軸方向の寸法収縮ｘ（ｘ２／ｘ１）を算出する。同様に、評価用正方形２００の進相軸方向の辺の長さの初期値ｙ１と加熱後の遅相軸方向の辺の長さｙ２から進相軸方向の寸法収縮ｙ（ｙ２／ｙ１）を算出する。それぞれ算出された遅相軸方向の寸法収縮ｘと進相軸方向の寸法収縮ｙの値から収縮寸法比ｘ／ｙを算出する。
位相差層付偏光板の中心部の位相差変化ΔＲｅは好ましくは－３ｎｍ～３ｎｍであり、より好ましくは－２．５ｎｍ～２．５ｎｍであり、さらに好ましくは－２．３ｎｍ～２．３ｎｍである。位相差層付偏光板の中心部の位相差変化ΔＲｅが上記範囲であることにより、加熱された場合であっても寸法収縮による位相差変化が抑制され、反射色相の変化も抑制され得る。その結果、優れた高温耐久性、および、反射色相を有する位相差層付偏光板を提供し得る。本明細書において、位相差層付偏光板の中心部の位相差変化ΔＲｅは位相差層付偏光板に規定（例えば、描画）した評価用正方形の加熱試験前の位相差値と８０℃の環境に５００時間置いた後室温に戻した後の評価用正方形の位相差値との差をいう。
１つの実施形態において、上記位相差層付偏光板は矩形である。この実施形態において、位相差層付偏光板のアスペクト比（横方向の辺の長さ／縦方向の辺の長さ）は用途に応じて任意の適切な値に設定され得る。位相差層付偏光板のアスペクト比は、好ましくは０．１５～３．０であり、より好ましくは０．１７～２．５であり、さらに好ましくは０．３～２．２である。アスペクト比が上記範囲であることにより、加熱された場合であっても寸法収縮による位相差変化が抑制され、反射色相の変化も抑制され得る。その結果、優れた高温耐久性、および、反射色相を有する位相差層付偏光板を提供し得る。１つの実施形態において、上記横方向は位相差層の遅相軸方向に対応する辺であり、上記縦方向は位相差層の進相軸方向に対応する辺であることが好ましい。
位相差層２０は好ましくは液晶配向固化層である。液晶配向固化層である位相差層は位相差層付偏光板の寸法収縮による位相差変化が大きくなるおそれがある。本発明の実施形態によれば、位相差層として液晶配向固化層を用いる場合であっても寸法収縮による位相差変化が抑制され、反射色相の変化も抑制され得る。その結果、優れた反射色相を有する位相差層付偏光板を提供し得る。位相差層２０は、単一層であってもよく、第１の液晶配向固化層と第２の液晶配向固化層との積層構造を有していてもよい。
位相差層付偏光板は、位相差層２０とは別の位相差層（図示せず）がさらに設けられてもよい。別の位相差層は、代表的には、位相差２０と粘着剤層３０との間（すなわち、位相差層２０の外側）に設けられる。別の位相差層は、代表的には、屈折率特性がｎｚ＞ｎｘ＝ｎｙの関係を示す。別の位相差層は、必要に応じて設けられる任意の層であり、省略されてもよい。
別の位相差層の光学的特性（例えば、屈折率特性、面内位相差、Ｎｚ係数、光弾性係数）、厚み、配置位置等は、目的に応じて適切に設定され得る。
位相差層付偏光板の総厚みは、好ましくは５０μｍ～１２０μｍであり、より好ましくは５０μｍ～１１０μｍであり、さらに好ましくは６０μｍ～１００μｍである。ある程度の厚みを有する位相差層付偏光板では加熱による寸法収縮の影響が大きくなる傾向がある。本発明の実施形態によれば、このような厚みを有する位相差層付偏光板であっても加熱された場合であっても寸法収縮による位相差変化が抑制され、反射色相の変化も抑制され得る。なお、位相差層付偏光板の総厚みとは、偏光板、位相差層（別の位相差層が存在する場合には、位相差層および別の位相差層）およびこれらを積層するための接着剤層または粘着剤層の厚みの合計をいう（すなわち、位相差層付偏光板の総厚みは、粘着剤層３０およびその表面に仮着され得る剥離フィルムの厚みを含まない）。
以下、位相差層付偏光板の構成要素について、より詳細に説明する。
Ｂ．偏光板
Ｂ－１．偏光子
偏光子は、代表的には、二色性物質を含むポリビニルアルコール（ＰＶＡ）系樹脂フィルムで構成される。偏光子の厚みは、好ましくは７μｍ以上であり、より好ましくは７μｍ～１５μｍであり、さらに好ましくは７μｍ～１２μｍである。偏光子の厚みが大きい場合、寸法収縮率が大きくなる傾向があり、位相差層の位相差変化がより顕著になり得る。本発明の実施形態においては、上記の厚みの偏光子を用いる場合であっても、高温耐久性に優れ、寸法収縮による位相差変化が抑制され、反射色相の変化も抑制され得る。その結果、優れた反射色相を有する位相差層付偏光板を提供し得る。
偏光子のホウ酸含有量は、好ましくは２０重量％以下であり、より好ましくは５重量％～２０重量％であり、さらに好ましくは１０重量％～１８重量％である。偏光子のホウ酸含有量がこのような範囲であれば、高温耐久性に優れた薄型の位相差層付偏光板を提供することができる。ホウ酸含有量が５重量％未満の場合、偏光子がポリエン化し、耐久性が低下するおそれがある。本発明の実施形態によれば、加熱された場合であっても寸法収縮による位相差変化が抑制され、反射色相の変化も抑制され得る。その結果、優れた反射色相を有する位相差層付偏光板を提供し得る。偏光子のホウ酸含有量は、例えば以下の各工程において用いられる水溶液におけるホウ酸含有量を調整することにより、調整され得る。ホウ酸含有量は、例えば、中和法から下記式を用いて、単位重量当たりの偏光子に含まれるホウ酸量として算出することができる。
Figure 2023047491000002
偏光子のヨウ素含有量は、好ましくは２重量％以上であり、より好ましくは２重量％～１０重量％である。偏光子のヨウ素含有量がこのような範囲であれば、上記のホウ酸含有量との相乗的な効果により、貼り合わせ時のカール調整の容易性を良好に維持し、かつ、加熱時のカールを良好に抑制しつつ、加熱時の外観耐久性を改善することができる。本明細書において「ヨウ素含有量」とは、偏光子（ＰＶＡ系樹脂フィルム）中に含まれるすべてのヨウ素の量を意味する。より具体的には、偏光子中においてヨウ素はヨウ素イオン（Ｉ－）、ヨウ素分子（Ｉ２）、ポリヨウ素イオン（Ｉ３ －、Ｉ５ －）等の形態で存在するところ、本明細書におけるヨウ素含有量は、これらの形態をすべて包含したヨウ素の量を意味する。ヨウ素含有量は、例えば、蛍光Ｘ線分析の検量線法により算出することができる。なお、ポリヨウ素イオンは、偏光子中でＰＶＡ－ヨウ素錯体を形成した状態で存在している。このような錯体が形成されることにより、可視光の波長範囲において吸収二色性が発現し得る。具体的には、ＰＶＡと三ヨウ化物イオンとの錯体（ＰＶＡ・Ｉ３ －）は４７０ｎｍ付近に吸光ピークを有し、ＰＶＡと五ヨウ化物イオンとの錯体（ＰＶＡ・Ｉ５ －）は６００ｎｍ付近に吸光ピークを有する。結果として、ポリヨウ素イオンは、その形態に応じて可視光の幅広い範囲で光を吸収し得る。一方、ヨウ素イオン（Ｉ－）は２３０ｎｍ付近に吸光ピークを有し、可視光の吸収には実質的には関与しない。したがって、ＰＶＡとの錯体の状態で存在するポリヨウ素イオンが、主として偏光子の吸収性能に関与し得る。
