JP7434494B1 - 磁性基体、磁性基体を備えるコイル部品、コイル部品を備える回路基板、及び回路基板を備える電子機器 - Google Patents
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- H01F17/00—Fixed inductances of the signal type
- H01F17/0006—Printed inductances
- H01F17/0013—Printed inductances with stacked layers
Abstract
Description
[付記1]
複数の軟磁性金属粒子と、
前記複数の軟磁性金属粒子の各々の表面を覆う複数の絶縁膜と、
を備え、
前記複数の軟磁性金属粒子は、第1軟磁性金属粒子を含み、
前記複数の絶縁膜は、前記第1軟磁性金属粒子の表面を覆う第1絶縁膜を含み、
前記第1絶縁膜は、Fe及びCrを含有し、ラマン分光測定により得られるラマンスペクトルにおいて730cm-1にピーク強度を有する一又は複数の第1酸化物領域を含む、
磁性基体。
[付記2]
前記第1酸化物領域においてマン分光測定により得られるラマンスペクトルにおける730cm-1のピーク強度は、前記第1酸化物領域においてラマン分光測定により得られるラマンスペクトルにおける680cm-1のピーク強度よりも大きい、
[付記1]に記載の磁性基体。
[付記3]
前記第1酸化物領域においてラマン分光測定により得られるラマンスペクトルにおける730cm-1のピーク強度は、前記第1酸化物領域においてラマン分光測定により得られるラマンスペクトルにおける300cm-1のピーク強度よりも大きい、
[付記1]又は[付記2]に記載の磁性基体。
[付記4]
前記第1酸化物領域は、前記第1軟磁性金属粒子の表面から離間している、
[付記1]から[付記3]のいずれか一つに記載の磁性基体。
[付記5]
前記第1絶縁膜は、Fe及びCrを含有しておりラマン分光測定により得られるラマンスペクトルにおいて730cm-1にピーク強度を有する複数の第1酸化物領域を含有しており、
前記複数の第1酸化物領域の各々は、互いから離間している、
[付記1]から[付記4]のいずれか一つに記載の磁性基体。
[付記6]
前記複数の第1酸化物領域の各々は、前記第1軟磁性金属粒子の幾何中心を中心とする周方向において、互いから離間している、
[付記5]に記載の磁性基体。
[付記7]
前記複数の軟磁性金属粒子は、前記第1軟磁性金属粒子に隣接する第2軟磁性金属粒子、並びに、前記第1軟磁性金属粒子及び前記第2軟磁性金属粒子にそれぞれ隣接する第3軟磁性金属粒子を含み、
前記第1軟磁性金属粒子と前記第2軟磁性金属粒子と前記第3軟磁性金属粒子との間に存在する空隙の少なくとも一部は、前記第1酸化物領域により画定される、
[付記1]から[付記6]のいずれか一つに記載の磁性基体。
[付記8]
前記第1絶縁膜は、前記第1軟磁性金属粒子の表面の一部である第1表面領域を覆い元素α(Al)の酸化物を主成分として含む第2酸化物領域と、前記軟磁性金属粒子の前記第1表面領域とは異なる第2表面領域を覆い元素βの酸化物を主成分として含む第3酸化物領域と、をさらに含む、
[付記1]から[付記7]のいずれか一つに記載の磁性基体。
[付記9]
前記第1酸化物領域は、前記第2酸化物領域の径方向外側にある、
[付記8]に記載の磁性基体。
[付記10]
前記複数の軟磁性金属粒子の各々は、Fe及びSiを含有する、
[付記1]から[付記9]のいずれか一つに記載の磁性基体。
[付記11]
前記複数の軟磁性金属粒子の各々におけるFeの含有率は、95wt%以上である、
[付記10]に記載の磁性基体。
[付記12]
前記元素βは、Feよりも酸化しやすい元素であり、
前記元素αは、前記元素βよりも酸化しやすい元素である、
[付記8]に記載の磁性基体。
[付記13]
前記元素αは、Alであり、
前記元素βは、Siである、
[付記12]に記載の磁性基体。
[付記14]
[付記1]から[付記13]のいずれか一つに記載の磁性基体と、
前記磁性基体に備えられるコイル導体と、
を備えるコイル部品。
