JP2023020190A - レーザ加工装置及び判定方法 - Google Patents

Abstract

【課題】加工レーザ光によるレーザ加工の可不可を、ワーク表面で反射する測定レーザ光の反射光を利用して正確に判定することが可能なレーザ加工装置を提供する。【解決手段】レーザ加工装置は、ガイド光の２次元走査で加工面に投影中の測定パターンが映し出される第１画像において、ガイド光の反射光を測定パターンが有する複数の交点毎に認識して、三次元形状情報を取得し（Ｓ１０～Ｓ１２）、三次元形状情報に基づいてガイド光の焦点位置を加工面に合わせる態様で、複数の交点の少なくともいずれか一つを再び描画するためのガイド光を順次に加工面に向けて照射し、照射中のガイド光の反射光が映し出される第２画像において、ガイド光の反射光を複数の交点毎に認識して、反射光情報を取得し（Ｓ１３～Ｓ１６）、三次元形状情報及び反射光情報に基づいて、レーザ加工の可不可を判定する（Ｓ１７）。【選択図】図６

Description

本開示は、ワーク表面における測定レーザ光の反射光を利用して加工レーザ光によるレーザ加工の可不可を判定するレーザ加工装置に関するものである。

従来より、上記レーザ加工装置に関し、種々の技術が提案されている。例えば、下記特許文献１に記載の技術は、三次元の面を有する被加工物を加工する三次元レーザ加工機において、所定波数の加工用レーザ光を被加工物の面に投射するレーザ加工ヘツドと、前記加工用レーザ光と同軸であつて、該加工用レーザ光と波長が異なる計測用のレーザ光を被加工物の面に投射する光源と、被加工物から反射され、前記レーザ加工ヘツドと被加工物の面との距離及び投射レーザ光の光軸と被加工物の面との角度並びに被加工物の材質・色の条件によつて反射光の受光量が変化して入力される受光器と、前記受光量の変化から前記レーザ加工ヘツドと被加工物の面との距離を一定の演算式に基づいて演算する回路と、この演算結果を表示する表示装置と、前記回路で演算された値を基準値と比較して前記受光量が一定値となるように前記光源の出力量を変化させる回路と、この回路の変化値を表示する表示手段とを備えたことを特徴とする。

下記特許文献１の記載によれば、上記三次元レーザ加工機では、レーザ加工ヘツドと被加工物の面との距離、レーザ加工ヘツドの姿勢（角度）並びに被加工物の材質・色の条件に関する情報が、リアルタイムに表示され、この表示に基づいてオペレータがレーザ光軸の操作等を行い、短時間で簡単、かつ、正確に教示作業を行うようにすることを可能にする。また、距離情報と姿勢情報をフイードバツクして光軸制御することにより、被加工物の三次元座標の計測あるいは加工ヘツドの位置と姿勢を修正しながら連続トラツキング加工を行うことが可能となる。

特公平０２－０５７０００号公報

しかしながら、計測用のレーザ光が投射される被加工物の面は、三次元の面である。従って、レーザ加工ヘツドと被加工物の面との距離が計測用のレーザ光の焦点距離から離れすぎると、計測用のレーザ光が所謂ピンボケ状態で被加工物から反射するので、反射光から正確な情報を得ることができない虞があった。

そこで、本開示は、上述した点に鑑みてなされたものであり、加工レーザ光によるレーザ加工の可不可を、ワーク表面で反射する測定レーザ光の反射光を利用して正確に判定することが可能なレーザ加工装置を提供する。

本明細書は、ワーク表面をレーザ加工するための加工レーザ光を出射する加工レーザ光出射部と、測定レーザ光を出射する測定レーザ光出射部と、加工レーザ光及び測定レーザ光を直交座標系のＸＹ軸方向で走査するＸＹ軸走査部と、加工レーザ光及び測定レーザ光を直交座標系のＺ軸方向で走査するＺ軸走査部と、ワーク表面で反射する測定レーザ光を撮影する撮影部と、制御部と、を備え、制御部は、測定レーザ光出射部及びＸＹ軸走査部を制御することによって、測定レーザ光が２次元走査で描画する測定パターンを、ワーク表面に投影する投影処理と、投影処理によってワーク表面に投影中の測定パターンが映し出される第１画像を、撮影部による撮影で取得する第１撮影処理と、第１画像において、ワーク表面で反射する測定レーザ光の反射光を測定パターンに含まれる複数の判定点毎に認識することによって、ワーク表面の三次元形状に関する三次元形状情報を取得する第１情報取得処理と、測定レーザ光出射部及びＸＹ軸走査部を制御すると共に、Ｚ軸走査部を三次元形状情報に基づいて制御することによって、測定レーザ光の焦点位置をワーク表面に合わせる態様で、複数の判定点の少なくともいずれか一つを再び描画するための測定レーザ光を順次にワーク表面に向けて照射する照射処理と、照射処理によってワーク表面に照射中の測定レーザ光の反射光が映し出される一又は複数の第２画像を、撮影部による撮影で取得する第２撮影処理と、一又は複数の第２画像において、測定レーザ光の反射光を複数の判定点毎に認識することによって、測定レーザ光の反射光に関する反射光情報を取得する第２情報取得処理と、三次元形状情報及び反射光情報に基づいて、レーザ加工の可不可を判定する判定処理と、を実行することを特徴とするレーザ加工装置を開示する。

更に、本明細書は、ワーク表面をレーザ加工するための加工レーザ光を出射する加工レーザ光出射部と、測定レーザ光を出射する測定レーザ光出射部と、加工レーザ光及び測定レーザ光を直交座標系のＸＹ軸方向で走査するＸＹ軸走査部と、加工レーザ光及び測定レーザ光を直交座標系のＺ軸方向で走査するＺ軸走査部と、ワーク表面で反射する測定レーザ光を撮影する撮影部と、制御部と、を備え、制御部は、測定レーザ光出射部及びＸＹ軸走査部を制御することによって、測定レーザ光が２次元走査で描画する測定パターンを、ワーク表面に投影する投影処理と、投影処理によってワーク表面に投影中の測定パターンが映し出される画像を、撮影部による撮影で取得する撮影処理と、Ｚ軸走査部で測定レーザ光の焦点位置をＺ軸方向で移動させた後に投影処理及び撮影処理を実行することを繰り返すことによって、複数の画像を取得する繰返処理と、複数の画像の少なくとも一つに基づいて、ワーク表面で反射する測定レーザ光の反射光を測定パターンに含まれる複数の判定点毎に認識することによって、ワーク表面の三次元形状に関する三次元形状情報を取得する第１情報取得処理と、複数の画像の全てに基づいて、ワーク表面で最も小さなスポット径で反射する測定レーザ光の反射光を複数の判定点毎に認識することによって、測定レーザ光の反射光に関する反射光情報を取得する第２情報取得処理と、三次元形状情報及び反射光情報に基づいて、レーザ加工の可不可を判定する判定処理と、を実行することを特徴とするレーザ加工装置を開示する。

本開示によれば、レーザ加工装置は、加工レーザ光によるレーザ加工の可不可を、ワーク表面で反射する測定レーザ光の反射光を利用して正確に判定することが可能である。

第１実施形態のレーザ加工装置の概略構成が表された図である。 同レーザ加工装置の電気的構成が表されたブロック図である。 上下方向における焦点位置の切換を説明するための図である。 加工面の傾斜角を説明するための図である。 第１画像が表された図である。 同レーザ加工装置が実行する各処理が表されたフローチャートである。 第２画像が表された図である。 第２実施形態のレーザ加工装置が実行する各処理が表されたフローチャートである。

以下、本開示のレーザ加工装置について、具体化した実施形態に基づき、図面を参照しつつ説明する。以下の説明に用いる図１及び図２では、基本的構成の一部が省略されて描かれており、描かれた各部の寸法比等は必ずしも正確ではない。尚、以下の説明において、直交座標系のＸ軸方向、Ｙ軸方向、及びＺ軸方向は、図面に示された通りである。また、上下方向は、直交座標系のＺ軸方向に平行であり、図面に示された通りである。

（１）第１実施形態
（１－１）レーザ加工装置の概略構成
先ず、図１及び図２に基づいて、第１実施形態のレーザ加工装置１の概略構成について説明する。レーザ加工装置１は、印字情報作成部２及びレーザ加工部３で構成されている。印字情報作成部２は、パーソナルコンピュータ等で構成されている。

レーザ加工部３は、加工レーザ光Ｐを加工対象物７の加工面８上で２次元走査してマーキング（印字）加工を行うものである。レーザ加工部３は、レーザコントローラ６を備えている。以下、マーキング（印字）加工を行うことを、単に「レーザ加工」と表記する。

レーザコントローラ６は、コンピュータで構成され、印字情報作成部２と双方向通信可能に接続されている。レーザコントローラ６は、印字情報作成部２から送信された印字情報、パラメータ、各種指示情報等に基づいてレーザ加工部３を駆動制御する。

レーザ加工部３の概略構成について説明する。レーザ加工部３は、レーザ発振ユニット１２、ガイド光部１５、ダイクロイックミラー１０１、光学系７０、カメラ１０３、ガルバノスキャナ１８、及びｆθレンズ１９等を備えており、不図示の略直方体形状の筐体カバーで覆われている。

レーザ発振ユニット１２は、レーザ発振器２１等で構成されている。レーザ発振器２１は、ＣＯ２レーザ、ＹＡＧレーザ等で構成されており、加工レーザ光Ｐを出射する。尚、加工レーザ光Ｐの光径は、不図示のビームエキスパンダで調整（例えば、拡大）される。