偏光子は、好ましくは、波長３８０ｎｍ～７８０ｎｍのいずれかの波長で吸収二色性を示す。偏光子の単体透過率Ｔｓは、好ましくは４０％～４８％であり、より好ましくは４１％～４６％である。偏光子の偏光度Ｐは、好ましくは９７．０％以上であり、より好ましくは９９．０％以上であり、さらに好ましくは９９．９％以上である。上記単体透過率は、代表的には、紫外可視分光光度計を用いて測定し、視感度補正を行なったＹ値である。上記偏光度は、代表的には、紫外可視分光光度計を用いて測定して視感度補正を行なった平行透過率Ｔｐおよび直交透過率Ｔｃに基づいて、下記式により求められる。
偏光度（％）＝｛（Ｔｐ－Ｔｃ）／（Ｔｐ＋Ｔｃ）｝１／２×１００
偏光子は任意の適切な方法により製造することができる。例えば、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）系樹脂フィルム等の任意の適切な樹脂フィルムに、膨潤処理、延伸処理、ヨウ素等の二色性物質による染色処理、架橋処理、洗浄処理、乾燥処理等の各種処理を施すことにより製造することができる。
Ｂ－２．保護層
保護層１２は、偏光子の保護層として使用できる任意の適切なフィルムで形成される。当該フィルムの主成分となる材料の具体例としては、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）等のセルロース系樹脂や、ポリエステル系、ポリビニルアルコール系、ポリカーボネート系、ポリアミド系、ポリイミド系、ポリエーテルスルホン系、ポリスルホン系、ポリスチレン系、ポリノルボルネン系、ポリオレフィン系、（メタ）アクリル系、アセテート系等の透明樹脂等が挙げられる。また、（メタ）アクリル系、ウレタン系、（メタ）アクリルウレタン系、エポキシ系、シリコーン系等の熱硬化型樹脂または紫外線硬化型樹脂等も挙げられる。この他にも、例えば、シロキサン系ポリマー等のガラス質系ポリマーも挙げられる。また、特開２００１－３４３５２９号公報（ＷＯ０１／３７００７）に記載のポリマーフィルムも使用できる。このフィルムの材料としては、例えば、側鎖に置換または非置換のイミド基を有する熱可塑性樹脂と、側鎖に置換または非置換のフェニル基ならびにニトリル基を有する熱可塑性樹脂を含有する樹脂組成物が使用でき、例えば、イソブテンとＮ－メチルマレイミドからなる交互共重合体と、アクリロニトリル・スチレン共重合体とを有する樹脂組成物が挙げられる。当該ポリマーフィルムは、例えば、上記樹脂組成物の押出成形物であり得る。
位相差層付偏光板は、後述するように代表的には画像表示装置の視認側に配置され、保護層１２は、代表的にはその視認側に配置される。したがって、保護層１２には、必要に応じて、ハードコート処理、反射防止処理、スティッキング防止処理、アンチグレア処理等の表面処理が施されていてもよい。
保護層の厚みは、好ましくは１０μｍ～５０μｍ、より好ましくは１０μｍ～３０μｍである。なお、表面処理が施されている場合、外側保護層の厚みは、表面処理層の厚みを含めた厚みである。
Ｃ．位相差層
位相差層２０は、代表的には偏光板に反射防止特性を付与するために設けられ、位相差層が単一層である場合にはλ／４板として機能し得る。上記のとおり、位相差層は、好ましくは液晶化合物の配向固化層である。位相差層の面内位相差Ｒｅ（５５０）は好ましくは１００ｎｍを超えて１６０ｎｍ未満であり、より好ましくは１１０ｎｍ～１５５ｎｍであり、さらに好ましくは１３０ｎｍ～１５０ｎｍ未満である。
位相差層２０が単一層で構成される場合、その厚みは好ましくは０．５μｍ～７μｍであり、より好ましくは１μｍ～５μｍである。液晶化合物を用いることにより、樹脂フィルムよりも格段に薄い厚みで樹脂フィルムと同等の面内位相差を実現することができる。また、液晶配向固化層では位相差層付偏光板の高温環境での寸法収縮による位相差変化がより顕著となり得る。本発明の実施形態においては、液晶化合物の配向固化層である位相差層を採用した場合であっても、高温耐久性に優れた位相差層付偏光板を提供することができる。
位相差層のＮｚ係数は、好ましくは０．９～１．５であり、より好ましくは０．９～１．３である。このような関係を満たすことにより、得られる位相差層付偏光板を画像表示装置に用いた場合に、非常に優れた反射色相を達成し得る。
位相差層は、位相差値が測定光の波長に応じて大きくなる逆分散波長特性を示してもよく、位相差値が測定光の波長に応じて小さくなる正の波長分散特性を示してもよく、位相差値が測定光の波長によってもほとんど変化しないフラットな波長分散特性を示してもよい。１つの実施形態においては、位相差層は、逆分散波長特性を示す。この場合、位相差層のＲｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）は、好ましくは１未満であり、より好ましくは０．８以上１未満であり、さらに好ましくは０．８以上０．９５以下である。また、位相差層のＲｅ（５５０）／Ｒｅ（６５０）は好ましくは１を超え、より好ましくは１を超えて１．２以下であり、さらに好ましくは１．０１～１．１５である。このような構成であれば、非常に優れた反射防止特性を実現することができる。
上記のとおり、位相差層２０の遅相軸と偏光子１１の吸収軸とのなす角度は、好ましくは４０°～５０°であり、より好ましくは４２°～４８°であり、さらに好ましくは約４５°である。角度がこのような範囲であれば、上記のように位相差層をλ／４板とすることにより、非常に優れた円偏光特性（結果として、非常に優れた反射防止特性）を有する位相差層付偏光板が得られ得る。
