JP2011107588A - Camera module and method of manufacturing the same - Google Patents
Camera module and method of manufacturing the same Download PDFInfo
- Publication number
- JP2011107588A JP2011107588A JP2009264970A JP2009264970A JP2011107588A JP 2011107588 A JP2011107588 A JP 2011107588A JP 2009264970 A JP2009264970 A JP 2009264970A JP 2009264970 A JP2009264970 A JP 2009264970A JP 2011107588 A JP2011107588 A JP 2011107588A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- camera module
- lens
- light shielding
- shielding layer
- spacer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Abstract
Description
本発明は、カメラモジュールに係わり、特には、携帯電話に装着するカメラモジュールの外光遮蔽技術に関する。 The present invention relates to a camera module, and more particularly, to an external light shielding technique for a camera module mounted on a mobile phone.
携帯電話にカメラを装着することは、いまでは普通に行なわれている。そのカメラは、電荷結合型(CCD型)や相補型酸化物半導体型(C−M0S型)の固体撮像素子をカメラ本体に用い、その他にレンズ等を組み込んだカメラモジュールとして、携帯電話に内臓されている。 It is common practice to attach a camera to a mobile phone. The camera is built into a mobile phone as a camera module that uses a charge coupled (CCD) or complementary oxide semiconductor (C-M0S) solid-state image sensor for the camera body, and other lenses. ing.
図5に示すように、カメラは携帯電話40に2個装着されるものがある。第一のカメラ41は、画素数が500万〜1000万程度の高精細カメラであり、通常のカメラとあまり変わらない。第二のカメラ42は、画素数が10万〜30万程度の動画専用カメラであり、主としてテレビ電話用カメラである。入力ボタン43の操作により、表示面44に通話者自身もしくは通話相手の顔などを映すことができる。
As shown in FIG. 5, there are two cameras that are mounted on the
従来のカメラモジュールは、図6に示すように、固体撮像素子51と2〜3枚程度のレンズ52a、52bを備えたカメラモジュール50であり、全体は合成樹脂製のカメラ枠体53によって支持されている。該カメラ枠体53は、周囲からの光を遮るため黒く着色されている。固体撮像素子51の受光素子面には、色分解用のカラーフィルタや集光用のマイクロレンズが各画素毎に形成されているが、図6では小さすぎて図示できない。また、カバーガラス54により表面を保護している。
As shown in FIG. 6, the conventional camera module is a
このカメラモジュール50の固体撮像素子51は、図6に示すように、印刷回路基板55の導電層56の電極とワイヤボンデインクやポール・グリッド・アレイ(以下、BGAという。)方式等により電気的に接続されていて、電気信号化された画像情報が取り出される。
As shown in FIG. 6, the solid-
しかしながら、図6に示すようなカメラモジュール50は、合成樹脂製のカメラ枠体53を用いるので、リフロー法による自動実装がしにくいという問題がある。さらに印刷回路基板55自体の厚みによって、縦方向に嵩張ることが避けられないものである。このことが携帯電話の薄型・軽量化の妨げとなっていた。
However, since the
そこで、カメラモジュールの小型・薄型化を目的に、ウエハプロセスにて作製できる構造が提案されている。図7に示すカメラモジュール60がその一例である。図7において、固体撮像素子であるシリコン基板1は、その上面の受光素子面に、色分解用のカラーフィルタ16や集光用のマイクロレンズ17を各画素毎に作りこんでいる。固体撮像素子にて得られる画像情報の電気信号は、スルー・シリコン・ビア内に充填もしくは内壁を被覆する導電物質2によりシリコン基板1の裏面に導かれ、パターン化された絶縁層3と導電層4によって、BGA方式による接続端子5にて外部回路との接続を可能としている。
Therefore, a structure that can be manufactured by a wafer process has been proposed for the purpose of reducing the size and thickness of the camera module. The
シリコン基板1上方は、枠壁6を介して封止ガラス板7を貼りあわせて受光領域を気密とする。枠型6の厚さは図では誇張されているが、50μm程度の薄いものである。該封止ガラス板7の上には、ガラス製の第一スペーサ8を介して、第一レンズ基体9の表裏面に透明樹脂からなるレンズ要素9a,9bを形成してなる第一レンズ体14を重ねる。さらに、ガラス製の第二スペーサ12を介して、第二レンズ基体11の表裏面に透明樹脂からなるレンズ要素11a,11bを形成してなる第二レンズ体15を重ねる。図の例では、第一レンズ体14は凹レンズであり、第二レンズ体15は凸レンズである。透明樹脂からなるレンズ要素は、微細モー
ルド法やフォトリソ法により作成される。最後に、第三のスペーサ12を介して、カバーガラス板13を貼りあわせる。カバーガラス板13は、赤外線カットガラスを兼ねる場合が多い。
Above the
図7に示したカメラモジュール60は、一品だけを描いているが、実際の作製工程では、直径20〜30cmのシリコンウエハの加工プロセスに、同じく直径20〜30cmのガラス板の加工プロセスを組み合わせて、文字通りウエハプロセスにて作製され、最終的にダイシング工程にて個々に断裁されて1個のカメラモジュールとなる。図7のカメラモジュール60では、それが携帯電話に装着される第二カメラであれば、シリコン基板1の大きさは、わずか3mm角程度であるから、直径20cmの一枚のウエハから1,500〜2,800個くらいは採れるものである。
The
しかしながら、図7のカメラモジュール60にも、解決すべき問題がある。それは、シリコン基板1の上に積層されているスペーサ8,10,12とレンズ基体9,11が、いずれもガラス製やプラスチック製であるため、ウエハプロセスを回流させるだけの強度を持たせるためには、その厚さが0.4mm程度必要になるということである。そのため、カメラモジュール60のレンズ部分の高さは相当高くなり、また、ガラスやプラスチックは透光性のため、
積層体の側面から外部光が入射するという欠点がある。
However, the
There is a drawback that external light is incident from the side surface of the laminate.
カメラモジュールに斜めから光線が入射すると、その光線がフレアやかぶり現象を誘起する。いわゆる撮影画面に白ボケや不要な光像が生じる現象である。これを防止するためのフレア対策としては、図8に示すように、カメラモジュール60に対して側面からの光を遮断する金属製の遮蔽鏡筒18を装着することが提案できる。
When a light beam is incident on the camera module from an oblique direction, the light beam induces flare and fogging. This is a phenomenon in which white blurring or an unnecessary light image is generated on a so-called shooting screen. As a countermeasure against flare to prevent this, as shown in FIG. 8, it can be proposed to attach a
しかし、先言したように、カメラモジュールのシリコン基板1の大きさは3mm角程度であり、このような小さなものに筒状の遮蔽体を固定的に装着することは、人手によっても機械的手段を採っても、工程的に手間を要するばかりでなく、作業的にも極めて困難である。折角、ウエハプロセスにてウエハ1枚当たり2.000個作れても、フレア防止策が工程上の隘路となり、カメラモジュールとしての大量生産を妨げ、コスト低減にならないのである。
However, as mentioned above, the size of the
本発明は、上記に説明したウエハプロセスにより作製されるカメラモジュールのフレア防止対策であって、作製工程において、人手や手間を要せず、工程的にも簡便に作製できる外光遮蔽部を備えるカメラモジュールの構造およびその製造方法を提供するものである。 The present invention is a flare prevention measure for a camera module manufactured by the wafer process described above, and includes an external light shielding unit that can be easily manufactured in a manufacturing process without requiring manual labor or labor. A structure of a camera module and a manufacturing method thereof are provided.
