JPH1142867A - Mask for screen printing, its manufacture, and method for using it - Google Patents
Mask for screen printing, its manufacture, and method for using itInfo
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- JPH1142867A JPH1142867A JP21550897A JP21550897A JPH1142867A JP H1142867 A JPH1142867 A JP H1142867A JP 21550897 A JP21550897 A JP 21550897A JP 21550897 A JP21550897 A JP 21550897A JP H1142867 A JPH1142867 A JP H1142867A
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- H05K3/12—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which conductive material is applied to the insulating support in such a manner as to form the desired conductive pattern using thick film techniques, e.g. printing techniques to apply the conductive material or similar techniques for applying conductive paste or ink patterns
- H05K3/1216—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which conductive material is applied to the insulating support in such a manner as to form the desired conductive pattern using thick film techniques, e.g. printing techniques to apply the conductive material or similar techniques for applying conductive paste or ink patterns by screen printing or stencil printing
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、インクやペースト
を被印刷物に印刷する際に使用するポリイミドまたはポ
リエステルシートと金属層との積層構造体からなるスク
リーン印刷用マスクに関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a screen printing mask comprising a laminated structure of a polyimide or polyester sheet and a metal layer used when printing ink or paste on a printing substrate.
【０００２】[0002]
【従来技術】従来のシルクスクリーンマスクは、ポリエ
ステル長繊維またはステンレス線からなるメッシュ（以
下、単にポリエステルメッシュまたはステンレスメッシ
ュという。）を使用し、該メッシュに光硬化型感光性樹
脂を塗布し、ＵＶリソグラフィー法により画像を形成
し、インク、ペーストの印刷に使われている。2. Description of the Related Art A conventional silk screen mask uses a mesh made of polyester filament or stainless wire (hereinafter simply referred to as polyester mesh or stainless steel mesh), and coats the mesh with a photo-curable photosensitive resin to form a UV. Images are formed by lithography and used for printing inks and pastes.
【０００３】しかしながら、従来のシルクスクリーンマ
スクは、その構造や、構成材料および作製方法に由来し
て、特に高粘性のペーストの高精細パターン印刷におい
て、（１）寸法精度不良、（２）印刷耐久性の不足、
（３）厚みの不均一、（４）水洗浄の不可および（５）
アスペクト比の不良等が課題となっている。[0003] However, the conventional silk screen masks, due to their structure, constituent materials, and manufacturing methods, are particularly susceptible to (1) poor dimensional accuracy and (2) print durability in high-definition pattern printing of highly viscous pastes. Lack of sex,
(3) Uneven thickness, (4) Impossibility of water washing and (5)
Problems such as poor aspect ratio have been a problem.
【０００４】まず、従来のスクリーン印刷用マスクの
（１）寸法精度不良は、第１にアルミ枠、ポリエステル
メッシュまたはステンレスメッシュ、光硬化型感光性樹
脂の３種の異なる温湿度変化特性を持つ材料を組み合わ
せて一体化しており、加えてアルミ枠とポリエステルメ
ッシュまたはステンレスメッシュはゴム系のボンドによ
る接着、ポリエステルメッシュまたはステンレスメッシ
ュと光硬化型感光性樹脂は塗布・乾燥による上記樹脂に
よる該メッシュの包み込み方式であるので、基本的に温
度、湿度の影響を受け易い構造となっている。First, (1) poor dimensional accuracy of the conventional screen printing mask is caused by firstly three types of materials having different temperature / humidity change characteristics: an aluminum frame, a polyester mesh or a stainless steel mesh, and a photocurable photosensitive resin. In addition, the aluminum frame and the polyester mesh or stainless steel mesh are bonded by a rubber-based bond, and the polyester mesh or stainless steel mesh and the photo-curable photosensitive resin are wrapped with the above resin by coating and drying. Since it is a system, it has a structure that is basically easily affected by temperature and humidity.
【０００５】第２に、ポリエステルメッシュまたはステ
ンレスメッシュを光硬化型感光性樹脂で包み込んだ層に
ＵＶリソグラフィー法で画像形成を行うが、その際、フ
ィルム原版またはガラス原版と確実に密着させるために
強制的に減圧状態で露光することになるが、メッシュの
織り込み交差部が減圧の負荷により微妙に動き、また、
枠も微妙な歪を拾うことになる。この状態でフィルム原
版またはガラス原版より画像が投影されるため、枠に固
定されたメッシュは減圧負荷が解かれると減圧前の状態
に戻り、従って投影された画像は歪を持つことになる。Second, an image is formed by UV lithography on a layer in which a polyester mesh or a stainless steel mesh is wrapped with a photocurable photosensitive resin. Exposure will be performed in a decompressed state, but the interwoven intersection of the mesh will slightly move due to the decompression load,
The frame also picks up subtle distortion. In this state, an image is projected from the film original or the glass original, and the mesh fixed to the frame returns to the state before the decompression when the decompression load is released, so that the projected image has distortion.
【０００６】第３に、現像時、ポリエステルメッシュま
たはステンレスメッシュを光硬化型感光性樹脂で包む込
んだ積層構造から未硬化の樹脂が一挙に溶け出して離脱
するするために、メッシュと樹脂層とのバランスが崩れ
微妙な歪を生じる。Thirdly, at the time of development, the uncured resin melts out of the laminated structure in which the polyester mesh or the stainless steel mesh is wrapped with the photocurable photosensitive resin at a stroke, and is separated from the mesh. The balance is lost and subtle distortion occurs.
【０００７】つぎに、（２）印刷耐久性の不足は、印刷
面の光硬化性感光性樹脂がスキージで繰り返し擦られる
ことにより摩耗が激しく、特に粘性の高いペースト印刷
においては数千ショットで使用できなくなる状況にあ
る。[0007] (2) Insufficient print durability is caused by repeated wear of the photo-curable photosensitive resin on the printing surface with a squeegee, and in particular, in the case of highly viscous paste printing, it is used in thousands of shots. The situation is no longer possible.
【０００８】また、（３）マスクの厚みの不均一は、光
硬化型感光性樹脂をポリエステルメッシュまたはステン
レスメッシュに均一な厚みに塗布できるのはせいぜい十
数μｍまでであり、例えば、厚膜ペースト印刷のように
５０〜１５０μｍ厚を要する場合には、目的の厚みまで
液状の樹脂を塗布・乾燥を繰り返す必要がある。このよ
うな繰り返し作業でマスク厚の均一性を確保することは
困難であり、加えて、作業中にゴミやキズを光硬化型感
光性樹脂層に混入するのを防ぐためにクリーンルーム内
で行う必要がある。[0008] (3) The unevenness of the thickness of the mask is such that the photocurable photosensitive resin can be applied to a polyester mesh or a stainless steel mesh with a uniform thickness at most up to more than 10 μm. When a thickness of 50 to 150 μm is required as in printing, it is necessary to repeatedly apply and dry a liquid resin to a desired thickness. It is difficult to keep the mask thickness uniform by such repetitive work, and in addition, it is necessary to perform it in a clean room to prevent dust and scratches from entering the photo-curable photosensitive resin layer during the work. is there.
【０００９】また、（４）の水洗浄の不可は、光硬化型
感光性樹脂は吸水性が高いために、使用時にマスクが汚
れた際の水洗浄を想定して、マスク作成時に撥水処理剤
を別工程で塗布しなければならない。しかしながら、そ
の効果は、一時的なものでマスクの使用とともに失われ
ていく。In the case of (4), washing with water is impossible, because the photocurable photosensitive resin has a high water absorption, and is assumed to be washed with water when the mask is contaminated during use. The agent must be applied in a separate step. However, the effect is temporary and is lost with the use of the mask.
【００１０】さらに、従来のシルクスクリーンの（５）
アスペクト比の問題は、開口幅とマスクの厚みの比が
１：１が基本であり、目的の開口幅に対し厚みを大きく
取ることはできない。これを補うため、両面露光により
画像を形成する技術もあるが、この場合天地の不嵌合に
よる画像の歪が多発する。Furthermore, the conventional silk screen (5)
The problem of the aspect ratio is basically that the ratio of the opening width to the mask thickness is 1: 1 and the thickness cannot be made larger than the target opening width. In order to compensate for this, there is a technique of forming an image by double-sided exposure, but in this case, distortion of the image due to improper fitting of the top and bottom frequently occurs.
