JP2023017236A - 光ファイバの製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】光ファイバの長手方向における外径変動を抑制できる光ファイバの製造方法を提供する。【解決手段】光ファイバの製造方法は、光ファイバ製造装置を用いた光ファイバの製造方法であって、前記光ファイバ製造装置は、下端に光ファイバ母材が固定されるロッドと、前記ロッドを取り囲むシールドパイプと、前記シールドパイプ内において前記シールドパイプとの間に隙間をもって配置されるとともに、前記ロッドが貫通するシール部と、前記光ファイバ母材を加熱するヒータを有するとともに、中空容器状に形成された紡糸炉と、前記紡糸炉に設けられるガス導入口と、を備え、前記光ファイバ母材を加熱して前記光ファイバ母材を溶融紡糸する際に、ガスを前記ガス導入口から前記紡糸炉内に導入し、少なくとも一部の前記ガスを前記隙間から前記シールドパイプの外に排出し、前記隙間において前記ガスに生じる圧力損失が９５Ｐａ以上である。【選択図】図１

Description

本発明は、光ファイバの製造方法に関する。

特許文献１には、光ファイバ製造装置を用いた光ファイバの製造方法が開示されている。光ファイバ製造装置は、光ファイバ母材が取り付けられるロッド（送出ロッド）と、ロッドを取り囲むシールドパイプと、ロッドが貫通するシール部（シール部材）と、紡糸炉（紡糸用加熱炉）と、紡糸炉に設けられるガス導入口と、を備える。

特開２０１５－６９６０号公報

紡糸炉内部において光ファイバ母材を溶融紡糸する際には、一般的に、紡糸炉内部に不活性ガスが導入される。特許文献１に記載の光ファイバの製造方法において、紡糸炉内部に導入された不活性ガスの少なくとも一部は、紡糸炉内部からシールドパイプ内部へと流動する。その後、当該不活性ガスは、シール部とシールドパイプとの間に形成された隙間を通じて光ファイバ製造装置の外部へと排出される。

このような光ファイバの製造方法においては、シール部とシールドパイプとの間に形成された隙間を通過して光ファイバ製造装置の外部へ排出されていく不活性ガスの量が不安定になる可能性があった。排出される不活性ガスの量が不安定になると、紡糸炉内部における不活性ガスの流れが乱れ、光ファイバ母材の溶融が不均一となりやすくなる。光ファイバ母材の溶融の不均一は、光ファイバの外径変動の原因となり得る。

本発明は、このような事情を考慮してなされ、光ファイバの外径変動を抑制できる光ファイバの製造方法を提供することを目的とする。

上記課題を解決するために、本発明の一態様に係る光ファイバの製造方法は、光ファイバ製造装置を用いた光ファイバの製造方法であって、前記光ファイバ製造装置は、下端に光ファイバ母材が固定されるロッドと、前記ロッドを取り囲むシールドパイプと、前記シールドパイプ内において前記シールドパイプとの間に隙間をもって配置されるとともに、前記ロッドが貫通するシール部と、前記光ファイバ母材を加熱するヒータを有するとともに、中空容器状に形成された紡糸炉と、前記紡糸炉に設けられるガス導入口と、を備え、前記ヒータによって前記光ファイバ母材を加熱して前記光ファイバ母材を溶融紡糸する際に、ガスを前記ガス導入口から前記紡糸炉内に導入し、少なくとも一部の前記ガスを前記隙間から前記シールドパイプの外に排出し、前記隙間において前記ガスに生じる圧力損失が９５Ｐａ以上である。

本発明の上記態様によれば、光ファイバの外径変動を抑制可能な光ファイバの製造方法を提供できる。

第１実施形態に係る光ファイバの製造方法で用いられる光ファイバ製造装置を示す一部断面図である。 第２実施形態に係る光ファイバの製造方法で用いられる光ファイバ製造装置を示す一部断面図である。 実施例および比較例に係る光ファイバの製造方法において設定された各製造条件を示す図である。

