JP2023037123A - R-t-b系焼結磁石の製造方法 - Google Patents

R-t-b系焼結磁石の製造方法 Download PDF

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Abstract

【課題】シート形状を有する粉末形成体を焼結したときに発生する反りを抑制する。【解決手段】本開示のR-T-B系焼結磁石の製造方法は、希土類元素を含むR-T-B系合金粉末の成形体を準備する工程と、焼結炉内で形成体を焼結する焼結工程とを含む。成形体は、厚さが8mm以下のシート形状を有している。焼結工程は、設定温度を第1昇温レートで第1温度まで上昇させる第1昇温工程と、設定温度を第1温度よりも高い第2温度まで第1昇温レートよりも低い第2昇温レートで上昇させる第2昇温工程と、第2温度で成形体の焼結を進行させる第1の焼結温度保持工程とを含む。第2昇温レートは、0.1℃/分以上1.5℃/分以下であり、第1温度と第2温度の差は、20℃以上である。【選択図】図2

Description

本願は、R-T-B系焼結磁石の製造方法に関する。
R-T-B系焼結磁石(Rは希土類元素であり、Nd、PrおよびCeからなる群から選択される少なくとも1つを必ず含み、Tは遷移金属の少なくとも1つでありFeを必ず含む、Bはホウ素である)は、RFe14B型結晶構造を有する化合物の主相と、この主相の粒界部分に位置する粒界相および微量添加元素や不純物の影響により生成する化合物相とから構成されている。R-T-B系焼結磁石は、高い残留磁束密度B(以下、単に「B」と記載する場合がある)と、高い保磁力HcJ(以下、単に「HcJ」と記載する場合がある)を示し、永久磁石の中で最も高性能な磁石として知られている。このため、R-T-B系焼結磁石は、電気自動車(EV、HV、PHV)等の自動車分野、風力発電等の再生可能エネルギー分野、家電分野、産業分野等のさまざまなモーターに使用されている。R-T-B系焼結磁石は、これらモーターの小型・軽量化、高効率・省エネルギー化(エネルギー効率の改善)に欠かせない材料である。また、R-T-B系焼結磁石は、電気自動車用の駆動モーターに使用されており、内燃機関エンジン自動車から電気自動車へ代替されることで、二酸化炭素等の温室効果ガスの削減(燃料・排ガスの削減)による地球温暖化防止にも寄与している。このように、R-T-B系焼結磁石は、クリーンエネルギー社会の実現に大きく貢献している。
R-T-B系焼結磁石は、R-T-B系合金粉末を準備する工程、R-T-B系合金粉末をプレス成形して成形体を作製する工程、成形体を焼結する工程などの工程を経て製造される。
特許文献1は、このようなR-T-B系焼結磁石の一例を開示している。
国際公開第2013/008756号
近年、R-T-B系焼結磁石の材料開発および製造方法の改良により、保磁力HcJおよび角形比(H/HcJ)は上昇してきたが、成形体の厚さが薄いシート形状の場合、焼結体が反るという課題のあることがわかった。
本開示の実施形態は、このような課題を解決することが可能なR-T-B系焼結磁石の製造方法を提供する。
本開示のR-T-B系焼結磁石の製造方法は、例示的な実施形態において、希土類元素を含むR-T-B系合金粉末(Rは希土類元素であり、Nd、PrおよびCeからなる群から選択される少なくとも1つを必ず含む、Tは遷移金属の少なくとも1つでありFeを必ず含む)の成形体を準備する工程と、焼結炉内で前記形成体を焼結する焼結工程と、を含む。前記成形体は、厚さが8mm以下のシート形状を有している。前記焼結工程は、前記焼結炉の設定温度を第1昇温レートで第1温度まで上昇させる第1昇温工程と、前記焼結炉の設定温度を前記第1温度よりも高い第2温度まで前記第1昇温レートよりも低い第2昇温レートで上昇させる第2昇温工程と、前記第2温度で前記成形体の焼結を進行させる第1の焼結温度保持工程とを含む。前記第2昇温レートは、0.1℃/分以上1.5℃/分以下であり、前記第1温度と前記第2温度の差は、20℃以上である。
ある実施形態において、前記成形体は、1辺の長さが20mmの正方形を内包する大きさのシート表面を有している。
ある実施形態において、前記第2温度は、900℃超1100℃以下である。
ある実施形態において、前記第1温度と前記第2温度の差は、100℃以下である。
ある実施形態において、前記第1温度と前記第2温度の差は、20℃以上50℃以下である。
ある実施形態において、前記第1昇温レートは、2.0℃/分以上である。