ガイド光部１５は、可視半導体レーザ２８等で構成されている。可視半導体レーザ２８は、可視可干渉光であるガイド光Ｑ、例えば、赤色レーザ光を出射する。ガイド光Ｑは、不図示のレンズ群で平行光にされ、更に、２次元走査されることによって、例えば、加工レーザ光Ｐでマーキング（印字）加工すべき印字パターンの像、その像を取り囲んだ矩形の像、又は測定パターンの像等を、加工対象物７の加工面８上に軌跡（時間残像）で描画するものである。つまり、ガイド光Ｑには、マーキング（印字）加工能力がない。尚、本実施形態において、測定パターンは格子状であるが、それに関する詳細な説明については、後述する。

ガイド光Ｑの波長は、加工レーザ光Ｐの波長とは異なる。本実施形態では、例えば、加工レーザ光Ｐの波長は１０６４ｎｍであり、ガイド光Ｑの波長は、６５０ｎｍである。

ダイクロイックミラー１０１では、入射された加工レーザ光Ｐのほぼ全部が透過する。また、ダイクロイックミラー１０１では、加工レーザ光Ｐが透過する略中央位置にて、ガイド光Ｑが４５度の入射角で入射され、４５度の反射角で加工レーザ光Ｐの光路上に反射される。ダイクロイックミラー１０１の反射率は、波長依存性を持っている。具体的には、ダイクロイックミラー１０１は、誘電体層と金属層との多層膜構造の表面処理がなされており、ガイド光Ｑの波長に対して高い反射率を有し、それ以外の波長の光をほとんど（９９％）透過するように構成されている。

尚、図１の一点鎖線は、加工レーザ光Ｐとガイド光Ｑの光軸１０を示している。また、光軸１０の方向は、加工レーザ光Ｐとガイド光Ｑの経路方向を示している。

光学系７０は、第１レンズ７２、第２レンズ７４、及び移動機構７６を備えている。光学系７０では、ダイクロイックミラー１０１を経た加工レーザ光Ｐとガイド光Ｑが、第１レンズ７２に入射し通過する。その際、第１レンズ７２によって、加工レーザ光Ｐとガイド光Ｑの各光径が縮小される。また、第１レンズ７２を通過した加工レーザ光Ｐとガイド光Ｑは、第２レンズ７４に入射し通過する。その際、第２レンズ７４によって、加工レーザ光Ｐとガイド光Ｑが平行光にされる。移動機構７６は、光学系モータ８０（例えば、ボイスコイルモータ方式のモータ）を備えており、光学系モータ８０の制御によって、第２レンズ７４を加工レーザ光Ｐとガイド光Ｑの経路方向に移動させる。

尚、移動機構７６は、第２レンズ７４に代えて第１レンズ７２を移動させる構成であってもよいし、第１レンズ７２と第２レンズ７４との間の距離が変わるように第１レンズ７２と第２レンズ７４の双方を移動させる構成であってもよい。また、移動機構７６は、回転式のモータと、そのモータの回転運動を直線運動に変換する機構（例えば、ラック・アンド・ピニオン）等を備えるものであってもよい。

ガルバノスキャナ１８は、光学系７０を経た加工レーザ光Ｐとガイド光Ｑとを２次元走査するものである。ガルバノスキャナ１８では、ガルバノＸ軸モータ３１とガルバノＹ軸モータ３２とが、それぞれのモータ軸が互いに直交するように取り付けられ、各モータ軸の先端部に取り付けられた走査ミラー１８Ｘ、１８Ｙが内側で互いに対向している。そして、各モータ３１、３２の回転制御で、各走査ミラー１８Ｘ、１８Ｙを回転させることによって、加工レーザ光Ｐとガイド光Ｑとを２次元走査する。この２次元走査方向は、Ｘ軸方向とＹ軸方向である。

ｆθレンズ１９は、ガルバノスキャナ１８によって２次元走査された加工レーザ光Ｐとガイド光Ｑとを加工対象物７の加工面８上に集光するものである。従って、加工レーザ光Ｐとガイド光Ｑは、各モータ３１、３２の回転制御によって、加工対象物７の加工面８上でＸ軸方向とＹ軸方向に２次元走査される。

加工対象物７の加工面８の位置が上下方向（Ｚ軸方向）で異なる場合、加工レーザ光Ｐとガイド光Ｑが集光する位置（以下、「焦点位置Ｆ」という。）は、光学系７０における第１レンズ７２と第２レンズ７４との間の距離が調整されることによって、加工対象物７の加工面８上に合わせられることが可能である。尚、本実施形態では、加工レーザ光Ｐとガイド光Ｑの焦点位置Ｆは、上下方向（Ｚ軸方向）において、所定間隔毎に不連続に切り換えられるが、それに関する詳細な説明については、後述する。

カメラ１０３は、加工対象物７の加工面８に向けられた状態で、ｆθレンズ１９付近に設けられており、加工対象物７の加工面８で反射するガイド光Ｑを撮影する。これにより、カメラ１０３は、例えば、加工対象物７の加工面８上において、ガルバノスキャナ１８の２次元走査が繰り返されることによって描画されている測定パターンのガイド光Ｑの軌跡を撮影する。これにより、加工対象物７の加工面８が映し出された画像であって、測定パターンのガイド光Ｑの軌跡を含む画像が取得される。

次に、レーザ加工装置１を構成する印字情報作成部２とレーザ加工部３の回路構成について図２に基づいて説明する。先ず、レーザ加工部３の回路構成について説明する。

図２に表されるように、レーザ加工部３は、レーザコントローラ６、ガルバノコントローラ３５、ガルバノドライバ３６、レーザドライバ３７、半導体レーザドライバ３８、光学系ドライバ７８、及びカメラ１０３等から構成されている。レーザコントローラ６は、レーザ加工部３の全体を制御する。レーザコントローラ６には、ガルバノコントローラ３５、レーザドライバ３７、半導体レーザドライバ３８、及び光学系ドライバ７８等が電気的に接続されている。また、レーザコントローラ６及びカメラ１０３には、外部の印字情報作成部２が双方向通信可能に接続されている。レーザコントローラ６は、印字情報作成部２から送信された各情報（例えば、印字情報、レーザ加工部３に対するパラメータ、ユーザからの各種指示情報等）を受信可能に構成されている。カメラ１０３は、印字情報作成部２から送信された各情報（例えば、撮影指示情報等）を受信可能に構成され、また、取得した画像を印字情報作成部２に送信可能に構成されている。

レーザコントローラ６は、ＣＰＵ４１、ＲＡＭ４２、及びＲＯＭ４３等を備えている。ＣＰＵ４１は、レーザ加工部３の全体の制御を行う演算装置及び制御装置である。ＣＰＵ４１、ＲＡＭ４２、及びＲＯＭ４３は、不図示のバス線により相互に接続されて、相互にデータのやり取りが行われる。

ＲＡＭ４２は、ＣＰＵ４１により演算された各種の演算結果や印字パターンの（ＸＹ座標）データ等を一時的に記憶させておくためのものである。

ＲＯＭ４３は、各種のプログラムを記憶させておくものであり、例えば、印字情報作成部２から送信された印字情報に基づいて印字パターンのＸＹ座標データを算出してＲＡＭ４２に記憶するプログラムや、ガイド光Ｑの軌跡で描く像の測定パターンのＸＹ座標データを算出してＲＡＭ４２に記憶するプログラム等が記憶されている。尚、各種プログラムには、上述したプログラムに加えて、例えば、各種のディレイ値、印字情報作成部２から入力された印字情報等に対応する印字パターンの太さ、深さ及び本数、レーザ発振器２１のレーザ出力、加工レーザ光Ｐのレーザパルス幅、可視半導体レーザ２８のレーザ出力、ガルバノスキャナ１８による加工レーザ光Ｐを走査する速度、及びガルバノスキャナ１８によるガイド光Ｑを走査する速度等を示す各種パラメータをＲＡＭ４２に記憶するプログラム等がある。更に、ＲＯＭ４３には、歪補正のためのパラメータや、ガルバノスキャナ１８、レーザ加工装置１のステータス情報（エラー情報、加工回数、加工時間等）が記憶されている。

ＣＰＵ４１は、ＲＯＭ４３に記憶されている各種のプログラムに基づいて各種の演算及び制御を行う。

ＣＰＵ４１は、ガイド光Ｑの軌跡で描く像の測定パターンのＸＹ座標データ、ガルバノスキャナ１８によるガイド光Ｑを走査する速度、及びガルバノスキャナ１８による加工レーザ光Ｐを走査する速度等を示すガルバノ走査速度情報等を、ガルバノコントローラ３５に出力する。また、ＣＰＵ４１は、レーザ発振器２１のレーザ出力、及び加工レーザ光Ｐのレーザパルス幅等を示すレーザ駆動情報を、レーザドライバ３７に出力する。

ＣＰＵ４１は、可視半導体レーザ２８のレーザ出力、及び可視半導体レーザ２８の点灯開始を指示するオン信号又は消灯を指示するオフ信号を半導体レーザドライバ３８に出力する。

ガルバノコントローラ３５は、レーザコントローラ６から入力された各情報（例えば、ガイド光Ｑの軌跡で描く像の測定パターンのＸＹ座標データ、ガルバノ走査速度情報等）に基づいて、ガルバノＸ軸モータ３１とガルバノＹ軸モータ３２の駆動角度、回転速度等を算出して、駆動角度及び回転速度を示すモータ駆動情報をガルバノドライバ３６に出力する。ガルバノドライバ３６は、ガルバノコントローラ３５から入力されたモータ駆動情報に基づいて、ガルバノＸ軸モータ３１とガルバノＹ軸モータ３２を駆動制御して、加工レーザ光Ｐとガイド光Ｑを２次元走査する。