[付記15]
[付記14]に記載のコイル部品を含む、回路基板。
[付記16]
[付記15]に記載の回路基板を含む、電子部品。
[付記17]
複数の軟磁性金属粒子と、
前記複数の軟磁性金属粒子の各々の表面を覆う複数の絶縁膜と、
を備え、
前記複数の軟磁性金属粒子は、第1軟磁性金属粒子を含み、
前記複数の絶縁膜は、前記第1軟磁性金属粒子の表面を覆う第1絶縁膜を含み、
前記第1絶縁膜は、Fe及びCrを含有する、
磁性基体。
10、110 基体(磁性基体)
21、22 外部電極
30a 第1軟磁性金属粒子
30b 第2軟磁性金属粒子
30c 第3軟磁性金属粒子
40a、40b、40c 絶縁膜
41a、41b、41c、41d 第1酸化物領域
42a、42b、42c 第2酸化物領域
43a、43b、43c 第3酸化物領域
Claims (14)
- 複数の軟磁性金属粒子と、
前記複数の軟磁性金属粒子の各々の表面を覆う複数の絶縁膜と、
を備え、
前記複数の軟磁性金属粒子は、第1軟磁性金属粒子を含み、
前記複数の絶縁膜は、前記第1軟磁性金属粒子の表面を覆う第1絶縁膜を含み、
前記第1絶縁膜は、Fe及びCrを含有し、ラマン分光測定により得られるラマンスペクトルにおいて730cm-1にピーク強度を有する一又は複数の第1酸化物領域を含み、
前記第1酸化物領域においてラマン分光測定により得られるラマンスペクトルにおける730cm-1のピーク強度は、前記第1酸化物領域においてラマン分光測定により得られるラマンスペクトルにおける680cm-1のピーク強度よりも大きく、
前記第1酸化物領域は、前記第1軟磁性金属粒子の表面から離間している、
磁性基体。 - 前記第1酸化物領域においてラマン分光測定により得られるラマンスペクトルにおける730cm-1のピーク強度は、前記第1酸化物領域においてラマン分光測定により得られるラマンスペクトルにおける300cm-1のピーク強度よりも大きい、
請求項1に記載の磁性基体。 - 前記第1絶縁膜は、FeとCrを含有し、ラマン分光測定により得られるラマンスペクトルにおいて730cm-1にピーク強度を有する複数の第1酸化物領域を含有しており、
前記複数の第1酸化物領域の各々は、互いから離間している、
請求項1又は2に記載の磁性基体。 - 前記複数の第1酸化物領域の各々は、前記第1軟磁性金属粒子の幾何中心を中心とする周方向において、互いから離間している、
請求項1又は2に記載の磁性基体。 - 前記複数の軟磁性金属粒子は、前記第1軟磁性金属粒子に隣接する第2軟磁性金属粒子、並びに、前記第1軟磁性金属粒子及び前記第2軟磁性金属粒子にそれぞれ隣接する第3軟磁性金属粒子を含み、
前記第1軟磁性金属粒子と前記第2軟磁性金属粒子と前記第3軟磁性金属粒子との間に存在する空隙の少なくとも一部は、前記第1酸化物領域により画定される、
請求項1又は2に記載の磁性基体。 - 前記第1絶縁膜は、前記第1軟磁性金属粒子の表面の一部である第1表面領域を覆い元素αの酸化物を主成分として含む第2酸化物領域と、前記軟磁性金属粒子の前記第1表面領域とは異なる第2表面領域を覆い元素βの酸化物を主成分として含む第3酸化物領域と、をさらに含む、
請求項1又は2に記載の磁性基体。 - 前記第1酸化物領域は、前記第2酸化物領域の径方向外側にある、
請求項6に記載の磁性基体。 - 前記複数の軟磁性金属粒子の各々は、Fe及びSiを含有する、
請求項1又は2に記載の磁性基体。 - 前記複数の軟磁性金属粒子の各々におけるFeの含有率は、95wt%以上である、
請求項8記載の磁性基体。 - 前記元素βは、Feよりも酸化しやすい元素であり、
前記元素αは、前記元素βよりも酸化しやすい元素である、
請求項6に記載の磁性基体。 - 前記元素αは、Alであり、
前記元素βは、Siである、
請求項10に記載の磁性基体。 - 請求項1又は2に記載の磁性基体と、
前記磁性基体に備えられるコイル導体と、
を備えるコイル部品。 - 請求項12に記載のコイル部品を含む、回路基板。
- 請求項13に記載の回路基板を含む、電子機器。
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