（第１実施形態）
以下、第１実施形態に係る光ファイバの製造方法、および光ファイバ製造装置について図面に基づいて説明する。
図１に示すように、光ファイバ製造装置１Ａは、ロッド１０と、ロッド１０を取り囲むシールドパイプ２０と、ロッド１０が貫通するシール部３０と、紡糸炉４０と、を備える。ロッド１０は、第１端部１０ａおよび第２端部１０ｂを有する。ロッド１０の第１端部１０ａには、光ファイバ母材Ｍが固定される。

（方向定義）
ここで、本実施形態では、ロッド１０の中心軸線Ｏと平行な方向（Ｚ方向）を軸方向Ｚと称する。軸方向Ｚに沿って、ロッド１０の第１端部１０ａから第２端部１０ｂへと向かう方向（＋Ｚ方向）を上方と称し、上方と反対の方向（－Ｚ方向）を下方と称する。軸方向Ｚに垂直な断面を横断面と称する。ロッド１０の中心軸線Ｏに直交する方向を径方向と称する。径方向に沿って、中心軸線Ｏに接近する方向を径方向内側と称し、中心軸線Ｏから離反する方向を径方向外側と称する。軸方向Ｚから見て、中心軸線Ｏまわりに周回する方向を周方向と称する。

（光ファイバ製造装置）
ロッド１０は、軸方向Ｚに沿って延在している。本実施形態に係るロッド１０は、横断面視において、略円形状である。ロッド１０の第１端部１０ａには、光ファイバ母材Ｍが取り付けられる。ロッド１０の第２端部１０ｂは、支持機構５０（支持部５１）によって支持されている。以降、本明細書では、ロッド１０の第１端部１０ａをロッド１０の下端１０ａと称し、ロッド１０の第２端部１０ｂをロッド１０の上端１０ｂと称する場合がある。

支持機構５０は、ロッド１０を支持する支持部５１と、支持部５１に連結された昇降機構５２を有する。昇降機構５２は、支持部５１を介して、ロッド１０（およびシール部３０）を軸方向Ｚに沿って移動させることができる。なお、支持部５１を軸方向Ｚに沿って動かせる構成であれば、昇降機構５２の構成は、適宜変更してもよい。

光ファイバ母材Ｍは、主としてガラスによって形成されている。光ファイバ母材Ｍを溶融紡糸することで光ファイバＦが得られる。光ファイバ母材Ｍは、光ファイバＦのコアとなる部分およびクラッドになる部分を有する。光ファイバ母材Ｍは、例えば、未処理母材（ガラス多孔質体）に対して焼結、脱水、ドープ等の処理を行うことによって形成することができる。

シールドパイプ２０は、軸方向Ｚに沿って延在する円筒状である。シールドパイプ２０は、ロッド１０の径方向外側に位置し、ロッド１０を取り囲んでいる。本実施形態において、シールドパイプ２０の内径は、軸方向Ｚに沿って略一定である。

シール部３０は、シールドパイプ２０の内部に配置されている。本実施形態において、シール部３０は、不図示の固定機構によってロッド１０に固定されている。なお、シール部３０をロッド１０に固定できる構造であれば、固定機構の構成は、適宜変更してもよい。

シール部３０は、シール本体部３３と、第１スリーブ３１と、第２スリーブ３２と、を有する。本実施形態において、シール本体部３３は円柱状に形成されている。シール本体部３３の径方向における中央部には、シール本体部３３を軸方向Ｚに沿って貫通する貫通孔３３ａが形成されている。ロッド１０は、シール本体部３３の貫通孔３３ａを貫通している。

第１スリーブ３１および第２スリーブ３２は、各々筒状の部材であり、ロッド１０を径方向における外側から取り囲んでいる。第１スリーブ３１は、シール本体部３３から上方に向けて延びている。第２スリーブ３２は、シール本体部３３から下方に向けて延びている。図１の例においては特に、シール部３０の外径は、軸方向Ｚに沿って略一定である。

図１の例において、第１スリーブ３１および第２スリーブ３２と、シール本体部３３とは、別体に形成されている。第１スリーブ３１および第２スリーブ３２の材質は、例えばカーボンであってもよい。なお、第１スリーブ３１および第２スリーブ３２と、シール本体部３３とは、一体に形成されていてもよい。

