JP2022173120A - 基板処理装置、基板搬送方法 - Google Patents
基板処理装置、基板搬送方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2022173120A JP2022173120A JP2022075616A JP2022075616A JP2022173120A JP 2022173120 A JP2022173120 A JP 2022173120A JP 2022075616 A JP2022075616 A JP 2022075616A JP 2022075616 A JP2022075616 A JP 2022075616A JP 2022173120 A JP2022173120 A JP 2022173120A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- wafer
- load
- lock chamber
- chamber
- wafers
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000000758 substrate Substances 0.000 title claims abstract description 38
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 23
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 claims description 328
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 13
- 238000004460 liquid liquid chromatography Methods 0.000 description 160
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 19
- 230000006870 function Effects 0.000 description 11
- 230000032258 transport Effects 0.000 description 9
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 2
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 2
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 2
- 229930091051 Arenine Natural products 0.000 description 1
- 101000894590 Homo sapiens Uncharacterized protein C20orf85 Proteins 0.000 description 1
- 102100021442 Uncharacterized protein C20orf85 Human genes 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 239000000356 contaminant Substances 0.000 description 1
- 230000009977 dual effect Effects 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Chemical compound O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
- H01L21/67155—Apparatus for manufacturing or treating in a plurality of work-stations
- H01L21/67184—Apparatus for manufacturing or treating in a plurality of work-stations characterized by the presence of more than one transfer chamber
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/677—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations
- H01L21/67739—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations into and out of processing chamber
- H01L21/67745—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations into and out of processing chamber characterized by movements or sequence of movements of transfer devices
-
- G—PHYSICS
- G05—CONTROLLING; REGULATING
- G05B—CONTROL OR REGULATING SYSTEMS IN GENERAL; FUNCTIONAL ELEMENTS OF SUCH SYSTEMS; MONITORING OR TESTING ARRANGEMENTS FOR SUCH SYSTEMS OR ELEMENTS
- G05B19/00—Programme-control systems
- G05B19/02—Programme-control systems electric
- G05B19/418—Total factory control, i.e. centrally controlling a plurality of machines, e.g. direct or distributed numerical control [DNC], flexible manufacturing systems [FMS], integrated manufacturing systems [IMS] or computer integrated manufacturing [CIM]
- G05B19/41815—Total factory control, i.e. centrally controlling a plurality of machines, e.g. direct or distributed numerical control [DNC], flexible manufacturing systems [FMS], integrated manufacturing systems [IMS] or computer integrated manufacturing [CIM] characterised by the cooperation between machine tools, manipulators and conveyor or other workpiece supply system, workcell
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
- H01L21/67155—Apparatus for manufacturing or treating in a plurality of work-stations
- H01L21/67161—Apparatus for manufacturing or treating in a plurality of work-stations characterized by the layout of the process chambers
- H01L21/67167—Apparatus for manufacturing or treating in a plurality of work-stations characterized by the layout of the process chambers surrounding a central transfer chamber
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
- H01L21/67155—Apparatus for manufacturing or treating in a plurality of work-stations
- H01L21/67201—Apparatus for manufacturing or treating in a plurality of work-stations characterized by the construction of the load-lock chamber
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/677—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations
- H01L21/67739—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations into and out of processing chamber
- H01L21/67742—Mechanical parts of transfer devices
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/677—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations
- H01L21/67739—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations into and out of processing chamber
- H01L21/67748—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations into and out of processing chamber horizontal transfer of a single workpiece
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/677—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations
- H01L21/67763—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations the wafers being stored in a carrier, involving loading and unloading
- H01L21/67775—Docking arrangements
-
- G—PHYSICS
- G05—CONTROLLING; REGULATING
- G05B—CONTROL OR REGULATING SYSTEMS IN GENERAL; FUNCTIONAL ELEMENTS OF SUCH SYSTEMS; MONITORING OR TESTING ARRANGEMENTS FOR SUCH SYSTEMS OR ELEMENTS
- G05B2219/00—Program-control systems
- G05B2219/20—Pc systems
- G05B2219/26—Pc applications
- G05B2219/2602—Wafer processing
-
- G—PHYSICS
- G05—CONTROLLING; REGULATING
- G05B—CONTROL OR REGULATING SYSTEMS IN GENERAL; FUNCTIONAL ELEMENTS OF SUCH SYSTEMS; MONITORING OR TESTING ARRANGEMENTS FOR SUCH SYSTEMS OR ELEMENTS
- G05B2219/00—Program-control systems
- G05B2219/30—Nc systems
- G05B2219/45—Nc applications
- G05B2219/45032—Wafer manufacture; interlock, load-lock module
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Robotics (AREA)
- General Engineering & Computer Science (AREA)
- Quality & Reliability (AREA)
- Automation & Control Theory (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
Abstract
Description
本開示は基板処理装置と基板搬送方法に関する。
例えば真空などの圧力の低い空間で基板を処理する基板処理装置は、ロードロックチャンバを複数備えている。ロードロックチャンバは、パーティクル、水蒸気及び汚染物質がプロセスチャンバに入ることを防止するために設けられる。
一例によれば、ロードロックチャンバに空スロットがあるにもかかわらずウエハをロードロックチャンバに入れられないこと、又は、処理済のウエハを速やかにロードロックチャンバから取り出せないことは、スループットの向上を妨げる。
本開示は、上述のような課題を解決するためになされたもので、スループットを高めることができる基板処理装置と基板搬送方法を提供することを目的とする。
本開示に係る基板処理装置は、複数のロードポートと、該複数のロードポートに隣接したフロントエンドモジュールと、該フロントエンドモジュールに隣接し、複数のウエハ格納用スロットを有する第1ロードロックチャンバと、該フロントエンドモジュールに隣接し、複数のウエハ格納用スロットを有する第2ロードロックチャンバと、該第1ロードロックチャンバと該第2ロードロックチャンバに隣接したウエハハンドリングチャンバと、該フロントエンドモジュールの中にある第1ウエハ搬送装置と、該ウエハハンドリングチャンバの中にある第2ウエハ搬送装置と、プロセッサとメモリを有し、該プロセッサで該メモリに格納されたプログラムを実行すること、又は専用回路の処理により、予め定められたウエハ搬送条件を満たすか判定し、該ウエハ搬送条件が満たされた場合、該第1ロードロックチャンバと該第2ロードロックチャンバの間でウエハを移動させる指令を、ウエハ移動装置に出す、コントローラと、を備える。
本開示のその他の特徴は以下に明らかにする。
基板処理装置の基板の搬送を迅速化できる。
基板処理装置と基板搬送方法について図面を参照して説明する。同じ又は対応する構成要素には同じ符号を付し、説明の繰り返しを省略する場合がある。
実施の形態.