【００１１】[0011]
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、従来
のシルクスクリーン印刷用マスクの上記（１）〜（５）
の問題点を改善したポリイミドまたはポリエステルシー
トからなるスクリーン用印刷マスクおよびその製造方法
を提供しようとするものである。SUMMARY OF THE INVENTION The object of the present invention is to provide the above-mentioned (1) to (5) of a conventional mask for silk screen printing.
It is an object of the present invention to provide a screen printing mask made of a polyimide or polyester sheet and a method for manufacturing the same, which has improved the problems described above.
【００１２】[0012]
【課題を解決するための手段】本発明者らは、従来のシ
ルクスクリーン印刷用マスクに係る上記の問題点を解決
すべく鋭意検討を重ねた結果、ポリイミドまたはポリエ
ステルシートと少なくとも１種の金属層からなり、ポリ
イミドまたはポリエステルシートに印刷パターンに対応
する開口部を有し、金属層にはネット状またはドット状
の開口部を有するスクリーン印刷用マスクとすること
で、上記の種々の問題を解決しうることを見出し、本発
明を完成するに至った。Means for Solving the Problems The inventors of the present invention have made intensive studies to solve the above-mentioned problems relating to the conventional mask for silk-screen printing, and as a result, have found that a polyimide or polyester sheet and at least one metal layer are provided. The above-mentioned various problems can be solved by forming a screen printing mask having openings corresponding to the printing pattern in a polyimide or polyester sheet, and having a net-like or dot-like opening in the metal layer. This led to the completion of the present invention.
【００１３】すなわち本発明は、ポリイミドまたはポリ
エステルシートと少なくとも１種の金属層との積層構造
体からなり、ポリイミドまたはポリエステルシートは印
刷画像パターンに対応する開口部を有し、金属層は均一
なネット状あるいはドット状の開口部を有することを特
徴とするスクリーン印刷用マスクにある。That is, the present invention comprises a laminated structure of a polyimide or polyester sheet and at least one metal layer, wherein the polyimide or polyester sheet has an opening corresponding to a printed image pattern, and the metal layer is a uniform net. A screen printing mask characterized by having an opening in the shape of dots or dots.
【００１４】さらに本発明は、ポリイミドまたはポリエ
ステルシートと少なくとも１種の金属層からなる積層シ
ートの両面に耐アルカリ性フォトレジスト層を形成した
後、ＵＶリソグラフィー法によりポリイミドまたはポリ
エステルシート面に開口部を有するレジストパターンを
形成してポリイミドまたはポリエステルシートを露出さ
せ、次に露出ポリイミドまたはポリエステルシートをエ
ッチング除去して開口部を形成した後、上記耐アルカリ
性フォトレジスト層を剥離し、次に両面に耐酸性フォト
レジストを形成した後、ＵＶリソグラフィー法により金
属面にネット状あるいはドット状のレジストパターンを
形成して金属面を露出させ、次に露出金属層を除去して
ネット状あるいはドット状のパターンを形成することを
特徴とするスクリーン印刷用マスクの製造方法にある。Further, according to the present invention, after forming an alkali-resistant photoresist layer on both sides of a laminated sheet comprising a polyimide or polyester sheet and at least one metal layer, the polyimide or polyester sheet has openings on the polyimide or polyester sheet surface by UV lithography. After forming a resist pattern to expose the polyimide or polyester sheet and then removing the exposed polyimide or polyester sheet by etching to form an opening, the alkali-resistant photoresist layer is peeled off, and then acid-resistant After forming the resist, a net-shaped or dot-shaped resist pattern is formed on the metal surface by UV lithography to expose the metal surface, and then the exposed metal layer is removed to form a net-shaped or dot-shaped pattern. A script characterized by that In the manufacturing method of the screen printing mask.
【００１５】また本発明は、ポリイミドまたはポリエス
テルシートと少なくとも１種の金属層からなる積層シー
トの金属膜面に、ステンレスメッシュを重ねて保持しな
がらメッキ処理して金属膜とステンレスメッシュを一体
化したメッシュ積層ポリイミドまたはポリエステルシー
トの両面に耐アルカリ性フォトレジスト層を形成した
後、ＵＶリソグラフィー法によりポリイミドまたはポリ
エステル面に開口部を有するレジストパターンを形成し
てポリイミドまたはポリエステルシートを露出させ、次
に露出ポリイミドまたはポリエステルシートをエッチン
グ除去して開口部を形成した後、上記耐アルカリ性フォ
トレジスト層を剥離し、次に金属面に耐酸性フォトレジ
ストを形成した後ＵＶを全面露光して金属面を保護し
て、ポリイミドまたはポリエステルシート側より金属層
をエッチングしてメッシュパターン状の開口部を形成す
ることを特徴とするスクリーン印刷用マスクの製造方法
にある。Further, in the present invention, the metal film and the stainless mesh are integrated by plating while holding the stainless steel mesh on the metal film surface of the laminated sheet comprising the polyimide or polyester sheet and at least one metal layer. After forming an alkali-resistant photoresist layer on both sides of the mesh laminated polyimide or polyester sheet, a resist pattern having an opening on the polyimide or polyester surface is formed by UV lithography to expose the polyimide or polyester sheet, and then expose the polyimide or polyester sheet. Or after removing the polyester sheet by etching to form an opening, the alkali-resistant photoresist layer is peeled off, and then an acid-resistant photoresist is formed on the metal surface, and then the entire surface is exposed to UV to protect the metal surface. , Polyimide or In the screen manufacturing process of printing mask and forming an opening of the mesh pattern by etching the metal layer from Li esters sheet side.
【００１６】さらに本発明は、ポリイミドまたはポリエ
ステルシートと少なくとも１種の金属層との積層構造体
からなり、ポリイミドまたはポリエステルシートは印刷
画像パターンに対応する開口部を有し、金属層は均一な
ネット状あるいはドット状の開口部を有するスクリーン
印刷用マスクの金属層面をスキージ面として使用するこ
とを特徴とするスクリーン印刷用マスクの使用方法にあ
る。Further, the present invention comprises a laminated structure of a polyimide or polyester sheet and at least one metal layer, wherein the polyimide or polyester sheet has an opening corresponding to a printed image pattern, and the metal layer is a uniform net. The present invention provides a method for using a screen printing mask, characterized in that a metal layer surface of a screen printing mask having an opening in a shape of dots or dots is used as a squeegee surface.
【００１７】[0017]
【発明の実施の形態】以下、本発明を図面を参照しなが
ら説明する。図１は、本発明のスクリーン印刷用マスク
の一つの実施態様の拡大図で、図１（１）は上面より見
た平面図であり、図１（２）は、図１（１）のＸ−Ｘの
断面図である。図２（１）は、本発明のスクリーン印刷
用マスクの他の実施態様の平面図であり、図２（２）
は、図２（１）のＹ−Ｙの断面図である。金属層はいず
れもスキージ面にある。図１（１）および図２（１）に
おいて、スキージ方向はいずれも図面の上下方向であ
る。DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 is an enlarged view of one embodiment of the screen printing mask of the present invention. FIG. 1 (1) is a plan view as viewed from above, and FIG. 1 (2) is a cross-sectional view of FIG. It is sectional drawing of -X. FIG. 2 (1) is a plan view of another embodiment of the screen printing mask of the present invention, and FIG.
FIG. 3 is a sectional view taken along line YY of FIG. All metal layers are on the squeegee surface. In FIG. 1 (1) and FIG. 2 (1), the squeegee direction is the vertical direction in the drawing.
【００１８】本発明のポリイミドまたはポリエステルシ
ート（以下、説明の簡潔化のためポリイミドシートと記
し、ポリエステルシートの記載を省略する。）は、スク
リーン印刷用マスクとして機械的特性を有すればよく、
またペースト印刷の印刷厚によるが、一般的には厚さ３
０〜３００μｍの範囲である。The polyimide or polyester sheet of the present invention (hereinafter, referred to as a polyimide sheet for simplicity of description, and the description of the polyester sheet is omitted) may have mechanical properties as a screen printing mask.
Although it depends on the printing thickness of the paste printing, the thickness is generally 3
The range is from 0 to 300 μm.
