JP2022121537A - Metal mask - Google Patents

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Yoshihiro Kobayashi
裕仁 田丸
Hirohito Tamaru
貴士 中島
Takashi Nakajima
優介 浦埜
Yusuke Urano
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a metal mask that optimizes the shape of an adjustment opening for a pattern opening and can accurately form a printing layer of a desired printing pattern with an appropriate amount of printing paste.
SOLUTION: Provided is a metal mask that includes a mask plate 5 having a group of pattern openings 1, and a squeegee plate 6 having a group of adjustment openings 3 corresponding to the pattern openings 1. In the adjustment opening 3, an adjustment rib 9 connecting the inner surfaces of the opening is formed. The adjustment rib 9 is formed in a state of being inclined with respect to the sides constituting the adjustment opening 3. The inclination angle of the adjustment rib 9 is set to 20 degrees or more and 70 degrees or less.
SELECTED DRAWING: Figure 2
COPYRIGHT: (C)2022,JPO&INPIT

Description

本発明は、特に、セラミックコンデンサの内部電極などの微細な印刷パターンをスクリーン印刷法で形成する際に用いられるメタルマスク、なかでもマスク版とスキージ版とを備えるメタルマスクに関する。 More particularly, the present invention relates to a metal mask used for forming fine print patterns such as internal electrodes of ceramic capacitors by screen printing, and more particularly to a metal mask comprising a mask plate and a squeegee plate.

この種のメタルマスクは、所望の印刷パターンにパターン開口が形成されたマスク版と、マスク版と一体に形成されてスキージ面となるスキージ版とを備えている。スキージ版には、パターン開口に供給される、例えば、はんだペーストや導電性インキなどの印刷ペーストの供給量を調整する調整開口が、各パターン開口毎に形成されている。このようなマスク版とスキージ版とを備えるメタルマスクは、マスク版がポリイミドなどの樹脂材料を素材として形成され、スキージ版がニッケルなどの金属材料を素材として形成される形態と、マスク版およびスキージ版の両者が金属材料を素材として形成される形態とが知られている。前者のメタルマスクは特許文献1に見ることができ、後者のメタルマスクは特許文献2に見ることができる。 This type of metal mask includes a mask plate having pattern openings formed in a desired printing pattern, and a squeegee plate integrally formed with the mask plate to serve as a squeegee surface. The squeegee plate is provided with adjustment openings for each pattern opening for adjusting the amount of printing paste such as solder paste or conductive ink supplied to the pattern openings. A metal mask comprising such a mask plate and a squeegee plate has a form in which the mask plate is made of a resin material such as polyimide, and a squeegee plate is made of a metal material such as nickel. A form in which both plates are made of a metal material is known. The metal mask for the former can be seen in US Pat.

特開平11-042867号公報JP-A-11-042867 特開平05-085077号公報JP-A-05-085077

スクリーン印刷を行う場合には、印刷対象の表面にメタルマスクを載置し、メタルマスクの表面一側に乗せた印刷ペーストをスキージで移動させながら印刷対象側へ押し出して、印刷パターンに合致した印刷層を形成する。このとき、調整開口によりパターン開口への印刷ペーストの供給量が調整され、印刷パターンに最適な量の印刷ペーストで印刷層が形成される。スクリーン印刷時には、印刷対象の表面に対するメタルマスクの載置と剥離を繰り返す。そのため、マスク版がポリイミドなどの樹脂材料で形成してある特許文献1のスクリーン印刷用マスクでは、印刷時における印刷対象とマスクとの摩擦やマスク洗浄時などにマスク版の表面が磨耗しやすく、耐久性に問題があった。 When performing screen printing, a metal mask is placed on the surface of the object to be printed, and the printing paste placed on one side of the surface of the metal mask is pushed out to the side of the object to be printed while being moved by a squeegee to perform printing that matches the printing pattern. form a layer. At this time, the amount of print paste supplied to the pattern opening is adjusted by the adjustment opening, and the print layer is formed with the optimum amount of print paste for the print pattern. During screen printing, the metal mask is repeatedly placed on and peeled off from the surface of the object to be printed. Therefore, in the screen printing mask of Patent Document 1, in which the mask plate is made of a resin material such as polyimide, the surface of the mask plate is easily worn due to friction between the printing target and the mask during printing, and during cleaning of the mask. There was a problem with durability.

その点、マスク版が金属材料で形成してある特許文献2のスクリーン刷版は、マスク版表面の磨耗を低減することができ、十分な耐久性を発揮できる。しかし、特許文献2に係るスクリーン刷版は、図21および図22に示すように、第1の金属膜101に印刷パターンに合致するパターン開口102が形成されており、第2の金属膜103にパターン開口102の外形形状内に収まる調整開口104が形成されている。こうした開口構造では、第2の金属膜103がパターン開口102の開口周縁部分の上側に迫り出してしまう。そのため、スクリーン印刷時に印刷ペーストをスキージで印刷対象W側へ押し出した際に、図21に示すように、上方から供給された印刷ペーストの周囲にリング状の隙間105が形成され、この隙間105に空気が残留し、印刷層を印刷パターン通りに形成できないことがある。 In this regard, the screen printing plate disclosed in Patent Document 2, in which the mask plate is made of a metal material, can reduce wear on the surface of the mask plate and exhibit sufficient durability. However, in the screen printing plate according to Patent Document 2, as shown in FIGS. An adjustment opening 104 that fits within the outer shape of the pattern opening 102 is formed. In such an opening structure, the second metal film 103 protrudes above the peripheral edge portion of the pattern opening 102 . Therefore, when the printing paste is pushed out toward the object to be printed W by a squeegee during screen printing, a ring-shaped gap 105 is formed around the printing paste supplied from above, as shown in FIG. Air may remain and the printed layer may not be formed according to the printed pattern.

また、印刷ペーストがパターン開口102に適正に充満された場合でも、図22に示すように、スクリーン刷版を印刷対象Wから剥離する際に、印刷ペーストの一部がスクリーン刷版とともに剥離されて、印刷層を適正に形成できないことがある。これは、印刷ペーストが、第1の金属膜101と第2の金属膜103との隣接部分に形成される入隅部106に、ペースト自身の表面張力で付着するのが原因である。従って、印刷層の形状がいびつなものとなり、印刷品質の低下を招いていた。印刷品質が低下した場合、最終製品が例えばセラミックコンデンサである場合には、設計通りの容量を発揮できない。また、スクリーン刷版に印刷ペーストが吸着している場合には、スクリーン刷版を洗浄して印刷ペーストを取り除く必要があり、印刷効率が低下する。 Moreover, even when the pattern openings 102 are properly filled with the printing paste, as shown in FIG. , the printed layer may not be properly formed. This is because the printing paste adheres to the internal corner 106 formed at the adjacent portion of the first metal film 101 and the second metal film 103 by the surface tension of the paste itself. As a result, the shape of the printed layer becomes distorted, resulting in deterioration of printing quality. If the print quality is degraded and the final product is, for example, a ceramic capacitor, the capacity as designed cannot be exhibited. Moreover, when the printing paste adheres to the screen printing plate, it is necessary to wash the screen printing plate to remove the printing paste, which lowers the printing efficiency.

本発明の目的は、パターン開口に対する調整開口の形状を最適化して、適正な量の印刷ペーストで所望の印刷パターンの印刷層を的確に形成することができるメタルマスクを提供することにある。 SUMMARY OF THE INVENTION It is an object of the present invention to provide a metal mask which optimizes the shape of the adjustment openings relative to the pattern openings and which can accurately form a printed layer having a desired printed pattern with an appropriate amount of printing paste.

本発明に係るスクリーン印刷用メタルマスクは、一群のパターン開口1を備えたマスク版5と、パターン開口1に対応する一群の調整開口3を備えたスキージ版6とを備えており、両版5・6のそれぞれが、金属材で形成されている。調整開口3には、対向する開口内面同士を繋ぐ調整リブ9が形成されている。調整開口3の開口形状が、パターン開口1の開口形状と同じ、ないしはパターン開口1の開口形状よりも僅かに大きく形成されていることを特徴とする。 A metal mask for screen printing according to the present invention comprises a mask plate 5 having a group of pattern openings 1 and a squeegee plate 6 having a group of adjustment openings 3 corresponding to the pattern openings 1. - Each of 6 is formed with the metal material. Adjustment ribs 9 are formed in the adjustment opening 3 to connect the inner surfaces of the openings facing each other. The opening shape of the adjustment opening 3 is formed to be the same as the opening shape of the pattern opening 1 or slightly larger than the opening shape of the pattern opening 1 .

調整開口3の開口形状を、パターン開口1の開口形状よりも相似的に大きく形成して、調整開口3の開口内面と、パターン開口1の開口周縁壁との間に段落ち部8を形成する。段落ち部8の幅寸法w1を、1μm以上15μm以下に設定する。 The opening shape of the adjustment opening 3 is similarly formed to be larger than the opening shape of the pattern opening 1, and a stepped portion 8 is formed between the opening inner surface of the adjustment opening 3 and the opening peripheral wall of the pattern opening 1. . The width dimension w1 of the step drop portion 8 is set to 1 μm or more and 15 μm or less.

調整開口3の開口形状を、パターン開口1の開口形状と同じに形成する。マスク版5に、調整開口3内に進入して調整開口3の開口内面を構成する調整開口周縁部49を一体に形成し、両開口1・3の開口内面どうしを面一状に形成する。 The opening shape of the adjustment opening 3 is formed to be the same as the opening shape of the pattern opening 1 . The mask plate 5 is integrally formed with an adjustment opening peripheral edge portion 49 which enters the adjustment opening 3 and constitutes the inner surface of the adjustment opening 3, and the inner surfaces of the openings 1 and 3 are formed flush with each other.

調整リブ9を直線状に形成された第1リブ9aと第2リブ9bとで構成する。第1リブ9aと第2リブ9bとを互いに交差する状態で配置する。 The adjustment rib 9 is composed of a first rib 9a and a second rib 9b which are linearly formed. The first ribs 9a and the second ribs 9b are arranged to cross each other.

本発明は、図1に示すように、一群のパターン開口1を備えたマスク版5と、パターン開口1に対応する一群の調整開口3を備えたスキージ版6とを備えており、両版5・6のそれぞれが、金属材で形成されており、調整開口3の開口形状が、パターン開口1の開口形状よりも相似的に大きく形成されているスクリーン印刷用メタルマスクの製造方法であって、メタルマスクは、第1電鋳層24を形成する1次電鋳工程と、第2電鋳層34を形成する2次電鋳工程と、剥離工程とを経て形成される。1次電鋳工程は、平板状の電鋳母型20の上面に第1フォトレジスト層21を形成し、調整開口3に対応する透光孔を有する第1パターンフィルム22を、第1フォトレジスト層21の上面に載置したのち第1フォトレジスト層21を露光して、調整開口3の開口形状に対応する第1レジスト体23を形成する工程と、電鋳母型20上の第1レジスト体23で覆われていない表面に、一群の調整開口3が形成されるスキージ版6となる第1電鋳層24を電鋳法により形成する工程とを含む。2次電鋳工程は、第1電鋳層24および第1レジスト体23の上面に第2フォトレジスト層31を形成し、パターン開口1に対応する透光孔を有する第2パターンフィルム32を、第2フォトレジスト層31の上面に載置したのち第2フォトレジスト層31を露光して、パターン開口1の開口形状に対応する第2レジスト体33を形成する工程と、第1電鋳層24および第1レジスト体23上の第2レジスト体33で覆われていない表面に、一群のパターン開口1が形成されるマスク版5となる第2電鋳層34を電鋳法により形成する工程とを含む。剥離工程は、電鋳母型20から第1および第2電鋳層24・34を剥離する工程を含むことを特徴とする。これにて、図1に示すように、調整開口3の開口内面と、パターン開口1の開口周縁壁との間に段落ち部8が形成されたスクリーン印刷用メタルマスクを得ることができる。 The present invention, as shown in FIG. A method for manufacturing a metal mask for screen printing, wherein each of 6 is made of a metal material, and the opening shape of the adjustment opening 3 is similarly formed to be larger than the opening shape of the pattern opening 1, The metal mask is formed through a primary electroforming process for forming the first electroformed layer 24, a secondary electroforming process for forming the second electroformed layer 34, and a peeling process. In the primary electroforming process, a first photoresist layer 21 is formed on the upper surface of a plate-like electroformed matrix 20, and a first pattern film 22 having transparent holes corresponding to the adjustment openings 3 is formed on the first photoresist. a step of exposing the first photoresist layer 21 after placing it on the upper surface of the layer 21 to form a first resist body 23 corresponding to the opening shape of the adjustment opening 3; and forming, by electroforming, a first electroformed layer 24 on a surface not covered by the body 23, which will become the squeegee plate 6 in which the group of adjustment openings 3 are formed. In the secondary electroforming process, a second photoresist layer 31 is formed on the upper surfaces of the first electroformed layer 24 and the first resist body 23, and a second pattern film 32 having transparent holes corresponding to the pattern openings 1 is formed. a step of exposing the second photoresist layer 31 after placing it on the upper surface of the second photoresist layer 31 to form a second resist body 33 corresponding to the opening shape of the pattern opening 1; and a step of forming a second electroformed layer 34 to be a mask plate 5 in which a group of pattern openings 1 is formed on the surface of the first resist body 23 not covered with the second resist body 33 by electroforming; including. The peeling step is characterized by including a step of peeling the first and second electroformed layers 24 and 34 from the electroformed matrix 20 . In this way, as shown in FIG. 1, a metal mask for screen printing is obtained in which a stepped portion 8 is formed between the opening inner surface of the adjustment opening 3 and the opening peripheral wall of the pattern opening 1 .

