JP2022529963A - Ｃｐａｐシステム - Google Patents

Abstract

呼吸可能なガスの流れの加湿のための装置は、水リザーバと、該水リザーバを作動位置において受容するような構造および配置にされたキャビティを形成する水リザーバドックとを含む。水リザーバは、所定量の水を保持するような構造にされたキャビティを含むリザーバベースを含み、該リザーバベースは、本体と、該本体に設けられた熱伝導性部位とを含む。熱伝導性部位は、金属プレートおよび薄膜を含む複合型の積層配置構成を含み、該薄膜は、非金属材料を含み、該壁部厚さは約１ｍｍ未満である。薄膜は、所定量の水にさらされる水リザーバの底部内面を形成するように適合され、金属プレートは、水リザーバの底部外面を形成するように適合される。

Description

本特許文書の開示の一部は、著作権保護が与えられる内容を含む。著作権所有者は、何者かが本特許文書または本特許開示をファックスにより再生しても、特許庁の特許ファイルまたは記録に記載されるものであれば目的のものであれば異論は無いが、その他の目的については全ての著作権を保持する。

１ 関連出願の相互参照
本出願は、２０１９年４月１７日に出願された米国仮出願第６２／８３５，０９４号および２０１９年９月９日に出願された米国仮出願第６２／８９７，５５８号の恩恵を主張する。本明細書中、同文献それぞれの全体を参考のため援用する。

２ 技術の背景
２．１ 技術の分野
本技術は、呼吸関連疾患のスクリーニング、診断、監視、治療、予防および改善のうち１つ以上に関する。本技術はまた、医療デバイスまたは装置と、その使用とに関する。

２．２ 関連技術の説明
２．２．１ ヒトの呼吸器系およびその疾患
身体の呼吸器系は、ガス交換を促進させる。鼻および口は、患者の気道への入口を形成する。

これらの気道は、一連の分岐する管を含み、これらの管は、肺の奥深くに進むほど狭く、短くかつ多数になる。肺の主要な機能はガス交換であり、空気から酸素を静脈血中へ取り入れさせ、二酸化炭素を退出させる。気管は、右および左の主気管支に分かれ、これらの主気管支はさらに分かれて、最終的に終末細気管支となる。気管支は、伝導のための気道を構成するものであり、ガス交換には関与しない。気道がさらに分割されると呼吸細気管支となり、最終的には肺胞となる。肺の肺胞領域においてガス交換が行われ、この領域を呼吸領域と呼ぶ。以下を参照されたい：「Ｒｅｓｐｉｒａｔｏｒｙ Ｐｈｙｓｉｏｌｏｇｙ」， ｂｙ Ｊｏｈｎ Ｂ． Ｗｅｓｔ， Ｌｉｐｐｉｎｃｏｔｔ Ｗｉｌｌｉａｍｓ ＆ Ｗｉｌｋｉｎｓ， ９ｔｈ ｅｄｉｔｉｏｎ ｐｕｂｌｉｓｈｅｄ ２０１２。

一定範囲の呼吸器疾患が存在している。特定の疾患は、特定の発症（例えば、無呼吸、呼吸低下および過呼吸）によって特徴付けられ得る。

呼吸器疾患の例には、閉塞性睡眠時無呼吸（ＯＳＡ）、チェーン・ストークス呼吸（ＣＳＲ）、呼吸不全、肥満過換気症候群（ＯＨＳ）、慢性閉塞性肺疾患（ＣＯＰＤ）、神経筋疾患（ＮＭＤ）および胸壁疾患が含まれる。

閉塞性睡眠時無呼吸（ＯＳＡ）は、睡眠呼吸障害（ＳＤＢ）の１つの形態であり、睡眠時の上通気道の閉鎖または閉塞などの発症によって特徴付けられる。これは異常に小さい上気道と、舌の領域の筋緊張の通常の喪失、睡眠時の軟口蓋および後口咽頭壁の正常損失の組み合わせの結果である。このような状態に起因して、罹患患者の呼吸停止が典型的には３０～１２０秒にわたり、ときには一晩に２００～３００回も呼吸が停止する。その結果、日中の眠気が過度になり、心血管疾患および脳損傷の原因になり得る。この症候は一般的な疾患であり、特に中年の過体重の男性に多いが、患者に自覚症状は無い。特許文献１（米国特許第４，９４４，３１０号：Ｓｕｌｌｉｖａｎ）を参照されたい。

チェーン・ストークス呼吸（ＣＳＲ）は、別の形態の睡眠呼吸障害である。ＣＳＲは、患者の呼吸調節器の疾患であり、ＣＳＲサイクルとして知られる換気の漸増および漸減が交互に周期的に続く。ＣＳＲは、動脈血の脱酸素および再曝気の繰り返しによって特徴付けられる。反復低酸素症のため、ＣＳＲは有害であり得る。患者によっては、ＣＳＲは、重症不眠、交感神経活動の増加、および後負荷の増加の原因となる、反復性睡眠覚醒を随伴する。特許文献２（米国特許第６，５３２，９５９号：Ｂｅｒｔｈｏｎ－Ｊｏｎｅｓ）を参照されたい。

呼吸不全とは、呼吸器障害の総称であり、患者の需要を満たすための充分な酸素吸気または充分なＣＯ２呼気を肺が行うことができていないことを指す。呼吸不全は、以下の疾患のうちいくつかまたは全てを包含し得る。

呼吸不全（一種の呼吸不全）の患者は、運動時に異常な息切れを経験することがある。

肥満過換気症候群（ＯＨＳ）は、低換気の原因が他に明確に無い状態における、重症肥満および覚醒時慢性高炭酸ガス血症の組み合わせとして定義される。症状には、呼吸困難、起床時の頭痛と過剰な日中の眠気が含まれる。

慢性閉塞性肺疾患（ＣＯＰＤ）は、特定の共通する特性を有する下気道疾患のグループのうちのいずれも包含する。これには空気の動きに対する抵抗の増加、呼吸の呼気相の延長および肺における正常な弾性の減少が含まれる。ＣＯＰＤの例として、気腫および慢性気管支炎がある。ＣＯＰＤの原因としては、慢性喫煙（第一危険因子）、職業被ばく、空気汚染および遺伝因子がある。症状を挙げると、労作時の呼吸困難、慢性咳および痰生成がある。

神経筋疾患（ＮＭＤ）は、内在筋病理を直接介してまたは神経病理を間接的に介して筋肉機能を損なう多数の疾病および病気を包含する広範な用語である。ＮＭＤ患者の中には、進行性の筋肉障害によって特徴付けられる者もあり、結果的に歩行不可能、車椅子への束縛、嚥下困難、呼吸筋力低下に繋がり、最終的には呼吸不全による死亡に繋がる。神経筋肉障害は、以下の急速進行性と緩徐進行性とに区分され得る：（ｉ）急速進行性障害：数ヶ月かけて悪化する筋肉障害によって特徴付けられ、数年内に死亡に繋がる（例えば、ティーンエージャーにおける筋萎縮性側索硬化症（ＡＬＳ）およびデュシェンヌ筋ジストロフィー（ＤＭＤ））；（ｉｉ）可変性または緩徐進行性障害：数年かけて悪化する筋肉障害によって特徴付けられ、平均余命が若干低減するだけである（例えば、肢帯、顔面肩甲上腕型および筋強直性筋ジストロフィー）。ＮＭＤにおける呼吸不全症状を以下に挙げる：全身衰弱の増加、嚥下障害、労作および安静時の呼吸困難、疲労、眠気、起床時の頭痛、および集中および気分の変化の困難。

胸壁障害は、胸郭変形の１つのグループであり、呼吸筋肉と胸郭との間の連結の無効性の原因となる。これらの障害は、拘束性障害によって主に特徴付けられ、長期の炭酸過剰性呼吸不全の可能性を共有する。脊柱側弯症および／または脊柱後側弯症は、重篤な呼吸不全を発症することがある。呼吸不全の症状を以下に挙げる：労作時の呼吸困難、末梢浮腫、起座呼吸、反復性胸部感染症、起床時の頭痛、疲労、睡眠の質の低下、および食欲不振。

このような状態を治療または改善するために、一定範囲の治療が用いられている。さらに、その他の点では健常人も、呼吸器疾患の予防治療を有利に利用することができる。しかし、これらにおいては、複数の欠陥がある。

２．２．２ 治療法

多様な療法（例えば、持続的気道陽圧（ＣＰＡＰ）治療法、非侵襲的換気（ＮＩＶ）および侵襲的換気（ＩＶ））が上記の呼吸器疾患の１つ以上の治療のために用いられている。

持続的気道陽圧（ＣＰＡＰ）療法が、閉塞性睡眠時無呼吸（ＯＳＡ）の治療において用いられている。その作用機構としては、例えば軟口蓋および舌を押して後口咽頭壁へ前進または後退させることにより、持続陽圧呼吸療法が空気スプリントとして機能し、これにより上気道の閉鎖を防止し得る。ＣＰＡＰ治療によるＯＳＡの治療は自発的なものであり得るため、このような患者が治療の提供に用いられるデバイスについて以下のうち１つ以上に気づいた場合、患者が治療を遵守しないことを選択する可能性がある：不快、使用困難、高価、美観的な魅力の無さ。

非侵襲的換気（ＮＩＶ）は、換気補助を上気道を通じて患者へ提供して、呼吸機能の一部または全体を行うことにより患者の呼吸の補助および／または身体中の適切な酸素レベルの維持を提供する。換気補助が、非侵襲的患者インターフェースを介して提供される。ＮＩＶは、ＯＨＳ、ＣＯＰＤ、ＮＭＤ、および胸壁障害などの形態のＣＳＲおよび呼吸不全の治療に用いられている。いくつかの形態において、これらの治療の快適性および有効性が向上し得る。

侵襲的換気（ＩＶ）は、自身で有効に呼吸することができなくなった患者に対して換気補助を提供し、気管切開管を用いて提供され得る。いくつかの形態において、これらの治療の快適性および有効性が向上し得る。

２．２．３ 治療システム
これらの治療は、治療システムまたはデバイスによって提供され得る。このようなシステムおよびデバイスは、疾患を治療することなくスクリーニング、診断、または監視するためにも、用いられ得る。

治療システムは、呼吸圧力治療デバイス（ＲＰＴデバイス）、空気回路、加湿器、患者インターフェース、およびデータ管理を含み得る。

別の形態の治療システムとして、下顎再位置決めデバイスがある。

２．２．３．１ 患者インターフェース
患者インターフェースは、例えば気道入口への空気流れを提供することにより呼吸装具へのインターフェースを装着者へ提供するために、用いられ得る。空気流れは、鼻および／または口へのマスク、口への管、または患者気管への気管切開管を介して提供され得る。適用される療法に応じて、患者インターフェースは、例えば患者の顔の領域とのシールを形成し得、これにより、療法実行のための雰囲気圧力と共に充分な分散の圧力において（例えば、例えば雰囲気圧力に対して約１０ｃｍＨ_２Ｏの陽圧において）ガス送達を促進する。酸素送達などの他の治療形態において、患者インターフェースは、約１０ｃｍＨ_２Ｏの陽圧において気道へのガス供給の送達を促進するのに充分な密閉を含まない場合がある。

特定の他のマスクシステムは、本分野において機能的に不適切であり得る。例えば、純然たる装飾目的のマスクの場合、適切な圧力を維持することができない場合がある。水中水泳またはダイビングに用いられるマスクシステムは、外部からのより高い圧力からの水侵入から保護することと、周囲よりも高い圧力において内部の空気を維持しないこととを行うように、構成され得る。

特定のマスクは、本技術において臨床的に好ましく無い場合があり得る（例えば、マスクが鼻を介して気流を遮断し、口を介した気流のみを通過させる場合）。

特定のマスクにおいて、患者がマスク構造の一部を口に挿入し、唇を介して密閉状態を生成および維持しなければならない場合、本技術において不快であるかまたは非実際的である場合がある。

特定のマスクは、睡眠時（例えば、横向きにベッドに寝て枕の上に頭を置いた状態で睡眠する場合）における使用においては非実際的である場合がある。

患者インターフェースの設計においては、複数の課題がある。顔は、複雑な三次元形状を有する。鼻および頭のサイズおよび形状は、個人によって大きく異なる。頭部には骨、軟骨および軟組織が含まれるため、顔の異なる領域は、機械的力に対して異なる反応を示す。すなわち、顎部または下顎は、頭蓋骨の他の骨に相対して動き得る。頭部全体は、呼吸治療期間を通じて動き得る。

これらの課題に起因して、いくつかのマスクの場合、特に装着時間が長い場合または患者がシステムに不慣れである場合、押しつけがましい、美観的に望ましくない、コストが高い、フィット感が悪い、使用が困難、および不快感があるなどの理由のうち１つ以上がある。誤ったサイズのマスクが用いられた場合、コンプライアンスの低下、快適性の低下および患者予後の低下に繋がり得る。飛行士専用のマスク、個人用保護装具（例えば、フィルターマスク）、ＳＣＵＢＡマスクの一部として設計されたマスク、または麻酔投与用マスクは、その元々の用途には耐えられるものの、このようなマスクの場合、長時間（例えば、数時間）にわたって装着するには望ましくないほど不快な場合がある。このような不快感に起因して、治療に対する患者のコンプライアンスが低下する可能性がある。これは、マスクを睡眠時に装着する必要がある場合、特に当てはまる。

ＣＰＡＰ治療は、患者が治療を承諾している場合、特定の呼吸器疾患の治療においては極めて効果的である。マスクが不快である場合または使用が難しい場合、患者は、治療を承諾しない場合がある。患者はマスクを定期的に洗浄するよう推奨されることが多いため、マスクの清浄が難しい（例えば、組立または分解が困難である場合）、患者は、マスクを清浄することができず、患者のコンプライアンスに影響が出る場合がある。

他の用途（例えば、飛行士）用のマスクの場合、睡眠呼吸障害の治療の使用には不適である場合があるため、睡眠呼吸障害の治療の使用のために設計されたマスクは、他の用途に適している場合がある。

これらの理由のめ、睡眠時のＣＰＡＰ送達のための患者インターフェースは、明瞭な分野を形成する。

２．２．３．２ 呼吸圧力治療（ＲＰＴ）デバイス
呼吸圧力治療（ＲＰＴ）デバイスは、例えばデバイスを作動させて気道へのインターフェースへの空気送達流れを生成することにより、上記した複数の治療のうち１つ以上の送達に個別的に、またはシステムの一部として用いられ得る。この空気流れは、加圧され得る。ＲＰＴデバイスの例を挙げると、ＣＰＡＰデバイスおよび人工呼吸器がある。

空気圧生成器は、広範な用途（例えば、工業規模通気システム）において公知である。しかし、医療用途のための空気圧生成器は、より一般的な空気圧生成器（例えば、医療機器の信頼性要件、サイズ要件および重量要件）では満足できない特定の要件を有する。加えて、医療治療向けに設計されたデバイスであっても、以下のうち１つ以上に関連して欠陥を免れない場合がある：快適性、ノイズ、使いやすさ、有効性、サイズ、重量、製造可能性、コストおよび信頼性。

特定のＲＰＴデバイスの特殊な要件の一例として、音響ノイズがある。

従来のＲＰＴデバイスのノイズ出力レベルの表（試料１個のみをＩＳＯ３７４４に指定の試験方法を用いてＣＰＡＰモードにおいて１０ｃｍＨ_２Ｏにて測定）。

睡眠呼吸障害の治療に用いられる１つの公知のＲＰＴデバイスとして、Ｓ９睡眠治療システム（製造元：ＲｅｓＭｅｄ Ｌｉｍｉｔｅｄ）がある。ＲＰＴデバイスの別の実施例として、人工呼吸器がある。人工呼吸器（例えば、成人および小児用人工呼吸器のＲｅｓＭｅｄ Ｓｔｅｌｌａｒ（登録商標）シリーズ）の場合、複数の状態（例を非限定的に挙げると、ＮＭＤ、ＯＨＳおよびＣＯＰＤ）の治療のための一定範囲のための患者のための侵襲的および非侵襲的な非依存的呼吸のための補助を提供し得る。

ＲｅｓＭｅｄ Ｅｌｉｓアクサンテギュｅｅ（登録商標）１５０人工呼吸器およびＲｅｓＭｅｄＶＳＩＩＩ（登録商標）人工呼吸器は、複数の状態の治療のための成人患者または小児用患者に適した侵襲的および非侵襲的な依存的呼吸の補助を提供し得る。これらの人工呼吸器により、単一または二重の肢回路を用いた容積通気モードおよび気圧通気モードが得られる。ＲＰＴデバイスは典型的には、圧力生成器（例えば、電動送風機または圧縮ガスリザーバ）を含み、患者の気道へ空気流れを供給するように構成される。場合によっては、空気流れは、患者の気道へ陽圧で供給され得る。ＲＰＴデバイスの出口は、空気回路を介して上記したような患者インターフェースへ接続される。

デバイスの設計者には、無数の選択肢が提示され得る。設計基準同士が対立することが多くあるため、特定の設計選択肢が慣例からほど遠くなるかあるいは避けられないことがある。さらに、特定の態様の快適性および有効性は、１つ以上のパラメータの些細な変更から大きく影響を受ける可能性もある。

２．２．３．３ 加湿器
空気流れの送達を加湿無しで行った場合、気道の乾燥に繋がり得る。加湿器をＲＰＴデバイスおよび患者インターフェースと共に用いた場合、加湿ガスが生成されるため、鼻粘膜の乾燥が最小化され、患者気道の快適性が増加する。加えて、より冷涼な気候においては、概して患者インターフェースの周囲の顔領域へ温風を付加すると、冷風の場合よりも快適性が高まる。

一定範囲の人工的加湿機器およびシステムが公知であるが、医療加湿器の特殊な要件を満たせていない。

医療加湿器は、典型的には患者が（例えば病院において）睡眠時または安静時にあるときに、必要な場合に周囲空気に相対して空気流れの湿度および／または温度を増加させるように、用いられる。枕元に置かれる医療加湿器は、小型である場合がある。医療加湿器は、患者へ送達される空気流れの加湿および／または加熱のみを行うように構成され得、患者の周囲の加湿および／または加熱は行わない。例えば、部屋ベースのシステム（例えば、サウナ、エアコン、または蒸発冷却器）は、呼吸により患者体内に取り込まれる空気も加湿し得るものの、これらのシステムの場合、部屋全体も加湿および／または加熱するため、占有者にとって不快になり得る。さらに、医療加湿器の場合、工業用加湿器よりも安全面での制約がより厳しい場合もある。

多数の医療加湿器が公知であるものの、このような医療加湿器の場合、１つ以上の欠陥を被り得る。すなわち、このような医療加湿器の場合、加湿が不適切なものもあれば、患者にとって使用が困難または不便であるものもある。

２．２．３．４ データ管理
臨床的理由により、呼吸治療が処方された患者が「コンプライアンスを遵守している」（例えば、患者が自身のＲＰＴデバイスを１つ以上の「コンプライアンスルール」に則っているか）を決定するためのデータを入手する場合がある。ＣＰＡＰ治療についてのコンプライアンスルールの一例として、患者がコンプライアンスを遵守しているとみなすためには、患者が連続３０日間のうち少なくとも２１日間にわたってＲＰＴデバイスを一晩あたり少なくとも４時間にわたって使用する必要がある。患者のコンプライアンスを決定するためには、ＲＰＴデバイスのプロバイダ（例えば、ヘルスケアプロバイダ）は、ＲＰＴデバイスを用いた患者の治療を記述するデータを手作業で入手し、所定期間にわたる使用率を計算し、これをコンプライアンスルールと比較し得る。ヘルスケアプロバイダが患者が自身のＲＰＴデバイスをコンプライアンスルールに則って使用したと決定すると、当該ヘルスケアプロバイダは、患者がコンプライアンスを遵守している旨を第三者に通知し得る。

患者の治療において、治療データの第三者または外部システムへの通信から恩恵を受ける他の態様があり得る。

このようなデータを通信および管理するための既存のプロセスの場合、高コスト、時間がかかること、エラーの発生し易さのうち１つ以上が発生し得る。

米国特許第４，９４４，３１０号明細書 米国特許第６，５３２，９５９号明細書

３ 技術の簡単な説明
本技術は、呼吸器疾患のスクリーニング、診断、モニタリング、改善、治療または予防において用いられる医療機器の提供に関連し、これらの医療機器は、向上した快適性、コスト、有効性、使い易さおよび製造可能性のうち１つ以上を有する。

本技術の第１の態様は、呼吸器疾患のスクリーニング、診断、監視、改善、治療または予防に用いられる装置に関連する。

本技術の別の態様は、呼吸障害のスクリーニング、診断、監視、改善、治療または予防において用いられる方法に関連する。

本技術の特定の形態の一態様は、呼吸治療についての患者のコンプライアンスを向上させる方法および／または装置を提供することである。

本技術の一形態の一態様は、装置の製造方法である。

本技術の特定の形態の一態様は、例えば医療トレーニングを受けたことの無い人、あまり器用ではない人や洞察力の欠いた人、またはこの種の医療デバイスの使用経験が限られた人にとって使い易い医療デバイスである。

本技術の一形態の一態様は、人間が（例えば、自宅周囲において）持ち運び可能な、携帯用ＲＰＴデバイスである。

本技術の一形態の一態様は、患者の家庭において例えば石けん水などによって洗浄することが可能な患者インターフェースであり、特殊な清浄器具は不要である。本技術の一形態の一態様は、患者の家庭において例えば石けん水などによって洗浄することが可能な患者インターフェースであり、特殊な清浄器具は不要である。

本技術の一形態の態様は、呼吸治療装置に関連する。この呼吸治療装置は、陽圧における空気流れの源と、使用時において源に対して相対的に所定位置に固定されるように構築および配置されたシャーシまたはハウジングと、使用時において源から空気流れを陽圧において密閉的に受容するように源へ接続のための構造にされた入口空気圧接続と、使用時において水体を保持するコンテナとを含む。コンテナは、空気流れを方向付けるように構成されるため、使用時において水蒸気が水体から空気流れへ移動し得、よって空気流れの絶対湿度が増加し、コンテナは、熱伝導度が比較的高い材料と、加熱要素と、温度センサと、加熱要素を制御するコントローラと、絶対湿度が増加した空気流れを受容する出口空気圧接続構造とから少なくとも部分的に構築された壁部を含む。シャーシまたはハウジングは、コンテナを加熱要素に近接して所定位置に保持するように構成されるため、熱エネルギーが加熱要素から水体へ移動し得、空気流れの絶対湿度が増加する。コントローラは、加熱要素へのエネルギー付与により水の加熱を水の沸騰無しに行うように、構築および配置される。呼吸治療装置は、使用時に、出口空気圧接続構造で受け取られる絶対湿度が増加した空気の流れが、周囲に対して陽圧を有するようなシーリング配置構成を含む。

本技術の別の態様は、加湿器、患者インターフェース、および加湿された空気を患者インターフェースに送達するための空気送達チューブを含むＣＰＡＰシステムに関する。一例において、加湿器は、陽圧の空気流れを生成するような構造にされたＲＰＴデバイスと統合されている。

本技術の別の態様は、加湿器に関連する。この加湿器は、ある量の水を保持するような構造にされたキャビティを含む水リザーバと、水リザーバを作動位置において受容するような構造および配置にされた水リザーバドックとを含む。

本技術の別の態様は、呼吸可能なガスの流れを加湿する装置に関する。装置は、水リザーバと、水リザーバを作動位置において受容するような構造および配置にされたキャビティを形成する水リザーバドックとを含む。水リザーバは、ある量の水を保持するような構造にされたキャビティを含むリザーバベースを含む。リザーバベースは、本体と、本体に設けられた熱伝導性部位とを含む。熱伝導性部位は、金属プレートと薄膜とを含む複合層状配置を含む。薄膜は、非金属材料を含み、かつ約１ｍｍ未満の壁厚さを含む。薄膜は、ある量の水にさらされる水リザーバの底部内面を形成するように適合され、金属プレートは、水リザーバの底部外面を形成するように適合される。水リザーバドックにおいては、水リザーバの金属プレートと作動位置において熱接触することによりヒータープレートから水量への熱伝導を可能にするように適合されたヒータープレートを含む。

本技術の別の態様は、呼吸可能なガスの流れを加湿する装置に関する。本装置は、ある量の水を保持するような構造にされたキャビティを含む水リザーバと、水リザーバを作動位置において受容するような構造および配置にされた水リザーバドックと、水リザーバを作動位置の内外へガイドするような構造および配置にされたガイド配置構成とを含む。水リザーバは伝導性部位を含み、水リザーバドックは加熱アセンブリを含み、加熱アセンブリは、水リザーバの伝導性部位と作動位置において熱係合することにより、加熱アセンブリから水量への熱伝導を可能にするように適合される。ガイド配置構成は、前後方向および下上方向双方に延びる経路を含む。

本技術の別の態様は、呼吸可能なガスの流れを加湿する装置に関する。該装置は、ある量の水を保持するように構成されたキャビティを含む水リザーバ、作動位置において水リザーバを受容するような構造および配置にされたリザーバドック、および水リザーバで加湿された呼吸可能なガス流れを患者インターフェースに通過させるように構成された空気送達管を含む。空気送達管は、水リザーバと直接的空気圧シールを形成するような構造および配置にされる。

本技術の別の態様は、呼吸可能なガスの流れを受容する入口を提供する入口管と、呼吸可能なガスの加湿流れの送達のために出口を提供する出口管とを含む水リザーバに関連する。入口管は入口シールを含み、出口管は出口シールを含む。

本技術の別の態様は、呼吸可能なガスの流れを加湿する装置のための水リザーバに関する。水リザーバは、呼吸可能なガスの流れを水リザーバ中に受容するための入口を提供するように配置された入口管と、加湿された呼吸可能なガスの流れを水リザーバから送達させるための出口を提供するように配置された出口管とを含む。入口管および出口管のうち少なくとも１つにより、少なくともその流れに沿った１点においてパラメータが変更される。例えば、入口管および出口管のうち少なくとも１つにより、少なくともその流れに沿った１点において方向および／または断面積が変化し得る。より詳細な例において、入口管、出口管または双方は、自身の流れに沿って曲線状にされ得かつ／または自身の流れに沿って断面を変化させ得る。この変化は、急激（段階的）であってもよいし、あるいは漸進的であってもよい。

本技術の別の態様は、加熱アセンブリと熱係合するように適合された伝導性部位を含む水リザーバに関連する。伝導性部位は、第１の面において延びる第１の部位と、第１の面から上方向にオフセットされた第２の平面において延びる第２の部位とを含む。

本技術の別の態様は、呼吸可能なガスの流れを加湿する装置に関する。本装置は、水リザーバと、水リザーバを受容するような構造および配置にされた水リザーバドックと、空気送達管とを含む。水リザーバドックの水リザーバに対する挿入／除去は、空気送達管の水リザーバドックに対する係合／係合解除から独立している。

本技術の別の態様は、水リザーバドックのための加熱アセンブリに関連する。この加熱アセンブリは、ヒータープレートと、加熱要素と、（例えば加熱要素からヒータープレートへの熱伝導度の向上のために）ヒータープレートと加熱要素との間に配置された熱パッドとを含む。

本技術の別の態様は、呼吸可能なガスの流れを加湿する装置に関する。本装置は、ある量の水を保持するような構造にされたキャビティを含む水リザーバを含む。水リザーバは、伝導性部位と、水リザーバを作動位置において受容するような構造および配置にされた水リザーバドックとを含む。水リザーバドックは、水リザーバの伝導性部位と作動位置において熱係合することにより、加熱アセンブリから水量への熱伝導を可能にするように適合された加熱アセンブリを含む。加熱アセンブリは、水リザーバの伝導性部位と熱接触するヒータープレートと、加熱要素と、ヒータープレートと加熱要素との間に配置された熱パッドとを含む。熱パッドは、曲げやすい材料を含む。この曲げやすい材料は、ヒータープレートおよび加熱要素双方と係合して、ヒータープレートと加熱要素との間のエアギャップおよび空間を除去して熱伝導度を向上させるような構造および配置にされる。

本技術の別の態様は、加熱アセンブリと熱係合するように適合された伝導性部位を含む水リザーバに関連する。伝導性部位は、金属プレート、肉薄の非金属フィルム、または金属プレートおよび肉薄の非金属フィルムの複合型の積層配置構成のうち１つを含む。例において、伝導性部位は、円形形状または非円形形状を含み得る。

本技術の別の態様は、空気送達管の種類を回路コンポーネントの特性に基づいて識別するために、１つ以上の回路コンポーネントを空気送達管内に設けることに関連する。

本技術の別の態様は、呼吸可能なガスの流れを加湿する装置に関する。該装置は、ある量の水を保持するように構成されたキャビティを含む水リザーバ、作動位置において水リザーバを受容するような構造および配置にされたリザーバドック、および水リザーバで加湿された呼吸可能なガス流れを患者インターフェースに通過させるように構成された空気送達管を含む。この空気送達管は、接触アセンブリを含むドックコネクタを含む。接触アセンブリは、電気接点を含む。これらの電気接点は、装置の作動構成において、水リザーバドックに設けられた各電気接点と係合するように適合される。接触アセンブリは、空気送達管または患者インターフェースの１つ以上のパラメータの識別子として用いられる電気特性を含む。

本技術の別の態様は、空気送達管中の受動回路コンポーネントの測定された特性に基づいて呼吸可能なガスの流れを加湿する装置へ接続された空気送達管の種類を識別するように構成された処理回路機構に関連する。

本技術の別の態様は、空気送達管中の回路機構の測定された特性に基づいて呼吸可能なガスの流れを加湿する装置へ接続された空気送達管の種類を識別するように構成された処理回路機構に関連する。回路機構の特性は、空気送達管中の１つ以上の加熱要素の抵抗値および／または空気送達管中の１つ以上のセンサの抵抗値を含む。

本技術の別の態様は、第１の抵抗器の抵抗値および空気送達管中に設けられた第２の抵抗器の抵抗値に基づいて呼吸可能なガスの流れを加湿する装置へ接続された空気送達管の種類を識別するように構成された処理回路機構に関連する。第１の抵抗器は、空気送達管中の第１の一対の接点へ接続され、第２の抵抗器は、空気送達管中の第２の一対の接点へ接続される。

本技術の別の態様は、空気送達管中の温度変化の感知のために空気送達管内に少なくとも部分的に配置されたセンサ回路へ接続された１つ以上のフィルタを設けることに関連する。

本技術の別の態様は、空気送達管中の温度変化の感知のために空気送達管内に少なくとも部分的に配置されたセンサ回路へ接続されたローパスフィルタを設けることに関連する。これらのフィルタは、空気送達管中の１つ以上の加熱要素へ付加されるＰＷＭ信号のパルス周波数をフィルタリングするように構成され得る。

本技術の別の態様は、空気送達管中の温度変化の感知のために空気送達管内に少なくとも部分的に配置されたセンサ回路へ接続された１つ以上のローパスフィルタを設けることに関連する。感知信号は、センサ回路へ定期的に付加される。

本技術の別の態様は、空気送達管中に設けられたセンサの一端へ接続された第１のローパスフィルタと、センサの第２の端部へ接続された第２のローパスフィルタとを設けることに関連する。空気送達管中の温度変化の感知のために、感知信号が所定の間隔でセンサへ付加される。

本技術の別の態様は、空気送達管内に配置されたセンサの動作パラメータの検出のための分割器ネットワークの第１の出力へ接続された第１のローパスフィルタと、分割器ネットワークの第２の出力へ接続された第２のローパスフィルタとを設けることに関連する。

本技術の別の態様は、加湿および加圧された呼吸可能なガスの供給を患者インターフェースへ提供する装置に関連する。本装置は、呼吸可能なガスの供給を加圧するように構成された流れ生成器と、加圧された呼吸可能なガスの供給の加湿のために水蒸気を提供するように構成された加湿器と、加湿された呼吸可能なガスの供給を加熱および患者インターフェースへ送達させるために加湿器へ接続可能となるように構成された加熱管と、加熱管中の加湿された呼吸可能なガスの供給の性質を測定するように構成されたセンサと、加熱管へ提供される電力の制御および流れ生成器の動作の制御を行うように構成されたコントローラと、センサとコントローラとの間に接続された１組のローパスフィルタおよび／またはセンサと接地との間に接続された１組のローパスフィルタとを含む。

本技術の別の態様は、ある量の水を保持するように構成されたキャビティを含む水リザーバ、作動位置において水リザーバを受容するような構造および配置にされたリザーバドック、水リザーバで加湿された呼吸可能なガス流れを患者インターフェースに通過させるように構成された空気送達管、およびリザーバドックに取り外し可能にかつ回転不可能に結合された中間コンポーネントを含む呼吸可能なガスの流れを加湿する装置に関する。中間コンポーネントは、水リザーバを空気送達管へ空気圧接続させるように構成される。中間コンポーネントは、比較的剛性の材料のワンピース構造であり、水リザーバとインターフェースをとるように適合された入口端と、空気送達管とインターフェースをとるように適合された出口端とを含む。空気送達管は、ドックコネクタを含む。ドックコネクタは、水リザーバドックとバヨネット型接続を形成するような構造および配置にされて、空気送達管を水リザーバドックへ機械的かつ電気的に接続させる。

本技術の別の態様は、呼吸可能なガスの流れの加湿のための水リザーバに関連する。水リザーバは、リザーバベースと、リザーバ蓋と、開口位置と閉鎖位置との間のヒンジ型移動のためにリザーバ蓋をリザーバベースへヒンジ接続させるヒンジ継手とを含む。ヒンジ継手は、一対のヒンジピンを含む。これらのヒンジピンはそれぞれ、一対のスロットそれぞれと係合してヒンジ型移動を提供するように構成される。一対のヒンジピンはそれぞれ、円の主要セグメントを示す断面を含む。

本技術の別の態様は、呼吸可能なガスの流れを加湿する装置に関する。本装置は、ある量の水を保持するような構造にされたキャビティを含む水リザーバと、水リザーバを作動位置において受容するような構造および配置にされた水リザーバドックと、水リザーバを水リザーバドックと共に作動位置にガイドするような構造および配置にされたガイド配置構成構造とを含む。水リザーバは、熱伝導性部位を含む。水リザーバドックは、水リザーバの熱伝導性部位と作動位置において熱係合することにより加熱アセンブリから水量への熱伝導を可能にするように適合された加熱アセンブリを含む。ガイド配置構成は、水リザーバの各側のガイドレールと、水リザーバドックの各側のガイドスロットとを含む。各ガイドレールは、各ガイドスロットと係合するように構成される。ガイド配置構成は、水リザーバの前縁に設けられた１つ以上の付勢縁部またはタブをさらに含む。水リザーバの前縁は、水リザーバが作動位置に到達した際、水リザーバドックに設けられた各当接縁部の下側と係合するように構成される。この係合により、水リザーバの前部の下方への付勢と、上方への移動のロック／回避とが双方とも得られる。

本技術の別の態様は、呼吸可能なガスの流れを加湿する装置に関する。装置は、ある量の水を保持するような構造にされたキャビティを含む水リザーバと、水リザーバを作動位置において受容するような構造および配置にされた水リザーバドックとを含む。水リザーバは、熱伝導性部位を含み、水リザーバドックは、水リザーバの熱伝導性部位と作動位置において熱係合することにより加熱アセンブリから水量への熱伝導を可能にするように適合された加熱アセンブリを含む。加熱アセンブリは、ヒータープレートを含む。ヒータープレートは、水リザーバの熱伝導性部位と熱接触するベース表面と、ヒータープレートを水リザーバドック内に弾性懸下する弾性シーリングおよび／または支持部材とを含む。弾性シーリングおよび／または支持部材は、１つ以上の中空管を含む。１つ以上の中空管はそれぞれ、ヒータープレートのベース表面に対して概して垂直な軸を含む。

本技術の別の態様は、呼吸可能なガスの流れを加湿する装置に関する。該装置は、ある量の水を保持するように構成されたキャビティを含む水リザーバ、作動位置において水リザーバを受容するような構造および配置にされたリザーバドック、水リザーバで加湿された呼吸可能なガス流れを患者インターフェースに通過させるように構成された空気送達管、および水リザーバドックおよび空気送達管への取り外し可能かつ回転不可能な接続のための中間コンポーネントを含む。中間コンポーネントは、作動構成において空気送達管を水リザーバへ空気圧接続させるように構成される。

本技術の別の態様は、呼吸可能なガスの流れを加湿する水リザーバに関する。水リザーバは、ある量の水を保持するような構造にされたキャビティを含むリザーバベースを含む。リザーバベースは、本体と、本体に設けられた熱伝導性部位とを含む。熱伝導性部位は、薄膜を含み得る。薄膜は、非金属材料を含み、かつ約１ｍｍ未満の壁厚さを含む。本体は、プラスチック材料を含み、薄膜は、本体とインサート成形接続を形成する非最終形態を含む。薄膜は、本体中へインサート成形された後、（例えば、打抜加工、真空形成または熱真空形成により）最終形態で形成される。

記載される方法、システム、デバイスおよび装置により、プロセッサにおける機能（例えば、特定目的用コンピュータのプロセッサ、呼吸モニターおよび／または呼吸治療装置の機能）の向上が可能となるように具現され得る。さらに、記載の方法、システム、デバイスおよび装置により、呼吸状態（例えば、睡眠障害呼吸）の自動管理、監視および／または治療の技術分野における向上が可能になる。

もちろん、上記態様の一部は、本技術の下位態様を形成し得る。また、下位態様および／または態様のうち多様な１つを多様に組み合わせることができ、本技術のさらなる態様または下位態様も構成し得る。

