JP2022128476A - リフト装置 - Google Patents
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Abstract
Description
レセプターステージのY軸(Yr)と調整基板AR上のアライメントラインYの平行度を調整するため、レセプターステージのZ軸(Zr)上に載置された調整基板ARを、光学ステージ(Xo)又はこれに設置された投影レンズ用のZ軸ステージに固定された高倍率CCDカメラにより観察する。前記Yr軸を400[mm]移動させ、アライメントラインYのX軸方向のズレ量が1[μm]以内に収まるよう、レセプターステージのθ軸(θr)を用いて調整する。なお、このときのステージの移動距離は、ステージの有効ストロークの範囲内であり、また、許容すべきズレ量については、要求されるリフト精度に応じて変動する。(以下同じ。)
次に、前記により調整された調整基板ARのアライメントラインXを用いて、ドナーステージのX軸(Xd)とレセプターステージのY軸(Yr)との直角度を、同じく光学ステージ(Xo)又はこれに設置された投影レンズ用のZ軸ステージに固定された高倍率CCDカメラにより観察しながら調整する。前記Xd軸を400[mm]移動させ、アライメントラインXのY軸方向のズレ量が1[μm]以内に収まるよう、前述のG1とXd間の回転調整機構を用いて両者の取り付け角度を調整すると共に、G1とXd、すなわちYrに対するXdの取り付け角度を調整する。
前記により調整された調整基板ARのアライメントラインXを用いて、光学ステージ(Xo)とドナーステージのX軸(Xd)との平行度を、光学ステージ(Xo)又はこれに設置された投影レンズ用のZ軸ステージに固定された高倍率CCDカメラにより観察しながら調整する。前記Xo軸を200[mm]移動させ、アライメントラインXのY軸方向のズレ量が0.5[μm]以内に収まるよう、ドナーステージのX軸(Xd)に対する光学ステージ(Xo)の平行度を両者間の回転調整機構により調整する。
ドナーステージのY軸(Yd)と調整基板AD上のアライメントラインYの平行度を調整するため、ドナーステージのθ軸(θd)に保持された調整基板ADを、光学ステージ(Xo)又はこれに設置された投影レンズ用のZ軸ステージに固定された高倍率CCDカメラにより観察する。前記Yd軸を200[mm]移動させ、アライメントラインYのX軸方向のズレ量が0.5[μm]以内に収まるよう、ドナーステージのθ軸(θd)を用いて調整する。
ドナーステージのX軸(Xd)とドナーステージのY軸(Yd)の直角度を調整するため、調整基板AD上のアライメントラインXを、ドナーステージのX軸(Xd)との平行度が既に調整された光学ステージ(Xo)又はこれに設置された投影レンズ用のZ軸ステージに固定された高倍率CCDカメラにより観察する。その光学ステージ(Xo)を200[mm]移動させ、アライメントラインXのY軸方向のズレ量が0.5[μm]以内に収まるよう、ドナーステージのX軸(Xd)に吊設されたドナーステージのY軸(Yd)との直角度を両者間の回転調整機構により調整する。
最後に、ドナーステージのY軸(Yd)とレセプターステージのY軸(Yr)の平行度を確認するため、ドナーステージのY軸(Yd)に高倍率CCDカメラを取り付け、対向するレセプターステージ上に載置した調整基板ARのアライメントラインYを観察する。
この時、調整基板ADは取り外しておく。この高倍率CCDカメラがレセプターステージの任意の一端を観察できるようにドナーステージのX軸(Xd)を移動する。次に、ドナーステージのY軸(Yd)を400[mm]移動させ、アライメントラインYのX軸方向のズレ量が1[μm]以内に収まっているかを確認する。さらに、レセプターステージの他端についても同様の確認するため、Xdをその他端に移動させたのち、再びYdを400[mm]移動し、アライメントラインYのX軸方向のズレ量が1[μm]以内に収まっていることを確認する。なお、YdとYrを併進させ、アライメントマークの位置の変動を観察するのもよい。
この調整ステップは、前記実施例1及び2にも共通する前提としての調整ステップである。石定盤2(G2)の上に設置されたレセプターステージのY軸(Yr)とその上に設置されたθ軸(θr)、同じくZ軸(Zr)及びレセプター基板のホルダーの真直度(水平面をXY平面としたときの鉛直方向であるZ軸に対する真直度)を、レーザ干渉計等を用いて調整する。なお、基本的にこの調整のあとは、レセプターステージ群の直角度に影響を与える可能性のある調整は行わず、他のステージの調整は全てこのレセプターステージ群の、例えばその最上面を基準に行う。
実施例1の調整ステップ1)と同様に、レセプターステージのY軸(Yr)と調整基板AR上のアライメントラインYの平行度を調整する。これにより、YrとアライメントラインXとの直角度も調整されたことになる。なお、調整基板ARを用いることなく、Yrに直接描画等されたアライメントライン又はアライメントマークを用いる場合、この調整ステップ1)は省略できる。