図1は、基板処理装置10の構成例を示す図である。この基板処理装置は、複数のロードポートを備えている。図1の例では、ロードポート12、14、16が設けられている。ここではロードポートの数を3つとしたが、2つでもよいし、4つ以上でもよい。複数のロードポート12、14、16に隣接してフロントエンドモジュール18が設けられている。フロントエンドモジュール18は、例えばFan Filter Unit(FFU)を有し、大気圧下での基板の搬送のために設けられる。フロントエンドモジュール18の中に第1ウエハ搬送装置19がある。一例によれば、第1ウエハ搬送装置19はウエハ搬送用のロボットである。ロードポート12、14、16、フロントエンドモジュール18及び第1ウエハ搬送装置19は、まとめてEquipment Front End Module (EFEM)又はエンクロージャと呼ばれる。
図1は、基板処理装置10の構成例を示す図である。この基板処理装置は、複数のロードポートを備えている。図1の例では、ロードポート12、14、16が設けられている。ここではロードポートの数を3つとしたが、2つでもよいし、4つ以上でもよい。複数のロードポート12、14、16に隣接してフロントエンドモジュール18が設けられている。フロントエンドモジュール18は、例えばFan Filter Unit(FFU)を有し、大気圧下での基板の搬送のために設けられる。フロントエンドモジュール18の中に第1ウエハ搬送装置19がある。一例によれば、第1ウエハ搬送装置19はウエハ搬送用のロボットである。ロードポート12、14、16、フロントエンドモジュール18及び第1ウエハ搬送装置19は、まとめてEquipment Front End Module (EFEM)又はエンクロージャと呼ばれる。
フロントエンドモジュール18に隣接して、第1ロードロックチャンバ(第1LLC)20と第2ロードロックチャンバ(第2LLC)30が設けられている。第1LLC20と第2LLC30は、真空装置に接続され、大気圧としたり、真空としたりすることができる。一例によれば、第1LLC20と第2LLC30は独立した2つのチャンバであり、一方から他方への気体の移動が防止されている。なお、図1ではロードロックチャンバの数を2つとしたが、3つ以上でもよい。
第1LLC20とフロントエンドモジュール(FEM)18の間にはゲートバルブ22が設けられている。第2LLC30とFEM18の間にはゲートバルブ32が設けられている。
第1LLC20と第2LLC30に隣接してウエハハンドリングチャンバ(WHC)40が設けられている。WHC40の中には第2ウエハ搬送装置41がある。一例によれば、第2ウエハ搬送装置41はウエハ搬送用のロボットである。第1LLC20とWHC40の間にはゲートバルブ24が設けられている。第2LLC30とWHC40の間にはゲートバルブ34が設けられている。WHC40には、ゲートバルブ42a、44a、46a、48aを介してそれぞれリアクタチャンバ42、44、46、48が隣接している。
WHC40は、パススルーチャンバ50を介してWHC60に接している。一例によれば、パススルーチャンバ50は、WHC60側にゲートバルブを有するアッパーパススルーチャンバと、WHC40側にゲートバルブがあるローワーパススルーチャンバを備えている。つまり、アッパーパススルーチャンバにおいても、ローワーパススルーチャンバにおいても、WHC40とWHC60の間には1つのゲートバルブがある。これにより、WHC40とWHC60の圧力を相違させることができる。
WHC60には、ゲートバルブ64a、66a、68a、70aを介してそれぞれリアクタチャンバ64、66、68、70が隣接している。一例によれば、リアクタチャンバ42、44、46、48と、リアクタチャンバ64、66、68、70は、枚葉処理でウエハにエピタキシャル成長膜を形成する装置として提供され得る。一例によれば、第2ウエハ搬送装置41と第3ウエハ搬送装置62は、縦に重ねて設けられた2つのアームを有する。アームの数は任意に変更できる。
ウエハの搬送は、コントローラ28によって制御される。一例によれば、コントローラ28は、第1ウエハ搬送装置19、第2ウエハ搬送装置41、第3ウエハ搬送装置62、及び前述の各ゲートバルブを制御して、コントロールジョブで指定されたウエハの搬送経路のとおり、ウエハを搬送する。
図1の基板処理装置10は別の構成とし得る。一例によれば、パススルーチャンバ50、WHC60及びリアクタチャンバ64、66、68、70を省略することができる。別の例によれば、枚葉処理のリアクタチャンバを、Dual Chamber Module (DCM)又はQuad Chamber Module (QCM)に置き替えたり、他のバッチ処理用チャンバに置き替えたりすることができる。
図2は、第1LLC20とその近傍の断面図である。第1LLC20は、複数のウエハ格納用スロットを有する。図2の例では、ウエハ格納用スロット20aが25個提供されている。したがって第1LLC20では最大25枚のウエハを格納できる。25個のウエハ格納用スロット20aは、軸20Aによって支持されている。この軸20Aは、例えばモータ20Bなどの駆動によって上下に昇降可能となっている。軸20Aの昇降に伴って、25個のウエハ格納用スロット20aも昇降させることができる。第1ウエハ搬送装置19又は第2ウエハ搬送装置41を用いて、ウエハを第1LLC20に入れたり、ウエハを第1LLC20から取り出したりするときには、上述の昇降機能によって任意のウエハ格納用スロット20aと、第1ウエハ搬送装置19又は第2ウエハ搬送装置41の高さを合わせる。
第2LLC30として、第1LLC20と同じ構成を採用することができる。この例では、第1LLC20と第2LLC30は両方とも複数のウエハ格納用スロットを有する。
コントローラ28による制御によって、例えば、以下のウエハ搬送が実行される。
(1)第1ウエハ搬送装置19による、ロードポート12、14、16のいずれか1つから、第1LLC20又は第2LLC30へのウエハ搬送。
(2)第2ウエハ搬送装置41による、第1LLC20又は第2LLC30から、リアクタチャンバ42、44、46、48のいずれか1つ又はパススルーチャンバ50へのウエハ搬送。
(3)第3ウエハ搬送装置62による、パススルーチャンバ50から、リアクタチャンバ64、66、68、70のいずれか1つへのウエハ搬送。
(4)第3ウエハ搬送装置62による、リアクタチャンバ64、66、68、70のいずれか1つから、パススルーチャンバ50へのウエハ搬送。