シール部３０とシールドパイプ２０との径方向における間には、隙間Ｇ１が設けられている。本実施形態において、隙間Ｇ１の寸法は、軸方向Ｚにおけるシール部３０の全体にわたって略一定である。また、隙間Ｇ１の寸法は、周方向において略一定である。ただし、軸方向Ｚおよび周方向における隙間Ｇ１の寸法は、略一定でなくてもよい。

シール部３０は、シールドパイプ２０から上方に排出されるガスの流量を調整する役割を有する。シール部３０とシールドパイプ２０との間に隙間Ｇ１が存在することにより、ガスの一部は、隙間Ｇ１を通ってシール部３０から上方に向けて漏出する。

紡糸炉４０は、シールドパイプ２０の下端に連結されている。紡糸炉４０は、中空円柱容器状に形成されている。本実施形態において、シールドパイプ２０によって囲まれる空間Ｓ２のうちシール部３０よりも下方に位置する部分は、紡糸炉４０内の空間Ｓ４に連通している。なお、空間Ｓ２と空間Ｓ４とは互いに連通していなくてもよい。例えば、紡糸炉４０の上端に第２のシール部が設けられ、第２のシール部によって空間Ｓ２と空間Ｓ４とが区画されていてもよい。第２のシール部は、シールドパイプ２０の下端に設けられてもよい。

紡糸炉４０は、光ファイバ母材Ｍを加熱するヒータ４１を有する。光ファイバ母材Ｍは、ヒータ４１によって加熱され、下方に向けて溶融紡糸される。本実施形態において、ヒータ４１の形状は円筒状であり、紡糸炉４０内の空間Ｓ４を周方向において取り囲むように配置されている。ヒータ４１は、例えば電気ヒータ等であってもよい。なお、本実施形態においてヒータ４１は１つのみ設けられているが、複数のヒータ４１が設けられていてもよい。この場合、複数のヒータ４１が空間Ｓ４を周方向において取り囲んでいてもよい。また、複数のヒータ４１が軸方向Ｚに並べて配置されていてもよい。

紡糸炉４０には、紡糸炉４０内の空間Ｓ４に不活性ガス（アルゴン等）を導入するためのガス導入口４２が設けられている。図１の例において、ガス導入口４２は２つ設けられている。なお、ガス導入口４２の数は適宜変更可能であり、１つ以上であればガス導入口４２の数は限定されない。

紡糸炉４０には、溶融紡糸された光ファイバ母材Ｍ（光ファイバＦ）を引き出すための引出口４３が形成されている。本実施形態において、引出口４３は紡糸炉４０の下面に形成されている。

本実施形態に係る光ファイバ製造装置１Ａは、上記した構成のほかに、不図示の外径測定部、冷却部、コーティング部、硬化部、引取り部、巻取部等を備えていてもよい。位置測定部は、光ファイバＦの外径を測定する。冷却部は、光ファイバＦを冷却する。コーティング部は、光ファイバＦに被覆材を塗布（コーティング）することで光ファイバＦの外周に被覆層を形成する。硬化部は、光ファイバＦに塗布された被覆材が紫外線硬化型樹脂であった場合に、当該樹脂に紫外線を照射することで被覆層を硬化させる。引取り部は、光ファイバＦを引き取り、巻取部に向かわせる。巻取部は、ドラムに光ファイバを巻き取る。なお、上記した外径測定部、冷却部、コーティング部、硬化部、引取り部としては、各々公知の構成を採用できる。

なお、本明細書において、例えば、「略円形状」には、製造誤差を取り除けば円形状とみなせる場合も含まれる。同様に、「略同一」には、製造誤差を取り除けば同一とみなせる場合も含まれる。

（光ファイバの製造方法）
次に、本実施形態に係る光ファイバの製造方法の一例について説明する。本実施形態に係る光ファイバの製造方法においては、以上のように構成された光ファイバ製造装置１Ａを用いて光ファイバＦを製造する。