次に、調整基板ARのアライメントラインXを、ドナーステージのX軸(Xd)上に載置された光学ステージ(Xo)に設置された高倍率CCDカメラにより観察する。この高倍率CCDカメラのZ軸方向の位置は、投影光学系の設計によるものの、本実施例3においては投影レンズ(Pl)の位置近辺に投その影レンズを保持するZ軸ステージ(Zl)を用いて固定されている。Xdを400[mm]移動させ、アライメントラインXのY軸方向のズレ量が0.3[μm]以内に収まるように、石定盤1に対するXdの取り付け角度、すなわちYrに対するXdの直角度を、回転調整機構を用いて調整する。
実施例1の記載においては、他の軸周り(X軸やY軸)についての調整ステップの記載は省略したが、ここでは、X軸周り、すなわちYZ平面内の平行度の調整ステップについて簡単に説明する。レセプターステージのZ軸(Zr)又はその他の部位に設置されたハイトセンサーを用いてドナーステージのY軸(Yd)の下面を観察する。YrとYdを同時に200[mm]以上同期して同一距離移動(並走)させ、ギャップセンサーによる測定値(ZrとYdの距離)の変動を観察する。その変動が5[μm]以内、又は投影レンズによる結像の焦点深度より十分小さい範囲に収まるように、XdとYd間に設置された回転調整機構と、Yd又はXdとの間にシム板を挿入し、YrとYd間のYZ平面内の平行度を調整する。
Zr又はその他の部位に設置された高倍率CCDカメラにて、Ydの下面に設けたパターンマッチング用のアライメントマークを観察する。YrとYdを同期して同一距離移動(並走)させ、パターンマッチングされたアライメントマーク画像(十字マークなど。)の位置がX軸方向に移動する場合、これを修正するようXdとYd間に設置した回転調整機構を用いて調整する。なお、アライメントマークの代わりにドナーステージのY軸に取り付けた調整基板ADのアライメントラインYを用いることも可能である。
前記調整ステップ1)にてレセプターステージのY軸(Yr)との直角度が調整された調整基板ARのアライメントラインXを、光学ステージ(Xo)に設置された高倍率CCDカメラにより観察する。Xoを400[mm]移動させ、アライメントラインXのY軸方向のズレ量が0.3[μm]以内に収まるように、Xdに対するXoの取り付け角度を、両者間に設置された回転調整機構を用いて調整する。
AR レセプターステージ用調整用基板
BP 共焦点ビームプロファイラー
CCD 高倍率カメラ
D ドナー基板
F フィールドレンズ
G 基礎定盤
G1 定盤1
G11 定盤11
G12 定盤12
G2 定盤2
G3 定盤3
H 整形光学系
Ic レーザ干渉計用コーナーキューブ
IL レーザ干渉計用レーザ
LS レーザ光
M マスク
Pl 投影レンズ
R レセプター基板
RP 回転調整機構
S 対象物
TE テレスコープ
Xd ドナーステージのX軸
Xo 光学ステージ(X軸)
Yd ドナーステージのY軸
Yl 投影レンズとカメラの切り替えステージ
Yr レセプターステージのY軸
Zl 投影レンズのZ軸ステージ
Zr レセプターステージのZ軸
θd ドナーステージのθ軸
θr レセプターステージのθ軸
Claims (10)
- ドナー基板を保持するドナーステージ、光学系を保持する光学ステージ、及び、レセプター基板を保持するレセプターステージを有するリフト装置であって、
前記ドナーステージ及び前記光学ステージと、前記レセプターステージと、が独立の機構であるリフト装置。 - 前記光学系に向けてパルスレーザ光をパルス発振するレーザ装置を更に有する請求項1に記載のリフト装置。
- 前記パルスレーザ装置はエキシマレーザである請求項2に記載のリフト装置。
- 前記エキシマレーザ装置から出射するレーザパルスの任意のパルス列を遮断する、パルスシャッターを備えている請求項3に記載のリフト装置。
- 前記光学系として、整形光学系を含む請求項1~4のいずれか1項に記載のリフト装置。
- ドナー基板を保持するドナーステージ、光学系を保持する光学ステージ、及び、レセプター基板を保持するレセプターステージを有するリフト装置であって、
前記ドナーステージ及び前記光学ステージが各々独立して定盤に設置されているリフト装置。 - 前記光学系に向けてパルスレーザ光をパルス発振するレーザ装置を更に有する請求項6に記載のリフト装置。
- 前記パルスレーザ装置はエキシマレーザである請求項7に記載のリフト装置。
- 前記エキシマレーザ装置から出射するレーザパルスの任意のパルス列を遮断する、パルスシャッターを備えている請求項8に記載のリフト装置。
- 前記光学系として、整形光学系を含む請求項6~9のいずれか1項に記載のリフト装置。
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