(5)第2ウエハ搬送装置41による、リアクタチャンバ42、44、46、48のいずれか1つ又はパススルーチャンバ50から、第1LLC20又は第2LLC30へのウエハ搬送。
(6)第1ウエハ搬送装置19による、第1LLC20又は第2LLC30から、ロードポート12、14、16のいずれか1つへのウエハ搬送。
(1)第1ウエハ搬送装置19による、ロードポート12、14、16のいずれか1つから、第1LLC20又は第2LLC30へのウエハ搬送。
(2)第2ウエハ搬送装置41による、第1LLC20又は第2LLC30から、リアクタチャンバ42、44、46、48のいずれか1つ又はパススルーチャンバ50へのウエハ搬送。
(3)第3ウエハ搬送装置62による、パススルーチャンバ50から、リアクタチャンバ64、66、68、70のいずれか1つへのウエハ搬送。
(4)第3ウエハ搬送装置62による、リアクタチャンバ64、66、68、70のいずれか1つから、パススルーチャンバ50へのウエハ搬送。
(5)第2ウエハ搬送装置41による、リアクタチャンバ42、44、46、48のいずれか1つ又はパススルーチャンバ50から、第1LLC20又は第2LLC30へのウエハ搬送。
(6)第1ウエハ搬送装置19による、第1LLC20又は第2LLC30から、ロードポート12、14、16のいずれか1つへのウエハ搬送。
一例によれば、これらのウエハ搬送は、コントロールジョブによって指定されたウエハ搬送経路のとおりに行われる。上述したウエハ搬送に加えて、この基板処理装置は、FLEX-LLと呼ばれる機能を有している。FLEX-LLとは、ロードロックチャンバ間でのウエハの移動を通じて、スループットを高める機能である。
図3は、FLEX-LLの実行フローチャートの例を示す図である。まず、ステップS1において、FLEX-FFの実行条件が満たされているか判定される。この実行条件は予め定められた「ウエハ搬送条件」である。ウエハ搬送条件が満たされていると判定された場合は、ステップS2に処理を進める。ステップS2では、FLEX-LLの実行を制約する条件の存否を判定する。例えば、コントロールジョブがどちらか一方のロードロックチャンバの使用を禁止しているときに、ロードロックチャンバ間で基板を移動してしまうと、コントロールジョブの指示内容に違反することとなるので、FLEX-LL機能を実行しない。ステップS2において、制約条件がないと判定されると、ステップS3にて、FLEX-LLが実行され、ロードロックチャンバ間で基板を移動させる。なお、ウエハ搬送条件が満たされたか否かの判定において、上記の制約条件も考慮することができる。
(第1の例)
図4、5A、5B、5Cは、FLEX―LLの具体例を示す図である。この例ではまず、ステップS4において、ウエハ搬送条件を満たすか判定する。この例におけるウエハ搬送条件は、第1LLC20と第2LLC30に処理が完了していないウエハがあり、かつ、複数のロードポート12、14、16のいずれか1つのロードポートに第1LLC20又は第2LLC30へ搬送すべきウエハがあること、である。
図4、5A、5B、5Cは、FLEX―LLの具体例を示す図である。この例ではまず、ステップS4において、ウエハ搬送条件を満たすか判定する。この例におけるウエハ搬送条件は、第1LLC20と第2LLC30に処理が完了していないウエハがあり、かつ、複数のロードポート12、14、16のいずれか1つのロードポートに第1LLC20又は第2LLC30へ搬送すべきウエハがあること、である。
図5Aには、このウエハ搬送条件が満たされた状態が示されている。ウエハAとはロードポート12から出て、リアクタチャンバで処理された後にロードポート12に戻るウエハである。ウエハBとはロードポート14から出て、リアクタチャンバで処理された後にロードポート14に戻るウエハである。ウエハCとはロードポート16から出て、リアクタチャンバで処理された後にロードポート16に戻るウエハである。図5Aには、リアクタチャンバで処理される前の9枚のウエハAが第1LLC20にあり、リアクタチャンバで処理される前の8枚のウエハBが第2LLC30にあり、ロードロックチャンバへの移動を予定している9枚のウエハCがロードポート16にある。コントローラ28が、この搬送条件が満たされていると判定すると、ステップS5へ処理を進める。
ステップS5では、コントローラ28が「ウエハ移動装置」に指令を出し、「ウエハ移動装置」を動作させ、第1LLC20と第2LLC30のいずれか一方にウエハがない状態とする。
図5Bには、第2LLC30の8枚のウエハBが第1LLC20へ移動されたことが示されている。このウエハの移動は「ウエハ移動装置」が行う。ウエハ移動装置は例えば第2ウエハ搬送装置41である。第2ウエハ搬送装置41によってロードロック間のウエハ移動を行う場合は、ゲートバルブ24、34を開状態とする必要がある。別の例によれば、図1に図示されたウエハ搬送装置とは異なる、LLC間のウエハの移動に特化したウエハ搬送装置を「ウエハ移動装置」とすることもできる。ステップS5の処理が終わると、図5Bに示すように、第2LLC30にはウエハがない状態となった。
一例によれば、ステップS5では、第1LLC20に格納されたウエハと第2LLC30に格納されたウエハの内、数が少ない方のウエハを移動させることができる。図5の例では、第1LLC20にウエハAが9枚格納され、第2LLC30にウエハBが8枚格納されているので、8枚のウエハBを第1LLC20に移動させた。これにより、第1LLC20の9枚のウエハAを第2LLC30へ移動させる場合と比べてウエハ搬送に要する時間を短縮できる。当然ながら、別の例によれば、ウエハ移動装置を動作させ、ウエハAを第2LLC30に移動することで、第1LLC20にウエハがない状態とすることもできる。
次いで、ステップS6に処理を進める。ステップS6では、コントローラ28は、第1ウエハ搬送装置19に指令を出し、複数のロードポートのいずれかから、第1LLC20と第2LLC30のうちウエハがない方のロードロックチャンバに、ウエハを移動させる。図5Cの例では、ロードポート16から9枚のウエハを第2LLC30へ移動させることが示されている。
図5Aに示すように、第1LLC20と第2LLC30の両方に未処理のウエハがある状態では、どちらのLLCも真空状態となっている。よって、この状態で、ロードポートからLLCへウエハを搬送するためにLLCを大気圧にすることはできない。つまり、未処理のウエハがあるLLCには、ロードポートからウエハを入れることができない。しかしながら、上述のFLEX-LLを実行して1つのLLCを空にすることで、当該空のLLCを大気圧に戻し、ウエハを搬入することができる。新たにLLCにウエハが搬入されると、そのLLCは、例えば300秒程度の時間をかけて真空まで圧力低減され、速やかにリアクタチャンバの処理を受けることができる。こうして、スループットを高めることができる。