上記のとおり、位相差層２０は好ましくは液晶化合物の配向固化層である。液晶化合物を用いることにより、得られる位相差層のｎｘとｎｙとの差を非液晶材料に比べて格段に大きくすることができるので、所望の面内位相差を得るための位相差層の厚みを格段に小さくすることができる。その結果、位相差層付偏光板のさらなる薄型化を実現することができる。本明細書において「液晶配向固化層」とは、液晶化合物が層内で所定の方向に配向し、その配向状態が固定されている層をいう。なお、「配向固化層」は、後述のように液晶モノマーを硬化させて得られる配向硬化層を包含する概念である。
液晶化合物の配向固化層である位相差層は、重合性液晶化合物を含む組成物を用いて形成され得る。本明細書において組成物に含まれる重合性液晶化合物とは、重合性基を有し、かつ、液晶性を有する化合物をいう。重合性基は、重合反応に関与する基を意味し、好ましくは光重合性基である。ここで、光重合性基とは、光重合開始剤から発生した活性ラジカルや酸等によって重合反応に関与し得る基をいう。
液晶性の発現は、サーモトロピックであってもよく、リオトロピックであってもよい。また、液晶相の構成としてはネマチック液晶であってもよく、スメクチック液晶であってもよい。製造の容易さという観点から、液晶性はサーモトロピックのネマチック液晶が好ましい。
１つの実施形態において、単一層である位相差層は、下記式（１）で表される液晶化合物を含む組成物を用いて形成される。
Ｌ１－ＳＰ１－Ａ１－Ｄ３－Ｇ１－Ｄ１－Ａｒ－Ｄ２－Ｇ２－Ｄ４－Ａ２－ＳＰ２－Ｌ２ （１）
Ｌ１およびＬ２は、それぞれ独立して、１価の有機基を表し、Ｌ１およびＬ２の少なくとも一方は重合性基を表す。１価の有機基としては任意の適切な基が含まれる。Ｌ１およびＬ２の少なくとも一方が示す重合性基としては、ラジカル重合性基（ラジカル重合可能な基）が挙げられる。ラジカル重合性基としては、任意の適切なラジカル重合性基を用いることができる。好ましくはアクリロイル基またはメタクリロイル基である。重合速度が速く、生産性向上の観点からアクリロイル基が好ましい。メタクリロイル基も高複屈折性液晶の重合性基として同様に使用できる。
ＳＰ１およびＳＰ２は、それぞれ独立して、単結合、直鎖状もしくは分岐鎖状のアルキレン基、または、炭素数１～１４の直鎖状もしくは分岐鎖状のアルキレン基を構成する－ＣＨ２－の１個以上が－Ｏ－に置換された２価の連結基を表す。炭素数１～１４の直鎖状または分岐鎖状のアルキレン基としては、好ましくは、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基、ペンチレン基およびへキシレン基が挙げられる。
Ａ１およびＡ２は、それぞれ独立して、脂環式炭化水素基または芳香族環置換基を表す。Ａ１およびＡ２は好ましくは炭素数６以上の芳香族環置換基または炭素数６以上のシクロアルキレン環である。
Ｄ１、Ｄ２、Ｄ３およびＤ４は、それぞれ独立して、単結合または二価の連結基を表す。具体的には、Ｄ１、Ｄ２、Ｄ３およびＤ４は、単結合、－Ｏ－ＣＯ－、－Ｃ（＝Ｓ）Ｏ－、－ＣＲ１Ｒ２－、－ＣＲ１Ｒ２－ＣＲ３Ｒ４－、－Ｏ－ＣＲ１Ｒ２－、－ＣＲ１Ｒ２－Ｏ－ＣＲ３Ｒ４－、－ＣＯ－Ｏ－ＣＲ１Ｒ２－、－Ｏ－ＣＯ－ＣＲ１Ｒ２－、－ＣＲ１Ｒ２－Ｏ－ＣＯ－ＣＲ３Ｒ４－、－ＣＲ１Ｒ２－ＣＯ－Ｏ－ＣＲ３Ｒ４－、－ＮＲ１－ＣＲ２Ｒ３－、または、－ＣＯ－ＮＲ１－を表す。ただし、Ｄ１、Ｄ２、Ｄ３およびＤ４の少なくとも一つは－Ｏ－ＣＯ－を表す。なかでも、Ｄ３が－Ｏ－ＣＯ－であることが好ましく、Ｄ３およびＤ４が－Ｏ－ＣＯ－であることがより好ましい。Ｄ1およびＤ２は、好ましくは、単結合である。Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４は、それぞれ独立して、水素原子、フッ素原子、または、炭素数１～４のアルキル基を表す。
Ｇ１およびＧ２は、それぞれ独立して、単結合または脂環式炭化水素基を表す。具体的には、Ｇ１およびＧ２は無置換または置換された炭素数５～８の２価の脂環式炭化水素基を表してもよい。また、脂環式炭化水素基を構成する－ＣＨ２－の１個以上が－Ｏ－、－Ｓ－または－ＮＨ－で置換されていてもよい。Ｇ１およびＧ２は、好ましくは単結合を表す。
Ａｒは、芳香族炭化水素環または芳香族複素環を表す。Ａｒは、例えば、下記式（Ａｒ－１）～（Ａｒ－６）で表される基からなる群より選択される芳香族環を表す。なお、下記式（Ａｒ－１）～（Ａｒ－６）中、＊１はＤ１との結合位置を表し、＊２はＤ２との結合位置を表す。
Figure 2023047491000003
式（Ａｒ－１）中、Ｑ１は、ＮまたはＣＨを表し、Ｑ２は、－Ｓ－、－Ｏ－、または、－Ｎ（Ｒ５）－を表す。Ｒ５は、水素原子または炭素数１～６のアルキル基を表す。
式（Ａｒ－１）～（Ａｒ－６）中、Ｚ１、Ｚ２およびＺ３は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数１～２０の１価の脂肪族炭化水素基、炭素数３～２０の１価の脂環式炭化水素基、炭素数６～２０の１価の芳香族炭化水素基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、－ＮＲ６Ｒ７、または、－ＳＲ８を表す。Ｒ６～Ｒ８は、それぞれ独立して、水素原子または炭素数１～６のアルキル基を表し、Ｚ１およびＺ２は、互いに結合して環を形成してもよい。環は、脂環式、複素環、および、芳香族環のいずれであってもよく、好ましくは芳香族環である。形成される環には、置換基が置換していてもよい。
式（Ａｒ－２）および（Ａｒ－３）中、Ａ３およびＡ４は、それぞれ独立して、－Ｏ－、－Ｎ（Ｒ９）－、－Ｓ－、および、－ＣＯ－からなる群より選択される基を表し、Ｒ９は、水素原子または置換基を表す。Ｒ９が示す置換基としては、上記式（Ａｒ－１）中のＹ１が有していてもよい置換基と同じものが挙げられる。
式（Ａｒ－２）中、Ｘは、水素原子もしくは無置換または置換基を有する第１４～１６族の非金属原子を表す。Ｘが表す第１４族～第１６族の非金属原子としては、例えば、酸素原子、硫黄原子、無置換または置換基を有する窒素原子、無置換または置換基を有する炭素原子が挙げられる。置換基としては、上記式（Ａｒ－１）中のＹ１が有していてもよい置換基と同じものが挙げられる。
式（Ａｒ－３）中、Ｄ５およびＤ６は、それぞれ独立して、単結合、－Ｏ－ＣＯ－、－Ｃ（＝Ｓ）Ｏ－、－ＣＲ１Ｒ２－、－ＣＲ１Ｒ２－ＣＲ３Ｒ４－、－Ｏ－ＣＲ１Ｒ２－、－ＣＲ１Ｒ２－Ｏ－ＣＲ３Ｒ４－、－ＣＯ－Ｏ－ＣＲ１Ｒ２－、－Ｏ－ＣＯ－ＣＲ１Ｒ２－、－ＣＲ１Ｒ２－Ｏ－ＣＯ－ＣＲ３Ｒ４－、－ＣＲ１Ｒ２－ＣＯ－Ｏ－ＣＲ３Ｒ４－、－ＮＲ１－ＣＲ２Ｒ３－、または、－ＣＯ－ＮＲ１－を表す。Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４は、上記のとおりである。