【００１９】本発明のスクリーン印刷用マスクにおいて
スキージ面側となる金属層は、耐印刷性を付与するとと
もにマスクの寸法精度を向上させるために積層させるも
ので、材質としては銅、ニッケル、ステンレスなどが挙
げられるが、耐久性の面から０．２％耐力７００〜１２
００Ｎ／ｍｍ2 、ビッカース硬度４００〜１０００の範
囲の硬質金属を使用することが好ましい。これには、硬
質ニッケル、ニッケルタングステン合金などがある。金
属層は一層のみでもよいが更に硬質の金属を積層して２
層としてもよい。金属層の厚みは、３〜５０μｍが実用
的である。In the mask for screen printing of the present invention, the metal layer on the squeegee surface side is laminated to impart printing resistance and improve the dimensional accuracy of the mask, and may be made of copper, nickel, stainless steel or the like. But 0.2% proof stress 700 to 12 from the viewpoint of durability.
It is preferable to use a hard metal having a hardness of 00 N / mm 2 and a Vickers hardness of 400 to 1000. This includes hard nickel, nickel tungsten alloys and the like. Only one metal layer may be used, but a harder metal
It may be a layer. The thickness of the metal layer is practically 3 to 50 μm.
【００２０】図１および図２に示すように、ポリイミド
シート１には印刷画像パターンに対応する開口部２が形
成されている。一方、金属層３には、ネット状あるいは
ドット状の開口部２−１が形成されている。なお、その
面積開口率は、単位印刷パターン開口部２の面積あたり
のネット状あるいはドット状開口部２−１の面積の百分
率である。図１に示した態様では、印刷パターンに対応
する開口部２に相当する金属層３にのみネット状開口部
２−１が形成されているのに反し、図２に示した態様で
は、マスク全面に均一にネット状開口部２−１が形成さ
れているが、両者の面積開口率は同一である。ドット状
開口部２−１についても、図１および図２に示したネッ
ト状開口部と同様に、開口部２に相当する金属層３にの
み形成しても良いし、またマスク全面に形成しても良
い。As shown in FIGS. 1 and 2, the polyimide sheet 1 has an opening 2 corresponding to a printed image pattern. On the other hand, the metal layer 3 has a net-shaped or dot-shaped opening 2-1. The area opening ratio is a percentage of the area of the net-shaped or dot-shaped opening 2-1 per area of the unit print pattern opening 2. In the embodiment shown in FIG. 1, the net-shaped opening 2-1 is formed only in the metal layer 3 corresponding to the opening 2 corresponding to the print pattern. In the embodiment shown in FIG. Although the net-shaped openings 2-1 are formed uniformly in both, the area aperture ratios of both are the same. Similarly to the net-shaped openings shown in FIGS. 1 and 2, the dot-shaped openings 2-1 may be formed only in the metal layer 3 corresponding to the openings 2, or may be formed on the entire surface of the mask. May be.
【００２１】ネット状開口部あるいはドット状開口部２
−１は大きいほど、また、面積開口率が大きいほど、高
粘性のハンダペーストの流動抵抗が少なくなるが、スク
リーン印刷用マスクの寸法精度や開口部の機械的な強
度、さらには印刷されたペースト厚の均一性の点から、
すなわち、被印刷物の品質より、ネット状の開口部２−
１では一辺の大きさが３００μｍ以下の多角形で、その
面積開口率が９０％以下であり、かつ、高粘性ペースト
を開口部２に円滑に充填するために、該多角形を形成す
るネットの軸がスキージ方向に対して少なくとも２０〜
７０°の角度にする必要がある。ネット状の多角形とし
ては、その軸の取扱いから正方形または菱形が好都合で
ある。また、ドット状の開口部の直径も３００μｍ以下
であり、その面積開口率が９０％にする必要がある。ド
ット状の開口部の形状は、円形または多角形であっても
良いが、マスク面に均一に形成された円形のほうが製作
し易く、またスキージ方向に対する位置の配慮が不要で
あり好都合である。Net opening or dot opening 2
The larger the value of -1 and the larger the area opening ratio, the lower the flow resistance of the high-viscosity solder paste. However, the dimensional accuracy of the mask for screen printing, the mechanical strength of the opening, and the printed paste. From the point of thickness uniformity,
In other words, depending on the quality of the printing material, the net-shaped opening 2-
1 is a polygon having a side of 300 μm or less in size, an area opening ratio of 90% or less, and a net forming the polygon in order to smoothly fill the opening 2 with a high-viscosity paste. The axis is at least 20 to the squeegee direction
The angle must be 70 °. As the net-like polygon, a square or a rhombus is convenient from the handling of the axis. In addition, the diameter of the dot-shaped opening is 300 μm or less, and the area aperture ratio needs to be 90%. The shape of the dot-shaped opening may be circular or polygonal. However, a circular shape uniformly formed on the mask surface is easier to manufacture and does not require consideration of the position in the squeegee direction, which is convenient.
【００２２】一方、前記多角形およびドットの大きさお
よび面積開口率を小さくすればするほどスクリーン印刷
用マスクの寸法精度や開口部の金属の機械的強度は向上
するが、高粘性ペーストの流動抵抗が増大するので、マ
スク全面にわたっての均一な印刷が困難となるので、ネ
ット状開口部では一辺の大きさが２０μｍ以上の多角形
で、その面積開口率は２０％以上にする必要がある。ま
た、ドット状開口部の直径も２０μｍ以上でその面積開
口率も２０％以上にする必要がある。On the other hand, the smaller the size and the area opening ratio of the polygon and the dot, the higher the dimensional accuracy of the screen printing mask and the mechanical strength of the metal in the opening, but the higher the flow resistance of the highly viscous paste. Therefore, it is difficult to perform uniform printing over the entire surface of the mask. Therefore, it is necessary that the net-shaped opening is a polygon having a side of 20 μm or more and the area aperture ratio is 20% or more. In addition, the diameter of the dot-shaped openings must be 20 μm or more, and the area aperture ratio must be 20% or more.
【００２３】すなわち、本発明のスクリーン印刷用マス
クの寸法精度、機械的強度および印刷されたペースト厚
の均一性の点から、ネット状の開口部は一辺の大きさが
２０〜３００μｍからなる正方形あるいは菱形からなり
面積開口率が２０〜９０％であり、正方形あるいは菱形
を形成するネットの軸がスキージ方向に対して少なくと
も２０〜７０°の角度であることが必要であって、図１
および図２に示した態様では、いずれも４５度である。
また、ドット状の開口部は直径が２０〜３００μｍから
なる円形からなり面積開口率が２０〜９０％にする必要
がある。That is, in view of the dimensional accuracy, mechanical strength, and uniformity of the printed paste thickness of the screen printing mask of the present invention, the net-shaped opening has a square shape of 20 to 300 μm on each side. It is necessary that the area aperture ratio is 20 to 90% and the axis of the net forming the square or the rhombus is at least 20 to 70 ° with respect to the squeegee direction.
In the embodiment shown in FIG. 2 and FIG.
Further, the dot-shaped opening is required to be a circle having a diameter of 20 to 300 μm and an area aperture ratio of 20 to 90%.
【００２４】図３は、本発明のスクリーン印刷用マスク
の製造工程を示す説明図である。ポリイミドシート１の
片面に蒸着法あるいは無電解メッキ法で０．１〜０．５
μｍの厚さの金属膜３を形成した後、電解メッキ法によ
り金属膜３を３〜５０μｍ厚に増大させる。ポリイミド
シート１に金属を積層する他の手段としてポリイミドシ
ート１に接着剤を介して金属箔を積層した片面金属箔積
層シートを使用しても良いが、この場合は接着層が次の
工程のエッチングでポリイミドと同様にエッチングされ
る接着剤にする必要がある。FIG. 3 is an explanatory view showing a manufacturing process of the mask for screen printing of the present invention. 0.1 to 0.5 on one side of the polyimide sheet 1 by vapor deposition or electroless plating.
After the formation of the metal film 3 having a thickness of μm, the thickness of the metal film 3 is increased to 3 to 50 μm by electrolytic plating. As another means for laminating a metal on the polyimide sheet 1, a single-sided metal foil laminated sheet in which a metal foil is laminated on the polyimide sheet 1 via an adhesive may be used. In this case, the adhesive layer is etched in the next step. Need to be an adhesive that is etched in the same way as polyimide.
