JP2011107588A - Camera module and method of manufacturing the same - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a structure of a camera module manufactured by a wafer process, which has an external light-shielding part for preventing flares from occurring in the camera module, wherein the external light-shielding part is manufactured easily in its manufacturing process without requiring manpower and labor hours during its manufacturing process, and also to provide a method of manufacturing the structure. <P>SOLUTION: In the camera module configured by piling up at least one lens on a solid-state imaging element via a spacer at least the inner wall of the spacer is covered with a shielding layer consisting of an electroless plating layer, or at least a peripheral portion of a lens element in the lens is covered with the shielding layer. <P>COPYRIGHT: (C)2011,JPO&INPIT

Description

本発明は、カメラモジュールに係わり、特には、携帯電話に装着するカメラモジュールの外光遮蔽技術に関する。   The present invention relates to a camera module, and more particularly, to an external light shielding technique for a camera module mounted on a mobile phone.

携帯電話にカメラを装着することは、いまでは普通に行なわれている。そのカメラは、電荷結合型(CCD型)や相補型酸化物半導体型(C−M0S型)の固体撮像素子をカメラ本体に用い、その他にレンズ等を組み込んだカメラモジュールとして、携帯電話に内臓されている。   It is common practice to attach a camera to a mobile phone. The camera is built into a mobile phone as a camera module that uses a charge coupled (CCD) or complementary oxide semiconductor (C-M0S) solid-state image sensor for the camera body, and other lenses. ing.

図5に示すように、カメラは携帯電話40に2個装着されるものがある。第一のカメラ41は、画素数が500万〜1000万程度の高精細カメラであり、通常のカメラとあまり変わらない。第二のカメラ42は、画素数が10万〜30万程度の動画専用カメラであり、主としてテレビ電話用カメラである。入力ボタン43の操作により、表示面44に通話者自身もしくは通話相手の顔などを映すことができる。   As shown in FIG. 5, there are two cameras that are mounted on the mobile phone 40. The first camera 41 is a high-definition camera having about 5 to 10 million pixels, and is not much different from a normal camera. The second camera 42 is a video dedicated camera having about 100,000 to 300,000 pixels, and is mainly a videophone camera. By operating the input button 43, the caller himself / herself or the other party's face can be shown on the display screen 44.

従来のカメラモジュールは、図6に示すように、固体撮像素子51と2〜3枚程度のレンズ52a、52bを備えたカメラモジュール50であり、全体は合成樹脂製のカメラ枠体53によって支持されている。該カメラ枠体53は、周囲からの光を遮るため黒く着色されている。固体撮像素子51の受光素子面には、色分解用のカラーフィルタや集光用のマイクロレンズが各画素毎に形成されているが、図6では小さすぎて図示できない。また、カバーガラス54により表面を保護している。   As shown in FIG. 6, the conventional camera module is a camera module 50 including a solid-state image sensor 51 and about two to three lenses 52a and 52b, and is entirely supported by a camera frame 53 made of synthetic resin. ing. The camera frame 53 is colored black to block light from the surroundings. A color separation color filter and a condensing microlens are formed for each pixel on the light receiving element surface of the solid-state imaging element 51, but are too small to be shown in FIG. Further, the cover glass 54 protects the surface.

このカメラモジュール50の固体撮像素子51は、図6に示すように、印刷回路基板55の導電層56の電極とワイヤボンデインクやポール・グリッド・アレイ(以下、BGAという。)方式等により電気的に接続されていて、電気信号化された画像情報が取り出される。   As shown in FIG. 6, the solid-state image sensor 51 of the camera module 50 is electrically connected by an electrode of a conductive layer 56 of a printed circuit board 55, a wire bond ink, a pole grid array (hereinafter referred to as BGA) system, or the like. The image information converted into electrical signals is taken out.

しかしながら、図6に示すようなカメラモジュール50は、合成樹脂製のカメラ枠体53を用いるので、リフロー法による自動実装がしにくいという問題がある。さらに印刷回路基板55自体の厚みによって、縦方向に嵩張ることが避けられないものである。このことが携帯電話の薄型・軽量化の妨げとなっていた。   However, since the camera module 50 as shown in FIG. 6 uses a camera frame 53 made of synthetic resin, there is a problem that it is difficult to perform automatic mounting by the reflow method. Furthermore, it is inevitable that the printed circuit board 55 is bulky in the vertical direction due to the thickness of the printed circuit board 55 itself. This has hindered the reduction in thickness and weight of mobile phones.

そこで、カメラモジュールの小型・薄型化を目的に、ウエハプロセスにて作製できる構造が提案されている。図7に示すカメラモジュール60がその一例である。図7において、固体撮像素子であるシリコン基板1は、その上面の受光素子面に、色分解用のカラーフィルタ16や集光用のマイクロレンズ17を各画素毎に作りこんでいる。固体撮像素子にて得られる画像情報の電気信号は、スルー・シリコン・ビア内に充填もしくは内壁を被覆する導電物質2によりシリコン基板1の裏面に導かれ、パターン化された絶縁層3と導電層4によって、BGA方式による接続端子5にて外部回路との接続を可能としている。   Therefore, a structure that can be manufactured by a wafer process has been proposed for the purpose of reducing the size and thickness of the camera module. The camera module 60 shown in FIG. 7 is an example. In FIG. 7, a silicon substrate 1 that is a solid-state image sensor has a color separation color filter 16 and a light condensing microlens 17 formed for each pixel on the light receiving element surface on the upper surface thereof. The electrical signal of the image information obtained by the solid-state imaging device is guided to the back surface of the silicon substrate 1 by the conductive material 2 that fills or covers the inner wall of the through-silicon via, and is patterned with the insulating layer 3 and the conductive layer. 4 enables connection to an external circuit at the connection terminal 5 by the BGA method.

シリコン基板1上方は、枠壁6を介して封止ガラス板7を貼りあわせて受光領域を気密とする。枠型6の厚さは図では誇張されているが、50μm程度の薄いものである。該封止ガラス板7の上には、ガラス製の第一スペーサ8を介して、第一レンズ基体9の表裏面に透明樹脂からなるレンズ要素9a,9bを形成してなる第一レンズ体14を重ねる。さらに、ガラス製の第二スペーサ12を介して、第二レンズ基体11の表裏面に透明樹脂からなるレンズ要素11a,11bを形成してなる第二レンズ体15を重ねる。図の例では、第一レンズ体14は凹レンズであり、第二レンズ体15は凸レンズである。透明樹脂からなるレンズ要素は、微細モー
ルド法やフォトリソ法により作成される。最後に、第三のスペーサ12を介して、カバーガラス板13を貼りあわせる。カバーガラス板13は、赤外線カットガラスを兼ねる場合が多い。
Above the silicon substrate 1, a sealing glass plate 7 is bonded through a frame wall 6 to make the light receiving region airtight. Although the thickness of the frame mold 6 is exaggerated in the figure, it is as thin as about 50 μm. On the sealing glass plate 7, lens elements 9a and 9b made of transparent resin are formed on the front and back surfaces of the first lens base 9 via a first spacer 8 made of glass. Repeat. Further, a second lens body 15 formed by forming lens elements 11a and 11b made of a transparent resin is placed on the front and back surfaces of the second lens base 11 through a second spacer 12 made of glass. In the illustrated example, the first lens body 14 is a concave lens, and the second lens body 15 is a convex lens. A lens element made of a transparent resin is produced by a fine molding method or a photolithography method. Finally, the cover glass plate 13 is bonded through the third spacer 12. The cover glass plate 13 often serves also as an infrared cut glass.

図7に示したカメラモジュール60は、一品だけを描いているが、実際の作製工程では、直径20〜30cmのシリコンウエハの加工プロセスに、同じく直径20〜30cmのガラス板の加工プロセスを組み合わせて、文字通りウエハプロセスにて作製され、最終的にダイシング工程にて個々に断裁されて1個のカメラモジュールとなる。図7のカメラモジュール60では、それが携帯電話に装着される第二カメラであれば、シリコン基板1の大きさは、わずか3mm角程度であるから、直径20cmの一枚のウエハから1,500〜2,800個くらいは採れるものである。   The camera module 60 shown in FIG. 7 shows only one product. However, in the actual manufacturing process, a processing process for a glass plate having a diameter of 20 to 30 cm is combined with a processing process for a silicon wafer having a diameter of 20 to 30 cm. Literally manufactured by a wafer process, and finally cut individually in a dicing process to form one camera module. In the camera module 60 of FIG. 7, if it is a second camera to be mounted on a mobile phone, the size of the silicon substrate 1 is only about 3 mm square, so 1,500 to 2,800 from a single wafer of 20 cm in diameter. About one can be taken.