レーザドライバ３７は、レーザコントローラ６から入力されたレーザ発振器２１のレーザ出力、及び加工レーザ光Ｐのレーザパルス幅等を示すレーザ駆動情報等に基づいて、レーザ発振器２１を駆動させる。半導体レーザドライバ３８は、レーザコントローラ６から入力された可視半導体レーザ２８のレーザ出力、及びオン信号又はオフ信号に基づいて、可視半導体レーザ２８を駆動させる。

光学系ドライバ７８は、レーザコントローラ６から入力された情報に基づいて、光学系モータ８０を駆動制御して、第２レンズ７４を移動させる。

次に、印字情報作成部２の回路構成について説明する。印字情報作成部２は、制御部５１、入力操作部５５、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）５６、及びＣＤ－ＲＯＭドライブ５８等を備えている。制御部５１には、不図示の入出力インターフェースを介して、入力操作部５５、液晶ディスプレイ５６、及びＣＤ－ＲＯＭドライブ５８等が接続されている。

入力操作部５５は、不図示のマウス及びキーボード等から構成されており、例えば、各種指示情報をユーザが入力する際に使用される。

ＣＤ－ＲＯＭドライブ５８は、各種データ、及び各種アプリケーションソフトウェア等をＣＤ－ＲＯＭ５７から読み込むものである。

制御部５１は、印字情報作成部２の全体を制御すると共に、公知の画像処理技術を実行することが可能なものであって、ＣＰＵ６１、ＲＡＭ６２、ＲＯＭ６３、及びハードディスクドライブ（以下、「ＨＤＤ」という。）６６等を備えている。ＣＰＵ６１は、印字情報作成部２の全体の制御を行う演算装置及び制御装置である。ＣＰＵ６１、ＲＡＭ６２、及びＲＯＭ６３は、不図示のバス線により相互に接続されており、相互にデータのやり取りが行われる。更に、ＣＰＵ６１とＨＤＤ６６とは、不図示の入出力インターフェースを介して接続されており、相互にデータのやり取りが行われる。

ＲＡＭ６２は、ＣＰＵ６１により演算された各種の演算結果等を一時的に記憶させておくためのものである。ＲＯＭ６３は、各種のプログラム等を記憶させておくものである。更に、ＲＯＭ６３には、フォントの種類別に、直線と楕円弧とで構成された各文字のフォントの始点、終点、焦点、曲率等のデータが記憶されている。また、ＲＡＭ６２には、三次元形状情報６４及び反射光情報６５が記憶されている。三次元形状情報６４は、加工対象物７の加工面８等の三次元形状に関するデータであるが、それに関する詳細な説明については、後述する。反射光情報６５は、ガイド光Ｑが加工対象物７の加工面８上等で反射した光（以下、「反射光」という。）に関するデータであるが、それに関する詳細な説明については、後述する。

ＨＤＤ６６には、各種アプリケーションソフトウェアのプログラム、及び各種データファイル等が記憶される。また、ＨＤＤ６６には、角度用閾値６７及び光量用閾値６８の各データが記憶されている。角度用閾値６７及び光量用閾値６８は、レーザ加工の可不可が判定される際に使用されるデータであるが、それらに関する詳細な説明については、後述する。

（１－２）上下方向における焦点位置の切換
図３に表されるように、上下方向（Ｚ軸方向）において、ガイド光Ｑの焦点位置Ｆは、１０個所の切換位置Ｚ１～Ｚ１０のいずれかに切り換えられる。１０個所の切換位置Ｚ１～Ｚ１０の符号には、上方から下方へ向かう順で、１～１０の数字が英文字Ｚに付されている。以下の説明において、各切換位置Ｚ１～Ｚ１０を区別せずに総称して説明する場合には、「各切換位置Ｚ」と表記する。尚、図３は、ガイド光Ｑ（ｆθレンズ１９に入射し通過したもの）の光軸１０が上下方向（Ｚ軸方向）に平行な場合であって、ガイド光Ｑの焦点位置Ｆが切換位置Ｚ５に切り換えられた状態を表している。切換位置Ｚ５は、上下方向（Ｚ軸方向）に並んで設けられている１０個所の切換位置Ｚ１～Ｚ１０の中で、上下方向（Ｚ軸方向）のほぼ中央にある切換位置である。

ガイド光Ｑの焦点位置Ｆが切り換えられる際、光学系７０の第２レンズ７４は、ガイド光Ｑの経路方向（光軸１０の方向）において、１０個所の切換位置Ｚ１～Ｚ１０にそれぞれ関連付けられて設けられている１０個所の移動位置（不図示）のうち、切換先の切換位置に関連付けられて設けられている移動位置にまで移動する。尚、第２レンズ７４の各移動位置と焦点位置Ｆの各切換位置Ｚ１～Ｚ１０との関連付けは、例えば、レーザコントローラ６のＲＯＭ４３に記憶されている不図示のデータテーブルにおいて行われる。

各切換位置Ｚ１～Ｚ１０は、所定間隔毎に不連続に設けられている。所定間隔は、例えば、ガイド光Ｑの焦点深度ＤＦの半分である。尚、ガイド光Ｑの焦点深度ＤＦ（の値）は、レーザコントローラ６のＲＯＭ４３に記憶されている。焦点深度ＤＦの値としては、例えば、レイリーレンジを採用することができ、その数値的定義は、ビーム径がその最小径の√２倍以下である光軸１０の方向の範囲であり、実用上、この範囲ではビーム径がほぼ変わらず結像精度への影響に配慮しなくてよいとみなせる。但し、求める結像精度の高さや結像対象の材質に応じて、焦点深度ＤＦとしてレイリーレンジ以外を採用してもよい。

上述した点は、加工レーザ光Ｐの焦点位置Ｆについても、同様である。もっとも、加工レーザ光Ｐとガイド光Ｑとでは、焦点深度ＤＦの値が異なる。そのため、上下方向（Ｚ軸方向）において、加工レーザ光Ｐの各切換位置（不図示）は、ガイド光Ｑの各切換位置Ｚとは異なる個所に設けられている。

（１－３）三次元形状の計測
レーザ加工装置１は、加工レーザ光Ｐで加工対象物７の加工面８にレーザ加工を行う前に、その可不可を判定するため、加工対象物７の加工面８の三次元形状を計測する。その際、加工対象物７の加工面８上では、２次元走査されるガイド光Ｑが反射し、その反射光の軌跡によって、測定パターンが描画される。更に、比較的長時間露光させたカメラ１０３で、加工対象物７の加工面８が撮影されることによって、例えば、図５に表される第１画像１１０が取得される。

第１画像１１０では、ステージ１１２上及びステージ１１２に載置されている加工対象物７の加工面８上において、測定パターン１１４が映し出されている。測定パターン１１４は、複数の直線１１６が直交することによって複数の交点１１８が形成される格子状のパターンであって、ガイド光Ｑの反射光の軌跡でステージ１１２上及び加工対象物７の加工面８上に描かれる。尚、ステージ１１２の平面は、直交座標系のＸＹ平面に平行なものであって、加工対象物７が載置されている。加工対象物７の加工面８は、半円柱の側面であって、上方へ張り出す面である（図１参照）。

レーザ加工装置１は、公知の画像処理技術を用いて、測定パターン１１４が映し出されている画像から、ステージ１１２上及び加工対象物７の加工面８上で反射するガイド光Ｑの反射光を、測定パターン１１４に含まれる複数の交点１１８毎に認識する。これにより、レーザ加工装置１は、例えば、ステージ１１２上及び加工対象物７の加工面８上に描かれている測定パターン１１４の各交点１１８の位置をＸＹＺ座標データで検出し、その検出した測定パターン１１４の各交点１１８の位置を示すＸＹＺ座標データに基づいて、加工対象物７の加工面８の三次元形状を計測する。

（１－４）制御フロー
図６のフローチャートで表された判定方法２００のプログラムは、制御部５１のＲＯＭ６３に記憶されており、加工レーザ光Ｐで加工対象物７の加工面８にレーザ加工を行う前に、制御部５１のＣＰＵ６１により実行される。従って、後述する処理において、制御対象がレーザ加工部３の構成要素である場合、カメラ１０３を除き、レーザコントローラ６を介した制御が行われる。尚、本プログラムは、ＣＤ－ＲＯＭ５７に保存されており、ＣＤ－ＲＯＭドライブ５８によって読み込まれ、ＣＰＵ６１により実行されてもよい。

以下、本プログラムを説明する。先ず、ステップ（以下、単に「Ｓ」と表記する。）１０の投影処理が行われる。この処理では、加工対象物７が載置されたステージ１１２上において、少なくとも加工対象物７の加工面８を含む範囲に、測定パターン１１４がガイド光Ｑの反射光の軌跡で描画される。そのために、ＣＰＵ６１は、測定パターン１１４に関する印字情報等に加えて、切換位置Ｚ５を示すパラメータを、レーザコントローラ６に送信する。

