JP2023038218A - 感光性樹脂積層体、感光性樹脂積層体を用いたパターン製造方法及び装置 - Google Patents
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Abstract
Description
(i)ポリプロピレンフィルムであること、及び
(ii)自由体積が0.2nm3未満であること
の少なくとも1つを満たした保護フィルムを用いることによって、感光性樹脂中の光重合性化合物がブリードアウトする現象を抑制できるという効果が記載されているが、保護フィルム中のフィッシュアイの大きさや個数については、何ら開示されていない。
また、フィッシュアイが極めて少ない平滑性に優れた保護フィルムは、真空ラミネートの真空環境下に長時間置かれることによって、感光層の一部が保護フィルム側に密着して、保護フィルムを剥離する際に感光層の一部が保護フィルム側へ転写するという問題があった。上述の特許文献のいずれも、当該転写の問題を十分に抑制できていなかった。
すなわち、本発明は以下のとおりである。
[1]
支持体と、感光層と、保護フィルムとをこの順に積層してなる感光性樹脂積層体であって、上記保護フィルムは、上記感光層と接する面において、面積2,000μm2以上かつ上記保護フィルム表面からの最大高さが1μm以上のフィッシュアイの個数が、5個を超えて20個未満となる縦10m×横0.1mの領域を含むことを特徴とする、感光性樹脂積層体。
[2]
上記保護フィルムがポリプロピレンを含む、項目1に記載の感光性樹脂積層体。
[3]
上記保護フィルムがポリプロピレンフィルムである、項目2に記載の感光性樹脂積層体。
[4]
上記感光層の膜厚が15μm未満である、項目1~3のいずれか一項に記載の感光性樹脂積層体。
[5]
上記感光層の硬化前における粘度の最小値が1,000Pa・s以下である、項目1~4のいずれか一項に記載の感光性樹脂積層体。
[6]
上記感光層が、以下の成分:
(A)アルカリ可溶性樹脂
(B)光重合性化合物、及び
(C)光重合性開始剤
を含有する、項目1~5のいずれか一項に記載の感光性樹脂積層体。
[7]
上記(B)光重合性化合物は、分子量が430以下の化合物を少なくとも含む、項目1~6のいずれか一項に記載の感光性樹脂積層体。
[8]
金属膜、又は金属酸化物膜のいずれかを保護するために使用される、項目1~7のいずれか一項に記載の感光性樹脂積層体。
[9]
タッチパネル用保護膜、又はフォースセンサ用保護膜のいずれかに使用される、項目1~8のいずれか一項に記載の感光性樹脂積層体。
[10]
上記保護フィルムは、面積2,000μm2以上かつ上記保護フィルム表面からの最大高さが1μm以上のフィッシュアイの平均個数が、上記保護フィルムの上記感光層と接する面の1m2あたり5個を超えて20個未満である、項目1~9のいずれか一項に記載の感光性樹脂積層体。
[11]
項目1~10のいずれか一項に記載の感光性樹脂積層体の上記保護フィルムを剥して、真空雰囲気下で基材上に上記感光層をラミネートし、露光し、そして現像することによりパターンを作製することを含む、パターン製造方法。
[12]
項目11に記載のパターン製造方法により製造されたパターンを有するタッチパネル表示装置又はタッチセンサを有する、装置。
本実施形態の感光性樹脂積層体は、支持体と、感光層と、保護フィルムとをこの順に積層してなる感光性樹脂積層体である。
保護フィルムは、感光層と接する面において、フィルム中に存在する面積が2,000μm2以上、かつ、フィルム表面からの最大高さが1μm以上のフィッシュアイの個数が5個を超えて20個未満となる縦10m×横0.1mの領域を含むことが好ましい。ここで、「縦」は、感光性樹脂積層体の機械方向(MD)を意味し、「横」は、MDに垂直な横断方向(TD)を意味する。
また、保護フィルムは、面積が2,000μm2以上かつフィルム表面からの最大高さが1μm以上のフィッシュアイの平均個数が、保護フィルムの感光層と接する面の1m2あたり5個を超えて20個未満であることが好ましい。