まず、ロッド１０の下端に光ファイバ母材Ｍが固定される。例えばロッド１０を出発部材として用い、ロッド１０の周囲に直接ガラス微粒子を堆積させてもよい。あるいは、ロッド１０とは別体の光ファイバ母材Ｍを用意し、光ファイバ母材Ｍをロッド１０に取り付けてもよい。
次に、昇降機構５２によって、ロッド１０（光ファイバ母材Ｍ）が上方から紡糸炉４０内に挿入される。

次に、光ファイバ母材Ｍが、紡糸炉４０内において溶融紡糸される。このとき、昇降機構５２によって光ファイバ母材Ｍを軸方向Ｚに沿って移動させることができる。これにより、ヒータ４１と光ファイバ母材Ｍとの間の相対距離を調節し、光ファイバ母材Ｍに加わる熱の量を調節することができる。光ファイバ母材Ｍを溶融紡糸することにより、光ファイバＦが得られる。

光ファイバ母材Ｍを溶融紡糸する際には、紡糸炉４０内の空間Ｓ４に対して、ガス導入口４２から不活性ガスが導入される。不活性ガスの導入は、継続的に行われる。これにより、紡糸炉４０の劣化を抑制したり、紡糸炉４０内への不純物の混入を抑制したり、紡糸炉４０内のガスの流れを保ったりすることができる。

空間Ｓ４に供給された不活性ガスは、以下に示す第１の経路または第２の経路のうちいずれかを通って光ファイバ製造装置１Ａの外部へと排出される。第１の経路は、空間Ｓ４から上方に流動して空間Ｓ２に到達し、シール部３０とシールドパイプ２０の間に形成された隙間Ｇ１を通って外部へと排出される経路である。一方、第２の経路は、空間Ｓ４から下方に流動して、引出口４３を取って外部へと排出される経路である。なお、シール本体部３３の貫通孔３３ａとロッド１０との間の摺動面から漏れ出るガスの量は、上記した２つの経路を通って排出されるガスの量に比べて無視できるほど小さい。

ところで、光ファイバ製造装置１Ａの外部へと排出されるガスの量が不安定になると、紡糸炉４０内の空間Ｓ４においてガスの流れが乱れる。空間Ｓ４内においてガスの流れが乱れると、光ファイバ母材Ｍの溶融が不均一になりやすくなる。このような光ファイバ母材Ｍの溶融の不均一は、光ファイバＦの外径変動の原因となり得る。本願発明者らが鋭意検討した結果、特に第１の経路（隙間Ｇ１）を取って外部に排出されていくガスの量が不安定になることが、光ファイバＦの外径変動を生じやすいということが判った。

そこで本実施形態に係る光ファイバの製造方法では、光ファイバ母材Ｍを溶融紡糸する際に、隙間Ｇ１においてガスに生じる圧力損失を９５Ｐａ以上とする。このように、隙間Ｇ１がガスに対して生じさせる圧力損失をある程度大きくすることにより、隙間Ｇ１を通って外部へ排出されるガスの量が減少し、隙間Ｇ１を通って外部へと排出されるガスの量の時間変化が抑制される。したがって、空間Ｓ４においてガスの流れが乱れることが抑制され、光ファイバＦの外径変動が抑制される。

なお、隙間Ｇ１においてガスに生じる圧力損失が９５Ｐａ以上となるように、シールドパイプ２０の内径、シール本体部３３の外径、シール部３０の軸方向Ｚにおける寸法等を検討するとよい。同様に、ガス導入口４２から導入される不活性ガスの流量を調整してもよい。もしくは、隙間Ｇ１における圧力損失の実測値をもとに、ガス導入口４２から導入される不活性ガスの流量が制御されてもよい。この場合、隙間Ｇ１または隙間Ｇ１の近傍に不図示の圧力計測器（圧力センサ等）が設けられてもよい。