これにより、投影処理Ｓ１０では、光学系７０の第２レンズ７４が、ガイド光Ｑの経路方向（光軸１０の方向）において、切換位置Ｚ５に関連付けられて設けられている移動位置にまで移動する。更に、ガイド光Ｑがガイド光部１５から出射されると共に、ガルバノスキャナ１８の振角が、測定パターン１１４のＸＹ座標データから算出される角度となるように、ガルバノスキャナ１８の各走査ミラー１８Ｘ、１８Ｙが回転させられる。そのような回転（走査）が繰り返されると、ステージ１１２上及び加工対象物７の加工面８上においては、上下方向（Ｚ軸方向）では焦点位置Ｆが切換位置Ｚ５にあって、Ｘ軸方向及びＹ軸方向では２次元走査中の状態にあるガイド光Ｑの反射光によって、格子状の軌跡（つまり、測定パターン１１４）が描画される。このようにして、ステージ１１２上及び加工対象物７の加工面８上には、測定パターン１１４が投影される。

第１撮影処理Ｓ１１では、カメラ１０３がステージ１１２及び加工対象物７の加工面８を撮影することによって、投影処理Ｓ１０で描画中の測定パターン１１４を映し出した画像（以下、「第１画像」という。）が取得される。その際、測定パターン１１４は、ＲＯＭ６３に記憶された露光時間の数値をもって、カメラ１０３によって撮影される。以下、第１画像の具体例は、上記の第１画像１１０を用いて説明する。尚、第１撮影処理Ｓ１１が終了すると、そのタイミングで、ガイド光部１５におけるガイド光Ｑの出射も終了する。

第１情報取得処理Ｓ１２では、第１撮影処理Ｓ１１で取得された第１画像に基づいて、加工対象物７の加工面８の三次元計測が行われる。具体的に説明すると、第１撮影処理Ｓ１１で上記の第１画像１１０が取得された場合、上述したように、ＣＰＵ６１は、上記の第１画像１１０から、ステージ１１２上及び加工対象物７の加工面８上で反射するガイド光Ｑの反射光を、測定パターン１１４に含まれる複数の交点１１８毎に認識する。これにより、ＣＰＵ６１は、ステージ１１２上及び加工対象物７の加工面８上に映し出されている測定パターン１１４の各交点１１８の位置をＸＹＺ座標データで検出し、その検出された測定パターン１１４の各交点１１８の位置を示すＸＹＺ座標データに基づいて、加工対象物７の加工面８の三次元形状を計測する。このようにして、計測された加工対象物７の加工面８の三次元形状を示すデータは、検出された測定パターン１１４の各交点１１８の位置を示すＸＹＺ座標データ等と共に、三次元形状情報６４として、ＲＡＭ６２に記憶される。

照射処理Ｓ１３では、投影処理Ｓ１０で描画された測定パターン１１４に含まれる複数の交点１１８（以下、「各交点１１８」又は「全ての交点１１８」と略記する。）のうち、いずれか一つが照射対象点に設定され、当該照射対象点に該当する交点１１８が、ステージ１１２又は加工対象物７の加工面８に焦点位置Ｆを合わせた態様のガイド光Ｑの反射光で、ステージ１１２上又は加工対象物７の加工面８上に再び描画されるように、ガイド光Ｑがステージ１１２又は加工対象物７の加工面８に向けて照射される。そのために、ＣＰＵ６１は、照射対象点に該当する交点１１８に関する印字情報をレーザコントローラ６に送信する。照射対象点に該当する交点１１８に関する印字情報は、例えば、測定パターン１１４に関する印字情報から抽出して作成される。更に、ＣＰＵ６１は、１０個所の切換位置Ｚ１～Ｚ１０の中から、照射対象点に該当する交点１１８の位置のＺ座標データに一致又は最も近いＺ座標データを有する切換位置を照射切換位置として特定し、その特定された照射切換位置を示すパラメータ等を、レーザコントローラ６に送信する。照射切換位置の特定は、三次元形状情報６４に基づいて行われる。

これにより、照射処理Ｓ１３では、ガルバノスキャナ１８の振角が、照射対象点に該当する交点１１８のＸＹ座標データから算出される角度となるように、ガルバノスキャナ１８の各走査ミラー１８Ｘ、１８Ｙが回転させられる。また、光学系７０の第２レンズ７４が、ガイド光Ｑの経路方向（光軸１０の方向）において、照射切換位置に関連付けられて設けられている移動位置にまで移動する。更に、ガイド光Ｑがガイド光部１５から出射される。このようにして、ガイド光Ｑがステージ１１２又は加工対象物７の加工面８に向けて照射されることによって、ステージ１１２上又は加工対象物７の加工面８上では、照射対象点に該当する交点１１８がガイド光Ｑの反射光で再び描画される。その際、ガイド光Ｑの焦点位置Ｆは、上述したように、上下方向（Ｚ軸方向）において、照射切換位置、つまり、照射対象点に該当する交点１１８の位置のＺ座標データに一致又は最も近いＺ座標データを有する切換位置にある。

尚、ガイド光部１５におけるガイド光Ｑの出射は、投影処理Ｓ１０から続けられてもよい。そのような場合、ＣＰＵ６１は、ガイド光Ｑの光路を遮る位置にまで不図示のシャッターを回転させることによって、投影処理Ｓ１０で行う測定パターン１１４の投影を終了させ、ガイド光Ｑの光路を遮らない位置にまで上記のシャッターを回転させることによって、照射処理Ｓ１３で行うガイド光Ｑの照射を開始させる。

第２撮影処理Ｓ１４では、カメラ１０３がステージ１１２又は加工対象物７の加工面８を撮影することによって、照射処理Ｓ１３で照射中のガイド光Ｑの反射光を映し出した画像（以下、「第２画像」という。）が取得される。その際、ガイド光Ｑの反射光は、ＲＯＭ６３に記憶された露光時間の数値をもって、カメラ１０３によって撮影される。その露光時間の数値は、第１撮影処理Ｓ１１における露光時間の数値よりも小さい。以下、第２画像の具体例は、図７に表される第２画像１２０を用いて説明する。

第２撮影処理Ｓ１４で取得される第２画像では、ステージ１１２上又は加工対象物７の加工面８上において、照射対象点に該当する交点１１８を再び描画するガイド光Ｑの反射光が、つまり、照射対象点に該当する交点１１８の位置で反射するガイド光Ｑの反射光が映し出されている。尚、図７に表される第２画像１２０では、投影処理Ｓ１０が行われた際に描画される測定パターン１１４（を構成する複数の１１６）は、映し出されるものではないので、点線で表されている。

Ｓ１５の処理では、全ての交点１１８が照射対象点に設定されたかが判定される。ここで、全ての交点１１８が照射対象点に設定されていない場合（Ｓ１５：ＮＯ）、照射処理Ｓ１３及び第２撮影処理Ｓ１４が繰り返し行われる。これにより、全ての交点１１８のうち、未だ照射対象点に設定されていないものの中から、新たな照射対象点が設定され、当該新たな照射対象点に該当する交点１１８を再び描画するガイド光Ｑが照射されると共に、新たな照射対象点に該当する交点１１８の位置で反射するガイド光Ｑの反射光が映し出された第２画像が取得される。そのような繰り返しは、全ての交点１１８が照射対象点に設定されるまで（Ｓ１５：ＹＥＳ）、続けられる。単純には、 例えば、図５に示される測定パターン１１４の左上角の交点１１８から順番に右の交点１１８へ照射対称点を設定していき、右端に来たら一段下にずれて、また左端から順に右端へ照射対象点を設定していき、最終的に右下角の交点１１８まで続けるものでもよい。

従って、照射処理Ｓ１３及び第２撮影処理Ｓ１４が繰り返し行われると、ガイド光Ｑの照射が順次に行われることによって、ステージ１１２上及び加工対象物７の加工面８上には、各交点１１８が再び描写される。その際、ガイド光Ｑの焦点位置Ｆは、上述したようにして、印字情報及びパラメータ等に基づいて光学系７０及びガルバノスキャナ１８で３次元走査されることによって、ステージ１１２又は加工対象物７の加工面８に合わせられる。更に、ガイド光Ｑの照射が順次に行われる度に、第２画像が取得される。よって、照射処理Ｓ１３及び第２撮影処理Ｓ１４の繰り返しが終了したときは、全ての交点１１８と同数の第２画像が取得される。従って、各第２画像には、ステージ１１２上又は加工対象物７の加工面８上において、複数の交点１１８のいずれか一つを再び描画するガイド光Ｑの反射光が映し出されているが、その再び描画された交点１１８（の再描画位置）は、第２画像毎に異なるものである。

尚、照射処理Ｓ１３及び第２撮影処理Ｓ１４が繰り返し行われている間のガイド光部１５においては、ガイド光Ｑの出射が続けられる。その際、ステージ１１２上又は加工対象物７の加工面８上に向けられるガイド光Ｑの照射は、照射処理Ｓ１３及び第２撮影処理Ｓ１４が繰り返し行われている間も続けられてもよいが、ガルバノスキャナ１８の各走査ミラー１８Ｘ、１８Ｙの回転時や光学系７０の第２レンズ７４の移動時には中断させてもよい。そのような中断は、ガイド光Ｑの光路を遮る位置にまで上記のシャッターを回転させることによって行われる。この場合、焦点位置Ｆが移動中のガイド光Ｑの影響が確実に抑制された第２画像の取得が可能となることから、後述する第２情報取得処理Ｓ１６で得られる反射光情報６５の正確さが確保される。