保護フィルムは、感光層と接する面において、フィッシュアイの個数が、例えば、19個以下、18個以下、17個以下、16個以下、15個以下、14個以下、13個以下、12個以下、11個以下、10個以下、又は9個以下である、縦10m×横0.1mの領域を含んでもよい。
保護フィルムの感光層と接する面積全体で平均した場合のフィッシュアイの平均個数は、例えば、6個/m2以上、7個/m2以上、8個/m2以上、9個/m2以上、10個/m2以上、12個/m2以上、14個/m2以上、又は16個/m2以上であってもよい。
また、フィッシュアイの平均個数は、例えば、19個/m2以下、18個/m2以下、17個/m2以下、16個/m2以下、15個/m2以下、14個/m2以下、13個/m2以下、12個/m2以下、11個/m2以下、10個/m2以下、又は9個/m2以下であってもよい。
特に面積が2,000μm2を超える、最大長が80μmを超える、もしくは、最大高さが1μmを超えるフィッシュアイは、重大なブリードアウトを引き起こすため、平均個数が20個/m2未満であることが好ましい。
フィッシュアイは、原料配合、混練条件、及び溶融条件などを調整することにより、また溶融後に濾過を行うことにより、フィルム中に形成される数や大きさを制御することができる。例えば、濾過によってフィッシュアイとなる異物を全て取り除いた後に、異物となる粒子を添加することによって、フィッシュアイが本実施形態の範囲内である保護フィルムを作製できる。
フィッシュアイの最大高さは、レーザ顕微鏡を用いて倍率50倍の対物レンズを用いて測定する。フィッシュアイの干渉縞が強く、測定が難しい場合は、フィッシュアイを含むサンプルを予め金により蒸着してから測定しても良い。同様の方法で、フィッシュアイの個数を測定対象の保護フィルム全体の面積で平均したフィッシュアイの平均個数を測定することができる。
ここで、「保護フィルムがポリプロピレンを含む」とは、保護フィルムが、モノマーとしてプロピレンから構成されるポリプロピレン樹脂(ホモポリマー)、及び/又はコモノマーの一つとしてプロピレンを含むプロピレン共重合樹脂を、少なくとも1種以上含む、単層、又は積層フィルムであることをいう。「保護フィルムがポリプロピレンフィルムである」とは、保護フィルムが、モノマーとしてプロピレンから構成されるポリプロピレン樹脂(ホモポリマー)、及び/又はコモノマーの一つとしてプロピレンを含むプロピレン共重合樹脂からなる、単層、又は積層フィルムであることをいう。
支持体としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、記感光層から剥離可能であり、かつ、光の透過性が良好であるものが好ましく、更に表面の平滑性が良好であることがより好ましい。このような支持体としては、ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリビニルアルコールフィルム、ポリ塩化ビニルフィルム、塩化ビニル共重合体フィルム、ポリ塩化ビニリデンフィルム、塩化ビニリデン共重合フィルム、ポリメタクリル酸メチル共重合体フィルム、ポリスチレンフィルム、ポリアクリロニトリルフィルム、スチレン共重合体フィルム、ポリアミドフィルム、及びセルロース誘導体フィルム等が挙げられる。これらのフィルムとしては、必要に応じ延伸されたものも使用可能である。支持体のヘーズは5以下であることが好ましい。支持体の膜厚は、薄い方が画像形成性及び経済性の面で有利であるが、強度を維持する必要から、10~30μmのものが好ましく用いられる。
感光層は、(A)アルカリ可溶性樹脂、(B)光重合性化合物、及び(C)光重合性開始剤を含み、必要に応じて適宜選択した重合禁止剤や、その他の成分を含んでいてもよい。
