JP2022139532A - 磁性基体、コイル部品及び回路基板 - Google Patents

Abstract

【課題】金属磁性粒子で構成された、電気的絶縁性に優れる磁性基体、コイル部品及び回路基板を提供する。【解決手段】磁性基体１０は、Ｆｅ及び任意成分としてのＳｉを含み、ＦｅとＳｉとの合計含有量が９９質量％以上である金属磁性粒子１並びに金属磁性粒子１間に存在する酸化物層２で形成され、ＣｕＫα線を用いたエックス線回折測定において、４３．８°≦２θ≦４５．２°の範囲内に観測される最強回折線強度（ＩＦｅ）に対する、３０．８°≦２θ≦３２．２°の範囲内に観測される最強回折線強度（ＩＦｅ２ＳｉＯ４）の比（ＩＦｅ２ＳｉＯ４／ＩＦｅ）が０．００２０以上であると共に、ＣｕＫα線を用いたエックス線回折測定において、前記ＩＦｅに対する、３３．０°≦２θ≦３４．４°の範囲内に観測される最強回折線強度（ＩＦｅ２Ｏ３）の比（ＩＦｅ２Ｏ３／ＩＦｅ）が０．００１０未満である。【選択図】図１

Description

本発明は、磁性基体、コイル部品及び回路基板に関する。

近年、携帯電話を初めとする高周波通信用システムにおいて、小型化・高性能化を促進するために、内部に搭載される電子部品にも小型化・高性能化が求められている。インダクタなどのコイル部品に関しては、高性能化の一つの指針として、大電流化が挙げられる。こうした小型化・大電流化の要求を満たすために、コイル部品に使用される磁性基体として、フェライト材料よりも磁気飽和しにくい金属磁性材料で形成されたものが使用され始めている。

金属磁性材料の使用に際しては、その電気的絶縁性がフェライト材料よりも劣ることから、磁性基体の電気的絶縁性を十分なものとするために、金属磁性材料で形成された粒子の表面に絶縁層を形成し、該粒子同士を電気的に絶縁することが多い。

例えば、特許文献１では、質量百分率でＦｅ－３．５％Ｓｉ－４．０％Ｃｒである軟磁性合金粉を構成する金属磁性粒子の表面にＳｉ化合物を配置し、成形後に大気中で熱処理することによって金属磁性粒子同士を絶縁性の酸化物相を介して結合させている。

また、特許文献２では、Ｆｅ－Ｓｉ－Ｃｒ（Ｆｅ：９５ｗｔ％、Ｓｉ：３．５％、Ｃｒ：１．５ｗｔ％）の組成を有する軟磁性金属粒子を成形し、大気雰囲気及び酸素濃度が３ｐｐｍ以下の極低酸素濃度雰囲気を含む、異なる酸素濃度を有する雰囲気において熱処理を行って、マグネタイトとヘマタイトとを特定の比率で含む高絶縁性の磁性基体を得ている。

特開２０１５－１２６０４７号公報 特開２０２０－５３５４２号公報

特許文献１のように、大気等の高酸素濃度雰囲気中での熱処理により絶縁層を形成した場合には、金属磁性粒子を構成する成分の酸化反応が活発に起こり、金属磁性粒子間の酸化物量が多くなる傾向にある。その結果、磁性基体中の金属磁性粒子の割合が減少し、比透磁率等の磁気的特性が低下することがあった。

また、特許文献２のように、金属磁性粒子（軟磁性金属粒子）間を、マグネタイトとヘマタイトとを含む絶縁膜にて電気的に絶縁した場合には、電気的絶縁性が高いとされるヘマタイトの割合が比較的高い磁性基体においても、体積抵抗率が低くなることがあった。

そこで本発明は、金属磁性粒子で構成された、電気的絶縁性に優れる磁性基体の提供を目的とする。

本発明者は、前述の問題点を解決するために種々の検討を行ったところ、含有するＦｅ及びＳｉの割合が大きい金属磁性粒子と樹脂とで構成される成形体に対して、大気よりも酸素濃度の低い酸素含有雰囲気中で脱脂処理を行った後、酸素の実質存在しない雰囲気中での熱処理を施すことで、ＣｕＫα線を用いたエックス線回折測定において、３０．８°≦２θ≦３２．２°の範囲にピークが観測され、かつ３３．０°≦２θ≦３４．４°の範囲にピークが観測されない磁性基体が得られ、これにより前述の問題点を解決できることを見出し、本発明を完成するに至った。

すなわち、前記課題を解決するための本発明の第１の側面は、Ｆｅ及び任意成分としてのＳｉを含み、前記Ｆｅと前記Ｓｉとの合計含有量が９９質量％以上である金属磁性粒子、並びに前記金属磁性粒子間に存在する酸化物層で形成され、ＣｕＫα線を用いたエックス線回折測定において、４３．８°≦２θ≦４５．２°の範囲内に観測される最強回折線強度（Ｉ_Ｆｅ）に対する、３０．８°≦２θ≦３２．２°の範囲内に観測される最強回折線強度（Ｉ_{Ｆｅ２ＳｉＯ４}）の比（Ｉ_{Ｆｅ２ＳｉＯ４}／Ｉ_Ｆｅ）が０．００２０以上であると共に、ＣｕＫα線を用いたエックス線回折測定において、前記Ｉ_Ｆｅに対する、３３．０°≦２θ≦３４．４°の範囲内に観測される最強回折線強度（Ｉ_{Ｆｅ２Ｏ３}）の比（Ｉ_{Ｆｅ２Ｏ３}／Ｉ_Ｆｅ）が０．００１０未満である磁性基体である。

また、本発明の第２の側面は、前述した第１の側面に係る磁性基体を備えるコイル部品である。

さらに、本発明の第３の側面は、前述した第２の側面に係るコイル部品を搭載した回路基板である。

本発明によれば、金属磁性粒子で構成された、電気的絶縁性に優れる磁性基体を提供することができる。

本発明の第１側面に係る磁性基体の構造を示す模式図 本発明の第１側面に係る磁性基体において、金属磁性粒子の組成及び酸化物層中のＦｅに対するＳｉのモル比（Ｓｉ／Ｆｅ）の分布を決定する方法を示す説明図 本発明の第１側面に係る磁性基体における酸化物層の好ましい構造を示す模式図 本発明の第２側面に係るコイル部品のうち、巻線コイル部品の構造例の説明図（（ａ）：全体斜視図、（ｂ）：（ａ）におけるＣ－Ｃ断面図） 本発明の第２側面に係るコイル部品のうち、コンポジットコイル部品の構造例の説明図 本発明の第２側面に係るコイル部品のうち、積層コイル部品の構造例の説明図（（ａ）：全体斜視図、（ｂ）：（ａ）におけるＤ－Ｄ断面図） 本発明の第２側面に係るコイル部品のうち、薄膜コイル部品の構造例の説明図