また、本発明は、図9に示すように、一群のパターン開口1を備えたマスク版5と、パターン開口1に対応する一群の調整開口3を備えたスキージ版6とを備えており、両版5・6のそれぞれが、金属材で形成されており、調整開口3の開口形状と、パターン開口1の開口形状とが一致するように形成されているスクリーン印刷用メタルマスクの製造方法であって、メタルマスクは、第1電鋳層24を形成する1次電鋳工程と、中間処理工程と、第2電鋳層34を形成する2次電鋳工程と、剥離工程とを経て形成される。1次電鋳工程は、平板状の電鋳母型20の上面に第1フォトレジスト層21を形成し、調整開口3の開口形状に対応する透光孔を有する第1パターンフィルム22を、第1フォトレジスト層21の上面に載置したのち第1フォトレジスト層21を露光して、調整開口3の開口形状に対応する第1レジスト体23を形成する工程と、電鋳母型20上の第1レジスト体23で覆われていない表面に、一群の調整開口3が形成されるスキージ版6となる第1電鋳層24を電鋳法により形成する工程とを含む。中間処理工程は、電鋳母型20上の第1レジスト体23を除去する工程と、第1レジスト体23を除去することにより露出した調整開口3にフォトレジスト41を充填する工程とを含む。2次電鋳工程は、第1電鋳層24および調整開口3に充填したフォトレジスト41の上面に第2フォトレジスト層31を形成し、パターン開口1に対応する透光孔を有する第2パターンフィルム32を、第2フォトレジスト層31の上面に載置したのち第2フォトレジスト層31およびフォトレジスト41を同時に露光して、パターン開口1および調整開口3の開口形状に対応する第2レジスト体33および第3レジスト体43を形成する工程と、第1電鋳層24上の第2レジスト体33で覆われていない表面に、一群のパターン開口1が形成されるマスク版5となる第2電鋳層34を電鋳法により形成する工程とを含む。剥離工程は、電鋳母型20から第1および第2電鋳層24・34を剥離する工程を含むことを特徴とする。これにて、図9に示すように、調整開口3の開口形状と、パターン開口1の開口形状が一致するスクリーン印刷用メタルマスクを得ることができる。 In addition, as shown in FIG. 9, the present invention includes a mask plate 5 having a group of pattern openings 1 and a squeegee plate 6 having a group of adjustment openings 3 corresponding to the pattern openings 1. In the method for manufacturing a metal mask for screen printing, each of the plates 5 and 6 is made of a metal material, and the opening shape of the adjustment opening 3 and the opening shape of the pattern opening 1 are formed to match. The metal mask is formed through a primary electroforming process for forming the first electroformed layer 24, an intermediate treatment process, a secondary electroforming process for forming the second electroformed layer 34, and a peeling process. be. In the primary electroforming process, a first photoresist layer 21 is formed on the upper surface of a plate-shaped electroforming master 20, and a first pattern film 22 having a transparent hole corresponding to the opening shape of the adjustment opening 3 is formed. A step of exposing the first photoresist layer 21 after placing it on the upper surface of the first photoresist layer 21 to form a first resist body 23 corresponding to the opening shape of the adjustment opening 3; forming, by electroforming, a first electroformed layer 24 that will be the squeegee plate 6 in which the group of adjustment openings 3 are formed on the surface not covered with the first resist body 23 . The intermediate processing step includes a step of removing the first resist body 23 on the electroformed matrix 20 and a step of filling the adjustment opening 3 exposed by removing the first resist body 23 with the photoresist 41 . In the secondary electroforming process, a second photoresist layer 31 is formed on the upper surface of the first electroformed layer 24 and the photoresist 41 filling the adjustment opening 3, and a second pattern having transparent holes corresponding to the pattern openings 1 is formed. After placing the film 32 on the upper surface of the second photoresist layer 31, the second photoresist layer 31 and the photoresist 41 are simultaneously exposed to form a second resist body corresponding to the opening shapes of the pattern opening 1 and the adjustment opening 3. 33 and a third resist body 43; forming the electroformed layer 34 by electroforming. The peeling step is characterized by including a step of peeling the first and second electroformed layers 24 and 34 from the electroformed matrix 20 . Thus, as shown in FIG. 9, a metal mask for screen printing in which the opening shape of the adjustment opening 3 and the opening shape of the pattern opening 1 match can be obtained.

また、本発明は、図12に示すように、一群のパターン開口1を備えたマスク版5と、パターン開口1に対応する一群の調整開口3を備えたスキージ版6とを備えており、両版5・6のそれぞれが、金属材で形成されており、調整開口3の開口形状と、パターン開口1の開口形状とが一致するように形成されているスクリーン印刷用メタルマスクの製造方法であって、メタルマスクは、第1電鋳層24を形成する1次電鋳工程と、中間処理工程と、第2電鋳層34を形成する2次電鋳工程と、剥離工程とを経て形成される。1次電鋳工程は、平板状の電鋳母型20の上面に第1フォトレジスト層21を形成し、調整開口3の開口形状よりも所定寸法だけ大きなダミー開口45の開口形状に対応する透光孔を有するダミーパターンフィルム46を、第1フォトレジスト層21の上面に載置したのち第1フォトレジスト層21を露光して、ダミー開口45の開口形状に対応するダミーレジスト体47を形成する工程と、電鋳母型20上のダミーレジスト体47で覆われていない表面に、一群のダミー開口45が形成されるスキージ版6となる第1電鋳層24を電鋳法により形成する工程とを含む。中間処理工程は、電鋳母型20のダミーレジスト体47を除去する工程と、ダミーレジスト体47を除去することにより露出したダミー開口45にフォトレジスト41を充填する工程とを含む。2次電鋳工程は、第1電鋳層24およびダミー開口45に充填したフォトレジスト41の上面に第2フォトレジスト層31を形成し、パターン開口1に対応する透光孔を有する第2パターンフィルム32を、第2フォトレジスト層31の上面に載置したのち第2フォトレジスト層31およびフォトレジスト41を同時に露光して、パターン開口1および調整開口3の開口形状に対応する第2レジスト体33および第3レジスト体43を形成する工程と、電鋳母型20および第1電鋳層24上の第2および第3レジスト体33・43で覆われていない表面に、一群のパターン開口1が形成されるマスク版5およびダミー開口45内に侵入して調整開口周縁部49となる第2電鋳層34を電鋳法により形成する工程とを含むことを特徴とする。これにて、図12に示すように、調整開口3の開口形状と、パターン開口1の開口形状が一致し、調整開口周縁部49がダミー開口45内に進入しているスクリーン印刷用メタルマスクを得ることができる。 In addition, as shown in FIG. 12, the present invention includes a mask plate 5 having a group of pattern openings 1 and a squeegee plate 6 having a group of adjustment openings 3 corresponding to the pattern openings 1. In the method for manufacturing a metal mask for screen printing, each of the plates 5 and 6 is made of a metal material, and the opening shape of the adjustment opening 3 and the opening shape of the pattern opening 1 are formed to match. The metal mask is formed through a primary electroforming process for forming the first electroformed layer 24, an intermediate treatment process, a secondary electroforming process for forming the second electroformed layer 34, and a peeling process. be. In the primary electroforming process, a first photoresist layer 21 is formed on the upper surface of a plate-shaped electroforming matrix 20, and a transparency corresponding to the opening shape of a dummy opening 45 that is larger than the opening shape of the adjustment opening 3 by a predetermined dimension. After placing a dummy pattern film 46 having light holes on the upper surface of the first photoresist layer 21, the first photoresist layer 21 is exposed to form a dummy resist body 47 corresponding to the opening shape of the dummy openings 45. and a step of forming, by electroforming, a first electroformed layer 24 to be a squeegee plate 6 in which a group of dummy openings 45 are formed on the surface of the electroformed master 20 not covered with the dummy resist body 47. including. The intermediate processing step includes a step of removing the dummy resist body 47 of the electroforming matrix 20 and a step of filling the dummy opening 45 exposed by removing the dummy resist body 47 with the photoresist 41 . In the secondary electroforming process, the second photoresist layer 31 is formed on the top surface of the first electroformed layer 24 and the photoresist 41 filling the dummy openings 45, and a second pattern having transparent holes corresponding to the pattern openings 1 is formed. After placing the film 32 on the upper surface of the second photoresist layer 31, the second photoresist layer 31 and the photoresist 41 are simultaneously exposed to form a second resist body corresponding to the opening shapes of the pattern opening 1 and the adjustment opening 3. 33 and a third resist body 43, and a group of pattern openings 1 on surfaces not covered with the second and third resist bodies 33 and 43 on the electroformed matrix 20 and the first electroformed layer 24. and a step of forming the second electroformed layer 34 by electroforming, which penetrates into the mask plate 5 in which is formed and the dummy opening 45 to become the adjustment opening peripheral edge portion 49 . Thus, as shown in FIG. 12, a metal mask for screen printing in which the opening shape of the adjustment opening 3 and the opening shape of the pattern opening 1 are matched and the adjustment opening peripheral edge portion 49 enters the dummy opening 45 is obtained. Obtainable.

フォトレジスト41が、流動性を有する液状フォトレジストである形態を採ることができる。 A form in which the photoresist 41 is a liquid photoresist having fluidity can be adopted.

本発明のスクリーン印刷用メタルマスクにおいては、それぞれ金属材で形成した一群のパターン開口1を備えたマスク版5と、パターン開口1に対応する一群の調整開口3を備えたスキージ版6とを備え、調整開口3の開口形状を、パターン開口1の開口形状と同じ、ないしはパターン開口1の開口形状よりも僅かに大きく形成した。これによれば、スキージ版6がパターン開口1の開口周縁部分の上側に迫り出すことがないので、メタルマスクを印刷対象W上に載置した際に、従来のメタルマスクにおいて避けられなかったリング状の隙間や入隅部が形成されるのを解消できる。従って、隙間での空気の残留や入隅部での印刷ペーストの剥離が発生することなく、適正な量の印刷ペーストで所望の印刷パターンの印刷層を的確に形成することができる。 The metal mask for screen printing of the present invention comprises a mask plate 5 having a group of pattern openings 1 made of a metal material, and a squeegee plate 6 having a group of adjustment openings 3 corresponding to the pattern openings 1. , the opening shape of the adjustment opening 3 is formed to be the same as the opening shape of the pattern opening 1 or slightly larger than the opening shape of the pattern opening 1 . According to this, since the squeegee plate 6 does not protrude above the opening peripheral edge portion of the pattern opening 1, when the metal mask is placed on the printing object W, the ring-like shape which cannot be avoided in the conventional metal mask is prevented. It is possible to eliminate the formation of irregular gaps and internal corners. Therefore, it is possible to accurately form a print layer having a desired print pattern with an appropriate amount of print paste without air remaining in the gaps or peeling of the print paste at the inside corners.

調整開口3の開口形状を、パターン開口1の開口形状よりも相似的に大きく形成して調整開口3の開口内面と、パターン開口1の開口周縁壁との間に段落ち部8を形成した。これによれば、例えば2層構造のメタルマスクを電鋳法で一体的に製造する場合には、パターン開口1および調整開口3を形成するレジスト体の相対位置が僅かにずれた場合でも、位置ずれ量が段落ち部8の幅寸法w1を超えない限りスキージ版6がパターン開口1の開口周縁部分の上側に迫り出すのを解消できる。また、マスク版5およびスキージ版6をそれぞれ別々に製造して接着剤などで一体化する場合には、両版5・6を貼り合せる際の位置精度に段落ち部8の幅寸法w1分だけ余裕ができるので、位置合わせを厳密に規定することなく貼り合せることができる。なお、段落ち部8の幅寸法w1は、1μm以上15μm以下に設定することが好ましい。これは、1μm未満であると段落ち部8がほとんど形成されず、また、15μmを超えると印刷時に段落ち部8に印刷ペーストが付着するおそれがあり、印刷ペーストが段落ち部8に付着した場合には、無駄に消費される印刷ペーストの量が増加するからである。 The opening shape of the adjustment opening 3 is similarly formed to be larger than the opening shape of the pattern opening 1, and a stepped portion 8 is formed between the opening inner surface of the adjustment opening 3 and the opening peripheral wall of the pattern opening 1. - 特許庁According to this, for example, when a metal mask having a two-layer structure is integrally manufactured by electroforming, even if the relative positions of the resist body forming the pattern opening 1 and the adjustment opening 3 are slightly deviated, the position As long as the amount of deviation does not exceed the width dimension w1 of the step drop portion 8, it is possible to prevent the squeegee plate 6 from protruding above the opening peripheral portion of the pattern opening 1. - 特許庁When the mask plate 5 and the squeegee plate 6 are manufactured separately and integrated with an adhesive or the like, the width dimension w1 of the stepped portion 8 is added to the positional accuracy when the two plates 5 and 6 are bonded together. Since there is a margin, it is possible to bond without strictly defining the alignment. The width dimension w1 of the step drop portion 8 is preferably set to 1 μm or more and 15 μm or less. If the thickness is less than 1 μm, the stepped portion 8 is hardly formed. This is because the amount of printing paste that is wasted increases in this case.