本発明において用いる(A)アルカリ可溶性樹脂は、カルボキシル基を含有する高分子体であれば制限はなく、例えば、(メタ)アクリル酸、(メタ)アクリル酸エステル、(メタ)アクリロニトリル、(メタ)アクリルアミド等のアクリル系共重合体、ポリイミド前駆体、カルボキシル基含有ポリイミド、カルボキシル基含有ウレタン樹脂、酸変性エポキシ(メタ)アクリレート化合物などが挙げられる。
ポンプ:Gulliver、PU-1580型
カラム:昭和電工(株)製Shodex(登録商標)(KF-807、KF-806M、KF-806M、KF-802.5)4本直列、
移動層溶媒:テトラヒドロフラン
検量線:ポリスチレン標準サンプルを用いて規定された検量線{ポリスチレン標準サンプル(昭和電工(株)製Shodex STANDARD SM-105)による検量線使用}
なお、水酸基価は次式により算出できる。
水酸基価=(A-B)×f×28.05/試料(g)+酸価
式中、Aは空試験に用いた0.1mol/L水酸化カリウムエタノール溶液の量(mL)を示し、Bは滴定に用いた0.1mol/L水酸化カリウムエタノール溶液の量(mL)を示し、fはファクターを示す。
本実施形態に係る光重合性化合物は、エチレン性不飽和二重結合を有する化合物、例えば、その構造中にエチレン性不飽和基を有することによって重合性を有する化合物である。エチレン性不飽和二重結合を有する化合物は、(b1)分子中に重合性基を3つ以上有する化合物を含むことが好ましく、更にかつ/又は、(b2)分子中に重合性基を1つ有する化合物を含むことがより好ましい。また、エチレン性不飽和二重結合を有する化合物は、上記以外の化合物を組み合わせて使用することが出来る。
本実施形態に係る(C)光重合開始剤は、活性光線によりラジカルを発生し、エチレン性不飽和基含有化合物などを重合することができる化合物である。本実施形態に係る(C)光重合開始剤は、活性光線によりラジカルを発生し、エチレン性不飽和基含有化合物等を重合することができる化合物である。(C)光重合開始剤としては、例えば、ベンゾフェノン、N,N,N’,N’-テトラメチル-4,4’-ジアミノベンゾフェノン(ミヒラーケトン)、N,N,N’,N’-テトラエチル-4,4’-ジアミノベンゾフェノン、4-メトキシ-4’-ジメチルアミノベンゾフェノン、2-ベンジル-2-ジメチルアミノ-1-(4-モルホリノフェニル)-ブタノン-1、2-メチル-1-[4-(メチルチオ)フェニル]-2-モルホリノ-プロパノン-1、アクリル化ベンゾフェノン、4-ベンゾイル-4’-メチルジフェニルサルファイド等の芳香族ケトン;ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインフェニルエーテル等のベンゾインエーテル化合物;ベンゾイン、メチルベンゾイン、エチルベンゾイン等のベンゾイン化合物;1,2-オクタンジオン,1-[4-(フェニルチオ)-,2-(O-ベンゾイルオキシム)]、エタノン,1-[9-エチル-6-(2-メチルベンゾイル)-9H-カルバゾール-3-イル]-,1-(O-アセチルオキシム)、1-[4-(フェニルチオ)フェニル]-3-シクロペンチルプロパン-1,2-ジオン-2-(o-ベンゾイルオキシム)、1,2-プロパンジオン,3-シクロヘキシル-1-[9-エチル-6-(2-フラニルカルボニル)-9H-カルバゾール-3-イル]-,2-(O-アセチルオキシム)等のオキシムエステル化合物;ベンジルジメチルケタール等のベンジル誘導体;9-フェニルアクリジン、1,7-ビス(9,9’-アクリジニル)ヘプタン等のアクリジン誘導体;N-フェニルグリシン等のN-フェニルグリシン誘導体;クマリン化合物;オキサゾール化合物;2,4,6-トリメチルベンゾイル-ジフェニル-ホスフィンオキサイド等のホスフィンオキサイド化合物が挙げられる。光重合開始剤は、単独で、又は2種以上混合して用いることもできる。