以下、図面を参照しながら、本発明の構成及び作用効果について、技術的思想を交えて説明する。但し、作用機構については推定を含んでおり、その正否は、本発明を制限するものではない。

［磁性基体］
図１に模式的に示すように、本発明の第１の側面に係る磁性基体１０（以下、単に「第１側面」と記載することがある。）は、Ｆｅ及び任意成分としてのＳｉを含み、前記Ｆｅと前記Ｓｉとの合計含有量が９９質量％以上である金属磁性粒子１、及び前記金属磁性粒子１間に存在する酸化物層２で形成される。

金属磁性粒子１は、必須成分としてＦｅを含む。金属磁性粒子１がＦｅを含むことで、磁性基体１０を透磁率及び飽和磁束密度の高いものとすることができる。金属磁性粒子１中のＦｅの含有量は、所期の特性の磁性基体１０が得られるものであれば特に限定されない。Ｆｅの含有量が多いほど、大きな透磁率及び飽和磁束密度が得られることから、Ｆｅの含有量は、９０質量％以上であることが好ましく、９３質量％以上であることがより好ましく、９５質量％以上であることがさらに好ましい。他方、Ｆｅの酸化や渦電流の発生に起因する磁気特性の低下を抑制する点からは、Ｆｅの含有量は、９９質量％以下とすることが好ましく、９８質量％以下とすることがより好ましい。

また、金属磁性粒子１は、任意成分としてＳｉを含んでもよい。金属磁性粒子１がＳｉを含むことで、電気抵抗が高くなり、渦電流による磁気特性の低下を抑制することができる。金属磁性粒子１がＳｉを含む場合、その含有量は、所期の特性の磁性基体１０が得られるものであれば特に限定されない。渦電流の抑制効果を十分に発揮する点からは、Ｓｉの含有量は１質量％以上であることが好ましく、１．５質量％以上であることがより好ましい。他方、金属磁性粒子１中のＦｅの含有量を多くして優れた磁気特性を得る点からは、Ｓｉの含有量は７質量％以下であることが好ましく、５質量％以下であることがより好ましい。

金属磁性粒子１は、必須成分であるＦｅと、任意成分であるＳｉとの合計含有量が９９質量％以上である。ここで、前記合計含有量は、金属元素及びＳｉの合計質量に対する百分率を意味する。ＦｅとＳｉとが、金属磁性粒子１を構成する金属元素及びＳｉの９９質量％以上を占めることで、磁性基体１０を磁気特性に優れるものとすることができる。この点からは、ＦｅとＳｉとの合計含有量は、９９．５質量％以上であることが好ましい。ＦｅとＳｉとの合計含有量の上限値は限定されず、１００質量％、すなわちＦｅのみ、又はＦｅとＳｉとから実質的になるものであってもよい。ここで、「Ｆｅのみ、又はＦｅとＳｉとから実質的になる」とは、Ｆｅ粉及びＦｅ－Ｓｉ粉として通常入手可能な純度の原料中に含まれるＦｅ及びＳｉ以外の成分（不純物）、並びに通常の磁性基体の製造工程において混入し得る不純物の合計量を超える量の不純物を含まない意味である。また、ＦｅとＳｉとの合計含有量は、後述する方法にて測定・算出される質量割合を意味する。ただし、磁性基体１０の製造に使用する金属磁性粉末の組成が、その製造業者等が行う信頼できる精度の分析結果に基づいて報告されており、かつ磁性基体１０の製造工程において金属磁性粉末を構成する各金属磁性粒子１内部の組成が変動しない場合には、前記報告されている組成を金属磁性粒子１の組成としてもよい。なお、通常採用される磁性基体１０の製造工程においては、金属磁性粒子１内部の組成は、原料として用いる金属磁性粉末の組成に一致する。

金属磁性粒子１は、本発明の目的を達成できる範囲で、Ｆｅ及びＳｉ以外の元素を含有してもよい。この場合、Ｆｅ及びＳｉ以外の元素の質量割合は、Ｓｉの質量割合よりも低いことが、優れた磁気的特性を得る点で好ましい。含有することができる元素としては、Ｃｒ、Ａｌ、Ｎｉ、Ｔｉ及びＺｒ等が例示される。

磁性基体１０中では、隣接する金属磁性粒子１の間に酸化物層２が存在する。この酸化物層２によって、隣接する金属磁性粒子１同士が電気的に絶縁される。また、酸化物層２は、金属磁性粒子１同士を接合することで、磁性基体１０の形状の保持及び機械的強度の発現に寄与する。

酸化物層２は、Ｆｅに対するＳｉのモル比（Ｓｉ／Ｆｅ）が２以上である第１領域２ａ、及び前記モル比（Ｓｉ／Ｆｅ）が１以下である第２領域２ｂを有することが好ましい。このことにより、磁性基体１０の電気的絶縁性がさらに向上する。第１領域におけるＳｉ／Ｆｅの上限値、及び第２領域におけるＳｉ／Ｆｅの下限値はいずれも限定されないが、通常採用される製造工程を経て得られた磁性基体１０においては、第１領域におけるＳｉ／Ｆｅは概ね４以下、第２領域におけるＳｉ／Ｆｅは概ね０．３以上となる。酸化物層２が第１領域２ａ及び第２領域２ｂを含むことで、優れた電気的絶縁性が発現する理由は明らかでないが、以下の作用機序によるものと考えられる。

第１領域２ａでは、Ｓｉの含有割合の高い、絶縁性に優れる酸化物の存在により、体積抵抗率が極めて高くなる。磁性基体１０の電気抵抗は、金属磁性粒子１の抵抗、第１領域２ａの抵抗及び第２領域２ｂの抵抗を直列接続したものと解される。このため、体積抵抗率の極めて高い第１領域２ａの存在は、磁性基体１０全体の電気抵抗の向上に寄与する。すなわち、酸化物層２中に前記モル比（Ｓｉ／Ｆｅ）の差が存在することで生じる局所的な電気的絶縁性の向上が、磁性基体１０全体に波及し、前記モル比（Ｓｉ／Ｆｅ）が一定の場合に発現する電気的絶縁性を超えるものとなる。電気的絶縁性の向上効果が顕著に得られる点からは、前記第１領域２ａにおいて、前記モル比（Ｓｉ／Ｆｅ）が３以上となる部分が存在することがより好ましい。

酸化物層２が第１領域２ａ及び第２領域２ｂを有する場合、図３に示すように、第１領域２ａは、第２領域２ｂを挟んで存在することがより好ましい。このことにより、酸化物層２中の体積抵抗率の極めて高い領域の割合が高まり、磁性基体１０の電気的絶縁性が一層向上する。

ここで、前述した金属磁性粒子１の組成、並びに酸化物層２における第１領域２ａ及び第２領域２ｂの有無を判定するための、Ｆｅに対するＳｉのモル比（Ｓｉ／Ｆｅ）の分布はそれぞれ、以下の手順により決定する。