調整開口3の開口形状を、パターン開口1の開口形状と同じに形成し、マスク版5に、調整開口3内に進入して調整開口3の開口内面を構成する調整開口周縁部49を一体に形成し、両開口1・3の開口内面どうしを面一状に形成した。これによれば、両開口1・2の開口内面がともにマスク版5で形成されるので、両開口1・3の開口内面の境界部分に段差が形成されることがなく、両開口1・3の内面を滑らかに連続させることができる。 The opening shape of the adjustment opening 3 is formed to be the same as the opening shape of the pattern opening 1, and the mask plate 5 is integrally formed with the adjustment opening peripheral edge portion 49 that enters the adjustment opening 3 and constitutes the inner surface of the adjustment opening 3. The opening inner surfaces of both openings 1 and 3 were formed to be flush with each other. According to this, since the inner surfaces of the openings 1 and 2 are both formed by the mask plate 5, no steps are formed at the boundaries between the inner surfaces of the openings 1 and 3. The inner surface of the can be made smooth and continuous.

第1リブ9aと第2リブ9bとを互いに交差する状態で配置すると、両リブ9a・9bが互いに支持し合って調整リブ9の構造強度を向上することができる。従って、印刷時に調整リブ9上をスキージSが通過する際に、調整リブ9や調整開口3の開口縁がパターン開口1側へ撓み変形するのを防止して、調整リブ9の破損を防止できる。 By arranging the first ribs 9a and the second ribs 9b so as to intersect each other, the ribs 9a and 9b support each other and the structural strength of the adjustment ribs 9 can be improved. Therefore, when the squeegee S passes over the adjusting ribs 9 during printing, the adjusting ribs 9 and the opening edges of the adjusting openings 3 are prevented from being flexed and deformed toward the pattern opening 1 side, and damage to the adjusting ribs 9 can be prevented. .

請求項5に係る本発明の調整開口3の開口形状が、パターン開口1の開口形状よりも相似的に大きく形成されているスクリーン印刷用メタルマスクの製造方法においては、1次電鋳工程でパターン開口1の開口形状よりも相似的に大きく形成されている調整開口3が形成されるスキージ版を形成したのち、2次電鋳工程でパターン開口1が形成されるマスク版5を形成した。これによれば、第2パターンフィルム32を第2フォトレジスト層31の上面に載置する際に、第2パターンフィルム32の第1レジスト体23に対する載置位置が僅かにずれた場合でも、両開口1・2の寸法差の半分を超えない限り、スキージ版6がパターン開口1の開口周縁部分の上側に迫り出すことがなく、第2パターンフィルム32の位置決め精度に余裕ができる。従って、メタルマスクを製造する際の加工不良発生率を低下して、メタルマスクの製造コストを削減することができる。また、第2レジスト体33の形成後に、第1レジスト体23に対する第2レジスト体33の形成位置を上方から確認することができるので、第2レジスト体33の形成位置が大きく位置ずれしている場合には、加工不良品として処理することにより、その後の電着処理を省くことができる。 In the method for manufacturing a metal mask for screen printing according to claim 5 of the present invention, in which the shape of the adjustment opening 3 is formed similar to the shape of the pattern opening 1, the pattern is formed in the primary electroforming step. After forming a squeegee plate in which the adjustment openings 3 which are similarly formed to be larger than the opening shape of the openings 1 are formed, a mask plate 5 in which the pattern openings 1 are formed is formed in a secondary electroforming process. According to this, when the second pattern film 32 is placed on the upper surface of the second photoresist layer 31, even if the placement position of the second pattern film 32 with respect to the first resist body 23 is slightly deviated, As long as the dimensional difference between the openings 1 and 2 does not exceed half, the squeegee plate 6 does not protrude above the opening peripheral edge portion of the pattern opening 1, and the positioning accuracy of the second pattern film 32 has a margin. Therefore, it is possible to reduce the rate of occurrence of processing defects when manufacturing the metal mask, and reduce the manufacturing cost of the metal mask. Further, after the formation of the second resist body 33, the formation position of the second resist body 33 with respect to the first resist body 23 can be confirmed from above, so that the formation position of the second resist body 33 is largely misaligned. In some cases, the subsequent electrodeposition treatment can be omitted by treating the product as a defective product.

請求項6に係る本発明の調整開口3の開口形状と、パターン開口1の開口形状とが一致するように形成されているスクリーン印刷用メタルマスクの製造方法においては、1次電鋳工程と、中間処理工程と、2次電鋳工程と、剥離工程とを経てメタルマスクを形成するようにした。そして、中間処理工程で、電鋳母型20の第1レジスト体23を除去する工程と、第1レジスト体23を除去することにより露出した調整開口3内にフォトレジスト41を充填する工程とを行うようにした。これによれば、第2電鋳層34を形成する際の第2レジスト体33の剥離を防止して、所望の形状の第2電鋳層34を形成することができる。 In the method for manufacturing a metal mask for screen printing, in which the opening shape of the adjustment opening 3 and the opening shape of the pattern opening 1 are formed to match the opening shape of the adjustment opening 3 of the present invention according to claim 6, the first electroforming step; A metal mask is formed through an intermediate treatment process, a secondary electroforming process, and a peeling process. Then, in an intermediate processing step, a step of removing the first resist body 23 of the electroforming matrix 20 and a step of filling the adjustment opening 3 exposed by removing the first resist body 23 with a photoresist 41 are performed. I tried to do it. According to this, the second electroformed layer 34 can be formed in a desired shape by preventing the peeling of the second resist body 33 when forming the second electroformed layer 34 .

詳しくは、電鋳法でメタルマスクを製造する場合には、第1電鋳層24を形成する1次電鋳工程に次いで、第1電鋳層24の上面の平滑化を目的として、第1電鋳層24および第1レジスト体23の上面の研磨処理を行う研磨工程を行う場合がある。この研磨工程の際に、第1レジスト体23にクラックや欠損などの欠陥部が生じることがある。欠陥部が生じた状態の第1レジスト体23に、2次電鋳工程で第2フォトレジスト層31を形成すると、第1レジスト体23と第2フォトレジスト層31との間に空気が封入されてしまう。この状態で、第2レジスト体33を形成したのち第2電鋳層34を形成すると、電鋳法では、電鋳浴槽内の電鋳めっき液は高温に保持されているので、この熱により第1レジスト体23と第2レジスト体33との間に封入された空気が膨張して、第1レジスト体23から第2レジスト体33が剥離され、所望の形状に第2電鋳層34を形成することができない。しかし、研磨工程で第1レジスト体23にクラックや欠損が生じた場合でも、中間処理工程を行って第1レジスト体23を除去したのち、新たにフォトレジスト41を調整開口3に充填することにより、第1、第2のレジスト体23・33の間に空気が封入されるのを防止でき、第2電鋳層34を確実に所望の形状に形成することができる。また、研磨工程の有無にかかわらず同一の製造方法でメタルマスクを製造することができるので、製造ラインを統一してメタルマスクの製造コストを削減することができる。 Specifically, in the case of manufacturing a metal mask by electroforming, after the primary electroforming step of forming the first electroforming layer 24, the first electroforming layer 24 for the purpose of smoothing the upper surface of the first A polishing step for polishing the upper surfaces of the electroformed layer 24 and the first resist body 23 may be performed. During this polishing step, defects such as cracks and defects may occur in the first resist body 23 . When the second photoresist layer 31 is formed in the second electroforming process on the first resist body 23 with defects, air is enclosed between the first resist body 23 and the second photoresist layer 31. end up In this state, when the second electroforming layer 34 is formed after the formation of the second resist body 33, the electroforming plating solution in the electroforming bath is kept at a high temperature in the electroforming method. The air enclosed between the first resist body 23 and the second resist body 33 expands to separate the second resist body 33 from the first resist body 23 and form the second electroformed layer 34 in a desired shape. Can not do it. However, even if cracks or defects occur in the first resist body 23 in the polishing process, after the first resist body 23 is removed by performing an intermediate treatment process, the adjustment opening 3 can be filled with a new photoresist 41. , air can be prevented from being enclosed between the first and second resist bodies 23 and 33, and the second electroformed layer 34 can be reliably formed into a desired shape. In addition, since the metal mask can be manufactured by the same manufacturing method regardless of the presence or absence of the polishing process, it is possible to unify the manufacturing line and reduce the manufacturing cost of the metal mask.

請求項7に係る本発明の調整開口3の開口形状と、パターン開口1の開口形状とが一致するように形成されているスクリーン印刷用メタルマスクの製造方法においては、1次電鋳工程と、中間処理工程と、2次電鋳工程と、剥離工程とを経てメタルマスクを形成するようにした。そして、1次電鋳工程で、調整開口3の開口形状よりも所定寸法だけ大きなダミー開口45を形成した。また、2次電鋳工程で、ダミー開口45内のフォトレジスト41と第2フォトレジスト層31とを同時に露光して、パターン開口1および調整開口3の開口形状に対応する第2レジスト体33および第3レジスト体43を形成したのち、マスク版5およびダミー開口内に侵入して調整開口周縁部49となる第2電鋳層34を電鋳法により形成した。 In the method for manufacturing a screen printing metal mask according to claim 7 of the present invention, in which the shape of the adjustment opening 3 and the shape of the pattern opening 1 are formed to match, a first electroforming step; A metal mask is formed through an intermediate treatment process, a secondary electroforming process, and a peeling process. Then, a dummy opening 45 larger than the opening shape of the adjustment opening 3 by a predetermined dimension is formed in the primary electroforming process. In a secondary electroforming process, the photoresist 41 in the dummy opening 45 and the second photoresist layer 31 are simultaneously exposed to expose the second resist body 33 and the second photoresist layer 33 corresponding to the opening shapes of the pattern opening 1 and the adjustment opening 3 . After forming the third resist body 43, a second electroformed layer 34 which penetrates into the mask plate 5 and the dummy opening and becomes the adjustment opening peripheral edge portion 49 is formed by electroforming.

上記のような製造方法によれば、ダミー開口45内のフォトレジスト41と第2フォトレジスト層31とを同時に露光するので、第2レジスト体33の外形形状と第3レジスト体43の外形形状を完全に一致させることができる。これにより、マスク版5および調整開口周縁部49となる第2電鋳層34を電鋳法で形成することにより、調整開口3とパターン開口1との形成位置および開口形状を完全に一致させることができる。また、調整開口周縁部49とパターン開口1の周縁部はともに第2電鋳層34で形成されるので、両開口1・3の境界部分に段差が形成されることがない。さらに、ダミー開口45がパターン開口1よりも大きく形成されているので、第2パターンフィルム32の載置位置は、パターン開口1に対応する透光孔の位置がダミー開口45の外周縁を超えない範囲で余裕があり、第2パターンフィルム32の載置位置が僅かにずれた場合でも、両開口1・2の境界部分に段差が形成されることがなく、製造時の加工不良発生率を低下させてメタルマスクの製造コストを削減することができる。加えて、中間処理工程を行って、ダミーレジスト体47を除去してフォトレジスト41をダミー開口45に充填するので、ダミーレジスト体47の欠陥部に起因する第2電鋳層34を形成する際の第2レジスト体33の剥離を防止して、所望の形状の第2電鋳層34を形成することができる。 According to the manufacturing method as described above, since the photoresist 41 in the dummy opening 45 and the second photoresist layer 31 are exposed at the same time, the outer shape of the second resist body 33 and the outer shape of the third resist body 43 are changed. can be perfectly matched. Thus, by forming the mask plate 5 and the second electroformed layer 34 to be the adjustment opening peripheral edge portion 49 by electroforming, the formation positions and opening shapes of the adjustment opening 3 and the pattern opening 1 can be completely matched. can be done. Further, since both the adjustment opening peripheral edge portion 49 and the peripheral edge portion of the pattern opening 1 are formed of the second electroformed layer 34, no step is formed at the boundary portion between the two openings 1 and 3. FIG. Furthermore, since the dummy opening 45 is formed to be larger than the pattern opening 1 , the placement position of the second pattern film 32 is such that the position of the transparent hole corresponding to the pattern opening 1 does not exceed the outer periphery of the dummy opening 45 . There is a margin in the range, and even if the mounting position of the second pattern film 32 is slightly deviated, a step is not formed at the boundary between the two openings 1 and 2, and the processing defect rate during manufacturing is reduced. Therefore, the manufacturing cost of the metal mask can be reduced. In addition, since the intermediate processing step is performed to remove the dummy resist body 47 and fill the dummy openings 45 with the photoresist 41, the defects in the dummy resist body 47 cause the second electroformed layer 34 to be formed. The second electroformed layer 34 having a desired shape can be formed by preventing the peeling of the second resist body 33 .

