JP2022136459A - 半導体保護回路 - Google Patents
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- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims abstract description 36
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 claims description 11
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 16
- 229910002601 GaN Inorganic materials 0.000 description 7
- JMASRVWKEDWRBT-UHFFFAOYSA-N Gallium nitride Chemical compound [Ga]#N JMASRVWKEDWRBT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N silicon carbide Chemical compound [Si+]#[C-] HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 description 7
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 4
- 238000004088 simulation Methods 0.000 description 3
- 230000006378 damage Effects 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 2
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 2
- 230000010354 integration Effects 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- 230000002441 reversible effect Effects 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
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- H02—GENERATION; CONVERSION OR DISTRIBUTION OF ELECTRIC POWER
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- H03K—PULSE TECHNIQUE
- H03K17/00—Electronic switching or gating, i.e. not by contact-making and –breaking
- H03K17/08—Modifications for protecting switching circuit against overcurrent or overvoltage
- H03K17/081—Modifications for protecting switching circuit against overcurrent or overvoltage without feedback from the output circuit to the control circuit
- H03K17/0812—Modifications for protecting switching circuit against overcurrent or overvoltage without feedback from the output circuit to the control circuit by measures taken in the control circuit
- H03K17/08122—Modifications for protecting switching circuit against overcurrent or overvoltage without feedback from the output circuit to the control circuit by measures taken in the control circuit in field-effect transistor switches
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L27/00—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
- H01L27/02—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having at least one potential-jump barrier or surface barrier; including integrated passive circuit elements with at least one potential-jump barrier or surface barrier
- H01L27/0203—Particular design considerations for integrated circuits
- H01L27/0248—Particular design considerations for integrated circuits for electrical or thermal protection, e.g. electrostatic discharge [ESD] protection
- H01L27/0251—Particular design considerations for integrated circuits for electrical or thermal protection, e.g. electrostatic discharge [ESD] protection for MOS devices
- H01L27/0266—Particular design considerations for integrated circuits for electrical or thermal protection, e.g. electrostatic discharge [ESD] protection for MOS devices using field effect transistors as protective elements
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- H01L27/02—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having at least one potential-jump barrier or surface barrier; including integrated passive circuit elements with at least one potential-jump barrier or surface barrier
- H01L27/0203—Particular design considerations for integrated circuits
- H01L27/0248—Particular design considerations for integrated circuits for electrical or thermal protection, e.g. electrostatic discharge [ESD] protection
- H01L27/0251—Particular design considerations for integrated circuits for electrical or thermal protection, e.g. electrostatic discharge [ESD] protection for MOS devices
- H01L27/0266—Particular design considerations for integrated circuits for electrical or thermal protection, e.g. electrostatic discharge [ESD] protection for MOS devices using field effect transistors as protective elements
- H01L27/0285—Particular design considerations for integrated circuits for electrical or thermal protection, e.g. electrostatic discharge [ESD] protection for MOS devices using field effect transistors as protective elements bias arrangements for gate electrode of field effect transistors, e.g. RC networks, voltage partitioning circuits
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- H01L29/00—Semiconductor devices adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching, or capacitors or resistors with at least one potential-jump barrier or surface barrier, e.g. PN junction depletion layer or carrier concentration layer; Details of semiconductor bodies or of electrodes thereof ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/66—Types of semiconductor device ; Multistep manufacturing processes therefor
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- H01L29/772—Field effect transistors
- H01L29/78—Field effect transistors with field effect produced by an insulated gate