まず、磁性基体１０の中央部から、集束イオンビーム装置（ＦＩＢ）を用いて、厚さ５０ｎｍから１００ｎｍ程度の薄片試料を取り出した後、直ちに環状暗視野検出器及びエネルギー分散型Ｘ線分光（ＥＤＳ）検出器を搭載した走査型透過電子顕微鏡（ＳＴＥＭ）内に配置する。次いで、薄片試料のＳＴＥＭ観察を行い、コントラスト（明度）の差異に基づいて、図２に模式的に示すような、金属磁性粒子１同士が酸化物層２を介して接している粒子境界部を特定する。次いで、特定された粒子境界部について、一方の金属磁性粒子１内の任意の点Ａから、酸化物層２を通って他方の金属磁性粒子１内の任意の点Ｂへと至る線分ＡＢに沿って、ＥＤＳにより線分析を行う。ＥＤＳの測定条件は、加速電圧を２００ｋＶ、電子ビーム径を１．０ｎｍとし、金属磁性粒子１内の各点における６．２２ｋｅＶから６．５８ｋｅＶの範囲の信号強度の積算値が２５カウント以上となるように測定時間を設定する。また、測定点の間隔は、酸化物層２における測定点数が１０点以上となるように設定する。次いで、検出された各金属元素の特性Ｘ線のうち最大強度を示したものの信号強度の合計（Ｉ_{Ｍ（ｔｏｔａｌ）}）に対する、ＯＫα線の信号強度（Ｉ_ＯＫα）の比（Ｉ_ＯＫα／Ｉ_{Ｍ（ｔｏｔａｌ）}）を、各測定点について算出する。例えば、金属元素としてＦｅ及びＣｒが検出された場合には、Ｆｅの特性Ｘ線のうち最大強度を示すＫα線の信号強度（Ｉ_ＦｅＫα）、及びＣｒの特性Ｘ線のうち最大強度を示すＫα線の信号強度（Ｉ_ＣｒＫα）の合計に対するＯＫα線の信号強度の比（Ｉ_ＯＫα／（Ｉ_ＦｅＫα＋Ｉ_ＣｒＫα））を、Ｉ_ＯＫα／Ｉ_{Ｍ（ｔｏｔａｌ）}として算出する。そして、この値が０．５以上である領域を酸化物層２とし、該値が０．５未満である領域を金属磁性粒子１とする。次いで、金属磁性粒子１とした領域について、各測定点における元素の割合を質量％で算出し、該各元素の含有割合の変動が±１質量％以内となる連続する３測定点のうち、酸化物層２に最も近いものについて、各元素の含有割合の平均値を算出し、これを金属磁性粒子１の組成とする。また、酸化物層２とした領域に位置する各測定点につき、各元素の原子割合（ａｔ％）及びこれに基づくＦｅに対するＳｉのモル比（Ｓｉ／Ｆｅ）をそれぞれ算出することで、酸化物層２中のＳｉ／Ｆｅの分布を得る。

磁性基体１０は、ＣｕＫα線を用いたエックス線回折測定において、４３．８°≦２θ≦４５．２°の範囲内に観測される最強回折線強度（Ｉ_Ｆｅ）に対する、３０．８°≦２θ≦３２．２°の範囲内に観測される最強回折線強度（Ｉ_{Ｆｅ２ＳｉＯ４}）の比（Ｉ_{Ｆｅ２ＳｉＯ４}／Ｉ_Ｆｅ）が０．００２０以上であると共に、４３．８°≦２θ≦４５．２°の範囲内に観測される最強回折線強度Ｉ_Ｆｅに対する、３３．０°≦２θ≦３４．４°の範囲内に観測される最強回折線強度Ｉ_{Ｆｅ２Ｏ３}の比（Ｉ_{Ｆｅ２Ｏ３}／Ｉ_Ｆｅ）が０．００１０未満である。なお、Ｉ_{Ｆｅ２Ｏ３}／Ｉ_Ｆｅの値が０．００１０未満であると、３３．０°≦２θ≦３４．４°の範囲内に観測される回折線強度（Ｉ_{Ｆｅ２Ｏ３}）はノイズレベルとなり、エックス線回折パターンにおいて、ピークとしては認識されないことが通常である。Ｆｅ_２ＳｉＯ_４の最強回折線は、３０．８°≦２θ≦３２．２°の範囲内に観測される。このため、Ｉ_{Ｆｅ２ＳｉＯ４}／Ｉ_Ｆｅが０．００２０以上であることは、Ｆｅ_２ＳｉＯ_４の最強回折線がピークとして出現しており、磁性基体１０がＦｅ_２ＳｉＯ_４を含むことを意味する。他方、Ｆｅ_２Ｏ_３の最強回折線は、３３．０°≦２θ≦３４．４°の範囲内に観測される。このため、Ｉ_{Ｆｅ２Ｏ３}／Ｉ_Ｆｅが０．００１０未満であることは、Ｆｅ_２Ｏ_３の最強回折線がピークとして出現しておらず、磁性基体１０がＦｅ_２Ｏ_３を殆ど含まないことを意味する。

Ｉ_{Ｆｅ２ＳｉＯ４}／Ｉ_Ｆｅ及びＩ_{Ｆｅ２Ｏ３}／Ｉ_Ｆｅが前述の範囲にあることで、磁性基体１０が電気的絶縁性に優れたものとなる。この理由は明らかでないが、以下の作用機序によるものと考えられる。

磁性基体１０中の酸化物層２にＦｅの酸化物が含まれる場合、ヘマタイト（Ｆｅ_２Ｏ_３）及びマグネタイト（Ｆｅ_３Ｏ_４）の共存状態となることが多い。ヘマタイト中では、Ｆｅの価数は＋３価で安定であるため、ヘマタイトが単独で存在する場合には、Ｆｅの価数変動に伴う電子伝導は殆ど起こらない。ところが、ヘマタイトがマグネタイトと共存する場合には、Ｆｅが＋２価及び＋３価で存在するマグネタイトの影響で、ヘマタイトにおいてもＦｅの価数変動が誘起され、電子伝導に伴う絶縁性の低下が生じる。これが、上述した、ヘマタイトの含有割合が比較的高い磁性基体１０において体積抵抗率が低くなる原因と推測される。これに対し、Ｉ_{Ｆｅ２ＳｉＯ４}／Ｉ_Ｆｅが大きく、かつＩ_{Ｆｅ２Ｏ３}／Ｉ_Ｆｅが小さい磁性基体１０の酸化物層２においては、Ｆｅは、Ｓｉと共に鉄カンラン石（Ｆｅ_２ＳｉＯ_４）を形成し、ヘマタイトやマグネタイト等の単独の酸化物としては殆ど存在しない。このため、前述したＦｅの価数変動とこれに伴う電子伝導が生じず、高い電気的絶縁性が達成できる。なお、ＣｕＫα線を用いたエックス線回折測定において、４３．８°≦２θ≦４５．２°の範囲内に観測される最強回折線強度Ｉ_Ｆｅは、金属磁性粒子１の主成分であるα－Ｆｅの最強回折線強度に相当する。また、３０．８°≦２θ≦３２．２°の範囲内に観測される最強回折線強度Ｉ_{Ｆｅ２ＳｉＯ４}、及び３３．０°≦２θ≦３４．４°の範囲内に観測される最強回折線強度Ｉ_{Ｆｅ２Ｏ３}はそれぞれ、鉄カンラン石及びヘマタイトの最強回折線強度に相当する。Ｉ_Ｆｅは、酸化物層２を構成する酸化物の種類及び含有割合の影響を殆ど受けないことから、これに対するＩ_{Ｆｅ２ＳｉＯ４}及びＩ_{Ｆｅ２Ｏ３}それぞれの比の値により、酸化物層２に含まれる鉄カンラン石及びヘマタイトの割合を、ある程度の定量性をもって求めることができる。

