JP2023001296A - アブレーション装置 - Google Patents
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Abstract
Description
10…ハロゲンランプ(赤外線光源、可視光源)
20・20A・20B…導光部
20Aa…凸レンズ
20Ab…凹レンズ
30…集光部
31…集光ミラー
31a…円錐面
31b…拡散面
31c…集光面
32…赤外線照射口
33…温度センサ
34…印加電極
35…検出電極
50…遮光部
51…回転式シャッタ
60…制御部(遮光制御部、凝固判定部、停止制御部、温度推定部)
70…検出光学系
71…可視光フィルタ
72…結像レンズ
73…撮像カメラ
90…排気機構(固定手段)
91…排気通路
A…(集光ミラーと赤外線照射口との間に形成される)空間
S…対象部位(組織のうち赤外線光が照射される部位)
Claims (23)
- 赤外線光を発する赤外線光源と、前記赤外線光源から発せられた赤外線光を導く導光部と、前記導光部によって導かれた赤外線光を集光する集光部と、を備え、前記集光部で集光した赤外線光をヒト又は動物の組織へと照射するアブレーション装置であって、
前記集光部は、前記導光部によって導かれた赤外線光を所定の焦点に集光する集光ミラーを有する、アブレーション装置。 - 前記赤外線光源から発せられた赤外線光を遮断する遮光部を備える、請求項1に記載のアブレーション装置。
- 前記遮光部による赤外線光の遮断時間を制御することにより、前記組織のうち赤外線光が照射される部位の焼灼温度を調整する遮光制御部を備える、請求項2に記載のアブレーション装置。
- 前記遮光部は、前記赤外線光源と前記導光部の間に配置された回転式シャッタを有し、
前記遮光制御部は、前記回転式シャッタの回転速度を制御することにより前記赤外線光の遮断時間を制御する、請求項3に記載のアブレーション装置。 - 前記遮光部は、可視光を透過させるか又は可視光の量を減衰させる、請求項2から4の何れか一項に記載のアブレーション装置。
- 前記遮光部は、前記赤外線光源と前記導光部の間に配置された平行移動式シャッタを有し、
前記遮光制御部は、前記平行移動式シャッタの速度及びタイミングを制御することにより前記赤外線光の遮断時間を制御する、請求項3に記載のアブレーション装置。 - 可視光を発する可視光源と、
可視光を検出する検出光学系と、を備え、
前記導光部は、前記可視光源から発せられた可視光を前記集光ミラーへと導き、
前記集光ミラーは、前記導光部によって導かれた可視光を前記焦点に集光し、
前記検出光学系は、前記焦点付近で反射した可視光を検出する、請求項1から6の何れか一項に記載のアブレーション装置。 - 前記検出光学系は、前記可視光の光量を調整する可視光フィルタと、前記可視光フィルタを透過した光を結像する結像レンズと、前記結像レンズによって結像された可視光を検出する撮像カメラと、を有する、請求項7に記載のアブレーション装置。
- 前記焦点は、前記組織の表面又は前記組織の内部に配置され、
前記集光ミラーは、前記焦点に前記赤外線光を集光する放物面、又は、線状に構成された前記焦点に前記赤外線光を集光する円錐面又は多角錐面、を有し、前記放物面又は前記円錐面若しくは前記多角錐面の設置角度により焼灼方向を変更する、請求項1から8の何れか一項に記載のアブレーション装置。 - 前記集光ミラーは、前記導光部によって導かれた赤外線光を拡散させる拡散面と、前記拡散面によって拡散された赤外線光を前記焦点に集光させる集光面と、を有し、前記拡散面及び前記集光面の設置角度及び形状により焼灼方向を変更する、請求項1から8の何れか一項に記載のアブレーション装置。
- 前記拡散面には、前記導光部によって導かれた赤外線光を反射させて拡散させる際に赤外線光の特性を変化させる材料が塗布されている、請求項10に記載のアブレーション装置。
- 前記組織のうち赤外線光が照射される部位に接触するように配置される印加電極及び検出電極と、
前記部位の凝固状況を判定する凝固判定部と、を備え、
前記凝固判定部は、前記印加電極を介して前記部位の第一の部分に印加される電流と、前記検出電極を介して前記部位の第二の部分で検出される電圧と、に基づいて算出されるインピーダンスが所定の閾値を超えるか又は前記インピーダンスの変化が略一定となった場合に、前記部位が凝固したものと判定する、請求項1から11の何れか一項に記載のアブレーション装置。 - 前記組織のうち赤外線光が照射される部位に接触するように配置される印加電極及び検出電極と、
前記部位の凝固状況を判定する凝固判定部と、を備え、
前記凝固判定部は、前記印加電極を介して前記部位の第一の部分に印加される電位と、前記検出電極を介して前記部位の第二の部分で検出される電位と、の比が所定の閾値を超えるか又は前記比が略一定となった場合に、前記部位が凝固したものと判定する、請求項1から11の何れか一項に記載のアブレーション装置。 - 前記組織のうち赤外線光が照射される部位に接触するように配置される検出電極と、
前記部位の凝固状況を判定する凝固判定部と、を備え、
前記凝固判定部は、前記検出電極を介して前記部位で検出される照射前の心拍電位と、前記検出電極を介して前記部位で検出される照射後の心拍電位と、の比が所定の閾値を超えるか又は前記比が略一定となった場合に、前記部位が凝固したものと判定する、請求項1から11の何れか一項に記載のアブレーション装置。 - 前記赤外線光源から発せられた赤外線光を遮断する遮光部と、
前記凝固判定部により前記部位が凝固したものと判定した場合に、前記部位への赤外線光の照射を停止するように前記赤外線光源及び/又は前記遮光部を制御する停止制御部を備える、請求項12から14の何れか一項に記載のアブレーション装置。 - 前記組織のうち赤外線光が照射される部位の周囲の組織温度を検出する温度センサと、
前記温度センサで検出された温度に基づいて前記部位の温度を推定する温度推定部と、を備える、請求項1から15の何れか一項に記載のアブレーション装置。 - 前記導光部の射出口の形状は、凸レンズ形状とされている、請求項1から16の何れか一項に記載のアブレーション装置。
- 前記集光ミラーと前記凸レンズ形状とされた前記射出口との間の距離は、変更可能とされている、請求項17に記載のアブレーション装置。
- 前記導光部の射出口の形状は、凹レンズ形状とされている、請求項1から16の何れか一項に記載のアブレーション装置。
- 前記集光ミラーと前記凹レンズ形状とされた前記射出口との間の距離は、変更可能とされている、請求項19に記載のアブレーション装置。
- 前記集光ミラーによって集光された赤外線光を前記組織に向けて照射するための照射口と、
前記照射口を前記組織に密着させた状態を維持するための固定手段と、
を備える、請求項1から20の何れか一項に記載のアブレーション装置。 - 前記固定手段は、前記集光ミラーと前記照射口との間に形成される空間に存在する空気を外部に排出して前記空間内の圧力を負圧にする排気機構を有する、請求項21に記載のアブレーション装置。
- 前記排気機構は、前記空間に連通する排気通路と、前記排気通路を介して前記空間に存在する空気を吸引して外部へと排出する吸引装置と、を有する、請求項22に記載のアブレーション装置。
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