第２情報取得処理Ｓ１６では、各第２撮影処理Ｓ１４で取得された第２画像に基づいて、ガイド光Ｑの反射光の光量計測が行われる。具体的に説明すると、図７に表される第２画像１２０が第２撮影処理Ｓ１４で取得された場合、ＣＰＵ６１は、公知の画像処理技術を用いて、第２画像１２０から、加工対象物７の加工面８上で反射するガイド光Ｑの反射光の光量（以下、「ガイド光Ｑの反射光量」という。）を計測する。そのような光量計測は、第２撮影処理Ｓ１４が繰り返されることによって取得された全ての第２画像について行われる。これにより、ＣＰＵ６１は、ステージ１１２上又は加工対象物７の加工面８上で反射するガイド光Ｑの反射光量を、全ての交点１１８毎に認識して計測する。このようにして、計測されたガイド光Ｑの反射光量を示すデータは、その計測が行われた交点１１８の位置に関連付けられた状態で、反射光情報６５として、ＲＡＭ６２に記憶される。

判定処理Ｓ１７では、三次元形状情報６４及び反射光情報６５に基づいて、レーザ加工の可不可が判定される。そのため、全ての交点１１８のうち、いずれか一つが判定対象点に設定され、当該判定対象点に該当する交点１１８の位置に関連付けられたガイド光Ｑの反射光量（以下、「判定対象点の反射光量」という。）が反射光情報６５から読み出されると共に、判定対象点に該当する交点１１８の位置の傾斜角θ（以下、「判定対象点の傾斜角θ」という。）を三次元形状情報６４から算出される。

判定対象点の傾斜角θとは、ステージ１１２又は加工対象物７の加工面８が、判定対象点に該当する交点１１８の位置において、直交座標系のＸＹ平面に対してなす角度をいう。具体的に説明すると、ステージ１１２の平面は、上述したように、直交座標系のＸＹ平面に対して平行である。そのため、ステージ１１２の平面上にある交点１１８を判定対象点とする場合、判定対象点の傾斜角θは０度である。これに対して、図４に表されるように、加工対象物７の加工面８上にある交点１１８を判定対象点とする場合、判定対象点の傾斜角θは、その交点１１８の接線１１９が直交座標系のＸＹ平面（ステージ１１２の平面）に対してなす角度である。

続いて、判定対象点の反射光量が光量用閾値６８と比較されると共に、判定対象点の傾斜角θが角度用閾値６７と比較されることによって、レーザ加工の可不可が判定される。

判定対象点の傾斜角θが角度用閾値６７よりも大きい場合、判定対象点に該当する交点１１８の位置及びその近傍は、加工レーザ光Ｐ（ｆθレンズ１９に入射し通過したもの）の光軸１０となす角度が浅いので、レーザ加工が困難である。また、判定対象点の反射光量が光量用閾値６８よりも小さい場合、判定対象点に該当する交点１１８の位置及びその近傍は、例えば、加工レーザ光Ｐ（ｆθレンズ１９に入射し通過したもの）の光軸１０となす角度が浅いケース、表面の凹凸が比較的激しいケース、又は材質がガラスであるケース等が推定され、レーザ加工が困難であると考えられる。

そこで、判定対象点の反射光量が光量用閾値６８以上であり、且つ、判定対象点の傾斜角θが角度用閾値６７以下である場合、判定対象点に該当する交点１１８の位置及びその近傍は、レーザ加工が可能であると判定され、その判定結果がＲＡＭ６２に記憶される。これに対して、判定対象点の反射光量が光量用閾値６８よりも小さい場合、又は判定対象点の傾斜角θが角度用閾値６７よりも大きい場合、判定対象点に該当する交点１１８の位置及びその近傍は、レーザ加工が不可能であると判定され、その判定結果がＲＡＭ６２に記憶される。

更に、全ての交点１１８が判定対象点に設定されたかが判定される。ここで、全ての交点１１８が判定対象点に設定されていない場合、全ての交点１１８のうち、未だ判定対象点に設定されていないものの中から、新たな判定対象点が設定され、当該新たな判定対象点に該当する交点１１８（の位置）について、レーザ加工の可不可の判定及びその判定結果の記憶が行われる。そのような判定及び記憶は、全ての交点１１８が判定対象点に設定されるまで繰り返される。

その後、判定方法２００は終了する。尚、判定方法２００の判定処理Ｓ１７で得られた判定結果は、以後において、加工レーザ光Ｐで加工対象物７の加工面８にレーザ加工を行う際に活用される。

（２）第２実施形態
次に、第２実施形態について説明する。第２実施形態のレーザ加工装置は、第１実施形態のレーザ加工装置１と同一のものが使用される。従って、以下の説明において、第１実施形態と同一の部分は同一の符号を付して表記し、詳しい説明を省略する。

第２実施形態では、第１実施形態の判定方法２００に代えて、図８のフローチャートで表された判定方法２０２のプログラムが実行される。以下、本プログラムを説明する。

投影処理Ｓ２０では、加工対象物７が載置されたステージ１１２上において、少なくとも加工対象物７の加工面８を含む範囲に、測定パターン１１４がガイド光Ｑの反射光の軌跡で描画される。そのために、ＣＰＵ６１は、測定パターン１１４に関する印字情報等に加えて、切換位置Ｚ１を示すパラメータを、レーザコントローラ６に送信する。

これにより、投影処理Ｓ２０では、光学系７０の第２レンズ７４が、ガイド光Ｑの経路方向（光軸１０の方向）において、切換位置Ｚ１に関連付けられて設けられている移動位置にまで移動する。更に、ガイド光Ｑがガイド光部１５から出射されると共に、ガルバノスキャナ１８の振角が、測定パターン１１４のＸＹ座標データから算出される角度となるように、ガルバノスキャナ１８の各走査ミラー１８Ｘ、１８Ｙが回転させられる。そのような回転（走査）が繰り返されると、ステージ１１２上及び加工対象物７の加工面８上においては、上下方向（Ｚ軸方向）では焦点位置Ｆが切換位置Ｚ１にあって、Ｘ軸方向及びＹ軸方向では２次元走査中の状態にあるガイド光Ｑの反射光によって、格子状の軌跡（つまり、測定パターン１１４）が描画される。このようにして、ステージ１１２上及び加工対象物７の加工面８上には、測定パターン１１４が投影される。

撮影処理Ｓ２１では、カメラ１０３がステージ１１２及び加工対象物７の加工面８を撮影することによって、投影処理Ｓ１０で描画中の測定パターン１１４を映し出した画像が取得される。その際、測定パターン１１４は、ＲＯＭ６３に記憶された露光時間の数値をもって、カメラ１０３によって撮影される。画像の具体例には、例えば、第１実施形態で説明した図５の第１画像１１０がある。そこで、以下において、画像を具体的に説明するときは、上記の第１画像１１０を「画像１１０」と書き換えて説明する。

Ｓ２２の処理では、レーザコントローラ６に送信したパラメータが切換位置Ｚ１０を示しているかが判定される。ここで、パラメータが切換位置Ｚ１０を示していない場合（Ｓ２２：ＮＯ）、投影処理Ｓ２０及び撮影処理Ｓ２１が繰り返し行われる。そのような繰り返しは、パラメータが切換位置Ｚ１０を示すまで（Ｓ２２：ＹＥＳ）、続けられる。尚、投影処理Ｓ２０が繰り返し行われる際、レーザコントローラ６に送信されるパラメータの切換位置Ｚは、前回の投影処理Ｓ２０が行われた際の切換位置から、その切換位置に上下方向（Ｚ軸方向）の下方側で最も近くにある切換位置に変更される。つまり、投影処理Ｓ２０が行われる度に、レーザコントローラ６に送信されるパラメータの切換位置Ｚは、切換位置Ｚ１，Ｚ２，Ｚ３，Ｚ４，Ｚ５，Ｚ６，Ｚ７，Ｚ８，Ｚ９，Ｚ１０のいずれか一つに、それらの記載順で更新される。

よって、投影処理Ｓ２０及び撮影処理Ｓ２１の繰り返しが終了したときは、切換位置Ｚ１～Ｚ１０の個数である１０個と同数の画像が取得される。更に、各画像には、ステージ１１２上及び加工対象物７の加工面８上において、同一の測定パターン１１４が映し出されている。各画像の測定パターン１１４は、上下方向（Ｚ軸方向）における焦点位置Ｆが画像毎に異なる切換位置Ｚ（具体的には、切換位置Ｚ１，Ｚ２，Ｚ３，Ｚ４，Ｚ５，Ｚ６，Ｚ７，Ｚ８，Ｚ９，Ｚ１０のいずれか一つ）に切り換えられたガイド光Ｑの反射光の軌跡によって描画されたものである。

尚、投影処理Ｓ２０及び撮影処理Ｓ２１が繰り返し行われている間のガイド光部１５においては、ガイド光Ｑの出射が続けられる。従って、ステージ１１２上及び加工対象物７の加工面８上で行われる、ガイド光Ｑの反射光の軌跡による測定パターン１１４の描画は、照射処理Ｓ１３及び第２撮影処理Ｓ１４が繰り返し行われている間も続けられるが、光学系７０の第２レンズ７４の移動時には中断させてもよい。そのような中断は、ガイド光Ｑの光路を遮る位置にまで上記のシャッターを回転させることによって行われる。この場合、焦点位置Ｆが上下方向（Ｚ軸方向）で移動中のガイド光Ｑの影響が確実に抑制された画像の取得が可能となることから、後述する第２情報取得処理Ｓ２４で得られる反射光情報６５の正確さが確保される。