前記Ｉ_{Ｆｅ２ＳｉＯ４}／Ｉ_Ｆｅの値は、０．００２５以上であることが、磁性基体１０の電気的絶縁性がより優れたものとなる点で好ましい。また、前記Ｉ_{Ｆｅ２ＳｉＯ４}／Ｉ_Ｆｅの値は、０．００３２以上であることが、磁性基体１０の機械的強度が顕著に大きくなる点で好ましい。前記Ｉ_{Ｆｅ２ＳｉＯ４}／Ｉ_Ｆｅの上限値は限定されないが、前述した第１領域２ａの割合を高めてより優れた電気的絶縁性を達成する点からは、０．００３５以下であることが好ましい。

ここで、前述したＩ_{Ｆｅ２ＳｉＯ４}／Ｉ_Ｆｅ及びＩ_{Ｆｅ２Ｏ３}／Ｉ_Ｆｅの値は、以下の手順で測定・算出する。まず、磁性基体１０が、表面に内部と材質が異なる部分、例えば樹脂などの異物、が存在せず、かつ表面が平面となっているものである場合には、該平面内を測定対象領域とする。他方、磁性基体１０の表面に異物が存在する場合や、表面に十分な面積の平面部分が存在しない場合には、研磨、切断等により平面を露出させ、該平面内を測定対象領域とする。次いで、測定対象領域について、エックス線回折装置（株式会社リガク製、ＲＩＮＴ－２５００ＨＫ）にて、光源にＣｕＫα線を用い、印加電圧５０ｋＶ、スキャンスピード１°／分の条件で、１０°≦２θ≦６０°の範囲でエックス線回折測定を行う。なお、前述のエックス線回折装置の使用が困難である場合には、これと同程度の測定精度を有する他の装置を使用してもよい。次いで、測定結果を、２θの値と、これに対応する回折線強度の値との組として数値で出力し、該数値から、４３．８°≦２θ≦４５．２°、３０．８°≦２θ≦３２．２°及び３３．０°≦２θ≦３４．４°の各範囲内における回折線強度の最大値を読み取り、それぞれＩ_Ｆｅ、Ｉ_{Ｆｅ２ＳｉＯ４}及びＩ_{Ｆｅ２Ｏ３}とする。最後に、読み取ったＩ_Ｆｅ、Ｉ_{Ｆｅ２ＳｉＯ４}及びＩ_{Ｆｅ２Ｏ３}の値から、Ｉ_{Ｆｅ２ＳｉＯ４}／Ｉ_Ｆｅ及びＩ_{Ｆｅ２Ｏ３}／Ｉ_Ｆｅの値を算出する。

［磁性基体の製造方法］
第１側面に係る磁性基体は、必須成分としてＦｅを含み、前記Ｆｅ及び任意成分であるＳｉの合計含有量が９９質量％以上である金属磁性粒子で構成される金属磁性粉末と樹脂とを混合して混合物を得ること、前記混合物を成形して成形体とすること、前記成形体を、大気よりも酸素濃度の低い酸素含有雰囲気中で脱脂処理すること、並びに前記脱脂処理後の成形体を酸素の実質存在しない不活性雰囲気中で熱処理すること、を経て製造することができる。

使用する金属磁性粉末は、必須成分としてＦｅを含み、前記Ｆｅ及び任意成分であるＳｉの合計含有量が９９質量％以上である金属磁性粒子で構成される。金属磁性粒子中の前記各元素の好ましい含有量は、上述した磁性基体を構成する金属磁性粒子におけるものと同様である。また、金属磁性粉末がＦｅ及びＳｉの合計含有量が９９質量％以上の金属磁性粒子で構成されることで、後述する脱脂処理によって金属磁性粒子表面に十分な量のＦｅの酸化物が生成し、これに続く熱処理による鉄カンラン石（Ｆｅ_２ＳｉＯ_４）の生成を可能とする。鉄カンラン石を十分に生成させる点からは、金属磁性粉末は、Ｆｅを９３質量％以上、Ｓｉを１質量％以上含み、Ｆｅ及びＳｉ以外の元素の質量割合がＳｉよりも低い金属磁性粒子で構成されることが好ましい。

金属磁性粉末は、組成の異なる２種以上の金属磁性粒子を含んでもよい。組成の異なる金属磁性粒子の配合割合を調整することで、得られる磁性基体の磁気的特性、電気的絶縁性及び機械的強度を調整することができる。

使用する金属磁性粉末の粒径は特に限定されず、例えば、体積基準で測定した粒度分布から算出される平均粒径（メジアン径（Ｄ_５０））を０．５μｍ～３０μｍとすることができる。平均粒径は、１μｍ～１０μｍとすることが好ましい。この平均粒径は、例えば、レーザー回折／散乱法を利用した粒度分布測定装置を用いて測定することができる。

金属磁性粉末は、金属磁性粒子の表面がＳｉ含有物質で被覆されたものであってもよい。Ｓｉ含有物質で被覆された金属磁性粒子を金属磁性粉末として用いることで、粒子間の電気的絶縁性が向上された磁性基体を形成できるため、コイル部品の信頼性の向上に寄与する。

金属磁性粉末と混合する樹脂としては、金属磁性粉末の粒子同士を接着して成形及び保形が可能で、かつ後述する脱脂（脱バインダー）処理によって炭素分等を残存させることなく揮発するものであれば特に限定されない。一例として、分解温度が５００℃以下であるアクリル樹脂、ブチラール樹脂、及びビニル樹脂等が挙げられる。また、樹脂と共に、ステアリン酸又はその塩、リン酸又はその塩、及びホウ酸又はその塩に代表される潤滑剤を使用してもよい。樹脂ないし潤滑剤の添加量は、成形性及び保形性等を考慮して適宜決定すればよく、例えば、金属磁性粉末１００質量部に対して０．１質量部以上５質量部以下とすることができる。