しかしながら、図7のカメラモジュール60にも、解決すべき問題がある。それは、シリコン基板1の上に積層されているスペーサ8,10,12とレンズ基体9,11が、いずれもガラス製やプラスチック製であるため、ウエハプロセスを回流させるだけの強度を持たせるためには、その厚さが0.4mm程度必要になるということである。そのため、カメラモジュール60のレンズ部分の高さは相当高くなり、また、ガラスやプラスチックは透光性のため、
積層体の側面から外部光が入射するという欠点がある。
However, the camera module 60 of FIG. 7 also has a problem to be solved. The reason is that the spacers 8, 10 and 12 and the lens bases 9 and 11 stacked on the silicon substrate 1 are made of glass or plastic, so that the wafer process has sufficient strength to circulate. Means that the thickness is required to be about 0.4 mm. Therefore, the height of the lens part of the camera module 60 is considerably high, and because glass and plastic are translucent,
There is a drawback that external light is incident from the side surface of the laminate.

カメラモジュールに斜めから光線が入射すると、その光線がフレアやかぶり現象を誘起する。いわゆる撮影画面に白ボケや不要な光像が生じる現象である。これを防止するためのフレア対策としては、図8に示すように、カメラモジュール60に対して側面からの光を遮断する金属製の遮蔽鏡筒18を装着することが提案できる。   When a light beam is incident on the camera module from an oblique direction, the light beam induces flare and fogging. This is a phenomenon in which white blurring or an unnecessary light image is generated on a so-called shooting screen. As a countermeasure against flare to prevent this, as shown in FIG. 8, it can be proposed to attach a metal shielding barrel 18 that blocks light from the side surface to the camera module 60.

しかし、先言したように、カメラモジュールのシリコン基板1の大きさは3mm角程度であり、このような小さなものに筒状の遮蔽体を固定的に装着することは、人手によっても機械的手段を採っても、工程的に手間を要するばかりでなく、作業的にも極めて困難である。折角、ウエハプロセスにてウエハ1枚当たり2.000個作れても、フレア防止策が工程上の隘路となり、カメラモジュールとしての大量生産を妨げ、コスト低減にならないのである。   However, as mentioned above, the size of the silicon substrate 1 of the camera module is about 3 mm square, and it is a mechanical means to manually attach a cylindrical shield to such a small object. However, it is not only troublesome in terms of process but also extremely difficult in terms of work. Even if 2.000 wafers can be made per wafer in the wafer process, flare prevention measures become a bottleneck in the process, preventing mass production as a camera module and reducing costs.

特開2008−124919号公報JP 2008-124919 A

本発明は、上記に説明したウエハプロセスにより作製されるカメラモジュールのフレア防止対策であって、作製工程において、人手や手間を要せず、工程的にも簡便に作製できる外光遮蔽部を備えるカメラモジュールの構造およびその製造方法を提供するものである。   The present invention is a flare prevention measure for a camera module manufactured by the wafer process described above, and includes an external light shielding unit that can be easily manufactured in a manufacturing process without requiring manual labor or labor. A structure of a camera module and a manufacturing method thereof are provided.

上記課題を達成するための請求項1に記載の発明は、固体撮像素子の上にスペーサを介して少なくとも一枚のレンズ体を積層してなるカメラモジュールにおいて、少なくともスペーサの内側壁を、無電解めっき層の遮光層により被覆したことを特徴とするカメラモジュールとしたものである。   In order to achieve the above object, the invention according to claim 1 is a camera module in which at least one lens body is laminated on a solid-state image sensor via a spacer. The camera module is characterized by being covered with a light shielding layer of a plating layer.

また請求項2に記載の発明は、無電解めっき層の遮光層に代えて、黒色着色樹脂の遮光
層としたことを特徴とする請求項1に記載のカメラモジュールとしたものである。
The invention described in claim 2 is the camera module according to claim 1, wherein the light shielding layer is made of black colored resin instead of the light shielding layer of the electroless plating layer.

また請求項3に記載の発明は、遮光層の下面もしくは上面の少なくとも一方が光低反射性であることを特徴とする請求項1または請求項2に記載のカメラモジュールとしたものである。   The invention according to claim 3 is the camera module according to claim 1 or 2, wherein at least one of the lower surface or the upper surface of the light shielding layer has low light reflectivity.

また請求項4に記載の発明は、固体撮像素子の上にスペーサを介して少なくとも1枚のレンズ体を積層してなるカメラモジュールにおいて、レンズ体のレンズ要素の少なくとも周辺部を遮光層により被覆したことを特徴とするカメラモジュールとしたものである。   According to a fourth aspect of the present invention, in a camera module in which at least one lens body is laminated on a solid-state imaging device via a spacer, at least a peripheral portion of the lens element of the lens body is covered with a light shielding layer. The camera module is characterized by that.

また請求項5に記載の発明は、レンズ要素の周辺部を被覆する遮光層が、黒色着色感光性樹脂組成物の塗膜を光硬化させ加熱定着した遮光層であることを特徴とする請求項4に記載のカメラモジュールとしたものである。   The invention described in claim 5 is characterized in that the light-shielding layer covering the periphery of the lens element is a light-shielding layer obtained by photo-curing and heat-fixing a coating film of a black colored photosensitive resin composition. The camera module according to 4 is used.

また請求項6に記載の発明は、
下記の工程(a)〜(e)を具備することを特徴とするカメラモジュールの製造方法としたものである。
(a)ウエハプロセスにてウエハに多面付された固体撮像素子を準備する工程、
(b)ガラス製ウエハをエッチング加工することにより前記固体撮像素子の受光面に対応して開口部を多数形成したスペーサを作成する工程、
(c)該スペーサの開口部の少なくとも内側壁を遮光層により被覆する工程、
(d)前記多面付された固体撮像素子の上面に、該スペーサを介して、少なくとも一枚のレンズ構造体を積層して多面付されたレンズモジュールを作成する工程、
(e)しかる後、多面付されたカメラモジュール間の断裁線に沿って断裁し、個々のカメラモジュールに分離する工程。
The invention according to claim 6
The camera module manufacturing method includes the following steps (a) to (e).
(a) a step of preparing a solid-state imaging device having multiple faces on a wafer in a wafer process;
(b) creating a spacer having a large number of openings corresponding to the light receiving surface of the solid-state imaging device by etching a glass wafer;
(c) a step of covering at least the inner wall of the opening of the spacer with a light shielding layer;
(d) a step of creating a lens module having a plurality of surfaces by laminating at least one lens structure on the top surface of the solid-state imaging element having the plurality of surfaces through the spacer;
(e) After that, the process of cutting along the cutting lines between the multi-faceted camera modules and separating them into individual camera modules.

また請求項7に記載の発明は、遮光膜が、無電解めっき法により形成された遮光膜であることを特徴とする請求項6に記載のカメラモジュールの製造方法としたものである。   The invention described in claim 7 is the method for manufacturing a camera module according to claim 6, wherein the light shielding film is a light shielding film formed by an electroless plating method.

また請求項8に記載の発明は、遮光膜が、黒色着色樹脂の塗布により形成された遮光膜であることを特徴とする請求項6に記載のカメラモジュールの製造方法としたものである。   The invention according to claim 8 is the method for manufacturing a camera module according to claim 6, wherein the light shielding film is a light shielding film formed by application of a black colored resin.

また請求項9に記載の発明は、
下記の工程(a)〜(e)を具備することを特徴とするカメラモジュールの製造方法としたものである。
(a)ウエハプロセスにてウエハに多面付された固体撮像素子を準備する工程、
(b)ガラス製ウエハをエッチング加工することにより前記固体撮像素子の受光面に対応して開口部を多数形成したスペーサを作成する工程、
(c)レンズ基体にレンズ要素を多数形成し、該レンズ要素の少なくとも周辺部を遮光層により被覆したレンズ構造体を作製する工程、
(d)前記多面付された固体撮像素子の上面に、該スペーサを介して、工程(c)により作製された少なくとも一枚のレンズ構造体を積層して多面付されたレンズモジュールを作成する工程、
(e)しかる後、多面付されたカメラモジュール間の断裁線に沿って断裁し、個々のカメラモジュールに分離する工程。
The invention described in claim 9
The camera module manufacturing method includes the following steps (a) to (e).
(a) a step of preparing a solid-state imaging device having multiple faces on a wafer in a wafer process;
(b) creating a spacer having a large number of openings corresponding to the light receiving surface of the solid-state imaging device by etching a glass wafer;
(c) a step of forming a lens structure in which a large number of lens elements are formed on a lens substrate, and at least the periphery of the lens element is covered with a light shielding layer;
(d) A step of creating a multifaceted lens module by laminating at least one lens structure produced in step (c) on the top surface of the multifaceted solid-state imaging device via the spacer. ,
(e) After that, the process of cutting along the cutting lines between the multi-faceted camera modules and separating them into individual camera modules.

また請求項10に記載の発明は、レンズ要素の周辺部を被覆する遮光層が、黒色着色感光性樹脂の塗膜お光硬化させ加熱定着した遮光層であることを特徴とする請求項9に記載のカメラモジュールの製造方法としたものである。   The invention described in claim 10 is characterized in that the light-shielding layer covering the periphery of the lens element is a light-shielding layer obtained by photocuring a black colored photosensitive resin coating and heat-fixing. This is a manufacturing method of the camera module described.