第１情報取得処理Ｓ２３では、各撮影処理Ｓ２１で取得された全ての画像（具体的には、１０個の画像）のうち、少なくとも１個の画像に基づいて、加工対象物７の加工面８の三次元計測が行われる。具体的に説明すると、例えば、上記の画像１１０のみに基づく場合、第１実施形態の第１情報取得処理Ｓ１２の具体例と同様にして、加工対象物７の加工面８の三次元計測が行われる。従って、この場合、ＣＰＵ６１は、上記の画像１１０から、ステージ１１２上及び加工対象物７の加工面８上で反射するガイド光Ｑの反射光を、測定パターン１１４に含まれる複数の交点１１８毎に認識する。これにより、ＣＰＵ６１は、ステージ１１２上及び加工対象物７の加工面８上に映し出されている測定パターン１１４の各交点１１８の位置をＸＹＺ座標データで検出し、その検出された測定パターン１１４の各交点１１８の位置を示すＸＹＺ座標データに基づいて、加工対象物７の加工面８の三次元形状を計測する。このようにして、計測された加工対象物７の加工面８の三次元形状を示すデータは、検出された測定パターン１１４の各交点１１８の位置を示すＸＹＺ座標データ等と共に、三次元形状情報６４として、ＲＡＭ６２に記憶される。

第２情報取得処理Ｓ２４では、公知の画像処理技術によって、各撮影処理Ｓ２１で取得された全ての画像に基づいて、ガイド光Ｑの反射光量が計測される。そのため、ＣＰＵ６１は、測定パターン１１４に含まれる複数の交点１１８（以下、「全ての交点１１８」と略記する。）のうち、いずれか一つを計測対象点に設定し、当該計測対象点に該当する交点１１８として各画像に映し出されているガイド光Ｑのスポット径及びその光量を、全ての画像毎に計測して比較する。更に、ＣＰＵ６１は、その比較結果から最も小さいスポット径を特定し、その特定したスポット径の光量を、当該計測対象点に該当する交点１１８として各画像に映し出されているガイド光Ｑの反射光量として検出する。尚、スポット径の光量の計測は、最も小さいスポット径が特定された後に、その特定されたスポット径に限って行われてもよい。

続いて、ＣＰＵ６１は、全ての交点１１８が計測対象点に設定されたかを判定する。ここで、全ての交点１１８が計測対象点に設定されていない場合、ＣＰＵ６１は、全ての交点１１８のうち、未だ計測対象点に設定されていないものの中から、新たな計測対象点を設定し、当該新たな計測対象点に該当する交点１１８について、上述したようにして、ガイド光Ｑの反射光量の検出を行う。そのような検出は、全ての交点１１８が計測対象点に設定されるまで繰り返される。これにより、ＣＰＵ６１は、ステージ１１２上又は加工対象物７の加工面８上で反射するガイド光Ｑの反射光量を、全ての交点１１８毎に認識して計測する。このようにして、計測されたガイド光Ｑの反射光量を示すデータは、その計測が行われた交点１１８の位置に関連付けられた状態で、反射光情報６５として、ＲＡＭ６２に記憶される。

判定処理Ｓ２５では、三次元形状情報６４及び反射光情報６５に基づいて、レーザ加工の可不可が判定される。この処理は、第１実施形態の判定処理Ｓ１７と同様であるため、その詳細な説明を省略する。

その後、判定方法２０２は終了する。尚、判定方法２０２の判定処理Ｓ２５で得られた判定結果は、第１実施形態の判定方法２０２と同様にして、以後において、加工レーザ光Ｐで加工対象物７の加工面８にレーザ加工を行う際に活用される。

（３）まとめ
以上詳細に説明したように、第１実施形態のレーザ加工装置１及び判定方法２００は、ガイド光Ｑの反射光の軌跡で加工対象物７の加工面８上に描画中の測定パターン１１４が映し出された第１画像を取得し（Ｓ１０，Ｓ１１）、その第１画像から加工対象物７の加工面８の三次元形状に関する三次元形状情報６４を取得する（Ｓ１２）。更に、三次元形状情報６４に基づいてガイド光Ｑの焦点位置Ｆを加工対象物７の加工面８に合わせた状態の、つまり加工対象物７の加工面８にピントが合った状態のガイド光Ｑの反射光が映し出された第２画像を取得し（Ｓ１３，Ｓ１４）、その第２画像から取得する反射光情報６５（に含まれる各判定対象点の反射光量）に基づいてレーザ加工の可不可を判定する（Ｓ１６，Ｓ１７）。このようにして、第１実施形態のレーザ加工装置１及び判定方法２００は、加工レーザ光Ｐによるレーザ加工の可不可を、加工対象物７の加工面８で反射するガイド光Ｑの反射光を利用して正確に判定することが可能である。

更に、第１実施形態のレーザ加工装置１及び判定方法２００は、反射光情報６５に加えて、三次元形状情報６４（から算出される各判定対象点の傾斜角θ）に基づいてレーザ加工の可不可を判定するので（Ｓ１７）、レーザ加工の可不可をより一層正確に判定することが可能である。

第２実施形態のレーザ加工装置１及び判定方法２０２は、ガイド光Ｑの反射光の軌跡で加工対象物７の加工面８上に描画中の測定パターン１１４が映し出された画像を、ガイド光Ｑの焦点位置Ｆを上下方向（Ｚ軸方向）で異なる位置に移動させる度に取得する（Ｓ２０，Ｓ２１，Ｓ２２：ＮＯ）。このようにして取得した複数の画像の全てから、各画像に映し出された測定パターン１１４に含まれる全ての交点１１８毎に、加工対象物７の加工面８上において最も小さなスポット径で反射するレーザ光の反射光量を、つまり、加工対象物７の加工面８に最もピントが合った状態で反射するレーザ光の反射光量を検出（計測）して、反射光情報６５として取得する（Ｓ２４）。更に、その反射光情報６５（に含まれる各判定対象点の反射光量、つまり全ての交点１１８毎に計測されたガイド光Ｑの反射光量）に基づいて、レーザ加工の可不可を判定する（Ｓ２５）。このようにして、第２実施形態のレーザ加工装置１及び判定方法２０２は、加工レーザ光Ｐによるレーザ加工の可不可を、加工対象物７の加工面８で反射するガイド光Ｑの反射光を利用して正確に判定することが可能である。

更に、第２実施形態のレーザ加工装置１及び判定方法２０２は、反射光情報６５に加えて、複数の画像の少なくとも１個の画像から、加工対象物７の加工面８の三次元形状に関する三次元形状情報６４を取得し（Ｓ２３）、その三次元形状情報６４（から算出される各判定対象点の傾斜角θ）に基づいてレーザ加工の可不可を判定するので（Ｓ２５）、レーザ加工の可不可をより一層正確に判定することが可能である。

また、第２実施形態のレーザ加工装置１及び判定方法２０２は、複数の画像を取得する際に、ガイド光Ｑの焦点位置Ｆを上下方向（Ｚ軸方向）の下方へ向かって順次に移動させているので、複数の画像を効率的に取得することが可能である。この点は、第２実施形態とは異なり、ガイド光Ｑの焦点位置Ｆを上下方向（Ｚ軸方向）の上方へ向かって順次に移動させる場合も、同様である。

また、第１及び第２実施形態のレーザ加工装置１及び判定方法２００，２０２では、判定対象点の傾斜角θが角度用閾値６７を超える場合、当該判定対象点に設定された交点１１８の位置及びその近傍は、上述したように、加工レーザ光Ｐ（ｆθレンズ１９に入射し通過したもの）の光軸１０となす角度が浅いので、当該判定対象点の反射光量に関係なく、レーザ加工が不可能であると判定される（Ｓ１７，Ｓ２５）。

また、第１及び第２実施形態のレーザ加工装置１及び判定方法２００，２０２では、判定対象点の反射光量が光量用閾値６８を超えない場合、当該判定対象点に設定された交点１１８の位置及びその近傍は、上述したように、例えば、加工レーザ光Ｐ（ｆθレンズ１９に入射し通過したもの）の光軸１０となす角度が浅いケース、表面の凹凸が比較的激しいケース、又は材質がガラスであるケース等が推定されるので、当該判定対象点の傾斜角θに関係なく、レーザ加工が不可能であると判定される（Ｓ１７，Ｓ２５）。

ちなみに、第１及び第２実施形態において、加工面８は、「ワーク表面」の一例である。レーザ発振ユニット１２は、「加工レーザ光出射部」の一例である。ガイド光部１５は、「測定レーザ光出射部」の一例である。ガルバノスキャナ１８は、「ＸＹ軸走査部」の一例である。ハードディスクドライブ６６は、「記憶部」の一例である。光学系７０は、「Ｚ軸走査部」の一例である。カメラ１０３は、「撮影部」の一例である。複数の交点１１８は、「複数の判定点」の一例である。ガイド光Ｑは、「測定レーザ光」の一例である。判定対象点の傾斜角θは、「ワーク表面の傾斜角」の一例である。判定対象点の反射光量は、「測定レーザ光の反射光量」の一例である。

また、第１実施形態において、投影処理Ｓ１０は、「投影工程」の一例である。第１撮影処理Ｓ１１は、「第１撮影工程」の一例である。第１情報取得処理Ｓ１２「第１情報取得工程」の一例である。照射処理Ｓ１３は、「照射工程」の一例である。第２撮影処理Ｓ１４は、「第２撮影工程」の一例である。第２情報取得処理Ｓ１６は、「第２情報取得工程」の一例である。判定処理Ｓ１７は、「判定工程」の一例である。