金属磁性粉末と樹脂との混合物の成形方法は特に限定されず、例えば、該混合物を金型等の成形型に供給し、プレス等により加圧して成形した後、樹脂を硬化させて成形体とする方法が挙げられる。この他に、金属磁性粉末と樹脂とを含むグリーンシートを積層・圧着する方法を採用してもよい。

金型等を用いたプレス成形で成形体を得る場合、プレスの条件は、金属磁性粉末及びこれと混合する樹脂の種類やこれらの配合割合等に応じて適宜決定すればよい。プレス圧力の一例として、５ｔｏｎ／ｃｍ^２以上、１０ｔｏｎ／ｃｍ^２以下が挙げられる。プレス圧力が前記下限値以上であることで、充填率の高い成形体を得ることができる。他方、プレス圧力が前記上限値以下であることで、事前に被覆が施された金属磁性粒子を成形する場合でも、被覆の破壊が抑制される。

グリーンシートを積層・圧着して成形体を得る場合、吸着搬送機等を用いて個々のグリーンシートを積み重ね、プレス機を用いて熱圧着する方法が採用できる。圧着された積層体から複数のコイル部品を得る場合には、該積層体を、ダイシング機やレーザー切断機等の切断機を用いて分割してもよい。
この場合、グリーンシートは、典型的には、金属磁性粉末とバインダーとを含むスラリーを、ドクターブレードやダイコーター等の塗工機により、プラスチックフィルム等のベースフィルムの表面に塗布・乾燥することで製造される。使用するバインダーとしては、金属磁性粉末をシート状に成形し、その形状を保持できると共に、加熱により炭素分等を残存させることなく揮発するものであれば特に限定されない。一例として、ポリビニルブチラールを初めとするポリビニルアセタール樹脂等が挙げられる。前記スラリーを調製するための溶媒も特に限定されず、ブチルカルビトールを初めとするグリコールエーテル等を用いることができる。前記スラリー中の各成分の含有量は、採用するグリーンシートの成形方法や調製するグリーンシートの厚み等に応じて適宜調節すればよい。

脱脂処理では、成形体を大気よりも酸素濃度の低い酸素含有雰囲気中で加熱して、樹脂を酸化により揮発させる。このとき、成形体中の金属磁性粒子に含まれるＦｅも酸化されて、該粒子の表面にＦｅに富む酸化物が生成する。また、金属磁性粒子が、ＣｒやＡｌ等の、Ｆｅより酸化しやすい金属元素を１質量％以下の量で含む場合には、該金属元素の酸化により不働態酸化物が生成することで、Ｆｅの酸化が適度に抑制される。金属磁性粉末として、金属磁性粒子がＳｉ含有物質で被覆されたものを用いた場合は、該Ｓｉ含有物質に由来するＳｉ含有被覆部の表面に、Ｆｅに富む酸化物が生成する。脱脂処理の条件は、成形体中の金属磁性粒子の過度な酸化を抑制しつつ、バインダーの大部分を酸化除去できるものであれば特に限定されない。一例として、酸素濃度が５０００ｐｐｍ以上１００００ｐｐｍ以下の雰囲気中で、３００℃以上３５０℃以下の温度に、２時間以上４時間以下の時間保持することが挙げられる。

脱脂処理後の成形体は、酸素の実質存在しない不活性雰囲気中にて熱処理が施される。このとき、成形体中の金属磁性粒子がＳｉを含んでいると、該Ｓｉが表面へと拡散し、脱脂処理にて生成したＦｅに富む酸化物と反応することで、鉄カンラン石（Ｆｅ_２ＳｉＯ_４）が生成する。また、熱処理条件によっては、鉄カンラン石と金属磁性粒子との間に、Ｓｉ濃度が他の元素濃度に比べて顕著に高い領域（第１領域）が生成する。金属磁性粉末として、金属磁性粒子がＳｉ含有物質で被覆されたものを用いた場合は、該Ｓｉ含有物質に由来するＳｉ含有被覆部と、その表面に脱脂処理にて生成したＦｅに富む酸化物とが反応することで、鉄カンラン石（Ｆｅ_２ＳｉＯ_４）が生成する。また、鉄カンラン石と金属磁性粒子との間には、前記Ｓｉ含有被覆部に由来する、Ｓｉ濃度が他の元素濃度に比べて顕著に高い領域（第１領域）が生成する。不活性雰囲気としては、窒素ガス雰囲気、希ガス雰囲気及び真空雰囲気が挙げられる。本明細書における不活性雰囲気とは、不活性ガス（Ｎ_２ガス及び希ガス）として通常入手されるガス以下の酸素濃度を有する雰囲気を意味し、その酸素濃度は概ね５ｐｐｍ未満となる。また、不活性ガスの純度、熱処理装置の構造、及び熱処理前の脱酸素条件等の最適化により、熱処理雰囲気中の酸素濃度を３ｐｐｍ未満とすることもできる。

熱処理の温度及び時間は、金属磁性粒子間に鉄カンラン石が生成し、かつ金属磁性粒子がネック成長しないものであれば特に限定されない。一例として、７５０℃以上、８５０℃以下の温度にて３０分以上、３時間以内とすることが挙げられる。熱処理温度が高いほど、金属磁性粒子表面へのＳｉの拡散が促進されるため、短時間の熱処理で金属粒子間に鉄カンラン石を生成させることができる。また、熱処理時間が長いほど、金属磁性粒子表面に拡散するＳｉの量が増加するため、熱処理温度が低い場合でも金属粒子間に鉄カンラン石を生成させることができる。他方、熱処理温度が低いほど、また熱処理時間が短いほど、金属磁性粒子のネック成長が抑制される。したがって、熱処理に当たっては、鉄カンラン石の生成の促進と、金属磁性粒子のネック成長の抑制とのバランスを考慮して、その温度及び時間を決定すればよい。

前述した脱脂処理及び熱処理は、雰囲気と温度を切り変えた設定ができる単一の熱処理装置を用いて連続的に行ってもよく、２以上の異なる熱処理装置を用いて断続的に行ってもよい。

［コイル部品］
本発明の第２の側面に係るコイル部品（以下、単に「第２側面」と記載することがある）１００は、図４から図７に例示するように、前述した第１側面に係る磁性基体１０、及び前記磁性基体１０の内部又は表面に配置された導体２０を備える。

導体２０の材質、形状及び配置は特に限定されず、要求特性に応じて適宜決定すればよい。材質の一例としては、銀若しくは銅、又はこれらの合金等が挙げられる。また、形状の一例としては、直線状、ミアンダー状、平面コイル状、螺旋状等が挙げられる。さらに、配置の一例としては、導体２０としての被覆付きの導線を、磁性基体１０の周囲に巻回したものや、各種形状の導体２０を磁性基体１０の内部に埋め込んだもの等が挙げられる。