ある実施形態において、前記焼結工程は、前記第1の焼結温度保持工程の後に前記焼結炉の設定温度を前記第2温度よりも低い第3温度まで低下させる降温工程と、前記焼結炉の設定温度を前記第3温度で保持する工程と、前記焼結炉の設定温度を前記第3温度よりも高い第4温度まで上昇させる第3昇温工程と、前記第4温度で前記成形体の焼結を更に進行させる第2の焼結温度保持工程と、を含む。
ある実施形態において、前記第1の焼結温度保持工程の前記第2温度に保持する時間は、前記第2の焼結温度保持工程において前記第4温度に保持する時間の半分以下の時間である。
ある実施形態において、前記第2の焼結温度保持工程の時間は、1時間以上20時間以下である。
ある実施形態において、前記第3温度は、700℃以上900℃以下である。
ある実施形態において、前記R-T-B系合金粉末の組成は、R:28質量%以上35質量%以下、B:0.8質量%以上1.20質量%以下、T61.5質量%以上を含み、[B]を質量%で示すBの含有量、[T]を質量%で示すTの含有量とするとき、14[B]/10.8<[T]/55.85を満足する。
本開示の実施形態によれば、焼結工程による反りを抑制することが可能なR-T-B系焼結磁石の製造方法を提供することができる。
図1Aは、本開示における製造工程を示すフローチャートである。 図1Bは、本開示における焼結工程を示すフローチャートである。 図2は、本実施形態の焼結工程における焼結炉の設定温度プロファイルの例を模式的に示す図である。 図3は、本開示における焼結工程の他の例を示すフローチャートである。 図4は、本実施形態の焼結工程における焼結炉の設定温度プロファイルの他の例を模式的に示す図である。 図5は、本実施形態の焼結工程における焼結炉の設定温度プロファイルの更に他の例を模式的に示す図である。 図6は、本実施形態の焼結工程における焼結炉の設定温度プロファイルの更に他の例を模式的に示す図である。 図7は、本実施形態の焼結工程における焼結炉の設定温度プロファイルの更に他の例を模式的に示す図である。
以下、本開示によるR-T-B系焼結磁石の製造方法の実施形態を説明する。
本実施形態に係るR-T-B系焼結磁石において、Rは希土類元素であり、Nd、PrおよびCeからなる群から選択される少なくとも1つを必ず含む。また、Tは遷移金属の少なくとも1つでありFeを必ず含む。
本実施形態におけるR-T-B系焼結磁石の製造は、図1Aに示すように、
・希土類元素を含むR-T-B系合金粉末の成形体を準備する工程(A)と、
・焼結炉内で前記形成体を焼結する焼結工程(B)と、
を含む。そして、成形体は、厚さが8mm以下のシート形状を有している。
焼結工程(B)における雰囲気は、例えば、窒素ガスもしく希ガスなどの不活性ガスまたは真空である。
焼結工程(B)は、図1Bに示すように、
・焼結炉の設定温度を第1昇温レートで第1温度まで上昇させる第1昇温工程(S10)と、
・焼結炉の設定温度を第1温度よりも高い第2温度まで第1昇温レートよりも低い第2昇温レートで上昇させる第2昇温工程(S20)と、
・第2温度で成形体の焼結を進行させる第1の焼結温度保持工程(S30)と、
を含む。
第2昇温工程(S20)における第2昇温レートは、0.1℃/分以上1.5℃/分以下である。そして、第1温度と第2温度の差は、20℃以上である。以下、第1温度をT1、第2温度をT2と表記する。温度の単位は[℃]である。
R-T-B系焼結磁石は、主相であるNdFe14B相(強磁性)の結晶粒、および、主相結晶粒の粒界に位置する、ホウ素(B)に富むB-rich相およびNd-rich相などの金属間化合物から構成される。焼結反応は、成形体を構成する粉末粒子に含まれた、これらの相が関与した液相の生成によって進行する。液相の量が不足している段階では緻密化の反応は生じないが、温度の上昇に伴って液相量が増加すると、緻密化の反応が急激に進行する。焼結過程中に粉末粒子内の金属間化合物の一部が溶融して生じた液相が、主相結晶粒の表面を改質または酸化物の還元を引き起こしながら、粒子の結合および緻密化が進行していく。