本技術の他の特徴は、以下の詳細な説明、要約、図面および特許請求の範囲中に含まれる情報に鑑みれば明らかになる。

本技術を、添付図面中に非限定的に一実施例として例示する。図面中、類似の参照符号は、以下の類似の要素を含む：

４．１ 治療システム：患者インターフェース３０００を装着している患者１０００を含むシステムを示す。このシステムは、鼻枕の形態をとり、ＲＰＴデバイス４０００から供給される陽圧の空気を受容する。ＲＰＴデバイス４０００からの空気は、加湿器５０００によって加湿され、空気回路４１７０に沿って患者１０００へと移動する。同床者１１００も図示される。患者は、仰臥位睡眠位置において睡眠している。 患者インターフェース３０００を装着している患者１０００を含むシステムを示す。このシステムは、鼻マスクの形態をとり、ＲＰＴデバイス４０００から供給される陽圧の空気を受容する。ＲＰＴデバイスからの空気は、加湿器５０００によって加湿され、空気回路４１７０に沿って患者１０００へと移動する。 患者インターフェース３０００を装着している患者１０００を含むシステムを含む。患者インターフェース３０００は、フルフェイスマスクをとり、陽圧の空気供給をＲＰＴデバイス４０００から受容する。ＲＰＴデバイスからの空気は、加湿器５０００によって加湿され、空気回路４１７０に沿って患者１０００へと移動する。患者は、側臥位睡眠位置において睡眠している。４．２ 呼吸システムおよび顔の解剖学的構造 鼻腔および口腔、喉頭、声帯ひだ、食道、気管、気管支、肺、肺胞嚢、心臓および横隔膜を含むヒト呼吸器系の概要を示す。 鼻腔、鼻骨、外側鼻軟骨、大鼻翼軟骨、鼻穴、上唇、下唇、喉頭、硬口蓋、軟口蓋、口咽頭、舌、喉頭蓋、声帯ひだ、食道および気管を含むヒトの上気道の図である。４．３ 患者インターフェース 本技術の一形態による鼻マスクの形態の患者インターフェースを示す。 構造を１つの点において切断した模式的断面図である。この点における外向き法線が図示される。この点における曲率は、正の符号と、３Ｃに示す曲率の大きさと比較して比較的大きな大きさとを有する。 構造を１つの点において切断した模式的断面図である。この点における外向き法線が図示される。この点における曲率は、正の符号と、図３Ｂに示す曲率の大きさと比較して比較的小さな大きさとを有する。 構造を１つの点において切断した模式的断面図である。この点における外向き法線が図示される。この点における曲率の値はゼロである。 構造を１つの点において切断した模式的断面図である。この点における外向き法線が図示される。この点における曲率は、負の符号と、図３Ｆに示す曲率の大きさと比較して比較的小さな大きさとを有する。 構造を１つの点において切断した模式的断面図である。この点における外向き法線が図示される。この点における曲率は、負の符号と、図３Ｅに示す曲率の大きさと比較して比較的大きな大きさとを有する。 構造の表面を示し、この表面中には一次元穴が開いている。図示の平面曲線は、一次元穴の境界を形成する。 図３Ｇの構造を通じた断面図である。図示の表面は、図３Ｇの構造中の二次元穴を境界付ける。 二次元穴および一次元穴を含む図３Ｇの構造の斜視図である。また、図３Ｇの構造中の二次元穴を境界付ける表面が図示される。４．４ 呼吸波形 睡眠時のヒトの典型的な呼吸波形のモデルを示す。４．５ ＲＰＴデバイスおよび加湿器 本技術の一形態によるＲＰＴデバイス４０００の分解斜視図を示す。 本技術の一形態によるマフラーを有する出口キャップ４１２４を含むＲＰＴデバイス４０００の斜視図を示す。 技術の一形態による水リザーバ５１１０を含む一体型加湿器５０００を備えたＲＰＴデバイス４０００の斜視図を示す。 本技術の一形態によるＲＰＴデバイスの空気圧経路の模式図である。上流および下流の方向が、送風機および患者インターフェースに対して示される。任意の特定の瞬間における実際の流れ方向に関係無く、送風機は患者インターフェースの上流にあるものとして規定され、患者インターフェースは送風機の下流にあるものとして規定される。送風機と患者インターフェースとの間の空気圧経路内に配置されたアイテムは、送風機の下流および患者インターフェースの上流にある。 本技術の一態様に従ったＲＰＴデバイスの電気部品の概略図である。 本技術の１つの形態によるＲＰＴデバイス中において実行されるアルゴリズムの概略図である。 本技術の一形態による加湿器の模式図である。 本技術の一実施例による水リザーバを含む一体型ＲＰＴデバイスおよび加湿器の斜視図である。 図６Ａの一体化ＲＰＴデバイスおよび加湿器の斜視図であり、この図において、水リザーバは、リザーバドックから取り外されている。 本技術の一実施例による空気圧ブロックの斜視図である。 本技術の一実施例による図６Ａの一体型ＲＰＴデバイスおよび加湿器の側面図である。 図８Ａの一体型ＲＰＴデバイスおよび加湿器を図８Ａの線８Ｂ－８Ｂに沿った断面図である。 図８Ｂに断面図の正面図である。 図８Ａの一体型ＲＰＴデバイスおよび加湿器を図８Ａの線８Ｄ－８Ｄに沿った断面図である。 本技術の一例による、円形金属プレートを含む水リザーバの分解図である。 本技術の一実施例による矩形金属プレートを含む加湿器リザーバのリザーバベースの上面斜視図である。 図１０Ａのリザーバベースの下面斜視図である。 図１０Ａのリザーバベースの上面図である。 図１０Ａのリザーバベースの側面図である。 図１０Ａのリザーバベースの側面図である。 本技術の一例による、図１０Ｃの線１０Ｆ－１０Ｆに沿ってとられたリザーバベースの断面図である。 図１０Ｆのリザーバベースの一部の拡大図である。 本技術の一実施例による円形金属プレートを含む加湿器リザーバのリザーバベースの上面斜視図である。 本技術の一例による、図１１Ａの線１１Ｂ－１１Ｂに沿ってとられたリザーバベースの断面図である。 図１１Ｂのリザーバベースの一部の拡大図である。 本技術の一実施例によるより深く引き込まれた矩形金属板を含む加湿器リザーバのリザーバベースの上面斜視図である。 本技術の一例による、図１２Ａの線１２Ｂ－１２Ｂに沿ってとられたリザーバベースの断面図である。 図１２Ｂのリザーバベースの一部の拡大図である。 本技術の一実施例による矩形の肉薄の非金属フィルムを含む加湿器リザーバのリザーバベースの上面斜視図である。 本技術の一例による、図１３Ａの線１３Ｂ－１３Ｂに沿ってとられたリザーバベースの断面図である。 図１３Ｂのリザーバベースの一部の拡大図である。 本技術の一実施例による円形の肉薄の非金属フィルムを含む加湿器リザーバのリザーバベースの上面斜視図である。 本技術の一例による、図１４Ａの線１４Ｂ－１４Ｂに沿ってとられたリザーバベースの断面図である。 図１４Ｂのリザーバベースの一部の拡大図である。 本技術の一実施例による矩形の、金属プレートおよび肉薄の非金属フィルムの肉薄の非金属フィルムを含む加湿器リザーバのリザーバベースの上面斜視図である。 本技術の一例による、図１５Ａの線１５Ｂ－１５Ｂに沿ってとられたリザーバベースの断面図である。 図１５Ｂのリザーバベースの一部の拡大図である。 本技術の一実施例による円形の、金属プレートおよび肉薄の非金属フィルムの肉薄の非金属フィルムを含む加湿器リザーバのリザーバベースの上面斜視図である。 本技術の一例による、図１６Ａの線１６Ｂ－１６Ｂに沿ってとられたリザーバベースの断面図である。 図１６Ｂのリザーバベースの一部の拡大図である。 本技術の一実施例によるより深く引き込まれた矩形の、金属プレートおよび肉薄の非金属フィルムの肉薄の非金属フィルムを含む加湿器リザーバのリザーバベースの上面斜視図である。 本技術の一例による、図１７Ａの線１７Ｂ－１７Ｂに沿ってとられたリザーバベースの断面図である。 図１７Ｂのリザーバベースの一部の拡大図である。 本技術の一実施例による水リザーバの斜視図である。 図１８Ａの水リザーバの上面図である。 本技術の一実施例による水リザーバの上面図である。 図１９Ａの水リザーバの側面図である。 図１９Ａの線１９Ｃ－１９Ｃに沿ってとられた水リザーバの断面図であり、本技術の一例による入口管および出口管の配置構成を示す。 図１９Ｂの線１９Ｄ－１９Ｄに沿ってとられた水リザーバの断面図であり、本技術の一例による入口管および出口管の配置構成を示す。 図１９Ａの線１９Ｅ－１９Ｅに沿ってとられた水リザーバの断面図であり、本技術の一例による入口管および出口管の配置構成を示す。 図１９Ａの線１９Ｆ－１９Ｆに沿ってとられた水リザーバの断面図であり、本技術の一例による入口管および出口管の配置構成を示す。 図１９Ａの線１９Ｇ－１９Ｇに沿ってとられた水リザーバの断面図であり、本技術の一例による入口管および出口管の配置構成を示す。水リザーバを１８０度だけ回転させると、入口管および出口管の配置構成によって得られるスピルバック保護を示す。 本技術の一例による水リザーバのための取り外し可能な出口管配置構成の上面斜視図である。 図１９Ｇ－１の取り外し可能な出口管配置構成の下部斜視図である。 本技術の一実施例による水リザーバ用の取り外し可能な入口管および出口管配置構成の斜視図である。 本技術の一例による空気送達管のリザーバドックを示す斜視図である。 本技術の一実施例によるリザーバドック用のドック出口を示す切り取り斜視図ある。 本技術の一実施例によるリザーバドック用のドック出口を示す切り取り正面図ある。 本技術の一例によるリザーバドックと、リザーバドックのドック出口へ接続された空気送達管とを示す斜視図である。 本技術の一例によるリザーバドックと、リザーバドックのドック出口へ接続された空気送達管とを示す別の斜視図である。 本技術の一例によるリザーバドックと、リザーバドックのドック出口へ接続された空気送達管とを示す別の斜視図である。 図２０Ｆの線２０Ｇ－２０Ｇに沿った断面図であり、本技術の一例によるリザーバドックと、リザーバドックのドック出口へ接続された空気送達管とを示す。 本技術の一例によるリザーバドックと、リザーバドックのドック出口へ接続された空気送達管とを示す別の斜視図である。 本技術の一例によるリザーバドックと、リザーバドックのドック出口へ接続された空気送達管とを示す拡大斜視図である。 本技術の一例による空気送達管と、リザーバドックのドック出口の接触アセンブリへの電気接続とを示す斜視図である。 本技術の一例によるリザーバドックと、リザーバドックのドック出口へ接続された空気送達管とを示す拡大切り取り斜視図である。 本技術の一例によるリザーバドックと、リザーバドックのドック出口から接続解除される空気送達管とを示す拡大切り取り斜視図である。 本技術の一例によるリザーバドックと、リザーバドックのドック出口へ接続された空気送達管とを示す断面図である。 図２０Ｍのリザーバドックおよび空気送達管の一部の拡大図である。 本技術の一例による、空気送達管と、リザーバドックへ接続された水リザーバとを備えたリザーバドックを示す模式図である。 本技術の一実施例による水リザーバと係合された空気送達管の斜視図である。 図２２Ａの水リザーバおよび空気送達管の別の斜視図である。 図２２Ａの水リザーバおよび空気送達管の上面図である。 本技術の一例による空気送達管のドックコネクタを示す斜視図である。 図２３Ａの空気送達管の上面図である。 本技術の別の例による空気送達管のドックコネクタを示す斜視図である。 オーバーモールドグリップ無しの図２４Ａの空気送達管の別の斜視図である。 リザーバドックの斜視図（の切取内部図）と、本技術の一例によるガイド構造を含む水リザーバとである。 図２５Ａのリザーバドックおよび水リザーバの斜視図であり、水リザーバがリザーバドック中へ挿入されている様子を示す。 図２５Ａのリザーバドックおよび水リザーバの側面図であり、水リザーバがリザーバドック中へ挿入されている様子を示す。 図２５Ａのリザーバドックおよび水リザーバの側面図であり、水リザーバがリザーバドック中へ挿入されている様子を示す。 図２５Ａのリザーバドックおよび水リザーバの断面図であり、水リザーバがリザーバドック中へ挿入されている様子を示す。 図２５Ａのリザーバドックおよび水リザーバの断面図であり、水リザーバがリザーバドック中へ挿入されている様子を示す。 本技術の一例による凹型加熱要素を含むリザーバドックを示す斜視図である。 本技術の一例による図２８Ａのリザーバドックの加熱要素を示す斜視図である。 図２８Ａのリザーバドックおよび凹型加熱要素を示す拡大断面図である。 本技術の一実施例による水リザーバの下面斜視図である。 本技術の別の例によるガイド構造を含むリザーバドックおよび水リザーバの側面図であり、水リザーバがリザーバドック中へ挿入されている様子を示す。 図３０Ａのリザーバドックおよび水リザーバの側面図であり、水リザーバがリザーバドック中へ挿入されている様子を示す。 図３０のリザーバドックおよび水リザーバの断面図であり、水リザーバがリザーバドック中へ挿入されている様子を示す。 図３０のリザーバドックおよび水リザーバの断面図であり、水リザーバがリザーバドック中へ挿入されている様子を示す。 本技術の一実施例による水リザーバ用のラッチを示す断面図である。 本技術の一例による、図３３Ａのラッチがリザーバドックと係合している様子の断面図である。 図３３Ａのラッチを示す別の断面図である。 図３３Ａのラッチを示す別の断面図である。 図３３Ａのラッチを示す斜視図である。 図３３Ａのラッチを示す別の斜視図である。 本技術の一実施例によるラッチを受容するための水リザーバ内の凹部を示す斜視図である。 本技術の一実施例によるリザーバドック用の加熱アセンブリを示す断面図である。 図３４Ａの加熱アセンブリの分解図である。 ３４Ａの加熱アセンブリの別の断面図である。 本技術の一形態によるドックと管模式接続を示す。 本技術の一形態によるドックおよび管の接続の回路図である。 本技術の一形態によるドックと管模式接続を示す。 １００ｋサーミスタおよび１０ｋサーミスタの場合における異なる温度における例示的管ＮＴＣセンサの抵抗変化を示す。 本技術の別の形態によるドックおよび管の概略的な接続を示す。 本技術の別の形態によるドックおよび管の概略的な接続を示す。 本技術の一形態による、４線式回路がドックへ接続された管を示す。 加熱要素へ付加され得るＰＷＭ信号と、感知回路内において観察され得るＰＷＭ誘起信号の部位との例示的信号図である。 本技術の一形態に係るローパスフィルタを含む例示的な分圧ネットワークを示す。 本技術の一例によるリザーバドック、中間コンポーネントおよび空気送達管を示す斜視図であり、空気送達管は、中間コンポーネントおよびリザーバドックに設けられたロックおよび接触アセンブリとの係合のために方向付けられる。 図４３のリザーバドックおよび空気送達管の斜視図であり、空気送達管は、非ロックの係合位置においてリザーバドックに設けられたロックおよび接触アセンブリと係合する。 図４３のリザーバドックおよび空気送達管の斜視図であり、空気送達管は、リザーバドックに設けられたロックおよび接触アセンブリとロック位置において係合する。 図４３のリザーバドック、中間コンポーネントおよび空気送達管の斜視図である。 図４３のリザーバドック、中間コンポーネント、空気送達管およびリザーバドックのロックおよび接触アセンブリを示す分解図である。 図４３のリザーバドック、中間コンポーネント、空気送達管、およびリザーバドックのロックおよび接触アセンブリの別の分解図である。 図４３のリザーバドックおよびそのロックおよび接触アセンブリ、中間コンポーネントおよび空気送達管の分解図である。 図４３のリザーバドックの拡大立面前方斜視図である。 図４３のリザーバドックに設けられたロックおよび接触アセンブリを示す拡大斜視図である。 図４３のリザーバドックに設けられたロックおよび接触アセンブリを示す別の拡大斜視図である。 本技術の一実施例による中間コンポーネントを示す後方斜視図である。 図５３の中間コンポーネントの正面図である。 図５３の中間コンポーネントの上面図である。 図５３の中間コンポーネントの分解図である。 図４３のリザーバドックのためのロックおよび接触アセンブリおよび中間コンポーネントを示す拡大前方斜視図である。 図５７のロックおよび接触アセンブリと中間コンポーネントの正面図である。 本技術の一例によるリザーバドックのためのロックおよび接触アセンブリの斜視図である。 図５９のロックおよび接触アセンブリの分解図である。 図５９のロックおよび接触アセンブリの別の分解図である。 図５９のロックおよび接触アセンブリの斜視図であり、カバーは除去されている。 図５９のロックおよび接触アセンブリの正面図である。 本技術の一実施例による空気送達管のためのドックコネクタの斜視図である。 図６４のドックコネクタの正面図である。 図６５の線６６－６６を通じてとられた断面図である。 図６５の線６７－６７を通じてとられた断面図である。 図６４のドックコネクタの分解図である。 本技術の一例による、空気送達管のドックコネクタと、中間コンポーネントおよびリザーバドックに設けられたロックおよび接触アセンブリとの係合を示す正面図であり、ドックコネクタは非ロックの係合位置にある。 図６９に関連する断面図であり、ドックコネクタが非ロックの係合位置にある様子を示す。 図６９に関連する上面図であり、ドックコネクタが非ロックの係合位置にある様子を示す。 図６９に関連する上面図であり、ドックコネクタが非ロックの係合位置にある様子を示す。 本技術の一例による、空気送達管のドックコネクタと、中間コンポーネントおよびリザーバドックに設けられたロックおよび接触アセンブリとの係合を示す正面図であり、ドックコネクタはロック位置にある。 図７３に関連する上面図であり、ドックコネクタがロック位置にある様子を示す。 図７３に関連する上面図であり、ドックコネクタがロック位置にある様子を示す。 図７３に関連する断面図であり、ドックコネクタがロック位置にある様子を示す。 図７３に関連する側面図であり、ドックコネクタがロック位置にある様子を示す。 図７３に関連する断面図であり、ドックコネクタがロック位置にある様子を示す。 本技術の一例による、一体型ＲＰＴデバイスおよび加湿器が水リザーバと共にリザーバドック中へ挿入されている様子の斜視図である。 図７９の一体化ＲＰＴデバイスおよび加湿器の斜視図であり、この図において、水リザーバは、リザーバドックから取り外されている。 図７９の一体化ＲＰＴデバイスおよび加湿器の別の斜視図であり、この図において、水リザーバは、リザーバドックから取り外されている。 本技術の一実施例による水リザーバの上面斜視図であり、水リザーバは閉鎖位置にある。 図８２の水リザーバの下面斜視図である。 開口位置にある図８２の水リザーバの上面斜視図である。 図８２の水リザーバの蓋の分解図である。 図８２の水リザーバの蓋およびベースを示す分解図である。 図８６の蓋の一部を示す拡大図である。 図８６のベースの一部を示す拡大図である。 開口位置にある図８２の水リザーバの側面図である。 図８９の水リザーバの一部を示す断面図である。 図８２の水リザーバが閉鎖位置にある様子の側面図である。 図９１の水リザーバの一部を示す断面図である。 図９１の水リザーバの一部を示す別の断面図である。 本技術の一例による、図８２の水リザーバの側面図であり、ベースへの蓋の組み立てを示す。 図９４の水リザーバの一部を示す断面図である。 本技術の一例による、図８２の水リザーバの側面図であり、蓋をベースから分解する初期段階を示す。 図９６の水リザーバの一部を示す断面図である。 図７９の一体型ＲＰＴデバイスおよび加湿器を図７９の線９８－９８に沿ってとった断面図である。 図９８の一体型ＲＰＴデバイスおよび加湿器の一部を示す拡大断面図である。 図７９の一体型ＲＰＴデバイスおよび加湿器を図７９の線１００－１００に沿ってとった断面図である。 図１００の一体型ＲＰＴデバイスおよび加湿器の一部を示す拡大図である。 図１００の一体型ＲＰＴデバイスおよび加湿器の別の部位を示す拡大図である。 本技術の一例による、リザーバドックの加熱アセンブリを示す分解図である。 図１０３の加熱アセンブリ中の加熱プレートのための支持構造を示す分解図である。 本技術の一例による、図８１の線１０５－１０５に沿ってとられた加熱アセンブリを示す断面図であり、水リザーバはリザーバドックから除去されている。 図１０５の加熱アセンブリの一部を示す拡大断面図である。 本技術の一例による、図９８の加熱アセンブリの一部を示す拡大断面図であり、水リザーバはリザーバドック中へ挿入されている。 図１０７の加熱アセンブリの一部を示す拡大断面図である。 本技術の一例による、図１０８の一部の拡大断面図であり、加熱アセンブリによって提供される排水を示す。 本技術の一例による、リザーバドック、中間コンポーネントおよび空気送達管の斜視図であり、空気送達管は、中間コンポーネントおよびリザーバドックに設けられた接触アセンブリとの係合のために方向付けられる。 図１１０のリザーバドック、中間コンポーネントおよび空気送達管の斜視図であり、空気送達管は、中間コンポーネントと完全に係合している。 リザーバドックが図１１０の中間コンポーネントと係合している様子を示す斜視図である。 図１１０のリザーバドック、中間コンポーネントおよび空気送達管を示す分解図である。 図１１０のリザーバドックのドック出口を示す斜視図であり、中間コンポーネントは除去されている。 図１１０のリザーバドックへ設けられた中間コンポーネントおよび接触アセンブリの斜視図である。 本技術の一例による、図１１２の線１１５Ｂ－１１５Ｂに沿ってとられた断面図であり、中間コンポーネントからリザーバドックへの接続を示す。図１１５Ｃ１、図１１５Ｃ２および図１１５Ｃ３は、本技術の一例による、図１１０の線１１５Ｃ－１１５Ｃに沿ってとられた断面図であり、中間コンポーネントをリザーバドックへ組み付ける順序を示す。 本技術の一例による、図１１２の線１１５Ｄ－１１５Ｄに沿ってとられた断面図であり、中間コンポーネントのリザーバドックへの接続を示す。 本技術の一例による、図１１５Ｄの線１１５Ｅ－１１５Ｅに沿ってとられた断面図であり、中間コンポーネントのリザーバドックへの接続を示す。 本技術の一実施例による中間コンポーネントの上面斜視図である。 図１１６の中間コンポーネントの下部斜視図である。 図１１６の中間コンポーネントの正面図である。 図１１６の中間コンポーネントの上面図である。 図１１６の中間コンポーネントの分解図である。 接触アセンブリが図１１０のリザーバドックへ儲けられた様子の斜視図であり、中間コンポーネントは除去されている。 図１２１の接触アセンブリの分解図である。 本技術の一実施例による空気送達管のためのドックコネクタの斜視図である。 図１２３のドックコネクタの正面図である。 図１２４の線１２５－１２５を通じてとられた断面図である。 図１２３のドックコネクタの分解図である。 本技術の一例による、空気送達管のドックコネクタと中間コンポーネントとの係合を示す上面図であり、ドックコネクタはロック位置にある。 図１２７に関連する断面図であり、ドックコネクタはロック位置にある。 本技術の一例による、空気送達管のドックコネクタと、リザーバドックに設けられた中間コンポーネントおよび接触アセンブリとの係合を示す側面図であり、ドックコネクタはロック位置にある。 図１２９に関連する断面図であり、ドックコネクタはロック位置にある。 図７９の一体型ＲＰＴデバイスの加湿部および加湿器の断面図であり、図７９の線１３１－１３１に沿ってとられている。 図１３１の一体型ＲＰＴデバイスおよび加湿器の一部を示す拡大図である。 図１３１の一体型ＲＰＴデバイスおよび加湿器の別の部位を示す拡大図である。 図８２の水リザーバの蓋の反転下部斜視図である。 図１３４の蓋の反転断面図であり、図１３４の線１３５－１３５に沿ってとられている。 図１３４の蓋の反転断面図であり、図１３４の線１３６－１３６に沿ってとられている。

５ 本技術の実施例の詳細な説明
本技術についてさらに詳細に説明する前に、本技術は、本明細書中に記載される異なり得る特定の実施例に限定されるのではないことが理解されるべきである。本開示中に用いられる用語は、本明細書中に記載される特定の実施例を説明する目的のためのものであり、限定的なものではないことも理解されるべきである。

以下の記載は、１つ以上の共通の特性および／または特徴を共有し得る多様な実施例に関連して提供される。任意の１つの実施例の１つ以上の特徴は、別の実施例または他の実施例の１つ以上の特徴と組み合わせることが可能であることが理解されるべきである。加えて、これらの実施例のうちのいずれかにおける任意の単一の特徴または特徴の組み合わせは、さらなる実施例を構成し得る。
５．１ 治療法

一形態において、本技術は、呼吸器疾患の治療方法を含む。本方法は、患者１０００の気道の入口へ陽圧を付加するステップを含む。

本技術の特定の実施例において、陽圧における空気供給が鼻孔の片方または双方を介して患者の鼻通路へ提供される。

本技術の特定の実施例において、口呼吸が制限されるか、限定されるかまたは妨げられる。

５．２ 治療システム
１つの形態において、本技術は、呼吸障害の治療のための装置またはデバイスを含む。装置またはデバイスは、加圧空気を患者インターフェース３０００への空気回路４１７０を介して患者１０００へ供給するＲＰＴデバイス４０００を含み得る（例えば、図１Ａ～１Ｃを参照されたい）。
５．３ 患者インターフェース

図３Ａは、シール形成構造３１００、プレナムチャンバ３２００、位置決めおよび安定化構造３３００、通気部３４００、空気回路４１７０への接続のための一形態の接続ポート３６００、および前額支持部３７００を含む、本技術の一態様による非侵襲的患者インターフェース３０００を示す。いくつかの形態において、機能様態が、１つ以上の物理的コンポーネントによって提供され得る。いくつかの形態において、１つの物理的コンポーネントは、１つ以上の機能様態を提供し得る。使用時において、シール形成構造３１００は、気道への陽圧での空気供給を促進するように、患者の気道の入口を包囲するように配置される。

患者インターフェースが最低レベルの陽圧を快適に気道へ送達できない場合、患者インターフェースは呼吸圧力治療に不適切であり得る。

本技術の一形態による患者インターフェース３０００は、周囲に対して少なくとも６ｃｍＨ_２Ｏの陽圧で空気供給を提供できるように構築および配置される。

本技術の一形態による患者インターフェース３０００は、周囲に対して少なくとも１０ｃｍＨ_２Ｏの陽圧で空気供給を提供できるように構築および配置される。

本技術の一形態による患者インターフェース３０００は、周囲に対して少なくとも２０ｃｍＨ_２Ｏの陽圧で空気供給を提供できるように構築および配置される。

５．４ ＲＰＴデバイス
本技術の一形態によるＲＰＴデバイス４０００の分解図を図５Ａに示す。ＲＰＴデバイス４０００は、機械式部品、空気圧式部品、および／または電気部品を含み得、１つ以上のアルゴリズムを実行するように構成される。ＲＰＴデバイス４０００は、例えば本文書中のいずれかに記載の呼吸状態のうち１つ以上の治療のために患者の気道へ送達される空気流れを生成するように構成され得る。

一形態において、ＲＰＴデバイス４０００は、少なくとも６ｃｍＨ_２Ｏまたは少なくとも１０ｃｍＨ_２Ｏまたは少なくとも２０ｃｍＨ_２Ｏの陽圧を維持しつつ、空気流れを－２０Ｌ／分～＋１５０Ｌ／分の範囲で送達できるように構築および配置される。

ＲＰＴデバイス４０００は、１つ以上のパネル（単数または複数）（例えば、主パネル４０１０、前面パネル４０１２、および側面パネル４０１４）を有する外部ハウジングを含み得る。ＲＰＴデバイス４０００は、図５Ａおよび図５Ｂに示すように、マフラーを有する出口キャップ４１２４も含み得る。マフラーを有する出口キャップ４１２４は、取り外し可能であってよく、水リザーバ５１１０（図５Ｃを参照）と交換してよい。かかる形態において、ＲＰＴデバイス４０００は、一体型加湿器５０００を含むと考えてよい。よって、ＲＰＴデバイス４０００は、水リザーバ５１１０またはマフラーを有する出口キャップ４１２４がそれぞれ取り付けられているか否かに応じて加湿ありまたは無しで使用され得る。好適には、ＲＰＴデバイス４０００は、ＲＰＴデバイス４０００の１つ以上の内部コンポーネントを支持するシャーシ４０１６を含む。一形態において、ＲＰＴデバイス４０００は、圧力生成器４１４０を含み、これは、シャーシ４０１６に結合された空気圧ブロック４０２０内に受容され得る。

例示的なＲＰＴデバイスのさらなる実施例および詳細について、ＰＣＴ公報第ＷＯ２０１５／０８９５８２号に記載がある。本明細書中、同文献全体を参考のため援用する。

ＲＰＴデバイス４０００の空気圧経路（例えば、図５Ｄに示すもの）は、入口空気フィルタ４１１２、入口マフラー４１２２、空気を陽圧で供給することが可能な圧力生成器４１４０（好適には、送風機４１４２）、および出口マフラー４１２４（もしくは、加湿が要求される場合には、水リザーバ５１１０）を含み得る。１つ以上の変換器４２７０（例えば、圧力センサおよび流れセンサが、空気圧経路内に設けられ得る。空気圧経路は、アンチスピルバック弁４１６０を含むことにより、水が加湿器５０００からＲＰＴデバイス４０００の電気部品に逆流することを防止もよい。

図５Ｅに示すように、ＲＰＴデバイス４０００は、電力供給４２１０、１つ以上の入力デバイス４２２０、中央コントローラ４２３０、治療デバイスコントローラ４２４０、１つ以上の保護回路４２５０、メモリ４２６０、センサ／変換器４２７０、データ通信インターフェース４２８０、および１つ以上の出力デバイス４２９０を有することができる。電気部品４２００は、シングルプリント回路基板アセンブリ（ＰＣＢＡ）４２０２上に取り付けられ得る（例えば、図５Ａを参照）。一代替形態において、ＲＰＴデバイス４０００は、１つよりも多くのＰＣＢＡ４２０２を含み得る。

５．４．１ ＲＰＴデバイス機械および空気圧式コンポーネント
ＲＰＴデバイスは、以下のコンポーネントのうち１つ以上を一体ユニット中に含み得る。一代替形態において、以下のコンポーネントのうち１つ以上が、それぞれの別個のユニットとして配置され得る。

５．４．１．１ 空気フィルタ（単数または複数）
本技術の一形態によるＲＰＴデバイスは、空気フィルタ４１１０または複数の空気フィルタ４１１０を含み得る。

一形態において、入口空気フィルタ４１１２は、圧力生成器４１４０の空気圧経路上流の始まり部に配置される。

一形態において、出口空気フィルタ４１１４（例えば抗菌ファクタ）は、空気圧ブロック４０２０の出口と、患者インターフェース３０００との間に配置される。

５．４．１．２ マフラー（単数または複数）
本技術の一形態によるＲＰＴデバイスは、マフラー４１２０または複数のマフラー４１２０を含み得る。

本技術の一形態において、入口マフラー４１２２は、空気圧経路内において圧力生成器４１４０の上方に配置される。

本技術の一形態において、出口マフラー４１２４は、空気圧経路内において圧力生成器４１４０と患者インターフェース３０００との間に配置される。

５．４．１．３ 圧力生成器
本技術の一形態において、空気の流れまたは供給を陽圧において生成する圧力生成器４１４０は、制御可能な送風機４１４２である。例えば、送風機４１４２は、１つ以上のインペラを備えたブラシレスＤＣモータ４１４４を含み得る。インペラが、ボリュート内へ配置され得る。送風機は、空気供給の送達を例えば約１２０リットル／分までの速度で、約４ｃｍＨ_２Ｏ～約２０ｃｍＨ_２Ｏの範囲の陽圧で、または他の形態において約３０ｃｍＨ_２Ｏまで行うことができる。送風機については、以下の特許または特許出願のうちいずれか１つに記載があり得。本明細書中、同文献全体を参考のため援用する：米国特許第７，８６６，９４４号、米国特許第８，６３８、０１４号、米国特許第８，６３６，４７９号およびＰＣＴ特許出願公開ＷＯ２０１３／０２０１６７。

圧力生成器４１４０は、治療デバイスコントローラ４２４０の制御下にある。

他の形態において、圧力生成器４１４０は、ピストン駆動ポンプ、高圧源（例えば、圧縮空気リザーバ）へ接続された圧力調節器、またはベローズであり得る。

５．４．１．４ 変換器（単数または複数）
変換器は、ＲＰＴデバイスの内部に設けてもよいし、あるいはＲＰＴデバイスの外部に設けてもよい。外部変換器は、例えば空気回路上に配置してもよいし、あるいは空気回路の一部を形成してもよい（例えば、患者インターフェース）。外部変換器は、非接触センサの形態をとり得る（例えば、データＲＰＴデバイスを送るかまたは移動させるドップラーレーダー移動センサ）。

本技術の一形態において、１つ以上の変換器４２７０が、圧力生成器４１４０の上流および／または下流に配置され得る。１つ以上の変換器４２７０は、空気流れの特性を示す信号（例えば、空気圧経路中の当該ポイントにおける流量、圧力または温度）を生成するように、構築および配置され得る。

本技術の一形態において、１つ以上の変換器４２７０は、患者インターフェース３０００の近隣に配置され得る。

一形態において、変換器４２７０からの信号が、（例えば、ローパス、ハイパスまたはバンドパスフィルタリングによって）フィルタリングされ得る。

５．４．１．４．１ 流量センサ
本技術による流量センサ４２７４は、差圧変換器（例えば、ＳＥＮＳＩＲＩＯＮからのＳＤＰ６００シリーズ差圧変換器）に基づき得る。

一形態において、流量センサ４２７４からの流量を示す信号が、中央コントローラ４２３０によって受信される。

５．４．１．４．２ 圧力センサ
本技術による圧力センサ４２７２は、空気圧経路と流体連通して配置され得る。適切な圧力センサの一実施例として、ＨＯＮＥＹＷＥＬＬ ＡＳＤＸシリーズからの変換器がある。別の適切な圧力センサとして、ＧＥＮＥＲＡＬ ＥＬＥＣＴＲＩＣからのＮＰＡシリーズからの変換器がある。

１つの形態において、圧力センサ４２７２からの信号は、中央コントローラ４２３０によって受信される。

５．４．１．４．３ モータ速度変換器
本技術の一形態において、モータ４１４４および／または送風機４１４２の回転速度を決定するために、モータ速度変換器４２７６が用いられ得る。モータ速度変換器４２７６からのモータ速度信号は、治療装置コントローラ４２４０へ提供され得る。モータ速度変換器４２７６は、例えば速度センサであり得る（例えば、ホール効果センサ）。

５．４．１．５ アンチスピルバック弁
本技術の一形態において、アンチスピルバック弁４１６０が、加湿器５０００と、空気圧ブロック４０２０との間に配置され得る。アンチスピルバック弁は、水が加湿器５０００から上流に（例えば、送風機のモータ４１４４へ）流れる危険性を低減させるように、構築および配置される。

５．４．２ ＲＰＴデバイス電気部品
５．４．２．１ 電源
電源４２１０は、ＲＰＴデバイス４０００の外部ハウジング４０１０の内部または外部に配置され得る。

本技術の一形態において、電源４２１０は、ＲＰＴデバイス４０００にのみ電力を供給する。本技術の別の形態において、電源４２１０から、電力がＲＰＴデバイス４０００および加湿器５０００双方へ提供される。

５．４．２．２ 入力デバイス
本技術の一形態において、ＲＰＴデバイス４０００は、人間がデバイスと相互作用を可能にするためのボタン、スイッチまたはダイヤルの形態をとる１つ以上の入力デバイス４２２０を含む。ボタン、スイッチまたはダイヤルは、タッチスクリーンを介してアクセスすることが可能な物理的デバイスまたはソフトウェアデバイスであり得る。ボタン、スイッチまたはダイヤルは、一形態において外部ハウジング４０１０に物理的に接続させてもよいし、あるいは、別の形態において中央コントローラ４２３０と電気接続された受信器と無線通信してもよい。

一形態において、入力デバイス４２２０は、人間が値および／またはメニュー選択肢を選択することを可能にするように、構築および配置され得る。

５．４．２．３ 中央コントローラ
本技術の一形態において、中央コントローラ４２３０は、ＲＰＴデバイス４０００の制御に適した１つまたは複数のプロセッサである。

適切なプロセッサは、ＡＲＭ ＨｏｌｄｉｎｇｓからのＡＲＭ（登録商標）Ｃｏｒｔｅｘ（登録商標）－Ｍプロセッサに基づいたプロセッサであるｘ８６ＩＮＴＥＬプロセッサを含み得る（例えば、ＳＴ マクロ電子からのＳ（登録商標）３２シリーズのマイクロコントローラ）。本技術の特定の代替形態において、３２ビットＲＩＳＣ ＣＰＵ（例えば、ＳＴ ＭＩＣＲＯ電子ＳからのＳＴＲ９シリーズマクロコントローラ）または１６ビットＲＩＳＣ ＣＰＵ（例えば、ＴＥＸＡＳ ＩＮＳＴＲＵＭＥＮＴＳによって製造されたマクロコントローラのＭＳＰ４３０ファミリーからのプロセッサ）も適切であり得る。

本技術の一形態において、中央コントローラ４２３０は、専用電子回路である。

一形態において、中央コントローラ４２３０は、特定用途向け集積回路である。別の形態において、中央コントローラ４２３０は、個別電子コンポーネントを含む。

中央コントローラ４２３０は、１つ以上の変換器４２７０、１つ以上の入力デバイス４２２０および加湿器５０００から入力信号（単数または複数）を受信するように、構成され得る。

中央コントローラ４２３０は、出力信号（複数）を出力デバイス４２９０、治療装置コントローラ４２４０、データ通信インターフェース４２８０および加湿器５０００のうち１つ以上へ提供するように、構成され得る。

本技術のいくつかの形態において、中央コントローラ４２３０は、本明細書中に記載の１つ以上の方法を具現するように、構成される（例えば、非一時的なコンピュータで読出可能な記録媒体のような（例えば、メモリ４２６０）中に記録されたコンピュータプログラムとして表現された１つ以上のアルゴリズム４３００）。本技術のいくつかの形態において、中央コントローラ４２３０は、ＲＰＴデバイス４０００と一体化され得る。しかし、本技術のいくつかの形態において、いくつかの方法が、遠隔配置されたデバイスによって行われ得る。例えば、遠隔配置されたデバイスは、記録されたデータ（例えば、本明細書中に記載のセンサのうちいずれかからのもの）の分析により、人工呼吸器の制御設定を決定し得るか、または、呼吸関連イベントを検出し得る。

５．４．２．４ 時計
ＲＰＴデバイス４０００は、中央コントローラ４２３０へ接続された時計４２３２を含み得る。

５．４．２．５ 治療装置コントローラ
本技術の一形態において、治療デバイスコントローラ４２４０は治療制御モジュール４３３０であり、中央コントローラ４２３０によって実行されるアルゴリズム４３００の一部を形成する。

本技術の一形態において、治療装置コントローラ４２４０は、専用モータ制御集積回路である。例えば、一形態において、ＯＮＳＥＭＩによって製造されたＭＣ３３０３５ブラシレスＤＣモータコントローラが用いられる。

５．４．２．６ 保護回路
本技術による１つ以上の保護回路４２５０は、電気保護回路、温度および／または圧力安全回路を含み得る。

５．４．２．７ メモリ
本技術の一形態によれば、ＲＰＴデバイス４０００は、メモリ４２６０（例えば、不揮発性メモリ）を含む。いくつかの形態において、メモリ４２６０は、電池式スタティックＲＡＭを含み得る。いくつかの形態において、メモリ４２６０は、揮発性ＲＡＭを含み得る。

メモリ４２６０は、ＰＣＢＡ４２０２上に配置され得る。メモリ４２６０は、ＥＥＰＲＯＭまたはＮＡＮＤフラッシュの形態をとり得る。

追加的にまたは代替的に、ＲＰＴデバイス４０００は、取り外し可能なメモリ４２６０（例えば、セキュアデジタル（ＳＤ）規格に従って作製されたメモリカード）を含む。

本技術の一形態において、メモリ４２６０は、非一時的コンピュータで読出可能な記録媒体として機能する。この記録媒体上に、本明細書中に記載の１つ以上の方法を表現するコンピュータプログラム命令（例えば、１つ以上のアルゴリズム４３００）が記録される。

５．４．２．８ データ通信システム
本技術の一形態において、データ通信インターフェース４２８０が設けられ、中央コントローラ４２３０へ接続される。データ通信インターフェース４２８０は、遠隔外部通信ネットワーク４２８２および／またはローカル外部通信ネットワーク４２８４へ接続可能であり得る。遠隔外部通信ネットワーク４２８２は、遠隔外部デバイス４２８６へ接続可能であり得る。ローカル外部通信ネットワーク４２８４は、ローカル外部デバイス４２８８へ接続可能であり得る。

一形態において、データ通信インターフェース４２８０は、中央コントローラ４２３０の一部である。別の形態において、データ通信インターフェース４２８０は、中央コントローラ４２３０と別個であり、集積回路またはプロセッサを含み得る。

一形態において、遠隔外部通信ネットワーク４２８２はインターネットである。データ通信インターフェース４２８０は、インターネットへ接続するために、（例えば、イーサネットまたは光ファイバーを介して）有線通信を用得るかまたは無線プロトコル（例えば、ＣＤＭＡ、ＧＳＭ、ＬＴＥ）を用い得る。

一形態において、ローカル外部通信ネットワーク４２８４は、１つ以上の通信規格（例えば、ブルートゥース（登録商標）またはコンシューマー赤外線プロトコル）を用いる。

一形態において、遠隔外部デバイス４２８６は、１つ以上のコンピュータ（例えば、ネットワーク化コンピュータのクラスタ）である。一形態において、遠隔外部デバイス４２８６は、物理的コンピュータではなく仮想コンピュータであり得る。いずれの場合も、このような遠隔外部デバイス４２８６は、適切に権限を付与された人間（例えば、臨床医）からのアクセスが可能であり得る。

ローカル外部デバイス４２８８は、パーソナルコンピュータ、携帯電話、タブレットまたはリモートコントロールであり得る。

５．４．２．９ 任意選択のディスプレイ、警報を含む出力デバイス
本技術による出力デバイス４２９０は、視覚、音声および触覚ユニットのうち１つ以上の形態をとり得る。視覚ディスプレイは、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）または発光ダイオード（ＬＥＤ）ディスプレイであり得る。

５．４．２．９．１ ディスプレイドライバ
ディスプレイドライバ４２９２は、ディスプレイ４２９４上へ表示されるべき文字、記号または画像を入力として受信し、ディスプレイ４２９４にこれらの文字、記号または画像を表示させるコマンドへ変換する。

５．４．２．９．２ ディスプレイ
ディスプレイ４２９４は、ディスプレイドライバ４２９２から受信されたコマンドに応答して、文字、記号または画像を視覚的に表示するように構成される。例えば、ディスプレイ４２９４は８セグメントディスプレイであり得、その場合、ディスプレイドライバ４２９２は、各文字または記号（例えば、数字「０」）を、特定の文字または記号を表示するために各８個のセグメントを活性化させるべきかを示す８個の論理信号へ変換する。

５．４．３ ＲＰＴデバイスアルゴリズム
上記したように、本技術のいくつかの形態において、中央制御装置４２３０は、非一時的なコンピュータで読出可能な記録媒体（例えば、メモリ４２６０）中に記録されたコンピュータプログラムとして表現された１つ以上のアルゴリズム４３００を具現するように構成され得る。このアルゴリズム４３００は、モジュールと呼ばれるグループにグループ付けられることが一般的だ（例えば、図５Ｆを参照）。

５．４．３．１ 事前処理モジュール
本技術の一形態による事前処理モジュール４３１０は、変換器４２７０（例えば流量センサ４２７４または圧力センサ４２７２）からの信号を入力として受信し、１つ以上の出力値を計算するための１つ以上のプロセスステップを行う。これらの出力値は、別のモジュール（例えば、治療エンジンモジュール４３２０）への入力として用いられる。

本技術の一形態において、出力値は、インターフェースまたはマスク圧力Ｐｍ、呼吸流量Ｑｒおよび漏洩流量Ｑｌを含む。

本技術の多様な形態において、事前処理モジュール４３１０は、以下のアルゴリズムのうち１つ以上を含む：圧力補償４３１２、通気流量推定４３１４、漏洩流量推定４３１６および呼吸流量推定４３１８。

５．４．３．１．１ 圧力補償
本技術の一形態において、圧力補償アルゴリズム４３１２は、空気圧ブロックの出口の近位の空気圧経路中の圧力を示す信号を入力として受信する。圧力補償アルゴリズム４３１２は、圧力低下を空気回路４１７０を通じて推定し、患者インターフェース３０００中の推定圧力Ｐｍを出力として提供する。

５．４．３．１．２ 通気流量の推定
本技術の一形態において、通気流量推定アルゴリズム４３１４は、患者インターフェース３０００中の推定圧力Ｐｍを入力として受信し、患者インターフェース３０００中の通気孔３４００からの空気の通気流量Ｑｖを推定する。

５．４．３．１．３ 漏洩流量の推定
本技術の一形態において、漏洩流量推定アルゴリズム４３１６は、全体流量Ｑｔおよび通気流量Ｑｖを入力として受信し、漏洩流量Ｑｌの推定を出力として提供する。一形態において、漏洩流量推定アルゴリズムは、いくつかの呼吸サイクル（例えば、約１０秒）を含むくらいに充分に長い期間にわたって全体流量Ｑｔと通気流量Ｑｖとの間の差平均を計算することにより、漏洩流量Ｑｌを推定する。

一形態において、漏洩流量推定アルゴリズム４３１６は、漏洩流量Ｑｌを出力として提供し、漏洩コンダクタンスを計算することおよび漏洩流量Ｑｌを漏洩コンダクタンスおよび圧力Ｐｍの関数となるように決定することにより、患者インターフェース３０００中の全体流量Ｑｔ、通気流量Ｑｖ、および推定圧力Ｐｍを入力として受信する。漏洩コンダクタンスは、全体流量Ｑｔと通気流量Ｑｖとの間の差に等しいローパスフィルタされた非通気流量の商と、圧力Ｐｍのローパスフィルタされた平方根として計算され、ローパスフィルタ時定数は、いくつかの呼吸サイクル（例えば、約１０秒）を含むだけの充分な値を有する。漏洩流量Ｑｌは、漏洩コンダクタンスの積および圧力Ｐｍの関数として推定され得る。

５．４．３．１．４ 呼吸流量推定
本技術の一形態において、呼吸流量推定アルゴリズム４３１８は、全体流量Ｑｔ、通気流量Ｑｖおよび漏洩流量Ｑｌを入力として受信し、通気流量Ｑｖおよび漏洩流量Ｑｌを全体流量Ｑｔから減算することにより、患者への空気呼吸流量Ｑｒを推定する。

５．４．３．２ 治療エンジンモジュール
本技術の一形態において、治療エンジンモジュール４３２０は、患者インターフェース３０００中の圧力Ｐｍおよび患者への空気呼吸流量Ｑｒのうち１つ以上を入力として受信し、１つ以上の治療パラメータを出力として提供する。

本技術の一形態において、治療パラメータは、治療圧力Ｐｔである。

本技術の一形態において、治療パラメータは、圧力変化の振幅、ベース圧力および目標換気のうち１つ以上である。

多様な形態において、治療エンジンモジュール４３２０は、以下のアルゴリズムのうち１つ以上を含む：フェーズ決定４３２１、波形決定４３２２、換気決定４３２３、吸気流制限決定４３２４、無呼吸／呼吸低下決定４３２５、いびき決定４３２６、気道開通性決定４３２７、目標換気決定４３２８、および治療パラメータ決定４３２９。

５．４．３．２．１ フェーズ決定
本技術の一形態において、ＲＰＴデバイス４０００は、フェーズを決定しない。

本技術の一形態において、フェーズ決定アルゴリズム４３２１は、呼吸流量Ｑｒを示す信号を入力として受信し、患者１０００の現在の呼吸サイクルのフェーズを出力Φとして提供する。

いくつかの形態において、離散フェーズ決定として知られるフェーズ出力Φは、離散変数である。離散フェーズ決定の一具現例により、吸息または呼息の値を持つ二値フェーズ出力Φが得られる。この値は、自発吸息および呼息それぞれの開始が検出された際に例えば０回転および０．５回転の値としてそれぞれ表される。「トリガ」および「サイクル」するＲＰＴデバイス４０００は、離散フェーズ決定を有効に行う。なぜならば、トリガ点およびサイクル点は、フェーズが呼息から吸息へおよび吸息から呼息へそれぞれ変化する瞬間であるからである。二値フェーズ決定の一具現例において、フェーズ出力Φは、呼吸流量Ｑｒが正の閾値を超える値を有するときに、離散値０を有し（これによりＲＰＴデバイス４０００を「トリガ」する）、呼吸流量Ｑｒの値が負の閾値よりもより大きな負の値であるときに０．５回転の離散値（これにより、ＲＰＴデバイス４０００を「サイクルさせる」）を有するように、決定される。吸息時間Ｔｉおよび呼息時間Ｔｅは、（吸気を示す）０および（呼気を示す）０．５それぞれに等しいフェーズΦと共に費やされた時間の多くの呼吸器サイクルにわたって推定された典型的値であり得る。

離散フェーズ決定の別の具現例により、吸息、吸気中の一時停止および呼息のうち１つの値を備えた３値フェーズ出力Φが得られる。

他の形態において、連続フェーズ決定として知られるフェーズ出力Φは連続する変数であり、例えば０回転～１回転または０～２πラジアンの間で変動する。連続フェーズ決定を行うＲＰＴデバイス４０００は、連続フェーズが０回転および０．５回転それぞれに到達したときに、トリガおよびサイクルし得る。連続フェーズ決定の一具現例において、フェーズの連続値Φは、呼吸流量Ｑｒのファジー論理分析を用いて決定される。本具現例において決定されたフェーズの連続値は、「ファジーフェーズ」と呼ばれることが多い。ファジーフェーズ決定アルゴリズム４３２１の一具現例において、以下の規則が呼吸流量Ｑｒへ適用される：
１．呼吸流量がゼロになった後に急激に増加した場合、フェーズは０回転である。
２．呼吸流量が大きな正の値でありかつ安定している場合、フェーズは０．２５回転である。
３．呼吸流量がゼロであり急激に低下する場合、フェーズは０．５回転である。
４．呼吸流量が大きな負の値でありかつ安定している場合、フェーズは０．７５回転である。
５．呼吸流量がゼロでありかつ安定しており、呼吸流量の５秒のローパスフィルタされた絶対値が大きい場合、フェーズは０．９回転である。
６．呼吸流量が正であり、フェーズが呼気である場合、フェーズは０回転である。
７．呼吸流量が負であり、フェーズが吸気であり、フェーズは０．５回転である。
８．呼吸流量の５秒のローパスフィルタされた絶対値が大きい場合、フェーズは、時定数２０秒によってローパスフィルタされた患者の呼吸速度に等しい一定速度で増加する。

各規則の出力は、フェーズが規則の結果でありかつ大きさが規則が真となるファジー範囲となるベクトルとして表され得る。呼吸流量が「大きい」、「安定している」などのファジー範囲は、適切なメンバシップ関数によって決定される。規則の結果は、ベクトルとして表され、その後、セントロイドをとるなどのいくつかの関数により、組み合わされる。このような組み合わせにおいて、規則は、等しく重み付けしてもよいし、あるいは異なる様態で重み付けしてもよい。

連続フェーズ決定の別の具現例において、フェーズΦは、吸息時間Ｔｉおよび呼息時間Ｔｅと同様、上記のように先ず呼吸流量Ｑｒから個別に推定される。任意の瞬間における連続フェーズΦは、先行トリガ瞬間から経過した吸息時間Ｔｉの割合の半分または０．５回転に先行サイクル瞬間から経過した呼息時間Ｔｅの割合を加算した値（これらのうち、より直近の瞬間）として決定される。

５．４．３．２．２ 波形決定
本技術の一形態において、治療パラメータ決定アルゴリズム４３２９は、患者の呼吸サイクル全体を通じてほぼ一定の治療圧力を提供する。

本技術の他の形態において、治療制御モジュール４３３０は、圧力生成器４１４０を制御して、波形テンプレートΠ（Φ）に従って患者呼吸サイクルのフェーズΦの関数として変動する治療圧力Ｐｔを提供させる。

本技術の一形態において、波形決定アルゴリズム４３２２は、波形テンプレートΠ（Φ）を提供する。波形テンプレートは、治療パラメータ決定アルゴリズム４３２９によって用いられる予定のフェーズ決定アルゴリズム４３２１によって提供されるフェーズ値Φの変域について［０，１］の範囲内の値を有する。

一形態において、離散的または連続的に値をとるフェーズに適したものとして、波形テンプレートΠ（Φ）は矩形波テンプレートであり、０．５回転までのフェーズ値に対して１の値を有し、０．５回転を超えるフェーズ値に対して０の値を有する。一形態において、連続的に値をとるフェーズに適したものとして、波形テンプレートΠ（Φ）は、２つの平滑に曲線状の部分を含む（すなわち、０．５回転までのフェーズ値に対して平滑に曲線状の（例えば、上昇コサインの）０から１への上昇、および０．５回転を超えるフェーズ値に対して１から０への平滑に曲線状の（例えば、指数関数的）低下）。一形態において、連続的に値をとるフェーズに適したものとして、波形テンプレートΠ（Φ）は矩形波に基づくが、０．５回転よりも低い「立上がり時間」までのフェーズ値に対して０～１の平滑な上昇を持ち、０．５回転後の「下降時間」内のフェーズ値に対して１から０への、０．５回転よりも低い「下降時間」をもつ平滑な下降を有する。

本技術のいくつかの形態において、波形決定アルゴリズム４３２２は、ＲＰＴデバイスの設定に応じて、波形テンプレートΠ（Φ）を波形テンプレートのライブラリから選択する。ライブラリ中の各波形テンプレートΠ（Φ）は、フェーズ値Φに対するルックアップテーブル値Πとして提供され得る。他の形態において、波形決定アルゴリズム４３２２は、所定の関数形式（恐らくは、１つ以上のパラメータ（例えば、指数関数的な曲線状部分の時定数）によってパラメータ化されたもの）を用いて、波形テンプレートΠ（Φ）を「オンザフライ」で計算する。関数形式のパラメータは、所定のものであってもよりし、あるいは患者１０００の現在の状態に依存してもよい。

吸息（Φ＝０回転）または呼息（Φ＝０．５回転）の離散二値フェーズに適した本技術のいくつかの形態において、波形決定アルゴリズム４３２２は、最も直近のトリガ瞬間から測定された離散フェーズΦおよび時間ｔの関数として、波形テンプレートΠを「オンザフライ」で計算する。１つのこのような形態において、波形決定アルゴリズム４３２２は、波形テンプレートΠ（Φ，ｔ）を２つの部分（吸気および呼気）において以下のように計算する。

ここで、Πｉ（ｔ）およびΠｅ（ｔ）は、波形テンプレートΠ（Φ，ｔ）の吸気部分および呼気部分である。１つのこのような形態において、波形テンプレートの吸気部分Πｉ（ｔ）は、立上がり時間によってパラメータ化された０から１への平滑な上昇であり、波形テンプレートの呼気部分Πｅ（ｔ）は、下降時間によってパラメータ化された１から０への平滑な下降である。

５．４．３．２．３ 換気決定
本技術の一形態において、換気決定アルゴリズム４３２３は、呼吸流量Ｑｒを入力として受信し、現在の患者換気Ｖｅｎｔを示す測定を決定する。

いくつかの具現例において、換気決定アルゴリズム４３２３は、実際の患者換気の推定値である換気Ｖｅｎｔの測定を決定する。このような一具現例として、呼吸流量Ｑｒの絶対値の半値をとることがあり、これは、任意選択的にローパスフィルタ（例えば、コーナ周波数が０．１１Ｈｚである２次ベッセルローパスフィルタ）によってフィルタリングされる。

他の具現例において、換気決定アルゴリズム４３２３は、実際の患者換気に大きく比例する換気Ｖｅｎｔの測定を決定する。このような一具現例において、ピーク呼吸流量Ｑｐｅａｋが、サイクルの吸気部分において推定される。呼吸流量Ｑｒのサンプリングを含む上記および他の多数の手順により、換気に大きく比例する測定が得られるが、これらの測定の場合、流量波形形状の変動がそれほど大きくない（ここで、２つの呼吸の形状は、時間および振幅において正規化された呼吸の流量波形が類似するときと同様のものとしてとられる）。いくつかの簡単な例を挙げると、正の呼吸流量の中央値、呼吸流量の絶対値の中央値、および流量の標準偏差がある。正の係数を用いた呼吸流量の絶対値の任意次数の統計の任意の線形的組み合わせ（およびさらには正の係数および負の係数双方を用いたいくつかのもの）は、換気におおむね比例する。別の例として、吸気部分の（時間について）中央Ｋ割合における呼吸流量の平均であり、ここで、０＜Ｋ＜１である。流量形状が一定である場合、換気に高精度に比例する任意の多数の測定がある。