フォトレジスト41が、流動性を有する液状フォトレジストであると、固形状のフォトレジストを使用する場合に比べて、露出した調整開口3に簡単に充填することができる。従って、中間処理時の調整開口3へのフォトレジスト41の充填作業を簡便に行うことができ、製造時間を短縮することができる。 If the photoresist 41 is a fluid photoresist, the exposed adjustment opening 3 can be filled more easily than when a solid photoresist is used. Therefore, the operation of filling the adjustment opening 3 with the photoresist 41 during the intermediate process can be easily performed, and the manufacturing time can be shortened.

本発明の第1実施形態に係るスクリーン印刷用メタルマスクの使用態様例を示す縦断側面図である。BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS It is a longitudinal side view which shows the usage example of the metal mask for screen printing which concerns on 1st Embodiment of this invention. メタルマスクの全体平面図とパターン開口および調整開口の拡大図である。FIG. 2 is an overall plan view of a metal mask and enlarged views of pattern openings and adjustment openings; メタルマスクの斜視図である。1 is a perspective view of a metal mask; FIG. 印刷対象に印刷層を形成した状態を示す縦断側面図である。FIG. 4 is a vertical cross-sectional view showing a state in which a print layer is formed on an object to be printed; 本発明の第1実施形態に係るスクリーン印刷用メタルマスクの1次電鋳工程を示す説明図である。FIG. 4 is an explanatory view showing a primary electroforming process for the screen printing metal mask according to the first embodiment of the present invention; 本発明の第1実施形態に係るスクリーン印刷用メタルマスクの2次電鋳工程および剥離工程を示す説明図である。FIG. 4 is an explanatory view showing a secondary electroforming process and a peeling process of the screen printing metal mask according to the first embodiment of the present invention; メタルマスクの部分拡大平面図である。3 is a partially enlarged plan view of a metal mask; FIG. カットマーク開口を示す平面図である。FIG. 4 is a plan view showing cut mark openings; 本発明の第2実施形態に係るスクリーン印刷用メタルマスクの使用態様例を示す縦断側面図である。FIG. 4 is a vertical cross-sectional side view showing an example of usage of the screen-printing metal mask according to the second embodiment of the present invention. 本発明の第2実施形態に係るスクリーン印刷用メタルマスクの1次電鋳工程および中間処理工程を示す説明図である。FIG. 8 is an explanatory view showing a primary electroforming process and an intermediate treatment process of the screen printing metal mask according to the second embodiment of the present invention; 本発明の第2実施形態に係るスクリーン印刷用メタルマスクの2次電鋳工程および剥離工程を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the secondary electroforming process and peeling process of the metal mask for screen printing which concerns on 2nd Embodiment of this invention. 本発明の第3実施形態に係るスクリーン印刷用メタルマスクの使用態様例を示す縦断側面図である。FIG. 11 is a vertical cross-sectional side view showing an example of usage of the screen-printing metal mask according to the third embodiment of the present invention. 本発明の第3実施形態に係るスクリーン印刷用メタルマスクの1次電鋳工程および中間処理工程を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the primary electroforming process and an intermediate treatment process of the metal mask for screen printing concerning 3rd Embodiment of this invention. 本発明の第3実施形態に係るスクリーン印刷用メタルマスクの2次電鋳工程および剥離工程を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the secondary electroforming process and peeling process of the metal mask for screen printing concerning 3rd Embodiment of this invention. 本発明の第4実施形態に係るパターン開口および調整開口の平面図である。FIG. 10 is a plan view of pattern openings and adjustment openings according to a fourth embodiment of the present invention; 本発明の第4実施形態に係るメタルマスクの斜視図である。FIG. 10 is a perspective view of a metal mask according to a fourth embodiment of the invention; 本発明の第5実施形態に係るスクリーン印刷用メタルマスクを示す縦断側面図である。FIG. 11 is a longitudinal side view showing a screen printing metal mask according to a fifth embodiment of the present invention; 本発明の第5実施形態に係るパターン開口の平面図である。FIG. 11 is a plan view of pattern openings according to a fifth embodiment of the present invention; 本発明の第5実施形態に係るスクリーン印刷用メタルマスクの2次電鋳工程および剥離工程を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the secondary electroforming process and peeling process of the metal mask for screen printing which concerns on 5th Embodiment of this invention. 本発明の第6実施形態に係るカットマーク開口を示す平面図である。FIG. 11 is a plan view showing cut mark openings according to a sixth embodiment of the present invention; 従来のスクリーン印刷用メタルマスクにおける印刷層の形成態様を示す縦断側面図である。It is a vertical side view which shows the formation aspect of the printing layer in the conventional metal mask for screen printing. 従来のスクリーン印刷用メタルマスクにおける印刷層の形成態様を示す縦断側面図である。It is a vertical side view which shows the formation aspect of the printing layer in the conventional metal mask for screen printing.

(第1実施形態) 図1から図8に、本発明に係るスクリーン印刷用メタルマスク(以下、単にメタルマスクと言う。)の第1実施形態を示す。なお、本発明における前後、左右、上下とは、図1および図2に示す交差矢印と、各矢印の近傍に表記した前後、左右、上下の表示に従う。この実施形態のメタルマスクは、印刷対象Wであるセラミックフィルムの表面に、積層型セラミックコンデンサを構成する内部電極をスクリーン印刷法で印刷形成するために用いる。図2においてメタルマスクは一辺が250mmの正方形状に形成されており、同マスクを四つの象限に分割したとき、各象限にそれぞれパターン形成領域Mが区画されており、このパターン形成領域Mに一群のパターン開口1が形成されている。また、メタルマスクには、パターン形成領域Mの周囲を囲むように、スクリーン印刷後の工程で印刷対象Wを規定の形状にカットする際に用いられるカットマークを印刷するための一群のカットマーク開口2が形成されるカットマーク形成領域Cが区画されている。メタルマスクは、マスク単体で、あるいはマスクの四周縁に枠体が接着された状態でスクリーン印刷装置のマスク固定部に装着される。 (First Embodiment) FIGS. 1 to 8 show a first embodiment of a metal mask for screen printing (hereinafter simply referred to as a metal mask) according to the present invention. In the present invention, front and back, left and right, and up and down follow the crossed arrows shown in FIGS. The metal mask of this embodiment is used for printing internal electrodes constituting a multilayer ceramic capacitor on the surface of a ceramic film to be printed W by screen printing. In FIG. 2, the metal mask is formed in a square shape with a side of 250 mm, and when the mask is divided into four quadrants, each quadrant is divided into a pattern formation region M, and each pattern formation region M is divided into a group of pattern opening 1 is formed. Also, in the metal mask, a group of cut mark openings for printing cut marks used when cutting the print target W into a specified shape in a process after screen printing are formed so as to surround the pattern forming region M. A cut mark forming region C where 2 is formed is defined. The metal mask is attached to the mask fixing portion of the screen printing apparatus as a single mask or in a state in which a frame is adhered to the four peripheral edges of the mask.

図1に示すように、メタルマスクは、一群のパターン開口1を備えたマスク版5と、パターン開口1に対応する一群の調整開口3を備えたスキージ版6とを備えている。スキージ版6はスキージ面7を構成しており、印刷時にはスキージ面7上にのせた印刷ペーストをスキージSでスキージングすることにより、印刷ペーストが調整開口3を介してパターン開口1およびカットマーク開口2に押し出されて、印刷対象W表面にパターン開口1およびカットマーク開口2に合致した印刷層PPとカットマークCMが形成される(図7参照)。スキージSは、その先端がスキージ面7と接触した状態でメタルマスクの前側から後側に向かって移動しながら印刷層を形成する。ここで言う「印刷ペースト」とは、はんだペースト、クリームはんだ、液状はんだ、導電性インキなどを含む概念である。 As shown in FIG. 1, the metal mask includes a mask plate 5 having a group of pattern openings 1 and a squeegee plate 6 having a group of adjustment openings 3 corresponding to the pattern openings 1 . The squeegee plate 6 forms a squeegee surface 7. When printing, the printing paste placed on the squeegee surface 7 is squeegeeed by the squeegee S, so that the printing paste passes through the adjustment openings 3 to form the pattern openings 1 and the cut mark openings. 2 to form a printed layer PP and cut marks CM matching the pattern openings 1 and the cut mark openings 2 on the surface of the object to be printed W (see FIG. 7). The squeegee S forms a print layer while moving from the front side to the rear side of the metal mask while its tip is in contact with the squeegee surface 7 . The term "printing paste" as used herein is a concept including solder paste, cream solder, liquid solder, conductive ink, and the like.

マスク版5の厚み寸法t1は6μm以上100μm以下に設定することが好ましく、スキージ版6の厚み寸法t2は3μm以上20μm以下に設定することが好ましい。マスク版5の厚み寸法t1が6μm未満であると、印刷される印刷層PPの厚みが薄くなりすぎ、100μmを超えるとメタルマスクの厚み寸法が厚くなりすぎる。また、スキージ版6の厚み寸法t2が3μm未満であると、後述する調整リブ9の厚み寸法が薄く強度を確保できず、20μmを超えると印刷ペーストが調整開口3を介してパターン開口1に押し出され難くなるからである。スキージ版6とマスク版5との厚み寸法の比率は、1:1.5から1:5に設定することが好ましい。本実施形態では、マスク版5の厚み寸法t1は9μmに設定し、スキージ版6の厚み寸法t2は6μmに設定した。 The thickness t1 of the mask plate 5 is preferably set to 6 μm or more and 100 μm or less, and the thickness t2 of the squeegee plate 6 is preferably set to 3 μm or more and 20 μm or less. If the thickness t1 of the mask plate 5 is less than 6 μm, the printed layer PP will be too thin, and if it exceeds 100 μm, the metal mask will be too thick. If the thickness t2 of the squeegee plate 6 is less than 3 μm, the thickness t2 of the adjustment ribs 9 described below is too small to ensure sufficient strength. This is because it becomes difficult to The thickness ratio between the squeegee plate 6 and the mask plate 5 is preferably set to 1:1.5 to 1:5. In this embodiment, the thickness t1 of the mask plate 5 is set to 9 μm, and the thickness t2 of the squeegee plate 6 is set to 6 μm.

図2に示すように、マスク版5に形成されるパターン開口1の開口形状は、四隅部が丸められた左右横長の長方形状に形成されており、パターン形成領域M内に格子状に配置されている。パターン開口1の上方のスキージ版6に形成される調整開口3の開口形状は、
パターン開口1の開口形状よりも僅かに大きく設定されている。詳しくは、調整開口3の開口形状は、パターン開口1の開口形状よりも相似的に大きく形成されている。これにより、図1に示すように、調整開口3の開口内面と、パターン開口1の開口周縁壁との間に段落ち部8が形成される。調整開口3の開口形状は、パターン開口1と調整開口3との中心を一致するように形成したとき、段落ち部8の幅寸法w1が、1μm以上15μm以下に設定することが好ましい。段落ち部8の幅寸法w1が、1μm未満であると段落ち部8がほとんど形成されず、後述するメタルマスクの製造時における第1パターンフィルム22と第2パターンフィルム32との相対位置のずれの許容値が小さくなるため、製造時の寸法精度を高度に管理する必要があるからである。また、15μmを超えると印刷時に段落ち部8に印刷ペーストが付着するおそれがあり、印刷ペーストが段落ち部8に付着した場合には、無駄に消費される印刷ペーストの量が増加するからである。より好ましくは、2μm以上12μm以下に設定するとよい。本実施形態では、段落ち部8の幅寸法w1は10μmに設定した。また、パターン開口1は、長辺の寸法が0.25mmで短辺の寸法が0.05mmに形成されており、その上下の形成ピッチの寸法は0.10mmで、左右の形成ピッチは0.30mmに設定した。
As shown in FIG. 2, the shape of the pattern openings 1 formed in the mask plate 5 is formed in a laterally elongated rectangular shape with rounded four corners. ing. The opening shape of the adjustment opening 3 formed in the squeegee plate 6 above the pattern opening 1 is
It is set slightly larger than the opening shape of the pattern opening 1 . Specifically, the opening shape of the adjustment opening 3 is similarly formed to be larger than the opening shape of the pattern opening 1 . As a result, as shown in FIG. 1, a stepped portion 8 is formed between the opening inner surface of the adjustment opening 3 and the opening peripheral wall of the pattern opening 1 . The opening shape of the adjustment opening 3 is preferably set such that the width dimension w1 of the stepped portion 8 is 1 μm or more and 15 μm or less when the pattern opening 1 and the adjustment opening 3 are formed so that their centers are aligned. If the width dimension w1 of the stepped portion 8 is less than 1 μm, the stepped portion 8 is hardly formed, and the relative positional deviation between the first pattern film 22 and the second pattern film 32 during the manufacture of the metal mask, which will be described later. This is because the allowable value of .DELTA. Moreover, if the thickness exceeds 15 μm, the printing paste may adhere to the stepped portion 8 during printing, and if the printing paste adheres to the stepped portion 8, the amount of the printing paste that is wastefully consumed increases. be. More preferably, it should be set to 2 μm or more and 12 μm or less. In this embodiment, the width dimension w1 of the step drop portion 8 is set to 10 μm. The pattern opening 1 has a long side dimension of 0.25 mm and a short side dimension of 0.05 mm. It was set to 30 mm.