上記課題を達成するための請求項1に記載の発明は、固体撮像素子の上にスペーサを介して少なくとも一枚のレンズ体を積層してなるカメラモジュールにおいて、少なくともスペーサの内側壁を、無電解めっき層の遮光層により被覆したことを特徴とするカメラモジュールとしたものである。
In order to achieve the above object, the invention according to
また請求項2に記載の発明は、無電解めっき層の遮光層に代えて、黒色着色樹脂の遮光
層としたことを特徴とする請求項1に記載のカメラモジュールとしたものである。
The invention described in
また請求項3に記載の発明は、遮光層の下面もしくは上面の少なくとも一方が光低反射性であることを特徴とする請求項1または請求項2に記載のカメラモジュールとしたものである。
The invention according to
また請求項4に記載の発明は、固体撮像素子の上にスペーサを介して少なくとも1枚のレンズ体を積層してなるカメラモジュールにおいて、レンズ体のレンズ要素の少なくとも周辺部を遮光層により被覆したことを特徴とするカメラモジュールとしたものである。 According to a fourth aspect of the present invention, in a camera module in which at least one lens body is laminated on a solid-state imaging device via a spacer, at least a peripheral portion of the lens element of the lens body is covered with a light shielding layer. The camera module is characterized by that.
また請求項5に記載の発明は、レンズ要素の周辺部を被覆する遮光層が、黒色着色感光性樹脂組成物の塗膜を光硬化させ加熱定着した遮光層であることを特徴とする請求項4に記載のカメラモジュールとしたものである。
The invention described in
また請求項6に記載の発明は、
下記の工程(a)〜(e)を具備することを特徴とするカメラモジュールの製造方法としたものである。
(a)ウエハプロセスにてウエハに多面付された固体撮像素子を準備する工程、
(b)ガラス製ウエハをエッチング加工することにより前記固体撮像素子の受光面に対応して開口部を多数形成したスペーサを作成する工程、
(c)該スペーサの開口部の少なくとも内側壁を遮光層により被覆する工程、
(d)前記多面付された固体撮像素子の上面に、該スペーサを介して、少なくとも一枚のレンズ構造体を積層して多面付されたレンズモジュールを作成する工程、
(e)しかる後、多面付されたカメラモジュール間の断裁線に沿って断裁し、個々のカメラモジュールに分離する工程。
The invention according to
The camera module manufacturing method includes the following steps (a) to (e).
(a) a step of preparing a solid-state imaging device having multiple faces on a wafer in a wafer process;
(b) creating a spacer having a large number of openings corresponding to the light receiving surface of the solid-state imaging device by etching a glass wafer;
(c) a step of covering at least the inner wall of the opening of the spacer with a light shielding layer;
(d) a step of creating a lens module having a plurality of surfaces by laminating at least one lens structure on the top surface of the solid-state imaging element having the plurality of surfaces through the spacer;
(e) After that, the process of cutting along the cutting lines between the multi-faceted camera modules and separating them into individual camera modules.
また請求項7に記載の発明は、遮光膜が、無電解めっき法により形成された遮光膜であることを特徴とする請求項6に記載のカメラモジュールの製造方法としたものである。
The invention described in
また請求項8に記載の発明は、遮光膜が、黒色着色樹脂の塗布により形成された遮光膜であることを特徴とする請求項6に記載のカメラモジュールの製造方法としたものである。
The invention according to
また請求項9に記載の発明は、
下記の工程(a)〜(e)を具備することを特徴とするカメラモジュールの製造方法としたものである。
(a)ウエハプロセスにてウエハに多面付された固体撮像素子を準備する工程、
(b)ガラス製ウエハをエッチング加工することにより前記固体撮像素子の受光面に対応して開口部を多数形成したスペーサを作成する工程、
(c)レンズ基体にレンズ要素を多数形成し、該レンズ要素の少なくとも周辺部を遮光層により被覆したレンズ構造体を作製する工程、
(d)前記多面付された固体撮像素子の上面に、該スペーサを介して、工程(c)により作製された少なくとも一枚のレンズ構造体を積層して多面付されたレンズモジュールを作成する工程、
(e)しかる後、多面付されたカメラモジュール間の断裁線に沿って断裁し、個々のカメラモジュールに分離する工程。
The invention described in
The camera module manufacturing method includes the following steps (a) to (e).
(a) a step of preparing a solid-state imaging device having multiple faces on a wafer in a wafer process;
(b) creating a spacer having a large number of openings corresponding to the light receiving surface of the solid-state imaging device by etching a glass wafer;
(c) a step of forming a lens structure in which a large number of lens elements are formed on a lens substrate, and at least the periphery of the lens element is covered with a light shielding layer;
(d) A step of creating a multifaceted lens module by laminating at least one lens structure produced in step (c) on the top surface of the multifaceted solid-state imaging device via the spacer. ,
(e) After that, the process of cutting along the cutting lines between the multi-faceted camera modules and separating them into individual camera modules.
また請求項10に記載の発明は、レンズ要素の周辺部を被覆する遮光層が、黒色着色感光性樹脂の塗膜お光硬化させ加熱定着した遮光層であることを特徴とする請求項9に記載のカメラモジュールの製造方法としたものである。
The invention described in
本発明は、フレア防止のための遮蔽鏡筒を不要にしたカメラモジュールであり、ウエハプロセスにより作製されるカメラモジュールのフレア防止対策であって、作製工程において、同様のウエハプロセスが採用できる。
したがって、人手や手間を要せず、工程的にも簡便に作製できるカメラモジュールの構造およびその製造方法を提供できる。その作製工程は、大量生産に適し、コスト低減に寄与する。
The present invention is a camera module that eliminates the need for a shielding lens barrel for preventing flare, and is a countermeasure for preventing flare in a camera module manufactured by a wafer process. A similar wafer process can be employed in the manufacturing process.
Therefore, it is possible to provide a camera module structure and a method for manufacturing the same that can be easily manufactured in a process without requiring manual labor or labor. The manufacturing process is suitable for mass production and contributes to cost reduction.
以下、本発明になるカメラモジュールの実施例を示す図1を用いて説明する。
図1に示す本発明になるカメラモジュール60は、スペーサ8,10,12の内側壁にフレア防止のための無電解めっきによる遮光層61が施されている。その材質は、ニッケル、クロム、コバルト、鉄、銅、金等から選択される金属の単一めっき層のほか、ニッケル−鉄、コバルト−鉄、銅−鉄等の組合せから選択される合金の無電解めっき層があげられる。そのほかに、銅等の金属を無電解めっきし、しかる後、その表面を化学処理や酸化処理して金属化合物とし、表面の光反射率の低い金属遮光層とすることもあげられる。
A camera module according to an embodiment of the present invention will be described below with reference to FIG.