第２側面の形状及び構造としては、図４に示すような巻線コイル部品、図５に示すようなコンポジットコイル部品、図６に示すような積層コイル部品及び図７に示すような薄膜コイル部品などが例示される。

第２側面は、電流に対して磁気飽和しにくく、低損失のコイル部品となる。これは、磁性基体１０が、磁気飽和しにくい金属磁性粒子１で構成されていることに加え、該金属磁性粒子１の間に電気的絶縁性に優れる酸化物層２を有することにより、金属磁性粒子１間に電流が流れにくいものとなっていることによる。

［コイル部品の製造方法１］
前述した第２側面に係るコイル部品は、第１側面に係る磁性基体の表面に導体を配置して製造することができる。具体的な配置方法としては、磁性基体に被覆付きの導線を巻回する方法や、磁性基体の表面に導体ペーストの印刷等により導体の前駆体を配置した後、焼成炉等の加熱装置を用いて焼付け処理を行う方法が例示される。

［コイル部品の製造方法２］
また、第２側面に係るコイル部品は、Ｆｅ及び任意成分としてのＳｉを含む金属磁性粒子で構成される金属磁性粉末と樹脂とを混合して混合物を得ること、前記混合物と導体又はその前駆体とを成形し、前記導体又はその前駆体が内部に配置された成形体とすること、前記成形体を大気よりも酸素濃度の低い雰囲気中で脱脂処理すること、並びに前記脱脂処理後の成形体を、酸素の実質存在しない不活性雰囲気中で熱処理することを経て、第１側面に係る磁性基体と導体とを同時に形成して製造することもできる。

この場合に使用する金属磁性粉末、及びこれと混合する樹脂は、上述した第１側面に係る磁性基体の製造に使用するものと同様であるため、説明を省略する。また、金属磁性粉末と樹脂との混合物を成形する方法も、第１側面に係る磁性基体の製法と同様に、プレス成形やグリーンシートを積層・圧着する方法が採用できる。

導体又はその前駆体が内部に配置された成形体は、成形方法としてプレス成形を採用する場合には、予め導体若しくはその前駆体を配置した金型中に金属磁性粉末と樹脂との混合物を充填し、プレスする方法で得られる。また、成形方法としてグリーンシートを積層・圧着する方法を採用する場合には、導体ペーストの印刷等によりグリーンシート上に導体の前駆体を配置した後、積層・圧着する方法で得られる。ここで、導体とは、そのままコイル部品中で導電経路として機能するものを意味し、導体の前駆体とは、コイル部品中で導体を形成する導電性の材料に加えてバインダー樹脂等を含み、熱処理によって導体となるものを意味する。

導体の前駆体を、導体ペーストにより配置する場合、使用する導体ペーストとしては、導体粉末と有機ビヒクルとを含むものが挙げられる。導体粉末としては、銀若しくは銅又はこれらの合金等の粉末が用いられる。導体粉末の粒径は特に限定されないが、例えば、体積基準で測定した粒度分布から算出される平均粒径（メジアン径（Ｄ_５０））が１μｍ～１０μｍのものが用いられる。有機ビヒクルの組成は、グリーンシートに含まれるバインダーとの相性を考慮して決定すればよい。一例として、ポリビニルブチラール（ＰＶＢ）等のポリビニルアセタール樹脂を、ブチルカルビトール等のグリコールエーテル系溶剤に溶解ないし膨潤させたものが挙げられる。導体ペーストにおける導体粉末及び有機ビヒクルの配合比率は、使用する印刷機に好適なペーストの粘度や形成しようとする導体パターンの膜厚等に応じて適宜調節することができる。

導体又はその前駆体が内部に配置された成形体に対して行う、脱脂処理及び熱処理の条件は、上述した第１側面に係る磁性基体の製造における条件と同様であるため、説明を省略する。

［回路基板］
本発明の第３の側面に係る回路基板（以下、単に「第３側面」と記載することがある。）は、前述の第２側面に係るコイル部品を載せた回路基板である。

回路基板の構造等は限定されず、目的に応じたものを採用すればよい。

第３側面は、第２側面に係るコイル部品を使用することで、損失の小さなものとなる。

以下、実施例により本発明をさらに具体的に説明するが、本発明は該実施例に限定されるものではない。

［実施例１］
（磁性基体の作製）
金属磁性粉末として、含有元素の質量比が９３Ｆｅ－６．５Ｓｉ－０．５Ｃｒとなる金属磁性粒子で構成された、平均粒径約４μｍのものを準備した。この金属磁性粉末を、ポリビニルブチラール（ＰＶＢ）系のバインダー樹脂及び分散媒と混合してスラリーを調製した。得られたスラリーを、ドクターブレード法にてＰＥＴフィルム上に塗工し、乾燥して生シートを得た。この生シートを積層した後、７ｔｏｎ／ｃｍ^２の圧力で圧着して成形体とした。得られた成形体を、短冊状、円板状及びリング状の各形状にそれぞれ加工した後、酸素濃度を７５００ｐｐｍとした窒素‐酸素混合雰囲気中で、３００℃で２時間の脱脂処理を行った。脱脂処理後の各成形体を、窒素雰囲気（酸素濃度：約３ｐｐｍ）中で８００℃、１時間の熱処理を行って、実施例１に係る試験用磁性基体を得た。

（磁性基体のエックス線回折測定）
得られた試験用磁性基体の表面について、上述した方法で、ＣｕＫα線を用いたエックス線回折測定を行い、その結果を基に４３．８°≦２θ≦４５．２°の範囲内に観測される最強回折線強度（Ｉ_Ｆｅ）に対する、３０．８°≦２θ≦３２．２°の範囲内に観測される最強回折線強度（Ｉ_{Ｆｅ２ＳｉＯ４}）の比（Ｉ_{Ｆｅ２ＳｉＯ４}／Ｉ_Ｆｅ）、及び前記Ｉ_Ｆｅに対する、３３．０°≦２θ≦３４．４°の範囲内に観測される最強回折線強度（Ｉ_{Ｆｅ２Ｏ３}）の比（Ｉ_{Ｆｅ２Ｏ３}／Ｉ_Ｆｅ）をそれぞれ算出した。その結果、Ｉ_{Ｆｅ２ＳｉＯ４}／Ｉ_Ｆｅが０．００２７となり、Ｉ_{Ｆｅ２Ｏ３}／Ｉ_Ｆｅは０．００１０未満となった。

（酸化物層における第１領域及び第２領域の有無の確認）
得られた試験用磁性基体について、酸化物層中のＦｅに対するＳｉのモル比（Ｓｉ／Ｆｅ）の分布を、上述した方法で測定・算出し、酸化物層における第１領域及び第２領域の有無を確認した。その結果、酸化物層中に、第２領域を挟んで第１領域が存在することが確認された。酸化物層（第１領域）中のＳｉ／Ｆｅの最大値は３．５であり、酸化物層（第２領域）中のＳｉ／Ｆｅの最小値は０．６１であった。

