JP2022180055A - 研磨用組成物 - Google Patents
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Abstract
Description
1.コロイダルシリカ粒子を含むコロイダルシリカと、pH調整剤と、キレート剤とを含有することを特徴とする研磨用組成物。
2.前記研磨用組成物中に存在するコロイダルシリカ粒子の並進運動を動的光散乱法によってレーザー測定することにより得られる散乱光強度の時間依存性を表すI(t)から、下記式(1)
により算出されるG2(τ)を、周波数f=1/τに変数変換することにより得られる自己相関関数G2(f)の最大値が、周波数fが0.001MHz以上1MHz以下の領域において1.40以上であることを特徴とする1に記載の研磨用組成物。
3.前記コロイダルシリカ粒子の、ガス吸着法により測定される比表面積から算出される平均一次粒子径DA1が5nm以上50nm以下であることを特徴とする1又は2に記載の研磨用組成物。
4.前記コロイダルシリカに含まれるコロイダルシリカ粒子の、動的光散乱法により測定される平均二次粒子径DA2を、前記平均一次粒子径DA1で除して求められる会合度P=DA2/DA1が1.8以下であることを特徴とする3に記載の研磨用組成物。
5.前記研磨用組成物中に存在するコロイダルシリカ粒子のゼータ電位が-40mV以上-5mV以下であることを特徴とする1~4のいずれかに記載の研磨用組成物。
6.前記研磨用組成物中に存在するコロイダルシリカ粒子の多分散指数が0.3以下であることを特徴とする1~5のいずれかに記載の研磨用組成物。
7.前記研磨用組成物中のコロイダルシリカ粒子の濃度が10質量%以上40質量%以下であることを特徴とする1~6のいずれかに記載の研磨用組成物。
8.前記研磨用組成物中のpH調整剤の濃度が0.1質量%以上10質量%以下であることを特徴とする1~7のいずれかに記載の研磨用組成物。
9.pHが8以上10.5以下であることを特徴とする1~8のいずれかに記載の研磨用組成物。
10.前記研磨用組成物中のキレート剤の濃度が0.1質量%以上10質量%以下であることを特徴とする1~9のいずれかに記載の研磨用組成物。
11.SiO2を主成分とするガラス基板の研磨用であることを特徴とする1~10のいずれかに記載の研磨用組成物。
本発明の研磨用組成物は、コロイダルシリカ粒子を含むコロイダルシリカ(コロイダルシリカ分散液)と、pH調整剤と、キレート剤とを含有する。コロイダルシリカは、コロイダルシリカ粒子(コロイド状シリカ粒子)を含む水分散液である。コロイダルシリカ粒子の合成法は特に制限されるものではないが、金属のコンタミネーションを低減する観点から、アルコキシシラン等の有機シリケート化合物等を加水分解することによって生成させた高純度のものが好ましい。コロイダルシリカとしては、市販品を使用することができる。市販のものとしては、例えば扶桑化学工業(株)製GPシリーズ、PLシリーズ、BSシリーズ等が挙げられる。
により算出されるG2(τ)を、周波数f=1/τに変数変換することにより得られる自己相関関数G2(f)の最大値が、周波数fが0.001MHz以上1MHz以下の領域において1.40以上、特に1.45以上であることが好ましい。
平均一次粒子径DA1が14nm、平均二次粒子径DA2が18nm、会合度P=DA2/DA1が1.3であるコロイダルシリカ粒子を含むコロイダルシリカに、pH調整剤としてトリエタノールアミン、キレート剤としてクエン酸を添加し、コロイダルシリカ粒子濃度が20質量%、pH調整剤濃度が0.3質量%、キレート剤濃度が0.1質量%の研磨用組成物を調製した。
により算出されるG2(τ)を、周波数f=1/τに変数変換することにより得られる自己相関関数G2(f)を求めた。結果を図1に示す。周波数fが0.001MHz以上1MHz以下の領域における、自己相関関数G2(f)の最大値は1.46であった。また、研磨用組成物中に存在するコロイダルシリカ粒子のゼータ電位は-35mV、多分散指数は0.04であり、研磨用組成物のpHは8.2であった。