５．４．３．２．４ 吸気流制限の決定
本技術の一形態において、中央コントローラ４２３０は、吸気流制限の範囲の決定について、吸気流制限決定アルゴリズム４３２４を実行する。

一形態において、吸気流制限決定アルゴリズム４３２４は、呼吸流量信号Ｑｒを入力として受信し、呼吸の吸気部分が吸気流制限を示す範囲の計量を出力として提供する。

本技術の一形態において、各呼吸の吸気部分は、ゼロ交差検出器によって特定される。均等に間隔を空けて配置された複数の（例えば、６５個の）点は、時点を示し、各呼吸について吸気流量－時間曲線に沿って補間器によって補間される。その後、これらの点によって記述された曲線をスケーラーによって単位長さ（持続期間／期間）および単位面積を持つようにスケールすることにより、呼吸数および深さの変化による影響を除去する。次に、スケーリングされた呼吸を通常の非閉塞呼吸を示す（図６Ａに示す呼吸の吸気部分と同様の）事前保存されたテンプレートと比較器において比較する。吸気時の任意の時において、試験要素によって決定されたような例えば咳、吐息、嚥下およびしゃっくりに起因したこのテンプレートからの呼吸の逸脱が指定閾（典型的には、１スケール単位）を超える場合、当該呼吸は拒否される。拒否の無かったデータについて、第１のこのようなスケーリングされた点の移動平均を中央コントローラ４２３０によって先行するいくつかの吸気事象について計算する。これを同一吸気事象にわたって第２のこのような点について繰り返し、以降同様に繰り返す。そのため、例えば、６５個のスケーリングされたデータ点が中央コントローラ４２３０によって生成され、先行するいくつかの吸気事象（例えば、３つの事象）の移動平均を示す。本明細書中以下、連続的に更新された（例えば、６５個の）点の値の移動平均を「スケーリングされた流量」と呼び、Ｑｓ（ｔ）によって示す。あるいは、移動平均の代わりに単一の吸気事象を用いてもよい。

スケーリングされた流量から、部分的閉塞の決定に関連する２つの形状要素が計算され得る。

形状要素１は、中間（例えば、３２個の）スケーリングされた流量点の平均の全体的（例えば、６５個の）スケーリングされた流量点の平均に対する比である。この比が１を超える場合、呼吸は正常であるとみなされる。この比が１未満である場合、呼吸に閉塞が有るとみなされる。比が約１．１７である場合、部分的閉塞と非閉塞呼吸との間の閾としてみなされ、典型的な患者における適切な酸素付加の維持を可能にする一定レベルの閉塞に等しい。

形状要素２は、中間（例えば、３２個の）点にわたって単位スケーリングされた流量からの平均二乗偏差として計算される。平均二乗偏差が約０．２単位である場合、正常とみなされる。平均二乗偏差がゼロである場合、全体的に流れが制限された呼吸とみなされる。平均二乗偏差がゼロに近づくほど、当該呼吸は、流れが制限されたものとみなされる。

形状要素１および２は、代替として用いてもよいし、組み合わせて用いてもよい。本技術の他の形態において、サンプルされた点の数、呼吸および中間点は、上記したものと異なり得る。さらに、閾値も上記したものと異なり得る。

５．４．３．２．５ 無呼吸および呼吸低下の決定
本技術の一形態において、中央コントローラ４２３０は、無呼吸および／または呼吸低下の存在の決定のために、無呼吸／呼吸低下決定アルゴリズム４３２５を実行する。

一形態において、無呼吸／呼吸低下検出アルゴリズム４３２５は、呼吸流量信号Ｑｒを入力として受信し、無呼吸または呼吸低下が検出されたかを示すフラッグを出力として提供する。

一形態において、無呼吸とは、呼吸流量Ｑｒの関数が所定の期間にわたって流量閾値を下回ったときに検出されるものとされる。この関数は、ピーク流量、比較的短期間の平均流量、または比較的短期間の平均およびピーク流量の流量中間値を決定し得る（例えば、ＲＭＳ流量）。流量閾値は、流量の比較的長期間の測定値であり得る。

一形態において、呼吸低下とは、呼吸流量Ｑｒの関数が所定の期間にわたって第２の流量閾値を下回ったときに検出されるものとする。この関数は、ピーク流量、比較的短期間の平均流量、または比較的短期間の平均およびピーク流量の流量中間値を決定し得る（例えば、ＲＭＳ流量）。第２の流量閾値は、流量の比較的長期の測定値であり得る。第２の流量閾値は、無呼吸の検出に用いられる流量閾値よりも高い。

５．４．３．２．６ いびきの決定
本技術の一形態において、中央コントローラ４２３０は、いびき範囲の決定のために、１つ以上のいびき決定アルゴリズム４３２６を実行する。

一形態において、いびき検出アルゴリズム４３２６は、呼吸流量信号Ｑｒを入力として受信し、いびきが存在している範囲の測定値を出力として提供する。

いびき検出アルゴリズム４３２６は、流量信号の強度を３０～３００Ｈｚの範囲内において決定するステップを含み得る。さらに、いびき決定アルゴリズム４３２６は、バックグラウンドノイズ（例えば、送風機からのシステム中の気流音）を低減するために呼吸流量信号Ｑｒをフィルタリングするステップを含み得る。

５．４．３．２．７ 気道開通性の決定
本技術の一形態において、中央コントローラ４２３０は、気道開通性の範囲の決定のために、１つ以上の気道開通性決定アルゴリズム４３２７を実行する。

一形態において、気道開通性決定アルゴリズム４３２７は、呼吸流量信号Ｑｒを入力として受信し、信号の出力を約０．７５Ｈｚ～約３Ｈｚの周波数範囲内において決定する。この周波数範囲内におけるピークの存在は、気道開放を示すものとしてみなされる。ピークの不在は、気道閉鎖の兆候とみなされる。

一形態において、ピークが求められる周波数範囲は、治療圧力Ｐｔにおける小さな強制オシレーションの周波数となる周波数範囲である。一具現例において、強制オシレーションは、振幅が約１ｃｍＨ_２Ｏである周波数２Ｈｚである。

一形態において、気道開通性決定アルゴリズム４３２７は、呼吸流量信号Ｑｒを入力として受信し、心臓発生信号の存在または不在を決定する。心臓発生信号の不在は、気道閉鎖の兆候としてみなされる。

５．４．３．２．８ 目標換気の決定
本技術の一形態において、中央コントローラ４２３０は、現在の換気Ｖｅｎｔの測定を入力としてとり、換気測定のための目標値Ｖｔｇｔの決定のために、１つ以上の目標換気決定アルゴリズム４３２８を実行する。

本技術のいくつかの形態において、目標換気決定アルゴリズム４３２８は存在せず、目標値Ｖｔｇｔは所定のものであり、例えばＲＰＴデバイス４０００の構成時におけるハードコーディングによりまたは入力デバイス４２２０を通じた手入力により得られる。

適応型サーボ換気（ＡＳＶ）などの本技術の他の形態において、目標換気決定アルゴリズム４３２８は、患者の典型的な最近の換気を示す値Ｖｔｙｐから目標値Ｖｔｇｔを計算する。

適応型サーボ換気のいくつかの形態において、目標換気Ｖｔｇｔは、高割合でありかつ典型的な最近の換気Ｖｔｙｐ未満の値として計算される。このような形態の高割合は、範囲（８０％、１００％）、または（８５％、９５％）、または（８７％、９２％）内にあり得る。

適応型サーボ換気の他の形態において、目標換気Ｖｔｇｔは、典型的な最近の換気Ｖｔｙｐの１の倍数を若干上回る値として計算される。

典型的な最近の換気Ｖｔｙｐは、いくつかの所定の時間スケールにわたる複数の時間的瞬間にわたる現在の換気Ｖｅｎｔの測定が付近に分布する値であり、密集する傾向がある（すなわち、最近の履歴における現在の換気の測定の中央傾向の測定）。目標換気決定アルゴリズム４３２８の一具現例において、最近の履歴は、数分のオーダーであるが、どんなも場合もチェーン・ストークス漸増サイクルおよび漸減サイクルの時間スケールよりも長くなければならない。目標換気決定アルゴリズム４３２８は、中央傾向の多様な周知の測定のいずれかを用いて、典型的な最近の換気Ｖｔｙｐを現在の換気Ｖｅｎｔの測定から決定し得る。１つのこのような測定として、現在の換気Ｖｅｎｔの測定についてのローパスフィルタ出力であり、時定数が１００秒に等しい。

５．４．３．２．９ 治療パラメータの決定
本技術のいくつかの形態において、中央コントローラ４２３０は、治療エンジンモジュール４３２０中のその他のアルゴリズムのうち１つ以上から返送された値を用いて、１つ以上の治療パラメータの決定のための１つ以上の治療パラメータ決定アルゴリズム４３２９を実行する。

本技術の一形態において、治療パラメータは、瞬間治療圧力Ｐｔである。この形態の一具現例において、治療パラメータ決定アルゴリズム４３２９は、以下の方程式を用いて治療圧力Ｐｔを決定する。

ここで：
・ Ａは振幅であり、
・ Π（Φ，ｔ）は、フェーズの現在の値Φおよび時間のｔにおける（０から１の範囲の）波形テンプレート値であり、
・ Ｐ０はベース圧力である。

波形決定アルゴリズム４３２２がフェーズΦによってインデックスされた値Πのルックアップテーブルとして波形テンプレートΠ（Φ）を提供する場合、治療パラメータ決定アルゴリズム４３２９は、フェーズ決定アルゴリズム４３２１から返送されたフェーズの現在の値Φに対して最近接ルックアップテーブル入力をロケートすることまたはフェーズの現在の値Φにまたがる２つの入力間の他により、方程式（１）を適用する。

振幅Ａおよびベース圧力Ｐ０の値は、下記のようにして選択された呼吸圧力治療モードに応じて、治療パラメータ決定アルゴリズム４３２９によって設定され得る。

５．４．３．３ 治療制御モジュール
本技術の一態様による治療制御モジュール４３３０は、治療エンジンモジュール４３２０の治療パラメータ決定アルゴリズム４３２９からの治療パラメータを入力として受信し、これらの治療パラメータに従って圧力生成器４１４０から空気流れを送達させるように、圧力生成器を制御する。

本技術の一形態において、治療パラメータは治療圧力Ｐｔであり、治療制御モジュール４３３０は、患者インターフェース３０００におけるマスク圧力Ｐｍが治療圧力Ｐｔに等しい空気流れを圧力生成器４１４０から送らせるように、圧力生成器を制御する。

５．４．３．４ 故障状態の検出
本技術の一形態において、中央コントローラ４２３０は、故障状態の検出のための１つ以上の方法４３４０を実行する。１つ以上の方法４３４０によって検出された故障状態は、以下のうち少なくとも１つを含み得る：
・ 停電（電力無しまたは電力不足）
・ 変換器故障の検出
・ コンポーネントの存在を検出できない
・ 動作パラメータが推奨範囲から外れている（例えば、圧力、流量、温度、ＰａＯ２）
・ 検出可能な警告信号を生成するための試験警告の不履行。

故障状態が検出されると、対応するアルゴリズム４３４０信号は、以下のうち１つ以上により、故障の存在を信号伝達する：
・ 可聴、視覚および／または動力学的（例えば、振動的）警告の開始
・ 外部デバイスへのメッセージ送信
・ インシデントのロギング

５．５ 空気回路
本技術の一態様による空気回路４１７０は、使用時において空気流れが２つのコンポーネント（例えば、ＲＰＴデバイス４０００および患者インターフェース３０００）間に移動するように、構築および配置された導管またはチューブである。

詳細には、空気回路４１７０は、空気圧ブロック４０２０の出口および患者インターフェースと流体接続し得る。空気回路は、空気送達管と呼ばれ得る。いくつかの場合において、吸息および呼息のための回路の別個の肢があり得る。他の場合において、単一の肢が用いられる。

いくつかの形態において、空気回路４１７０は、（例えば空気温度の維持または上昇のために）空気回路中の空気を加熱するように構成された１つ以上の加熱要素を含み得る。加熱要素は、加熱ワイヤ回路の形態をとり得、１つ以上の変換器（例えば、温度センサ）を含み得る。一形態において、加熱ワイヤ回路は、空気回路４１７０の軸周囲にらせん状に巻かれ得る。加熱要素は、コントローラ（例えば、中央コントローラ４２３０）と連通し得る。加熱ワイヤ回路を含む空気回路４１７０の一実施例について、米国特許出願第８，７３３，３４９号に記載がある。本明細書中、同文献全体を参考のため援用する。

５．５．１ 酸素供給
本技術の一形態において、補充用酸素４１８０が、空気圧経路における１つ以上のポイント（例えば、空気圧ブロック４０２０の上流）、空気回路４１７０および／または患者インターフェース３０００へ送達され得る。

５．６ 加湿器
５．６．１ 加湿器の概要
本技術の一形態において、患者へ送達されるべき空気またはガスの絶対湿度を周囲空気に相対して変化させるための加湿器５０００が提供される（例えば、図５Ｃに示すようなもの）。典型的には、加湿器５０００は、患者気道へ送達される前に空気流れの（周囲空気に相対する）絶対湿度を増加させかつ温度を増加させるために、用いられる。

ＲＰＴデバイスおよび加湿器
図６Ａ、図６Ｂ、図７、および図８Ａ～図８Ｄは、本技術の一実施例による一体化ＲＰＴデバイスおよび加湿器６０００を示す。図示の例において、一体化ＲＰＴデバイスおよび加湿器６０００は、水リザーバ６１００（加湿器浴槽または加湿器リザーバとも呼ばれる）を受容するような構造および配置にされた水リザーバドック６０５０を含む。図示の例において、一体化ＲＰＴデバイスおよび加湿器６０００は、ＲＰＴデバイスの機能を行うコンポーネントおよび加湿器６０００の機能を行うコンポーネントがＲＰＴデバイスの空気圧ブロック７１００に含まれるように、ＲＰＴデバイスと一体化された加湿器を含む。例えば、図７に示すように、リザーバドック６０５０は、ＲＰＴデバイスの空気圧ブロック７１００と一体化されて一体型ユニットを提供し、リザーバドック６０５０は、水リザーバ６１００を受容するような構造および配置にされる。

別の配置構成において、加湿器（例えば、リザーバドック６０５０）を別個にＲＰＴデバイス（例えば、空気圧ブロック７１００）に設けてもよいことが理解されるべきである。このような配置構成において、加湿器（例えば、リザーバドック６０５０）をＲＰＴデバイス（例えば、空気圧ブロック７１００）へ接続させるために、さらなるインターフェースが用いられ得る。

ＲＰＴデバイスにおいて、送風機が空気圧ブロック７１００内に支持される。送風機は、空気の流れまたは供給を陽圧（例えば、２～５０ｃｍＨ_２Ｏの範囲）において生成するように構造および配置構成にされる。一実施例において、送風機は、単一段設計または多段設計（例えば、２段以上の設計）も含み得る。送風機は、空気の供給を空気圧ブロック７１００内に（例えば、空気圧ブロックの１つ以上の取入口を通じて）、そしてその入口（送風機入口）に引き入れて、出口（送風機出口）で加圧された空気の供給を提供するように作動可能である。例示的な送風機の実施例および詳細について、ＰＣＴ特許出願公開第ＷＯ２０１３／０２０１６７号に記載がある。本明細書中、同文献全体を参考のため援用する。送風機出口は、加湿器（例えば、水リザーバ６１００の入口）と連通する。

空気圧ブロック７１００は、シャーシアセンブリ７３００を含む（例えば上シャーシおよび下シャーシを含む）。シャーシアセンブリ７３００は、シャーシ入口７３１０（例えば、図２０Ｅを参照）およびシャーシ出口７３２０（例えば、図２０Ｆおよび図２１を参照）を含む。例において、１つ以上のパネルおよび／または１つ以上のユーザ入力／ディスプレイを含む外部ハウジング８００２により、空気圧ブロック７１００が封入され得る（例えば、図６Ａおよび図６Ｂを参照）。シャーシアセンブリ７３００は、空気圧ブロック７１００の内部コンポーネント（例えば、送風機）を支持および／または収容する。シャーシアセンブリ７３００は、プリント回路基板アセンブリ（ＰＣＢＡ）７６００も支持する。シャーシアセンブリ７３００、および空気圧ブロックの内部コンポーネントは協働して、シャーシ入口７３１０から送風機の送風機入口へと、送風機の送風機出口からシャーシ出口７３２０へと延びる空気圧気流経路を形成する。シャーシ出口７３２０は、水リザーバがリザーバドック６０５０中に受容されたときにリザーバドック６０５０と水リザーバ６１００の入口と連通するように適合される。リザーバドック６０５０は、以下により詳細に述べるように、水リザーバ６１００の出口と空気回路４１７０との間の連通を可能にするようにも構成および配置される。

例のほとんどは、水リザーバドックへ取り付け可能な空気回路または空気送達管の記載に基づいているが、いくつかの空気送達システムにおいては、加湿および水リザーバがシステム内に設けられていないことが理解されるべきである。この場合、空気送達管は、ＲＰＴデバイスの管係合ドックへ直接的または間接的に接続可能である。水リザーバのドックへの接続に関連する上記開示は全て、このような場合のＲＰＴデバイスの各管係合にも適用可能である。

また、ＲＰＴデバイスおよび／または加湿器により、空気回路または空気送達管４１７０への接続のための接続または係合ポート（すなわち、空気送達管４１７０がＲＰＴデバイスおよび／または加湿器と係合する場所）の一形態が提供される。下記に記載の例において、接続または係合ポートは、例えば水リザーバ６１００の出口管６１３０（出口）、出口マフラー４１２４の出口、中間コンポーネント６７００または中間コンポーネント９７００を含み得る。接続または係合ポートの機能としては、ＲＰＴデバイス内において生成された加圧空気を空気送達管および患者インターフェースへ送ることであるため、加湿器有りまたは加湿器無しでＲＰＴデバイスと共に用いられ得る。例において、接続または係合ポートは、空気送達管に対して位置特定、固定および／または電気的接続も行い得る。また、接続または係合ポートは、（例えば、１つ以上の中間コネクタを介して）ＲＰＴデバイスの加圧流れの源および／または加湿器（例えば水リザーバ）と連通している限り、ＲＰＴデバイスおよび／または加湿器上の任意の位置に配置され得ることが理解されるべきである。例えば、接続または係合ポートは、水リザーバドックの一部を形成してもよいし、あるいは、いずれかの箇所に配置してもよく（すなわち、水リザーバドックの一部を形成しなくてもよく）、水リザーバドック、その水リザーバまたはＲＰＴデバイスの空気圧ブロックと連通され得る。

５．６．２ 加湿器コンポーネント
５．６．２．１ 水リザーバ
図６Ｂおよび図９は、本技術の一例による水リザーバ６１００を示す。水リザーバ６１００は、空気流れの加湿のために蒸発させるべき一定量の液体（例えば、水）を収容または保持するように構成され得る。水リザーバ６１００は、少なくとも呼吸治療セッション期間（例えば、一晩の睡眠）にわたって適切な加湿を提供するための所定の最大量の水を収容するように、構成され得る。典型的には、水リザーバは、数百ミリリットルの水（例えば、３００ミリリットル（ｍｌ）、３２５ｍｌ、３５０ｍｌまたは４００ｍｌ）を保持するように構成されるが、他の体積の液体も利用され得る（例えば、少なくとも１００ｍｌ）ことが理解されるべきである。他の形態において、加湿器は、外部水源（例えば、建物の水供給システム）から水供給を受容するように、構成され得る。

図示の例において、水リザーバ６１００は、リザーバベース６１１２（リザーバ本体、加湿器管ベースまたは加湿器槽体とも呼ばれる）と、リザーバベース６１１２へ取り外し可能に接続されたリザーバ蓋６１１４（加湿器槽蓋とも呼ばれる）とを含む。変形可能なシールは、リザーバ蓋および／またはリザーバベースに設けられ得る（例えば、図１９Ｃ中のリザーバ蓋６１１４の周縁に設けられた変形可能な周縁シール６１１６を参照）。リザーバ蓋６１１４がリザーバベース６１１２へ接続されると、シール６１１６は、蓋６１１４とベース６１１２とを係合させるような構造および配置にされるため、蓋およびベースがシールされ、水リザーバからの水の退出が回避される。リザーバ蓋６１１４は、リザーバベース６１１２から完全に取り外し可能なような構造にされ得るため、例えばリザーバベースおよび／またはリザーバ蓋の内部を清掃する際に患者が使いやすくなる。別の例において、リザーバ蓋６１１４は、リザーバベース６１１２へ恒久的に取り付けられ得る。

一態様によれば、水リザーバ６１００は、空気流れがＲＰＴデバイスを通過する際にＲＰＴデバイスからの空気流れを加湿するように、構成される。一形態において、水リザーバ６１００は、空気流れがリザーバ中の一定量の水と接触しつつ、空気流れのリザーバ中の蛇行経路の移動を促進するように、構成され得る。例えば、水リザーバ６１００は、１つ以上のフローエレメントを含み得る（例えば、蛇行した流路の促進のためのバッフル）。

以下により詳細に述べるように、水リザーバ６１００は、リザーバドック６０５０へ取り外し可能に接続され得る。例において、水リザーバの挿入／除去は、前後方向に述べる経路に沿って設けられ得る。別の例において、水リザーバの挿入／除去のための経路のうち少なくとも一部は、下上方向に延び得る（例えば、挿入経路のうち少なくとも一部は、作動位置への傾斜またはドロップダウンを含む）。

水リザーバ６１００は、例えばリザーバがその通常の動作方向（例えば、任意のアパチャを通じておよび／またはそのサブコンポーネント間に）から変位および／または回転した時にリザーバからの液体放出を抑制するようにも構成され得る。加湿器によって加湿すべき空気流れは加圧されていることが多いため、リザーバは、漏洩および／または流れインピーダンスを通じた空気圧の損失を防止するようにも、構成され得る。
リザーバベース

図９に示すように、リザーバベース６１１２は、複数の壁部および伝導性部位６１５０を含む本体６１４０を含み、この本体６１４０は、典型的には壁部のうち下部のものに設けられて、水量を保持するチャンバまたはキャビティを形成する。

リザーバベース６１１２は、リザーバ蓋６１１４と係合するかまたはインターフェースをとるような構造および配置にされる。図１９Ｃに示すような例において、リザーバベース６１１２の周辺により、例えば水リザーバからの水の退出の回避のために、リザーバ蓋６１１４に設けられたシール６１１６と係合するかまたはインターフェースをとる表面が得られる。

リザーバベース６１１２は、リザーバ蓋６１１４をリザーバベース６１１２に対して保持するような構造および配置にされ得る（例えば、ヒンジ配置構成および／またはリザーバ蓋をリザーバベースへ解放可能に保持するスナップフィットロックタブ）。

伝導性部位
伝導性部位６１５０は、加熱要素（例えば、図６Ｂに示すリザーバドック６０５０のヒータープレート６０８０）からリザーバ中の一定体積の液体への効率的伝熱を可能にするような構成にされる。一形態において、伝導性部位はプレートとして配置され得るが、他の形状も適切であり得る。伝導性部位の全体または一部は、アルミニウムなどの熱伝導性材料（例えば、厚さおよそ２ｍｍ（例えば、１ｍｍ、１．５ｍｍ、２．５ｍｍまたは３ｍｍ））、別の熱伝導金属また何らかのプラスチックによって構成され得る。いくつかの場合において、適切な熱伝導性が、適切なジオメトリのより低伝導性の材料により、達成され得る。

金属プレートおよび／または薄膜を含む伝導性部位
例において、伝導性部位６１５０は、金属プレート、肉薄の非金属フィルム（フィルムプレートまたはフィルムベースとも呼ばれる）、または金属プレートおよび肉薄の非金属フィルムの複合型の積層配置構成を含み得る。以下に述べるように、伝導性部位６１５０は、ヒータープレート６０８０から水リザーバ６１００中の一定体積の液体への熱伝導を可能にするように、リザーバドック６０５０のヒータープレート６０８０へ熱的に接続されるように構成される。

図１０Ａ～図１０Ｇに示す本技術の一例によるリザーバベース６１１２Ｍ１は、金属プレートを伝導性部位６１５０Ｍとして含む。例において、リザーバベース６１１２Ｍ１は、二部構造を含む（すなわち、本体６１４０および金属伝導性部位６１５０Ｍのみ）。

図示のように、本体６１４０は、複数の壁部を含み、金属伝導性部位６１５０Ｍは、壁部のうち下部のものに設けられて、水量を保持するチャンバが形成される。例えば、本体６１４０は、本体６１４０の周辺に延びる側壁部６１４２と、側壁部６１４２に接合する下壁部６１４４とを含む。金属伝導性部位６１５０Ｍは、水保持のためのチャンバを形成するように設けられるかまたは他の様態で下壁部６１４４中に配置される。

例において、金属伝熱部６１５０Ｍは、本体６１４０から別個かつ個別の構造として設けられた後、下壁部６１４４へ作動位置において固定されるかまたは他の様態で設けられる（例えば、金属伝導性部位６１５０Ｍは、下壁部６１４４へ固定された事前形成された構造を含む）。一例において、金属伝導性部位６１５０Ｍは、金属材料（例えば、金属プレート）を含み、本体６１４０は、プラスチックまたは熱可塑性ポリマー材料、例えば、ＰＣ、ＡＢＳ、コポリエステルを含む。例において、伝導性部位６１５０Ｍは、一般的に約０．２５～０．５０ｍｍ（例えば、０．４０ｍｍ）の均一の壁部暑さを有し得る。金属伝導性部位においては、壁部厚さは、より大きくなり得る（例えば、１．５ｍｍまで）。代わりに薄膜が用いられる場合（図１３Ａ～１３Ｃ図についての以下の記載を参照）、より薄い厚さ（例えば、０．１～０．５）が用いられ得る。

例において、金属伝導性部位６１５０Ｍは事前形成され得、その後、プラスチック本体６１４０へインサート成形され得る。例えば、金属伝導性部位は、先ず１つ以上の金属形成プロセスにより作動構成に形成される。次に、金属伝導性部位またはインサートは、本体のために射出モールド中に挿入された後、溶融射出される。射出プロセス時において、溶融物は、金属伝導性部位の縁周囲を流動して、固化するにつれて、金属伝導性部位を本体へロックさせるかまたは接続させる。

図１０Ｇに示すように、金属伝導性部位６１５０Ｍは、下壁部またはプレート６１５２Ｍと、プレート６１５２Ｍの周辺において延びる側壁部６１５４Ｍと、下壁部６１４４と係合するインターフェース部６１５６Ｍとを含み得、これにより、金属伝導性部位６１５０Ｍはプラスチック本体６１４０へ固定される。別の配置構成において、金属伝導性部位６１５０Ｍは、本体６１４０の周辺側壁部６１４２まで延び得るため、下壁部６１４４の代替となり得る。この場合、インターフェース部６１５６Ｍは、本体６１４０の側壁部６１４２と係合し得る。

図１０Ｇに示すように、プレート６１５２Ｍは、リザーバの下内面を形成するように適合された第１の側部６１５２．１Ｍを含み、第１の側部のこの面は、水へ露出される。プレート６１５２Ｍの第２の側部６１５２．２Ｍは、第１の側部の反対側にあり、リザーバの下外面を形成するように適合される。この面は、ヒータープレートへ露出される。よって、板の第２の側部６１５２．２Ｍは、ヒータープレート６０８０と直接係合するような構造および配置にされた接触面を提供する。

例において、プレート６１５２Ｍは、事前形成された曲率またはドーム形状を含み得る（すなわち、第２の側部６１５２．２Ｍにより、概して凸状の面が得られる）。水リザーバ６１００がリザーバドック６０５０中へ挿入されると、水リザーバとヒータープレートとの間が付勢され得、これにより、曲線状のプレート６１５２Ｍが平坦になり（例えば、実質的に平面状になり）、ヒータープレート６０８０の平坦面と整列されるかまたは適合する。曲線状のプレート６１５２Ｍが平坦になることにより、プレート６１５２Ｍとヒータープレート６０８０との間が付勢されて、ヒータープレートと水リザーバ中の水との間の良好な熱接触が確保され、伝熱が向上する。例において、プレートの曲率は、金属伝導性部位を本体の下壁部中のより小さな開口部内へ配置することにより、形成され得る（例えば、下壁部内のより小さな開口部により金属伝導性部位が圧縮されて、プレート内に曲率が形成される）。

別の例において、プレート６１５２Ｍは、概して平面状の形状（すなわち、事前形成された平面状の形状）を含み得る。

図示の例において、金属伝導性部位６１５０Ｍは、プレート６１５２Ｍの面が本体６１４０の下壁部６１４４の平面に対してオフセットおよび概して平行になるように構成される（すなわち、プレートは、水リザーバの作動可能な垂直方向において下壁部に対して下方になる）。別の例において、金属プレート６１５２Ｍは、プレートが下壁部６１４４と概して同一平面上にあるように構成され得、すなわち、これにより、リザーバベースに実質的に平坦な下面が設けられる。別の例において、金属プレート６１５２Ｍは、１つよりも多数の平面において延びるように構成され得る（例えば、金属プレートにより、図２９に示すような段階的配置構成が得られ得る）。

例において、金属伝導性部位６１５０Ｍは、表面処理（例えばプラズマ表面処理）を含み得る。例えば、金属伝導性部位の内側および／または外側（例えば、少なくともインターフェース部６１５６Ｍ上のもの）は、ナノプラズマ粒子を金属表面上に含み得る。

図示の例において、リザーバベース６１１２Ｍ１のプレート６１５２Ｍは、例えばリザーバドック６０５０内のヒータープレート６０８０の形状に対応する矩形形状を含む。しかし、プレート６１５２Ｍは、ヒータープレートの形状に対応している場合も対応しない場合もある他の適切な形状を含み得る（例えば、円形、四角形、楕円）ことが理解されるべきである。例えば、図１１Ａ～図１１Ｃに示すリザーバベース６１１２Ｍ２において、金属伝導性部位６１５０Ｍの金属プレート６１５２Ｍは円形である。別の例において、プレートおよび／またはインターフェース部の周辺に延びる側壁部をより長尺にすると、より深く引き込まれた金属伝導性部位が得られ得る（例えば、図１２Ａ～図１２Ｃにおいて、リザーバベース６１１２Ｍ３においてより深く引き込まれた矩形状の金属伝導性部位６１５０Ｍを参照）。

図１３Ａ～図１３Ｃに示す本技術の一例によるリザーバベース６１１２Ｆ１は、肉薄の非金属フィルムを伝導性部位６１５０Ｆとして含む。例において、リザーバベース６１１２Ｆ１は、二部構造を含む（すなわち、本体６１４０および薄膜伝導性部位６１５０Ｆのみ）。

薄膜導電性部位６１５０Ｆは、熱伝導性の非金属材料、例えば、シリコーン、ポリカーボネート、または他の熱可塑性またはエラストマー材料、例えば、コポリエステルを含み得る。

一実施例において、薄膜伝導性部位６１５０Ｆの厚さは、約０．０５ｍｍ～０．５ｍｍ（例えば、０．１０ｍｍ～０．１２５ｍｍ）であり得る。まれではあるが、より肉厚のフィルム（すなわち、１．５ｍｍまでのもの）が必要になり得る。一実施例において、薄膜伝導性部位６１５０Ｆの厚さは、約１ｍｍ以下、例えば、０．５ｍｍ、約０．５ｍｍ未満、例えば、０．４０ｍｍ、０．３７５ｍｍ、０．２５ｍｍ、０．１７５ｍｍ、０．１２５ｍｍであり得る。

図１３Ａ～図１３Ｃに示すように、リザーバベース６１１２Ｆ１の本体６１４０は、下壁部６１４４と、下壁部６１４４の周辺周囲に延びる側壁部６１４２とを含む。このような例において、薄膜伝導性部位６１５０Ｆは、下壁部６１４４に設けられた穴部にわたって延び得、薄膜伝導性部位６１５０Ｆは、穴部にわたるだけでなく、残りの下壁部６１４４のうち少なくとも一部にわたっても設けられるため、両者間のシールが向上し、リザーバベースからの水漏洩の回避も確保される。よって、薄膜伝導性部位６１５０Ｆにより、リザーバベースの下部のうち少なくとも一部が形成されて、チャンバの形成が維持され、水リザーバからの水退出が回避される。また、例えばシール向上のために、薄膜伝導性部位６１５０Ｆは、下壁部６１４４中の開口部と重複し得るだけでなく、リザーバベースの側壁部６１４２のうち少なくとも一部を被覆するように延びる。

例において、薄膜伝導性部位６１５０Ｆは、本体６１４０と別個かつ個別の構造として設けられた後、作動位置において本体へ固定されるかまたは他の様態で設けられる（例えば、薄膜は、本体へ固定された事前形成された構造を含む）。一例において、本体６１４０は、プラスチックまたは熱可塑性ポリマー材料、例えば、ＰＣ、ＡＢＳ、コポリエステルを含む。

例において、薄膜伝導性部位６１５０Ｆは、事前形成された後、インサート成形され得るかまたは他の様態で（例えば、接着剤の利用により）プラスチック本体６１４０へ取り付けられ得る。例えば、薄膜伝導性部位６１５０Ｆは、先ず（例えば、真空形成プロセスにより）作動構成に形成される。あるいは、薄膜伝導性部位６１５０Ｆは、インサートされた後にプラスチック本体６１４０へインサート成形されてもよい。出願ＷＯ２０１８／０９４４５２が参照される。ここに、同文献全体を参考のため援用する。

薄膜の成形後の形成
薄膜プレートをインサート成形してポリカーボネート加湿管ベース（水リザーバベースとも呼ばれる）を得る際、フィルムのジオメトリに問題が発生し得る。通常、フィルムは、事前形成され（例えば、深く引き込まれた段階的形状にスタンプされ）た後、インサート成形される。しかし、型が冷却されると、型内の多様な位置における張力に起因して、フィルムの屈曲および歪みに繋がり得る。これは、薄膜および水リザーバベースが異なる機械的特性および熱膨張／収縮係数を有する点に起因して、さらに複雑化する。そのため、冷却プロセス時において、フィルム形状の制御が困難になる。この問題を軽減する１つの方法として、以下がある。事前形成の代わりに、成型プロセス後にフィルム形状を形成すること（成型後形成）。換言すると、フィルムを平坦なフィルムとしてインサート成形した後、引き込まれた形状に形成すること。それでも、成形時においては、フィルムは収縮する。しかし、収縮した／歪んだフィルムが後形成される際、形成プロセスによりフィルムの締め付け／直線化が行われて、より緊密なジオメトリ制御が可能になる。

成形後形成プロセスにおいて、フィルムは、何らかの形態（例えば、平坦なフィルム）から開始される。このフィルムは、非最終形態（例えば、平坦な構成）である。その後、プラスチックは、平坦なフィルムの周囲にインサート成形され得る。プラスチック成形後は、フィルムにおいて再度歪みが発生する。しかし、ここで、所望の段階的ジオメトリ形状の生成のために、打抜加工、真空形成または熱真空形成を用いることが可能である。このフィルムの最終ジオメトリの形成時において、フィルムを制御された様態で伸張させることにより、極めて平坦な面の形成が可能になる。

真空形成プロセスは、温度および圧力を通常用いるため、成形に類似しているが、一定の若干のジオメトリ変更を行うためには、圧力を単独で用いれば十分であり得る。ジオメトリ制御を良好に行うためには、温度制御を良好に行う必要がある。この目的のため、段階的ジオメトリの形成時において、フィルムのみを軟化させ、フィルム周囲のプラスチック槽面は軟化させないようにする。よって、槽およびフィルムの化学組成、後形成の温度および圧力は、成形後形成プロセス時において槽ではなくフィルムが軟化するようなものである。この形状は、段階的でなくてもよく、平坦な表面から緩みを除去した１つ以上の窪み（張力付加領域）を有する任意の表面であってもよい。

本技術は、マスク、ＬＣＤ窓の製造（抗菌性の薄膜による被覆のために）マスク、ＬＣＤ窓の製造においても用いられ得る（フィルムは、バイオバーデンを収集し得る任意の隙間、縁部を被覆する）。一例において、フィルムは、（すなわち、使い捨てマスクのための）マスク製造のために用いられ得る。薄膜は、恐らくはマスクのプレナムチャンバを既定する壁部の形成に最適である。しかし、フレームに薄膜本体を設けてもよく、その場合、より高剛性のプラスチックにより形成された縁部のみがシールへ取り付けられる。マスク内のジオメトリは、ずっと複雑であり得、例えば、厳しい制御が重要になり得る。これは、後形成によって行われ得る。フィルムと残りの面との間において均質の接合を確保することが、重要である。

薄膜処理を成形後に行う必要がある場合、フィルムを効率的に行うために、成型プロセス後に一定の時間経過が必要になる。この時間は、成型されたフィルムの冷却および／または冷却プロセスに関連する収縮プロセスの段階に関連し得る。これら２つのプロセス（冷却および収縮）はどちらとも、時間に対しては非線形に依存する一方、近密に関連するが異なっているプロセスである。これは、提案のプロセスの１つの明確な利点であり、フィルム形成プロセスをインサート成型プロセスと同じツールおよびセットアップにおいて行うことが可能になる。これにより、実質的な時間およびコストの節減に繋がり得る。

薄膜の後成形形成の成功のためには、任意の有意な寸法変化（例えば、フィルム上におけるプラスチック成形時において発生するもの）を全て安定化させた後にフィルム形成を可能にするプロセスに従うことが重要である。その目的とは、十分な冷却を既に行った後の段階において後形成を完了させることにより、プラスチックの寸法安定性に近づけることである。よって、後成形形成により、形成された薄膜コンポーネントの良好な寸法制御および寸法安定性が可能になり得る。

また、本プロセスは、当該部分において窓／開口部が存在する任意の箇所に適している。この窓部により、打抜加工ツールがフィルムへアクセスして、成形後形成ステップを行うことが可能になる。複数の窓を含む配置構成は、１つ以上の大型フィルム部と共に用いられ、そのうち１つ以上は、窓のうち１つより多くを被覆するように配置される。

図１３Ｃに示すように、薄膜伝導性部位６１５０Ｆは、下壁部またはプレート６１５２Ｆと、プレート６１５２Ｆの周辺周囲に延びる側壁部６１５４Ｆと、薄膜伝導性部位６１５０Ｆをプラスチック本体６１４０へ固定させるインターフェース部６１５６Ｆとを含む。

図１３Ｃに図示のように、プレート６１５０Ｆは、水へ露出されたリザーバの底内面を形成するように適合された第１の側部６１５２．１Ｆを含む。プレート６１５２Ｆは、第２の側部６１５２．２Ｆを含む。第２の側部６１５２．２Ｆは、第１の側部と反対側に設けられ、いくつかの場合において、リザーバの下外面を形成するように適合される。この下外面は、ヒータープレートへ露出される。よって、板の第２の側部６１５２．２Ｆは、ヒータープレート６０８０と直接係合するような構造および配置にされた接触面を提供する。

例において、金属熱伝導プレートに関連して述べた例と同様に、６１５２Ｆプレートは、事前形成された曲率またはドーム形状を含み得る（すなわち、第２の側部６１５２．２Ｆにより、概して凸状の面が得られる）。水リザーバ６１００がリザーバドック６０５０中へ挿入されると、水リザーバおよびヒータープレートは相互に付勢され得、これにより曲線状のプレート６１５２Ｆは平坦になって（例えば、実質的に平面状になって）、ヒータープレート６０８０の平坦面と整列されるかまたは適合する。曲線状のプレート６１５２Ｆの平坦化により、プレート６１５２Ｆとヒータープレート６０８０との間に付勢が生成されて、ヒータープレートと水リザーバ内の水との間において良好な熱接触および伝熱向上が確保される。例において、プレートの曲率は、本体の下壁部中のより小さな開口部内に薄膜伝導性部位を配置することによって形成され得る（例えば、下壁部中のより小さな開口部により薄膜伝導性部位が圧縮されて、プレート内に曲率が形成される）。

別の例において、プレート６１５２Ｆは、概して平面状の形状（すなわち、事前形成された平面状形状）を含み得る。

図示の例において、薄膜伝導性部位６１５０Ｆの構成は、プレート６１５２Ｆがオフセットされかつ本体６１４０の下壁部６１４４に対して概して平行となる（すなわち、プレートが下壁部の下側に配置される）ような構成である。別の例において、薄膜伝導性部位６１５０Ｆの構成は、プレート６１５２Ｆが下壁部６１４４と概して同一平面上に配置されるような構成にされ得、すなわち、これにより、リザーバベースの下面が実質的に平坦になる。別の例において、薄膜伝導性部位６１５２Ｆは、１つよりも多くの平面において延びるように構成され得、例えば、薄膜伝導性部位により、図２９に示すような段階的配置構成が得られ得る。

図示しない例において、例えば薄膜伝導性部位の剛性向上および／または薄膜伝導性部位をヒータープレートへ押圧するための力の向上のために、１つ以上のリブが薄膜伝導性部位６１５０Ｆの第１の側部および／または第２の側部に沿って設けられ得る。

例において、例えば熱伝導度向上のために、肉薄の金属層（例えば、メッシュ）が、薄膜伝導性部位６１５０Ｆの第１の側部および／または第２の側部に沿って設けられ得る。

図示の例において、リザーバベース６１１２Ｆ１のプレート６１５２Ｆは、矩形形状（例えば、リザーバドック６０５０内のヒータープレート６０８０の形状に対応するもの）を含む。しかし、プレート６１５２Ｆは、ヒータープレートの形状に対応しているかまたは対応していない他の適切な形状（例えば円形、四角形、楕円）を含み得ることが理解されるべきである。例えば、図１４Ａ～図１４Ｃに示すリザーバベース６１１２Ｆ２において、薄膜伝導性部位６１５０Ｆのプレート６１５２Ｆは、円形である。

図１５Ａ～図１５Ｃに示す本技術の一例によるリザーバベース６１１２ＭＦ１は、金属プレートおよび肉薄の非金属フィルムの複合型の積層配置構成を伝導性部位６１５０ＭＦとして含む。例において、リザーバベース６１１２ＭＦ１は、三部構造、（すなわち、本体６１４０、金属伝導性部位６１５０Ｍおよび薄膜伝導性部位６１５０Ｆ）を含む。

薄膜導電性部位６１５０Ｆは、熱伝導性の非金属材料、例えば、シリコーン、ポリカーボネート、または他の熱可塑性またはエラストマー材料、例えば、コポリエステルを含み得る。

一実施例において、薄膜伝導性部位６１５０Ｆの厚さは、約０．０５ｍｍ～１ｍｍ（例えば、０．１０ｍｍ～０．１２５ｍｍ）であり得る。一実施例において、薄膜の厚さは、約１ｍｍ未満、例えば、０．５ｍｍ、約０．５ｍｍ未満、例えば、０．４０ｍｍ、０．３７５ｍｍ、０．２５ｍｍ、０．１７５ｍｍ、０．１２５ｍｍであり得る。

図１５Ｂおよび図１５Ｃに示すような例において、リザーバベース６１１２ＭＦ１は、下壁部６１４４と、下壁部６１４４の周辺周囲に延びる側壁部６１４２とを含む。このような例において、薄膜伝導性部位６１５０Ｆは、金属伝導性部位６１５０Ｍを被覆するだけでなく、残りの下壁部６１４４のうち少なくとも一部にわたって延びる。このような配置構成により、金属伝導性部位６１５０Ｍと下壁部６１４４との間の接続境界を薄膜伝導性部位６１５０Ｆによって確実に被覆することにより、両者間の水シールが向上され、リザーバベースからの水漏洩が回避される。シール向上のために、薄膜伝導性部位６１５０Ｆは、金属伝導性部位６１５０Ｍと下壁部６１４４との間の接続境界を被覆し得るだけでなく、リザーバベースの側壁部６１４２の少なくとも一部も被覆するように延び得る。このようにすることは、金属伝導性部位６１５０Ｍが下壁部６１４４全体および恐らくは側壁部６１４２の一部を被覆し、接続境界は実際は金属伝導性部位６１５０Ｍと側壁部６１４２との間に設けられる場合において、特に重要である。

図示のように、薄膜伝導性部位６１５０Ｆは、水へ露出されたリザーバの底内面を形成するように適合された第１の側部６１５２．１Ｆを含む。薄膜伝導性部位６１５０Ｆは、第１の側部と反対側の第２の側部６１５２．２Ｆを含む。第２の側部６１５２．２Ｆは、金属伝導性部位６１５０Ｍと、リザーバベースの下壁部６１４４および側壁部６１４２と係合するように適合される。金属伝導性部位６１５０Ｍにより、リザーバの下外面が形成され、この面は、ヒータープレート６０８０へ露出される。よって、金属伝導性部位６１５０Ｍは、ヒータープレート６０８０と直接係合するような構造および配置にされた接触面を提供する。このような配置構成の１つの利点として、耐擦傷性がずっと高い金属熱伝導プレート６１５０Ｍがヒータープレート６０８０との機械的相互作用に晒される点がある。

別の例（図示せず）において、薄膜伝導性部位６１５０Ｆは、リザーバの他方の外部表面上に配置され得、金属伝導性部位６１５０Ｍにより、リザーバの水内容物と接触する内側の（上）面が形成される。このような配置構成の利点として、この場合、薄膜伝導性部位の化学組成および安定性の重要性が低くなる（例えば、薄膜伝導性部位は、リザーバ中の水と接触しない）点があり得る。

例において、例えば薄膜の剛性向上および／または薄膜／金属プレートをヒータープレートへ押圧するように適合された力の向上のために、１つ以上のリブが薄膜伝導性部位６１５０Ｆの第１の側部および／または第２の側部に沿って設けられ得る。

例において、例えば熱伝導度の向上のために、金属層（例えば、メッシュ）が薄膜伝導性部位６１５０Ｆの第１の側部および／または第２の側部に沿って設けられ得る。

例において、伝導性部位６１５０ＭＦは、（例えば、安定性、熱伝導度の効率化などのために）ヒータープレート６０８０の形状に対応する形状を含み得る。例えば、伝導性部位６１５０ＭＦおよびヒータープレート６０８０は、円形形状または非円形形状を含み得る（例えば、矩形、四角形、楕円）。図示の例において、伝導性部位６１５０ＭＦは、矩形形状を含む（例えば、リザーバドック６０５０内のヒータープレート６０８０の形状に対応する形状）。図１６Ａ～図１６Ｃに示す別の例において、リザーバベース６１１２ＭＦ２は、円形の伝導性部位６１５０ＭＦを含む。図１７Ａ～図１７Ｃに示すリザーバベース６１１２ＭＦ３は、より深く引き込まれた矩形形状の伝導性部位６１５０ＭＦを含む。