パターン開口1に対する印刷ペーストの供給量を調整するために、パターン開口1の上方のスキージ版6には調整開口3が形成されている。図2および図3に示すように、調整開口3には、調整開口3の開口周縁の内壁面から延設されてパターン開口1の上面を部分的に覆う調整リブ9が形成されている。調整リブ9は、対向する長辺部の開口周縁どうしを橋絡するように形成されており、直線状の4個の調整リブ9が、隣接する調整リブ9どうしの延設方向が異なるように形成されている。つまり、隣接する調整リブ9が互いに逆向きに傾斜する状態で形成してある。調整リブ9の形成基端部と調整開口3の開口内面との接続部分は丸められており、スキージング時のスキージSとスキージ面7との摩擦によりメタルマスクの前後方向に発生する引張り応力が、前記接続部分に集中してメタルマスクが破損するのを防止している。なお、調整リブ9は、パターン開口1の上方を覆って開口率を減じることで、パターン開口1に押し出される印刷ペーストの量を調整している。本実施形態では、パターン開口1の開口率を100とした場合、調整開口3の開口率を60に設定した。 Adjustment openings 3 are formed in the squeegee plate 6 above the pattern openings 1 in order to adjust the amount of printing paste supplied to the pattern openings 1 . As shown in FIGS. 2 and 3, the adjustment opening 3 is formed with an adjustment rib 9 that extends from the inner wall surface of the opening peripheral edge of the adjustment opening 3 and partially covers the upper surface of the pattern opening 1 . The adjusting ribs 9 are formed so as to bridge the opening peripheral edges of the opposed long sides, and the four linear adjusting ribs 9 are arranged so that the extending directions of the adjacent adjusting ribs 9 are different. formed. That is, adjacent adjustment ribs 9 are formed in a state of being inclined in opposite directions. The connecting portion between the base end portion of the adjustment rib 9 and the inner surface of the adjustment opening 3 is rounded, and the tensile stress generated in the front-rear direction of the metal mask due to friction between the squeegee S and the squeegee surface 7 during squeegeeing is reduced. , the metal mask is prevented from being damaged by concentrating on the connection portion. The adjusting ribs 9 cover the upper part of the pattern openings 1 to reduce the opening ratio, thereby adjusting the amount of printing paste pushed out to the pattern openings 1 . In this embodiment, when the aperture ratio of the pattern aperture 1 is 100, the aperture ratio of the adjustment aperture 3 is set to 60.

調整リブ9の幅寸法w2は、8μm以上20μm以下に設定することが好ましい。8μm未満であると、調整リブ9の強度を確保することが困難であり、20μmを越えると、1個の調整リブ9で覆われるパターン開口1の面積が大きすぎ、印刷ペーストをパターン開口1に均等に充満させることが困難になるからである。また、傾斜する調整リブ9のパターン開口1の長辺方向に対する角度は、20度以上70度以下に設定することが好ましい。角度が20度未満であると、調整リブ9の形成長さが長くなるため強度が低下し、メタルマスクの破損に繋がるおそれがあるからであり、70度を超えると、パターン開口1の開口率を一定にする場合、調整リブ9の幅寸法w2が同じであるときには角度が小さい場合に比べてより多くの調整リブ9を形成する必要があり、調整開口9の形状が微細化してメタルマスクの製造時に加工不良が生じやすくなるからである。本実施形態では、調整リブ9の幅寸法w2を8μmに設定し、パターン開口1の長辺方向に対する角度を60度に設定した。 The width dimension w2 of the adjustment rib 9 is preferably set to 8 μm or more and 20 μm or less. If the thickness is less than 8 μm, it is difficult to secure the strength of the adjustment rib 9 . If the thickness exceeds 20 μm, the area of the pattern opening 1 covered by one adjustment rib 9 is too large, and the printing paste does not reach the pattern opening 1 . This is because it becomes difficult to evenly fill. Moreover, it is preferable to set the angle of the inclined adjustment rib 9 with respect to the direction of the long side of the pattern opening 1 to 20 degrees or more and 70 degrees or less. If the angle is less than 20 degrees, the formed length of the adjustment ribs 9 will be long, and the strength will decrease, which may lead to breakage of the metal mask. is constant, when the width dimension w2 of the adjusting rib 9 is the same, it is necessary to form more adjusting ribs 9 than when the angle is small. This is because processing defects tend to occur during manufacturing. In this embodiment, the width dimension w2 of the adjustment rib 9 is set to 8 μm, and the angle of the pattern opening 1 with respect to the long side direction is set to 60 degrees.

図8に示すように、マスク版5に形成されるカットマーク開口2の開口形状は、四隅部が丸められた横長の長方形状に形成されており、その一側辺部分に切欠き11がそれぞれ形成されている。一群のカットマーク開口2は、カットマーク形成領域Cの長手方向に沿って並列状に形成されている。カットマーク開口2は、前後に長いカットマーク形成領域Cでは、切欠き11が形成された一側が左側に位置する状態で左右に指向しており、左右に長いカットマーク形成領域Cでは、切欠き11が形成された一側が後側に位置する状態で前後に指向している。 As shown in FIG. 8, the opening shape of the cut mark opening 2 formed in the mask plate 5 is formed in a horizontally long rectangular shape with rounded four corners, and a notch 11 is formed on one side of the rectangular shape. formed. A group of cut mark openings 2 are formed in parallel along the longitudinal direction of the cut mark forming region C. As shown in FIG. The cut mark opening 2 is oriented left and right in a state where one side in which the notch 11 is formed is located on the left side in the cut mark forming region C that is long in the front-rear direction, and the cut mark opening 2 is oriented in the left and right direction. The side on which 11 is formed is oriented forward and backward in a state located on the rear side.

カットマーク開口2の上方のスキージ版6には、図8に示すようにカットマーク調整開口12が形成されている。カットマーク調整開口12の開口形状は、調整開口3と同様に、カットマーク開口2の開口形状よりも僅かに大きく設定されている。詳しくは、カットマーク調整開口12の開口形状は、カットマーク開口2の開口形状よりも相似的に大きく形成されている。これにより、カットマーク調整開口12の開口内面と、カットマーク開口2の開口周縁壁との間に段落ち部13が形成されている。カットマーク調整開口12の開口形状は、パターン開口1と調整開口3との中心を一致するように形成したとき、段落ち部13の幅寸法w3が、1μm以上15μm以下に設定することが好ましい。より好ましくは、段落ち部13の幅寸法w3は、2μm以上12μm以下に設定するとよい。本実施形態では、段落ち部13の幅寸法w3は10μmに設定した。また、カットマーク開口2は、長辺の寸法が2.0mmで短辺の寸法が0.07mmに形成されており、その隣接ピッチp1の寸法は、2.8mmに設定した。 Cut mark adjustment openings 12 are formed in the squeegee plate 6 above the cut mark openings 2 as shown in FIG. The opening shape of the cut mark adjustment opening 12 is set slightly larger than the opening shape of the cut mark opening 2 like the adjustment opening 3 . Specifically, the opening shape of the cut mark adjustment opening 12 is similarly formed to be larger than the opening shape of the cut mark opening 2 . Thereby, a stepped portion 13 is formed between the opening inner surface of the cut mark adjustment opening 12 and the opening peripheral wall of the cut mark opening 2 . The opening shape of the cut mark adjustment opening 12 is preferably set such that the width dimension w3 of the stepped portion 13 is 1 μm or more and 15 μm or less when the pattern opening 1 and the adjustment opening 3 are formed so that their centers are aligned. More preferably, the width dimension w3 of the stepped portion 13 is set to 2 μm or more and 12 μm or less. In this embodiment, the width dimension w3 of the step drop portion 13 is set to 10 μm. The cut mark openings 2 are formed to have a long side dimension of 2.0 mm and a short side dimension of 0.07 mm, and the adjacent pitch p1 is set to 2.8 mm.

パターン開口1の調整開口3と同様に、カットマーク調整開口12の上方のスキージ版6には調整リブ15が形成されており、カットマーク調整開口12用の調整リブ15は菱形の網目状に形成されている。調整リブ15の形成基端部とカットマーク調整開口12の開口内面との接続部分は丸められており、スキージング時のスキージSとスキージ面7との摩擦によりメタルマスクの前後方向に発生する引張り応力が、前記接続部分に集中してメタルマスクが破損するのを防止している。調整リブ15の幅寸法は、パターン開口1の調整開口3に形成される調整リブ9と同様の寸法に形成することが好ましい。 Similar to the adjustment openings 3 of the pattern opening 1, adjustment ribs 15 are formed on the squeegee plate 6 above the cut mark adjustment openings 12, and the adjustment ribs 15 for the cut mark adjustment openings 12 are formed in a rhombic mesh shape. It is The connecting portion between the forming base end portion of the adjustment rib 15 and the inner surface of the cut mark adjustment opening 12 is rounded, and the friction between the squeegee S and the squeegee surface 7 during squeegeeing causes tension in the front-rear direction of the metal mask. This prevents the stress from concentrating on the connection portion and damaging the metal mask. The width dimension of the adjustment rib 15 is preferably formed to be the same size as the adjustment rib 9 formed in the adjustment opening 3 of the pattern opening 1 .

また、切欠き11の底辺部とカットマーク調整開口12の長辺部とを接続する接続辺部14は、底辺部と長辺部とを緩やかに接続するように形成されている。このように、接続辺部14を緩やかに接続するように形成することにより、スキージング時のスキージSとスキージ面7との摩擦によりメタルマスクの前後方向に発生する引張り応力が、前記接続辺部14に集中してメタルマスクが破損するのを防止できる。本実施形態では、切欠きの底辺部と接続辺部14とがなす接続角度θ1が、45度となるように形成した。なお、接続角度θ1は、10度以上90度以下に設定すること好ましい。接続角度θ1が10度未満であると、切断時の基準位置となる切欠き部分による印刷層の形状が不明確になり、後工程での切断作業が困難となるためであり、接続角度θ1が90度を超えると、スキージSが通過する際に、スキージSが接続辺部14に引っ掛かり、メタルマスクが破損するおそれがあるからである。より好ましくは、接続角度θ1は、30度以上60度以下に設定するとよい。 A connecting side portion 14 connecting the bottom side portion of the notch 11 and the long side portion of the cut mark adjustment opening 12 is formed so as to gently connect the bottom side portion and the long side portion. By forming the connection side portions 14 to be gently connected in this manner, the tensile stress generated in the front-rear direction of the metal mask due to the friction between the squeegee S and the squeegee surface 7 during squeegeeing is reduced to the connection side portions. It is possible to prevent the metal mask from being damaged by concentrating on 14. In the present embodiment, the connection angle θ1 between the base of the notch and the connection side 14 is formed to be 45 degrees. It should be noted that the connection angle θ1 is preferably set to 10 degrees or more and 90 degrees or less. This is because if the connection angle θ1 is less than 10 degrees, the shape of the printed layer due to the notch portion that serves as the reference position for cutting becomes unclear, making it difficult to cut in the subsequent process. This is because if the angle exceeds 90 degrees, the squeegee S may get caught on the connection side portion 14 when the squeegee S passes through, and the metal mask may be damaged. More preferably, the connection angle θ1 should be set to 30 degrees or more and 60 degrees or less.

図5および図6に本実施形態のメタルマスクの製造方法を示す。メタルマスクは図5(a)~(d)に示す1次電鋳工程と、図6(a)~(c)に示す2次電鋳工程と、図6(d)に示す剥離工程とを経て形成される。1次電鋳工程においては、図5(a)に示すように、導電性を有する平板状のステンレス製の電鋳母型20の上面に第1フォトレジスト層21を形成した上で、該第1フォトレジスト層21の上面に、調整開口3に対応する透光孔を有する第1パターンフィルム22を載置し密着させる。次いで、紫外光ランプ19で紫外線光を照射して露光を行い、現像、乾燥の各処理を行って、未露光部分を溶解除去することにより、図5(b)に示すように、調整開口3に対応する第1レジスト体23を電鋳母型20上に形成した。なお、第1フォトレジスト層21は、ネガタイプの感光性ドライフィルムレジストを、所定の高さに合わせて一枚ないし数枚ラミネートして熱圧着により形成したものを用いた。 5 and 6 show a method of manufacturing a metal mask according to this embodiment. The metal mask undergoes the primary electroforming process shown in FIGS. 5(a) to (d), the secondary electroforming process shown in FIGS. 6(a) to (c), and the stripping process shown in FIG. formed through In the primary electroforming step, as shown in FIG. 5(a), a first photoresist layer 21 is formed on the upper surface of a plate-like electroformed master mold 20 made of stainless steel having conductivity, and then the first photoresist layer 21 is formed. A first pattern film 22 having light-transmitting holes corresponding to the adjustment openings 3 is placed and brought into close contact with the upper surface of the first photoresist layer 21 . Next, exposure is performed by irradiating ultraviolet light with an ultraviolet light lamp 19, development and drying are performed, and unexposed portions are dissolved and removed, thereby forming the adjustment opening 3 as shown in FIG. 5(b). was formed on the electroformed master mold 20 . The first photoresist layer 21 was formed by laminating one or several sheets of negative type photosensitive dry film resist to a predetermined height and then bonding them by thermocompression.