pH調整剤濃度を3.0質量%、キレート剤濃度を1.0質量%とした以外は実施例1と同様にして研磨用組成物を調製した。実施例1と同様に、自己相関関数G2(f)を求めた。結果を図1に示す。周波数fが0.001MHz以上1MHz以下の領域における、自己相関関数G2(f)の最大値は1.50であった。また、研磨用組成物中に存在するコロイダルシリカ粒子のゼータ電位は-30mV、多分散指数は0.04であり、研磨用組成物のpHは8.5であった。
pH調整剤をジエタノールアミンとした以外は実施例2と同様にして研磨用組成物を調製した。実施例1と同様に、自己相関関数G2(f)を求めた。結果を図1に示す。周波数fが0.001MHz以上1MHz以下の領域における、自己相関関数G2(f)の最大値は1.46であった。また、研磨用組成物中に存在するコロイダルシリカ粒子のゼータ電位は-29mV、多分散指数は0.03であり、研磨用組成物のpHは9.4であった。
キレート剤をジエチレントリアミン五酢酸とした以外は実施例2と同様にして研磨用組成物を調製した。実施例1と同様に、自己相関関数G2(f)を求めた。結果を図1に示す。周波数fが0.001MHz以上1MHz以下の領域における、自己相関関数G2(f)の最大値は1.46であった。また、研磨用組成物中に存在するコロイダルシリカ粒子のゼータ電位は-19mV、多分散指数は0.03であり、研磨用組成物のpHは8.4であった。
pH調整剤及びキレート剤をいずれも添加せずに、平均一次粒子径DA1が14nm、平均二次粒子径DA2が18nm、会合度P=DA2/DA1が1.3であるコロイダルシリカ粒子を含むコロイダルシリカのみで、コロイダルシリカ粒子濃度が20質量%の研磨用組成物を調製した。実施例1と同様に、自己相関関数G2(f)を求めた。結果を図1に示す。周波数fが0.001MHz以上1MHz以下の領域における、自己相関関数G2(f)の最大値は1.35であった。また、研磨用組成物中に存在するコロイダルシリカ粒子のゼータ電位は-44mV、多分散指数は0.32であり、研磨用組成物のpHは7.7であった。
Claims (11)
- コロイダルシリカ粒子を含むコロイダルシリカと、pH調整剤と、キレート剤とを含有することを特徴とする研磨用組成物。
- 前記コロイダルシリカ粒子の、ガス吸着法により測定される比表面積から算出される平均一次粒子径DA1が5nm以上50nm以下であることを特徴とする請求項1又は2に記載の研磨用組成物。
- 前記コロイダルシリカに含まれるコロイダルシリカ粒子の、動的光散乱法により測定される平均二次粒子径DA2を、前記平均一次粒子径DA1で除して求められる会合度P=DA2/DA1が1.8以下であることを特徴とする請求項3に記載の研磨用組成物。
- 前記研磨用組成物中に存在するコロイダルシリカ粒子のゼータ電位が-40mV以上-5mV以下であることを特徴とする請求項1~4のいずれか1項に記載の研磨用組成物。
- 前記研磨用組成物中に存在するコロイダルシリカ粒子の多分散指数が0.3以下であることを特徴とする請求項1~5のいずれか1項に記載の研磨用組成物。
- 前記研磨用組成物中のコロイダルシリカ粒子の濃度が10質量%以上40質量%以下であることを特徴とする請求項1~6のいずれか1項に記載の研磨用組成物。
- 前記研磨用組成物中のpH調整剤の濃度が0.1質量%以上10質量%以下であることを特徴とする請求項1~7のいずれか1項に記載の研磨用組成物。
- pHが8以上10.5以下であることを特徴とする請求項1~8のいずれか1項に記載の研磨用組成物。
- 前記研磨用組成物中のキレート剤の濃度が0.1質量%以上10質量%以下であることを特徴とする請求項1~9のいずれか1項に記載の研磨用組成物。
- SiO2を主成分とするガラス基板の研磨用であることを特徴とする請求項1~10のいずれか1項に記載の研磨用組成物。
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