例において、薄膜伝導性部位６１５０Ｆおよび金属伝導性部位６１５０Ｍは、本体６１４０と別個かつ個別の構造として設けられ、その後、作動位置において本体６１４０へ固定されるかまたは他の様態で設けられる（例えば、薄膜伝導性部位６１５０Ｆおよび金属伝導性部位６１５０Ｆにおいて、事前形成された構造が本体６１４０へ固定される）。一例において、本体６１４０は、プラスチックまたは熱可塑性ポリマー材料、例えば、ＰＣ、ＡＢＳ、コポリエステルを含む。

例において、薄膜伝導性部位６１５０Ｆは、事前形成され（例えば、真空計形成され）得、事前形成された金属伝導性部位６１５０Ｍへ組み付けられ得る（例えば、接合、ラミネート、または単に相互に係合され得る）。次に、薄膜／金属プレートの熱伝導性アセンブリ部位が、プラスチック本体６１４０へインサート成形され得る（すなわち、本体６１４０の下壁部および側壁部が、薄膜／金属プレートアセンブリへインサート成形される）。別の例において、金属伝導性部位６１５０Ｍは、本体６１４０へインサート成形され得、その後、薄膜伝導性部位６１５０Ｆは、少なくとも金属伝導性部位６１５０Ｍおよび金属伝導性部位６１５０Ｍを超えた本体６１４０の領域を被覆するように金属伝導性部位６１５０Ｍへ接合され得、これにより、金属伝導性部位６１５０Ｍと本体６１４０との間の接触境界のシーリングの信頼性が確保される。上記例のうちいずれかにおいて、薄膜伝導性部位６１５０Ｆと金属伝導性部位６１５０Ｍとの間のエアギャップ全ての除去のために、真空が用いられ得る。また、例えば組み立ての維持および良好な熱伝導度の確保のために、接合（例えば、接着剤）が薄膜伝導性部位６１５０Ｆと金属伝導性部位６１５０Ｍとの間において用いられ得る。

例において、金属伝導性部位６１５０Ｍおよび／または薄膜伝導性部位６１５０Ｆは、事前形成された曲率またはドーム形状を含み得る（すなわち、金属伝導性部位６１５０Ｍおよび／または薄膜伝導性部位６１５０Ｆの下側により、概して凸状の面が得られる）。水リザーバ６１００がリザーバドック６０５０中へ挿入されると、曲線状の金属プレート／薄膜は平坦になって（例えば、実質的に平面状になって）、ヒータープレート６０８０の平坦面と整列されるかまたは適合する。曲線状の金属プレート／薄膜の平坦化により、金属プレート／薄膜とヒータープレートとの間の付勢が生成されるため、ヒータープレートと水リザーバ内の水との間の良好な熱接触の確保および伝熱向上が可能になる。例において、金属プレート／薄膜の曲率は、金属プレート／薄膜を本体の下壁部内のより小さな開口部内へ配置することにより、形成され得る（例えば、下壁部内のより小さな開口部により、金属プレート／薄膜が圧縮されて、金属プレート／薄膜において曲率が形成される）。

別の例において、金属プレート／薄膜は、概して平面状の形状を含み得る（すなわち、事前形成された平面状の形状）。

図示の例において、金属プレート／薄膜の構成は、金属プレート／薄膜がオフセットされかつ本体の下壁部に対して概して平行となる（すなわち、金属プレート／薄膜が下壁部の下側に設けられる）ような構成である。別の例において、金属プレート／薄膜の構成は、金属プレート／薄膜が下壁部と概して同一平面上に設けられる（すなわち、これによりリザーバベースが実質的に平坦な下面を備える）ような構成であり得る。別の例において、金属プレート／薄膜は、１つよりも多くの平面において延びるように構成され得る（例えば、金属プレート／薄膜により、図２９に示すような段階的配置構成が得られ得る）。

薄膜伝導性部位６１５０Ｆおよび金属伝導性部位６１５０Ｍの組み合わせが有利であり得る点として、薄膜の非金属特性（例えば、熱可塑性材料またはエラストマー材料の特性）により、腐食保護（例えば、水への露出に起因する保護）と、（例えば、加湿用水リザーバのシール形成のための）下壁部へのシールの向上とが可能になる一方、金属プレートの金属特性により、（例えば複数の患者に応じた多用途のために）良好な熱接触、剛性および耐久性も得られる。

リザーバ蓋
図１８Ａ、図１８Ｂおよび図１９Ａ～図１９Ｇに示すように、リザーバ蓋６１１４は、リザーバベース６１１２へ接続するように構成される。この構成は、水リザーバが開口構成と閉鎖構成との間において転換可能となるように配置され得る。例えば、リザーバ蓋６１１４は、ヒンジピンによりリザーバベース６１１２へヒンジ式に接続され得る。別の例において、リザーバ蓋６１１４は、例えばスナップフィットによりリザーバベース６１１２とインターロックされるように適合された複数の弾性ロックタブを含み得る。例において、シール６１１６（例えば、図１９Ｃを参照）は、例えば蓋６１１４と水リザーバのベース６１１２との間の接続境界からの水退出を回避するように、リザーバ蓋６１１４に設けられ得る。一形態において、リザーバ蓋６１１４は、生体適合性材料（例えば、プラスチックまたは熱可塑性ポリマー（例えば、ＰＣ、ＡＢＳ、コポリエステル））から構築され得る。

図１８Ａおよび図１８Ｂに示すように、リザーバ蓋６１１４は、水リザーバ中への空気流れを需要する入口を提供するように配置された入口管６１２０と、加湿された空気流れを水リザーバから送達させるための出口を提供するように配置された出口管６１３０とを含み得る。

リザーバ蓋６１１４がリザーバベース６１１２へ接続されると、入口管６１２０は、チャンバの外側に配置された外側（入口）端６１２４と、チャンバの内側に配置された内側（出口）端６１２６とを含む。同様に、出口管６１３０は、チャンバの外側に配置された外側（出口）端６１３４と、チャンバの内側に配置された内側（入口）端６１３６とを含む。入口管または出口管はそれぞれ、（各管の入口および出口それぞれと共に）、リザーバ蓋の壁部内の開口部によって代替され得る。

例において、入口シール６１２２は、入口管６１２０（例えば、図１９Ａ、図１９Ｂ、図１９Ｄおよび図２１を参照）の自由外側（入口）端に設けられ、出口シール６１３２は、出口管６１３０の自由外側（出口）端（例えば、図２１を参照）に設けられる。入口シール６１２２および出口シール６１３２を水リザーバの一部とし、例えばＲＰＴデバイスの一部としないことにより、水リザーバの交換のたびにシール交換も可能になる。すなわち、これは、特に使い捨て水リザーバの場合において有用な特徴である。例において、各シールは、ベローズ型配置構成を含むため、これら２つの接続部分間の接続解除が一定レベルで可能になり得る。例において、入口シールおよび出口シールは、リザーバ蓋へオーバーモールドされ得る。

図８０は、図６Ａ、図６Ｂ、図７、および図８Ａ～図８Ｄの図示と類似の本技術の一実施例による一体化ＲＰＴデバイスおよび加湿器６０００を示す。

図８０、図８５、図８６および図１３４～図１３６は、本技術の別の例による水リザーバ６１００およびリザーバ蓋６１１４を示す。本例において、入口シール６１２２（例えば、ベローズ型配置構成）が入口管６１２０の自由外側（入口）端に設けられ、出口管６１３０の自由外側（出口）端にはシールは設けられない。本文において後述するように、このようなシールを、出口管６１３０が取り付けられた中間要素の入口に設けてもよい。使用時において、水リザーバ６１００がリザーバドック６０５０へ取り外し可能に接続されると、水リザーバ６１００の入口管６１２０（または入口）の入口シール６１２２は、リザーバドック６０５０のシャーシ出口７３２０（ドック入口）（図１００、図１３１および図１３３を参照）との面シールを提供するような構造および配置にされ、中間コンポーネント９７００の入口シール９７１５（以下にさらに詳述する）は、水リザーバ６１００の出口管６１３０（または出口）の出口端（図１３１および図１３２を参照）との面シールを提供するような構造および配置にされる。

また、本例において、入口シール６１２２は、使用時において蓋６１１４とベース６１１２との間にシールを形成する（図８５を参照）（例えば、エラストマー材料の一体型のワンピースコンポーネントからのシール６１２２および６１１６）ように配置された周縁シール６１１６と共に、リザーバ蓋６１１４へオーバーモールドされ得る。すなわち、図８５に示すように、リザーバ蓋６１１４（入口管６１２０および出口管６１３０を含む）は、比較的剛性の材料（例えば、熱可塑性ポリマー（例えば、ＰＣ、ＡＢＳ））によって構築された第１の部分またはベースモールドを含み得、入口シール６１２２およびシール６１１６は、（例えばオーバーモールドによって）第１の部分へ設けられた比較的軟質の材料（例えば、熱可塑性エラストマー（ＴＰＥ）またはシリコーン）によって構築された第２の部分またはオーバーモールドを含み得る。

さらに、８０および８５に示すように、サムグリップ６１３３（例えば、機械的インターロック、スナップフィット）をリザーバ蓋６１４４の上部に設けることにより、水リザーバ６１００の手動操作および／または水リザーバ６１００およびリザーバドック６０５０のインターロックが促進され得る。このサムグリップにより、挿入時におけるリザーバ６１００の整列が支援される。また、これにより、ＲＰＴデバイスおよび加湿器６０００の外側に延びる（例えば、図７９を参照）リザーバ６１００の部位のグリップおよびスクイーズも支援される。周縁シール６１１６は変形可能であるため、ユーザがサムグリップを押圧する（リザーバ６１００がスクイーズされると）、シールが降伏し、水リザーバ６１００の横断寸法が現象する。その結果、水リザーバ６１００の加湿ドック内への／からの挿入または引き抜き時における摩擦が低下し、ユーザの経験が全体的に向上する。
スピルバック保護

一例において、水リザーバ６１００は、例えば水リザーバがその通常の動作方向から変位および／または回転した時にリザーバからの液体放出を抑制するようにも構成され得る。

例において、図１９Ｃ～図１９Ｇに示すように、入口管６１２０は、チャンバの外側に配置された外側（入口）端６１２４と、チャンバの内側に配置された内側（出口）端６１２６とを含み得る。入口管６１２０は、入口端６１２４を含む入口部位６１２３と、出口端６１２６を含む出口部位６１２５とを含む。水リザーバの下部（例えば、伝導性部位６１５０）は、水リザーバが通常の作動方向（例えば、図１９Ｃを参照）にある際に実質的に水平である底面を規定する下面を含む。図１９Ｃ～図１９Ｇに示すように、入口管６１２０の多様な部位は、異なる方向に延び得る（例えば、少なくともその流れに沿った１点に沿った方向を変化させ得る）。例えば、入口部位６１２３は、底面に対して実質的に平行な平面において延びる一方、出口部位６１２５は、異なる方向において延びる（この場合、出口部位６１２５は、底面に対して実質的に垂直な面において延びる）。多様なねじれおよび／または方向転換が、入口管６１２０の各部位（方向）に導入され得る。

図１９Ｃ～図１９Ｇに示すように、出口管６１３０は、チャンバの外側に配置された外側（出口）端６１３４と、チャンバの内側に配置された内側（入口）端６１３６とを含み得る。入口管と同様に、出口管は、異なる方向においても延び得る（例えば、少なくともその流れに沿った１点において方向を変化させ得る）。さらに同様に、出口管６１３０は、垂直ねじれ部（底面に対して実質的に垂直な平面内における屈曲部）を含み得るため、出口管６１３０は出口端６１３４から入口端６１３６にかけて下方に曲線状にされ、これにより、出口管６１３０が入口管６１２０の入口部位６１２３の下方において交差することが可能になる。さらに、出口管６１３０の入口端６１３６における開口部は、（圧力および流れに起因して水が出口管から押し出された際に発生する）スピッティングを回避するように上方に曲線状にされる。

図１９Ｄ、図１９Ｈ－１、図１９Ｈ２および図１９Ｉは、水平面における入口管および出口管の方向変化を示す一方、図１９Ｃ、図１９Ｅおよび図１９Ｆは、垂直方向における同様の方向転換を示す（各管は、伝導性部位６１５０によって設けられた下面へより近接して有効に移動するかまたは伝導性部位６１５０によって設けられた下面から離隔方向に有効に移動する）。

例において、入口管６１２０の出口端６１２６および出口管６１３０の入口端６１３６は、リザーバチャンバの幾何学的中心または重心またはその近隣に配置され得る。

入口管６１２０および出口管６１３０は、以下のうち少なくとも１つ（および好適には少なくとも２つ）：
ａ．入口管６１２０の外側（入口）端６１２４；
ｂ．入口管６１２０内側（出口）端６１２６；
ｃ．出口管６１３０の外側（出口）端６１３４；および
ｄ．出口管６１３０の内側（入口）端６１３６、
が以下の場合に所定の最大水量レベルを上回るようにさらに配置され得る：（１）水リザーバが作動方向にある場合およびｄ（２）水リザーバが、作動方向から少なくとも１つの方向において９０度だけ回転された場合。

上記した入口／出口の配置構成ならびに水平位置および垂直位置に応じて、いくつかの例において、リザーバが９０度だけ回転された際、同じ少なくとも１つの（または２つの）入口／出口は、水位よりも高い位置まで上昇される。他の配置構成において、少なくとも１つの（または２つの）入口／出口が、作動構成中の水位の上方へ上昇され、リザーバが９０度だけ傾斜された際、他方の少なくとも１つの（または２つの）入口／出口が水よりも上方に上昇される。

例えば、図１９Ｃは、入口端６１２４、出口端６１２６、出口端６１３４および入口端６１３６全てが作動方向における水位の上方にある様子を示し、図１９Ｄは、水リザーバが９０度だけ前方に回転された際に出口端６１２６および出口端６１３４が水位の上方にある様子を示し、図１９Ｄは、水リザーバが９０度だけ再度回転された際に入口端６１２４および入口端６１３６が水位の上方にある様子を示す。また、図１９Ｇは、水リザーバが１８０度だけ回転されたときに少なくとも出口端６１２６が水位を超えている様子を示す。このような配置構成により、水リザーバの入口管および出口管へ多様な方向から水が進入する事態を抑制するスピルバック保護が達成される。加えて、図１９Ｃおよび図１９Ｉに示すように、作動構成において、入口管６１２０は傾斜されて、その入口６１２４がその出口端６１２６よりも高くなる。これにより、水リザーバが作動構成に戻ると、充填された後に（多様な角度（任意の方向における少なくとも９０度を含む）において回転されるプロセスにおいて）、入口管中の水は全て出口端（および水チャンバ）へ再び滴り落ち、（ＲＰＴデバイスの方向にある）入口端へは移動しない。これにより、水リザーバがリザーバドック内に受容される際においてＲＰＴデバイス中の電子機器の損傷が回避され得る。

上記したように、水リザーバ用の入口管６１２０および出口管６１３０は、曲線状であり得、異なる方向に延び得る（例えば、１つ以上の平面において曲線状にされ得る）。曲線状の管６１２０および６１３０により、（例えば槽の水溢保護の向上のための）管入口および出口の水リザーバ内の好適な位置への位置決めにおける制御および柔軟性の向上が可能になり得る。これら曲線状の管６１２０および６１３０により、水リザーバ内の空間のより良好な利用が可能になり得、リザーバ要素全てを一体としてより良好に統合することができ得、また、リザーバの気密フィーチャの規定の柔軟性も増し得る。例において、入口管６１２０および／または出口管６１３０は、例えば水リザーバ内への管の配置における柔軟性の提供のために、自身の流れ（例えば、図１９Ｄを参照）に沿って直径も変化させ得る。

上記したように、スピルバックフィーチャにおいては、入口管６１２０および出口管６１３０において出口端６１２６／入口端６１３６を水リザーバの中間部に（例えばリザーバチャンバの幾何学的中心または重心またはその近隣に）配置させることが必要となるため、水リザーバが一定量の水を含む状態で水リザーバが偶発的に多様な角度で転倒した場合、その水の水位は、入口６１２０および出口管６１３０のこれらの中央に配置された出口端６１２６／入口端６１３６の高さを概ね下回る。このようにして、管の曲線状形状による支援が可能になる。詳細には、これらの管のうち１つが出口端６１２６／入口端６１３６が水リザーバに対して中央に配置されるように方向付けられた場合、他方の管は、単純に第１の管の下側に延び得ず（そのため、水リザーバの中央領域から離隔方向に移動し得る）が、第１の管の下側に屈曲した後に再度任意の所望の高さまで曲線状に延びるように方向付けられ得る。

別の設計において、これらの管は、異なる高さにおいて相互に交差するだけであり得る。このような設計により、リザーバの２つの側部が規定され得、その場合、リザーバがこれらの側部のうち１つにおいて傾斜された際、入口または出口管のうち１つが上方に傾斜され、これにより、各槽内開口部が水位よりも高く保持される。この場合、軽減手段がとられない限り、他方の管は、下方に傾斜され、槽内開口部は、水へ露出され得る。本技術の曲線状設計により、この問題が軽減され得る。

入口管６１２０および／または出口管６１３０の曲率は、浅くされ得るか、または有意な曲率であり得る。この曲率は、槽の内部空間の最適化のために１つよりも多くの平面内に設けてもよい。管を曲線状にするコンセプトは、第１の曲率に続いて第２の曲率を導入することによってさらに向上され得、これにより、第１の曲率の方向または少なくとも半径が変更され得る。このような形状を支える前提として、一定の方向における水伝播に対してさらなる抵抗が得られ得る点がある。よって、このような一連の「よじれ」を１つ以上の平面／方向において延ばすことにより、各１つ以上の方向における抵抗が得られ得、リザーバの転倒／転覆／反転に対して保護が得られる。もちろん、この恩恵は、設計複雑性と、気流に対する抵抗とに対して重み付けされ得る。

よって、リザーバの内側に曲線状管を設けることにより、リザーバの水溢フィーチャの向上と、空間の有効利用向上とが可能になり得る。これにより、リザーバの内部の最適化と、リザーバの全体的体積の低減とが可能になり得る。このような全体的効率向上により、より大量の水への適合またはリザーバの全体的サイズの低減が可能になる。連続的曲率の導入の代わりに、管の方向変更を流れに沿った所望のポイントにおいて別個の角度を介して行うことによっても、同様の結果が達成され得る。

例において、入口管６１２０および／または出口管６１３０は、リザーバ蓋６１１４と別個かつ個別の構造として設けられ得（例えば、以下に述べる図１９Ｈ－１、図１９Ｈ－２および図１９Ｉを参照）、その後、作動位置においてリザーバ蓋６１１４へ固定されるかまたは他の様態で設けられる。あるいは、入口管６１２０および／または出口管６１３０は、例えばリザーバ蓋６１１４またはリザーバベース６１１２の一部として形成され得るかまたは成形され得る（例えば、リザーバ蓋６１１４の一部として形成された入口管６１２０および出口管６１３０を示す図１３４～図１３６を参照）。例において、入口管６１２０および／または出口管６１３０は、リザーバ蓋と異なる材料（例えば、より可撓性の材料）を含み得る（例えば、所望の構成への屈曲を促進させるためのシリコーンまたはＴＰＥ）。あるいは、入口管６１２０および／または出口管６１３０は、リザーバ蓋と同様の材料を含み得る（例えば、ポリカーボネート）。

例えば、図１９Ｈ－１および図１９Ｈ－２は、本技術の一例による水リザーバのための取り外し可能な出口管配置構成を示す。図示のように、取り外し可能な出口管配置構成は、出口管６１３０および入口管６１２０の一部（例えば、入口管６１２０の出口端６１２６）を含む。本例において、入口管６１２０の入口部位６１２３および出口部位６１２５は、リザーバ蓋６１１４の一部として形成され得る（例えば、成形され得る）。取り外し可能な出口管配置構成は、リザーバ蓋６１１４と別個かつ個別の構造として形成された後、リザーバ蓋６１１４へ固定されるかまたは他の様態で組み付けられて、入口空気経路および出口空気経路を完全に形成する。例えば、出口管６１３０の出口端６１３４は、リザーバ蓋６１１４の側壁部へ固定されるかまたは他の様態でアンカーされ、出口端６１２６は、入口管６１２０の出口部位６１２５の端部へ係合されるかまたは他の様態でアンカーされる。図１９Ａ～図１９Ｇは、取り外し可能な出口管配置構成が作動位置においてリザーバ蓋６１１４へ固定される様子を示す。

図１９Ｉに示す別の例において、入口管６１２０および出口管６１３０は、（リザーバ蓋６１１４と別個かつ個別の構造である）取り外し可能な入口管および出口管の配置構成を含み、その後、作動位置においてリザーバ蓋６１１４へ固定されるかまたは他の様態で設けられる。

リザーバ蓋のリザーバベースへのヒンジ型接続
図８２～図９７に示す水リザーバ６１００は、本技術の一例によるリザーバ蓋６１１４を含む。このリザーバ蓋６１１４は、リザーバベース６１１２へヒンジ方式でかつ取り外し可能に接続される。

図示のように、水リザーバ６１００は、ヒンジ継手を蓋６１１４とベース６１１２との間に含むため、蓋６１１４が開口位置（図８４および図８９を参照）と閉鎖位置（図８２、図８３および図９１を参照）との間においてヒンジ方式で移動することが可能になる。

図示の例において、蓋６１１４の各側において、ヒンジアーム９１００が、内方に延びるヒンジピン９１０５と共に設けられる（図８６および図８７を参照）。各ヒンジピン９１０５は、ベース６１１２の各側に設けられた各開放端スロットまたはキャビティ９２００と係合するように構成される（図８６および図８８を参照）。

各ヒンジピン９１０５（図８７を参照）は、ヒンジ型移動を提供する円筒面９１０５ｃを含むセグメント化された円筒形状と、各開放端スロット９２００に対する各ヒンジピン９１０５の係合／係合解除を促進させる平坦面９１０５ｆとを含む（図８８を参照）。すなわち、図９０に示すように、各ヒンジピン９１０５の断面は、円の主要セグメントを示す。

各開放端スロット９２００により、各ヒンジピン９１０５のためのヒンジ型移動を提供するセグメント化された円筒面９２００ｃと、各スロット９２００および各ヒンジピン９１０５の係合および係合解除を促進させる開口部を提供する開放端または側部９２００ｏとが提供される（図８８を参照）。

図９４および図９５に示すように、蓋６１１４をベース６１１２と組み立てるかまたは係合させるためには、蓋６１１４を方向付けて各ヒンジピン９１０５を各開放端スロット９２００と整列させた後、（ヒンジピン９１０５が（例えばスナップフィットによって）各開放端スロット９２００内へ押圧されるまで）蓋６１１４をベース６１１２へ（例えば概して水平方向に）押圧させる。スロット９２００の開口部の可撓性により、スナップフィット係合をヒンジピンの任意の方向において実行することが可能になる。しかし、蓋の係合および係合解除がより容易になるのは、図９５に示すように各ヒンジピン９１０５の平坦面９１０５ｆを概して水平に方向付けたときであり、その場合、（平坦面９１０５ｆから反対側の円筒面９２０１ｃへ延びる）ヒンジピン９１０５の主要セグメント断面のより小さな幅（または直径）がスロット９２００の開放端９２００ｏと係合することが可能になり、これにより、ヒンジピン９１０５を開放端９２００ｏを通じてスロット９２００内部へ送ることが比較的容易になる。しかし、一対のヒンジピンによって可能となるより小さな幅の主要セグメントは、開放端の開口部または一対のスロットのうちそれぞれ１つの側部よりも大きいため、整列時においても、一対のヒンジピンを力により一対のスロットから「てこの原理」により除去させるためには、各開口部を撓ませて一対のヒンジピンのそれぞれ１つを解放させる必要がある。

組み立て後には、スロット９２００が各ヒンジピン９１０５をヒンジ方式で保持することにより、蓋６１１４が開口位置（図８９および図９０を参照）と閉鎖位置（図９１および図９２を参照）との間をヒンジ方式で移動することが可能になる。

図８２、図９１および図９３に示すように、蓋６１１４は、ベース６１１２上の１つ以上のラッチ９２２０と（例えばスナップフィットにより）解放可能にインターロックするように適合されたクリップ９１２０を含み、これにより、閉鎖位置において蓋６１１４をベース６１１２へ解放可能に保持させるかまたはロックさせる。図示のように、クリップ９１２０は、各ラッチ９２２０を受容するように適合された少なくとも１つのスロット９１２２（例えば、一対のスロット）を含む。図８３および図９３に示すように、クリップ９１２０の自由端に設けられたフィンガープルタブ９１２５は、（ユーザがクリップ９１２０の係合解除によって蓋を開くことを所望したときにユーザがグリップできるように）ベース６１１２から外方に角度付けされる。図９３に示すように、いくつかの実施形態において、小ギャップＧ（例えば、０．２ｍｍ）が、各ラッチ９２２０の下部とクリップ９１２０中のスロット９１２２との間に設けられ得、これにより、蓋が閉鎖およびロック位置にある際にラッチ９２２０が一定負荷下におかれないようになる。しかし、一般的には、周辺弾性支持部材６０９６が蓋を押圧し、よって各ラッチ９２２０の下部を上方に押圧することにより、このようなギャップ全てが除去される。

図９６および図９７に示すように、蓋６１１４をベース６１１２から分解または係合解除するには、蓋６１１４をフル開口位置を超えて（すなわち、停止部材９１１０によって提供された回転留めよりも遠位に）過度に伸張させるかまたはヒンジ方式に移動させる。フル開口位置においては、ヒンジピンのセグメント化された断面の最小寸法が、各スロット中の開口部９２００ｏと概して整列される。蓋がさらに押圧されて戻されると、側壁部９２１０と係合された停止部材９１１０は、片持ち梁として機能し始め、ヒンジピンを開口部９２００ｏへ押圧させる。その結果、開口部９２００ｏが撓んで、ヒンジピン９１０５は各スロット９２００から解放される。開口部９２００ｏおよびヒンジ型ピンのセグメント化された断面は厳密には不要である。なぜならば、連続的な後方への押圧により、最終的に停止部材９１１０によりヒンジピンが（開口部またはセグメント化された断面が無くても）「てこの原理」によりスロット９２００から除去されるからである。しかし、蓋６１１４が過度に伸張されたときにおいて、これらの開口部と、スロット９２００の開放端９２００ｏに配置されたヒンジピン９１０５によって設けられたより小さな幅または直径の主要セグメントとの存在により、蓋の係合解除が実際に容易になる（すなわち、ヒンジピン９１０５の平坦面９１０５ｆにより、ヒンジピン９１０５をスロット９２００からスポンと引き抜く際においてヒンジ上への応力が低減する）。また、開口部９２００ｏを設けることにより、蓄積された応力の位置も変化する。詳細には、ヒンジピンを「てこの原理」によりスロット９２００から外すことによって蓋を係合解除すると、蓋の側部９１００内に応力が集中することが多い。これと対照的に、開口部９２００ｏを設けた場合、ヒンジピンを「てこの原理」によりスロット９２００から外すことによって蓋を係合解除すると、管ベースのうち開口部９２００ｏを規定する部位内に応力が集中することが多くなる。なぜならば、ヒンジピンの解放および蓋の係合解除を行うためにはこの部位を撓ませ、開口部の側部を増加させる必要があるからである。

図８６および図９７に示すように、蓋６１１４は、蓋６１１４がフル開口位置に到達した場合（例えば、蓋６１１４がフル開口位置に静止した場合）にベース６１１２の側壁部９２１０と係合するように適合された停止部材９１１０を含む。例において、蓋６１１４は、フル開口位置にある際、ベース６１１２から９０度を若干下回る角度で方向付けられ得る（例えば、約８０～９０度）。この位置において、蓋は、前方に転倒して槽を閉鎖させないことと、側方に傾斜するように槽に寄りかからないこととを両立させるように、良好にバランスがとられる。

別の例において、ヒンジピン９１０５およびスロット９２００の位置は、切り替えられ得る。例えば、ヒンジピン９１０５は、ベース６１１２に設けられ得、スロット９２００は、蓋６１１４に設けられ得る。

５．６．２．２ リザーバドック
図２０Ａに示す例において、リザーバドック６０５０は、ｏＲＰＴデバイスのシャーシアセンブリ７３００に設けられ、水リザーバ６１００を受容するような構成および配置される。いくつかの配置において、リザーバドック６０５０は、ロック機能を含み得る（例えば、水リザーバ６１００をリザーバドック６０５０内に保持するように構成されたロックレバーまたはタブ）。

リザーバドック６０５０は、水リザーバ６１００を受容するキャビティを形成する本体を含む。図２０Ｆおよび図２１に最良に示すように、リザーバドック６０５０の後壁部は、水リザーバ６１００へ送達されるべき加圧空気流れをＲＰＴデバイスの出口から受容するような構造および配置にされたシャーシ出口７３２０（ドック入口とも呼ばれる）を含む。リザーバドック６０５０は、空気送達管４１７０または空気送達管４１７０へ接続する中間コンポーネントへ接続するかまたは他の様態でインターフェースをとるような構造および配置にされたドック出口６０９０も含み得る。本技術の例において、リザーバドック６０５０により、空気送達管４１７０が水リザーバ６１００に対して直接的な空気圧接続を形成することが可能になり得、これにより、水リザーバ６１００中において加湿された加圧空気流れが水リザーバ６１００から空気送達管４１７０へ直接送達される。

リザーバドック６０５０の本体は、複数の壁部と、加熱要素（例えば、ヒータープレート６０８０）とを含む。加熱要素（例えば、ヒータープレート６０８０）は、壁部のうちの下部のものに設けられて、水リザーバ６１００を受容するキャビティを形成する。

水リザーバ対リザーバドックの接続
使用時において、水リザーバ６１００は、水リザーバ６１００のリザーバドック６０５０中への挿入により、リザーバドック６０５０へ取り外し可能に接続される。水リザーバが空気送達導管４１７０と直接係合（空気圧シール）のために配置されると、水リザーバ６１００がリザーバドック６０５０へ接続された（例えば、図２１を参照）際、水リザーバ６１００の入口管６１２０の入口シール６１２２（または入口）は、リザーバドック６０５０のシャーシ出口７３２０（ドック入口）と面シールを提供するような構造および配置にされる。同様に、水リザーバ６１００の出口管６１３０（または出口）の出口シール６１３２は、（例えば漏洩による空気圧低下の回避のために）空気回路または空気送達管４１７０に対して面シールを提供するような構造にされる。図示の例において、水リザーバ６１００は、空気送達導管４１７０に対して直接的空気圧シールを形成するような構造および配置にされて、ＲＰＴデバイスおよびリザーバドック６０５０を完全に迂回する。リザーバドック６０５０は、この直接的接続を促進させるが、この直接的接続の一部は形成しない。空気圧接続以外の接続が、送達管と水リザーバドックとの間において実行され得る。例えば、空気送達管は、水リザーバドックに対して解放可能な機械的／ロック接続および／または電気接続を形成するような構造および配置にされ得る。解放可能な機械的（ロック）接続は、スナップ嵌め接続を含み得る。

ＲＰＴデバイスおよびリザーバドック６０５０を空気送達経路から除去すると、水リザーバ６１００と空気送達導管４１７０との間における内部に配置された接続コンポーネントの存在が排除される。これにより、このような接続コンポーネントの分解および殺菌する必要が無くなるため、殺菌がずっと容易になる。このようにして、デバイスを異なるユーザのために準備する際、水リザーバ６１００は、ＲＰＴデバイスのうち交換および殺菌を必要とする唯一のコンポーネントである。

水リザーバ６１００がリザーバドック６０５０に挿入され、作動位置に到達すると、水リザーバ６１００の伝導性部位６１５０は、リザーバドック６０５０のヒータープレート６０８０と整列されかつ熱接触して、ヒータープレート６０８０から水リザーバ６１００中の水への伝熱を可能にする（例えば、伝導性部位６１５０の表面は、ヒータープレート６０８０の表面と係合するかまたは接触する）。水リザーバおよびヒータープレートを相互に押しつけるための付勢機構が導入され得、これにより、伝導性部位とヒータープレートとの熱接触レベルが変化する。一例において、バネ要素が水リザーバに設けられ、リザーバドックおよび／またはヒータープレートは、水リザーバおよびヒータープレートを相互に付勢することにより接触圧力増加および熱接触向上が可能になるように配置され得る。

例えば図２１に示すシャーシ出口７３２０（ドック入口）は、ＲＰＴデバイスの送風機からの加圧空気流れを受容することと、空気流れを水リザーバ６１００の入口管６１２０を介して水リザーバ６１００中へ送ることとを行うように構成される。空気が水リザーバ６１００を通過する際、湿気（すなわち、水蒸気）が空気流れへ付加され、この加湿空気流れは、出口管６１３０を通じて水リザーバから退出する。気流が出口管６１３０から空気送達管４１７０中へ直接送られて、加湿された空気流れを患者へ送達させる。

挿入／除去のためのガイド構造
例において、水リザーバ６１００の外側部により得られるドック係合部は、リザーバドック６０５０のリザーバ係合部とインターフェースをとりかつリザーバドック６０５０のリザーバ係合部と係合するような構造および配置にされる。例において、水リザーバ６１００およびリザーバドック６０５０は、水リザーバ６１００のリザーバドック６０５０に対する挿入、除去および整列の促進のためのガイド構造を含み得る。

例えば、図６Ｂに示すように、ドック係合部に沿った水リザーバ６１００の対向する側部は、（例えば、ガイドレール６２００によって設けられた）ガイド面を含み得る。これらのガイド面は、（例えば、ガイドスロット６０６０によって設けられた）対応するガイド面とリザーバドック６０５０のリザーバ係合部に沿って係合して水リザーバ６１００をリザーバドック６０５０中にガイドするように配置される。

例において、図６Ｂに示すように、水リザーバ６１００は、横方向（すなわち、前後方向）においてリザーバドック６０５０のキャビティ内外において延びる経路に沿って（例えば、スライドまたは押圧／牽引のみにより）挿入／除去され得る。

別の例において、水リザーバの挿入／除去のための経路のうち少なくとも一部は、下上方向に延び得、例えば、水リザーバをドック中に挿入するための経路のうち少なくとも一部は、傾斜部（例えば、作動位置中への隆起部または下降部）を含む。

例えば、水リザーバ６１００のガイド構造およびリザーバドック６０５０は、水リザーバの初期の水平または傾斜状の挿入と、最終部分の作動位置への後続下降部とを提供するような構造および配置にされ得る。例において、リザーバドックにより、傾斜面と、ドックの下面上に配置された内縁とが提供され得る。水リザーバが作動位置まで降下するために、この内縁を通過する必要がある。通過された縁部および／または下降部そのものにより、水リザーバが作動位置に有効にロックされ得る。さらなるロックフィーチャが用いられ得る。このような「押圧および下降」の構成は、水平方向および垂直方向双方にコンポーネントを有する槽の移動を含む。縁部を任意選択的に設けることにより、水リザーバのリザーバドック中への挿入時において、水リザーバのベースを（ずっと大型の面上にではなく）単一の縁部または小型面と確実に係合させることが可能になる。これにより、ヒータープレートの任意の摩耗および損小の可能性が低減する。バネ要素は、水リザーバとヒータープレートとの間の接触圧力増大（例えば、リザーバのベースプレートとドックのヒータープレートとの間の熱接触向上）のために、（例えば、リザーバドックと水リザーバとの間に）配置され得る。

図２５Ａ～図２７Ｂは、本技術の一例によるガイド構造により、水リザーバ６１００のリザーバドック６０５０との挿入、除去および整列が促進される。図示の例において、水リザーバ６１００の挿入／除去のための係合経路は、前後方向および下上方向において延びる（すなわち、係合経路は、水平コンポーネントおよび垂直コンポーネント双方を含む）。

図示の例において、リザーバドック６０５０の各側において、水リザーバ６１００の各側の各ガイド突起またはピン６２５０を受容するように構成されたガイドスロット６０６０が設けられる。図示のように、各ガイドスロット６０６０に設けられた概して水平の部分６０６０Ｈは、概して水平の部分６０６０Ｈから下方に傾斜するドロップダウン部６０６０Ｄに繋がる前後方向に延びる。

図２８Ａ～図２８Ｃに示すように、リザーバドック６０５０に含まれる凹型加熱要素６０８５は、加熱要素６０８５から水リザーバ６１００中の液体体積への熱伝導を可能にするように水リザーバ６１００の伝導性部位６１５０と係合するように構成される。図示のように、リザーバドック６０５０を形成するシャーシアセンブリは、加熱要素６０８５（例えば、熱生成コンポーネント（例えば、電気抵抗型加熱トラック））を受容するように適合された陥凹開口部を含む。陥凹開口部は、リザーバドック６０５０の前部または開放端におけるシャーシアセンブリの前レッジ７３５０と、リザーバドック６０５０の後部または内部におけるシャーシアセンブリの後レッジ７３６０とによって少なくとも部分的に形成される。加熱要素６０８５は、確実に固定されるか、または、シャーシアセンブリに対して（例えば、少なくともシャーシアセンブリの前レッジ７３５０および後レッジ７３６０に対して）加熱要素６０８５を挟むような構成および配置されたリテーナプレート６０９５を介して所定位置に保持される。例において、加熱要素６０８５は、ガスケット６０８６（例えば、シリコーンビード）を周辺に沿って含み得、加熱要素６０８５をシャーシアセンブリの陥凹開口部内にシールする。

水リザーバ６１００の伝導性部位６１５０（例えば、金属プレート）は、伝導性部位６１５０が１つよりも多くの平面において延びる段階的配置構成を含み得る。例において（例えば、図２９を参照、伝導性部位６１５０は、第１の平面において延びる第１の熱伝導性部６１５０．１と、第１の面から上方向にオフセットされた第２の面において延びる第２の部位６１５０．２とを含む。１つよりも多くの面はそれぞれ、水平面（水リザーバの作動構成に対して）水平面において延び得るが、必ずしもそうでなくてもよい。

リザーバドック６０５０および水リザーバ６１００の上記凹型構成により、水リザーバ６１００が加熱要素６０８５を作動位置へ下降させることが可能になる。詳細には、水リザーバ６１００のガイドピン６２５０は、水リザーバ６１００がリザーバドック６０５０内へ挿入される際にリザーバドック６０５０の各ガイドスロット６０６０内に配置される（例えば、図２５Ｂおよび図２６Ａを参照）。ガイドスロット６０６０の概して水平の部分６０６０Ｈにより、水リザーバはリザーバドック中に（すなわち、前方向に）ガイドされる。水リザーバ６１００がガイドスロット６０６０の概して水平の部分６０６０Ｈに沿ってガイドされる際、水リザーバ６１００の伝導性部位６１５０の第１の熱伝導性部６１５０．１は、加熱要素６０８５を支持する前レッジ７３５０の上側ガイド面７３５５と係合し、上側ガイド面７３５５に沿ってスライドする（例えば、図２７Ａを参照）。水リザーバ６１００がガイドスロット６０６０のドロップダウン部６０６０Ｄに到達すると、水リザーバ６１００の第１の熱伝導性部６１５０．１も前レッジ７３５０の内縁を通過するため、水リザーバ６１００およびその第１の熱伝導性部６１５０．１が下降して、加熱要素６０８５と係合する（例えば、図２５Ａ、図２６Ｂおよび図２７Ｂを参照）。すなわち、水リザーバ６１００の伝導性部位６１５０の段階的配置構成は、第１の熱伝導性部６１５０．１が下降して凹型加熱要素６０８５と係合しかつ第２の（通常は非熱伝導性である）部位６１５０．２が下降して前レッジ７３５０と係合するように構成される（例えば、図２７Ｂを参照）。このようなドロップダウン係合構成により、水リザーバ６１００が作動位置に有効にロックされる（すなわち、前レッジ７３５０により、ガイド面７３５５が得られ、また、水リザーバ６１００がその後ろ側において係合して、水リザーバ６１００を所定位置にロックすることおよび（例えば治療時においてシステム全体が水リザーバが作動構成から外れる原因になり得る圧力下にある際に）意図しない解放を回避することが可能になる）。図示の例において、水リザーバ６１００の第１の熱伝導性部６１５０．１は、例えば水平移動を全て回避するために、凹型加熱要素６０８５によって提供された凹型空間を実質的に満たすようなサイズにされる（例えば、図２７Ｂを参照）。

水リザーバ６１００が係合時において前レッジ７３５０にわたってスライドすると、加熱要素６０８５に沿うのと対照的に、水リザーバ６１００の下面の係合部は、加熱プレートおよびリザーバの下壁部の残り部分の片方または両方を含み得、ドック下部のずっと小さな面にわたって係合するため、水リザーバ６１１０（すなわち、その伝導性部位６１５０）およびヒータープレートの摩耗および損小可能性が低下する。さらに、水リザーバ６１００が加熱要素６０８５上に下降して作動位置に来ると、加熱要素６０８５にわたってスライドするのと対照的に、いくつかの構成において、加熱要素６０８５は、ヒータープレート（例えば硬質の金属材料によって形成された耐磨耗板またはスキッドプレートとも呼ばれる）無しに上側または上面に沿って加熱要素６０８５を保護するように設けられ得る。すなわち、このような係合構成により、水リザーバ６１００の伝導性部位６１５０を加熱要素６０８５と直接係合させることにより、加熱要素６０８５からの熱を水リザーバ６１００中の液体体積へ直接伝導させる（すなわち、これにより、熱をヒータープレートまたはスキッドプレートを通過させる必要が無いため、熱伝導度が向上する）。このような配置構成は、よりコスト効率も高くなり得る。

図２７Ａおよび図２７Ｂの図示の例において、リザーバドックの上側壁部は、例えば熱接触の向上のために水リザーバ６１００と固定された加熱要素６０８５との間の接触圧力を増加させるように配置されたバネ付勢型ラッチ６３００を含む。図示のように、水リザーバ６１００が作動位置に到達すると、バネ付勢型ラッチ６３００は、水リザーバ６１００の上部と弾性係合して、水リザーバ６１００を下方に付勢させて、固定された加熱要素６０８５内に移動させるように配置される（例えば、図２７Ｂを参照。取り外すに際には、水リザーバ６１００を（ガイドスロット６０６０の概して水平の部分６０６０Ｈに到達するまで）バネ付勢型ラッチ６３００の下方圧力に抗する様態で強制移動させればよい。

水リザーバ６１００への下方力は、他の適切な様態でも提供され得ることが理解されるべきである。例えば、リザーバドックのガイドスロットは、下方力を例えば水リザーバのガイドピン上に提供するように配置されたバネまたは他の付勢部材を含み得る。別の例において、シャーシアセンブリは、ヒンジ型蓋をリザーバドックに隣接して含み得る。このヒンジ型蓋は、水リザーバの挿入後に下方移動により水リザーバと係合して下方力を提供するように構成される。さらに別の例において、シャーシアセンブリは、プランジャー型要素をリザーバドックに隣接して含み得る。このプランジャー型要素は、水リザーバの挿入後に押圧されて水リザーバと係合することにより下方力を提供するように構成される。

別の例において、水リザーバ６１００およびリザーバドック６０５０は、水リザーバ６１００が先ず下降して加熱要素６０８５と係合した後に加熱要素６０８５に沿ってさらにスライドしてバネ付勢型ラッチ６３００と係合することができるように、配置され得る。本例において、図３０～図３２Ｂに示すように、各ガイドスロット６０６０は、ドロップダウン部６０６０Ｄから延びるさらなる概して水平の部分６０６０Ｈ２を含む。また、水リザーバ６１００の伝導性部位６１５０の第１の熱伝導性部６１５０．１のサイズは、（例えば水平移動を可能にするために）第１の熱伝導性部６１５０．１が凹型加熱要素６０８５によって提供される凹型空間を満たさないように、小型化され得る。使用時において、水リザーバ６１００がガイドスロット６０６０のドロップダウン部６０６０Ｄに到達すると、水リザーバ６１００の第１の熱伝導性部６１５０．１は、前レッジ７３５０の内縁を通過し、下降して加熱要素６０８５と係合する。次に、水リザーバ６１００は、水リザーバ６１００がバネ付勢型ラッチ６３００下をスライドしてバネ付勢型ラッチ６３００と係合するまで、さらなる概して水平の部分６０６０Ｈ２に沿ってリザーバドック６０５０内へさらにスライドされ得る（例えば、図３２Ｂを参照）。取り外すには、水リザーバ６１００をさらなる概して水平の部分６０６０Ｈ２に沿って移動させてドロップダウン部６０６０Ｄへ到達させて、バネ付勢型ラッチ６３００との係合から水平方向に移動させればよい。その後、水リザーバ６１００を引き上げて、ドロップダウン部６０６０Ｄおよび概して水平の部分６０６０Ｈに沿ってリザーバドック６０５０から（バネ付勢型ラッチ６３００からの圧力無しに）取り外すことができる。

図８０、図８１、図９１および図９８～図１０１に示すガイド配置構成は、本技術の別の例により、水リザーバ６１００のリザーバドック６０５０に対する挿入、整列および係合を促進させる。

図示の例において、水リザーバ６１００は、一対のガイドレールまたは付勢レール６２００を含む。図示のように、一対のガイドレール６２００はそれぞれ、水リザーバ６１００のベース６１１２の対向する側部それぞれに設けられる。水リザーバ６１００がリザーバドック６０５０へ挿入されると、一対のガイドレール６２００はそれぞれ、リザーバドック６０５０の対向する側部に設けられた一対のガイドスロット６０６０それぞれと係合して、水リザーバ６１００のリザーバドック６０５０への接続をガイドするように構成される。

一対のガイドレール６２００はそれぞれ、（デバイスの作動可能な方向に対して）上側の（上方に方向付けられた表面９３００を提供する）縁を含み、一対のガイドスロット６０６０はそれぞれ、下方に方向付けられた表面９４００を提供する上側縁を含む（図８１、図９８および図９９を参照）。水リザーバ６１００がリザーバドック６０５０に挿入されると、ガイドスロット６０６０は、レール６２００を受容し、水リザーバ６１００のドック６０５０内への挿入をガイドするように配置される。このガイド機能と別に、さらなる付勢機能が、ガイドスロット６０６０によって提供される。詳細には、レール６２００の上方に方向付けられた表面９３００は、図８１中に記載の矢印に沿った軸移動の少なくとも最終部位において、スロット６０６０のそれぞれ下方に方向付けられた表面９４００と係合および押圧されるかまたは下方に強制移動されるように構成される。この下方圧力により、水リザーバ６１００が下方に強制移動または押圧されて、熱伝導性部位６１５０と、リザーバドック６０５０の下部に設けられた加熱アセンブリ６０７５のヒータープレート６０８０との隣接が作動構成において向上される（図９８および図９９を参照）。

一対のガイドレール６２００はそれぞれ、各スロット６０６０の下方に方向付けられた表面９４００と係合するように構成された上方に方向付けられた表面９３００から延びる１つ以上の係合タブ９３１５（例えば、図８１、図８２および図８９に示すような単一の係合タブ）を含み得、この係合により、水リザーバ６１００の加熱アセンブリ６０７５への変位が向上し、これにより加熱アセンブリ６０７５のヒータープレート６０８０との隣接が向上する。上方に方向付けられた表面９３００の代わりに、タブは、関連付けられた下方に方向付けられた表面９４００上に配置され得る。このようなタブをレール６２００とスロット６０６０との間の係合面のうち１つに設けることにより、表面全体と対照的に）単一のタブが対向面と機械的に係合する領域のみにおいてより小さな摩擦が確保される。これにより、水リザーバ６１００のドック６０５０内外に対する挿入または退避がよりスムーズになるため、ユーザ経験向上に繋がる。