感光性樹脂組成物には、より高い防錆性能を発現させるという観点から、(D)熱架橋剤を更に配合することが好ましい。(D)熱架橋剤とは、熱により(A)アルカリ可溶性樹脂、並びに同時に添加する(D)熱架橋剤と付加反応、又は縮合重合反応を起こす化合物を意味する。付加反応又は縮合重合反応を起こす温度としては、100℃~150℃が好ましい。付加反応又は縮合反応は、現像によりパターン形成をした後の加熱処理の際に生じる。
ジオール化合物の具体例としては、ポリテトラメチレンジオール(例えば、三菱ケミカル(株)製P4TMG650、PTMG850、PTMG1000、PTMG1300、PTMG1500、PTMG1800、PTMG2000、及びPTMG3000など)、ポリブタジエンジオール(例えば、日本曹達(株)製G-1000、G-2000、及びG-3000など)、水添ポリブタジエンジオール(例えば、日本曹達(株)製GI-1000、GI-2000、及びGO-3000など)、ポリカーボネートジオール(例えば、旭化成(株)製デュラノールT5651、デュラノールT5652、デュラノールT4671、デュラノールG4672、デュラノールG3452、及びデュラノールG3450J、並びにクラレ(株)製クラレポリオールC-590、クラレポリオールC-1090、クラレポリオールC-2090、及びクラレポリオールC-3090など)、ポリカプロラクトンジオール(例えば、ダイセル(株)製プラクセル205PL、プラクセル210、プラクセル220、及びプラクセル220PLなど)、ポリエステルジオール(例えば、クラレ(株)製クラレポリオールP-530、クラレポリオールP-2030、及びクラレポリオールP-2050、並びに豊国製油(株)製HS2N-220Sなど)、ビスフェノール類(例えば、三菱ケミカル(株)製ビスフェノールAなど)、及び水添ビスフェノール類(例えば、新日本理化(株)製リカビノールHBなど)が挙げられる。これらのジオール化合物は、単独で用いてもよく、2種類以上を組み合わせて用いてもよい。
感光性樹脂組成物には、より低透水性を発現させるという観点から、(E)ロジンエステル化合物を更に配合することが好ましい。本実施形態に係る(E)ロジンエステル化合物とは、松脂の不揮発性分である炭素数20の三環式ジテルペノイドであるロジン酸、ロジン酸の二量体、ロジン酸の水素添加物、及びロジン酸の不均化物から成る群から選ばれる化合物(以下、総称として「ロジン酸誘導体」と呼ぶ)とヒドロキシル化合物、フェノール化合物、グリシジル化合物のいずれかを反応させたことによりエステル結合を有する化合物、ロジン酸誘導体をグリシジル化し、カルボキシル化合物、フェノール化合物のいずれかを反応させたことによりエステル結合を有する化合物である。
本実施形態に係る防錆剤とは、防錆効果を有する化合物をいい、例えば、金属表面に被膜を形成して金属の腐食又は錆を防止する物質等である。
トリアゾール、例えば、1,2,3-トリアゾール、1,2,4-トリアゾール等;
トリアゾール誘導体、例えば、3-メルカプトトリアゾール、3-アミノ-5-メルカプトトリアゾール、ベンゾトリアゾール、1H-ベンゾトリアゾール-1-アセトニトリル、1-[N,N-ビス(2-エチルヘキシル)アミノメチル]ベンゾトリアゾール、1-(2-ジ-n-ブチルアミノメチル)-5-カルボキシベンゾトリアゾール、1-(2-ジ-n-ブチルアミノメチル)-6-カルボキシベンゾトリアゾール、1H-ベンゾトリアゾール-1-メタノール、5-メチル-1H-ベンゾトリアゾール、5-カルボキシベンゾトリアゾール、1-ヒドロキシベンゾトリアゾール、5-クロロベンゾトリアゾール、5-ニトロベンゾトリアゾール等;
イミダゾリン;イミダゾリン誘導体、例えば、2-ウンデシルイミダゾリン、2-プロピル-2-イミダゾリン、2-フェニルイミダゾリン等;
チアゾール;チアゾール誘導体、例えば、2-アミノ-4-メチルチアゾール、5-(2-ヒドロキシエチル)-4-メチルチアゾール、ベンゾチアゾール、2-メルカプトベンゾチアゾール、2-アミノベンゾチアゾール、2-アミノ-6-メチルベンゾチアゾール、(2-ベンゾチアゾリルチオ)酢酸、3-(2-ベンゾチアゾリルチオ)プロピオン酸等;