次に、図5(c)に示すように、第1レジスト体23以外の電鋳母型20上に、電鋳金属としてのニッケル-コバルトを電鋳法により電着させることにより、スキージ版6となる第1電鋳層24を電鋳形成した。第1電鋳層24を電鋳形成したのち、第1レジスト体23および第1電鋳層24の表面を研磨することにより、図5(d)に示すように第1レジスト体23および第1電鋳層24の表面を平滑化した。 Next, as shown in FIG. 5C, nickel-cobalt as an electroforming metal is electrodeposited on the electroforming matrix 20 other than the first resist body 23 by an electroforming method, thereby forming a squeegee plate 6. The first electroformed layer 24 was formed by electroforming. After forming the first electroformed layer 24 by electroforming, the surfaces of the first resist body 23 and the first electroformed layer 24 are polished to form the first resist body 23 and the first electroformed layer 24 as shown in FIG. The surface of the electroformed layer 24 was smoothed.

2次電鋳工程においては、図6(a)に示すように、第1レジスト体23および第1電鋳層24の上面に第2フォトレジスト層31を形成した上で、該第2フォトレジスト層31の上面に、パターン開口1に対応する透光孔を有する第2パターンフィルム32を載置し密着させる。次いで、紫外光ランプ19で紫外線光を照射して露光を行い、現像、乾燥の各処理を行って、未露光部分を溶解除去することにより、図6(b)に示すように、パターン開口1に対応する第2レジスト体33を第1レジスト体23および第1電鋳層24上に形成した。なお、第2フォトレジスト層31は、第1フォトレジスト層21と同様に、ネガタイプの感光性ドライフィルムレジストを、所定の高さに合わせて一枚ないし数枚ラミネートして熱圧着により形成したものを用いた。 In the secondary electroforming step, as shown in FIG. 6A, a second photoresist layer 31 is formed on the upper surfaces of the first resist body 23 and the first electroformed layer 24, and then the second photoresist A second pattern film 32 having transparent holes corresponding to the pattern openings 1 is placed on the upper surface of the layer 31 and brought into close contact therewith. Next, exposure is performed by irradiating ultraviolet light from an ultraviolet light lamp 19, development and drying are performed, and unexposed portions are dissolved and removed, thereby forming pattern openings 1 as shown in FIG. 6(b). was formed on the first resist body 23 and the first electroformed layer 24 . The second photoresist layer 31, like the first photoresist layer 21, is formed by laminating one or several negative-type photosensitive dry film resists to a predetermined height and bonding them by thermocompression. was used.

次に、図6(c)に示すように、第2レジスト体33以外の第1レジスト体23および第1電鋳層24上に、電鋳金属としてのニッケル-コバルトを電鋳法により電着させることにより、マスク版5となる第2電鋳層34を電鋳形成した。最後に、第2レジスト体33および第2電鋳層34の表面を研磨したのち、第1および第2電鋳層24・34を電鋳母型20から剥離して、第1および第2レジスト体23・33を除去することにより、図6(d)に示すメタルマスクを得た。 Next, as shown in FIG. 6C, nickel-cobalt as an electroformed metal is electrodeposited on the first resist body 23 and the first electroformed layer 24 other than the second resist body 33 by an electroforming method. A second electroformed layer 34 to be the mask plate 5 was formed by electroforming. Finally, after polishing the surfaces of the second resist body 33 and the second electroformed layer 34, the first and second electroformed layers 24 and 34 are separated from the electroformed matrix 20, and the first and second resists are By removing the bodies 23 and 33, the metal mask shown in FIG. 6(d) was obtained.

上記のように、本実施形態のメタルマスクにおいては、図4に示すように、スキージ版6の調整開口3の開口形状を、マスク版5のパターン開口1の開口形状よりも僅かに大きく形成したので、スキージ版6がパターン開口1の開口周縁部分の上側に迫り出すことがなく、メタルマスクを印刷対象W上に載置した際に、従来のメタルマスクにおいて避けられなかったリング状の隙間や入隅部が形成されるのを解消できる。従って、隙間での空気の残留や入隅部での印刷ペーストの剥離を解消して、適正な量の印刷ペーストで所望の印刷パターンの印刷層を的確に形成することができる。 As described above, in the metal mask of this embodiment, as shown in FIG. 4, the opening shape of the adjustment opening 3 of the squeegee plate 6 is formed slightly larger than the opening shape of the pattern opening 1 of the mask plate 5. Therefore, the squeegee plate 6 does not protrude above the peripheral portion of the opening of the pattern opening 1, and when the metal mask is placed on the printing target W, a ring-shaped gap or gap which cannot be avoided in the conventional metal mask is formed. The formation of internal corners can be eliminated. Therefore, it is possible to eliminate air remaining in the gaps and peeling of the printing paste at the inside corners, and to accurately form a printing layer having a desired printing pattern with an appropriate amount of printing paste.

また、本実施形態のメタルマスクの製造方法においては、第2パターンフィルム32を第2フォトレジスト層31の上面に載置する際に、第2パターンフィルム32の第1レジスト体23に対する載置位置が僅かにずれた場合でも、両開口1・3の寸法差の半分を超えない限り、スキージ版6がパターン開口1の開口周縁部分の上側に迫り出すことがなく、第2パターンフィルム32の位置決め精度に余裕ができる。従って、メタルマスクを製造する際の加工不良発生率を低下して、メタルマスクの製造コストを削減することができる。また、第2レジスト体33の形成後に、第1レジスト体23に対する第2レジスト体33の形成位置を上方から確認することができるので、第2レジスト体33の形成位置が大きく位置ずれしている場合には、加工不良品として処理することにより、その後の電着処理を省くことができる。 In addition, in the metal mask manufacturing method of the present embodiment, when the second pattern film 32 is placed on the upper surface of the second photoresist layer 31, the placement position of the second pattern film 32 with respect to the first resist body 23 is Even if there is a slight misalignment of the second pattern film 32, the squeegee plate 6 does not protrude above the opening peripheral edge portion of the pattern opening 1 as long as the dimensional difference between the openings 1 and 3 does not exceed half, and the second pattern film 32 can be positioned. There is room for accuracy. Therefore, it is possible to reduce the rate of occurrence of processing defects when manufacturing the metal mask, and reduce the manufacturing cost of the metal mask. Further, after the formation of the second resist body 33, the formation position of the second resist body 33 with respect to the first resist body 23 can be confirmed from above, so that the formation position of the second resist body 33 is largely misaligned. In some cases, the subsequent electrodeposition treatment can be omitted by treating the product as a defective product.

(第2実施形態) 図9から図11に本発明に係るスクリーン印刷用メタルマスクの第2実施形態を示す。本実施形態では、パターン開口1の開口形状と調整開口3の開口形状とを同じに形成した点が第1実施形態と異なる。パターン開口1の開口形状と調整開口3の開口形状とを同じに形成すると、図9に示すように、パターン開口1と調整開口3との境界部に段部が形成されない。これにより、スキージ版6がパターン開口1の開口周縁部分の上側に迫り出すことがなく、メタルマスクを印刷対象W上に載置した際に、従来のメタルマスクにおいて避けられなかったリング状の隙間や入隅部が形成されるのを解消できる。従って、隙間での空気の残留や入隅部での印刷ペーストの剥離を解消して、適正な量の印刷ペーストで所望の印刷パターンの印刷層を的確に形成することができる。他は第1実施形態と同じであるので、同じ部材に同じ符号を付してその説明を省略する。以下の実施形態においても同じとする。 (Second Embodiment) Figs. 9 to 11 show a second embodiment of a metal mask for screen printing according to the present invention. The present embodiment differs from the first embodiment in that the opening shape of the pattern opening 1 and the opening shape of the adjustment opening 3 are formed to be the same. If the opening shape of the pattern opening 1 and the opening shape of the adjustment opening 3 are formed to be the same, as shown in FIG. As a result, the squeegee plate 6 does not protrude above the peripheral portion of the opening of the pattern opening 1, and when the metal mask is placed on the printing object W, the ring-shaped gap that cannot be avoided in the conventional metal mask is eliminated. It is possible to eliminate the formation of internal corners. Therefore, it is possible to eliminate air remaining in the gaps and peeling of the printing paste at the inside corners, and to accurately form a printing layer having a desired printing pattern with an appropriate amount of printing paste. Since other parts are the same as those of the first embodiment, the same reference numerals are given to the same members, and the description thereof will be omitted. The same applies to the following embodiments.

図10および図11に本実施形態のメタルマスクの製造方法を示す。メタルマスクは図10(a)~(c)に示す1次電鋳工程と、図10(d)~(f)に示す中間処理工程と、図11(a)~(c)に示す2次電鋳工程と、図11(d)に示す剥離工程とを経て形成される。1次電鋳工程においては、図10(a)に示すように、導電性を有する平板状のステンレス製の電鋳母型20の上面に第1フォトレジスト層21を形成した上で、該第1フォトレジスト層21の上面に、調整開口3に対応する透光孔を有する第1パターンフィルム22を載置し密着させる。次いで、紫外光ランプ19で紫外線光を照射して露光を行い、現像、乾燥の各処理を行って、未露光部分を溶解除去することにより、図10(b)に示すように、調整開口3に対応する第1レジスト体23を電鋳母型20上に形成した。なお、第1フォトレジスト層21は、ネガタイプの感光性ドライフィルムレジストを、所定の高さに合わせて一枚ないし数枚ラミネートして熱圧着により形成したものを用いた。 10 and 11 show a method of manufacturing a metal mask according to this embodiment. 10(a) to (c), intermediate treatment steps shown in FIGS. 10(d) to (f), and secondary electroforming steps shown in FIGS. 11(a) to (c). It is formed through an electroforming process and a peeling process shown in FIG. 11(d). In the primary electroforming step, as shown in FIG. 10(a), a first photoresist layer 21 is formed on the upper surface of a plate-like electroformed master mold 20 made of stainless steel having conductivity, and then the first photoresist layer 21 is formed. A first pattern film 22 having light-transmitting holes corresponding to the adjustment openings 3 is placed and brought into close contact with the upper surface of the first photoresist layer 21 . Next, exposure is performed by irradiating ultraviolet light with an ultraviolet light lamp 19, development and drying are performed, and unexposed portions are dissolved and removed, thereby forming the adjustment opening 3 as shown in FIG. 10(b). was formed on the electroformed master mold 20 . The first photoresist layer 21 was formed by laminating one or several sheets of negative type photosensitive dry film resist to a predetermined height and then bonding them by thermocompression.

次に、図10(c)に示すように、第1レジスト体23以外の電鋳母型20上に、電鋳金属としてのニッケル-コバルトを電鋳法により電着させることにより、スキージ版6となる第1電鋳層24を電鋳形成した。第1電鋳層24を電鋳形成したのち、第1レジスト体23および第1電鋳層24の表面を研磨して第1レジスト体23および第1電鋳層24の表面の平滑化した。なお、第1電鋳層24の表面状態が研磨を必要としない場合には、研磨工程を省略することができる。 Next, as shown in FIG. 10C, nickel-cobalt as an electroforming metal is electrodeposited on the electroforming matrix 20 other than the first resist body 23 by an electroforming method, thereby forming a squeegee plate 6. The first electroformed layer 24 was formed by electroforming. After forming the first electroformed layer 24 by electroforming, the surfaces of the first resist body 23 and the first electroformed layer 24 were polished to smooth the surfaces of the first resist body 23 and the first electroformed layer 24 . If the surface condition of the first electroformed layer 24 does not require polishing, the polishing step can be omitted.

中間処理工程においては、電鋳母型20上の第1レジスト体23を除去して調整開口3を露出したのち、図10(d)に示すように、液状フォトレジスト(フォトレジスト)41を電鋳母型20および第1レジスト体23の上面に塗布した。次に、第1レジスト体23の上面の不要な液状フォトレジスト41を除去して、調整開口3内にのみ液状フォトレジスト41を充填した。 In the intermediate processing step, after removing the first resist body 23 on the electroforming master 20 to expose the adjustment opening 3, as shown in FIG. It was applied to the upper surfaces of the mold 20 and the first resist body 23 . Next, the unnecessary liquid photoresist 41 on the upper surface of the first resist body 23 was removed, and only the adjustment opening 3 was filled with the liquid photoresist 41 .

2次電鋳工程においては、図11(a)に示すように、液状フォトレジスト41および第1電鋳層24の上面に第2フォトレジスト層31を形成した上で、該第2フォトレジスト層31の上面に、パターン開口1に対応する透光孔を有する第2パターンフィルム32を載置し密着させる。次いで、紫外光ランプ19で紫外線光を照射して液状フォトレジスト41と第2フォトレジスト層31とを同時に露光を行い、現像、乾燥の各処理を行って、未露光部分を溶解除去することにより、図11(b)に示すように、パターン開口1に対応する第2レジスト体33と第3レジスト体43を電鋳母型20および第1電鋳層24上に形成した。なお、第2フォトレジスト層31は、第1フォトレジスト層21と同様に、ネガタイプの感光性ドライフィルムレジストを、所定の高さに合わせて一枚ないし数枚ラミネートして熱圧着により形成したものを用いた。 In the secondary electroforming process, as shown in FIG. 11A, a second photoresist layer 31 is formed on the upper surfaces of the liquid photoresist 41 and the first electroformed layer 24, and then the second photoresist layer is formed. A second pattern film 32 having transparent holes corresponding to the pattern openings 1 is placed on the upper surface of the pattern 31 and brought into close contact therewith. Next, the liquid photoresist 41 and the second photoresist layer 31 are simultaneously exposed by irradiating the ultraviolet light from the ultraviolet light lamp 19, developing and drying, and the unexposed portions are dissolved and removed. 11(b), a second resist body 33 and a third resist body 43 corresponding to the pattern opening 1 were formed on the electroformed matrix 20 and the first electroformed layer 24. Then, as shown in FIG. The second photoresist layer 31, like the first photoresist layer 21, is formed by laminating one or several negative-type photosensitive dry film resists to a predetermined height and bonding them by thermocompression. was used.