The
該無電解めっきによる遮光層61は、マクベス濃度計にて2.0以上の濃度という高い遮光性能があるのが良く、かかる意味から遮光層61として金属を用いるのは都合が良い。図1では、遮光層61の厚みは、誇張されて描かれている。通常使用される金属めっき層では、濃度2.0以上を実現するには厚さ0.1〜1.0μmもあれば充分である。
The
また、本発明のカメラモジュール60の内側壁の遮光層61としては、黒色の塗料を、スプレー塗布法や浸漬法により施して形成することもできる。塗料による遮光膜61は、その表裏面がそれ自体光低反射性であることが多いので都合がよい。このような塗布法による遮光層61の厚みは、2.0〜50μm程度になる。
Further, the
図1に示す実施例では、遮光層61は、スペーサ8,10,12の内側壁ばかりではなく、その上下面にも形成されている。この理由は、ひとつはこれから後述する製造方法からして、このような形態が自然で最も作りやすいことと、もうひとつはスペーサの上下面にも遮光層があったほうが斜めからの入射光を遮る効果があり、フレア防止上、好ましいことによる。
In the embodiment shown in FIG. 1, the
本発明のカメラモジュールの製造方法を、その一実施例を工程順に示す図面の図2および図3に基いて、以下詳細に説明する。 A method for manufacturing a camera module according to the present invention will be described below in detail with reference to FIGS.
図2(a)に示す素材ガラス板21は、スペーサの母体となるもので、その材質は、例えば硼ケイ酸ガラス、アルミナシリケートガラス、ソーダライムガラス等である。その大きさは、固体撮像素子を作製するシリコンウエハと同じ直径、例えば20〜30cmである。その厚さは、0.4mm〜2.0mm程度である。厚さが0.4mmより薄いと、材料としての堅牢さに欠け、ウエハプロセスの加工製造装置に掛けられないので、この厚さが下限となる。上限は、後工程で付けるレンズ要素の厚みとの関係、および必要とする光路長を確保するというレンズ設計との兼ね合いで決まる。しかし、本発明のカメラモジュールは、なるべく薄形にしたいことからすると、素材ガラス板21の厚さは、なるべく薄くしたほうがよい。
The
このガラス板21の両面に耐フッ酸性のレジスト膜22a,22bをパターン状に形成する。レジスト膜22a,22bを上から見ると格子パターンをしている。この格子パターンの形状とサイズは、実はシリコンウエハに別工程で作成される固体撮像素子のサイズとビッチと同寸法に作られている。
A hydrofluoric acid resistant resist
レジスト膜22a,22bとしては、市販の耐フッ酸性の感光性樹脂を用いることがあげられる。感光性樹脂を用いれば、ガラス板21の両面に塗布、パターン露光、現像、加熱定着という一連のフォトリソプロセスにて所望パターンのレジスト膜22a,22bを形成できる。この有機系の感光性樹脂に加えて、その下側に金属のニッケル、銀、クロム等の薄膜をパターン化したものを補い、金属層と感光性樹脂の二重層にして、それをレジスト膜とすることも実際的である。
As the resist
次いで、ガラス板21をフッ酸系のエッチング液にて湿式エッチングする。フッ酸系のエッチング液は、フッ酸単体よりも、フッ酸+フッ化アンモニウムとか、フッ酸と硫酸、塩酸、リン酸、アンモニウム塩のいずれかとの混合系が良い。フッ酸単体に比べて、エッチング速度を早めたり、エッチング面の平滑性を良くする。いずれにしても水溶液で用いる。図2(b)は、エッチングを終えた状態を示す。レジスト膜22a,22bが設けられていなかったところが溶解し、開口部23が形成される。
Next, the
次いで、図2(c)示すように、苛性ソーダ、苛性カリ、炭酸ソーダ等のアルカリ性水溶液に接触させることで、レジスト膜22a, 22bを剥離する。できあがったものは、エッチングによる開口部を複数個有する格子パターン状のスペーサ連設体24であり、素材ガラス板21の元の厚みを維持している部分がスペーサになる。
Next, as shown in FIG. 2C, the resist
次いで、スペーサ連設体24の全面に遮光層25を形成する。遮光層25の形成手段には、無電解めっき法と黒色着色樹脂の塗布法がある。
Next, the
遮光層25は、マクベス濃度計にて2.0以上の濃度という高い遮光性能があるのが良く、かかる意味から遮光層25として金属膜を用いるのは都合が良い。図2(d)では、無電解めっきによる遮光層25の厚みは、誇張されて描かれている。通常使用される金属めっき層では、濃度2.0以上を実現するには厚さ0.1〜1.0μmもあれば充分である。
The
無電解めっきについて説明すると、基本的には従来知られている金属の無電解めっき法、合金の無電解めっき法が使用できる。無電解めっき法の手法、すなわち洗浄、脱脂、鋭敏化、活性化およびめっき操作という一連の工程を行なうことになる。 The electroless plating can be described basically using a conventionally known metal electroless plating method and alloy electroless plating method. A series of steps of electroless plating method, that is, cleaning, degreasing, sensitization, activation, and plating operation are performed.
ただ、本発明になるカメラモジュールは、後加工で携帯電話などに内蔵させるので、内側面の無電解めっきによる金属遮光層は、強固な接着力で内側面に付着していることが望ましい。そのために無電解めっき法としてガラス面への接着強度の高いめっき法を選択するのが望ましい。一例として、ニッケル無電解めっき法の場合、脱脂処理、鋭敏化処理、活性化処理のあと、次亜リン酸ソーダや次亜リン酸カリウム等の次亜リン酸のアルカリ金属塩の水溶液の処理を行なってから無電解めっきの本操作を行なうということがあげられる。 However, since the camera module according to the present invention is incorporated into a mobile phone or the like by post-processing, it is desirable that the metal light shielding layer by electroless plating on the inner surface is attached to the inner surface with a strong adhesive force. Therefore, it is desirable to select a plating method having high adhesive strength to the glass surface as the electroless plating method. As an example, in the case of nickel electroless plating, after degreasing treatment, sensitization treatment, activation treatment, treatment with an aqueous solution of an alkali metal salt of hypophosphorous acid such as sodium hypophosphite or potassium hypophosphite. It is possible to perform this operation of electroless plating after it has been performed.
無電解めっきを施すことにより、図2(d)に示すように、金属もしくは合金の無電解めっきによる遮光膜25が、スペーサ連設体24の全面に形成される。
By performing electroless plating, a
また、遮光層25としては、黒色の塗料を、スプレー塗布法や浸漬法により施して形成することもできる。塗料による遮光層25は、その表裏面がそれ自体光低反射性であることが多い。黒色の塗料は、感光性樹脂組成液に黒色の顔料や染料を添加した黒色着色感光性樹脂組成物を用いてもよい。このような塗布法による遮光層25の厚みは、2.0〜20μm程度になる。
The
続いて、図3(a)〜(g)に基づいて、固体撮像素子とレンズ体等を組合わせてカメラモジュールを完成させる工程を説明する。 Subsequently, a process of completing a camera module by combining a solid-state imaging device and a lens body will be described with reference to FIGS.