本発明は、フレア防止のための遮蔽鏡筒を不要にしたカメラモジュールであり、ウエハプロセスにより作製されるカメラモジュールのフレア防止対策であって、作製工程において、同様のウエハプロセスが採用できる。
したがって、人手や手間を要せず、工程的にも簡便に作製できるカメラモジュールの構造およびその製造方法を提供できる。その作製工程は、大量生産に適し、コスト低減に寄与する。
The present invention is a camera module that eliminates the need for a shielding lens barrel for preventing flare, and is a countermeasure for preventing flare in a camera module manufactured by a wafer process. A similar wafer process can be employed in the manufacturing process.
Therefore, it is possible to provide a camera module structure and a method for manufacturing the same that can be easily manufactured in a process without requiring manual labor or labor. The manufacturing process is suitable for mass production and contributes to cost reduction.

本発明になる遮光膜を備えたカメラモジュールの断面視の図である。It is a figure of the cross-sectional view of the camera module provided with the light shielding film which becomes this invention. スペーサ連接体と該連接体に遮光層を形成する工程の一例を模式的に説明する断面視の工程図である。It is process drawing of the cross-sectional view explaining typically an example of the process of forming a light shielding layer in this spacer connection body and this connection body. (a)〜(e)は、本発明になるカメラモジュール製造工程の一例を模式的に説明する断面視の図の一部である。(a)-(e) is a part of figure of the cross-sectional view which illustrates typically an example of the camera module manufacturing process which becomes this invention. (f)〜(g)は、本発明になるカメラモジュール製造工程の一例を模式的に説明する断面視の図の一部である。(f)-(g) is a part of figure of the cross-sectional view which illustrates typically an example of the camera module manufacturing process which becomes this invention. カメラモジュールが携帯電話に装着されている様子を説明する模式図である。It is a schematic diagram explaining a camera module being mounted on a mobile phone. 従来のカメラモジュールの構造を説明する断面視の図である。It is a figure of the cross-sectional view explaining the structure of the conventional camera module. ウエハプロセスで製造される従来のカメラモジュールの断面視図である。It is sectional drawing of the conventional camera module manufactured by a wafer process. 遮蔽鏡筒を備えた従来のカメラモジュールの断面視図である。It is sectional drawing of the conventional camera module provided with the shielding lens-barrel. 本発明になるカメラモジュールの別の構成例で、遮光層をスペーサとレンズ体の一部に形成したものである。In another configuration example of the camera module according to the present invention, a light shielding layer is formed on a part of a spacer and a lens body. レンズ要素の週縁部を遮光層で被覆する方法を模式的に説明する工程図である。It is process drawing which illustrates typically the method of coat | covering the week edge part of a lens element with a light shielding layer.

以下、本発明になるカメラモジュールの実施例を示す図1を用いて説明する。
図1に示す本発明になるカメラモジュール60は、スペーサ8,10,12の内側壁にフレア防止のための無電解めっきによる遮光層61が施されている。その材質は、ニッケル、クロム、コバルト、鉄、銅、金等から選択される金属の単一めっき層のほか、ニッケル−鉄、コバルト−鉄、銅−鉄等の組合せから選択される合金の無電解めっき層があげられる。そのほかに、銅等の金属を無電解めっきし、しかる後、その表面を化学処理や酸化処理して金属化合物とし、表面の光反射率の低い金属遮光層とすることもあげられる。
A camera module according to an embodiment of the present invention will be described below with reference to FIG.
The camera module 60 according to the present invention shown in FIG. 1 is provided with a light shielding layer 61 by electroless plating for preventing flare on the inner walls of the spacers 8, 10, 12. The material is a single plating layer of a metal selected from nickel, chromium, cobalt, iron, copper, gold, etc., as well as an alloy selected from a combination of nickel-iron, cobalt-iron, copper-iron, etc. An electroplating layer is mentioned. In addition, a metal such as copper is electrolessly plated, and then the surface thereof is chemically or oxidized to form a metal compound to form a metal light-shielding layer having a low light reflectance on the surface.

該無電解めっきによる遮光層61は、マクベス濃度計にて2.0以上の濃度という高い遮光性能があるのが良く、かかる意味から遮光層61として金属を用いるのは都合が良い。図1では、遮光層61の厚みは、誇張されて描かれている。通常使用される金属めっき層では、濃度2.0以上を実現するには厚さ0.1〜1.0μmもあれば充分である。   The light shielding layer 61 formed by electroless plating preferably has a high light shielding performance of 2.0 or more by a Macbeth densitometer. In this sense, it is convenient to use a metal as the light shielding layer 61. In FIG. 1, the thickness of the light shielding layer 61 is exaggerated. For a metal plating layer that is normally used, a thickness of 0.1 to 1.0 μm is sufficient to achieve a concentration of 2.0 or more.

また、本発明のカメラモジュール60の内側壁の遮光層61としては、黒色の塗料を、スプレー塗布法や浸漬法により施して形成することもできる。塗料による遮光膜61は、その表裏面がそれ自体光低反射性であることが多いので都合がよい。このような塗布法による遮光層61の厚みは、2.0〜50μm程度になる。   Further, the light shielding layer 61 on the inner wall of the camera module 60 of the present invention can be formed by applying a black paint by a spray coating method or a dipping method. The light shielding film 61 made of a paint is convenient because its front and back surfaces are often low in light reflection. The thickness of the light shielding layer 61 by such a coating method is about 2.0 to 50 μm.

図1に示す実施例では、遮光層61は、スペーサ8,10,12の内側壁ばかりではなく、その上下面にも形成されている。この理由は、ひとつはこれから後述する製造方法からして、このような形態が自然で最も作りやすいことと、もうひとつはスペーサの上下面にも遮光層があったほうが斜めからの入射光を遮る効果があり、フレア防止上、好ましいことによる。   In the embodiment shown in FIG. 1, the light shielding layer 61 is formed not only on the inner walls of the spacers 8, 10, 12 but also on the upper and lower surfaces thereof. The reason for this is that, from the manufacturing method to be described later, this form is natural and easy to make, and the other is that the upper and lower surfaces of the spacer have a light shielding layer to block incident light from an oblique direction. It is effective and is preferable for preventing flare.

本発明のカメラモジュールの製造方法を、その一実施例を工程順に示す図面の図2および図3に基いて、以下詳細に説明する。   A method for manufacturing a camera module according to the present invention will be described below in detail with reference to FIGS.

図2(a)に示す素材ガラス板21は、スペーサの母体となるもので、その材質は、例えば硼ケイ酸ガラス、アルミナシリケートガラス、ソーダライムガラス等である。その大きさは、固体撮像素子を作製するシリコンウエハと同じ直径、例えば20〜30cmである。その厚さは、0.4mm〜2.0mm程度である。厚さが0.4mmより薄いと、材料としての堅牢さに欠け、ウエハプロセスの加工製造装置に掛けられないので、この厚さが下限となる。上限は、後工程で付けるレンズ要素の厚みとの関係、および必要とする光路長を確保するというレンズ設計との兼ね合いで決まる。しかし、本発明のカメラモジュールは、なるべく薄形にしたいことからすると、素材ガラス板21の厚さは、なるべく薄くしたほうがよい。   The material glass plate 21 shown in FIG. 2 (a) serves as a matrix of the spacer, and the material thereof is, for example, borosilicate glass, alumina silicate glass, soda lime glass, or the like. Its size is the same diameter as the silicon wafer for producing the solid-state imaging device, for example, 20 to 30 cm. Its thickness is about 0.4 mm to 2.0 mm. If the thickness is less than 0.4 mm, the material is not robust and cannot be applied to the wafer process processing and manufacturing apparatus, so this thickness is the lower limit. The upper limit is determined in consideration of the relationship with the thickness of the lens element to be applied in a later process and the lens design for ensuring the required optical path length. However, in order to make the camera module of the present invention as thin as possible, the thickness of the material glass plate 21 should be as thin as possible.

このガラス板21の両面に耐フッ酸性のレジスト膜22a,22bをパターン状に形成する。レジスト膜22a,22bを上から見ると格子パターンをしている。この格子パターンの形状とサイズは、実はシリコンウエハに別工程で作成される固体撮像素子のサイズとビッチと同寸法に作られている。   A hydrofluoric acid resistant resist film 22a, 22b is formed in a pattern on both surfaces of the glass plate 21. When the resist films 22a and 22b are viewed from above, a lattice pattern is formed. The shape and size of this lattice pattern are actually the same size as the size and bitch of a solid-state imaging device formed in a separate process on a silicon wafer.

