JP2022188520A5 - - Google Patents
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Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2021096623A JP7731699B2 (ja) | 2021-06-09 | 2021-06-09 | ステージ装置、露光装置、及び物品の製造方法 |
| KR1020220061730A KR102910937B1 (ko) | 2021-06-09 | 2022-05-20 | 스테이지 장치, 노광 장치, 및 물품의 제조 방법 |
| CN202210626974.5A CN115453824A (zh) | 2021-06-09 | 2022-06-06 | 载置台装置、曝光装置以及物品的制造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2021096623A JP7731699B2 (ja) | 2021-06-09 | 2021-06-09 | ステージ装置、露光装置、及び物品の製造方法 |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2022188520A JP2022188520A (ja) | 2022-12-21 |
| JP2022188520A5 true JP2022188520A5 (https=) | 2024-06-07 |
| JP7731699B2 JP7731699B2 (ja) | 2025-09-01 |
Family
ID=84296878
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2021096623A Active JP7731699B2 (ja) | 2021-06-09 | 2021-06-09 | ステージ装置、露光装置、及び物品の製造方法 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP7731699B2 (https=) |
| KR (1) | KR102910937B1 (https=) |
| CN (1) | CN115453824A (https=) |
Family Cites Families (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH03134503A (ja) * | 1989-10-20 | 1991-06-07 | Hitachi Ltd | レーザ測長器及びそれにおける空気のゆらぎの補正方法 |
| KR200211355Y1 (ko) * | 1998-06-30 | 2001-04-02 | 김영환 | 스테이지 간섭계 |
| US6417927B2 (en) | 1999-04-28 | 2002-07-09 | Zygo Corporation | Method and apparatus for accurately compensating both long and short term fluctuations in the refractive index of air in an interferometer |
| JP2000331904A (ja) * | 1999-05-17 | 2000-11-30 | Canon Inc | 露光装置およびデバイス製造方法 |
| JP2003065712A (ja) * | 2001-08-21 | 2003-03-05 | Canon Inc | レーザ干渉計測長器、露光装置、デバイス製造方法、半導体製造工場および露光装置の保守方法 |
| US6842256B2 (en) * | 2001-11-15 | 2005-01-11 | Zygo Corporation | Compensating for effects of variations in gas refractivity in interferometers |
| KR100578140B1 (ko) * | 2004-10-07 | 2006-05-10 | 삼성전자주식회사 | 변위 측정을 위한 간섭계 시스템 및 이를 이용한 노광 장치 |
| US7826063B2 (en) * | 2005-04-29 | 2010-11-02 | Zygo Corporation | Compensation of effects of atmospheric perturbations in optical metrology |
| JP5002613B2 (ja) | 2009-03-31 | 2012-08-15 | 株式会社東芝 | Xyステージ装置 |
| DE102013213525B3 (de) | 2013-07-10 | 2014-08-21 | Carl Zeiss Sms Gmbh | Verfahren zum Kalibrieren eines Positionsmeßsystems und Positionsmeßsystem |
| CN110553591B (zh) | 2018-05-31 | 2021-01-01 | 上海微电子装备(集团)股份有限公司 | 一种位移测量系统和光刻机 |
| JP7341754B2 (ja) | 2019-07-05 | 2023-09-11 | キヤノン株式会社 | 測定装置、ステージ位置決め装置、露光装置、物品の製造方法及びコンピュータプログラム |
-
2021
- 2021-06-09 JP JP2021096623A patent/JP7731699B2/ja active Active
-
2022
- 2022-05-20 KR KR1020220061730A patent/KR102910937B1/ko active Active
- 2022-06-06 CN CN202210626974.5A patent/CN115453824A/zh active Pending
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