図4、5の例は以下のようにまとめることができる。
・複数のロードポートは第1ロードポートと、第2ロードポートと、第3ロードポートを有する。
・「ウエハ搬送条件」は、第1LLC20には第1ロードポートから搬送されて処理が完了していないウエハがあり、第2LLC30には第2ロードポートから搬送されて処理が完了していないウエハがあり、かつ、第3ロードポートに第1LLC又は第2LLCへ搬送すべきウエハがあることである。
すなわち、図4、5の例では、9枚のウエハA、8枚のウエハB、9枚のウエハCがそれぞれ1つのグループを形成し、グループの単位で搬送を進めることとなる。各グループのウエハの枚数は特に限定されない。このように、ロードポートと関連付けられたウエハの単位で搬送を進めることは搬送の簡素化に寄与する。そのため、この例では、第1LLCと第2LLCの一方から他方へウエハを移動させるときには、ロードポート12に戻すべきすべてのウエハ(第1ウエハ)、ロードポート14に戻すべきすべてのウエハ(第2ウエハ)、又はロードポート16に戻すべきすべてのウエハ(第3ウエハ)を移動させる。ここで、ウエハA、B,Cのうち、どのウエハが第1LLC20に入っていてもよいし、ウエハA、B,Cのうち、どのウエハが第2LLC30に入っていてもよいし、LLCへの搬入を待っているウエハはどのロードポートにあってもよい。
・複数のロードポートは第1ロードポートと、第2ロードポートと、第3ロードポートを有する。
・「ウエハ搬送条件」は、第1LLC20には第1ロードポートから搬送されて処理が完了していないウエハがあり、第2LLC30には第2ロードポートから搬送されて処理が完了していないウエハがあり、かつ、第3ロードポートに第1LLC又は第2LLCへ搬送すべきウエハがあることである。
すなわち、図4、5の例では、9枚のウエハA、8枚のウエハB、9枚のウエハCがそれぞれ1つのグループを形成し、グループの単位で搬送を進めることとなる。各グループのウエハの枚数は特に限定されない。このように、ロードポートと関連付けられたウエハの単位で搬送を進めることは搬送の簡素化に寄与する。そのため、この例では、第1LLCと第2LLCの一方から他方へウエハを移動させるときには、ロードポート12に戻すべきすべてのウエハ(第1ウエハ)、ロードポート14に戻すべきすべてのウエハ(第2ウエハ)、又はロードポート16に戻すべきすべてのウエハ(第3ウエハ)を移動させる。ここで、ウエハA、B,Cのうち、どのウエハが第1LLC20に入っていてもよいし、ウエハA、B,Cのうち、どのウエハが第2LLC30に入っていてもよいし、LLCへの搬入を待っているウエハはどのロードポートにあってもよい。
(第2の例)
図6、7A、7B、7Cは、FLEX―LLの別の具体例を示す図である。この例ではまずステップS7において、ウエハ搬送条件を満たすか判定する。この例におけるウエハ搬送条件は、第1LLC20か第2LLC30に、処理が完了した第1ウエハと、処理が完了していない第2ウエハが混在していることである。
図6、7A、7B、7Cは、FLEX―LLの別の具体例を示す図である。この例ではまずステップS7において、ウエハ搬送条件を満たすか判定する。この例におけるウエハ搬送条件は、第1LLC20か第2LLC30に、処理が完了した第1ウエハと、処理が完了していない第2ウエハが混在していることである。
図7Aには、一例として、このウエハ搬送条件が満たされた状態が示されている。つまり、リアクタチャンバで処理された9枚のウエハA´と、処理前の9枚のウエハBが第1LLC20に格納されている。コントローラ28が、この搬送条件が満たされていると判定すると、ステップS8へ処理を進める。
ステップS8では、コントローラがウエハ移動装置に指令を出し、ウエハ移動装置を動作させ、第1LLC20と第2LLC30のいずれか一方に、ウエハA´だけがある状態とする。第1LLC20にウエハA´だけがある状態とするために、第1LLC20の9枚のウエハBをウエハ移動装置で第2LLC30へ移動する。ウエハ移動装置は、前述のとおり、第2ウエハ搬送装置41又は専用のウエハ搬送装置である。図7Bには、ウエハBが第2LLC30に移動したことが図示されている。こうして、第1LLC20にはウエハA´だけがある状態となった。この例では、コントローラはウエハ移動装置に対し指令を出しウエハ移動装置でロードロック間のウエハの移動を行う際は、ロードロック間で移動するウエハの数が最小になる移動態様を採用し得る。別の例によれば、9枚のウエハCを第1LLC20に移動させ、9枚のウエハA´を第2LLC30へ移動させることで、第2LLC30にウエハA´だけがある状態としてもよい。
次いで、ステップS9に処理を進める。ステップS9では、処理済のウエハであるウエハA´をロードポートに戻す。図7Cには、第1LLC20の9枚のウエハA´をロードポート12に戻したことが図示されている。このウエハの移動には第1ウエハ搬送装置19を利用することができる。
次いで、ステップS10に処理を進める。ステップS10では、ウエハA´を格納したフープをロードポート12から退避させる。こうして、FLEX-LLを用いることで、処理済のウエハをLLCからロードポートへ早期に移動させることができるので、LLの空スロットを増やすことができ、処理済ウエハの搬送を迅速化することができる。処理済のウエハをLLCからロードポートへ早期に移動させることは、ロードポートからLLCへの新たなウエハの投入を可能とする。
図6、7の例は以下のようにまとめることができる。
・複数のロードポートは第1ロードポートと第2ロードポートとを有する。
・「ウエハ搬送条件」は、第1LLCか第2LLCに、第1ロードポートから搬送され処理が完了した第1ウエハと、第2ロードポートから搬送され処理が完了していない第2ウエハが混在していることである。
・コントローラからウエハ移動装置に出される指令は、ウエハ移動装置を動作させ、第1LLCと第2LLCのいずれか一方に第1ウエハだけがある状態とするものである。