このような焼結反応は温度に敏感である。このため、焼結炉の設定温度の昇温レートが高すぎると、成形体の温度および温度変化が部位によって一様ではなくなる。その結果、焼結が部位において非一様に進行し、成形体の表面または内部の部位によって収縮率が変化してしまう。このような収縮率の不均一が生じると、特にシート形状を有する成形体では、最終的に得られる焼結体に大きな反りが発生してしまう。本発明者らの検討によると、昇温レートを単純に低下させた場合、焼結工程に要する時間が長くなって量産性が低下するだけではなく、必ずしも反りを十分に抑制することができないことがわかった。更なる検討の結果、昇温工程を2段階にわけ、第1段階では昇温レートを相対的に高くし、第1の焼結温度保持工程(S30)の温度(第2温度T2)に達する前に、第2段階として、昇温レートを一時的に低下させることが反り抑制に有効であることを見出した。このような2段階の昇温を行う場合、第1温度T1と第2温度T2の差(T2-T1)が小さすぎたり、第2段階の昇温レートが高すぎたり低すぎたりしても、望ましい結果を得ることができない。このため、第2昇温工程(S20)における第2昇温レートは、0.1℃/分以上1.5℃/分以下とし、第1温度と第2温度の差は、20℃以上としている。
本開示の実施形態において、第2温度T2は、例えば、900℃超1100℃以下である。この範囲から外れると、焼結が適切に進行せず、磁石特性が劣化してしまう可能性がある。ある実施形態において、第1温度T1と第2温度T2の差(T2-T1)は、100℃以下が好ましく、20℃以上50℃以下であることがより好ましい。第1温度T1と第2温度T2の差がありすぎると、生産性が悪化する可能性があり、第1温度T1が第2温度T2に近すぎると、昇温レートを一時的に低下させることによって反りを抑制するという効果を十分に得ることが難しくなる。また、第1昇温レートは、2.0℃/分以上であることが好ましい。第1昇温レートが低すぎると、焼結工程に要する時間が長くなりすぎて、量産性が低下してしまう。
次に、図2を参照して、上記の各工程S10、S20、およびS30の例をより詳細に説明する。この図は、横軸が時間、縦軸が温度のグラフを示す図であり、焼結工程における熱処理対象物(成形体および焼結体)の温度プロファイルの例を模式的に示している。図示される温度は、焼結炉の設定温度であり、焼結炉に設けられた熱電対などの温度計によって測定される。成形体または焼結体の実際の温度は、焼結炉の設定温度と厳密には一致している必要はなく、両者の間に±5℃以下のずれは許容されるものとする。
図2において、太い実線が温度と時間との関係を示している。時間は、焼結のため昇温開始からの経過時間である。経過時間の単位は、例えば時間(hour)であるが、分または秒であってもよい。温度は、上述のように、温度制御プログラムによって指定される焼結炉の設定温度であるが、焼結炉内雰囲気の温度に実質的に等しい。図中の太い実線は、直線的な線分によって構成されているが、実際の温度または設定温度は、曲線的に変動してもよい。
図2の例において、設定温度は、2.0℃/分以上の第1昇温レートで単調に増加し、昇温レートは一定である。しかし、昇温レートは、室温から昇温する場合において、常に一定である必要はない。成形体中に含まれる潤滑剤、水素(水素粉砕時)などの油剤を揮発させるため、例えば200℃程度の温度で、1時間以上10時間以下の間、保持してもよい。このため、本開示における第1昇温レートは、700℃以上の範囲において第1温度T1に達するまでの昇温レートであると定義する。図2のグラフには、温度700℃および温度1100℃を示す水平な直線が記載されている。
前述したように、第1温度T1は、第2温度T2よりも低く、その温度差(T2-T1)は、100℃以下が好ましい。T2-T1は、20℃以上がより好ましく、さらに好ましくは、20℃以上50℃以下である。また、25℃以上40℃以下であることが更に好ましい。前記第1温度と前記第2温度の差が20℃以上で、かつ、第1温度T1から第2温度T2までの第2昇温レートが0.1℃/分以上1.5℃/分以下であることにより、焼結が進行する第1の焼結温度保持工程(S30)の前に、熱処理対象物における温度分布が一様な分布に近づくことができ、反りの抑制が実現すると考えられる。第1温度T1から第2温度T2までの第2昇温レートが1.5℃/分を超えて高くなり、例えば2.0℃/分以上になると、反りが顕著に発生する場合が多くなる。
なお、第1の焼結温度保持工程(S30)において、第2温度T2に保持する時間tは、例えば30分以上30時間以下である。第1の焼結温度保持工程(S30)では、焼結炉の設定温度を第2温度T2の一定レベルに保持し続ける必要はない。
焼結工程(B)は、図3に示すように、
・第1の焼結温度保持工程(S30)の後に焼結炉の設定温度を前記第2温度よりも低い第3温度まで低下させる降温工程(S40)と、
・焼結炉の設定温度を第3温度で保持する工程(S50)と、