【００２５】次に、片面に金属膜３を積層したポリイミ
ドシート１の両面にポリイミドエッチング用フォトレジ
スト４を塗布し、ＵＶリソグラフィー法によりポリイミ
ド面にレジストパターン４−１による開口部２を形成し
てポリイミド１を露出させ（図３（１））、つぎに開口
部２に露出したポリイミドシートをアルカリ性ヒドラジ
ン系エッチャントでエッチング除去してポリイミドに開
口部２を形成（図３（２））した後、両面のレジスト層
４を剥離し（図３（３））、次に両面に耐酸性フォトレ
ジスト５を形成した後、ＵＶリソグラフィー法により金
属面にネット状あるいはドット状のレジストパターン５
−１を形成して金属面を露出させ（図３（４））、次に
露出金属層を金属エッチャントでエッチング除去してネ
ット状あるいはドット状パターンを形成した後、耐酸性
フォトレジスト層を剥離してポリイミドシートに印刷画
像に対応する開口部を有し、金属層には均一なネット状
の開口部を有するスクリーン印刷用マスク（図４
（５））を製造する。Next, a polyimide etching photoresist 4 is applied to both sides of a polyimide sheet 1 having a metal film 3 laminated on one side, and an opening 2 is formed on the polyimide surface by a resist pattern 4-1 by UV lithography. After exposing the polyimide 1 (FIG. 3 (1)), the polyimide sheet exposed in the opening 2 is etched and removed with an alkaline hydrazine-based etchant to form the opening 2 in the polyimide (FIG. 3 (2)). The resist layers 4 on both sides are peeled off (FIG. 3 (3)), and then an acid-resistant photoresist 5 is formed on both sides, and then a net-like or dot-like resist pattern 5 is formed on the metal surface by UV lithography.
-1 is formed to expose the metal surface (FIG. 3 (4)), and then the exposed metal layer is removed by etching with a metal etchant to form a net-like or dot-like pattern, and then the acid-resistant photoresist layer is peeled off. A screen printing mask having openings corresponding to the printed image in the polyimide sheet and uniform net-shaped openings in the metal layer (FIG. 4)
(5)) is manufactured.
【００２６】ポリイミドエッチング用フォトレジスト
は、耐アルカリ性および耐ヒドラジン性の面より環化ゴ
ム／ビスアジド系ネガ型フォトレジストを使用すること
が好ましく、また耐酸性フォトレジストは、取扱い性の
面より、ドライフィルムフォトレジストを使用すること
が好ましい。As the photoresist for polyimide etching, it is preferable to use a cyclized rubber / bisazide type negative photoresist from the viewpoint of alkali resistance and hydrazine resistance. Preferably, a film photoresist is used.
【００２７】図４は、本発明の印刷マスクの他の実施態
様の製造工程を示す説明図である。まず、ポリイミドシ
ート１の片面に蒸着法あるいは無電解メッキ法で０．１
〜０．５μｍの厚さの金属膜３を形成する。その金属膜
３面に、ステンレスメッシュ６をその軸がスキージ方向
に対して少なくとも２０〜７０°の角度になるように重
ねて保持しながら該メッシュを構成するステンレス線径
の１．５〜０．５倍の厚みにメッキ処理することにより
金属膜３とステンレスメッシュを一体化したメッシュ積
層ポリイミドシートを得る。次に、メッシュ積層ポリイ
ミドシートの両面にポリイミドエッチング用フォトレジ
スト４を塗布し、ＵＶリソグラフィー法によりポリイミ
ド面にレジストパターン４−１による開口部２を形成し
てポリイミドを露出させ（図４（１））、つぎに露出し
たポリイミドをアルカリ性ヒドラジン系エッチャントで
エッチング除去して開口部２を形成（図４（２））した
後、レジスト層４を剥離する（図４（３））。次にステ
ンレスメッシュ面に耐酸性フォトレジストを形成し、Ｕ
Ｖ光を全面露光してレジスト層５とした後、ポリイミド
面より露出金属層３を金属エッチャントでエッチング除
去してメッシュパターンを形成した後（図４（４））、
レジスト層５を剥離してスクリーン印刷用マスクを製造
する（図４（５））。FIG. 4 is an explanatory view showing a manufacturing process of another embodiment of the print mask of the present invention. First, one side of the polyimide sheet 1 is formed by a vapor deposition method or an electroless plating method.
The metal film 3 having a thickness of about 0.5 μm is formed. While holding the stainless steel mesh 6 on the surface of the metal film 3 so that the axis thereof is at least 20 to 70 ° with respect to the squeegee direction, the stainless steel wire 6 has a diameter of 1.5 to 0. By plating to a thickness five times as large, a mesh laminated polyimide sheet in which the metal film 3 and the stainless steel mesh are integrated is obtained. Next, a photoresist 4 for polyimide etching is applied to both sides of the mesh-laminated polyimide sheet, and an opening 2 is formed on the polyimide surface by a resist pattern 4-1 by UV lithography to expose the polyimide (FIG. 4A). Next, the exposed polyimide is removed by etching with an alkaline hydrazine-based etchant to form an opening 2 (FIG. 4B), and then the resist layer 4 is peeled off (FIG. 4C). Next, an acid-resistant photoresist is formed on the surface of the stainless steel mesh,
After the entire surface is exposed to V light to form a resist layer 5, the exposed metal layer 3 is etched away from the polyimide surface with a metal etchant to form a mesh pattern (FIG. 4 (4)).
The resist layer 5 is peeled off to produce a screen printing mask (FIG. 4 (5)).
【００２８】また、本発明のスクリーン印刷用マスク
は、次のようにしても得られる。すなわち、片面に金属
を積層した積層ポリイミドシート両面に、ポリイミドエ
ッチング用フォトレジストを塗布し、ＵＶリソグラフィ
ー法によりポリイミド面に開口部を有するレジストパタ
ーンを形成してポリイミドを露出させ、つぎに露出ポリ
イミド層をアルカリ性ヒドラジン系エッチャントでエッ
チング除去して開口部を形成した後、レジスト層を剥離
する。次に積層金属面にステンレスメッシュをその軸が
スキージ方向に対して少なくとも２０〜７０°の角度に
なるように重ねて保持しながらメッキ処理を施し金属膜
とステンレスメッシュを一体化した後、金属膜上のステ
ンレスメッシュ面に耐酸性フォトレジストを形成し、Ｕ
Ｖ光を全面露光してレジスト膜とした後、次にポリイミ
ド面より露出金属層を金属エッチャントでエッチング除
去してメッシュパターンを形成した後、レジスト層を剥
離してスクリーン印刷用マスクを製造する。The screen printing mask of the present invention can be obtained as follows. That is, a photoresist for polyimide etching is applied to both sides of a laminated polyimide sheet on which metal is laminated on one side, a resist pattern having an opening on the polyimide surface is formed by UV lithography to expose the polyimide, and then the exposed polyimide layer Is removed by etching with an alkaline hydrazine-based etchant to form an opening, and then the resist layer is removed. Next, the metal film and the stainless steel mesh are integrated by plating while holding a stainless steel mesh on the laminated metal surface such that its axis is at least 20 to 70 ° with respect to the squeegee direction. An acid-resistant photoresist is formed on the stainless steel mesh
After the entire surface is exposed to V light to form a resist film, the exposed metal layer is etched away from the polyimide surface with a metal etchant to form a mesh pattern, and the resist layer is peeled off to manufacture a screen printing mask.
【００２９】なお、金属膜とステンレスメッシュとを一
体化させるメッキの厚さは、メッシュの交差部における
メッシュを構成するステンレス線の動きを止めるという
意味では厚い方が良いことになるが、一方パターンを形
成する必要があるのでメッシュを構成する線径の１．５
〜０．５倍の厚みにすることが好ましい。また、上記説
明ではステンレスメッシュとして、ステンレス線からな
る織物を使用しているがステンレスシートを化学エッチ
ング加工等によりメッシュ相当の開口部を形成したシー
トを使用しても良い。The thickness of the plating for integrating the metal film and the stainless steel mesh is better in terms of stopping the movement of the stainless wire constituting the mesh at the intersection of the meshes. Must be formed, so that the diameter of the wire constituting the mesh is 1.5
It is preferable to set the thickness to 0.5 times. Further, in the above description, a woven fabric made of a stainless wire is used as the stainless mesh, but a sheet in which an opening corresponding to the mesh is formed by a chemical etching process or the like of a stainless sheet may be used.
【００３０】以上、ステンレスメッシュを使用した例で
本発明を説明したがポリエステル長繊維で構成されるポ
リエステルメッシュを用いる場合も同様である。Although the present invention has been described above with reference to the example using a stainless steel mesh, the same applies to the case where a polyester mesh composed of polyester long fibers is used.