図示の例において、水リザーバ６１００の先端側または縁において、１つ以上の付勢縁部またはタブ９３２０（例えば、図８０に示すような一対の付勢タブ）も設けられる。これらの付勢縁部またはタブ９３２０は、リザーバドック６０５０の後壁部（下側シャーシ出口７３２０およびドック出口６０９０）に設けられた１つ以上の当接縁部９４５０（例えば、図１１２に示すような一対の当接縁部）のそれぞれとの下側と係合するように構成される。このような係合により、ドック６０５０の内側に完全に挿入された際に水リザーバ６１００の前端がロックされ、水リザーバ６１００が下方に付勢されて、その伝導性部位６１５０と、リザーバドック６０５０の下部に設けられた加熱アセンブリ６０７５のヒータープレート６０８０との隣接が向上される（図１００および図１０１を参照）。

すなわち、各レール６２００（これらのレール６２００は、水リザーバ６１００の中間部から後部に設けられ、前端は、リザーバドック６０５０と先ず係合するように配置された端部である）上へのスロット６０６０の下方押圧は、水リザーバ６１００の前部または先端側において当接縁部９４５０から各付勢タブ９３２０上に付与される下方押圧によって補完される。水リザーバ６１００がリザーバドック６０５０内にほとんど完全に挿入されると、当接縁部９４５０は、係合プロセスの終了に近い各付勢タブ９３２０（図１０１を参照）の上方に方向付けられた表面９３２５と係合する。この時点において、一対の付勢タブ９３２０は、当接縁部９４５０それぞれの下側に押圧され、これらの当接縁部９４５０は、概して水平に方向付けられる。この隣接係合は、リザーバドック６０５０の下部に設けられた加熱アセンブリ６０７５によって提供される上方に方向付けられた付勢力を均衡させるような構成および配置にされる（例えば、図９８を参照）。以下により詳細に述べるように、加熱アセンブリ６０７５のヒータープレート６０８０は、弾性シーリングおよび支持部材９５００上に懸架される。弾性シーリングおよび支持部材９５００は、水リザーバ６１００がリザーバドック６０５０内へ挿入された際にヒータープレート６０８０を水リザーバ６１００の伝導性部位６１５０に対して上方付勢させるような構造および配置にされる。よって、弾性シーリングおよび支持部材９５００によって提供される上方付勢力は、下側ヒータープレート６０８０から押圧を提供し、これにより水リザーバ６１００が押圧されて、これによりレール６２００が各スロット６０６０に隣接し、付勢タブ９３２０が各当接縁部９４５０に隣接する。このような配置構成により、水リザーバ６１００の伝導性部位６１５０と、水リザーバ６１００のヒータープレート６０８０との十分な接触が確保される。

図示の例において、スロット６０６０および当接縁部９４５０は、概して水平（例えば、ヒータープレート６０８０に対して概して平行）に配置され、この配置構成により、横方向（すなわち、前後方向）においてリザーバドック６０５０のキャビティの内外に延びる経路に沿って（例えば、スライドまたは押圧／牽引のみにより）水リザーバ６１００の挿入／取り外しが可能になる。しかし、別の例において、スロット６０６０および／または当接縁部９４５０の少なくとも一部は、傾斜部を含み得るため、挿入／取り外しのための経路の少なくとも一部は、下上方向に延び得る。

また、図１０２に示すように、水リザーバ６１００の蓋６１１４において、１つ以上の保持突起６１１５（例えば、図８０および図８５に示すような一対の保持突起）が設けられる。これらの保持突起６１１５は、リザーバドック６０５０中の各ドックロック縁またはロック凹部６０５１と解放可能に係合することにより、水リザーバ６１００をリザーバドック６０５０内の作動位置に解放可能にロックおよび保持させるような構造および配置にされる（すなわち、各突起６１１５は、凹部６０５１を形成する前端の後ろ側に係合する）。これらの突起６１１５は、突起６１１５の各凹部６０５１中への係合を促進させるためのテーパー部を含み得る。解放させるためには、水リザーバ６１００を圧縮させる（すなわち、蓋６１１４をベース６１１２に押しつける）ことにより、変形可能なシール６１１６を圧縮させ、突起６１１５を凹部６０５１の前端の下側へ下降または落下させればよい。このようなロック配置構成により、（作動構成にある際に）組み立てられたＲＰＴデバイス内の陽圧に起因して水リザーバが後方に押圧されてリザーバドック６０５０との作動可能な係合から外れる事態が確実に無くなり、デバイスの動作の信頼性が確保される。

保持フィーチャ
例において、図３３Ａ～図３３Ｆに示すように、水リザーバ６１００は、ラッチ６４００を含み得る。このラッチ６４００は、リザーバドック６０５０内の陥凹スロット６０５５と解放可能に係合して、水リザーバ６１００をリザーバドック６０５０内の作動位置に解放可能に保持させるように構成される。このようなロック配置構成により、水リザーバがドックから係合解除される事態が回避され、いくつかの配置構成において、水リザーバのこのような係合解除は、デバイスの動作時においてドック内の比較的高い作動可能な圧力によって促進され得る。

図示の例において、ラッチ６４００は、水リザーバ６１００と別個かつ個別の構造として設けられた後、作動位置において水リザーバ６１００へ固定されるかまたは他の様態で設けられる。例えば、ラッチ６４００は、リザーバ蓋６１１４へまたは水リザーバ６１００の他の部位へ固定された事前形成された構造を含む。例において、ラッチ６４００は、プラスチックまたは熱可塑性ポリマー材料を含む。

図３３Ｅおよび図３３Ｆに示すように、ラッチ６４００は、ロックレバー６４０２と、蓋コネクタ６４０４と、ロックレバー６４０２を蓋コネクタ６４０４へ弾性支持する支持部材６４０６とを含む。

図３３Ｇに示すように、リザーバ蓋６１１４は、ラッチ６４００を受容する凹部６２６０を含む。凹部６２６０の各側においてレール６２６２が設けられ、凹部の下部においてロックタブ６２６４が設けられる。各レール６２６２により、蓋コネクタ６４０４の各側部を受容するように構成されたスロットが形成される。蓋コネクタ６４０４は、蓋コネクタ６４０４のスロット付き端部６４０５がロックタブ６２６４の後ろ側と係合してラッチ６４００をリザーバ蓋６１１４内において作動位置に固定させるまで、レール６２６２によって凹部６２６０中へガイドされる（例えば、図３３Ｃおよび図３３Ｄを参照）。

ロックレバー６４０２は、保持突起６４０３をロックレバー６４０２の一端において含み、フィンガー／サムグリップ６４０７をロックレバー６４０２の他端において含む。ロックレバー６４０２は、保持突起６４０３がロック位置へ弾性付勢されるように、弾性支持部材６４０６によって支持される。

水リザーバ６１００がリザーバドック６０５０内の作動位置に到達すると、ラッチ６４００の保持突起６４０３は、陥凹スロット６０５５をリザーバドック６０５０内に形成する前方レッジの後ろ側に係合するような構成および配置にされる（例えば、図３３Ｂを参照）。保持突起６４０３は、保持突起６４０３の陥凹スロット６０５５中への係合を促進させるテーパー部を含む。この接続により、水リザーバ６１００がリザーバドック６０５０へ解放可能に固定される。フィンガー／サムグリップ６４０７を手動によって押圧させると、ロックレバー６４０２およびよって保持突起６４０３を部材６４０６の外部付勢に抗して枢動させて非ロック位置へ移動させることができる（すなわち、保持突起６４０３を旋回させて陥凹スロット６０５５から外すと、水リザーバ６１００をリザーバドック６０５０から取り外すことができる）。
リザーバドック接続への空気送達管

例において、例えば図２０Ａおよび図２３Ａ～２４Ｂに示すように、空気送達管４１７０は、管部４５００と、空気送達管４１７０をリザーバドック６０５０および／または水リザーバ６１００へ接続させるドックコネクタ／カフ４６００（出口コネクタ）と、空気送達管４１７０を患者インターフェース３０００へ接続させる患者インターフェースコネクタ／カフ４７００（入口コネクタ）とを含む。

例において、ドックコネクタ４６００は、リザーバドック６０５０への機械的および電気的接続を形成することと、水リザーバ６１００および／またはリザーバドック６０５０との空気圧接続を形成することとを行うような構造および配置にされる。これらの接続により、空気送達管４１７０がリザーバドック６０５０または水リザーバ６１００へ配置および固定され、電力、情報および制御信号が空気送達管４１７０と関連付けられた加熱要素および変換器へ提供され、加湿された加圧ガスを水リザーバ６１００から患者インターフェース３０００へ流動させることが可能になる。空気送達管４１７０と水リザーバ６１００およびリザーバドック６０５０との係合中に、これら接続は、同時に形成されてよく、または連続して、例えば、空気圧式、機械式、または電気式接続の一つが他のものの以前に完了するように形成されてもよい。

空気送達管４１７０のドックコネクタ４６００は、リザーバドック６０５０のドック出口６０９０との固定された回転不可能な接続を提供する保持フィーチャを含む。

一例において、図２３Ａおよび図２３Ｂに示すように、ドックコネクタ４６００の保持フィーチャは、一対の弾性型クイックリリースピンチアーム４６１０（すなわち、片持ち梁型バネアームまたはピンチボタン）を含む。バネまたはピンチアーム４６１０はそれぞれ、ドック出口６０９０とのスナップ嵌め接続を提供するような構造にされた反矢じり端またはタブを含み得る。例において、ドック出口６０９０は、ピンチアーム４６１０の各反矢じり端を受容するような構造および配置にされたロック部材（例えば、スロット）を含み得る。

ドックコネクタ４６００の自由端は、管開口部を包囲する外方に延びるフランジまたはリップ４６２０を含む。フランジまたはリップ４６２０により、概して平面状の接触面４６２５が提供される。ドックコネクタ４６００がドック出口６０９０へ接続されると、例えば図２２Ｃに示すように、ドックコネクタ４６００の自由端およびその接触面４６２５は、リザーバドック６０５０のキャビティ内へ突出して、水リザーバ６１００の出口管６１３０と係合が可能になる。

図２３Ａおよび図２３Ｂの例において、空気送達管４１７０のドックコネクタ４６００は、（例えば、ドック出口６０９０との係合／係合解除の軸でもあり得る管の軸と整列された）長手軸Ａ１と、長手軸Ａ１に対して角度（例えば、４５°）を以て延びる軸Ａ２に沿って配置された接触面４６２５とを含む。このような配置構成により、接触面４６２５は、以下に述べるように水リザーバ６１００との係合のために方向付けられる。

図２０Ａおよび図２４Ａ～図２４Ｂに示す空気送達管４１７０は、本技術の別の例によるドックコネクタ４６００を含む。図示のように、ドックコネクタ４６００の各側において、ドック出口６０９０とのスナップ嵌め接続を提供するような構造にされた保持突起４６１５が設けられる。

例において、図２０Ａ～図２０Ｃ、図２０Ｋおよび図２０Ｌに最良に示すように、ドック出口６０９０は、ロック配置構成６６００を含み得る。このロック配置構成６６００は、空気送達管４１７０を受容して、ドック出口６０９０内の作動位置に解放可能に保持する。図示のように、ロック配置構成６６００は、ボタン部６６０５と、ボタン部６６０５から延びるロックアーム６６１０とを含む。各ロックアーム６６１０は、ドックコネクタ４６００の各保持突起４６１５と係合するように配置されたロックタブ６６１５を含む。ロック配置構成６６００は、ドック出口６０９０に隣接して支持されるため、ロックアーム６６１０およびそのロックタブ６６１５が弾性付勢されて、ロック位置へ移動する。

空気送達管４１７０のドックコネクタ４６００が各ドック開口部６０９１内へ挿入され、リザーバドック６０５０のドック出口６０９０内の作動位置に到達すると、ドックコネクタ４６００の保持突起４６１５は、ロック配置構成６６００の各ロックタブ６６１５の後ろ側に係合するような構成および配置にされる（例えば、図２０Ｋを参照）。いくつかの配置構成において、ロック配置構成６６００とのこのロック係合を行うためには、空気送達管４１７０のドックコネクタ４６００を各ドック開口部６０９１中へ挿入させて回転させる必要があり得る。各保持突起４６１５および／または各ロックタブ６６１５は、ロック位置との係合を促進させるテーパー部を含み得る。この接続により、空気送達導管４１７０はリザーバドック６０５０へ解放可能に固定される（例えば、図２０Ｄ～２０Ｈを参照）。図２０Ｌに示すように、ボタン部６６０５を手動で押圧すると、ロックアーム６６１０およびそのロックタブ６６１５を付勢に抗して弾性に撓ませて非ロック位置へ移動させることができる（すなわち、ロックタブ６６１５を移動させることによりドックコネクタ４６００の保持突起４６１５との係合を横方向に解除すると、空気送達導管４１７０をリザーバドック６０５０のドック出口６０９０から取り外すことが可能になる）。

この接続の確立後、ドックコネクタ４６００／ロック配置構成６６００によって提供される保持フィーチャと、ドック出口６０９０のドック開口部６０９１（図２０Ｃを参照）およびドックコネクタ４６００によって提供される非円形係合とにより、空気送達導管４１７０のドック出口６０９０に対する固定された回転不可能な接続が得られる。

ドックコネクタ４６００の自由端において、管開口部を包囲する外方に延びるフランジまたはリップ４６２０が設けられる（例えば、図２０Ａ、図２０Ｇ、図２０Ｉおよび図２０Ｊを参照）。フランジまたはリップ４６２０により、接触面４６２５が得られる。ドックコネクタ４６００がドック出口６０９０へ接続されると、ドックコネクタ４６００の自由端およびその接触面４６２５は、リザーバドック６０５０のキャビティ内へ突出して、水リザーバ６１００との係合が可能になる（例えば、図２０Ｆ～図２０Ｈを参照）。

上記例と同様に、図２０Ａおよび図２４Ａ～図２４Ｂに示すドックコネクタ４６００の接触面４６２５は、管の長手軸に対して角度（例えば、４５°）を以て延びる軸に沿って配置される。

水リザーバ／空気送達管－４５°下の直接係合
水リザーバ６１００と、空気送達導管４１７０との間の直接的空気圧接続については、上記において既述している。図１８Ａおよび図１８Ｂの図示の例において、水リザーバ６１００は、（例えば、挿入／除去方向と整列された）軸Ａ１を含み、出口管６１３０の外端（または出口）およびその出口シールは、軸Ａ１に対して角度（例えば、４５°）を以て延びる軸Ａ２に沿って配置される。図２３Ａおよび図２３Ｂに関連して上記したように、空気送達管４１７０のドックコネクタ４６００は、（例えば、空気送達管４１７０の挿入／除去方向と共に整列された）軸Ａ１を含み、ドックコネクタ４６００の接触面４６２５は、軸Ａ１に対して角度（例えば、４５°）を以て延びる軸Ａ２に沿って配置される。

空気送達管４１７０が水リザーバ６１００および／またはリザーバドック６０５０のドック出口６０９０と係合されると、出口管６１３０（または出口）および水リザーバ６１００の出口シール６１３２は、空気送達管４１７０のドックコネクタ４６００の自由端に沿って接触面４６２５と密閉的に係合するかまたはインターフェースをとるような構造にされる（例えば、図２１および図２２Ａ～図２２Ｃを参照）。このような係合により、水リザーバ６１００とドックコネクタ４６００との間に面シールが得られて、（患者インターフェース３０００への送達のために）加湿された空気の水リザーバ６１００からの流動および空気送達管４１７０中への流動を可能にする出口流れ経路がシールされる。

出口管６１３０の係合外形（および出口シール６１３２）および接触面４６２５を例えば４５°において設けることにより、空気送達管４１７０がドック出口６０９０へ取り付けられた状態のまま、水リザーバ６１００をリザーバドック６０５０から取り外すことが可能になる。同様に、この４５°の角度により、空気送達管４１７０をドックから係合解除することが可能になり、その際、水リザーバ６１００をリザーバドック６０５０の出口６０９０から取り外す必要は無い。よって、水リザーバ６１００の挿入および除去は、空気送達管４１７０のドック出口６０９０への接続から独立し得る（すなわち、水リザーバ６１００および空気送達管４１７０とリザーバドック６０５０との係合／係合解除は、独立的に行われ得る）。

出口管６１３０（および出口シール６１３２）ならびに接触面４６２５は、相互の直接的接触のために他の適切な角度において配置され得ることが理解されるべきである。

別の例において、空気送達管４１７０は、リザーバドック６０５０と直接接触しなくてもよい。その代わりに、空気送達管４１７０をリザーバドック６０５０へ相互接続させるための管アダプタが設けられ得る。この管アダプタは、リザーバドック６０５０への接続のためのドックコネクタ端部と、空気送達管４１７０への接続のためのテーパ状／ＩＳＯ（標準）端部とを含み得る。管アダプタは、管アダプタがリザーバドック６０５０のドック出口６０９０へ接続された際に空気送達管４１７０が管アダプタから外れる事態を回避するためにロックアウトフィーチャを含み得る。

データ収集
一例において、空気送達管４１７０は、空気送達管４１７０の軸に螺旋巻きされた（例えば、空気送達導管４１７０の管部４５００に沿って）複数のワイヤ（例えば、空気送達管内の空気を加熱しかつ／または１つ以上の変換器（例えば、温度センサ、流れセンサ）からＲＰＴデバイスのコントローラに信号を送信するように構成される）を含み得る。

例において、空気送達管４１７０は、４本のワイヤを含み得る（例えば、１つ以上の加熱要素への給電のための２本のワイヤおよび温度センサ／変換器の接続のための２本のワイヤ）。しかし、他の数のワイヤも用いられ得る（例えば、２本のワイヤ、３本のワイヤ、または５本以上のワイヤ）ことが理解されるべきである。

例において（例えば、図２３Ｂおよび図２４Ａを参照）、空気送達管４１７０のドックコネクタ４６００は、接点４６５５を含む接触アセンブリ４６５０を含む。これらの接点４６５５は、使用時において、リザーバドック６０５０に設けられた各接点と係合して、ドック出口においてリザーバドックと電気接続を形成して、電力および／または制御信号送信を提供する。例において、ドックコネクタ４６００の接点４６５５は、空気送達管４１７０に沿って延びる各ワイヤへ接合され得る。別の例において、これら接点４６５５のうち少なくともいくつかは、空気送達管４１７０に沿って延びるワイヤに関連しないが、自身の固有の独立的かつ／または一意の電気特性（例えば、抵抗、コンダクタンス）によって特徴付けられる。このような独立的かつ／または一意の電気特性は、管／患者インターフェースシステムの１つ以上の要素またはこれらの要素の特性の特定に用いられ得る。

例において、リザーバドック６０５０のドック出口６０９０は、リザーバドック（例えば、ＰＣＢＡ７６００）内における電力および電気信号伝達と連通する接触アセンブリ６８００を含む。例において、接触アセンブリ６８００は、空気送達管４１７０のドックコネクタ４６００に設けられた接点４６５５の数に対応する接点６８０５を含む（例えば、図２０Ｂ、図２０Ｃ、図２０Ｈ～図２０Ｊに示すような４つの接触）。図２０Ｈ～図２０Ｊに示すような例において、接点６８０５はそれぞれ、バネ付勢型ピン（例えば、ポゴピン）を含む。使用時において、バネ付勢型ピン６８０５は、ドックコネクタ４６００との係合時において弾性的に撓んで、ドックコネクタ４６００の各接点４６５５との接触を維持する。図示の例において（例えば、図２０Ｊを参照）、接触アセンブリ６８００は、ＰＣＢＡ７６００と係合するように配置された接点６８１０（例えば、バネ付勢型ピン）も含む。これらの接点６８０５および６８１０は、接点６８０５を接点６８１０に対して実質的に垂直に方向付けるように構成された支持部材６８１５によって支持される。

空気送達管４１７０の接触アセンブリ４６５０内の各接点４６５５または接点の組み合わせは、一意の電気特性を有し得るため、例において、空気送達管４１７０の接触アセンブリ４６５０は、空気送達管４１７０および／または患者インターフェースの多様なパラメータの識別子として用いられ得る。例えば、接触アセンブリ４６５０は、空気送達管４１７０の種類の識別（例えば、非加熱管、加熱管、熱水分交換器（ＨＭＥ）を含む管、未知の管）、空気送達管のサイズ（例えば、１５ｍｍ、１９ｍｍ）、ＨＭＥの存在および種類、管へ接続された患者インターフェースの種類などを提供するように構成され得る。識別からのデータは、例えばＲＰＴデバイス、加湿器の動作の最適化、データ収集促進などのために、コントローラによって通信および利用され得る。例えば、コントローラは、接触アセンブリ４６５０によって提供された一意の識別フィーチャを認識するように構成され得るため、コントローラは、リザーバドック６０５０へ接続された空気送達管４１７０の特定の特性を認識することができ、よって、コントローラがＲＰＴデバイスおよび／または加湿器を動作最適化のために自動構成することが可能になる。

例において、ドックコネクタ４６００は、テーパ状支持突起４６３０を含み得る（例えば、図２０Ａ、図２０Ｍおよび図２０Ｎ）。空気送達管４１７０のドックコネクタ４６００がリザーバドック６０５０のドック出口６０９０へ接続されると、図２０Ｍおよび図２０Ｎに最良に示すように、テーパ状支持突起４６３０は、ドック出口６０９０に設けられた１つ以上のテーパ状支持突起６８５０に隣接するかまたは接触するように配置されるように適合される。テーパ状支持突起４６３０および６８５０により、ドックコネクタ４６００とドック出口６０９０との間にインターフェースが得られて、ドックコネクタ４６００は、ドック出口６０９０の前面に対して概して垂直な方向に維持される。例えば、インターフェースにより、ドックコネクタ４６００がドック出口６０９０から離隔方向に垂れ下がるかまたは下方に傾斜する事態が回避される。例えば、ドックコネクタ４６００とドック出口６０９０との間のインターフェースにより、接触アセンブリ６８００からドックコネクタ４６００へ付加されてドックコネクタ４６００を下方に強制移動させる傾向となる力が相殺され得る（例えば、接触アセンブリ６８００のバネ付勢型ピンから付加される力が、ドック出口６０９０から離隔方向の下方角度においてドックコネクタ４６００を強制移動させ得るドックコネクタ４６００の軸からオフセットされる）。

バヨネット型接続および中間コンポーネント
図４３～図７８は、空気送達管４１７０のリザーバドック６０５０および水リザーバ６１００の接続の別の例を示す。本例において、中間コンポーネント６７００は、リザーバドック６０５０へ取り外し可能に接続される。中間コンポーネント６７００は、水リザーバ６１００を空気送達管４１７０へ空気圧接続させるように構成され、これにより、水リザーバ６１００中において加湿された加圧空気流れを水リザーバ６１００から中間コンポーネント６７００を介して空気送達管４１７０へ送達させることが可能になる。また、本例において、空気送達管４１７０のドックコネクタ４６００は、リザーバドック６０５０とバヨネット型接続を形成するような構造および配置にされ、これにより、空気送達管４１７０が機械的にかつ／または電気的にリザーバドック６０５０へ接続される。すなわち、バヨネット型接続により、空気送達管４１７０のリザーバドック６０５０への配置および固定ならびに／または空気送達管４１７０と関連付けられた加熱要素および変換器への電力、情報および制御信号の提供が可能になる。

中間コンポーネント
図４３、図４６、図４９、図５７および図５８に示すように、中間コンポーネント６７００をリザーバドック６０５０のドック出口６０９０へ設けることにより、水リザーバ６１００を空気送達管４１７０へ空気圧接続させる。図示の例において、中間コンポーネント６７００をリザーバドック６０５０へ取り外し可能に接続させることにより、（例えば、多患者多用途（ＭＰＭＵ）用途のための）清掃、殺菌および／または交換のために中間コンポーネント６７００の分解が可能になる。

図５３～図５６に示すように、中間コンポーネント６７００は、管状部６７０５を含む。管状部６７０５は、水リザーバ６１００とインターフェースをとるように適合された入口端６７１０と、空気送達管４１７０とインターフェースをとるように適合された出口端６７２０とを含む。中間コンポーネント６７００は、保持フィーチャおよび整列フィーチャも含む。これらの保持フィーチャおよび整列フィーチャは、中間コンポーネント６７００をリザーバドック６０５０と整列させ、リザーバドック６０５０との取り外し可能な回転不可能な接続を提供するような構造および配置にされる。加えて、中間コンポーネント６７００は、ポート６７３０を含む（例えば、ドック出口６０９０における空気圧力を測定するセンサの挿入のための圧力ポート）。ポート６７３０は、センサ（例えば、圧力センサ）と中間コンポーネント６７００との間にシーリングインターフェースを提供するポートシール６７３５を含む。

図示の例（例えば、図５６を参照）において、管状部６７０５（入口端６７１０および出口端６７２０を含む）は、保持フィーチャおよび整列フィーチャを備え、比較的剛性の材料（例えば、熱可塑性ポリマー（例えば、ＰＣ、ＡＢＳ））によって構築された第１の部分またはベースモールドを含み、ポートシール６７３５は、（例えば、オーバーモールドによって）第１の部分へ設けられた比較的軟質の材料（例えば、熱可塑性エラストマー（ＴＰＥ）またはシリコーン）によって構築された第２の部分またはオーバーモールドを含む。よって、中間コンポーネント６７００により、（例えば、ＭＰＭＵ用途のための耐久性のために）実質的に剛性の構造が得られる。

図示の例において、入口端６７１０は、出口端６７２０に対して角度を以て配置される。例えば、入口端の軸は、出口端の軸に対して約９０°を以て配置される。しかし、他の適切な角度が可能である（例えば、入口端の軸は、出口端の軸に対して約４５°を以て配置される）ことが理解されるべきである。

入口端６７１０の自由端は、管開口部を包囲するフランジまたはリップ６７１２を含む。フランジまたはリップ６７１２により、接触面６７１５が得られる。水リザーバ６１００がリザーバドック６０５０へ接続されると、水リザーバ６１００の出口管６１３０（または出口）の出口シール６１３２は、入口端６７１０の接触面６７１５と係合しかつ入口端６７１０の接触面６７１５へ面シールを提供するような構造にされる。別の実施形態において、水リザーバ６１００の出口管６１３０（または出口）と入口端６７１０の接触面６７１５との間のシールは、入口端６７１０の一体部分であってもよいし、あるいは、出口管６１３０または入口端６７１０から独立したシーリング部であってもよい。図示の例において、接触面６７１５は、（例えば、シーリング向上および漏洩回避のために）管開口部中へのテーパー部を含む。

出口端６７２０は、空気送達導管４１７０への接続のためにＩＳＯテーパー部（例えば、２２ｍｍ外径のＩＳＯテーパー部）を含み得る。

保持フィーチャおよび整列フィーチャについて、中間コンポーネント６７００は、一対の弾性ピンチアーム６７４０（すなわち、片持ち梁型バネアーム）を含む。バネアームまたはピンチアーム６７４０はそれぞれ、反矢じり端またはタブ６７４５を含み得る。反矢じり端またはタブ６７４５は、図４６に示すようにリザーバドック６０５０のキャビティ内に設けられた各ロック部材（例えば、突起６７５０）へのスナップ嵌め接続を提供するような構造にされる。中間コンポーネント６７００は、ガイドレール６７６０も含む。ガイドレール６７６０は、図４６、図５０および図５２に示すようにリザーバドック６０５０のキャビティ中に延びる対応するガイドスロット６７５５との係合による中間コンポーネント６７００のリザーバドック６０５０中への正しい整列および挿入を支援するような構造および配置にされる。さらに、中間コンポーネント６７００は、入口端６７１０と出口端６７２０との間に配置されたフランジ６７７０を含む。このフランジ６７７０により、（リザーバドック６０５０に設けられたフランジまたは壁部への隣接による）リザーバドック６０５０内における中間コンポーネント６７００の配置または位置決めが支援される（例えば、図７２に示すように、フランジは、挿入時におけるストップとして機能する）。中間コンポーネント６７００のフランジ６７７０は、（例えば、図５７および図５８に示すようにリザーバドック６０５０に設けられたフランジまたは壁部に沿って締結具または突起部を収容する）１つ以上のカットアウト部または凹部６７７２を含み得る。

中間コンポーネント６７００がリザーバドック６０５０のドック開口部６０９１中に挿入されると、中間コンポーネント６７００は、ガイドスロット６７５５と共に自身のガイドレール６７６０と係合するように方向付けられる。ガイドスロット６７５５は、中間コンポーネント６７００の整列修正および作動位置へのガイドを行う。また、ドック開口部６０９１においてロックおよび接触アセンブリ６９００によって提供されるドック開口部６０９１および／または開口部６９１９が非円形外形を含むため、図６３に示すように挿入時において中間コンポーネント６７００の方向付けの修正が促進される。中間コンポーネント６７００が作動位置に到達すると、バネまたはピンチアーム６７４０の反矢じり端またはタブ６７４５は、各突起６７５０の上側かつ／または後側と係合するような構成および配置にされる（例えば、図４６を参照）。各反矢じり端６７４５および／または各突起６７５０は、作動位置への係合を促進させるテーパー部を含み得る。例において、バネまたはピンチアーム６７４０と突起６７５０との係合により、正しい接続を示す感覚フィードバック（例えば、可聴クリック）が得られ得る。このスナップ嵌め接続により、中間コンポーネント６７００が解放可能にリザーバドック６０５０へ固定される。中間コンポーネント６７００を係合解除するには、バネまたはピンチアーム６７４０を手動により（例えば、器具を用いてまたは用いずに）相互に押圧させて、バネまたはピンチアーム６７４０およびその反矢じり端６７４５を付勢に抗して弾性的に撓ませて、非ロックの位置へ移動させればよい（すなわち、反矢じり端６７４５を移動させて突起６７５０との係合から外すことにより、中間コンポーネント６７００をリザーバドック６０５０から取り外すことが可能になる）。

この接続の確立後、中間コンポーネント６７００／リザーバドック６０５０によって得られる保持フィーチャおよび整列フィーチャの協働により、中間コンポーネント６７００のリザーバドック６０５０のドック出口６０９０に対する取り外し可能な回転不可能な接続が可能になる。また、接続後、中間コンポーネント６７００のバネまたはピンチアーム６７４０は、水リザーバ６１００がリザーバドック６０５０内に受容された際に例えば中間コンポーネント６７００が外れる事態を回避するために、リザーバドック６０５０のキャビティ内にロックされた様態で係合される。

中間コンポーネント６７００がリザーバドック６０５０のドック出口６０９０へ接続されると、入口端６７１０およびその接触面６７１５は、リザーバドック６０５０のキャビティ内に突出して、水リザーバ６１００の出口管６１３０（または出口）の出口シール６１３２との係合を可能にする（例えば、図４６を参照）。同様に、中間コンポーネント６７００の出口端６７２０は、リザーバドック６０５０のキャビティ内に延びかつ／またはリザーバドック６０５０のキャビティから突出して、空気送達管４１７０との係合を可能にする（例えば、図４３を参照）。さらに、図５７に示すように中間コンポーネント６７００のポート６７３０は、例えば上方に方向付けられて、ＰＣＢＡと関連付けられたセンサとインターフェースをとる。

バヨネット型ロックおよび接触アセンブリ
図４３～図５２に示すように、ロックおよび接触アセンブリ６９００は、リザーバドック６０５０のドック出口６０９０に設けられて、リザーバドック６０５０を空気送達管４１７０へ機械的かつ電気的に接続させる。図示の例において、ロックおよび接触アセンブリ６９００に含まれるバヨネット型接続は、空気送達管４１７０のリザーバドック６０５０への配置および固定と、機械的、空気圧および電気的な（電力信号および制御信号双方の）接続の形成とを行うような構造および配置にされる。

図５９～図６２に示すように、ロックおよび接触アセンブリ６９００は、ベース６９１０と、ベースに設けられた（電気）接触アセンブリ６９５０と、接触アセンブリ６９５０のうち少なくとも一部を封入するようにベース６９１０に設けられたカバー６９７０とを含む。

ベース６９１０に含まれる後壁部６９１２は、例えば１つ以上の締結具を介してドック開口部６０９１を包囲する１つ以上の壁部へ固定されて、ベース６９１０をリザーバドック６０５０のドック出口６０９０において固定させる。図６３に示すように、後壁部６９１２は、例えば非円形の開口部６９１５を含む。この開口部６９１５は、ドック開口部６０９１と整列されることにより、上記したような中間コンポーネント６７００の挿入および接続を可能にする（例えば、非円形開口部６９１５は、非円形外形の中間コンポーネント６７００を受容するように適合される）。さらに、上記したように、後壁部６９１２により、組立時の中間コンポーネント６７００のためのストップ部が提供され、例えば、中間コンポーネント６７００のフランジ６７７０のうち少なくとも一部は、図７２に示すように後壁部６９１２と隣接し得る。

ベース６９１０は、後壁部６９１２から外方に突出する環状側壁部６９２０を含む。中間コンポーネント６７００がリザーバドック６０５０へ接続されると、中間コンポーネント６７００の出口端６７２０および環状側壁部６９２０が協働して、空気送達管４１７０を受容するチャンネル６７８０が形成される。保持壁部６９３０は、環状側壁部の周辺の一部に沿って（例えば、環状側壁部の上側のうち一部に沿って）環状側壁部６９２０からラジアル方向に外方に突出する。図５７を参照して、環状側壁部の周辺の一部に沿って環状側壁部６９２０中に隙間が提供されて、チャンネル６７８０に繋がる凹部６９４０が形成される。この凹部６９４０は、保持壁部６９３０に隣接しかつ保持壁部６９３０から反時計方向に配置される。以下に述べるように、凹部６９４０および保持壁部６９３０の構成および配置は、空気送達管４１７０のドックコネクタ４６００の一部が凹部６９４０へ挿入された後に時計回りに回転されることにより保持壁部６９３０の後側へ移動して、ロック係合が空気送達管とドックとの間に行われるような構成および配置である。

さらなる保持フィーチャおよび整列フィーチャ（例えば、凹部および／または溝部）が、環状側壁部６９２０の周辺に設けられる。これらの保持フィーチャおよび整列フィーチャ（例えば、凹部および／または溝部）は、係合時において以下に述べるように空気送達管４１７０のドックコネクタ４６００上の対応するフィーチャと相互作用するような構造および配置にされる。

図６０～図６２に示すように、電気接点アセンブリ６９５０は、保持壁部６９３０に隣接するベース６９１０によって支持される。接触アセンブリ６９５０は、リザーバドック６０５０（例えば、ＰＣＢＡ７６００）内における電力および電気信号伝達と連通する。図示のように、接触アセンブリ６９５０は、支持部材６９５２と、支持部材６９５２によって支持された複数の接点６９５５（例えば、４つの接点）とを含む。これらの接点６９５５はそれぞれ、（図６１中に最良に示すような）バネアーム６９５６を含む。このバネアーム６９５６は、支持部材６９５２から離隔方向に付勢される。使用時において、管がドックと係合すると、バネアーム６９５６は、ドックコネクタ４６００との係合時において弾性的に撓んで、ドックコネクタ４６００の各接点との接触を維持する。接触アセンブリ６９５０は、接点６９５５からＰＣＢＡ７６００への電気的接続のために、電気コネクタ６９５８（例えば、フレキシブル回路基板（ＦＣＢ）、フレキシブルプリント回路（ＦＰＣ）および／またはフレキシブルフラットケーブル（ＦＦＣ））も含む（図６２を参照）。

ベース６９１０の上側に設けられた接触支持構造６９６０（図６２）は、接触アセンブリ６９５０の支持部材６９５２（図６１）を支持および保持するような構造および配置にされる。接触アセンブリ６９５０の支持部材６９５２（図６１）は、接触アセンブリ６９５０の接点６９５５を環状側壁部６９２０からラジアル方向に外方にかつ保持壁部６９３０の軸方向に内方に支持する。カバー６９７０は、少なくとも支持部材６９５２および接点６９５５を封入するように、ベース６９１０の上側へ固定される（図６０を参照）。電気コネクタ６９５８は、ベース６９１０から例えばベース中の１つ以上のスロットを通じて突出して、ＰＣＢＡ７６００へ接続する（図６２）。

ドックコネクタ
図４３～図４５に示すように、空気送達管４１７０のドックコネクタ４６００は、中間コンポーネント６７００との空気圧接続の形成と、リザーバドック６０５０へ設けられたロックおよび接触アセンブリ６９００との機械的および電気接続の形成とを行うような構造にされる。

図示の例において、ドックコネクタ４６００は、管状ベース部４６４０と、ベース部位４６４０に設けられたロックおよび接触アセンブリ４６６０とを含む。

図６４～図６８に示すように、管状ベース部４６４０は、ベース部位４６４０の開口部中に突出するラジアルリップシール４６４５を含む。ラジアルリップシール４６５４は、弛緩状態においては非変形形状であるため、ラジアルリップシール４６５４の内径は、ドックコネクタが空気圧係合される中間コンポーネント６７００の出口端６７２０の外径よりも小さくなる。例えば、ラジアルリップシール４６４５によって提供される内径は、２２ｍｍの外径ＩＳＯテーパー部を含む出口端６７２０と共に用いられる場合、約２２ｍｍ未満（例えば、約１９～２１ｍｍ以下）であり得る。使用時において、ラジアルリップシール４６４５は、中間コンポーネント６７００の出口端６７２０と係合した際に弾性変形するような構造にされるため、中間コンポーネント６７００との空気圧接続が得られる（例えば、ラジアルリップシール４６４５は、中間コンポーネント６７００の出口端６７２０の外面に対して気密シールを形成する）。図示のように、ラジアルリップシール４６４５は、ベース部位４６４０の内部に向かって角度を以て延びて、ドックコネクタ４６００と中間コンポーネント６７００との整列および係合のためのリードイン部を提供する。また、ベース部位４６４０内の停止面４６４７（図６６を参照）により、中間コンポーネント６７００がドックコネクタ４６００内にさらに挿入される事態を回避するためのストップ部が得られる。

ベース部４６４０に含まれるテーパ状突起４６４２は、ロックおよび接触アセンブリ４６６０に隣接するベース部位４６４０（図６４を参照）から外方に突出する。テーパ状突起４６４２によって提供される親指および／またはフィンガーグリップにより、ドックコネクタ４６００の手動操作と、中間コンポーネント６７００と、リザーバドック６０５０へ設けられたロックおよび接触アセンブリ６９００とへの接続とが促進される。

さらに、ベース部位４６４０は、弾性保持隆起部４６４４を対向する側部に沿って含む。以下に述べるように、保持隆起部４６４４は、保持フィーチャおよび整列フィーチャ（例えば、凹部および／または溝部）と相互作用するような構造および配置にされる。これらの保持フィーチャおよび整列フィーチャ（例えば、凹部および／または溝部）は、係合時においてリザーバドック６０５０上のロックおよび接触アセンブリ６９００のベース６９１０に設けられる。

図示の例において、図６８に示すように、ベース部位４６４０は、ベース４６４０ｂｓ（例えば１つ以上の部分を含むもの）と、オーバーモールド４６４０ｏｖとを含み得る。ベース４６４０ｂｓは、比較的剛性の材料（例えば、熱可塑性ポリマー（例えば、ポリプロピレン（ＰＰ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、およびアクリロニトリルブタジエンスチレン（ＡＢＳ））によって構築される。オーバーモールド４６４０ｏｖは、（例えばオーバーモールドによって）ベース４６４０ｂｓへ提供された比較的軟質の材料（例えば、熱可塑性エラストマー（ＴＰＥ）またはシリコーン）によって構築される。図示のように、比較的剛性のベース４６４０ｂｓは、テーパ状突起４６４２および弾性保持隆起部４６４４を含む管状ベース部４６４０のための構造形状を形成し得、比較的軟質のオーバーモールド４６４０ｏｖは、管状ベース部４６４０およびラジアルリップシール４６４５のための外部を形成する。

図６４に示すように、ロックおよび接触アセンブリ４６６０は、保持部４６６５と、保持部４６６５をベース部位４６４０から空間関係を持ちつつ支持する支持アーム４６６２と、保持部４６６５に設けられた接触アセンブリ４６６６とを含む。以下に述べるように、保持部４６６５は、リザーバドック６０５０上のロックおよび接触アセンブリ６９００に設けられた保持壁部６９３０の後側に回転されるような構造および配置にされて、ドックコネクタ４６００をロック位置に軸方向にロックさせる。接触アセンブリ４６６６に含まれる接点４６６７は、使用時においてリザーバドック６０５０上のロックおよび接触アセンブリ６９００に設けられた各接点６９５５と係合するように配置されて、リザーバドック６０５０との電気信号接続および制御信号接続が形成される。これらの接点４６６７は、保持部４６６５に沿って配置されて、ドックコネクタ４６００がロック位置内へ回転された際に電気および信号接続を形成する。電気コネクタ４６６８（例えば、フレキシブル回路基板（ＦＣＢ）、フレキシブルプリント回路（ＦＰＣ）および／またはフレキシブルフラットケーブル（ＦＦＣ））は、接点４６６７が空気送達管４１７０および／または回路要素に沿って走る各ワイヤへ電気的に接続される。図６４に示すように、ドックコネクタ４６００がロックおよび接触アセンブリ６９００内に回転されている間、接触トラックは周辺方向に延びるため、電気接続の開始および維持が可能になる。

ドックコネクタとリザーバドックの係合
図４３～図４５および図６９～図７８は、空気送達管４１７０のドックコネクタ４６００とリザーバドック６０５０との係合を示す。図４３に示すように、ドックコネクタ４６００は、ロックおよび接触アセンブリ４６６０と、リザーバドック６０５０上のロックおよび接触アセンブリ６９００によって提供される凹部６９４０とを整列させるように方向付けられる。次に、ドックコネクタ４６００がリザーバドック６０５０へ押圧されると、中間コンポーネント６７００の出口端６７２０は、ベース部位４６４０の開口部内に延び、ラジアルリップシール４６４５は、出口端６７２０の外面に対して係合および弾性変形する。ドックコネクタ４６００がリザーバドック６０５０へさらに押圧されて非ロックの係合位置へ移動すると、ドックコネクタ４６００のラジアルリップシール４６４５は、中間コンポーネント６７００の出口端６７２０の外面に沿って係合およびスライドする。

図４４および図６９～図７２に示すように、ドックコネクタ４６００が非ロックの係合位置に到達すると、ドックコネクタ４６００のベース部位４６４０は、ベース６９１０および中間コンポーネント６７００によって形成されたチャンネル６７８０内に受容され、ドックコネクタ４６００のロックおよび接触アセンブリ４６６０は、凹部６９４０内に受容される。例において、ベース部位４６４０の前端は、中間コンポーネント６７００のフランジ６７７０と係合し得、かつ／または、ベース部位４６４０内の停止面４６４７は、出口端６７２０の自由端と係合して、ドックコネクタ４６００がロックおよび接触アセンブリ６９００内へさらに挿入される事態を回避させ得る。

さらに、ドックコネクタ４６００が非ロックの係合位置に到達すると、ドックコネクタ４６００の保持隆起部４６４４は、ベース６９１０の環状側壁部６９２０に設けられた各凹部内に係合するように方向付けられ、例えば、隆起部４６４４のうち１つは、閉鎖された細長凹部６９２２内に係合し、他方の隆起部４６４４は、開放端凹部６９２４内に係合する。隆起部を係合溝部内に保持する摩擦力は、管をこの係合状態に維持するために十分でありかつデバイスが作動可能な圧力下にあるときに非ロックの構成を維持するために十分であるように、較正され得る。よって、この構成において、フル作動可能な空気圧係合が管とドックとの間に得られ得る。しかし、この係合は、機械的には不完全である。また、この構成においては、管およびドックは、電気通信していない。

図４５および図７３～図７８に示すように、ドックコネクタ４６００は、非ロックの係合位置から時計回り方向において回転されてロック位置へ移動される。このロック位置により、ドックコネクタ４６００はリザーバドック６０５０へロックされ、リザーバドック６０５０との電気信号接続および制御信号接続が形成される。ドックコネクタ４６００がロック位置に到達すると、保持部４６６５は、環状側壁部６９２０上にかつロックおよび接触アセンブリ６９００に設けられた保持壁部６９３０の後側に回転されるため、ドックコネクタ４６００がリザーバドック６０５０から軸方向に外方に牽引される事態が回避される。また、保持部４６６５に沿った接点４６６７は、回転して、リザーバドック６０５０との電気信号接続および制御信号接続を形成するロックおよび接触アセンブリ６９００に設けられた接点６９５５の各バネアーム６９５６と係合される。

さらに、ドックコネクタ４６００がロック位置に到達すると、１つの隆起部４６４４が閉鎖された細長凹部６９２２内において回転し、他方の隆起部４６４４が回転して開放端凹部６９２４から外れて、隣接する開放端凹部６９２６へ移動する。このように隆起部４６４４を各凹部内において係合させることにより、保持が得られ、整列フィーチャが得られ、係合時における触覚フィードバックが得られる。加えて、ロックおよび接触アセンブリ６９００は、ドックコネクタ４６００がロック位置に到達した際にドックコネクタ４６００のロックおよび接触アセンブリ４６６０と係合するように配置されたストップ壁部６９３５（図７０を参照）を含み得るため、ドックコネクタ４６００のさらなる回転が回避される（例えば、図７４を参照）。

本例において、ドックコネクタ４６００とリザーバドック６０５０との接続は、電気的接続および機械的接続前に空気圧接続が完了するように構成される。別の例において、電気接続、空気圧接続および機械接続の形成は、ドックコネクタが回転してロック位置に移動するのと同時にまたは接続から回転機能を除去することによって行われ得る。

空気送達導管４１７０をリザーバドック６０５０から除去するには、ドックコネクタ４６００を反時計方向において回転させて、ロック位置から非ロックの係合位置へ移動させればよい。これにより、ドックコネクタ４６００のロックおよび接触アセンブリ４６６０が回転して、ロックおよび接触アセンブリ６９００によって提供された凹部６９４０内へ移動する。このような回転により、ドックコネクタ４６００がリザーバドック６０５０から電気的に係合解除され、ドックコネクタ４６００が係合解除のためにリザーバドック６０５０から外方に離隔方向に牽引される。

直接的プラグイン接続および中間コンポーネント
図１１０～図１３３は、空気送達管４１７０のドックコネクタ４６００と加湿槽６１００との間の係合の別の例を示す。この配置構成においては、図１１６～図１２０中に最良に示すように、空気送達管４１７０をリザーバドック６０５０および水リザーバ６１００へ接続させるための中間コンポーネント９７００の異なる構成が用いられる。本例において、中間コンポーネント９７００は、リザーバドック６０５０へ取り外し可能に接続され、水リザーバ６１００を空気送達管４１７０へ空気圧接続させるように構成されるため、水リザーバ６１００中において加湿された加圧された空気流れを水リザーバ６１００から中間コンポーネント９７００を介して空気送達管４１７０へ送達させることが可能になる。また、本例において、中間コンポーネント９７００は、空気送達管４１７０へ解放可能に機械的に／ロック様態で接続するようにも構成されるため、空気送達管４１７０がリザーバドック６０５０に対して配置されかつ解放可能に保持される。さらに、この配置構成によれば、空気送達管４１７０が中間コンポーネント９７００へ機械的にロックされかつ空気圧係合されている間、リザーバドック６０５０との電気接続も形成され得る。この電気接続により、電力信号、情報信号および制御信号が、空気送達管４１７０と関連付けられた加熱要素および変換器へ提供される。ロック様態の機械的係合、空気圧係合および電気係合の接続のうち各２つが、順次または実質的に同時に実行され得る。これらの係合が順次実行される際、これらの係合を行い特定の順序は変化し得る。一例において、空気送達管の中間コンポーネントへの接続時において、空気圧係合が先ず行われた後、機械的／ロックの実質的に同時の係合および電気係合が行われ得る。別の例において、ロック様態の機械的係合、空気圧および電気係合は、空気送達管の中間コンポーネントへの接続と実質的に同時に行われ得る。