先言したように、この工程は、ウエハプロセスにより連続的に行なうことができる。すなわち、図3(a)に示すように、直径20〜30cmのシリコンウエハ30に固体撮像素子31を多数形成する。各固体撮像素子31の受光面には、一般に、色分解用のカラーフィルタや受光部へ光を集光するためのマイクロレンズ等が形成され、ウエハの裏面には外部接続端子のBGAが設けられるが、これらは小さすぎて図示していない。各固体撮像素子31の表面には周囲を囲むように、枠壁32が形成されている。枠壁32の厚さは図では誇張されているが、50μm程度の薄いものである。
As described above, this step can be continuously performed by a wafer process. That is, as shown in FIG. 3A, a large number of solid-
次いで、図3(b)に示すように、封止ガラス板33を枠壁32に貼り付ける。封止ガラス板33は、シリコンウエハ30と同一直径のガラス板である。枠壁32は封止ガラス板33と接着性のある材料である。
Next, as shown in FIG. 3B, a sealing
次いで、図3(c)に示すように、あらかじめ作製しておいた第一スペーサ連設体34を、位置合わせして封止ガラス板33の上面に貼り付ける。第一スペーサ連設体34は、図2に説明したように遮光層が全面に施されている。しかし、図3のスケールでは、遮光層は薄すぎて図3(c)では単に太線で示している。
Next, as shown in FIG. 3C, the first spacer
説明が前後したが、貼り付けに際しては、第一スペーサ連設体34の下面に、ロールコート法にて5〜10μm厚程度に接着剤を塗布しておく。ロールコート法によれば、第一スペーサ連設体34の下面に選択的に塗布することができる。接着剤の一部が開口部35の内側壁にまで及ぶことがあっても、それが少量であり、入射光線を遮ることがなければ、実際上は特に問題ない。このことは、この後の第二、第三スペーサ連設体についても同じことが当てはまる。
Although the explanation has been made before and after the bonding, an adhesive is applied to the lower surface of the first spacer
次いで、図3(d)に示すように、第一レンズ構造体36を第一スペーサ連設体34の上面に積層する。積層するには、第一スペーサ連設体34の上面にあらかじめ接着剤をロールコート方式で塗布しておく。その厚さは5〜10μm程度であり、図3(c)にて述べたことと同様である。第一レンズ構造体36は凹レンズである。
Next, as shown in FIG. 3D, the
次いで、図3(e)に示すように、第一レンズ構造体36の上に第ニスペーサ連設体37と第
二レンズ構造体38を積層接着する。第二スペーサ連設体37が積層接着の仲介をしていることは、前述の第一スペーサ連設体34と同様である。続いて、図4(f)に示すように、第二レンズ構造体38の上に第三スペーサ連設体39とカバーガラス板13を積層接着する。この図4(f)に示される状態は、シリコンウエハ30の上にレンズ体や透明ガラス板が多層階に積み重ねた状態であり、カメラモジュールが多面付けにて製造されたものである。
Next, as shown in FIG. 3 (e), the
最後に、各カメラモジュールを個々に分離するために、ダイシング装置にて上から下まで断裁する。ちなみにカットする断裁線は、スペーサ連設体34,37,39の格子パターンの中央線に相当し、断裁することにより、図4(g)のカメラモジュール60が得られる。これを拡大したものが、図1に示すカメラモジュール60に他ならない。
Finally, in order to separate each camera module individually, it is cut from the top to the bottom by a dicing apparatus. Incidentally, the cutting line to be cut corresponds to the center line of the lattice pattern of the spacer
本発明については、まだいくつかの変形がありうる。例えば図9の例は、スペーサ8,10,12に遮光層61を施すばかりでなく、第一のレンズ体14および第二のレンズ体15の必要とする部分に遮光膜62を形成したカメラモジュールである。図9の例では、フレア防止の効果が上がるように、レンズ体14,15のレンズ要素の周縁部にまで遮光層62を形成している。このような仕様の遮光膜62を有するレンズ体は、図10(a)〜(d)に示すプロセスにて作製することができる。
There can still be several variations on the present invention. For example, in the example of FIG. 9, a camera module in which not only the
すなわち、図10(a)に示すように、ガラス製のレンズ基体91の両面に、透明樹脂製のレンズ要素92a,92bを多数形成したレンズ体90を用意する。次いで、レンズ体90の表面に黒色着色感光性樹脂組成物を塗布して、感光性黒色層93を形成する。ここで用いる黒色着色感光性樹脂組成物は、感光性樹脂に顔料を分散するか染料を添加したものであり、例えば、染料もしくは顔料の色材、比較的低分子量の溶剤可溶性樹脂、光重合性モノマーもしくはオリゴマー、光重合開始剤および溶剤からなるものである。
That is, as shown in FIG. 10A, a lens body 90 in which a large number of
次いで、図9(c)に示すように、露光用マスク94を介して、平行光95を照射する。露光用マスク94には、所望パターン状に遮光膜96が設けられ、感光性黒色層93を除去したい領域には光95が露光されないようにする。説明が前後したが、黒色着色感光性樹脂組成物はネガ型の感光性樹脂であり、光が当たったところだけが光硬化する。
Next, as shown in FIG. 9 (c),
次いで、図10(d)に示すように、溶剤もしくはアルカリ性水溶液を用いた現像により、光硬化した領域のみを残存させ、しかる後、加熱定着処理を行なって、遮光層97とする。加熱定着した遮光層97は、もはや露光や現像工程によって形状が侵されることはない。したがって、図10(d)の状態から、レンズ基体91の裏面に対して、上記したと同様の工程を加えることにより、裏面にも遮光膜を形成することができる。かくして、図9に示されるカメラモジュールに用いるレンズ体15を多数連設したレンズ構造体38を得る。
Next, as shown in FIG. 10 (d), only the photocured region is left by development using a solvent or an alkaline aqueous solution, and then a heat fixing process is performed to form the
以下に、本発明の具体的な実施例を述べる。なお、実施例中の組成比は、特にことわらないかぎり質量比である。 Specific examples of the present invention will be described below. The composition ratios in the examples are mass ratios unless otherwise specified.