すなわち、図6,7の例では、9枚のウエハA´、9枚のウエハB、9枚のウエハCがそれぞれ1つのグループを形成し、グループの単位で搬送を進めることとなる。各グループのウエハの枚数は特に限定されない。このように、ロードポートと関連付けられたウエハの単位で搬送を進めることは搬送の簡素化に寄与する。ここで、未処理のウエハが1つのLLCに格納されていれば、ウエハA´、B、Cのうち、どのウエハが第1LLC20に入っていてもよいし、ウエハA´、B,Cのうち、どのウエハが第2LLC30に入っていてもよい。第2の例においても第1の例と同様に、様々な変形が可能である。例えば、処理済でロードポートへ退避させるべきウエハをウエハA´としたが、これをウエハB´、ウエハC´又は、ウエハA´、B´、C´の混合としてもよい。
・複数のロードポートは第1ロードポートと第2ロードポートとを有する。
・「ウエハ搬送条件」は、第1LLCか第2LLCに、第1ロードポートから搬送され処理が完了した第1ウエハと、第2ロードポートから搬送され処理が完了していない第2ウエハが混在していることである。
・コントローラからウエハ移動装置に出される指令は、ウエハ移動装置を動作させ、第1LLCと第2LLCのいずれか一方に第1ウエハだけがある状態とするものである。
すなわち、図6,7の例では、9枚のウエハA´、9枚のウエハB、9枚のウエハCがそれぞれ1つのグループを形成し、グループの単位で搬送を進めることとなる。各グループのウエハの枚数は特に限定されない。このように、ロードポートと関連付けられたウエハの単位で搬送を進めることは搬送の簡素化に寄与する。ここで、未処理のウエハが1つのLLCに格納されていれば、ウエハA´、B、Cのうち、どのウエハが第1LLC20に入っていてもよいし、ウエハA´、B,Cのうち、どのウエハが第2LLC30に入っていてもよい。第2の例においても第1の例と同様に、様々な変形が可能である。例えば、処理済でロードポートへ退避させるべきウエハをウエハA´としたが、これをウエハB´、ウエハC´又は、ウエハA´、B´、C´の混合としてもよい。
(第3の例)
図8A、8B、8Cは、FLEX―LLの別の具体例を示す図である。この例は第2の例と類似点が多く、フローチャートは第2の例で参照した図6と同様である。以下、第2の例との相違点を中心に説明する。第3の例は、第2の例と比べると、FLEX-LLの動作開始時に第2LLC30にウエハがない点で相違している。
図8A、8B、8Cは、FLEX―LLの別の具体例を示す図である。この例は第2の例と類似点が多く、フローチャートは第2の例で参照した図6と同様である。以下、第2の例との相違点を中心に説明する。第3の例は、第2の例と比べると、FLEX-LLの動作開始時に第2LLC30にウエハがない点で相違している。
まずステップS7にて、第1LLC20か第2LLC30に、処理が完了した第1ウエハと、処理が完了していない第2ウエハが混在しているか、確認する。図8Aには第1LLC20に、処理済の9枚のウエハA´と処理前の9枚のウエハBが格納されていることが示されている。コントローラ28が、搬送条件が満たされていると判定すると、ステップS8へ処理を進める。
次いで、ステップS8にて9枚のウエハBを第2LLC30に移動する。図8Bには、9枚のウエハBが第2LLC30に移動したことが示されている。
次いで、ステップS9にて9枚のウエハA´を第1LLC20からロードポート12へ移動させる。図8CにはウエハA´をロードポート12へ移動させたことが図示されている。
次いで、ステップS10にてロードポート12からフープを搬出する。こうして、FLEX-LLの処理によって、ウエハA´を早期にLLCからロードポートへ移動することができる。
第1-第3の例とは異なる態様でLLC間のウエハ搬送を実施して、スループット向上を実現してもよい。すなわち、FLEX-LLの機能は上述の具体例に限定されず、別の態様とすることもできる。例えば、複数のロードポートから、第1LLCと第2LLCの少なくとも一方にウエハを移動することと、第1LLCと、第2LLCの一方から他方へウエハを移動させることで、第1LLC若しくは第2LLCにウエハが無い状態とする、又は、第1LLC若しくは第2LLCに処理済のウエハだけがある状態とする、ことで、スループットの向上を可能とするあらゆる実施態様を採用することができる。
一例によれば、上述の各例で例示したウエハ搬送条件に以下の制約条件を付加することができる。
制約条件1:
ウエハの搬送経路を指定するプロセスジョブが第1LLCと第2LLCの両方の利用を許可していること。
より詳しく言えば、実行中のコントロールジョブまたはFlexLLの実行のトリガーとなるコントロールジョブは、両方のLLCが利用可能である必要があるという制約条件を付加することができる。言いかえると、ユーザが意図的にLLC1又はLLC2のいずれか一方を指定しているコントロールジョブが実行中又は実行予定である場合、FLEX-LLの機能によって、そのような指定に反することとなり得るので、FLEX-LLのウエハ搬送条件を満たさないとする。
制約条件1:
ウエハの搬送経路を指定するプロセスジョブが第1LLCと第2LLCの両方の利用を許可していること。
より詳しく言えば、実行中のコントロールジョブまたはFlexLLの実行のトリガーとなるコントロールジョブは、両方のLLCが利用可能である必要があるという制約条件を付加することができる。言いかえると、ユーザが意図的にLLC1又はLLC2のいずれか一方を指定しているコントロールジョブが実行中又は実行予定である場合、FLEX-LLの機能によって、そのような指定に反することとなり得るので、FLEX-LLのウエハ搬送条件を満たさないとする。
別の例によれば、以下の制約条件を付加することもできる。
制約条件2:
1つのコントロールジョブが複数のロードポートに属するウエハを搬送するものでないこと。
すなわち、あるロードポートから出入りするウエハと、別のロードポートから出入りするウエハを同時に搬送するコントロールジョブを扱う場合に、FLEX-LLを使おうとすると、搬送のためのロジック(演算)が複雑になるので、上記の制約条件が加えられる。
制約条件2:
1つのコントロールジョブが複数のロードポートに属するウエハを搬送するものでないこと。
すなわち、あるロードポートから出入りするウエハと、別のロードポートから出入りするウエハを同時に搬送するコントロールジョブを扱う場合に、FLEX-LLを使おうとすると、搬送のためのロジック(演算)が複雑になるので、上記の制約条件が加えられる。
別の例によれば、以下の制約条件を付加することもできる。
制約条件3:
1つのロードポートから出入りするウエハが第1LLCと第2LLCに存在しないこと。