レジスト膜22a,22bとしては、市販の耐フッ酸性の感光性樹脂を用いることがあげられる。感光性樹脂を用いれば、ガラス板21の両面に塗布、パターン露光、現像、加熱定着という一連のフォトリソプロセスにて所望パターンのレジスト膜22a,22bを形成できる。この有機系の感光性樹脂に加えて、その下側に金属のニッケル、銀、クロム等の薄膜をパターン化したものを補い、金属層と感光性樹脂の二重層にして、それをレジスト膜とすることも実際的である。   As the resist films 22a and 22b, a commercially available hydrofluoric acid-resistant photosensitive resin can be used. If a photosensitive resin is used, resist films 22a and 22b having a desired pattern can be formed on both surfaces of the glass plate 21 by a series of photolithography processes including coating, pattern exposure, development, and heat fixing. In addition to this organic photosensitive resin, the lower side is supplemented with a patterned thin film of metal nickel, silver, chrome, etc. to make a double layer of a metal layer and a photosensitive resin. It is also practical to do.

次いで、ガラス板21をフッ酸系のエッチング液にて湿式エッチングする。フッ酸系のエッチング液は、フッ酸単体よりも、フッ酸+フッ化アンモニウムとか、フッ酸と硫酸、塩酸、リン酸、アンモニウム塩のいずれかとの混合系が良い。フッ酸単体に比べて、エッチング速度を早めたり、エッチング面の平滑性を良くする。いずれにしても水溶液で用いる。図2(b)は、エッチングを終えた状態を示す。レジスト膜22a,22bが設けられていなかったところが溶解し、開口部23が形成される。   Next, the glass plate 21 is wet-etched with a hydrofluoric acid-based etchant. The hydrofluoric acid-based etching solution is preferably hydrofluoric acid + ammonium fluoride or a mixed system of hydrofluoric acid and sulfuric acid, hydrochloric acid, phosphoric acid, or ammonium salt, rather than hydrofluoric acid alone. Compared to hydrofluoric acid alone, the etching rate is increased and the smoothness of the etched surface is improved. In any case, it is used in an aqueous solution. FIG. 2B shows a state after the etching is finished. The portions where the resist films 22a and 22b are not provided are dissolved, and the openings 23 are formed.

次いで、図2(c)示すように、苛性ソーダ、苛性カリ、炭酸ソーダ等のアルカリ性水溶液に接触させることで、レジスト膜22a, 22bを剥離する。できあがったものは、エッチングによる開口部を複数個有する格子パターン状のスペーサ連設体24であり、素材ガラス板21の元の厚みを維持している部分がスペーサになる。   Next, as shown in FIG. 2C, the resist films 22a and 22b are peeled off by contacting with an alkaline aqueous solution such as caustic soda, caustic potash or sodium carbonate. What is completed is a lattice-patterned spacer continuous body 24 having a plurality of openings by etching, and a portion where the original thickness of the material glass plate 21 is maintained becomes a spacer.

次いで、スペーサ連設体24の全面に遮光層25を形成する。遮光層25の形成手段には、無電解めっき法と黒色着色樹脂の塗布法がある。   Next, the light shielding layer 25 is formed on the entire surface of the spacer continuous body 24. As a means for forming the light shielding layer 25, there are an electroless plating method and a black colored resin coating method.

遮光層25は、マクベス濃度計にて2.0以上の濃度という高い遮光性能があるのが良く、かかる意味から遮光層25として金属膜を用いるのは都合が良い。図2(d)では、無電解めっきによる遮光層25の厚みは、誇張されて描かれている。通常使用される金属めっき層では、濃度2.0以上を実現するには厚さ0.1〜1.0μmもあれば充分である。   The light shielding layer 25 preferably has a high light shielding performance of 2.0 or more with a Macbeth densitometer, and it is convenient to use a metal film as the light shielding layer 25 in this sense. In FIG. 2 (d), the thickness of the light shielding layer 25 by electroless plating is exaggerated. For a metal plating layer that is normally used, a thickness of 0.1 to 1.0 μm is sufficient to achieve a concentration of 2.0 or more.

無電解めっきについて説明すると、基本的には従来知られている金属の無電解めっき法、合金の無電解めっき法が使用できる。無電解めっき法の手法、すなわち洗浄、脱脂、鋭敏化、活性化およびめっき操作という一連の工程を行なうことになる。   The electroless plating can be described basically using a conventionally known metal electroless plating method and alloy electroless plating method. A series of steps of electroless plating method, that is, cleaning, degreasing, sensitization, activation, and plating operation are performed.

ただ、本発明になるカメラモジュールは、後加工で携帯電話などに内蔵させるので、内側面の無電解めっきによる金属遮光層は、強固な接着力で内側面に付着していることが望ましい。そのために無電解めっき法としてガラス面への接着強度の高いめっき法を選択するのが望ましい。一例として、ニッケル無電解めっき法の場合、脱脂処理、鋭敏化処理、活性化処理のあと、次亜リン酸ソーダや次亜リン酸カリウム等の次亜リン酸のアルカリ金属塩の水溶液の処理を行なってから無電解めっきの本操作を行なうということがあげられる。   However, since the camera module according to the present invention is incorporated into a mobile phone or the like by post-processing, it is desirable that the metal light shielding layer by electroless plating on the inner surface is attached to the inner surface with a strong adhesive force. Therefore, it is desirable to select a plating method having high adhesive strength to the glass surface as the electroless plating method. As an example, in the case of nickel electroless plating, after degreasing treatment, sensitization treatment, activation treatment, treatment with an aqueous solution of an alkali metal salt of hypophosphorous acid such as sodium hypophosphite or potassium hypophosphite. It is possible to perform this operation of electroless plating after it has been performed.

無電解めっきを施すことにより、図2(d)に示すように、金属もしくは合金の無電解めっきによる遮光膜25が、スペーサ連設体24の全面に形成される。   By performing electroless plating, a light shielding film 25 by electroless plating of metal or alloy is formed on the entire surface of the spacer continuous body 24 as shown in FIG.

また、遮光層25としては、黒色の塗料を、スプレー塗布法や浸漬法により施して形成することもできる。塗料による遮光層25は、その表裏面がそれ自体光低反射性であることが多い。黒色の塗料は、感光性樹脂組成液に黒色の顔料や染料を添加した黒色着色感光性樹脂組成物を用いてもよい。このような塗布法による遮光層25の厚みは、2.0〜20μm程度になる。   The light shielding layer 25 can also be formed by applying a black paint by spray coating or dipping. The light shielding layer 25 made of a paint often has a low light reflection property on its front and back surfaces. As the black paint, a black colored photosensitive resin composition obtained by adding a black pigment or dye to the photosensitive resin composition liquid may be used. The thickness of the light shielding layer 25 by such a coating method is about 2.0 to 20 μm.

続いて、図3(a)〜(g)に基づいて、固体撮像素子とレンズ体等を組合わせてカメラモジュールを完成させる工程を説明する。   Subsequently, a process of completing a camera module by combining a solid-state imaging device and a lens body will be described with reference to FIGS.

先言したように、この工程は、ウエハプロセスにより連続的に行なうことができる。すなわち、図3(a)に示すように、直径20〜30cmのシリコンウエハ30に固体撮像素子31を多数形成する。各固体撮像素子31の受光面には、一般に、色分解用のカラーフィルタや受光部へ光を集光するためのマイクロレンズ等が形成され、ウエハの裏面には外部接続端子のBGAが設けられるが、これらは小さすぎて図示していない。各固体撮像素子31の表面には周囲を囲むように、枠壁32が形成されている。枠壁32の厚さは図では誇張されているが、50μm程度の薄いものである。   As described above, this step can be continuously performed by a wafer process. That is, as shown in FIG. 3A, a large number of solid-state imaging elements 31 are formed on a silicon wafer 30 having a diameter of 20 to 30 cm. In general, a color filter for color separation, a microlens for condensing light to the light receiving unit, and the like are formed on the light receiving surface of each solid-state imaging device 31, and a BGA as an external connection terminal is provided on the back surface of the wafer. However, these are too small for illustration. A frame wall 32 is formed on the surface of each solid-state imaging device 31 so as to surround the periphery. Although the thickness of the frame wall 32 is exaggerated in the figure, it is as thin as about 50 μm.

次いで、図3(b)に示すように、封止ガラス板33を枠壁32に貼り付ける。封止ガラス板33は、シリコンウエハ30と同一直径のガラス板である。枠壁32は封止ガラス板33と接着性のある材料である。   Next, as shown in FIG. 3B, a sealing glass plate 33 is attached to the frame wall 32. The sealing glass plate 33 is a glass plate having the same diameter as that of the silicon wafer 30. The frame wall 32 is a material having an adhesive property with the sealing glass plate 33.