(1)スペーサ連設体の作製
厚さ0.5mm、直径20cmのアルミナ硼ケイ酸ガラスウエハ(Zn0 21%、Al2O3 5%、B2O3 40%、SiO2 14%)に対して、その両面に200nm厚の金属クロム層をスパッタ成膜し、さらにアクリル−エポキシ系の感光性樹脂を2μm厚に塗布し、両面同士位置合わせした状態でパターン露光し、現像・加熱定着した。このレジスト膜の形状は、格子状パターンであり、その形状とピッチは、シリコンウエハに多数形成された固体撮像素子の形状とピッチに合わせている。このレジスト膜により、下層の金属クロム層をエッチングして、金属クロムとレジスト膜からなる二重膜の耐食膜を形成した。耐食膜の形状は、上から見ると、エッチング開口部を形成すべきところが開口となっ
ている格子状パターンである。
(1) Fabrication of spacer continuous body For an alumina borosilicate glass wafer having a thickness of 0.5 mm and a diameter of 20 cm (Zn0 21%, Al 2 O 3 5%, B 2 O 3 40%,
次いで、フッ酸 10%、NH4OH 10%の混合エッチング液を用い、常温、浸漬法によるガラスエッチングを行なった。ガラスウエハの両面からエッチング凹部を形成し、連通させて開口部を形成した。レジスト膜とクロム層を溶解除去し、図2(c)に示すスペーサ連設体24を得た。
Next, glass etching was performed by a dipping method at room temperature using a mixed etching solution of 10% hydrofluoric acid and 10% NH 4 OH. Etching recesses were formed from both sides of the glass wafer and communicated to form openings. The resist film and the chromium layer were dissolved and removed to obtain a spacer
次いで、脱脂処理して水洗したスペーサ連設体に対して、塩化第二スズ5gと35重量%塩酸5mlを水1リットルに対して溶かした水溶液(25℃)に4分間漬けて、鋭敏化処理を行ない、流水で10秒間の水洗の後、塩化パラジウム(PdCl2)0.1gと塩酸0.2mlを水1リットルに溶かした水溶液に常温で4分間浸ける活性化処理を行なった。水洗の後、無電解ニッケルめっき液として、日本カンゼン社製の商品名「シューマー・S−680」を用い、液温50℃で10分間浸漬して無電解めっきを施した。 水洗後、80℃で30秒間の熱風乾燥を行ない、無電解メッキ層が全面に施されたスペーサ連設体24が得られた。このニッケルの無電解メッキ層は、マクベス濃度計にて5.0±0.5の値を有し、その接着強度も満足すべきものであった。
Next, the spacer assembly which has been degreased and washed with water is immersed in an aqueous solution (25 ° C.) in which 5 g of stannic chloride and 5 ml of 35 wt% hydrochloric acid are dissolved in 1 liter of water for 4 minutes, and is sensitized. After rinsing with running water for 10 seconds, an activation treatment was performed by immersing in an aqueous solution in which 0.1 g of palladium chloride (PdCl 2 ) and 0.2 ml of hydrochloric acid were dissolved in 1 liter of water at room temperature for 4 minutes. After washing with water, a product name “Schuma S-680” manufactured by Nippon Kanzen Co., Ltd. was used as the electroless nickel plating solution, and the electroless plating was performed by dipping at a liquid temperature of 50 ° C. for 10 minutes. After washing with water, hot air drying was performed at 80 ° C. for 30 seconds to obtain a spacer
(2)カメラモジュールの組立て
図3(a)〜(e)、図4(f)〜(g)に基づいて説明する。厚さ0.25mm、直径20cmのシリコンウエハに、図3(a)に示す固体撮像素子31を多数作成したものを用意する。この固体撮像素子31の上面に設けられた枠壁32をスペーサ兼接着層代わりに用いて、上面に厚さ0.4mmで直径20cmの封止ガラス板33を貼り合わせた。(図3(b)参照)
次いで、図2により作製した遮光層付き第一スペーサ連設体34の下面にアクリル−エポキシ系の接着剤をロールコート方式にて約5μm塗布する。接着剤は第一スペーサ連設体34の下面にのみ塗布される。この状態で、第一スペーサ連設体34を固体撮像素子31との位置を合わせて接合した。(図3(c)参照)
次いで、第一スペーサ連設体34の肉厚部の上面に、ロールコート方式にて接着剤を約5μm塗布する。凹レンズ形の第一レンズ構造体36を、第一スペーサ連設体34の上に積層して貼り合わせる。このときも、レンズ構造体36の各レンズと固体撮像素子31の受光面との位置合わせを行なうことは言うまでもない。(図3(d)参照)
続いて、以下は全く同様の手法により、第二スペーサ連設体37、第二レンズ体38を積層接着し、(図3(e)参照)、さらに、第三スペーサ連設体39、カバーガラス板13を接合した(図4(f)参照)。
(2) Assembling of Camera Module A description will be given based on FIGS. 3 (a) to 3 (e) and FIGS. 4 (f) to 4 (g). A silicon wafer having a thickness of 0.25 mm and a diameter of 20 cm prepared with a large number of solid-
Next, an acrylic-epoxy adhesive is applied to the lower surface of the first spacer
Next, about 5 μm of adhesive is applied to the upper surface of the thick portion of the first spacer
Subsequently, the second spacer
最後に、450メッシユのレジンブレードを用いたダイシング装置により、スペーサ連設体の中央部を断裁線として、表面より断裁溝を入れた。個々のカメラモジュールに分離し、図4(g)の状態とした完成品を得た。 Finally, a dicing apparatus using a 450 mesh resin blade was used to cut a groove from the surface with the central portion of the spacer continuous body as a cutting line. Separated into individual camera modules, a finished product in the state of FIG.
実施例1と全く同様にして、厚さ0.5mm、直径20cmのアルミナ硼ケイ酸ガラスウエハ(Zn0 21%、Al2O3 5%、B2O3 40%、SiO2 14%)に対して、フッ酸系のエッチング液を用いた化学エッチングにより、図面の図2(c)のスペーサ連設体を得た。これに対して、無電解めっきの前処理すなわち、脱脂、鋭敏化および活性化処理として、実施例1と全く同様に行なった。しかる後、下記に示す、種々の金属の無電解めっき液を用いることにより、それぞれの金属もしくは合金からなる無電解めっき層をスペーサ連設体の全面に形成して遮光層付きのスペーサ連設体を得た。いずれの遮光層も、マクベス濃度計による濃度測定値が3.0以上であった。
In exactly the same manner as in Example 1, for an alumina borosilicate glass wafer having a thickness of 0.5 mm and a diameter of 20 cm (Zn0 21%, Al 2 O 3 5%, B 2 O 3 40%,
A.無電解銅めっき液
硫酸銅 35g/l
酒石酸ナトリウム 175g/l
水酸化ナトリウム 50g/l
37重量%ホルムアルデイド 100ml添加
PH=11.5,液温24℃,浸漬時間15分間
A. Electroless copper plating solution
Copper sulfate 35g / l
Sodium tartrate 175g / l
Sodium hydroxide 50g / l
37% by weight formaldehyde added 100 ml PH = 11.5,
B.無電解コバルトめっき液
硫酸コバルト 0.07mol/l
次亜リン酸ナトリウム 0.2 mol/l
クエン酸ナトリウム 0.2 mol/l
硫酸アンモニウム 0.6 mol/l
PH=9.5,液温90℃,浸漬時間20分間
B. Electroless cobalt plating solution
Cobalt sulfate 0.07 mol / l
Sodium hypophosphite 0.2 mol / l
Sodium citrate 0.2 mol / l
Ammonium sulfate 0.6 mol / l
PH = 9.5, liquid temperature 90 ° C., immersion time 20 minutes
C.無電解ニッケルー鉄合金めっき液
塩化ニッケル 0.056mol/l
硫酸第一鉄アンモニウム 0.020mol/l
酒石酸ナトリウムカリウム 0.2 mol/l
次亜リン酸ナトリウム 0.094mol/l
アンモニア水 3.6 mol/l
液温75℃、浸漬時間20分間
C. Electroless nickel-iron alloy plating solution
Nickel chloride 0.056 mol / l
Ferrous ammonium sulfate 0.020 mol / l
Sodium potassium tartrate 0.2 mol / l
Sodium hypophosphite 0.094 mol / l
Ammonia water 3.6 mol / l
Liquid temperature 75 ° C, immersion time 20 minutes
得られたスペーサ連設体は、実施例1と同様にして、カメラモジュール用スペーサとすることができ、内壁にフレア防止の遮光層を有するカメラモジュールを得た。 The obtained spacer continuous body can be used as a camera module spacer in the same manner as in Example 1 to obtain a camera module having a flare-preventing light-shielding layer on the inner wall.
