JP2022542478A - 厚みモード共振器 - Google Patents
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- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 81
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims abstract description 81
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims abstract description 81
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 63
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 59
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 claims abstract description 32
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 claims abstract description 31
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 claims description 5
- BHEPBYXIRTUNPN-UHFFFAOYSA-N hydridophosphorus(.) (triplet) Chemical compound [PH] BHEPBYXIRTUNPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 239000012535 impurity Substances 0.000 claims description 2
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 103
- 229910021421 monocrystalline silicon Inorganic materials 0.000 description 25
- 239000010408 film Substances 0.000 description 18
- 238000013461 design Methods 0.000 description 6
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 6
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 4
- PMHQVHHXPFUNSP-UHFFFAOYSA-M copper(1+);methylsulfanylmethane;bromide Chemical compound Br[Cu].CSC PMHQVHHXPFUNSP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 4
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 4
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 3
- PIGFYZPCRLYGLF-UHFFFAOYSA-N Aluminum nitride Chemical compound [Al]#N PIGFYZPCRLYGLF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 2
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 2
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 2
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 2
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 description 2
- 230000010355 oscillation Effects 0.000 description 2
- 230000003534 oscillatory effect Effects 0.000 description 2
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010897 surface acoustic wave method Methods 0.000 description 2
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 229910021419 crystalline silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 1
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 1
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 1
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- H03H—IMPEDANCE NETWORKS, e.g. RESONANT CIRCUITS; RESONATORS
- H03H9/00—Networks comprising electromechanical or electro-acoustic devices; Electromechanical resonators
- H03H9/02—Details
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- H03H9/02062—Details relating to the vibration mode
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- H03H9/02—Details
- H03H9/02007—Details of bulk acoustic wave devices
- H03H9/02086—Means for compensation or elimination of undesirable effects
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- H03H9/00—Networks comprising electromechanical or electro-acoustic devices; Electromechanical resonators
- H03H9/15—Constructional features of resonators consisting of piezoelectric or electrostrictive material
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- H03H9/00—Networks comprising electromechanical or electro-acoustic devices; Electromechanical resonators
- H03H9/15—Constructional features of resonators consisting of piezoelectric or electrostrictive material
- H03H9/17—Constructional features of resonators consisting of piezoelectric or electrostrictive material having a single resonator
- H03H9/171—Constructional features of resonators consisting of piezoelectric or electrostrictive material having a single resonator implemented with thin-film techniques, i.e. of the film bulk acoustic resonator [FBAR] type
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Abstract