【００３１】以上のようにして本発明のポリイミドまた
はポリエステルシートと金属層との積層構造体からなる
スクリーン印刷用マスクを得ることができる。本発明の
印刷マスクは、金属層のネット状あるいはドット状パタ
ーンが平坦であり、かつ、その製造法から寸法精度は良
好である。また、金属膜とステンレスメッシュまたはポ
リエステルメッシュと一体化させた印刷マスクでは、メ
ッシュ構成線または繊維の動きが金属層によって止めら
れているので、寸法精度は格段に良好である。As described above, a screen printing mask comprising a laminated structure of the polyimide or polyester sheet of the present invention and a metal layer can be obtained. The print mask of the present invention has a flat net-like or dot-like pattern of the metal layer and good dimensional accuracy due to its manufacturing method. In a print mask in which a metal film is integrated with a stainless steel mesh or a polyester mesh, the movement of the mesh constituent lines or fibers is stopped by the metal layer, so that the dimensional accuracy is extremely good.
【００３２】本発明のスクリーン印刷用マスクの１つの
態様としてスキージ面側に０．２％耐力７００〜１２０
０Ｎ／ｍｍ2 、ビッカース硬度４００〜１０００の硬質
金属を使用したものは、耐久性が著しく向上する。最
近、印刷特性の向上のために金属スキージが使用される
ようになり、印刷面の硬度と平滑性に対する要求がより
高くなっており、本発明のスクリーン印刷用マスクはこ
の要求に対応することができる。As one embodiment of the screen printing mask of the present invention, 0.2% proof stress 700-120 on the squeegee surface side.
Those using a hard metal having a hardness of 0 N / mm 2 and a Vickers hardness of 400 to 1000 have remarkably improved durability. Recently, metal squeegees have been used to improve printing characteristics, and the demand for hardness and smoothness of a printing surface has been increased. The screen printing mask of the present invention can meet this demand. it can.
【００３３】さらに本発明は、スクリーン印刷用マスク
の主材料としてポリイミドまたはポリエステルシートを
使用しているので、マスクの厚みの均一性が優れてお
り、また、従来のマスク形成における光硬化型感光性樹
脂の塗布・乾燥の繰り返しにより発生する、キズやゴミ
の混入も起こらない。Further, in the present invention, since a polyimide or polyester sheet is used as a main material of the screen printing mask, the uniformity of the thickness of the mask is excellent, and the photo-curing type photosensitive material in the conventional mask formation is excellent. No scratches or dusts are generated due to repeated application and drying of the resin.
【００３４】また、本発明のスクリーン印刷用マスク
は、主材料としてポリイミドまたはポリエステルシート
を使用しているので、水洗浄が可能である。Since the screen printing mask of the present invention uses a polyimide or polyester sheet as a main material, it can be washed with water.
【００３５】さらに、本発明で使用しているエッチャン
トによるポリイミドまたはポリエステルのエッチング特
性が極めて優れていることより、アスペクト比の高い開
口部を形成することが可能であるため、高精細の厚膜印
刷が出来るようになった。Furthermore, since the etching characteristics of the polyimide or polyester by the etchant used in the present invention are extremely excellent, it is possible to form an opening having a high aspect ratio. Is now available.
【００３６】本発明のスクリーン印刷用マスクは、従来
のシルクスクリーンの課題であった寸法精度不良、耐久
性不足、厚みの不均一性、水洗浄の不可、およびアスペ
クト比を一挙に解決したスクリーンマスクであるので、
電子部品実装におけるハンダ・ペーストの高精細印刷
や、電子部品製造における厚膜ペーストの高精細印刷、
プラズマデスプレイのセル壁の印刷などへの適応が可能
である。The screen printing mask of the present invention is a screen mask which has solved the problems of conventional silk screens, such as poor dimensional accuracy, insufficient durability, uneven thickness, no water washing, and aspect ratio. So that
High-definition printing of solder paste in electronic component mounting, high-resolution printing of thick film paste in electronic component manufacturing,
It can be applied to the printing of cell walls of plasma display.
【００３７】[0037]
【実施例】以下、実施例によって本発明をさらに具体的
に説明するが、本発明はこれらの実施例によってなんら
限定されるものではない。EXAMPLES The present invention will be described in more detail with reference to the following Examples, which should not be construed as limiting the present invention.
【００３８】［実施例１］厚さ１２５μｍのポリイミド
シート（（株）東レ・デユポン社製「カプトン」（商品
名）使用）１の片面に０．１μｍ厚にニッケルを蒸着し
た後、その上に電鋳法により厚さ２５μｍ、０．２％耐
力９５０Ｎ／ｍｍ2 、ビッカース硬度５５０の硬質ニッ
ケル膜３を形成し金属膜積層ポリイミドシートを得た。
次に該積層シートの両面に厚さ１０μｍになるように環
化ゴム／ビスアジド系ＵＶフォトレジスト（東京応化
（株）製ＯＭＲ−８３（商品名））を塗布、乾燥した
後、ＵＶリソグラフィーによりポリイミドシート１上に
は画像に対応するレジストパターン４−１を、金属層３
上には全面露光してレジスト層４を形成（図３（１））
した。Example 1 Nickel was vapor-deposited to a thickness of 0.1 μm on one side of a polyimide sheet 125 having a thickness of 125 μm (“Kapton” (trade name) manufactured by Toray DuPont Co., Ltd.), and then placed thereon. A hard nickel film 3 having a thickness of 25 μm, a 0.2% proof stress of 950 N / mm 2 , and a Vickers hardness of 550 was formed by electroforming to obtain a metal film laminated polyimide sheet.
Next, a cyclized rubber / bisazide UV photoresist (OMR-83 (trade name) manufactured by Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd.) is applied to both sides of the laminated sheet so as to have a thickness of 10 μm, and dried. A resist pattern 4-1 corresponding to an image is formed on the sheet 1
The entire surface is exposed to form a resist layer 4 (FIG. 3A).
did.
【００３９】次に、搬送式エッチングマシーンを使用し
て、エタノール、水酸化カリウム、ヒドラジンの混合液
からなる温度７０℃のポリイミドエッチング液を、上記
積層シートの両面にスプレー圧２．５ｋｇ／ｃｍ2 でス
プレーして、レジストパターン４−１からなる開口部２
に露出しているポリイミドシート１をエッチング除去し
て開口部２を形成した（図３（２））。次に、レジスト
用剥離液（東京応化（株）製、ＯＭＲ８３用剥離液）を
使用して両面のレジスト層４を剥離した（図３
（３））。Next, a polyimide etching solution consisting of a mixed solution of ethanol, potassium hydroxide and hydrazine at a temperature of 70 ° C. was sprayed onto both sides of the laminated sheet by using a transfer etching machine at a spray pressure of 2.5 kg / cm 2. And the opening 2 composed of the resist pattern 4-1
The opening 2 was formed by etching away the polyimide sheet 1 exposed on the substrate (FIG. 3 (2)). Next, the resist layers 4 on both surfaces were stripped using a stripper for resist (a stripper for OMR83 manufactured by Tokyo Ohka Co., Ltd.) (FIG. 3).
(3)).
【００４０】次に、得られた開口部２を有するシートの
両面に膜厚５０μｍの耐酸性のドライフィルムフォトレ
ジスト（日本合成化学（株）製、３７１Ｙ−５０（商品
名））５を積層した。ＵＶリソグラフィーにより金属面
上のフォトレジスト層には、ポリイミドの画像２に対応
する部分に１辺長さが７１μｍ、線幅２５μｍの正方形
からなるネット状パターンを、そのネットの軸がポリイ
ミド層の画像軸に対する角度を４５度に設定してレジス
トパターン５−１を形成した。他方、ポリイミド層側の
フォトレジスト５は全面露光して硬化させたレジスト層
を形成（図３（４））した。次に、搬送式エッチングマ
シーンを使用して、塩化第２鉄溶液からなる温度４０℃
のエッチング液を上記シートの両面にスプレー圧２．５
ｋｇ／ｃｍ2 でスプレーして、露出している金属層３を
エッチング除去してネット状パターンを形成した。次
に、５％水酸化ナトリウム水溶液を使用して両面のレジ
スト層を剥離してスクリーン印刷用マスクを作成した
（図３（５））。印刷パターンに対するネットパターン
の面積開口率は４２％であった。Next, an acid-resistant dry film photoresist (371Y-50 (trade name) manufactured by Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd.) 5 having a film thickness of 50 μm was laminated on both sides of the obtained sheet having openings 2. . In the photoresist layer on the metal surface by UV lithography, a net-like pattern consisting of a square having a side length of 71 μm and a line width of 25 μm was formed on the portion corresponding to the image 2 of polyimide, and the axis of the net was the image of the polyimide layer. The resist pattern 5-1 was formed at an angle of 45 degrees with respect to the axis. On the other hand, the photoresist 5 on the polyimide layer side was exposed and cured to form a resist layer (FIG. 3D). Next, using a transfer type etching machine, a temperature of 40 ° C. composed of a ferric chloride solution was used.