例えばウエハAが第1LLCと第2LLCの両方に存在している場合にはFLEX―LL
のロジックが複雑になるので、そのような場合にはFLEX-LLを実行しないこととすることができる。制約条件3の変形例として、コントロールジョブによって1つのロードポートから出入りするウエハが第1LLCと第2LLCに搬送されることとなっていたときに、FLEX-LLで1つのロードポートから出入りするウエハが第1LLC又は第2LLCだけに進むようにしてもよい。
制約条件3:
1つのロードポートから出入りするウエハが第1LLCと第2LLCに存在しないこと。
例えばウエハAが第1LLCと第2LLCの両方に存在している場合にはFLEX―LL
のロジックが複雑になるので、そのような場合にはFLEX-LLを実行しないこととすることができる。制約条件3の変形例として、コントロールジョブによって1つのロードポートから出入りするウエハが第1LLCと第2LLCに搬送されることとなっていたときに、FLEX-LLで1つのロードポートから出入りするウエハが第1LLC又は第2LLCだけに進むようにしてもよい。
別の例によれば、以下の制約条件を付加することもできる。
制約条件4:
1つのLLCに1つのロードポートから出入りするウエハのみを入れることができるという条件がないこと。
例えば、あるLLCにウエハAしか入れられない場合において、ウエハAを別のLLCに移動することは好ましくないので、この制約条件を設けることができる。
制約条件4:
1つのLLCに1つのロードポートから出入りするウエハのみを入れることができるという条件がないこと。
例えば、あるLLCにウエハAしか入れられない場合において、ウエハAを別のLLCに移動することは好ましくないので、この制約条件を設けることができる。
ところで、LLC間でウエハを移動する際、移動元のLLCにあり移動対象となるウエハの枚数と、移動先のLLCのウエハの枚数の合計が25より多い場合は、LLC間のウエハ移動を完了できない。そこで、コントローラは、このような問題が生じないことを確認した上で、LLC間のウエハの移動を実行することとしてもよい。
図9は、コントローラの機能ブロック図である。コントローラ28は、FLEX-LLを実行するためのウエハ搬送条件を満たすか否かを判定するFLEX-LL条件判定部28Aを備え得る。さらに、必要に応じて、制約条件を充足するか否かを判定する制約判定部28Bを備え得る。ウエハ搬送条件に制約条件を付加しない場合は制約判定部28Bを省略することができる。条件判定部28Aと、任意で設けられた制約判定部28Bの両方において、条件を満たすと判定されると、FLEX-LL実行部28Cによって、上述したLLC間のウエハの移動を行う。
図10Aは、コントローラ28の構成例を示す図である。コントローラは、処理回路28Xを有している。コントローラ28の中で行う上述の各機能は処理回路28Xによって実現される。すなわち処理回路において、ウエハ搬送条件が満たされたか判定し、ウエハ搬送条件が満たされた場合、第1LLC20と第2LLC30の間でウエハを移動させる指令を、ウエハ移動装置に出す。処理回路28Xは専用のハードウェア(専用回路)であっても、メモリに格納されるプログラムを実行するCPU(Central Processing Unit、中央処理装置、処理装置、演算装置、マイクロプロセッサ、マイクロコンピュータ、プロセッサ、DSPともいう)であってもよい。処理回路が専用のハードウェアである場合、処理回路はたとえば、単一回路、複合回路、プログラム化したプロセッサー、並列プログラム化したプロセッサー、ASIC、FPGA、またはこれらを組み合わせたものが該当する。処理条件を満たすかの判定と、ウエハ移動装置への指令の発信は、別々の処理回路で実現してもよいし、これらをまとめて処理回路で実現してもよい。
図10Bには、処理回路がCPUの場合のコントローラ28の構成例が示されている。この場合、コントローラ28の各機能は、ソフトウェアまたはソフトウェアとファームウェアとの組み合わせにより実現される。ソフトウェア又はファームウェアはプログラムとして記述され、メモリ28CXに格納される。プロセッサ28Yはメモリ28Zに記憶されたプログラムを読み出して実行することにより各機能を実現する。図3、4、6の処理が自動で実行される。すなわち、処理回路により実行されるときに、上述の各工程が結果的に実行されることになるプログラムを格納するメモリ28Zを備える。これらのプログラムはステップS1~S3、S4~S6、S7~S10の手順及び方法をコンピュータに実行させるものであるともいえる。ここでメモリとは、例えばRAM、ROM、フラッシュメモリー、EPROM、EEPROM等の、不揮発性又は揮発性の半導体メモリ、磁気ディスク、フレキシブルディスク、光ディスク、コンパクトディスク、ミニディスク又はDVD等が該当する。当然ながら、上記各機能の一部をハードウェアで実現し、一部をソフトウェア又はファームウェアで実現するようにしてもよい。
このように上述の各機能は、プロセッサでメモリに格納されたプログラムを実行すること、又は専用回路の処理により、実行される。
上述の例では、第2ウエハ搬送装置41でウエハを第1LLC20と第2LLC30の一方から他方へ移動させることとした。しかし、LLC間のウエハの移動を専用の装置を利用して行うこともできる。図11-13にはそのような専用のウエハ搬送装置の例を示す図である。
図11は、ウエハ移動装置の構成例を示す図である。このウエハ移動装置は、ロードロック間チャンバ80、ゲートバルブ82,84、及びロードロック間ウエハ搬送装置86を備えている。ロードロック間チャンバ80は、ゲートバルブ82,84を介してそれぞれ第1LLC20と第2LLC30に通じている。ロードロック間ウエハ搬送装置86は、ロードロック間チャンバ80の中に設けられている。ロードロック間ウエハ搬送装置86は例えばウエハ搬送用のロボットである。ロードロック間ウエハ搬送装置86は、ロードロック間チャンバ80の中、第1LLCの中、又は第2LLCの中に設けることができる。FLEX―LLの機能によって、第1LLCと第2LLCの一方から他方へウエハを移動するときには、ゲートバルブ82,84を開けて、ロードロック間ウエハ搬送装置86を利用することで、当該移動を実現する。