・焼結炉の設定温度を第3温度よりも高い第4温度まで上昇させる第3昇温工程(S60)と、
・前記第4温度で前記成形体の焼結を更に進行させる第2の焼結温度保持工程(S70)と、
を含んでいてもよい。
以下、図4から図7を参照して、上記の各工程S40-S70の例をより詳細に説明する。これらの図も、図2と同様に、横軸が時間、縦軸が温度のグラフを示す図であり、焼結工程における熱処理対象物(成形体および焼結体)の温度プロファイルの例を模式的に示している。
まず、図4を参照する。図4において、太い実線が温度と時間との関係を示している。図4の例において、焼結炉の設定温度は、第2温度T2までの昇温は、図2を参照しながら説明した通りである。このため、第1の焼結温度保持工程(S30)の後の工程を詳細に説明する。
第1の焼結温度保持工程(S30)に引き続いて行う降温工程(S40)では、いったん、焼結炉の設定温度を、第2温度T2よりも低い第3温度T3まで低下させる。このときの降温レートは、例えば2℃/分~5℃/分である。次に、工程(S50)では、焼結炉の設定温度を第3温度T3で保持する。
第3昇温工程(S60)では、焼結炉の設定温度を第3温度T3よりも高い第4温度T4まで上昇させ、第2の焼結温度保持工程(S70)では、第4温度T4で成形体の焼結を更に進行させる。この例では、焼結工程が2段階で分けて実行される。第1の焼結温度保持工程(S30)を第1段焼結工程、第2の焼結温度保持工程(S70)を第2段焼結工程と呼んでもよい。また、第1の焼結温度保持工程(S30)の時間を第1焼結時間t1、第2の焼結温度保持工程(S70)の時間を第2焼結時間t2と呼ぶことができる。ある実施形態において、第1焼結時間t1は、30分以上2時間以下であり、第2焼結時間t2は、1時間以上15時間以下である。
ある好ましい実施形態において、第2温度T2および第4温度T4は、いずれも、900℃超1100℃以下である。図4の例では、第2温度T2は、第4温度T4に比べて高いが、図5に示すように、第2温度T2と第4温度T4とが等しくてもよい。ある好ましい実施形態において、第2温度T2は、例えば1040℃以上1080℃未満であり、第4温度T4は、例えば1020℃以上1060℃未満である。
本発明者らの検討によると、2段階に焼結工程を分けることにより、焼結時間を長時間行うことなく、良好なHcJおよびH/HcJの達成できること場合がある。好ましくは、第1焼結時間t1は、30分以上1時間以下であり、第2焼結時間t2は、1時間以上8時間以下である。特に図4に示すように第1温度T1が第2温度T2よりも高い場合、第1焼結時間t1を第2焼結時間t2よりも短くすることが好ましい。この場合、例えば、第1焼結時間t1は、第2焼結時間t2の半分以下の時間であることが好ましい。
本実施形態では、第1段焼結工程(S30)と第2段焼結工程(S70)との間に、設定温度を第3温度T3で保持する工程(S50)を実行する。本開示において、冷却工程中に設定温度が900℃以下の状態にある時間t0を「冷却時間」と定義する。したがって、この冷却時間t0は、第2温度T2から降温中において、900℃から第3温度T3に達するまでの降温期間と、第3温度T3から昇温中において、第3温度T3から900℃に達するまでの遷移時間も含む。第2温度T2と第3温度T3は、50℃以上差があることが好ましい。つまり、第3温度T3は、第2温度T2よりも50℃以上低い温度であることが好ましい。降温工程(S40)における降温レートは任意であり、図6に示すように、相対的に低いレートで降温してもよい。
また、第3温度T3は、900℃以下であれば、700℃以上900℃以下の範囲であってもよいし、図7に示すように、室温レベルであってもよい。冷却工程に要する時間を短縮して量産性を向上させるという観点から、第3温度T3は、例えば800℃以上900℃以下の範囲内に設定され得る。
<R-T-B系焼結磁石>
Rは希土類元素であり、Nd、PrおよびCeからなる群から選択される少なくとも1つを必ず含む。好ましくは、Nd-Dy、Nd-Tb、Nd-Dy-Tb、Nd-Pr-Dy、Nd-Pr-Tb、Nd-Pr-Dy-Tb、Nd-Ce-Dy、Nd-Ce-Tb、Nd-Ce-Dy-Tb、Nd-Pr-Ce-Dy、Nd-Pr-Ce-Tb、Nd-Pr-Ce-Dy-Tbで示される希土類元素の組合せを用いる。