次いで、図3(c)に示すように、あらかじめ作製しておいた第一スペーサ連設体34を、位置合わせして封止ガラス板33の上面に貼り付ける。第一スペーサ連設体34は、図2に説明したように遮光層が全面に施されている。しかし、図3のスケールでは、遮光層は薄すぎて図3(c)では単に太線で示している。   Next, as shown in FIG. 3C, the first spacer continuous body 34 prepared in advance is aligned and attached to the upper surface of the sealing glass plate 33. As described with reference to FIG. 2, the first spacer continuous body 34 is provided with a light shielding layer on the entire surface. However, in the scale of FIG. 3, the light shielding layer is too thin and is simply indicated by a thick line in FIG.

説明が前後したが、貼り付けに際しては、第一スペーサ連設体34の下面に、ロールコート法にて5〜10μm厚程度に接着剤を塗布しておく。ロールコート法によれば、第一スペーサ連設体34の下面に選択的に塗布することができる。接着剤の一部が開口部35の内側壁にまで及ぶことがあっても、それが少量であり、入射光線を遮ることがなければ、実際上は特に問題ない。このことは、この後の第二、第三スペーサ連設体についても同じことが当てはまる。   Although the explanation has been made before and after the bonding, an adhesive is applied to the lower surface of the first spacer continuous body 34 to a thickness of about 5 to 10 μm by roll coating. According to the roll coating method, it can be selectively applied to the lower surface of the first spacer continuous body 34. Even if a part of the adhesive reaches the inner wall of the opening 35, there is no particular problem in practice as long as it is a small amount and does not block incident light. The same applies to the second and third spacer connecting bodies thereafter.

次いで、図3(d)に示すように、第一レンズ構造体36を第一スペーサ連設体34の上面に積層する。積層するには、第一スペーサ連設体34の上面にあらかじめ接着剤をロールコート方式で塗布しておく。その厚さは5〜10μm程度であり、図3(c)にて述べたことと同様である。第一レンズ構造体36は凹レンズである。   Next, as shown in FIG. 3D, the first lens structure 36 is laminated on the upper surface of the first spacer continuous body 34. For the lamination, an adhesive is applied in advance on the upper surface of the first spacer continuous body 34 by a roll coating method. The thickness is about 5 to 10 μm, which is the same as described in FIG. The first lens structure 36 is a concave lens.

次いで、図3(e)に示すように、第一レンズ構造体36の上に第ニスペーサ連設体37と第
二レンズ構造体38を積層接着する。第二スペーサ連設体37が積層接着の仲介をしていることは、前述の第一スペーサ連設体34と同様である。続いて、図4(f)に示すように、第二レンズ構造体38の上に第三スペーサ連設体39とカバーガラス板13を積層接着する。この図4(f)に示される状態は、シリコンウエハ30の上にレンズ体や透明ガラス板が多層階に積み重ねた状態であり、カメラモジュールが多面付けにて製造されたものである。
Next, as shown in FIG. 3 (e), the second spacer structure 37 and the second lens structure 38 are laminated and bonded onto the first lens structure 36. The second spacer continuous body 37 mediates the lamination adhesion as in the first spacer continuous body 34 described above. Subsequently, as shown in FIG. 4 (f), the third spacer connecting body 39 and the cover glass plate 13 are laminated and bonded onto the second lens structure 38. The state shown in FIG. 4F is a state in which lens bodies and transparent glass plates are stacked on a multi-layer floor on a silicon wafer 30, and a camera module is manufactured with multiple faces.

最後に、各カメラモジュールを個々に分離するために、ダイシング装置にて上から下まで断裁する。ちなみにカットする断裁線は、スペーサ連設体34,37,39の格子パターンの中央線に相当し、断裁することにより、図4(g)のカメラモジュール60が得られる。これを拡大したものが、図1に示すカメラモジュール60に他ならない。   Finally, in order to separate each camera module individually, it is cut from the top to the bottom by a dicing apparatus. Incidentally, the cutting line to be cut corresponds to the center line of the lattice pattern of the spacer continuous bodies 34, 37, 39, and the camera module 60 shown in FIG. 4G is obtained by cutting. An enlarged version of this is nothing but the camera module 60 shown in FIG.

本発明については、まだいくつかの変形がありうる。例えば図9の例は、スペーサ8,10,12に遮光層61を施すばかりでなく、第一のレンズ体14および第二のレンズ体15の必要とする部分に遮光膜62を形成したカメラモジュールである。図9の例では、フレア防止の効果が上がるように、レンズ体14,15のレンズ要素の周縁部にまで遮光層62を形成している。このような仕様の遮光膜62を有するレンズ体は、図10(a)〜(d)に示すプロセスにて作製することができる。   There can still be several variations on the present invention. For example, in the example of FIG. 9, a camera module in which not only the light shielding layer 61 is applied to the spacers 8, 10, and 12 but also the light shielding film 62 is formed on necessary portions of the first lens body 14 and the second lens body 15. It is. In the example of FIG. 9, the light shielding layer 62 is formed up to the periphery of the lens elements of the lens bodies 14 and 15 so as to increase the effect of preventing flare. A lens body having the light-shielding film 62 having such specifications can be manufactured by the process shown in FIGS.

すなわち、図10(a)に示すように、ガラス製のレンズ基体91の両面に、透明樹脂製のレンズ要素92a,92bを多数形成したレンズ体90を用意する。次いで、レンズ体90の表面に黒色着色感光性樹脂組成物を塗布して、感光性黒色層93を形成する。ここで用いる黒色着色感光性樹脂組成物は、感光性樹脂に顔料を分散するか染料を添加したものであり、例えば、染料もしくは顔料の色材、比較的低分子量の溶剤可溶性樹脂、光重合性モノマーもしくはオリゴマー、光重合開始剤および溶剤からなるものである。   That is, as shown in FIG. 10A, a lens body 90 in which a large number of lens elements 92a and 92b made of transparent resin are formed on both surfaces of a glass lens base 91 is prepared. Next, a black colored photosensitive resin composition is applied to the surface of the lens body 90 to form a photosensitive black layer 93. The black colored photosensitive resin composition used here is a photosensitive resin in which a pigment is dispersed or a dye is added. For example, a dye or a pigment coloring material, a relatively low molecular weight solvent-soluble resin, photopolymerizable It consists of a monomer or oligomer, a photopolymerization initiator and a solvent.

次いで、図9(c)に示すように、露光用マスク94を介して、平行光95を照射する。露光用マスク94には、所望パターン状に遮光膜96が設けられ、感光性黒色層93を除去したい領域には光95が露光されないようにする。説明が前後したが、黒色着色感光性樹脂組成物はネガ型の感光性樹脂であり、光が当たったところだけが光硬化する。   Next, as shown in FIG. 9 (c), parallel light 95 is irradiated through an exposure mask 94. The exposure mask 94 is provided with a light-shielding film 96 in a desired pattern so that light 95 is not exposed to an area where the photosensitive black layer 93 is to be removed. As described above, the black colored photosensitive resin composition is a negative photosensitive resin, and only the portion that is exposed to light is photocured.

次いで、図10(d)に示すように、溶剤もしくはアルカリ性水溶液を用いた現像により、光硬化した領域のみを残存させ、しかる後、加熱定着処理を行なって、遮光層97とする。加熱定着した遮光層97は、もはや露光や現像工程によって形状が侵されることはない。したがって、図10(d)の状態から、レンズ基体91の裏面に対して、上記したと同様の工程を加えることにより、裏面にも遮光膜を形成することができる。かくして、図9に示されるカメラモジュールに用いるレンズ体15を多数連設したレンズ構造体38を得る。   Next, as shown in FIG. 10 (d), only the photocured region is left by development using a solvent or an alkaline aqueous solution, and then a heat fixing process is performed to form the light shielding layer 97. The shape of the heat-shielded light-shielding layer 97 is no longer affected by the exposure or development process. Therefore, from the state shown in FIG. 10D, a light shielding film can be formed on the back surface of the lens base 91 by applying the same process as described above. Thus, a lens structure 38 in which a large number of lens bodies 15 used in the camera module shown in FIG.

以下に、本発明の具体的な実施例を述べる。なお、実施例中の組成比は、特にことわらないかぎり質量比である。   Specific examples of the present invention will be described below. The composition ratios in the examples are mass ratios unless otherwise specified.

(1)スペーサ連設体の作製
厚さ0.5mm、直径20cmのアルミナ硼ケイ酸ガラスウエハ(Zn0 21%、Al23 5%、B23 40%、SiO 14%)に対して、その両面に200nm厚の金属クロム層をスパッタ成膜し、さらにアクリル−エポキシ系の感光性樹脂を2μm厚に塗布し、両面同士位置合わせした状態でパターン露光し、現像・加熱定着した。このレジスト膜の形状は、格子状パターンであり、その形状とピッチは、シリコンウエハに多数形成された固体撮像素子の形状とピッチに合わせている。このレジスト膜により、下層の金属クロム層をエッチングして、金属クロムとレジスト膜からなる二重膜の耐食膜を形成した。耐食膜の形状は、上から見ると、エッチング開口部を形成すべきところが開口となっ
ている格子状パターンである。
(1) Fabrication of spacer continuous body For an alumina borosilicate glass wafer having a thickness of 0.5 mm and a diameter of 20 cm (Zn0 21%, Al 2 O 3 5%, B 2 O 3 40%, SiO 2 14%) Then, a 200 nm thick metal chromium layer was formed on both surfaces by sputtering, and an acrylic-epoxy photosensitive resin was applied to a thickness of 2 μm, and pattern exposure was performed with both surfaces aligned, and development and heat fixing were performed. The shape of the resist film is a lattice pattern, and the shape and pitch are matched with the shape and pitch of a solid-state image sensor formed on a silicon wafer. With this resist film, the lower metal chromium layer was etched to form a double-layer corrosion-resistant film made of metal chromium and a resist film. The shape of the corrosion-resistant film is a lattice-like pattern in which etching openings are to be formed when viewed from above.