次に、図11(c)に示すように、第2レジスト体33以外の第1電鋳層24上に、電鋳金属としてのニッケル-コバルトを電鋳法により電着させることにより、マスク版5となる第2電鋳層34を電鋳形成した。最後に、第2レジスト体および第2電鋳層34の表面を研磨したのち、第1および第2電鋳層24・34を電鋳母型20から剥離して、第2および第3レジスト体33・43を除去することにより、図11(d)に示すメタルマスクを得た。 Next, as shown in FIG. 11C, on the first electroformed layer 24 other than the second resist body 33, nickel-cobalt as an electroformed metal is electrodeposited by electroforming, thereby forming a mask plate. 5 was formed by electroforming. Finally, after polishing the surfaces of the second resist body and the second electroformed layer 34, the first and second electroformed layers 24, 34 are peeled off from the electroformed master mold 20 to form the second and third resist bodies. By removing 33 and 43, the metal mask shown in FIG. 11(d) was obtained.

上記のように、本実施形態のメタルマスクの製造方法においては、研磨工程で第1レジスト体23にクラックや欠損が生じた場合でも、中間処理工程を行って第1レジスト体23を除去したのち、新たに液状フォトレジスト41を調整開口3に充填することにより、第1、第2のレジスト体23・33の間に空気が封入されるのを防止でき、第2電鋳層34を確実に所望の形状に形成することができる。また、研磨工程の有無にかかわらず同一の製造方法でメタルマスクを製造することができるので、製造ラインを統一してメタルマスクの製造コストを削減することができる。また、露出した調整開口3に充填するフォトレジストは、液状フォトレジスト41を使用することにより、固形状のフォトレジストを使用する場合に比べて調整開口3に簡単に充填することができる。 As described above, in the metal mask manufacturing method of the present embodiment, even if cracks or defects occur in the first resist body 23 in the polishing process, the intermediate treatment process is performed to remove the first resist body 23, and then the first resist body 23 is removed. By filling the adjustment opening 3 with a new liquid photoresist 41, air can be prevented from being enclosed between the first and second resist bodies 23, 33, and the second electroformed layer 34 can be reliably formed. It can be formed into any desired shape. In addition, since the metal mask can be manufactured by the same manufacturing method regardless of the presence or absence of the polishing process, it is possible to unify the manufacturing line and reduce the manufacturing cost of the metal mask. In addition, by using the liquid photoresist 41 as the photoresist to fill the exposed adjustment opening 3, the adjustment opening 3 can be filled more easily than when a solid photoresist is used.

(第3実施形態) 図12から図14に本発明に係るスクリーン印刷用メタルマスクの第4実施形態を示す。本実施形態では、パターン開口1の開口形状と調整開口3の開口形状とを同じに形成した点と、マスク版5をスキージ版6側にまで形成して、調整開口3の開口周縁部を第2電鋳層34の一部で形成した点が第1実施形態と異なる。図12に示すように、マスク版5には、調整開口3内に進入して調整開口3の開口内面を構成する調整開口周縁部49が一体に形成されており、両開口1・3の開口内面どうしが面一状に形成されている。これにより、パターン開口1と調整開口3の開口内面どうしを境界のない状態で滑らかに連続させることができる。従って、スキージ版6がパターン開口1の開口周縁部分の上側に迫り出すことがなく、メタルマスクを印刷対象W上に載置した際に、従来のメタルマスクにおいて避けられなかったリング状の隙間や入隅部が形成されるのを解消できる。従って、隙間での空気の残留や入隅部での印刷ペーストの剥離を解消して、適正な量の印刷ペーストで所望の印刷パターンの印刷層を的確に形成することができる。 (Third Embodiment) FIGS. 12 to 14 show a fourth embodiment of a metal mask for screen printing according to the present invention. In this embodiment, the opening shape of the pattern opening 1 and the opening shape of the adjustment opening 3 are formed to be the same, and the mask plate 5 is formed up to the squeegee plate 6 side, so that the opening peripheral portion of the adjustment opening 3 is set to the second direction. It differs from the first embodiment in that it is formed by part of the second electroformed layer 34 . As shown in FIG. 12, the mask plate 5 is integrally formed with an adjustment opening peripheral edge portion 49 that enters the adjustment opening 3 and constitutes the opening inner surface of the adjustment opening 3. The inner surfaces are formed flush with each other. As a result, the inner surfaces of the pattern opening 1 and the adjustment opening 3 can be smoothly connected to each other without a boundary. Therefore, the squeegee plate 6 does not protrude above the peripheral portion of the opening of the pattern opening 1, and when the metal mask is placed on the printing object W, a ring-shaped gap or gap which cannot be avoided in the conventional metal mask is formed. The formation of internal corners can be eliminated. Therefore, it is possible to eliminate air remaining in the gaps and peeling of the printing paste at the inside corners, and to accurately form a printing layer having a desired printing pattern with an appropriate amount of printing paste.

図13および図14に本実施形態のメタルマスクの製造方法を示す。メタルマスクは図13(a)~(c)に示す1次電鋳工程と、図13(d)~(f)に示す中間処理工程と、図14(a)~(c)に示す2次電鋳工程と、図14(d)に示す剥離工程とを経て形成される。1次電鋳工程においては、図13(a)に示すように、導電性を有する平板状のステンレス製の電鋳母型20の上面に第1フォトレジスト層21を形成した上で、該第1フォトレジスト層21の上面に、ダミー開口45に対応する透光孔を有するダミーパターンフィルム46を載置し密着させる。次いで、紫外光ランプ19で紫外線光を照射して露光を行い、現像、乾燥の各処理を行って、未露光部分を溶解除去することにより、図13(b)に示すように、ダミー開口45に対応するダミーレジスト体47を電鋳母型20上に形成した。なお、第1フォトレジスト層21は、ネガタイプの感光性ドライフィルムレジストを、所定の高さに合わせて一枚ないし数枚ラミネートして熱圧着により形成したものを用いた。 13 and 14 show a method of manufacturing a metal mask according to this embodiment. 13(a) to 13(c), intermediate treatment steps shown in FIGS. 13(d) to 13(f), and secondary electroforming steps shown in FIGS. It is formed through an electroforming process and a peeling process shown in FIG. 14(d). In the primary electroforming step, as shown in FIG. 13(a), a first photoresist layer 21 is formed on the upper surface of a plate-like electroformed master mold 20 made of stainless steel having conductivity, and then the first photoresist layer 21 is formed. 1 A dummy pattern film 46 having transparent holes corresponding to the dummy openings 45 is placed on the upper surface of the photoresist layer 21 and brought into close contact therewith. 13(b), dummy openings 45 are formed by irradiating ultraviolet light from an ultraviolet light lamp 19 for exposure, developing and drying, and dissolving and removing unexposed portions. A dummy resist body 47 corresponding to is formed on the electroforming mold 20 . The first photoresist layer 21 was formed by laminating one or several sheets of negative type photosensitive dry film resist to a predetermined height and then bonding them by thermocompression.

次に、図13(c)に示すように、ダミーレジスト体47以外の電鋳母型20上に、電鋳金属としてのニッケル-コバルトを電鋳法により電着させることにより、スキージ版6となる第1電鋳層24を電鋳形成した。第1電鋳層24を電鋳形成したのち、ダミーレジスト体47および第1電鋳層24の表面を研磨してダミーレジスト体47および第1電鋳層24の表面の平滑化した。なお、第1電鋳層24の表面状態が研磨を必要としない場合には、研磨工程を省略することができる。 Next, as shown in FIG. 13C, nickel-cobalt as an electroforming metal is electrodeposited on the electroforming matrix 20 other than the dummy resist body 47 by an electroforming method, thereby forming a squeegee plate 6 and a A first electroformed layer 24 was formed by electroforming. After forming the first electroformed layer 24 by electroforming, the surfaces of the dummy resist body 47 and the first electroformed layer 24 were polished to smooth the surfaces of the dummy resist body 47 and the first electroformed layer 24 . If the surface condition of the first electroformed layer 24 does not require polishing, the polishing step can be omitted.

中間処理工程においては、電鋳母型20上にダミーレジスト体47を除去してダミー開口45を露出したのち、図13(d)に示すように、液状フォトレジスト41を電鋳母型20およびダミーレジスト体47の上面に塗布した。次に、ダミーレジスト体47および第1電鋳層24の上面の不要な液状フォトレジスト41を除去して、ダミー開口45内にのみ液状フォトレジスト41を充填した。 In the intermediate processing step, after removing the dummy resist body 47 on the electroforming master 20 to expose the dummy opening 45, as shown in FIG. It was applied to the upper surface of the dummy resist body 47 . Next, the unnecessary liquid photoresist 41 on the upper surface of the dummy resist body 47 and the first electroformed layer 24 was removed, and only the dummy openings 45 were filled with the liquid photoresist 41 .

2次電鋳工程においては、図14(a)に示すように、液状フォトレジスト41および第1電鋳層24の上面に第2フォトレジスト層31を形成した上で、該第2フォトレジスト層31の上面に、パターン開口1に対応する透光孔を有する第2パターンフィルム32を載置し密着させる。次いで、紫外光ランプ19で紫外線光を照射して液状フォトレジスト41と第2フォトレジスト層31とを同時に露光を行い、現像、乾燥の各処理を行って、未露光部分を溶解除去することにより、図14(b)に示すように、パターン開口1および調整開口3に対応する第2レジスト体33と第3レジスト体43を電鋳母型20および第1電鋳層24上に形成した。なお、第2フォトレジスト層31は、第1フォトレジスト層21と同様に、ネガタイプの感光性ドライフィルムレジストを、所定の高さに合わせて一枚ないし数枚ラミネートして熱圧着により形成したものを用いた。 In the secondary electroforming step, as shown in FIG. 14A, a second photoresist layer 31 is formed on the upper surfaces of the liquid photoresist 41 and the first electroformed layer 24, and then the second photoresist layer is formed. A second pattern film 32 having transparent holes corresponding to the pattern openings 1 is placed on the upper surface of the pattern 31 and brought into close contact therewith. Next, the liquid photoresist 41 and the second photoresist layer 31 are simultaneously exposed by irradiating the ultraviolet light from the ultraviolet light lamp 19, developing and drying, and the unexposed portions are dissolved and removed. 14(b), a second resist body 33 and a third resist body 43 corresponding to the pattern opening 1 and the adjustment opening 3 were formed on the electroformed matrix 20 and the first electroformed layer 24. Then, as shown in FIG. The second photoresist layer 31, like the first photoresist layer 21, is formed by laminating one or several negative-type photosensitive dry film resists to a predetermined height and bonding them by thermocompression. was used.

次に、図14(c)に示すように、第2レジスト体33以外の第1電鋳層24上に、電鋳金属としてのニッケル-コバルトを電鋳法により電着させることにより、マスク版5および調整開口周縁部49となる第2電鋳層34を電鋳形成した。この状態の調整開口周縁部49は、図14(c)に示すようにダミー開口45内に進入している。最後に、第2レジスト体33および第2電鋳層34の表面を研磨したのち、第1および第2電鋳層24・34を電鋳母型20から剥離して、第2および第3レジスト体33・43を除去することにより、図14(d)に示すメタルマスクを得た。 Next, as shown in FIG. 14(c), nickel-cobalt as an electroforming metal is electrodeposited on the first electroformed layer 24 other than the second resist body 33 by an electroforming method, thereby forming a mask plate. 5 and the second electroformed layer 34 to be the adjustment opening peripheral edge portion 49 were formed by electroforming. The adjustment opening peripheral portion 49 in this state enters the dummy opening 45 as shown in FIG. 14(c). Finally, after polishing the surfaces of the second resist body 33 and the second electroformed layer 34, the first and second electroformed layers 24, 34 are peeled off from the electroformed matrix 20, and the second and third resists are By removing the bodies 33 and 43, the metal mask shown in FIG. 14(d) was obtained.