（磁性基体の抗折強度測定）
得られた短冊状の試験用磁性基体について、曲げ試験機（株式会社イマダ製、ＦＳＡ－０．５Ｋ２－１００Ｎ）を用い、ＪＩＳ Ｒ １６０１に準拠して３点曲げ試験を行い、得られた曲げ強度を抗折強度とした。その結果、抗折強度は７１ＭＰａであった。

（磁性基体の体積抵抗率測定）
得られた円板状の試験用磁性基体について、電気的絶縁性を確認するために、体積抵抗率の測定を行った。まず、直径８ｍｍ、厚さ０．５ｍｍの試験用磁性基体の表裏面（面積が最も大きい対向する２面）に、Ａｇペーストを塗布した後、焼き付けて電極を形成した。次いで、この試験用磁性基体の電気抵抗値を、抵抗計（日置電機株式会社製、ＲＭ３５４４）を用いて測定し、得られた電気抵抗値、並びに電極面積及び試験用磁性基体の厚さから、体積抵抗率を算出した。得られた体積抵抗率は、５．０×１０^７Ω・ｃｍであった。

（コイル部品の作製及び磁性基体の比透磁率測定）
得られたリング状の試験用磁性基体に、導線を２０ターン巻回してトロイダル形状のコイル部品を作製した。このコイル部品を、ＲＦインピーダンス／マテリアル・アナライザ（キーサイト・テクノロジーズ・インク製、Ｅ４９９１Ａ）に接続し、室温にて、ＯＳＣレベル５００ｍＶ、周波数１０ＭＨｚの条件で、試験用磁性基体の比透磁率を測定した。得られた比透磁率は３３であった。

［実施例２から実施例５］
（磁性基体の作製）
金属磁性粉末を、含有元素の質量比が９４Ｆｅ－５．５Ｓｉ－０．５Ｃｒとなる金属磁性粒子で構成されたもの（実施例２）、含有元素の質量比が９５Ｆｅ－４．５Ｓｉ－０．５Ｃｒとなる金属磁性粒子で構成されたもの（実施例３）、含有元素の質量比が９６Ｆｅ－３．５Ｓｉ－０．５Ｃｒとなる金属磁性粒子で構成されたもの（実施例４）、及び含有元素の質量比が９７Ｆｅ－２．５Ｓｉ－０．５Ｃｒとなる金属磁性粒子で構成されたもの（実施例５）、にそれぞれ変更した以外は、実施例１と同様の方法で、実施例２から実施例５に係る試験用磁性基体をそれぞれ作製した。

（磁性基体のエックス線回折測定）
得られた各試験用磁性基体について、実施例１と同様の方法で、Ｉ_{Ｆｅ２ＳｉＯ４}／Ｉ_Ｆｅ及びＩ_{Ｆｅ２Ｏ３}／Ｉ_Ｆｅの値を算出した。その結果、Ｉ_{Ｆｅ２Ｏ３}／Ｉ_Ｆｅについては、いずれの実施例においても０．００１０未満となった。また、Ｉ_{Ｆｅ２ＳｉＯ４}／Ｉ_Ｆｅについては、実施例２では０．００３０となり、実施例３では０．００３２となり、実施例４では０．００３５となり、実施例５では０．００３６となった。

（酸化物層における第１領域及び第２領域の有無の確認）
得られた試験用磁性基体について、実施例１と同様の方法で、酸化物層中のＦｅに対するＳｉのモル比（Ｓｉ／Ｆｅ）の分布を測定・算出し、酸化物層における第１領域及び第２領域の有無を確認した。その結果、実施例２から実施例４に係る各試験用磁性基体では、酸化物層中に、第２領域を挟んで第１領域が存在することが確認された。これらの試験用磁性基体における酸化物層（第１領域）中のＳｉ／Ｆｅの最大値は、実施例２で３．４、実施例３で３．１、実施例４で２．６であった。また、酸化物層（第２領域）中のＳｉ／Ｆｅの最小値は、実施例２で０．６０、実施例３で０．５６、実施例４で０．５４であった。他方、実施例５に係る試験用磁性基体では、酸化物層中のＳｉ／Ｆｅは、最大値が０．８２、最小値が０．４２であり、第１領域の存在は確認されなかった。

（磁性基体の抗折強度及び体積抵抗率測定）
得られた試験用磁性基体について、実施例１と同様の方法で、抗折強度及び体積抵抗率を測定・算出した。その結果、実施例２では抗折強度が７５ＭＰａ、体積抵抗率が５．０×１０^７Ω／ｃｍとなり、実施例３では抗折強度が８３ＭＰａ、体積抵抗率が４．０×１０^７Ω／ｃｍとなり、実施例４では抗折強度が８２ＭＰａ、体積抵抗率が２．０×１０^７Ω／ｃｍとなり、実施例５では抗折強度が８４ＭＰａ、体積抵抗率が２．０×１０^５Ω／ｃｍとなった。

（コイル部品の作製及び磁性基体の比透磁率測定）
得られた各磁性基体から、実施例１と同様の方法でコイル部品を作製し、比透磁率を測定した。得られた比透磁率は、実施例２では３４、実施例３では３４、実施例４では３３、実施例５では３２であった。

［実施例６］
（磁性基体の作製）
金属磁性粉末を、実施例４で用いたものと実施例５で用いたものとを質量比１：１で混合したものに変更した以外は、実施例１と同様の方法で、実施例６に係る試験用磁性基体を作製した。

（磁性基体のエックス線回折測定）
得られた各試験用磁性基体について、実施例１と同様の方法で、Ｉ_{Ｆｅ２ＳｉＯ４}／Ｉ_Ｆｅ及びＩ_{Ｆｅ２Ｏ３}／Ｉ_Ｆｅの値を算出した。その結果、Ｉ_{Ｆｅ２ＳｉＯ４}／Ｉ_Ｆｅは０．００３２、Ｉ_{Ｆｅ２Ｏ３}／Ｉ_Ｆｅは０．００１０未満となった。

（酸化物層における第１領域及び第２領域の有無の確認）
得られた試験用磁性基体について、実施例１と同様の方法で、酸化物層中のＦｅに対するＳｉのモル比（Ｓｉ／Ｆｅ）の分布を測定・算出し、酸化物層における第１領域及び第２領域の有無を確認した。その結果、酸化物層中に、第１領域と第２領域とが存在することが確認された。酸化物層（第１領域）中のＳｉ／Ｆｅの最大値は２．５であり、酸化物層（第２領域）中のＳｉ／Ｆｅの最小値は０．４４であった。

（磁性基体の抗折強度及び体積抵抗率測定）
得られた試験用磁性基体について、実施例１と同様の方法で、抗折強度及び体積抵抗率を測定・算出した。その結果、抗折強度は８１ＭＰａ、体積抵抗率は１．０×１０^７Ω／ｃｍとなった。