次いで、フッ酸 10%、NH4OH 10%の混合エッチング液を用い、常温、浸漬法によるガラスエッチングを行なった。ガラスウエハの両面からエッチング凹部を形成し、連通させて開口部を形成した。レジスト膜とクロム層を溶解除去し、図2(c)に示すスペーサ連設体24を得た。 Next, glass etching was performed by a dipping method at room temperature using a mixed etching solution of 10% hydrofluoric acid and 10% NH 4 OH. Etching recesses were formed from both sides of the glass wafer and communicated to form openings. The resist film and the chromium layer were dissolved and removed to obtain a spacer continuous body 24 shown in FIG.

次いで、脱脂処理して水洗したスペーサ連設体に対して、塩化第二スズ5gと35重量%塩酸5mlを水1リットルに対して溶かした水溶液(25℃)に4分間漬けて、鋭敏化処理を行ない、流水で10秒間の水洗の後、塩化パラジウム(PdCl2)0.1gと塩酸0.2mlを水1リットルに溶かした水溶液に常温で4分間浸ける活性化処理を行なった。水洗の後、無電解ニッケルめっき液として、日本カンゼン社製の商品名「シューマー・S−680」を用い、液温50℃で10分間浸漬して無電解めっきを施した。 水洗後、80℃で30秒間の熱風乾燥を行ない、無電解メッキ層が全面に施されたスペーサ連設体24が得られた。このニッケルの無電解メッキ層は、マクベス濃度計にて5.0±0.5の値を有し、その接着強度も満足すべきものであった。 Next, the spacer assembly which has been degreased and washed with water is immersed in an aqueous solution (25 ° C.) in which 5 g of stannic chloride and 5 ml of 35 wt% hydrochloric acid are dissolved in 1 liter of water for 4 minutes, and is sensitized. After rinsing with running water for 10 seconds, an activation treatment was performed by immersing in an aqueous solution in which 0.1 g of palladium chloride (PdCl 2 ) and 0.2 ml of hydrochloric acid were dissolved in 1 liter of water at room temperature for 4 minutes. After washing with water, a product name “Schuma S-680” manufactured by Nippon Kanzen Co., Ltd. was used as the electroless nickel plating solution, and the electroless plating was performed by dipping at a liquid temperature of 50 ° C. for 10 minutes. After washing with water, hot air drying was performed at 80 ° C. for 30 seconds to obtain a spacer continuous body 24 in which an electroless plating layer was applied to the entire surface. This electroless plating layer of nickel had a value of 5.0 ± 0.5 with a Macbeth densitometer, and its adhesive strength was satisfactory.

(2)カメラモジュールの組立て
図3(a)〜(e)、図4(f)〜(g)に基づいて説明する。厚さ0.25mm、直径20cmのシリコンウエハに、図3(a)に示す固体撮像素子31を多数作成したものを用意する。この固体撮像素子31の上面に設けられた枠壁32をスペーサ兼接着層代わりに用いて、上面に厚さ0.4mmで直径20cmの封止ガラス板33を貼り合わせた。(図3(b)参照)
次いで、図2により作製した遮光層付き第一スペーサ連設体34の下面にアクリル−エポキシ系の接着剤をロールコート方式にて約5μm塗布する。接着剤は第一スペーサ連設体34の下面にのみ塗布される。この状態で、第一スペーサ連設体34を固体撮像素子31との位置を合わせて接合した。(図3(c)参照)
次いで、第一スペーサ連設体34の肉厚部の上面に、ロールコート方式にて接着剤を約5μm塗布する。凹レンズ形の第一レンズ構造体36を、第一スペーサ連設体34の上に積層して貼り合わせる。このときも、レンズ構造体36の各レンズと固体撮像素子31の受光面との位置合わせを行なうことは言うまでもない。(図3(d)参照)
続いて、以下は全く同様の手法により、第二スペーサ連設体37、第二レンズ体38を積層接着し、(図3(e)参照)、さらに、第三スペーサ連設体39、カバーガラス板13を接合した(図4(f)参照)。
(2) Assembling of Camera Module A description will be given based on FIGS. 3 (a) to 3 (e) and FIGS. 4 (f) to 4 (g). A silicon wafer having a thickness of 0.25 mm and a diameter of 20 cm prepared with a large number of solid-state imaging elements 31 shown in FIG. A sealing glass plate 33 having a thickness of 0.4 mm and a diameter of 20 cm was bonded to the upper surface by using the frame wall 32 provided on the upper surface of the solid-state imaging device 31 instead of the spacer / adhesive layer. (See Fig. 3 (b))
Next, an acrylic-epoxy adhesive is applied to the lower surface of the first spacer continuous body 34 with the light shielding layer prepared in FIG. The adhesive is applied only to the lower surface of the first spacer continuous body 34. In this state, the first spacer continuous body 34 was joined to the solid-state imaging device 31 in alignment. (See Fig. 3 (c))
Next, about 5 μm of adhesive is applied to the upper surface of the thick portion of the first spacer continuous body 34 by a roll coating method. A concave lens-shaped first lens structure 36 is laminated on the first spacer continuous body 34 and bonded together. Also at this time, it goes without saying that each lens of the lens structure 36 and the light receiving surface of the solid-state imaging device 31 are aligned. (See Fig. 3 (d))
Subsequently, the second spacer continuous body 37 and the second lens body 38 are laminated and bonded in the same manner as described below (see FIG. 3 (e)), and further, the third spacer continuous body 39, the cover glass The plate 13 was joined (see FIG. 4 (f)).

最後に、450メッシユのレジンブレードを用いたダイシング装置により、スペーサ連設体の中央部を断裁線として、表面より断裁溝を入れた。個々のカメラモジュールに分離し、図4(g)の状態とした完成品を得た。   Finally, a dicing apparatus using a 450 mesh resin blade was used to cut a groove from the surface with the central portion of the spacer continuous body as a cutting line. Separated into individual camera modules, a finished product in the state of FIG.

実施例1と全く同様にして、厚さ0.5mm、直径20cmのアルミナ硼ケイ酸ガラスウエハ(Zn0 21%、Al23 5%、B23 40%、SiO 14%)に対して、フッ酸系のエッチング液を用いた化学エッチングにより、図面の図2(c)のスペーサ連設体を得た。これに対して、無電解めっきの前処理すなわち、脱脂、鋭敏化および活性化処理として、実施例1と全く同様に行なった。しかる後、下記に示す、種々の金属の無電解めっき液を用いることにより、それぞれの金属もしくは合金からなる無電解めっき層をスペーサ連設体の全面に形成して遮光層付きのスペーサ連設体を得た。いずれの遮光層も、マクベス濃度計による濃度測定値が3.0以上であった。 In exactly the same manner as in Example 1, for an alumina borosilicate glass wafer having a thickness of 0.5 mm and a diameter of 20 cm (Zn0 21%, Al 2 O 3 5%, B 2 O 3 40%, SiO 2 14%) Then, the spacer continuous body of FIG. 2C of the drawing was obtained by chemical etching using a hydrofluoric acid-based etching solution. On the other hand, as the pretreatment of electroless plating, that is, degreasing, sensitization and activation treatment, the same treatment as in Example 1 was performed. After that, by using electroless plating solutions of various metals as shown below, an electroless plating layer made of each metal or alloy is formed on the entire surface of the spacer continuous body to provide a spacer continuous body with a light shielding layer. Got. All of the light shielding layers had a density measured by a Macbeth densitometer of 3.0 or more.