Spray liquid on both sides of the sheet with a spray pressure of 2.5
The exposed metal layer 3 was removed by etching by spraying at kg / cm 2 to form a net-like pattern. Next, the resist layers on both sides were peeled off using a 5% aqueous sodium hydroxide solution to prepare a screen printing mask (FIG. 3 (5)). The area aperture ratio of the net pattern to the print pattern was 42%.
【００４１】［実施例２］図４に、金属膜面にステンレ
スメッシュを積層一体化させたスクリーン印刷用マスク
の製造工程を示した。厚さ１２５μｍのポリイミドシー
ト（（株）東レ・デユポン社製「カプトン」（商品名）
使用）１の片面に０．１μｍ厚のニッケルを蒸着した
後、蒸着面に線径１８μｍからなるステンレスメッシュ
＃４００のカレンダー品を密着、保持して電鋳法を利用
して厚さ２５μｍ、０．２％耐力９５０Ｎ／ｍｍ2 、ビ
ッカース硬度５５０の硬質ニッケル膜３を形成し、ステ
ンレスメッシュ６と金属層３とを一体化させた。次に、
その積層シートの両面に厚さ１０μｍになるように環化
ゴム／ビスアジド系ＵＶフォトレジスト（東京応化
（株）製ＯＭＲ−８３（商品名））を塗布、乾燥した
後、ＵＶリソグラフィーによりポリイミド上には画像に
対応するレジストパターン４−１開口部２を、金属層３
上には全面露光してレジスト層４を形成した（図４
（１））。Example 2 FIG. 4 shows a manufacturing process of a screen printing mask in which a stainless steel mesh is laminated and integrated on a metal film surface. 125μm thick polyimide sheet (“Kapton” (trade name) manufactured by Toray DuPont Co., Ltd.)
1) A 0.1 μm-thick nickel is vapor-deposited on one side of 1), and a calender product of stainless mesh # 400 having a wire diameter of 18 μm is adhered and held on the vapor-deposited surface, and a thickness of 25 μm, A hard nickel film 3 having a 0.2% proof stress of 950 N / mm 2 and a Vickers hardness of 550 was formed, and the stainless steel mesh 6 and the metal layer 3 were integrated. next,
A cyclized rubber / bisazide UV photoresist (OMR-83 (trade name) manufactured by Tokyo Ohka Co., Ltd.) is applied to both sides of the laminated sheet so as to have a thickness of 10 μm, dried, and then applied on polyimide by UV lithography. Indicates that the resist pattern 4-1 opening 2 corresponding to the image is formed in the metal layer 3
The entire surface was exposed to form a resist layer 4 (FIG. 4
(1)).
【００４２】次に、搬送式エッチングマシーンを使用し
て、エタノール、水酸化カリウム、ヒドラジンの混合液
からなる温度７０℃のポリイミドエッチング液を上記シ
ートの両面にスプレー圧２．５ｋｇ／ｃｍ2 でスプレー
して、レジストパターン４−１に露出しているポリイミ
ドをエッチング除去して画像に対応する開口部２を形成
した（図４（２））。次に、レジスト用剥離液（東京応
化（株）製、ＯＭＲ８３用剥離液）を使用して両面のレ
ジスト層４を剥離した（図４（３））。Next, a polyimide etching solution consisting of a mixture of ethanol, potassium hydroxide and hydrazine at a temperature of 70 ° C. was sprayed onto both sides of the sheet at a spray pressure of 2.5 kg / cm 2 using a transport type etching machine. Then, the polyimide exposed on the resist pattern 4-1 was removed by etching to form an opening 2 corresponding to the image (FIG. 4 (2)). Next, the resist layers 4 on both surfaces were stripped using a stripper for resist (a stripper for OMR83, manufactured by Tokyo Ohka Co., Ltd.) (FIG. 4 (3)).
【００４３】次に、得られたシートの金属面に膜厚５０
μｍの耐酸性のドライフィルムフォトレジスト（日本合
成化学（株）製、３７１Ｙ−５０（商品名））を積層
し、ＵＶを全面露光して硬化させレジスト膜５とした。
次に、搬送式エッチングマシーンを使用して、塩化第２
鉄溶液からなる温度４０℃のエッチング液を上記シート
のポリイミド側よりスプレー圧２．５ｋｇ／ｃｍ2 でス
プレーして、ポリイミドシートの開口部２を通して露出
している金属層をエッチングした。このとき、硬質ニッ
ケルは、ステンレスと比較してエッチング速度が大きい
ためにこのようなエッチングを行うことにより硬質ニッ
ケル層がエッチング除去される間にステンレスメッシュ
は僅か２〜３μｍ細りはしたがメッシュ状態を十分に保
持していた（図４（４））。次に、５％水酸化ナトリウ
ム水溶液を使用してレジスト層５を剥離してスクリーン
印刷用マスクを作成した（図４（５））。印刷パターン
に対するメッシュパターンの面積開口率は約５１％であ
った。Next, a film thickness of 50 was applied to the metal surface of the obtained sheet.
A μm acid-resistant dry film photoresist (manufactured by Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd., 371Y-50 (trade name)) was laminated, and the entire surface was exposed to UV and cured to form a resist film 5.
Next, using a transfer-type etching machine,
An etching solution composed of an iron solution at a temperature of 40 ° C. was sprayed from the polyimide side of the sheet at a spray pressure of 2.5 kg / cm 2 to etch the metal layer exposed through the opening 2 of the polyimide sheet. At this time, since the hard nickel has an etching rate higher than that of stainless steel, the stainless mesh is thinned by only 2-3 μm while the hard nickel layer is etched away by performing such etching, but the mesh state is changed. It was sufficiently retained (FIG. 4 (4)). Next, the resist layer 5 was peeled off using a 5% aqueous sodium hydroxide solution to prepare a screen printing mask (FIG. 4 (5)). The area aperture ratio of the mesh pattern with respect to the print pattern was about 51%.
【００４４】［使用例］上記実施例１および２で得られ
た、図３（５）および図４（５）に示したマスク厚み１
５０μｍ、導体開口幅１００μｍ（アスペクト比１．
５）の仕様のスクリーン印刷用マスク７を、図５に示す
アルミパイプまたは鋳物製支持枠９に張ったスクリーン
８に張り付け固定して、導体銅ペーストのパターン印刷
を行った。印刷は、東洋インキ（株）製の導体銅ペース
トおよび金属スキージを使用し、スキージ圧２．２ｋ
ｇ，スキージスピード３５ｍｍ／秒の印刷条件でセラミ
ック基板に行った。その結果、実施例１および２で得ら
れたスクリーン印刷用のマスクともに、１万回以上の印
刷ショットを実施した後でもスクリーン印刷用マスクの
スキージ面にキズ等の発生は皆無であり、印刷パターン
形状はほぼ設計通りで寸法精度並びに厚み精度は良好で
あった。また、印刷終了後のマスクは、水洗浄で処理す
ることができた。[Use Example] The mask thickness 1 shown in FIGS. 3 (5) and 4 (5) obtained in Examples 1 and 2 described above.
50 μm, conductor opening width 100 μm (aspect ratio 1.
A screen printing mask 7 having the specification 5) was attached and fixed to a screen 8 attached to an aluminum pipe or a cast support frame 9 shown in FIG. 5, and a conductor copper paste pattern was printed. The printing was performed using a conductive copper paste and a metal squeegee manufactured by Toyo Ink Co., Ltd., and a squeegee pressure of 2.2 k.
g, squeegee speed was 35 mm / sec. As a result, the screen printing masks obtained in Examples 1 and 2 showed no scratches or the like on the squeegee surface of the screen printing mask even after the printing shots were performed 10,000 times or more. The shape was almost as designed and the dimensional accuracy and thickness accuracy were good. Further, the mask after printing was able to be treated by water washing.