Rのうち、DyおよびTbは、特にHcJの向上に効果を発揮する。上記元素以外にはLaなど他の希土類元素を含有してもよく、ミッシュメタルやジジムを用いることもできる。また、Rは純元素でなくてもよく、工業上入手可能な範囲で、製造上不可避な不純物を含有するものでもよい。含有量は、例えば、28量%以上35質量%以下である。好ましくは、R-T-B系焼結磁石のR含有量は31質量%以下(27質量%以上31質量%以下、好ましくは、29質量%以上31質量%以下)である。R-T-B系焼結磁石のR含有量を31質量%以下でかつ、酸素の含有量が400ppm以上4000pp以下(好ましくは400ppm以上2500ppm以下、さらに好ましくは400ppm以上2000ppm以下)とすることにより、酸化されたRの発生が低減される。そのため、より高い磁気特性を得ることができる。
Tは、遷移金属の少なくとも1つでありFeを必ず含む鉄を含む(Tが実質的に鉄から成る場合も含む)、質量比でその50%以下をコバルト(Co)で置換してもよい(Tが実質的に鉄とコバルトとから成る場合を含む)。Coは温度特性の向上、耐食性の向上に有効であり、R-T-B系合金粉末は10質量%以下のCoを含んでよい。Tの含有量は、RとBあるいはRとBと後述するMとの残部を占めてよい。
Bの含有量についても公知の含有量で差し支えなく、例えば、0.8質量%~1.2質量%が好ましい範囲である。0.8質量%未満では高いHcJが得られない場合があり、1.2質量%を超えるとBが低下する場合がある。なお、Bの一部はC(炭素)で置換することができる。
上記元素に加え、HcJ向上のためにM元素を添加することができる。M元素は、Al、Si、Ti、V、Cr、Mn、Ni、Cu、Zn、Ga、Zr、Nb、Mo、In、Sn、Hf、TaおよびWからなる群から選択される一種以上である。M元素の添加量は5.0質量%以下が好ましい。5.0質量%を超えるとBrが低下する場合があるためである。また、不可避的不純物も許容することができる。
R-T-B系焼結磁石におけるN(窒素)の含有量は、50ppm以上600ppm以下が好ましい。N(窒素)の含有量が50ppm以上600ppm以下となるように粉砕を行ことにより粉砕性を改善しつつ、窒化による磁気特性の低下を抑制することができる。窒素の含有量は50ppm以上400ppm以下がさらに好ましく、最も好ましくは、100ppm以上300ppm以下である。より粉砕性を改善しつつ、窒化による磁気特性の低下を抑制できるからである。また、R-T-B系焼結磁石におけるC(炭素)の含有量は、50ppm以上1300ppm以下が好ましい。
本実施形態におけるR-T-B系焼結磁石の組成の例を以下に示す。
R:28質量%以上35質量%以下、
B:0.8質量%以上1.2質量%以下、
T61.5質量%以上を含み、[B]を質量%で示すBの含有量、[T]を質量%で示すTの含有量とするとき、14[B]/10.8<[T]/55.85 式1
を満足する。
式1を満足する組成を有するR-T-B系焼結磁石を作製する場合において、上述した2段階に焼結工程を分けることにより、焼結時間を長時間行うことなく、良好なHcJおよびH/HcJの達成できる。
式1:14[B]/10.8<[T]/55.85の関係式を満足することにより、Bの含有量が一般的なR-T-B系焼結磁石よりも少なくなる。一般的なR-T-B系焼結磁石は、主相であるR14B相以外に軟磁性相であるR17相が生成しないように、[T]/55.85(Feの原子量)は、14[B]/10.8(Bの原子量)よりも少ない。
<(1)R-T-B系焼結磁石用合金の粗粉砕粉を準備する工程の例>
本実施形態におけるR-T-B系焼結磁石用合金の粗粉砕粉を準備する工程は、R-T-B系焼結磁石用合金を準備する工程と、この合金を例えば水素粉砕法などによって粗く粉砕する工程とを含み得る。
以下にR-T-B系焼結磁石用合金の製造方法を例示する。
まず、上述した組成となるように事前に調整した金属または合金を溶解し、鋳型に入れるインゴット鋳造法により合金インゴットを得ることができる。また、溶湯を単ロール、双ロール、回転ディスクまたは回転円筒鋳型等に接触させて急冷し、インゴット法で作られた合金よりも薄い凝固合金を作製するストリップキャスト法または遠心鋳造法に代表される急冷法により合金フレークを製造することができる。
本開示の実施形態においては、インゴット法と急冷法のどちらの方法により製造された材料も使用可能であるが、ストリップキャスト法などの急冷法により製造されることが好ましい。急冷法によって作製した急冷合金の厚さは、通常0.03mm~1mmの範囲にあり、フレーク形状である。合金溶湯は冷却ロールの接触した面(ロール接触面)から凝固し始め、ロール接触面から厚さ方向に結晶が柱状に成長してゆく。急冷合金は、従来のインゴット鋳造法(金型鋳造法)によって作製された合金(インゴット合金)と比較して、短時間で冷却されているため、組織が微細化され、結晶粒径が小さい。また粒界の面積が広い。Rリッチ相は粒界内に大きく広がるため、急冷法はRリッチ相の分散性に優れる。このため水素粉砕法により粒界で破断し易い。急冷合金を水素粉砕することで、水素粉砕粉(粗粉砕粉)のサイズ(平均粒度)を、例えば1.0mm以下、好ましくは10μm以上500μm以下にすることができる。
<(2)微粉末を得る工程の例>
本実施形態における微粉末を得る工程では、粉砕室が不活性ガスで満たされたジェットミル装置に前記粗粉砕粉を供給して前記粗粉砕粉の粉砕を行い、微粉末を得る。この工程では、例えば、平均粒度が2.0μm以上4.5μm以下の微粉末(R-T-B系合金粉末)を得ることができる。このような微粉末を得る工程は、例えば、ジェットミル粉砕システムを用いて実行することができる。
微粉砕以降の工程(主に前記微粉末の焼結体を作製する工程)によるR-T-B系焼結磁石の酸素含有量の増加は50ppm以上300ppm以下であることが好ましく、さらに好ましくは、50ppm以上200ppm以下である。これらを達成するには、後述するように磁場中湿式プレスまたは不活性ガス雰囲気中による磁場中プレスを行い、得られた成形体を焼結することが好ましい。微粉末を得る工程における微粉末の平均粒度は、2.0μm以上3.5m以下であることが好ましい。平均粒度を小さくすることにより、磁石特性を向上させることが可能になる。
<(3)微粉末の成形体を作製する工程の例>
成形体を作製する工程において、磁場中プレスでは酸化抑制の観点から不活性ガス雰囲気中によるプレスまたは湿式プレスによって成形体を形成する方が好ましい。特に湿式プレスは成形体を構成する粒子の表面が油剤などの分散剤によって被覆され、大気中の酸素や水蒸気との接触が抑制される。このため、プレス工程の前後あるいはプレス工程中に粒子が大気によって酸化されることを防止または抑制することができる。
磁場中湿式プレスを行う場合、微粉末に分散媒を混ぜたスラリーを用意し、湿式プレス装置の金型におけるキャビティに供給して磁場中でプレス成形する。
・分散媒
分散媒は、その内部にR-T-B系合金粉末を分散させることによりスラリーを得ることができる液体である。
本開示に用いる好ましい分散媒として鉱物油または合成油を挙げることができる。
・スラリーの作製
得られたR-T-B系合金粉末と分散媒とを混合することでスラリーを得ることができる。
R-T-B系合金粉末と分散媒との混合率は特に限定されないが、スラリー中のR-T-B系合金粉末の濃度は、質量比で、好ましくは70%以上(すなわち、70質量%以上)である。20~600cm/秒の流量において、キャビティ内部に効率的にR-T-B系合金粉末を供給できると共に、優れた磁気特性が得られるからである。スラリー中のR-T-B系合金粉末の濃度は、質量比で、好ましくは90%以下である。R-T-B系合金粉末と分散媒との混合方法は特に限定されない。R-T-B系合金粉末と分散媒とを別々に用意し、両者を所定量秤量して混ぜ合わせることによって製造してよい。また、粗粉砕粉をジェットミル等で乾式粉砕してR-T-B系合金粉末を得る際にジェットミル等の粉砕装置のR-T-B系合金粉末排出口に分散媒を入れた容器を配置し、粉砕して得られたR-T-B系合金粉末を容器内の分散媒中に直接回収しスラリーを得てもよい。この場合、容器内も窒素ガスおよび/またはアルゴンガスからなる雰囲気とし、得られたR-T-B系合金粉末を大気に触れさせることなく直接分散媒中に回収して、スラリーとすることが好ましい。さらには、粗粉砕粉を分散媒中に保持した状態で振動ミル、ボールミルまたはアトライター等を用いて湿式粉砕し、R-T-B系合金粉末と分散媒とから成るスラリーを得ることも可能である。
こうして得たスラリーを公知の湿式プレス装置で成形することにより、所定の大きさおよび形状を有する成形体のブロックを得ることができる。
本開示のある実施形態において、こうして得られ成形体のブロックを例えばワイヤソー技術によってスライスして、厚さが8mm以下(例えば4mm以上7mm以下)のシート形状を有する複数の成形体を形成する。各成形体は、1辺の長さが20mmの正方形を内包する大きさのシート表面を有している。
例えば、シート形状とは、主面(最も面積が大きい面)の最小寸法が厚さに対して2倍以上である。シート表面は、例えば、縦が70~150mmで横が30~150mmの長方形の形状を有し得る。なお、形状およびサイズは、この例に限定されない。
次に、このようなシート形状を有する成形体を焼結して焼結体を得る。
<(4)焼結工程の例>
次に、成形体を焼結して焼結体を得る。本実施形態における焼結工程は、前述したように、
・焼結炉の設定温度を第1昇温レートで第1温度まで上昇させる第1昇温工程(S10)と、
・焼結炉の設定温度を前記第1温度よりも高い第2温度まで前記第1昇温レートよりも低い第2昇温レートで上昇させる第2昇温工程(S20)と、
・第2温度で前記成形体の焼結を進行させる第1の焼結温度保持工程(S30)と、
を含む。
成形体の焼結は、真空又はヘリウム、アルゴンなどの不活性ガスを用いてもよい。
こうして得られた、焼結体に対しては、熱処理を行うことが好ましい。熱処理により、磁気特性を向上させることができる。熱処理温度、熱処理時間などの熱処理条件は、公知の条件を採用することができる。例えば、焼結体に対して、第2温度T2および第4温度T4よりも低い温度(例えば400℃~800℃)で1時間以上加熱する熱処理を行う。こうして得たR-T-B系焼結磁石に対しては、必要に応じて、研削・研磨工程、表面処理工程、および着磁工程が施され、最終的なR-T-B系焼結磁石が完成する。
ある好ましい実施形態では、本開示のR-T-B系焼結磁石の製造方法は、重希土類元素RH(RHは、Tb、Dy、Hoの少なくとも1つ)を焼結体の表面から内部に拡散する拡散工程を含む。重希土類元素RHを焼結体の表面から内部に拡散すると、保磁力を効率的に高めることができる。
なお、反りの測定は、例えば、公知の三次元測定によって行うことができる。反りの大きさは、例えば、厚さ方向垂直な面が接するように台板上に載置したシート形状の焼結体について、台板から磁石までの高さを三次元測定機によって、前記面の両端および中央部を含む複数個所(例えば10カ所)を測定し、最も高い場所と最も低い場所の差を求めることによって定義される。
本開示を実施例によりさらに詳細に説明するが、本開示はそれらに限定されるものではない。
実験例1
Nd;25.0質量%、Pr:4.0質量%、B:0.89質量%、Cu:0.1質量%、Ga:0.5質量%、Co:0.9質量%、残部Feの組成を有するR-T-B系焼結磁石用合金の粉末を準備した。これらの粉末を用いて湿式プレス装置で粉末成形体のブロックを作製した。得られ成形体のブロックをワイヤソー技術によってスライスして、縦85mm×横50mm×厚さ5.5mm(5.5mmが磁場配向方向)のシート形状の成形体を作製した。得られたシート形状の成形体を表1および表2に示す条件で焼結して焼結体を作製した。表1のNo.1~5は、第1段焼結工程のみのパターン(図2のパターン)であり、表2のNo.6~8は、第1および第2焼結工程のパターン(図4のパターン)で焼結を行っている。表1のNo.2は、焼結炉の設定温度を第1昇温レート(5℃/分)で第1温度(1030℃)まで上昇させる第1昇温工程(S10)と、焼結炉の設定温度を第1温度(1030℃)よりも高い第2温度(1080℃)のまで第1昇温レート(5℃/分)よりも低い第2昇温レート(1.2℃/分)で上昇させる第2昇温工程(S20)と、第2温度(1080℃)で成形体の焼結を進行させる第1の焼結温度保持工程(保持時間60分)(S30)を行ったものである。表1のNo.1、3~5も同様に記載している。なお、表1のNo.1は、1080℃、60分で焼結したものである。
表2のNo.6は、第1~第2温度および保持時間(S10~S30)に関しては、No.1と同条件で行ったものであり、第1の焼結温度保持工程(S30)の後に焼結炉の設定温度を第2温度(1080℃)よりも低い第3温度(650℃)まで低下させる降温工程(S40)と、焼結炉の設定温度を第3温度(650℃)で保持する工程(S50)と、焼結炉の設定温度を第3温度(650)よりも高い第4温度(1050℃)まで上昇させる第3昇温工程(S60)と、前記第4温度(1050℃)で前記成形体の焼結を更に進行させる第2の焼結温度保持工程(保持時間240分)(S70)を行ったものである。表2のNo.7および8も同様に記載している。得られた焼結体に対して、反り量を測定した。反り量は、厚さ方向に垂直な面(85mm×50mmの面)が接するように台板上に載置したシート形状の焼結体について、台板から磁石までの高さを三次元測定機によって前記面の両端および中央部を含む10カ所を測定し、最も高い場所と最も低い場所の差を求めた。結果を表1および表2に示す。また、表1および表2の「焼結時間」にこれら焼結工程でかかった時間を記載している。表1のNo.1は、4~5時間程度の焼結時間がかかったことを意味している。表1および表2のNo.2~8も同様に記載している。