図４３～図７８に関連して上記した例において、ドックコネクタ４６００は、中間コンポーネント６７００と共に空気圧的にシールされ、リザーバドック６０５０と共に機械的に接続（ロック）される。図１１０～図１３３に示すこの後者の例と対照的に、図１１０～図１３３の例において、空気送達管４１７０のドックコネクタ４６００により、中間コンポーネント９７００との空気圧シールおよび機械的（ロック）接続双方が形成される。空気圧接続および機械的接続を１つのコンポーネントに組み込むことにより、寸法公差の向上が可能になり、これにより、ドックコネクタ４６００の高信頼性化および製造容易化が可能になり得、ドックコネクタ４６００のサイズ低減も可能になり得る。

中間コンポーネント
図１１０、図１１２、図１１３および図１１５Ａに示すように、中間コンポーネント９７００は、リザーバドック６０５０のドック出口６０９０へ設けられかつリザーバドック６０５０のドック出口６０９０と機械的に係合して、水リザーバ６１００の空気送達管４１７０への空気圧接続および空気送達管４１７０のリザーバドック６０５０への機械的接続が行われる。図示の例において、中間コンポーネント９７００がリザーバドック６０５０へ取り外し可能に接続されることにより、中間コンポーネント９７００を（例えば多患者多用途（ＭＰＭＵ）用途のために）清掃、殺菌および／または交換のために分解することが可能になる。

図１１３および図１１６～図１２０に示すように、中間コンポーネント９７００において、入口端９７１０および出口端９７２０を含む管状部９７０５が設けられる。図１２０中に最良に示す入口端９７１０において、水リザーバ６１００とインターフェースをとるように適合された入口シール９７１５と、空気送達管４１７０とインターフェースをとるように適合された出口端９７２０とが設けられる。管状部９７０５は、保持整列フィーチャおよび整列フィーチャも含む。これらの保持整列フィーチャおよび整列フィーチャは、中間コンポーネント９７００をリザーバドック６０５０と整列させることと、リザーバドック６０５０との取り外し可能な回転不可能な接続を提供することとを行うような構造および配置にされる。加えて、管状部９７０５は、例えばセンサ（例えば、圧力センサ）および／またはマイクロフォンとの通信のためのポート９７３０（図１２０中に最良に示す）を含む。図示の例において、ポート９７３０において、ポートシールおよび／または膜９７３５が設けられて、ポート９７３０と、センサおよび／またはマイクロフォンと関連付けられたシャーシ開口部７３８０（図１１５Ｃ３を参照）との間にシーリングインターフェースおよび／またはカバーを提供する。別の例において、ポート９７３０は、ポートシールまたは膜を含まなくてもよい。さらなる、中間コンポーネント９７００は、空気送達管４１７０のドックコネクタ４６００と取り外し可能な接続を提供するような構造および配置にされた保持フィーチャを含む。

図示の例において（例えば、図１２０を参照）、管状部９７０５（入口端９７１０、出口端９７２０、ならびに保持フィーチャおよび整列フィーチャを含む）は、比較的剛性の材料（例えば、熱可塑性ポリマー（例えば、ＰＣ、ＡＢＳ））によって構築された第１の部分またはベースモールドを含み、入口シール９７１５およびポートシール９７３５は、（例えばオーバーモールドによって）第１の部分に設けられた比較的軟質の材料（例えば、熱可塑性エラストマー（ＴＰＥ）またはシリコーン）によって構築された第２の部分またはオーバーモールドを含む。図１２０中の中間コンポーネント９７００の残りの硬質材料コンポーネントから軟質コンポーネントを空間的に分離させているが、これはあくまで例示目的のためであり、実際には、軟質材料コンポーネントを各剛性コンポーネントへ恒久的に取り付けることが可能であり、図１１９の構成は、一体型中間コンポーネント９７００であり得、図１２０に示す個々のコンポーネントへの分解は不可能である。

図示の例において、入口端９７１０およびその入口シール９７１５は、出口端９７２０に対して角度を以て配置される。例えば、入口シール９７１５における開口部の軸は、出口端９７２０における開口部の軸に対して約９０°で配置される（図１１９を参照）。しかし、他の適切な角度が可能である（例えば、入口シール９７１５の軸は、出口端９７２０の軸に対して約４５°で配置される）ことが理解されるべきである。

水リザーバ６１００がリザーバドック６０５０へ接続されると、中間コンポーネント９７００の入口シール９７１５は、水リザーバ６１００の出口管６１３０（または出口）の出口端に沿った接触面に対して面シールと係合しかつこの面シールを提供するような構造および配置にされる（図１３１および図１３２を参照）。このような係合により出口流れ経路がシールされることにより、空気送達管４１７０への送達のために加湿空気を水リザーバ６１００から流出させ、中間コンポーネント９７００中へ流入させることが可能になる。図示のように、入口シール９７１５は、弾性圧縮によって一定レベルのデカップリングを中間コンポーネント９７００と水リザーバ６１００との間に提供するベローズ型配置構成を含み得る。

別の実施形態において、水リザーバ６１００の出口管６１３０（または出口）と中間コンポーネント９７００との間の軟質かつ／または可撓性の材料シールは、出口管６１３０の一体型部分であってもよいし、あるいは、出口管６１３０または中間コンポーネント９７００から独立したシーリング部であってもよい。

出口端９７２０（例えば、図１１５Ｃ３を参照）は、ＩＳＯテーパー部（例えば、２２ｍｍ外径のＩＳＯテーパー部）を空気送達導管４１７０への接続のために含み得る。

中間コンポーネント９７００のリザーバドック６０５０に対する整列および保持のための保持フィーチャおよび整列フィーチャについて、中間コンポーネント９７００は、弾性ピンチアーム９７４０（例えば、図１１６～図１１８）を含む（すなわち、片持ち梁型バネアーム）。バネまたはピンチアーム９７４０は、ロック部材（例えば、リザーバドック６０５０のキャビティ内に設けられたクロスバー９７５０）とのスナップ嵌め接続を提供するような構造にされた反矢じり端またはタブ９７４５を含み得る（図１１２および図１１４を参照）。中間コンポーネント９７００は、（中間コンポーネント９７００の下側に沿った）ガイドレール９７６０および（中間コンポーネント９７００の前方上側に沿った）ガイドリブ９７６１も含み得る。ガイドレール９７６０およびガイドリブ９７６１は、リザーバドック６０５０のキャビティ中に延びる対応するガイドスロット９７５５との係合により中間コンポーネント９７００のリザーバドック６０５０中への正しい整列および挿入を支援するような構造および配置にされる（例えば、図１１４、図１１５Ｂ、図１１６、図１１７を参照）。

さらに、中間コンポーネント９７００は、中間コンポーネント９７００の配置および／または位置決めならびにより詳細にはリザーバドック６０５０内への中間コンポーネント９７００の挿入深さの制限を支援するためのフランジ９７７０を入口端９７１０と出口端９７２０との間に含む（例えば、図１１６を参照）。フランジ９７７０は、リザーバドック６０５０へ設けられた壁部の隣接によってこれを行う（例えば、図１１５Ｃ３および図１１５Ｅに示すような挿入時にフランジがストップ部として機能する）。図１１５Ｄ、図１１５Ｅおよび図１２０に示すように、挿入時におけるフランジ９７７０のドック壁部との隣接の緩衝および使用時における振動の吸収のために、１つ以上のバンパー９７７５（例えば、熱可塑性エラストマー（（ＴＰＥ）またはシリコーンによって構築されたもの）が設けられ得る。中間コンポーネント９７００の振動の最小化の他にも、バンパーの可撓性により、バンパーが押圧された後に発生するバネ力によって有刺タブ９７４５が確実に後方に押圧され、タブが常に確実にクロスバー９７５０とロック様態で係合するようになる。その結果、有刺タブ９７４５とクロスバー９７５０との間のロック様態係合における振動および係合解除の可能性が最小化される。図示の例において、第１のバンパー９７７５は、中間コンポーネント９７００の上側に設けられ、第２のバンパー９７７５は、中間コンポーネント９７００の下側に設けられる（図１１５Ｄおよび図１１５Ｅを参照）。例において、バンパー９７７５は、ドック壁部へ取り付けてもよいし、あるいは入口シール９７１５およびポートシール９７３５と共に管状部９７０５へオーバーモールドしてもよい（図１２０を参照）。

空気送達管４１７０のドックコネクタ４６００を中間コンポーネント９７００へ保持する保持フィーチャについて、中間コンポーネント９７００は、部分環状側壁部９７９０（図１２０を参照）を含む。部分環状側壁部９７９０は、出口端９７２０に沿ってフランジ９７７０から外方に突出する。図１２０に図示のように、出口端９７２０および部分環状側壁部９７９０は、協働して、空気送達管４１７０を受容する環状チャンネル９７８０を形成する。部分環状側壁部９７９０の対向する内側それぞれにおいて、係合時に空気送達管４１７０のドックコネクタ４６００に設けられた各保持隆起部４６４４（図１２３を参照）を受容するように適合された穴部または凹部９７９２が設けられる。図示の例において、部分環状側壁部９７９０内に（その上側に沿って－図１２０を参照）隙間を設けることにより、空気送達管４１７０のドックコネクタ４６００の電気接続の収容および促進が行われる。

また、中間コンポーネント９７００において、下側タブ９７９５（例えば、図１２０）が設けられる。この下側タブ９７９５は、部分環状側壁部９７９０から部分環状側壁部９７９０の周辺の一部に沿って（その下側に沿って）外方かつ下方に突出する。下側タブ９７９５は、フィンガーまたはプッシュタブとして機能し得、中間コンポーネント９７００のリザーバドック６０５０内外における挿入または退避を促進させる。加えて、下側タブ９７９５は、一体型ＲＰＴデバイスの外シュラウドおよびシャーシコンポーネントと加湿器６０００との間の１つ以上の締結具９７９９（例えば、（ねじ）または縁部を被覆または隠蔽するような構成および配置され得る（図１１０および図１１３を参照）。

中間コンポーネント９７００がリザーバドック６０５０のドック開口部６０９１内へ挿入されると、中間コンポーネント９７００は、自身のガイドレール９７６０およびガイドリブ９７６１を各ガイドスロット９７５５と係合させるように方向付けられる。各ガイドスロット９７５５は、中間コンポーネント９７００を作動位置に正しく整列およびガイドする（例えば、図１１３を参照）。また、ドック開口部６０９１および中間コンポーネント９７００の部分環状側壁部９７９０において非円形外形を設けることにより、挿入時における中間コンポーネント９７００の正しい方向付けが促進される。

中間コンポーネント９７００とリザーバドック６０５０との間の寸法および相互作用を、リザーバドック６０５０のドック開口部６０９１（この開口部は、中間コンポーネント９７００を受容する）の断面が中間コンポーネント９７００の断面よりも若干大きくなるように配置してもよい（例えば、図１１５Ｃ１を参照）。しかし、挿入経路の端部のより近隣において（例えば、図１１５Ｃ２を参照）、１つ以上のバンパー（例えば、バンパー９７５１および／またはバンパー９７５２）が設けられ得、隆起部またはバンパー点（単数または複数）により中間コンポーネント９７００の内縁または表面９７５８を（例えば、ピンチアーム９７４０およびガイドレール９７６０に沿って）隆起させて、中間要素９７００の前端全体を上昇させる。これにより、ポートシール９７３５を移動させてシャーシ開口部７３８０とシール係合させるかまたはシャーシ開口部７３８０とのシール係合との準備をさせることができ得る。次に、中間コンポーネントのさらなる挿入により、中間要素の一部をシャーシ開口部の各部位との隣接係合させることが可能になり、さらなる挿入が回避される。この時点において、ポート９７３０のポートシール９７３５は、移動されてシャーシ開口部７３８０とシール係合される（例えば、図１１５Ｃ３を参照）か、または、（このような係合が既に形成されている場合）シール係合を保持するように配置される。図１１５Ｃに示すように、タブ９７９５は、ドックとインターフェースをとるように配置されたさらなる隆起部またはバンパー点を提供するリブまたはバンパー９７５３を含み得る。上記した配置構成により、係合構成におけるポートシール９７３５とシャーシ開口部７３８０との間のシール係合を確保しつつ、中間要素のドック開口部６０９１中への挿入時における摩擦が最小化される。使用時において中間要素９７００へ付加され得る大きな力に起因して、１つよりも多数のバンパー点（例えば、バンパー９７５１および９７５３における隆起点またはバンパー９７５１、９７５２および９７５３における隆起点）が安定性向上のために用いられ得る。このような複数の支持／隆起点を設けることにより、患者が治療時において管を引っ張った場合でも、９７３０において頑強かつ一貫したシールの確保が支援され得る。さらに、中間要素の頑強な支持により、中間要素に対する取り付けられた管の取り付けおよび取り外しがより容易になる。

中間コンポーネント９７００が作動位置に到達すると、バネまたはピンチアーム９７４０の反矢じり端またはタブ９７４５は、クロスバー９７５０の下側において係合するような構成および配置にされる（例えば、図１１２を参照）。反矢じり端９７４５および／またはクロスバー９７５０は、作動位置との係合を促進させるテーパー部を含み得る。例において、バネまたはピンチアーム９７４０とクロスバー９７５０との係合により、正しい接続を示す感覚フィードバック（例えば、可聴クリック）が得られ得る。このスナップ嵌め接続により、中間コンポーネント９７００は、リザーバドック６０５０へ解放可能に固定される。中間コンポーネント９７００を係合解除させるには、バネまたはピンチアーム９７４０をリザーバドック６０５０の後部へ（例えば、ツールを用いてまたは用いずに）手動により押圧すればよい。このような圧力により、バネまたはピンチアーム９７４０および反矢じり端９７４５は弾性的に撓んで非ロックの位置へ移動する（すなわち、この位置において、反矢じり端９７４５はクロスバー９７５０から係合解除されて、中間コンポーネント９７００をリザーバドック６０５０から取り外すことが可能になる）。

中間コンポーネント９７００がリザーバドック６０５のドック開口部６０９１内へ挿入およびロックされた後、中間コンポーネント９７００／リザーバドック６０５０によって提供される保持フィーチャおよび整列フィーチャの協働により、中間コンポーネント９７００のリザーバドック６０５０のドック出口６０９０への取り外し可能な回転不可能な接続が可能になる。また、接続後、中間コンポーネント９７００のバネまたはピンチアーム９７４０をリザーバドック６０５０のキャビティ内にロック様態で係合させることにより、例えば（水リザーバ６１００がリザーバドック６０５０内に受容された際に）中間コンポーネント９７００が外れる事態が回避される。

中間コンポーネント９７００がリザーバドック６０５０のドック出口６０９０へ接続されると、その入口シール９７１５は、リザーバドック６０５０のキャビティ中へ突出して、水リザーバ６１００の出口管６１３０（または出口）との係合を可能にする（図１１２および図１３１を参照）。同様に、出口端９７２０は、部分環状側壁部９７９０およびその穴部９７９２と共に、リザーバドック６０５０のキャビティ内に延びかつ／またはリザーバドック６０５０のキャビティから突出することにより、空気送達管４１７０との係合を可能にする（例えば、図１１０および図１１５Ａを参照）。さらに、ポート９７３０およびそのポートシール９７３５は、例えば図１１５Ｃ３に示すように上方に方向付けられて、センサおよび／またはマイクロフォンと関連付けられたシャーシ開口部７３８０とインターフェースをとる。

電気接続
図１１０、図１１５Ａ、図１２１および図１２２に示すように、電気接点アセンブリ９９５０は、リザーバドック６０５０のドック出口６０９０に設けられて、リザーバドック６０５０を空気送達管４１７０へ電気的に接続させ、電気（電力および制御信号双方の）接続を形成する。

図１２１および図１２２に最良に示すように、接触アセンブリ９９５０は、リザーバドック６０５０によってドック開口部６０９１の上側に沿ってリザーバドック６０５０のドック出口６０９０において支持される。接触アセンブリ９９５０は、リザーバドック６０５０（例えば、ＰＣＢＡ７６００）内において電力および電気信号伝達と通信する。図示のように、接触アセンブリ９９５０は、支持部材９９５２と、支持部材９９５２によって支持された複数の接点９９５５（例えば、４つの接点）とを含む。接点９９５５はそれぞれ、支持部材９９５２から離隔方向に付勢されるバネアーム９９５６（図１２２中に最良に示すように）を含み得る。使用時において、空気送達管４１７０のドックコネクタ４６００がリザーバドック６０５０と係合すると、バネアーム９９５６は、ドックコネクタ４６００との係合時において弾性的に撓んで、ドックコネクタ４６００の各接点４６６７との接触を維持する。接触アセンブリ９９５０は、接点９９５５をＰＣＢＡ７６００へ電気的に接続させる（図１２２を参照）ための電気コネクタ９９５８（例えば、フレキシブル回路基板（ＦＣＢ）、フレキシブルプリント回路（ＦＰＣ）および／またはフレキシブルフラットケーブル（ＦＦＣ））も含む。

図１１０および図１１５Ａに示すように、（シャーシアセンブリ７３００およびリザーバドック６０５０を封入する）外部ハウジングまたは外シュラウド８０５０により、接触アセンブリ９９５０のためのカバーまたは収納装置が得られ、ドックコネクタ４６００（雄コネクタ）の各接点と係合する接点９９５５（雌コネクタ）に繋がるソケットまたは開口部９９８０が形成される。

ドックコネクタ
図１１０～図１１１に示すように、空気送達管４１７０のドックコネクタ４６００は、中間コンポーネント９７００との空気圧および機械的接続の形成と、リザーバドック６０５０に設けられた接触アセンブリ９９５０との電気接続の形成とを行うような構造にされる。

図示の例において、ドックコネクタ４６００は、管状ベース部４６４０と、ベース部位４６４０に設けられた接触アセンブリ４６６１とを含む（図１１０を参照）。

図１２３～図１２６に示すように、管状ベース部４６４０は、ベース部位４６４０の入口開口部中へ突出するラジアルリップシール４６４５を含む。ラジアルリップシール４６５４は、弛緩した非変形形状にある際、ラジアルリップシール４６５４の内径は、ドックコネクタが空気圧係合された中間コンポーネント９７００の出口端９７２０（図１１５Ａ）の外径よりも小さい。例えば、ラジアルリップシール４６４５によって提供される内径は、２２ｍｍ外径のＩＳＯテーパー部を含む出口端９７２０と共に用いられる場合、約２２ｍｍ未満（例えば、約１９－２１ｍｍ以下）であり得る。使用時において、ラジアルリップシール４６４５は、中間コンポーネント９７００の出口端９７２０との係合時において弾性変形して、中間コンポーネント９７００との空気圧接続を提供するような構造にされる（例えば、ラジアルリップシール４６４５は、中間コンポーネント９７００の出口端９７２０の外面に対しておよびその周囲において気密シールを形成する）。図１２５中に最良に示すように、ラジアルリップシール４６４５は、ベース部位４６４０の内部へ角度を以て延びて、ドックコネクタ４６００および中間コンポーネント９７００の整列および係合のためのリードイン部を提供する。また、ベース部位４６４０内の停止面４６４７（図１２５を参照）により、中間コンポーネント９７００がドックコネクタ４６００内にさらに挿入される事態を回避するためのストップ部が得られる。

テーパ状突起４６４２は、接触アセンブリ４６６１に隣接するベース部位４６４０（図１２３を参照）から外方に突出する。テーパ状突起４６４２によって提供される親指および／またはフィンガーグリップにより、中間コンポーネント９７００およびリザーバドック６０５０に設けられた接触アセンブリ９９５０に対するドックコネクタ４６００の手動操作および接続が促進される。図１１１に示すように、テーパ状突起４６４２に含まれ得る整列標示は、空気送達管４１７０がリザーバドック６０５０へ接続された際にリザーバドック６０５０に設けられた整列標示と整列されるような構成および配置されるため、使用時における空気送達管４１７０のドックコネクタ４６００のリザーバドック６０５０への正しい整列および適切な接続が確保される。

さらに、図１２３中に最良に示すように、ベース部位４６４０は、弾性保持隆起部４６４４をベース部位４６４０の対向する側部それぞれに含む。以下に述べるように、保持隆起部４６４４は、係合時において中間コンポーネント９７００に設けられた各穴部９７９２と相互作用するような構造および配置にされるため、ドックコネクタ４６００は、中間コンポーネント９７００（およびよってＲＰＴデバイス６０００全体）との作動可能な係合に保持される。

図１２３に示すように、接触アセンブリ４６６１（リードフレーム）は、支持部位４６６５と、支持部位４６６５の前側に沿って設けられた複数の接点４６６７（例えば、４つの接点）、とを含む。図示のように、支持部位４６６５は、接点４６６７をベース部位４６４０から空間を空けて支持するための段階的構成を含む。これらの接点４６６７は、リザーバドック６０５０上の接触アセンブリ９９５０に設けられた各接点９９５５と係合してリザーバドック６０５０と電気信号接続および制御信号接続を形成するように、配置される。図示の例において、これらの接点４６６７は、挿入されてリザーバドック６０５０上の雌コネクタとして配置された接点９９５５と係合した際に電気接続および信号接続を形成するように構成された雄コネクタとして配置される（すなわち、直線的または直接的なプラグイン接続）。支持部位４６６５により、接点４６６７を空気送達管４１７０および／または回路要素に沿って走る各ワイヤへ電気的に接続させるための電気コネクタが得られる。

図１２３に示すように、接点４６６７のトラックは、（カフの本体から空間を空けて）上昇され、軸方向に延びるため、内部において接点９９５５が配置されたソケット９９８０内へドックコネクタ４６００が挿入された際に電気接続を開始および維持することが可能になる。しかし、支持部位および／または接点は、例えばリザーバドック６０５０のドック出口６０９０に設けられたインターフェース配置構成または接続機構に応じて別の構成および配置構成を有し得ることが理解されるべきである。

図１２６に示すような図示の例において、ドックコネクタ４６００は、接触アセンブリ４６６１（リードフレーム）を支持するベースアセンブリ４６８０（ベース４６８２およびカバー４６８４を含む）を含み得る。例において、接触アセンブリ４６６１は、先ずベース４６８２と係合またはインターロックされ得、その後、カバー４６８４は、ベース４６８２上にクリップされるかまたは他の場合にベース４６８２と係合されて、確実に支持され、接触アセンブリ４６６１を作動位置に保持し得る。ベースアセンブリ４６８０は、比較的剛性の材料（例えば、熱可塑性ポリマー（例えば、ＰＰ、ＰＣ、ＡＢＳ））によって構築され、比較的軟質の材料（例えば、熱可塑性エラストマー（ＴＰＥ）またはシリコーン）によって構築されたオーバーモールド４６９０が、（例えばオーバーモールドによって）ベースアセンブリ４６８０へ設けられる。図示のように、比較的剛性のベースアセンブリ４６８０は、管状ベース部４６４０、テーパ状突起４６４２および弾性保持隆起部４６４４のための構造形状を形成し得る一方、比較的軟質のオーバーモールド４６９０は、管状ベース部４６４０およびテーパ状突起４６４２のための軟質の外部を形成し、ラジアルリップシール４６４５を形成する。

ドックコネクタとリザーバドックの係合
図１１０～図１１１および図１２７～図１３０は、空気送達管４１７０のドックコネクタ４６００とリザーバドック６０５０との係合を示す。図１１０に示すように、ドックコネクタ４６００は、その接触アセンブリ４６６１と、リザーバドック６０５０上の接触アセンブリ９９５０に繋がるソケット９９８０とを整列させるように方向付けられる。次に、ドックコネクタ４６００をリザーバドック６０５０へ軸方向に押圧して、中間コンポーネント９７００の出口端９７２０をベース部位４６４０の開口部内に延ばし、ラジアルリップシール４６４５は、円筒出口端９７２０の外面に対して係合および弾性変形する。ドックコネクタ４６００がリザーバドック６０５０へさらに押圧されてロック位置に到達すると、ドックコネクタ４６００のラジアルリップシール４６４５は、中間コンポーネント９７００の出口端９７２０の外面と係合し、この外面に沿ってスライドする。このロック位置において、接触アセンブリ４６６１は、ソケット９９８０内に延びて、接点４６６７を接点９９５５の各バネアーム９９５６と係合させて、リザーバドック６０５０との電気信号接続および制御信号接続を形成する（図１１１および図１２９～図１３０を参照）。

さらに、ドックコネクタ４６００がロック位置に到達すると、ドックコネクタ４６００のベース部位４６４０は、中間コンポーネント９７００によって形成されたチャンネル９７８０内に受容され、保持隆起部４６４４は、中間コンポーネント９７００の部分環状側壁部９７９０に設けられた各穴部９７９２内に係合するような構成および配置にされるため、ドックコネクタ４６００は、作動可能な圧力下においてロック位置において解放可能に保持される（図１２７～図１２８を参照）。各穴部９７９２内の保持隆起部４６４４のこのような係合により、係合時における触覚フィードバックが得られ得る。ロック位置において、ドックコネクタ４６００は、中間コンポーネント９７００と空気圧的および機械的に係合し、リザーバドック６０５０の電気接点へ電気的に接続される。

また、図１２３、図１２５および図１２６に示すように、ドックコネクタ４６００は、１つ以上の内部リブ４６４８を含み得る。これらの内部リブ４６４８は、中間コンポーネント９７００の出口端９７２０の外面に沿って係合して、ドックコネクタ４６００の中間コンポーネント９７００に対する配置および整列を支援するように構成される。

例において、ベース部位４６４０の前端は、中間コンポーネント９７００のフランジ９７７０と係合し得かつ、／または、ベース部位４６４０内の停止面９６４７は、中間コンポーネント９７００の出口端９７２０の自由端と係合し得る。この隣接により、ドックコネクタ４６００がソケット９９８０および中間コンポーネント９７００内にさらに挿入される事態が回避され、挿入時におけるストップ部として機能する（図１２７～図１３０を参照）。

例において、ドックコネクタ４６００のリザーバドック６０５０への接続は、電気的接続および機械的接続の前に空気圧接続が完了するように構成される。例において、電気的接続および機械的接続は、空気圧接続の後に同時に形成してもよいし、あるいは、電気的接続および機械的接続は、空気圧接続の後に順次形成してもよい。別の例において、空気圧接続、電気的接続および機械的接続は、ドックコネクタのロック位置への挿入時において同時に形成され得る。

空気送達導管４１７０をリザーバドック６０５０から取り外すには、保持隆起部４６４４を各穴部９７９２から解放させるのに十分な力によりドックコネクタ４６００をリザーバドック６０５０から離隔方向に外方に牽引すればよい。

管の識別例
図３５Ａは、本技術の一形態によるドックと管接続の模式図である。ドック出口６０９０は、管４１７０の対応する接触アセンブリ４１７２へ４つの接点を介して接続することが可能な接触アセンブリ６８００を含み得る。ドック出口６０９０は、管４１７０へ機械的かつ電気的に接続され得る。

図３５Ａに示すように、接触アセンブリ６８００は、処理回路機構（例えば、ＰＣＢＡ７６００）へ接続された４つの接点を含む。これらの接点のうち２つ（ヒーター＋およびヒーター－）は、ヒーター制御回路へ接続され、これらの接点のうち２つ（＋センサおよび－センサ）は、感知回路へ接続される。いくつかの例において、＋センサおよび－センサの接点は、ＮＴＣセンサへ接続され得る。いくつかの例において、感知回路は、接点（ヒーター＋およびヒーター－）へも接続され得る。ヒーター制御回路および感知回路は、加湿器（例えば、ＰＣＢＡ７６００）内に設けられ得る。

ヒーター制御回路は、管４１７０中の加熱要素への給電をスイッチ（例えば、トランジスタ）を介して行い得る。ヒーター制御回路は、管４１７０中の加熱要素へ供給されるパルス幅変調（ＰＷＭ）信号の持続期間、電圧、および／または周波数および／または期間を制御し得る。

感知回路は、管４１７０内の加熱要素の動作を示す信号（単数または複数）を管４１７０内に配置された変換器（例えば、負の温度係数（ＮＴＣ）サーミスタ）から受信するように、構成され得る。この変換器は、管のマスク近位端）に配置され得る。

例えば、感知回路は、変換器の電圧および／または電流を測定して、加熱要素の動作特性（例えば、温度）を決定し得る。ヒーター制御回路は、加熱要素の制御を感知回路によって受信された信号と、加熱管４１７０についての設定セットとに基づいて行い得る。管内のいずれかの場所に配置された他のセンサ（すなわち、湿気センサ）も、同様の様態で接続され得る。

感知回路は、ドック６０５０へ接続された管４１７０の種類を自動識別し得る。ドック６０５０へ接続された管の種類の決定は、感知回路により管４１７０内の活性コンポーネントおよび／または受動コンポーネントによって提供される一意の電気特性（単数または複数）に基づいて４つの電気コネクタ６８０５のうち１つ以上を介して行われ得る。ドックへ接続された管４１７０の種類の提示に基づいて、コントローラは、システムの動作パラメータを変更し得る。例えば、異なる加熱制御設定が、異なる管（例えば、非加熱管、加熱管、熱水分交換器（ＨＭＥ）を含む管、未知の管）のために提供され得る。いくつかの例において、これらの設定は、識別された空気送達管のサイズ（例えば、１５ｍｍ、１９ｍｍ）、ＨＭＥの存在および種類、管へ接続された患者インターフェースの種類などに基づいて変更され得る。ドック６０５０へ接続された管の種類の決定は、管４１７０中の活性コンポーネントおよび／または受動コンポーネントによって提供された一意の電気特性（単数または複数）に基づいて４つのコネクタのうち１つ以上を介して感知回路により行われ得る。

図３５Ａに示すように、管４１７０は、接触アセンブリ６８００内の４つの接点それぞれへの接続のために４つの接点を含む。管内のこれらの接点は、（図２４Ａに示すような）ソリッドピンであり得るが、これに限定されない。いくつかの例において、これらの接点は、例えばリードフレーム端子によって設けられ得る。一例において、管４１７０がドックへ接続されると、デバイスのうち１つの内部のソリッドピンは、その他のデバイス中の対応するポゴピンへ接続される（例えば、図２０Ｊを参照）。

図３５Ａに示すように、第１の回路要素８０２２は、管４１７０内の２つのピンへ接続され、第２の回路要素８０２４は、管４１７０内の他の２つのピンへ接続される。図３５Ａに示すように単一の回路要素が図示されているが、第１のおよび／または回路要素は、複数の活性回路要素および／または受動回路要素を含み得る。

第１の回路要素８０２２は、管４１７０内のヒーター要素および／または１つ以上の他の要素を含み得る。第１の回路要素８０２２は、ヒーター要素に対する抵抗を表し得る。

第２の回路要素８０２４は、負の温度係数（ＮＴＣ）材料によって形成されたサーミスタの形態のセンサを含み得る。第２の回路要素８０２４のパラメータ（例えば、抵抗）は、管温度の変化と共に変化し得る。感知回路は、管４１７０の温度の感知を第２の回路要素８０２４のパラメータ変化の監視によって行うように構成され得る。

図３５Ｂは、本技術の一形態によるドックおよび管の接続の回路図を示す。図３５Ａ中の第１の回路要素８０２２は、（およそ５ｏｈｍの）２つの抵抗器５Ｒによって表され得る。これら２つの抵抗器５Ｒは、ヒーター＋接点およびヒーター－接点は接続される。これは、電熱線において通常含まれるのは１本以上の（通常は２つの）銅線であり、これらの導線は順次相互に接続され、全抵抗が約１０ｏｈｍｓである点に関連する。この導線の組み合わせの流れは、管のドック結合端から管のマスク結合端へ延びた後、管のドック結合端へ戻る。図３５Ａ中の第２の回路要素８０２４は、サーミスタと、ＮＴＣ＋接点およびＮＴＣ－接点へ接続された２つの抵抗器５Ｒとによって表され得る。図３５Ａ中のサーミスタは、空気管の種類に基づいて選択され得る。１０ｋサーミスタが１５ｍｍ空気管内へ設けられ得、１００ｋサーミスタが１９ｍｍ空気管内へ設けられ得、開回路が受動空気管内に設けられ得る。

これらの電熱線８０２２は、通常は管の流れに沿って分配され、センサ８０２４は、通常は管のマスク端部に配置される。よって、ワイヤを接続させる電熱線およびセンサはどちらとも、管の流れを延長させる。

第１の回路要素および第２の回路要素は、ドック６０５０へ接続された管の種類を識別するための感知回路によって用いられ得る。いくつかの例において、１つ以上の接続ピンの一意の電気特性は、管のパラメータの識別に用いられ得る。第１の回路要素および第２の回路要素によって提供される異なる抵抗値により、接続先の管の種類と、システム動作に用いられる制御パラメータとを加湿器内の制御回路が決定することが可能になり得る。感知回路は、第１の回路要素および／または第２の回路要素の抵抗を測定して、管の種類を決定し得る。あるいは、（図３５および図３６に示す４本のピンに加えて）さらなる電気ピンを空気送達管４１７０のドックコネクタ４６００内に設けてもよい。これらの電気ピンは、一意の特性（例えば、電気抵抗）と関連付けられ、種類などのパラメータならびに管と関連付けられた他の特性を示すために用いられ得る。

一例として、異なる種類の管は、以下を含み得る：（１）４ワイヤの１５ｍｍ加熱管により、ヒーターワイヤ抵抗２ｘ５Ｒが得られ得、２５℃におけるＮＴＣ抵抗値は１０Ｋであり；（２）４ワイヤの１９ｍｍ加熱管により、ヒーターワイヤ抵抗２ｘ５Ｒが得られ得、２５℃におけるＮＴＣ抵抗値は１００Ｋであり；（３）受動非加熱管は、標準ＩＳＯテーパー部を備え得る。

よって、接続された管の種類の検出は、第２の回路要素（例えば、ＮＴＣ）および第１の回路要素（例えば、ヒーターワイヤ）抵抗の組み合わせ（上記の（１）および（２）の場合）の測定によって行われ、１つ以上の独立ピンの電気特性またはこのようなものの組み合わせの検出または双方の接続対上の開回路の検出（上記（３）の場合）が行われる。

システムは、接続された能動管における単一の障害状態を自動検出するようにも構成され得る（例えば、４つの管ワイヤ、およびヒーターワイヤの正当ではない値（部分亀裂）、管ワイヤ間のクロスショート回路のうちいずれかの上の短絡または開回路）。

本技術の例によれば、管のドックへの直接接続だけでなく、電気アダプタも可能になる。このようなアダプタを用いると、異なる種類の熱線管のドックへの接続が可能になり得るが、このようなアダプタの主要な目的は、近位端においてＨＭＥ受動加湿器と共にまたはＨＭＥ受動加湿器無しで動作することが可能な受動空気管のドックへの接続の促進である。このようなアダプタの主要用途としては、以下の２つがある：（ａ）受動空気管のドックへの機械的接続を提供すること、および（ｂ）受動空気管検出のための手段をシステムに提供すること。

図３６は、本技術の上述したような形態によるドックと管接続の模式図である。図３６、ドックの接触アセンブリ６８００は、アダプタ８０２０を介して受動管４１７０へ接続され得る。アダプタ８０２０により、受動管４１７０内に一般的に存在しない電気接続がドックの接触アセンブリ６８００へ提供される。一例において、管４１７０により、機械的接続がドック６０５０へ提供され得、管アダプタ８０２０により、電気接続が得られ得る。いくつかの例において、管アダプタ８０２０は、ドックにも機械的に接続され得る。図２４Ａ～図２４Ｂは、本技術の一形態による管４１７０および管アダプタ８０２０の機械的接続を示す。

いくつかの例において、アダプタ８０２０は、接触アセンブリの一部であり得る。アダプタ８０２０は、管４１７０の一体部分として製造してもよいし、あるいは管４１７０から取り外し可能であってもよい。このようにして、電気コンポーネント（例えば、加熱要素および／またはセンサ）を有していない空気管に対し、ドック６０５０へ接続された空気管の種類を識別するための回路要素が設けられ得る。

第１の回路要素８０２２および第２の回路８０２４を管４１７０中に設けた図３５Ａと対照的に、図３６に示す例の場合、第１の回路要素８０２２および第２の回路要素８０２４は、アダプタに設けられる。この場合のみにおいて、これらの回路要素は、ヒーターワイヤおよびＮＴＣセンサ／変換器の抵抗を表さず、受動管からシステムへの接続を識別するためにコントローラによって検出される単純な抵抗器が設けられる。図２４Ａ～図２４Ｂ中に模式的に示すように、第１の回路要素８０２２および第２の回路要素８０２４は、接続を含むハウジング内に設けられ得る。第１の回路要素８０２２および第２の回路要素８０２４は、アダプタ８０２０内に設けられた接続へ直接接続され得る。一例において、第１の回路要素８０２２において、管のアダプタ内の接続のうち２つへ直接接続された単一の抵抗器が設けられ、第２の回路要素８０２４において、管のアダプタ内の他の２つの接続へ直接接続される単一の抵抗器が設けられる。いくつかの例において、アダプタ８０２０は、管の外部かつ／または管の周囲に設けられ得る。本例において、第１の回路要素および第２の回路要素は、管の外部表面および／または管コネクタ内に設けられる。

アダプタ内の第１の回路要素および第２の回路要素により、加湿器内の感知回路は、ドック６０５０へ接続された管の種類を決定することが可能になる。これは、図３５Ａ中の例と異なる。図３５Ａ中の例の場合、（例えば、管内に設けられた）加熱要素および／またはセンサを含む回路機構の特性を用いて、システムへ接続された種類が決定される。そのため、受動管の本例における第１の回路要素および第２の回路要素の値は、図３５Ａ中の能動管の第１の回路要素および第２の回路要素から期待される値の範囲外になるように選択する必要がある。以下に述べるように、ＮＴＣ要素が広範囲の値にわたって分布し得る作動環境においては、ＮＴＣ要素の特定の電気特性（すなわち、抵抗）を考慮する必要がある。

図３７は、（通常は１９ｍｍ加熱管と共に用いられる）１００ｋサーミスタおよび（通常は１５ｍｍ加熱管と共に用いられる）１０ｋサーミスタについての、異なる温度における管ＮＴＣ抵抗の変化の模式図である。１００ｋサーミスタおよび１０ｋサーミスタは、図３５Ａ内に示す第２の回路要素８０２４内に設けられ得るサーミスタに対応し得る。本技術は、正当な動作領域における実際のＮＴＣ抵抗と明白に異なるアダプタのＮＴＣ端子へ接続された抵抗器の使用に基づく。図３７に示すように、およそ２７Ｋｏｈｍ～５１Ｋの領域は、通常動作時において１０ｋおよび１００ｋＮＴＣによって用いられないため、管（または以下に述べるアダプタ）内において用いられる抵抗器は、３６Ｋまたはそれに近い値となるように選択され得る。よって、抵抗値が３６ｋの第２の回路要素８０２４を有するアダプタを備える管が接続された場合、システムは、当該管が１０ｋサーミスタを用いた１５ｍｍ管でも１００ｋサーミスタを用いた１９ｍｍ管でもないことが知れる。このような典型的な値の抵抗は、受動管をアダプタと共に用いた場合を示すものとして上記しているが、管またはさらには管－マスクシステム内のマスクと関連付けられた多様な他のパラメータを示すために、１つ以上の電気ピンの固有抵抗が用いられ得る。このようなパラメータは、管／マスク内のＨＭＥの有無、管へ取り付けられたマスクの種類（鼻用またはフルフェース）などを含み得る。

（例えば、１５ｍｍ加熱管が太陽に露出され、５０℃まで加熱された直後にドックへ接続された場合における）誤検出の可能性を低下させるために、第１の回路要素８０２２は、アダプタ内において用いられる。このアダプタは、所定の値（例えば、およそ１Ｋｏｈｍ）の抵抗を通じてヒーター＋端子およびヒーター－端子を共に接続させる。１ｋｏｈｍ抵抗は、最大２４ｍＡの電流を（１００％ＰＷＭにおいて）伝導させることができる。この最大２４ｍＡの電流は、電力散逸はわずか０．６Ｗであるが、ドックサブシステム回路による高信頼性の測定には十分である。

上記したような２つの回路要素（例えば、抵抗器）をアダプタ内において用いると、システム安全性を維持しつつ、接続先の管の誤検出の可能性が実際に排除される。これらの抵抗器の利用により、正確な識別が可能な低コストの識別システムが得られる。他の回路要素（例えば、抵抗器、コンデンサ）を第１の回路要素および／または第２の回路要素に対して並列かつ／または直列に設けると、識別に用いられる他の回路の特性と別個の特性が得られる。

図３８は、本技術の別の形態によるドックと管接続の模式図である。図３８に示す例は、図３６に示す例に類似するが、アダプタ内においては単一の回路要素（例えば、３６Ｋ抵抗器）のみが用いられるため、アダプタの商品原価の低減に繋がる。本例において、回路要素数の低減に加えて、アダプタ内の接続点数も低下する。ＮＴＣの３６Ｋ値およびヒーターワイヤの開回路の組み合わせの場合、管における二重故障（ＮＴＣワイヤ上のＮＴＣ部分亀裂＋ヒーターワイヤ上の開回路）またはＩＳＯテーパー部を介して機械的に接続された受動管を含むＮＴＣ端子の汚染の状況を示し得るため、検出信頼性が若干低下し得る。

図３９は、本技術の別の形態によるドックおよび管接続を示す。本例において、加熱要素に設けられたＰＷＭの一部は、ＮＴＣ検出回路中に「注入」される。この信号は、快適性サブシステムＮＴＣ測定回路を介してマイクロコントローラによって検出される。この検出された信号は、上記した他の管の標準的動作モード全てと明確に異なるため、本例は、最高の検出性を示し得る。しかし、この構成の場合、（論理的には相互に機能的に接続すべきではない）回路機構の２つの異なる部分（＋２４ＰＷＭ加熱および＋３Ｖ３ＮＴＣ検出）間の望ましくない機能的相互作用を用いるため、いくつかの実行においては望ましくない。

本技術の上記例について、４線式システムを参照して述べてきたが、上記例はこれに限定されない。本技術の例は、他の数のワイヤ（例えば、２本のワイヤ、３本のワイヤ、または５本以上のワイヤ）を含むシステムへ適用され得る。また、上記実施形態においては、システムへ取り付けられた管の種類（サイズ）の検出について主に述べたが、図３５～図３９に関連して述べた電気パラメータ値の変化を用いれば、管に関連付けられた多様なパラメータ（例えば、種類（加熱／非加熱）およびサイズ（１５ｍｍまたは１９ｍｍ））だけでなく、使用マスクと関連付けられたパラメータも示され得る。例えば、電気パラメータの変化により、以下のマスクパラメータのうち１つ以上が示され得る；管へ取り付けられマスクの種類（鼻用またはフルフェース）、マスクサイズ（小型、中型、大型）、管またはマスク内のＨＭＥの有無など。

ワイヤのクロストーク
上記したように、本技術の一例による空気送達管４１７０は、４本のワイヤを含み得る（例えば、加熱要素のための２本のワイヤおよび変換器のための２本のワイヤ（例えば、温度センサとして用いられる負の温度係数（ＮＴＣ）サーミスタ））。ＮＴＣは、当業者の受取人に公知の複数の異なる種類の温度センサの１つに過ぎない点に留意されたい。

本技術の態様は、例えばＮＴＣサーミスタによって提供される信号伝送の精度向上のためにワイヤ間のクロストークの低減または排除に関連する。

図４０は、本技術の一形態によるドックへ接続された４線式回路を含む管の模式図である。４線式回路において、抵抗器９０１０および９０１２は、１つ以上の加熱要素の抵抗を表し、抵抗器９０２０および９０２２は、センサ９０３０へ接続されたワイヤの抵抗を表す。図４０は模式図であり、２組の抵抗器９１０および９１２が図示されているが、これは、２つ以上のヒーターワイヤが存在することを必ずしも意味しない。単一の連続する電熱線または２本を超えるワイヤを記載の加熱管において用いてよい。例えば、図４０に示す２線式配置構成の場合、４つの接続部がドックと管との間に形成される。ＰＷＭ接続およびＧＮＤ接続は、加熱要素へ接続され、ＶＨおよびＶＬは、センサ９０３０へ接続される。図４０に示す静電容量要素Ｃは、実際のコンデンサではないが、近接して配置された２本のワイヤ間の（すなわち、ヒーターワイヤ９０１０と抵抗器ワイヤ９０２０との間の）分布寄生容量結合を表す。

加熱要素については、電力は、接続ＰＷＭおよびＧＮＤを介して供給され、パルス幅変調器（ＰＷＭ）によって調節され得る。ＰＷＭ信号により、ＡＣ信号が設定される。ＰＷＭ信号の特定の設定（例えば、パルス周波数）があると、電磁気（ＥＭ）に起因する記加熱要素ワイヤの移動／（可聴であり得る）振動の原因になり得る。ワイヤの移動が聞こえてくる状態を回避するためには、ＰＷＭ信号のパルス周波数を所定の値にかつ／または所定の値を超えて（例えば、２０ＫＨｚにまたは２０ＫＨｚを超えて）設定すればよい。

センサ９０３０は、変換器（例えば、負の温度係数（ＮＴＣ）サーミスタ）であり得、管４１７０内の熱の測定のために管４１７０内に配置される。上記したように、センサ９０３０は、異なる種類の管の特定のために、異なる特性（例えば、ノミナル抵抗値１０Ｋまたは１００ｋ）を有し得る。室温において、センサ９０３０は、センサ９０３０へ接続されたワイヤの抵抗（例えば、５Ｏｈｍｓ）よりも有意に大きな抵抗値（例えば、数十ＫＯｈｍｓ）を有し得る。

図４２中に模式的に示すように、電圧Ｖｓｅｎｓｅは、センサ９０３０へ提供される。電圧は、マイクロコントローラから第１の抵抗器ＲＨｉｇｈおよび第２の抵抗器ＲＬｏｗを含む分割器ネットワークを介して提供される。センサ９０３０は、これらのワイヤのうち１本に故障が生じた場合にシステムが故障している方のワイヤを検出することが可能なように、これら２つの抵抗器ＲＬｏｗおよびＲＨｉｇｈへ接続される。センサ９０３０の動作パラメータおよび／またはワイヤのうち１本の故障の検出のために、ＤＣ電圧が分割器ネットワークへ付加される。ＶＬｏｗ端子およびＶＨｉｇｈ端子における測定電圧の組み合わせを当業者が見れば、別のＮＴＣワイヤと共にまたはヒーターワイヤと共に短絡しているかを確認することができ、また、どのヒーターワイヤと共に短絡しているかを確認することができる。例えば、ＮＴＣワイヤがＮＴＣワイヤと共に短絡している場合、マイクロコントローラが測定する電圧差は、ゼロとなる。一方、ＮＴＣワイヤがＰＷＭヒーターワイヤと共に短絡している場合、測定された電圧差は、Ｖｓｅｎｓｅよりも大きい（ＶｓｅｎｓｅＤＣ電圧は通常は約３．３Ｖである一方、ＰＷＭＡＣ電圧は約２４Ｖである）。