上記のように、本実施形態のメタルマスクの製造方法においては、ダミー開口45内の液状フォトレジスト41と第2フォトレジスト層31とを同時に露光するので、第2レジスト体33の外形形状と第3レジスト体43の外形形状を完全に一致させることができ、マスク版5および調整開口周縁部49となる第2電鋳層34を電鋳法で形成することにより、調整開口3とパターン開口1との形成位置および開口形状を完全に一致させることができる。また、調整開口周縁部49とパターン開口1の周縁部はともに第2電鋳層34で形成されるので、両開口1・2の境界部分に段差が形成されることがなく、両開口1・3の内面を滑らかに連続させることができる。さらに、ダミー開口45がパターン開口1よりも大きく形成されているので、第2パターンフィルム32の載置位置は、パターン開口1に対応する透光孔の位置がダミー開口45の外周縁を超えない範囲で余裕があり、第2パターンフィルム32の載置位置が僅かにずれた場合でも、両開口1・3の境界部分に段差が形成されることがなく、製造時の加工不良発生率を低下させてメタルマスクの製造コストを削減することができる。 As described above, in the metal mask manufacturing method of the present embodiment, the liquid photoresist 41 in the dummy opening 45 and the second photoresist layer 31 are exposed at the same time. 3. The outer shape of the resist body 43 can be completely matched, and the mask plate 5 and the second electroformed layer 34 to be the adjustment opening peripheral edge portion 49 are formed by the electroforming method, thereby forming the adjustment opening 3 and the pattern opening 1. It is possible to completely match the formation position and opening shape of the . In addition, since both the peripheral edge portion 49 of the adjustment opening and the peripheral edge portion of the pattern opening 1 are formed of the second electroformed layer 34, no step is formed at the boundary portion between the openings 1 and 2. 3 can be smoothly continuous. Furthermore, since the dummy opening 45 is formed to be larger than the pattern opening 1 , the placement position of the second pattern film 32 is such that the position of the transparent hole corresponding to the pattern opening 1 does not exceed the outer periphery of the dummy opening 45 . There is a margin in the range, and even if the mounting position of the second pattern film 32 is slightly deviated, a step is not formed at the boundary between the two openings 1 and 3, and the processing defect rate during manufacturing is reduced. Therefore, the manufacturing cost of the metal mask can be reduced.

(第4実施形態) 図15および図16に本発明に係るスクリーン印刷用メタルマスクの第4実施形態を示す。本実施形態では、調整開口3の調整リブ9の形状を変更した点が第1実施形態と異なる。調整リブ9は、直線状に形成された第1リブ9aと第2リブ9bとで構成されている。第1および第2リブ9a・9bは互いに交差する状態で配置されており、調整開口3の対向する長辺部同士を繋ぐように形成されている。各リブ9a・9bの形成基端部と調整開口3の開口内面との接続部分は丸められており、スキージング時のスキージSとスキージ面7との摩擦によりメタルマスクの前後方向に発生する引張り応力が、前記接続部分に集中してメタルマスクが破損するのを防止している。 (Fourth Embodiment) FIGS. 15 and 16 show a fourth embodiment of the screen printing metal mask according to the present invention. This embodiment differs from the first embodiment in that the shape of the adjustment rib 9 of the adjustment opening 3 is changed. The adjustment rib 9 is composed of a first rib 9a and a second rib 9b which are linearly formed. The first and second ribs 9a and 9b are arranged so as to intersect each other, and are formed so as to connect the opposing long sides of the adjustment opening 3 with each other. The connecting portion between the forming base end portion of each rib 9a and 9b and the inner surface of the adjustment opening 3 is rounded, and the friction between the squeegee S and the squeegee surface 7 during squeegeeing causes tension in the front-rear direction of the metal mask. This prevents the stress from concentrating on the connection portion and damaging the metal mask.

第1リブ9aは、調整開口3の伸び方向に対して反時計回りに傾斜角度θ2だけ傾斜した状態で形成されており、第2リブ9bは、調整開口3の伸び方向に対して時計回りに傾斜角度θ3だけ傾斜した状態で形成されており、第1リブ9aおよび第2リブ9bの中央で両リブ9a・9bが交差するように配置されている。傾斜角度θ2と傾斜角度θ3とは同一に設定することが好ましく、その角度は20度以上70度以下に設定することが好ましい。傾斜角度θ2・θ3が20度未満であると、第1および第2リブ9a・9bの形成長さが長くなるため強度が低下し、メタルマスクの破損に繋がるおそれがあるからであり、70度を超えると第1および第2リブ9a・9bを互いに交差する状態で配置することが困難となるためである。本実施形態では、傾斜角度θ2・θ3を30度に設定した。 The first rib 9a is inclined counterclockwise with respect to the extending direction of the adjusting opening 3 by an inclination angle θ2, and the second rib 9b is formed clockwise with respect to the extending direction of the adjusting opening 3. The first rib 9a and the second rib 9b are arranged to intersect at the center of the first rib 9a and the second rib 9b. The inclination angle θ2 and the inclination angle θ3 are preferably set to be the same, and the angle is preferably set to 20 degrees or more and 70 degrees or less. This is because if the inclination angles θ2 and θ3 are less than 20 degrees, the formed lengths of the first and second ribs 9a and 9b become long, which reduces the strength and may lead to breakage of the metal mask. , it becomes difficult to dispose the first and second ribs 9a and 9b so as to intersect each other. In this embodiment, the inclination angles θ2 and θ3 are set to 30 degrees.

上記のように、第1および第2リブ9a・9bを互いに交差する状態で配置すると、両リブ9a・9bが互いに支持し合って調整リブ9の構造強度を向上することができ、印刷時に調整リブ9上をスキージSが通過する際に、調整リブ9や調整開口3の開口縁がパターン開口1側へ撓み変形するのを防止して、調整リブ9の破損を防止できる。 As described above, when the first and second ribs 9a and 9b are arranged so as to intersect each other, the ribs 9a and 9b support each other to improve the structural strength of the adjustment rib 9, thereby allowing adjustment during printing. When the squeegee S passes over the ribs 9, the adjustment ribs 9 and the opening edges of the adjustment openings 3 are prevented from bending and deforming toward the pattern opening 1 side, thereby preventing the adjustment ribs 9 from being damaged.

(第5実施形態) 図17から図19に本発明に係るスクリーン印刷用メタルマスクの第5実施形態を示す。本実施形態では、調整リブ9に支持ポスト50を形成した点が第1実施形態と異なる。図17および図18に示すように、支持ポスト50は円柱状に形成されて、調整リブ9の長手方向中央部の下面に一体に設けられており、その下面部が印刷対象Wと接触して印刷時に調整リブ9を下方から支持している。これにより、スキージSが調整開口3上を通過する際の調整リブ9の撓み変形を防止して、調整リブ9の撓み変形に起因するメタルマスクの破損を防止できる。図19に示すように、支持ポスト50の形成は2次電鋳工程において、支持ポスト50に対応する部分の第2フォトレジスト層31を露光せず、パターン開口1の開口形状および支持ポスト50に対応する第2レジスト体33を形成したのち、マスク版5となる第2電鋳層34を電鋳法により形成することにより形成できる。 (Fifth Embodiment) Figs. 17 to 19 show a fifth embodiment of a metal mask for screen printing according to the present invention. This embodiment differs from the first embodiment in that a support post 50 is formed on the adjustment rib 9 . As shown in FIGS. 17 and 18, the support post 50 is formed in a columnar shape and is provided integrally with the lower surface of the central portion of the adjustment rib 9 in the longitudinal direction. The adjustment rib 9 is supported from below during printing. This prevents the bending deformation of the adjusting ribs 9 when the squeegee S passes over the adjusting openings 3 , thereby preventing the metal mask from being damaged due to the bending deformation of the adjusting ribs 9 . As shown in FIG. 19, the support posts 50 are formed in the secondary electroforming process without exposing the portions of the second photoresist layer 31 corresponding to the support posts 50, and the opening shapes of the pattern openings 1 and the support posts 50 are not exposed. After forming the corresponding second resist body 33, the second electroformed layer 34 to be the mask plate 5 can be formed by electroforming.

(第6実施形態) 図20に本発明に係るスクリーン印刷用メタルマスクの第6実施形態を示す。本実施形態では、カットマーク調整開口12の接続辺部14の接続角度θ1が90度となるように形成した点と、調整リブ15をカットマーク調整開口12の長辺部と接続辺部14との接続位置から延設した点が第1実施形態と異なる。接続角度θ1が90度に近づくにつれスキージSの通過時に、スキージSが接続辺部14に引っ掛かるおそれが高まるが、調整リブ15の延設基端をカットマーク調整開口12の長辺部と接続辺部14との接続位置にすることにより、調整リブ9で接続辺部14を補強することができ、スキージSが接続辺部14に引っ掛かることに起因するメタルマスクの破損を防止することができる。 (Sixth Embodiment) FIG. 20 shows a sixth embodiment of a metal mask for screen printing according to the present invention. In this embodiment, the connection angle θ1 of the connection side portion 14 of the cut mark adjustment opening 12 is formed to be 90 degrees, and the adjustment rib 15 is formed between the long side portion of the cut mark adjustment opening 12 and the connection side portion 14 . differs from the first embodiment in that it is extended from the connection position of . As the connection angle θ1 approaches 90 degrees, the squeegee S is more likely to be caught on the connection side portion 14 when the squeegee S passes. By setting the connection position with the portion 14, the connecting side portion 14 can be reinforced by the adjusting rib 9, and damage to the metal mask caused by the squeegee S being caught on the connecting side portion 14 can be prevented.

上記の各実施形態以外に、パターン開口1の開口内面を上窄まりのテーパー状に形成することにより、印刷後のメタルマスクの剥離時の印刷層とパターン開口1の開口内面との剥離性を向上できる。この場合には、第2パターンフィルム32を載置して第2フォトレジスト層31を露光する際に、第2パターンフィルム32の透光孔を通過した光源からの光が、下方に行くに従って収束するように光源を配置して第2フォトレジスト層31を露光すればよい。フォトレジスト41は、感光性ドライフィルムレジストなど固形状フォトレジストを使用して、製造過程における調整開口3あるいはダミー開口45に充填してもよい。 In addition to the above embodiments, by forming the inner surface of the opening of the pattern opening 1 in a tapered shape that narrows upward, the releasability between the printed layer and the inner surface of the opening of the pattern opening 1 is improved when the metal mask is peeled off after printing. can improve. In this case, when the second pattern film 32 is placed and the second photoresist layer 31 is exposed, the light from the light source that has passed through the translucent holes of the second pattern film 32 converges downward. The second photoresist layer 31 may be exposed by arranging the light source so as to expose the second photoresist layer 31 . The photoresist 41 may be a solid photoresist such as a photosensitive dry film resist to fill the adjustment openings 3 or the dummy openings 45 during the manufacturing process.

1 パターン開口
3 調整開口
5 マスク版
6 スキージ版
8 段落ち部
9 調整リブ
20 電鋳母型
21 第1フォトレジスト層
22 第1パターンフィルム
23 第1レジスト体
24 第1電鋳層
31 第2フォトレジスト層
32 第2パターンフィルム
33 第2レジスト体
34 第2電鋳層
41 液状フォトレジスト
43 第3レジスト体
45 ダミー開口
46 ダミーパターンフィルム
47 ダミーレジスト体
49 調整開口周縁部
1 pattern opening 3 adjustment opening 5 mask plate 6 squeegee plate 8 stepped portion 9 adjustment rib 20 electroforming matrix 21 first photoresist layer 22 first pattern film 23 first resist body 24 first electroforming layer 31 second photo Resist layer 32 Second pattern film 33 Second resist body 34 Second electroformed layer 41 Liquid photoresist 43 Third resist body 45 Dummy opening 46 Dummy pattern film 47 Dummy resist body 49 Adjustment opening periphery

Claims (4)

一群のパターン開口(1)を備えたマスク版(5)と、前記パターン開口(1)に対応する一群の調整開口(3)を備えたスキージ版(6)とを備えているメタルマスクであって、
前記調整開口(3)には、開口内面同士を繋ぐ調整リブ(9)が形成され、
前記調整リブ(9)は、前記調整開口(3)を構成する辺に対して傾斜した状態で形成されており、
前記調整リブ(9)の傾斜角度は、20度以上70度以下に設定されていることを特徴とするメタルマスク。
A metal mask comprising a mask plate (5) having a group of pattern openings (1) and a squeegee plate (6) having a group of adjustment openings (3) corresponding to the pattern openings (1). hand,
The adjustment opening (3) is formed with an adjustment rib (9) connecting the inner surfaces of the opening,
The adjustment rib (9) is formed in an inclined state with respect to the sides forming the adjustment opening (3),
A metal mask, wherein the inclination angle of the adjustment rib (9) is set to 20 degrees or more and 70 degrees or less.
隣接する前記調整リブ(9)は、互いに逆向きに傾斜する状態で形成されていることを特徴とする請求項1に記載のメタルマスク。 2. The metal mask according to claim 1, wherein adjacent adjustment ribs (9) are formed in a state of being inclined in opposite directions. 前記調整リブ(9)は、第1リブ(9a)と第2リブ(9b)とで構成され、前記第1リブ(9a)および前記第2リブ(9b)が互いに交差する状態で配置されていることを特徴とする請求項1に記載のメタルマスク。 The adjustment rib (9) is composed of a first rib (9a) and a second rib (9b), and the first rib (9a) and the second rib (9b) are arranged to cross each other. 2. The metal mask according to claim 1, characterized in that: 前記調整リブの幅寸法w2は、8μm以上20μm以下に設定されていることを特徴とする請求項1ないし3のいずれかに記載のメタルマスク。 4. The metal mask according to any one of claims 1 to 3, wherein the width dimension w2 of said adjustment rib is set to 8 [mu]m or more and 20 [mu]m or less.
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