実施例1と全く同様にして、厚さ0.5mm、直径20cmのアルミナ硼ケイ酸ガラスウエハに対して、フッ酸系のエッチング液を用いた化学エッチングにより、図面の図2(c)のスペーサ連設体を得た。 In exactly the same manner as in Example 1, an alumina borosilicate glass wafer having a thickness of 0.5 mm and a diameter of 20 cm was subjected to chemical etching using a hydrofluoric acid-based etchant, and the spacer shown in FIG. A continuous body was obtained.
次いで、スプレー塗装法にて全面に塗膜を形成させる。スプレー塗装はコンプレッサーから送られ、圧縮空気の噴流で塗料を霧化して塗る方法であり、作業時の空気圧力は1〜5kg/cm2である。回転式の台に図2(c)の状態のスペーサ連設体を置き、これと10〜100cm離れた位置に20°〜70°の角度でスプレーガンを設置し塗料を噴射させた。回転式の台を除々に回し、カメラモジュールの側面に塗膜厚が20μm程度になるように塗装する。その後、スペーサ連設体を裏返し、同様の塗装操作を行ない、塗布した。
Next, a coating film is formed on the entire surface by spray coating. Spray coating is a method in which paint is sent from a compressor and sprayed with a jet of compressed air, and the air pressure during operation is 1 to 5 kg / cm 2 . The spacer continuous body in the state of FIG. 2 (c) was placed on a rotary base, and a spray gun was installed at an angle of 20 ° to 70 ° at a
しかる後、80℃の温度で20分程度乾燥かつ硬化を行なう。このようにスプレー塗装を行なうことで図2(d)に示すように遮光膜61が全面に形成される。なお前記した塗料は、東洋インキ製造(株)製の黒色塗料商品名「ライオポール黒」(アクリルウレタン樹脂系塗料)である。この塗布遮光膜はマクベス濃度計にて4.0±0.5の値を有し接着強度も満足すべきものであった。
得られたスペーサ連設体は、実施例1と同様にして、カメラモジュール用スペーサとすることができ、内壁にフレア防止の遮光層を有するカメラモジュールを得た。
Thereafter, drying and curing are performed at a temperature of 80 ° C. for about 20 minutes. By performing spray coating in this way, a
The obtained spacer continuous body can be used as a camera module spacer in the same manner as in Example 1 to obtain a camera module having a flare-preventing light-shielding layer on the inner wall.
本実施例は、スペーサ連設体への遮光層付与に加えて、レンズ体のレンズ要素の周縁にまで遮光層を施した例である。 In this example, in addition to the provision of the light shielding layer on the spacer continuous body, the light shielding layer is applied to the periphery of the lens element of the lens body.
(1)遮光層用の黒色着色感光性組成物の調製
アクリル樹脂(メタクリル酸20重量部、ヒドロキシエチルメタクリレート15重量部、メチルメタクリレート10重量部、ブチルメタクリレート55重量部をエチルセロソルブ300重量部に溶解し、窒素雰囲気下でアゾビスニトリル0.75重量部を加えて、70℃、5時間反応させ得られたアクリル樹脂)を、樹脂濃度20重量%になるようにエチルセロソルブで希釈した。
この希釈樹脂80gと、カーボンブラック20gと分散剤(フッ素系界面面活性剤)0.2gを添加して、ビーズミル分散機で冷却しながら3時間分散した。この着色樹脂液100.2gに対し、光重合性モノマーとしてトリメチロールプロパントリアクリレート3.9gと、光重合開始剤としてピペロニル−s−トリアジン0.8gを添加し、溶剤としてエチルセロソルブで固形分7重量%になるように希釈し、よく攪拌して遮光層形成用の黒色着色感光性組成物を調製した。
(1) Preparation of black colored photosensitive composition for light shielding layer Acrylic resin (20 parts by weight of methacrylic acid, 15 parts by weight of hydroxyethyl methacrylate, 10 parts by weight of methyl methacrylate, 55 parts by weight of butyl methacrylate are dissolved in 300 parts by weight of ethyl cellosolve. Acrylic resin obtained by adding 0.75 parts by weight of azobisnitrile under a nitrogen atmosphere and reacting at 70 ° C. for 5 hours was diluted with ethyl cellosolve so that the resin concentration became 20% by weight.
80 g of this diluted resin, 20 g of carbon black, and 0.2 g of a dispersant (fluorine surfactant) were added and dispersed for 3 hours while cooling with a bead mill disperser. To 100.2 g of this colored resin liquid, 3.9 g of trimethylolpropane triacrylate as a photopolymerizable monomer and 0.8 g of piperonyl-s-triazine as a photopolymerization initiator are added, and the solid content is 7 with ethyl cellosolve as a solvent. It diluted so that it might become weight%, and it stirred well and prepared the black coloring photosensitive composition for light shielding layer formation.
2.遮光層の作製
この遮光層形成用の黒色着色感光性組成物を、多数のレンズを形成したレンズ構造体にスピンコートし、70℃20分プリベークして、レンズ構造体の表面に、厚さ3.0μmの感光性黒色塗膜93を形成した(図10(b)参照)。
2. Preparation of light-shielding layer The black colored photosensitive composition for forming the light-shielding layer was spin-coated on a lens structure on which a large number of lenses were formed, pre-baked at 70 ° C. for 20 minutes, and a thickness of 3 on the surface of the lens structure. A photosensitive
次いで、レンズ要素の開口部に対応して光を遮る遮光膜93を形成した露光用マスク94を用い、高圧水銀灯からの平行光95にて露光し(露光量150mJ/cm2 )、2.5%炭酸ナトリウム水溶液で現像後良く水洗した。水洗乾操後、150℃で1時間ポストベークすることにより、遮光層97がレンズ周縁部まで被覆しているレンズ構造体を得た(図10(c)参照)。
Next, exposure is performed with parallel light 95 from a high-pressure mercury lamp (exposure 150 mJ / cm 2 ) using an
続いて、このガラス構造体の裏面に対しても、上述と同様の操作を行ない、裏面にも遮光層がレンズ周縁部まで被覆しているレンズ構造体を得た。遮光層の光学濃度(OD)をマクベス濃度計で測定したところ、3.0以上であり、遮光層は表面低反射で高濃度である。
得られたレンズ構造体は、実施例1と同様にして、カメラモジュール用レンズ体とすることができ、同じく遮光膜を施したスペーサ連設体と共に用いることにより、内壁にフレア防止の遮光層を有するカメラモジュールを得た。
Subsequently, the same operation as described above was performed on the back surface of the glass structure to obtain a lens structure having a light shielding layer covering the back surface of the lens. When the optical density (OD) of the light shielding layer was measured with a Macbeth densitometer, it was 3.0 or more, and the light shielding layer had a low surface reflection and a high density.