Figure 2023037123000002
Figure 2023037123000003
表1および表2に示すように、本発明例は、いずれも反り量が1.20mm以下と反りが抑制されている。また、比較例である、No.5および8は、本発明例と比べて焼結時間が増加しており、量産性が大幅に悪化している。
本開示のR-T-B系焼結磁石の製造方法は、ハードディスクドライブのボイスコイルモータ(VCM)、電気自動車(EV、HV、PHV)用モーター、産業機器用モーターなどの各種モーターや家電製品など多種多様な用途で使用される永久磁石の製法として利用可能である。

Claims (11)

  1. 希土類元素を含むR-T-B系合金粉末(Rは希土類元素であり、Nd、PrおよびCeからなる群から選択される少なくとも1つを必ず含む、Tは遷移金属の少なくとも1つでありFeを必ず含む)の成形体を準備する工程と、
    焼結炉内で前記成形体を焼結する焼結工程と、
    を含み、
    前記成形体は、厚さが8mm以下のシート形状を有しており、
    前記焼結工程は、
    前記焼結炉の設定温度を第1昇温レートで第1温度まで上昇させる第1昇温工程と、
    前記焼結炉の設定温度を前記第1温度よりも高い第2温度まで前記第1昇温レートよりも低い第2昇温レートで上昇させる第2昇温工程と、
    前記第2温度で前記成形体の焼結を進行させる第1の焼結温度保持工程と、
    を含み、
    前記第2昇温レートは、0.1℃/分以上1.5℃/分以下であり、
    前記第1温度と前記第2温度の差は、20℃以上である、
    R-T-B系焼結磁石の製造方法。
  2. 前記成形体は、1辺の長さが20mmの正方形を内包する大きさのシート表面を有している、請求項1に記載のR-T-B系焼結磁石の製造方法。
  3. 前記第2温度は、900℃超1100℃以下である、請求項1または2に記載のR-T-B系焼結磁石の製造方法。
  4. 前記第1温度と前記第2温度の差は、100℃以下である、請求項1から3のいずれか1項に記載のR-T-B系焼結磁石の製造方法。
  5. 前記第1温度と前記第2温度の差は、20℃以上50℃以下である、請求項4に記載のR-T-B系焼結磁石の製造方法。
  6. 前記第1昇温レートは、2.0℃/分以上である、請求項1から5のいずれか1項に記載のR-T-B系焼結磁石の製造方法。
  7. 前記焼結工程は、
    前記第1の焼結温度保持工程の後に前記焼結炉の設定温度を前記第2温度よりも低い第3温度まで低下させる降温工程と、
    前記焼結炉の設定温度を前記第3温度で保持する工程と、
    前記焼結炉の設定温度を前記第3温度よりも高い第4温度まで上昇させる第3昇温工程と、
    前記第4温度で前記成形体の焼結を更に進行させる第2の焼結温度保持工程と、
    を含む、
    請求項1から6のいずれか1項に記載のR-T-B系焼結磁石の製造方法。
  8. 前記第1の焼結温度保持工程において前記第2温度に保持する時間は、前記第2の焼結温度保持工程において前記第4温度に保持する時間の半分以下の時間である、
    請求項7に記載のR-T-B系焼結磁石の製造方法。
  9. 前記第2の焼結温度保持工程の時間は、1時間以上20時間以下である、
    請求項7または8に記載のR-T-B系焼結磁石の製造方法。
  10. 前記第3温度は、700℃以上900℃以下である、請求項7から9のいずれか1項に記載のR-T-B系焼結磁石の製造方法。
  11. 前記R-T-B系合金粉末の組成は、
    R(Rは希土類元素であり、Nd、PrおよびCeからなる群から選択される少なくとも1つを必ず含む):28質量%以上35質量%以下、B:0.8質量%以上1.2量%以下、T(Tは遷移金属の少なくとも1つでありFeを必ず含む):61.5質量%以上を含み、[B]を質量%で示すBの含有量、[T]を質量%で示すTの含有量とするとき、14[B]/10.8<[T]/55.85
    を満足する、
    請求項1から10のいずれか1項に記載のR-T-B系焼結磁石の製造方法。
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