ここで、シール本体部３３から上方に向けて第１スリーブ３１が延びていることにより、隙間Ｇ１から上方に排出されてゆくガスの流れを整えることができる。言い換えれば、ガスが空間Ｓ２のうちシール部３０よりも上方に位置する部分において乱流を形成するのを抑制することができる。同様に、シール本体部３３から下方に向けて第２スリーブ３２が延びていることにより、隙間Ｇ１に流入してゆくガスの流れを整えることができる。言い換えれば、ガスが空間Ｓ２のうちシール部３０よりも下方に位置する部分において乱流を形成するのを抑制することができる。これにより、隙間Ｇ１を通過してゆくガスの量がより安定し、光ファイバＦの外径変動をより抑制することができる。

また、隙間Ｇ１から上方に流出したガスは、大気によって冷却される。このため、一度流出したガスは、冷却されることで下降し、空間Ｓ２のうちシール部３０よりも上方に位置する部分に滞留する可能性がある。これに対して本実施形態に係る光ファイバ製造装置１Ａにおいては、シール本体部３３から上方に向けて第１スリーブ３１が延びているため、冷却されたガスは、第１スリーブ３１の内周面とロッド１０とが対向する領域に滞留しやすくなる。これにより、滞留したガスが隙間Ｇ１から逆流することが抑制される。したがって、光ファイバＦの外径変動をより確実に抑制することができる。

光ファイバ母材Ｍを溶融紡糸して得られた光ファイバＦは、引出口４３を介して紡糸炉４０の外に引き出される。その後、光ファイバＦに対して外径測定、冷却、コーティング、硬化、引取り等が行われてもよい。

以上説明したように、本実施形態に係る光ファイバの製造方法は、光ファイバ製造装置１Ａを用いて光ファイバＦを製造する光ファイバの製造方法であって、光ファイバ製造装置１Ａは、下端１０ａに光ファイバ母材Ｍが固定されるロッド１０と、ロッド１０を取り囲むシールドパイプ２０と、シールドパイプ２０内においてシールドパイプ２０との間に隙間Ｇ１をもって配置されるとともに、ロッド１０が貫通するシール部３０と、光ファイバ母材Ｍを加熱するヒータ４１を有するとともに、中空容器状に形成された紡糸炉４０と、紡糸炉４０に設けられるガス導入口４２と、を備え、ヒータ４１によって光ファイバ母材Ｍを加熱して光ファイバ母材Ｍを溶融紡糸する際に、ガスをガス導入口４２から紡糸炉４０内に導入し、少なくとも一部のガスを隙間Ｇ１からシールドパイプ２０の外に排出し、隙間Ｇ１においてガスに生じる圧力損失が９５Ｐａ以上である。

このように、隙間Ｇ１におけるガスの圧力損失をある程度大きくすることで、隙間Ｇ１を通って外部へと排出されるガスの流量が小さくなる。そして、ガスの流量が小さいことで、流量の時間変化も小さくすることができる。したがって、空間Ｓ４においてガスの流れが乱れることが抑制され、光ファイバＦの外径変動が抑制される。

また、シール部３０は、ロッド１０が貫通するシール本体部３３と、シール本体部３３から上方に向けて延びる第１スリーブ３１と、を有する。この構成により、隙間Ｇ１から排出されてゆく不活性ガスが乱流を形成するのを抑制することができる。また、不活性ガスが隙間Ｇ１から逆流するのを抑制することができる。これにより、光ファイバＦの外径変動がより抑制される。

また、シール部３０は、ロッド１０が貫通するシール本体部３３と、シール本体部３３から下方に向けて延びる第２スリーブ３２と、を有する。この構成により、隙間Ｇ１へと流入してゆく不活性ガスが乱流を形成するのを抑制することができる。したがって、光ファイバＦの外径変動がさらに抑制される。

また、シールドパイプ２０によって囲まれる空間Ｓ２のうちシール部３０よりも下方に位置する部分は、紡糸炉４０内の空間Ｓ４に連通している。この構成により、例えば紡糸炉４０の上端に第２のシール部が設けられている場合と比較して、光ファイバ製造装置１Ａの構造をシンプルにすることができる。