動作時において、ＰＷＭパルスがオンにされると、ＰＷＭワイヤは、センサ９０３０のワイヤへ容量結合（図４０中のコンデンサＣを参照）される。ＡＣ信号は、寄生（固有の）コンデンサを通じてセンサ９０３０ワイヤ内へ貫通する。図４１は、加熱要素へ付加され得るＰＷＭ信号（信号（Ａ）または（Ｂ））と、感知回路内において観察され得るＰＷＭ誘起信号の一部（信号（Ｃ））との信号図を示す。

ＶＨ（Ｖｈｉｇｈ）点およびＶＬ（Ｖｌｏｗ）点における信号は、ＶｌｏｗをＶｈｉｇｈから減算するように構成されたマイクロコントローラへ設けられる。ＶｌｏｗとＶｈｉｇｈとの間の差は、センサ９０３０の抵抗を示す。マイクロプロセッサは、管４１７０の温度変化に起因するセンサ９０３０の抵抗変化を追跡することと、システムのコンポーネント（例えば、管４１７０中の加熱要素）の動作設定を決定することとを行うように構成される。

（例えばマイクロプロセッサによる）センサ９０３０のプロービングは、ＰＷＭ信号と同期されていない間隔でタイミングがとられ得る。いくつかの例において、センサ９０３０のプロービングは、ＰＷＭ信号の期間よりも低速である。いくつかの場合において、プロービング期間は、数秒間であり得る。プロービング期間は、状況に応じて変化し得る。例えば、いくつかの場合においてはプロービングは一定であり得る一方、他の場合において、ドックへ接続された管が存在しないことが検出された場合、数秒間のプロービングがこの期間として用いられ得るが、ドックへ接続された管の存在が検出された場合、より短い期間またはさらには連続的監視も用いられ得る。上記したように、センサ９０３０のプロービングのための信号は、ＤＣ信号として提供される。

センサ９０３０の低速プロービングに起因して、感知回路は、高速ＰＷＭ誘起信号の異なる部位を取得することができる（図４１のグラフ（ｃ）を参照）。誘起信号は、センサ９０３０信号の電圧の１０～２０パーセントであり得る。ＰＷＭ信号の設定と、ＰＷＭ信号の変化とは、センサ９０３０信号の電圧に基づいた測定精度に影響を与え得る。感知回路機構内において発生する温度誤差は、５度（５度～４０度の測定範囲内において）５度までであり得る。

これらの問題に対処するため、本技術の一形態によれば、ハイパス電気フィルタがＮＴＣ出力のＶｈｉｇｈ点およびＶｌｏｗ点と地面との間に設けられて、センサ９０３０を含む回路機構内から信号の高周波数成分（ＰＷＭ周波数以上のもの）が除去される。図４２に示すように、第１のハイパスフィルタＨＰＦ１は、ＲＨｉｇｈ抵抗器および地面に結合され、第２のハイパスフィルタＨＰＦ２は、Ｒｌｏｗ抵抗器および地面へ結合される。代替的にまたは上記に加えて、ローパス電気フィルタ（例えば、ＬＰＦ３および／またはＬＰＦ４）は、ＮＴＣ出力のＶｈｉｇｈ点およびＶｌｏｗ点とマイクロコントローラとの間に設けられ得る。図４２に示すように、第１のローパスフィルタＬＰＦ１は、ＲＨｉｇｈ抵抗器および接続ＶＨ－Ｌｐｆへ結合され、第２のローパスフィルタＬＰＦ２は、Ｒｌｏｗ抵抗器および接続ＶＬ－Ｌｐｆへ結合される。各フィルタは、単一のコンポーネント（すなわち、コンデンサ）として形成してもよいし、あるいは活性の（すなわち、作動可能な増幅器）および／または受動（抵抗器／コンデンサ）の電子コンポーネントの組み合わせとして形成してもよい。例えば、大型コンデンサ（数十ｎＦ）がＬＰＦ１およびＬＰＦ２それぞれのために用いられる場合、加熱管のワイヤとセンサとの間のクロストークは（ＬＰＦ３および／またはＬＰＦ４の使用無しでも）大きく軽減される。しかし、より小さなコンデンサ（すなわち、数十ｎＦ）が代わりにＬＰＦ１およびＬＰＦ２のために用いられる場合、これら２つのフィルタは、より大きな周波数の外部干渉の除去においてより有用であるが、クロストークの軽減を効率的に行うことができない場合がある。これの補償を、ＬＰＦ３およびＬＰＦ４の導入によって行うことが可能である。ＬＰＦ３およびＬＰＦ４は、パルス幅変調電力信号の周波数に近い周波数と、パルス幅変調電力信号の周波数よりも高い周波数とをフィルタリングするように構成され得る。

管４１７０が接続されているかを検出するために、センサ９０３０からの（分割器向けの）供給Ｖｓｅｎｓｅがオンおよびオフにされ得る。管４１７０が接続されていない場合、センサ９０３０への供給は、オフにされ得る。この供給がオフにされると、接続における腐食が低下し得る。

本技術の一形態によれば、センサ９０３０からの（分割器向けの）供給Ｖｓｅｎｓｅは、通常はオフにされるが、管４１７０が接続されているかを検出するために、定期的にオンおよびオフにされる。管４１７０が接続されていないことが検出された場合、センサ９０３０への供給は再度オフにされる。この供給がオフにされると、これらが内部において動作し得る高湿度環境内における接続における腐食が低下し得る。短期間において、管は間欠的にオンにされ、管が取り付けられているかについてのチェックがプロービングＶｈｉｇｈおよびＶｌｏｗによって行われる。Ｖｈｉｇｈ＝ＶｓｅｎｓｅでありかつＶｌｏｗ＝０である場合、管は接続されていない。管が接続されている場合、ＲＨおよびＲＬによって規定された電圧分割器に起因して、ＶｈｉｇｈおよびＶｌｏｗは、所定の範囲内の各電圧に対して変化する。管が検出されると、Ｖｓｅｎｓｅは恒久的にオンにされ、ＶＨおよびＶＬは、温度測定のために用いられる。

Ｖｓｅｎｓｅのオンおよびオフの制御は、加熱要素へ付加されるＰＷＭ信号の期間よりも長い間隔において行われ得る。一例において、ＰＷＭ信号の周波数は、２０ＫＨｚ（Ｔ＝５０μｓ）であり得、Ｖｓｅｎｓｅのオンおよびオフは、１秒毎、２秒毎または３秒毎（１～０．３３３Ｈｚ）に行われる。加熱管の接続のためのプロービングを行うために他の例えば非周期的時間範囲がＶｓｅｎｓｅの間欠的オンに用いられる場合、これらの時間範囲は、類似の周波数範囲となる可能性が高い。よって、フィルタは、クロストーク（２０ＫＨｚ）をフィルタリング除去しつつ、オン動作およびオフ動作からの１秒の過渡応答と、センサ９０３０における任意の変化（例えば、窓開口）とを保持するように構成され得る。一例において、フィルタは、数Ｈｚを超えるもの全てをフィルタリング除去するように構成され得る。他の例において、フィルタは、周波数範囲１～１００Ｈｚにおける任意の１つの選択された周波数を超えるもの全てをフィルタリング除去し得る。

５．６．２．３ 水位インジケータ
水リザーバ６１００は、水位インジケータを含み得る。いくつかの形態において、水位インジケータは、水リザーバ中の水の量についての１つ以上の兆候を患者１０００または介護者などのユーザへ提供し得る。水位インジケータから提供されるこれら１つ以上の指示は、最大の所定量の水、ならびに、その任意の一部の通知を含み得る（例えば、２５％、５０％または７５％または量（例えば、２００ｍｌ、３００ｍｌまたは４００ｍｌ））。

例において、加熱要素は、水リザーバ６１００の内部に懸架され得る（例えば、（水リザーバ６１００の伝導性部位６１５０を通じた伝熱を介して水を加熱するのではなく）水を直接加熱するように水リザーバ６１００のチャンバ内に設けられた加熱要素）。例において、加熱要素は、リザーバ蓋６１１４によって垂直方向に懸架され得る。

上記例において、加熱要素は、垂直方向に分散されたゾーン／セクションに細区画され得るかまたは分割され得る。ゾーン／セクションはそれぞれ、ゾーン／セクションそれぞれの温度を独立的にオン／オフおよび制御することと、非加熱時（すなわち、水位が低下し、ヒーターの上部が水と接触しなくなった場合）に不活性化することとを行うように、制御され得る。その結果、水と接触しているゾーン／セクションのみが加熱され、エネルギーの効率使用が可能になる。また、ゾーン／セクションはそれぞれ、各センサと関連付けられ得る。複数のセンサ（例えば、ＮＴＣ型センサ）を垂直方向において分散させることにより、水位を検出して水リザーバ内の水量についての通知を（例えば、患者が水リザーバ内の水位を直接視認する必要無く）患者へ提供することが可能になる。このような配置構成により、水リザーバの側壁部を通じて水位を直接視認する必要が無くなるため、不透明の側壁部（例えば、不透明のプラスチックまたは金属側壁部）を有する水リザーバの使用が可能になり得る。

いくつかの場合において、加熱要素は、印刷抵抗トラックを含むＰＣＢを含み得る。このような配置構成により、トラックの分割が容易になり、異なる加熱ゾーンが規定される。垂直方向に方向付けられて分散された温度センサまたは複数の個別のセンサを用いて、水中に一定レベルがあるか否かを示すことができ得る。

５．６．２．４ 加湿器変換器（単数または複数）
加湿器５０００は、上記した変換器４２７０の代わりにまたは上記した変換器４２７０に加えて１つ以上の加湿器変換器（センサ）５２１０を含み得る。加湿器変換器５２１０は、図５Ｇに示すような空気圧センサ５２１２、空気流量変換器５２１４、温度センサ５２１６または湿度センサ５２１８のうち１つ以上を含み得る。加湿器変換器５２１０は、１つ以上の出力信号を生成し得る。これらの出力信号は、コントローラ（例えば、中央コントローラ４２３０および／または加湿器コントローラ５２５０）へ通信され得る。いくつかの形態において、加湿器変換器は、出力信号をコントローラへ通信しつつ、加湿器５０００の外部に（例えば、空気回路４１７０内に）配置され得る。

５．６．２．４．１ 圧力変換器
１つ以上の圧力変換器５２１２が、ＲＰＴデバイス４０００内に設けられた圧力センサ４２７２に加えてまたはＲＰＴデバイス内に設けられた圧力センサ４２７２の代わりに加湿器５０００へ設けられ得る。

５．６．２．４．２ 流量変換器
ＲＰＴデバイス４０００内に設けられた流量センサ４２７４に加えてまたはＲＰＴデバイス内に設けられた流量センサ４２７４の代わりに、１つ以上の流量変換器５２１４が加湿器５０００へ設けられ得る。

５．６．２．４．３ 温度変換器
加湿器５０００は、１つ以上の温度変換器５２１６を含み得る。１つ以上の温度変換器５２１６は、１つ以上の温度（例えば、加熱要素５２４０の温度および／または加湿器出口の空気流れ下流の温度）を測定するように構成され得る。いくつかの形態において、加湿器５０００は、周囲空気の温度を検出する温度センサ５２１６をさらに含み得る。

５．６．２．４．４ 湿度変換器
一形態において、加湿器５０００は、周囲空気などのガスの湿度を検出する１つ以上の湿度センサ５２１８を含み得る。いくつかの形態において、湿度センサ５２１８は、加湿器５０００から送達されるガスの湿度を測定するように、加湿器出口に向かって配置され得る。湿度センサは、絶対湿度センサであってもよいし、あるいは相対湿度センサであってもよい。

５．６．２．５ 加熱要素
図６Ｂ、図２０Ａおよび他の図に示すように、ヒータープレート６０８０は、水リザーバへの熱伝達のために用いられる。図示の例において、ヒータープレートは、リザーバドック６０５０の一部を形成し得、リザーバドックのベース上またはその近隣に配置され得る。少なくともヒータープレートの最上層は、（例えば、ニッケルクロム合金、ステンレススチールまたはアルマイトによって形成され得る）硬質の耐擦傷性表面を含む。このヒータープレートは、加熱要素からの熱を伝導させ得る。加熱要素は、電気抵抗加熱トラックなどの熱生成コンポーネントを含み得る。加熱要素の１つの適切な実施例として、例えばＰＣＴ特許出願公開第ＷＯ２０１２／１７１０７２号に記載の層状加熱要素がある。本明細書中、同文献全体を参考のため援用する。

図３４Ａ～図３４Ｃは、本技術の例による加熱アセンブリ６０７５を示す。図示の例において、加熱アセンブリ６０７５は、ヒータープレート６０８０、加熱要素６０８５、熱パッド６０８８（例えば、熱伝導ゴムまたはセラミックパッド）を含む。熱パッド６０８８（例えば、熱伝導ゴムまたはセラミックパッド）は、ヒータープレート６０８０と加熱要素６０８５との間に配置される。加熱アセンブリ６０７５は、ヒータープレート／熱パッド／加熱要素をリザーバドック６０５０の下部において支持するような構造および配置にされた支持構造６０８９をさらに含み得る。図示の例において、支持構造６０８９は、周辺弾性支持部材６０９６と、弾性支持部材６０９６をリザーバドック６０５０の下部において支持するベースプレート６０９７とを含む。図示のように、弾性支持部材６０９６（例えば、エラストマー材料（例えば、シリコーン）によって構築されたもの）に加えて、１つ以上の支持コーン６０９８（例えば、図３４Ａおよび図３４Ｃを参照）または管（例えば、図１０３および図１０４を参照）を用いて、ヒータープレート／熱パッド／加熱要素を弾性支持してもよい。

熱パッドは、好適には曲げやすいかまたは柔順な熱伝導材料によって構成され、ヒータープレート６０８０と加熱要素６０８５との間に配置される（例えば、ヒータープレートおよび加熱要素双方へ係合または貼付（例えば、接着）される）。この配置構成において、熱パッドは、ヒータープレート６０８０と加熱要素６０８５との間のエアギャップまたは空間を充填することができるため、加熱要素６０８５からヒータープレート６０８０への熱伝導度が向上する。ヒータープレート６０８０および加熱要素６０８５双方は典型的には、硬質の材料によって構成された平面状の面を含むため、この面上に任意の小さな欠陥があると、これら２つの面の間のエアギャップの原因になり得る。曲げやすい層をこれらの面間に設けることにより、このようなエアギャップの除去と、システムの熱伝導度向上とが支援される。

図８１、図９８、図１００および図１０３～図１０９は、本技術の別の例による加熱アセンブリ６０７５を示す。図示の例において、加熱アセンブリ６０７５（例えば、図１０３を参照）は、ヒータープレートまたは耐磨耗板６０８０と、加熱要素またはヒーター６０８５と、ヒータープレート６０８０と加熱要素６０８５との間に配置された熱パッド６０８８（例えば、熱伝導ゴムまたはセラミックパッド）とを含む（図１０３を参照）。加熱アセンブリ６０７５は、リザーバドック６０５０の下部においてヒータープレート／熱パッド／加熱要素を支持するような構造および配置にされた支持構造６０８９をさらに含む（図１０３を参照）。

支持構造６０８９は、弾性シーリングおよび支持部材９５００をリザーバドック６０５０の下部において支持するために、弾性シーリングおよび支持部材９５００およびベースプレート９６００を含む（図１０４を参照）。以下に述べるように、弾性シーリングおよび支持部材９５００（例えば、エラストマー材料（例えば、シリコーン）によって構築されたもの）は、ヒータープレート／熱パッド／加熱要素アセンブリをリザーバドック６０５０内において弾性懸下させることにより、（水リザーバ６１００がリザーバドック６０５０内に挿入された際に）ヒータープレートを弾性シーリングおよび支持部材９５００によって水リザーバ６１００の伝導性部位６１５０に対して上方に付勢させる。この付勢により、ヒータープレート６０８０および伝導性部位６１５０が相互に押圧され続けることにより、両者間の熱伝導度が向上する。

図示の例において、ベースプレート９６００（例えば、プラスチックまたは熱可塑性ポリマー材料によって構築されたもの）は、連続する内側ベース表面９６１０および周辺フランジ９６２０を含む。周辺フランジ９６２０は、ベース表面９６１０から上方および外方に（一体型ＲＰＴデバイスおよび加湿器６０００が作動構成にある際にへ適用可能な方向）延びる。図１０６中に最良に示すように、周辺フランジ９６２０は、一体型ＲＰＴデバイスの下部における開口部および加湿器６０００を形成するベース壁部８００５上に上方に延びることと、取り外し可能なまたは取り外し不可能な接続を（例えば、複数の接続杭９６２２を介して－図１０４を参照）リザーバドック６０５０の内側壁部６０５２（図１０６、図１０８、図１０９を参照）と共に形成することとを行うような構成および配置にされる。図示の例において、ベースプレート９６００の外側ベース表面９６１２は、一体型ＲＰＴデバイスおよび加湿器６０００の外側の表面を形成する（図１０６を参照）。

いくつかの例において、弾性シーリングおよび支持部材９５００は、平坦ベース表面９６１０上に配置される。別の例（図１０４および図１０６を参照）において、隆起トラック９６１５が、ベースプレート９６００のベース表面９６１０へ設けられ得、これらのトラック９６１５は、少なくとも弾性シーリングの１つ以上の弾性中空管９５２０およびベースプレート９６００上の支持部材９５００を整列させかつ横方向に支持するように構成される。これらの弾性中空管９５２０について、以下の記載においてさらに詳細に説明する。いくつかの場合において、トラック９６１５は、弾性シーリングおよび支持部材９５００全体をベースプレート９６００上において整列させかつ横方向に支持するように構成される。また、以下により詳細に述べるように、１つ以上の水抜き穴またはカットアウト部９６２５（例えば、図１０４に示すような９個の水抜き穴）を周辺フランジ９６２０の周辺に沿って設けることにより、使用時においてベースプレート９６００中に集まり得る水の排水が可能になる。

弾性シーリングおよび支持部材９５００は、弾性周辺リップ９５１０と、弾性周辺リップ９５１０によって境界付けられた空間内に分散された１つ以上の弾性中空管９５２０（例えば、中空シリンダ）とを含む。図示の例において、周辺リップ９５１０および中空管９５２０は、（エラストマー材料（例えば、シリコーン）の）ワンピース成形構造を含み、例えば、１つ以上の中間コネクタ９５３０により周辺リップ９５１０および中空管９５２０が相互接続される。また、ワイヤまたはケーブルガイド９５４０を周辺リップ９５１０に設けることにより、ヒーター６０８５をＰＣＢＡ７６００へ電気的に接続させる１本以上のワイヤまたはケーブルを収容することができる。

ベースプレート９６００に設けられた場合、周辺リップ９５１０は、周辺フランジ９６２０の内側上において（デバイスの動作構成に対して）実質的に上方の方向（図１０６を参照）に延びるように構成され、フランジの上部において若干の外方フレアーが一定レベルにおいて可能である。例において、周辺リップ９５１０は、周辺フランジ９６２０に対して同心に延び得る（図１０３を参照）。中空管９５２０はそれぞれ、ベース表面９６１０によって支持された一端と、加熱アセンブリ６０７５がリザーバドック６０５０へ組み付けられた際にヒーター６０８５と係合するように構成された反対端とを含む（図１０６を参照）。弾性シーリングおよび支持部材９５００は、（例えば接着剤、オーバーモールドなどにより）ベースプレート９６００のベース表面９６１０へ取り外し可能にまたは恒久的に取り付け可能であり得る。

図示の例において、中空管９５２０はそれぞれ、ベース６８８０の概して水平に方向付けられかつ平面状のベース表面６８８２に対して概して垂直に方向付けられた（すなわち、概して垂直な）軸を含む。図示の例において、弾性シーリングおよび支持部材９５００は、４つの中空管９５２０を含むが、より多数またはより少数の中空管を設けてもよいことが理解されるべきである。例において、中空管９５２０はそれぞれ、高さ約７－８ｍｍ、内径約７ｍｍおよび壁部厚さ約１ｍｍを含み得るが、用いられるシリンダの数に応じた他の適切な寸法も可能である。

ヒータープレートまたは耐磨耗板６０８０（図８１を参照）は、リザーバドック６０５０の下壁部６０５３に設けられた開口部内に配置され、これにより、使用時における水リザーバ６１００の伝導性部位６１５０との係合のためにヒータープレート６０８０がドックキャビティ内に配置される。ヒータープレート６０８０（例えば、金属材料（例えば、均一の壁部厚さが約０．１５ｍｍであるステンレススチールによって）構築された（例えば、スタンプされた）もの）は、ベース６８８０と、ベース６８８０の周辺に延びるスカート６８８５とを含む（図１０３および図１０６を参照）。

ベース６８８０に含まれる第１の側部は、使用時において水リザーバ６１００の伝導性部位６１５０と係合するように適合された外側またはベース表面６８８２を形成する。ベース６８８０の第２の側部により、熱パッド６０８８と係合する内面６８８４が形成される（図１０６を参照）。図示のように、ベース６８８０は、（一体型ＲＰＴデバイスおよび加湿器６０００が作動構成にある際に）実質的に水平に延びるように構成された概して平面状の形状を含む。

スカート６８８５は、水平（ベース６８８０からの単純な延長）であり得るが、好適にはベース６８８０に対して概して下方かつ概して外方に傾斜または角度が付けられる。そのため、スカートは、ベース６８８０から下方かつ外方に延びる単一の部位によって形成され得る。図示の例において、スカート６８８５は、ベース６８８０に対して実質的に垂直に延びる垂直部位６８８５ｖを含むため、ベース６８８０の面に対して実質的に水平面内に延びる水平部位６８８５ｈが得られる（図１０３および図１０６を参照）。

（水リザーバ６１００が取り外された状態で）リザーバドック６０５０に組み付けられると、弾性シーリングおよび支持部材９５００は、ヒータープレート６０８０を（ヒーター６０８５および熱パッド６０８８と共に）弾性支持するため、ベース６８８０は、下壁部６０５３内の開口部を通じて突出し、スカート６８８５の水平部位６８８５ｈは、下壁部６０５３の下側と係合するため、ヒータープレート６０８０を開口部内に保持するハードストップが得られる（図１０６を参照）。

より詳細には、図１０６中に最良に示すように、ヒーター６０８５および熱パッド６０８８は、ベース６８８０およびスカート６８８５の垂直部位６８８５ｖによって形成されたヒータープレート６０８０のポケット内に配置される。ヒーター６０８５の片側は、周辺リップ９５１０の境界内の中空管９５２０と係合され、ヒーター６０８５の反対側は、ベース６８８０の内面６８８４と係合する熱パッド６０８８と係合される。中空管９５２０全てをヒーター６０８５と係合させる代わりに、支持部材のうちいくつかまたは全て（この場合は垂直中空管９５２０）をベース６８８０の内面６８８４と直接係合させてもよい。さらに、弾性シーリングおよび支持部材９５００の周辺リップ９５１０は、ヒータープレート６０８０のスカート６８８５の水平部位６８８５ｈの下側と係合する。この構成により、ヒータープレート６０８０は、２つの様態で支持される（すなわち、その周縁（水平部位６８８５ｈ）に沿って周辺リップ９５１０によって支持される様態と、その中央ベース６８８０に沿って中空管９５２０によって支持される様態）。

例において、熱パッド６０８８において、片側のみが粘着性にされ得る。例えば、熱パッド６０８８において片側に接着剤を設けてヒーター６０８５へ粘着するようにし、ヒータープレート６０８０と係合する反対側を非粘着性とする。中空管９５２０は、熱パッド６０８８内のコンポーネント間の熱接触を保持する連続する圧力を付加するように設計することが可能であるため、非粘着性の熱パッドを用いてもよい。その結果、熱パッド／ヒーターは、ヒータープレート６０８０のポケット内において移動可能となるが、移動している場合であっても、ヒータープレート／熱パッド／ヒーターは、中空管９５２０によって支持され続ける。上記したように、熱パッド６０８８は、ヒータープレート６０８０と加熱要素６０８５との間のエアギャップまたは空間を充填するように構成され、これにより、加熱要素６０８５からヒータープレート６０８０への熱伝導度の向上に繋がる。

弾性シーリングおよび支持部材９５００により、ヒータープレート／熱パッド／ヒーターに対し、（水リザーバ６１００がリザーバドック６０５０中へ挿入された際に）水リザーバ６１００からヒータープレート６０８０へ付加される（中空管９５２０の場合は軸方向における）任意の下方圧力に対してバネ様抵抗が得られる。このような抵抗により、一定の上方のバネ付勢がヒータープレート６０８０へ提供されるため、水リザーバが動作構成にある際にヒータープレート６０８０と水リザーバ６１００の伝導性部位６１５０との間における良好な機械的および熱接触が可能になる。このような良好な機械的および熱接触により、デバイスのより効率的な動作が可能になる。

垂直に方向付けられた中空管９５２０によりヒータープレート６０８０を支持する特定の構成により、挿入された水リザーバ６１００からヒータープレート６０８０のベース６８８０へ付加される下方圧力に対してより線形の弾性応答が確保される。このようにすると、固体構造の弾性支持部材の場合と比較して好適である。なぜならば、固体構造の弾性支持部材の場合、一定の限度を超えて押圧された際に場合にヒータープレート６０８０の任意のさらなるたわみに対する抵抗が極めて強くなり得るからである。このような強い抵抗がある場合、摩擦が高くなり得、ユーザによる水リザーバ６１００の挿入が困難になり得る。

図１０５および図１０６は、水リザーバ６１００がリザーバドック６０５０から取り外された際の加熱アセンブリ６０７５を示し、図１０７および図１０８は、水リザーバ６１００がリザーバドック６０５０内へ挿入された際の加熱アセンブリ６０７５を示す。図示のように、水リザーバ６１００がリザーバドック６０５０中へ挿入されると、弾性シーリングおよび支持部材９５００は、押圧された際に弾性的に撓んで（例えば、周辺リップ９５１０が流れに沿って曲線状になり、各中空管９５２０の側壁部がラジアル方向に外方に座屈する）ように構成されるため、このような弾性撓みによって得られる上方付勢力により、ヒータープレート６０８０が水リザーバ６１００の伝導性部位６１５０に対して上方に付勢される。このような付勢力により、ヒータープレート６０８０は（熱パッド６０８８を介して）水リザーバ６１００の伝導性部位６１５０へ付勢される。その結果、ヒータープレート６０８０と伝導性部位６１５０との間の機械的および熱接触の向上に繋がり、よって加湿性能全体が向上する。本記載においてしたように、垂直方向に方向付けられたフレキシブル中空管９５２０が（挿入された水リザーバから付加される）圧力下において座屈する力学により、より線形の弾性応答が確保され、これにより、水リザーバドック内への水リザーバの挿入が比較的スムーズになり得る。このようにすると、寸法公差の上端において垂直寸法を備えた水リザーバをドック内に挿入する際に特に有用である。この場合において弾性部材上に垂直方向に付加される圧力が高い場合であっても、槽の若干より大きな垂直寸法によってヒータープレート６０８０が撓むため、管の座屈による比較的線形の応答により、槽の挿入に対する抵抗増加が比較的抑制されることが保証され得る。

例において、水リザーバ６１００の挿入に起因するヒータープレート６０８０の通常の変位は、約１～２ｍｍである（すなわち、水リザーバ６１００の挿入時においてヒータープレート６０８０が図１０５～図１０６中の静止または停止位置から押し下げられる量）。変位は、少なくとも０ｍｍよりも大きいため、ヒータープレート６０８０と水リザーバ６１００の伝導性部位６１５０との干渉が保証される。例において、弾性シーリングおよび支持部材９５００は、水リザーバ６１００をリザーバドック６０５０から取り外す際にノミナルの予荷重を含み得る。例において、この予荷重および／または変位は、ドック６０５０の下壁部６０５３の縁部の高さまたは厚さによって調節可能であり得るため、ヒータープレート６０８０の移動の停止または終了が可能になる。

例において、図１０４に示すように、これらの管のうち１つ以上において、中空管９５２０それぞれの（ヒーター６０８５に隣接する）上縁において、１つ以上の縁カットアウト部９５５０が設けられ得る。これらの縁カットアウト部９５５０により形成されるエアー抜きアパチャにより、水リザーバ６１００のリザーバドック６０５０への挿入時において中空管９５２０それぞれが押圧されるかまたは撓んだ際に（各中空管内部からの）空気放出が可能になる。別の例において、中空管９５２０のうち１つ以上のものの壁部に含まれ得る１つ以上の穴部により、管が圧力下にある際の空気放出のためのエアー抜きアパチャ（単数または複数）が可能になる。管壁部中の縁部カットアウト部／または開口部の機能としては、一貫したバネ力機能の維持のために圧力の等化を確保することがある。ヒータープレートの押圧時（例えば、水リザーバの挿入時）において、垂直管内の体積が圧縮されて、空気が円筒形状外へ強制移動させられる。その結果、任意の１つの中空管内が真空になる危険性が発生する。各管が実質的にバネとして機能するため、管中の真空形成に起因して、管からヒーターへ付加される反力が変化し得るため、加湿リザーバの加熱ベースに対する反力も変化し得る。１つ以上の管（バネ）中において（恐らくは）異なるレベルの真空が形成されると、ヒーター表面にわたって異なる点へ多様な反力が付加され得る。その場合、多様なレベルの熱接触がヒーターと水リザーバベースとの間においてヒーター／ベースの領域にわたって発生する可能性があり、加湿性能低下に繋がり得る。カットアウト部または開口部をシリンダの側壁部に設けることにより、中空管のバネ力の変動の最小化が可能になり、加湿性能の向上に繋がる。

図１０９に示すように、ヒータープレート６０８０および弾性シーリングおよび支持部材９５００は、リザーバドック６０５０のキャビティ内の水溢全てを周辺リップ９５１０による密閉により排除し、（ヒーター６０８５の配置場所である）周辺リップ９５１０の内側の空間へ到達する事態を回避するように、配置される。さらに、このような水溢は、水抜き穴９６２５（図１０４を参照）からベースプレート９６００の周辺に沿って漏洩し得、下側の支持面上へ（例えば、ベッドサイドテーブル）上へ放出される可能性がある。

すなわち、図１０７～図１０９を参照して、周辺リップ９５１０は、スカート６８８５の水平部位６８８５ｈの下側と弾性係合し、ヒータープレート６０８０の周辺に沿ってシールを形成する。ヒーターリザーバ６１００からの水がリザーバドック６０５０のキャビティ内に溢れた場合、この水は、ヒータープレート６０８０とドック６０５０の下壁部６０５３との間の小ギャップ６８９０を通じて、周辺リップ９５１０とベースプレート９６００の周辺フランジ９６２０との間に形成されたリザーバ６８９１内へ移動する（図１０９を参照）。次に、このようにリザーバ６８９１内に閉じ込められた水は、水抜き穴９６２５を通じて周辺フランジ９６２０の周辺に沿って流動し得、ベース壁部８００５とベースプレート９６００との間の小ギャップ６８９２を通過し得、これにより、下側の支持面上への排水が可能になる（図１０９を参照）。

上記記載において水平方向、垂直方向、下方方向および上方方向について言及する場合、一体型ＲＰＴデバイスおよび加湿器６０００の作動構成についての付加を常に指すものである点に留意されたい。

５．６．２．６ 加湿器コントローラ
本技術の１つの配置によれば、加湿器５０００は、図５Ｇに示すような加湿器コントローラ５２５０を含み得る。一形態において、加湿器コントローラ５２５０は、中央コントローラ４２３０の一部であり得る。別の形態において、加湿器コントローラ５２５０は、中央コントローラ４２３０と通信し得る別個のコントローラであり得る。

一形態において、加湿器コントローラ５２５０は、特性（例えば、温度、湿度、圧力および／または流量）の測定を入力として受信し得る（例えばリザーバ５１１０中および／または加湿器５０００中の空気流れ、水の測定）。加湿器コントローラ５２５０は、加湿器アルゴリズムの実行または実施ならびに／あるいは１つ以上の出力信号の送達を行うようにも、構成され得る。

図５Ｇに示すように、加湿器コントローラ５２５０は、１つ以上のコントローラを含み得る（例えば、中央加湿器コントローラ５２５１、加熱空気回路４１７１の温度を制御するように構成された加熱空気回路コントローラ５２５４および／または加熱要素５２４０の温度を制御するように構成された加熱要素コントローラ５２５２）。

５．７ 呼吸波形
図４は、睡眠時のヒトの典型的な呼吸波形のモデルを示す。水平軸は時間であり、垂直軸は呼吸流量である。パラメータ値は変動し得るため、典型的な呼吸は、以下のおおよその値を持ち得る：一回換気量、Ｖｔ、０．５Ｌ、吸息時間、Ｔｉ、１．６秒、ピーク吸気流量、Ｑピーク、０．４Ｌ／秒、呼息時間、Ｔｅ、２．４ｓ、ピーク呼気流量、Ｑピーク、－０．５Ｌ／秒。呼吸の全持続時間Ｔｔｏｔは約４秒である。人間は典型的には、１分あたり呼吸を約１５回行い（ＢＰＭ）、換気Ｖｅｎｔは約７．５Ｌ／ｍｉｎである。典型的な負荷サイクル、ＴｉとＴｔｏｔの比は約４０％である。

５．８ 用語集
本技術の開示目的のため、本技術の特定の形態において、以下の定義のうち１つ以上が適用され得る。本技術の他の形態において、別の定義も適用され得る。

５．８．１ 一般
空気：本技術の特定の形態において、空気は大気を意味し得、本技術の他の形態において、空気は、他の呼吸可能なガスの組み合わせ（例えば、酸素を豊富に含む大気）を意味し得る。

雰囲気：本技術の特定の形態において、「雰囲気」という用語は、（ｉ）治療システムまたは患者の外部、および（ｉｉ）治療システムまたは患者を直接包囲するものを意味するものとしてとられるべきである。

例えば、加湿器に対する雰囲気湿度とは、加湿器を直接包囲する空気の湿度であり得る（例えば、患者が睡眠をとっている部屋の内部の湿度）。このような雰囲気湿度は、患者が睡眠をとっている部屋の外部の湿度と異なる場合がある。

別の実施例において、雰囲気圧力は、身体の直接周囲または外部の圧力であり得る。

特定の形態において、雰囲気（例えば、音響）ノイズは、例えばＲＰＴデバイスから発生するかまたはマスクまたは患者インターフェースから発生するノイズ以外の、患者の居る部屋の中の背景ノイズレベルとみなすことができる。雰囲気ノイズは、部屋の外の発生源から発生し得る。

自動的な気道陽圧（ＡＰＡＰ）療法：ＳＤＢ発症の兆候の存在または不在に応じて、例えば、呼吸間に最小限界と最大限界との間で治療圧力を自動的に調節することが可能なＣＰＡＰ療法。

持続的気道陽圧（ＣＰＡＰ）療法：治療圧力が患者の呼吸サイクルを通じてほぼ一定である呼吸圧療法。いくつかの形態において、気道への入口における圧力は、呼息時において若干上昇し、吸息時において若干低下する。いくつかの形態において、圧力は、患者の異なる呼吸サイクル間において変動する（例えば、部分的な上気道閉塞の兆候の検出に応答して増加され、部分的な上気道閉塞の通知の不在時において低減される）。

流量：単位時間あたりに送出される空気の瞬時の量（または質量）。流量とは、瞬間の量を指し得る。場合によっては、流量について言及した場合、スカラー量（すなわち、大きさのみを有する量）を指す。他の場合において、流量について言及した場合、ベクトル量（すなわち、大きさおよび方向両方を持つ量）を指す。流量には、符号Ｑが付与され得る。「流量」を簡略的に「流れ」と呼ぶ場合もある。

患者の呼吸の実施例において、流量は、患者の呼吸サイクルの吸気部分に対してノミナルに陽圧であり得るため、患者の呼吸サイクルの呼気部分に対して負であり得る。合計流量Ｑｔは、ＲＰＴデバイスから退出する空気の流量である。通気流量Ｑｖは、吐き出されたガスの流出を可能にするために通気孔から退出する空気の流量である。漏洩流量Ｑｌは、患者インターフェースシステムまたは他の場所からの漏洩の流量である。呼吸流量Ｑｒは、患者の呼吸器系中に受容される空気の流量である。

加湿器：「加湿器」という単語は、患者の医療呼吸状態を改善するために治療上有益な量の水（Ｈ_２Ｏ）蒸気を空気流れへ提供することが可能な物理的構造を備えて構築、配置または構成された加湿装置を意味するものとして解釈される。

漏洩：「漏洩」という用語は、意図しない空気流れとしてとられる。一実施例において、漏洩は、マスクと患者の顔との間のシールが不完全であることに起因して発生し得る。別の実施例において、漏洩は、周囲に対する回りエルボーにおいて発生し得る。

ノイズ伝導（音響）：本文書において、伝導ノイズとは、空気圧式経路（例えば、空気回路および患者インターフェースおよびその内部の空気）によって患者へ搬送されるノイズを指す。一形態において、伝導ノイズは、空気回路の端部における音圧レベルを測定することにより、定量化され得る。

ノイズ放射（音響）：本文書において、放射ノイズとは、周囲空気によって患者へ搬送されるノイズを指す。一形態において、放射ノイズは、当該対象の音響パワー／圧力レベルをＩＳＯ３７４４に従って測定することにより、定量化され得る。

ノイズ通気（音響）：本文書において、通気ノイズとは、任意の通気（例えば、患者インターフェース中の通気孔）を通じた空気流れにより生成されるノイズを指す。

患者：呼吸器疾患に罹患しているかまたはしていない人。

圧力：単位面積あたりの力。圧力は、多様な単位で表現され得る（例えば、ｃｍＨ_２Ｏ、ｇ－ｆ／ｃｍ^２、及びヘクトパスカル）。１ｃｍＨ_２Ｏは、１ｇ－ｆ／ｃｍ^２に等しく、およそ０．９８ヘクトパスカルである。本明細書において、他に明記無き限り、圧力はｃｍＨ_２Ｏの単位で付与される。

患者インターフェース中の圧力には記号Ｐｍが付与され、現時点においてマスク圧力Ｐｍが達成すべき目標値を表す治療圧力には記号Ｐｔが付与される。

呼吸圧力治療（ＲＰＴ）：雰囲気に対して典型的には陽圧である治療圧力における空気供給の気道入口への付加。

人工呼吸器：患者が呼吸動作の一部または全てを行い際に圧力補助を提供する機械的デバイス。

５．８．１．１ 材料
シリコーンまたはシリコーンエラストマー：合成ゴム。本明細書において、シリコーンについて言及される場合、液体シリコーンゴム（ＬＳＲ）または圧縮成形シリコーンゴム（ＣＭＳＲ）を指す。市販のＬＳＲの一形態として、Ｄｏｗ Ｃｏｒｎｉｎｇによって製造されるＳＩＬＡＳＴＩＣ（この登録商標下において販売される製品群に含まれる）がある。別のＬＳＲ製造業者として、Ｗａｃｋｅｒがある。他に逆の明記無き限り、例示的形態のＬＳＲのＡＳＴＭＤ２２４０によって測定した場合のショアＡ（またはタイプＡ）押込み硬さは、約３５～約４５である。

ポリカーボネート：ビスフェノールＡカーボネートの熱可塑性ポリマーである。

５．８．１．２ 機械的特性
弾性：弾性変形時にエネルギーを吸収することおよび除荷時にエネルギーを解放することが可能な材料の能力。

弾性のある：除荷時に実質的に全てのエネルギーを解放する。例えば特定のシリコーンおよび熱可塑性エラストマーを含む。

硬度：材料自体の変形に抵抗する能力（例えば、ヤング係数または規格化されたサンプルサイズ上において測定された押込硬さスケールによって記述されたもの）。
・ 「軟性」材料は、シリコーンまたは熱可塑性エラストマー（ＴＰＥ）を含み得、例えば指圧力下において容易に変形し得る。
・ 「硬質」材料は、ポリカーボネート、ポリプロピレン、鋼またはアルミニウムを含み得、例えば指圧力下において容易に変形し得ない。

構造または構成要素の剛度（または剛性）：構造または構成要素が負荷を受けたときに変形に抵抗する能力。負荷は、力またはモーメントであり得る（例えば、圧縮、伸張、屈曲またはねじれ）。構造または構成要素は、異なる方向において異なる抵抗を提供し得る。

フロッピー構造または構成要素：自重を支持させられた際に比較的短期間（例えば、１秒）以内に形状を変化させる（例えば、屈曲する）構造または構成要素。

剛性の構造または構成要素：使用時において典型的に遭遇する負荷を受けた際に実質的に形状変化の無い構造または構成要素。このような用途の実施例として、患者インターフェースを例えばおよそ２０～３０ｃｍＨ_２Ｏの圧力の負荷において患者気道入口に対して密閉した様態でセットアップおよび維持することがあり得る。

一実施例として、Ｉ形ばりは、第２の直交方向と比較した第１の方向において、異なる曲げ剛性（曲げ負荷に対する抵抗）を含み得る。別の実施例において、構造または構成要素は、第１の方向においてはフロッピーであり得、第２の方向においては剛性であり得る。

５．８．２ 呼吸サイクル
無呼吸：いくつかの定義によれば、無呼吸とは、所定の閾値を下回った流れが例えば１０秒間の継続期間にわたって継続した場合に発生したと言われる。閉塞性無呼吸とは、患者の労作にもかかわらず、何らかの気道閉塞により空気の流れが許されないときに発生すると言われる。中枢性無呼吸とは、気道が開通しているにも関わらず呼吸努力の低下または呼吸努力の不在に起因して無呼吸が検出された状態を指すと言われる。混合無呼吸とは、呼吸努力の低下または不在が気道閉塞と同時発生した状態を指すと言われる。

呼吸速度：患者の自発呼吸速度であり、通常は毎分あたりの呼吸回数で測定される。

負荷サイクル：吸息時間Ｔｉの合計呼吸時間Ｔｔｏｔに対する比。

労作（呼吸）：呼吸努力は、呼吸しようとしている人の自発呼吸によって行われる動きを指すと言われる。

呼吸サイクルの呼気部分：呼気流れの開始から吸気流れの開始までの期間。

流れ制限：流れ制限は、患者による労作の増大が流量の対応する増大を引き起こさない患者の呼吸における状況であると解釈される。呼吸サイクルの吸気部分において流れ制限が発生した場合、当該流れ制限は吸気流れ制限と称することができる。呼吸サイクルの呼気部分において流れ制限が発生した場合、当該流れ制限は呼気流れ制限と称することができる。

流れ制限吸気の波形の種類：
（ｉ）平坦化：上昇の後に比較的平坦な部位が続いた後、下降が発生すること。
（ｉｉ）Ｍ字型：立ち上がりにおいて１つおよび立ち下がりにおいて１つの２つの局所的ピークを持ち、これら２つのピークの間に比較的平坦な部位がある。
（ｉｉｉ）椅子状：単一の局所的ピークを持ち、このピークが立ち上がり部分に発生した後、比較的平坦な部位が続く。
（ｉｖ）逆椅子状：比較的平坦な部位の後に単一の局所的ピークが続き、このピークが立ち下がり部分に発生する。

呼吸低下：一部の定義によれば、呼吸低下は、流れの中断ではなく、流れの低下を意味する。一形態において、閾値速度を下回った流れ低下が継続期間にわたって続いた場合、呼吸低下が発生したと言われる。呼吸努力の低下に起因して呼吸低下が検出された場合、中枢性呼吸低下が発生したと言われる。成人の一形態において以下のうちいずれかが発生した場合、呼吸低下と見なされ得る：
（ｉ）患者呼吸の３０％の低下が少なくとも１０秒＋関連する４％の脱飽和、または、
（ｉｉ）患者呼吸の（５０％未満の）低下が少なくとも１０秒間継続し、関連して脱飽和が少なくとも３％であるかまたは覚醒が発生する。

過呼吸：流れが通常の流量よりも高いレベルまで増加すること。

呼吸サイクルの吸気部分：吸気流れの開始から呼気流れの開始までの期間が、呼吸サイクルの吸気部分としてとられる。

開通性（気道）：気道が開いている度合いまたは気道が開いている範囲。気道開通性とは、開口である。気道開通性の定量化は、例えば、開通性を示す値（１）と、閉鎖（閉塞）を示す値（０）で行われ得る。

呼吸終末陽圧（ＰＥＥＰ）：肺中の大気を越える圧力であり、呼気終了時に存在する。

ピーク流量（Ｑｐｅａｋ）：呼吸流れ波形の吸気部分における流量最大値。

呼吸気流量、空気流量、患者の空気流量、呼吸気空気流量（Ｑｒ）：これらの用語は、ＲＰＴデバイスの呼吸空気流量の推定を指すものとして理解され得、通常リットル／分で表される患者の実際の呼吸流量である「真の呼吸流量」または「真の呼吸気流量」と対照的に用いられる。

１回換気量（Ｖｔ）：余分な努力をせずに通常の呼吸時に吸い込まれたかまたは吐き出された空気の量である。原則的に、吸気量Ｖ_ｉ（吸気された空気の量）は、呼気量Ｖ_ｅ（呼気された空気の量）に等しいため、単一の一回換気量Ｖ_ｔは、いずれかの量に等しいものとして規定され得る。実際には、一回換気量Ｖ_ｔは、何らかの組み合わせ（例えば、吸気量Ｖ_ｉと呼気量Ｖ_ｅの平均）として推定される。

（吸息）時間（Ｔｉ）：呼吸流量波形の吸気部分の継続期間。

（呼息）時間（Ｔｅ）：呼吸流量波形の呼気部分の継続期間。

（合計）時間（Ｔｔｏｔ）：呼吸流量波形の一つの吸気部分の開始と呼吸流量波形の次の吸気部分の開始との間の合計継続期間。

典型的な最近の換気：所定の時間スケールにわたる換気Ｖｅｎｔの直近値が密集する傾向となる換気値（すなわち、換気の直近値の中心の傾向の度合い）。

上気道閉塞（ＵＡＯ）：部分的な上気道閉塞および合計上気道閉塞両方を含む。上気道上の圧力差の増加（スターリングレジスタ挙動）と共に流量がわずかに増加するかまたは低下し得る流れ制限の状態と関連し得る。

換気（Ｖｅｎｔ）：患者の呼吸器系によって行われるガス交換率の測定。換気の測定は、単位時間あたりの吸気および呼気流のうち片方または双方を含み得る。１分あたりの体積として表される場合、この量は、「分換気」と呼ばれることが多い。分換気は、単に体積として付与されることもあり、１分あたりの体積として理解される。

５．８．３ 換気
適応サーボ人工呼吸器（ＡＳＶ）：一定の目標換気を持つのではなく変更が可能なサーボ人工呼吸器。変更可能な目標換気は、患者の何らかの特性（例えば、患者の呼吸特性）から学習され得る。