式（Ａｒ－３）中、ＳＰ３およびＳＰ４は、それぞれ独立して、単結合、炭素数１～１２の直鎖状もしくは分岐鎖状のアルキレン基、または、炭素数１～１２の直鎖状もしくは分岐鎖状のアルキレン基を構成する－ＣＨ２－の１個以上が－Ｏ－、－Ｓ－、－ＮＨ－、－Ｎ（Ｑ）－、もしくは、－ＣＯ－に置換された２価の連結基を表し、Ｑは、重合性基を表す。
式（Ａｒ－３）中、Ｌ３およびＬ４は、それぞれ独立して、１価の有機基を表し、Ｌ３およびＬ４ならびに上記式（１）中のＬ１およびＬ２の少なくとも１つが重合性基を表す。
式（Ａｒ－４）～（Ａｒ－６）中、Ａｘは、芳香族炭化水素環および芳香族複素環からなる群より選ばれる少なくとも１つの芳香族環を有する、炭素数２～３０の有機基を表す。式（Ａｒ－４）～（Ａｒ－６）中、Ａｘは、好ましくは、芳香族複素環を有し、より好ましくはベンゾチアゾール環を有する。式（Ａｒ－４）～（Ａｒ－６）中、Ａｙは、水素原子、無置換または置換基を有していてもよい炭素数１～６のアルキル基、または、芳香族炭化水素環および芳香族複素環からなる群より選択される少なくとも１つの芳香族環を有する、炭素数２～３０の有機基を表す。式（Ａｒ－４）～（Ａｒ－６）中、Ａｙは、好ましくは水素原子を表す。
式（Ａｒ－４）～（Ａｒ－６）中、Ｑ３は、水素原子、または、無置換または置換基を有していてもよい炭素数１～６のアルキル基を表す。式（Ａｒ－４）～（Ａｒ－６）中、Ｑ３は、好ましくは水素原子を表す。
このようなＡｒのなかでは、好ましくは、上記式（Ａｒ－４）または上記式（Ａｒ－６）で表される基（原子団）が挙げられる。
式（Ｉ）で表される液晶化合物の具体例は国際公開第２０１８／１２３５５１号公報に開示されている。当該公報の記載は本明細書に参考として援用される。これらの化合物は１種のみを用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
液晶化合物を含む組成物は、好ましくは重合開始剤を含む。重合開始剤としては、任意の適切な重合剤が用いられる。好ましくは紫外線照射によって重合反応を開始可能な光重合開始剤である。光重合開始剤としては、例えば、α－カルボニル化合物（米国特許第２３６７６６１号、米国特許第２３６７６７０号の明細書記載）、アシロインエーテル（米国特許第２４４８８２８号明細書記載）、α－炭化水素置換芳香族アシロイン化合物（米国特許第２７２２５１２号明細書記載）、多核キノン化合物（米国特許第３０４６１２７号、米国特許第２９５１７５８号の明細書記載）、トリアリールイミダゾールダイマーとｐ－アミノフェニルケトンとの組み合わせ（米国特許第３５４９３６７号明細書記載）、オキサジアゾール化合物（米国特許第４２１２９７０号明細書記載）、および、アシルフォスフィンオキシド化合物（特公昭６３－４０７９９号公報、特公平５－２９２３４号公報、特開平１０－９５７８８号公報、特開平１０－２９９９７号公報記載）が挙げられる。当該公報の記載は本明細書に参考として援用される。重合開始剤は１種のみを用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
液晶化合物を含む組成物は、位相差層を形成する作業性の観点から、溶媒を含むことが好ましい。溶媒としては任意の適切な溶媒を用いることができ、好ましくは有機溶媒が用いられる。
液晶化合物を含む組成物は、任意の適切な他の成分をさらに含む。例えば、フェノール系酸化防止剤などの酸化防止剤、上記以外の液晶化合物、レベリング剤、界面活性剤、チルト角制御剤、配向助剤、可塑剤、および、架橋剤などが挙げられる。
液晶配向固化層は、所定の基材の表面に配向処理を施し、当該表面に液晶化合物を含む組成物（塗工液）を塗工して当該液晶化合物を上記配向処理に対応する方向に配向させ、当該配向状態を固定することにより形成され得る。１つの実施形態においては、基材は任意の適切な樹脂フィルムであり、当該基材上に形成された液晶配向固化層は、偏光板の表面に転写され得る。
上記配向処理としては、任意の適切な配向処理が採用され得る。具体的には、機械的な配向処理、物理的な配向処理、化学的な配向処理が挙げられる。機械的な配向処理の具体例としては、ラビング処理、延伸処理が挙げられる。物理的な配向処理の具体例としては、磁場配向処理、電場配向処理が挙げられる。化学的な配向処理の具体例としては、斜方蒸着法、光配向処理が挙げられる。各種配向処理の処理条件は、目的に応じて任意の適切な条件が採用され得る。
液晶化合物の配向は、液晶化合物の種類に応じて液晶相を示す温度で処理することにより行われる。このような温度処理を行うことにより、液晶化合物が液晶状態をとり、基材表面の配向処理方向に応じて当該液晶化合物が配向する。
配向状態の固定は、１つの実施形態においては、上記のように配向した液晶化合物を冷却することにより行われる。液晶化合物が重合性モノマーまたは架橋性モノマーである場合には、配向状態の固定は、上記のように配向した液晶化合物に重合処理または架橋処理を施すことにより行われる。
配向固化層の形成方法の詳細は、特開２００６－１６３３４３号公報に記載されている。当該公報の記載は本明細書に参考として援用される。
Ｄ．別の位相差層
別の位相差層は、上記のとおり、屈折率特性がｎｚ＞ｎｘ＝ｎｙの関係を示す、いわゆるポジティブＣプレートであり得る。別の位相差層としてポジティブＣプレートを用いることにより、斜め方向の反射を良好に防止することができ、反射防止機能の広視野角化が可能となる。この場合、別の位相差層の厚み方向の位相差Ｒｔｈ（５５０）は、好ましくは－５０ｎｍ～－３００ｎｍ、より好ましくは－７０ｎｍ～－２５０ｎｍ、さらに好ましくは－９０ｎｍ～－２００ｎｍ、特に好ましくは－１００ｎｍ～－１８０ｎｍである。ここで、「ｎｘ＝ｎｙ」は、ｎｘとｎｙが厳密に等しい場合のみならず、ｎｘとｎｙが実質的に等しい場合も包含する。すなわち、別の位相差層の面内位相差Ｒｅ（５５０）は１０ｎｍ未満であり得る。