（第２実施形態）
次に、第２実施形態について説明するが、第１実施形態と基本的な構成は同様である。このため、同様の構成には同一の符号を付してその説明は省略し、異なる点についてのみ説明する。
図２に示す光ファイバ製造装置１Ｂにおいて、支持機構５０は調心機構５３を有する。また、シール部３０は、不図示の固定機構によってロッド１０に固定されている。なお、シール部３０とシールドパイプ２０との間には、第１実施形態と同様に隙間Ｇ１が設けられている。ロッド１０とシール部３０（シール本体部３３）との間には、径方向における隙間Ｇ２が形成されている。また、シール部３０には、補助シール部６０が設けられている。

調心機構５３は、支持部５１を介して、ロッド１０を軸方向Ｚに垂直な方向（径方向）に沿って移動させることができる。より詳しくは、調心機構５３は、隙間Ｇ２の範囲内において、ロッド１０を軸方向Ｚに垂直な方向に沿って移動させることができる。

補助シール部６０は、ロッド１０を径方向外側から取り囲んでいる。補助シール部６０は、シール部３０から軸方向Ｚにおいて離反しないように構成されている。一方、補助シール部６０は、シール部３０に対して軸方向Ｚに垂直な方向（径方向）に相対移動可能に構成されている。したがって、ロッド１０が軸方向Ｚに垂直な方向に移動した場合には、補助シール部６０はロッド１０およびシール部３０に対して移動する。

本実施形態において、補助シール部６０はガイド部６１および摺動部６２を有する。ガイド部６１は、摺動部６２から上方に向けて延びている。なお、補助シール部６０はガイド部６１を有していなくてもよい。ガイド部６１の内周面および摺動部６２の内周面は、各々ロッド１０に当接している。ロッド１０が軸方向Ｚに沿って移動するとき、ロッド１０は、ガイド部６１の内周面および摺動部６２の内周面と摺動する。なお、ロッド１０と摺動部６２との間の摺動面およびロッド１０とガイド部６１との間の摺動面から漏れ出るガスの量は、隙間Ｇ１を通って排出されるガスの量と比べて無視できるほど小さい。

摺動部６２の上面は、シール本体部３３の下面に当接している。ロッド１０が軸方向Ｚに垂直な方向に沿って移動するとき、摺動部６２の上面は、シール本体部３３の下面と摺動する。なお、摺動部６２とシール本体部３３との間の摺動面から漏れ出るガスの量は、隙間Ｇ１を通って排出されるガスの量と比べて無視できるほど小さい。

以上のように構成された光ファイバ製造装置１Ｂを用いることで、光ファイバ母材Ｍを溶融紡糸する際に、ロッド１０を軸方向Ｚに垂直な方向において動かすことで光ファイバ母材Ｍの位置を調節することができる。このようにロッド１０の位置を調節することで、光ファイバＦの屈曲やコアの偏心を抑制することができる。また、引出口４３の近傍に光ファイバＦの位置を計測する位置計測器（位置センサ等）が設けられ、当該位置計測器によって得られた光ファイバＦの位置の計測値をもとに、ロッド１０の位置を調節してもよい。この場合、より確実に光ファイバＦの屈曲やコアの偏心を抑制することができる。
なお、本実施形態ではロッド１０がシール部３０に対して固定されているが、必ずしもロッド１０とシール部３０とが固定されていなくてもよい。例えば、ロッド１０とシール部３０とが軸方向Ｚに相対移動可能であり、かつ、隙間Ｇ２の範囲でロッド１０とシール部３０とが径方向に相対移動可能であってもよい。

以下、具体的な実施例を用いて、上記実施形態を説明する。なお、本発明は以下の実施例に限定されない。

製造条件が互いに異なる光ファイバの製造方法を用いて、比較例１、２、および実施例１～１４に係る計１６本の光ファイバＦを製造した。製造条件には、隙間Ｇ１の軸方向Ｚにおける寸法（長さ）、隙間Ｇ１の横断面における面積、および隙間Ｇ１において不活性ガスに生じる圧力損失が含まれる。図３は、実施例および比較例における各製造条件を表した図である。なお、隙間Ｇ１の長さを変化させるに当たっては、シール本体部３３および第２スリーブ３２の長さを固定し、第１スリーブ３１の長さを変化させた。