また、第２実施形態において、上下方向（Ｚ軸方向）における下方は、「Ｚ軸方向の一方」の一例である。投影処理Ｓ２０は、「投影工程」の一例である。撮影処理Ｓ２１は、「撮影工程」の一例である。投影処理Ｓ２０、撮影処理Ｓ２１、及び判断処理Ｓ２２は、「繰返処理」及び「繰返工程」の一例である。第１情報取得処理Ｓ２３は、「第１情報取得工程」の一例である。第２情報取得処理Ｓ２４は、「第２情報取得工程」の一例である。判定処理Ｓ２５は、「判定工程」の一例である。

（４）その他
尚、本開示は、第１及び第２実施形態に限定されるものでなく、その趣旨を逸脱しない範囲で様々な変更が可能である。
例えば、第１及び第２実施形態では、判定処理Ｓ１７，Ｓ２５において、判定対象点の傾斜角θが三次元形状情報６４から算出されているが、そのような算出は、三次元形状情報６４が取得される第１情報取得処理Ｓ１２，２３において行われてもよい。

また、第１及び第２実施形態では、判定処理Ｓ１７，Ｓ２５において、レーザ加工の可不可の判定が判定対象点毎（つまり、交点１１８毎）に行われているが、例えば、レーザ加工が不可能であると判定される判定対象点（つまり、交点１１８）が１個でもあれば、加工対象物７の全体についてレーザ加工が不可能であると判定されるようにしてもよい。

また、第１実施形態では、繰り返し行われる照射処理Ｓ１３において、ガイド光Ｑの照射が順次に行われることによって、ステージ１１２上及び加工対象物７の加工面８上に各交点１１８が順次に再び描写されるが、加工対象物７の加工面８上のみに各交点１１８が順次に再び描写されてもよい。

また、第１実施形態では、照射処理Ｓ１３が繰り返し行われる度に、ガイド光Ｑの焦点位置Ｆは、上下方向（Ｚ軸方向）において、照射切換位置、つまり、照射対象点に該当する交点１１８の位置のＺ座標データに一致又は最も近いＺ座標データを有する切換位置に切り換えられるが、照射対象点に該当する交点１１８のＺ座標が示す位置そのもの
に焦点位置Ｆを移動させることによって、ステージ１１２上又は加工対象物７の加工面８上に合わせられてもよい。

また、第１実施形態では、照射処理Ｓ１３及び第２撮影処理Ｓ１４が繰り返し行われることによって、全ての交点１１８の数と同数の第２画像が取得されるが、照射処理Ｓ１３及び第２撮影処理Ｓ１４が繰り返し行われている間において、カメラ１０３を露光させ続けることによって、１個の第２画像が取得されてもよい。この場合、その１個の第２画像には、ステージ１１２上又は加工対象物７の加工面８上において、測定パターン１１４に含まれる全ての交点１１８を再び描画するガイド光Ｑの反射光が映し出されている。
また、同じＺ座標を有する交点１１８若しくは同じ切換位置Ｚに切り換えられる交点１１８をグループ分けし、グループ単位でまとめて一度の照射処理Ｓ１３及び第２撮影処理Ｓ１４を行うようにしてもよい。こうすることで、交点１１８毎に対処するより、効率よく処理を行うことができる。

また、第１実施形態では、照射処理Ｓ１３において、測定パターン１１４と同一又は異なる格子状のパターンが、焦点位置Ｆを加工対象物７の加工面８の高さ（Ｚ軸方向）の変化に都度合わせるようにしたガイド光Ｑの反射光の軌跡で描画されることによって、加工対象物７の加工面８に投影され、更に、第２撮影処理Ｓ１４において、その投影中の格子状のパターンがガイド光Ｑの反射光で映し出された第２画像が取得されるようにしてもよい。
このようにすれば、照射処理Ｓ１３及び第２撮影処理Ｓ１４は、何回も繰り返して行われる必要がなく、１回で済ませることが可能である。
尚、測定パターン１１４と異なる格子状のパターンが投影される場合、第２情報取得処理Ｓ１６及び判定処理Ｓ１７では、その異なる格子状のパターンに含まれる複数の交点毎に計測されたガイド光Ｑの反射光量が、光量用閾値６８と比較される。
尚、この変更例は、「ワーク表面をレーザ加工するための加工レーザ光を出射する加工レーザ光出射部と、
測定レーザ光を出射する測定レーザ光出射部と、
前記加工レーザ光及び前記測定レーザ光を直交座標系のＸＹ軸方向で走査するＸＹ軸走査部と、
前記加工レーザ光及び前記測定レーザ光を前記直交座標系のＺ軸方向で走査するＺ軸走査部と、
前記ワーク表面で反射する前記測定レーザ光を撮影する撮影部と、
制御部と、を備え、
前記制御部は、
前記測定レーザ光出射部及び前記ＸＹ軸走査部を制御することによって、前記測定レーザ光が２次元走査で描画する第１測定パターンを、前記ワーク表面に投影する第１投影処理と、
前記第１投影処理によって前記ワーク表面に投影中の前記第１測定パターンが映し出される第１画像を、前記撮影部による撮影で取得する第１撮影処理と、
前記第１画像において、前記ワーク表面で反射する前記測定レーザ光の反射光を前記第１測定パターンに含まれる複数の第１判定点毎に認識することによって、前記ワーク表面の三次元形状に関する三次元形状情報を取得する第１情報取得処理と、
前記測定レーザ光出射部及び前記ＸＹ軸走査部を制御すると共に、前記Ｚ軸走査部を前記三次元形状情報に基づいて制御することによって、前記測定レーザ光の焦点位置を前記ワーク表面に合わせる態様で、前記測定レーザ光が３次元走査で描画する第２測定パターンを、前記ワーク表面に投影する第２投影処理と、
前記第２投影処理によって前記ワーク表面に投影中の前記第２測定パターンが映し出される第２画像を、前記撮影部による撮影で取得する第２撮影処理と、
前記第２画像において、前記ワーク表面で反射する前記測定レーザ光の反射光を前記第２測定パターンに含まれる複数の第２判定点毎に認識することによって、前記測定レーザ光の反射光に関する反射光情報を取得する第２情報取得処理と、
前記三次元形状情報及び前記反射光情報に基づいて、前記レーザ加工の可不可を判定する判定処理と、を実行することを特徴とするレーザ加工装置」が具体化されたものと言える。
尚、そのようなレーザ加工装置においては、第１測定パターンと第２測定パターンとが同一の場合、第１測定パターンに含まれる複数の第１判定点と、第２測定パターンに含まれる複数の第２判定点とを同一にすることが可能である。

また、第２実施形態では、第２情報取得処理Ｓ２４において、計測対象点に該当する交点１１８として各画像に映し出されているガイド光Ｑのスポット径及びその光量が、全ての画像毎に計測され、更に、その計測は、全ての交点１１８が計測対象点に設定されるまで繰り返される。もっとも、そのような計測は、撮影処理Ｓ２１で画像が取得される度に、当該画像に映し出されている測定パターン１１４に含まれる全ての交点１１８について、ガイド光Ｑのスポット径及びその光量が計測されることによって行われてもよい。

また、第２実施形態では、第１情報取得処理Ｓ２３が行われた後で第２情報取得処理Ｓ２４が行われているが、逆に、第２情報取得処理Ｓ２４が行われた後で第１情報取得処理Ｓ２３が行われてもよい。更に、この変更例の第１情報取得処理Ｓ２３では、第２情報取得処理Ｓ２４において最も小さいスポット径に特定された交点１１８の位置を示すＸＹＺ座標データから、三次元形状情報６４が取得されてもよい。この場合、加工対象物７の加工面８の三次元計測は、各撮影処理Ｓ２１で取得された全ての画像に基づいて行われることになる。
また、第２実施形態では、 焦点距離が一番短い切換位置Ｚ１から順に長くなるように切換位置Ｚが切り換えられるが、逆に、焦点距離が一番長い切換位置Ｚ１０から順に短くなるように切換位置Ｚが切り換えられるようにしてもよい。

また、第１及び第２実施形態では、格子状の測定パターン１１４が使用されているが、それに代えて、ドット状のパターンが使用されてもよい。そのような場合、ドット状のパターンを構成する各ドットは、測定パターン１１４の各交点１１８に相当する。
また、角度用閾値６７及び光量用閾値 ６８は、加工対象物７の材質や加工レーザ光Ｐの周波数帯毎に合わせた複数の適切な数値がＨＤＤ６６内に記憶され、使用される加工対象物７の材質やレーザ加工装置１の加工レーザ光Ｐの特性に合わせて読みだされて、閾値設定に使用されるものであってよい。
更に、判定処理Ｓ１７，Ｓ２５は、レーザ加工が可能であるか不可能であるかのみを判定するものでなく、加工条件の変更なしで可能、レーザ出力やレーザ口径等の加工条件の変更を行えば可能、不可能などと多段階で判定するものでもよいし、そのような場合、レーザ加工装置１は、加工条件の変更が必要なときに適切な加工条件の提示や設定を行うものであってもよい。

１：レーザ加工装置、８：ワーク表面、１２：レーザ発振ユニット、１５：ガイド光部、１８：ガルバノスキャナ、５１：制御部、６４：三次元形状情報、６５：反射光情報、６６：ハードディスクドライブ（ＨＤＤ）、６７：角度用閾値、６８：光量用閾値、７０：光学系、１０３：カメラ、１１０：第１画像又は画像、１１４：測定パターン、１１８：交点、１２０：第２画像、２００：判定方法、２０２：判定方法、Ｆ：焦点位置、Ｐ：加工レーザ光、Ｑ：ガイド光、Ｓ１０：投影処理、Ｓ１１：第１撮影処理、Ｓ１２：第１情報取得処理、Ｓ１３：照射処理、Ｓ１４：第２撮影処理、Ｓ１６：第２情報取得処理、Ｓ１７：判定処理、Ｓ２０：投影処理、Ｓ２１：撮影処理、Ｓ２２：判断処理、Ｓ２３：第１情報取得処理、Ｓ２４：第２情報取得処理、Ｓ２５：判定処理、θ：判定対象点の傾斜角。