ｎｚ＞ｎｘ＝ｎｙの屈折率特性を有する別の位相差層は、任意の適切な材料で形成され得る。別の位相差層は、好ましくは、ホメオトロピック配向に固定された液晶材料を含むフィルムからなる。ホメオトロピック配向させることができる液晶材料（液晶化合物）は、液晶モノマーであっても液晶ポリマーであってもよい。当該液晶化合物および当該位相差層の形成方法の具体例としては、特開２００２－３３３６４２号公報の［００２０］～［００２８］に記載の液晶化合物および当該位相差層の形成方法が挙げられる。この場合、別の位相差層の厚みは、好ましくは０．５μｍ～１０μｍであり、より好ましくは０．５μｍ～８μｍであり、さらに好ましくは０．５μｍ～５μｍである。
Ｅ．粘着剤層
粘着剤層３０を構成する粘着剤としては、任意の適切な粘着剤を用いることができる。粘着剤としては、ゴム系粘着剤、アクリル系粘着剤、シリコーン系粘着剤、ウレタン系粘着剤、ビニルアルキルエーテル系粘着剤、ポリビニルアルコール系粘着剤、ポリビニルピロリドン系粘着剤、ポリアクリルアミド系粘着剤、セルロース系粘着剤などが挙げられる。これら粘着剤のなかでも、光学的透明性に優れ、適宜な濡れ性と凝集性と接着性の粘着特性を示して、耐候性や耐熱性などに優れるものが好ましく使用される。このような特徴を示すものとしてアクリル系粘着剤が好ましく使用される。
Ｆ．位相差層付偏光板の用途
本発明の実施形態の位相差層付偏光板は任意の適切な用途に用いることができる。１つの実施形態において、上記位相差層付偏光板は画像表示装置に好適に用いることができる。好ましくは、上記位相差層付偏光板は有機エレクトロルミネッセンス装置、無機エレクトロルミネッセンス装置に好適に用いることができる。
Ｇ．画像表示装置
上記Ａ項からＥ項に記載の位相差層付偏光板は、画像表示装置に適用され得る。したがって、本発明の実施形態は、そのような位相差層付偏光板を用いた画像表示装置を包含する。画像表示装置の代表例としては、液晶表示装置、エレクトロルミネセンス（ＥＬ）表示装置（例えば、有機ＥＬ表示装置、無機ＥＬ表示装置）が挙げられる。本発明の実施形態による画像表示装置は、その視認側に上記Ａ項からＥ項に記載の位相差層付偏光板を備える。位相差層付偏光板は、位相差層が画像表示セル（例えば、液晶セル、有機ＥＬセル、無機ＥＬセル）側となるように（偏光子が視認側となるように）積層されている。
Ｈ．評価方法
本発明の１つの実施形態においては位相差層付偏光板の評価方法が提供される。本発明の実施形態による位相差層付偏光板の評価方法は、位相差層付偏光板の中心部に評価用正方形を規定すること、評価用正方形が規定された位相差層付偏光板を８０℃に５００時間置くこと、評価用正方形の位相差層の遅相軸方向の収縮寸法ｘと位相差層の進相軸方向の収縮寸法ｙを測定すること、および、収縮寸法ｘおよび収縮寸法ｙから収縮寸法比ｘ／ｙを算出すること、を含む。本発明の実施形態による評価方法によれば、位相差層付偏光板の高温耐久性、すなわち高温環境下に置かれた場合の位相差変化の程度、を評価することができる。
位相差付偏光板は用途等に応じて任意の適切な形状に設計され得る。代表的には、位相差層付偏光板は矩形である。以下、矩形の位相差層付偏光板を例として、本発明の実施形態の評価方法について説明する。まず、評価対象の位相差層付偏光板の中心部に評価用正方形を規定する。中心部とは上記のとおりである。例えば、位相差層付偏光板の重心と評価用正方形の重心とが対応するよう正方形（例えば、一辺が１ｃｍである正方形）を任意の適切な方法により規定する。規定方法としては任意の適切な方法を用いることができる。例えば、位相差層付偏光板に描画してもよく、マークを貼付してもよい。描画方法としては、例えば、カッター等の任意の適切な手段を用いて偏光板の最表面にキズをつけて描画する方法、および、油性ペン等の筆記具を用いて偏光板の最表面に描画する方法等が挙げられる。好ましくはカッター等の任意の適切な手段を用いて偏光板の最表面にキズをつけて描画する方法が用いられる。
次いで、評価用正方形が規定された位相差層付偏光板を８０℃の環境に５００時間置く。加熱後、室温に戻した位相差層付偏光板において、評価用正方形の遅相軸方向と平行な辺の長さｘ２および進相軸方向と平行な辺の長さｙ２をそれぞれ測定する。次いで、評価用正方形の遅相軸方向の辺の長さの初期値ｘ１と加熱後の遅相軸方向に平行な辺の長さｘ２から遅相軸方向の寸法収縮ｘ（ｘ２／ｘ１）を算出する。同様に、評価用正方形の進相軸方向の辺の長さの初期値ｙ１と加熱後の遅相軸方向の辺の長さｙ２から進相軸方向の寸法収縮ｙ（ｙ２／ｙ１）を算出する。それぞれ算出された遅相軸方向の寸法収縮ｘと進相軸方向の寸法収縮ｙの値から収縮寸法比ｘ／ｙを算出する。
算出された収縮寸法比ｘ／ｙが１に近いほど位相差層付偏光板が高温耐久性に優れ、高温環境に置かれた場合であっても位相差変化が抑制されていることを示す。収縮寸法比ｘ／ｙは好ましくは０．９９５～１．００３であり、より好ましくは０．９９６～１．００２であり、さらに好ましくは０．９９７～１．００１である。
以下、実施例によって本発明を具体的に説明するが、本発明はこれら実施例によって限定されるものではない。各特性の測定方法は以下の通りである。なお、特に明記しない限り、実施例および比較例における「部」および「％」は重量基準である。
（１）厚み
１０μｍ以下の厚みは、干渉膜厚計（大塚電子社製、製品名「ＭＣＰＤ－３０００」）を用いて測定した。１０μｍを超える厚みは、デジタルマイクロメーター（アンリツ社製、製品名「ＫＣ－３５１Ｃ」）を用いて測定した。
（２）収縮寸法比ｘ／ｙ
実施例および比較例で得られた位相差層付偏光板に、カッターを用いて位相差層付偏光板の最表面にキズをつけることにより、位相差層付偏光板の重心と重心が対応する位置に１ｃｍ四方の正方形（評価用正方形）を描画した。次いで、位相差層付偏光板の粘着剤層を厚さ０．５ｍｍのガラス板（８０ｍｍ×１５０ｍｍ）に貼り合わせ積層した。その後、ガラス板に貼り合わせた位相差層付偏光板を８０℃の条件下に５００時間置いた。次いで、ＸＹ測長機（ミツトヨ社製、製品名：ＱＵＩＣＫ ＶＩＳＩＯＮ ＱＶＡ１５１７－ＰＲＯ）を用いて、評価用正方形の位相差層の遅相軸方向と平行な辺の収縮寸法ｘ２および進相軸方向と平行な辺の収縮寸法ｙ２をそれぞれ測定した。次いで、遅相軸方向の収縮寸法ｘ（ｘ２／１（ｃｍ））および進相軸方向の収縮寸法ｙ（ｙ２／１（ｃｍ））をそれぞれ算出した。それぞれ算出された遅相軸方向の収縮寸法ｘと進相軸方向の収縮寸法ｙの値から収縮寸法比ｘ／ｙを算出した。
（３）ΔＲｅ
