JP2022188520A5 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
JP2022188520A5
JP2022188520A5 JP2021096623A JP2021096623A JP2022188520A5 JP 2022188520 A5 JP2022188520 A5 JP 2022188520A5 JP 2021096623 A JP2021096623 A JP 2021096623A JP 2021096623 A JP2021096623 A JP 2021096623A JP 2022188520 A5 JP2022188520 A5 JP 2022188520A5
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
stage
wavelength
measurement
measurement light
component
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2021096623A
Other languages
English (en)
Japanese (ja)
Other versions
JP7731699B2 (ja
JP2022188520A (ja
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Priority to JP2021096623A priority Critical patent/JP7731699B2/ja
Priority claimed from JP2021096623A external-priority patent/JP7731699B2/ja
Priority to KR1020220061730A priority patent/KR102910937B1/ko
Priority to CN202210626974.5A priority patent/CN115453824A/zh
Publication of JP2022188520A publication Critical patent/JP2022188520A/ja
Publication of JP2022188520A5 publication Critical patent/JP2022188520A5/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP7731699B2 publication Critical patent/JP7731699B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

JP2021096623A 2021-06-09 2021-06-09 ステージ装置、露光装置、及び物品の製造方法 Active JP7731699B2 (ja)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2021096623A JP7731699B2 (ja) 2021-06-09 2021-06-09 ステージ装置、露光装置、及び物品の製造方法
KR1020220061730A KR102910937B1 (ko) 2021-06-09 2022-05-20 스테이지 장치, 노광 장치, 및 물품의 제조 방법
CN202210626974.5A CN115453824A (zh) 2021-06-09 2022-06-06 载置台装置、曝光装置以及物品的制造方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2021096623A JP7731699B2 (ja) 2021-06-09 2021-06-09 ステージ装置、露光装置、及び物品の製造方法

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2022188520A JP2022188520A (ja) 2022-12-21
JP2022188520A5 true JP2022188520A5 (https=) 2024-06-07
JP7731699B2 JP7731699B2 (ja) 2025-09-01

Family

ID=84296878

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2021096623A Active JP7731699B2 (ja) 2021-06-09 2021-06-09 ステージ装置、露光装置、及び物品の製造方法

Country Status (3)

Country Link
JP (1) JP7731699B2 (https=)
KR (1) KR102910937B1 (https=)
CN (1) CN115453824A (https=)

Family Cites Families (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH03134503A (ja) * 1989-10-20 1991-06-07 Hitachi Ltd レーザ測長器及びそれにおける空気のゆらぎの補正方法
KR200211355Y1 (ko) * 1998-06-30 2001-04-02 김영환 스테이지 간섭계
US6417927B2 (en) 1999-04-28 2002-07-09 Zygo Corporation Method and apparatus for accurately compensating both long and short term fluctuations in the refractive index of air in an interferometer
JP2000331904A (ja) * 1999-05-17 2000-11-30 Canon Inc 露光装置およびデバイス製造方法
JP2003065712A (ja) * 2001-08-21 2003-03-05 Canon Inc レーザ干渉計測長器、露光装置、デバイス製造方法、半導体製造工場および露光装置の保守方法
US6842256B2 (en) * 2001-11-15 2005-01-11 Zygo Corporation Compensating for effects of variations in gas refractivity in interferometers
KR100578140B1 (ko) * 2004-10-07 2006-05-10 삼성전자주식회사 변위 측정을 위한 간섭계 시스템 및 이를 이용한 노광 장치
US7826063B2 (en) * 2005-04-29 2010-11-02 Zygo Corporation Compensation of effects of atmospheric perturbations in optical metrology
JP5002613B2 (ja) 2009-03-31 2012-08-15 株式会社東芝 Xyステージ装置
DE102013213525B3 (de) 2013-07-10 2014-08-21 Carl Zeiss Sms Gmbh Verfahren zum Kalibrieren eines Positionsmeßsystems und Positionsmeßsystem
CN110553591B (zh) 2018-05-31 2021-01-01 上海微电子装备(集团)股份有限公司 一种位移测量系统和光刻机
JP7341754B2 (ja) 2019-07-05 2023-09-11 キヤノン株式会社 測定装置、ステージ位置決め装置、露光装置、物品の製造方法及びコンピュータプログラム

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR102549058B1 (ko) 광학 측정 장치 및 광학 측정 방법
KR101882892B1 (ko) 기판 상의 구조체를 측정하는 방법 및 장치, 오차 보정을 위한 모델, 이러한 방법 및 장치를 구현하기 위한 컴퓨터 프로그램 제품
KR100756769B1 (ko) 노광방법 및 노광관리시스템
JP6761875B2 (ja) リソグラフィ装置及び検知システムアセンブリ並びにペリクル変形測定方法
KR102074967B1 (ko) 투영 노광 장치 작동 방법 및 제어 장치
JP2008046108A (ja) 基板上の構造の座標を決定する際の計測精度を向上させる方法
JP2006157023A (ja) オーバレイマークを設計する方法
CN113196176A (zh) 用于计量的方法和装置
KR20140104481A (ko) 디바이스 제조 방법과 관련 리소그래피 장치, 검사 장치 및 리소그래피 처리 셀
TWI631435B (zh) 調焦調平測量裝置及方法
JP2014110308A (ja) 測定装置、インプリントシステム、測定方法及びデバイス製造方法
US20070268495A1 (en) Method for enhancing the measuring accuracy when determining the coordinates of structures on a substrate
KR101731338B1 (ko) 위치 측정 방법, 위치 이탈 맵의 작성 방법 및 검사 시스템
JP2011014745A5 (https=)
JP7022531B2 (ja) 露光方法、露光装置、および物品の製造方法
JP2005538362A5 (https=)
JP2022188520A5 (https=)
JP6854914B2 (ja) リソグラフィ方法及び装置
JP7520109B2 (ja) パターニングデバイスを特徴付けるための測定システム及び方法
TWI503634B (zh) Exposure apparatus, exposure management system, and exposure method
KR20220020903A (ko) 기판 높이를 측정하기 위한 장치 및 방법
JP7093893B2 (ja) レベルセンサ及びレベルセンサを組み込んだリソグラフィ装置
JP7494066B2 (ja) 露光装置、及び物品の製造方法
JP4182303B2 (ja) 投影光学系のディストーション測定方法及びディストーションを補正して行う半導体デバイスの製造方法
JP4649837B2 (ja) データ分析方法、及び、デバイス製造方法とそのシステム