A.無電解銅めっき液
硫酸銅 35g/l
酒石酸ナトリウム 175g/l
水酸化ナトリウム 50g/l
37重量%ホルムアルデイド 100ml添加
PH=11.5,液温24℃,浸漬時間15分間
A. Electroless copper plating solution
Copper sulfate 35g / l
Sodium tartrate 175g / l
Sodium hydroxide 50g / l
37% by weight formaldehyde added 100 ml PH = 11.5, liquid temperature 24 ° C., immersion time 15 minutes

B.無電解コバルトめっき液
硫酸コバルト 0.07mol/l
次亜リン酸ナトリウム 0.2 mol/l
クエン酸ナトリウム 0.2 mol/l
硫酸アンモニウム 0.6 mol/l
PH=9.5,液温90℃,浸漬時間20分間
B. Electroless cobalt plating solution
Cobalt sulfate 0.07 mol / l
Sodium hypophosphite 0.2 mol / l
Sodium citrate 0.2 mol / l
Ammonium sulfate 0.6 mol / l
PH = 9.5, liquid temperature 90 ° C., immersion time 20 minutes

C.無電解ニッケルー鉄合金めっき液
塩化ニッケル 0.056mol/l
硫酸第一鉄アンモニウム 0.020mol/l
酒石酸ナトリウムカリウム 0.2 mol/l
次亜リン酸ナトリウム 0.094mol/l
アンモニア水 3.6 mol/l
液温75℃、浸漬時間20分間
C. Electroless nickel-iron alloy plating solution
Nickel chloride 0.056 mol / l
Ferrous ammonium sulfate 0.020 mol / l
Sodium potassium tartrate 0.2 mol / l
Sodium hypophosphite 0.094 mol / l
Ammonia water 3.6 mol / l
Liquid temperature 75 ° C, immersion time 20 minutes

得られたスペーサ連設体は、実施例1と同様にして、カメラモジュール用スペーサとすることができ、内壁にフレア防止の遮光層を有するカメラモジュールを得た。   The obtained spacer continuous body can be used as a camera module spacer in the same manner as in Example 1 to obtain a camera module having a flare-preventing light-shielding layer on the inner wall.

実施例1と全く同様にして、厚さ0.5mm、直径20cmのアルミナ硼ケイ酸ガラスウエハに対して、フッ酸系のエッチング液を用いた化学エッチングにより、図面の図2(c)のスペーサ連設体を得た。   In exactly the same manner as in Example 1, an alumina borosilicate glass wafer having a thickness of 0.5 mm and a diameter of 20 cm was subjected to chemical etching using a hydrofluoric acid-based etchant, and the spacer shown in FIG. A continuous body was obtained.

次いで、スプレー塗装法にて全面に塗膜を形成させる。スプレー塗装はコンプレッサーから送られ、圧縮空気の噴流で塗料を霧化して塗る方法であり、作業時の空気圧力は1〜5kg/cm2である。回転式の台に図2(c)の状態のスペーサ連設体を置き、これと10〜100cm離れた位置に20°〜70°の角度でスプレーガンを設置し塗料を噴射させた。回転式の台を除々に回し、カメラモジュールの側面に塗膜厚が20μm程度になるように塗装する。その後、スペーサ連設体を裏返し、同様の塗装操作を行ない、塗布した。 Next, a coating film is formed on the entire surface by spray coating. Spray coating is a method in which paint is sent from a compressor and sprayed with a jet of compressed air, and the air pressure during operation is 1 to 5 kg / cm 2 . The spacer continuous body in the state of FIG. 2 (c) was placed on a rotary base, and a spray gun was installed at an angle of 20 ° to 70 ° at a position 10 to 100 cm away from this, and the paint was sprayed. Slowly turn the rotary table and paint on the side of the camera module so that the coating thickness is about 20 μm. Thereafter, the spacer continuous body was turned over, and the same coating operation was performed and applied.

しかる後、80℃の温度で20分程度乾燥かつ硬化を行なう。このようにスプレー塗装を行なうことで図2(d)に示すように遮光膜61が全面に形成される。なお前記した塗料は、東洋インキ製造(株)製の黒色塗料商品名「ライオポール黒」(アクリルウレタン樹脂系塗料)である。この塗布遮光膜はマクベス濃度計にて4.0±0.5の値を有し接着強度も満足すべきものであった。
得られたスペーサ連設体は、実施例1と同様にして、カメラモジュール用スペーサとすることができ、内壁にフレア防止の遮光層を有するカメラモジュールを得た。
Thereafter, drying and curing are performed at a temperature of 80 ° C. for about 20 minutes. By performing spray coating in this way, a light shielding film 61 is formed on the entire surface as shown in FIG. The paint described above is a black paint trade name “Riopol Black” (acrylic urethane resin paint) manufactured by Toyo Ink Mfg. Co., Ltd. This coated light-shielding film had a value of 4.0 ± 0.5 by a Macbeth densitometer and had satisfactory adhesive strength.
The obtained spacer continuous body can be used as a camera module spacer in the same manner as in Example 1 to obtain a camera module having a flare-preventing light-shielding layer on the inner wall.

本実施例は、スペーサ連設体への遮光層付与に加えて、レンズ体のレンズ要素の周縁にまで遮光層を施した例である。   In this example, in addition to the provision of the light shielding layer on the spacer continuous body, the light shielding layer is applied to the periphery of the lens element of the lens body.

(1)遮光層用の黒色着色感光性組成物の調製
アクリル樹脂(メタクリル酸20重量部、ヒドロキシエチルメタクリレート15重量部、メチルメタクリレート10重量部、ブチルメタクリレート55重量部をエチルセロソルブ300重量部に溶解し、窒素雰囲気下でアゾビスニトリル0.75重量部を加えて、70℃、5時間反応させ得られたアクリル樹脂)を、樹脂濃度20重量%になるようにエチルセロソルブで希釈した。
この希釈樹脂80gと、カーボンブラック20gと分散剤(フッ素系界面面活性剤)0.2gを添加して、ビーズミル分散機で冷却しながら3時間分散した。この着色樹脂液100.2gに対し、光重合性モノマーとしてトリメチロールプロパントリアクリレート3.9gと、光重合開始剤としてピペロニル−s−トリアジン0.8gを添加し、溶剤としてエチルセロソルブで固形分7重量%になるように希釈し、よく攪拌して遮光層形成用の黒色着色感光性組成物を調製した。
(1) Preparation of black colored photosensitive composition for light shielding layer Acrylic resin (20 parts by weight of methacrylic acid, 15 parts by weight of hydroxyethyl methacrylate, 10 parts by weight of methyl methacrylate, 55 parts by weight of butyl methacrylate are dissolved in 300 parts by weight of ethyl cellosolve. Acrylic resin obtained by adding 0.75 parts by weight of azobisnitrile under a nitrogen atmosphere and reacting at 70 ° C. for 5 hours was diluted with ethyl cellosolve so that the resin concentration became 20% by weight.
80 g of this diluted resin, 20 g of carbon black, and 0.2 g of a dispersant (fluorine surfactant) were added and dispersed for 3 hours while cooling with a bead mill disperser. To 100.2 g of this colored resin liquid, 3.9 g of trimethylolpropane triacrylate as a photopolymerizable monomer and 0.8 g of piperonyl-s-triazine as a photopolymerization initiator are added, and the solid content is 7 with ethyl cellosolve as a solvent. It diluted so that it might become weight%, and it stirred well and prepared the black coloring photosensitive composition for light shielding layer formation.

2.遮光層の作製
この遮光層形成用の黒色着色感光性組成物を、多数のレンズを形成したレンズ構造体にスピンコートし、70℃20分プリベークして、レンズ構造体の表面に、厚さ3.0μmの感光性黒色塗膜93を形成した(図10(b)参照)。
2. Preparation of light-shielding layer The black colored photosensitive composition for forming the light-shielding layer was spin-coated on a lens structure on which a large number of lenses were formed, pre-baked at 70 ° C. for 20 minutes, and a thickness of 3 on the surface of the lens structure. A photosensitive black coating film 93 having a thickness of 0 μm was formed (see FIG. 10B).

次いで、レンズ要素の開口部に対応して光を遮る遮光膜93を形成した露光用マスク94を用い、高圧水銀灯からの平行光95にて露光し(露光量150mJ/cm2 )、2.5%炭酸ナトリウム水溶液で現像後良く水洗した。水洗乾操後、150℃で1時間ポストベークすることにより、遮光層97がレンズ周縁部まで被覆しているレンズ構造体を得た(図10(c)参照)。 Next, exposure is performed with parallel light 95 from a high-pressure mercury lamp (exposure 150 mJ / cm 2 ) using an exposure mask 94 in which a light-shielding film 93 that blocks light corresponding to the opening of the lens element is formed. After development with an aqueous sodium carbonate solution, it was thoroughly washed with water. After the washing and drying operation, post-baking was performed at 150 ° C. for 1 hour to obtain a lens structure in which the light shielding layer 97 was covered up to the lens periphery (see FIG. 10C).

続いて、このガラス構造体の裏面に対しても、上述と同様の操作を行ない、裏面にも遮光層がレンズ周縁部まで被覆しているレンズ構造体を得た。遮光層の光学濃度(OD)をマクベス濃度計で測定したところ、3.0以上であり、遮光層は表面低反射で高濃度である。
得られたレンズ構造体は、実施例1と同様にして、カメラモジュール用レンズ体とすることができ、同じく遮光膜を施したスペーサ連設体と共に用いることにより、内壁にフレア防止の遮光層を有するカメラモジュールを得た。
Subsequently, the same operation as described above was performed on the back surface of the glass structure to obtain a lens structure having a light shielding layer covering the back surface of the lens. When the optical density (OD) of the light shielding layer was measured with a Macbeth densitometer, it was 3.0 or more, and the light shielding layer had a low surface reflection and a high density.
The obtained lens structure can be used as a camera module lens body in the same manner as in Example 1. By using the lens structure together with a spacer continuous body having a light-shielding film, a flare-preventing light-shielding layer is formed on the inner wall. Obtained camera module.