図12は別の例に係るウエハ移動装置の構成例を示す図である。隣接して設けられた第1LLC20と第2LLC30の間にゲートバルブ90が設けられている。このゲートバルブ90を開けると第1LLC20と第2LLC30がつながり、ゲートバルブ90を閉じると第1LLC20-第2LLC30間の気体、物の移動が遮断される。この例では、ウエハ移動装置91が第2LLC30の中に設けられている。ウエハ移動装置91は、ゲートバルブ90が開状態のときにウエハを第1LLC20と第2LLC30の一方から他方へ移動させるロボット、アーム又はベルトコンベアである。ウエハ移動装置91を第1LLC20の中に設けることもできる。この例では、ベルトコンベア型のウエハ移動装置91が図示されている。
図13は、ウエハ移動装置91によるウエハの移動方法を説明する図である。ゲートバルブ90が開状態のときに、ウエハ移動装置91をX-Y平面で回転させることで、ウエハ移動装置がウエハ移動方向、すなわちX方向に長く伸びた状態とする。この状態で、ウエハ移動装置91のベルトを駆動させることで、第1LLC20と第2LLC30の一方から他方へウエハを移動させる。
図11-13に例示したように、専用のウエハ移動装置を設けることで、LLC間のウエハ移動中において第2ウエハ搬送装置41を別用途に利用することができるので、さらなるスループットの改善が期待できる。また、専用のウエハ移動装置を設けることは、ゲートバルブ24、34を開けることなく、LLC間でのウエハの移動を可能とする。
10 基板処理装置、 12,14,16 ロードポート、 18 フロントエンドモジュール、 19 第1ウエハ搬送装置、 20 第1LLC、 28 コントローラ、 30 第2LLC、 40 WHC、 86 ロードロック間ウエハ搬送装置、 90 ゲートバルブ
Claims (15)
- 複数のロードポートと、
前記複数のロードポートに隣接したフロントエンドモジュールと、
前記フロントエンドモジュールに隣接し、複数のウエハ格納用スロットを有する第1ロードロックチャンバと、
前記フロントエンドモジュールに隣接し、複数のウエハ格納用スロットを有する第2ロードロックチャンバと、
前記第1ロードロックチャンバと前記第2ロードロックチャンバに隣接したウエハハンドリングチャンバと、
前記フロントエンドモジュールの中にある第1ウエハ搬送装置と、
前記ウエハハンドリングチャンバの中にある第2ウエハ搬送装置と、
プロセッサとメモリを有し、前記プロセッサで前記メモリに格納されたプログラムを実行すること、又は専用回路の処理により、予め定められたウエハ搬送条件を満たすか判定し、前記ウエハ搬送条件が満たされた場合、前記第1ロードロックチャンバと前記第2ロードロックチャンバの間でウエハを移動させる指令を、ウエハ移動装置に出す、コントローラと、を備えたことを特徴とする基板処理装置。 - 前記ウエハ搬送条件は、前記第1ロードロックチャンバと前記第2ロードロックチャンバに処理が完了していないウエハがあり、かつ、前記複数のロードポートのいずれか1つのロードポートに前記第1ロードロックチャンバ又は前記第2ロードロックチャンバへ搬送すべきウエハがあることであり、
前記指令は、前記ウエハ移動装置を動作させ、前記第1ロードロックチャンバと前記第2ロードロックチャンバのいずれか一方にウエハがない状態とする、請求項1に記載の基板処理装置。 - 前記複数のロードポートは第1ロードポートと、第2ロードポートと、第3ロードポートを有し、
前記ウエハ搬送条件は、前記第1ロードロックチャンバには前記第1ロードポートから搬送されて処理が完了していないウエハがあり、前記第2ロードロックチャンバには前記第2ロードポートから搬送されて処理が完了していないウエハがあり、かつ、前記第3ロードポートに前記第1ロードロックチャンバ又は前記第2ロードロックチャンバへ搬送すべきウエハがあることであり、
前記指令は、前記ウエハ移動装置を動作させ、前記第1ロードロックチャンバと前記第2ロードロックチャンバのいずれか一方にウエハがない状態とする、請求項1に記載の基板処理装置。 - 前記プログラムが前記プロセッサによって実行され、又は前記専用回路の処理が実行されると、前記コントローラは、前記第1ウエハ搬送装置に指令を出し、前記複数のロードポートのいずれかから、前記第1ロードロックチャンバと前記第2ロードロックチャンバのうちウエハがない方のロードロックチャンバに、ウエハを移動させる、請求項2に記載の基板処理装置。
- 前記指令は、前記ウエハ移動装置を動作させ、前記第1ロードロックチャンバに格納されたウエハと前記第2ロードロックチャンバに格納されたウエハの内、数が少ない方のウエハを移動させる、請求項2に記載の基板処理装置。
- 前記ウエハ搬送条件は、前記第1ロードロックチャンバか前記第2ロードロックチャンバに、処理が完了した第1ウエハと、処理が完了していない第2ウエハが混在していることであり、
前記指令は、前記ウエハ移動装置を動作させ、前記第1ロードロックチャンバと前記第2ロードロックチャンバのいずれか一方に前記第1ウエハだけがある状態とする、請求項1に記載の基板処理装置。 - 前記複数のロードポートは第1ロードポートと、第2ロードポートと、を有し、
前記ウエハ搬送条件は、前記第1ロードロックチャンバか前記第2ロードロックチャンバに、前記第1ロードポートから搬送され処理が完了した第1ウエハと、前記第2ロードポートから搬送され処理が完了していない第2ウエハが混在していることであり、
前記指令は、前記ウエハ移動装置を動作させ、前記第1ロードロックチャンバと前記第2ロードロックチャンバのいずれか一方に前記第1ウエハだけがある状態とする、請求項1に記載の基板処理装置。 - 前記指令は、前記ウエハ移動装置を動作させ、前記第1ウエハと前記第2ウエハの内、数が少ない方のウエハを移動させる、請求項7に記載の基板処理装置。
- 前記ウエハ搬送条件は、ウエハの搬送経路を指定するプロセスジョブが前記第1ロードロックチャンバと前記第2ロードロックチャンバの利用を許可していることを含む請求項1に記載の基板処理装置。
- 前記ウエハ移動装置は、前記第2ウエハ搬送装置である請求項1に記載の基板処理装置。
- 前記ウエハ移動装置は、
ゲートバルブを介して前記第1ロードロックチャンバと前記第2ロードロックチャンバに通じるロードロック間チャンバと、
前記ロードロック間チャンバの中、前記第1ロードロックチャンバの中、又は前記第2ロードロックチャンバの中にあるロードロック間ウエハ搬送装置と、を有する請求項1に記載の基板処理装置。 - 隣接して設けられた前記第1ロードロックチャンバと前記第2ロードロックチャンバの間にあるゲートバルブを備え、