（コイル部品の作製及び磁性基体の比透磁率測定）
得られた磁性基体から、実施例１と同様の方法でコイル部品を作製し、比透磁率を測定した。得られた比透磁率は３３であった。

［比較例１］
（磁性基体の作製）
金属磁性粉末を、含有元素の質量比が９５Ｆｅ－３．５Ｓｉ－１．５Ｃｒとなる金属磁性粒子で構成されたものとしたこと、及び脱脂処理の雰囲気を大気としたこと以外は実施例１と同様の方法で、比較例１に係る試験用磁性基体を作製した。

（磁性基体のエックス線回折測定）
得られた各試験用磁性基体について、実施例１と同様の方法で、Ｉ_{Ｆｅ２ＳｉＯ４}／Ｉ_Ｆｅ及びＩ_{Ｆｅ２Ｏ３}／Ｉ_Ｆｅの値を算出した。その結果、Ｉ_{Ｆｅ２ＳｉＯ４}／Ｉ_Ｆｅは０．００１０未満、Ｉ_{Ｆｅ２Ｏ３}／Ｉ_Ｆｅは０．０２３９となった。

（磁性基体の抗折強度及び体積抵抗率測定）
得られた試験用磁性基体について、実施例１と同様の方法で、抗折強度及び体積抵抗率を測定・算出した。その結果、抗折強度は７２ＭＰａ、体積抵抗率は２．０×１０^３Ω／ｃｍとなった。

（コイル部品の作製及び磁性基体の比透磁率測定）
得られた磁性基体から、実施例１と同様の方法でコイル部品を作製し、比透磁率を測定した。得られた比透磁率は３４であった。

以上で説明した実施例及び比較例に係る磁性基体の製造条件を表１に、得られた磁性基体の特性を表２に、それぞれまとめて示す。

以上の結果から、Ｆｅ及びＳｉを含み、ＦｅとＳｉとの合計含有量が９９質量％以上である金属磁性粒子、並びに前記金属磁性粒子間に存在する酸化物層で形成され、ＣｕＫα線を用いたエックス線回折測定において、４３．８°≦２θ≦４５．２°の範囲内に観測される最強回折線強度（Ｉ_Ｆｅ）に対する、３０．８°≦２θ≦３２．２°の範囲内に観測される最強回折線強度（Ｉ_{Ｆｅ２ＳｉＯ４}）の比（Ｉ_{Ｆｅ２ＳｉＯ４}／Ｉ_Ｆｅ）が０．００２０以上であると共に、ＣｕＫα線を用いたエックス線回折測定において、前記Ｉ_Ｆｅに対する、３３．０°≦２θ≦３４．４°の範囲内に観測される最強回折線強度（Ｉ_{Ｆｅ２Ｏ３}）の比（Ｉ_{Ｆｅ２Ｏ３}／Ｉ_Ｆｅ）が０．００１０未満である磁性基体は、優れた電気的絶縁性を発現するといえる。また、Ｉ_{Ｆｅ２ＳｉＯ４}／Ｉ_Ｆｅの値が０．００３２以上である実施例３から実施例６に係る磁性基体は、いずれも８０ＭＰａを超える抗折強度を有していることから、前記Ｉ_{Ｆｅ２ＳｉＯ４}／Ｉ_Ｆｅの値が０．００３２以上である磁性基体は、機械的強度にも優れるものといえる。さらに、酸化物層中に第１領域及び第２領域が存在する実施例１から実施例４及び実施例６に係る磁性基体は、いずれも１．０×１０^７Ω・ｃｍ以上の体積抵抗率を有していることから、酸化物層中に第１領域及び第２領域が存在する磁性基体は、より電気的絶縁性に優れるものといえる。中でも、第１領域にＳｉ／Ｆｅが３以上となる部分が存在する実施例１から実施例３に係る磁性基体は、特に電気的絶縁性に優れるものとなっている。また、第１領域が第２領域を挟んで存在する実施例４に係る磁性基体が、同程度のＳｉ／Ｆｅを有し、第１領域が第２領域を挟んでいない実施例６に係る磁性基体に比べて高い体積抵抗率を有していることから、酸化物層中で第１領域が第２領域を挟んで存在する磁性基体は、さらに電気的絶縁性に優れるものといえる。

本発明によれば、金属磁性粒子で構成された、電気的絶縁性に優れる磁性基体を提供することができる。この磁性基体は、磁気飽和しにくい金属磁性粒子を備えるため、コイル部品とした際に大電流を流すことができる。しかも、金属磁性粒子間に存在する酸化物層が良好な電気的絶縁性を有することにより、体積抵抗率が大きくなって電流が流れにくくなるため、コイル部品とした際にエネルギー損失も小さなものとなる。このため、コイル部品の高性能化ないし小型化が可能となる点で、本発明は有用なものである。

１００ コイル部品
１０ 磁性基体（圧粉磁心）
１ 金属磁性粒子
２ 酸化物層
２ａ 第１領域
２ｂ 第２領域
２０ 導体
Ａ，Ｂ 分析対象の線分の端点

Claims (5)

1. Ｆｅ及び任意成分としてのＳｉを含み、前記Ｆｅと前記Ｓｉとの合計含有量が９９質量％以上である金属磁性粒子、並びに
   前記金属磁性粒子間に存在する酸化物層
   で形成され、
   ＣｕＫα線を用いたエックス線回折測定において、４３．８°≦２θ≦４５．２°の範囲内に観測される最強回折線強度（Ｉ_Ｆｅ）に対する、３０．８°≦２θ≦３２．２°の範囲内に観測される最強回折線強度（Ｉ_{Ｆｅ２ＳｉＯ４}）の比（Ｉ_{Ｆｅ２ＳｉＯ４}／Ｉ_Ｆｅ）が０．００２０以上であると共に、
   ＣｕＫα線を用いたエックス線回折測定において、前記Ｉ_Ｆｅに対する、３３．０°≦２θ≦３４．４°の範囲内に観測される最強回折線強度（Ｉ_{Ｆｅ２Ｏ３}）の比（Ｉ_{Ｆｅ２Ｏ３}／Ｉ_Ｆｅ）が０．００１０未満である
   磁性基体。
2. 前記酸化物層が、
   Ｆｅに対するＳｉのモル比（Ｓｉ／Ｆｅ）が２以上である第１領域、及び
   前記モル比（Ｓｉ／Ｆｅ）が１以下である第２領域
   を有する、請求項１に記載の磁性基体。
3. 前記第１領域が、前記第２領域を挟んで存在する、請求項２に記載の磁性基体。
4. 請求項１から３のいずれか１項に記載の磁性基体、及び前記磁性基体の内部又は表面に配置された導体を備えるコイル部品。
5. 請求項４に記載のコイル部品を搭載した回路基板。

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