Claims (7)

1. ワーク表面をレーザ加工するための加工レーザ光を出射する加工レーザ光出射部と、
   測定レーザ光を出射する測定レーザ光出射部と、
   前記加工レーザ光及び前記測定レーザ光を直交座標系のＸＹ軸方向で走査するＸＹ軸走査部と、
   前記加工レーザ光及び前記測定レーザ光を前記直交座標系のＺ軸方向で走査するＺ軸走査部と、
   前記ワーク表面で反射する前記測定レーザ光を撮影する撮影部と、
   制御部と、を備え、
   前記制御部は、
   前記測定レーザ光出射部及び前記ＸＹ軸走査部を制御することによって、前記測定レーザ光が２次元走査で描画する測定パターンを、前記ワーク表面に投影する投影処理と、
   前記投影処理によって前記ワーク表面に投影中の前記測定パターンが映し出される第１画像を、前記撮影部による撮影で取得する第１撮影処理と、
   前記第１画像において、前記ワーク表面で反射する前記測定レーザ光の反射光を前記測定パターンに含まれる複数の判定点毎に認識することによって、前記ワーク表面の三次元形状に関する三次元形状情報を取得する第１情報取得処理と、
   前記測定レーザ光出射部及び前記ＸＹ軸走査部を制御すると共に、前記Ｚ軸走査部を前記三次元形状情報に基づいて制御することによって、前記測定レーザ光の焦点位置を前記ワーク表面に合わせる態様で、前記複数の判定点の少なくともいずれか一つを再び描画するための前記測定レーザ光を順次に前記ワーク表面に向けて照射する照射処理と、
   前記照射処理によって前記ワーク表面に照射中の前記測定レーザ光の反射光が映し出される一又は複数の第２画像を、前記撮影部による撮影で取得する第２撮影処理と、
   前記一又は複数の第２画像において、前記測定レーザ光の反射光を前記複数の判定点毎に認識することによって、前記測定レーザ光の反射光に関する反射光情報を取得する第２情報取得処理と、
   前記三次元形状情報及び前記反射光情報に基づいて、前記レーザ加工の可不可を判定する判定処理と、を実行することを特徴とするレーザ加工装置。
2. ワーク表面をレーザ加工するための加工レーザ光を出射する加工レーザ光出射部と、
   測定レーザ光を出射する測定レーザ光出射部と、
   前記加工レーザ光及び前記測定レーザ光を直交座標系のＸＹ軸方向で走査するＸＹ軸走査部と、
   前記加工レーザ光及び前記測定レーザ光を前記直交座標系のＺ軸方向で走査するＺ軸走査部と、
   前記ワーク表面で反射する前記測定レーザ光を撮影する撮影部と、
   制御部と、を備え、
   前記制御部は、
   前記測定レーザ光出射部及び前記ＸＹ軸走査部を制御することによって、前記測定レーザ光が２次元走査で描画する測定パターンを、前記ワーク表面に投影する投影処理と、
   前記投影処理によって前記ワーク表面に投影中の前記測定パターンが映し出される画像を、前記撮影部による撮影で取得する撮影処理と、
   前記Ｚ軸走査部で前記測定レーザ光の焦点位置を前記Ｚ軸方向で移動させた後に前記投影処理及び前記撮影処理を実行することを繰り返すことによって、複数の前記画像を取得する繰返処理と、
   前記複数の前記画像の少なくとも一つに基づいて、前記ワーク表面で反射する前記測定レーザ光の反射光を前記測定パターンに含まれる複数の判定点毎に認識することによって、前記ワーク表面の三次元形状に関する三次元形状情報を取得する第１情報取得処理と、
   前記複数の前記画像の全てに基づいて、前記ワーク表面で最も小さなスポット径で反射する前記測定レーザ光の反射光を前記複数の判定点毎に認識することによって、前記測定レーザ光の反射光に関する反射光情報を取得する第２情報取得処理と、
   前記三次元形状情報及び前記反射光情報に基づいて、前記レーザ加工の可不可を判定する判定処理と、を実行することを特徴とするレーザ加工装置。
3. 前記繰返処理は、前記Ｚ軸走査部による前記測定レーザ光の焦点位置の移動を前記Ｚ軸方向の一方へ向かって行うことを特徴とする請求項２に記載のレーザ加工装置。
4. 角度用閾値を記憶する記憶部を備え、
   前記判定処理は、前記三次元形状情報に基づいて、前記直交座標系のＸＹ平面に対する前記ワーク表面の傾斜角を算出し、前記複数の判定点のうち、前記ワーク表面の傾斜角度が前記角度用閾値を超える判定点について、前記レーザ加工が不可能であると判定することを特徴とする請求項１乃至請求項３のいずれか一つに記載のレーザ加工装置。
5. 光量用閾値を記憶する記憶部を備え、
   前記判定処理は、前記複数の判定点のうち、前記反射光情報に含まれる前記測定レーザ光の反射光量が前記光量用閾値を超えない判定点について、前記レーザ加工が不可能であると判定することを特徴とする請求項１乃至請求項４のいずれか一つに記載のレーザ加工装置。
6. ワーク表面をレーザ加工するための加工レーザ光を出射する加工レーザ光出射部と、測定レーザ光を出射する測定レーザ光出射部と、前記加工レーザ光及び前記測定レーザ光を直交座標系のＸＹ軸方向で走査するＸＹ軸走査部と、前記加工レーザ光及び前記測定レーザ光を前記直交座標系のＺ軸方向で走査するＺ軸走査部と、前記ワーク表面で反射する前記測定レーザ光を撮影する撮影部と、を備えるレーザ加工装置において、前記レーザ加工の可不可を判定する判定方法であって、
   前記測定レーザ光出射部及び前記ＸＹ軸走査部を制御することによって、前記測定レーザ光が２次元走査で描画する測定パターンを、前記ワーク表面に投影する投影工程と、
   前記投影工程によって前記ワーク表面に投影中の前記測定パターンが映し出される第１画像を、前記撮影部による撮影で取得する第１撮影工程と、
   前記第１画像において、前記ワーク表面で反射する前記測定レーザ光の反射光を前記測定パターンに含まれる複数の判定点毎に認識することによって、前記ワーク表面の三次元形状に関する三次元形状情報を取得する第１情報取得工程と、
   前記測定レーザ光出射部及び前記ＸＹ軸走査部を制御すると共に、前記Ｚ軸走査部を前記三次元形状情報に基づいて制御することによって、前記測定レーザ光の焦点位置を前記ワーク表面に合わせる態様で、前記複数の判定点の少なくともいずれか一つを再び描画するための前記測定レーザ光を順次に前記ワーク表面に向けて照射する照射工程と、
   前記照射工程によって前記ワーク表面に照射中の前記測定レーザ光の反射光が映し出される一又は複数の第２画像を、前記撮影部による撮影で取得する第２撮影工程と、
   前記一又は複数の第２画像において、前記測定レーザ光の反射光を前記複数の判定点毎に認識することによって、前記測定レーザ光の反射光に関する反射光情報を取得する第２情報取得工程と、
   前記三次元形状情報及び前記反射光情報に基づいて、前記レーザ加工の可不可を判定する判定工程と、を備えることを特徴とする判定方法。
7. ワーク表面をレーザ加工するための加工レーザ光を出射する加工レーザ光出射部と、測定レーザ光を出射する測定レーザ光出射部と、前記加工レーザ光及び前記測定レーザ光を直交座標系のＸＹ軸方向で走査するＸＹ軸走査部と、前記加工レーザ光及び前記測定レーザ光を前記直交座標系のＺ軸方向で走査するＺ軸走査部と、前記ワーク表面で反射する前記測定レーザ光を撮影する撮影部と、を備えるレーザ加工装置において、前記レーザ加工の可不可を判定する判定方法であって、
   前記測定レーザ光出射部及び前記ＸＹ軸走査部を制御することによって、前記測定レーザ光が２次元走査で描画する測定パターンを、前記ワーク表面に投影する投影工程と、
   前記投影工程によって前記ワーク表面に投影中の前記測定パターンが映し出される画像を、前記撮影部による撮影で取得する撮影工程と、
   前記Ｚ軸走査部で前記測定レーザ光の焦点位置を前記Ｚ軸方向で移動させた後に前記投影工程及び前記撮影工程を実行することを繰り返すことによって、複数の前記画像を取得する繰返工程と、
   前記複数の前記画像の少なくとも一つに基づいて、前記ワーク表面で反射する前記測定レーザ光の反射光を前記測定パターンに含まれる複数の判定点毎に認識することによって、前記ワーク表面の三次元形状に関する三次元形状情報を取得する第１情報取得工程と、
   前記複数の前記画像の全てに基づいて、前記ワーク表面で最も小さなスポット径で反射する前記測定レーザ光の反射光を前記複数の判定点毎に認識することによって、前記測定レーザ光の反射光に関する反射光情報を取得する第２情報取得工程と、
   前記三次元形状情報及び前記反射光情報に基づいて、前記レーザ加工の可不可を判定する判定工程と、を備えることを特徴とする判定方法。

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