実施例および比較例で得られた位相差層付偏光板に、カッターを用いて位相差層付偏光板の最表面にキズをつけることにより、位相差層付偏光板の重心と重心が対応する位置に１ｃｍ四方の正方形（評価用正方形）を描画した。評価用正方形部分の面内位相差Ｒｅの初期面内位相差Ｒｅ０を位相差フィルム・光学材料検査装置（大塚電子社製、商品名「ＲＥＴＳ」）を用いて測定した。次いで、位相差層付偏光板の粘着剤層を厚さ０．５ｍｍのガラス板（８０ｍｍ×１５０ｍｍ）に貼り合わせ積層した。その後、ガラス板に貼り合わせた位相差層付偏光板を８０℃の条件下に５００時間置いた。その後、同様にして、評価用正方形部分の加熱後の面内位相差Ｒｅ５００を測定した。初期面内位相差Ｒｅ０と加熱後の面内位相差Ｒｅ５００の値からΔＲｅ（ｎｍ）を算出した。
（４）Δａ＊ｂ＊
実施例および比較例で得られた位相差層付偏光板に、カッターを用いて位相差層付偏光板の最表面にキズをつけることにより、位相差層付偏光板の重心と重心が対応する位置に１ｃｍ四方の正方形（評価用正方形）を描画した。評価用正方形部分について、積分球付き紫外可視分光光度計（日本分光社製、製品名：Ｖ－７１００）を用いてａ値およびｂ値を測定した。これをａ０値およびｂ０値とした。次いで、位相差層付偏光板の粘着剤層を厚さ０．５ｍｍのガラス板（８０ｍｍ×１５０ｍｍ）に貼り合わせ積層した。その後、ガラス板に貼り合わせた位相差層付偏光板を８０℃の条件下に５００時間置いた。８０℃の条件で５００時間置いたした後のａ５００値およびｂ５００値を同様に求めた。これらの値から下記式を用いて色相変化量Δａｂを求めた。
Δａ＊ｂ＊＝｛（ａ５００－ａ０）２＋（ｂ５００－ｂ０）２｝１／２
［製造例１：位相差層付偏光板の作製］
１．偏光子の作製
厚み３０μｍのポリビニルアルコール（ＰＶＡ）系樹脂フィルム（クラレ製、製品名「ＰＥ３０００」）の長尺ロールを、ロール延伸機により長手方向に５．９倍になるように長手方向に一軸延伸しながら同時に膨潤、染色、架橋、洗浄処理を施し、最後に乾燥処理を施すことにより厚み１２μｍの偏光子を作製した。
具体的には、膨潤処理は２０℃の純水で処理しながら２．２倍に延伸した。次いで、染色処理は得られる偏光子の単体透過率が４５．０％になるようにヨウ素濃度が調整されたヨウ素とヨウ化カリウムの重量比が１：７である３０℃の水溶液中において処理しながら１．４倍に延伸した。さらに、架橋処理は、２段階の架橋処理を採用し、１段階目の架橋処理は４０℃のホウ酸とヨウ化カリウムを溶解した水溶液において処理しながら１．２倍に延伸した。１段階目の架橋処理の水溶液のホウ酸含有量は５．０重量％で、ヨウ化カリウム含有量は３．０重量％とした。２段階目の架橋処理は６５℃のホウ酸とヨウ化カリウムを溶解した水溶液において処理しながら１．６倍に延伸した。２段階目の架橋処理の水溶液のホウ酸含有量は３．７重量％で、ヨウ化カリウム含有量は５．０重量％とした。また、洗浄処理は、２０℃のヨウ化カリウム水溶液で処理した。洗浄処理の水溶液のヨウ化カリウム含有量は３．１重量％とした。最後に、乾燥処理は７０℃で５分間乾燥させて偏光子を得た。
２．偏光板の作製
上記で得られた偏光子の表面（樹脂基材とは反対側の面）に、保護層としてＨＣ－ＣＯＰフィルムを、紫外線硬化型接着剤を介して貼り合せた。具体的には、硬化型接着剤の総厚みが１．０μｍになるように塗工し、ロール機を使用して貼り合わせた。その後、ＵＶ光線を保護層側から照射して接着剤を硬化させた。なお、ＨＣ－ＣＯＰフィルムは、シクロオレフィン（ＣＯＰ）フィルム（日本ゼオン社製、製品名「ＺＦ１２」、厚み２５μｍ）にハードコート（ＨＣ）層（厚み２μｍ）が形成されたフィルムであり、ＣＯＰフィルムが偏光子側となるようにして貼り合わせた。次いで、樹脂基材を剥離し、保護層（ＨＣ層／ＣＯＰフィルム）／接着剤層／偏光子の構成を有する偏光板を得た。
３．第１の位相差層の作製
式（Ｉ）で示される化合物５５重量部と、式（ＩＩ）で示される化合物２５重量部と、式（ＩＩＩ）で示される化合物２０重量部とを、シクロペンタノン（ＣＰＮ）４００重量部に加えた後、６０℃に加温、撹拌して溶解させた。その後、上記した化合物の溶液を室温に戻し、上記した化合物の溶液に、イルガキュア９０７（ＢＡＳＦジャパン社製）３重量部と、メガファックＦ－５５４（ＤＩＣ社製）０．２重量部と、ｐ－メトキシフェノール（ＭＥＨＱ）０．１重量部とを加えて、さらに撹拌した。撹拌後の溶液は、透明で均一であった。得られた溶液を０．２０μｍのメンブランフィルターでろ過し、重合性組成物を得た。
また、配向膜用ポリイミド溶液を厚さ０．７ｍｍのガラス基材にスピンコート法を用いて塗布し、１００℃で１０分乾燥した後、２００℃で６０分焼成することにより塗膜を得た。得られた塗膜を、市販のラビング装置によってラビング処理し、配向膜を形成した。
次いで、基材（実質的には、配向膜）に、上記で得られた重合性組成物をスピンコート法で塗布し、１００℃で２分乾燥した。得られた塗布膜を室温まで冷却した後、高圧水銀ランプを用いて、３０ｍＷ／ｃｍ２の強度で３０秒間紫外線を照射して、液晶化合物の配向固化層である第１の位相差層を得た。第１の位相差層の面内位相差Ｒｅ（５５０）は１３０ｎｍであった。また、第１の位相差層のＲｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）は０．８５１であり、逆分散波長特性を示した。第１の位相差層は、λ／４板として機能し得る。
Figure 2023047491000004
Figure 2023047491000005
４：第２の位相差層の作製
下記化学式（式中の数字６５および３５はモノマーユニットのモル％を示し、便宜的にブロックポリマー体で表している：重量平均分子量５０００）で示される側鎖型液晶ポリマー２０重量部、ネマチック液晶相を示す重合性液晶（ＢＡＳＦ社製：商品名ＰａｌｉｏｃｏｌｏｒＬＣ２４２）８０重量部および光重合開始剤（チバスペシャリティーケミカルズ社製：商品名イルガキュア９０７）５重量部をシクロペンタノン２００重量部に溶解して液晶塗工液を調製した。そして、垂直配向処理を施したＰＥＴ基材に当該塗工液をバーコーターにより塗工した後、８０℃で４分間加熱乾燥することによって液晶を配向させた。この液晶層に紫外線を照射し、液晶層を硬化させることにより、ｎｚ＞ｎｘ＝ｎｙの屈折率特性を示す第２の位相差層（厚み３μｍ）を基材上に形成した。
Figure 2023047491000006