バックアップレート：人工呼吸器のパラメータであり、（自発呼吸努力によってトリガされない場合に）人工呼吸器から患者へ送達される最小呼吸速度（典型的には、１分あたりの呼吸数）を確立させる。

サイクル：人工呼吸器の吸気フェーズの終了。自発呼吸をしている患者へ人工呼吸器から呼吸を送達する場合、呼吸サイクルの吸気部分の終了時において、当該人工呼吸器は、呼吸送達を停止するようサイクルされると言われる。

呼気の気道陽圧（ＥＰＡＰ）：、人工呼吸器が所与の時期に達成しようとする所望のマスク圧力の生成のために、呼吸内において変化する圧力が付加される基本圧力。

終了時呼気圧力（ＥＥＰ）：呼吸の呼気部分の終了時において人工呼吸器が達成しようとする所望のマスク圧力。圧力波形テンプレートΠ（Φ）が呼気終了時にゼロの値である（すなわち、Φ＝１のときにΠ（Φ）＝０である場合）、ＥＥＰはＥＰＡＰに等しい。

吸息の気道陽圧（ＩＰＡＰ）：呼吸の吸気部分時に人工呼吸器が達成しようとする最大の所望のマスク圧力。

圧力補助：人工呼吸器吸気時における当該人工呼吸器呼気時における圧力増加を示す数であり、吸気時の最大値と、基本圧力との間の圧力差を主に意味する（例えば、ＰＳ＝ＩＰＡＰ－ＥＰＡＰ）。いくつかの文脈において、圧力補助とは、（人工呼吸器が実際に達成する差ではなく）人工呼吸器が達成しようとする差を意味する。

サーボ人工呼吸器：患者換気を有しかつ目標換気を有する人工呼吸器であり、患者換気を目標換気に近づけるために圧力補助レベルを調節する。

自発／タイミング（Ｓ／Ｔ）：自発呼吸している患者の呼吸の開始を検出しようとする、人工呼吸器または他のデバイスのモード。しかし、デバイスが所定期間の間に呼吸を検出できない場合、デバイスは、呼吸送達を自動的に開始する。

スイング：圧力補助に相当する用語。

トリガ：人工呼吸器が自発呼吸する患者へ空気の呼吸を送達する場合、患者自身が呼吸サイクルの呼吸部分を開始したとき、当該人工呼吸器が呼吸送達を行うようトリガされたと言う。

５．８．４ 患者インターフェース
窒息防止弁（ＡＡＶ）：マスクシステムの構成要素またはサブアセンブリであり、フェールセーフ様態での雰囲気中への開口により、患者による過度のＣＯ２の再呼吸の危険性を低減させる。

エルボー：エルボーは、内部を移動する空気の流れの軸を方向付けて、角度を通じて方向を変化させる構造の実施例である。一形態において、角度はおよそ９０度であり得る。別の形態において、角度は、９０度超過または未満であり得る。エルボーは、ほぼ円形の断面を持ち得る。別の形態において、エルボーは、楕円または矩形の断面を持ち得る。特定の形態において、エルボーは、噛み合い構成要素に対して例えば約３６０度で回転可能であり得る。特定の形態において、エルボーは、噛み合い構成要素から例えばスナップ接続を介して取り外すことが可能であり得る。特定の形態において、エルボーは、製造時にワンタイムスナップを介して噛み合い構成要素へ組み付けることが可能である一方、患者が取り外すことはできない。

フレーム：フレームは、ヘッドギアを接続する２つ以上の点間の引張荷重を支持するマスク構造を意味するものとしてとられる。マスクフレームは、マスク中の非気密負荷支持構造であり得る。しかし、いくつかの形態のマスクフレームは、気密であってもよい。

ヘッドギア：ヘッドギアは、頭部上において使用されるように設計された、一形態の位置決めおよび安定化構造を意味するものとしてとられる。例えば、ヘッドギアは、患者インターフェースを呼吸治療の送達のために患者の顔上の所定位置に配置および保持するように構成された１つ以上の支柱、タイおよび補剛材の集合を含み得る。いくつかのタイは、柔らかい可撓性の弾性材料（例えば、発泡材料および布地の層状複合材）によって形成される。

膜：膜は、典型的には肉薄の要素を意味するものとしてとられ、好適には屈曲に対して実質的に抵抗せずかつ伸縮に対しては抵抗する。

プレナムチャンバ：マスクプレナムチャンバは、空間の容積を少なくとも部分的に封入する壁を有する患者インターフェースの一部を意味するものとしてとられ、容積中の空気は、加圧されて使用時において気圧を超える。シェルは、マスクプレナムチャンバの壁の一部を形成し得る。

シール：名詞（「シール」）として用いられる場合は構造を指し得、動詞（「密閉（する）」）として用いられる場合はその効果を指し得る。２つの要素は、別個の「シール」要素自体を必要とすることなく両者間において「シール」するかまたは「密閉」効果を得るように、構築および／または配置され得る。

シェル：シェルは、屈曲、引っ張りおよび圧縮剛性を有する曲線状の比較的肉薄構造を意味するものとしてとられる。例えば、マスクの曲線状構造壁は、シェルであり得る。いくつかの形態において、シェルはファセットされ得る。いくつかの形態において、シェルは気密であり得る。いくつかの形態において、シェルは気密でない場合もある。

補剛材：補剛材は、別の構成要素の剛軟度を少なくとも１つの方向において増加させるように設計された構造構成要素を意味するものとしてとられる。

支柱：支柱は、別の構成要素の圧縮抵抗を少なくとも１つの方向において増加させるように設計された構造構成要素を意味するものとしてとられる。

スイベル（名詞）：構成要素のサブアセンブリであり、共通軸の周囲において好適には独立して好適には低トルク下において回転するように構成される。一形態において、スイベルは、少なくとも３６０度の角度で回転するように構成され得る。別の形態において、スイベルは、３６０度未満の角度で回転するように構成され得る。空気送達導管の文脈において用いられる場合、構成要素のサブアセンブリは好適には、一対組み合わせの円筒導管を含む。使用時において、スイベルからの空気流れの漏れはほとんど無い。

タイ（名詞）：張力に抵抗するように設計された構造。

通気：（名詞）：マスクまたは導管の内部の周囲空気への空気流れを可能にする構造であり、吐き出されたガスの臨床的に有効な洗い流しを可能にする。例えば、臨床的に有効な洗い流しにおいては、約１０リットル／分～約１００リットル／分の流量がマスク設計および治療圧力に応じて用いられ得る。

５．８．５ 構造の形状
本技術による製品は、１つ以上の三次元機械構造（例えば、マスククッションまたはインペラ）を含み得る。三次元構造は、二次元表面によって制限され得る。これらの表面は、関連付けられた表面の方向、位置、機能または他の何らかの特性を記述するためのラベルを用いて区別され得る。例えば、構造は、前表面、後表面、内面および外面のうち１つ以上を含み得る。別の実施例において、シール形成構造は、顔接触（例えば、外側の）表面と、別個の非顔接触（例えば、下側または内側の）表面を含み得る。別の実施例において、構造は、第１の表面および第２の表面を含み得る。

三次元構造の形状および表面の説明を容易にするために、構造の表面を通じた点ｐにおける断面について先ず検討する。図３Ｂ～図３Ｆを参照されたい。図３Ｂ～図３Ｆは、表面上における点ｐにおける断面例と、その結果得られる平面曲線の例とを示す。図３Ｂ～図３Ｆは、ｐにおける外向き法線ベクトルも示す。ｐにおける外向き法線ベクトルは、表面から離隔方向に延びる。いくつかの実施例において、架空の小さな人が表面上に直立している観点から、この表面について説明する。

５．８．５．１ 一次元における曲率
ｐにおける平面曲線の曲率は、符号（例えば、正、負）および大きさ（例えば、ｐにおいて曲線に接する円形の１／半径）を持つものとして記述され得る。

正の曲率：ｐにおける曲線が外向き法線に向かって曲がる場合、その点における曲率は、正の値を持つものとしてとられる（この架空の小さな人が点ｐから立ち去る場合、上り坂を歩行する必要がある）。図３Ｂ（図３Ｃと比較して比較的大きな正の曲率）および図３Ｃ（図３Ｂと比較して比較的小さな正の曲率）を参照されたい。このような曲線を、凹状と呼ぶことが多い。

ゼロ曲率：ｐにおける曲線が直線である場合、曲率はゼロとしてとられる（この架空の小さな人が点ｐから立ち去る場合、上向きでも下向きでもない水平面を歩行することができる）。図３Ｄを参照されたい。

負の曲率：ｐにおける曲線が外向き法線から離隔方向に曲がる場合、その点およびその方向における曲率は、負の値を持つものとしてとられる（この架空の小さな人が点ｐから立ち去る場合、下り坂を歩行する必要がある）。図３Ｅ（図３Ｆと比較して比較的小さな負の曲率）および図３Ｆ（図３Ｅと比較して比較的大きな負の曲率）を参照されたい。このような曲線は、凸状と呼ばれることが多い。

５．８．５．２ 二次元表面の曲率
本技術による二次元表面上の所与の点における形状の記述は、複数の垂直断面を含み得る。複数の断面は、外向き法線（「法平面」）を含む面において表面を切断し得、各断面は、異なる方向においてとられ得る。各断面の結果、対応する曲率を有する平面曲線が得られる。その点における異なる曲率は、同一符号または異なる符号を持ち得る。その点における曲率はそれぞれ、（例えば、比較的小さな）大きさを有する。図３Ｂ～図３Ｆ中の平面曲線は、特定の点におけるこのような複数の断面の例であり得る。

主要な曲率および方向：曲線の曲率が最大値および最小値をとる法平面の方向を主要な方向と呼ぶ。図３Ｂ～図３Ｆの実施例において、最大曲率は図３Ｂにおいて発生し、最小は図３Ｆにおいて発生するため、図３Ｂおよび図３Ｆは、主要な方向における断面である。ｐにおける主要な曲率は、主要な方向における曲率である。

表面の領域：表面上の連結された点の集合。領域内のこの１組の点は、類似の特性（例えば、曲率または符号）を持ち得る。

鞍状領域：（上り坂または下り坂を歩行し得る架空の人が向く方向に応じて）各点において主要な曲率が反対の符号（すなわち、片方が正の符号および他方が負の符号）を有する領域。

ドーム領域：各点において主要な曲率が同一符号（双方とも正（「凹状ドーム」）または双方とも負（「凸状ドーム」））を持つ領域。

円筒領域：１つの主要な曲率がゼロ（または例えば製造交差内のゼロ）をとり、他方の主要な曲率が非ゼロである領域。

平面領域：主要な曲率双方がゼロであるか（または例えば製造交差内のゼロである）表面の領域。

表面の縁部：表面または領域の境界または限界。

経路：本技術の特定の形態において、「経路」は、数学的－トポロジー的意味合いにおける経路（例えば、表面上におけるｆ（０）からｆ（１）への連続空間曲線）を意味するものとしてとられる。本技術の特定の形態において、「経路」は、例えば表面上の１組の点を含むルートまたはコースとして記述され得る。（架空の人の経路は、表面上において歩行する場所であり、庭の経路に類似する）。

経路長さ：本技術の特定の形態において、「経路長さ」とは、表面に沿ったｆ（０）からｆ（１）への距離（すなわち、表面上の経路に沿った距離）を指すものとしてとられる。表面上の２つの点間において１つよりも多くの経路があり得、このような経路は、異なる経路長さを持ち得る。（架空の人の経路長さは、表面上を経路に沿って歩行する距離である）。

直線距離：直線距離は、表面上の２つの点間の距離であるが、表面は考慮しない。平面領域上において、表面上の２つの点間の直線距離と同一の経路長さを有する表縁上の距離がある。非平面表面上において、２つの点間の直線距離と同一の経路長さを有する経路は存在し得ない。（架空の人にとって、直線距離は、「カラスが飛ぶ」距離に対応する）。

５．８．５．３ 空間曲線
空間曲線：平面曲線と異なり、空間曲線は、任意の特定の平面内に必ずしも存在しない。空間曲線は閉鎖され得る。すなわち、終点を有さない。空間曲線は、三次元空間の一次元ピースとみなされ得る。ＤＮＡ螺旋の鎖上を歩行している架空の人物は、空間曲線に沿って歩行する。典型的なヒトの左耳は、左手螺旋を含む。典型的なヒトの右耳は、右手螺旋を含む。構造の縁部（例えば、膜またはインペラの縁部）は、空間曲線をたどり得る。一般的に、空間曲線は、空間曲線上の各点における曲率およびねじれによって記述され得る。ねじれとは、平面から発生する曲線の様態の尺度である。ねじれは、符号および大きさを有する。空間曲線上の点におけるねじれは、当該点における接線ベクトル、法線ベクトルおよび従法線ベクトルに対して特徴付けられ得る。

接線単位ベクトル（または単位接線ベクトル）：曲線上の各点について、当該点におけるベクトルは、当該点からの方向および大きさを指定する。接線単位ベクトルとは、当該点における曲線と同じ方向を向く単位ベクトルである。架空の人物が曲線に沿って飛行しており、特定の点において自身の車両から落ちた場合、接線ベクトルの方向は、その人物が移動しているはずの方向である。

単位法線ベクトル：架空の人物が曲線に沿って移動している場合、この接線ベクトルそのものが変化する。接線ベクトルが変化している方向と同じ方向を向く単位ベクトルは、単位主法線ベクトルと呼ばれる。これは、接線ベクトルに対して垂直である。

従法線単位ベクトル：従法線単位ベクトルは、接線ベクトルおよび主法線ベクトル双方に対して垂直である。その方向は、右手の法則または表すあるいは左手の法則によって決定され得る。

接触平面：単位接線ベクトルおよび単位主法線ベクトルを含む平面。

空間曲線のねじれ：空間曲線の点におけるねじれとは、当該点における従法線単位ベクトルの変化速度の大きさである。これは、曲線の接触平面からの逸脱の程度を測定する。平面内にある空間曲線のねじれはゼロである。空間曲線の接触平面からの逸脱が比較的少量である場合、その空間曲線のねじれの大きさは比較的小さい（例えば、緩やかに傾斜する螺旋状経路）。空間曲線の接触平面からの逸脱が比較的大量である場合、その空間曲線のねじれの大きさは比較的大きい（例えば、急勾配に傾斜する螺旋状経路）。

右手の法則を参照して、右手従法線の方向に向かって曲がる空間曲線は、右手方向に正のねじれとしてみなされ得る。右手従法線方向から離隔方向を向く空間曲線は、右手の負のねじれを持つものとしてみなされ得る（例えば、左手螺旋）。

同様に、左手の法則を参照して、左手従法線方向を向く空間曲線は、左手の正のねじれ（例えば、左手螺旋）を持つものとしてみなされ得る。よって、左手の正の方向は、右手の負の方向に相当する。

５．８．５．４ 穴
表面は、一次元穴を持ち得る（例えば、平面曲線または空間曲線によって境界付けられた穴）。穴を含む肉薄構造（例えば、膜）の場合、この構造は、一次元穴を有するものとして記述され得る。例えば、図３Ｇに示す構造の表面中の一次元穴が平面曲線によって境界付けられる様子を参照されたい。

構造は、二次元穴（例えば、表面によって境界付けられた穴）を持ち得る。例えば、可膨張性タイヤは、タイヤ内面によって境界付けられた二次元穴を有する。別の実施例において、空気またはゲルのためのキャビティを備えたブラダーは、二次元穴を持ち得る。さらに別の実施例において、導管は、（例えばその入口またはその出口において）一次元穴を含み得、導管の内面によって境界付けられた二次元穴を含み得る。図３Ｉに示す構造を通じておりかつ図示のように表面によって境界付けられた二次元穴も参照されたい。

５．９ 他の注意事項
他に文脈から明確に分かる場合および一定の範囲の値が提供されていない限り、下限の単位の１／１０、当該範囲の上限と下限の間、および記載の範囲の他の任意の記載の値または介入値に対する各介入値は本技術に包含されることが理解される。介入範囲中に独立的に含まれるこれらの介入範囲の上限および下限が記載の範囲における制限を特に超えた場合も、本技術に包含される。記載の範囲がこれらの制限のうち１つまたは双方を含む場合、これらの記載の制限のいずれかまたは双方を超える範囲も、本技術に包含される。

さらに、本明細書中に値（単数または複数）が本技術の一部として具現される場合、他に明記無き限り、このような値が近似され得、実際的な技術的実行が許容または要求する範囲まで任意の適切な有効桁までこのような値を用いることが可能であると理解される。

他に明記しない限り、本明細書中の全ての技術用語および科学用語は、本技術が属する分野の当業者が一般的に理解するような意味と同じ意味を持つ。本明細書中に記載の方法および材料に類似するかまたは等しい任意の方法および材料を本技術の実践または試験において用いることが可能であるが、限られた数の例示的な方法および材料が本明細書中に記載される。

特定の材料が構成要素の構築に好適に用いられるものとして記載されているが、特性が類似する明白な代替的材料が代替物として用いられる。さらに、それとは反対に記載無き限り、本明細書中に記載される任意および全ての構成要素は、製造可能なものとして理解されるため、集合的にまたは別個に製造され得る。

本明細書中及び添付の特許請求の範囲において用いられるように、単数形である「ａ」、「ａｎ」および「ｔｈｅ」は、文脈から明らかにそうでないことが示されない限り、その複数の均等物を含む点に留意されたい。

本明細書中に記載される公開文献は全て、これらの公開文献の対象である方法および／または材料の開示および記載、参考のために援用される。本明細書中に記載の公開文献は、本出願の出願日前のその開示内容のみのために提供するものである。本明細書中のいずれの内容も、本技術が先行特許のためにこのような公開文献に先行していないと認めるものと解釈されるべきではない。さらに、記載の公開文献の日付は、実際の公開文献の日付と異なる場合があり、個別に確認が必要であり得る。

「ｃｏｍｐｒｉｓｅｓ」および「ｃｏｍｐｒｉｓｉｎｇ」という用語は、要素、構成要素またはステップを非排他的な意味合いで指すものとして解釈されるべきであり、記載の要素、構成要素またはステップが明記されていない他の要素、構成要素またはステップと共に存在、利用または結合され得ることを示す。

詳細な説明において用いられる見出しは、読者の便宜のためのものであり、本開示または特許請求の範囲全体において見受けられる内容を制限するために用いられるべきではない。これらの見出しは、特許請求の範囲または特許請求の範囲の制限の範囲の解釈において用いられるべきではない。

本明細書中の技術について、特定の実施例を参照して述べてきたが、これらの実施例は本技術の原理および用途を例示したものに過ぎないことが理解されるべきである。いくつかの場合において、用語および記号は、本技術の実施に不要な特定の詳細を示し得る。例えば、「ｆｉｒｓｔ（第１の）」および「ｓｅｃｏｎｄ（第２の）」（など）という用語が用いられるが、他に明記無き限り、これらの用語は任意の順序を示すことを意図しておらず、別個の要素を区別するために用いられる。さらに、本方法におけるプロセスステップについての記載または例示を順序付けて述べる場合があるが、このような順序は不要である。当業者であれば、このような順序が変更可能でありかつ／またはその態様を同時にまたはさらに同期的に行うことが可能であることを認識する。

よって、本技術の意図および範囲から逸脱することなく、例示的な実施例において多数の変更例が可能であり、また、他の配置構成が考案され得ることが理解されるべきである。

１０００ 患者
１１００ 同床者
３０００ 患者インターフェース
３１００ シール形成構造
３２００ プレナムチャンバ
３３００ 位置決めおよび安定化構造
３４００ 通気部
３６００ 接続ポート
３７００ 前額支持部
４０００ ＲＰＴデバイス
４０１０ 主パネル
４０１２ 前面パネル
４０１４ 側面パネル
４０１６ シャーシ
４０２０ 空気圧ブロック
４１１０ 空気フィルタ
４１１２ 入口空気フィルタ
４１１４ 出口空気フィルタ
４１２０ マフラー
４１２２ 入口マフラー
４１２４ 出口マフラー
４１４０ 圧力生成器
４１４２ 送風機
４１４４ モータ
４１６０ アンチスピルバック弁
４１７０ 空気回路
４１７１ 空気回路
４１８０ 補充酸素
４２００ 電気部品
４２０２ ＰＣＢＡ
４２１０ 電源
４２２０ 入力デバイス
４２３０ 中央コントローラ
４２３２ 時計
４２４０ 治療装置コントローラ
４２５０ 保護回路
４２６０ メモリ
４２７０ 変換器
４２７２ 圧力センサ
４２７４ 流量センサ
４２７６ モータ速度変換器
４２８０ データ通信インターフェース
４２８２ 遠隔外部通信ネットワーク
４２８４ ローカル外部通信ネットワーク
４２８６ 遠隔外部デバイス
４２８８ ローカル外部デバイス
４２９０ 出力デバイス
４２９２ ディスプレイドライバ
４２９４ ディスプレイ
４３００ アルゴリズム
４３１０ 事前処理モジュール
４３１２ 圧力補償アルゴリズム
４３１４ 通気流量推定アルゴリズム
４３１６ 漏洩流量推定アルゴリズム
４３１８ 呼吸流量推定アルゴリズム
４３２０ 治療エンジンモジュール
４３２１ フェーズ決定アルゴリズム
４３２２ 波形決定アルゴリズム
４３２３ 換気決定アルゴリズム
４３２４ 吸気流制限決定アルゴリズム
４３２５ 無呼吸／呼吸低下決定アルゴリズム
４３２６ いびき決定アルゴリズム
４３２７ 気道開通性決定アルゴリズム
４３２８ 目標換気決定アルゴリズム
４３３０ 治療制御モジュール
４３４０ 方法
４５００ 管部
４６００ ドックコネクタ
４６１０ ピンチアーム
４６１５ 保持突起
４６２０ リップ
４６２５ 接触表面
４６３０ 支持突出部
４６４０ ベース部位
４６４０ｂｓ ベース
４６４０ｏｖ オーバーモールド
４６４２ 突起
４６４４ 隆起部
４６４５ リップシール
４６４７ 停止面
４６４８ 内部リブ
４６５０ 接触アセンブリ
４６５５ 接点
４６６０ ロックおよび接触アセンブリ
４６６１ 接触アセンブリ
４６６２ 支持アーム
４６６５ 支持部位
４６６６ 接触アセンブリ
４６６７ 接点
４６６８ 電気コネクタ
４６８０ ベースアセンブリ
４６８２ ベース
４６８４ カバー
４６９０ オーバーモールド
４７００ 患者インターフェースコネクタ
５０００ 加湿器
５１１０ 加湿器リザーバ
５２１０ 加湿器変換器
５２１２ 圧力変換器
５２１４ 流量変換器
５２１６ 温度変換器
５２１８ 湿度センサ
５２４０ 加熱要素
５２５０ 加湿器コントローラ
５２５１ 中央加湿器コントローラ
５２５２ 加熱要素コントローラ
５２５４ 空気回路コントローラ
６０００ 一体型ＲＰＴデバイスおよび加湿器
６０５０ リザーバドック
６０５１ ロック凹部
６０５２ 内壁
６０５３ 底壁
６０５５ スロット
６０６０ ガイドスロット
６０７５ 加熱アセンブリ
６０８０ ヒータープレート
６０８５ 加熱要素
６０８６ ガスケット
６０８８ 熱パッド
６０８９ 支持構造
６０９０ ドック出口
６０９１ 開口部
６０９５ リテーナプレート
６０９６ 支持部材
６０９７ ベースプレート
６０９８ 支持コーン
６１００ 水リザーバ
６１１２ リザーバベース
６１１４ リザーバ蓋
６１１５ 保持突起
６１１６ シール
６１２０ 入口チューブ
６１２２ 入口シール
６１２３ 入口部位
６１２４ 入口端
６１２５ 出口部位
６１２６ 出口端
６１３０ 出口チューブ
６１３２ 出口シール
６１３３ サムグリップ
６１３４ 出口端
６１３６ 入口端
６１４０ 本体
６１４２ 側壁
６１４４ 底壁
６１５０ 伝導性部位
６２００ ガイドレール
６２５０ ガイドピン
６２６０ 凹部
６２６２ レール
６２６４ ロックタブ
６３００ ラッチ
６４００ ラッチ
６４０２ ロックレバー
６４０３ 突起
６４０４ 蓋コネクタ
６４０５ スロット付き端部
６４０６ 支持部材
６４０７ フィンガータブ
６６００ ロック配置構成
６６０５ ボタン部
６６１０ ロックアーム
６６１５ ロックタブ
６７００ 中間コンポーネント
６７０５ 管状部
６７１０ 入口端
６７１２ フランジ
６７１５ 接触表面
６７２０ 出口端
６７３０ ポート
６７３５ ポートシール
６７４０ バネアーム
６７４５ 反矢じり端
６７５０ 突起
６７５５ ガイドスロット
６７６０ ガイドレール
６７７０ フランジ
６７７２ 切り欠き部
６７８０ チャンネル
６８００ 接触アセンブリ
６８０５ 接点
６８１０ 接点
６８１５ 支持部材
６８５０ 支持突出部
６８８０ ベース
６８８２ ベース表面
６８８４ 内面
６８８５ スカート
６８８５ｖ 垂直部
６８８５ｈ 水平部位
６８９０ 隙間
６８９１ リザーバ
６８９２ 隙間
６９００ ロックおよび接触アセンブリ
６９１０ ベース
６９１２ 後壁部
６９１５ 開口部
６９２０ 側壁
６９２２ 凹部
６９２４ 凹部
６９２６ 凹部
６９３０ 保持壁部
６９３５ ストップ壁部
６９４０ 凹部
６９５０ 接触アセンブリ
６９５２ 支持部材
６９５５ 接点
６９５６ バネアーム
６９５８ 電気コネクタ
６９６０ 接触支持構造
６９７０ カバー
６０６０Ｄ ドロップダウンセクション
６０６０Ｈ 水平セクション
６０６０Ｈ２ 水平セクション
６１５０Ｆ 薄膜伝導性部位
６１５０Ｍ 金属伝導性部位
６１５２Ｆ 薄膜プレート
６１５２Ｍ 金属プレート
６１５４Ｆ 薄膜側壁部
６１５４Ｍ 金属側壁部
６１５６Ｆ 薄膜インターフェース部
６１５６Ｍ 金属インターフェース部
６１１２Ｆ１ 薄膜製のリザーバベース
６１１２Ｆ２ 薄膜製のリザーバベース
６１１２Ｍ１ 金属製のリザーバベース
６１１２Ｍ２ 金属製のリザーバベース
６１１２Ｍ３ 金属製のリザーバベース
６１１２ＭＦ１ 金属／薄膜製のリザーバベース
６１１２ＭＦ２ 金属／薄膜製のリザーバベース
６１１２ＭＦ３ 金属薄膜製のリザーバベース
６１５０ＭＦ 金属／薄膜伝導性部位
７１００ 空気圧ブロック
７３００ シャーシアセンブリ
７３１０ シャーシ入口
７３２０ シャーシ出口
７３５０ 前レッジ
７３５５ ガイド表面
７３６０ 後レッジ
７３８０ シャーシ開口部
７６００ ＰＣＢＡ
８００２ 外部ハウジング
８００５ ベース壁
８０２０ アダプタ
８０２２ 第１の回路要素
８０２４ 第２の回路要素
８０５０ シュラウド
９０１０ 抵抗器
９０１２ 抵抗器
９０２０ 抵抗器
９０２２ 抵抗器
９０３０ センサ
９１００ ヒンジアーム
９１０５ ヒンジピン
９１０５ｃ 円筒形表面
９１０５ｆ 平坦表面
９１１０ 停止部材
９１２０ クリップ
９１２２ スロット
９１２５ タブ
９２００ スロット
９２００ｃ 円筒形表面
９２００ｏ 開口側
９２１０ 側壁
９２２０ ラッチ
９３００ 上方に方向付けられた表面
９３１５ タブ
９３２０ タブ
９３２５ 上方に方向付けられた表面
９４００ 下方に方向付けられた表面
９４５０ 当接縁部
９５００ シーリングおよび支持部材
９５１０ 周辺リップ
９５２０ 中空の管
９５３０ 中間コネクタ
９５４０ ワイヤガイド
９５５０ エアー抜き用凹部
９６００ ベースプレート
９６１０ 内側ベース表面
９６１２ 外側ベース表面
９６１５ トラック
９６２０ 周辺フランジ
９６２２ 杭
９６２５ 水抜き穴
９７００ 中間コンポーネント
９７０５ 管状部
９７１０ 入口端
９７１５ 入口シール
９７２０ 出口端
９７３０ ポート
９７３５ ポートシール
９７４０ ピンチアーム
９７４５ 反矢じり端
９７５０ クロスバー
９７５１ バンパー
９７５２ バンパー
９７５３ バンパー
９７５５ ガイドスロット
９７５８ 表面
９７６０ ガイドレール
９７６１ ガイドリブ
９７７０ フランジ
９７７５ バンパー
９７８０ チャンネル
９７９０ 側壁
９７９２ 穴
９７９５ タブ
９７９９ 締結具
９９５０ 接触アセンブリ
９９５２ 支持部材
９９５５ 接点
９９５６ バネアーム
９９８０ ソケット

Claims (61)

1. 呼吸可能なガスの流れを加湿する装置であって、
   所定量の水を保持するような構造にされたキャビティを含むリザーバベースを含む水リザーバであって、前記リザーバベースは、本体と、本体に設けられた熱伝導性部位とを含み、
   前記熱伝導性部位は、金属プレートと薄膜とを含む複合層状配置を含み、
   前記薄膜は、非金属材料を含み、かつ約１ｍｍ未満の壁厚さを含み、
   前記薄膜は、所定量の水にさらされる前記水リザーバの底部内面を形成するように適合され、前記金属プレートは、前記水リザーバの底部外面を形成するように適合される、水リザーバと、
   前記水リザーバを作動位置において受容するような構造および配置にされたキャビティを形成する水リザーバドックであって、前記水リザーバドックは、前記水リザーバの金属プレートと前記作動位置において熱接触することによりヒータープレートから水量への熱伝導を可能にするように適合されたヒータープレートを含む、水リザーバドックと、を含む、呼吸可能なガスの流れを加湿する装置。
2. 前記金属プレートにより、前記本体の下壁部との接続境界が形成され、前記薄膜は、前記接続境界を超えて前記下壁部のうち少なくとも一部にわたって延びるような構造および配置にされる、請求項１に記載の装置。
3. 前記薄膜は、前記本体の側壁部の少なくとも一部にわたって延びるような構造および配置にされる、請求項１～２のいずれか一項に記載の装置。
4. 前記本体は、プラスチック材料を含み、少なくとも前記金属プレートは、インサート成形によって前記本体内に一体化される、請求項１～３のいずれか一項に記載の装置。
5. 前記リザーバベースは、前記本体、前記金属プレートおよび前記薄膜のみを含む三部構造を含む、請求項１～４のいずれか一項に記載の装置。
6. 前記熱伝導性部位は、前記本体と別個かつ区別可能な構造として設けられる、請求項１～５のいずれか一項に記載の装置。
7. 前記薄膜の壁部厚さは、約０．５ｍｍ未満である、請求項１～６のいずれか一項に記載の装置。
8. 前記薄膜は、シリコーン、ポリカーボネートまたは他の熱可塑性材料またはエラストマー材料を含む、請求項１～７のいずれか一項に記載の装置。
9. リザーバ蓋をさらに含み、前記リザーバ蓋は、前記水リザーバを開口構成と閉鎖構成との間で変換させることが可能なように、前記リザーバベースへ移動可能に接続される、請求項１～８のいずれか一項に記載の装置。
10. 呼吸可能なガスの流れを加湿する装置であって、
    所定量の水を保持するような構造にされたキャビティを含むリザーバであって、水リザーバは、伝導性部位を含む、水リザーバと、
    前記水リザーバを作動位置において受容するような構造および配置にされた水リザーバドックであって、前記水リザーバドックは、前記水リザーバの前記伝導性部位と前記作動位置において熱係合することにより、加熱アセンブリから水量への熱伝導を可能にするように適合された加熱アセンブリを含む、水リザーバドックと、
    前記水リザーバを前記作動位置の内外へガイドするような構造および配置にされたガイド配置構成であって、前記ガイド配置構成は、前後方向および下上方向双方において延びる経路と、を含む、呼吸可能なガスの流れを加湿する装置。
11. 前記ガイド配置構成は、前記水リザーバおよび前記水リザーバドックのうち１つの各側のガイド突起と、前記水リザーバおよび前記水リザーバドックのうちの他方の各側のガイドスロットとを含み、各ガイドスロットは、各ガイド突起を受容するように構成される、請求項１０に記載の装置。
12. 各ガイドスロットは、概して水平の部分を含み、前記概して水平の部分は、前記前後方向において延びて、前記概して水平の部分から下方向に下方に傾斜するドロップダウン部へ繋がる、請求項１１に記載の装置。
13. 前記水リザーバの前記伝導性部位は、前記水リザーバが前記ガイドスロットの前記ドロップダウン部に到達した際に下降して前記水リザーバドックの前記加熱アセンブリと係合するような構成および配置にされる、請求項１２に記載の装置。
14. 前記ドロップダウン部の係合により、前記水リザーバは前記作動位置に解放可能にロックされる、請求項１３に記載の装置。
15. 前記伝導性部位に含まれる段階的配置構成において、前記伝導性部位は、１つよりも多くの平面において延びる、請求項１３～１４のいずれか一項に記載の装置。
16. 前記伝導性部位は、第１の平面において延びる第１の熱伝導性部と、前記第１の平面からオフセットされた第２の平面において延びる第２の部位とを含む、請求項１５に記載の装置。
17. 前記水リザーバドックは、前記加熱アセンブリを受容するように適合された陥凹開口部の少なくとも一部を形成する前レッジを含み、前記水リザーバの前記伝導性部位は、前記ガイドスロットの前記概して水平の部分において前記加熱アセンブリに沿ってではなく前記前レッジにわたってスライドするような構成および配置にされる、請求項１３～１６のいずれか一項に記載の装置。
18. 呼吸可能なガスの流れを加湿する装置であって、
    所定量の水を保持するような構造にされたキャビティを含む水リザーバと、
    作動位置において水リザーバを受容するような構造および配置にされたリザーバドックと、
    水リザーバで加湿された呼吸可能なガス流れを患者インターフェースに通過させるように構成された空気送達管と、を含み、
    前記空気送達管は、前記水リザーバと共に直接的空気圧シールを形成するような構造および配置にされる、呼吸可能なガスの流れを加湿する装置。
19. 前記空気送達管は、水リザーバドックに対して解放可能な機械的接続および／または電気接続を形成するような構造および配置にされる、請求項１８に記載の装置。
20. 前記空気送達管は、前記解放可能な機械的接続を形成するような構造および配置にされ、前記解放可能な機械的接続は、スナップ嵌め接続を含む、請求項１９に記載の装置。
21. 前記空気送達管は、水リザーバドックとの回転不可能な接続を提供するドックコネクタを含む、請求項１８～２０のいずれか一項に記載の装置。
22. 前記空気送達管は、前記水リザーバと直接係合するように適合された接触面を含むドックコネクタを含み、前記接触面は、前記空気送達管の長手軸に対して角度を以て延びる軸に沿って配置される、請求項１８～２１のいずれか一項に記載の装置。
23. 前記接触面は、前記空気送達管の長手軸に対して約４５°で延びる、請求項２２に記載の装置。
24. 前記水リザーバは、呼吸可能なガスの加湿流れの前記空気送達管への送達のために出口を提供する出口管を含み、前記出口管は、前記空気送達管と直接係合するように適合された出口シールを含む、請求項１８～２３のいずれか一項に記載の装置。
25. 前記水リザーバは、呼吸可能なガスの流れを受容する入口を提供する入口管をさらに含み、前記入口管は、入口シールを含む、請求項２４に記載の装置。
26. 呼吸可能なガスの流れを加湿する装置であって、
    所定量の水を保持するような構造にされたキャビティを含む水リザーバと、
    作動位置において水リザーバを受容するような構造および配置にされたリザーバドックと、
    水リザーバで加湿された呼吸可能なガス流れを患者インターフェースに通過させるように構成された空気送達管と、を含み、
    前記空気送達管は、接触アセンブリを含むドックコネクタを含み、前記接触アセンブリは、前記装置の作動構成において水リザーバドックに設けられた各電気接点と係合するように適合された電気接点を含み、前記接触アセンブリは、前記空気送達管または前記患者インターフェースの１つ以上のパラメータの識別子として用いられる電気特性を含む、呼吸可能なガスの流れを加湿する装置。
27. 前記電気特性は、１つ以上の抵抗器によって規定される、請求項２６に記載の装置。
28. 前記ドックコネクタは、前記空気送達管へ取り付け可能なアダプタを含む、請求項２６～２７のいずれか一項に記載の装置。
29. 呼吸可能なガスの流れの加湿する装置のための水リザーバであって、
    呼吸可能なガスの流れを前記水リザーバ中に受容するための入口を提供するように配置された入口管と、
    加湿された呼吸可能なガスの流れを前記水リザーバから送達させるための出口を提供するように配置された出口管と、を含み、
    前記入口管および前記出口管のうち少なくとも１つに起因して、少なくともその流れに沿った１点においてパラメータが変化する、水リザーバ。
30. 前記入口管および前記出口管のうち少なくとも１つは、その流れに沿って曲線状となる、請求項２９に記載の水リザーバ。
31. 前記入口管および前記出口管のうち少なくとも１つは、その流れに沿って複数の曲率を含む、請求項３０に記載の水リザーバ。
32. 前記入口管および前記出口管のうち少なくとも１つの曲率は、前記曲率の方向に沿って半径または方向において変化する、請求項３０～３１のいずれか一項に記載の水リザーバ。
33. 前記入口管および／または前記出口管は、可撓性材料を含む、請求項２９～３２のいずれか一項に記載の水リザーバ。
34. 前記入口管および／または前記出口管は、シリコーンを含む、請求項２９～３３のいずれか一項に記載の水リザーバ。
35. 前記入口管および前記出口管のうち少なくとも１つの断面積は、自身の流れに沿って変化する、請求項２９～３４のいずれか一項に記載の水リザーバ。
36. 呼吸可能なガスの流れの加湿のための水リザーバであって、
    リザーバベースと、
    リザーバ蓋と、
    開口位置と閉鎖位置との間のヒンジ型移動のために前記リザーバ蓋を前記リザーバベースへヒンジ接続させるヒンジ継手と、を含み、
    前記ヒンジ継手は、一対のヒンジピンを含み、前記一対のヒンジピンはそれぞれ、一対のスロットそれぞれと係合して前記ヒンジ型移動を提供するように構成され、
    前記一対のヒンジピンはそれぞれ、円の主要セグメントを示す断面を含む、水リザーバ。
37. 前記一対のヒンジピンは、前記リザーバ蓋に設けられ、前記一対のスロットは、前記リザーバベースに設けられる、請求項３６に記載の水リザーバ。
38. 前記一対のスロットはそれぞれ、前記一対のヒンジピンそれぞれの係合および係合解除を可能にする開放端または側部を含む、請求項３６～３７のいずれか一項に記載の水リザーバ。
39. 前記一対のヒンジピンはそれぞれ、前記リザーバ蓋の開口構成において、前記一対のヒンジピンそれぞれによって提供される前記主要セグメントのより小さな幅が前記一対のスロットそれぞれの前記開放端または側部と整列されることにより、より容易な係合および係合解除を可能にするように、方向付けられる、請求項３８に記載の水リザーバ。
40. 前記一対のヒンジピンはそれぞれ、セグメント化された円筒面および平坦面を含む、請求項３６～３９のいずれか一項に記載の水リザーバ。
41. 前記一対のヒンジピンそれぞれによって提供される前記主要セグメントのより小さな幅は、前記一対のスロットそれぞれの開放端または側部の開口部よりも大きいため、整列時においても、各開口部を撓ませて前記一対のヒンジピンを解放させることにより力の付加により前記一対のヒンジピンをてこの原理により前記一対のスロットから外す必要がある、請求項３９～４０のいずれか一項に記載の水リザーバ。
42. 前記リザーバ蓋に含まれる停止部材の構成は、前記リザーバ蓋が前記開口位置へ移動した際に、ストップ部材が片持ち梁として機能して前記一対のヒンジピンそれぞれを各開口部へ押圧させて、前記各開口部を撓ませて、前記一対のヒンジピンそれぞれを前記一対のスロットそれぞれから解放させるような構成である、請求項４１に記載の水リザーバ。
43. 呼吸可能なガスの流れを加湿する装置であって、
    所定量の水を保持するような構造にされたキャビティを含む水リザーバであって、前記水リザーバは、熱伝導性部位を含む、水リザーバと、
    前記水リザーバを作動位置において受容するような構造および配置にされた水リザーバドックであって、前記水リザーバドックは、前記水リザーバの前記熱伝導性部位と前記作動位置において熱係合することにより加熱アセンブリから水量への熱伝導を可能にするように適合された加熱アセンブリを含む、水リザーバドックと、
    前記水リザーバを前記水リザーバドックとの前記作動位置へガイドするような構造および配置にされたガイド配置構成と、を含み、
    前記ガイド配置構成は、前記水リザーバの各側のガイドレールと、前記水リザーバドックの各側のガイドスロットとを含み、各ガイドレールは、各ガイドスロットと係合するように構成され、
    ガイド配置構成は、前記水リザーバの前縁に設けられた１つ以上の付勢縁部またはタブをさらに含み、前記水リザーバの前縁は、前記水リザーバが前記作動位置に到達した際、前記水リザーバドックに設けられた各当接縁部の下側と係合するように構成される、呼吸可能なガスの流れを加湿する装置。
44. 各ガイドレールは、上方に方向付けられた表面を提供する上側縁を含み、各ガイドスロットは、下方に方向付けられた表面を提供する上側縁を含み、前記上方に方向付けられた表面は、前記下方に方向付けられた表面と係合して下方に強制移動するように構成され、これにより、前記熱伝導性部位と前記加熱アセンブリとの係合が向上する、請求項４３に記載の装置。
45. 各ガイドレールは、各ガイドスロットの上側縁と係合するように前記上方に方向付けられた表面から延びる１つ以上の係合タブを含む、請求項４４に記載の装置。
46. 呼吸可能なガスの流れを加湿する装置であって、
    所定量の水を保持するような構造にされたキャビティを含む水リザーバであって、前記水リザーバは、熱伝導性部位を含む、水リザーバと、
    前記水リザーバを作動位置において受容するような構造および配置にされた水リザーバドックであって、前記水リザーバドックは、前記水リザーバの前記熱伝導性部位と前記作動位置において熱係合することにより加熱アセンブリから水量への熱伝導を可能にするように適合された加熱アセンブリを含む、水リザーバドックと、を含み、
    前記加熱アセンブリは、前記水リザーバの前記熱伝導性部位と熱接触するベース表面と、ヒータープレートを前記水リザーバドック内に弾性懸下する弾性シーリングおよび／または支持部材とを含むヒータープレートを含み、
    前記弾性シーリングおよび／または支持部材は、１つ以上の中空管を含み、１つ以上の中空管はそれぞれ、前記ヒータープレートのベース表面に対して概して垂直な軸を含む、呼吸可能なガスの流れを加湿する装置。
47. 前記１つ以上の中空管それぞれの軸は、前記装置の作動構成において概して垂直方向に延びる、請求項４６に記載の装置。
48. 前記加熱アセンブリは、加熱要素と、前記ヒータープレートと前記加熱要素との間に配置された熱パッドとをさらに含む、請求項４６～４７のいずれか一項に記載の装置。
49. 前記弾性シーリングおよび／または支持部材は、エラストマー材料で形成される、請求項４６～４８のいずれか一項に記載の装置。
50. 前記１つ以上の中空管は、前記水リザーバが前記作動位置にある際に弾性的に撓むように構成され、弾性撓みにより得られる上方付勢力により、前記ヒータープレートが前記水リザーバの前記熱伝導性部位に対して付勢される、請求項４６～４９のいずれか一項に記載の装置。
51. 前記弾性シーリングおよび／または支持部材は、周辺リップをさらに含み、前記１つ以上の中空管は、前記周辺リップによって境界付けられた空間内に設けられる、請求項４６～５０のいずれか一項に記載の装置。
52. 前記周辺リップは、前記ヒータープレートと係合してシールを前記ヒータープレートの周辺に沿って形成するように構成される、請求項５１に記載の装置。
53. 前記加熱アセンブリは、前記弾性シーリングを支持するベースプレートおよび／または前記水リザーバドックの下部における支持部材をさらに含み、前記ベースプレートは、前記ベースプレートの周辺に沿って設けられた１つ以上の水抜き穴を含むため、使用時において前記ベースプレート内に集まる水全ての排水が可能になる、請求項４６～５２のいずれか一項に記載の装置。
54. 前記１つ以上の中空管それぞれの壁部は、縁部カットアウト部または穴部を含む、請求項４６～５３のいずれか一項に記載の装置。
55. 呼吸可能なガスの流れを加湿する装置であって、
    所定量の水を保持するような構造にされたキャビティを含む水リザーバと、
    作動位置において水リザーバを受容するような構造および配置にされた水リザーバドックと、
    水リザーバで加湿された呼吸可能なガス流れを患者インターフェースに通過させるように構成された空気送達管と、
    前記水リザーバドックおよび前記空気送達管への取り外し可能かつ回転不可能な接続のための中間コンポーネントと、を含み、
    前記中間コンポーネントは、作動構成において、前記空気送達管へ機械的ロックおよび空気圧接続されるように構成される、呼吸可能なガスの流れを加湿する装置。
56. 前記空気送達管は、前記水リザーバドックへ電気的に接続するように構成され、前記機械的ロック、空気圧接続および電気接続のうちそれぞれ２つは、実質的に同時にまたは順次形成される、請求項５５に記載の装置。
57. 前記空気送達管は、前記空気送達管が前記中間コンポーネントへ接続された際に前記機械的ロックおよび電気接続を実質的に同時に形成するように構成される、請求項５６に記載の装置。
58. 前記水リザーバは、呼吸可能なガスの加湿流れの前記空気送達管への送達のために出口を提供する出口管を含み、前記中間コンポーネントは、前記水リザーバの出口管とシールを形成するように適合された入口シールを含む、請求項５５～５７のいずれか一項に記載の装置。
59. 前記中間コンポーネントは、出口端を含む管状部を含み、前記空気送達管に含まれるドックコネクタは、前記出口端とシールを形成して前記空気送達管を前記中間コンポーネントへ空気圧接続させるように適合されたラジアルリップシールを含む、請求項５５～５８のいずれか一項に記載の装置。
60. 前記空気送達管に含まれるドックコネクタは、前記空気送達管を前記中間コンポーネントへ解放可能にロックさせるように前記中間コンポーネントへ設けられた各穴部内に係合するように適合された保持隆起部を含む、請求項５５～５９のいずれか一項に記載の装置。
61. 呼吸可能なガスの流れを加湿する装置であって、
    請求項２９～４２のいずれか一項に記載の水リザーバと、
    前記水リザーバを作動位置において受容するような構造および配置にされた水リザーバドックであって、前記水リザーバドックは、前記水リザーバの熱伝導性部位と前記作動位置において熱的に接触することにより、ヒータープレートから前記水リザーバによって保持された所定量の水への熱伝導を可能にするように適合されたヒータープレートを含む、水リザーバドックと、を含む、呼吸可能なガスの流れを加湿する装置。

Images