JP2022103731A5

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Publication number: JP2022103731A5
Application number: JP2020218543A
Authority: JP
Filing date: 2020-12-28
Publication date: 2023-06-30

Claims

基板を水平姿勢で保持する基板保持部と、
前記基板保持部により保持された基板の上面および下面のうちの一面に接触可能に設けられた第１の洗浄具と、
前記第１の洗浄具に上方への力を加える第１の流体シリンダと、
前記第１の流体シリンダを駆動する第１のシリンダ駆動部とを備え、
前記第１のシリンダ駆動部は、待機時に、上方へ向かう第１の力を前記第１の洗浄具に加えるように前記第１の流体シリンダを駆動し、基板の前記一面の洗浄時に、前記第１の洗浄具が基板の前記一面に接触した状態で、上方へ向かいかつ前記第１の力とは異なる第２の力を前記第１の洗浄具に加えることにより前記第１の洗浄具が予め定められた力で前記一面を押圧するように前記第１の流体シリンダを駆動する、基板洗浄装置。
前記第１の力は、前記第１の流体シリンダが上方に向かう前記第１の力を前記第１の洗浄具に加えるときに、前記第１の洗浄具のうち少なくとも一部の重量が相殺されるように定められる、請求項１記載の基板洗浄装置。
前記第１の洗浄具を保持する第１の洗浄具保持部をさらに備え、
前記第１の流体シリンダは、上方へ向かう前記第１または第２の力を、前記第１の洗浄具保持部を介して前記第１の洗浄具に加える、請求項１または２記載の基板洗浄装置。
前記第１の流体シリンダを支持する支持部材と、
前記支持部材を少なくとも上下方向に移動させることが可能に構成され、前記基板保持部により保持された基板の前記一面に対して前記第１の洗浄具が接触する接触位置と、前記基板保持部により保持された基板の前記一面に対して前記第１の洗浄具が離間する待機位置との間で前記支持部材を移動させる支持部材移動部とをさらに備える、請求項３記載の基板洗浄装置。
前記支持部材は、前記第１の流体シリンダおよび前記第１の洗浄具保持部を収容するように形成されたケーシング部材からなり、
前記第１の洗浄具の少なくとも一部は、前記ケーシング部材の外部に位置するように前記第１の洗浄具保持部により保持された、請求項４記載の基板洗浄装置。
前記第１の流体シリンダから前記第１の洗浄具に上方に向かって加えられる力を検出する荷重センサをさらに備え、
前記第１のシリンダ駆動部は、前記荷重センサの出力に基づいて前記第１の流体シリンダが前記第１の洗浄具に加える力を調整する、請求項１～５のいずれか一項に記載の基板洗浄装置。
前記第１の洗浄具は、
前記基板保持部により保持された基板の前記一面に対向するとともに基板の前記一面に接触可能な接触面を有するブラシを含み、
平面視において、前記ブラシの前記接触面のうち最も離間した２点間の長さは、基板の直径の１／３よりも大きい、請求項１～６のいずれか一項に記載の基板洗浄装置。
基板の前記一面の洗浄時に、前記一面に前記第１の洗浄具が接触していないことを検出する異常検出部をさらに備える、請求項１～７のいずれか一項に記載の基板洗浄装置。
前記基板保持部により保持された基板の上面および下面のうちの他面に接触可能に設けられた第２の洗浄具と、
前記第２の洗浄具に上方への力を加える第２の流体シリンダと、
前記第２の流体シリンダを駆動する第２のシリンダ駆動部とをさらに備え、
前記第２のシリンダ駆動部は、待機時に、上方へ向かう第３の力を前記第２の洗浄具に加えるように前記第２の流体シリンダを駆動し、基板の前記他面の洗浄時に、前記第２の洗浄具が基板の前記他面に接触した状態で、上方へ向かいかつ前記第３の力とは異なる第４の力を前記第２の洗浄具に加えることにより前記第２の洗浄具が予め定められた力で前記他面を押圧するように前記第１の流体シリンダを駆動する、請求項１～８のいずれか一項に記載の基板洗浄装置。
基板を水平姿勢で保持する基板保持部と、
前記基板保持部により保持された基板の上面および下面のうちの一面に接触することにより前記一面を洗浄可能に構成された洗浄具と、
第１の端部および第２の端部を有するとともに、前記第１の端部に前記洗浄具を保持する洗浄具保持部と、
前記洗浄具保持部を支持するとともに、前記洗浄具保持部により保持された前記洗浄具が前記基板保持部により保持された基板の前記一面を押圧するように前記洗浄具保持部に上方への力を加える流体シリンダと、
前記流体シリンダを駆動するシリンダ駆動部とを備え、
前記流体シリンダは、前記洗浄具保持部のうち前記第１の端部と前記第２の端部との間の部分を支持する、基板洗浄装置。
基板保持部により基板を水平姿勢で保持するステップと、
前記基板保持部により保持された基板の上面および下面のうちの一面を洗浄するための第１の洗浄具を待機させるステップと、
前記基板保持部により保持された基板の前記一面に前記第１の洗浄具を接触させることにより前記一面を洗浄するステップとを含み、
前記第１の洗浄具を待機させるステップは、上方へ向かう第１の力を前記第１の洗浄具に加えるように第１の流体シリンダを駆動することを含み、
前記基板の前記一面を洗浄するステップは、前記第１の洗浄具が基板の前記一面に接触した状態で、上方へ向かいかつ前記第１の力とは異なる第２の力を前記第１の洗浄具に加えることにより前記第１の洗浄具が予め定められた力で前記一面を押圧するように前記第１の流体シリンダを駆動することを含む、基板洗浄方法。
前記第１の力は、前記第１の流体シリンダが上方に向かう前記第１の力を前記第１の洗浄具に加えるときに、前記第１の洗浄具のうち少なくとも一部の重量が相殺されるように定められる、請求項１１記載の基板洗浄方法。
前記第１の流体シリンダから前記第１の洗浄具に上方に向かって加えられる力を荷重センサにより検出するステップと、
前記荷重センサの出力に基づいて前記第１の流体シリンダが前記第１の洗浄具に加える力を調整するステップとをさらに含む、請求項１１または１２記載の基板洗浄方法。
前記基板の前記一面を洗浄するステップは、前記一面に前記第１の洗浄具が接触していないことを検出することを含む、請求項１１～１３のいずれか一項に記載の基板洗浄方法。
前記基板保持部により保持された基板の上面および下面のうちの他面を洗浄するための第２の洗浄具を待機させるステップと、
前記基板保持部により保持された基板の前記他面に前記第２の洗浄具を接触させることにより前記他面を洗浄するステップとをさらに含み、
前記第２の洗浄具を待機させるステップは、上方へ向かう第３の力を前記第２の洗浄具に加えるように第２の流体シリンダを駆動することを含み、
前記基板の前記他面を洗浄するステップは、前記第２の洗浄具が基板の前記一面に接触した状態で、上方へ向かいかつ前記第３の力とは異なる第４の力を前記第２の洗浄具に加えることにより前記第２の洗浄具が予め定められた力で前記他面を押圧するように前記第２の流体シリンダを駆動することを含む、請求項１１～１４のいずれか一項に記載の基板洗浄方法。