Description
110、210、310 ケイ素基板
112 ケイ素基板の側面
120、220、320 空洞
130、230、330、190B、109C 二酸化ケイ素層
140、240、340 単結晶ケイ素層
150、250、350 下面電極
160、260、360 圧電層
262、362 エッチトレンチ
264 コーナー接続部
170、270 上面電極
172 電極端縁
180、280、380A、380B 振動モード
372、374 セグメント化された上面電極領域
110、210、310 ケイ素基板
112 側縁
120、220、320 空洞
130、230、330、190B、109C 二酸化ケイ素層
140、240、340 単結晶ケイ素層
150、250、350 下面電極
160、260、360 圧電層
262、362 エッチトレンチ
264 コーナー接続部
170、270 上面電極
172 電極端縁
180、280、380A、380B 振動モード
372、374 セグメント化された上面電極領域
Claims (20)
- 厚み方向に振動するように構成された共振器であって、前記共振器は、空洞がその主面に延在する基板と、前記基板の前記主面の上方に配設された圧電膜積層体であって、下面および上面電極とその間に配設された圧電層とを含み、前記共振器の半波長λ/2にほぼ相当する厚みを備えた圧電膜積層体と、前記基板の前記空洞を覆うために前記基板と前記圧電膜積層体との間に配設されたケイ素層を少なくとも含む正温度係数積層体であって、前記共振器の前記半波長λ/2の倍数にほぼ相当する厚みを備えた正温度係数積層体とを備え、前記圧電膜積層体は負の温度係数を備え、前記圧電膜積層体と組み合された前記正温度係数積層体が前記厚み方向に振動するゼロ温度係数オーバートーン共振器として前記共振器を構成するように、前記正温度係数積層体が正の温度係数を有するように前記正温度係数積層体を構成するために、不純物が前記ケイ素層に添加されている、共振器。
- 前記正温度係数積層体は、前記ケイ素層と前記圧電膜積層体との間に配設された少なくとも1つの二酸化ケイ素層を更に備える、請求項1に記載の共振器。
- 前記圧電膜積層体は、前記下面および上面電極層の間に配設された少なくとも1つの二酸化ケイ素層を更に備える、請求項1に記載の共振器。
- 前記正温度係数を前記圧電膜積層体の前記負の温度係数と平衡させるように前記正温度係数積層体を構成するために、燐が前記ケイ素層に添加されている、請求項1に記載の共振器。
- 前記燐添加ケイ素層の抵抗率は0.8mΩ・cm以下である、請求項4に記載の共振器。
- 前記空洞は、前記空洞の前記主面に平行な方向に延在する第1の幅を備え、前記上面電極は、前記空洞の前記主面に平行な前記方向に延在する第2の幅を備え、前記第2の幅は前記第1の幅より小さい、請求項1に記載の共振器。
- 前記上面電極の前記第2の幅は50μmと500μmの間である、請求項6に記載の共振器。
- 複数のエッチトレンチが前記基板の前記空洞まで延在するように、前記圧電膜積層体の前記下面電極と前記圧電層とを貫通して、更には前記正温度係数積層体を貫通して、延在する複数のエッチトレンチを更に備える、請求項1に記載の共振器。
- 前記上面電極は、前記複数のエッチトレンチの各々が前記上面電極から等距離に配設されるような表面積を備える、請求項8に記載の共振器。
- 前記上面電極は、前記複数のエッチトレンチの各々が上面電極から10~100μmの間の距離にあるような表面積を備える、請求項9に記載の共振器。
- 前記共振器が厚みモードオーバートーン共振器として構成されるように、前記ケイ素層の厚みは前記共振器の波長λ/2、λ、3λ/2、または2λのうちの1つを備える、請求項1に記載の共振器。
- 前記上面電極は、前記上面電極がその上に配設される空洞領域の突出部の80%以下である表面積を備える、請求項1に記載の共振器。
- 前記共振器の幅方向における前記上面電極と前記空洞の一端縁との間の距離は、上面電極から10~100μmの間である、請求項12に記載の共振器。
- 前記共振器が差動発振器として構成されるように、前記上面電極は複数のセグメント化された上面電極を備え、前記下面電極は接地され、前記複数のセグメント化された上面電極のうちの少なくとも2つが互いに位相が180度ずれて振動する前記差動発振器の隣接領域を構成する、請求項1に記載の共振器。
- 厚み方向に振動するように構成された共振器であって、前記共振器は、空洞がその主面に延在する基板と、前記基板の前記主面の上方に配設された圧電共振子であって、下面および上面電極とその間に配設された圧電層とを含む圧電共振子と、前記基板の前記空洞を覆うために前記基板と前記圧電共振子との間に配設された正温度係数共振子であって、前記正温度係数共振子が正の温度係数を有するように前記正温度係数共振子を構成するために、不純物が添加されたケイ素層を少なくとも含む正温度係数共振子とを備え、前記空洞は前記空洞の前記主面に平行な方向に延在する第1の幅を備え、前記上面電極は前記空洞の前記主面に平行な前記方向に延在する第2の幅を備え、前記第2の幅は前記第1の幅より小さい、共振器。
- 前記圧電共振子は負の温度係数を備え、前記共振器が前記厚み方向に振動するゼロ温度係数オーバートーン共振器として構成されるように、前記正温度係数共振子を前記圧電共振子と平衡させるために、燐が前記ケイ素層に添加されている、請求項15に記載の共振器。
- 前記圧電共振子は、前記共振器の半波長λ/2にほぼ相当する厚みを備え、前記正温度係数共振子は、前記共振器の前記半波長λ/2の倍数にほぼ相当する厚みを備える、請求項16に記載の共振器。
- 前記共振器が厚みモードオーバートーン共振器として構成されるように、前記ケイ素層の厚みは、前記共振器の波長λ/2、λ、3λ/2、または2λのうちの1つを備える、請求項17に記載の共振器。
- 少なくとも前記ケイ素層と前記圧電共振子との間に、または前記下面および上面電極層の間に、少なくとも1つの二酸化ケイ素層が配設されている、請求項15に記載の共振器。
- 複数のエッチトレンチが前記基板の前記空洞まで延在するように、前記圧電共振子の前記下面電極と前記圧電層とを貫通して、更には前記正温度係数共振子を貫通して、延在する複数のエッチトレンチを更に備える、請求項15に記載の共振器。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US16/546,606 US10958235B2 (en) | 2019-08-21 | 2019-08-21 | Thickness mode resonator |
US16/546,606 | 2019-08-21 | ||
PCT/US2020/034615 WO2021034365A1 (en) | 2019-08-21 | 2020-05-27 | Thickness mode resonator |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2022542478A true JP2022542478A (ja) | 2022-10-03 |
Family
ID=74646489
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2022506643A Pending JP2022542478A (ja) | 2019-08-21 | 2020-05-27 | 厚みモード共振器 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US10958235B2 (ja) |
JP (1) | JP2022542478A (ja) |
DE (1) | DE112020003233T5 (ja) |
WO (1) | WO2021034365A1 (ja) |
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- 2019-08-21 US US16/546,606 patent/US10958235B2/en active Active
-
2020
- 2020-05-27 JP JP2022506643A patent/JP2022542478A/ja active Pending
- 2020-05-27 DE DE112020003233.7T patent/DE112020003233T5/de active Pending
- 2020-05-27 WO PCT/US2020/034615 patent/WO2021034365A1/en active Application Filing
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