次いで、第１の位相差層表面と第２の位相差層表面にＵＶ接着剤を塗工し、貼り合わせた後ＵＶ光を照射し、硬化、接着させた。その後、第１位相差層の基材を剥離し、プラズマ処理後、下塗り剤を塗工、乾燥し、その後、アクリル系粘着剤（厚み５μｍ）を塗工、乾燥した。次いで、これら積層品のアクリル系粘着剤面と、保護層（ＨＣ層／ＣＯＰフィルム）／接着剤層／偏光子／接着剤層／保護層（ＴＡＣ）のＴＡＣ面とを貼り合わせ、その後、第２の位相差層表面の基材を剥離し、粘着剤層（厚み２６μｍ）を設け、保護層（ＨＣ層／ＣＯＰフィルム）／接着剤層／偏光子／接着剤層／保護層（ＴＡＣ）/粘着剤層／／第１の位相差層／接着剤層／第２位相差層）／粘着剤層の構成を有する位相差層付偏光板を得た。得られた位相差層付偏光板の総厚みは１００μｍであった。
［実施例１－１］
製造例１で得られた位相差層付偏光板を縦６．５ｃｍ、横１３ｃｍ（アスペクト比：２）となるようフィルム切断機を用いて切断し、（２）～（４）の評価に供した。結果を表１に示す。
［実施例１－２］
製造例１で得られた位相差層付偏光板を縦７．８ｃｍ、横１１ｃｍ（アスペクト比：１．４）となるようフィルム切断機を用いて切断し、（２）～（４）の評価に供した。結果を表１に示す。
［実施例１－３］
製造例１で得られた位相差層付偏光板を縦９．３ｃｍ、横９．３ｃｍ（アスペクト比：１）となるようフィルム切断機を用いて切断し、（２）～（４）の評価に供した。結果を表１に示す。
［実施例１－４］
製造例１で得られた位相差層付偏光板を縦１２ｃｍ、横８ｃｍ（アスペクト比：０．６７）となるようフィルム切断機を用いて切断し、（２）～（４）の評価に供した。結果を表１に示す。
［実施例１－５］
製造例１で得られた位相差層付偏光板を縦１３ｃｍ、横６．５ｃｍ（アスペクト比：０．５）となるようフィルム切断機を用いて切断し、（２）～（４）の評価に供した。結果を表１に示す。
［実施例１－６］
製造例１で得られた位相差層付偏光板を縦１６ｃｍ、横６ｃｍ（アスペクト比：０．３８）となるようフィルム切断機を用いて切断し、（２）～（４）の評価に供した。結果を表１に示す。
［実施例１－７］
製造例１で得られた位相差層付偏光板を縦２４ｃｍ、横４ｃｍ（アスペクト比：０．１７）となるようフィルム切断機を用いて切断し、（２）～（４）の評価に供した。結果を表１に示す。
［実施例２］
偏光子の作製工程において、架橋処理工程で用いるホウ酸水溶液の濃度を変更して、ホウ酸含有量１７重量％の偏光子を得たこと以外は実施例１と同様にして位相差層付偏光板を作製した。得られた位相差層付偏光板を縦６．５ｃｍ、横１３ｃｍ（アスペクト比：２）となるようフィルム切断機を用いて切断した。切断した位相差層付偏光板を実施例１と同様の評価に供した。結果を表１に示す。
（比較例１）
実施例１と同様にして、位相差層付偏光板を作製した。得られた位相差層付偏光板を縦４ｃｍ、横２４ｃｍ（アスペクト比：６）となるよう切断した以外は実施例１と同様にして位相差層付偏光板を作製し、実施例１と同様の評価に供した。結果を表１に示す。
（比較例２）
偏光子の作製工程において、架橋処理工程で用いるホウ酸水溶液の濃度を変更して、ホウ酸含有２２重量％の偏光子を得たこと以外は実施例１－１と同様にして位相差層付偏光板を作製した。得られた位相差層付偏光板を実施例１と同様の評価に供した。結果を表１に示す。
Figure 2023047491000007
［評価］
表１から明らかなように、本発明の実施例の位相差層付偏光板は高温耐久性に優れるものであった。実施例および比較例で得られた位相差層付偏光板の収縮寸法比ｘ／ｙとΔＲｅの分布を図３に示す。図３のグラフからも分かるとおり、収縮寸法比ｘ／ｙとΔＲｅには相関関係がみられた。収縮寸法比ｘ／ｙを測定することにより、位相差層付偏光板の位相差変化の程度について評価することができた。
本発明の位相差層付偏光板は、液晶表示装置、有機ＥＬ表示装置および無機ＥＬ表示装置に好適に用いられる。
１０ 偏光板
１１ 偏光子
１２ 保護層
２０ 位相差層
３０ 粘着剤層
１００ 位相差層付偏光板

Claims (9)

  1. 偏光子を含む偏光板と、位相差層と、を有し、
    該偏光子の吸収軸と位相差層の遅相軸とがなす角度が４０°～５０°である、位相差層付偏光板であって、
    該位相差層付偏光板の中心部に規定された評価用正方形の、８０℃で５００時間加熱条件下に置いた後の位相差層の遅相軸方向の収縮寸法ｘと位相差層の進相軸方向の収縮寸法ｙとの比ｘ／ｙが０．９９４～１．００４である、位相差層付偏光板。
  2. アスペクト比が０．１５～３．０である、請求項１に記載の位相差層付偏光板。
  3. 前記位相差層が液晶化合物の配向固化層である、請求項１または２に記載の偏光板。
  4. 前記位相差層の面内位相差が、１００ｎｍ＜Ｒｅ（５５０）＜１６０ｎｍであり、かつ、
    Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）＜１、および、Ｒｅ（６５０）／Ｒｅ（５５０）＞１を満たす、請求項１から３のいずれかに記載の位相差層付偏光板。
  5. 前記偏光子の厚みが７μｍ以上である、請求項１から４のいずれかに記載の位相差層付偏光板。
  6. 前記偏光子のホウ酸含有量が２０重量％以下である、請求項１から５のいずれかに記載の位相差層付偏光板。
  7. 請求項１から６のいずれかに記載の位相差層付偏光板を備える、画像表示装置。
  8. 有機エレクトロルミネセンス表示装置または無機エレクトロルミネセンス表示装置である、請求項７に記載の画像表示装置。
  9. 偏光子を含む偏光板と、位相差層と、を含む位相差層付偏光板の評価方法であって、
    該位相差層付偏光板の中心部分に評価用正方形を規定すること、
    該評価用正方形が規定された位相差層付偏光板を８０℃に５００時間置くこと、
    該評価用正方形の位相差層の遅相軸方向の収縮寸法ｘと位相差層の進相軸方向の収縮寸法ｙを測定すること、および、
    該収縮寸法ｘおよび収縮寸法ｙから収縮寸法比ｘ／ｙを算出すること、を含む、位相差層付偏光板の評価方法。
JP2021156434A 2021-09-27 2021-09-27 位相差層付偏光板およびそれを用いた画像表示装置、ならびに、位相差層付偏光板の評価方法 Pending JP2023047491A (ja)