The obtained lens structure can be used as a camera module lens body in the same manner as in Example 1. By using the lens structure together with a spacer continuous body having a light-shielding film, a flare-preventing light-shielding layer is formed on the inner wall. Obtained camera module.
以上説明したように、本発明のカメラモジュールは、一枚のシリコンウエハに多面付けにて形成した場合、ウエハプロセスの一連の工程の中で、カメラモジュールの内側面という所望の区域にフレア防止の遮光層を施すことができるのであり、その製造方法の簡便さは、産業上大いに利するものである。 As described above, when the camera module of the present invention is formed on a single silicon wafer with multiple faces, flare prevention is performed in a desired area on the inner surface of the camera module in a series of wafer processes. A light shielding layer can be applied, and the simplicity of the manufacturing method is very advantageous in industry.
1、シリコン基板
2、貫通孔(導電物質又は内壁被覆)
3、絶縁層
4、導電層、
5、接続端子(BGA)
6、枠壁(50μm程度)
7、封止ガラス板
8、第一スペーサ
9、第一レンズ基体
10、スペーサ
11、第二レンズ基体
12、第二スペーサ
13、カバーガラス
14、第一レンズ体
15、第二レンズ体
16、カラーフィルタ
17、マイクロレンズ
18、遮蔽鏡筒
21、ガラス板
22a、22b、レジスト膜
24、スペーサ連接体
25、遮光層
30、シリコンウエハ
34、第一スペーサ連接体
35、開口部
36、第一レンズ構造体
37、第二スペーサ連接体
38、第二レンズ構造体
39、第三スペーサ連接体
40、携帯電話
41、第一カメラ
42、第二カメラ
43、入力ボタン
44、表示面
50、60、カメラモジュール
51、固体撮像素子
52a、52b、レンズ
53、カメラ枠体
55、印刷回路基板
56、56a、56b、導電層
61、97、遮光層
62、96、遮光膜
90、レンズ体
91、レンズ基体
92、レンズ要素
93、感光性黒色層
94、露光用マスク
95、光
1.
3, insulating
5. Connection terminal (BGA)
6. Frame wall (about 50μm)
7, sealing
Claims (10)
(a)ウエハプロセスにてウエハに多面付された固体撮像素子を準備する工程、
(b)ガラス製ウエハをエッチング加工することにより前記固体撮像素子の受光面に対応して開口部を多数形成したスペーサを作成する工程、
(c)該スペーサの開口部の少なくとも内側壁を遮光層により被覆する工程、
(d)前記多面付された固体撮像素子の上面に、該スペーサを介して、少なくとも一枚のレンズ構造体を積層して多面付されたレンズモジュールを作成する工程、
(e)しかる後、多面付されたカメラモジュール間の断裁線に沿って断裁し、個々のカメラモジュールに分離する工程。 A method for manufacturing a camera module, comprising the following steps (a) to (e):
(a) a step of preparing a solid-state imaging device having multiple faces on a wafer in a wafer process;
(b) creating a spacer having a large number of openings corresponding to the light receiving surface of the solid-state imaging device by etching a glass wafer;
(c) a step of covering at least the inner wall of the opening of the spacer with a light shielding layer;
(d) a step of creating a lens module having a plurality of surfaces by laminating at least one lens structure on the top surface of the solid-state imaging element having the plurality of surfaces through the spacer;
(e) After that, the process of cutting along the cutting lines between the multi-faceted camera modules and separating them into individual camera modules.
(a)ウエハプロセスにてウエハに多面付された固体撮像素子を準備する工程、
(b)ガラス製ウエハをエッチング加工することにより前記固体撮像素子の受光面に対応して開口部を多数形成したスペーサを作成する工程、
(c)レンズ基体にレンズ要素を多数形成し、該レンズ要素の少なくとも周辺部を遮光層により被覆したレンズ構造体を作製する工程、
(d)前記多面付された固体撮像素子の上面に、該スペーサを介して、工程(c)により作製された少なくとも一枚のレンズ構造体を積層して多面付されたレンズモジュールを作成する工程、
(e)しかる後、多面付されたカメラモジュール間の断裁線に沿って断裁し、個々のカメラモジュールに分離する工程。 A method for manufacturing a camera module, comprising the following steps (a) to (e):
(a) a step of preparing a solid-state imaging device having multiple faces on a wafer in a wafer process;
(b) creating a spacer having a large number of openings corresponding to the light receiving surface of the solid-state imaging device by etching a glass wafer;
(c) a step of forming a lens structure in which a large number of lens elements are formed on a lens substrate, and at least the periphery of the lens element is covered with a light shielding layer;
(d) A step of creating a multifaceted lens module by laminating at least one lens structure produced in step (c) on the top surface of the multifaceted solid-state imaging device via the spacer. ,
(e) After that, the process of cutting along the cutting lines between the multi-faceted camera modules and separating them into individual camera modules.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009264970A JP5556140B2 (en) | 2009-11-20 | 2009-11-20 | Camera module and manufacturing method thereof |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009264970A JP5556140B2 (en) | 2009-11-20 | 2009-11-20 | Camera module and manufacturing method thereof |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2011107588A true JP2011107588A (en) | 2011-06-02 |
JP5556140B2 JP5556140B2 (en) | 2014-07-23 |
Family
ID=44231097
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2009264970A Active JP5556140B2 (en) | 2009-11-20 | 2009-11-20 | Camera module and manufacturing method thereof |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5556140B2 (en) |
Cited By (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2013109011A (en) * | 2011-11-17 | 2013-06-06 | Toshiba Corp | Camera module |
WO2013094658A1 (en) * | 2011-12-19 | 2013-06-27 | コニカミノルタ株式会社 | Lens unit and array unit |
TWI503564B (en) * | 2013-07-17 | 2015-10-11 | 玉晶光電股份有限公司 | Camera lens and washer adapted to camera lens |
KR20170070202A (en) | 2015-02-09 | 2017-06-21 | 후지필름 가부시키가이샤 | Light-shielding film, light-shielding film-equipped infrared cut-off filter, and solid-state imaging device |
KR20190016336A (en) * | 2017-08-08 | 2019-02-18 | 주식회사 에스아이씨이노베이션 | Spacer for camera lens and preparing method thereof |
WO2021000254A1 (en) * | 2019-07-02 | 2021-01-07 | 瑞声光学解决方案私人有限公司 | Anti-glare screen and lens module |
WO2021149729A1 (en) * | 2020-01-20 | 2021-07-29 | 凸版印刷株式会社 | Light shielding plate, camera unit, electronic device, and method for manufacturing light shielding plate |
KR20230000433A (en) | 2021-06-23 | 2023-01-02 | 도쿄 오카 고교 가부시키가이샤 | Photosensitive resin composition |
KR20230000434A (en) | 2021-06-23 | 2023-01-02 | 도쿄 오카 고교 가부시키가이샤 | Photosensitive resin composition |
JP7356184B2 (en) | 2022-02-18 | 2023-10-04 | 有限会社アキュラス | Manufacturing method of light absorber |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2017032798A (en) * | 2015-07-31 | 2017-02-09 | ソニーセミコンダクタソリューションズ株式会社 | Substrate with lens, laminated lens structure, camera module, and apparatus and method manufacturing |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004221875A (en) * | 2003-01-14 | 2004-08-05 | Seiko Epson Corp | Optical module, manufacturing method therefor and electronic apparatus |