チアジアゾール、例えば、1,2,3-チアジアゾール、1,2,5-チアジアゾール、1,3,4-チアジアゾール等;チアジアゾール誘導体、例えば、4-アミノ-2,1,3-ベンゾチアジアゾール、2-アミノ-5-メルカプト-1,3,4-チアジアゾール、2-アミノ-5-メチル-1,3,4-チアジアゾール、2-アミノ-1,3,4-チアジアゾール、5-アミノ-1,2,3-チアジアゾール、2-メルカプト-5-メチル-1,3,4-チアジアゾール等;
チオフェン;チオフェン誘導体、例えば、2-チオフェンカルボン酸、3-アミノ-2-チオフェンカルボン酸メチル、3-メチルベンゾチオフェン等。
一方で、(F)成分として導体の防錆性と硬化膜の基材との密着性の観点から、テトラゾール及びその誘導体、トリアゾール及びその誘導体、インダゾール及びその誘導体並びにチアジアゾール及びその誘導体が好ましい。
本実施形態において、成分(A)~(F)に加えて、その他の成分(G)として、カルボキシル基とエチレン性不飽和基を有するオリゴマー、ニトロソフェニルヒドロキシルアミンが3モル付加したアルミニウム塩等の重合禁止剤、酸化防止剤、密着助剤、レベリング剤、充填剤、消泡剤、及び難燃剤等も感光性樹脂組成物に含有させることが出来、これらは単独で又は2種類以上を組み合わせて使用できる。
溶剤は、支持体上に塗布する感光性樹脂組成物の溶液の粘度が、25℃で3mPa・s~3,000mPa・sとなるように、感光性樹脂組成物に添加することが好ましい。
本実施形態の感光性樹脂積層体を用いたパターンの形成は、以下の工程:
本実施形態の感光性樹脂積層体の保護フィルムを剥して、真空雰囲気下で基材上に感光層をラミネートする工程;露光する工程;及び現像する工程を含む。より詳細には、基材上に、上記で説明された感光性樹脂積層体をラミネートする真空ラミネート工程;該ラミネートされた感光層に露光する露光工程;及び該露光された感光層を現像する現像工程;を含む方法によって、樹脂パターンを製造することができる。更に、樹脂パターンを導体部の保護膜として用いるために、現像工程後に、樹脂パターンを後露光処理及び/又は加熱処理に供して、硬化膜パターンを形成することが好ましい。
銅層の厚みは50nm~2μmであることが好ましい。銅層の均一性の観点から、銅層の厚みは100nm以上であることがより好ましい。
本実施形態に係る感光性樹脂積層体の硬化膜をタッチパネル用基材に形成することで、感光層の硬化膜を有するタッチパネル表示装置、及び転写フィルムの硬化膜とタッチセンサ及び/又はフォースセンサとを有する装置を提供することができる。
タッチパネル用基材としては、一般に、タッチパネル、タッチセンサ又はフォースセンサのために用いられる基材、例えば、ガラス板、プラスチック板、プラスチックフィルム、セラミック板等が挙げられる。この基材上には、保護膜を形成する対象となるITO、Cu、Al、Ag、Ni、Mo及びこれらの少なくとも2種を含む合金等のタッチパネル用電極又は金属配線が設けられ、基材と電極との間に絶縁層が設けられていてもよい。
実施例1~4、及び比較例1~4における感光性樹脂積層体は次のように作製した。
以下の表1に示す化合物を用意し、以下の表2に示す組成割合(表中の値は質量部)の
感光性樹脂組成物を、これらを溶解する溶媒であるメチルエチルケトン(MEK)と混ぜ
合わせてよく攪拌し、混合して、均一な溶液の感光性樹脂組成物調合液を得た。支持体としての膜厚16μmのポリエチレンテレフタレートフィルムの表面に、バーコーターを用いて該感光性樹脂組成物調合液を均一に塗布して乾燥し、感光層を形成した。感光層の膜厚は8μmであった。
感光性樹脂積層体の転写性は以下のようにして評価した。
まず、作製した感光性樹脂捲回体を真空ラミネーター((株)エム・シー・ケー製)のチャンバー内の巻出し軸にセットした。次いで、真空ポンプを用いてチャンバー内の真空度を50Paまで減圧、1時間維持した。次いで、チャンバー内を大気圧に戻した後、感光性樹脂捲回体から、面積10m×0.1mの感光性樹脂積層体を切り出した。次いで、保護フィルムを100mm/秒のスピードで剥離した後、保護フィルムの表面に感光層が付着しているかどうかを目視で確認した。感光層が付着していた場合は、感光層の面積を測定した。
<評価方法>
○・・・・剥離した保護フィルム表面に感光層の付着が確認できない。
×・・・・剥離した保護フィルム表面に感光層の付着が有り、付着した感光層の面積が100mm2未満である。
××・・・剥離した保護フィルム表面に感光層の付着が有り、付着した感光層の面積が100mm2以上である。
<試験用基材の作製>
特許第4515123号明細書の実施例2に記載の通りに感光性樹脂積層体を作製して、感光性樹脂積層体を、保護フィルムを剥がしながら、樹脂、ITO、及びスパッタ銅がこの順に積層された大きさ10cm×10cmのフレキシブル基材の銅表面に、ホットロールラミネーターにてラミネートした。その際ロール温度100℃、エアー圧力は0.4MPaとし、ラミネート速度は1.5m/分とした。そして30分静置後、支持フィルムの上にPETマスクを置き、PETマスク側から平行光露光機により120mJ/cm2で露光した。PETマスクは、ライン/スペース=80μm/80μmパターンのものを使用した。その後、30分以上静置した後、支持フィルムを剥離し、(株)フジ機工製現像装置を用い、フルコーンタイプのノズルにて現像スプレー圧0.15MPaで、30℃の1質量%Na2CO3水溶液を最小現像時間の2倍の時間スプレーして、感光性樹脂層の未露光部分を溶解除去した。ここで、最小現像時間とは、感光性樹脂組成物層の未露光部分が完全に溶解除去されるまでに要する最小の時間をいう。その際、水洗工程は、フラットタイプのノズルにて水洗スプレー圧0.15MPaで、現像工程と同時間処理し、エアーブローにより乾燥させ銅上にレジストパターンを形成した。
上記エッチング後、液温50℃の3wt%のNaOH水溶液へ浸漬し、ディップ方式にてレジストの除去を行い、水洗及び風乾処理を行った。これにより、樹脂上にITOが積層され、さらにその上に銅配線パターンが形成された試験用基材を得た。銅配線パターンをより詳細に述べると、長さ8cm、幅80μmの銅ラインが、ライン:スペース=1:1で10本形成されている。
上記手法にて作成した、銅配線が形成された基材の、銅配線が存在する面へ、本発明に記載の感光性樹脂積層体の保護フィルムを剥がしながら、ホットロールラミネーター(大成ラミネーター(株)製、VA-400III )を用いてラミネートした。その際、ロール温度は100℃、エアー圧力は0.4MPa、ラミネート速度は1.0m/分とした。30分静置後、保護膜の支持フィルム側から散乱光露光機によって各組成の最適露光量を全面露光した。30分静置後、支持フィルムを剥離し、(株)フジ機工製現像装置を用い、フルコーンタイプのノズルにて現像スプレー圧0.12MPaで、35℃の1質量%Na2CO3水溶液を60秒間所定時間スプレーして現像し、感光性樹脂層の未露光部分を溶解除去した。その際、水洗工程は、フラットタイプのノズルにて水洗スプレー圧0.12MPaで、現像工程と同時間処理し、エアーブローにより乾燥させた。その後、散乱光露光機にて感光層側から350mJ/cm2の露光量で露光し、続いて、熱風循環式オーブンにて150℃で30分間処理しサンプルを作製した。上記最適露光量及び所定時間は現像性評価用サンプル作製方法と同様の定義である。
JIS L0848に記載の酸性人工汗液を、作製したサンプルの銅配線部の直上に位置する保護膜上に滴下した後、85℃、85%RHの恒温恒湿オーブン(アドバンテック東洋(株)製、THN050FA)に保管した。所定時間経過したところで、オーブンから取り出し、保護膜面及び保護膜とは逆の面から顕微鏡にて観察し、銅配線の変色又は腐食の有無を確認し、以下のように判定した。
A:85℃、85%RHの環境下で500時間以上経過後に変色が発生
B:85℃、85%RHの環境下で350時間以上500時間未満に変色が発生
C:85℃、85%RHの環境下で200時間以上350時間未満に変色が発生
D:85℃、85%RHの環境下で200時間未満に変色又は腐食が発生
被覆部防錆性においては、Cランク以上がタッチパネル製造プロセスにおいて実用上必要であり、Bランク以上が良好な結果であると考えられる。
<サンプル作製法>
感光層の厚みが40μmの感光性樹脂積層体を2枚用意し、保護フィルムを剥がした面を合わせてホットロールラミネーター(大成ラミネーター(株)製、VA-400III)を用いてラミネートした。片面側の支持体を剥がした後、厚みが40μmの感光層の保護フィルムを剥がしたものをさらにラミネートすることを二回繰り返し、感光層の厚みが160μmの感光性樹脂積層体を得た。ロール温度は100℃、エアー圧力は0.2MPaとし、ラミネート速度は0.5m/分とした。得られた積層体の両面の支持体を剥がして粘度測定のサンプルとした。作製したサンプルは23℃、RH50%に一日調湿した後、試験を行った。
上記方法で作製したサンプルを、動的粘弾性測定装置(レオメータ)(DHR-2、ティー・エイ・インスツルメント社製)により以下の条件で粘度測定を行い、得られた粘度曲線から、値が減少から増加に変わる点を極小値として読み取った。また、極小値が2つ以上ある場合はそれぞれの値を読み取った。
(測定条件)
サンプルサイズ:2.5cmφ、厚み160μm
測定温度条件:30~200℃
昇温速度:5℃/分
周波数:1Hz
荷重:0.2N
ひずみ:1.0%
2 感光層
3 保護フィルム
4 芯材
5 転写
6 フィッシュアイ
7 ブリードアウト
10 感光性樹脂積層体
20 真空ラミネーターチャンバー
Claims (12)
- 支持体と、感光層と、保護フィルムとをこの順に積層してなる感光性樹脂積層体であって、前記保護フィルムは、前記感光層と接する面において、面積2,000μm2以上かつ前記保護フィルム表面からの最大高さが1μm以上のフィッシュアイの個数が、5個を超えて20個未満となる縦10m×横0.1mの領域を含むことを特徴とする、感光性樹脂積層体。
- 前記保護フィルムがポリプロピレンを含む、請求項1に記載の感光性樹脂積層体。
- 前記保護フィルムがポリプロピレンフィルムである、請求項2に記載の感光性樹脂積層体。
- 前記感光層の膜厚が15μm未満である、請求項1~3のいずれか一項に記載の感光性樹脂積層体。
- 前記感光層の硬化前における粘度の最小値が1,000Pa・s以下である、請求項1~4のいずれか一項に記載の感光性樹脂積層体。
- 前記感光層が、以下の成分:
(A)アルカリ可溶性樹脂
(B)光重合性化合物、及び
(C)光重合性開始剤
を含有する、請求項1~5のいずれか一項に記載の感光性樹脂積層体。 - 前記(B)光重合性化合物は、分子量が430以下の化合物を少なくとも含む、請求項1~6のいずれか一項に記載の感光性樹脂積層体。
- 金属膜、又は金属酸化物膜のいずれかを保護するために使用される、請求項1~7のいずれか一項に記載の感光性樹脂積層体。
- タッチパネル用保護膜、又はフォースセンサ用保護膜のいずれかに使用される、請求項1~8のいずれか一項に記載の感光性樹脂積層体。
- 前記保護フィルムは、面積2,000μm2以上かつ前記保護フィルム表面からの最大高さが1μm以上のフィッシュアイの平均個数が、前記保護フィルムの前記感光層と接する面の1m2あたり5個を超えて20個未満である、請求項1~9のいずれか一項に記載の感光性樹脂積層体。
- 請求項1~10のいずれか一項に記載の感光性樹脂積層体の前記保護フィルムを剥して、真空雰囲気下で基材上に前記感光層をラミネートし、露光し、そして現像することによりパターンを作製することを含む、パターン製造方法。
- 請求項11に記載のパターン製造方法により製造されたパターンを有するタッチパネル表示装置又はタッチセンサを有する、装置。
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