- H01L29/7801—DMOS transistors, i.e. MISFETs with a channel accommodating body or base region adjoining a drain drift region
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- H03K17/06—Modifications for ensuring a fully conducting state
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Abstract
Description
図1は、第1の実施形態の半導体保護回路の構成を示す図である。本実施形態は、NMOSトランジスタ10を有する。NMOSトランジスタ10のドレインは入力端2に接続され、ソースは、出力端3に接続される。NMOSトランジスタ10のゲートは、ノードNAに接続される。ノードNAは、制御端1に接続される。NMOSトランジスタ10は、例えば、高耐圧のDMOS(Double Diffused MOS)トランジスタで構成される。以降、NMOSトランジスタ10を、便宜的に、出力トランジスタ10と呼ぶ場合が有る。出力トランジスタ10は、Si(シリコン)に限らず、GaN(窒化ガリューム)やSiC(炭化ケイ素)を材料とするNチャネル型のMOSトランジスタで構成される。例えば、GaNを材料とするMOSトランジスタは、ドレイン・ソース間の主電流路がGaNで構成され、SiCを材料とするMOSトランジスタは、ソース・ドレイン路がSiCで構成される。GaNやSiCで構成されるMOSトランジスタは、高耐圧である為、電源回路の出力トランジスタ10として好適する。Siを材料とするトランジスタをSiトランジスタ、GaNを材料とするトランジスタをGaNトランジスタ、SiCを材料とするトランジスタをSiCトランジスタと呼ぶ場合がある。
図5は、第2の実施形態の半導体保護回路の構成を示す図である。既述した実施形態に対応する構成には、同一符号を付し、重複する記載は必要な場合にのみ行う。以降、同様である。本実施形態の整流素子30は、ダイオード32を有する。ダイオード32のアノードはノードNBに接続され、カソードはノードNAに接続される。すなわち、ダイオード32は、NMOSトランジスタ11のゲートから出力トランジスタ10のゲートに向けて、順方向に接続される。
図6は、第3の実施形態の半導体保護回路の構成を示す図である。本実施形態は、出力トランジスタ10のゲートにソースが接続され、ドレインが出力トランジスタ10のソースに接続されたPMOSトランジスタ14を有する。PMOSトランジスタ14のゲートは、ノードNBに接続される。
図7は、第4の実施形態の半導体保護回路の構成を示す図である。本実施形態は、制御端1にドレインが接続され、ソースがチャージポンプ53に接続されたPMOSトランジスタ51と、ドレインが制御端1に接続され、ソースが接地されたNMOSトランジスタ52を有する。
図8は、第5の実施形態の半導体保護回路の構成を示す図である。本実施形態は、分圧回路70を有する。分圧回路70は、抵抗71と抵抗72の抵抗比によって出力電圧Voutを分圧して、フィードバック電圧VFBを出力する。
Claims (7)
- 入力端に接続されたドレインと、出力端に接続されたソースと、制御端に接続されたゲートを有する第1のMOSトランジスタと、
前記第1のMOSトランジスタのゲートに接続されたドレインと、前記第1のMOSトランジスタのソースに接続されたソースを有する第2のMOSトランジスタと、
前記第2のMOSトランジスタのゲートから前記第1のMOSトランジスタのゲートに向けて順方向に接続された整流素子と、
前記第2のMOSトランジスタのゲートとソースとの間に接続されたローパスフィルタと、
を具備することを特徴とする半導体保護回路。 - 前記ローパスフィルタは、
前記第2のMOSトランジスタのゲートとソースの間に接続された抵抗と、
前記第2のMOSトランジスタのゲートに一端が接続され、他端に固定電圧が印加されるコンデンサと、
を具備することを特徴とする請求項1に記載の半導体保護回路。 - 前記整流素子は、ソースとゲートが共通接続された第3のMOSトランジスタによって構成されることを特徴とする請求項1または2に記載の半導体保護回路。
- 前記第1のMOSトランジスタと前記第2のMOSトランジスタはNMOSトランジスタで構成され、前記第3のMOSトランジスタはPMOSトランジスタで構成されることを特徴とする請求項3に記載の半導体保護回路。
- 前記整流素子は、アノードが前記第2のMOSトランジスタのゲートに接続され、カソードが前記第2のMOSトランジスタのドレインに接続されたダイオードで構成されることを特徴とする請求項1または2に記載の半導体保護回路。
- 入力端に接続されたドレインと、出力端に接続されたソースと、制御端に接続されたゲートを有する第1導電型の第1のMOSトランジスタと、
前記第1のMOSトランジスタのゲートに接続されたソースと、前記第1のMOSトランジスタのソースに接続されたドレインを有する第2導電型の第2のMOSトランジスタと、
前記第2のMOSトランジスタのゲートと前記第1のMOSトランジスタのゲートの間に接続された抵抗素子と、
前記第2のMOSトランジスタのゲートとドレインの間に接続されたハイパスフィルタと、
を具備することを特徴とする半導体保護回路。 - 前記ハイパスフィルタは、コンデンサを有することを特徴とする請求項6に記載の半導体保護回路。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2021036081A JP7350798B2 (ja) | 2021-03-08 | 2021-03-08 | 半導体保護回路 |
US17/390,044 US11600993B2 (en) | 2021-03-08 | 2021-07-30 | Semiconductor protection circuit |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2021036081A JP7350798B2 (ja) | 2021-03-08 | 2021-03-08 | 半導体保護回路 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2022136459A true JP2022136459A (ja) | 2022-09-21 |
JP7350798B2 JP7350798B2 (ja) | 2023-09-26 |
Family
ID=83117543
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2021036081A Active JP7350798B2 (ja) | 2021-03-08 | 2021-03-08 | 半導体保護回路 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US11600993B2 (ja) |
JP (1) | JP7350798B2 (ja) |
Family Cites Families (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7221551B2 (en) | 2004-06-11 | 2007-05-22 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | Cascaded gate-driven ESD clamp |
JP2008067292A (ja) | 2006-09-11 | 2008-03-21 | Sharp Corp | 過熱遮断回路 |
JP2010278188A (ja) | 2009-05-28 | 2010-12-09 | Renesas Electronics Corp | 半導体集積回路装置 |
US8072721B2 (en) * | 2009-06-10 | 2011-12-06 | Hong Kong Applied Science And Technology Research Institute Co., Ltd. | ESD protection using a capacitivly-coupled clamp for protecting low-voltage core transistors from high-voltage outputs |
US20130154601A1 (en) * | 2011-12-20 | 2013-06-20 | Kenneth P. Snowdon | Regulator transient over-voltage protection |
FR2987496A1 (fr) * | 2012-02-29 | 2013-08-30 | St Microelectronics Rousset | Circuit de protection contre les decharges electrostatiques |
JP2014086580A (ja) * | 2012-10-24 | 2014-05-12 | Toshiba Corp | 保護回路 |
JP2014120547A (ja) | 2012-12-14 | 2014-06-30 | Renesas Electronics Corp | Esd保護回路 |
JP2014187288A (ja) * | 2013-03-25 | 2014-10-02 | Toshiba Corp | 静電保護回路 |
JP2015002510A (ja) * | 2013-06-18 | 2015-01-05 | 株式会社東芝 | 静電気保護回路 |
US9153958B2 (en) * | 2013-08-15 | 2015-10-06 | Nxp B.V. | Bias-insensitive trigger circuit for bigFET ESD supply protection |
JP7130495B2 (ja) | 2018-08-29 | 2022-09-05 | 日清紡マイクロデバイス株式会社 | 負荷駆動回路 |
-
2021
- 2021-03-08 JP JP2021036081A patent/JP7350798B2/ja active Active
- 2021-07-30 US US17/390,044 patent/US11600993B2/en active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP7350798B2 (ja) | 2023-09-26 |
US20220285933A1 (en) | 2022-09-08 |
US11600993B2 (en) | 2023-03-07 |
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A621 | Written request for application examination |
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