【００４５】[0045]
【発明の効果】以上説明したように、本発明のスクリー
ン印刷用マスクは、従来のシルクスクリーンの課題であ
った寸法精度不良、耐久性不足、厚みの不均一性、水洗
浄の不可およびアスペクト比を一挙に解決したスクリー
ンマスクであって、電子部品実装におけるハンダ・ペー
ストの高精細印刷や、電子部品製造における厚膜ペース
トの高精細印刷、プラズマディスプレイのセル壁の印刷
などへの適応が可能である。As described above, the screen printing mask of the present invention has the following problems of conventional silk screens: poor dimensional accuracy, insufficient durability, uneven thickness, inability to wash with water, and aspect ratio. This screen mask solves all problems at once, and can be applied to high definition printing of solder paste in electronic component mounting, high definition printing of thick film paste in electronic component manufacturing, printing of cell walls of plasma display, etc. is there.
【図１】本発明のポリイミドまたはポリエステルシート
と金属層からなるスクリーン印刷用マスクの拡大図で、
（１）は平面図、（２）は図１（１）のＸ−Ｘ断面図で
ある。FIG. 1 is an enlarged view of a screen printing mask comprising a polyimide or polyester sheet of the present invention and a metal layer,
(1) is a plan view, and (2) is a cross-sectional view along XX of FIG. 1 (1).
【図２】本発明のポリイミドまたはポリエステルシート
と金属層からなる他の実施態様のスクリーン印刷用マス
クの拡大図で、（１）は平面図、（２）は図２（１）の
Ｙ−Ｙ断面図である。FIG. 2 is an enlarged view of a screen printing mask according to another embodiment of the present invention comprising a polyimide or polyester sheet and a metal layer, wherein (1) is a plan view, and (2) is a YY line in FIG. It is sectional drawing.
【図３】本発明のスクリーン印刷用マスクの製造工程を
示す説明図である。FIG. 3 is an explanatory view showing a manufacturing process of the screen printing mask of the present invention.
【図４】本発明のスクリーン印刷用マスクの別の製造工
程を示す説明図である。FIG. 4 is an explanatory view showing another manufacturing process of the screen printing mask of the present invention.
【図５】スクリーン印刷用マスクを枠に固定して状態を
示す平面図である。FIG. 5 is a plan view showing a state in which a screen printing mask is fixed to a frame.
１ ポリイミドシートまたはポリエステルシート ２ 開口部 ２−１ ネット状またはドット状開口部 ３ 金属層 ３−１ ネット状またはドット状金属部 ４ ポリイミドまたはポリエステルエッチング用レ
ジスト ４−１ レジストパターン ５ 金属層エッチング用レジスト ５−１ レジストパターン ６ ステンレスメッシュまたはポリエステルメッシ
ュ ７ スクリーン印刷用マスク ８ スクリーン ９ 枠DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Polyimide sheet or polyester sheet 2 Opening 2-1 Net-shaped or dot-shaped opening 3 Metal layer 3-1 Net-shaped or dot-shaped metal part 4 Polyimide or polyester etching resist 4-1 Resist pattern 5 Metal layer etching resist 5-1 resist pattern 6 stainless mesh or polyester mesh 7 screen printing mask 8 screen 9 frame
Claims (6)
少なくとも１種の金属層との積層構造体からなり、ポリ
イミドまたはポリエステルシートは印刷画像パターンに
対応する開口部を有し、金属層は均一なネット状または
ドット状の開口部を有することを特徴とするスクリーン
印刷用マスク。1. A laminated structure of a polyimide or polyester sheet and at least one metal layer, wherein the polyimide or polyester sheet has an opening corresponding to a printed image pattern, and the metal layer has a uniform net shape or dots. A screen printing mask having an opening in a shape of a circle.
〜３００μｍからなる多角形からなり面積開口率が２０
〜９０％であり、該多角形を形成するネットの軸がスキ
ージ方向に対してすくなくとも２０〜７０°の角度であ
ることを特徴とする請求項１記載のスクリーン印刷用マ
スク。2. The size of one side of the net-shaped opening is 20.
It is composed of a polygon consisting of
2. The screen printing mask according to claim 1, wherein the angle of the net forming the polygon is at least 20 to 70 [deg.] With respect to the squeegee direction.
μｍからなる円形からなり面積開口率が２０〜９０％で
あることを特徴とする請求項１記載のスクリーン印刷用
マスク。3. The dot-shaped opening has a diameter of 20 to 300.
2. The screen printing mask according to claim 1, wherein the mask has a circular aperture of [mu] m and an area aperture ratio of 20 to 90%.
少なくとも１種の金属層からなる積層シートの両面に耐
アルカリ性フォトレジスト層を形成した後、ＵＶリソグ
ラフィー法によりポリイミドまたはポリエステルシート
面に開口部を有するレジストパターンを形成してポリイ
ミドシートまたはポリエステルシートを露出させ、次に
露出ポリイミドシートまたはポリエステルシートをエッ
チング除去して開口部を形成した後、上記耐アルカリ性
フォトレジスト層を剥離し、次に両面に耐酸性フォトレ
ジストを形成した後、ＵＶリソグラフィー法により金属
面にネット状あるいはドット状のレジストパターンを形
成して金属面を露出させ、次に露出金属層を除去してネ
ット状あるいはドット状のパターンを形成することを特
徴とする請求項１、２または３記載のスクリーン印刷用
マスクの製造方法。4. After forming an alkali-resistant photoresist layer on both sides of a laminated sheet comprising a polyimide or polyester sheet and at least one metal layer, a resist pattern having an opening on the polyimide or polyester sheet surface is formed by UV lithography. Forming and exposing the polyimide sheet or polyester sheet, then etching away the exposed polyimide sheet or polyester sheet to form openings, peeling off the alkali-resistant photoresist layer, then acid-resistant photoresist on both sides Forming a net or dot resist pattern on the metal surface by UV lithography to expose the metal surface, and then removing the exposed metal layer to form a net or dot pattern. Claim 1, characterized in that: 4. The method for producing a screen printing mask according to 2 or 3.
少なくとも１種の金属層からなる積層シートの金属膜面
に、ステンレスメッシュを重ねて保持しながらメッキ処
理することにより金属膜とステンレスメッシュを一体化
したメッシュ積層ポリイミドシートまたはポリエステル
シートの両面に耐アルカリ性フォトレジスト層を形成し
た後、ＵＶリソグラフィー法によりポリイミドまたはポ
リエステルシート面に開口部を有するレジストパターン
を形成してポリイミドまたはポリエステルシートを露出
させ、次に露出ポリイミドまたはポリエステルシートを
エッチング除去して開口部を形成した後、上記耐アルカ
リ性フォトレジスト層を剥離し、次に金属面に耐酸性フ
ォトレジストを形成した後ＵＶを全面露光して金属面を
保護して、ポリイミドまたはポリエステルシート側より
金属層をエッチングしてメッシュパターン状の開口部を
形成するを特徴とするスクリーン印刷用マスクの製造方
法。5. A mesh lamination in which a metal film and a stainless steel mesh are integrated by plating while holding a stainless steel mesh on a metal film surface of a laminate sheet comprising a polyimide or polyester sheet and at least one metal layer. After forming an alkali-resistant photoresist layer on both sides of the polyimide sheet or polyester sheet, a resist pattern having an opening on the polyimide or polyester sheet surface is formed by UV lithography to expose the polyimide or polyester sheet, and then expose the polyimide or polyester sheet. Or after removing the polyester sheet by etching to form an opening, the alkali-resistant photoresist layer is peeled off, and then an acid-resistant photoresist is formed on the metal surface, and then the entire surface is exposed to UV to protect the metal surface. , Polyimi A method for manufacturing a mask for screen printing, characterized in that a metal layer is etched from the side of a sheet or polyester sheet to form openings in a mesh pattern.
少なくとも１種の金属層との積層構造体からなり、ポリ
イミドまたはポリエステルシートは印刷画像パターンに
対応する開口部を有し、金属層は均一なネット状あるい
はドット状の開口部を有するスクリーン印刷用マスクの
金属層面をスキージ面として使用することを特徴とする
請求項１〜５いずれか記載のスクリーン印刷用マスクの
使用方法。6. A laminated structure of a polyimide or polyester sheet and at least one metal layer, wherein the polyimide or polyester sheet has an opening corresponding to a printed image pattern, and the metal layer has a uniform net shape or dots. The method for using a screen printing mask according to any one of claims 1 to 5, wherein a metal layer surface of the screen printing mask having a shape-like opening is used as a squeegee surface.