前記ウエハ移動装置は、前記ゲートバルブが開状態のときにウエハを前記第1ロードロックチャンバと前記第2ロードロックチャンバの一方から他方へ移動させるロボット、アーム又はベルトコンベアである請求項1に記載の基板処理装置。 - 前記ウエハハンドリングチャンバに接した複数のリアクタチャンバを備えた請求項1に記載の基板処理装置。
- 複数のロードポートから、第1ロードロックチャンバと第2ロードロックチャンバの少なくとも一方にウエハを移動することと、
前記第1ロードロックチャンバと、前記第2ロードロックチャンバの一方から他方へウエハを移動させることで、前記第1ロードロックチャンバ若しくは前記第2ロードロックチャンバにウエハが無い状態とする、又は、前記第1ロードロックチャンバ若しくは前記第2ロードロックチャンバに処理済のウエハだけがある状態とする、ことと、を備えた基板搬送方法。 - 前記複数のロードポートは、第1ウエハが関連付けられた第1ロードポートと、第2ウエハが関連付けられた第2ロードポートと、第3ウエハが関連付けられた第3ロードポートとを備え、
前記第1ロードロックチャンバと、前記第2ロードロックチャンバの一方から他方へウエハを移動させるときには、すべての前記第1ウエハ、すべての前記第2ウエハ、又はすべての前記第3ウエハを移動させる請求項14に記載の基板搬送方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US202163185997P | 2021-05-07 | 2021-05-07 | |
US63/185997 | 2021-05-07 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2022173120A true JP2022173120A (ja) | 2022-11-17 |
Family
ID=83855068
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2022075616A Pending JP2022173120A (ja) | 2021-05-07 | 2022-04-29 | 基板処理装置、基板搬送方法 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20220359241A1 (ja) |
JP (1) | JP2022173120A (ja) |
KR (1) | KR20220152152A (ja) |
CN (1) | CN115312423A (ja) |
TW (1) | TW202310124A (ja) |
-
2022
- 2022-04-29 JP JP2022075616A patent/JP2022173120A/ja active Pending
- 2022-05-03 KR KR1020220054844A patent/KR20220152152A/ko unknown
- 2022-05-03 TW TW111116629A patent/TW202310124A/zh unknown
- 2022-05-04 US US17/736,691 patent/US20220359241A1/en active Pending
- 2022-05-07 CN CN202210492097.7A patent/CN115312423A/zh active Pending
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR20220152152A (ko) | 2022-11-15 |
US20220359241A1 (en) | 2022-11-10 |
TW202310124A (zh) | 2023-03-01 |
CN115312423A (zh) | 2022-11-08 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR100847888B1 (ko) | 반도체 소자 제조 장치 | |
JP5187274B2 (ja) | 基板処理装置、基板処理方法及び記憶媒体 | |
KR101447985B1 (ko) | 진공 처리 장치 및 피처리체의 반송 방법 | |
JPH04190840A (ja) | 真空処理装置 | |
JP2009021275A (ja) | 基板処理装置 | |
JP2007149948A (ja) | 真空処理装置 | |
KR20100129211A (ko) | 기판 처리 장치, 기판 처리 방법 및 기억 매체 | |
JP4334817B2 (ja) | 基板処理装置及び基板処理方法 | |
JP4957426B2 (ja) | 塗布、現像装置及び塗布、現像装置の運転方法並びに記憶媒体 | |
JP2022173120A (ja) | 基板処理装置、基板搬送方法 | |
JPH1092900A (ja) | 真空処理装置 | |
KR20210010947A (ko) | 감소된 풋프린트 웨이퍼 핸들링 플랫폼 | |
JPH04137613A (ja) | 半導体装置の製造装置 | |
JP5348290B2 (ja) | 基板処理装置、基板処理方法及び記憶媒体 | |
TWI558636B (zh) | 晶圓運輸方法 | |
JPH04271139A (ja) | 半導体製造装置 | |
JP7324811B2 (ja) | 基板処理装置、半導体装置の製造方法、及びプログラム | |
US11823932B2 (en) | Substrate processing system and substrate processing apparatus | |
KR102640519B1 (ko) | 반도체 제조 장치, 기판 반송 방법 및 프로그램 | |
US11735455B2 (en) | Systems, devices, and methods for air flow optimization including adjacent a FOUP | |
US20240222156A1 (en) | Substrate treating apparatus and semiconductor manufacturing equipment including the same | |
JP4657528B2 (ja) | 処理システムおよび処理方法 | |
JP2024020926A (ja) | 基板処理装置、半導体装置の製造方法及びプログラム | |
JP2982039B2 (ja) | 処理方法及びその処理装置 | |
JP2024080615A (ja) | 搬送モジュールおよび搬送方法 |