本願発明者らは、１６本の光ファイバＦの各々について、外径変動（光ファイバＦの外径の最大値と最小値との差）を計測した。また、各光ファイバＦの外径変動について、計測値が０．５μｍ以下であった場合を「良好」と判断し、０．５μｍを超えた場合を「不良」と判断した。表１は、以上の判断結果をまとめた表である。

表１に示すように、隙間Ｇ１において不活性ガスに生じる圧力損失が９５Ｐａ以上である実施例１～１４は、第１スリーブ３１の長さおよび隙間Ｇ１の断面積の大小に関わらず、全て外径変動の判断結果が「良好」となっている。一方で、隙間Ｇ１において不活性ガスに生じる圧力損失が９５Ｐａ未満である比較例１、２は、第１スリーブ３１の長さおよび隙間Ｇ１の断面積の大小に関わらず、いずれも外径変動の判断結果が「不良」となっている。このように、隙間Ｇ１において不活性ガスに生じる圧力損失を９５Ｐａ以上とすることで、光ファイバＦの外径変動を抑制することができる。

なお、本発明の技術的範囲は前記実施形態に限定されず、本発明の趣旨を逸脱しない範囲において種々の変更を加えることが可能である。

例えば、ロッド１０、シールドパイプ２０、シール部３０、紡糸炉４０の形状は、横断面視において円形状でなくてもよい。例えば、上記した各形状は横断面視において楕円形状や多角形状であってもよい。
また、シール部３０は第１スリーブ３１および第２スリーブ３２を有していなくてもよい。

その他、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で、上記した実施形態における構成要素を周知の構成要素に置き換えることは適宜可能であり、また、上記した実施形態や変形例を適宜組み合わせてもよい。

１Ａ、１Ｂ…光ファイバ製造装置 １０…ロッド ２０…シールドパイプ ３０…シール部 ３１…第１スリーブ ３２…第２スリーブ ３３…シール本体部 ４０…紡糸炉 ４１…ヒータ ４２…ガス導入口 Ｇ１…隙間

Claims (5)

1. 光ファイバ製造装置を用いた光ファイバの製造方法であって、
   前記光ファイバ製造装置は、
   下端に光ファイバ母材が固定されるロッドと、
   前記ロッドを取り囲むシールドパイプと、
   前記シールドパイプ内において前記シールドパイプとの間に隙間をもって配置されるとともに、前記ロッドが貫通するシール部と、
   前記光ファイバ母材を加熱するヒータを有するとともに、中空容器状に形成された紡糸炉と、
   前記紡糸炉に設けられるガス導入口と、を備え、
   前記ヒータによって前記光ファイバ母材を加熱して前記光ファイバ母材を溶融紡糸する際に、ガスを前記ガス導入口から前記紡糸炉内に導入し、少なくとも一部の前記ガスを前記隙間から前記シールドパイプの外に排出し、
   前記隙間において前記ガスに生じる圧力損失が９５Ｐａ以上である、光ファイバの製造方法。
2. 前記シール部は、前記ロッドが貫通するシール本体部と、前記シール本体部から上方に向けて延びる第１スリーブと、を有する、請求項１に記載の光ファイバの製造方法。
3. 前記シール部は、前記ロッドが貫通するシール本体部と、前記シール本体部から下方に向けて延びる第２スリーブと、を有する、請求項１または２に記載の光ファイバの製造方法。
4. 前記光ファイバ母材を溶融紡糸する際に、前記ロッドを前記ロッドの軸方向に垂直な方向において動かすことで前記光ファイバ母材の位置を調節する、請求項１から３のいずれか一項に記載の光ファイバの製造方法。
5. 前記シールドパイプによって囲まれる空間のうち前記シール部よりも下方に位置する部分は、前記紡糸炉内の空間に連通している、請求項１から４のいずれか一項に記載の光ファイバの製造方法。

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