Priority Applications (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2021156434A JP2023047491A (ja) 2021-09-27 2021-09-27 位相差層付偏光板およびそれを用いた画像表示装置、ならびに、位相差層付偏光板の評価方法
PCT/JP2022/025957 WO2023047748A1 (ja) 2021-09-27 2022-06-29 位相差層付偏光板およびそれを用いた画像表示装置、ならびに、位相差層付偏光板の評価方法
CN202280065349.6A CN118056144A (zh) 2021-09-27 2022-06-29 带相位差层的偏振片及使用了其的图像显示装置、以及带相位差层的偏振片的评价方法
KR1020247009582A KR20240063911A (ko) 2021-09-27 2022-06-29 위상차층 부착 편광판 및 이를 이용한 화상 표시 장치, 및 위상차층 부착 편광판의 평가 방법
TW111128879A TW202313323A (zh) 2021-09-27 2022-08-02 附相位差層之偏光板及使用其之影像顯示裝置、與附相位差層之偏光板之評價方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2021156434A JP2023047491A (ja) 2021-09-27 2021-09-27 位相差層付偏光板およびそれを用いた画像表示装置、ならびに、位相差層付偏光板の評価方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2023047491A true JP2023047491A (ja) 2023-04-06

Family

ID=85720479

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2021156434A Pending JP2023047491A (ja) 2021-09-27 2021-09-27 位相差層付偏光板およびそれを用いた画像表示装置、ならびに、位相差層付偏光板の評価方法

Country Status (5)

Country Link
JP (1) JP2023047491A (ja)
KR (1) KR20240063911A (ja)
CN (1) CN118056144A (ja)
TW (1) TW202313323A (ja)
WO (1) WO2023047748A1 (ja)

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010152334A (ja) * 2008-11-25 2010-07-08 Nitto Denko Corp 偏光板付ガラス板の製造方法、偏光板付ガラス板、偏光板付液晶セル
JP2020024352A (ja) * 2018-07-31 2020-02-13 住友化学株式会社 円偏光板および表示装置
WO2021186946A1 (ja) * 2020-03-18 2021-09-23 日東電工株式会社 位相差層および粘着剤層付偏光板、ならびに、該位相差層および粘着剤層付偏光板を用いた画像表示装置

Also Published As

Publication number Publication date
WO2023047748A1 (ja) 2023-03-30
KR20240063911A (ko) 2024-05-10
CN118056144A (zh) 2024-05-17
TW202313323A (zh) 2023-04-01

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN110192130B (zh) 带光学补偿层的偏振片及使用了其的有机el面板
JPWO2019167926A1 (ja) 積層体、有機電界発光装置、液晶表示装置
KR102060795B1 (ko) 반사 방지층 및 비침 방지층 부착 편광판 및 그 제조 방법
TW202125000A (zh) 附相位差層之偏光板及使用其之有機電致發光顯示裝置
CN111727206B (zh) 聚合性液晶组合物、光学各向异性膜、光学膜、偏振片及图像显示装置
JP2018060152A (ja) Ｉｐｓモード用の偏光板のセット及びそれを用いたｉｐｓモード液晶表示装置
WO2022185802A1 (ja) 円偏光板およびそれを用いた画像表示装置
WO2023047748A1 (ja) 位相差層付偏光板およびそれを用いた画像表示装置、ならびに、位相差層付偏光板の評価方法
KR20220135162A (ko) 편광판 및 편광판의 제조 방법
JP7385380B2 (ja) 位相差層およびハードコート層付偏光板の製造方法
JP2018060151A (ja) Ｉｐｓモード用の偏光板のセット及びそれを用いたｉｐｓモード液晶表示装置
JP2023075748A (ja) 位相差層付偏光板およびそれを用いた画像表示装置
JP2023075790A (ja) 位相差層付偏光板およびそれを用いた画像表示装置
WO2023084837A1 (ja) 位相差層付偏光板および該位相差層付偏光板を含む画像表示装置
WO2023084838A1 (ja) 位相差層付偏光板および該位相差層付偏光板を含む画像表示装置
WO2023074042A1 (ja) 偏光板および有機エレクトロルミネセンス表示装置
WO2023074041A1 (ja) 偏光板および有機エレクトロルミネセンス表示装置
WO2022045188A1 (ja) 光学フィルム、円偏光板、有機エレクトロルミネッセンス表示装置
WO2022201907A1 (ja) 位相差層付偏光板およびその製造方法、ならびに該位相差層付偏光板を用いた画像表示装置
KR20240115165A (ko) 광학 적층체 및 해당 광학 적층체를 이용한 화상 표시 장치
KR20230038789A (ko) 광학 필름, 원편광판, 유기 일렉트로 루미네선스 표시 장치
KR20240028118A (ko) 편광판 및 광학표시장치

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20240404