以上説明したように、本発明のカメラモジュールは、一枚のシリコンウエハに多面付けにて形成した場合、ウエハプロセスの一連の工程の中で、カメラモジュールの内側面という所望の区域にフレア防止の遮光層を施すことができるのであり、その製造方法の簡便さは、産業上大いに利するものである。   As described above, when the camera module of the present invention is formed on a single silicon wafer with multiple faces, flare prevention is performed in a desired area on the inner surface of the camera module in a series of wafer processes. A light shielding layer can be applied, and the simplicity of the manufacturing method is very advantageous in industry.

1、シリコン基板
2、貫通孔(導電物質又は内壁被覆)
3、絶縁層
4、導電層、
5、接続端子(BGA)
6、枠壁(50μm程度)
7、封止ガラス板
8、第一スペーサ
9、第一レンズ基体
10、スペーサ
11、第二レンズ基体
12、第二スペーサ
13、カバーガラス
14、第一レンズ体
15、第二レンズ体
16、カラーフィルタ
17、マイクロレンズ
18、遮蔽鏡筒
21、ガラス板
22a、22b、レジスト膜
24、スペーサ連接体
25、遮光層
30、シリコンウエハ
34、第一スペーサ連接体
35、開口部
36、第一レンズ構造体
37、第二スペーサ連接体
38、第二レンズ構造体
39、第三スペーサ連接体
40、携帯電話
41、第一カメラ
42、第二カメラ
43、入力ボタン
44、表示面
50、60、カメラモジュール
51、固体撮像素子
52a、52b、レンズ
53、カメラ枠体
55、印刷回路基板
56、56a、56b、導電層
61、97、遮光層
62、96、遮光膜
90、レンズ体
91、レンズ基体
92、レンズ要素
93、感光性黒色層
94、露光用マスク
95、光
1. Silicon substrate 2, through hole (conductive material or inner wall covering)
3, insulating layer 4, conductive layer,
5. Connection terminal (BGA)
6. Frame wall (about 50μm)
7, sealing glass plate 8, first spacer 9, first lens base 10, spacer 11, second lens base 12, second spacer 13, cover glass 14, first lens body 15, second lens body 16, color Filter 17, micro lens 18, shielding barrel 21, glass plates 22a and 22b, resist film 24, spacer connecting body 25, light shielding layer 30, silicon wafer 34, first spacer connecting body 35, opening 36, first lens structure Body 37, second spacer connecting body 38, second lens structure 39, third spacer connecting body 40, mobile phone 41, first camera 42, second camera 43, input button 44, display surfaces 50, 60, camera module 51, solid-state imaging devices 52a and 52b, lens 53, camera frame 55, printed circuit boards 56, 56a and 56b, conductive layers 61 and 97, light shielding layers 62 and 96, light shielding 90, the lens 91, the lens body 92, lens element 93, photosensitive black layer 94, the exposure mask 95, the light

Claims (10)

固体撮像素子の上にスペーサを介して少なくとも一枚のレンズ体を積層してなるカメラモジュールにおいて、少なくともスペーサの内側壁を、無電解めっき層の遮光層により被覆したことを特徴とするカメラモジュール。   A camera module in which at least one lens body is laminated on a solid-state imaging element via a spacer, wherein at least an inner wall of the spacer is covered with a light-shielding layer of an electroless plating layer. 無電解めっき層の遮光層に代えて、黒色着色樹脂の遮光層としたことを特徴とする請求項1に記載のカメラモジュール。   The camera module according to claim 1, wherein a black colored resin light shielding layer is used instead of the light shielding layer of the electroless plating layer. 遮光層の下面もしくは上面の少なくとも一方が光低反射性であることを特徴とする請求項1または請求項2に記載のカメラモジュール。   The camera module according to claim 1, wherein at least one of the lower surface and the upper surface of the light shielding layer has low light reflectivity. 固体撮像素子の上にスペーサを介して少なくとも1枚のレンズ体を積層してなるカメラモジュールにおいて、レンズ体のレンズ要素の少なくとも周辺部を遮光層により被覆したことを特徴とするカメラモジュール。   A camera module in which at least one lens body is laminated on a solid-state imaging device via a spacer, wherein at least a peripheral part of a lens element of the lens body is covered with a light shielding layer. レンズ要素の周辺部を被覆する遮光層が、黒色着色感光性樹脂組成物の塗膜を光硬化させ加熱定着した遮光層であることを特徴とする請求項4に記載のカメラモジュール。   5. The camera module according to claim 4, wherein the light-shielding layer covering the periphery of the lens element is a light-shielding layer obtained by photo-curing and heat-fixing a coating film of a black colored photosensitive resin composition. 下記の工程(a)〜(e)を具備することを特徴とするカメラモジュールの製造方法。
(a)ウエハプロセスにてウエハに多面付された固体撮像素子を準備する工程、
(b)ガラス製ウエハをエッチング加工することにより前記固体撮像素子の受光面に対応して開口部を多数形成したスペーサを作成する工程、
(c)該スペーサの開口部の少なくとも内側壁を遮光層により被覆する工程、
(d)前記多面付された固体撮像素子の上面に、該スペーサを介して、少なくとも一枚のレンズ構造体を積層して多面付されたレンズモジュールを作成する工程、
(e)しかる後、多面付されたカメラモジュール間の断裁線に沿って断裁し、個々のカメラモジュールに分離する工程。
A method for manufacturing a camera module, comprising the following steps (a) to (e):
(a) a step of preparing a solid-state imaging device having multiple faces on a wafer in a wafer process;
(b) creating a spacer having a large number of openings corresponding to the light receiving surface of the solid-state imaging device by etching a glass wafer;
(c) a step of covering at least the inner wall of the opening of the spacer with a light shielding layer;
(d) a step of creating a lens module having a plurality of surfaces by laminating at least one lens structure on the top surface of the solid-state imaging element having the plurality of surfaces through the spacer;
(e) After that, the process of cutting along the cutting lines between the multi-faceted camera modules and separating them into individual camera modules.
遮光膜が、無電解めっき法により形成された遮光膜であることを特徴とする請求項6に記載のカメラモジュールの製造方法。   The method for manufacturing a camera module according to claim 6, wherein the light shielding film is a light shielding film formed by an electroless plating method. 遮光膜が、黒色着色樹脂の塗布により形成された遮光膜であることを特徴とする請求項6に記載のカメラモジュールの製造方法。   The method for manufacturing a camera module according to claim 6, wherein the light shielding film is a light shielding film formed by applying a black colored resin. 下記の工程(a)〜(e)を具備することを特徴とするカメラモジュールの製造方法。
(a)ウエハプロセスにてウエハに多面付された固体撮像素子を準備する工程、
(b)ガラス製ウエハをエッチング加工することにより前記固体撮像素子の受光面に対応して開口部を多数形成したスペーサを作成する工程、
(c)レンズ基体にレンズ要素を多数形成し、該レンズ要素の少なくとも周辺部を遮光層により被覆したレンズ構造体を作製する工程、
(d)前記多面付された固体撮像素子の上面に、該スペーサを介して、工程(c)により作製された少なくとも一枚のレンズ構造体を積層して多面付されたレンズモジュールを作成する工程、
(e)しかる後、多面付されたカメラモジュール間の断裁線に沿って断裁し、個々のカメラモジュールに分離する工程。
A method for manufacturing a camera module, comprising the following steps (a) to (e):
(a) a step of preparing a solid-state imaging device having multiple faces on a wafer in a wafer process;
(b) creating a spacer having a large number of openings corresponding to the light receiving surface of the solid-state imaging device by etching a glass wafer;
(c) a step of forming a lens structure in which a large number of lens elements are formed on a lens substrate, and at least the periphery of the lens element is covered with a light shielding layer;
(d) A step of creating a multifaceted lens module by laminating at least one lens structure produced in step (c) on the top surface of the multifaceted solid-state imaging device via the spacer. ,
(e) After that, the process of cutting along the cutting lines between the multi-faceted camera modules and separating them into individual camera modules.
レンズ要素の周辺部を被覆する遮光層が、黒色着色感光性樹脂の塗膜お光硬化させ加熱定着した遮光層であることを特徴とする請求項9に記載のカメラモジュールの製造方法。   10. The method of manufacturing a camera module according to claim 9, wherein the light shielding layer covering the periphery of the lens element is a light shielding layer obtained by photocuring a black colored photosensitive resin coating and heat-fixing.
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