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Cited By (20)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100498841B1 (en) * | 2001-08-14 | 2005-07-04 | 강성배 | A screen mask for printing Plasma display panel |
| US6962111B2 (en) | 2000-06-15 | 2005-11-08 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | Screen-printing plate, manufacturing method of laminated-ceramic electronic devices, and laminated-ceramic electronic device manufactured by the method |
| JP2006334957A (en) * | 2005-06-02 | 2006-12-14 | Murata Mfg Co Ltd | Screen printing plate |
| KR100658761B1 (en) | 2005-11-30 | 2006-12-15 | 삼성에스디아이 주식회사 | Mask and method of manufacturing organic light emitting display using the same |
| JP2008044243A (en) * | 2006-08-17 | 2008-02-28 | Kobe Steel Ltd | Blank for solid mask with mesh and its manufacturing method |
| JP2008162277A (en) * | 2006-12-06 | 2008-07-17 | Bonmaaku:Kk | Mask and its manufacturing method |
| JP2008209936A (en) * | 2008-03-27 | 2008-09-11 | Dainippon Printing Co Ltd | Method for manufacturing color filter |
| JP2009151069A (en) * | 2007-12-20 | 2009-07-09 | Mitsubishi Paper Mills Ltd | Method for manufacturing mask with level difference for screen printing |
| WO2011105582A1 (en) * | 2010-02-26 | 2011-09-01 | 株式会社コベルコ科研 | Mesh member for screen printing |
| WO2011149067A1 (en) * | 2010-05-28 | 2011-12-01 | 京セラ株式会社 | Printing plate and method for manufacturing solar cell element using the printing plate |
| EP1542279A3 (en) * | 2003-12-12 | 2012-03-14 | Sony Corporation | Semiconductor device and the method of producing the same |
| US8349086B2 (en) * | 2004-07-30 | 2013-01-08 | United Technologies Corporation | Non-stick masking fixtures and methods of preparing same |
| CN103171244A (en) * | 2011-12-23 | 2013-06-26 | 昆山允升吉光电科技有限公司 | Method for manufacturing double-layer solar energy printing screen |
| JP2016173914A (en) * | 2015-03-17 | 2016-09-29 | 古河機械金属株式会社 | Method for manufacturing deposition film, and method for manufacturing all-solid type lithium ion battery |
| JP2018065396A (en) * | 2018-01-23 | 2018-04-26 | マクセルホールディングス株式会社 | Metal mask for screen printing |
| DE102011110653B4 (en) * | 2010-08-25 | 2019-07-04 | Hans und Antonie Priwitzer Ingenieurbüro GBR (vertretungsberechtigte Gesellschafter: Hans Priwitzer, 90596 Schwanstetten; Antonie Priwitzer, 90596 Schwansteten) | Screen printing stencil and method for its production |
| JP2020059290A (en) * | 2019-01-11 | 2020-04-16 | マクセルホールディングス株式会社 | Metal mask |
| JP2020185756A (en) * | 2019-05-17 | 2020-11-19 | マクセルホールディングス株式会社 | Screen printing mask |
| JP2021505360A (en) * | 2017-12-05 | 2021-02-18 | サイマー リミテッド ライアビリティ カンパニー | Non-woven screen for dust capture in laser discharge chamber |
| CN114286507A (en) * | 2022-01-19 | 2022-04-05 | 瑞华高科技电子工业园(厦门)有限公司 | Double-sided FPC and manufacturing method thereof |
-
1997
- 1997-07-28 JP JP21550897A patent/JPH1142867A/en active Pending
Cited By (28)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6962111B2 (en) | 2000-06-15 | 2005-11-08 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | Screen-printing plate, manufacturing method of laminated-ceramic electronic devices, and laminated-ceramic electronic device manufactured by the method |
| KR100498841B1 (en) * | 2001-08-14 | 2005-07-04 | 강성배 | A screen mask for printing Plasma display panel |
| EP1542279A3 (en) * | 2003-12-12 | 2012-03-14 | Sony Corporation | Semiconductor device and the method of producing the same |
| US8603582B2 (en) | 2004-07-30 | 2013-12-10 | United Technologies Corporation | Non-stick masking fixtures and methods of preparing same |
| US8349086B2 (en) * | 2004-07-30 | 2013-01-08 | United Technologies Corporation | Non-stick masking fixtures and methods of preparing same |
| JP4670487B2 (en) * | 2005-06-02 | 2011-04-13 | 株式会社村田製作所 | Screen printing version |
| JP2006334957A (en) * | 2005-06-02 | 2006-12-14 | Murata Mfg Co Ltd | Screen printing plate |
| KR100658761B1 (en) | 2005-11-30 | 2006-12-15 | 삼성에스디아이 주식회사 | Mask and method of manufacturing organic light emitting display using the same |
| JP2008044243A (en) * | 2006-08-17 | 2008-02-28 | Kobe Steel Ltd | Blank for solid mask with mesh and its manufacturing method |
| JP2008162277A (en) * | 2006-12-06 | 2008-07-17 | Bonmaaku:Kk | Mask and its manufacturing method |
| JP2009151069A (en) * | 2007-12-20 | 2009-07-09 | Mitsubishi Paper Mills Ltd | Method for manufacturing mask with level difference for screen printing |
| JP4620139B2 (en) * | 2008-03-27 | 2011-01-26 | 大日本印刷株式会社 | Manufacturing method of color filter |
| JP2008209936A (en) * | 2008-03-27 | 2008-09-11 | Dainippon Printing Co Ltd | Method for manufacturing color filter |
| WO2011105582A1 (en) * | 2010-02-26 | 2011-09-01 | 株式会社コベルコ科研 | Mesh member for screen printing |
| WO2011149067A1 (en) * | 2010-05-28 | 2011-12-01 | 京セラ株式会社 | Printing plate and method for manufacturing solar cell element using the printing plate |
| JP5335140B2 (en) * | 2010-05-28 | 2013-11-06 | 京セラ株式会社 | Printing plate and method for producing solar cell element using the printing plate |
| US8703520B2 (en) | 2010-05-28 | 2014-04-22 | Kyocera Corporation | Printing plate and method for manufacturing solar cell element using the printing plate |
| DE102011110653B4 (en) * | 2010-08-25 | 2019-07-04 | Hans und Antonie Priwitzer Ingenieurbüro GBR (vertretungsberechtigte Gesellschafter: Hans Priwitzer, 90596 Schwanstetten; Antonie Priwitzer, 90596 Schwansteten) | Screen printing stencil and method for its production |
| CN103171244A (en) * | 2011-12-23 | 2013-06-26 | 昆山允升吉光电科技有限公司 | Method for manufacturing double-layer solar energy printing screen |
| JP2016173914A (en) * | 2015-03-17 | 2016-09-29 | 古河機械金属株式会社 | Method for manufacturing deposition film, and method for manufacturing all-solid type lithium ion battery |
| JP2021505360A (en) * | 2017-12-05 | 2021-02-18 | サイマー リミテッド ライアビリティ カンパニー | Non-woven screen for dust capture in laser discharge chamber |
| US11614012B2 (en) | 2017-12-05 | 2023-03-28 | Cymer, Llc | Nonwoven screens for dust trapping in laser discharge chambers |
| JP2018065396A (en) * | 2018-01-23 | 2018-04-26 | マクセルホールディングス株式会社 | Metal mask for screen printing |
| JP2020059290A (en) * | 2019-01-11 | 2020-04-16 | マクセルホールディングス株式会社 | Metal mask |
| JP2020185756A (en) * | 2019-05-17 | 2020-11-19 | マクセルホールディングス株式会社 | Screen printing mask |
| JP2022121537A (en) * | 2020-01-22 | 2022-08-19 | マクセル株式会社 | Metal mask |
| CN114286507A (en) * | 2022-01-19 | 2022-04-05 | 瑞华高科技电子工业园(厦门)有限公司 | Double-sided FPC and manufacturing method thereof |
| CN114286507B (en) * | 2022-01-19 | 2024-03-29 | 瑞华高科技电子工业园(厦门)有限公司 | Double-sided FPC and manufacturing method thereof |
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