WO2006046396A1 (en) * | 2004-10-28 | 2006-05-04 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Camera module |
JP2007195167A (en) * | 2006-01-18 | 2007-08-02 | Visera Technologies Co Ltd | Image sensor module |
JP2009175331A (en) * | 2008-01-23 | 2009-08-06 | Sony Corp | Lens barrel and imaging unit |
JP2009544226A (en) * | 2006-07-17 | 2009-12-10 | テッセラ・ノース・アメリカ・インコーポレイテッド | Camera system and related methods |
-
2009
- 2009-11-20 JP JP2009264970A patent/JP5556140B2/en active Active
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004221875A (en) * | 2003-01-14 | 2004-08-05 | Seiko Epson Corp | Optical module, manufacturing method therefor and electronic apparatus |
WO2006046396A1 (en) * | 2004-10-28 | 2006-05-04 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Camera module |
JP2007195167A (en) * | 2006-01-18 | 2007-08-02 | Visera Technologies Co Ltd | Image sensor module |
JP2009544226A (en) * | 2006-07-17 | 2009-12-10 | テッセラ・ノース・アメリカ・インコーポレイテッド | Camera system and related methods |
JP2009175331A (en) * | 2008-01-23 | 2009-08-06 | Sony Corp | Lens barrel and imaging unit |
Cited By (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2013109011A (en) * | 2011-11-17 | 2013-06-06 | Toshiba Corp | Camera module |
WO2013094658A1 (en) * | 2011-12-19 | 2013-06-27 | コニカミノルタ株式会社 | Lens unit and array unit |
TWI503564B (en) * | 2013-07-17 | 2015-10-11 | 玉晶光電股份有限公司 | Camera lens and washer adapted to camera lens |
KR20170070202A (en) | 2015-02-09 | 2017-06-21 | 후지필름 가부시키가이샤 | Light-shielding film, light-shielding film-equipped infrared cut-off filter, and solid-state imaging device |
KR20190016336A (en) * | 2017-08-08 | 2019-02-18 | 주식회사 에스아이씨이노베이션 | Spacer for camera lens and preparing method thereof |
KR101979870B1 (en) * | 2017-08-08 | 2019-05-17 | 주식회사 에스아이씨이노베이션 | Spacer for camera lens and preparing method thereof |
WO2021000254A1 (en) * | 2019-07-02 | 2021-01-07 | 瑞声光学解决方案私人有限公司 | Anti-glare screen and lens module |
WO2021149729A1 (en) * | 2020-01-20 | 2021-07-29 | 凸版印刷株式会社 | Light shielding plate, camera unit, electronic device, and method for manufacturing light shielding plate |
JP7342712B2 (en) | 2020-01-20 | 2023-09-12 | 凸版印刷株式会社 | Light shielding plate, camera unit, electronic device, and manufacturing method of light shielding plate |
KR20230000433A (en) | 2021-06-23 | 2023-01-02 | 도쿄 오카 고교 가부시키가이샤 | Photosensitive resin composition |
KR20230000434A (en) | 2021-06-23 | 2023-01-02 | 도쿄 오카 고교 가부시키가이샤 | Photosensitive resin composition |
JP7356184B2 (en) | 2022-02-18 | 2023-10-04 | 有限会社アキュラス | Manufacturing method of light absorber |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP5556140B2 (en) | 2014-07-23 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5556140B2 (en) | Camera module and manufacturing method thereof | |
US20130286282A1 (en) | Camera Module and Manufacturing Method Thereof | |
US7223626B2 (en) | Spacers for packaged microelectronic imagers and methods of making and using spacers for wafer-level packaging of imagers | |
JP6532794B2 (en) | Film-coated glass plate, touch sensor, film and method of producing film-coated glass plate | |
JP4832500B2 (en) | Method for manufacturing electronic element wafer module and method for manufacturing optical element wafer module | |
JP5445030B2 (en) | Camera module and manufacturing method thereof | |
JPH1142867A (en) | Mask for screen printing, its manufacture, and method for using it | |
KR101126128B1 (en) | Jig-integrated mask and fabricating method the same | |
JP2004218034A (en) | Method of producing metal mask, and metal mask | |
US20110025909A1 (en) | Wafer-level camera module and method for coating the same | |
JP2011085625A (en) | Camera module and method for manufacturing the same | |
CN111342205B (en) | Decorative board and electronic equipment | |
JP2008172349A (en) | Imaging apparatus, its manufacturing method, and portable terminal apparatus | |
JP2007094049A (en) | Cap for optical component and method of manufacturing same | |
KR102570206B1 (en) | Wiring member for multi-row type semiconductor device and manufacturing method thereof | |
JP4002672B2 (en) | Optical filter with electromagnetic wave shield and manufacturing method thereof | |
JP2010061085A (en) | Laminated structure of resist, and method for forming resist pattern | |
TWI740916B (en) | Wiring member for multi-row type semiconductor device and manufacturing method thereof | |
JP2012099639A (en) | Image sensor and method of manufacturing the same | |
JP5034913B2 (en) | Semiconductor device manufacturing substrate and manufacturing method thereof | |
JP2007136797A (en) | Method for producing lens substrate forming mold, lens substrate forming mold, lens substrate, transmission type screen, and rear type projector | |
JPH012002A (en) | Manufacturing method of solid-state color image sensor | |
JP2016207948A (en) | Lead frame for optical semiconductor device, lead frame with resin for optical semiconductor device, optical semiconductor device, and manufacturing method of lead frame for optical semiconductor device | |
JPH11260271A (en) | Manufacture of electromagnetic wave shielding plate and the electromagnetic wave shielding plate | |
TWI740915B (en) | Wiring member for multi-row type semiconductor device and manufacturing method thereof |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20121022 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20130926 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20131015 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20131216 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20140128 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20140328 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20140507 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20140520 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5556140 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |